KR20170098252A - 기판들을 린싱 및 건조하기 위한 시스템 및 방법 - Google Patents

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예카테리나 미카이리첸코
브라이언 제이. 브라운
카일 엠. 한슨
빈센트 에스. 프란시스체티
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어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

일부 실시예들에서, (1) 로딩 위치; (2) 건조 위치; (3) 이동가능한 탱크 - 이동가능한 탱크는 (a) 적어도 하나의 기판을 유지하고, (b) 세정 화학물질을 유지하여, 이동가능한 탱크 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키고, (c) 로딩 위치와 건조 위치 사이에서 병진하도록 구성됨 -; 및 (4) 건조 위치에 위치되고, 이동가능한 탱크가 건조 위치에 있을 때 기판이 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 기판을 린싱 및 건조하도록 구성되는 건조 스테이션을 포함하는 시스템이 제공된다. 다수의 다른 양태가 제공된다.

Description

기판들을 린싱 및 건조하기 위한 시스템 및 방법{SYSTEMS AND METHODS FOR RINSING AND DRYING SUBSTRATES}
[관련 출원들에 대한 상호 참조]
본 출원은 2014년 12월 19일자로 출원되고 발명의 명칭이 "기판 린싱 시스템 및 방법(SUBSTRATE RINSING SYSTEMS AND METHODS)"인 미국 가출원 제62/094,938호(문서 번호 22585/L)의 우선권을 주장하는, 2015년 1월 21일자로 출원되고 발명의 명칭이 "기판들을 린싱하고 건조하기 위한 시스템 및 방법(SYSTEMS AND METHODS FOR RINSING AND DRYING SUBSTRATES)"인 미국 출원 제14/602,201호(문서 번호 22586/USA)의 우선권을 주장하고, 이들 각각의 전체 내용은 모든 목적을 위해 참조로써 여기에 포함된다.
본 출원은 2015년 1월 9일자로 출원되고 발명의 명칭이 "기판 홀더 어셈블리, 장치, 및 방법(SUBSTRATE HOLDER ASSEMBLY, APPARATUS, AND METHODS)"인 미국 출원 제14/593,841호(문서 번호 22564)에 관련되고, 그 전체 내용은 모든 목적을 위해 참조로써 여기에 포함된다.
본 출원은 2015년 1월 21일자로 출원되고 발명의 명칭이 "기판 그립퍼 장치 및 방법(SUBSTRATE GRIPPER APPARATUS AND METHODS)"인 미국 출원 제14/602,094호(문서 번호 22600)에 관련되고, 그 전체 내용은 모든 목적을 위해 참조로써 여기에 포함된다.
본 출원은 2015년 1월 21일자로 출원되고 발명의 명칭이 "기판 에지 잔류물 제거 시스템, 장치, 및 방법(SUBSTRATE EDGE RESIDUE REMOVAL SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS)"인 미국 출원 제14/602,114호(문서 번호 22563)에 관한 것이고, 그 전체 내용은 모든 목적을 위해 참조로써 여기에 포함된다.
[기술분야]
본 출원은 반도체 디바이스 제조에 관한 것이고, 더 구체적으로는 기판을 린싱(rinsing)하고 건조하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 기하형상들이 계속하여 작아짐에 따라, 초청정 처리의 중요성이 증가한다. 유체 탱크(또는 배쓰)와 그에 후속하는 린싱 배쓰 내에서의 수성 세정(aqueous cleaning)(예를 들어 별도의 탱크 내에서, 또는 세정 탱크 유체를 교체함으로써)이 이용될 수 있다. 린싱 배쓰로부터의 제거 후에, 건조 장치의 사용 없이, 배쓰 유체가 기판의 표면으로부터 증발할 수 있고, 기판의 표면 상에 스트리킹(streaking), 스폿팅(spotting)을 유발하고/하거나 배쓰 잔류물을 남길 수 있다. 그러한 스트리킹, 스폿팅 및 잔류물은 후속 디바이스 고장을 야기할 수 있다. 따라서, 기판이 수성 배쓰로부터 제거될 때 기판을 건조하기 위한 개선된 방법에 대해 많은 주의를 기울여왔다.
마란고니 건조(Marangoni drying)로 알려져 있는 방법은 기판에 배쓰 유체를 사실상 남기지 않는 방식으로 배쓰 유체가 기판으로부터 유동하게 유도하는 표면 장력 경사를 생성하며, 그에 따라, 스트리킹, 스폿팅 및 잔류물 흔적(residue mark)을 피할 수 있다. 구체적으로, 마란고니 건조 동안, 배쓰 유체와 혼합가능한 용매(즉, IPA 증기)는 기판이 배쓰로부터 리프트될 때 또는 배쓰 유체가 기판을 지나 배수(drained)될 때 형성되는 유체 메니스커스(fluid meniscus)에 도입된다. 용매 증기는 유체의 표면을 따라 흡수되고, 흡수된 증기의 농도는 메니스커스의 첨단에서 더 높다. 흡수된 증기의 더 높은 농도는 표면 장력이 배쓰 유체의 벌크 내에서보다 메니스커스의 첨단에서 더 낮아지게 하고, 그에 의해 배쓰 유체가 건조 메니스커스로부터 벌크 배쓰 유체를 향해 유동하게 한다. 그러한 유동은 "마란고니" 유동으로서 알려져 있고, 기판 상의 스트리킹, 스폿팅 또는 배쓰 잔류물이 감소된 기판 건조를 달성하기 위해 이용될 수 있다.
기판의 균일한 마란고니 건조는 달성하기가 어려울 수 있고, 일부 경우들에서, 배쓰 유체로부터의 입자들은 기판에 재부착되거나 기판을 오염시킬 수 있다. 그러한 것으로서, 기판 린싱 및/또는 건조 동안 입자 재부착을 감소시키기 위한 방법 및 장치가 요구된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, (1) 로딩 위치; (2) 건조 위치; (3) 이동가능한 탱크(movable tank) - 이동가능한 탱크는 (a) 적어도 하나의 기판을 유지하고, (b) 세정 화학물질(cleaning chemistry)을 유지하여, 이동가능한 탱크 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키고, (c) 로딩 위치와 건조 위치 사이에서 병진(translate)하도록 구성됨 -; 및 (4) 건조 위치에 위치되고, 이동가능한 탱크가 건조 위치에 있을 때 기판이 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 기판을 린싱 및 건조하도록 구성되는 건조 스테이션을 포함하는 시스템이 제공된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, (1) 적어도 하나의 기판을 유지하고 로딩 위치와 건조 위치 사이에서 병진시키도록 구성된 이동가능한 탱크를 제공하는 단계; (2) 건조 위치에 위치되고, 이동가능한 탱크가 건조 위치에 있을 때 기판이 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 기판을 린싱 및 건조하도록 구성되는 건조 스테이션을 제공하는 단계; (3) 이동가능한 탱크를 로딩 위치에 위치시키는 단계; (4) 이동가능한 탱크가 로딩 위치에 있는 동안, 기판을 이동가능한 탱크 내로 로딩하는 단계; (5) 이동가능한 탱크를 세정 화학물질로 충진하는 단계; (6) 미리 결정된 기간 동안 기판을 세정 화학물질로 트리트먼트하는 단계; (7) 이동가능한 탱크를 건조 위치에 이동시키는 단계; (8) 기판을 이동가능한 탱크로부터 건조 스테이션을 통해 언로딩하는 단계; 및 (9) 기판이 이동가능한 탱크로부터 건조 스테이션을 통해 언로딩될 때, 린싱 유체로 기판을 린싱하고 기판을 건조하는 단계를 포함하는 방법이 제공된다.
본 발명의 일부 실시예들에서, (1) 제1 로딩 위치, 제2 로딩 위치, 제1 건조 위치, 및 제2 건조 위치; (2) 제1 및 제2 로딩 위치와 제1 및 제2 건조 위치 사이에서 병진하도록 구성된 이동가능한 탱크 - 이동가능한 탱크는 (a) 제1 충진가능(fillable) 및 배수가능(drainable) 구획 - 제1 충진가능 및 배수가능 구획은 세정 화학물질을 유지하여, 이동가능한 탱크의 제1 구획 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성됨 -; 및 (b) 제2 충진가능 및 배수가능 구획 - 제2 충진가능 및 배수가능 구획은 세정 화학물질을 유지하여, 이동가능한 탱크의 제2 구획 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성됨 - 을 갖고; (3) 건조 스테이션 - 건조 스테이션은 (a) 이동가능한 탱크가 제1 건조 위치에서 건조 스테이션 아래에 위치될 때 기판이 이동가능한 탱크의 제1 구획으로부터 언로딩될 때 기판을 린싱 및 건조하고; (b) 이동가능한 탱크가 제2 건조 위치에서 건조 스테이션 아래에 위치될 때 기판이 이동가능한 탱크의 제2 구획으로부터 언로딩될 때 기판을 린싱 및 건조하도록 구성됨 - 을 포함하는 시스템이 제공된다. 다수의 다른 실시예 및/또는 양태가 제공된다.
본 발명의 다른 특징들 및 양태들은 예시적인 실시예들에 대한 다음의 상세한 설명, 첨부 청구항들 및 첨부 도면들로부터 더 완전하게 명백해질 것이다.
