KR20170095943A - 소광제 - Google Patents

Abstract

종래의 소광제는 형광성을 갖는 화합물의 형광 발광을 충분히 억제할 수 있을 정도의 소광능력을 가지고 있지 않다. 이에, 본 발명은 크산텐계 염료를 비롯한 형광성을 갖는 화합물에 대해, 그 형광을 충분히 소광할 수 있는 소광제의 제공을 과제로 한다. 본 발명은 하기 일반식 (1)로 표시되는 화합물로 이루어진 소광제 등에 관한 것이다.

{식 중, R₅는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 알킬기, 알콕시기, 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 아릴기, 아릴옥시기 또는 아릴알킬기를 나타내며, R₆은 중합성 불포화기를 갖는 기, 히드록실기 등을 나타내고, Y₁은 산소 원자 등을 나타내며, An^-는 음이온을 나타내고, Ar₁은 특정 고리 구조를 나타내며, * 및 **은 결합위치를 나타내고, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타내며, n₁은 특정 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (1)에서의 하기의 구조 (1-10)은 비대칭 구조이다;

(식 중, R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}

Description

소광제{QUENCHER}

본 발명은 컬러 액정 표시 장치나 컬러 촬상관 소자의 컬러 필터 등에 사용되는 소광제(消光劑), 이 소광제 등으로서 사용되는 화합물, 및 이 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 폴리머에 관한 것이다.

일반적으로 컬러 필터는 유리 등의 투명한 기판의 표면에 형성된 각 컬러의 필터층으로 이루어진 미세한 띠(스트라이프) 모양의 필터 세그먼트(화소)를 평행하게 또는 교차하게 배치한 것, 혹은 미세한 필터 세그먼트를 가로 세로 일정한 배열로 배치한 것으로 이루어져 있다. 컬러 필터 상에는 투명전극이나 배향막이 형성되며, 이들 성능을 충분히 얻기 위해서는 형성공정을 일반적으로 150℃ 이상, 바람직하게는 200℃ 이상의 고온에서 수행할 필요가 있다.

컬러 필터에 요구되는 품질 항목으로는 명도와 콘트라스트비를 들 수 있다. 콘트라스트비가 낮은 컬러 필터는 흐릿한 화면의 원인이 되기 때문에, 높은 콘트라스트화가 필요로 되고 있다. 또한, 명도가 낮은 컬러 필터는 빛의 투과율이 낮고 어두운 화면이 되어 버리기 때문에, 컬러 필터의 고명도화가 요구되고 있다.

따라서, 명도와 콘트라스트비의 문제를 해결하는 것으로서, 로다민계 색소 등의 크산텐 골격을 갖는 염료나 이 크산텐계 염료를 사용한 컬러 필터가 여러 가지 보고되고 있다. 예를 들면, 일본 특허공개 2011-241372에서는 컬러 필터용 잉크 등에 적합하게 사용되는 로다민 염료가 보고되고 있다. 또한, 일본 특허공개 2010-249870에서는 크산텐계 염료를 포함하는 컬러 필터용 착색 조성물 등이 보고되고 있고, WO 2014/126167에서는 특정 음이온을 갖는 양이온성 로다민 유도체를 포함하는 착색 조성물 등이 보고되고 있다.

일본 특허공개 2011-241372 일본 특허공개 2010-249870 WO 2014/126167

그러나, 상술한 크산텐계 염료는 형광 발광을 나타내기 때문에 콘트라스트비가 낮아지는 문제를 가지고 있다. 그래서, 종래의 소광제를 검토해 보았는데, 크산텐계 염료의 형광 발광을 충분히 억제할 수 있을 정도의 소광능을 갖는 소광제는 없었다. 이에, 본 발명은 크산텐계 염료를 비롯한 형광성을 갖는 화합물에 대하여, 그 형광을 충분히 소광할 수 있는 소광제의 제공을 과제로 한다.

상기 상황에 비추어, 본 발명자들은 열심히 연구한 결과, 특정 구조를 갖는 화합물이, 예를 들어 크산텐계 염료 등의 여러 가지 형광성을 갖는 화합물에 대해 소광제로서 유용한 사실을 발견하였다.

또한, 특정 음이온을 상대 음이온으로서 가지며 또한 중합성 불포화기를 갖는 화합물, 혹은 이 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 폴리머를 사용함으로써, 형광성을 갖는 화합물에 대한 소광효과뿐만 아니라, 높은 내열성, 내용출성 및 내후성을 갖는 사실을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명은 "하기 일반식 (1)로 표시되는 화합물로 이루어진 소광제(이하, 본 발명의 소광제로 약칭하는 경우가 있다)

{식 중, n₁개의 R₅는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며, R₆은 중합성 불포화기를 갖는 기, 히드록실기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기 또는 복소환식 아미노기를 나타내고, Y₁은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내며, R₃₂는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, An^-는 음이온을 나타내며, Ar₁은 하기 일반식 (1-1)~(1-7)로 표시되는 고리 구조를 나타내고;

(식 중, R₁ 및 R₄은 수소 원자를 나타내며, R₂ 및 R₃은 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기를 나타내고, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋다.),

(식 중, R₃₁은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

* 및 **은 각각의 결합위치를 나타내며, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타낸다. Ar₂가 벤젠 고리인 경우, n₁은 0~4의 정수를 나타내고, Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, n₁은 0~6의 정수를 나타내며, Ar₂가 안트라센 고리인 경우, n₁은 0~8의 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (1)에서의 하기 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;

(식 중, n₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}",

"하기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물(이하, 본 발명의 화합물로 약칭하는 경우가 있다)

{식 중, n₁개의 R₅는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, R₆'은 중합성 불포화기를 갖는 기를 나타내며, Y₁은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내고, R₃₂는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, An^-는 음이온을 나타내고, Ar₁은 하기 일반식 (1-1)~(1-7)로 표시되는 고리 구조를 나타내며;

(식 중, R₁ 및 R₄은 수소 원자를 나타내며, R₂ 및 R₃은 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기를 나타내고, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋다.),

(식 중, R₃₁은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

* 및 **은 각각의 결합위치를 나타내며, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타낸다. Ar₂가 벤젠 고리인 경우, n₁은 0~4의 정수를 나타내고, Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, n₁은 0~6의 정수를 나타내며, Ar₂가 안트라센 고리인 경우, n₁은 0~8의 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (3)에서의 하기 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;

(식 중, n₁개의 R_5, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}", 및

"상기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 폴리머(이하, 본 발명의 폴리머로 약칭하는 경우가 있다)"에 관한 것이다.

본 발명의 소광제를 사용하면, 종래의 소광제로는 소광할 수 없었던, 예를 들면 크산텐계 염료 등이 발하는 형광에 대해, 충분한 소광효과를 나타낸다. 즉, 본 발명의 소광제를 함유하는 컬러 필터는 크산텐계 염료 등의 여러 가지 형광성을 갖는 화합물이 발하는 형광이 억제되어 높은 콘트라스트비를 갖는다는 효과를 나타낸다.

또한, 상기 본 발명의 화합물 또는 본 발명의 폴리머는 상기 소광효과 외에도, 150~250℃로 가열한 경우일지라도 가열에 의한 퇴색이 적고, 높은 내열효과를 나타낸다. 즉, 상기 본 발명의 화합물 또는 본 발명의 폴리머를 함유하는 착색 조성물은 높은 콘트라스트비를 가지고 있을 뿐만 아니라, 종래의 착색 조성물과 동등 또는 그 이상의 내열성을 가지고 있다는 효과를 보이므로, 뛰어난 착색 경화막을 형성할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 착색 조성물은 액정 표시 장치(LCD)나 고체 촬상 소자(CCD, CMOS 등)에 사용되는 컬러 필터 등의 착색 화소 형성 용도, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 및 도료 등의 용도로 사용할 수 있으며, 특히 액정 표시 장치의 컬러 필터용으로서 적합하다. 또한, 본 발명의 착색 조성물은 종래 공지의 성형 방법에 의해, 시트, 필름, 병, 컵 등으로 성형하여 착색 수지 성형물로서 사용할 수 도 있다. 따라서, 안경, 컬러 콘택트 렌즈 등의 용도로도 사용할 수 있으며, 공지된 수지와의 다층 구조체로 함으로써도 동일한 용도로 사용할 수 있다. 그 외에도, 예를 들어 광학 필름, 헤어 컬러링제, 화합물이나 생체물질에 대한 표지물질, 유기태양전지의 재료 등의 용도로도 사용하는 것이 가능하다.

이하의 기재에 있어서, Me는 메틸기를, Et는 에틸기를, Pr은 프로필기를, Bu는 부틸기를, n-는 normal-체를, i-는 이소체를 각각 나타낸다.

[본 발명의 소광제 ]

본 발명의 소광제는 일반식 (1)로 표시되는 화합물로 이루어진 것이다.

{식 중, n₁개의 R₅는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며, R₆은 중합성 불포화기를 갖는 기, 히드록실기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기 또는 복소환식 아미노기를 나타내고, Y₁은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내며, R₃₂는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, An^-는 음이온을 나타내며, Ar₁은 하기 일반식 (1-1)~(1-7)로 표시되는 고리 구조를 나타내고;

(식 중, R₁ 및 R₄은 수소 원자를 나타내며, R₂ 및 R₃은 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기를 나타내고, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋다.),

(식 중, R₃₁은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₃₁은 상기와 같다.),

* 및 **은 각각의 결합위치를 나타내며, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타낸다. Ar₂가 벤젠 고리인 경우, n₁은 0~4의 정수를 나타내고, Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, n₁은 0~6의 정수를 나타내며, Ar₂가 안트라센 고리인 경우, n₁은 0~8의 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (1)에서의 하기 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;

(식 중, n₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}

일반식 (1)의 R₅에서의 할로겐 원자로서는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~20의 알킬기 중에서도, 탄소수 1~12의 것이 바람직하고, 탄소수 1~6의 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1~4의 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 시클로부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, 2-메틸부틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, sec-헥실기, tert-헥실기, 네오헥실기, 2-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 시클로헥실기, n-헵틸기, 이소헵틸기, sec-헵틸기, tert-헵틸기, 네오헵틸기, 시클로헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, 네오옥틸기, 2-에틸헥실기, 시클로옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, sec-노닐기, tert-노닐기, 네오노닐기, 시클로노닐기, n-데실기, 이소데실기, sec-데실기, tert-데실기, 네오데실기, 시클로데실기, n-운데실기, 시클로운데실기, n-도데실기, 시클로도데실기, n-트리데실기, 이소트리데실기, n-테트라데실기, 이소테트라데실기, n-펜타데실기, 이소펜타데실기, n-헥사데실기, 이소헥사데실기, n-헵타데실기, 이소헵타데실기, n-옥타데실기, 이소옥타데실기, n-노나데실기, 이소노나데실기, n-이코실기, 이소이코실기, 시클로헥실메틸기, 1-시클로헥실에틸기, 2-메틸시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 2,6-디메틸시클로헥실기, 2,4-디메틸시클로헥실기, 3,5-디메틸시클로헥실기, 2,5-디메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 3,3,5-트리메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 1-아다만틸기, 2-아다만틸기 등을 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, 2-메틸부틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, n-헥실기, 이소헥실기, sec-헥실기, tert-헥실기, 네오헥실기, 2-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기가 바람직하고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기가 보다 바람직하며, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기가 더욱 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알콕시기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~20의 알콕시기 중에서도, 탄소수 1~12의 것이 바람직하고, 탄소수 1~6의 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 시클로부톡시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 2-메틸부톡시기, 1,2-디메틸프로폭시기, 1-에틸프로폭시기, 시클로펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 이소헥실옥시기, sec-헥실옥시기, tert-헥실옥시기, 네오헥실옥시기, 2-메틸펜틸옥시기, 1,2-디메틸부톡시기, 2,3-디메틸부톡시기, 1-에틸부톡시기, 시클로헥실옥시기, n-헵틸옥시기, 이소헵틸옥시기, sec-헵틸옥시기, tert-헵틸옥시기, 네오헵틸옥시기, 시클로헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, sec-옥틸옥시기, tert-옥틸옥시기, 네오옥틸옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 시클로옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, sec-노닐옥시기, tert-노닐옥시기, 네오노닐옥시기, 시클로노닐옥시기, n-데실옥시기, 이소데실옥시기, sec-데실옥시기, tert-데실옥시기, 네오데실옥시기, 시클로데실옥시기, n-운데실옥시기, 시클로운데실옥시기, n-도데실옥시기, 시클로도데실옥시기, n-트리데실옥시기, 이소트리데실옥시기, n-테트라데실옥시기, 이소테트라데실옥시기, n-펜타데실옥시기, 이소펜타데실옥시기, n-헥사데실옥시기, 이소헥사데실옥시기, n-헵타데실옥시기, 이소헵타데실옥시기, n-옥타데실옥시기, 이소옥타데실옥시기, n-노나데실옥시기, 이소노나데실옥시기, n-이코실옥시기, 이소이코실옥시기 등을 들 수 있으며, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 2-메틸부톡시기, 1,2-디메틸프로폭시기, 1-에틸프로폭시기, n-헥실옥시기, 이소헥실옥시기, sec-헥실옥시기, tert-헥실옥시기, 네오헥실옥시기, 2-메틸펜틸옥시기, 1,2-디메틸부톡시기, 2,3-디메틸부톡시기, 1-에틸부톡시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기가 보다 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기가 더욱 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알틸티오기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~20의 알킬티오기 중에서도, 탄소수 1~12의 것이 바람직하고, 탄소수 1~6의 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 시클로부틸티오기, n-펜틸티오기, 이소펜틸티오기, sec-펜틸티오기, tert-펜틸티오기, 네오펜틸티오기, 2-메틸부틸티오기, 1,2-디메틸프로필티오기, 1-에틸프로필티오기, 시클로펜틸티오기, n-헥실티오기, 이소헥실티오기, sec-헥실티오기, tert-헥실티오기, 네오헥실티오기, 2-메틸펜틸티오기, 1,2-디메틸부틸티오기, 2,3-디메틸부틸티오기, 1-에틸부틸티오기, 시클로헥실티오기, n-헵틸티오기, 이소헵틸티오기, sec-헵틸티오기, tert-헵틸티오기, 네오헵틸티오기, 시클로헵틸티오기, n-옥틸티오기, 이소옥틸티오기, sec-옥틸티오기, tert-옥틸티오기, 네오옥틸티오기, 2-에틸헥실티오기, 시클로옥틸티오기, n-노닐티오기, 이소노닐티오기, sec-노닐티오기, tert-노닐티오기, 네오노닐티오기, 시클로노닐티오기, n-데실티오기, 이소데실티오기, sec-데실티오기, tert-데실티오기, 네오데실티오기, 시클로데실티오기, n-운데실티오기, 시클로운데실티오기, n-도데실티오기, 시클로도데실티오기, n-트리데실티오기, 이소트리데실티오기, n-테트라데실티오기, 이소테트라데실티오기, n-펜타데실티오기, 이소펜타데실티오기, n-헥사데실티오기, 이소헥사데실티오기, n-헵타데실티오기, 이소헵타데실티오기, n-옥타데실티오기, 이소옥타데실티오기, n-노나데실티오기, 이소노나데실티오기, n-이코실티오기, 이소이코실티오기 등을 들 수 있고, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, n-펜틸티오기, 이소펜틸티오기, sec-펜틸티오기, tert-펜틸티오기, 네오펜틸티오기, 2-메틸부틸티오기, 1,2-디메틸프로필티오기, 1-에틸프로필티오기, n-헥실티오기, 이소헥실티오기, sec-헥실티오기, tert-헥실티오기, 네오헥실티오기, 2-메틸펜틸티오기, 1,2-디메틸부틸티오기, 2,3-디메틸부틸티오기, 1-에틸부틸티오기가 바람직하며, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기가 보다 바람직하고, 메틸티오기, 에틸티오기가 더욱 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기는 1개 또는 2개의 치환기를 갖는다. 당해 치환기로는 예를 들면, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기 등을 들 수 있다.

일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 1~20의 알킬기로는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기로는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋으며, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기 중에서도, 탄소수 1~12의 것이 바람직하고, 탄소수 1~6의 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~3의 것이 특히 바람직하다. 구체적으로 예를 들면, 클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 2-클로로에틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 펜타클로로에틸기, 2-클로로프로필기, 3-클로로프로필기, 2-클로로-2-프로필기, 헵타클로로프로필기 등의 클로로알킬기; 브로모메틸기, 트리브로모메틸기, 2-브로모에틸기, 2,2,2-트리브로모에틸기, 펜타브로모에틸기, 2-브로모프로필기, 3-브로모프로필기, 2-브로모-2-프로필기, 헵타브로모프로필기 등의 브로모알킬기; 요오드메틸기, 트리요오드메틸기, 2-요오드에틸기, 2,2,2-트리요오드에틸기, 펜타요오드에틸기, 2-요오드프로필기, 3-요오드프로필기, 2-요오드-2-프로필기, 헵타요오드프로필기 등의 요오드알킬기; 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 3-플루오로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 헵타플루오로프로필기 등의 플루오로알킬기를 들 수 있다. 이 중에서도, 트리클로로메틸기, 펜타클로로에틸기, 헵타클로로프로필기, 트리브로모메틸기, 펜타브로모에틸기, 헵타브로모프로필기, 트리요오드메틸기, 펜타요오드에틸기, 헵타요오드프로필기, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기 등의 퍼할로게노알킬기가 바람직하고, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기 등의 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하며, 트리플루오로메틸기가 특히 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 6~10의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있으며, 페닐기가 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 7~13의 아릴알킬기로는 탄소수 7~9의 페닐알킬기, 탄소수 11~13의 나프틸알킬기 등을 들 수 있으며, 탄소수 7~9의 페닐알킬기가 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 벤질기, 페네틸기(2-페닐에틸기), 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기(3-페닐프로필기), 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기(2-페닐프로판-2-일기), 나프틸메틸기, 2-나프틸에틸기, 3-나프틸프로필기 등을 들 수 있으며, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기, 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기가 바람직하고, 벤질기, 페네틸기, 히드로신나밀기가 보다 바람직하며, 벤질기가 더욱 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기로는 치환기를 갖는 아미노기가 바람직하고, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 또는 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기가 더욱 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, 이소펜틸아미노기, n-헥실아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 페네틸아미노기, 히드로신나밀아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디-n-펜틸아미노기, 디이소펜틸아미노기, 디-n-헥실아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기, 디페네틸아미노기, 비스(히드로신나밀)아미노기 등을 들 수 있으며, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기가 바람직하고, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기가 보다 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 6~14의 아릴기로서는 구체적으로는 예를 들면, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있으며, 페닐기가 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 6~14의 아릴옥시기로서는 구체적으로는 예를 들면, 페녹시기, 나프틸옥시기, 안트라세닐옥시기 등을 들 수 있으며, 페녹시기가 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 7~20의 아릴알킬기로서는 탄소수 7~12의 페닐알킬기, 탄소수 11~16의 나프틸알킬기, 탄소수 15~20의 안트라세닐알킬기 등을 들 수 있으며, 탄소수 7~12의 페닐알킬기가 바람직하고, 탄소수 7~9의 페닐알킬기가 보다 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 벤질기, 페네틸기(2-페닐에틸기), 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기(3-페닐프로필기), 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기(2-페닐프로판-2-일기), 4-페닐부틸기, 3-페닐부틸기, 2-페닐부틸기, 1-페닐부틸기, 5-페닐펜틸기, 4-페닐펜틸기, 3-페닐펜틸기, 2-페닐펜틸기, 1-페닐펜틸기, 6-페닐헥실기, 5-페닐헥실기, 4-페닐헥실기, 3-페닐헥실기, 2-페닐헥실기, 1-페닐헥실기, 나프틸메틸기, 2-나프틸에틸기, 3-나프틸프로필기, 4-나프틸부틸기, 5-나프틸펜틸기, 6-나프틸헥실기, 안트라세닐메틸기, 2-안트라세닐에틸기, 3-안트라세닐프로필기, 4-안트라세닐부틸기, 5-안트라세닐펜틸기, 6-안트라세닐헥실기 등을 들 수 있으며, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기, 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기, 4-페닐부틸기, 3-페닐부틸기, 2-페닐부틸기, 1-페닐부틸기, 5-페닐펜틸기, 4-페닐펜틸기, 3-페닐펜틸기, 2-페닐펜틸기, 1-페닐펜틸기, 6-페닐헥실기, 5-페닐헥실기, 4-페닐헥실기, 3-페닐헥실기, 2-페닐헥실기, 1-페닐헥실기가 바람직하고, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기, 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기가 보다 바람직하며, 벤질기, 페네틸기, 히드로신나밀기, 쿠밀기가 더욱 바람직하다.

일반식 (1)의 R₅로서는 할로겐 원자; 탄소수 1~12의 알킬기; 탄소수 1~12의 알콕시기; 탄소수 1~12의 알킬티오기; 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 또는 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기; 히드록실기; 탄소수 6~14의 아릴기; 탄소수 6~14의 아릴옥시기; 및 탄소수 7~20의 아릴알킬기가 바람직하고, 할로겐 원자; 탄소수 1~12의 알킬기; 탄소수 1~12의 알콕시기; 탄소수 1~12의 알틸티오기; 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기; 히드록실기; 페닐기; 페녹시기; 및 탄소수 7~12의 페닐알킬기가 보다 바람직하며, 할로겐 원자; 탄소수 1~6의 알킬기; 탄소수 1~6의 알콕시기; 탄소수 1~6의 알킬티오기; 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기; 히드록실기; 페닐기; 페녹시기 ; 및 탄소수 7~9의 페닐알킬기가 더욱 바람직하다. 구체적으로는 불소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기, 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기가 바람직하고, 불소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 메틸티오기, 에틸티오기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기, 벤질기, 페네틸기, 히드로신나밀기, 쿠밀기가 보다 바람직하다.

일반식 (1)의 R₆에서의 중합성 불포화기를 갖는 기로서는 관능기 말단에 중합성 불포화기를 갖는 것이면 좋고, 당해 중합성 불포화기로서는 예를 들면 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐아릴기, 비닐옥시기, 알릴기 등을 들 수 있으며, 아크릴로일기, 메타크릴로일기가 바람직하다.

일반식 (1)의 R₆에서의 중합성 불포화기를 갖는 기 중에서도 바람직한 구체적인 예로서는 하기 일반식 (2)로 표시되는 기를 들 수 있다.

{식 중, R₇은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내며, A₁은 -O- 또는 하기 일반식 (2-1)

(식 중, R₈ 및 R₉은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, A₄는 질소 원자 또는 하기 식 (2-2)

으로 표시되는 기를 나타내며, n₂는 0~3의 정수를 나타내고, R₈과 R₉는 이들과 결합하고 있는 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-과 함께 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하여도 좋으며, R₈, R₉ 및 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-으로 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있는 경우, n₃은 1을 나타내고, 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우, n₃은 0 또는 1을 나타낸다.)

로 표시되는 기를 나타내며, A₂는 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖고, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 또는 탄소수 1~21의 알킬렌기를 나타내고, A₃는 -NR₁₀- 또는 -O-를 나타내며, R₁₀은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.}

일반식 (2)의 R₇로서는 메틸기가 바람직하다.

일반식 (2)의 A₁으로서는 -O-가 바람직하다.

일반식 (2-1)의 R₈ 및 R₉에서의 탄소수 1~12의 알킬기로는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~12의 알킬기 중에서도, 탄소수 1~6의 것이 바람직하고, 탄소수 1~4의 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 시클로부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, 2-메틸부틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, sec-헥실기, tert-헥실기, 네오헥실기, 2-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 시클로헥실기, n-헵틸기, 이소헵틸기, sec-헵틸기, tert-헵틸기, 네오헵틸기, 시클로헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, tert-옥틸기, 네오옥틸기, 2-에틸헥실기, 시클로옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, sec-노닐기, tert-노닐기, 네오노닐기, 시클로노닐기, n-데실기, 이소데실기, sec-데실기, tert-데실기, 네오데실기, 시클로데실기, n-운데실기, 시클로운데실기, n-도데실기, 시클로도데실기, 시클로헥실메틸기, 1-시클로헥실에틸기, 2-메틸시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 2,6-디메틸시클로헥실기, 2,4-디메틸시클로헥실기, 3,5-디메틸시클로헥실기, 2,5-디메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 3,3,5-트리메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 1-아다만틸기, 2-아다만틸기 등을 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, 2-메틸부틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, n-헥실기, 이소헥실기, sec-헥실기, tert-헥실기, 네오헥실기, 2-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기가 바람직하며, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기가 보다 바람직하고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기가 더욱 바람직하다.

일반식 (2-1)에서의 R₈ 및 R₉로서는 수소 원자 및 탄소수 1~4의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다. 구체적으로는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 수 있으며, 수소 원자, 메틸기, 에틸기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.

일반식 (2-1)의 A₄는 식 (2-2)로 표시되는 기가 바람직하다.

일반식 (2-1)의 R₈과 R₉가 이들과 결합하고 있는 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-과 함께 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있는 경우, n₃은 1이어서, 당해 환상 구조는 일반식 (2-3)으로 표시되는 것이다;

(식 중, n₄는 0~4의 정수를 나타내고, A₄ 및 n₂는 상기와 같다. 단, n₂+n₄는 3~4의 정수이다.).

일반식 (2-1)의 n₂는 일반식 (2-3)으로 표시되는 환상 구조를 형성하고 있는 경우에는 2가 바람직하고, 일반식 (2-3)으로 표시되는 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우에는 0이 바람직하다.

일반식 (2-1)의 n₃는 일반식 (2-3)으로 표시되는 환상 구조를 형성하고 있는 경우에는 1을 나타내고, 일반식 (2-3)으로 표시되는 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우에는 0이 바람직하다.

일반식 (2-3)의 n₄는 2가 바람직하다.

일반식 (2-3)으로 표시되는 환상 구조는 5~6원 고리를 나타내며, 6원 고리가 바람직하다.

일반식 (2-3)으로 표시되는 환상 구조의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 바람직하다.

일반식 (2)의 A₂에서의 "-O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기", "-O-, -OCO-, -COO- 또는 아릴렌기 중 적어도 하나의 기를 그 사슬 중에 갖고, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기" , "히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기" 및 "탄소수 1~21의 알킬렌기"에서의, 탄소수 1~21의 알킬렌기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 탄소수 1~12가 바람직하며, 탄소수 1~6이 보다 바람직하고, 탄소수 1~3이 더욱 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 1-메틸트리메틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기, 1,2-디메틸에틸렌기, 1,1-디메틸에틸렌기, 에틸에틸렌기, 펜타메틸렌기, 1-메틸테트라메틸렌기, 2-메틸테트라메틸렌기, 1,2-디메틸트리메틸렌기, 1-에틸트리메틸렌기, 헥사메틸렌기, 메틸펜타메틸렌기, n-헵틸렌기, n-옥틸렌기, n-노닐렌기, n-데실렌기, n-운데실렌기, n-도데실렌기, n-트리데실렌기, n-테트라데실렌기, n-펜타데실렌기, n-헥사데실렌기, n-헵타데실렌기, n-옥타데실렌기, n-노나데실렌기, n-이코실렌기, n-헨이코실렌기, -C₄H₆-CH₂-기, -C₅H₈-CH₂-기, -C₆H₁₀-CH₂-기, -C₆H₁₀-C₂H₄-기, -C₆H₁₀-C₃H₆-기, -C₇H₁₂-CH₂-기 등을 들 수 있으며, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, C₆H₁₀-CH₂-기, -C₆H₁₀-C₂H₄-기, -C₆H₁₀-C₃H₆-기 등이 바람직하며, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기가 보다 바람직하고, 에틸렌기가 특히 바람직하다.

일반식 (2)의 A₂에서의 "-O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기" 및 "-O-, -OCO-, -COO- 또는 아릴렌기를 그 사슬 중에 갖고, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기"에서의 알릴렌기로서는 탄소수 6~10의 것을 들 수 있으며, 구체적으로는 페닐렌기, 나프틸렌기 등을 들 수 있다.

일반식 (2)의 A₂에서의 "-O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기"로서는 예를 들면 하기 일반식 (21-1)~(21-5)로 표시되는 기 등을 들 수 있다.

-(R₅₁-O-)_h1-R₅₂- (21-1)

(식 중, R₅₁ 및 R₅₂는 각각 독립적으로, 직쇄상 또는 분지상의 탄소수 1~4의 알킬렌기를 나타내며, h₁은 1~9의 정수를 나타낸다. 단, 식 중의 탄소수의 총수는 2~21이다.)

-(CH₂)_h2-OCO-(CH₂)_h3- (21-2)

(식 중, h₂ 및 h₃은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타낸다.)

-(CH₂)_h4-OCO-R₅₃-COO-(CH₂)_h5- (21-3)

(식 중, R₅₃은 페닐렌기 또는 탄소수 1~7의 알킬렌기를 나타내며, h₄ 및 h₅는 각각 독립적으로 1~3의 정수를 나타낸다.)

-(CH₂)_h6-A₅-(CH₂)_h7- (21-4)

(식 중, A₅는 -NHCO-, -CONH- 또는 -NHCONH-를 나타내고, h₆ 및 h₇은 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타낸다.)

-(CH₂)_h8-O-CONH-(CH₂)_h9- (21-5)

(식 중, h₈ 및 h₉는 각각 독립적으로 1~10의 정수를 나타낸다.)

일반식 (21-1)의 R₅₁ 및 R₅₂에서의 직쇄상 또는 분지상의 탄소수 1~4의 알킬렌기로는 구체적으로는 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 테트라메틸렌기, 1-메틸트리메틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기, 1,2-디메틸에틸렌기, 1,1-디메틸에틸렌기, 에틸에틸렌기 등을 들 수 있고, 에틸렌기, 프로필렌기가 바람직하다.

일반식 (21-2)의 h₂로서는 1~3의 정수가 바람직하고, 2가 보다 바람직하다.

일반식 (21-2)의 h₃으로서는 2가 바람직하다.

