JPS6399434A - クリ−ンル−ムにおける天井構造 - Google Patents
クリ−ンル−ムにおける天井構造Info
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- JPS6399434A JPS6399434A JP24507486A JP24507486A JPS6399434A JP S6399434 A JPS6399434 A JP S6399434A JP 24507486 A JP24507486 A JP 24507486A JP 24507486 A JP24507486 A JP 24507486A JP S6399434 A JPS6399434 A JP S6399434A
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 3
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
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Landscapes
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は半導体等の製造9組立、検査等に必要とされ
るクリーンルームにおいて生産ラインと非生産ラインと
に異なった気流速度の給気が行われるようにした、クリ
ーンルームにおける天井構造に関するものである。
るクリーンルームにおいて生産ラインと非生産ラインと
に異なった気流速度の給気が行われるようにした、クリ
ーンルームにおける天井構造に関するものである。
〔従来技術及び発明が解決しようとする問題点〕従来半
導体製造工程等の清浄空間で、清浄度クラス100以下
のクリーンルームに対する代表的な給気方式として第1
図に示すような全面垂直層流方式が採用されてきた。こ
れは天井全面の格子フレームに取り付けられたHEPA
フィルターにより給気を所定の垂直気流速度でクリーン
ルームに一様に吹き出すものであるが、このような全面
垂直層流方式のクリーンルームは、垂直気流速度が0.
25〜0.5 m/sec程度の範囲で一般に設定され
るので、例えば天井高3mのクリーンルームに対し30
0〜600回/hもの清浄空気換気回数に相当する、膨
大な量の空気を循環させねばならず、高価な天井全面H
EPAフィルターシステムと、必然的に大きくならざる
を得ない容量を持つ空調設備が相まって、そのイニシア
ルコスト、ランニングコスト共非常に高価となってしま
う短所を有する。
導体製造工程等の清浄空間で、清浄度クラス100以下
のクリーンルームに対する代表的な給気方式として第1
図に示すような全面垂直層流方式が採用されてきた。こ
れは天井全面の格子フレームに取り付けられたHEPA
フィルターにより給気を所定の垂直気流速度でクリーン
ルームに一様に吹き出すものであるが、このような全面
垂直層流方式のクリーンルームは、垂直気流速度が0.
25〜0.5 m/sec程度の範囲で一般に設定され
るので、例えば天井高3mのクリーンルームに対し30
0〜600回/hもの清浄空気換気回数に相当する、膨
大な量の空気を循環させねばならず、高価な天井全面H
EPAフィルターシステムと、必然的に大きくならざる
を得ない容量を持つ空調設備が相まって、そのイニシア
ルコスト、ランニングコスト共非常に高価となってしま
う短所を有する。
これを改善するために、従来より多く採用され、現在主
流であるのが、第2図に示すいわゆるペイ(13ay
)方式である。
流であるのが、第2図に示すいわゆるペイ(13ay
)方式である。
これはクリーンルーム建家を図においてWZで示すワー
キングゾーン、すなわち最も高い清浄度(例えばC−1
00)を必要とする、生産活動の行われるクリーンルー
ムと、UZで示すユーティリティゾーン、すなわち清浄
度C−10,000等比較的低い清浄度で足りる、設備
を設置するスペースとに分けることにより空調設備のイ
ニシアルコスト及びランニングコストの低減化を図ると
いうものである。
キングゾーン、すなわち最も高い清浄度(例えばC−1
00)を必要とする、生産活動の行われるクリーンルー
ムと、UZで示すユーティリティゾーン、すなわち清浄
度C−10,000等比較的低い清浄度で足りる、設備
を設置するスペースとに分けることにより空調設備のイ
ニシアルコスト及びランニングコストの低減化を図ると
いうものである。
更に最近ではこのペイ方式のwZの部分を、厳しい清浄
度クラス(例えばC−100)を必要とする生産ライン
上部及びその周辺と、緩和された清浄度クラス(例えば
C−1000又はC−10,000)でよいとされる作
業通路部分とに分けて空調設備を計画するいわゆるトン