도 1a 내지 도 1r은 본 발명의 실시예들에 따른 기판들을 린싱 및 건조하기 위한 예시적인 시스템의 측부 개략도이다.
도 1s는 본 발명의 실시예들에 따른 기판들을 린싱 및 건조하기 위한 제1의 대안적인 시스템의 측부 개략도이다.
도 1t는 본 발명의 실시예들에 따른 기판들을 린싱 및 건조하기 위한 제2의 대안적인 시스템의 측부 개략도이다.
도 2a는 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라 제공되는 린싱 및 건조 시스템의 다른 예시적인 실시예의 사시도이다.
도 2b 및 도 2c는 각각 도 2a의 이동가능한 탱크의 예시적인 실시예의 사시도 및 정면 단면도이다.
앞에서 설명된 바와 같이, 일부 경우들에서, 세정 프로세스에 후속하여 기판을 린싱하기 위해 이용되는 린싱 배쓰 유체로부터의 입자들은 기판에 재부착될 수 있고 기판을 오염시킬 수 있다. 예를 들어, 세정에 후속하여 기판을 린싱하기 위해 이용되는 린싱 배쓰 유체가 이전의 세정 단계 동안 이용된 화학물질과는 다른 pH를 갖는 경우, 입자들이 기판에 재부착될 수 있다. 추가로, 오염물질들이 린싱 탱크 내에 축적될 수 있고, 건조 동안 기판이 제거될 때 기판에 재부착될 수 있다. 린싱 유체에 화학물질들을 추가함으로써 그러한 입자의 재부착이 감소될 수 있긴 하지만, 최종 린스 탱크에 화학물질을 추가하면, 건조에 후속하여 화학물질이 기판 상에 남아있게 될 수 있다.
본 명세서에 제공된 일부 실시예들에서, 기판들이 탱크 내에 로딩될 수 있는 기판 로딩 위치와 건조 위치 사이에서 병진할 수 있는 이동가능한 탱크를 포함하는, 기판을 린싱 및 건조하기 위한 시스템이 제공된다. 건조 스테이션은 건조 위치에 위치되고, 이동가능한 탱크로부터 언로딩되는 기판들을 린싱 및 건조하기 위해 이용될 수 있다. 일부 실시예들에서, 탱크는 작은 용적을 가질 수 있고/있거나, 탱크 내에서 처리되는 각각의 기판에 대해 충진되고 배수될 수 있다(예를 들어, 탱크 내에서 처리되고 있는 다수의 기판으로부터의 입자들의 누적으로 인한 입자 빌드업 및/또는 재부착을 감소시키기 위해).
일부 실시예들에서, 수율을 증가시키기 위해, 탱크는 동일한 탱크 바디 내에 통합되는 둘 이상의 독립적 기판 처리 구획을 가질 수 있다. 각각의 처리 구획을 위한 충진 및 배수 밸브 매니폴드들은 설비들과 시스템 사이의 연결 지점들을 감소시키고/거나 공간을 감소시키기 위해 탱크 바디 내로 통합될 수 있다.
본 명세서에 제공되는 일부 실시예들에서는, 기판을 탱크 내의 화학물질, 예컨대 산 또는 염기, HCl 산, HF 산, 유기 알칼리(organic alkaline), TMAH(tetramethylammonium hydroxide), 수산화 암모늄, 다른 pH 조절제, 또는 그와 유사한 것에 침지(submerging)시키고, 다음으로 그의 최상부면이 N2/IPA 가스 혼합물과 같은 용매의 유동으로 블랭킷되는(blanketed) 낙수(waterfall)와 같은 린싱 유체 소스를 관통하여 기판을 탱크 밖으로 리프트함으로써, 입자 재부착이 감소 및/또는 회피될 수 있다. 결과적인 린싱 유체 커튼은 화학물질을 기판으로부터 효과적으로 린싱할 수 있고, 린싱 유체 위의 N2/IPA 가스는 입자 재부착이 감소된 및/또는 최소화된 마란고니 건조를 제공할 수 있다.
이하에서는, 기판을 린싱 및 건조하는 시스템 및/또는 방법을 위한 예시적인 실시예들이 설명된다.
도 1a 내지 도 1r은 본 발명의 실시예들에 따른 기판을 린싱 및 건조하기 위한 예시적인 시스템(100)의 측부 개략도이다. 도 1a를 참조하면, 시스템(100)은 이동가능한 탱크(102) 및 건조 스테이션(104)을 포함한다. 도 1a 내지 도 1r의 실시예에서, 건조 스테이션(104)은 고정형(stationary)이다. 그러나, 다른 실시예들에서, 건조 스테이션(104)은 이동가능할 수 있다[및/또는 탱크(102)는 고정형일 수 있다].
도 1a의 이동가능한 탱크(102)는 세정 화학물질을 유지하여 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성된 제1 충진가능 및 배수가능 구획(106a), 및 세정 화학물질을 유지하여 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성된 제2 충진가능 및 배수가능 구획(106b)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102)는 단일의 충진가능 및 배수가능 구획만을 포함할 수 있거나, 2개가 넘는 충진가능 및 배수가능 구획을 포함할 수 있다.
도 1a의 실시예에서, 이동가능한 탱크(102)는 제1 로딩 위치, 제2 로딩 위치, 제1 건조 위치, 및 제2 건조 위치 사이에서 이동가능하다. 예를 들어, 로딩 위치 및 건조 위치는 아래의 표 1에 보여진 것과 같을 수 있다. 다른 로딩 및/또는 건조 위치들이 이용될 수 있다.
제1 로딩 위치 위치(L1)에서의 제1 구획(106a)
제2 로딩 위치 위치(L2)에서의 제1 구획(106a)
위치(L1)에서의 제2 구획(106b)
제1 건조 위치 위치(D1)에서의 제1 구획(106a)
위치(D2)에서의 제2 구획(106b)
제2 건조 위치 위치(D1)에서의 제2 구획(106b)
이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)은 제1 기판 홀더(108a)를 포함하고, 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)은 제2 기판 홀더(108b)를 포함한다. 각각의 홀더(108a, 108b)는 이동가능한 탱크(102)의 구획(106a, 106b) 내에 기판을 유지하고, 이동가능한 탱크(102)가 적절한 로딩 위치에 있을 때 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 기판을 수용하고, (아래에 더 설명되는 바와 같이) 이동가능한 탱크(102)가 적절한 건조 위치에 있을 때 이동가능한 탱크(102)의 구획(106a 또는 106b)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 기판을 언로딩하도록 구성된다. 이동가능한 탱크(102)의 예시적인 실시예들은 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 아래에 설명된다. 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)은 오버헤드 컨베이어 시스템, 러닝 빔 로봇 시스템(running beam robot system), 또는 기판을 이송하기 위한 임의의 다른 적절한 메커니즘일 수 있다.
도 1a 내지 도 1r의 실시예에서, 건조 스테이션(104)은 건조 스테이션(104)을 통과한 기판의 정면측 및 후면측에 린싱 유체를 공급하기 위한 린싱 유체 소스들(112a, 112b)을 포함한다. 예를 들어, 린싱 유체 소스들(112a, 112b)은 노즐들, 스프레이 바, 보여진 것과 같은 낙수 장치, 또는 린싱 유체를 기판에 전달하기 위한 임의의 다른 적절한 메커니즘을 포함할 수 있다. 예시적인 린싱 유체 소스는 이하에서 도 2a를 참조하여 설명된다. 임의의 적절한 린싱 유체가 이용될 수 있다[예를 들어, 탈이온수, 표면 장력을 감소시키는 린싱 에이전트(rinsing agent)를 갖는 탈이온수, O3, CO2, N2 등이 주입된(infused) 탈이온수와 같은 가스 주입된 탈이온수, 및/또는 그와 유사한 것].
건조 스테이션(104)은 또한 건조 스테이션(104)을 이용한 린싱 및 건조 동작 동안 기판이 린싱 유체 소스들(112a, 112b)을 지나가고 린싱 유체가 기판에 스프레이될 때, 용매 증기와 같은 건조 증기를 기판 상에 형성된 정면측 및/또는 후면측 린싱 유체 메니스커스에 전달하기 위한 건조 증기 소스들(114a, 114b)을 포함할 수 있다. 그러한 실시예들에서, 기판은 건조 스테이션(104)을 지나갈 때 마란고니 건조될 수 있다. 시스템(100)을 이용한 마란고니 건조 동안, 기판이 린싱 유체 소스들(112a, 112b)을 관통하여 리프트될 때 형성되는 각각의 유체 메니스커스에, 린싱 유체와 혼합가능한 용매 증기(예컨대 IPA)가 도입된다. 용매 증기는 린싱 유체의 표면을 따라 흡수되고, 흡수된 증기의 농도는 각각의 메니스커스의 첨단에서 더 높다. 흡수된 증기의 더 높은 농도는 표면 장력이 린싱 유체의 벌크 내에서보다 각각의 메니스커스의 첨단에서 더 낮아지게 하고, 그에 의해 린싱 유체가 각각의 건조 메니스커스로부터 린싱 유체를 향해 유동하게 한다. 그러한 유동은 "마란고니" 유동으로서 알려져 있고, 기판 상에 스트리킹, 스포팅 또는 린싱 유체 잔류물을 남기지 않고서 기판 건조를 달성하기 위해 이용될 수 있다.