일반식 (21-3)의 R₅₃에서의 탄소수 1~7의 알킬렌기로서는 구체적으로는 예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기, n-헵틸렌기, 시클로부틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기, 시클로헵틸렌기 등을 들 수 있다.

일반식 (21-3)의 h₄ 및 h₅로는 h₄와 h₅가 동일한 경우가 바람직하며, 또한 1~3의 정수가 바람직하고, 2가 보다 바람직하다.

일반식 (21-4)에서의 A₅로서는 -NHCONH-가 바람직하다.

일반식 (21-4)의 h₆ 및 h₇로서는 h₆과 h₇이 동일한 경우가 바람직하고, 또한 2가 바람직하다.

일반식 (21-5)의 h₈ 및 h₉로서는 h₈과 h₉가 동일한 경우가 바람직하며, 또한 1~4의 정수가 바람직하다.

일반식 (21-1)로 표시되는 기로서는 구체적으로는 예를 들면

-CH₂CH₂-O-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₂-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₃-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₄-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₅-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₆-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₇-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₈-CH₂CH₂-,

-(CH₂CH₂-O)₉-CH₂CH₂-,

-CH₂CH(CH₃)-O-CH₂CH(CH₃)-,

-(CH₂CH(CH₃)-O)₂-CH₂CH(CH₃)-,

-(CH₂CH(CH₃)-O)₃-CH₂CH(CH₃)-,

-(CH₂CH(CH₃)-O)₄-CH₂CH(CH₃)-,

-(CH₂CH(CH₃)-O)₅-CH₂CH(CH₃)-,

-(CH₂CH(CH₃)-O)₆-CH₂CH(CH₃)-,

-CH(CH₃)CH₂-O-CH(CH₃)CH₂-,

-(CH(CH₃)CH₂-O)₂-CH(CH₃)CH₂-,

-(CH(CH₃)CH₂-O)₃-CH(CH₃)CH₂-,

-(CH(CH₃)CH₂-O)₄-CH(CH₃)CH₂-,

-(CH(CH₃)CH₂-O)₅-CH(CH₃)CH₂-,

-(CH(CH₃)CH₂-O)₆-CH(CH₃)CH₂-,

-CH(CH₃)CH₂-O-CH₂CH(CH₃)-

등을 들 수 있다.

일반식 (21-2)로 표시되는 기로서는 구체적으로는 예를 들면

-CH₂-O-CO-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₂-

등을 들 수 있다.

일반식 (21-3)으로 표시되는 기로서는 구체적으로는 예를 들면

-CH₂-O-CO-CH₂-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-CH₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₃-,

-CH₂-O-CO-C₆H₄-CO-O-CH₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-C₆H₄-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CO-C₆H₄-CO-O-(CH₂)₃-,

-CH₂-O-CO-C₆H₁₀-CO-O-CH₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-C₆H₁₀-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CO-C₆H₁₀-CO-O-(CH₂)₃-

등을 들 수 있으며, 그 중에서도

-CH₂-O-CO-CH₂-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-CH₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₃-

가 바람직하며,

-(CH₂)₂-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₂-

가 보다 바람직하고,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-

가 특히 바람직하다.

일반식 (21-4)로 표시되는 기로서는 구체적으로는 예를 들면

-CH₂-NHCO-CH₂-,

-(CH₂)₂-NHCO-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-NHCO-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-NHCO-(CH₂)₄-,

-CH₂-CONH-CH₂-,

-(CH₂)₂-CONH-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-CONH-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-CONH-(CH₂)₄-,

-CH₂-NHCONH-CH₂-,

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-NHCONH-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-NHCONH-(CH₂)₄-,

-(CH₂)₅-NHCONH-(CH₂)₅-,

-(CH₂)₆-NHCONH-(CH₂)₆-,

-(CH₂)₇-NHCONH-(CH₂)₇-,

-(CH₂)₈-NHCONH-(CH₂)₈-,

-(CH₂)₉-NHCONH-(CH₂)₉-,

-(CH₂)₁₀-NHCONH-(CH₂)₁₀-

등을 들 수 있으며, 그 중에서도

-CH₂-NHCONH-CH₂-,

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-NHCONH-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-NHCONH-(CH₂)₄-,

-(CH₂)₅-NHCONH-(CH₂)₅-,

-(CH₂)₆-NHCONH-(CH₂)₆-,

-(CH₂)₇-NHCONH-(CH₂)₇-,

-(CH₂)₈-NHCONH-(CH₂)₈-,

-(CH₂)₉-NHCONH-(CH₂)₉-,

-(CH₂)₁₀-NHCONH-(CH₂)₁₀-

가 바람직하며,

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂-

가 보다 바람직하다.

일반식 (21-5)로 표시되는 기로서는 구체적으로는 예를 들면

-CH₂-O-CONH-CH₂-,

-(CH₂)₂-O-CONH-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CONH-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-O-CONH-(CH₂)₄-

등을 들 수 있다.

일반식 (2)의 A₂에서의 "-O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖고, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기"로서는 예를 들면 하기 일반식 (22-1)~(22-2)로 표시되는 기 등을 들 수 있다.

-R₅₄-(CH₂)_h10- (22-1)

(식 중, R₅₄는 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴렌기를 나타내고, h₁₀은 1~4의 정수를 나타낸다.)

-R₅₅-A₆-(CH₂)_h11- (22-2)

(식 중, R₅₅는 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~7의 알킬렌기 또는 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴렌기를 나타내고, A₆은 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH- 또는 -NHCONH-를 나타내며, h₁₁은 2~4의 정수를 나타낸다.)

일반식 (22-1)의 R₅₄에서의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴렌기로서는 히드록시페닐렌기, 디히드록시페닐렌기, 히드록시나프틸렌기, 디히드록시나프틸렌기 등을 들 수 있다.

일반식 (22-2)의 R₅₅에서의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~7의 알킬렌기로서는 히드록시메틸렌기, 히드록시에틸렌기, 히드록시트리메틸렌기, 히드록시테트라메틸렌기, 히드록시펜타메틸렌기, 히드록시헥사메틸렌기, 히드록시헵틸렌기, 히드록시시클로부틸렌기, 히드록시시클로펜틸렌기, 히드록시시클로헥실렌기, 히드록시시클로헵틸렌기 등을 들 수 있다.

일반식 (22-2)의 R₅₅에서의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴렌기로서는 상기 일반식 (22-1)의 R₅₄에서의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴렌기와 동일한 것을 들 수 있다.

일반식 (22-1)로 표시되는 기의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면

-C₆H₃(OH)-CH₂-, -C₆H₃(OH)-(CH₂)₂-,

-C₆H₃(OH)-(CH₂)₃-, -C₆H₃(OH)-(CH₂)₄-,

-C₆H₂(OH)₂-CH₂-, -C₆H₂(OH)₂-(CH₂)₂-,

-C₆H₂(OH)₂-(CH₂)₃-, -C₆H₂(OH)₂-(CH₂)₄-

등을 들 수 있다.

일반식 (22-2)로 표시되는 기의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면

-CH(OH)-CH₂-O-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-CH₂-O-(CH₂)₃-,

-CH(OH)-CH₂-O-(CH₂)₄-,

-CH(OH)-CH₂-OCO-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-CH₂-OCO-(CH₂)₃-,

-CH(OH)-CH₂-OCO-(CH₂)₄-,

-CH(OH)-CH₂-COO-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-CH₂-COO-(CH₂)₃-,

-CH(OH)-CH₂-COO-(CH₂)₄-,

-CH(OH)-CH₂-NHCO-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-CH₂-NHCO-(CH₂)₃-,

-CH(OH)-CH₂-NHCO-(CH₂)₄-,

-CH(OH)-CH₂-CONH-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-CH₂-CONH-(CH₂)₃-,

-CH(OH)-CH₂-CONH-(CH₂)₄-,

-CH(OH)-CH₂-NHCONH-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-CH₂-NHCONH-(CH₂)₃-,

-CH(OH)-CH₂-NHCONH-(CH₂)₄-

등을 들 수 있다.

일반식 (2)의 A₂에서의 "히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기"로서는 예를 들어 하기 일반식 (23-1)로 표시되는 기 등을 들 수 있다.　

-R₅₆-(CH₂)_h12- (23-1)

(식 중, R₅₆은 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~7의 알킬렌기를 나타내며, h₁₂는 1~4의 정수를 나타낸다.),

일반식 (23-1)의 R₅₆에서의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~7의 알킬렌기로서는 상기 일반식 (22-2)의 R₅₅에서의 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~7의 알킬렌기과 동일한 것을 들 수 있다.

일반식 (23-1)로 표시되는 기로서는 구체적으로는 예를 들면

-C₆H₉(OH)-CH₂-, -C₆H₉(OH)-(CH₂)₂-,

-C₆H₉(OH)-(CH₂)₃-, -C₆H₉(OH)-(CH₂)₄-,

-CH(OH)-CH₂-, -CH(OH)-(CH₂)₂-,

-CH(OH)-(CH₂)₃-, -CH(OH)-(CH₂)₄-

등을 들 수 있다.

일반식 (2)에서의 A₁이 -O-인 경우, 일반식 (2)에서의 A₂로서는 탄소수 1~21의 알킬렌기가 바람직하다. 그 중에서도 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 헥사메틸렌기 등이 바람직하고, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기가 보다 바람직하며, 에틸렌기가 특히 바람직하다.

일반식 (2)에서의 A₁이 일반식 (2-1)로 표시되는 기인 경우, 일반식 (2)에서의 A₂로서는 -O-, -OCO-, -COO-, - NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기가 바람직하다. 그 중에서도, 상기 일반식 (21-3) 및 (21-4)로 표시되는 기가 바람직하고, 보다 구체적으로는

-CH₂-O-CO-CH₂-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-CH₂-,

-CH₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-CH₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₃-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₃-,

-CH₂-NHCONH-CH₂-,

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-NHCONH-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-NHCONH-(CH₂)₄-,

-(CH₂)₅-NHCONH-(CH₂)₅-,

-(CH₂)₆-NHCONH-(CH₂)₆-,

-(CH₂)₇-NHCONH-(CH₂)₇-,

-(CH₂)₈-NHCONH-(CH₂)₈-,

-(CH₂)₉-NHCONH-(CH₂)₉-,

-(CH₂)₁₀-NHCONH-(CH₂)₁₀-

이 바람직하며,

-(CH₂)₂-O-CO-CH₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₃-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₄-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₅-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₆-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₇-CO-O-(CH₂)₂-,

-CH₂-NHCONH-CH₂-,

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-NHCONH-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-NHCONH-(CH₂)₄-,

-(CH₂)₅-NHCONH-(CH₂)₅-,

-(CH₂)₆-NHCONH-(CH₂)₆-,

-(CH₂)₇-NHCONH-(CH₂)₇-,

-(CH₂)₈-NHCONH-(CH₂)₈-,

-(CH₂)₉-NHCONH-(CH₂)₉-,

-(CH₂)₁₀-NHCONH-(CH₂)₁₀-

이 보다 바람직하고,

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂-

가 특히 바람직하다.

일반식 (2)의 A₃ 중의 R₁₀에서의 탄소수 1~12의 알킬기로는 일반식 (2-1)의 R₈ 및 R₉에서의 탄소수 1~12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (2)의 A₃ 중의 R₁₀으로는 수소 원자 및 탄소수 1~4의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다. 구체적으로는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있고, 수소 원자, 메틸기, 에틸기가 바람직하며, 수소 원자가 보다 바람직하다.

일반식 (2)에서의 A₃은 -O-가 바람직하다.

일반식 (2)로 표시되는 기 중에서도 바람직한 구체적인 예로서는 하기 일반식 (2')로 표시되는 기를 들 수 있다.

(식 중, R₇, A₁ 및 A₂는 상기와 같다.)

일반식 (2')로 표시되는 기 중에서도 바람직한 구체적인 예로서는 하기 일반식 (2'a) 및 하기 일반식 (2'b)로 표시되는 기를 들 수 있다.

(식 중, A_2a는 탄소수 1~21의 알킬렌기를 나타내고, R₇은 상기와 같다.)

(식 중, A_2b는 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기를 나타내고, R₇~R₉, A₄, n₂ 및 n₃은 상기와 같다.)

일반식 (2'a)의 A_2a에서의 탄소수 1~21의 알킬렌기로는 상기 일반식 (2)의 A₂에서의 탄소수 1~21의 알킬렌기과 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (2'b)의 A_2b에서의 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기로서는 상기 일반식 (2)의 A₂에서의 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 아릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기와 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (2'a)로 표시되는 기의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 바람직하다.

일반식 (2'b)로 표시되는 기의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (1)의 R₆에서의 탄소수 1~20의 알콕시기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알콕시기와 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1)의 R₆에서의 치환기를 갖는 아미노기는 1~2개, 바람직하게는 2개의 치환기를 갖는다. 당해 치환기로서는 예를 들면, 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기, 탄소수 1~20의 알킬기 등을 들 수 있다.

일반식 (1)의 R₆에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기와 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1)의 R₆에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 1~20의 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1)의 R₆에서의 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기로서는 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기 혹은 탄소수 1~20의 알킬기를 갖는 아미노기 또는 비치환된 아미노기가 바람직하고, 탄소수 1~20의 알킬기를 갖는 아미노기 또는 비치환된 아미노기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 아미노기 또는 비치환된 아미노기가 더욱 바람직하고, 탄소수 1~4의 알킬기를 갖는 아미노기 또는 비치환된 아미노기가 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 아미노기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, N-에틸메틸아미노기, N-에틸프로필아미노기, N-메틸프로필아미노기, N-부틸메틸아미노기, N-부틸에틸아미노기, N-부틸프로필아미노기 등을 들 수 있다.

일반식 (1)의 R₆에서의 복소환식 아미노기로는 5~7원 고리의 복소환식 아미노기를 들 수 있으며, 5원 고리 또는 6원 고리의 복소환식 아미노기가 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 피롤리디노기, 1-피롤릴기, 1-피라졸릴기, 1-이미다졸릴기, 3-옥사졸릴기, 3-티아졸릴기, 피페리디노기, 피페라지노기, 모르폴리노기, 1-피리딜기, 1-피리다지닐기, 1-피리미디닐기, 1-피라지닐기 등을 들 수 있으며, 피롤리디노기, 1-피롤릴기, 피페리디노기, 1-피리딜기가 바람직하고, 피페리디노기가 보다 바람직하다.

일반식 (1)의 R₆으로서는 중합성 불포화기를 갖는 기, 히드록실기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬기를 갖거나 비치환된 아미노기, 및 복소환식 아미노기가 바람직하고, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 갖는 기, 히드록실기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 탄소수 1~6의 알킬기를 갖거나 비치환된 아미노기, 및 5원 고리 또는 6원 고리의 복소환식 아미노기가 보다 바람직하며, 일반식 (2)로 표시되는 기, 히드록실기, 탄소수 1~4의 알콕시기, 탄소수 1~4의 알킬기를 갖거나 비치환된 아미노기, 및 피페리디노기가 더욱 바람직하고, 일반식 (2)로 표시되는 기가 특히 바람직하다.

일반식 (1)에 있어서, 기본 골격 중의 페닐기에 결합하는 하기 일반식 (1-8)로 표시되는 기는 당해 페닐기의 오르토 자리, 메타 자리, 파라 자리 중 어느 것에 위치하고 있어도 좋으며, 오르토 자리가 바람직하다. 구체적으로는 일반식 (1-8)로 표시되는 기가 로다민의 기본 골격 중의 페닐기에 대해, 하기 일반식 (1-9)로 표시되는 화합물과 같이 결합하고 있는 것이 바람직하다.

(식 중, R ₆는 상기와 같다.)

(식 중, n₁개의 R₅, R₆, Y₁, An^-, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

일반식 (1)의 Y₁에 있어서, R₃₂에서의 탄소수 1~6의 알킬기로는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이라도 좋으며, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~6의 알킬기 중에서도, 탄소수 1~4의 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 시클로부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, 2-메틸부틸기, 1,2-디메틸프로필기, 1-에틸프로필기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, sec-헥실기, tert-헥실기, 네오헥실기, 2-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸부틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기가 바람직하며, 메틸기, 에틸기가 보다 바람직하다.

일반식 (1)의 Y₁로는 산소 원자 및 -NR₃₂-가 바람직하고, 산소 원자가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어 산소 원자, 황 원자_, -NCH₃-, -NC₂H₅-, -NC₃H₇- 등을 들 수 있으며, 산소 원자, 황 원자, -NCH₃-가 바람직하고, 산소 원자, -NCH₃-가 보다 바람직하며, 산소 원자가 특히 바람직하다.

일반식 (1-1)의 R₂ 및 R₃에서의 탄소수 1~20의 알킬기로는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1-1)의 R₂ 및 R₃에서의 "치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기"의 탄소수 6~14의 아릴기로는 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있으며, 페닐기가 바람직하다.

일반식 (1-1)의 R₂ 및 R₃에서의 치환기를 갖는 탄소수 6~14의 아릴기는 통상 1~5개, 바람직하게는 1~3개, 보다 바람직하게는 1개의 치환기를 갖는다. 당해 치환기로서는 예를 들면 탄소수 1~20의 알킬기 등을 들 수 있다.

일반식 (1-1)의 R₂ 및 R₃에서의 "치환기를 갖는 탄소수 6~14의 아릴기"의 치환기에서의 탄소수 1~20의 알킬기로는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1-1)의 R₂ 및 R₃에서의 치환기를 갖는 탄소수 6~14의 아릴기로는 탄소수 1~20의 알킬기를 갖는 탄소수 6~14의 아릴기 등을 들 수 있으며, 탄소수 1~20의 알킬기를 갖는 페닐기, 나프틸기 및 안트라세닐기가 바람직하고, 탄소수 1~12의 알킬기를 갖는 페닐기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 페닐기가 더욱 바람직하고, 탄소수 1~3의 알킬기를 갖는 페닐기가 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, o-톨릴기(메틸페닐기), m-톨릴기, p-톨릴기, o-에틸페닐기, m-에틸페닐기, p-에틸페닐기, o-프로필페닐기, m-프로필페닐기, p-프로필페닐기, o-부틸페닐기, m-부틸페닐기, p-부틸페닐기, o-펜틸페닐기, m-펜틸페닐기, p-펜틸페닐기, o-헥실페닐기, m-헥실페닐기, p-헥실페닐기, 2,3-크실릴기(2,3-디메틸페닐기), 2,4-크실릴기, 2,5-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,4-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기(2,4,6-트리메틸페닐기) 등을 들 수 있고, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, p-부틸페닐기, p-펜틸페닐기, p-헥실페닐기, 2,4-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3 5-크실릴기, 메시틸기가 바람직하고, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기가 보다 바람직하다. 또한, 상기 구체적인 예 중에서의 알킬기는 normal-체에 한정되지 않고, sec-체, tert-체, 이소체(iso-체), 네오체(neo-체) 등의 분지형의 것도 모두 포함한다.

일반식 (1-1)의 R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우 및 R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우에 있어서의 탄소수 2~4의 알킬렌기로는 직쇄상 또는 분지상의 어느 것이라도 좋으며, 직쇄상이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 에틸렌기, 트리메틸렌기, 프로필렌기, 1,1-디메틸메틸렌기, 테트라메틸렌기, 1-메틸트리메틸렌기, 2-메틸트리메틸렌기, 1,2-디메틸에틸렌기, 1,1-디메틸에틸렌기, 에틸에틸렌기 등을 들 수 있고, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기가 바람직하며, 트리메틸렌기가 보다 바람직하다.

일반식 (1-1)에 있어서, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우 및/또는 R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우에서의, 일반식 (1-1)로 표시되는 고리 구조의 구체적인 예로는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

(식 중, R₂, R₃, * 및 **은 상기와 같다.)

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 바람직하다.

(식 중, R₂, R₃, * 및 **은 상기와 같다.)

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 보다 바람직하다.

(* 및 **은 상기와 같다.)

일반식 (1-1)의 R₁로는 수소 원자, 및 R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 직쇄 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면 수소 원자, R₁과 R₂로 에틸렌기를 형성하고 있는 것, R₁과 R₂로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것, R₁과 R₂로 테트라메틸렌기를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있고, 수소 원자, R₁과 R₂로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (1-1)의 R₂로는 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 1~6의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기, 및 R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하고, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~3의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기, 및 R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 직쇄 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, p-부틸페닐기, p-펜틸페닐기, p-헥실페닐기, 2,4-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기, R₁과 R₂로 에틸렌기를 형성하고 있는 것, R₁과 R₂로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것, R₁과 R₂로 테트라메틸렌기를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있으며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, R₁과 R₂로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 구체적인 예 중의 알킬기는 normal-체에 한정되지 않고, sec-체, tert-체, 이소체(iso-체), 네오체(neo-체) 등의 분지상의 것도 모두 포함한다.

일반식 (1-1)의 R₃로서는 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 1~6의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기, 및 R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하고, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~3의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기, 및 R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 직쇄 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, p-부틸페닐기, p-펜틸페닐기, p-헥실페닐기, 2,4-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기, R₃과 R₄로 에틸렌기를 형성하고 있는 것, R₃과 R₄로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것, R₃과 R₄로 테트라메틸렌기를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있으며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, R₃과 R₄로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 구체적인 예 중의 알킬기는 normal-체에 한정되지 않고, sec-체, tert-체, 이소체(iso-체), 네오체(neo-체) 등의 분지상의 것도 모두 포함한다.

일반식 (1-1)의 R₄로는 수소 원자, 및 R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 직쇄 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 수소 원자, R₃과 R₄로 에틸렌기를 형성하고 있는 것, R₃과 R₄로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것, R₃과 R₄로 테트라메틸렌기를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있으며, 수소 원자, R₃과 R₄로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (1-2)~(1-7)의 R₃₁에서의 탄소수 1~20의 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (1)의 Ar₁로서는 일반식 (1-1)로 표시되는 고리 구조가 바람직하다.

일반식 (1)에서의 * 및 **은 일반식 (1-1)~(1-7)에서의 * 및 **과 대응하고 있으며, 일반식 (1-1)~(1-7)으로 표시되는 기가, 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 * 및 **로 표시되는 위치에 결합하는 것을 나타내고 있다. 구체적으로는 하기의 구조로 표시된다.

(식 중, R₁~R₆, R₃₁, Y₁, An^-, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

일반식 (1)의 Ar₂로서는 벤젠 고리 및 나프탈렌 고리가 바람직하다.

일반식 (1)의 n₁로서는 Ar₂가 벤젠 고리인 경우, 0~3의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하며, Ar₂가 나프탈렌 고리 및 안트라센 고리인 경우, 0 또는 1이 바람직하고, 0이 보다 바람직하다.

일반식 (1)의 Ar₂가 벤젠 고리인 경우, 일반식 (1)은 하기 일반식 (10-1)~(10-3)으로 표시된다.

(식 중, I~IV는 R₅ 및 R_5-1이 치환가능한 위치를 나타내며, R₅, R₆, Y₁, An^- 및 Ar₁은 상기와 같고, n₅개의 R_5-1은 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며, R_5-2 및 R_5-3은 각각 독립적으로, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기를 나타내고, n₅는 0~4의 정수를 나타내며, n₆은 1~3의 정수를 나타내고, n₇은 0~3의 정수를 나타낸다.)

일반식 (10-1)의 R_5-1에서의 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 및 탄소수 7~20의 아릴알킬기의 구체적인 예는 상기 일반식 (1)에서의 R₅의 그들과 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (10-1)의 R_5-1로서는 할로겐 원자, 탄소수 1~12의 알킬기, 탄소수 1~12의 알콕시기, 탄소수 1~12의 알킬티오기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 및 탄소수 7~20의 아릴알킬기가 바람직하고, 할로겐 원자; 탄소수 1~12의 알킬기; 탄소수 1~12의 알콕시기; 탄소수 1~12의 알킬티오기; 히드록실기; 페닐기; 페녹시기; 및 탄소수 7~12의 페닐알킬기가 보다 바람직하고, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 탄소수 1~6의 알킬티오기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기 및 탄소수 7~9의 페닐알킬기가 더욱 바람직하다. 구체적으로는, 불소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기, 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기가 보다 바람직하고, 불소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 메틸티오기, 에틸티오기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기, 벤질기, 페네틸기, 히드로신나밀기, 쿠밀기가 특히 바람직하다.

일반식 (10-1)의 n₅로는 0~3의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다.

일반식 (10-1)에서의 n₅개의 R_5-1은 벤젠 고리의 I~IV 자리 중 어느 것에 위치하고 있어도 좋으며, n₅가 1인 경우, R_5-1은 II 자리 또는 III 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하고, n₅가 2인 경우, R_5-1은 II 자리 및 III 자리, 또는 II 자리 및 IV 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하며, n₅가 3인 경우, R_5-1은 II 자리, III 자리 및 IV 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (10-2)의 R_5-2 및 일반식 (10-3)의 R_5-3에서의 치환기를 갖는 아미노기로는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기가 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (10-2)의 R_5-2 및 일반식 (10-3)의 R_5-3으로서는 치환기를 갖는 아미노기가 바람직하고, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 또는 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기가 더욱 바람직하다. 구체적으로는 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기가 바람직하고, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기가 보다 바람직하다.

일반식 (10-2)의 n₆로서는 1 또는 2가 바람직하고, 1이 보다 바람직하다.

일반식 (10-2)에서의 n₆개의 R₅는 벤젠 고리의 I 자리, III 자리 또는 IV 자리 중 어느 것에 위치하고 있어도 좋으며, n₆이 1인 경우, R₅는 III 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하고, n₆이 2인 경우, R₅는 III 자리 및 IV 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (10-3)의 n₇로는 0~2의 정수가 바람직하고, 0 또는 1이 보다 바람직하다.

일반식 (10-3)에서의 n₇개의 R₅는 벤젠 고리의 I 자리, II 자리 또는 IV 자리 중 어느 것에 위치하고 있어도 좋으며, n₆이 1인 경우, R₅는 II 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하고, n₆이 2인 경우, R₅는 II 자리 및 IV 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (1)의 Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, 일반식 (1)은 하기 일반식 (10-4)~(10-6)으로 표시된다.

(식 중, I~VI는 R₅가 치환가능한 위치를 나타내며, n₁개의 R₅, R₆, Y₁, An^_, Ar₁ 및 n₁은 상기와 같다.)

일반식 (10-4)에서의 n₁개의 R₅의 위치는 나프탈렌 고리의 I~VI 자리 중 어느 것이어도 좋고, IV 자리 또는 VI 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (10-5)에서의 n₁개의 R₅의 위치는 나프탈렌 고리의 I~VI 자리 중 어느 것이어도 좋으며, III 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (10-6)에서의 n₁개의 R₅의 위치는 나프탈렌 고리의 I~VI 자리 중 어느 것이어도 좋으며, II 자리 또는 IV 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (1)의 Ar₂가 안트라센 고리인 경우, 일반식 (1)은 하기 일반식 (10-7)~(10-9)로 표시된다.

(식 중, I~VIII는 R₅가 치환가능한 위치를 나타내며, n₁개의 R₅, R₆, Y₁, An^-, Ar₁ 및 n₁은 상기와 같다.)

일반식 (10-7)에서의 n₁개의 R₅의 위치는 안트라센 고리의 I~VI 자리 중 어느 것이어도 좋으며, I 자리, V 자리 또는 VI 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (10-8)에서의 n₁개의 R₅의 위치는 안트라센 고리의 I~VI 자리 중 어느 것이어도 좋으며, II 자리, V 자리 또는 VII 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (10-9)에서의 n₁개의 R₅의 위치는 안트라센 고리의 I~VI 자리 중 어느 것이어도 좋으며, IV 자리 또는 V 자리에 위치하고 있는 것이 바람직하다.

일반식 (1)에 있어서, 하기의 구조 (1-10)는 좌우 비대칭 구조이다;

(식 중, n₁개의 R_5, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 ** 는 상기와 같다.)

바꿔 말하면, 일반식 (1)로 표시되는 화합물은 하기 일반식 (1-11)로 표시되는 화합물을 포함하지 않는다;

(식 중, R₁~R₄, R₆, Y₁ 및 An^-는 상기와 동일하며, 2개의 R₁~R₄는 동일하다.)

상기 구조 (1-10)이 좌우 비대칭 구조인 것으로 인해, 본 발명의 소광제는 크산텐계 염료를 비롯한 형광성을 갖는 화합물에 대하여, 그 형광을 충분히 소광할 수 있다는 뛰어난 효과를 나타낸다.

일반식 (1)의 An^-로서는 음이온이면 되며, 구체적으로는 예를 들면, 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온, 할로겐옥소산 음이온 또는 설폰산 음이온(이하, 본 발명에 따른 음이온으로 약칭하는 경우가 있다)을 들 수 있다.

일반식 (1)의 An^-로 표시되는 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기 또는 할로겐화 알킬기를 포함하는 음이온에서의 음이온 부분으로서는 예를 들면 설폰산 음이온, 질소 음이온(N^-), 4급 붕소 음이온, 질산 이온, 인산 이온 등을 들 수 있으며, 설폰산 음이온, 질소 음이온, 4급 붕소 음이온이 바람직하고, 4급 붕소 음이온이 보다 바람직하다.

일반식 (1)의 An^-로 표시되는 할로게노기를 포함하는 음이온에서의 음이온 부분으로서는 예를 들어, 4급 붕소 음이온, 인 음이온, 안티몬 음이온 등을 들 수 있으며, 인 음이온, 안티몬 음이온이 바람직하고, 안티몬 음이온이 보다 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기 또는 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기에서의 전자흡인성 치환기로서는 예를 들면, 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로게노기, 니트로기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로게노기가 바람직하며, 할로게노기가 특히 바람직하다.