ネル式クリーンルーム方式が採用され始めている。
度クラス(例えばC−100)を必要とする生産ライン
上部及びその周辺と、緩和された清浄度クラス(例えば
C−1000又はC−10,000)でよいとされる作
業通路部分とに分けて空調設備を計画するいわゆるトン
ネル式クリーンルーム方式が採用され始めている。
このトンネル式クリーンルーム方式は第3図に示すよう
に平面的にある一定の幅と奥行を持つ、いわゆるトンネ
ルユニットを生産ライン上に連続して天井部に吊り下げ
てA部。
に平面的にある一定の幅と奥行を持つ、いわゆるトンネ
ルユニットを生産ライン上に連続して天井部に吊り下げ
てA部。
B部のように清浄度クラスを分け、A部では例えばC−
100に対して垂直気流速度を0.4〜0.45m/s
ec程度に、B部では例えばC−1000に対して垂直
気流速度を0.1m/sec程度に設定し、生産ライン
周辺のA部を高清浄度クラスのトンネル状空間とし、作
業通路B部の給気をA部より減じて清浄度クラスを緩和
するというものである。
100に対して垂直気流速度を0.4〜0.45m/s
ec程度に、B部では例えばC−1000に対して垂直
気流速度を0.1m/sec程度に設定し、生産ライン
周辺のA部を高清浄度クラスのトンネル状空間とし、作
業通路B部の給気をA部より減じて清浄度クラスを緩和
するというものである。
この方式の狙いは、WZに対する全体給気量を減じ、ま
たA部の清浄度を高く維持するための膨大な循環空気の
循環経路を、トンネルユニット内に小型送風機を内蔵さ
せることによって短縮し、空気の搬送動力を低減させ、
ランニングコストの低減を図ることにある。
たA部の清浄度を高く維持するための膨大な循環空気の
循環経路を、トンネルユニット内に小型送風機を内蔵さ
せることによって短縮し、空気の搬送動力を低減させ、
ランニングコストの低減を図ることにある。
しかしながら、この方式はランニングコストは第1図、
第2図の方式より安くなる長所を有する反面、膨大な台
数の小型送風機(回転機)がり、リーンルーム内又は近
辺に存在することの保守上の問題、イニシアルコストの
増大の問題、生産機械の配置替えや、機種更新に対する
フレキンビリティ不足の問題等を抱える。
第2図の方式より安くなる長所を有する反面、膨大な台
数の小型送風機(回転機)がり、リーンルーム内又は近
辺に存在することの保守上の問題、イニシアルコストの
増大の問題、生産機械の配置替えや、機種更新に対する
フレキンビリティ不足の問題等を抱える。
この発明は以上述べた各種方式の持つ難点を克服し、一
層イニジアルコスト、ランニングコストの低減を図る目
的からなされたもので、クリーンルームを極めて高い清
浄度を必要とする生産ラインとそれ程でなくともよいと
される非生産ラインとに分割し、空気抵抗体の付加によ
りそれぞれの空気抵抗係数を異ならせることによってこ
れを解決しようとするものである。
層イニジアルコスト、ランニングコストの低減を図る目
的からなされたもので、クリーンルームを極めて高い清
浄度を必要とする生産ラインとそれ程でなくともよいと
される非生産ラインとに分割し、空気抵抗体の付加によ
りそれぞれの空気抵抗係数を異ならせることによってこ
れを解決しようとするものである。
本発明ではクリーンルームを生産ラインと非生産ライン
とに分割し、少なくともいずれか一方の上のHEPAフ
ィルターに空気抵抗体(以下便宜的に調整抵抗体と呼ぶ
)を付加することによって従来の全面垂直層流方式と同
一の構成でありながら両ライン上部の共通の天井裏給気
チャンバーからの給気が各ラインに異なった垂直気流速
度で吹き出されるようそれぞれの気流を調節することを
可能にし、クリーンルームWZに対する全体給気量の低
減、そしてイニシアルコスト及びランニングコストの節
減を図る。
とに分割し、少なくともいずれか一方の上のHEPAフ
ィルターに空気抵抗体(以下便宜的に調整抵抗体と呼ぶ
)を付加することによって従来の全面垂直層流方式と同
一の構成でありながら両ライン上部の共通の天井裏給気
チャンバーからの給気が各ラインに異なった垂直気流速
度で吹き出されるようそれぞれの気流を調節することを
可能にし、クリーンルームWZに対する全体給気量の低
減、そしてイニシアルコスト及びランニングコストの節
減を図る。
調整抵抗体は紙、不織布、織布、細目の金網、有孔板(
単板又はスライド式複板)、ダンパー等空気抵抗をもた
らすものなら何でもよく、その取付位置はHEPAフィ
ルターの上流側でも下流側でも、また必要に応じて両側
でもよい。なお、生産ライン又は非生産ライン上部のど
ちらかには、調整抵抗体を付加しない(この場合は調整
抵抗係数=0と考える)場合もある。
単板又はスライド式複板)、ダンパー等空気抵抗をもた
らすものなら何でもよく、その取付位置はHEPAフィ