이하에서는 린싱 및 건조 시스템(100)의 예시적인 동작이 도 1a 내지 도 1r을 참조하여 설명된다. 도 1a를 참조하면, 이동가능한 탱크(102)는 제1 로딩 위치로 이동되고, 제1 구획(106a) 및 제1 기판 홀더(108a)는 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)에 의해 지지되는 제1 기판(116a) 아래에 위치된다. 도 1b에서, 제1 기판 홀더(108a)가 상승하여, 제1 기판(116a)을 지지하고, 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 제1 기판(116a)을 수용한다. 도 1c에서, 제1 기판 홀더(108a)가 하강하여, 제1 기판(116a)을 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a) 내에 위치시킨다. 다음으로, 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)은 세정 화학물질로 충진된다.
예시적인 세정 화학물질들은 산 또는 염기, HCl 산, HF 산, 유기 알칼리, TMAH(tetramethylammonium hydroxide), 수산화 암모늄, 다른 pH 조절제, 또는 그와 유사한 것을 포함한다. 일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102)의 어느 한 구획(106a, 106b)에서 이용되는 세정 화학물질 및/또는 그 세정 화학물질의 pH는 기판이 이동가능한 탱크(102) 내로 로딩되기 전에 기판 상에 수행되는 프로세스에 기초하여 선택되거나 다르게 설정될 수 있다. 예를 들어, 이동가능한 탱크(102) 내에서 이용되는 화학물질은 기판이 린싱 및 건조 시스템(100) 내로 로딩되기 전에 기판을 세정하기 위해 이용되는 브러쉬 박스 또는 브러쉬 스크러빙 툴에서 이용되는 것과 동일한 화학물질일 수 있다. 다른 예시적인 세정 화학물질들은 코네티컷주 댄버리의 ATMI로부터 입수가능한 PlanarClean, 버지니아주 리치몬드의 Wako Chemicals USA로부터 입수가능한 CX100, 펜실베니아주 알렌타운의 Air Products로부터 입수가능한 CP98, 및/또는 임의의 다른 적절한 화학물질을 포함한다.
도 1d를 참조하면, 이동가능한 탱크(102)는 제2 로딩 위치로 이동되고, 제2 구획(106b) 및 제2 기판 홀더(108b)는 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)에 의해 지지되는 제2 기판(116b) 아래에 위치된다. 도 1e에서, 제2 기판 홀더(108b)가 상승하여, 제2 기판(116b)을 지지하고, 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 제2 기판(116b)을 수용한다. 도 1f에서, 제2 기판 홀더(108b)가 하강하여, 제2 기판(116b)을 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b) 내에 위치시킨다. 다음으로, 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)은 세정 화학물질로 충진된다. 제1 구획(106a)을 충진하기 위해 이용되는 것과 동일하거나 상이한 화학물질이 제2 구획(106b)을 충진하기 위해 이용될 수 있다. 제1 및/또는 제2 기판(116a, 116b)은 임의의 적절한 시간 동안 세정 화학물질에 노출될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 및/또는 제2 기판(116a, 116b)은 이동가능한 탱크(102) 내의 세정 화학물질에 적어도 5초 동안, 일부 실시예들에서는 적어도 10초 동안, 그리고 일부 실시예들에서는 적어도 20초 동안 노출될 수 있다. 다른 노출 시간들이 이용될 수 있다. 예를 들어, 상이한 화학물질들, 화학 첨가제들의 상이한 농도들 등에 대해 상이한 노출 시간들이 이용될 수 있다.
도 1g에서, 이동가능한 탱크(102)는 제1 건조 위치로 이동되고, 제1 구획(106a)은 건조 스테이션(104) 아래에 위치된다. 도 1h에서, 제1 기판(116a)이 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩될 때, 린싱 유체로 제1 기판(116a)을 린싱하고 제1 기판(116a)을 건조하기 위해, 제1 기판 홀더(108a)는 건조 스테이션(104)을 통해 제1 기판(116a)을 언로딩하고 상승시킨다. 예를 들어, 린싱 유체 소스들(112a, 112b)은 균일한 린싱 유체 커튼(예를 들어, 낙수)을 생성할 수 있고, 제1 기판(116a)이 그 린싱 유체 커튼을 통해 이동될 수 있으며, 그에 의해 기판(116a)의 양면을 효과적으로 린싱한다. 건조 증기 소스들(114a, 114b)로부터의 용매 가스 유동, 예컨대 질소/IPA를 린싱 유체 커튼 위에 첨가하면, 마란고니 프로세스를 통한 제1 기판(116a)의 효과적인 건조가 가능해진다. 기판(116a)의 강력한 린싱 및 건조는 기판(116a)의 길이에 걸친 균일한 린싱 유체 유동을 통해 제공될 수 있다.
건조 스테이션(104)을 이용한 린싱 및 건조 동안의 예시적인 기판 주행 속도들(travel rates)은 약 15 내지 35 mm/sec이고, 일부 실시예들에서는 약 20 내지 30 mm/sec이지만, 더 빠르거나 더 느린 이동 속도들이 이용될 수 있다.
도 1i에서, 제1 기판(116a)은 건조 스테이션(104)을 통과하고, 제1 기판 홀더(108a)로부터 제거될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 기판(116a)은 배향을 바꿀 수 있다(예를 들어, 아래에 더 설명되고 팬텀으로 보여진 바와 같이, 적절한 메커니즘에 의해 수직으로부터 수평으로 전환되거나 그 반대로 될 수 있다).
도 1j에서, 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)으로부터 세정 화학물질이 배수되고, 제1 기판 홀더(108a)는 다시 제1 구획(106a) 내로 하강된다. 언급된 바와 같이, 일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102) 내의 각각의 구획(106a, 106b)의 용적은 신속한 배수-및-충진 시퀀스를 가능하게 하기 위해 작게 유지될 수 있다. 예를 들어, 일부 실시예들에서, 각각의 구획(106a, 106b)의 용적은 약 2.5 리터 이하일 수 있고, 일부 실시예들에서는 약 2 리터 이하일 수 있다. 다른 용적들이 이용될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제1 구획(106a) 및/또는 제2 구획(106b)은 약 15초 미만에, 일부 실시예들에서는 약 10초 미만에 배수 및 재충진될 수 있다.
도 1k에 도시된 바와 같이, 이동가능한 탱크(102)는 제1 로딩 위치로 이동되고, 제1 구획(106a) 및 제1 기판 홀더(108a)는 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)에 의해 지지되는 제3 기판(116c) 아래에 위치된다. 도 1l에서, 제1 기판 홀더(108a)가 상승하여, 제3 기판(116c)을 지지하고, 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 제3 기판(116c)을 수용한다. 도 1m에서, 제1 기판 홀더(108a)가 하강하여, 제3 기판(116c)을 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a) 내에 위치시킨다. 다음으로, 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)은 세정 화학물질로 충진된다.
언급된 바와 같이, 제1 구획(106a) 및 제2 구획(106b)을 충진하기 위해 동일하거나 상이한 화학물질이 이용될 수 있다. 제1, 제2 및/또는 제3 기판(116a, 116b, 116c)은 임의의 적절한 시간 동안 세정 화학물질에 노출될 수 있다. 일부 실시예들에서, 기판(116a, 116b, 116c)은 이동가능한 탱크(102) 내의 세정 화학물질에 적어도 5초 동안, 일부 실시예들에서는 적어도 10초 동안, 그리고 일부 실시예들에서는 적어도 20초 동안 노출될 수 있다. 다른 노출 시간들이 이용될 수 있다. 예를 들어, 상이한 화학물질들, 화학 첨가제들의 상이한 농도들 등에 대해 상이한 노출 시간들이 이용될 수 있다.
이동가능한 탱크(102)는 제2 건조 위치로 이동될 수 있고, 제2 구획(106b)은 건조 스테이션(104) 아래에 위치될 수 있다. 도시된 실시예에서, 이동가능한 탱크(102)는, 제1 구획(106a)이 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110) 아래에 위치될 때 제2 구획(106b)이 건조 스테이션(104) 아래에 위치되도록 하는 크기를 갖는다[즉, 이동가능한 탱크(102)에 대해 제2 건조 위치 및 제1 로딩 위치가 동일하다]. 일반적으로는, 제1 및 제2 구획(106a, 106b) 사이의 거리, 제1 및 제2 기판 홀더(108a, 108b)의 위치들, 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)의 위치, 기판 이송 메커니즘(110)과 건조 스테이션(104) 사이의 거리들, 및/또는 그와 유사한 것과 같은 인자들에 따라, 그렇게 되지 않을 수 있다.