상기 전자흡인성 치환기인 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기로서는 예를 들면 클로로메틸기, 트리클로로메틸기, 2-클로로에틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 펜타클로로에틸기, 2-클로로프로필기, 3-클로로프로필기, 2-클로로-2-프로필기, 헵타클로로프로필기 등의 클로로알킬기; 브로모메틸기, 트리브로모메틸기, 2-브로모에틸기, 2,2,2-트리브로모에틸기, 펜타브로모에틸기, 2-브로모프로필기, 3-브로모프로필기, 2-브로모-2-프로필기, 헵타브로모프로필기 등의 브로모알킬기; 요오드메틸기, 트리요오드메틸기, 2-요오드에틸기, 2,2,2-트리요오드에틸기, 펜타요오드에틸기, 2-요오드프로필기, 3-요오드프로필기, 2-요오드-2-프로필기, 헵타요오드프로필기 등의 요오드알킬기; 플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 3-플루오로프로필기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 헵타플루오로프로필기 등의 플루오로알킬기를 들 수 있다. 이 중에서도, 트리클로로메틸기, 펜타클로로에틸기, 헵타클로로프로필기, 트리브로모메틸기, 펜타브로모에틸기, 헵타브로모프로필기, 트리요오드메틸기, 펜타요오드에틸기, 헵타요오드프로필기, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기 등의 퍼할로게노알킬기가 바람직하고, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기 등의 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하고, 트리플루오로메틸기가 특히 바람직하다.

상기 전자흡인성 치환기인 할로게노기로서는 플루오로기, 클로로기, 브로모기, 요오드기를 들 수 있으며, 플루오로기가 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기 중의 전자흡인성 치환기는 상기 구체적인 예 중에서도, 전자흡인력이 강한 것이 바람직하고, 트리플루오로메틸기, 플루오로기, 니트로기가 바람직하며, 플루오로기가 보다 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기 중의 전자흡인성 치환기는 상기 구체적인 예 중에서도, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 플루오로기가 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기 중의 아릴기로서는 예를 들면 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있으며, 페닐기가 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기 일반식 (11) 및 (12)로 표시되는 것을 들 수 있다.

(식 중, m은 1~5의 정수를 나타내고, m개의 R₄₁은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타낸다.)

(식 중, k는 1~7의 정수를 나타내고, R₄₁은 상기와 같다. k개의 R₄₁은 동일하거나 다를 수 있다.)

일반식 (11)에서의 m은 통상 1~5의 정수인데, R₄₁이 할로겐 원자인 경우에는 2~5가 바람직하고, 3~5가 보다 바람직하며, 5가 더욱 바람직하다. R₄₁이 니트로기인 경우에는 1~3이 바람직하고, 1이 보다 바람직하다. R₄₁이 할로겐화 알킬기인 경우에는 1~5가 바람직하고, 1~3이 보다 바람직하다.

일반식 (12)에서의 k는 통상 1~7의 정수인데, R₄₁이 할로겐 원자인 경우에는 2~7이 바람직하다. R₄₁이 니트로기인 경우에는 1~3이 바람직하고, 1이 보다 바람직하다. R₄₁이 할로겐화 알킬기인 경우에는 1~7이 바람직하고, 1~3이 보다 바람직하다.

일반식 (11) 및 일반식 (12)에서의 R₄₁의 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기는 상기 본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기인 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (11) 및 일반식 (12)에서의 R₄₁의 할로겐 원자는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (11) 및 일반식 (12)에서의 R₄₁의 바람직한 구체적인 예는 상기의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기 중의 전자흡인성 치환기의 바람직한 것과 동일하다.

일반식 (11)로 표시되는 기는 구체적으로는 예를 들면, 트리플루오로메틸페닐기, 디(트리플루오로메틸)페닐기, 트리(트리플루오로메틸)페닐기, 모노플루오로페닐기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 퍼플루오로페닐기, 모노클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 퍼클로로페닐기, 모노브로모페닐기, 디브로모페닐기, 트리브로모페닐기, 퍼브로모페닐기, 모노요오드페닐기, 디요오드페닐기, 트리요오드페닐기, 퍼요오드페닐기, 니트로페닐기, 디니트로페닐기, 트리니트로페닐기 등을 들 수 있고, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 퍼플루오로페닐기 등이 바람직하며, 퍼플루오로페닐기가 보다 바람직하다.

일반식 (12)로 표시되는 기는 구체적으로는 예를 들면, 트리플루오로메틸나프틸기, 디(트리플루오로메틸)나프틸기, 트리(트리플루오로메틸)나프틸기, 모노플루오로나프틸기, 디플루오로나프틸기, 트리플루오로나프틸기, 퍼플루오로나프틸기, 모노클로로나프틸기, 디클로로나프틸기, 트리클로로나프틸기, 퍼클로로나프틸기, 모노브로모나프틸기, 디브로모나프틸기, 트리브로모나프틸기, 퍼브로모나프틸기, 모노요오드나프틸기, 디요오드나프틸기, 트리요오드나프틸기, 퍼요오드나프틸기, 니트로나프틸기, 디니트로나프틸기, 트리니트로나프틸기 등을 들 수 있다.

본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기는 상기 구체적인 예 중에서도, 일반식 (11)로 표시되는 기가 바람직하며, 구체적으로는 트리플루오로메틸페닐기, 니트로페닐기, 디니트로페닐기, 트리니트로페닐기, 모노플루오로페닐기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 퍼플루오로페닐기가 바람직하고, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 니트로페닐기, 퍼플루오로페닐기가 보다 바람직하며, 퍼플루오로페닐기가 더욱 특히 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기로서는 예를 들어 -SO₂-CF₃, -SO₂-C₂F₅, -SO₂-C₃F₇, -SO₂-F, -SO₂-Cl, -SO₂-Br, -SO₂-I 등을 들 수 있다.

본 발명에 따른 음이온에서의 할로겐화 알킬기로서는 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기를 들 수 있고, 그 중에서도 퍼할로겐화 알킬기가 바람직하며, 구체적으로는 예를 들면, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기, 트리클로로메틸기, 펜타클로로에틸기, 헵타클로로프로필기, 트리브로모메틸기, 펜타브로모에틸기, 헵타브로모프로필기, 트리요오드메틸기, 펜타요오드에틸기, 헵타요오드프로필기 등을 들 수 있고, 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로프로필기가 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 할로게노기로서는 플루오로기, 클로로기, 브로모기, 요오드기를 들 수 있으며, 플루오로기가 바람직하다.

본 발명에 따른 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온으로는 구체적으로는 예를 들면 하기 일반식 (13)~(19)로 표시되는 것을 들 수 있다.

(식 중, R₄₁ 및 m은 상기와 같다. m개의 R₄₁은 동일하거나 다를 수 있다.)

(식 중, R₄₁ 및 k는 상기와 같다. k개의 R₄₁은 동일하거나 다를 수 있다.)

(식 중, R₄₁ 및 k는 상기와 같다. k개의 R₄₁은 동일하거나 다를 수 있다.)

(식 중, R₄₂~R₄₅는 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타내며, m₂~m₅는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타낸다. m₂개의 R₄₂, m₃개의 R₄₃, m₄개의 R₄₄ 및 m₅개의 R₄₅는 각각 동일하거나 다를 수 있다.)

(식 중, 4개의 R₄₆은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.)

(식 중, R₄₇ 및 R₄₈은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R₄₇과 R₄₈로 탄소수 2~3의 할로겐화 알킬렌기를 형성하여도 좋다.)

(식 중, R₄₉는 인 원자 또는 안티몬 원자를 나타내며, 6개의 X는 모두 동일한 할로겐 원자를 나타낸다.)

일반식 (13)에 있어서의 R₄₁ 및 m의 조합으로서는 예를 들면 하기 표에 기재된 것을 들 수 있다. 또한, 당해 m개의 R₄₁은 각각 독립적인 것이지만, 동일한 경우가 바람직하다.

일반식 (13)으로 표시되는 음이온의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (14) 및 (15)에 있어서의 R₄₁ 및 k의 조합으로서는 예를 들면 하기 표에 기재된 것을 들 수 있다. 또한, 당해 k개의 R₄₁은 각각 독립적인 것이지만, 동일한 경우가 바람직하다.

일반식 (14) 및 (15)로 표시되는 음이온의 바람직한 구체적인 예로는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (16)의 R₄₂~R₄₅에서의 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기로는 본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기인 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (16)의 R₄₂~R₄₅에서의 할로겐 원자로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (16)에서의 R₄₂~R₄₅ 및 m₂~m₅의 조합으로는 예를 들면 하기의 표에 기재된 것을 들 수 있다.

일반식 (16)으로 표시되는 음이온의 바람직한 구체적인 예로는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

상기의 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 보다 바람직하다.

상기의 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 특히 바람직하다.

일반식 (17)의 R₄₆에서의 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기로서는 본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기인 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (17)의 R₄₆에서의 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (17)로 표시되는 음이온의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면 BF₄ ^-, CF₃BF₃ ^-, C₂F₅BF₃ ^-, C₃F₇BF₃ ^-, (CF₃)₄B^-, (C₂F₅)₄B^-, (C₃F₇)₄B^- 등을 들 수 있다.

일반식 (18)의 R₄₇ 및 R₄₈에서의 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기로서는 본 발명에 따른 음이온에서의 전자흡인성 치환기인 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기와 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (18)의 R₄₇ 및 R₄₈에서의 할로겐 원자로는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (18)의 R₄₇과 R₄₈로 형성되는 탄소수 2~3의 할로겐화 알킬렌기로서는 예를 들면 테트라플루오로에틸렌기, 헥사플루오로프로필렌기 등을 들 수 있으며, 헥사플루오로프로필렌기가 바람직하다.

일반식 (18)로 표시되는 음이온의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (19)의 R₄₉로서는 안티몬 원자가 바람직하다.

일반식 (19)의 X에서의 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (19)로 표시되는 음이온의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들어 하기의 것을 들 수 있다.

본 발명에 따른 음이온에서의 할로겐옥소산 음이온의 구체적인 예로서는 예를 들면, 차아염소산 음이온, 아염소산 음이온, 염소산 음이온, 과염소산 음이온 등을 들 수 있으며, 과염소산 음이온이 바람직하다.

본 발명에 따른 음이온에서의 설폰산 음이온의 구체적인 예로서는 예를 들면 메탄설폰산 음이온 등의 탄소수 1~20의 알킬설폰산 음이온; 트리플루오로메탄설폰산 음이온 등의 탄소수 1~20의 할로겐화알킬설폰산 음이온; 벤젠설폰산 음이온, 톨루엔설폰산 음이온 등의 치환기를 가지고 있거나 비치환된 벤젠설폰산 음이온 등을 들 수 있다.

일반식 (1)의 An^-로 표시되는 음이온으로는 본 발명에 따른 음이온이 바람직하고, 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온이 보다 바람직하고, 구체적으로는 일반식 (16)~(19)로 표시되는 것이 바람직하며, 일반식 (16), 일반식 (18) 및 일반식 (19)로 표시되는 것이 보다 바람직하고, 일반식 (16) 및 일반식 (18)로 표시되는 것이 더욱 바람직하며, 일반식 (16)으로 표시되는 것이 특히 바람직하다.

일반식 (1)의 An^-로 표시되는 음이온은 상기 구체적인 예 중에서도 하기의 것이 바람직하다.

구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 보다 바람직하다.

구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 더욱 바람직하다.

구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 특히 바람직하다.

본 발명의 소광제의 바람직한 구체적인 예로서는, 하기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물로 이루어진 것을 들 수 있다.

{식 중, R₆'는 중합성 불포화기를 갖는 기를 나타내고, n₁개의 R_5, Y₁, An^-, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다. 단, 일반식 (3)에서의 하기의 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;

(식 중, n ₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다).}

일반식 (3)의 R₆'에서의 중합성 불포화기를 갖는 기로서는 상기 일반식 (1)의 R₆에서의 중합성 불포화기를 갖는 기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3)의 Ar₂가 벤젠 고리인 경우, 일반식 (3)은 하기 일반식 (30-1)~(30-3)으로 표시된다.

(식 중, R₅, R_5-1, R_5-2, R_5-3, R₆', Y₁, An^-, Ar₁, n₅, n₆, n₇, * 및 **은 상기와 같다.)

일반식 (3)의 Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, 일반식 (3)은 하기 일반식 (30-4)~(30-6)으로 표시된다.

(식 중, R₅, R₆', Y₁, An^-, Ar₁, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

일반식 (3)의 Ar₂가 안트라센 고리인 경우, 일반식 (3)은 하기 일반식 (30-7)~(30-9)로 표시된다.

(식 중, R₅, R₆', Y₁, An^-, Ar₁, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

일반식 (3)으로 표시되는 화합물로 이루어진 소광제는 형광성을 갖는 화합물에 대한 소광효과뿐만 아니라, 가열에 의한 퇴색이 적고, 높은 내열효과를 나타낸다. 또한, 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 폴리머로 이루어진 소광제는 높은 내용출성 및 내후성을 갖는다.

일반식 (3)으로 표시되는 화합물 중에서도 바람직한 구체적인 예로서는 하기 일반 식 (3-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

{식 중, An'^-는 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온을 나타내고, n₁개의 R₅, R₇, Y₁, A₁, A₂, A₃, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다. 단, 일반식 (3-1)에서의 하기의 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;

(식 중, n₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)}

일반식 (3-1)의 An'^-에서의 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온으로서는 상기 일반식 (1)에서의 본 발명에 따른 음이온의 그들과 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-1)로 표시되는 화합물 중에서도 바람직한 구체적인 예로서는 하기 일반식 (3-2a)~(3-2c)로 표시되는 화합물을 들 수 있으며, 일반식 (3-2a)로 표시되는 화합물이 보다 바람직하다.

{식 중, R₁~R₅, R₇, Y₁, An'^-, A₁, A_2, A₃, Ar₂ 및 n₁는 상기와 같다. 단, 일반식 (3-2a)에서의 하기의 구조 (1-12)는 비대칭 구조이다;

(식 중, R₁~R₅, Y₁, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.).}

(식 중, R₅, R₇, R₃₁, Y₁, An'^-, A₁, A₂, A₃, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

(식 중, R₅, R₇, R₃₁, Y₁, An'^-, A₁, A₂, A₃, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

일반식 (3-2a)에 있어서, 하기의 구조 (1-12)는 좌우 비대칭 구조이다;

(식 중, R₁~R₅, Y₁, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

바꿔 말하면, 일반식 (3-2a)로 표시되는 화합물은 하기 일반식 (1-13)으로 표시되는 화합물을 포함하지 않는다;

(식 중, R₁~R₄, R₇, Y₁, An'^-, A₁, A₂ 및 A₃은 상기와 같으며, 2개의 R₁~R₄는 동일하다.)

일반식 (3-2a)로 표시되는 화합물 중에서도 바람직한 구체적인 예로서는 하기 일반식 (3-3a) 및 일반식 (3-3b)로 표시되는 화합물을 들 수 있으며, 일반식 (3-3a)로 표시되는 화합물이 보다 바람직하다.

{식 중, R₂' 및 R₃'는 탄소수 1~12의 알킬기 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기를 나타내고, R₁과 R₂'로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃'와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋고, R₅'는 할로겐 원자; 탄소수 1~12의 알킬기; 탄소수 1~12의 알콕시기; 탄소수 1~12의 알킬티오기; 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 또는 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기; 히드록실기; 탄소수 6~14의 아릴기; 탄소수 6~14의 아릴옥시기; 및 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고, An"^-는 상술의 일반식 (16)~(19)로 표시되는 음이온을 나타내며, R₁, R₄, R₇, A_2a, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다. 단, 일반식 (3-3a)에서의 하기 구조 (1-14)는 비대칭 구조이다;

(식 중, R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.).}

{식 중, R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', R₇~R₉, An"^-, A_2b, A₄, Ar₂ 및 n₁~n₃은 상기와 같다. 단, 일반식 (3-3b)에서의 하기 구조 (1-14)는 비대칭 구조이다;

(식 중, R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.).}

일반식 (3-3a)의 R₂' 및 R₃'에서의 탄소수 1~12의 알킬기로서는 상기 일반식 (2-1)의 R₈ 및 R₉에서의 탄소수 1~12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)의 R₂' 및 R₃'에서의 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 페닐기는 통상 1~5개, 바람직하게는 1~3개, 보다 바람직하게는 1개의 알킬기를 갖는다. 당해 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₃₂에서의 탄소수 1~6의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)의 R₂' 및 R₃'에서의 탄소수 1~6의 알킬기를 갖는 페닐기로서는 탄소수 1~3의 알킬기를 갖는 페닐기가 특히 바람직하며, 구체적으로 예를 들면, o-톨릴기(메틸페닐기), m-톨릴기, p-톨릴기, o-에틸페닐기, m-에틸페닐기, p-에틸페닐기, o-프로필페닐기, m-프로필페닐기, p-프로필페닐기, o-부틸페닐기, m-부틸페닐기, p-부틸페닐기, o-펜틸페닐기, m-펜틸페닐기, p-펜틸페닐기, o-헥실페닐기, m-헥실페닐기, p-헥실페닐기, 2,3-크실릴기(2,3-디메틸페닐기), 2,4-크실릴기, 2,5-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,4-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기(2,4,6-트리메틸페닐기) 등을 들 수 있고, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, p-부틸페닐기, p-펜틸페닐기, p-헥실페닐기, 2,4-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기가 바람직하며, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기가 보다 바람직하다. 또한, 상기 구체적인 예 중의 알킬기는 normal-체에 한정되지 않고, sec-체, tert-체, 이소체(iso-체), 네오체(neo-체) 등의 분지상의 것도 모두 포함한다.

일반식 (3-3a)의 R₁과 R₂'로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우 및 R₃'와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우에서의 탄소수 2~4의 알킬렌기로서는, 상기 일반식 (1-1)의 R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우 및 R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우에서의 탄소수 2~4의 알킬렌기과 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)에 있어서, R₁과 R₂'로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우 및/또는 R₃'와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있는 경우의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

(식 중, R₂', R₃', R₅', R₇, An"^-, A_2a, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 바람직하다.

(식 중, R₂', R₃', R₅', R₇, An"^-, A_2a, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 보다 바람직하다.

(식 중, R₅', R₇, An"^-, A_2a, Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

일반식 (3-3a)의 R₂'로서는 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~3의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기, 및 R₁과 R₂'로 탄소수 2~4의 직쇄 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, p-부틸페닐기, p-펜틸페닐기, p-헥실페닐기, 2,4-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기, R₁과 R₂'로 에틸렌기를 형성하고 있는 것, R₁과 R₂'로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것, R₁과 R₂'로 테트라메틸렌기를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있으며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, R₁과 R₂'로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 구체적인 예 중의 알킬기는 normal-체에 한정되지 않고, sec-체, tert-체, 이소체(iso-체), 네오체(neo-체) 등의 분지상의 것도 모두 포함한다.

일반식 (3-3a)의 R₃'로서는 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~3의 알킬기를 갖거나 비치환된 페닐기, 및 R₃'와 R₄로 탄소수 2~4의 직쇄 알킬렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, p-부틸페닐기, p-펜틸페닐기, p-헥실페닐기, 2,4-크실릴기, 2,6-크실릴기, 3,5-크실릴기, 메시틸기, R₃'와 R₄로 에틸렌기를 형성하고 있는 것, R₃'와 R₄로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것, R₃'와 R₄로 테트라메틸렌기를 형성하고 있는 것 등을 들 수 있으며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 페닐기, p-톨릴기, p-에틸페닐기, p-프로필페닐기, R₃'와 R₄로 트리메틸렌기를 형성하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상기 구체적인 예 중의 알킬기는 normal-체에 한정되지 않고, sec-체, tert-체, 이소체(iso-체), 네오체(neo-체) 등의 분지상의 것도 모두 포함한다.

일반식 (3-3a)의 R₅'에서의 할로겐 원자로서는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 불소 원자가 바람직하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'에서의 탄소수 1~12의 알킬기로서는 상기 일반식 (2-1)의 R₈ 및 R₉에서의 탄소수 1~12의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'에서의 탄소수 1~12의 알콕시기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~6의 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1~4의 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, sec-펜틸옥시기, tert-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 2-메틸부톡시기, 1,2-디메틸프로폭시기, 1-에틸프로폭시기, n-헥실옥시기, 이소헥실옥시기, sec-헥실옥시기, tert-헥실옥시기, 네오헥실옥시기, 2-메틸펜틸옥시기, 1,2-디메틸부톡시기, 2,3-디메틸부톡시기, 1-에틸부톡시기가 바람직하고, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기가 보다 바람직하며, 메톡시기, 에톡시기가 더욱 바람직하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'에서의 탄소수 1~12의 알킬티오기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋으며, 그 중에서도 직쇄상 및 분지상이 바람직하다. 또한, 탄소수 1~6의 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1~4의 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, n-펜틸티오기, 이소펜틸티오기, sec-펜틸티오기, tert-펜틸티오기, 네오펜틸티오기, 2-메틸부틸티오기, 1,2-디메틸프로필티오기, 1-에틸프로필티오기, n-헥실티오기, 이소헥실티오기, sec-헥실티오기, tert-헥실티오기, 네오헥실티오기, 2-메틸펜틸티오기, 1,2-디메틸부틸티오기, 2,3-디메틸부틸티오기, 1-에틸부틸티오기가 바람직하고, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기가 보다 바람직하고, 메틸티오기, 에틸티오기가 더욱 바람직하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'의 "할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 또는 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기"에서의 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 및 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기의 구체적인 예는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 "치환기를 갖는 아미노기"의 그들과 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'에서의 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기 또는 탄소수 7~13의 아릴알킬기를 갖는 아미노기로서는 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기가 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, n-펜틸아미노기, 이소펜틸아미노기, n-헥실아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 페네틸아미노기, 히드로신나밀아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디-n-펜틸아미노기, 디이소펜틸아미노기, 디-n-헥실아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기, 디페네틸아미노기, 비스(히드로신나밀)아미노기 등을 들 수 있으며, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기가 바람직하고, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기가 보다 바람직하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'의 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 및 탄소수 7~20의 아릴알킬기의 구체적인 예는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 그들과 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)의 R₅'로서는 할로겐 원자; 탄소수 1~12의 알킬기; 탄소수 1~12의 알콕시기; 탄소수 1~12의 알킬티오기; 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기; 히드록실기; 페닐기; 페녹시기; 및 탄소수 7~12의 페닐알킬기가 바람직하고, 할로겐 원자; 탄소수 1~6의 알킬기; 탄소수 1~6의 알콕시기; 탄소수 1~6의 알킬티오기; 탄소수 1~6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7~9의 페닐알킬기를 갖는 아미노기; 히드록실기; 페닐기; 페녹시기; 및 탄소수 7~9의 페닐알킬기가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 불소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, 이소프로필티오기, n-부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, n-프로필아미노기, 이소프로필아미노기, n-부틸아미노기, 이소부틸아미노기, sec-부틸아미노기, tert-부틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디-n-프로필아미노기, 디이소프로필아미노기, 디-n-부틸아미노기, 디이소부틸아미노기, 디-sec-부틸아미노기, 디-tert-부틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기, 벤질기, 페네틸기, 1-페닐에틸기, 히드로신나밀기, 2-페닐프로필기, 1-페닐프로필기, 쿠밀기가 바람직하고, 불소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 메틸티오기, 에틸티오기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기, 히드록실기, 페닐기, 페녹시기, 벤질기, 페네틸기, 히드로신나밀기, 쿠밀기가 보다 바람직하다.

일반식 (3-3a) 및 일반식 (3-3b)에 있어서, 하기의 구조 (1-14)는 좌우 비대칭 구조이다;

(식 중, R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', Ar₂ 및 n₁은 상기와 같다.)

바꿔 말하면, 일반식 (3-3a)로 표시되는 화합물은 하기 일반식 (1-15)로 표시되는 화합물을 포함하지 않는다;

(식 중, R₁, R₂', R₃', R₄, R₇, An"^- 및 A_2a는 상기와 같으며, 2개의 R₁, R₂', R₃' 및 R₄는 동일하다.)

또한, 일반식 (3-3b)로 표시되는 화합물은 하기 일반식 (1-16)으로 표시되는 화합물을 포함하지 않는다;

(식 중, R₁, R₂', R₃', R₄, R₇~R₉, An"^-, A_2b, A₄ 및 n₁~n₃은 상기와 같다. 2개의 R₁, R₂', R₃' 및 R₄는 동일하다.)

일반식 (3-3a)의 An"^-에서의 일반식 (16)~(19)로 표시되는 음이온으로서는 상기 일반식 (1)의 An^-에서의 일반식 (16)~(19)로 표시되는 음이온과 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (3-3a)의 An"^-로 표시되는 음이온으로서는 일반식 (16), 일반식 (18) 및 일반식 (19)로 표시되는 것이 바람직하고, 일반식 (16) 및 일반식 (18)로 표시되는 것이 보다 바람직하며, 일반식 (16)으로 표시되는 것이 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 하기의 것이 바람직하다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 보다 바람직하다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 더욱 바람직하다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 특히 바람직하다.

일반식 (3-3a)에서의 R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', R₇, A_2a, Ar₂ 및 n₁의 바람직한 조합으로서는 예를 들면 하기 표에 기재된 것을 들 수 있다. 또한, R₂'란 및 R₃'란에서의 "알킬기군 A", 및, R₅'란에서의 "알킬기군 B", "알콕시기군", "알킬티오기군", 및 "치환 아미노기군"은 각각 하기의 치환기로 이루어진 군을 나타낸다.

알킬기군 A; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기기, n-헥실기

알킬기군 B; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기

알콕시기군; 메톡시기, 에톡시기

알킬티오기군; 메틸티오기, 에틸티오기

치환 아미노기군; 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기

일반식 (3-3b)에 있어서, R₈, R₉ 및 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-으로 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우, R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', R₇~R₉, A_2b, A₄, Ar₂ 및 n₁~n₃의 바람직한 조합으로서는 예를 들면 하기 표에 기재된 것을 들 수 있다. 또한, A_2b란에서의 식 (P) 및 (Q)는 하기의 식으로 표시되는 기를 나타낸다. 또한, R₂'란에서의 "알킬기군 A", R₅'란에서의 "알킬기군 B", "알콕시기군", "알킬티오기군" 및 "치환 아미노기군"은 상기와 같다.

-(CH₂)₂-O-CO-(CH₂)₂-CO-O-(CH₂)₂- (P)

-(CH₂)₂-NHCONH-(CH₂)₂- (Q)

일반식 (3-3b)에 있어서, R₈, R₉ 및 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-으로 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있는 경우, R₁, R₂', R₃', R₄, R₅', R₇~R₉, A_2b, A₄, Ar₂ 및 n₁~n₃의 바람직한 조합으로서는 예를 들면 하기 표에 기재된 것을 들 수 있다. 또한, R₂'란에서의 "알킬기군 A", R₅'란에서의 "알킬기군 B", "알콕시기군", "알킬티오기군" 및 "치환 아미노기군"은 상기와 같다.

또한, 상기 표에 기재된 조합과 함께 사용되는 An"^-로서는 하기의 것을 들 수 있다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 바람직하다.

본 발명의 소광제는 형광성을 갖는 화합물이 발하는 형광을 소광할 수 있는 것이다.

본 발명의 소광제가 소광하는 대상(이하, 소광대상화합물로 약칭하는 경우가 있다)은 형광성을 갖는 화합물이면 좋고, 구체적으로는, 예를 들면 안트라센 골격을 갖는 화합물, 크산텐 골격을 갖는 화합물, 쿠마린 골격을 갖는 화합물, 스틸벤 골격을 갖는 화합물, 나프탈이미드 골격을 갖는 화합물, 페릴렌 골격을 갖는 화합물, 피리딘 골격을 갖는 화합물, 옥사진 골격을 갖는 화합물, 시아닌 골격을 갖는 화합물, 올레핀 골격을 갖는 화합물, 아졸 골격을 갖는 화합물, 티아진계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 안트라퀴논계 색소, 아크리돈계 색소, 퀴나크리돈계 색소, 이소인돌리논계 색소, 티오플라빈계 색소, 티오인디고계 색소, 플루오렌계 색소, 아조계 색소, 디- 및 트리페닐메탄계 색소, 터페닐계 색소, 크리센계 색소, 피렌계 색소 등의 형광성을 갖는 화합물을 들 수 있다.

상기 안트라센 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 안트라센, 9,10-비스(페닐에티닐)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(페닐에티닐)안트라센 등의 안트라센계 색소 등을 들 수 있다.

상기 크산텐 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 로다민 B, 로다민 6G, 로다민 3B, 로다민 101, 로다민 110, 베이직 바이올렛 11, 설포로다민 101, 베이직 바이올렛 11, 베이직 레드 2 등의 로다민계 색소; 예를 들면 에오신 Y, 에오신 B 등의 에오신계 색소; 예를 들면 플루오레세인, 플루오레세인 이소티오시아네이트 등의 플루오레세인계 색소 등을 들 수 있다.

상기 쿠마린 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 쿠마린 6, 쿠마린 7, 쿠마린 153, 쿠마린 314, 쿠마린 334, 쿠마린 545, 쿠마린 545T, 쿠마린 545P, 7-히드록시-4-메틸쿠마린 등의 쿠마린계 색소 등을 들 수 있다.

상기 스틸벤 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 1,4-비스(2-메틸스티릴) 벤젠, 트랜스-4,4'-디페닐스틸벤젠 등의 스틸벤계 색소 등을 들 수 있다.

상기 나프탈이미드 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 베이직 옐로우 51, 솔벤트 옐로우 11, 솔벤트 옐로우 98, 솔벤트 옐로우 116, 솔벤트 옐로우 43, 솔벤트 옐로우 44 등의 나프탈이미드계 색소 등을 들 수 있다.

상기 페릴렌 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 페릴렌, 루모겐 옐로우, 루모겐 그린, 루모겐 오렌지, 루모겐 핑크, 루모겐 레드, 솔벤트 오렌지 5, 솔벤트 그린 5 등의 페릴렌계 색소 등을 들 수 있다.

상기 피리딘 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 1-에틸-2-[4-(p-디메틸아미노페닐)-1,3-부타디에닐]-피리디늄-퍼클로레이트(피리딘 1) 등의 피리딘계 색소, 아크리딘계 색소 등을 들 수 있다.

상기 옥사진 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 아세트산 크레실 바이올렛 등의 옥사진계 색소, 디옥사진계 색소 등을 들 수 있다.

