KR20170120213A - 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 - Google Patents
취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20170120213A KR20170120213A KR1020177030347A KR20177030347A KR20170120213A KR 20170120213 A KR20170120213 A KR 20170120213A KR 1020177030347 A KR1020177030347 A KR 1020177030347A KR 20177030347 A KR20177030347 A KR 20177030347A KR 20170120213 A KR20170120213 A KR 20170120213A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- fixing flange
- light
- concave portion
- fixing
- transmitting window
- Prior art date
Links
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 27
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 42
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 42
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 16
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 11
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 claims 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 29
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 12
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 208000033986 Device capturing issue Diseases 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0403—Mechanical elements; Supports for optical elements; Scanning arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/0303—Optical path conditioning in cuvettes, e.g. windows; adapted optical elements or systems; path modifying or adjustment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/02—Details
- G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
- G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/02—Constructional details
- G01J5/08—Optical arrangements
- G01J5/0875—Windows; Arrangements for fastening thereof
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
- G01N21/03—Cuvette constructions
- G01N21/05—Flow-through cuvettes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
- G01N21/5907—Densitometers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/02—Viewing or reading apparatus
- G02B27/022—Viewing apparatus
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/02—Viewing or reading apparatus
- G02B27/028—Viewing or reading apparatus characterised by the supporting structure
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/007—Pressure-resistant sight glasses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
- G01J5/0014—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry for sensing the radiation from gases, flames
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
본 발명은 유기 원료 유체의 공급계 등에서 사용하는 농도계의 구조의 간소화, 소형화, 제품 비용의 인하를 도모하고, 광 투과 창의 투명도를 일정하게 유지하여 안정된 농도 측정을 할 수 있음과 아울러 기밀밀 성능이나 내파티클성을 높인 농도계를 제공한다. 본 발명은 검출기 본체(2)와 검출기 본체의 상면에 설치된 광 발신부(5a) 및 검출기 본체의 하면에 설치된 광 검출부(5b)로 이루어지는 광 분석식 원료 유량 농도 검출기에 있어서 검출기 본체(2)의 상면 및 하면에 설치된 유체 통로(2b)에 의해 연통된 오목부(17)와, 상기 오목부(17) 내에 장착한 개스킷형 시일(6)과, 개스킷형 시일(6)과 대향하여 배치되고 사파이어제 광 투과 창판(11a)을 협착하여 기밀하게 감합 고정한 제 1 고정 플랜지(14) 및 제 2 고정 플랜지(16)와, 제 2 고정 플랜지(16) 내에 설치된 광 파이버(9) 및 포토다이오드(10)와, 상기 감합 고정한 양 고정 플랜지(14, 16)를 개스킷형 시일(6)을 통해 검출기 본체(2)의 오복부(17) 내에 기밀하게 고정하는 유지 고정체(12)로 구성된다.
Description
본 발명은 석영 유리나 사파이어제 판재 등의 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 개량에 관한 것이며, 주로 반도체 제조 장치의 원료 유체 공급 장치 등에서 사용하는 인라인형 광 분석식 프로세스 유체 농도계 등에 사용되고, 농도계 센서부의 소형화를 도모함과 아울러 고석출성이나 고광 반응성, 부식성의 프로세스 유체에 대해서도 시일재를 사용하는 일 없이 광 투과 창재를 기밀하게 고정 유지할 수 있고, 또한 장기에 걸쳐 고투명도와, 센서 내부의 고청정도(내파티클성)를 유지하는 것을 가능하게 한 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조 장치의 원료 유체 공급 장치 등에서는 반도체 제품의 품질 향상을 도모하는 점으로부터 안정된 농도의 프로세스 원료 유체를 처리 장치에 공급하는 것이 필요로 된다.
그 때문에 종전의 이 종 원료 유체 공급 장치, 예를 들면 도 9에 나타내는 바와 같은 버블링형 원료 유체 공급 장치에 있어서는 온도 제어된 원료 탱크(21)의 원료 증기 출구의 근방에 광 분석 방식의 농도계(22)를 설치하고, 상기 농도계(22)로부터의 농도 검출 신호에 의해 원료 탱크(21)의 온도, 캐리어 가스(CG)의 유량, 탱크 내 증기 압력(Po) 등을 조정함으로써 반응로(23)에 소정의 원료 농도의 프로세스 가스(24)(예를 들면 탱크(21) 내에 저류한 트리메틸갈륨 TMGa 등의 유기 금속 재료 증기를 포함한 프로세스 가스)가 공급되어 간다.
또한, 도 9에 있어서 25는 열식 매스 플로 컨트롤러, 26은 탱크 내압의 압력조정 장치이다.
상기 광 분석 방식의 농도계(22)로서는 각종 구성의 농도계(22)가 실용화되고 있지만 대다수의 농도계(22)는 도 10(일본 특허 공개 평 9-178652) 및 도 11(일본 특허 공개 2004-108981호)에 나타내는 바와 같이 피측정 가스(G)가 유통되는 광학 셀(가스 셀)(27)과, 광학 셀(27) 내에 광선을 조사하는 광원(28)과, 광학 셀(27) 내를 통과한 광선의 수광 장치(29)와, 수광 장치(29)의 신호로부터 흡광도를 구해 원료 농도를 산출하는 연산 장치(30) 등으로 형성되어 있다. 또한, 31은 주관로, 32는 분기관로이다.
그리고, 광학 셀(27) 내에 있어서의 가스의 소위 흡광 광도를 측정함과 아울러 흡광도의 측정 결과에 람베르트 비어의 법칙을 적용해서 가스 농도를 연산하도록 하고 있다.
또한, 후자의 일본 특허 공개 2004-108981호에 있어서는 도 11에 나타내는 바와 같이 광학 셀(흡광 셀)을 내장한 인라인 센서(33)를 관로(31)에 고정하고, 상기 광학 셀을 투과한 광의 광도 측정을 행하도록 하고 있다.
또한, 상기 광 분석 방식의 농도계(22) 그 자체는 공지이기 때문에 여기서는 그 상세한 설명을 생략한다.