도 1n에서, 제2 기판(116b)이 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩될 때, 린싱 유체로 제2 기판(116b)을 린싱하고 제2 기판(116b)을 건조하기 위해, 제2 기판 홀더(108b)는 건조 스테이션(104)을 통해 제2 기판(116b)을 언로딩하고 상승시킨다. 예를 들어, 린싱 유체 소스들(112a, 112b)은 균일한 린싱 유체 커튼(예를 들어, 낙수)을 생성할 수 있고, 제2 기판(116b)이 그 린싱 유체 커튼을 통해 이동될 수 있으며, 그에 의해 기판(116b)의 양면을 효과적으로 린싱한다. 건조 증기 소스들(114a, 114b)로부터의 용매 가스 유동, 예컨대 질소/IPA를 린싱 유체 커튼 위에 첨가하면, 마란고니 프로세스를 통한 제2 기판(116b)의 효과적인 건조가 가능해진다. 기판들(116b)의 강력한 린싱 및 건조는 기판의 길이에 걸친 균일한 린싱 유체 유동을 통해 제공될 수 있다.
도 1o에서, 제2 기판(116b)은 건조 스테이션(104)을 통과하고, 제2 기판 홀더(108b)로부터 제거될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제2 기판(116b)은 배향을 바꿀 수 있다(예를 들어, 아래에 더 설명되고 도 1p에 도시된 바와 같이, 적절한 메커니즘에 의해 수직으로부터 수평으로 전환되거나 그 반대로 될 수 있다).
도 1p에서, 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)으로부터의 세정 화학물질이 배수되고, 제2 기판 홀더(108b)는 다시 제2 구획(106b) 내로 하강된다.
도 1q에 도시된 바와 같이, 이동가능한 탱크(102)는 제2 로딩 위치로 이동되고, 제2 구획(106b) 및 제2 기판 홀더(108b)는 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)에 의해 지지되는 제4 기판(116d) 아래에 위치된다. 제2 기판 홀더(108b)가 상승하여, 제4 기판(116d)을 지지하고, 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 제4 기판(116d)을 수용한다. 도 1r에서, 제2 기판 홀더(108b)가 하강하여, 제4 기판(116d)을 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b) 내에 위치시킨다. 다음으로, 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)은 세정 화학물질로 충진된다.
상술한 단계들은 후속 기판들을 처리하기 위해 반복될 수 있다. 예를 들어, 추가 기판들은 유사하게 이동가능한 탱크(102) 내로 로딩되고, 요구되는 기간 동안 세정 화학물질에 노출되고, [이동가능한 탱크(102)를 병진시킴으로써] 건조 위치 아래에 위치되고, 이동가능한 탱크로부터 건조 스테이션을 통해 언로딩되고, 기판들이 이동가능한 탱크(102)로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩될 때 린싱 유체로 린싱되고 건조될 수 있다. 다른 로딩, 언로딩, 린싱 및/또는 건조 시퀀스들이 이용될 수 있다.
도 1s는 본 발명의 실시예들에 따른 기판을 린싱 및 건조하기 위한 제1의 대안적인 시스템(100')의 측부 개략도이다. 도 1s를 참조하면, 시스템(100')은 이동가능한 탱크(102) 및 건조 스테이션(104)을 포함한다. 도 1s의 실시예에서, 건조 스테이션(104)은 고정형이다. 그러나, 다른 실시예들에서, 건조 스테이션(104)은 이동가능할 수 있다[및/또는 탱크(102)는 고정형일 수 있다].
도 1s의 이동가능한 탱크(102)는 세정 화학물질을 유지하여, 이동가능한 탱크(102)의 구획(106c) 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성된 단일의 충진가능 및 배수가능 구획(106c)을 포함한다. 이동가능한 탱크(102)는 (도시된 바와 같이) 로딩 위치(L1)와 건조 위치(D1) 사이에서 이동가능하다.
도 1s의 시스템(100')은 도 1a 내지 도 1r의 시스템(100)과 유사하게 동작할 수 있지만, 한 번에 단 하나의 기판을 처리한다. 이동가능한 탱크(102)의 구획(106c)은 이동가능한 탱크(102) 내에 기판을 유지하고, 이동가능한 탱크(102)가 로딩 위치(L1)에 있을 때 [도 1s의 기판(116e)과 같은] 기판을 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 수용하고, 기판(116e)을 구획(106c) 내의 세정 화학물질에 미리 결정된 기간 동안 노출시키고, 이동가능한 탱크(102)가 건조 위치(D1)에 있을 때 이동가능한 탱크(102)의 구획(106c)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 기판(116e)을 언로딩하도록 구성된 기판 홀더(108c)를 포함한다.
기판을 린싱 및 건조하기 위한 설명된 시스템은 (1) 이동가능한 탱크가 로딩 위치에 있는 동안, 기판을 이동가능한 탱크 내로 로딩하고; (2) 이동가능한 탱크를 세정 화학물질로 충진하고; (3) 미리 결정된 기간 동안 기판을 세정 화학물질로 트리트먼트하고; (4) 이동가능한 탱크를 건조 위치에 이동시키고; (5) 기판을 이동가능한 탱크로부터 건조 스테이션을 통해 언로딩하고; (6) 기판이 건조 스테이션을 통해 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 린싱 유체로 기판을 린싱하고 기판을 건조하도록 구성될 수 있다.
도 1t는 본 발명의 실시예들에 따른 기판을 린싱 및 건조하기 위한 제2의 대안적인 시스템(100")의 측부 개략도이다. 도 1t를 참조하면, 시스템(100")은 로딩 위치(L1)에 위치된 제1 기판 홀더(108a), 및 건조 위치(D1)에 위치된 제2 기판 홀더(108b)를 포함한다. 로딩 위치(L1)와 건조 위치(D1) 사이에서 기판을 이동시키기 위해 이동가능한 탱크를 이용하는 것을 대신하여, 제1 기판 홀더(108a) 상에 로딩된 기판을 제2 기판 홀더(108b)에 이송하기 위해 병진 메커니즘이 제공된다. 예를 들어, 기판을 제1 기판 홀더(108a)로부터 리프트하고 기판을 제2 기판 홀더(108b)에 이송하기 위해 기판 리프트(120)가 이용될 수 있다. 기판 리프트(120)는 예를 들어 제1 및 제2 기판 홀더(108a, 108b) 사이에서 기판들을 선형으로 및/또는 회전식으로 이송할 수 있다.
도 1t에 도시된 바와 같이, 이동가능한 탱크가 이용되지 않으므로, 로딩 위치(L1) 및 건조 위치(D1) 둘 다는 스프레이 노즐, 스프레이 바, 낙수 장치, 및/또는 그와 유사한 것과 같은 세정 화학물질 전달 메커니즘(122a, 122b)을 포함할 수 있다. 세정 화학물질 전달 메커니즘(122a)은 로딩 위치(L1)에 위치된 기판을 세정 화학물질로 스프레이하고/하거나 다르게 코팅할 수 있고, 세정 화학물질 전달 메커니즘(122b)은 건조 위치(D1)에 위치된 기판을 스프레이하고/하거나 다르게 코팅할 수 있다. 2개의 위치 모두에서 기판을 세정 화학물질로 코팅하는 것에 의해, 세정 화학물질 전달 메커니즘들(122a 및 122b)은 건조 스테이션(104)을 이용한 린싱 및 건조 이전에 미리 결정된 시간 동안 기판을 세정 화학물질에 노출시킴으로써 이동가능한 탱크(102)와 유사하게 동작할 수 있다.
도 1t의 시스템(100")은 도 1s의 시스템(100')과 유사하게 동작할 수 있다. 제1 기판(116f)은 로딩 위치(L1)에서 제1 기판 홀더(108a) 상에 로딩될 수 있다. 제1 기판(116f)은 세정 화학물질 전달 메커니즘(122a)을 이용하여 로딩 위치(L1)에서 세정 화학물질로 스프레이될 수 있고, [기판 리프트(120)를 이용하여] 건조 위치(D1)에 이송될 수 있다. 다음으로, 기판(116f)이 요구되는 및/또는 미리 결정된 기간 동안 세정 화학물질에 노출될 때까지, 기판(116f)은 세정 화학물질 전달 메커니즘(122b)을 이용하여 건조 위치(D1)에서 추가의 세정 화학물질로 스프레이될 수 있다. 그 후에, 앞에서 설명된 바와 같이 기판(116f)을 린싱 및 건조하기 위해, 기판(116f)은 건조 스테이션(104)을 통해 이송될 수 있다. 일단 기판(116f)이 제1 기판 홀더(108a)를 떠나고 나면, 제1 기판 홀더(108a)는 시스템(100") 내에서의 처리를 위해 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 제2 기판(116g)을 회수하기 위해 이용될 수 있다.
도 2a는 본 발명의 하나 이상의 실시예에 따라 제공되는 린싱 및 건조 시스템(200)의 다른 예시적인 실시예의 사시도이다. 도 2b 및 도 2c는 각각 도 2a의 이동가능한 탱크(102)의 예시적인 실시예의 사시도 및 정면 단면도이다. 도 2a를 참조하면, 시스템(200)은 이동가능한 탱크(102) 및 건조 스테이션(104)을 포함한다. 도 2a의 실시예에서, 건조 스테이션(104)은 고정형이다. 그러나, 다른 실시예들에서, 건조 스테이션(104)은 이동가능할 수 있다[및/또는 탱크(102)는 고정형일 수 있다].