상기 시아닌 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 4-디시아노메틸렌-2-메틸-6-(p-디메틸아미노스티릴)-4H-피란 등의 시아닌계 색소 등을 들 수 있다.

상기 올레핀 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 에텐계 색소, 부타디엔계 색소, 헥사트리엔계 색소 등을 들 수 있다.

상기 아졸 골격을 갖는 화합물로서는 예를 들면 옥사졸계 색소, 티아졸계 색소 등을 들 수 있다.

상기 소광대상화합물 중에서도, 안트라센 골격, 크산텐 골격, 쿠마린 골격 또는 옥사진 골격을 갖는 화합물이 바람직하고, 크산텐 골격을 갖는 화합물이 보다 바람직하며, 로다민계 색소가 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면, 안트라센, 9,10-비스(페닐에티닐)안트라센, 1-클로로-9,10-비스(페닐에티닐)안트라센, 로다민 B, 로다민 6G, 로다민 3B, 로다민 101, 로다민 110, 설포 로다민, 베이직 바이올렛 11, 베이직 레드 2, 에오신 Y, 에오신 B, 플루오레세인, 플루오레세인 이소티오시아네이트, 쿠마린 6, 쿠마린 7, 쿠마린 153, 쿠마린 314, 쿠마린 334, 쿠마린 545, 쿠마린 545T, 쿠마린 545P, 7-히드록시-4-메틸쿠마린이 바람직하고, 로다민 B, 로다민 6G, 로다민 3B, 로다민 101, 로다민 110, 설포 로다민, 베이직 바이올렛 11, 베이직 레드 2, 에오신 Y, 에오신 B, 플루오레세인, 플루오레세인 이소티오시아네이트가 보다 바람직하고, 로다민 B, 로다민 6G, 로다민 3B, 로다민 101, 로다민 110, 설포 로다민, 베이직 바이올렛 11, 베이직 레드 2가 특히 바람직하다.

또한, 상기 소광대상화합물에는 중합성기를 갖는 상기 소광대상화합물, 즉, 형광성을 가지고 있으며, 또한, 중합성 불포화기를 갖는 모노머(이하, 중합성 소광대상화합물로 약칭하는 경우가 있다), 및 그 폴리머도 포함된다.

상기 중합성 소광대상화합물에서의 중합성 불포화기로서는 예를 들면 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐아릴기, 비닐옥시기, 알릴기 등을 들 수 있다.

상기 중합성 소광대상화합물의 폴리머란, 중합성 소광대상화합물 유래의 모노머 단위를 구성성분으로 하여, 형광성을 갖는 것이다.

중합성 소광대상화합물 또는 그 폴리머의 구체적인 예로서는 예를 들면, 일본 특허공개 평05-271567호 공보, 일본 특허공개 평09-272814호 공보, 일본 특허공개 2001-011336호 공보, 일본 특허공개 2013-045088호 공보, WO 2014/126167 공보, WO 2015/098999 공보, WO 2015/133578 공보, WO 2015/147285 공보, WO 2015/182680 공보 등에 기재된 것이어도 좋고, 시판되는 것이어도 좋다.

소광대상화합물로서는 중합성 소광대상화합물 또는 그 폴리머가 바람직하며, 중합성 소광대상화합물이 보다 바람직하다.

본 발명의 소광제를 사용하여 소광대상화합물이 발하는 형광을 소광하기 위해서는, 예를 들면, 본 발명의 소광제를 통상 이 분야에서 사용되는 용매 중에서, 소광대상화합물의 mol수에 대하여 통상 0.5~300당량, 바람직하게는 100~200당량 사용하면 된다. 이 소광반응에서의 용매의 사용량, 온도, 압력 등의 반응조건은 유기화학분야에서의 기술 상식을 고려하여 적절하게 선택하면 된다.

[본 발명의 소광제의 제조방법]

본 발명의 소광제 중, 예를 들면 일반식 (1)에서의 Y₁이 산소 원자이고, 또한, R₆이 히드록실기인 것{하기 일반식 (36)으로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [I]~[III]에 나타낸 일련의 방법으로 제조할 수 있다.

즉, 먼저, 하기 일반식 (31)로 표시되는 화합물과 무수프탈산을 반응시켜, 하기 일반식 (32)로 표시되는 화합물을 얻는다(반응 [I]). 이어서, 얻어진 일반식 (32)로 표시되는 화합물을 하기 일반식 (33)으로 표시되는 화합물과 반응시켜, 하기 일반식 (34)로 표시되는 화합물을 얻는다(반응 [II]). 그 후, 얻어진 일반식 (34)로 표시되는 화합물에, 필요하면 하기 일반식 (35)로 표시되는 화합물을 반응시킨 다음, 염 형성 반응을 실시하면 된다(반응 [III]).

{식 중, Ar₁'는 하기 일반식 (1-1') 및 하기 식 (1-2')~(1-7')로 표시되는 고리 구조를 나타내고;

(식 중, R₁~R₄는 상기와 같다.),

* 및 **은 상기와 같다.}

(식 중, R₃₅는 히드록실기 또는 메톡시기를 나타내고, n₁개의 R₅, Ar₁', Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

{식 중, R₃₆은 할로겐 원자, 트리플루오로메틸설포닐옥시기, 메실옥시기(메틸설포닐옥시기) 또는 토실옥시기(p-톨루엔설포닐옥시기)를 나타내며, n₁개의 R₅, R₃₁, An^-, Ar₁, Ar₁', Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.}

일반식 (31)의 Ar₁'로서는 일반식 (1-1')로 표시되는 고리 구조가 바람직하다.

일반식 (33)의 R₃₅로서는 히드록실기가 바람직하다.

일반식 (35)의 R₃₆에서의 할로겐 원자로서는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 요오드 원자가 바람직하다.

일반식 (35)의 R₃₆으로서는 할로겐 원자가 바람직하고, 요오드 원자가 보다 바람직하다.

상기 반응 [I]에서는 일반식 (31)로 표시되는 화합물과 무수프탈산을 용매 중에서, 통상 80~160℃, 바람직하게는 90~120℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~10시간 반응시키면 된다.

상기 용매로서는 예를 들면 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 에틸메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄 등의 에테르류; 예를 들면 아세톤, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 2-헥사논, tert-부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 예를 들면 클로로메탄, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 사염화탄소, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 예를 들면 n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류; 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 예를 들면 아세토니트릴 등의 니트릴류; 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄화수소류가 바람직하며, 톨루엔이 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절히 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (31)로 표시되는 화합물과 무수프탈산의 총 중량에 대하여 통상 1~50배, 바람직하게는 5~10배이다.

무수프탈산의 사용량은 일반식 (31)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (31)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

상기 반응 [II]에서는 상기 반응 [I]에서 얻어진 일반식 (32)로 표시되는 화합물과 일반식 (33)으로 표시되는 화합물을 산촉매의 존재하에서 통상 70~140℃, 바람직하게는 80~120℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~10시간 반응시키면 된다.

상기 산촉매로서는 황산, 메탄설폰산, 트리플루오로메탄설폰산, 파라톨루엔 설폰산, 캠퍼설폰산 등을 들 수 있으며, 메탄설폰산이 바람직하다. 산촉매의 사용량은 일반식 (32)로 표시되는 화합물과 일반식 (33)으로 표시되는 화합물의 총 중량에 대하여 통상 1~50배, 바람직하게는 3~10배이다.

일반식 (33)으로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (32)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (33)으로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

상기 반응 [III]에서는 (a) 일반식 (34)로 표시되는 화합물의 Ar₁'가 일반식 (1-1')로 표시되는 고리 구조인 경우, 일반식 (34)로 표시되는 화합물을 염 형성 반응에 부치면 되고, (b) 일반식 (34)로 표시되는 화합물의 Ar₁'가 식 (1-2')~(1-7')로 표시되는 고리 구조인 경우, 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응을 실시한 후, 얻어진 화합물을 염 형성 반응에 부치면 된다.

상기 반응 [III]의 (a)에서의 염 형성 반응으로서는 일반식 (34)로 표시되는 화합물에, An^-로 표시되는 음이온염을 용매 중에서 접촉시킴으로써 이루어진다.

상기 염 형성 반응은 통상 0~80℃, 바람직하게는 10~50℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 2~10시간 이루어진다.

상기 염 형성 반응에서의 용매로서는 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올(IPA), 테트라히드로퓨란(THF), 디옥산, N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디클로로메탄, 디클로로에탄, 아세트산에틸 등의 유기용매를 들 수 있지만, 그 중에서도 에탄올, 디클로로메탄, 아세트산에틸이 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 An^-로 표시되는 음이온염의 총 중량에 대하여 통상 1~50배, 바람직하게는 1~15배이다.

상기 염 형성 반응에 있어서의 An^-로 표시되는 음이온염으로서는 An^-로 표시되는 음이온의 알칼리금속염, 또는 무기산을 들 수 있다.

상기 An^-로 표시되는 음이온의 알칼리금속염으로서는 An^-로 표시되는 음이온과, 나트륨, 칼륨, 리튬 등의 알칼리금속으로 이루어진 염을 들 수 있으며, An^-로 표시되는 음이온과 칼륨 또는 리튬으로 이루어진 염이 바람직하다. 상기 An^-로 표시되는 음이온의 알칼리금속염의 사용량은 일반식 (34)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

상기 무기산으로는 염산, 브롬화수소, 요오드화수소, 차아염소산, 아염소산, 염소산, 과염소산, 헥사플루오로인산, 헥사플루오로안티몬산 등의 무기산을 들 수 있고, 염산, 과염소산, 헥사플루오로인산, 헥사플루오로안티몬산이 바람직하다. 상기 무기산의 사용량은 일반식 (34)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~50당량, 바람직하게는 1~10당량이다.

상기 염 형성 반응에 있어서의 An^-로 표시되는 음이온염이, An^-로 표시되는 음이온의 알칼리금속염인 경우, 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 An^-로 표시되는 음이온의 알칼리금속염을 용매 중, 염산 공존 하에서 반응시켜 클로로염을 경유하는 것이 바람직하다. 당해 염산의 사용량으로서는 일반식 (34)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~50당량, 바람직하게는 1~10당량이다.

또한, 상기 염 형성 반응에 있어서의 An^-로 표시되는 음이온염이 무기산인 경우, 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 무기산을 용매 중에서 반응시키면 된다.

상기 반응 [III]의 (b)에서의 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응은 용매 중, 염기촉매의 존재 하에서 통상 0~80℃, 바람직하게는 10~50℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 2~10시간 실시하면 된다.

상기 염기촉매로서는 칼륨, 나트륨 등의 알칼리금속, 수산화리튬, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화칼슘, 수산화바륨 등의 알칼리금속, 알칼리토금속의 수산화물, 트리에틸렌디아민, 페피리딘, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 피롤리돈, 테트라히드로퀴놀린 등의 아민류 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 함께 사용하여도 좋다. 염기촉매의 사용량은 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물의 총 중량에 대하여 통상 1~50배, 바람직하게는 3~10배이다.

상기 용매로서는 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올(IPA), 테트라히드로퓨란(THF), 디옥산, N,N-디메틸포름아미드(DMF), 디클로로메탄, 디클로로에탄, 아세트산에틸 등의 유기용매를 들 수 있지만, 그 중에서도 에탄올, 디클로로메탄, 아세트산에틸이 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물의 총 중량에 대하여 통상 1~50배, 바람직하게는 1~15배이다.

일반식 (35)로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (34)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (35)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는, 예를 들면 플루오로메탄, 플루오로에탄, 1-플루오로프로판, 2-플루오로프로판, 클로로메탄, 클로로에탄, 1-클로로프로판, 2-클로로프로판, 브로모메탄, 브로모에탄, 1-브로모프로판, 2-브로모프로판, 요오드메탄, 요오드에탄, 1-요오드프로판, 2-요오드프로판, 트리플루오로메탄설폰산메틸, 트리플루오로메탄설폰산에틸, 트리플루오로메탄설폰산프로필, 메틸메실레이트, 에틸메실레이트, n-프로필메실레이트, 이소프로필메실레이트, 메틸토실레이트, 에틸토실레이트, n-프로필토실레이트, 이소프로필토실레이트 등을 들 수 있으며, 플루오로메탄, 클로로메탄, 브로모메탄, 요오드메탄, 트리플루오로메탄설폰산메틸, 메틸메실레이트, 메틸토실레이트가 바람직하고, 요오드메탄이 보다 바람직하다.

상기 반응 [III]의 (b)에서의 염 형성 반응은 상술한 반응 [III]의 (a)의 염 형성 반응에서의 일반식 (34)로 표시되는 화합물 대신에, 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응에 의해 얻어진 화합물을 사용하는 것 이외에, 반응 [III]의 (a)에서의 염 형성 반응과 같은 반응조건(반응용매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)에서 실시하면 된다.

본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 산소 원자이며, 또한, R₆이 탄소수 1~20의 알콕시기인 것{하기 일반식 (38-1)로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [IV-I]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [III]에서 얻어진 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-1)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (38-1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 산소 원자이며, 또한, R₆이 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기인 것{하기 일반식 (38-2)로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [IV-II]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [III]에서 얻어진 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-2)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (38-2)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 산소 원자이며, 또한, R₆이 복소환식 아미노기인 것{하기 일반식 (38-3)으로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [IV-III]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [III]에서 얻어진 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (38-3)으로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 산소 원자이며, 또한, R₆이 일반식 (2)로 표시되는 중합성 불포화기를 갖는 기인 것{하기 일반식 (38-4)로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [IV-IV]으로 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [III]에서 얻어진 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-4)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (38-4)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

(식 중, R_6-1은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내고, 2개의 R_6-2는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기, 탄소수 1~20의 알킬기를 나타내며, R_6-3은 복소환식 아미노기를 나타내고, n₁개의 R₅, R₇, A₁, A₂, A₃, An^-, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

일반식 (37-1)의 R_6-1에서의 탄소수 1~20의 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (37-2)의 R_6-2에서의 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 치환기를 갖는 아미노기의 치환기에서의 탄소수 1~20의 할로겐화 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (37-2)의 R_6-2에서의 탄소수 1~20의 알킬기로서는 상기 일반식 (1)의 R₅에서의 탄소수 1~20의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

일반식 (37-2)의 R_6-2로서는 수소 원자 및 탄소수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 수소 원자 및 탄소수 1~12의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 알킬기가 더욱 바람직하고, 탄소수 1~3의 알킬기가 특히 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (37-3)의 R_6-3에서의 복소환식 아미노기로서는 상기 일반식 (1)의 R₆에서의 복소환식 아미노기와 동일한 것을 들 수 있고, 바람직한 것도 동일하다.

상기 반응 [IV-I]에서는 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-1)로 표시되는 화합물을, 용매 중, 탈수축합제의 존재 하에서 통상 30~100℃, 바람직하게 50~80℃에서 통상 1~50시간, 바람직하게는 20~40시간 반응시키면 된다.

상기 용매로서는 예를 들면 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 에틸메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄 등의 에테르류; 예를 들면 아세톤, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 2-헥사논, tert-부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 예를 들면 클로로메탄, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 사염화탄소, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 예를 들면 n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류; 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 예를 들면 아세토니트릴 등의 니트릴류; 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 탄화수소류가 바람직하고, 테트라히드로퓨란, 디클로로메탄, 톨루엔이 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-1)로 표시되는 화합물의 총 중량에 대해 통상 1~50배, 바람직하게는 5~15배이다.

상기 탈수축합제로서는 일반적으로 탈수축합제로서 사용되는 것이면 좋고, 예를 들면 오산화이인, 무수염화아연 등의 무기 탈수제류; 예를 들면 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필카르보디이미드)염산염 등의 카르보디이미드류; 예를 들면 폴리인산, 무수아세트산, 황산, 카르보닐디이미다졸, p-톨루엔설폰산 등을 들 수 있고, 카르보디이미드류가 바람직하다. 당해 탈수축합제의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~20당량, 바람직하게는 1~10당량이다. 상기 반응 [IV-I]에서는 탈수축합제의 효율을 향상시키기 위해, 디메틸아미노피리딘 등의 촉매를 사용하여도 좋다. 당해 촉매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 0.1~10당량이다.

일반식 (37-1)로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 중량에 대하여 통상 1~50배, 바람직하게는 5~15배이다.

일반식 (37-1)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올 등을 들 수 있다.

상기 반응 [IV-II]에서는 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-2)로 표시되는 화합물을 용매 중, 탈수축합제의 존재하에서 통상 0~80℃, 바람직하게는 10~50℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~18시간 반응시키면 된다.

상기 용매로서는 예를 들면 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 에틸메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄 등의 에테르류; 예를 들면 아세톤, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 2-헥사논, tert-부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 예를 들면 클로로메탄, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 사염화탄소, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 예를 들면 n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류; 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 예를 들면 아세토니트릴 등의 니트릴류; 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 탄화수소류가 바람직하며, 테트라히드로퓨란, 디클로로메탄, 톨루엔이 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-2)로 표시되는 화합물의 총 중량에 대해 통상 1~50배, 바람직하게는 5~15배이다.

상기 탈수축합제로는 일반적으로 탈수축합제로서 사용되는 것이면 되며, 예를 들면 오산화이인, 무수염화아연 등의 무기 탈수제류; 예를 들면 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필카르보디이미드)염산염 등의 카르보디이미드류; 예를 들면 폴리인산, 무수아세트산, 황산, 카르보닐디이미다졸, p-톨루엔설폰산 등을 들 수 있고, 카르보디이미드류가 바람직하다. 당해 탈수축합제의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~20당량, 바람직하게는 1~10당량이다. 상기 반응 [IV-II]에서는 탈수축합제의 효율을 향상시키기 위해, 디메틸아미노피리딘 등의 촉매를 사용하여도 좋다. 당해 촉매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 0.1~10당량이다.

일반식 (37-2)로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (37-2)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로는 예를 들면, 암모니아, 트리플루오로메틸아민, 펜타플루오로에틸아민, 헵타플루오로프로필아민, 메틸아민, 에틸아민, n-프로필아민, 이소프로필아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디(n-프로필)아민, N-에틸메틸아민, N-에틸프로필아민, N-메틸프로필아민 등을 들 수 있다.

상기 반응 [IV-III]에서는 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물을 용매 중, 탈수축합제의 존재하에서 통상 0~80℃, 바람직하게는 10~50℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~18시간 동안 반응시키면 된다.

상기 용매로서는 예를 들면 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 에틸메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄 등의 에테르류; 예를 들면 아세톤, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 2-헥사논, tert-부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 예를 들면 클로로메탄, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 사염화탄소, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 예를 들면 n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류; 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 예를 들면 아세토니트릴 등의 니트릴류; 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 탄화수소류가 바람직하며, 테트라히드로퓨란, 디클로로메탄, 톨루엔이 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물의 총 중량에 대해 통상 1~50배, 바람직하게는 5~15배이다.

상기 탈수축합제로는 일반적으로 탈수축합제로서 사용되는 것이면 되며, 예를 들면 오산화이인, 무수염화아연 등의 무기 탈수제류; 예를 들면 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필카르보디이미드)염산염 등의 카르보디이미드류; 예를 들면 폴리인산, 무수아세트산, 황산, 카르보닐디이미다졸, p-톨루엔설폰산 등을 들 수 있고, 카르보디이미드류가 바람직하다. 당해 탈수축합제의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~20당량, 바람직하게는 1~10당량이다. 상기 반응 [IV-III]에서는 탈수축합제의 효율을 향상시키기 위해, 디메틸아미노피리딘 등의 촉매를 사용하여도 좋다. 당해 촉매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 0.1~10당량이다.

일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~3당량, 바람직하게는 1~2당량이다.

일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 피롤리딘, 피롤, 피라졸, 이미다졸, 옥사졸, 티아졸, 피페리딘, 피페라진, 모르폴린, 피리딘, 피리다진, 피리미딘, 피라진 등을 들 수 있으며, 피롤리딘, 피롤, 피페리딘, 피리딘이 바람직하고, 피페리딘이 보다 바람직하다.

상기 반응 [IV-IV]에서는 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-4)로 표시되는 화합물을 용매 중, 탈수축합제의 존재하에서 통상 0~80℃, 바람직하게는 10~50℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~18시간 반응시키면 된다.

상기 용매로서는 예를 들면 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 에틸메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄 등의 에테르류; 예를 들면 아세톤, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 2-헥사논, tert-부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 예를 들면 클로로메탄, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 사염화탄소, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 예를 들면 n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류; 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 예를 들면 아세토니트릴 등의 니트릴류; 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 에테르류, 할로겐화 탄화수소류, 탄화수소류가 바람직하며, 테트라히드로퓨란, 디클로로메탄, 톨루엔이 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-4)로 표시되는 화합물의 총 중량에 대해 통상 1~50배, 바람직하게는 5~15배이다.

상기 탈수축합제로는 일반적으로 탈수축합제로서 사용되는 것이면 좋고, 예를 들면 오산화이인, 무수염화아연 등의 무기 탈수제류; 예를 들면 디시클로헥실카르보디이미드, 디이소프로필카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필카르보디이미드)염산염 등의 카르보디이미드류; 예를 들면 폴리인산, 무수아세트산, 황산, 카르보닐디이미다졸, p-톨루엔설폰산 등을 들 수 있으며, 카르보디이미드류가 바람직하다. 당해 탈수축합제의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~20당량, 바람직하게는 1~10당량이다. 상기 반응 [IV-IV]에서는 탈수축합제의 효율을 향상시키기 위해, 디메틸아미노피리딘 등의 촉매를 사용하여도 좋다. 당해 촉매의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 0.1~10당량이다.

일반식 (37-4)로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (36)으로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (37-4)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 황 원자 또는 -NR₃₂-이고, 또한, R₆이 히드록실기인 것{하기 일반식 (43)으로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [V] 및 [VI]에 나타낸 일련의 방법으로 제조할 수 있다.

즉, 먼저, 하기 일반식 (39)로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (40)으로 표시되는 화합물을, 하기 일반식 (41)로 표시되는 화합물의 존재하에서 반응시키고, 이어서, 얻어진 화합물과 무수프탈산을 반응시켜, 하기 일반식 (42)로 표시되는 화합물을 얻는다(반응 [V]). 그 후, 얻어진 일반식 (42)로 표시되는 화합물에, 필요하면 하기 일반식 (35)로 표시되는 화합물을 반응시킨 다음, 염 형성 반응을 실시하면 된다(반응 [VI]).

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 황 원자 또는 -NR₃₂-이고, 또한, R₆이 탄소수 1~20의 알콕시기인 것{하기 일반식 (44-1)로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [VII-I]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-1)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (44-1)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 황 원자 또는 -NR₃₂-이고, 또한, R₆이 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기인 것{하기 일반식 (44-2)로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [VII-II]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-2)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (44-2)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y ₁이 황 원자 또는 -NR₃₂-이고, 또한, R₆이 복소환식 아미노기인 것{하기 일반식 (44-3)으로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [VII-III]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (44-3)으로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명의 소광제 중, 예를 들면, 일반식 (1)에서의 Y₁이 황 원자 또는 -NR₃₂-이고, 또한, R₆이 일반식 (2)로 표시되는 중합성 불포화기를 갖는 기인 것{하기 일반식 (44-4)로 표시되는 화합물}은 다음의 반응 [VII-IV]에 나타낸 방법으로 제조할 수 있다. 즉, 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (37-4)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써, 하기 일반식 (44-4)로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.

(식 중, Y₂는 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내고, n₁개의 R₅, R₃₂, Ar₁', Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

(식 중, n₁개의 R₅, R₃₁, R₃₆, Y₂, An^-, Ar₁, Ar₁', Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

(식 중, n₁개의 R₅, R_6-1, 2개의 R_6-2, R_6-3, R₇, Y₂, A₁, A₂, A₃, An^-, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.)

Y₂는 -NR₃₂-가 바람직하다. 구체적으로는 예를 들면 황 원자, -NCH₃-, -NC₂H₅-, -NC₃H₇- 등을 들 수 있고, 황 원자, -NCH₃-가 바람직하며, -NCH₃-이 보다 바람직하다.

상기 반응 [V]에서는 일반식 (39)로 표시되는 화합물과 일반식 (40)으로 표시되는 화합물을 용매 중, 일반식 (41)로 표시되는 화합물의 존재하에서 통상 80~160℃, 바람직하게는 90~120℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~10시간 반응시키고, 이어서 얻어진 화합물과 무수프탈산을 통상 80~160℃, 바람직하게는 90~120℃에서 통상 1~24시간, 바람직하게는 3~10시간 반응시키면 된다.

상기 용매로서는 예를 들면 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 에틸메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄 등의 에테르류; 예를 들면 아세톤, 디메틸케톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 2-헥사논, tert-부틸메틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 예를 들면 클로로메탄, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 트리클로로에탄, 사염화탄소, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 예를 들면 n-헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 탄화수소류; 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르류; 예를 들면 아세토니트릴 등의 니트릴류; 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있고, 그 중에서도 탄화수소류가 바람직하며, 톨루엔이 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로도 혹은 2종 이상 적절하게 조합하여 사용하여도 좋다. 반응용매의 사용량은 일반식 (39)로 표시되는 화합물의 중량에 대해 통상 1~50배, 바람직하게는 5~10배이다.

일반식 (39)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (40)으로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (39)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (40)으로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (41)로 표시되는 화합물의 사용량은 일반식 (39)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

일반식 (41)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는 예를 들면 SCl₂, CH₃NCl₂, C₂H₅NCl₂, C₃H₇NCl₂ 등을 들 수 있다.

무수프탈산의 사용량은 일반식 (39)로 표시되는 화합물의 mol수에 대해 통상 1~2당량, 바람직하게는 1~1.5당량이다.

상기 반응 [VI]에서는 (a) 일반식 (42)로 표시되는 화합물의 Ar₁'가, 일반식 (1-1')로 표시되는 고리 구조인 경우, 일반식 (42)로 표시되는 화합물을 염 형성 반응에 부치면 되며, (b) 일반식 (42)로 표시되는 화합물의 Ar₁'가 식 (1-2')~(1-7')로 표시되는 고리 구조인 경우, 일반식 (42)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응을 실시한 후, 얻어진 화합물을 염 형성 반응에 부치면 된다.

상기 반응 [VI]의 (a)에서의 염 형성 반응으로서는 상술한 반응 [III]의 (a)에서의 염 형성 반응과 동일한 반응을 실시하면 된다.

상기 반응 [VI]의 (b)에서의 일반식 (42)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응은 상술한 반응 [III]의 (b)에서의 일반식 (34)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응에서의 일반식 (34)로 표시되는 화합물 대신에, 일반식 (42)로 표시되는 화합물을 사용하는 것 이외에, 상기 반응 [III]의 (b)에서의 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응과 동일한 반응조건(반응용매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)에서 실시하면 된다.

상기 반응 [VI]의 (b)에서의 염 형성 반응은 상술한 반응 [III]의 (a)의 염 형성 반응에서의 일반식 (34)로 표시되는 화합물 대신에, 일반식 (42)로 표시되는 화합물과 일반식 (35)로 표시되는 화합물과의 반응에 의해 얻어진 화합물을 사용하는 것 이외에, 반응 [III]의 (a)에서의 염 형성 반응과 동일한 반응조건(반응용매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)에서 실시하면 된다.

상기 반응 [VII-I]에서는 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-1)로 표시되는 화합물을, 상술한 반응 [IV-I]에서의 반응조건(반응용매, 산촉매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)과 동일한 반응조건하에서 반응시키면 된다.

상기 반응 [VII-II]에서는 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-2)로 표시되는 화합물을, 상술한 반응 [IV-II]에서의 반응조건(반응용매, 산촉매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)과 동일한 반응조건하에서 반응시키면 된다.

상기 반응 [VII-III]에서는 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-3)으로 표시되는 화합물을, 상술한 반응 [IV-III]에서의 반응조건(반응용매, 산촉매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)과 동일한 반응조건하에서 반응시키면 된다.

상기 반응 [VII-IV]에서는 상기 반응 [VI]에서 얻어진 일반식 (43)으로 표시되는 화합물과 일반식 (37-4)로 표시되는 화합물을, 상술한 반응 [IV-IV]에서의 반응조건(반응용매, 산촉매, 반응온도, 반응시간, 각 사용량)과 동일한 반응조건하에서 반응시키면 된다.

상기 반응 [I]~[VII-IV]에서의 반응시 압력은 일련의 반응이 차질없이 실시되면 특별히 제한은 없으며, 예를 들면 상압에서 수행하면 된다.

상기 반응 [I]~[VII-IV]에서의 반응 후에 얻어지는 반응물 및 생성물은 필요에 따라, 통상 이 분야에서 행해지는 일반적인 후처리 조작 및 정제 조작에 의해 단리하여도 좋다. 구체적으로는 예를 들면, 여과, 세척, 추출, 감압 농축, 재결정, 증류, 컬럼 크로마토그래피 등을 실시함으로써 얻어진 반응물 및 생성물을 단리하여도 좋다.

[본 발명의 화합물]

본 발명의 화합물은 상기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물이다. 그 구체적인 예 및 바람직한 범위는 상기 본 발명의 소광제에서, 일반식 (3)으로 표시되는 화합물로서 기재한 것과 동일한 것을 들 수 있다.

본 발명의 화합물은 형광성을 갖는 화합물에 대한 소광효과 뿐만 아니라, 가열에 의한 퇴색이 적고, 높은 내열효과를 나타낸다. 그러므로, 본 발명의 화합물은 소광제 용도로서 뿐만 아니라, 당해 화합물 그 자체를 염료로서 사용할 수도 있다.

또한, 상기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 중, Ar₁이 일반식 (1-1)이고, Ar₂가 벤젠 고리이며, 또한, 1개의 R₅가 페닐아미노기인 것{하기 일반식 (50)으로 표시되는 화합물}은 본 발명의 화합물 중에서도 높은 내열효과를 갖는 흑색 염료로서 유용하다.

(식 중, R₁~R₅, R₆', Y₁ 및 An^-는 상기와 같고, n₈은 0~3의 정수를 나타낸다.)

일반식 (3)의 n₈로서는 0 또는 1이 바람직하고, 1이 보다 바람직하다.