그러나, 원료 가스 농도를 측정할 때에는 우선 광학 셀(27)을 관로(32)(또는 관로(31))에 접속 고정하는 것이 필요하게 되지만 광학 셀(27)과 관로(32)(또는 관로(31))의 접속부의 기밀성의 확보는 용이하지 않고, 예를 들면 통상의 패킹재나 시일재를 사용한 스크류 접속이나 플랜지 접속에서는 고도의 기밀성을 구비한 접속 고정이 곤란하며, 반도체 제조 장치의 분야에서 요구되는 기밀 성능(외부 리크 1×10-10Pa·㎥/sec 이하)을 확보하는 것이 용이하지 않다는 문제가 있다.
또한, 안정된 가스 농도 측정을 장기에 걸쳐 연속적으로 행하기 위해서는 광학 셀(27)을 형성하는 각종 구조물, 예를 들면 광 투과 창재 등은 높은 기밀성을 가져 광학 셀(27)의 본체에 견고하게 고정 유지할 필요가 있다. 그 때문에 종전의 광학 셀(27)에서는 각종 합성 수지제 시일재나 은납땜, 금납땜 등이 사용되고 있다.
또한, 안정된 가스 농도 측정을 연속적으로 행하기 위해서는 광학 셀(27)을 형성하는 광 투과 창재의 투명도가 장기에 걸쳐 안정되어 있을 필요가 있고, 투명도가 경시 변화를 하는 경우에는 안정된 가스 농도 측정이 곤란해진다.
그런데, 종전의 가스 농도계에 있어서는 상술한 바와 같이 광학 셀(27)을 형성하는 각종 구조물을 고정 유지할 때에 기밀성의 확보를 위해 각종 합성 수지제 시일재나 은납땜, 금납땜 등이 사용되고 있기 때문에 이것 등의 합성 수지제 시일재나 은납땜, 금납땜 등이 그 내부에 함유하는 가스나 파티클을 유기 원료 가스 내에 방출하는 방출원이 될 위험성이 있고, 현실적으로 파티클의 방출에 의한 가스 순도의 저하가 생긴다는 문제가 있다. 즉, 반도체 제조용 가스 공급계에 있어서는 은납땜이나 금납땜의 사용은 피하는 것이 바람직하다.
또한, 종전의 가스 농도계에 있어서는 광 투과 창의 구성재로서 석영 유리가 많이 사용되고 있기 때문에 고부식성 또는 고석출성을 갖는 유기 원료 가스의 농도 측정에 있어서는 광 투과 창이 부식되거나, 또는 원료의 석출에 의해 그 투명도가 조기에 저하하게 되어 안정된 원료 가스 농도의 측정을 할 수 없다는 문제가 남아 있다.
한편, 시일재 등의 사용 대신에 각종 구조물을 기계적으로 소요 개소에 직접, 또는 협착 고정하는 방법이 일부에서 착상되고 있다. 그러나, 직접 또는 협착에 의한 고정에서는 기밀성의 확보가 곤란한데다가 피고정 부재가 석영 유리판이나 사파이어재와 같은 취성 파괴성 재료로 이루어지는 판재인 경우에는 시일재를 사용하지 않고 기계적인 협착에만 의한 고정에서는 용이하게 높은 시일성이 얻어지지 않는다는 난점이 있다.
상술한 바와 같이 종전의 광 분석 방식의 농도계에는 설비의 소형화나 설비비의 저감, 농도 측정 정밀도의 안정성 확보, 고가스 순도의 유지 및 가스 기밀성의 유지 등의 점에 많은 문제가 남아 있고, 광 투과 창재와 구조체 사이의 시일성의 확보, 시일재의 사용에 의한 가스 순도의 저하 방지 및 유기 원료 가스의 부식성에 기인하여 생기는 광 투과 창재의 투명도의 저하 방지 등의 대책이 시급하다.
그 중에서도 특히 시일재 등을 사용하는 일 없이 센서부의 중요부를 형성하는 광 투과 창재를 고기밀성 하에 견고하게 고정 유지하는 것을 가능하게 한 방책의 제공이 긴급하게 요청되고 있다.
본 발명은 종전의 원료 유체 공급 장치 등에서 사용하는 원료 농도계에 있어서의 상술한 바와 같은 문제
즉, (I) 시일재 등을 사용하여 광 투과 창재 등을 고정 유지한 경우에는 시일재 자체로부터의 파티클의 방출이나 수분 등의 방출 가스에 의해 유체 순도가 저하하기 쉬운 점, (II) 농도계의 구조의 간소화 및 소형화 및 제품 비용의 인하를 용이하게 도모할 수 없는 점, (III) 광 투과 창의 투명도가 변동되기 때문에 안정되고 고정밀도의 원료 유체 농도의 측정을 할 수 없는 점, 및 (IV) 광학 셀과 관로의 기밀 성능을 높이는 것이 곤란한 점 등의 문제를 해결하기 위해서 시일재를 사용하는 일 없이 센서부를 형성하는 취성 파괴성 판재(광 투과 창재)를 고기밀하게 고정 유지하는 기구 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창재의 고정 방법을 제공하는 것을 발명의 주목적으로 하는 것이며, 이것에 의해 유기 원료 유체로서도 유체 통로 내에 간단하게 리크 프리로 삽입 고정할 수 있음과 아울러 고정밀도로 안정된 농도 측정을 행하고, 소형이며 염가로 제조할 수 있도록 한 인라인형 광 분석식 프로세스 유체 농도계를 제공하고자 하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 제 1 실시형태는 제 1 고정 플랜지와 제 2 고정 플랜지 사이에 취성 파괴제 판재로 이루어지는 광 투과 창판을 협착하고, 양 고정 플랜지를 기밀하게 감합 고정하는 구성으로 했다.