ルターの上流側でも下流側でも、また必要に応じて両側
でもよい。なお、生産ライン又は非生産ライン上部のど
ちらかには、調整抵抗体を付加しない(この場合は調整
抵抗係数=0と考える)場合もある。
給気は送風機から給気ダクトを通じて天井裏の生産ライ
ン、非生産ライン共通の給気チャンバー内に送り込まれ
、調整抵抗体及びHEPAフィルターを通過して各ライ
ンに異なった垂直気流速度で吹き出され、床全面の吸込
口から床下チャンバー、そして還気ダクトへ吸込まれる
。
ン、非生産ライン共通の給気チャンバー内に送り込まれ
、調整抵抗体及びHEPAフィルターを通過して各ライ
ンに異なった垂直気流速度で吹き出され、床全面の吸込
口から床下チャンバー、そして還気ダクトへ吸込まれる
。
以下本発明を一実施例を示す第4図以降の図面に基づい
て説明する。この第4図に示すクリーンルームの構成は
第2図のそれと同じで、そのうちの一つのWZを取り出
したものである。
て説明する。この第4図に示すクリーンルームの構成は
第2図のそれと同じで、そのうちの一つのWZを取り出
したものである。
この発明は第4図に示すように生産ラインのA部と作業
通路等非生産ラインのB部とに分割されたクリーンルー
ムWZの少なくともいずれか一方の上のHEPAフィル
ター1に調整抵抗体2.4を付加し、A部とB部とに異
なった垂直気流速度の給気を行う、天井構造である。
通路等非生産ラインのB部とに分割されたクリーンルー
ムWZの少なくともいずれか一方の上のHEPAフィル
ター1に調整抵抗体2.4を付加し、A部とB部とに異
なった垂直気流速度の給気を行う、天井構造である。
図面ではA部上の調整抵抗体を2. B部上の調整抵抗
体を4で表わしである。
体を4で表わしである。
HEPAフィルター1,3に調整抵抗体2゜4を付加す
る目的は第4図−Hにおいて給気ダクト5から天井裏の
給気チャンバー6内へ送り込まれた給気が、A部、B部
各々のHEPAフィルター1.3の空気抵抗(以下基本
抵抗と呼ぶ)と調整抵抗との和により構成される空気抵
抗(以下総合抵抗と呼ぶ)に応じ、総合抵抗の大きい部
分には小さな、一方小さい部分には大きな風量または気
流速度で通過するようにすることによってA部、B部の
風量または気流速度が加減されるようにすることにある
。
る目的は第4図−Hにおいて給気ダクト5から天井裏の
給気チャンバー6内へ送り込まれた給気が、A部、B部
各々のHEPAフィルター1.3の空気抵抗(以下基本
抵抗と呼ぶ)と調整抵抗との和により構成される空気抵
抗(以下総合抵抗と呼ぶ)に応じ、総合抵抗の大きい部
分には小さな、一方小さい部分には大きな風量または気
流速度で通過するようにすることによってA部、B部の
風量または気流速度が加減されるようにすることにある
。
ここで本発明の背景をなす理論的裏付けである、「異な
る吹出抵抗を持たせることによりある風量を分配する方
法」について以下に記す。
る吹出抵抗を持たせることによりある風量を分配する方
法」について以下に記す。
第5図において、ある一つの風量Qは、その経路が1,
2・−・・−・−、nに分割されるとき、各経路の空気
抵抗F、、Ft−・・−・−2Fnに応じてQ+ 、
Qt’−”−’、Qnに分割される。即ち、Q=QI
+Qt+−・・−・−・+Q、l ・・−・−・−・−
・・・−0■である。
2・−・・−・−、nに分割されるとき、各経路の空気
抵抗F、、Ft−・・−・−2Fnに応じてQ+ 、
Qt’−”−’、Qnに分割される。即ち、Q=QI
+Qt+−・・−・−・+Q、l ・・−・−・−・−
・・・−0■である。
もし、F + = F z =’−−−−−・・=F、
lならば、当然Q+ =にh =−−−−=Q、= (
1/n)Q−・−■となる。
lならば、当然Q+ =にh =−−−−=Q、= (
1/n)Q−・−■となる。
また第6図のように、Foとfの抵抗を直列に持つ管路
に一つの風量Qが通過する時、その総合抵抗Fは、 F−Fo+f ・・−・−・−−−−一−−・−・−
・・・−・・−・・・−・・・−■である。
に一つの風量Qが通過する時、その総合抵抗Fは、 F−Fo+f ・・−・−・−−−−一−−・−・−
・・・−・・−・・・−・・・−■である。
今、第7図のような一つの給気チャンバー6に送風機7
から給気ダクト5を通じて風量Qが供給されると仮定す
る。そして給気チャンバ−6下面全面のHEPAフィル
ター1゜3にはそれぞれに調整抵抗体2,4が付加され
てクリーンルームWZはそれぞれのHEPAフィルター
1.3の基本抵抗F。A+FO1と調整抵抗rA、r、
とを合計した総合抵抗FA+F、を持つA部とB部とに
区別されているとする。
から給気ダクト5を通じて風量Qが供給されると仮定す
る。そして給気チャンバ−6下面全面のHEPAフィル
ター1゜3にはそれぞれに調整抵抗体2,4が付加され