상기 일반식 (50)으로 표시되는 화합물 중에서도 바람직한 구체적인 예로는 하기 일반식 (51)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

(식 중, R₁~R₅, R₆', Y₁ 및 An^-는 상기와 같고, n₉는 0 또는 1을 나타낸다.)

일반식 (3)의 n₉로서는 1이 보다 바람직하다.

일반식 (51)에서의 R₁~R₅, R₆', Y₁ 및 n₉의 바람직한 조합으로서는 예를 들면 하기 표에 기재된 것을 들 수 있다. 또한, R₂란 및 R₃란에서의 "알킬기군 A", R₅란에서의 "알킬기군 B", "알콕시기군", "알킬티오기군" 및 "치환 아미노기군", 그리고 R₆'란에서의 "중합성기군"은 각각 하기 관능기로 이루어진 군을 나타낸다.

알킬기군 A; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, n-헥실기

알킬기군 B; 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기

알콕시기군; 메톡시기, 에톡시기

알킬티오기군; 메틸티오기, 에틸티오기

치환 아미노기군; 메틸아미노기, 에틸아미노기, 페닐아미노기, 벤질아미노기, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디페닐아미노기, 디벤질아미노기

중합성기군;

또한, 상기 표 중의 조합과 함께 사용되는 An^-로서는 하기의 것을 들 수 있다.

상기 구체적인 예 중에서도, 하기의 것이 바람직하다.

[본 발명의 화합물의 제조방법]

본 발명의 화합물 중, 예를 들면, 일반식 (3)에서의 Y₁이 산소 원자이고, 또한, R₆이 일반식 (2)로 표시되는 중합성 불포화기를 갖는 기인 것{상기 일반식 (38-4)로 표시되는 화합물}은 상기 본 발명의 소광제의 제조방법에서의 반응 [I]~[III] 및 [IV-IV]로 나타내는 일련의 방법과 동일한 방법으로 제조할 수 있다.

또한, 본 발명의 화합물 중, 예를 들면, 일반식 (3)에서의 Y₁이 황 원자 또는 -NR₃₂-이고, 또한, R₆이 일반식 (2)로 표시되는 중합성 불포화기를 갖는 기인 것{상기 일반식 (44-4)로 표시되는 화합물}은 상기 본 발명의 소광제의 제조방법에서의 반응 [V], [VI] 및 [VII-IV]로 나타내는 일련의 방법과 동일한 방법으로 제조할 수 있다.

[본 발명의 폴리머 ]

본 발명의 폴리머는 상기 본 발명의 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 폴리머이다.

본 발명의 폴리머의 중량평균분자량(Mw)은 통상 2,000~100,000, 바람직하게는 2,000~50,000, 보다 바람직하게는 2,000~30,000이다. 또한, 그 분산도(Mw/Mn)는 통상 1.00~5.00, 바람직하게는 1.00~3.00이다.

본 발명의 폴리머는 상기 본 발명의 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 것이라면, 호모폴리머이어도 코폴리머이어도 좋지만, 내열성 효과가 높은 코폴리머가 바람직하다.

당해 코폴리머로서는 예를 들면 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위 및/또는 하기 일반식 (4), 일반식 (5), 일반식 (6) 혹은 일반식 (7)로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위 1~2종과, 상기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위를 구성성분으로 하는 것을 들 수 있다(이하, 본 발명의 코폴리머로 약칭하는 경우가 있다.).

[식 중, R₁₁은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R₁₂는 수소 원자, 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록실알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기, 탄소수 2~9의 알콕시알킬기, 탄소수 3~9의 알콕시알콕시알킬기, 탄소수 7~13의 아릴옥시알킬기, 탄소수 5~7의 모르폴리노알킬기, 탄소수 3~9의 트리알킬실릴기, 산소 원자를 갖거나 또는 산소 원자를 갖지 않는 탄소수 6~12의 지환식 탄화수소기, 탄소수 3~9의 디알킬아미노알킬기, 탄소수 1~18의 플루오로알킬기, 또는 탄소수 9~14의 N-알킬렌프탈이미드기, 하기 일반식 (4-1)로 표시되는 기

(식 중, R₂₁은 히드록실기를 치환기로 갖거나 비치환된 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, R₂₂는 히드록실기를 치환기로 갖거나 비치환된 페닐기, 혹은 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, q는 1~3의 정수를 나타낸다.), 하기 일반식 (4-2)로 표시되는 기

(식 중, R₂₃~R₂₅는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, R₂₆은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다.), 또는, 하기 일반식 (4-3)으로 표시되는 기

(식 중, l은 1~6의 정수를 나타내고, R₂₇은 페닐렌기 또는 시클로헥실렌기를 나타낸다.)를 나타낸다.],

(식 중, R₁₁은 상기와 같다. R₁₃은 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, R₁₄는 수소 원자, 탄소수 1~3의 알킬기, 탄소수 3~9의 디알킬아미노알킬기 또는 탄소수 1~6의 히드록시알킬기를 나타낸다. R₁₃과 R₁₄는 이들과 인접하는 질소 원자와 함께 모르폴리노기를 형성하여도 좋다.),

(식 중, R₁₅는 페닐기 또는 피롤리디노기를 나타내고, R₁₁은 상기와 같다.),

(식 중, R₁₇은 질소 원자 또는 산소 원자를 나타내고, j는 R₁₇이 산소 원자인 경우에 0을 나타내며, R₁₇이 질소 원자인 경우에는 1을 나타낸다. R₁₆은 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록실알킬기, 탄소수 1~10의 할로겐화 알킬기, 탄소수 6~10의 알킬시클로알킬기, 탄소수 6~7의 할로겐화 시클로알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 1~6의 알킬기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴기, 또는, 탄소수 6~10의 할로겐화 아릴기를 나타낸다.)

상기 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위로서는 상술한 중합성 소광대상화합물 유래의 모노머 단위, 즉, 중합성 불포화기를 가지며, 또한, 형광성을 갖는 화합물에서 유래하는 것으로서, 일반식 (3)으로 표시되는 화합물과 중합하여 코폴리머를 형성할 수 있는 것이면 된다.

상기 중합성 불포화기의 구체적인 예로서는 예를 들면 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐아릴기, 비닐옥시기, 알릴기 등을 들 수 있다.

상기 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료로서는 중합성 소광대상화합물로서 든 것과 동일한 것을 들 수 있으며, 바람직한 것도 동일하다.

상기 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료의 구체적인 예로서는 예를 들면, 일본 특허공개 평05-271567호 공보, 일본 특허공개 평09-272814호 공보, 일본 특허공개 2001-011336호 공보, 일본 특허공개 2013-045088호 공보, WO 2014/126167 공보, WO 2015/098999 공보, WO 2015/133578 공보, WO 2015/147285 공보, WO 2015/182680 공보 등에 기재된 것이어도, 시판하는 것이어도 좋다.

일반식 (4)에서의 R₁₁은 메틸기가 바람직하다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 1~18의 알킬기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, n-헥실기, 이소헥실기, sec-헥실기, tert-헥실기, 3-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, n-헵틸기, 이소헵틸기, sec-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, sec-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, 시클로프로필기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로데실기, 시클로운데실기, 시클로도데실기, 시클로테트라데실기, 시클로옥타데실기 등을 들 수 있으며, 메틸기, 에틸기가 바람직하다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 1~10의 히드록실알킬기로서는 예를 들면, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기, 히드록시프로필기, 히드록시부틸기, 히드록시펜틸기, 히드록시헥실기, 히드록시헵틸기, 히드록시옥틸기, 히드록시노닐기, 히드록시데실기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 6~10의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 7~13의 아릴알킬기로서는 예를 들면, 벤질기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 나프틸메틸기, 나프틸에틸기, 나프틸프로필기 등을 들 수 있으며, 벤질기가 바람직하다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 2~9의 알콕시알킬기로서는 예를 들면, 메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 메톡시프로필기, 메톡시부틸기, 메톡시펜틸기, 메톡시헥실기, 메톡시헵틸기, 메톡시옥틸기, 에톡시메틸기, 에톡시에틸기, 에톡시프로필기, 에톡시부틸기, 에톡시펜틸기, 에톡시헥실기, 에톡시헵틸기, 프로폭시메틸기, 프로폭시에틸기, 프로폭시프로필기, 프로폭시부틸기, 프로폭시펜틸기, 프로폭시헥실기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 3~9의 알콕시알콕시알킬기로서는 예를 들면, 메톡시메톡시메틸기, 메톡시메톡시에틸기, 메톡시메톡시프로필기, 에톡시메톡시메틸기, 에톡시메톡시에틸기, 에톡시메톡시프로필기, 프로폭시메톡시메틸기, 프로폭시메톡시에틸기, 프로폭시메톡시프로필기, 에톡시에톡시메틸기, 에톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시프로필기, 프로폭시에톡시메틸기, 프로폭시에톡시에틸기, 프로폭시에톡시프로필기, 프로폭시프로폭시메틸기, 프로폭시프로폭시에틸기, 프로폭시프로폭시프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 7~13의 아릴옥시알킬기로서는 예를 들면, 페녹시메틸기, 페녹시에틸기, 페녹시프로필기, 나프틸옥시메틸기, 나프틸옥시에틸기, 나프틸옥시프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 5~7의 모르폴리노알킬기로서는 예를 들면 모르폴리노메틸기, 모르폴리노에틸기, 모르폴리노프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 3~9의 트리알킬실릴기로서는 예를 들면 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, 트리프로필실릴기, 디메틸에틸실릴기, 디에틸메틸실릴기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의, 산소 원자를 갖는 탄소수 6~12의 지환식 탄화수소기로서는 예를 들면 디시클로펜테닐옥시에틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의, 산소 원자를 갖지 않는 탄소수 6~12의 지환식 탄화수소기로서는 예를 들면 시클로헥실기, 이소보르닐기, 디시클로펜타닐기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 3~9의 디알킬아미노알킬기로서는 예를 들면 디메틸아미노메틸기, 디메틸아미노에틸기, 디메틸아미노프로필기, 디에틸아미노메틸기, 디에틸아미노에틸기, 디에틸아미노프로필기, 디프로필아미노메틸기, 디프로필아미노에틸기, 디프로필아미노프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 1~18의 플루오로알킬기로서는 예를 들면 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필기, 2,2,3,3,4,4-헥사플루오로부틸기, 2,2,3,3,4,4,5,5-옥타플루오로펜틸기, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-헵타데카플루오로데실, 2-(헵타데카플루오로옥틸)에틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (4)의 R₁₂에서의 탄소수 9~14의 N-알킬렌프탈이미드기로서는 예를 들면 2-프탈이미드에틸기, 2-테트라히드로프탈이미드에틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (4-1)의 R₂₁에서의 히드록실기를 치환기로서 갖거나 비치환된 탄소수 1~3의 알킬렌기로서는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 히드록시메틸렌기, 히드록시에틸렌기, 1-히드록시프로필렌기, 2-히드록시프로필렌기 등을 들 수 있고, 에틸렌기, 프로필렌기, 2-히드록시프로필렌기가 바람직하다.

일반식 (4-1)의 R₂₂에서의 히드록실기를 치환기로서 갖거나 비치환된 페닐기로서는 히드록시페닐기, 페닐기 등을 들 수 있다.

일반식 (4-1)의 R₂₂에서의 탄소수 1~3의 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (4-1)로 표시되는 기의 구체적인 예로서는 (4-히드록시페녹시)메틸기, (4-히드록시페녹시)에틸기, (4-히드록시페녹시)프로필기, 1-히드록시-1-페녹시메틸기, 1-히드록시-2-페녹시에틸기, 2-히드록시-3-페녹시프로필기, 메틸트리메틸렌글리콜기, 메틸트리에틸렌글리콜기, 메틸트리프로필렌글리콜기 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 (4-히드록시페녹시)프로필기, 2-히드록시-3-페녹시프로필기, 메틸트리프로필렌글리콜기, 메틸트리에틸렌글리콜기 등이 바람직하다.

일반식 (4-2)의 R₂₃~R₂₅에서의 탄소수 1~3의 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 들 수 있으며, 메틸기가 바람직하다.

일반식 (4-2)의 R₂₆에서의 탄소수 1~3의 알킬렌기로서는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등을 들 수 있다.

일반식 (4-2)로 표시되는 기의 구체적인 예로서는 트리메틸암모늄메틸기, 트리메틸암모늄에틸기, 트리에틸암모늄메틸기, 트리에틸암모늄에틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (4-3)으로 표시되는 기의 바람직한 구체적인 예로서는 예를 들면 하기의 것을 들 수 있다.

일반식 (4)에서의 R₁₂로서는 수소 원자, 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록시알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기, 탄소수 2~9의 알콕시알킬기, 탄소수 7~13의 아릴옥시알킬기, 일반식 (4-1)로 표시되는 기, 일반식 (4-3)으로 표시되는 기가 바람직하고, 그 중에서도 수소 원자, 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록시알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기, 탄소수 2~9의 알콕시알킬기가 보다 바람직하며, 수소 원자, 탄소수 7~13의 아릴알킬기가 특히 바람직하다.

일반식 (4)의 바람직한 구체적인 예로서는 아크릴산, 아크릴산벤질, 메타크릴산, 메타크릴산벤질, 히드록시에틸메타크릴레이트, 메타크릴산메틸 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 아크릴산, 아크릴산벤질, 메타크릴산, 메타크릴산벤질이 바람직하고, 메타크릴산, 메타크릴산벤질이 보다 바람직하다.

일반식 (5)의 R₁₃ 및 R₁₄에서의 탄소수 1~3의 알킬기로서는 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (5)의 R₁₄에서의 탄소수 3~9의 디알킬아미노알킬기로서는 디메틸아미노메틸기, 디메틸아미노에틸기, 디메틸아미노프로필기, 디에틸아미노메틸기, 디에틸아미노에틸기, 디에틸아미노프로필기, 디프로필아미노메틸기, 디프로필아미노에틸기, 디프로필아미노프로필기 등을 들 수 있다.

일반식 (5)의 R₁₄에서의 탄소수 1~6의 히드록시알킬기로서는 히드록시메틸기, 히드록시에틸기, 히드록시프로필기, 히드록시부틸기, 히드록시펜틸기, 히드록시헥실기 등을 들 수 있으며, 히드록시에틸기가 바람직하다.

일반식 (5)의 바람직한 구체적인 예로서는 (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드, 히드록시에틸(메타)아크릴아미드, 4-아크릴로일모르폴린 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드가 바람직하고, N,N-디에틸아크릴아미드가 특히 바람직하다.

일반식 (6)의 바람직한 구체적인 예로서는 스티렌, α-메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 스티렌, α-메틸스티렌이 바람직하고, 스티렌이 특히 바람직하다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 1~20의 알킬기로서는 직쇄상, 분지상 및 환상 중 어느 것이어도 좋고, 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 1-메틸프로필기, n-펜틸기, 이소펜틸기, tert-펜틸기, 네오펜틸기, 1-메틸부틸기, n-헥실기, 이소헥실기, tert-헥실기, 3-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 1-메틸펜틸기, 1,2-디메틸부틸기, 시클로헥실기, n-헵틸기, 이소헵틸기, 1-메틸헥실기, n-옥틸기, 이소옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, 노나데실기, 이코실기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 1~10의 히드록시알킬기로서는 예를 들면, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기, 히드록시프로필기, 히드록시부틸기, 히드록시펜틸기, 히드록시헥실기, 히드록시헵틸기, 히드록시옥틸기, 히드록시노닐기, 히드록시데실기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 1~10의 할로겐화 알킬기로서는 예를 들면, 클로로메틸기, 클로로에틸기, 클로로-n-프로필기, 클로로이소프로필기, 클로로-n-부틸기, 클로로-tert-부틸기, 클로로-n-펜틸기, 클로로-n-헥실기, 클로로-n-헵틸기, 클로로-n-옥틸기, 클로로-n-노닐기, 클로로-n-데실기, 플루오로메틸기, 플루오로에틸기, 플루오로-n-프로필기, 플루오로이소프로필기, 플루오로-n-부틸기, 플루오로-tert-부틸기, 플루오로-n-펜틸기, 플루오로-n-헥실기, 플루오로-n-헵틸기, 플루오로-n-옥틸기, 플루오로-n-노닐기, 플루오로-n-데실기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 6~10의 알킬시클로알킬기로서는 예를 들면 메틸시클로펜틸기, 에틸시클로펜틸기, 프로필시클로펜틸기, 메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기, 프로필시클로헥실기, 부틸시클로헥실기, 메틸시클로헵틸기, 에틸시클로헵틸기, 프로필시클로헵틸기, 메틸시클로옥틸기, 에틸시클로옥틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 6~7의 할로겐화 시클로알킬기로서는 예를 들면 클로로시클로헥실기, 플루오로시클로헥실기, 브로모시클로헥실기, 클로로시클로헵틸기, 플루오로시클로헵틸기, 브로모시클로헵틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 6~10의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 1~6의 알킬기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴기로서는 예를 들면, 메틸페닐기, 에틸페닐기, n-프로필페닐기, n-부틸페닐기, n-펜틸페닐기, n-헥실페닐기, 메틸나프틸기, 에틸나프틸기, n-프로필나프틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 R₁₆에서의 탄소수 6~10의 할로겐화 아릴기로서는 예를 들면 클로로페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 플루오로나프틸기 등을 들 수 있다.

일반식 (7)의 바람직한 구체적인 예로서는 무수말레산, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-부틸말레이미드, N-옥틸말레이미드, N-도데실말레이미드, N-(2-에틸헥실)말레이미드, N-(2-히드록시에틸)말레이미드, N-(2-클로로헥실)말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-(2-메틸시클로헥실)말레이미드, N-(2-에틸시클로헥실)말레이미드, N-(2-클로로시클로헥실)말레이미드, N-페닐말레이미드, N-(2-메틸페닐)말레이미드, N-(2-에틸페닐)말레이미드, N-(2-클로로페닐)말레이미드 등을 들 수 있고, 그 중에서도 N-페닐말레이미드가 바람직하다.

본 발명의 코폴리머는 상술한 모노머 단위 이외에도, 여러 가지 염료를 유래로 하는 모노머 단위를 포함하고 있어도 좋다. 단, 당해 염료는 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 및 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료와는 다른 것이다.

본 발명의 코폴리머는 구체적으로는 하기 표에 기재된 모노머 단위의 조합을 들 수 있으며, 그 중에서도 조합 1, 2 및 6~12가 바람직하고, 조합 1, 2 및 6~9가 보다 바람직하며, 조합 1, 2 및 6이 특히 바람직하다. 또한, 하기 조합 2 및 6 중에서도, 일반식 (3)으로 표시되는 화합물과 2종류의 일반식 (4)로 표시되는 화합물로 이루어진 조합이 바람직하다.

일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위와, 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위 및/또는 일반식 (4), 일반식 (5), 일반식 (6) 혹은 일반식 (7)로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위와의 중량비율은 사용되는 모노머 단위의 종류에 따라 적절히 설정되면 되는데, 얻어지는 폴리머의 총 중량에 대하여 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위가 통상 1~90중량%, 바람직하게는 5~85중량%이다.

본 발명의 코폴리머의 바람직한 구체적인 예로서는 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위와, 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위 및/또는 하기 일반식 (4')로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위 1~2종류를 포함하여 이루어진 폴리머를 들 수 있다.

(식 중, R'₁₂는 수소 원자, 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록실알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기 또는 탄소수 2~9의 알콕시알킬기를 나타내고, R₁₁은 상기와 같다.)

일반식 (4')의 R'₁₂에서의 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록실알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기, 및 탄소수 2~9의 알콕시알킬기의 구체적인 예로는 상기 일반식 (4)에서의 R₁₂의 그들과 동일한 것을 들 수 있다.

일반식 (4')에서의 R'₁₂는 수소 원자, 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기가 바람직하고, 수소 원자, 탄소수 7~13의 아릴알킬기가 보다 바람직하다.

일반식 (4')의 바람직한 구체적인 예로서는 아크릴산, 아크릴산벤질, 메타크릴산, 메타크릴산벤질 등을 들 수 있고, 그 중에서도 메타크릴산, 메타크릴산벤질이 바람직하다.

본 발명의 폴리머는 형광성을 갖는 화합물에 대한 소광효과 뿐만 아니라, 가열에 의한 퇴색이 적고, 높은 내열효과를 나타낸다. 또한, 본 발명의 폴리머는 내용출성 및 내후성도 우수하다. 그러므로, 본 발명의 폴리머는 소광제 용도로서 뿐만 아니라, 당해 폴리머 그 자체를 염료로서 사용할 수도 있다.

또한, 본 발명의 폴리머가 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위를 포함하여 이루어진 것인 경우, 당해 폴리머에 포함되는 본 발명의 화합물(모노머)은 당해 폴리머에 포함되는 형광성 염료가 발하는 형광을 폴리머 분자 내에서 억제할 수 있다. 즉, 당해 폴리머는 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료만으로 이루어진 폴리머에 비해 형광 발광이 억제되어 있어, 염료로서 보다 적합하게 사용할 수 있다.

상기 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료를 포함하여 이루어진 본 발명의 폴리머는 본 발명의 화합물 유래의 모노머 단위를 포함하여 이루어진 폴리머(폴리머 1)와 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위를 포함하여 이루어진 폴리머(폴리머 2)의 2종류의 폴리머를 혼합함으로써 얻을 수 있는 효과를, 당해 폴리머 1종류에서 얻을 수 있다. 즉, 예를 들면, 컬러 필터 등의 착색 화소를 상기 폴리머 2로 형성할 때, 폴리머 2의 형광 발광을 억제하기 위해서는 상기 폴리머 1 및 폴리머 2의 2종류의 폴리머로 2층의 필터층을 형성할 필요가 있다. 이에 반해, 당해 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료를 포함하여 이루어진 본 발명의 폴리머를 착색 화소의 형성에 사용하는 경우, 폴리머 1 및 폴리머 2로 형성되는 2 층의 필터층과 마찬가지로 형광을 억제한 착색 화소를, 1층의 필터층으로 용이하게 형성할 수 있으며, 필터층 전체의 두께를 얇게 하는 것도 가능하게 된다.

또한, 본 발명의 폴리머를 소광제로서 사용할 경우, 소광대상화합물은 본 발명의 소광제 항에서 기재한 것과 동일한 것을 들 수 있으며, 그 사용량, 사용방법 등에 대해서도 본 발명의 소광제 항에서 기재한 양, 방법 등에 준하면 된다.

[본 발명의 폴리머의 제조방법]

본 발명의 폴리머는 예를 들면 이하와 같이 제조된다. 즉, 상기와 같이 얻어진 본 발명의 화합물을 자체 공지의 중합반응에 부침으로써, 본 발명의 폴리머를 얻을 수 있다. 본 발명의 폴리머가 코폴리머인 경우에는 중합반응시에, 상기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물과, 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 및/또는 일반식 (4), 일반식 (5), 일반식 (6) 혹은 일반식 (7)로 표시되는 화합물의 1~2종류를, 최종적으로 얻어지는 폴리머 중의 각 모노머에서 유래하는 모노머 단위의 비율이 상기와 같이 되도록 혼합한 후, 중합시키면 된다.

상기 중합반응으로서는 예를 들면 이하와 같이 이루어진다. 즉, 일반식 (3)으로 표시되는 화합물, 혹은, 일반식 (3)으로 표시되는 화합물과 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 및/또는 일반식 (4), 일반식 (5), 일반식 (6) 또는 일반식 (7)로 표시되는 화합물의 1~2종류를, 그 총 용량에 대해 1~10배 용량의 적당한 용매, 예를 들면 톨루엔, 1,4-디옥산, 테트라히드로퓨란, 이소프로판올, 메틸에틸케톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등에 용해한다. 이어서, 용해한 화합물의 전량에 대하여 0.01~30중량%의 중합개시제, 예를 들면 아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 과산화벤조일, 과산화라우로일 등의 존재하에, 50~150℃에서 1~48시간 반응시킴으로써 이루어진다. 반응 후에는 고분자 취득의 통상적인 방법에 따라 처리하여도 좋다.

[착색조성물 1]

상술한 바와 같이, 본 발명의 화합물 또는 폴리머는 소광제 용도로서 뿐만 아니라, 당해 화합물 또는 폴리머 그 자체를 염료로서 사용할 수도 있다. 그 때문에, 본 발명의 화합물 또는 폴리머를 적어도 1종류 포함하는 착색조성물(이하, 본 발명의 착색조성물 1로 약칭하는 경우가 있다)은 가열에 의한 퇴색이 적은 착색조성물이며, 나아가 내열성을 갖는 우수한 착색경화막을 형성할 수 있다. 따라서, 본 발명의 착색조성물 1은 액정 표시 장치(LCD)나 고체 촬상 소자(CCD, CMOS 등)에 사용되는 컬러 필터 등의 착색화소 형성용도, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 및 도료 등의 용도로 사용할 수 있으며, 특히, 액정 표시 장치의 컬러 필터용으로서 적합하다. 또한, 본 발명의 착색조성물 1은 종래 공지의 성형방법에 의해, 시트, 필름, 병, 컵 등으로 성형하여 착색수지 성형물로서 사용할 수도 있다. 따라서, 안경, 컬러 콘택트 렌즈 등의 용도로도 사용할 수 있으며, 공지의 수지와의 다층구조체로 함으로써도 마찬가지로 사용할 수 있다. 그 외에도, 예를 들면 광학필름, 헤어컬러링제, 화합물이나 생체물질에 대한 표지물질, 유기태양전지의 재료 등의 용도로도 사용하는 것이 가능하다. 본 발명의 착색조성물 1은 각 용도에 맞춰, 상기 본 발명의 화합물 또는 폴리머 외에, 이 분야에서 통상적으로 사용되는 첨가제 등을 포함하고 있어도 좋다.

예를 들면 본 발명의 착색조성물 1을 착색수지 용도로서 사용하는 경우, 본 발명의 착색조성물 1은 적어도 상기 본 발명의 화합물 또는 폴리머를 1종 이상 포함하고, 또한, 기타 수지와 혼합하고 있는 것이 바람직하며, 본 발명의 폴리머를 1종 이상 포함하고, 또한, 기타 수지와 혼합하고 있는 것이 보다 바람직하다. 기타 수지로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 폴리올레핀 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴 수지 등을 들 수 있다. 기타 수지의 보다 구체적인 예로서는 상기 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료, 일반식 (4)로 표시되는 화합물, 일반식 (5)로 표시되는 화합물, 일반식 (6)으로 표시되는 화합물 및 일반식 (7)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종에서 유래하는 호모폴리머, 또는 이들로부터 선택되는 2종 이상에서 유래하는 코폴리머가 바람직하고, 호모폴리머가 보다 바람직하다. 호모폴리머로서는 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 호모폴리머 및 일반식 (4)로 표시되는 화합물 유래의 호모폴리머가 바람직하고, 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 호모폴리머 및 상기 일반식 (4')로 표시되는 화합물 유래의 호모폴리머가 보다 바람직하다. 또한, 기타 수지와 혼합시키는 경우, 그 혼합비율은 요구되는 착색수지의 색상에 따라 적절히 설정되면 된다. 본 발명의 착색조성물 1을 착색수지로서 사용하는 경우, 자체 공지의 성형방법에 의해 성형하여 사용하여도 좋다. 또한, 본 발명의 착색조성물 1은 상기 본 발명의 화합물 또는 폴리머 및 필요하면 기타 수지 외에도, 본 발명의 목적 및 효과를 방해하지 않는 범위에서, 윤활제, 대전방지제, 자외선 방지제, 산화방지제, 광안정제, 분산제, 가공안정제, 가공조제, 내충격성 개량제, 충진제, 보강제, 방염제, 가소제, 발포제 등 이 분야에서 통상적으로 사용되는 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 본 발명의 착색조성물 1은 착색수지 용도로서 사용하는 경우, 용매와 접촉시켜도 염료의 용출이 적고, 뛰어난 내후성을 갖는 것이다.

예를 들면 본 발명의 착색조성물 1을 착색화소 형성용도로서 사용하는 경우, 본 발명의 착색조성물 1은 적어도 본 발명의 화합물 또는 폴리머를 1종 이상, 중합개시제, 바인더 수지 및 라디칼 중합성 모노머 또는 올리고머를 포함하는 것이 바람직하고, 필요에 따라, 안료, 용제, 실란 커플링제 및 가교제 등을 포함하고 있어도 좋다. 본 발명의 착색조성물 1은 본 발명의 화합물 또는 폴리머를, 본 발명의 착색조성물 1의 중량에 대하여 1~50%, 바람직하게는 5~30% 함유한다. 또한, 여기서 말하는 본 발명의 착색조성물 1의 중량은 용제를 제외한 고형성분의 중량을 의미하며, 이하 본원에서는 동일한 의미를 나타낸다.

상기 중합개시제로서는 공지의 열중합개시제, 광중합개시제를 사용할 수 있는데, 광중합개시제가 바람직하다. 구체적으로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실-페닐케톤, 2-메틸-2-모르폴리노(4-티오메틸페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논 등의 아세토페논계; 벤조인, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인계; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드계; 벤질, 메틸페닐글리옥시에스테르계; 벤조페논, ο-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 히드록시벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐설파이드, 아크릴화벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논계; 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤 등의 티오크산톤계; 미힐러케톤, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 등의 아미노벤조페논계; 1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온-2-(o-벤조일옥심), 1-[6-(2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카르바졸-3-일]에타논-o-아세틸옥심 등의 옥심에스테르계; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 캠퍼퀴논 등을 들 수 있다.

상기 중합개시제는 단독으로도 2종 이상을 함유하여도 좋다. 그 함유량은 본 발명의 착색조성물 1의 중량에 대하여 1~50중량%, 바람직하게는 5~30중량%이다.

상기 바인더 수지로서는 예를 들면, 카르복실기 또는 히드록실기를 적어도 하나 갖는 에틸렌성 불포화 모노머, 혹은 당해 에틸렌성 불포화 모노머와 방향족 탄화수소기나 지방족 탄화수소기를 갖는 에틸렌성 불포화 모노머와의 공중합체, 당해 공중합체의 측쇄 또는 말단 등에 에폭시기를 가진 것이나, 아크릴레이트를 부가시킨 것 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로도 2종 이상을 조합하여도 좋다.