이동가능한 탱크(102)는 세정 화학물질을 유지하여 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a) 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성된 제1 충진가능 및 배수가능 구획(106a), 및 세정 화학물질을 유지하여 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b) 내의 기판을 세정 화학물질에 노출시키도록 구성된 제2 충진가능 및 배수가능 구획(106b)을 포함한다. 일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102)는 단일의 충진가능 및 배수가능 구획만을 포함할 수 있거나, 2개가 넘는 충진가능 및 배수가능 구획을 포함할 수 있다.
도 2b를 참조하면, 제1 구획(106a)은 제1 구획(106a)의 상측 표면 내에 형성된 스캘럽형 영역들(scalloped regions)(202)을 갖는 것으로 도시되어 있다. 이러한 스캘럽형 영역들(202)은 제1 구획(106a) 내에 포함되어 있고/있거나 제1 구획으로부터 언로딩되고 있는 기판의 세정 및/또는 린싱 동안, 제1 구획(106a)의 상측 표면에 걸친 세정 화학물질, 린싱 유체, 또는 그와 유사한 것의 유동을 돕기 위해 탱크 재료가 제거되는, 상측 표면의 영역들이다. 예를 들어, 스캘럽형 영역들(202)에 의해 제공되는 더 예리한 에지들은 세정 화학물질 및/또는 린싱 유체에 연관된 표면 장력을 극복하는 데에 도움을 줄 수 있다. 제2 구획(106b)은 유사하게 구성될 수 있다. 표면 장력 효과들을 감소시키기 위해 다른 형상들 및/또는 구성들이 이용될 수 있다.
일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102)는 PEEK, PVDF(polyvinylidene difluoride), PTFE(polytetrafluoroethylene), PTFE 코팅을 갖는 금속, 폴리프로필렌, 및/또는 그와 유사한 것으로 형성될 수 있다. 임의의 다른 적절한 탱크 재료가 이용될 수 있다.
도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 시스템(200) 내에서의 로딩, 언로딩, 세정, 린싱 및/또는 건조 동안 제1 및/또는 제2 구획(106a, 106b)으로부터 넘치는 세정 화학물질, 린싱 유체, 그들의 조합, 및/또는 그와 유사한 것을 캡쳐하기 위해, 오버플로 위어(overflow weir)(204)가 제공될 수 있다. 오버플로 위어(204)는 오버플로 위어(204)로부터의 유체의 제거 및/또는 재사용을 용이하게 하기 위해 하나 이상의 배수부(206)(도 2b; 도 2a에는 도시되어 있지 않음)를 포함할 수 있다.
앞에서 설명된 바와 같이, 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)은 제1 기판 홀더(108a)를 포함하고, 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)은 제2 기판 홀더(108b)를 포함한다. 도 2c는 제1 기판 홀더(108a)의 예시적인 실시예를 도시한다. 제2 기판 홀더(108b)는 유사하게 구성될 수 있다.
일부 실시예들에서, 제1 및/또는 제2 기판 홀더(108a, 108b)는 기판에 접촉하고 기판을 지지하도록 구성된 복수의 기판 접촉 지지체(209a-d)를 갖는 프레임(208)을 포함할 수 있다. 이러한 지지체들은 v 형상이거나, 기판 홀더(108a, 108b)가 유체 배쓰로부터 제거될 때 기판 홀더(108a, 108b)로부터의 유체의 배수를 용이하게 하기 위한 다른 형상일 수 있다. 일부 실시예들에서, 기판 접촉 지지체들(209a-d) 중 하나 이상은 유체 제거를 더 돕기 위해 지지체들(209a-d) 중 하나 이상에서 진공을 적용하기 위한 진공 포트(도시되지 않음)를 포함할 수 있다. 추가로 또는 대안적으로, 슬릿 형상의 진공 포트(211)가 지지체들(209b 및 209c) 사이에 제공될 수 있다. 예를 들어, 진공은 진공 유입구들(213a-b)을 통해 하나 이상의 진공 포트에 적용될 수 있다. 하나 이상의 진공 포트는 기판의 최하부 에지를 따른 하나 이상의 위치에서 진공을 적용하도록 동작가능할 수 있다. 그러한 것으로서, 이전에는 그러한 기판 지지체들에서 및/또는 기판의 최하부 에지를 따라 수집될 수 있었던 액체 잔류물이 제거될 수 있다. 앞에서 포함된, 2015년 1월 9일자로 출원된 미국 출원 제14/593,841호에 예시적인 기판 홀더들이 설명되어 있다. 임의의 다른 적절한 기판 홀더들이 이용될 수 있다.
일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102)는 기판 홀더(108a 및/또는 108b)의 형상에 기초한 내부 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 도 2c에 도시된 바와 같이, 제1 구획(106a)은 제1 기판 홀더(108a)의 윤곽을 대략적으로 따르는 형상을 갖는다. 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)은 유사한 형상을 가질 수 있다. 이러한 방식으로, 각각의 구획(106a, 106b)의 내부 용적이 감소될 수 있고, 그에 의해 더 적은 세정 화학물질의 소비, 및 각각의 구획의 더 신속한 충진 및 배수를 허용한다.
하나 이상의 실시예에서, 이동가능한 탱크(102)의 각각의 구획(106a, 106b)은 이동가능한 탱크(102)의 풋프린트 내에 배수 밸브/연결부(218a, 218b) 및 충진 밸브/연결부(220a, 220b) 둘 다를 갖는 매니폴드(216a, 216b)(팬텀으로 보여짐)를 포함할 수 있다(도 2c). 각각의 구획(106a, 106b)으로부터 각각의 개별 매니폴드(216a, 216b)로의 배수부가 제공되어, 각각의 구획(106a, 106b)의 배수 및/또는 충진을 허용할 수 있다. 도 2c에 도시된 바와 같이, 배수부(222)는 제1 구획(106a)의 최하부를 제1 매니폴드(216a)에 결합한다. 일부 실시예들에서, 배수부(222)는 제1 구획(106a)의 신속한 배수를 용이하게 하기 위해, 수평으로부터 약 2 내지 10도 기울어질 수 있다. 제2 구획(106b)의 배수부(도시되지 않음)는 유사하게 구성될 수 있다. 다른 배수 각도들이 이용될 수 있다.
일부 실시예들에서, 매니폴드들(216a, 216b)은 탱크 바디로부터 돌출되는 니플(nipple)(224a, 224b) 상의 방사상 밀봉부(도시되지 않음)를 경유하여 탱크 바디에 밀봉될 수 있다. 하나 이상의 실시예에서, 제1 및 제2 구획(106a, 106b)은 탱크(102)를 형성하기 위해 이용되는 재료로 머시닝될 수 있고, 그에 의해 각각의 구획의 복잡한 기하형상을 허용한다[예를 들어, 각각의 구획(106a, 106b)의 용적을 감소시키기 위해 기판 홀더의 형상의 윤곽을 따름]. 일부 실시예들에서, 탱크(102)의 외측(측면) 표면들은 탱크(102)가 조립될 때 중심 코어에 열적으로(thermally) 피팅 및/또는 용접될 수 있다.
일부 실시예들에서, 배수부 및/또는 매니폴드들(216a, 216b)은 각각의 구획(106a, 106b)의 배수 지점이 각각의 구획 내의 가장 낮은 지점이도록 설계될 수 있다(예를 들어, 배수를 개선하기 위해). 배수 밸브들(218a, 218b)은 각각의 구획(106a, 106b)의 신속한 배수를 허용하기 위해 탱크(102)와 통합될 수 있다. 일부 실시예들에서, 충진 밸브들(220a, 220b)은 도시된 바와 같이 배수 밸브들(218a, 218b)의 외부에 위치될 수 있다. 이것은 유입 유체가 스플래시(splashing)를 전혀 또는 거의 발생시키지 않고서 신속하게 탱크(102)에 들어가는 것을 허용할 수 있다. 기판이 처리되고 난 후 제1 및 제2 구획(106a, 106b)으로부터 세정 유체를 신속하게 폐기(dump)하면, 유체 내에 부유된 입자들이 밖으로 플러싱되고 탱크(102)의 벽들에 들러붙지 않을 것을 보장하는 데에 도움이 된다.
일부 실시예들에서, 도 2a에 도시된 바와 같이, 제1 기판 홀더(108a)는 [이동가능한 탱크(102)에 결합된] 제1 가이드 레일(228a)에 슬라이드 결합된(slidingly coupled) 제1 지지 부재(226a)에 결합될 수 있고, 제2 기판 홀더(108b)는 [이동가능한 탱크(102)에 결합된] 제2 가이드 레일(228b)에 슬라이드 결합된 제2 지지 부재(226b)에 결합될 수 있다. 선형 모터와 같은 제1 액츄에이터(230a)는 제1 지지 부재(226a)가 제1 가이드 레일(228a)을 따라 상승 및/또는 하강하게 할 수 있고, 이는 결국 제1 기판 홀더(108a)가 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a) 내에서 상승 및/또는 하강하게 한다. 마찬가지로, 선형 모터와 같은 제2 액츄에이터(230b)는 제2 지지 부재(226b)가 제2 가이드 레일(228b)을 따라 상승 및/또는 하강하게 할 수 있고, 이는 결국 제2 기판 홀더(108b)가 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b) 내에서 상승 및/또는 하강하게 한다.