본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 제 2 실시형태는 광학식 유체 농도계에 있어서의 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조로서, 내주면이 복수단에 의한 계단 형상으로 축경된 삽입 오목부를 가짐과 아울러, 삽입 오목부 내의 단차부를 상기 광 투과 창판의 지지면으로 한 제 1 고정 플랜지와, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부의 상기 지지면 상에 배치한 상기 광 투과 창판과, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부 내에 삽입하는 외주면이 계단 형상으로 축경된 돌출부를 가짐과 아울러, 상기 돌출부를 상기 광 투과 창판을 배치한 상기 삽입 오목부 내에 기밀하게 감합 고정한 제 2 고정 플랜지를 갖는다.
본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 제 3 실시형태는 상기 제 2 실시형태에 있어서 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판을 사파이어제 광 투과 창판으로 함과 아울러 제 1 고정 플랜지와 제 2 고정 플랜지를 6~12N의 가압력에 의해 지협(持挾)하는 구성으로 했다.
본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 제 4 실시형태는 상기 제 2 실시형태에 있어서 제 2 고정 플랜지의 돌출부의 선단면과, 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부의 지지면을 광 투과 창판의 시일면으로 했다.
본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 제 5 실시형태는 상기 제 2 실시형태에 있어서 제 1 고정 플랜지의 하면측에 개스킷 수용부를 형성하고, 상기 개스킷 수용부의 저면을 개스킷 시일면으로 했다.
본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조의 제 6 실시형태는 상기 제 2 실시형태에 있어서 제 2 고정 플랜지에 광 파이버 삽입 구멍 및 포토다이오드 수납 오목부를 형성하는 구성으로 했다.
본 발명에 의한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법은 광학식 유체 농도계에 있어서의 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 방법으로서, 내주면이 복수단에 의한 계단 형상으로 축경된 삽입 오목부를 가짐과 아울러, 삽입 오목부 내의 단차부를 상기 광 투과 창판의 지지면으로 한 제 1 고정 플랜지와, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부의 상기 지지면 상에 배치한 상기 광 투과 창판과, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부 내에 삽입하는 외주면이 계단 형상으로 축경된 돌출부를 가짐과 아울러, 상기 돌출부를 상기 광 투과 창판을 배치한 상기 삽입 오목부 내에 기밀하게 감합 고정한 제 2 고정 플랜지를 갖고, 상기 제 1 고정 플랜지와 상기 제 2 고정 플랜지 사이에 상기 광 투과 창판을 협착하여 양 고정 플랜지를 기밀하게 감합 고정함과 아울러, 본체의 표면에 오목부를 형성하여 그 내부에 개스킷형 시일을 장착하고, 이어서 상기 오목부 내에 상기 감합 고정한 양 고정 플랜지를 장착하여 상기 제 1 고정 플랜지와 상기 개스킷형 시일을 대향시키고, 또한 상기 감합 고정한 양 고정 플랜지를 위요해서 유지 고정체를 배치하고, 상기 유지 고정체를 상기 본체에 고정함으로써 상기 오목부 내에 감합 고정한 양 고정 플랜지를 상기 개스킷형 시일을 통해 기밀하게 고정하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조는 상기 제 2 실시형태에 있어서 상기 제 2 고정 플랜지의 상기 돌출부는 상기 제 1 고정 플랜지의 상기 삽입 오목부 내에 압입되어 있고, 상기 돌출부의 내주면은 상기 삽입 오목부의 외주면에 기밀하게 감합 고정되어 있는 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조일 수 있다. 또한, 상기 제 2 고정 플랜지의 상기 돌출부의 외주면에는 링 형상의 돌기가 설치될 수 있다.
본 발명에서는 제 1 고정 플랜지와 제 2 고정 플랜지 사이에 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판을 협착하여 양 고정 플랜지를 기밀하게 감합 고정하는 구성으로 되어 있다.
또한, 본 발명에서는 내주면이 복수단에 의한 계단 형상으로 축경된 삽입 오목부를 가짐과 아울러 삽입 오목부 내의 단차부를 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 지지면으로 한 제 1 고정 플랜지와, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부의 광 투과 창판의 지지면 상에 배치한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판과, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부 내에 계단 형상 외주면을 갖는 돌출부를 삽입하여 상기 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판을 끼워 상기 삽입 오목부에 기밀하게 감합 고정한 제 2 고정 플랜지로부터 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 구조를 구성하고 있다.
그 결과, 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정을 간단하고 또한 확실하게 행할 수 있음과 아울러 필요로 하는 레벨의 기밀성을 시일재를 사용하는 일 없이 용이하게 얻을 수 있다.
또한, 취성 파괴 재료로 이루어지는 판재(11)인 광 투과 창판을 제 1 고정 플랜지(14)와 제 2 고정 플랜지(16) 사이에 끼워 넣어 기밀하게 감합 고정함과 아울러 상기 광 투과 창판을 장착하여 기밀하게 감합 고정한 양 플랜지를 본체(2)에 고정한 유지 고정체(12)에 의해 오목부(17) 내에 기밀하게 삽입하도록 하고 있기 때문에 시일재를 사용하지 않고 광 투과 창판을 보다 높은 기밀성으로 가져 용이하게 또한 견고하게 유지 고정할 수 있다.
추가해서, 광 투과 창판(11)을 사파이어제로 한 경우에는 석출성이나 반응성, 부식성 유체이어도 광 투과율이 저하하지 않고 안정된 고정밀도의 농도 측정이 가능해짐과 아울러 개스킷형 시일을 사용하고 있기 때문에 다른 합성 수지제 시일재나 은납재, 금납재 등을 사용하는 시일 구조와 비교해서 유체 내에의 불순물의 혼입을 전무하게 할 수 있다.
이와 같이, 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법은 설비의 소형화나 설비비의 삭감, 기밀성의 유지, 농도 측정 정밀도의 안정성 확보 및 고가스 순도의 유지 등의 점에서 우수한 효용을 발휘하는 것이다.
도 1은 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 원료 유체 농도 검출기의 정면도이다.
도 2는 도 1의 평면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 원료 유체 농도 검출기의 광 입사부의 종단면 개요도이다.
도 4는 도 3의 광 입사부의 유지 고정체의 종단면도 및 평면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 제 2 고정 플랜지의 종단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 제 1 고정 플랜지의 종단면도이다.