てクリーンルームWZはそれぞれのHEPAフィルター
1.3の基本抵抗F。A+FO1と調整抵抗rA、r、
とを合計した総合抵抗FA+F、を持つA部とB部とに
区別されているとする。
このとき給気チャンバー6内の風量Qは、FA、Flに
応じてQA、Qllに分割されて室内垂直気流速度vA
r ■lをもたらす。
応じてQA、Qllに分割されて室内垂直気流速度vA
r ■lをもたらす。
さて、第7図における吹田総合抵抗FA+FIlは式■
より F A = F GA + f A ・−−−−−−
−−−−−−−・・・−・−・・−−−−一・−・・・
・−■F m = F on 十f m −−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−”””’−■で
表わされる。
より F A = F GA + f A ・−−−−−−
−−−−−−−・・・−・−・・−−−−一・−・・・
・−■F m = F on 十f m −−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−”””’−■で
表わされる。
ここに
FoAjA部のHIliPAフィルターの基本抵抗F、
、+:B部のHEPAフィルターの基本抵抗fA :A
部の調整抵抗 f=:B部の調整抵抗 である。
、+:B部のHEPAフィルターの基本抵抗fA :A
部の調整抵抗 f=:B部の調整抵抗 である。
一般に風量が空気抵抗体部分を0.5 m/sec以下
程度の遅い気流速度で通過するときの空気抵抗は第8図
に示すように通過速度の概ね一次式で表わされる。即ち
、 F(1=k(、Xv ・・・・・・−・−・・・・
−・−一−−−−−−・−−−−一・−・−・−■f
=kyXv ・−・−・・−一−−−・・・−
・・−−−一−−−−・−・−・・−・−■故に F=FO+f= (kO+kf)Xv =kXv ・−・−・−・・・・−・・・−・・−・
−・−・−・・−・■従って に=に0+に、 −・−・−・・−・−・・・−・−
・・・−・−・−・・・・・−・−・−■ここに F :総合抵抗 Fo :基本抵抗 f :調整抵抗 k :総合抵抗係数 に0 :基本抵抗係数 kf :調整抵抗係数 である。
程度の遅い気流速度で通過するときの空気抵抗は第8図
に示すように通過速度の概ね一次式で表わされる。即ち
、 F(1=k(、Xv ・・・・・・−・−・・・・
−・−一−−−−−−・−−−−一・−・−・−■f
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・・−−−一−−−−・−・−・・−・−■故に F=FO+f= (kO+kf)Xv =kXv ・−・−・−・・・・−・・・−・・−・
−・−・−・・−・■従って に=に0+に、 −・−・−・・−・−・・・−・−
・・・−・−・−・・・・・−・−・−■ここに F :総合抵抗 Fo :基本抵抗 f :調整抵抗 k :総合抵抗係数 に0 :基本抵抗係数 kf :調整抵抗係数 である。
第7図におけるA部とB部においては弐〇。
■、■、■、■、■より
Foa=koAXVA =・−−−−・−−−−−−−
−−−−−−=@)f A = k IAX v A−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−=■
Fa =ka X Va = (koA+ kra)
X Va −4k A =k OA + k fA
−”’−−’・−・−・・・・−・−−−−−−・・
・−−−−−0また、 F o s ” k O!l X V a −−−−
−−−−−・−−−・−−−−−−−−Qfm =kB
xv、 −・・・−一−−−−−・−−−−−−・−
・・−・−・−−−−一−・・■FB =ks XVB
= (kOB+kfll)XVB−@kll =kO
R+kfR−”−・・−・・−・−・・・−・−・−・
・・−・−・0実際に第7図において送風機7によって
給気チャンバー6に風iQが送風されるときは、A部、
B部の総合抵抗FAとF、とが等しい状態で送風[7が
運転される。即ち、 FA=F、 −・〜−−−−・−・−−−−−−−−
一・・・−・−・−一−−−−−−−・−・・・−[相
]よって0.@lより に^XvA=kB XVA ・・−一−−−・・・・
・・−・−・・〜・−[相](koa+ kfA) X
VA =(koi+ ktn) X V!+−@[相
]、@1式を変形すると、 VA=(kg /kA)XVB = ((kog+kr*)/ (koA+krA))x
v H−−−−一〜〜・−・−・−・−・−一−−−
・・−・−−一−−−−−−−−−・−・■又は、 Vg = (kA/に!l )XVA = ((koA+kra) / (kom+kr
m) )XVA ・・−・−・−一−−・−・・・・