도 2a에 도시된 바와 같이, 일부 실시예들에서, 이동가능한 탱크(102)는 베이스 평판(base plate)(232)을 경유하여 지지될 수 있고, 건조 스테이션(104)은 지지 평판(234) 및 지지 프레임(236)을 이용하여 이동가능한 탱크(102) 위에 지지될 수 있다. 예를 들어, 베이스 평판(232)은 [팬텀으로 도시된 바와 같이, 모터(239)와 같은 액츄에이터의 제어 하에서] 이동가능한 탱크(102)가 베이스 평판(232)에 대해 병진하는 것을 허용하는 하나 이상의 슬라이드 베어링 또는 트랙(238a-b)을 이용하여, 이동가능한 탱크(102)에 결합될 수 있다.
도 2a의 실시예에서, 건조 스테이션(104)은 건조 스테이션(104)을 통과한 기판의 정면측 및 후면측에 린싱 유체를 공급하기 위해 지지 프레임(236)에 결합된 낙수 타입 린싱 유체 소스들(112a, 112b)을 포함한다. 다른 린싱 유체 소스들은 노즐들, 스프레이 바, 또는 린싱 유체를 기판에 전달하기 위한 임의의 다른 적절한 메커니즘을 포함할 수 있다. 임의의 적절한 린싱 유체가 이용될 수 있다[예를 들어, 탈이온수, 표면 장력을 감소시키는 린싱 에이전트를 갖는 탈이온수, O3, CO2, N2 등이 주입된 탈이온수와 같은 가스 주입된 탈이온수 등]. 일부 실시예들에서, 낙수 소스는 (예를 들어, 2개의 낙수 부분 또는 평판 사이에 형성된) 좁고 평탄한 슬롯을 통해 유체 유동을 강제함으로써 형성된다. 예를 들어, 린싱 유체는 제1 플레넘 내에 도입될 수 있고, 한정된 유체 경로를 통해 제2 플레넘으로 이동하여, 린싱 유체가 한정된 유체 경로를 빠져나가고 제2 플레넘 내로 확장할 때 린싱 유체 압력이 감소함에 따라 균일한 압력 분산을 생성할 수 있다. 다음으로, 린싱 유체는 낙수 부분들 사이에 형성된 슬롯을 빠져나가서 린싱 유체 낙수를 형성할 수 있다. 앞에서 포함된, 2014년 12월 19일자로 출원된 미국 출원 제62/094,938호에 예시적인 낙수 장치들이 설명되어 있다. 임의의 다른 적절한 린싱 유체 소스들이 이용될 수 있다.
건조 스테이션(104)은 또한 건조 스테이션(104)을 이용한 린싱 및 건조 동작 동안 기판이 린싱 유체 소스들(112a, 112b)을 지나가고 린싱 유체가 기판에 스프레이될 때, 용매 증기와 같은 건조 증기를 기판 상에 형성된 정면측 및/또는 후면측 린싱 유체 메니스커스에 전달하기 위한 건조 증기 소스들(114a, 114b)을 포함할 수 있다. 그러한 실시예들에서, 기판은 건조 스테이션(104)을 지나가면서 마란고니 건조될 수 있다. 시스템(200)을 이용한 마란고니 건조 동안, 기판이 린싱 유체 소스들(112a, 112b)을 관통하여 리프트될 때 형성되는 각각의 유체 메니스커스에, 린싱 유체와 혼합가능한 용매 증기(예컨대 IPA)가 도입된다. 용매 증기는 린싱 유체의 표면을 따라 흡수되고, 흡수된 증기의 농도는 각각의 메니스커스의 첨단에서 더 높다. 흡수된 증기의 더 높은 농도는 표면 장력이 린싱 유체의 벌크 내에서보다 각각의 메니스커스의 첨단에서 더 낮아지게 하고, 그에 의해 린싱 유체가 각각의 건조 메니스커스로부터 린싱 유체를 향해 유동하게 한다. 그러한 유동은 마란고니 유동으로서 알려져 있고, 기판 상에 스트리킹, 스포팅 또는 린싱 유체 잔류물을 남기지 않고서 기판 건조를 달성하기 위해 이용될 수 있다.
일부 실시예들에서, 린싱 유체 소스들(112a, 112b) 및/또는 건조 증기 소스들(114a, 114b)의 위치, 높이, 및/또는 회전은 지지 프레임(236)에 대해 조절가능할 수 있다. 예를 들어, 린싱 유체 소스들(112a, 112b) 및/또는 건조 증기 소스들(114a, 114b)의 높이 및/또는 그들 사이의 간격을 조절하기 위해, 조절가능한 클램프들, 슬라이드 베어링들, 조절 스크류들 또는 볼트들, 또는 그와 유사한 것[예를 들어, 조절 클램프(237)를 참조]이 이용될 수 있다. 마찬가지로, 각각의 린싱 유체 소스들(112a, 112b) 및/또는 건조 증기 소스들(114a, 114b)의 회전을 조절하기 위해, 슬롯식 가이드(slotted guide)와 같은 피벗 메커니즘(도시되지 않음)이 이용될 수 있다. 베이스 평판(232), 지지 평판(234), 및/또는 지지 프레임(236)은 알루미늄, 스테인레스 스틸, PEEK, 그들의 조합, 또는 그와 유사한 것과 같은 임의의 적절한 재료로 형성될 수 있다.
그립퍼 장치(gripper apparatus)(240)가 건조 스테이션(104)의 출력에 제공될 수 있다. 도시된 실시예에서, 그립퍼 장치(240)는 기판의 에지에 접촉할 수 있고/있거나 기판의 에지를 지지할 수 있는 복수의 하부 핑거(242a-b) 및 피벗가능한 핑거들(244a-b)을 포함한다. 하나 이상의 액츄에이터(도시되지 않음)가 그립퍼 장치(240)를 개방 및 폐쇄할 수 있다. 일부 실시예들에서, 그립퍼 장치(240)는 (도시되지 않은 하나 이상의 액츄에이터를 통해) 수직 배향과 수평 배향 사이에서 기판의 배향을 바꿀 수 있다. 일부 실시예들에서, 수직 배향으로의 전이 시에, 제1 및 제2 피벗 핑거(244a, 244b)의 제1 및 제2 에지 지지 피쳐(245a, 245b)가 기판의 에지와 접촉하여 기판의 에지에 그립력(gripping force)을 적용할 수 있다. 이러한 그립력은 제1 및 제2 피벗 핑거(244a, 244b)와 제1 및 제2 하부 핑거(242a, 242b) 사이에 기판을 끼우고, 기판을 유지한다. 예시적인 그립퍼 장치는 앞에서 포함된, 2015년 1월 21일자로 출원된 미국 출원 제14/602,094호(문서 번호 22600)에 설명되어 있다. 린싱 및 건조 시스템(200) 내에서의 린스/건조 동작에 후속하여 기판 홀더들(108a, 108b) 중 하나로부터의 기판에 접촉하고 그러한 기판을 제거하고/거나 그러한 기판을 지지하기 위해, 임의의 다른 적절한 그립 및/또는 기판 지지 장치가 이용될 수 있다.
일부 실시예들에서는, 건조 프로세스를 더 돕기 위해 보조 건조 장치가 이용될 수 있다. 예를 들어, 기판 에지 잔류물 제거 장치(246)(팬텀으로 도시됨)는 린싱/건조 프로세스에 후속하여[예를 들어, 건조 증기 소스들(114a, 114b)에 후속하여] 린싱 유체가 남아있는 경우, 기판의 저부에서 및/또는 기판 홀더 지지체 접촉 지점들에서 린싱 유체를 제거하거나 최소화하도록 구성될 수 있다. 예시적인 실시예는 하부 바디 및 상부 평판으로 형성된 2부분 어셈블리(two piece assembly)를 포함할 수 있다. 가스는 어셈블리를 통해 유동될 수 있고, 일부 실시예들에서는 층류를 유지하면서, 어셈블리의 2개의 부분 사이에 형성된 얇은 슬릿을 통해 빠져나간다. 어셈블리는 아래를 향해 기울어질 수 있고, 일부 실시예들에서는 기판의 아래쪽 3분의 1이 슬릿을 통과한 때에만 활성화된다. 어셈블리는 기판의 주요 표면 상에서, 기판 정면 및 에지로부터 임의의 잔류물을 밀어내는 증기 또는 가스 커튼을 발생시키도록 가동될 수 있다. 예시적인 건조 장치는 앞에서 포함된, 2015년 1월 21일자로 출원된 미국 출원 제14/602,1144호(문서 번호 22563)에 설명되어 있다. 다른 적절한 건조 장치가 이용될 수 있다.