도 7은 본 발명의 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 광 입사부의 개스킷형 시일의 개요를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 농도계의 시험 장치의 개요 계통도이다.
도 9는 종전의 반도체 제조 장치용 원료 가스 공급 장치의 개요 설명도이다.
도 10은 종전의 가스 농도계의 사용례를 나타내는 것이다.
도 11은 종전의 다른 가스 농도계의 사용례를 나타내는 것이다.
도 2는 도 1의 평면도이다.
도 3은 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 원료 유체 농도 검출기의 광 입사부의 종단면 개요도이다.
도 4는 도 3의 광 입사부의 유지 고정체의 종단면도 및 평면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 제 2 고정 플랜지의 종단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 제 1 고정 플랜지의 종단면도이다.
도 7은 본 발명의 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 광 입사부의 개스킷형 시일의 개요를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 농도계의 시험 장치의 개요 계통도이다.
도 9는 종전의 반도체 제조 장치용 원료 가스 공급 장치의 개요 설명도이다.
도 10은 종전의 가스 농도계의 사용례를 나타내는 것이다.
도 11은 종전의 다른 가스 농도계의 사용례를 나타내는 것이다.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 의거하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 원료 유체 농도 검출기의 정면도, 도 2는 그 평면도, 도 3은 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 원료 유체 농도 검출기의 광 입사부의 종단면 개요도, 도 4는 광 입사부의 유지 고정체의 종단면도 및 평면도이다.
본 발명의 취성 파괴성 판재의 고정 구조를 적용한 원료 유체 농도 검출기(1)는 도 1 내지 도 4에 나타낸 바와 같이 검출기의 본체(2)와, 그 양측부에 고정한 입구 블록(3) 및 출구 블록(4)과, 검출기의 본체(2)의 상면측에 설치한 광 입사부(5a)와, 검출기의 본체(2)의 하면측에 설치한 광 검출부(5b) 등으로 구성되어 있다.
상기 검출기의 본체(2), 입구 블록(3) 및 출구 블록(4)은 스테인레스 강 등으로 형성되어 있고, 유체 통로(2a, 2b) 등이 각각 설치되어 있다. 또한, 검출기의 본체(2)의 양측부에는 개스킷형 시일(도시 생략)을 통해 입구 블록(3) 및 출구 블록(4)이 볼트(도시 생략)에 의해 기밀하게 고정되어 있다. 또한, 3b, 4b는 이음매부, 7은 누설 검사용 구멍, 8은 광 입사부(5a)의 고정용 볼트이다. 또한, 광 검출부(5b)도 상기 광 입사부(5a)와 마찬가지로 고정용 볼트(8)에 의해 고정되어 있다 (도시 생략).
상기 광 입사부(5a) 및 광 검출부(5b)는 검출기의 본체(2)의 상면측과 하면측에 각각 설치되어 있고, 광원이나 회절격자나 미러 등으로 이루어지는 광원 장치(도시 생략)로부터의 가시영역 또는 자외영역의 소정 파장의 광이 도 3에 나타낸 바와 같이 광 파이버(9)를 거쳐 광 입사부(5a) 내의 취성 파괴 재료로 이루어지는 판재(11), 즉 사파이어제 광 투과판으로 이루어지는 광 투과 창판(11a)에 입사된다.
또한, 도 3에 있어서 14는 제 1 고정 플랜지, 16은 제 2 고정 플랜지이며, 상기 양 고정 플랜지(14, 16)에 의해 후술하는 바와 같이 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재(광 투과 창판)의 고정 구조가 구성되어 있다.
도 3을 참조하여 상기 입사된 광의 대부분은 사파이어제 광 투과 창판(11a)을 투과하여 유체 통로(2b) 내에 입사되지만 상기 입사된 광의 일부는 사파이어제 광 투과 창판(11a)에 의해 반사되고, 이 반사광의 강도가 포토다이오드(10)에 의해 검출된다.
상기 광 검출부(5b)는 광 입사부(5a)의 경사 하방의 검출기의 본체(2)의 하면측에 상기 광 입사부(5a)와 대향 형상으로 설치되어 있고, 유체 통로(2b)를 통해서 광 입사부(5a)로부터 입사된 광이 사파이어제 광 투과 창판(11a)을 통해 광 검출부(5b) 내의 포토다이오드(도시 생략)에 입사되어 상기 입사광의 광 강도가 검출된다.
상기 하면측의 광 검출부(5b)에 있어서 검출된 광 강도는 유체 통로(2b) 내를 유통하는 원료 유체(프로세스용 유체)의 농도 등에 의해 변화되고, 검출한 광 강도 신호는 연산 장치(도시 생략)에 입력되고, 여기서 원료 유체 내의 원료 농도가 연산된다.
또한, 원료 농도 C는 기본적으로는 분광광도계에서 구한 흡광도 A를 기초로 하여 다음 (1)식에 의해 연산된다.
*A = log10(I0/I) =ε×C×I ···(1)
단, (1)식에 있어서 I0는 광 입사부(5a)로부터의 입사광 강도, I는 투과광 강도(광 검출부(5b)의 포토다이오드(10)에의 입사광 강도), ε은 원료의 몰 흡광계수, C는 원료 농도, A는 흡광도이다.
상기 광 입사부(5a) 및 광 검출부(5b)은 구조적으로는 완전히 동일한 것이며, 도 3에 나타내는 바와 같이 스테인레스 강제의 중앙에 플랜지 수용 구멍(12a)을 갖는 유지 고정체(12)와, 검출기의 본체(2)의 외표면에 설치한 제 1 고정 플랜지(14)와, 제 2 고정 플랜지(16)와, 양 플랜지(14, 16) 사이에 기밀하게 끼워 넣어 고정한 사파이어제 광 투과 창판(11a)과, 광 투과 창판(11a)의 상방에 위치하여 제 2 고정 플랜지(16)에 고정한 포토다이오드(10) 등으로 형성되어 있다.