상기 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 모노머의 구체적인 예로서는 아크릴산, 메타크릴산, 벤질메타크릴레이트, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 에타크릴산, 계피산 등의 불포화 모노카르복실산류; 말레산, 무수말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수이타콘산, 시트라콘산, 무수시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산(무수물)류; 3가 이상의 불포화 다가 카르복실산(무수물)류, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-메타아크릴로일옥시에틸 2-히드록시프로필프탈레이트, 2-아크릴로일옥시에틸 2-히드록시에틸프탈산 등을 들 수 있다.

상기 바인더 수지의 함유량은 본 발명의 착색조성물 1의 중량에 대하여 10~50중량%, 바람직하게는 20~50중량%이다.

상기 라디칼 중합성 모노머 또는 올리고머로는 일례로서, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트(에틸렌기의 수가 2~14인 것), 폴리에틸렌글리콜디메타크릴레이트(에틸렌기의 수가 2~14인 것), 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 트리메틸올프로판디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리메타크릴레이트, 트리메틸올프로판프로폭시트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판프로폭시트리메타크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄트리메타크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라메타크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트(프로필렌기의 수가 2~14인 것), 폴리프로필렌글리콜디메타크릴레이트(프로필렌기의 수가 2~14인 것), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 에톡시화 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(에톡시기가 40 이하인 것), 프로폭시화 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(프로폭시기가 40 이하인 것), 에톡시화 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(에톡시기가 40 이하인 것), 프로폭시화 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(프로폭시기가 40 이하인 것), 비스페놀 A 폴리옥시에틸렌디아크릴레이트, 비스페놀 A 폴리옥시에틸렌디메타크릴레이트, 비스페놀 A 디옥시에틸렌디아크릴레이트, 비스페놀 A 디옥시에틸렌디메타크릴레이트, 비스페놀 A 트리옥시에틸렌디아크릴레이트, 비스페놀 A 트리옥시에틸렌디메타크릴레이트, 비스페놀 A 데카옥시에틸렌디아크릴레이트, 비스페놀 A 데카옥시에틸렌디메타크릴레이트, 이소시아눌산 에톡시 변성 트리아크릴레이트, 다가 카르복실산(무수프탈산 등)과 히드록실기 및 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물(β-히드록시에틸아크릴레이트, β-히드록시에틸메타크릴레이트 등)과의 에스테르화물, 아크릴산 또는 메타크릴산의 알킬에스테르(아크릴산메틸에스테르, 메타크릴산메틸에스테르, 아크릴산에틸에스테르, 메타크릴산에틸에스테르, 아크릴산부틸에스테르, 메타크릴산부틸에스테르, 아크릴산 2-에틸헥실에스테르, 메타크릴산 2-에틸헥실에스테르 등), 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 페녹시에틸메타크릴레이트, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트의 메틸클로라이드에 의한 4급 염화물, N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드의 메틸클로라이드에 의한 4급 염화물, 아크릴로일모르폴린, N-이소프로필아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트가 바람직하고, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트가 보다 바람직하다.

상기 안료로서는 적색이나 청색, 녹색의 착색 패턴을 제작하기 위해 사용되는 안료이면 되고, 예를 들면 프탈로시아닌계 안료 등을 들 수 있다. 당해 프탈로시아닌계 안료로서는 중심 금속에, 마그네슘, 티타늄, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 알루미늄을 포함하는 것을 들 수 있으며, 구체적으로는 C.I. 피그먼트 레드 1, C.I. 피그먼트 레드 2, C.I. 피그먼트 레드 5, C.I. 피그먼트 레드 17, C.I. 피그먼트 레드 31, C.I. 피그먼트 레드 32, C.I. 피그먼트 레드 41, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 170, C.I. 피그먼트 레드 171, C.I. 피그먼트 레드 175, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 178, C.I. 피그먼트 레드 179, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 185, C.I. 피그먼트 레드 187, C.I. 피그먼트 레드 202, C.I. 피그먼트 레드 206, C.I. 피그먼트 레드 207, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 214, C.I. 피그먼트 레드 220, C.I. 피그먼트 레드 221, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 243, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 레드 262, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 272, C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:1, C.I. 피그먼트 블루 15:2, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:5, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 16, C.I. 피그먼트 블루 17:1, C.I. 피그먼트 블루 75, C.I. 피그먼트 블루 79, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 37, C.I. 피그먼트 그린 58, 클로로알루미늄 프탈로시아닌, 히드록시알루미늄 프탈로시아닌, 알루미늄 프탈로시아닌 옥사이드, 아연 프탈로시아닌을 들 수 있다.

상기 안료의 함유량은 본 발명의 착색조성물 1의 중량에 대하여 10~50중량%, 바람직하게는 10~30중량%이다.

본 발명의 착색조성물 1이 상기 안료를 포함하는 경우, 안료분산제를 함유하는 것이 바람직하다. 당해 안료분산제로서는 예를 들면, 폴리아미드아민 및 그 염, 폴리카르복실산 및 그 염, 고분자량 불포화산 에스테르, 변성 폴리우레탄, 변성 폴리에스테르, 변성 폴리(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴계 공중합체, 나프탈렌설폰산 포르말린 축합물, 폴리옥시에틸렌알킬인산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 알칸올아민 등을 들 수 있다. 안료분산제는 단독으로 사용하여도 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. 그 함유량은 안료의 중량에 대하여 통상 1~80중량%이고, 바람직하게는 10~60중량%이다.

상기 용제로서는 본 발명의 착색조성물 1에 포함되는 성분에 따라 적절히 선택하면 된다. 구체적으로는 예를 들면, 아세트산에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산아밀, 아세트산이소아밀, 아세트산이소부틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 젖산메틸, 젖산에틸, 옥시아세트산메틸, 옥시아세트산에틸, 옥시아세트산부틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산메틸, 2-옥소부탄산에틸, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라히드로퓨란, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등을 들 수 있다. 용제의 양은 본 발명의 착색조성물 1의 농도가 용제 중 10~80중량%가 되는 양이다.

상기 실란 커플링제는 유리 등의 기재에 결합하는 경우에 사용된다. 당해 실란 커플링제로서는 통상 이 분야에서 사용되는 종래 공지의 것을 사용할 수 있으며, 반응성 유기관능기로서 예를 들면, 에폭시기, 티올기, 히드록실기, 아미노기, 우레이드기, 비닐기, 아크릴로일기 등을 갖는 실란 커플링제를 들 수 있다. 구체적으로는 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시드옥시프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-우레이드프로필트리에톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐-트리스(β-메톡시에톡시)실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란을 들 수 있다. 상기 실란 커플링제는 반응용액 중에서 통상 0.1~10중량%, 바람직하게는 1~5중량%가 되는 양을 사용하면 된다.

상기 가교제로서는 가교반응에 의해 막 경화를 수행할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 (a) 에폭시 수지, (b) 메틸올기, 알콕시메틸기 및 아실옥시메틸기에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환된, 멜라민 화합물, 구아나민 화합물, 글리콜우릴 화합물 또는 우레아 화합물, (c) 메틸올기, 알콕시메틸기 및 아실옥시메틸기에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환된, 페놀 화합물, 나프톨 화합물 또는 히드록시안트라센 화합물을 들 수 있으며, 그 중에서도 다관능 에폭시 수지가 바람직하다.

상기 가교제의 함유량은 본 발명의 착색조성물 1의 중량에 대하여 10~50중량%, 바람직하게는 20~50중량%이다.

본 발명의 착색조성물 1은 상기에 기재한 것 이외에, 중합금지제, 계면활성제, 첨가제 등을 포함하고 있어도 좋으며, 그들은 자체 공지의 것이면 특별히 한정되지 않고, 사용되는 양도 통상 이 분야에서 사용되는 양이면 한정되지 않는다.

본 발명의 착색조성물 1은 상기의 성분을 혼합하여 조제된다.

[착색조성물 2]

본 발명의 소광제는 적어도 1종류의 당해 소광제와, 적어도 1종류의 소광대상화합물을 포함하는 착색조성물을 형성할 수 있다(이하, 본 발명의 착색조성물 2로 약칭하는 경우가 있다). 본 발명의 착색조성물 2는 본래 소광대상화합물이 발하는 형광을 억제하고, 예를 들면 컬러 필터로서 사용하는 경우, 높은 콘트라스트를 갖는 우수한 착색경화막을 형성할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 착색조성물 2는 액정 표시 장치(LCD)나 고체 촬상 소자(CCD, CMOS 등)에 사용되는 컬러 필터 등의 착색화소 형성용도, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 및 도료 등의 용도로 사용할 수 있으며, 특히, 액정 표시 장치의 컬러 필터용으로서 적합하다. 또한, 본 발명의 착색조성물 2는 종래 공지의 성형방법에 의해 시트, 필름, 병, 컵 등으로 성형하여 착색수지 성형물로서 사용할 수도 있다. 따라서, 안경, 컬러 콘택트 렌즈 등의 용도로도 사용할 수 있으며, 공지된 수지와의 다층 구조체로 함으로써도 마찬가지로 사용할 수 있다. 그 외에도, 예를 들면 광학 필름, 헤어 컬러링제, 화합물이나 생체물질에 대한 표지물질, 유기태양전지의 재료 등의 용도로도 사용하는 것이 가능하다.

본 발명의 착색조성물 2는 적어도 본 발명의 소광제를 1종 이상, 및 적어도 소광대상화합물을 1종 이상과, 중합개시제, 바인더 수지 및 라디칼 중합성 모노머 또는 올리고머를 포함하는 것이 바람직하고, 필요에 따라, 안료, 용제, 실란 커플링제 및 가교제 등을 포함하고 있어도 좋다. 본 발명의 착색조성물 2는 본 발명의 소광제를 본 발명의 착색조성물 2의 중량에 대하여 1~80중량%, 바람직하게는 10~50중량% 함유한다. 또한, 여기서 말하는 본 발명의 착색조성물 2의 중량은 용제를 제외한 고형성분의 중량을 의미한다.

상기 소광대상화합물로서는 본 발명의 소광제 항에서 기재한 것과 동일한 것을 들 수 있다.

상기 소광대상화합물의 함유량은 본 발명의 착색조성물 2의 중량에 대하여 1~50중량%, 바람직하게는 5~30중량%이다.

본 발명의 착색조성물 2에서의 중합개시제, 바인더 수지, 라디칼 중합성 모노머 또는 올리고머, 안료, 용제, 실란 커플링제 및 가교제로서는 본 발명의 착색조성물 1에서의 그들과 동일한 것을 들 수 있으며, 각 함유량도 동일하다.

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 추가로 상세히 설명하는데, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.

실시예

실시예 1 : 카르복실산체(화합물 2)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 6'-(디에틸아미노)-1',2'-벤조플루오란(화합물 1 : 도쿄화성공업(주) 제품) 2.5g(6.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.6g(6.0mmol) 및 에탄올 50ml를 넣고, 40℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 염화물 이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 2) 2.7g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 2 : 카르복실산체(화합물 3)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 6'-(디에틸아미노)-1',2'-벤조플루오란(화합물 1 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.2g(9.9mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 30ml(30mmol), 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV)의 리튬염(LiFABA)(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 7.4g(9.9mmol) 및 에탄올 83ml를 넣고, 40℃에서 4시간 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 3) 10.9g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 3 : 카르복실산체(화합물 4)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 6'-(디에틸아미노)-1',2'-벤조플루오란(화합물 1 : 도쿄화성공업(주) 제품) 5.0g(12.0mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 36ml(36.0mmol), 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬(LiN(SO₂CF₃)₂)(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3.4g(12.0mmol) 및 에탄올 100ml를 넣고, 60℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다.　디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다.　감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 4) 7.8g(수율 93%)을 얻었다.

실시예 4 : 카르복실산체(화합물 6)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 6'-(디에틸아미노)-1',3'-디메틸플루오란(화합물 5 : 도쿄화성공업(주) 제품) 3.2g(8.0mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 24ml(24.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 6.0g(8.0mmol), 에탄올 60ml 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 4시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 6) 8.6g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 5 : 카르복실산체(화합물 8)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2'-(디벤질아미노)-6'-(디에틸아미노)플루오란(화합물 7 : 도쿄화성공업(주) 제품) 5.1g(9.0mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 27ml(27.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 6.7g(9.0mmol), 에탄올 100ml 및 디클로로메탄 15ml를 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 아주 짙은 녹색 고체의 카르복실산체(화합물 8) 11.2g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 6 : 카르복실산체(화합물 9)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2'-(디벤질아미노)-6'-(디에틸아미노)플루오란(화합물 7 : 도쿄화성공업(주) 제품) 8.5g(15.0mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 45ml(45.0mmol), LiN(SO₂CF₃)₂(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 4.3g(15.0mmol), 에탄올 150ml 및 디클로로메탄 15ml를 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드 음이온을 갖는 아주 짙은 녹색 고체의 카르복실산체(화합물 9) 12.5g(수율 98%)을 얻었다.

실시예 7 : 카르복실산체(화합물 13)의 합성

(1) 락톤체(화합물 12)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 54.8g(175.0mmol), p-플루오로페놀(화합물 11 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 25.6g(210.0mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 160ml를 넣고, 90℃에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 얻어진 반응액으로부터 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거, 건조하여 백색 고체의 락톤체(화합물 12) 63.8g(수율 94%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 13)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 12) 31.2g(80.0mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 200ml(200.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 59.7g(80.0mmol), 에탄올 500ml 및 디클로로메탄 100ml를 넣고, 실온에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 13) 85.5g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 8 : 메틸에스테르체(화합물 15)의 합성

(1) 메틸에스테르체(화합물 14)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 6'-(디에틸아미노)-1',2'-벤조플루오란(화합물 1 : 도쿄화성공업(주) 제품) 1.5g(3.6mmol), 진한 황산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1ml 및 메탄올 20ml를 넣고, 60℃에서 30시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 메틸에스테르체(화합물 14) 1.6g(수율 83%)을 얻었다.

(2) 메틸에스테르체(화합물 15)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 메틸에스테르체(화합물 14) 0.5g(1.0mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3ml(3.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 0.7g(1.0mmol) 및 에탄올 10ml를 넣고, 실온에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 얻어진 반응액으로부터 분액한 유기층을 감압 농축에 의해 용매를 증류제거하여, 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 메틸에스테르체(화합물 15) 1.1g(수율 96%)을 얻었다.

실시예 9 : 모노머(화합물 17)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 2에서 얻은 카르복실산체(화합물 3) 11.4g(10.3mmol) 및 디클로로메탄 100ml를 첨가하여 용해시키고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.6g(12.4mmol), 4-디메틸아미노피리딘(DMAP)(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.4g(3.1mmol) 및 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드 염산염(WSC)(토요보(주) 제품) 3.4g(17.5mmol)을 넣고, 40℃에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 17) 4.2g(수율 33%)을 얻었다.

실시예 10 : 모노머(화합물 18)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 4에서 얻은 카르복실산체(화합물 6) 9.0g(8.3mmol) 및 디클로로메탄 81ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.3g(10.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.5mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 2.7g(14.2mmol)을 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 18) 4.6g(수율 46%)을 얻었다.

실시예 11 : 모노머(화합물 19)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 5에서 얻은 카르복실산체(화합물 8) 11.4g(9.2mmol) 및 디클로로메탄 100ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.4g(11.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.8mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 3.0g(15.6mmol)을 넣고, 실온에서 8시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 짙은 녹색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 짙은 녹색 고체의 모노머(화합물 19) 8.7g(수율 70%)을 얻었다.

실시예 12 : 모노머(화합물 20)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 6에서 얻은 카르복실산체(화합물 9) 8.5g(10.0mmol) 및 디클로로메탄 60ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.6g(12.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.4g(3.0mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 3.3g(17.0mmol)을 첨가하여, 실온에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 짙은 녹색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 짙은 녹색 고체의 모노머(화합물 20) 6.4g(수율 67%)을 얻었다.

실시예 13 : 모노머(화합물 21)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 7에서 얻은 카르복실산체(화합물 13) 82.9g(77.5mmol) 및 디클로로메탄 580ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 12.1g(93.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.8g(23.3mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 25.3g(131.8mmol)을 넣고, 실온에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 21) 32.7g(수율 36%)을 얻었다.

실시예 14 : 카르복실산체(화합물 27)의 합성

(1) 안식향산 유도체(화합물 24)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2,3,6,7-테트라히드로-1,5-벤조 [ij] 퀴놀리진-8-올(화합물 22 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.9g(9.8mmol), 무수프탈산(화합물 23 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.6g(9.8mmol) 및 톨루엔 30ml를 넣고, 100℃에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각하여 석출한 결정을 여과분리하여 메탄올로 세척하고, 건조시켜 흰색 고체의 안식향산 유도체(화합물 24) 2.3g(수율 70%)을 얻었다.

(2) 락톤체(화합물 26)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 안식향산 유도체(화합물 24) 1.2g(3.6mmol), 2-나프톨(화합물 25 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.6g(3.9mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 5ml를 넣고, 90℃에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 얻어진 반응액에 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 얻어진 반응액으로부터 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 백색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 백색 고체의 락톤체(화합물 26) 1.0g(수율 63%)을 얻었다.

(3) 카르복실산체(화합물 27)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (2)에서 얻은 락톤체(화합물 26) 0.8g(1.7mmol), 1mol/L 염산 수용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 5.1ml(5.1mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.3g(1.7mmol), 에탄올 15ml 및 디클로로메탄 15ml를 넣고, 35℃에서 4시간 동안 반응을 수행하였다. 염화메틸렌으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온(counter anion)으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 갈색 고체의 카르복실산체(화합물 27) 1.9g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 15 : 모노머(화합물 28)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 14에서 얻은 카르복실산체(화합물 27) 1.5g(1.3mmol) 및 디클로로메탄 13ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(1.7mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.4mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.4g(2.3mmol)을 첨가하여, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 얻어진 반응액의 유기층을 물세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 28) 1.1g(수율 64%)을 얻었다.

실시예 16 : 모노머(화합물 30)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 2에서 얻은 카르복실산체(화합물 3) 3.2g(2.9mmol) 및 테트라히드로퓨란 15ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 아크릴산 2-히드록시에틸(화합물 29 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.4g(3.5mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.9mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.9g(4.9mmol)을 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 얻어진 반응액의 유기층을 물세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 30) 0.9g(수율 26%)을 얻었다.

실시예 17 : 카르복실산체(화합물 33)의 합성

(1) 락톤체(화합물 32)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 2.1g(5.0mmol), 레졸시놀(화합물 31 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(6.0mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 6ml를 넣고, 90℃에서 8시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 분액하여 얻은 유기층에서, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하였다. 얻어진 흑색 고체에 아세트산에틸을 첨가하여 교반하고, 석출한 고체를 건조하여 흑색 고체의 락톤체(화합물 32) 1.8g(수율 94%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 33)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 32) 1.2g(3.0mmol) 및 디클로로메탄 19ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(6.0mmol) 및 LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 2.3g(3.0mmol)을 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 흑색 고체의 카르복실산체(화합물 33) 2.7g(수율 84%)을 얻었다.

실시예 18 : 모노머(화합물 34)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 17에서 얻은 카르복실산체(화합물 33) 1.5g(1.4mmol) 및 디클로로메탄 6ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(1.7mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.4mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.5g(2.4mmol)을 넣고, 실온에서 8시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 34) 0.2g(수율 10%)을 얻었다.

실시예 19 : 카르복실산체(화합물 37)의 합성

(1) 락톤체(화합물 36)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 3.1g(10.0mmol), 3,4,5-트리메톡시페놀(화합물 35 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.8g(10.0mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10ml를 넣고, 80℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체의 락톤체(화합물 36) 4.0g(수율 87%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 37)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 36) 1.0g(2.2mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(4.5mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.7g(2.2mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 37) 2.5g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 20 : 모노머(화합물 38)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 19에서 얻은 카르복실산체(화합물 37) 2.0g(1.8mmol) 및 디클로로메탄 20ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.1mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.5mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.6g(3.0mmol)을 넣고, 실온에서 4일 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 38) 0.8g(수율 37%)을 얻었다.

실시예 21 : 카르복실산체(화합물 42)의 합성

(1) 메틸체(화합물 40)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 1,6-디히드록시나프탈렌(화합물 39 : 도쿄화성공업(주) 제품) 1.6g(10.0mmol) 및 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 15ml를 첨가하여 용해하고, 추가로 요오드화메틸(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 14.2g(100.0mmol) 및 탄산칼륨(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 13.8g(100.0mmol)을 첨가하여, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 무색 액체의 메틸체(화합물 40) 1.7g(수율 90%)을 얻었다.

(2) 락톤체(화합물 41)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 2.7g(8.5mmol), 상기 (1)에서 얻은 메틸체(화합물 40) 1.8g(9.4mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10ml를 넣고, 90℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체의 락톤체(화합물 41) 1.7g(수율 44%)을 얻었다.

(3) 카르복실산체(화합물 42)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (2)에서 얻은 락톤체(화합물 41) 0.5g(1.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(2.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 0.8g(1.0mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 4.5시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 반응액을 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 42) 1.1g(수율 96%)을 얻었다.

실시예 22 : 모노머(화합물 43)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 21에서 얻은 카르복실산체(화합물 42) 0.9g(0.8mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.9mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.9mmol) 및 N,N'-디이소프로필카르보디이미드(DIC)(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.9mmol)을 첨가하여, 실온에서 4일 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 43) 0.5g(수율 50%)을 얻었다.

실시예 23 : 카르복실산체(화합물 46)의 합성

(1) 락톤체(화합물 45)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), 페놀(화합물44 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.6g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 90℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 락톤체(화합물 45) 1.7g(수율 28%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 46)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 45) 0.8g(2.1mmol) 및 디클로로메탄 20ml를 첨가하여 용해하고, 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.4g(4.2mmol) 및 LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.6g(2.1mmol)을 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 흑색 고체의 카르복실산체(화합물 46) 2.2g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 24 : 모노머(화합물 47)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 23에서 얻은 카르복실산체(화합물 46) 1.6g(1.5mmol) 및 디클로로메탄 5ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(1.7mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.5g(2.6mmol)을 넣고, 실온에서 12시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 47) 0.3g(수율 18%)을 얻었다.

실시예 25 : 카르복실산체(화합물 50)의 합성

(1) 락톤체(화합물 49)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), p-tert-부틸페놀(화합물 48 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.4g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 90℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체의 락톤체(화합물 49) 6.3g(수율 99%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 50)의 합성

교반장치를 구비한 둥근 바닥플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 49) 1.2g(2.8mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.6g(5.6mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 2.1g(2.8mmol) 및 디클로로메탄 25ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 50) 3.1g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 26 : 모노머(화합물 51)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 25에서 얻은 카르복실산체(화합물 50) 2.2g(2.0mmol) 및 디클로로메탄 7ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.7g(3.4mmol)을 넣고, 실온에서 8시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 51) 0.9g(수율 35%)을 얻었다.

실시예 27 : 카르복실산체(화합물 54)의 합성

(1) 락톤체(화합물 53)의 합성　

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), p-페닐페놀(화합물 52 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.7g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 90℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체의 락톤체(화합물 53) 6.4g(수율 96%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 54)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 53) 1.4g(3.1mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(6.2mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 2.4g(3.1mmol) 및 디클로로메탄 30ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 54) 3.5g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 28 : 모노머(화합물 55)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 27에서 얻은 카르복실산체(화합물 54) 2.3g(2.0mmol) 및 디클로로메탄 7ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(3.4mmol)을 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 55) 0.8g(수율 31%)을 얻었다.

실시예 29 : 카르복실산체(화합물 58)의 합성

(1) 락톤체(화합물 57)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), p-쿠밀페놀(화합물 56 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3.6g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 90℃에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 백색 고체의 락톤체(화합물 57) 5.1g(수율 69%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 58)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 57) 0.9g(1.8mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.4g(3.6mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.4g(1.8mmol) 및 디클로로메탄 20ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 58) 2.1g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 30 : 모노머(화합물 59)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 29에서 얻은 카르복실산체(화합물 58) 1.8g(1.5mmol) 및 디클로로메탄 5ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(1.7mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(2.6mmol)을 넣고, 실온에서 8시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 59) 0.4g(수율 19%)을 얻었다.

실시예 31 : 카르복실산체(화합물 62)의 합성

(1) 락톤체(화합물 61)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), 4-페녹시페놀(화합물 60 : 도쿄화성공업(주) 제품) 2.9g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 90℃에서 3시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 자색 고체의 락톤체(화합물 61) 6.2g(수율 89%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 62)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 61) 1.5g(3.2mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(6.5mmol), LiFABA (토소ㆍ파인켐(주) 제품) 2.5g(3.2mmol) 및 디클로로메탄 30ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 62) 3.7g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 32 : 모노머(화합물 63)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 31에서 얻은 카르복실산체(화합물 62) 2.3g(2.0mmol) 및 디클로로메탄 7ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(와코준야꾸공업(주) 제품) 0.7g(3.4mmol)을 첨가하여, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 63) 0.4g(수율 14%)을 얻었다.

실시예 33 : 카르복실산체(화합물 66)의 합성

(1) 락톤체(화합물 65)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), m-페녹시페놀(화합물 64 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.9g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 100℃에서 5시간 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 락톤체(화합물 65) 4.3g(수율 62%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 66)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 65) 2.3g(4.9mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.0g(9.8mmol), LiFABA (토소ㆍ파인켐(주) 제품) 3.7g(4.9mmol) 및 디클로로메탄 30ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 66) 5.6g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 34 : 모노머(화합물 67)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 33에서 얻은 카르복실산체(화합물 66) 2.3g(2.0mmol) 및 디클로로메탄 7ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(3.4mmol)을 넣고, 실온에서 10시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 67) 0.6g(수율 22%)을 얻었다.

실시예 35 : 카르복실산체(화합물 70)의 합성

(1) 락톤체(화합물 69)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 4.7g(15.0mmol), m-메톡시페놀(화합물 68 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.0g(15.8mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15ml를 넣고, 90℃에서 4시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 락톤체(화합물 69) 3.0g(수율 49%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 70)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 69) 2.3g(5.8mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(2.0mmol), LiFABA (토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.2g(11.6mmol) 및 디클로로메탄 30ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 70) 6.3g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 36 : 모노머(화합물 71)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 35에서 얻은 카르복실산체(화합물 70) 2.2g(2.0mmol) 및 디클로로메탄 7ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(3.4mmol)을 첨가하여, 실온에서 10시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 71) 0.6g(수율 25%)을 얻었다.

실시예 37 : 카르복실산체(화합물 75)의 합성

(1) 안식향산 유도체(화합물 73)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, N,N-디부틸-m-아미노페놀(화합물 72 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 4.4g(20.0mmol), 무수프탈산(화합물 23 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3.2g(20.0mmol) 및 톨루엔 50ml를 넣고, 100℃에서 30시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각하여 석출한 결정을 여과분리하여 아세트산에틸로 세척하고, 건조하여 자색 고체의 안식향산 유도체(화합물 73) 3.0g(수율 41%)을 얻었다.

(2) 락톤체(화합물 74)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 안식향산 유도체(화합물 73) 1.5g(4.0mmol), p-플루오로페놀(화합물 11 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.6g(4.4mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 4ml을 넣고, 90℃에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체의 락톤체(화합물 74) 1.5g(수율 86%)을 얻었다.

(3) 카르복실산체(화합물 75)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (2)에서 얻은 락톤체(화합물 74) 1.1g(2.5mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(5.0mmol), LiFABA (토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.9g(2.5mmol) 및 디클로로메탄 25ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적갈색 고체의 카르복실산체(화합물 75) 2.8g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 38 : 모노머(화합물 76)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 37에서 얻은 카르복실산체(화합물 75) 2.3g(2.0mmol) 및 디클로로메탄 7ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.7g(3.4mmol)을 넣고, 실온에서 13시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적갈색 고체의 모노머(화합물 76) 0.9g(수율 34%)을 얻었다.

실시예 39 : 카르복실산체(화합물 79)의 합성

(1) 락톤체(화합물 78)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 3.1g(10.0mmol), p-메톡시티오아니솔(화합물 77 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.5g(10.0mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10ml를 넣고, 90℃에서 7시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 적갈색 고체의 락톤체(화합물 78) 2.6g(수율 63%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 79)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 78) 1.0g(2.5mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(4.9mmol), LiFABA (토소ㆍ파인켐(주) 제품) 1.9g(2.5mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 6.5시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 79) 2.5g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 40 : 모노머(화합물 80)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 39에서 얻은 카르복실산체(화합물 79) 2.3g(2.1mmol) 및 디클로로메탄 20ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.5mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 80mg(0.6mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 1.0g(5.2mmol)을 넣고, 실온에서 14시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 80) 0.8g(수율 32%)을 얻었다.

실시예 41 : 카르복실산체(화합물 83)의 합성

(1) 락톤체(화합물 82)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 3.1g(10.0mmol), p-메톡시아니솔(화합물 81 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.4g(10.0mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10ml를 넣고, 90℃에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체의 락톤체(화합물 82) 3.4g(수율 85%)을 얻었다.

(2) 카르복실산체(화합물 83)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 82) 3.3g(8.2mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.7g(16.3mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 6.2g(8.2mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 30분간 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 83) 8.8g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 42 : 모노머(화합물 84)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 41에서 얻은 카르복실산체(화합물 83) 2.0g(1.9mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 70mg(0.6mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.9g(4.6mmol)을 넣고, 실온에서 12시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 84) 0.7g(수율 34%)을 얻었다.

실시예 43 : 카르복실산체(화합물 88)의 합성

(1) 락톤체(화합물 86)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 9.0g(28.7mmol), p-메톡시아닐린(화합물 85 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3.1g(28.7mmol) 및 메탄설폰산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20ml를 넣고, 120℃에서 25시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적갈색 고체의 락톤체(화합물 86) 1.7g(수율 44%)을 얻었다.