일부 실시예들에서, 린싱 및 건조 시스템(200)은 시스템(200)의 동작의 적어도 일부를 제어하도록 구성된 제어기(248)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제어기(248)는 탱크(102)의 이동[모터(239)를 통해], 기판 홀더들(108a, 108b)의 상승 및/또는 하강[모터들(230a, 230b)을 통해], 탱크(102)의 제1 및 제2 구획(106a, 106b)의 충진 및 배수[매니폴드들(216a, 216b)을 통해], 기판들의 린싱 및/또는 건조[린싱 유체 소스들(112a, 112b), 건조 증기 소스들(114a, 114b), 및/또는 기판 에지 잔류물 장치(246)을 통해], 기판의 배향을 수직으로부터 수평으로 변경하기 위한 그립퍼(240)의 그립 및/또는 회전, 및/또는 그와 유사한 것을 제어하도록 구성될 수 있다. 제어기(248)는 예를 들어 마이크로프로세서, 중앙 처리 유닛(CPU), 마이크로컨트롤러, 전용 하드웨어 회로, 그들의 조합, 또는 그와 유사한 것과 같은 프로세서일 수 있다. 제어기(248)는 본 명세서에 설명된 방법들 중 하나 이상의 적어도 일부를 수행하기 위한 컴퓨터 프로그램 코드 및/또는 하나 이상의 컴퓨터 프로그램 제품을 포함할 수 있다. 본 명세서에 설명되는 각각의 컴퓨터 프로그램 제품은 컴퓨터가 판독할 수 있는 비-일시적인 매체(예를 들어, 플로피 디스크, 컴팩트 디스크, DVD, 하드 드라이브, 랜덤 액세스 메모리 등)에 의해 보유될 수 있다.
도 2a 내지 도 2c의 시스템(200)은 예를 들어 도 1a 내지 도 1r을 참조하여 설명된 프로세스와 유사한 방식으로 동작될 수 있다. 다른 동작 시퀀스들이 이용될 수 있다.
적어도 일 실시예에서, 제어기(248)는 (1) 예를 들어 모터(239)를 이용하여, 이동가능한 탱크(102)를 제1 로딩 위치에 이동시키고; (2) 제1 지지 부재(226a), 제1 기판 홀더(108a), 및 제1 액츄에이터(230a)를 이용하여, 제1 기판을 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)(도 1a)으로부터 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a) 내로 로딩하고; (3) 제1 매니폴드(216a)를 이용하여, 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)을 세정 화학물질로 충진하고; (4) [예를 들어, 모터(239)를 이용하여] 이동가능한 탱크(102)를 제2 로딩 위치에 이동시키고; (5) 제2 지지 부재(226b), 제2 기판 홀더(108b), 및 제2 액츄에이터(230b)를 이용하여, 제2 기판을 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)(도 1a)으로부터 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b) 내로 로딩하고; (6) 제2 매니폴드(216b)를 이용하여, 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)을 세정 화학물질로 충진하고; (7) 이동가능한 탱크(102)를 제1 건조 위치로 이동시키고[여기서, 제1 구획(106a)은 건조 스테이션(104) 아래에 위치됨]; (8) [제1 기판 홀더(108a)를 이용하여] 제1 기판을 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩하고; (9) 제1 기판이 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩될 때, 린싱 유체 소스들(112a, 112b) 및 건조 증기 소스들(114a, 114b)을 이용하여, 린싱 유체로 제1 기판을 린싱하고 제1 기판을 건조하고; (10) [제1 매니폴드(216a)를 통해], 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)을 배수하고; (11) 이동가능한 탱크(102)를 제1 로딩 위치에 이동시키고; (12) 제3 기판을 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a) 내로 로딩하고; (13) 이동가능한 탱크(102)의 제1 구획(106a)을 세정 화학물질로 충진하고; (14) 이동가능한 탱크(102)를 제2 건조 위치에 위치시키고[여기서, 제2 구획(106b)은 건조 스테이션(104) 아래에 위치됨]; (15) 제2 기판을 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩하고; (16) 제2 기판이 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)으로부터 건조 스테이션(104)을 통해 언로딩될 때, 제2 기판을 린싱 유체로 린싱하고 건조 스테이션(104)을 이용하여 제2 기판을 건조하고; (17) [제2 매니폴드(216b)를 통해], 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)을 배수하고; (18) 이동가능한 탱크(102)를 제2 로딩 위치에 이동시키고; (19) 제4 기판을 오버헤드 기판 이송 메커니즘(110)으로부터 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b) 내로 로딩하고; 및/또는 (20) 이동가능한 탱크(102)의 제2 구획(106b)을 세정 화학물질로 충진하는 것 중 하나 이상을 수행하도록 린싱 및 건조 시스템(200)을 제어하도록 구성될 수 있다. 다른 세정, 린싱 및/또는 건조 프로세스들 및/또는 시퀀스들이 이용될 수 있다. 일반적으로, 이동가능한 탱크(102)는 프로그래밍가능한 축을 따라 임의의 적절한 방식으로 이동가능할 수 있다.
일부 실시예들에서, 건조 스테이션(104)을 통과하는 기판들은 기판 에지 잔류물 제거 장치(246)를 이용하여 더 건조될 수 있다. 일부 실시예들에서, 건조 스테이션(104)을 통과한 기판들은 그립퍼(240)를 이용하여 기판 홀더(108a, 108b)로부터 제거될 수 있다. 그립퍼(240)는 예를 들어 후속 처리를 위해 수직으로부터 수평 배향으로 기판을 회전시킬 수 있다. 제어기(248)는 기판 에지 잔류물 제거 장치(246) 및 그립퍼(240) 중 하나 이상의 동작을 제어할 수 있다.
린싱/건조 동안 린싱 유체 소스들(112a, 112b)이 린싱 유체를 이동가능한 탱크(102)의 제1 및/또는 제2 구획(106a, 106b) 내로 스프레이함에 따라, 구획들은 오버플로될 수 있다. 분 당 수 리터의 린싱 유체가 이용되는 실시예들에서, 구획들(106a, 106b)의 오버플로는 빠르게 발생할 수 있다. 오버플로 위어(overflow weir)(204)는 이러한 오버플로 액체를 캡쳐할 수 있고, 액체는 프로세스 배수부로 라우팅될 수 있다. 구획(106a 및/또는 106b) 내로 유동되는 린싱 유체(예를 들어, DI 워터)는 구획(들) 내의 세정 화학물질의 화학 농도를 희석시키고, 그에 의해 세정 화학물질의 pH를 린싱 유체의 최종 pH에 더 가깝게 한다. 이러한 pH 전이 및/또는 경사는 이동가능한 탱크(102)로 처리되고 있는 기판들에 대한 임의의 입자 재부착을 감소시킬 수 있다. 입자 재부착을 더 감소시키기 위해, 구획들(106a 및/또는 106b)은 신속하게 충진 및/또는 배수될 수 있다. 일부 실시예들에서, 각각의 구획(106a, 106b)은 약 5~10초 내에 충진될 수 있고, 약 4~7초 내에 배수될 수 있다. 다른 충진 및/또는 배수 시간들이 이용될 수 있다.
이동가능한 탱크(102) 내에서 세정 화학물질을 이용하면, pH 충격으로 인한 입자 재부착을 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 일부 실시예들은 기판이 이동가능한 탱크(102) 내로 로딩되기 전에 기판 상에 수행되는 프로세스에 기초하여 이동가능한 탱크(102) 내의 세정 화학물질을 위한 pH를 설정하는 것을 포함할 수 있다. 입자 재부착은 처리되는 각각의 기판에 대해 각각의 구획(106a, 106b)을 배수하고 각각의 구획(106a, 106b)을 신선한 세정 화학물질로 재충진함으로써 더 감소될 수 있다(예를 들어, 입자 재부착은 동일한 세정 유체 내에서 복수의 기판으로부터 입자들이 축적되지 않는 것으로 인해 감소될 수 있고, 기판-대-기판 균일성/일관성이 개선될 수 있다). 2개의 기판 처리 구획의 이용은 로딩/언로딩 동작 동안 기판을 침지시키는 것을 허용하고, 그에 의해 시스템 수율을 개선한다.
본 명세서에 제공되는 실시예들은 싱글 패스 린스 및 마란고니 건조 단계(single pass rinse and Marangoni dry step)가 후속하는, 기판 표면에 비접촉식 화학적 최종 세정을 제공할 수 있다. 화학적 기계적 브러쉬 스크러빙은 반 데르 발스 상호작용으로 인해 기판 표면에 부착되는 입자들을 제거하는 데에 효과적이다. 브러쉬들의 기계적 작용은 입자와 기판 표면 사이의 결합을 파괴하는 유체역학적 견인력(hydrodynamic drag force)을 제공한다. 브러쉬 스크러빙 동안 이용되는 화학적 조성물 및 pH는 기판 표면, 및 그로부터 제거될 입자들 모두가 동일한 부호의 전하를 갖도록 조절될 수 있고, 그에 의해 기판 표면과 입자들 사이의 정전기 척력을 촉진한다. 기판 표면과 입자들 사이의 결합이 파괴될 때, 기판 표면 부근의 경계 층 내에 입자가 남아있을 수 있고, 정전기 척력은 입자 재퇴적을 방지할 수 있다. 기판이 브러쉬 스크러빙으로부터 린싱 탱크로 이동될 때, 기판 표면의 경계 층 내의 pH에서의 급격한 변화는 기판의 표면 상으로의 입자 재퇴적을 야기할 수 있다. 이동가능한 탱크(102) 내에서, 브러쉬 스크러빙 동안 이용된 것과 유사한 pH를 갖는 세정 화학물질을 이용하면, 그러한 입자 재퇴적/재부착을 감소시킬 수 있다.