즉, 본 발명의 취성 파괴성 판재의 고정 구조는 제 2 고정 플랜지(16)와 제 1 고정 플랜지(14)로 구성되어 있고, 후술하는 바와 같이 제 2 고정 플랜지(16)의 돌출부(16b)를 제 1 고정 플랜지(14)의 삽입 오목부(14b) 내에 8~12N의 힘으로 협지함으로써 제 2 고정 플랜지(16)의 돌출부(16b)의 선단면과, 제 1 고정 플랜지(14)의 삽입 오목부(14b)의 지지면(14c)을 광 투과 창판(11a)의 시일면으로 하고, 취성 파괴성 판재인 사파이어제 광 투과 창판(11a)을 끼워 넣어 고정한 상태로 기밀하게 일체화되어 있다.
그리고, 이 사파이어제 광 투과 창판(11a)을 끼워 넣음으로써 일체화한 제 2 고정 플랜지(16)와 제 1 고정 플랜지(14)를 유지 고정체(12)의 플랜지 수용 구멍(12a) 내에 삽입하고, 그 후, 유지 고정체(12)를 고정용 볼트(8)에 의해 개스킷형 시일(6)을 개재해서 검출기의 본체(2)에 압박 고정함으로써 광 입사부(5a) 및 광 검출부(5b)가 검출기의 본체(2)에 기밀하게 고정되어 있다.
또한, 도 3에 있어서 17은 검출기의 본체(2)의 외표면에 형성한 오목부, 6a는 개스킷, 13은 양 고정 플랜지(14, 16) 사이의 시일면, 14e는 개스킷(6a)과 제 1 고정 플랜지(14) 사이의 시일면, 9a는 광 파이버의 삽입 구멍이다.
또한, 상기 유지 고정체(12)는 도 4에 나타내는 바와 같이 두께 12~15㎜의 사각형 강판의 중앙부에 플랜지 수용 구멍(12a)이 형성되어 있고, 그 양측부에 고정용 볼트(8)의 삽입 구멍(12b)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 유지 고정체(12)의 하단부에는 제 1 고정 플랜지(14)의 외주부 상면에 감합되어 이것을 압박하기 위한 단차부(12c)가 형성되어 있고, 플랜지 수용 구멍(12a)의 하방은 확경되어 제 1 고정 플랜지(14)의 수용부에 형성되어 있다.
이어서, 본 발명의 취성 파괴성 판재(광 투과 창판)의 고정 구조를 도 5 내지 도 7에 의거하여 설명한다.
취성 파괴성 판재(광 투과 창판)의 고정 구조를 구성하는 상기 제 2 고정 플랜지(16)는 도 5에 나타내는 바와 같이 스테인레스 강제의 짧은 원기둥체로 형성되어 있고, 그 일측(하면)의 중앙부는 2단의 단차부(16a)에 의해 계단 형상으로 축경된 돌출부(16b)에 형성되어 있다.
또한, 축경된 돌출부(16b)의 선단부의 선단면(16d)은 두께 0.8~1.5㎜ 정도의 얇은 광 투과 창판(11a)에 접촉되는 시일면으로 되어 있다. 또한, 도 5에 있어서 16c는 포토다이오드 수납 오목부이다.
한편, 상기 제 1 고정 플랜지(14)는 도 6에 나타낸 바와 같이 스테인레스 강에 의해 원반 형상으로 형성되어 있고, 중앙부에는 복수(여기서는 3단)의 단차부(14a)에 의해 계단 형상으로 축경된 삽입 오목부(14b)에 형성되어 있다. 또한, 이 삽입 오목부(14b)는 관통 형상으로 형성되어 있고, 검출기의 본체(2)의 오목부(17)에 연통되어 있다(도 3 참조).
또한, 상기 3단의 단차부(14a)의 중간부는 광 투과 창판(11a)의 수납부를 이루고 있고, 그 중간부의 단차부인 지지면(14c) 상에 사파이어제의 광 투과 창판(11a)이 적재 고정되어 있다.
또한, 제 1 고정 플랜지(14)의 하면측에는 개스킷(6a)의 수용부(14d)가 형성되어 있고, 여기에 개스킷형 시일(6)의 상반부가 삽입 고정된다.
상기 제 1 고정 플랜지(14)의 삽입 오목부(14b)의 중간부의 단차부인 지지면(14c) 상에 사파이어제의 광 투과 창판(11a)을 적재한 후, 제 2 고정 플랜지(16)의 돌출부(16b)를 삽입 오목부(14b) 내에 삽입하고, 제 2 고정 플랜지(16)를 제 1 고정 플랜지(14) 내에 8~12N의 힘으로 협지함으로써 양 고정 플랜지(14, 16)를 고정 일체화한다.
플랜지부를 협지함으로써 양 고정 플랜지(14, 16)의 돌출부(16b)의 외주면과 삽입 오목부(14b)의 내주면의 압접면, 및 광 투과 창판(11a)의 외주 가장자리부에 접촉되거나 돌출부(16b)의 선단면(16d)과 삽입 오목부(14b)의 광 투과 창판 지지면(14c)이 각각 시일면이 되어 유체 통로 내의 유체의 외부로의 누출이 완전히 방지된다.
또한, 상기 개스킷형 시일(6)은 도 7에 나타내는 바와 같이 제 1 고정 플랜지(14)의 개스킷 수용부(14d)와, 검출기의 본체(2)측의 개스킷 수용부(17a)와, 링 형상의 개스킷(6a)과, 링 형상의 리테이너(6b)와, 링 형상의 가이드 링(6c) 등으로 구성되어 있고, 시일면(15, 15)에 의해 2중으로 시일되는 구성으로 되어 있다.
상기 취성 파괴 재료로 이루어지는 판재(11)제의 광 투과 창을 구성하는 사파이어제 광 투과 창판(11a)은 소위 고순도의 알루미나(Al2O3)의 단결정이며, 두께 0.8~1.5㎜로 형성되어 있고, 내마모성, 내부식성(내약품성), 내열성 등이 우수하고, 반도체 제조용에 사용되어 유기 원료 가스에 의해 부식이나 변질되어 그 광투명도가 변화되는 일은 거의 없는 것이 확인되고 있다.