(2) 락톤체(화합물 87)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 락톤체(화합물 86) 0.4g(1.0mmol) 및 DMF 10ml을 첨가하여 용해하고, 요오드화에틸(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.0g(6.2mmol) 및 탄산칼륨(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.9g(6.2mmol)을 넣고, 실온에서 12시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 아세트산에틸과 물을 첨가한 후, 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 녹색 고체의 스피로락톤체(화합물 87) 0.4g(수율 87%)을 얻었다.

(3) 카르복실산체(화합물 88)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (2)에서 얻은 락톤체(화합물 87) 0.3g(0.7mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(1.3mmol), LiFABA (토소ㆍ파인켐(주) 제품) 0.5g(0.7mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 0.5시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 녹색 고체의 카르복실산체(화합물 88) 0.7g(수율 96%)을 얻었다.

실시예 44 : 모노머(화합물 89)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 43에서 얻은 카르복실산체(화합물 88) 0.6g(0.6mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(0.7mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.2g(1.0mmol)을 넣고, 실온에서 9시간 동안 반응시켰다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 녹색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 녹색 고체의 모노머(화합물 89) 0.5g(수율 67%)을 얻었다.

실시예 45 : 카르복실산체(화합물 91)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 2'-아닐리노-6'-(디부틸아미노)-3'-메틸스피로[프탈리드-3,9'-크산텐(화합물 90 : 상품명 Black 400, 후쿠이야마다화학공업(주) 제품) 10.6g(20.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 4.2g(40.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 15.2g(20.0mmol) 및 디클로로메탄 100ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 흑색 고체의 카르복실산체(화합물 91) 24.3g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 46 : 모노머(화합물 92)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 45에서 얻은 카르복실산체(화합물 91) 24.3g(20.0mmol) 및 디클로로메탄 72ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.9g(22.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.2g(2.0mmol) 및 DIC(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 2.8g(22.0mmol)을 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 흑색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 흑색 고체의 모노머(화합물 92) 22.0g(수율 83%)을 얻었다.

실시예 47 : 카르복실산체(화합물 94)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2'-아닐리노-6'-(N-에틸-N-이소펜틸아미노)-3'-메틸스피로[프탈리드-3,9'-크산텐](화합물 93 : 상품명 S-205, 후쿠이야마다화학공업(주) 제품) 2.59g(5.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.04g(10.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 3.81g(5.0mmol) 및 디클로로메탄 60ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 흑색 고체의 카르복실산체(화합물 94) 5.99g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 48 : 모노머(화합물 95)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 47에서 얻은 카르복실산체(화합물 94) 2.4g(1.9mmol) 및 디클로로메탄 8ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 20mg(0.2mmol) 및 DIC(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.3g(2.2mmol)을 넣고, 실온에서 5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 흑색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 흑색 고체의 모노머(화합물 95) 2.1g(수율 79%)을 얻었다.

실시예 49 : 카르복실산체(화합물 97)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2'-아닐리노-6'-[N-에틸-N-(4-톨릴)아미노]-3'-메틸-3H-스피로[프탈리드-3,9'-크산텐](화합물 96 : 상품명 ETAC, 후쿠이야마다화학공업(주) 제품) 1.6g(3.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.6g(6.0mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 2.3g(3.0mmol) 및 디클로로메탄 35ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 흑색 고체의 카르복실산체(화합물 97) 3.7g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 50 : 모노머(화합물 98)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 49에서 얻은 카르복실산체(화합물 97) 3.9g(3.2mmol) 및 디클로로메탄 12ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(3.5mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 40mg(0.3mmol) 및 DIC(와코쥰아꾸공업(주) 제품) 0.4g(3.5mmol)을 넣고, 실온에서 4시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 흑색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 흑색 고체의 모노머(화합물 98) 3.0g(수율 70%)을 얻었다.

실시예 51 : 카르복실산체(화합물 99)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 7에서 얻은 락톤체(화합물 12) 11.7g(30.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 6.3g(60.0mmol), LiN(SO₂CF₃)₂(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 8.6g(30.0mmol) 및 디클로로메탄 190ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 99) 20.1g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 52 : 모노머(화합물 100)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 51에서 얻은 카르복실산체(화합물 99) 13.4g(20.0mmol) 및 디클로로메탄 40ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3.1g(24.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(6.0mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 6.5g(34.0mmol)을 넣고, 실온에서 4시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 적색 유상물(油狀物)을 얻었다. 당해 유상물을 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 100) 11.3g(수율 72%)을 얻었다.

실시예 53 : 카르복실산체(화합물 101)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 19에서 얻은 락톤체(화합물 36) 2.5g(5.3mmol), 60% 헥산플루오로인산용액(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 3.1g(21.3mmol) 및 디클로로메탄 20ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물, 포화식염수로 순차적으로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 헥사플루오로인산 음이온을 갖는 적색 고체의 카르복실산체(화합물 101) 3.3g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 54 : 모노머(화합물 102)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 53에서 얻은 카르복실산체(화합물 101) 0.5g(0.8mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(1.0mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.1g(1.0mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.3g(1.7mmol)을 넣고, 실온에서 14시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물, 포화식염수로 순차적으로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 자색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 적색 고체의 모노머(화합물 102) 13mg(수율 2%)을 얻었다.

실시예 55 : 카르복실산체(화합물 106)의 합성

(1) 디에틸체(화합물 104)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 2,5-디메톡시아닐린(화합물 103 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10.0g(65.3mmol), 탄산칼륨(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 46.3g(653.0mmol), 요오드화에틸(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 102.0g(653.0mmol) 및 DMF(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 100ml를 넣고, 실온에서 37시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 분액하여 얻은 유기층을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 흑색 액체를 얻었다. 당해 액체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여, 무색 액체의 디에틸체(화합물 104) 9.0g(수율 66%)을 얻었다.

(2) 락톤체(화합물 105)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (1)에서 얻은 디에틸체(화합물 104) 2.1g(10.0mmol), 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)안식향산(화합물 10 : 도쿄화성공업(주) 제품) 3.1g(10.0mmol) 및 진한 황산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10ml를 넣고, 90℃에서 8시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 디클로로메탄과 물을 첨가한 후, 25% 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 중화하고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 분액하여 얻은 유기층을 포화식염수로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 자색 고체의 락톤체(화합물 105) 3.6g(수율 77%)을 얻었다.

(3) 카르복실산체(화합물 106)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 상기 (2)에서 얻은 락톤체(화합물 105) 1.1g(2.4mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(4.8mmol), LiFABA(토소ㆍ파인켐(주) 제품) 2.0g(2.6mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 넣고, 실온에서 1시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물, 포화식염수로 순차적으로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 테트라키스(펜타플루오로페닐)붕소(IV) 음이온을 갖는 자색 고체의 카르복실산체(화합물 106) 2.8g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 56 : 모노머(화합물 107)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 55에서 얻은 카르복실산체(화합물 106) 2.0g(1.7mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(3.5mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 60mg(0.5mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.4g(1.9mmol)을 넣고, 실온에서 25시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 자색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 자색 고체의 모노머(화합물 107) 1.4g(수율 62%)을 얻었다.

실시예 57 : 카르복실산체(화합물 108)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 55에서 얻은 락톤체(화합물 105) 1.9g(4.0mmol), 진한 염산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.5g(4.4mmol), 육불화안티몬산칼륨(모리타화학공업(주) 제품) 1.2g(4.4mmol) 및 디클로로메탄 15ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 디클로로메탄으로 희석한 후, 물로 세척하였다. 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여, 상대 음이온으로 헥사플루오로안티몬산 음이온을 갖는 자색 고체의 카르복실산체(화합물 108) 2.7g(수율 95%)을 얻었다.

실시예 58 : 모노머(화합물 109)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 57에서 얻은 카르복실산체(화합물 108) 2.6g(3.7mmol) 및 디클로로메탄 24ml를 첨가하여 용해하고, 메타크릴산 2-히드록시에틸(화합물 16 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.6g(4.4mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 50mg(0.4mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 1.2g(6.3mmol)을 넣고, 실온에서 6시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 자색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 자색 고체의 모노머(화합물 109) 2.5g(수율 82%)을 얻었다.

실시예 59 : 카르복실산체(화합물 110)의 합성

교반장치를 구비한 둥근 바닥플라스크에, 6'-(디에틸아미노)-1',2'-벤조플루오란(화합물 1 : 도쿄화성공업(주) 제품) 1.7g(4.0mmol), 과염소산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.7g(4.0mmol) 및 디클로로메탄 15ml를 넣고, 실온에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액에 물을 첨가하여 석출한 결정을 여과분리하고, 건조함으로써, 상대 음이온으로 과염소산 음이온을 갖는 갈색 고체의 카르복실산체(화합물 110) 1.7g(수율 82%)을 얻었다.

실시예 60 : 모노머(화합물 112)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, 실시예 55에서 얻은 카르복실산체(화합물 106) 0.32g(0.28mmol) 및 디클로로메탄 10ml를 첨가하여 용해하고, 피페리딘(화합물 111 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 0.05g(0.56mmol), DMAP(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10mg(0.08mmol) 및 WSC(토요보(주) 제품) 0.11g(0.56mmol)을 넣고, 실온에서 6.5시간 동안 반응을 수행하였다. 반응액을 물로 세척하고, 감압 농축에 의해 반응액으로부터 용매를 증류제거하여 자색 고체를 얻었다. 당해 고체를 실리카겔 컬럼으로 정제하여 자색 고체의 모노머(화합물 112) 0.21g(수율 62%)을 얻었다.

실험예 1 : 모노머(화합물 17)에 의한 로다민 B의 소광평가

(1) 소광대상화합물의 형광 측정

로다민 B(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 13mg(0.027mmol)을 메스 플라스크에 넣고, 메탄올로 100ml로 메스업(mass-up)하였다. 그 용액을 홀피펫으로 1ml 덜어내서, 메탄올로 다시 100ml로 메스업하였다. 이를 A액으로 하였다. A액을 홀피펫으로 2ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도: 2.76×10^-7mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ia)를 측정하였다.

(2) 소광평가(i)

실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 11mg(0.0091mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이것을 B액으로 하였다. 홀피펫으로 A액을 2ml, B액을 10ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도: 4.67×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ib)를 측정하였다. 측정한 Ia 및 Ib의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Ia-Ib)/Ia×100

(3) 소광평가(ii)

(2)에서 B액을 10ml 대신에 4ml 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도: 1.87×10^-5mol/L).

실험예 1의 결과를 표 1에 나타낸다.

소광평가	화합물 17의 농도(mol/L)	형광강도의 감소율(%)
(ⅰ)	4.67×10-5	91.8
(ⅱ)	1.87×10-5	68.6

상기 표 1에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 소광제는 크산텐 골격을 갖는 로다민 B의 형광발광을 충분히 억제할 수 있을 정도의 소광능력을 가지고 있음을 알 수 있었다. 또한, 당해 소광능력은 본 발명의 화합물의 농도에 의존하고 있으며, 농도가 높을수록 형광강도의 감소율이 높아지는(소광능력이 높아지는) 것을 알 수 있었다.

실험예 2 : 카르복실산체(화합물 2)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 1에서 얻어진 화합물 2를 17mg(0.0037mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 R액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, R액을 4.0ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 4.89×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법에 의해 형광강도의 감소율을 구하였다.

실험예 3 : 카르복실산체(화합물 3)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 2에서 얻어진 화합물 3을 9.8mg(0.0089mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.45×10^-5mol/L).

실험예 4 : 카르복실산체(화합물 4)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 3에서 얻어진 화합물 4를 17mg(0.024mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 8.25×10^-5mol/L).

실험예 5 : 카르복실산체(화합물 6)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 4에서 얻어진 화합물 6을 15mg(0.014mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 6.76×10^-5mol/L).

실험예 6 : 카르복실산체(화합물 8)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 5에서 얻어진 화합물 8을 12mg(0.00095mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.77×10^-5mol/L).

실험예 7 : 카르복실산체(화합물 9)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 6에서 얻어진 화합물 9를 16.5mg(0.019mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.89×10^-5mol/L).

실험예 8 : 카르복실산체(화합물 13)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 7에서 얻어진 화합물 13을 13.3mg(0.012mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 6.22×10^-5mol/L).

실험예 9 : 메틸에스테르체(화합물 15)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 8에서 얻어진 화합물 15를 13.7mg(0.012mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 2.46×10^-5mol/L).

실험예 10 : 모노머(화합물 18)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 10에서 얻어진 화합물 18을 12.6mg(0.011mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.29×10^-5mol/L).

실험예 11 : 모노머(화합물 19)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 11에서 얻어진 화합물 19를 11.2mg(0.0082mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 S액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, S액을 12ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 4.95×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다.

실험예 12 : 모노머(화합물 20)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 12에서 얻어진 화합물 20을 15.2mg(0.016mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 T액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, T액을 7.0ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 5.54×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다.

실험예 13 : 모노머(화합물 21)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 13에서 얻어진 화합물 21을 13mg(0.011mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.50×10^-5mol/L).

실험예 14 : 모노머(화합물 28)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 15에서 얻어진 화합물 28을 16.4mg(0.014mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 2.78×10^-5mol/L).

실험예 15 : 모노머(화합물 38)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 20에서 얻어진 화합물 38을 10.1mg(0.0081mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.03×10^-5mol/L).

실험예 16 : 모노머(화합물 43)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 22에서 얻어진 화합물 43을 12.0mg(0.0096mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.82×10^-5mol/L).

실험예 17 : 모노머(화합물 51)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 26에서 얻어진 화합물 51을 13.0mg(0.011mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.33×10^-5mol/L).

실험예 18 : 모노머(화합물 55)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 28에서 얻어진 화합물 55를 10.3mg(0.0083mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.15×10^-5mol/L).

실험예 19 : 모노머(화합물 59)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 30에서 얻어진 화합물 59를 11.4mg(0.0089mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 U액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, U액을 12ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 5.33×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다.

실험예 20 : 모노머(화합물 63)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 32에서 얻어진 화합물 63을 8.2mg(0.0065mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.27×10^-5mol/L).

실험예 21 : 모노머(화합물 76)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 38에서 얻어진 화합물 76을 9.8mg(0.0079mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.96×10^-5mol/L).

실험예 22 : 모노머(화합물 80)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 40에서 얻어진 화합물 80을 10.1mg(0.0083mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.17×10^-5mol/L).

실험예 23 : 모노머(화합물 84)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 42에서 얻어진 화합물 84를 9.5mg(0.0080mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.98×10^-5mol/L).

실험예 24 : 모노머(화합물 89)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 44에서 얻어진 화합물 89를 10.4mg(0.0084mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.43×10^-5mol/L).

실험예 25 : 모노머(화합물 92)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 46에서 얻어진 화합물 92를 9.1mg(0.0069mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.43×10^-5mol/L).

실험예 26 : 모노머(화합물 95)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 48에서 얻어진 화합물 95를 11.0mg(0.0084mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.20×10^-5mol/L).

실험예 27 : 모노머(화합물 98)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 50에서 얻어진 화합물 98을 11.0mg(0.0083mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.13×10^-5mol/L).

실험예 28 : 모노머(화합물 107)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 56에서 얻어진 화합물 107을 13.3mg(0.011mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.26×10^-5mol/L).

실험예 29 : 모노머(화합물 109)에 의한 로다민 B의 소광평가

실험예 1의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 58에서 얻어진 화합물 109를 8.5mg(0.010mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.17×10^-5mol/L).

실험예 30 : 카르복실산체(화합물 110)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 59에서 얻어진 화합물 110을 8.6mg(0.016mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 V액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, V액을 6ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 4.94×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다.

실험예 31 : 모노머(화합물 112)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 60에서 얻어진 화합물 112를 9.4mg(0.0077mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 W액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, W액을 14ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 5.39×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다.

실험예 32 : 모노머(화합물 30)에 의한 로다민 B의 소광평가

실시예 16에서 얻어진 화합물 30을 11.1mg(0.0093mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 X액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, X액을 12ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 5.55×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 사용하여, 실험예 1의 (2)와 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다.

비교예 1 : 디에틸아크릴아미드에 의한 로다민 B의 소광평가

디에틸아크릴아미드(와코쥰야꾸공업(주) 제품)를 12.5mg(0.00098mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 B'액으로 하였다. 실험예 1에서 얻어진 A액을 2ml, B'액을 1ml 홀피펫으로 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 4.91×10^-5mol/L). 얻어진 용액을, 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ib')를 측정하였다. 실험예 1에서 얻어진 Ia의 값 및 측정한 Ib'의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Ia-Ib')/Ia×100

비교예 2 : 피리딘에 의한 로다민 B의 소광평가

비교예 1에서, 디에틸아크릴아미드를 사용하는 대신에, 피리딘(와코쥰야꾸공업(주) 제품)을 12.0mg(0.0015mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 7.58×10^-5mol/L).

비교예 3 : 트리페닐아민에 의한 로다민 B의 소광평가

비교예 1에서, 디에틸아크릴아미드를 사용하는 대신에, 트리페닐아민(와코쥰야꾸공업(주) 제품)을 28.2mg(0.0011mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.74×10^-5mol/L).

비교예 4 : N,N - 디에틸아닐린에 의한 로다민 B의 소광평가

비교예 1에서, 디에틸아크릴아미드를 사용하는 대신에, N,N-디에틸아닐린(와코쥰야꾸공업(주) 제품)을 20.0mg(0.0013mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 6.70×10^-5mol/L).

비교예 5 : p- 아미노안식향산에 의한 로다민 B의 소광평가

비교예 1에서, 디에틸아크릴아미드를 사용하는 대신에, p-아미노안식향산(와코쥰야꾸공업(주) 제품)을 14.3mg(0.0010mmol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 5.21×10^-5mol/L).

실험예 2~32의 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 비교예 1~5의 결과를 표 3에 나타낸다.

실험예	소광제	각 화합물의 농도(mol/L)	형광강도의 감소율(%)
실험예 2	화합물 2	4.89×10-5	89.8
실험예 3	화합물 3	4.45×10-5	81.9
실험예 4	화합물 4	8.25×10-5	52.9
실험예 5	화합물 6	6.76×10-5	50.9
실험예 6	화합물 8	4.77×10-5	74.6
실험예 7	화합물 9	3.89×10-5	72.4
실험예 8	화합물 13	6.22×10-5	52.7
실험예 9	화합물 15	2.46×10-5	75.6
실험예 10	화합물 18	5.29×10-5	56.7
실험예 11	화합물 19	4.95×10-5	79.8
실험예 12	화합물 20	5.54×10-5	77.4
실험예 13	화합물 21	5.50×10-5	61.7
실험예 14	화합물 28	2.78×10-5	79.1
실험예 15	화합물 38	4.03×10-5	64.7
실험예 16	화합물 43	4.82×10-5	89.4
실험예 17	화합물 51	5.33×10-5	56.8
실험예 18	화합물 55	4.15×10-5	71.3
실험예 19	화합물 59	5.33×10-5	67.7
실험예 20	화합물 63	3.27×10-5	69.9
실험예 21	화합물 76	3.96×10-5	61.5
실험예 22	화합물 80	4.17×10-5	80.2
실험예 23	화합물 84	3.98×10-5	82.2
실험예 24	화합물 89	3.43×10-5	78.8
실험예 25	화합불 92	3.43×10-5	54.6
실험예 26	화합물 95	4.20×10-5	82.8
실험예 27	화합물 98	4.13×10-5	83.0
실험예 28	화합물 107	5.26×10-5	91.9
실험예 29	화합물 109	5.17×10-5	92.3
실험예 30	화합물 110	4.94×10-5	78.4
실험예 31	화합물 112	5.39×10-5	92.5
실험예 32	화합물 30	5.55×10-5	93.5

비교예	소광제	각 화합물의 농도(mol/L)	형광강도의 감소율(%)
비교예 1	디에틸아크릴아미드	4.91×10-5	2.3
비교예 2	피리딘	7.58×10-5	2.2
비교예 3	트리페닐아민	5.74×10-5	5.1
비교예 4	N,N-디에틸아닐린	6.70×10-5	5.9
비교예 5	p-아미노안식향산	5.21×10-5	5.9

상기 표 2에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 소광제는 모두, 크산텐 골격을 갖는 로다민 B의 형광 발광을 충분히 억제할 수 있을 정도의 소광능력을 갖고 있음을 알 수 있었다. 또한, 상기 표 2에서 나타나는 결과와 상기 표 3에서 나타나는 결과와의 비교로부터, 본 발명의 소광제는 디에틸아크릴아미드 등의 종래의 소광제에 비해 뛰어난 소광효과를 나타냄을 알 수 있었다.

실험예 33 : 모노머(화합물 17)에 의한 황산퀴닌의 소광평가

(1) 소광대상화합물의 형광 측정

황산퀴닌(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10.9mg(0.015mmol)을 메스 플라스크에 넣고, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 그 용액을 홀피펫으로 10ml 덜어내서, 메탄올로 다시 100ml로 메스업하였다. 이를 C액으로 하였다. C액을 홀피펫으로 4ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 2.91×10^-6mol/L). 얻어진 용액을, 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ic)를 측정하였다.

(2) 소광평가(iii)

실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 21.7mg(0.018mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 D액으로 하였다. 홀피펫으로 D액을 2ml, C액을 4ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 8.94×10^-5mol/L). 얻어진 용액을, 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Id)를 측정하였다. 측정한 Ic 및 Id의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Ic-Id)/Ic×100

(3) 소광평가(iv)

(2)에서, D액을 2ml 대신에 1ml 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 4.47×10^-5mol/L).

실험예 34 : 모노머(화합물 17)에 의한 플루오레세인의 소광평가

(1) 소광대상화합물의 형광 측정

플루오레세인(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10.9mg(0.033mmol)을 메스 플라스크에 넣고, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 그 용액을 홀피펫으로 10ml 덜어내서, 메탄올로 다시 100ml로 메스업하였다. 이를 E액으로 하였다. E액을 홀피펫으로 2ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 3.28×10^-6mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ie)를 측정하였다.

(2) 소광평가(v)

실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 14.3mg(0.012mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 F액으로 하였다. 홀피펫으로 F액을 10ml, E액을 2ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 5.89×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(If)를 측정하였다. 측정한 Ie 및 If의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Ie-If)/Ie×100

(3) 소광평가(vi)

(2)에서, F액을 10ml 대신에 4ml 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 2.36×10^-5mol/L).

(4) 소광평가(vii)

(2)에서, F액을 10ml 대신에 2.5ml 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 1.47×10^-5mol/L).

실험예 35 : 모노머(화합물 17)에 의한 쿠마린 6의 소광평가

(1) 소광대상화합물의 형광 측정

쿠마린 6(도쿄화성공업(주) 제품) 15.2mg(0.043mmol)을 메스 플라스크에 넣고, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 그 용액을 홀피펫으로 1ml 덜어내서, 메탄올로 다시 100ml로 메스업하였다. 이를 G액으로 하였다. G액을 홀피펫으로 1ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 2.17×10^-7mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ig)를 측정하였다.

(2) 소광평가(viii)

실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 12.1mg(0.010mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 H액으로 하였다. 홀피펫으로 H액을 4ml, G액을 1ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 1.99×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ih)를 측정하였다. 측정한 Ig 및 Ih의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Ig-Ih)/Ig×100

실험예 36 : 모노머(화합물 17)에 의한 안트라센의 소광평가

(1) 소광대상화합물의 형광 측정

안트라센(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 11.5mg(0.065mmol)을 메스 플라스크에 넣고, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 그 용액을 홀피펫으로 1ml 덜어내서, 메탄올로 다시 100ml로 메스업하였다. 이를 I액으로 하였다. I액을 홀피펫으로 1ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 3.23×10^-7mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ii)를 측정하였다.

(2) 소광평가(ix)

실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 12.1mg(0.010mmol) 덜어내서, 메탄올로 100ml로 메스업하였다. 이를 J액으로 하였다. 홀피펫으로 J액을 10ml, I액을 1ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 4.99×10^-5mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ij)를 측정하였다. 측정한 Ii 및 Ij의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Ii-Ij)/Ii×100

(3) 소광평가(x)

(2)에서, J액을 10ml 대신에 4ml 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 1.99×10^-5mol/L).

실험예 33~36의 결과를 표 4에 나타낸다.

실험예	소광평가	소광대상화합물	화합물 17의 농도(mol/L)	형광강도의 감소율(%)
실험예 33	(iii)	황산퀴닌	8.94×10-5	95.6
	(iv)		4.47×10-5	84.2
실험예 34	(v)	플루오레세인	5.89×10-5	98.7
	(vi)		2.36×10-5	80.9
	(vii)		1.47×10-5	61.8
실험예 35	(viii)	쿠마린 6	1.99×10-5	55.4
실험예 36	(ix)	안트라센	4.99×10-5	82.2
	(x)		1.99×10-5	52.8

상기 표 4에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 소광제는 안트라센, 퀴놀린 골격을 갖는 황산퀴닌, 크산텐 골격을 갖는 플루오레세인, 쿠마린 골격을 갖는 쿠마린 6 등의 여러 가지 형광성을 갖는 화합물에 대하여, 그 형광 발광을 충분히 억제할 수 있을 정도의 소광능력을 갖고 있음을 알 수 있었다.

실험예 37 : 모노머(화합물 17)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실시예 9에서 얻은 화합물 17의 내열성을 하기와 같이 평가하였다.

(1) 염료를 포함하지 않는 폴리머의 합성

교반장치, 냉각관, 온도계 및 질소도입관을 구비한 둥근바닥 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 98.5g을 넣고, 질소기류하에서 내부온도가 90℃가 될 때까지 가열하였다. 이어서, 벤질메타크릴레이트(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 186.2g, 메타크릴산(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 25.6g 및 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 33.9g을 혼합한 용액을, 가열한 PGMEA에 2시간에 걸쳐 적하하였다. 그 후, 얻어진 용액을 90℃에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 이어서, 100℃로 승온하고 1시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 후, 실온까지 냉각하고, PGMEA 171.5g을 첨가하여 희석함으로써, 담황색 투명의 폴리머 용액을 얻었다. 이를 폴리머 A로 한다. 또한, 폴리머 A의 불휘발분 농도는 36.1%이었다.

(2) 염료 모노머 혼합 용액의 조제

실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 0.08g, 폴리머 A를 4.24g, 및 PGMEA 2.68g을 혼합하여, 염료 모노머 혼합용액 B를 조제하였다.

(3) 내열성 평가

염료 모노머 혼합용액 B를 3인치의 유리웨이퍼(코닝사제 이글 XG)에 스핀 코팅한 후, 90℃로 가열한 핫플레이트 상에서 90초간 건조하여 막 두께 1미크론의 박막을 얻었다. 얻어진 박막을 분광광도계(시마즈제작소제 분광광도계 UV-2550)를 사용하여 극대흡수파장에서의 흡광도(λa)를 측정하고, 그 후, 230℃로 가열한 핫플레이트 상에서 30분간 가열한 후, 다시 극대흡수파장에서의 흡광도(λb)를 측정하였다. λa과 λb의 값으로부터 하기 식을 통해 염료잔존율(%)을 구하였다.

염료잔존율(%) = (λb/λa)×100

실험예 38 : 모노머(화합물 18)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 10에서 얻어진 화합물 18을 0.08g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

실험예 39 : 모노머(화합물 21)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 13에서 얻어진 화합물 21을 0.08g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

실험예 40 : 모노머(화합물 28)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 15에서 얻어진 화합물 28을 0.08g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

실험예 41 : 모노머(화합물 30)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 16에서 얻어진 화합물 30을 0.08g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

실험예 42 : 모노머(화합물 92)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 46에서 얻어진 화합물 92를 0.08g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

실험예 43 : 모노머(화합물 100)의 내열성 평가(170℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 실시예 52에서 얻어진 화합물 100을 0.08g 사용하고, 또한, 실험예 37의 (3)에서 가열온도를 230℃ 대신에 170℃로 한 것 이외에는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

비교예 6 : 모노머(로다민 6G)의 내열성 평가(230℃, 0.5시간)

실험예 37의 (2)에서, 화합물 17 대신에, 로다민 6G를 사용한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 내열성을 평가하였다.

실험예 37~43 및 비교예 6의 결과를 표 5에 나타낸다.

실험예	화합물	염료잔존율(%)
실험예 37	화합물 17	98
실험예 38	화합물 18	93
실험예 39	화합물 21	90
실험예 40	화합물 28	86
실험예 41	화합물 30	93
실험예 42	화합물 92	97
실험예 43	화합물 100	95
비교예 6	로다민 6G	18

가열 후의 유리웨이퍼를 관찰하면, 비교예 6에서는 염료가 분해되어 무색투명하게 되었던 것에 반해, 실험예 37~43에서는 각각 유리웨이퍼 상에 피막이 잔존하고 있었다. 이 관찰 결과와, 상기 표 5에서 나타나는 염료잔존율의 결과로부터, 본 발명의 화합물은 중합성기를 갖지 않는 일반적인 염료인 로다민 6G에 비해, 우수한 내열성을 나타내는 것을 알 수 있었다.

실험예 44 : 폴리머(화합물 21 유래)의 내용출시험

(1) 폴리머(화합물 21 유래)의 합성

교반장치, 냉각관, 온도계 및 질소도입관을 구비한 2000ml의 둥근바닥 플라스크에 PGMEA(다이셀(주) 제품) 105g을 넣고, 질소기류하에서 내부온도가 95℃가 될 때까지 가열하였다. 이어서, 실시예 13에서 얻어진 모노머(화합물 21) 15g, 메타크릴산메틸(MMA)(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 285g 및 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15g을 혼합하고, 당해 혼합용액을 95℃에서 2시간에 걸쳐 둥근바닥 플라스크에 적하하였다. 그 후, 얻어진 용액을 95℃에서 2시간 동안 반응시켰다. 반응 후, 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸 1000g에 용해시켰다. 당해 혼합용액을 n-헥산 4600ml 중에 주입하여 생긴 침전물을 여과분리하고, 감압하에서 건조하여, 약 5중량부의 모노머(화합물 21)를 포함하는 폴리머(화합물 21 유래) 314g을 얻었다.