−・・−−〜−・−・−・・−・−・−・・−・・・・
・−・0■、0式は、A部、B部の垂直気流速度vA+
vBを、総合抵抗(基本抵抗と調整抵抗の相)を設定す
ることにより任意に設定することができ、その垂直気流
速度vA+ vllに吹出面積SA、SRを乗するこ
とにより、A部、B部の風ff1Qa 、Qmと両者の
合計風IQを算出できることを意味している。
−−−−−−=@)f A = k IAX v A−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−=■
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X Va −4k A =k OA + k fA
−”’−−’・−・−・・・・−・−−−−−−・・
・−−−−−0また、 F o s ” k O!l X V a −−−−
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= (kOB+kfll)XVB−@kll =kO
R+kfR−”−・・−・・−・−・・・−・−・−・
・・−・−・0実際に第7図において送風機7によって
給気チャンバー6に風iQが送風されるときは、A部、
B部の総合抵抗FAとF、とが等しい状態で送風[7が
運転される。即ち、 FA=F、 −・〜−−−−・−・−−−−−−−−
一・・・−・−・−一−−−−−−−・−・・・−[相
]よって0.@lより に^XvA=kB XVA ・・−一−−−・・・・
・・−・−・・〜・−[相](koa+ kfA) X
VA =(koi+ ktn) X V!+−@[相
]、@1式を変形すると、 VA=(kg /kA)XVB = ((kog+kr*)/ (koA+krA))x
v H−−−−一〜〜・−・−・−・−・−一−−−
・・−・−−一−−−−−−−−−・−・■又は、 Vg = (kA/に!l )XVA = ((koA+kra) / (kom+kr
m) )XVA ・・−・−・−一−−・−・・・・
−・・−−〜−・−・−・・−・−・−・・−・・・・
・−・0■、0式は、A部、B部の垂直気流速度vA+
vBを、総合抵抗(基本抵抗と調整抵抗の相)を設定す
ることにより任意に設定することができ、その垂直気流
速度vA+ vllに吹出面積SA、SRを乗するこ
とにより、A部、B部の風ff1Qa 、Qmと両者の
合計風IQを算出できることを意味している。
次にA部、B部の垂直気流速度vA + vlを任意
に設定できる手法を応用し、これを更に、例えば第2図
のようなりリーンルームに適用した場合の給気方法を第
9図により説明する。
に設定できる手法を応用し、これを更に、例えば第2図
のようなりリーンルームに適用した場合の給気方法を第
9図により説明する。
通常第3図の方法において説明した通りA部の垂直気流
速度は例えばC−100に対して0.4〜0.45m/
sec 、 B部は例えばC−1000に対して0.1
m/sec前後程度に設定されることが多い。つまり
A部の気流速度がB部よりも大きい。
速度は例えばC−100に対して0.4〜0.45m/
sec 、 B部は例えばC−1000に対して0.1
m/sec前後程度に設定されることが多い。つまり
A部の気流速度がB部よりも大きい。
第9図に示すクリーンルームの構成は第2図のそれと同
じで、そのうちの一つのWZを取り出したものである。
じで、そのうちの一つのWZを取り出したものである。
同図において生産ラインA部と0部、作業通路B部に対
する垂直気流速度vA + VCrV、の値を、総合
抵抗FA+ FC+ FMを選択することにより任意
に設定できる事は既に述べた。
する垂直気流速度vA + VCrV、の値を、総合
抵抗FA+ FC+ FMを選択することにより任意
に設定できる事は既に述べた。
ここではこれを応用し、作業通路部のV。
をvA+ VCよりも大きく設定する。即ちA。
B、C各部の垂直気流速度分布を、従来の考え方と逆に
する。このようにして設定されたvA + ’/ B
+ V Cを吹出面積SA、S、、S。
する。このようにして設定されたvA + ’/ B
+ V Cを吹出面積SA、S、、S。
に乗じ、算出された各送風iQA 、QB 、QCの合
計値Qを給気チャンバー6内に給気するとき、WZ全全
体対する給気IQは従来の方法よりも小さくなる。この
方法の骨子を簡単に説明する。
計値Qを給気チャンバー6内に給気するとき、WZ全全
体対する給気IQは従来の方法よりも小さくなる。この
方法の骨子を簡単に説明する。
第10図のように全圧Pが一定に保たれている1つの空
間を考える。このとき P=PVA+PSA=PV!l+ ps11=一定 −
〇が成り立ち、VA =OI VB =0のときは、
P vA” O、P v!l= OとなりP =PEA