마찬가지로, 8~12N의 협지력에 의해 양 고정 플랜지(14, 16)를 일체화함으로써 사파이어제 광 투과 창판(11a)(외경 5~15㎜)에 균열 등의 손상이 일절 생기지 않는 것이 확인되고 있다.
또한, 상기 개스킷형 시일(6), 사파이어제 광 투과 창판(11a) 및 포토다이오드(10) 등은 공지한 것이기 때문에 여기서는 그 상세한 설명은 생략한다.
이어서, 본 발명에 의한 원료 유체 농도 검출기(1)의 농도 검출 시험과 그 결과에 대하여 설명한다.
우선, 도 8에 나타내는 바와 같이 반도체 제조 장치용 프로세스 가스(유기 원료 TMGa 증기)의 공급 관로에 원료 유체 농도 검출기(1)를 인라인 형상으로 접속하고, 광원 장치(18)로부터 광 파이버(9)를 통해 광 입사부(5a)에 광을 입사했다. 또한, 광 입사부(5a) 및 광 검출부(5b)의 포토다이오드(10)는 수광면 1.0㎜×1.1㎜, 직경 504㎜, 높이 3.6㎜으로 선정되어 있다, 또한, 사파이어제 광 투과 창판(11a)은 두께 1.0㎜, 직경 8.0㎜이며, 또한 광 입사부(5a)와 광 검출부(5b) 사이의 유체 통로(2b)의 길이는 30㎜, 유체 통로의 내경은 4.0㎜φ으로 설정되어 있다.
광 입사부(5a)에 광을 입사하고, 광 입사부(5a)의 포토다이오드(10)로부터의 검출 출력을 반사광 검출 장치(18a)를 통해 연산 장치(19)에 입력함과 아울러 광 검출부(5b)의 포토다이오드(10)로부터의 검출 출력을 출력 광 검출 장치(18b)를 통해 연산 장치(19)에 입력하고, 여기서, 상기 (1)식을 이용하여 유체 통로(2a) 내를 유통하는 유기 원료 TMGa 증기의 농도를 소정의 시간 간격을 두고 연산하여 그 결과를 기록, 표시한다.
상기 반사광 검출 장치(18a)로부터의 검출 출력은 연산 장치(19)에 있어서의 원료 농도 검출값의 보정에 사용되고, 이것에 의해 광원 장치(18)로부터의 입사광의 소위 흔들림이나 사파이어제 광 투과 창판(11a)의 광 투과율의 경년변화 등에 의해 생기는 원료 농도의 측정 오차가 보정된다.
시험 결과로부터 본 발명에 의한 취성 파괴성 판재(사파이어제 광 투과 창판)의 고정 구조에 의해 시일재를 일절 사용하지 않고 필요로 하는 레벨의 기밀성을 확보하면서 고밀도의 농도 측정이 가능한 것이 확인되었다.
본원 발명은 반도체 제조용 가스 공급계의 유체 농도계뿐만 아니라 석출성이나 광 반응성, 부식성 유체를 취급하는 모든 유체 공급 관로나 유체 사용 기기류에 있어서의 유체 농도계나, 관로 및 기기 등의 투시창 설치 등에도 사용할 수 있다.
1
원료 유체 농도 검출기
2
검출기 본체
2a 유체 통로 2b 유체 통로
3 입구 블록 3b 이음매부
4 출구 블록 4b 이음매부
5a 광 입사부 5b 광 검출부
6 개스킷형 시일 6a 개스킷
6b 링 형상 리테이너 6c 가이드 링
7 누설 검사용 구멍 8 고정용 볼트
9 광 파이버 9a 광 파이버 삽입 구멍
10 포토다이오드
11 취성 파괴 재료로 이루어지는 판재(광 투과 창판)
11a 사파이어제 광 투과 창판
12 유지 고정체
12a 플랜지 수납부
12b 볼트 삽입 구멍
12c 단차부
13 시일면
14 제 1 고정 플랜지
14a 계단부
14b 삽입 오목부
14c 삽입 오목부의 광 투과 창판 지지면(시일면)
14d 개스킷 수용부
16 제 2 고정 플랜지
16a 계단부
16b 돌출부
16c 포토다이오드 수납 오목부
16d 돌출부의 선단면(시일면)
17 오목부
17a 개스킷 수용부
18 광원 장치
18a 반사광 검출 장치
18b 출력광 검출 장치
19 연산 장치
20 표준 농도계
2a 유체 통로 2b 유체 통로
3 입구 블록 3b 이음매부
4 출구 블록 4b 이음매부
5a 광 입사부 5b 광 검출부
6 개스킷형 시일 6a 개스킷
6b 링 형상 리테이너 6c 가이드 링
7 누설 검사용 구멍 8 고정용 볼트
9 광 파이버 9a 광 파이버 삽입 구멍
10 포토다이오드
11 취성 파괴 재료로 이루어지는 판재(광 투과 창판)
11a 사파이어제 광 투과 창판
12 유지 고정체
12a 플랜지 수납부
12b 볼트 삽입 구멍
12c 단차부
13 시일면
14 제 1 고정 플랜지
14a 계단부
14b 삽입 오목부
14c 삽입 오목부의 광 투과 창판 지지면(시일면)
14d 개스킷 수용부
16 제 2 고정 플랜지
16a 계단부
16b 돌출부
16c 포토다이오드 수납 오목부
16d 돌출부의 선단면(시일면)
17 오목부
17a 개스킷 수용부
18 광원 장치
18a 반사광 검출 장치
18b 출력광 검출 장치
19 연산 장치
20 표준 농도계
Claims (5)
- 광학식 유체 농도계에 있어서의 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조로서, 내주면이 복수단에 의한 계단 형상으로 축경된 삽입 오목부를 가짐과 아울러, 삽입 오목부 내의 단차부를 상기 광 투과 창판의 지지면으로 한 제 1 고정 플랜지와, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부의 상기 지지면 상에 배치한 상기 광 투과 창판과, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부 내에 삽입하는 외주면이 계단 형상으로 축경된 돌출부를 가짐과 아울러, 상기 돌출부를 상기 광 투과 창판을 배치한 상기 삽입 오목부 내에 기밀하게 감합 고정한 제 2 고정 플랜지를 갖고,
상기 광 투과 창판은 상기 제 1 고정 플랜지의 상기 지지면과, 상기 제 2 고정 플랜지의 상기 돌출부의 선단면과의 사이에 협지되고, 상기 지지면과 상기 선단면은 상기 광 투과 창판의 시일면을 형성하고 있고,
상기 제 2 고정 플랜지의 상기 돌출부는 상기 제 1 고정 플랜지의 상기 삽입 오목부 내에 압입되고, 계단 형상으로 축경된 상기 돌출부의 외주면은 계단 형상으로 축경된 상기 삽입 오목부의 내주면에 압접되어 시일재를 사용하지 않고 기밀하게 감합 고정되어 있는 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조. - 제 1 항에 있어서,
취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판을 사파이어제 광 투과 창판으로 함과 아울러, 제 1 고정 플랜지와 제 2 고정 플랜지를 6~12N의 가압력에 의해 협지하는 구성으로 한 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조. - 제 1 항에 있어서,
제 1 고정 플랜지의 하면측에 개스킷 수용부를 형성하고, 상기 개스킷 수용부의 저면을 개스킷 시일면으로 한 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조. - 제 1 항에 있어서,