(2) 착색판의 성형

(1)에서 얻어진 폴리머(화합물 21 유래) 0.5중량부와 시판의 메타크릴산메틸 수지(아크리페트 MD001 : 미쓰비시레이욘 제품) 99.5중량부를 동방향회전 2축압출기를 사용하여 용융혼합합으로써, 착색된 수지 펠렛을 얻었다. 이어서, 얻어진 수지 펠렛을 전동식 사출성형기에 의해 가공하여 150mm×150mm×t2mm의 착색판을 작성하였다.

(3) 내용출시험

(2)에서 작성한 성형판을 40mm×30mm×t2mm의 크기로 재단한 후, 에탄올 50부와 이온교환수 50부를 혼합한 에탄올 수용액 80ml 중에 침지하여, 40℃의 항온조 중에서 200시간 보관하였다. 에탄올 수용액을 취출하여, 분광광도계(시마즈제작소제 분광광도계 UV-2500)를 사용하여 에탄올 수용액의 분광 스펙트럼을 측정하였다. 측정 샘플의 최대흡수파장에서의 흡광도(λa)와 미리 측정한 그램 흡광계수(ε)를 사용하여, 에탄올 수용액 중에 용출된 모노머(화합물 21)의 중량을 산출하고, 침지시킨 수지판 중에 포함되는 모노머(화합물 21)의 중량을 기준으로 했을 때의 용출률(%)을 하기 식에 의해 산출하였다.

용출률(%) = [(λa×0.08/ε)/(착색판에 포함되는 염료의 중량)×100

※수지판 중에 포함되는 염료의 중량 = 판의 무게×0.00025

실험예 45 : 폴리머(화합물 17 유래)의 내용출시험

실험예 44의 (1)에서, 화합물 21 대신에, 실시예 9에서 얻어진 화합물 17을 15g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 용출률을 산출하였다.

실험예 46 : 폴리머(화합물 92 유래)의 내용출시험

실험예 44의 (1)에서, 화합물 21 대신에, 실시예 46에서 얻어진 화합물 92를 15g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 용출률을 산출하였다.

실험예 47 : 폴리머(화합물 100 유래)의 내용출시험

실험예 44의 (1)에서, 화합물 21 대신에, 실시예 52에서 얻어진 화합물 100을 15g 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 용출률을 산출하였다.

실험예 44~47의 결과를 표 6에 나타낸다.

실험예	착색판	용출률(%)
실험예 44	폴리머(화합물 21 유래)를 포함하는 착색판	0.3
실험예 45	폴리머(화합물 17 유래)를 포함하는 착색판	2.4
실험예 46	폴리머(화합물 92 유래)를 포함하는 착색판	0.9
실험예 47	폴리머(화합물 100 유래)를 포함하는 착색판	0.3

상기 표 6에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 폴리머는 용매와 접촉시켜도 착색판에서의 용출이 거의 없음을 알 수 있었다.

실험예 48 : 폴리머(화합물 21 유래)의 내후성시험

실험예 44의 (2)에서 작성한 착색판을 65mm×65mm×t2mm로 재단하고, JIS B7754:1991에 규정하는 장치(아틀라스사제 Ci4000)를 사용하여, 하기 조건에서 크세논 아크램프식에 의한 촉진내후성시험을 실시하였다.

(1) 시험조건

방사조도 : 50w/m²(300-400nm)

필터유리 : 내측 보로실리케이트 S타입, 외측 소다라임

블랙 패널 온도 : 63±2℃

조내온도 : 38±2℃　

상대습도 : 50±10% RH

시험시간 : 50시간

(2) 측색조건

측정 : 반사측정(8°: de)

표준광 : D ₆₅

측정구멍지름 : φ5mm

시험 전 및 50시간 시험한 성형판을 JIS Z8730 : 2009의 L*a*b* 표색계의 색차에 준거하여, 측색계 CC-i(스가시험기주식회사 제품)로 측정하여, 시험 전후의 L*값, a*값, b*값의 변화량인 ΔL*, Δa*, Δb*를 산출하고, 하기 식에 의해 색차(ΔE*ab)를 구하였다.

색차(ΔE*ab) = [(ΔL*)² + (Δa*)² + (Δb*)²]^1/2

실험예 49 : 폴리머(화합물 17 유래)의 내후성시험

실험예 44에 있어서, 실험예 44의 (2)에서 작성한 착색판 대신에, 실험예 45에서 작성한 착색판을 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 촉진내후성시험을 실시하였다.

실험예 50 : 폴리머(화합물 92 유래)의 내후성시험

실험예 44에 있어서, 실험예 44의 (2)에서 작성한 착색판 대신에, 실험예 46에서 작성한 착색판을 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 촉진내후성시험을 실시하였다.

실험예 51 : 폴리머(화합물 100 유래)의 내후성시험

실험예 44에 있어서, 실험예 44의 (2)에서 작성한 착색판 대신에, 실험예 47에서 작성한 착색판을 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 촉진내후성시험을 실시하였다.

실험예 48~51의 결과를 표 7에 나타낸다.

실험예	시험시간 : 0h			시험시간 : 50h			색차
	L*	a*	b*	L*	a*	b*	ΔE*ab
실험예 48	52.04	50.92	33.99	54.29	50.04	31.16	3.72
실험예 49	37.05	65.23	-7.37	35.92	60.64	-5.89	4.95
실험예 50	44.28	51.35	38.81	42.56	46.72	34.57	6.5
실험예 51	5.07	10.11	5.65	6.01	11.08	7.38	2.2

상기 표 7에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 폴리머를 포함하는 착색판은 우수한 내후성을 가지고 있음을 알 수 있었다.

실시예 61 : 염료 폴리머(MMA/화합물 1001 유래)의 합성

(1) 염료 모노머(화합물 1001)의 합성

WO 2014/126167 공보에 기재된 방법에 따라 염료 모노머(화합물 1001)를 합성하였다.

(2) 염료 폴리머(MMA/화합물 1001 유래)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, PGMEA((주)다이셀 제품) 105g을 넣고, 질소 치환하여, 95℃로 가열하였다. 삼각 플라스크에, 실시예 61의 (1)에서 얻어진 염료 모노머(화합물 1001) 15g(12.1mmol), MMA(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 285.03g(2.85mol), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15g(65.1mmol) 및 PGMEA 105g을 첨가하여 용해하고, 둥근바닥 플라스크에 95℃에서 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 95℃에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 아세트산에틸 1200g을 넣고, 헥산 5.2L에 적하하여 재침(再沈)시켰다. 재침한 폴리머를 여과분리하고, 감압 건조하여, 적색의 염료 폴리머(MMA/화합물 1001 유래) 322.06g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 62 : 염료 폴리머 용액(MMA/화합물 1001 유래)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, PGMEA((주)다이셀 제품) 70.00g을 넣고, 질소 치환하여, 95℃로 가열하였다. 삼각 플라스크에, 실시예 61의 (1)에서 얻어진 염료 모노머(화합물 1001) 0.01g(0.0081mmol), MMA(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 199.99g(2.00mol), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10.00g(43.4mmol) 및 PGMEA 70.00g을 첨가하여 용해하고, 둥근바닥 플라스크에 95℃에서 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 95℃에서 2시간 반응을 수행하여 적색의 염료 폴리머 용액(MMA/화합물 1001 유래) 345.16g(수율 99%)을 얻었다.

실시예 63 : 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, PGMEA((주)다이셀 제품) 105.93g을 넣고, 질소 치환하여, 95℃로 가열하였다. 삼각 플라스크에, 실시예 13에서 얻어진 모노머(화합물 21) 15.11g(12.8mmol), MMA(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 285.02g(2.85mol), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 15.00g(60.4mmol) 및 PGMEA 105.54g을 첨가하여 용해하고, 둥근바닥 플라스크에 95℃에서 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 95℃에서 2시간 동안 반응을 수행하였다. 반응 종료 후, 아세트산에틸 1000g을 넣고, 헥산 4.6L에 적하하여 재침시켰다. 재침한 폴리머를 여과분리하고, 감압 건조하여, 적색의 폴리머(MMA/화합물 21 유래, MMA : 화합물 21 = 95 : 5) 314.37g(수율 100%)을 얻었다.

실시예 64 : 폴리머 (MMA : 화합물 21 = 30 : 70)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에 PGMEA((주)다이셀 제품) 7.29g을 넣고, 질소 치환하여, 95℃로 가열하였다. 삼각 플라스크에, 실시예 13에서 얻어진 모노머(화합물 21) 13.98g(11.8mmol), MMA(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 6.00g(59.9mmol), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 1.01g(4.03mmol) 및 PGMEA 21.28g을 첨가하여 용해하고, 둥근바닥 플라스크에 95℃에서 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 95℃에서 2시간 동안 반응을 수행하며, 반응 후 PGMEA 14.50g을 첨가하여 희석하고, 적색의 폴리머(MMA/화합물 21 유래, MMA : 화합물 21 = 30 : 70) 용액 62.1g(수율 97%)을 얻었다.

실시예 65 : 공중합 폴리머(MMA/화합물 21/화합물 1001 유래)의 합성

교반장치를 구비한 둥근바닥 플라스크에, PGMEA((주)다이셀 제품) 70.00g을 넣고, 질소 치환하여, 95℃로 가열하였다. 삼각 플라스크에, 실시예 13에서 얻어진 모노머(화합물 21) 9.99g(8.45mmol), 실시예 61의 (1)에서 얻어진 염료 모노머(화합물 1001) 0.01g(0. 0081mmol), MMA(와코쥰야꾸공업(주) 제품) 190.00g(1.90mol), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산메틸)(상품명 V-601 : 와코쥰야꾸공업(주) 제품) 10.00g(43.4mmol) 및 PGMEA 70.00g을 첨가하여 용해하고, 둥근바닥 플라스크에 95℃에서 2시간에 걸쳐 적하하였다. 적하 후, 95℃에서 2시간 반응을 수행하여, 적색의 공중합 폴리머(MMA/화합물 21/화합물 1001 유래) 용액 345.9g(수율 99%)을 얻었다.

실험예 52 : 모노머(화합물 21)의 염료 폴리머에 대한 소광평가

(1) 형광소광대상의 형광 측정

실시예 61에서 얻어진 염료 폴리머(MMA/화합물 1001 유래) 12.5mg(중 화합물 1001 : 5.06×10^-7mol)을 메스 플라스크에 넣고, PGMEA로 100ml로 메스업하였다. 이를 M액으로 하였다. M액을 홀피펫으로 1ml 덜어내서, PGMEA로 다시 20ml로 메스업하였다(화합물 1001의 농도 : 2.53×10^-7mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Im)를 측정하였다.

(2) 소광평가

실시예 13에서 얻어진 화합물 21을 32.2mg(0.027mmol) 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다. 이를 N액으로 하였다. 홀 피펫으로 M액을 1ml, N액을 4ml 덜어내서, 메탄올로 20ml로 메스업하였다(농도 : 2.64×10^-4mol/L). 얻어진 용액을, 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(In)를 측정하였다. 측정한 Im 및 In의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Im-In)/Im×100

실험예 53 : 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5)의 염료 폴리머에 대한 소광 평가

실시예 63에서 얻어진 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5)를 132.1mg(중 화합물 21 : 5. 6×10^-6mol), 홀피펫으로 M액을 1ml 덜어내서, PGMEA로 20ml로 메스업하였다(농도 : 2.79×10^-4mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(In)를 측정하였다. 실험예 52에서 얻어진 Im의 값 및 측정한 In의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도 의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Im-In)/In×100

실험예 54 : 폴리머 (MMA : 화합물 21 = 30 : 70)의 염료 폴리머에 대한 소광 평가

실험예 53에서, 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5) 대신에, 실시예 64에서 얻어진 폴리머(MMA : 화합물 21 = 30 : 70)를 32.4mg(중 화합물 21 : 6.1×10^-6mol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도 감소율을 구하였다(농도 : 3.04×10^-4mol/L).

실험예 55 : 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5)의 염료 모노머에 대한 소광 평가

(1) 형광소광대상의 형광 측정

실시예 61의 (1)에서 얻어진 염료 모노머(화합물 1001) 12.1mg(중 화합물 1001 : 9.83×10^-6mol)을 메스 플라스크에 넣고, PGMEA로 100ml로 메스업하였다. 그 용액을 홀피펫으로 2.5ml 덜어내서, PGMEA로 다시 100ml로 메스업하였다. 이를 O액으로 하였다. O액을 홀피펫으로 2ml 덜어내서, PGMEA로 20ml로 메스업하였다.(화합물 1001의 농도 : 2.46×10^-7mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Io)를 측정하였다.

(2) 소광평가

실시예 63에서 얻어진 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5)를 123.6mg(중 화합물 21 : 5.2×10^-6mol), 홀피펫으로 O액을 2ml 덜어내서, PGMEA로 20ml로 메스업하였다(농도 : 2.62×10^-4mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ip)를 측정하였다. 측정한 Io 및 Ip의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Io-Ip)/Io×100

실험예 56 : 폴리머 (MMA : 화합물 21 = 30 : 70)의 염료 모노머에 대한 소광 평가

실험예 55의 (2)에서, 폴리머(MMA : 화합물 21 = 95 : 5) 대신에, 실시예 64에서 얻어진 폴리머(MMA : 화합물 21 = 30 : 70)를 32.4mg(중 화합물 21 : 6.1×10^-6mol) 사용한 것 이외에는 동일한 방법으로 형광강도의 감소율을 구하였다(농도 : 3.04×10^-4mol/L).

실험예 57 : 공중합 폴리머(MMA/화합물 21/화합물 1001 유래)의 소광평가

(1) 형광소광대상의 형광 측정

실시예 62에서 얻어진 염료 폴리머 용액(MMA/화합물 1001 유래) 2.06g(중 화합물 1001 : 5.98×10^-5mol)을 메스 플라스크에 넣고, PGMEA으로 20ml로 메스업하였다. 이를 Q액으로 하였다. Q액을 홀피펫으로 2ml 덜어내서, PGMEA로 20ml로 메스업하였다(화합물 1001의 농도 : 2.42×10^-7mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Iq)를 측정하였다.

(2) 소광평가

실시예 65에서 얻어진 공중합 폴리머(MMA/화합물 21/화합물 1001 유래) 2.19g을 메스 플라스크에 넣고, PGMEA로 20ml로 메스업하였다. 그 용액을 홀피펫으로 2ml 덜어내서, PGMEA로 20ml로 메스업하였다(중 화합물 1001의 농도 : 2.56×10^-7mol/L, 화합물 21의 농도 : 2.68×10^-4mol/L). 얻어진 용액을 분광형광광도계((주)히타치제 분광형광광도계 F-4500)를 사용하여 최대형광파장에서의 형광강도(Ir)를 측정하였다. 측정한 Ia 및 Ib의 값으로부터 하기 식을 통해 형광강도의 감소율(%)을 구하였다.

형광강도의 감소율(%) = (Iq-Ir)/Iq×100

실험예 52~57의 결과를 표 8에 나타낸다.

실험예	소광제	형광성을 갖는 염료	화합물 21의 농도 (mol/L)		형광강도 감소율(%)
실험예 52	본 발명의 화합물 (모노머)	폴리머	2.64×10-4		98.1
실험예 53	본 발명의 폴리머	폴리머	2.79×10-4		85.1
실험예 54	본 발명의 폴리머	폴리머	3.04×10-4		89.4
실험예 55	본 발명의 폴리머	모노머	2.62×10-4		83.2
실험예 56	본 발명의 폴리머	모노머	3.04×10-4		90.0
실험예 57	본 발명의 코폴리머 (소광제와 염료의 공중합 폴리머)		2.68×10-4		97.5

상기 표 8의 실험예 52에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 화합물은 형광성을 갖는 염료 모노머뿐만 아니라, 형광성을 갖는 염료 폴리머에 대해서도 소광효과를 나타냄을 알 수 있었다. 또한, 상기 표 8의 실험예 53~56에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 폴리머도 마찬가지로, 형광성을 갖는 염료 모노머 및 염료 폴리머에 대해 충분한 소광효과를 나타냄을 알 수 있었다. 또한, 상기 표 8의 실험예 57에서 나타나는 결과로부터, 본 발명의 코폴리머에 있어서, 당해 코폴리머에 포함되는 본 발명의 화합물(모노머)은 당해 코폴리머에 포함되는 형광성 염료가 발하는 형광을 코폴리머 분자 내에서 억제할 수 있음을 알 수 있었다.

Claims (17)

1. 하기 일반식 (1)로 표시되는 화합물로 이루어진 소광제.
   

   

   
   {식 중, n₁개의 R₅는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며, R₆은 중합성 불포화기를 갖는 기, 히드록실기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기 또는 복소환식 아미노기를 나타내고, Y₁은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내며, R₃₂는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, An^-는 음이온을 나타내며, Ar₁은 하기 일반식 (1-1)~(1-7)로 표시되는 고리 구조를 나타내고;
   

   

   
   (식 중, R₁ 및 R₄은 수소 원자를 나타내며, R₂ 및 R₃은 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기를 나타내고, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃와 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   * 및 **은 각각의 결합위치를 나타내며, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타낸다. Ar₂가 벤젠 고리인 경우, n₁은 0~4의 정수를 나타내고, Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, n₁은 0~6의 정수를 나타내며, Ar₂가 안트라센 고리인 경우, n₁은 0~8의 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (1)에서의 하기의 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;
   

   

   
   (식 중, n₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}
2. 제1항에 있어서,
   An^-는 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온, 할로겐 옥소산 음이온 또는 설폰산 음이온인, 소광제.
3. 제1항에 있어서,
   An^-는 하기 일반식 (16)~(19)로 표시되는 음이온인, 소광제.
   

   

   
   (식 중, R₄₂~R₄₅는 각각 독립적으로, 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타내며, m₂~m₅는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타낸다. m₂개의 R₄₂, m₃개의 R₄₃, m₄개의 R₄₄ 및 m₅개의 R₄₅는 각각 동일할 수도 다를 수도 있다.),
   

   

   
   (식 중, 4개의 R₄₆은 각각 독립적으로, 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.),
   

   

   
   (식 중, R₄₇ 및 R₄₈은 각각 독립적으로, 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R₄₇과 R₄₈로 탄소수 2~3의 할로겐화 알킬렌기를 형성하여도 좋다.),
   

   

   
   (식 중, R₄₉는 인 원자 또는 안티몬 원자를 나타내며, 6개의 X는 모두 동일한 할로겐 원자를 나타낸다.).
4. 제1항에 있어서,
   R₆에서의 중합성 불포화기가 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기인, 소광제.
5. 제1항에 있어서,
   R₆에서의 중합성 불포화기를 갖는 기는 하기 일반식 (2)로 표시되는 기인, 소광제.
   

   

   
   {식 중, R₇은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, A₁은 -O- 또는 하기 일반식 (2-1)
   

   

   
   (식 중, R₈ 및 R₉은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, A₄는 질소 원자 또는 하기 식 (2-2)
   

   

   
   로 표시되는 기를 나타내며, n₂은 0~3의 정수를 나타내고, R₈과 R₉는 이들과 결합하고 있는 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-과 함께 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하여도 좋으며, R₈, R₉ 및 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-으로 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있는 경우, n₃은 1을 나타내며, 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우, n₃은 0 또는 1을 나타낸다.)로 표시되는 기를 나타내며, A₂는 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 알릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 알릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖으며, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 또는 탄소수 1~21의 알킬렌기를 나타내며, A₃은 -NR₁₀- 또는 -O-를 나타내고, R₁₀은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.}.
6. 하기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물.
   

   

   
   {식 중, n₁개의 R₅은 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며, R₆'은 중합성 불포화기를 갖는 기를 나타내고, Y₁은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내며, R₃₂는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, An^-는 음이온을 나타내며, Ar₁은 하기 일반식 (1-1)~(1-7)로 표시되는 고리 구조를 나타내고;
   

   

   
   (식 중, R₁ 및 R₄는 수소 원자를 나타내며, R₂ 및 R₃은 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기를 나타내고, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.),
   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   

   

   
   (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
   * 및 **은 각각의 결합위치를 나타내며, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타낸다. Ar₂가 벤젠 고리인 경우, n₁은 0~4의 정수를 나타내고, Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, n₁은 0~6의 정수를 나타내며, Ar₂가 안트라센 고리인 경우, n₁은 0~8의 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (3)에서의 하기의 구조 (1-10)은 비대칭 구조이다;
   

   

   
   (식 중, n₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}
7. 제6항에 있어서,
   An^-는 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온인, 화합물.
8. 제6항에 있어서,
   An^-는 하기 일반식 (16)~(19)로 표시되는 음이온인, 화합물.
   

   

   
   (식 중, R₄₂~R₄₅는 각각 독립적으로, 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타내며, m₂~m₅는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타낸다. m₂개의 R₄₂, m₃개의 R₄₃, m₄개의 R₄₄ 및 m₅개의 R₄₅는 각각 동일할 수도 다를 수도 있다.),
   

   

   
   (식 중, 4개의 R₄₆은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.),
   

   

   
   (식 중, R₄₇ 및 R₄₈은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R₄₇과 R₄₈로 탄소수 2~3의 할로겐화 알킬렌기를 형성하여도 좋다.),
   

   

   
   (식 중, R₄₉는 인 원자 또는 안티몬 원자를 나타내며, 6개의 X는 모두 동일한 할로겐 원자를 나타낸다.).
9. 제6항에 있어서,
   R₆'에서의 중합성 불포화기가 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기인, 화합물.
10. 제6항에 있어서,
    R₆'는 하기 일반식 (2)로 표시되는 기인, 화합물.
    

    

    
    {식 중, R₇은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, A₁은 -O- 또는 하기 일반식 (2-1)
    

    

    
    (식 중, R₈ 및 R₉은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, A₄는 질소 원자 또는 하기 식 (2-2)
    

    

    
    로 표시되는 기를 나타내며, n₂은 0~3의 정수를 나타내고, R₈과 R₉은 이들과 결합하고 있는 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-과 함께 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하여도 좋고, R₈, R₉ 및 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-으로 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있는 경우, n₃은 1을 나타내며, 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우, n₃은 0 또는 1을 나타낸다.)로 표시되는 기를 나타내며, A₂는 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 알릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 알릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖으며, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 또는 탄소수 1~21의 알킬렌기를 나타내며, A₃은 -NR₁₀- 또는 -O-를 나타내고, R₁₀은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.}.
11. 하기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위를 갖는 폴리머.
    

    

    
    {식 중, n₁개의 R₅는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~20의 알콕시기, 탄소수 1~20의 알킬티오기, 치환기를 갖거나 비치환된 아미노기, 히드록실기, 탄소수 6~14의 아릴기, 탄소수 6~14의 아릴옥시기 또는 탄소수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며, R₆'는 중합성 불포화기를 갖는 기를 나타내고, Y₁은 산소 원자, 황 원자 또는 -NR₃₂-를 나타내며, R₃₂는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, An^-는 음이온을 나타내며, Ar₁은 하기 일반식 (1-1)~(1-7)로 표시되는 고리 구조를 나타내고;
    

    

    
    (식 중, R₁ 및 R₄는 수소 원자를 나타내며, R₂ 및 R₃은 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기 또는 치환기를 갖거나 비치환된 탄소수 6~14의 아릴기를 나타내고, R₁과 R₂로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋으며, R₃과 R₄로 탄소수 2~4의 알킬렌기를 형성하고 있어도 좋다.),
    

    

    
    (식 중, R₃₁은 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.),
    

    

    
    (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
    

    

    
    (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
    

    

    
    (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
    

    

    
    (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
    

    

    
    (식 중, R₃₁은 상기와 같다.),
    * 및 **은 각각의 결합위치를 나타내며, Ar₂은 벤젠 고리, 나프탈렌 고리 또는 안트라센 고리를 나타낸다. Ar₂가 벤젠 고리인 경우, n₁은 0~4의 정수를 나타내고, Ar₂가 나프탈렌 고리인 경우, n₁은 0~6의 정수를 나타내며, Ar₂가 안트라센 고리인 경우, n₁은 0~8의 정수를 나타낸다. 단, 일반식 (3)에서의 하기의 구조 (1-10)는 비대칭 구조이다;
    

    

    
    (식 중, n₁개의 R₅, Y₁, Ar₁, Ar₂, n₁, * 및 **은 상기와 같다.).}
12. 제11항에 있어서,
    An^-는 전자흡인성 치환기를 갖는 아릴기, 전자흡인성 치환기를 갖는 설포닐기, 할로겐화 알킬기 또는 할로게노기를 포함하는 음이온인, 폴리머.
13. 제11항에 있어서,
    An^-는 하기 일반식 (16)~(19)로 표시되는 음이온인, 폴리머.
    

    

    
    (식 중, R₄₂~R₄₅는 각각 독립적으로, 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기, 할로겐 원자 또는 니트로기를 나타내며, m₂~m₅는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타낸다. m₂개의 R₄₂, m₃개의 R₄₃, m₄개의 R₄₄ 및 m₅개의 R₄₅는 각각 동일할 수도 다를 수도 있다.),
    

    

    
    (식 중, 4개의 R₄₆은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다.),
    

    

    
    (식 중, R₄₇ 및 R₄₈은 각각 독립적으로 탄소수 1~3의 할로겐화 알킬기 또는 할로겐 원자를 나타낸다. R₄₇과 R₄₈로 탄소수 2~3의 할로겐화 알킬렌기를 형성하여도 좋다.),
    

    

    
    (식 중, R₄₉는 인 원자 또는 안티몬 원자를 나타내며, 6개의 X는 모두 동일한 할로겐 원자를 나타낸다.).
14. 제11항에 있어서,
    R₆'에서의 중합성 불포화기가 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기인, 폴리머.
15. 제11항에 있어서,
    R₆'는 하기 일반식 (2)로 표시되는 기인, 폴리머.
    

    

    
    {식 중, R₇은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, A₁은 -O- 또는 하기 일반식 (2-1)
    

    

    
    (식 중, R₈ 및 R₉은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, A₄는 질소 원자 또는 하기 식 (2-2)
    

    

    
    로 표시되는 기를 나타내며, n₂은 0~3의 정수를 나타내고, R₈과 R₉은 이들과 결합하고 있는 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-과 함께 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하여도 좋으며, R₈, R₉ 및 -N-(CH₂)_n2-(A₄)_n3-으로 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있는 경우, n₃은 1을 나타내며, 5~6원 고리의 환상 구조를 형성하고 있지 않은 경우, n₃은 0 또는 1을 나타낸다.)로 표시되는 기를 나타내며, A₂는 -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 알릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; -O-, -OCO-, -COO-, -NHCO-, -CONH-, -NHCONH- 및 알릴렌기로부터 선택되는 적어도 하나의 기를 사슬 중에 갖으며, 또한, 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 히드록실기를 치환기로서 갖는 탄소수 1~21의 알킬렌기; 또는 탄소수 1~21의 알킬렌기를 나타내며, A₃은 -NR₁₀- 또는 -O-를 나타내고, R₁₀은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다.}.
16. 제11항에 있어서,
    폴리머가 코폴리머인, 폴리머.
17. 제16항에 있어서,
    코폴리머는 중합성 불포화기를 갖는 형광성 염료 유래의 모노머 단위 및/또는 하기 일반식 (4), 일반식 (5), 일반식 (6) 또는 일반식 (7)로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위 1~2종과, 상기 일반식 (3)으로 표시되는 화합물 유래의 모노머 단위를 구성성분으로 하는 것인, 폴리머.
    

    

    
    [식 중, R₁₁은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R₁₂는 수소 원자, 탄소수 1~18의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록실알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 7~13의 아릴알킬기, 탄소수 2~9의 알콕시알킬기, 탄소수 3~9의 알콕시알콕시알킬기, 탄소수 7~13의 아릴옥시알킬기, 탄소수 5~7의 모르폴리노알킬기, 탄소수 3~9의 트리알킬실릴기, 산소 원자를 갖거나 산소 원자를 갖지 않는 탄소수 6~12의 지환식 탄화수소기, 탄소수 3~9의 디알킬아미노알킬기, 탄소수 1~18의 플루오로알킬기, 또는 탄소수 9~14의 N-알킬렌프탈이미드기, 하기 일반식 (4-1)로 표시되는 기
    

    

    
    (식 중, R₂₁은 히드록실기를 치환기로서 갖거나 비치환된 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타내고, R₂₂는 히드록실기를 치환기로서 갖거나 비치환된 페닐기, 혹은 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, q는 1~3의 정수를 나타낸다.), 하기 일반식 (4-2)로 표시되는 기
    

    

    
    (식 중, R₂₃~R₂₅는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, R₂₆은 탄소수 1~3의 알킬렌기를 나타낸다.), 또는, 하기 일반식 (4-3)으로 표시되는 기
    

    

    
    (식 중, I은 1~6의 정수를 나타내며, R₂₇은 페닐렌기 또는 시클로헥실렌기를 나타낸다.)를 나타낸다.],
    

    

    
    (식 중, R₁₁은 상기와 같다. R₁₃은 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, R₁₄는 수소 원자, 탄소수 1~3의 알킬기, 탄소수 3~9의 디알킬아미노알킬기 또는 탄소수 1~6의 히드록시알킬기를 나타낸다. R₁₃과 R₁₄는 이들과 인접하는 질소 원자와 함께 모르폴리노기를 형성하여도 좋다.),
    

    

    
    (식 중, R₁₅는 페닐기 또는 피롤리디노기를 나타내며, R₁₁은 상기와 같다.),
    
    (식 중, R₁₇은 질소 원자 또는 산소 원자를 나타내고, j는 R₁₇이 산소 원자인 경우에 0을 나타내며, R₁₇이 질소 원자인 경우에는 1을 나타낸다. R₁₆은 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 1~10의 히드록실알킬기, 탄소수 1~10의 할로겐화 알킬기, 탄소수 6~10의 알킬시클로알킬기, 탄소수 6~7의 할로겐화 시클로알킬기, 탄소수 6~10의 아릴기, 탄소수 1~6의 알킬기를 치환기로서 갖는 탄소수 6~10의 아릴기, 또는, 탄소수 6~10의 할로겐화 아릴기를 나타낸다.).