=PSB=一定 ・・・・−一−−−・−・−・・−・
・・−・−・−■である。
間を考える。このとき P=PVA+PSA=PV!l+ ps11=一定 −
〇が成り立ち、VA =OI VB =0のときは、
P vA” O、P v!l= OとなりP =PEA
=PSB=一定 ・・・・−一−−−・−・−・・−・
・・−・−・−■である。
この状況でのA部、B部の境界面はイである。なお、P
VA+ P vBは動圧+ P SA+ P
511は静圧である。
VA+ P vBは動圧+ P SA+ P
511は静圧である。
今、値の異なる二つの気流速度vA、VBが平行に与え
られ、vAくvBであるとき、PvA<PvIIとなり
、P=一定とすると、0式%式% となる。その結果PsIIがpsaに押されA部とB部
の境界面がイから口に移り、Aの領域がそれだけ拡大す
る。
られ、vAくvBであるとき、PvA<PvIIとなり
、P=一定とすると、0式%式% となる。その結果PsIIがpsaに押されA部とB部
の境界面がイから口に移り、Aの領域がそれだけ拡大す
る。
この現象を第9図のA部、B部、0部に適用すると第1
1図に示すようになる。この図においてV、<vH、v
B>v、で、各部の静圧P SA+ P Sit
P SCは、P sA> P 311+ P ssく
P5.の関係である。
1図に示すようになる。この図においてV、<vH、v
B>v、で、各部の静圧P SA+ P Sit
P SCは、P sA> P 311+ P ssく
P5.の関係である。
この関係はこの給気方法によれば第1図乃至第3図のい
ずれの方法よりもWZ全全体対する給気量を少なくでき
、有利な形態のクリーンルームとすることができること
を意味している。
ずれの方法よりもWZ全全体対する給気量を少なくでき
、有利な形態のクリーンルームとすることができること
を意味している。
この発明は以上説明したil¥1りであり、HEPAフ
ィルターに空気抵抗体を付加することによって以下に列
挙する効果をもたらすことができる。
ィルターに空気抵抗体を付加することによって以下に列
挙する効果をもたらすことができる。
(1) クリーンルームの形態を従来方法と同様にで
き、しかも従来のいずれの方法よりもWZ全全体対する
給気量を減することができる。
き、しかも従来のいずれの方法よりもWZ全全体対する
給気量を減することができる。
(2)作業通路部の気流速度を大きく設定することによ
って給気量が多くなり、そのため作業通路部の人間の歩
行による発塵を素速く室外に除去でき、発塵の影響を生
産ライン側に及ぼさずに済む。
って給気量が多くなり、そのため作業通路部の人間の歩
行による発塵を素速く室外に除去でき、発塵の影響を生
産ライン側に及ぼさずに済む。
(3)シたがって生産ラインの周辺の清浄度は十分に維
持できる。
持できる。
(4)生産機械の更新又は配置の変更により必要清浄度
の範囲の変更があっても、調整抵抗の位置または抵抗係
数、すなわち抵抗体の変更で対処できる。
の範囲の変更があっても、調整抵抗の位置または抵抗係
数、すなわち抵抗体の変更で対処できる。
(5)小型送風機内蔵のトンネルユニットを使用しない
で済み、保守上の問題もない。
で済み、保守上の問題もない。
(6) ビニシアルコスト。ランニングコストを安価
にできる。
にできる。
第1図乃至第3図は従来の形態のクリーンルームを示し
た断面図、第4図−I、nは本発明の実施例を示したそ
れぞれ平面図、断面図、第5図及び第6図は風量と抵抗
の関係を示したモデル図、第8図は空気抵抗と気流速度
との関係を示したグラフであり、第7図、第9図乃至第
11図は本発明の給気方法を示した概要図である。 1.3・・−・−・HEPAフィルター、2.4−・・
・−空気抵抗体、5−・・・−給気ダクト、6−・−・
給気チャンバー、7−・−・−送風機。 第1図 第3図 () (ソ手続補正書 昭和62年 4月 2日
た断面図、第4図−I、nは本発明の実施例を示したそ
れぞれ平面図、断面図、第5図及び第6図は風量と抵抗
の関係を示したモデル図、第8図は空気抵抗と気流速度
との関係を示したグラフであり、第7図、第9図乃至第
11図は本発明の給気方法を示した概要図である。 1.3・・−・−・HEPAフィルター、2.4−・・
・−空気抵抗体、5−・・・−給気ダクト、6−・−・
給気チャンバー、7−・−・−送風機。 第1図 第3図 () (ソ手続補正書 昭和62年 4月 2日
Claims (1)
- (1)天井全面の格子フレームにHEPAフィルターが
取り付けられた、クラス100以下の清浄度を必要とす
るクリーンルームにおいて、クリーンルームを生産ライ
ンと非生産ラインとに分割し、共通の天井裏給気チャン
バーからの給気が生産ラインと非生産ラインとに異なっ
た垂直気流速度で吹き出されるよう、空気抵抗体を、生