상술한 설명은 본 발명의 예시적인 실시예들만을 개시한다. 본 발명의 범위 내에 드는, 위에 개시된 시스템, 장치 및 방법들의 수정이 본 기술분야의 통상의 기술자들에게는 쉽게 분명해질 것이다. 예를 들어, 일부 실시예들에서, 본 명세서에서 설명된 린싱 및 건조 시스템들 및 방법들은 수평 배향된 기판들을 처리하도록 구성될 수 있다. 따라서, 본 발명이 예시적인 실시예들에 관련하여 개시되었지만, 다른 실시예들은 이하의 청구항들에 의해 정의되는 것과 같은 본 발명의 범위 내에 포함될 수 있음을 이해해야 한다.

Claims (15)

  1. 로딩 위치;
    건조 위치;
    이동가능한 탱크(movable tank) - 상기 이동가능한 탱크는,
    적어도 하나의 기판을 유지하고,
    세정 화학물질(cleaning chemistry)을 유지하여, 상기 이동가능한 탱크 내의 기판을 상기 세정 화학물질에 노출시키고,
    상기 로딩 위치와 상기 건조 위치 사이에서 병진하도록 구성됨 -; 및
    상기 건조 위치에 위치되고, 상기 이동가능한 탱크가 상기 건조 위치에 있을 때, 기판이 상기 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 상기 기판을 린싱 및 건조하도록 구성되는 건조 스테이션
    을 포함하는 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 로딩 위치 및 상기 건조 위치는 횡방향으로(laterally) 이격되는, 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 기판 홀더를 더 포함하고, 상기 기판 홀더는,
    상기 이동가능한 탱크 내에 기판을 유지하고,
    상기 이동가능한 탱크가 상기 로딩 위치에 있을 때, 오버헤드 기판 이송 메커니즘으로부터 기판을 수용하고,
    상기 이동가능한 탱크가 상기 건조 위치에 있을 때 기판을 상기 이동가능한 탱크로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩하도록 구성되는, 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 상기 이동가능한 탱크는 상기 기판 홀더의 형상에 기초하는 내부 형상을 갖는, 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 건조 스테이션은 기판이 상기 건조 위치에서 상기 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 상기 기판을 린싱 유체로 린싱하고 상기 기판을 건조하도록 구성된 린싱 유체 소스 및 증기 건조 소스를 포함하는, 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 적어도 제1 로딩 위치 및 제2 로딩 위치, 및 적어도 제1 건조 위치 및 제2 건조 위치를 더 포함하고, 상기 이동가능한 탱크는 상기 제1 및 제2 로딩 위치와 상기 제1 및 제2 건조 위치 사이에서 이동하도록 구성된, 시스템.
  7. 적어도 하나의 기판을 유지하고 로딩 위치와 건조 위치 사이에서 병진하도록 구성된 이동가능한 탱크를 제공하는 단계;
    상기 건조 위치에 위치되고, 상기 이동가능한 탱크가 상기 건조 위치에 있을 때 기판이 상기 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 상기 기판을 린싱 및 건조하도록 구성된 건조 스테이션을 제공하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 상기 로딩 위치에 위치시키는 단계;
    상기 이동가능한 탱크가 상기 로딩 위치에 있는 동안, 기판을 상기 이동가능한 탱크 내로 로딩하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 세정 화학물질로 충진하는 단계;
    미리 결정된 기간 동안 상기 기판을 상기 세정 화학물질로 트리트먼트하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 상기 건조 위치에 이동시키는 단계;
    상기 기판을 상기 이동가능한 탱크로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩하는 단계; 및
    상기 기판이 상기 이동가능한 탱크로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩될 때, 상기 기판을 린싱 유체로 린싱하고 상기 기판을 건조하는 단계
    를 포함하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 기판이 상기 이동가능한 탱크 내로 로딩되기 전에 상기 기판 상에 수행되는 프로세스에 기초하여 상기 이동가능한 탱크 내의 상기 세정 화학물질을 위한 pH를 설정하는 단계를 더 포함하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 기판이 상기 이동가능한 탱크로부터 언로딩되는 동안 상기 기판에 린싱 유체를 제공함으로써 상기 이동가능한 탱크에서 pH 경사를 생성하도록 상기 건조 스테이션을 이용하는 단계를 더 포함하는 방법.
  10. 제7항에 있어서, 상기 건조 스테이션은 증기 건조 소스 및 린싱 유체 소스를 포함하고, 상기 방법은, 기판이 상기 건조 위치에서 상기 이동가능한 탱크로부터 언로딩될 때, 상기 기판을 린싱 유체로 린싱하고 상기 기판을 건조하기 위해 상기 린싱 유체 소스 및 상기 증기 건조 소스를 이용하는 단계를 포함하는 방법.
  11. 제7항에 있어서, 적어도 제1 로딩 위치 및 제2 로딩 위치, 및 적어도 제1 건조 위치 및 제2 건조 위치를 제공하는 단계를 더 포함하고, 상기 이동가능한 탱크는 상기 제1 및 제2 로딩 위치와 상기 제1 및 제2 건조 위치 사이에서 이동하도록 구성된, 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제1 로딩 위치에 이동시키는 단계;
    제1 기판을 오버헤드 기판 이송 시스템으로부터 상기 이동가능한 탱크의 제1 구획(compartment) 내로 로딩하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획을 세정 화학물질로 충진하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제2 로딩 위치에 이동시키는 단계;
    제2 기판을 상기 오버헤드 기판 이송 시스템으로부터 상기 이동가능한 탱크의 제2 구획 내로 로딩하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크의 상기 제2 구획을 세정 화학물질로 충진하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제1 건조 위치에 이동시키는 단계;
    상기 제1 기판을 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획으로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩하는 단계; 및
    상기 제1 기판이 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획으로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩될 때, 상기 제1 기판을 린싱 유체로 린싱하고 상기 제1 기판을 건조하는 단계
    를 더 포함하는 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획을 배수(draining)하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제1 로딩 위치에 이동시키는 단계;
    제3 기판을 상기 오버헤드 기판 이송 시스템으로부터 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획 내로 로딩하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획을 세정 화학물질로 충진하는 단계;
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제2 건조 위치에 위치시키는 단계;
    상기 제2 기판을 상기 이동가능한 탱크의 상기 제2 구획으로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩하는 단계; 및
    상기 제2 기판이 상기 이동가능한 탱크의 상기 제2 구획으로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩될 때, 상기 제2 기판을 린싱 유체로 린싱하고 상기 제2 기판을 건조하는 단계
    를 더 포함하는 방법.
  14. 제1 로딩 위치, 제2 로딩 위치, 제1 건조 위치, 및 제2 건조 위치;
    상기 제1 및 제2 로딩 위치와 상기 제1 및 제2 건조 위치 사이에서 병진하도록 구성된 이동가능한 탱크 - 상기 이동가능한 탱크는,
    제1 충진가능(fillable) 및 배수가능(drainable) 구획, 및 제2 충진가능 및 배수가능 구획을 포함하고,
    상기 제1 충진가능 및 배수가능 구획은 세정 화학물질을 유지하여, 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획 내의 기판을 상기 세정 화학물질에 노출시키도록 구성되고,
    상기 제2 충진가능 및 배수가능 구획은 세정 화학물질을 유지하여, 상기 이동가능한 탱크의 상기 제2 구획 내의 기판을 상기 세정 화학물질에 노출시키도록 구성됨 -; 및
    건조 스테이션 - 상기 건조 스테이션은,
    상기 이동가능한 탱크가 상기 제1 건조 위치에서 상기 건조 스테이션 아래에 위치될 때 기판이 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획으로부터 언로딩될 때 상기 기판을 린싱 및 건조하고,
    상기 이동가능한 탱크가 상기 제2 건조 위치에서 상기 건조 스테이션 아래에 위치될 때 상기 기판이 상기 이동가능한 탱크의 상기 제2 구획으로부터 언로딩될 때 상기 기판을 린싱 및 건조하도록 구성됨 -
    을 포함하는 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제1 로딩 위치에 이동시키고,
    제1 기판을 오버헤드 기판 이송 시스템으로부터 상기 이동가능한 탱크의 제1 구획 내로 로딩하고,
    상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획을 세정 화학물질로 충진하고,
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제2 로딩 위치에 이동시키고,
    제2 기판을 상기 오버헤드 기판 이송 시스템으로부터 상기 이동가능한 탱크의 제2 구획 내로 로딩하고,
    상기 이동가능한 탱크의 상기 제2 구획을 세정 화학물질로 충진하고,
    상기 이동가능한 탱크를 상기 제1 건조 위치에 이동시키고,
    상기 제1 기판을 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획으로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩하며,
    상기 제1 기판이 상기 이동가능한 탱크의 상기 제1 구획으로부터 상기 건조 스테이션을 통해 언로딩될 때, 상기 제1 기판을 린싱 유체로 린싱하고 상기 제1 기판을 건조하기 위해
    상기 시스템을 제어하도록 동작가능한 제어기를 더 포함하는 시스템.
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