제 2 고정 플랜지에 광 파이버 삽입 구멍 및 포토다이오드 수납 오목부를 형성한 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 구조. - 광학식 유체 농도계에 있어서의 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 방법으로서, 내주면이 복수단에 의한 계단 형상으로 축경된 삽입 오목부를 가짐과 아울러, 삽입 오목부 내의 단차부를 상기 광 투과 창판의 지지면으로 한 제 1 고정 플랜지와, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부의 상기 지지면 상에 배치한 상기 광 투과 창판과, 상기 제 1 고정 플랜지의 삽입 오목부 내에 삽입하는 외주면이 계단 형상으로 축경된 돌출부를 가짐과 아울러, 상기 돌출부를 상기 광 투과 창판을 배치한 상기 삽입 오목부 내에 기밀하게 감합 고정한 제 2 고정 플랜지를 갖고, 상기 제 1 고정 플랜지와 상기 제 2 고정 플랜지 사이에 상기 광 투과 창판을 협착하여 양 고정 플랜지를 기밀하게 감합 고정함과 아울러, 본체의 표면에 오목부를 형성하여 그 내부에 개스킷형 시일을 장착하고, 이어서 상기 오목부 내에 상기 감합 고정한 양 고정 플랜지를 장착하여 상기 제 1 고정 플랜지와 상기 개스킷형 시일을 대향시키고, 또한 상기 감합 고정한 양 고정 플랜지를 둘러싸서 유지 고정체를 배치하고, 상기 유지 고정체를 상기 본체에 고정함으로써 상기 오목부 내에 감합 고정한 양 고정 플랜지를 상기 개스킷형 시일을 통해 기밀하게 고정하고,
상기 광 투과 창판은 상기 제 1 고정 플랜지의 상기 지지면과, 상기 제 2 고정 플랜지의 상기 돌출부의 선단면과의 사이에 협지되고, 상기 지지면과 상기 선단면은 상기 광 투과 창판의 시일면을 형성하고 있고,
상기 제 2 고정 플랜지의 상기 돌출부는 상기 제 1 고정 플랜지의 상기 삽입 오목부 내에 압입되고, 계단 형상으로 축경된 상기 돌출부의 외주면은 계단 형상으로 축경된 상기 삽입 오목부의 내주면에 압접되어, 시일재를 사용하지 않고 기밀하게 감합 고정되어 있는 취성 파괴성 광 투과 창판의 고정 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2013-099126 | 2013-05-09 | ||
| JP2013099126A JP5885699B2 (ja) | 2013-05-09 | 2013-05-09 | 脆性破壊性光透過窓板の固定構造及びこれを用いた脆性破壊性光透過窓板の固定方法 |
| PCT/JP2014/002333 WO2014181522A1 (ja) | 2013-05-09 | 2014-04-25 | 脆性破壊性板材の固定構造及びこれを用いた脆性破壊性板材から成る光透過窓板の固定方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020157018579A Division KR20150093235A (ko) | 2013-05-09 | 2014-04-25 | 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170120213A true KR20170120213A (ko) | 2017-10-30 |
| KR101852802B1 KR101852802B1 (ko) | 2018-04-27 |
Family
ID=51867013
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020157018579A KR20150093235A (ko) | 2013-05-09 | 2014-04-25 | 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 |
| KR1020177030347A KR101852802B1 (ko) | 2013-05-09 | 2014-04-25 | 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020157018579A KR20150093235A (ko) | 2013-05-09 | 2014-04-25 | 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9983051B2 (ko) |
| JP (1) | JP5885699B2 (ko) |
| KR (2) | KR20150093235A (ko) |
| CN (1) | CN105164512B (ko) |
| SG (1) | SG11201509118YA (ko) |
| TW (1) | TWI512279B (ko) |
| WO (1) | WO2014181522A1 (ko) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5973969B2 (ja) * | 2013-07-31 | 2016-08-23 | 国立大学法人徳島大学 | インライン型濃度計及び濃度検出方法 |
| JP6912766B2 (ja) | 2016-07-29 | 2021-08-04 | 国立大学法人徳島大学 | 濃度測定装置 |
| JP7360100B2 (ja) * | 2018-09-25 | 2023-10-12 | 株式会社フジキン | 濃度測定装置 |
| KR102514737B1 (ko) | 2018-09-28 | 2023-03-29 | 가부시키가이샤 후지킨 | 농도 측정 방법 |
| CN112805551A (zh) | 2018-10-26 | 2021-05-14 | 株式会社富士金 | 浓度测定装置 |
| JP7357938B2 (ja) | 2019-01-31 | 2023-10-10 | 株式会社フジキン | 濃度測定装置 |
| US11953434B2 (en) | 2019-02-22 | 2024-04-09 | Shell Oil Compny | Spectroscopic devices, systems, and methods for optical sensing of molecular species |
| JP7445313B2 (ja) | 2019-04-19 | 2024-03-07 | 株式会社フジキン | 濃度測定装置 |
| CN114270169A (zh) | 2019-09-18 | 2022-04-01 | 株式会社富士金 | 浓度测定装置 |
| KR20220079977A (ko) | 2020-03-13 | 2022-06-14 | 토쿠시마 대학 | 농도 측정 방법 및 농도 측정 장치 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3088843B2 (ja) * | 1992-05-26 | 2000-09-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 高圧下物質観察装置 |
| JP3155842B2 (ja) * | 1992-10-30 | 2001-04-16 | キヤノン株式会社 | 像ぶれ補正装置 |
| JP3093049B2 (ja) * | 1992-09-22 | 2000-10-03 | ローム株式会社 | 光分岐結合器 |
| JPH09178652A (ja) | 1995-12-26 | 1997-07-11 | Ebara Jitsugyo Kk | ガス濃度測定装置及び方法 |
| CN2262986Y (zh) * | 1996-07-09 | 1997-09-24 | 北京化工大学 | 聚合物加工过程检测视窗装置 |