産ラインと非生産ライン上部の少なくともいずれか一方
のHEPAフィルターに重ねて取り付けてなるクリーン
ルームにおける天井構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24507486A JPS6399434A (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | クリ−ンル−ムにおける天井構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24507486A JPS6399434A (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | クリ−ンル−ムにおける天井構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6399434A true JPS6399434A (ja) | 1988-04-30 |
Family
ID=17128207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24507486A Pending JPS6399434A (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | クリ−ンル−ムにおける天井構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6399434A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5704833A (en) * | 1996-01-31 | 1998-01-06 | Aerospatiale Societe Nationale Industrielle | Clean room |
JP2021183902A (ja) * | 2015-04-20 | 2021-12-02 | シネクシス・リミテッド・ライアビリティ・カンパニーSynexis LLC | 希薄過酸化水素(dhp)ガスを含むクリーンルームおよびその使用方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5183277A (en) * | 1974-12-05 | 1976-07-21 | Flanders Filters | Ea fuirutano ryuryoseigyosochi |
JPS56162335A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Air conditioner |
JPS61186747A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-20 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリ−ンル−ム |
-
1986
- 1986-10-15 JP JP24507486A patent/JPS6399434A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5183277A (en) * | 1974-12-05 | 1976-07-21 | Flanders Filters | Ea fuirutano ryuryoseigyosochi |
JPS56162335A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-14 | Hitachi Ltd | Air conditioner |
JPS61186747A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-20 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリ−ンル−ム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5704833A (en) * | 1996-01-31 | 1998-01-06 | Aerospatiale Societe Nationale Industrielle | Clean room |
JP2021183902A (ja) * | 2015-04-20 | 2021-12-02 | シネクシス・リミテッド・ライアビリティ・カンパニーSynexis LLC | 希薄過酸化水素(dhp)ガスを含むクリーンルームおよびその使用方法 |
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