| JP3965512B2 (ja) | 1998-03-31 | 2007-08-29 | 株式会社フジキン | 流体継手および流体継手において使用されるガスケット保持用リテーナ |
| JP3821227B2 (ja) | 2002-09-19 | 2006-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 有機金属化合物の気化供給装置 |
| JP4524388B2 (ja) * | 2004-05-20 | 2010-08-18 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | 光学計測機器用フランジ付き超高真空観測窓の気密方法 |
| US20070108378A1 (en) * | 2005-11-14 | 2007-05-17 | Toru Terabayashi | High pressure optical cell for a downhole optical fluid analyzer |
| JP4830171B2 (ja) * | 2006-05-15 | 2011-12-07 | 学校法人早稲田大学 | モールド支持構造 |
| JP2008218698A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 熱処理装置 |
| BRPI0812731A2 (pt) | 2007-06-15 | 2014-12-23 | Bp Chem Int Ltd | Método para a análise em linha de uma corrente do processo e método para realizar o controle do processo em um processo de reforma a vapor |
| CN201307087Y (zh) * | 2008-12-06 | 2009-09-09 | 中国海洋大学 | 海洋环境下的光谱观测窗口 |
| JP5301983B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2013-09-25 | 株式会社フジキン | ガスケット型オリフィス及びこれを用いた圧力式流量制御装置 |
| JP3155842U (ja) * | 2009-09-18 | 2009-12-03 | テルモ株式会社 | 成分測定装置 |
| JP2011257146A (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-22 | Horiba Ltd | 光学測定用セル |
| CN102128720B (zh) * | 2011-01-07 | 2012-03-21 | 北京理工大学 | 一种自紧密封式定容弹光学玻璃窗口 |
| CN202033283U (zh) * | 2011-05-09 | 2011-11-09 | 中国海洋大学 | 一种耐高压流通池 |
-
2013
- 2013-05-09 JP JP2013099126A patent/JP5885699B2/ja active Active
-
2014
- 2014-04-25 KR KR1020157018579A patent/KR20150093235A/ko active Application Filing
- 2014-04-25 SG SG11201509118YA patent/SG11201509118YA/en unknown
- 2014-04-25 CN CN201480010081.1A patent/CN105164512B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-25 KR KR1020177030347A patent/KR101852802B1/ko active IP Right Grant
- 2014-04-25 US US14/889,388 patent/US9983051B2/en active Active
- 2014-04-25 WO PCT/JP2014/002333 patent/WO2014181522A1/ja active Application Filing
- 2014-04-30 TW TW103115533A patent/TWI512279B/zh active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| SG11201509118YA (en) | 2015-12-30 |
| CN105164512B (zh) | 2017-10-20 |
| JP2014219294A (ja) | 2014-11-20 |
| TW201512643A (zh) | 2015-04-01 |
| JP5885699B2 (ja) | 2016-03-15 |
| KR101852802B1 (ko) | 2018-04-27 |
| CN105164512A (zh) | 2015-12-16 |
| WO2014181522A1 (ja) | 2014-11-13 |
| US9983051B2 (en) | 2018-05-29 |
| US20160084700A1 (en) | 2016-03-24 |
| KR20150093235A (ko) | 2015-08-17 |
| TWI512279B (zh) | 2015-12-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101852802B1 (ko) | 취성 파괴성 판재의 고정 구조 및 이것을 사용한 취성 파괴성 판재로 이루어지는 광 투과 창판의 고정 방법 | |
| KR101722013B1 (ko) | 원료 유체 농도 검출기 | |
| JP2014219294A5 (ko) | ||
| US8699031B2 (en) | Optical measurement device | |
| TWI721570B (zh) | 濃度測定裝置 | |
| JP2017040655A (ja) | Ｃｐ２Ｍｇ濃度測定装置 | |
| JP2008216094A (ja) | 透過光測定用フローセル | |
| KR100859744B1 (ko) | 분광기를 이용한 액체내의 조성물 농도측정장치 | |
| CN209559111U (zh) | 一种基于光纤传感的结构变形装置 | |
| US11892395B2 (en) | Optical measurement cell and optical analysis device | |
| JP6481264B2 (ja) | 測定用窓 | |
| WO2023281816A1 (ja) | 光学測定用セル、光学分析装置、窓形成部材、及び光学測定用セルの製造方法 | |
| JP2002296174A (ja) | 分光分析用測定セル | |
| US20080100845A1 (en) | Inline photometer device and calibration method | |
| CN117969427A (zh) | 光衰参比传感器及其光衰补偿方法 | |
| CN116448673A (zh) | 光学测定用池及其制造方法、光学分析装置、窗形成部件 | |
| CN114354527A (zh) | 一种臭氧浓度分析仪的检测模块 | |
| JPH08247938A (ja) | 赤外線ガス分析計 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A107 | Divisional application of patent | ||
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |