KR20170013994A - N-치환 술폰아미드 화합물 및 그의 제조 방법 - Google Patents

N-치환 술폰아미드 화합물 및 그의 제조 방법 Download PDF

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KR20170013994A
KR20170013994A KR1020177000331A KR20177000331A KR20170013994A KR 20170013994 A KR20170013994 A KR 20170013994A KR 1020177000331 A KR1020177000331 A KR 1020177000331A KR 20177000331 A KR20177000331 A KR 20177000331A KR 20170013994 A KR20170013994 A KR 20170013994A
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야스히토 야마모토
마사요시 오우에
유키노리 와다
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우베 고산 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 일반식 (1)로 표시되는 술폰아미드 화합물과, 일반식 (2)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물을, 탄산세슘 또는 탄산칼륨의 존재 하에서, 유기 용매 중에서 반응시키는 공정을 포함하는, 일반식 (3)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

N-치환 술폰아미드 화합물 및 그의 제조 방법{N-SUBSTITUTED SULFONAMIDE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME}
본 발명은 술폰아미드 화합물과 할로겐화 유기 화합물을 반응시켜, 고순도의 N-치환 술폰아미드 화합물을 얻는 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법은 특정한 염기를 사용함으로써, 종래보다 반응이 빠르고, 고수율이며 부생성물이 적은, 공업적으로도 매우 유용한 방법이다. 또한 본 발명의 제조 방법에 의해 얻어지는 N-치환 술폰아미드 화합물은 의약 중간체 및 원체로서 유용한 화합물이다.
N-치환 술폰아미드 화합물은 의농약품 및 유기 재료로서, 혹은 그들의 원료 및 중간체로서, 여러 분야에서 유용한 화합물이다. 그 중에서도 근년 의약품으로서 유용한 것이 보고되고, 현재도 또한 안전하고 간편한 제조 방법이 요망되고 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).
지금까지 N-치환 술폰아미드 화합물을 제조하는 방법으로서, 술폰아미드 화합물을 수소화나트륨 존재 하에서, 할로겐화 유기 화합물과 반응시키는 제조 방법이 보고되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1, 2 및 비특허문헌 1 내지 5 참조).
또한, N-치환 술폰아미드 화합물을 제조하는 방법으로서, 술폰아미드 화합물에, 탄산칼륨 존재 하에서, 할로겐화 유기 화합물과 반응시키는 것에 의한 제조 방법이 보고되어 있다(예를 들어, 특허문헌 3, 4 및 비특허문헌 6 참조).
또한, N-치환 술폰아미드 화합물을 제조하는 방법으로서, 술폰아미드 화합물을, 나트륨메톡시드 존재 하에서, 할로겐화 유기 화합물과 반응시키는 것에 의한 제조 방법이 보고되어 있다(예를 들어, 비특허문헌 7 참조).
WO2009/086123호 공보 WO2010/059627호 공보 WO2007/067817호 공보 일본 특허 공개 제2011-057633호 공보
Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 2001, Vol. 11, 757-760 Tetrahedron Letters, 1986, Vol. 27, No. 50, 6083-6086 J. Med. Chem., 1997, Vol. 40, 2525-2532 J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, 1985, 831-836 J. Org. Chem., 2002, Vol. 67, 5250-5256 Arzneimittel Forschung(DrugResearch), 2008, Vol. 58, No. 11, 585-591 Chemistry of Heterocyclic Compounds, 2009, Vol. 45, No. 4, 436-444
지금까지 마찬가지의 반응에 사용되고 있는 수소화나트륨은 반응 중 폭발성의 수소가 발생하여, 심한 발포·이상 발열을 수반하여, 반응 온도의 제어가 곤란하여, 매우 위험하다. 또한, 수소화나트륨은, 그 처리 시에 있어서도 발포·발열 등, 안전성에 관하여 많은 과제가 있다. 또한, 수소화나트륨은 강염기여서, 의약품 등의 복잡한 골격을 갖는 화합물인 경우, 다른 (반응성) 관능기에도 작용을 미쳐 목적 반응 이외의 반응을 진행시켜, 바람직하지 않은 불순물을 부여하는 경우도 있다. 더욱이 수소화나트륨의 시판품은 60％의 오일 디스퍼젼(광유 혼합물)이어서, 오일의 제거 등의 전처리 조작이 번잡해진다. 따라서, 수소화나트륨을 사용하는 제조 방법은 공업적인 제조 방법으로서 바람직하지 않다.
더욱이, 그 밖의 방법도 수율의 관점에서 만족할 수 있는 방법이 아니고, 또한 에스테르 등의 반응성 관능기가 있는 경우, 사용하는 염기와의 반응에 의해 부생성물이 생성될 가능성도 있어, 공업적으로 바람직한 방법이 아니다.
일반적으로, 의약품은, 미량 불순물의 혼입에 의해 예기치 못한 부작용이 발생할 가능성이 있다. 따라서 의약품 합성 시에는 고품질의 생성물 취득을 위하여, 선택성이 높고, 미반응 원료, 부생성물 등이 없는 효율적인 제조 방법이 강하게 요구된다. 특히 최종 공정에 가까운 제조 공정에 있어서의 저선택성, 저수율은 제거 불가능한 불순물을 대량으로 생성시킬 가능성이 높아, 원약 순도에 큰 영향을 미친다. 따라서, 안전하고, 선택성이 좋은, 공업적으로도 적합한 고순도 N-치환 술폰아미드의 제조 방법이 강하게 요구되고 있었다.
따라서, 본 발명의 과제는, N-치환 술폰아미드 화합물을 수율 높게, 고순도로 취득할 수 있는, 간편하며 또한 공업적으로도 적합한 제조 방법을 제공하는 데 있다. 또한, 그러한 제조 방법에 의해, 종래보다 고품질의 N-치환 술폰아미드 화합물을 제공하는 데 있다.
본 발명자들은, 술폰아미드 화합물과 할로겐화 유기 화합물을 반응시킬 때의 염기 화합물에 대하여 상세한 검토를 행한 결과, 탄산세슘 또는 탄산칼륨을 사용함으로써, 단시간에 선택성 좋게 반응이 진행되고, 부반응이 적은, 안전하고 고수율·고순도의 N-치환 술폰아미드를 얻는, 공업적으로도 우수한 고순도 N-술폰아미드를 얻는 제조법을 발견하고, 본 발명에 이르렀다.
본 발명은,
일반식 (1):
Figure pct00001
(식 중
R1 및 R2는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이다)
로 표시되는 술폰아미드 화합물과, 일반식 (2):
Figure pct00002
(식 중
R3은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 알킬기, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이며, X는 할로겐 원자이다)
로 표시되는 할로겐화 유기 화합물을, 탄산세슘 또는 탄산칼륨의 존재 하에서, 유기 용매 중에서 반응시키는 공정을 포함하는, 일반식 (3):
Figure pct00003
(식 중 R1, R2 및 R3은 상기와 동의이다)
으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법이다.
본 발명에 의해, 일반식 (1)로 표시되는 술폰아미드 화합물과 일반식 (2)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물로부터, 온화한 조건 하에서, 간편하며 또한 공업적으로 적합한 방법에 의해, 고수율이며 또한 선택적으로, 고순도의 일반식 (3)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물을 제조할 수 있다.
본 발명의 일반식 (3)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은 일반식 (1)로 표시되는 술폰아미드 화합물과 일반식 (2)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물을, 탄산세슘(Cs2CO3) 또는 탄산칼륨(K2CO3)의 존재 하에서, 유기 용매 중에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다(하기, 〔반응식 1〕 참조; 단, 탄산세슘을 사용한 예만 나타낸다).
Figure pct00004
(식 중 R1, R2, R3 및 X는 상기와 동의이다)
또한, 본 발명의 일반식 (6)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은 일반식 (4)로 표시되는 술폰아미드 화합물과 일반식 (5)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물을, 탄산세슘(Cs2CO3) 또는 탄산칼륨(K2CO3)의 존재 하에서, 유기 용매 중에서 반응시킴으로써 얻을 수 있다(하기, 〔반응식 1'〕 참조; 단, 탄산세슘을 사용한 예만 나타낸다).
Figure pct00005
(식 중 R1a는 R1과 동의이며, R4는 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아릴기 또는 헤테로아릴기이며, R5는 알킬기이며, X1은 X와 동의이다)
본 발명에 있어서, 이하의 용어는 다른 언급이 없는 한, 단독으로 또는 다른 용어와의 조합에 있어서, 이하에 기재된 의미를 갖는다.
「알킬기」는 직쇄상 또는 분지상의 포화 지방족 탄화수소의 1가의 기를 의미한다. 전형적으로는, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기 또는 데실기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기 또는 헥실기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 예를 들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기 또는 이소부틸기이다.
「알케닐기」는 직쇄상 또는 분지상의, 적어도 1개의 탄소-탄소 이중 결합을 포함하는, 불포화 지방족 탄화수소의 1가의 기를 의미한다. 전형적으로는, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 예를 들어 비닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 노네닐기 또는 데세닐기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 2 내지 6의 알케닐기, 예를 들어 비닐기, 프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기 또는 헥세닐기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 4의 알케닐기, 예를 들어 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-부테닐기 또는 2-부테닐기이다.
「알키닐기」는 직쇄상 또는 분지상의, 적어도 1개의 탄소-탄소 삼중 결합을 포함하는, 불포화 지방족 탄화수소의 1가의 기를 의미한다. 전형적으로는, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 예를 들어 에티닐기, 프로피닐기, 부티닐기, 펜티닐기, 헥시닐기, 헵티닐기, 옥티닐기, 노니닐기 또는 데시닐기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 2 내지 6의 알키닐기, 예를 들어 에티닐기, 프로피닐기, 부티닐기, 펜티닐기 또는 헥시닐기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 4의 알키닐기, 예를 들어 에티닐기, 2-프로피닐기, 3-부티닐기 또는 2-부티닐기이다.
「시클로알킬기」는 환상의 포화 지방족 탄화수소의 1가의 기를 의미한다. 전형적으로는, 탄소수 3 내지 10의 시클로알킬기, 예를 들어 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기 또는 시클로데실기 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 예를 들어 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 또는 시클로옥틸기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기, 예를 들어 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기 또는 시클로헥실기이다.
「아릴기」는 단환식 또는 축합 다환식 방향족 탄화수소의 1가의 기를 의미한다. 전형적으로는, 탄소수 6 내지 14의 아릴기, 예를 들어 페닐기, 나프틸기 또는 안트릴기 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 탄소수 6 내지 10의 아릴기, 예를 들어 페닐기, 1-나프틸기 또는 2-나프틸기이다.
「헤테로아릴기」는, 질소 원자, 산소 원자 및 황 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 헤테로 원자를 포함하는, 단환식 또는 축합 다환식 방향족 복소환 화합물의 1가의 기를 의미한다. 전형적으로는, 5 내지 10원의 헤테로아릴기, 예를 들어 피롤릴기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 트리아졸릴기, 피리딜기, 피리미디닐기, 피리다지닐기, 인돌릴기, 퀴놀릴기; 티에닐기, 벤조티에닐기; 푸릴기, 벤조푸라닐기; 옥사졸릴기, 이속사졸릴기, 티아졸릴기, 이소티아졸릴기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 5 내지 6원의 헤테로아릴기, 예를 들어 2-피롤릴기, 3-피롤릴기, 1-피라졸릴기, 1,2,4-트리아졸-1-일기, 2-피리딜기, 3-피리딜기, 4-피리딜기, 2-피리미디닐기, 4-피리다지닐기, 2-티에닐기, 3-티에닐기, 2-푸릴기, 3-푸릴기, 2-티아졸릴기 또는 4-티아졸릴기이다.
「아르알킬기」는 아릴기로 치환된 알킬기를 의미한다. 여기서 「아릴기」 및 「알킬기」는 상기와 동의이다. 전형적으로는, 탄소수 7 내지 14의 아르알킬기, 예를 들어 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 페닐부틸기, 나프틸메틸기 또는 나프틸에틸기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있으며, 바람직하게는 탄소수 7 내지 10의 아르알킬기, 예를 들어 벤질기, 1-페네틸기, 2-페네틸기, 3-페닐프로필기 또는 4-페닐부틸기이다.
「헤테로아릴알킬기」는 헤테로아릴기로 치환된 알킬기를 의미한다. 여기서 「헤테로아릴기」 및 「알킬기」는 상기와 동의이다. 전형적으로는, 6 내지 14원의 헤테로아릴알킬기, 예를 들어 피롤릴메틸기, 피롤릴에틸기, 이미다졸릴메틸기, 이미다졸릴에틸기, 피라졸릴메틸기, 피라졸릴에틸기, 트리아졸릴메틸기, 트리아졸릴에틸기, 피리딜메틸기, 피리딜에틸기, 피리미디닐메틸기, 피리미디닐에틸기, 피리다지닐메틸기, 피리다지닐에틸기, 인돌릴메틸기, 인돌릴에틸기, 퀴놀릴메틸기, 퀴놀릴메틸에틸기; 티에닐메틸기, 티에닐에틸기, 벤조티에닐메틸기, 벤조티에닐에틸기; 푸릴메틸기, 푸릴에틸기, 벤조푸라닐메틸기, 벤조푸라닐에틸기; 옥사졸릴메틸기, 옥사졸릴에틸기, 이속사졸릴메틸기, 이속사졸릴에틸기, 티아졸릴메틸기, 티아졸릴에틸기, 이소티아졸릴메틸기, 이소티아졸릴에틸기, 옥사디아졸릴메틸기, 옥사디아졸릴에틸기, 티아디아졸릴메틸기, 티아디아졸릴에틸기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 6 내지 10원의 헤테로아릴알킬기, 예를 들어 2-피리딜메틸기, 3-피리딜메틸기, 2-피리미디닐메틸기, 5-피리미디닐메틸기, 2-인돌릴메틸기, 5-인돌릴메틸기, 2-벤조푸라닐메틸기, 5-인돌릴메틸기, 2-벤조티에닐메틸기 또는 5-벤조티에닐메틸기이다.
「할로겐 원자」 또는 「할로」는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자를 의미한다. 바람직하게는, 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이며, 보다 바람직하게는 염소 원자 또는 브롬 원자이다.
일반식 (1) 및 (3)의 화합물에 있어서, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이다.
본 발명에 있어서 「치환기를 갖고 있을 수도 있다」란, 다른 언급이 없는 한, 뒤에 이어지는 기가, 적어도 1개의 치환기를 갖는 경우와 치환기를 갖고 있지 않은 경우(즉, 비치환인 경우) 양쪽을 포함하는 것을 의미한다. 예를 들어, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 알킬기」는 「치환기를 갖는 알킬기」 또는 「치환기를 갖고 있지 않은 알킬기」를 의미하고, 여기에서 「알킬기」는 상기와 동의이다. 치환기는, 본 발명의 제조 방법에서 불활성의 것으로서, 화학적으로 모순이 없는 구조를 취할 수 있는 것이면, 특별히 한정은 없다.
R1 및 R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 알킬기」, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 알케닐기」, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 알키닐기」 또는 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 시클로알킬기」의 치환기의 예로서는, 할로겐 원자; 히드록시기; 탄소수 1 내지 10의 알콕시기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기; 시아노기; 또는 니트로기 등을 들 수 있다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
R1 및 R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기」, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기」, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기」 또는 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기」의 치환기의 예로서는, 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 탄소수 2 내지 10의 알키닐기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기; 탄소수 1 내지 10의 알콕시기; 탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기; 탄소수 2 내지 11의 아실기; 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기; 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기; 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기; 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기; 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기; 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기; 시아노기; 또는 니트로기 등을 들 수 있다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
상기 치환기의 예에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기」, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기」, 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기」 또는 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기」의 치환기의 예로서는, 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 탄소수 2 내지 10의 알키닐기; 탄소수 1 내지 10의 알콕시기; 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기; 시아노기; 또는 니트로기 등을 들 수 있다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
본 발명에 있어서 「탄소수 1 내지 10의 알콕시기」는 기 -OR(여기서, R은 상기와 동의의 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다)을 의미한다. 탄소수 1 내지 10의 알콕시기의 예로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 노닐옥시기 또는 데실옥시기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 예를 들어 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부틸옥시기, 이소부틸옥시기 또는 헥실옥시기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 예를 들어 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부틸옥시기 또는 이소부틸옥시기이다.
마찬가지로 「탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기」는 탄소수 1 내지 10의 알콕시기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시기를 의미한다. 여기서 「탄소수 1 내지 10의 알콕시기」는 상기와 동의이다. 바람직하게는, 탄소수 2 내지 8의 알콕시알콕시기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 4의 알콕시알콕시기, 예를 들어 메톡시메톡시기, 메톡시에톡시기, 에톡시메톡시기 또는 에톡시에톡시기이다.
마찬가지로 「탄소수 2 내지 11의 아실기」는 기 -C(=O)-R(여기서, R은 상기와 동의의 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다)을 의미한다. 탄소수 2 내지 11의 아실기의 예로서는, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 발레릴기, 헥사노일기, 옥타노일기 또는 데카노일기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 2 내지 7의 알콕시카르보닐기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 5의 알콕시카르보닐기, 예를 들어 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 이소부티릴기, 발레릴기, 이소발레릴기 또는 피발로일기이다.
마찬가지로 「탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기」는 기 -C(=O)-OR(여기서, R은 상기와 동의의 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다)을 의미한다. 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기의 예로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, 펜틸옥시카르보닐기, 헥실옥시카르보닐기, 헵틸옥시카르보닐기, 옥틸옥시카르보닐기, 노닐옥시카르보닐기 또는 데실옥시카르보닐기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 2 내지 7의 알콕시카르보닐기, 예를 들어 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기, t-부톡시카르보닐기 또는 헥실옥시기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 5의 알콕시카르보닐기, 예를 들어 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 이소프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 또는 t-부톡시카르보닐기이다.
마찬가지로 「탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기」는 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기를 의미한다. 여기서 「탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기」 및 「탄소수 1 내지 10의 알킬기」는 상기와 동의이다. 바람직하게는, 탄소수 3 내지 11의 알콕시카르보닐알킬기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 5의 알콕시카르보닐기로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬기(즉, 탄소수 3 내지 9의 알콕시카르보닐알킬기), 예를 들어 메톡시카르보닐메틸기, 에톡시카르보닐메틸기, 프로폭시카르보닐메틸기, 이소프로폭시카르보닐메틸기, 부톡시카르보닐메틸기, t-부톡시카르보닐메틸기, 메톡시카르보닐에틸기, 에톡시카르보닐에틸기, 프로폭시카르보닐에틸기, 이소프로폭시카르보닐에틸기, 부톡시카르보닐에틸기 또는 t-부톡시카르보닐에틸기이다.
마찬가지로 「탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기」는 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기로 치환된 탄소수 1 내지 10의 알콕시기를 의미한다. 여기서 「탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기」 및 「탄소수 1 내지 10의 알콕시기」는 상기와 동의이다. 바람직하게는, 탄소수 3 내지 11의 알콕시카르보닐알콕시기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 2 내지 5의 알콕시카르보닐기로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알콕시기(즉, 탄소수 3 내지 9의 알콕시카르보닐알콕시기), 예를 들어 메톡시카르보닐메톡시기, 에톡시카르보닐메톡시기, 프로폭시카르보닐메톡시기, 이소프로폭시카르보닐메톡시기, 부톡시카르보닐메톡시기, t-부톡시카르보닐메톡시기, 메톡시카르보닐에톡시기, 에톡시카르보닐에톡시기, 프로폭시카르보닐에톡시기, 이소프로폭시카르보닐에톡시기, 부톡시카르보닐에톡시기 또는 t-부톡시카르보닐에톡시기이다.
마찬가지로 「탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기」는 기 -OR'(여기서, R'은 상기와 동의의 탄소수 6 내지 14의 아릴이다)을 의미한다. 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기의 예로서는, 페녹시기, 나프틸옥시기 또는 안트릴옥시기 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 6 내지 10의 아릴옥시기, 예를 들어 페녹시기, 1-나프틸옥시기 또는 2-나프틸옥시기이다.
마찬가지로 「탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기」는 기 -OR"(여기서, R"은 상기와 동의의 아르알킬기이다)을 의미한다. 전형적으로는, 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기, 예를 들어 벤질옥시기, 페네틸옥시기, 페닐프로필옥시기, 페닐부틸옥시기, 나프틸메틸옥시기 또는 나프틸에틸옥시기 등(각종 이성체를 포함한다)을 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 7 내지 10의 아르알킬옥시기, 예를 들어 벤질옥시기, 1-페네틸옥시기, 2-페네틸옥시기, 3-페닐프로필옥시기 또는 3-페닐부틸옥시기이다.
마찬가지로 「탄소수 1 내지 4의 할로알킬기」는 1개 이상의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 의미한다. 여기서 「할로」 및 「탄소수 1 내지 4의 알킬기」는 상기와 동의이다. 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기의 예로서는, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2-디플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 1,1,2,2,2-펜타플루오로에틸기 또는 퍼플루오로부틸기를 들 수 있다. 바람직하게는, 탄소수 1 내지 2의 플루오로알킬기, 예를 들어 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2-디플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기 또는 1,1,2,2,2-펜타플루오로에틸기이다.
상기 치환기의 예에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기」는 아미노기 또는 1 혹은 2의 치환기를 갖는 아미노기를 의미한다. 치환기의 예로서는, 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 탄소수 3 내지 20의 알콕시카르보닐알킬기; 또는 탄소수 2 내지 10의 아실기 등을 들 수 있다. 2의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
본 발명의 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (1) 및 (3)의 술폰아미드 화합물에 있어서의 R1은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아릴기 또는 헤테로아릴기이다. 본 발명의 특히 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (1) 및 (3)의 술폰아미드 화합물에 있어서의 R1은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 페닐기 또는 피리딜기이다.
R1에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기(특히, 페닐기)」로서는, 아릴기(특히, 페닐기); 또는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기, 탄소수 2 내지 11의 아실기, 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기, 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기, 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 아릴기(특히, 페닐기)를 들 수 있다. 여기서, 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R1에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기(특히는, 페닐기)」은, 바람직하게는 탄소수 6 내지 10의 아릴기(특히는, 페닐기); 혹은 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 탄소수 6 내지 10의 아릴기(특히는, 페닐기)이다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
R1에 있어서의 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기는, 보다 바람직하게는 페닐기, 1-나프틸기, 2-나프틸기, 4-톨릴기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기, 4-클로로페닐기, 4-메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,4-메틸렌디옥시페닐기 또는 4-니트로페닐기이며, 더욱 바람직하게는 페닐기, 3-플루오로페닐이기 또는 4-플루오로페닐기이다.
R1에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기(특히는, 피리딜기)」로서는, 헤테로아릴기(특히는, 피리딜기); 또는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기, 탄소수 2 내지 11의 아실기, 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기, 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기, 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 헤테로아릴기(특히는, 피리딜기)를 들 수 있다. 여기서, 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R1에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기(특히는, 피리딜기)」는, 바람직하게는 5 내지 10원의 헤테로아릴기(특히는, 피리딜기); 혹은 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 5 내지 10원의 헤테로아릴기(특히는, 피리딜기)이다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
R1에 있어서의 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기는, 보다 바람직하게는 2-피리딜기, 3-피리딜기, 4-피리딜기, 2-피롤릴기, 3-피롤릴기, 2-티에닐기, 3-티에닐기, 2-푸릴기, 2-(3-메틸)피리딜기, 2-(4-메틸)피리딜기, 3-(2-메틸)피리딜기, 2-(3-플루오로)피리딜기 또는 2-(3-니트로)피리딜기이며, 더욱 바람직하게는 2-피리딜기 또는 3-피리딜기이다.
본 발명의 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (1) 및 (3)의 술폰아미드 화합물에 있어서의 R2는 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이다. 본 발명의 특히 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (1) 및 (3)의 술폰아미드 화합물에 있어서의 R2는 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 벤질기 또는 벤조푸라닐메틸기이다.
R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기(특히, 벤질기)」로서는, 아르알킬기(특히, 벤질기); 또는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기, 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기, 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 아르알킬기(특히, 벤질기)를 들 수 있다. 여기서, 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기(특히, 벤질기)」는, 바람직하게는 탄소수 7 내지 10의 아르알킬기(특히, 벤질기); 혹은 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 탄소수 2 내지 4의 알콕시알콕시기, 탄소수 6 내지 10의 아릴옥시기, 탄소수 7 내지 10의 아르알킬옥시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 탄소수 7 내지 10의 아르알킬기(특히, 벤질기)이다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기(특히, 벤질기)」는, 보다 바람직하게는 탄소수 7 내지 10의 아르알킬기(특히, 벤질기); 혹은 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기 또는 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기로 치환된 탄소수 7 내지 10의 아르알킬기(특히, 벤질기)이다.
R2에 있어서의 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기는, 더욱 바람직하게는 벤질기, 페네틸기, 3-페닐프로필기 또는 4-페닐부틸기; 비페닐-4-일메틸기, 2'-에톡시비페닐-4-일메틸기, 3'-에톡시비페닐-4-일메틸기, 4'-에톡시비페닐-4-일메틸기, 2'-(1-프로페닐)비페닐-4-일메틸기, 2'-(1-프로페닐)비페닐-4-일메틸기, 3'-(1-프로페닐)비페닐-4-일메틸기, 4'-(1-프로페닐)비페닐-4-일메틸기, 2'-(1-프로피닐)비페닐-4-일메틸기, 3'-(1-프로피닐)비페닐-4-일메틸기 또는 4'-(1-프로피닐)비페닐-4-일메틸기; 4-(티아졸-2-일)벤질기, 3-(티아졸-2-일)벤질기, 2-(티아졸-2-일)벤질기, 4-(티아졸-4-일)벤질기, 4-(4-메틸티아졸-2-일)벤질기, 4-(5-메틸티아졸-2-일)벤질기, 4-(4,5-디메틸티아졸-2-일)벤질기, 4-(5-플루오로티아졸-2-일)벤질기, 4-(5-클로로티아졸-2-일)벤질기, 4-(4-트리플루오로메틸티아졸-2-일)벤질기, 4-(5-트리플루오로메틸메틸티아졸-2-일)벤질기, 4-((1H)-피라졸-1-일)벤질기, 3-((1H)-피라졸-1-일)벤질기, 2-((1H)-피라졸-1-일)벤질기, 4-(3-메틸-(1H)-피라졸-1-일)벤질기, 4-(5-메틸-(1H)-피라졸-1-일)벤질기, 4-(옥사졸-1-일)벤질기, 3-(옥사졸-1-일)벤질기, 2-(옥사졸-1-일)벤질기, 4-(5-메틸옥사졸-1-일)벤질기 또는 4-(4-메틸옥사졸-1-일)벤질기이다.
R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기(특히, 벤조푸라닐메틸기)」로서는, 헤테로아릴알킬기(특히, 벤조푸라닐메틸기); 또는 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기, 탄소수 2 내지 11의 아실기, 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기, 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기, 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 헤테로아릴알킬기(특히, 벤조푸라닐기)를 들 수 있다. 여기서, 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R2에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기(특히, 벤조푸라닐메틸기)」는, 바람직하게는 6 내지 10원의 헤테로아릴알킬기(특히, 벤조푸라닐메틸기); 혹은 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기, 탄소수 1 내지 4의 알콕시기, 탄소수 2 내지 4의 알콕시알콕시기, 탄소수 6 내지 10의 아릴옥시기, 탄소수 7 내지 10의 아르알킬옥시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 6 내지 10원의 헤테로아릴알킬기(특히, 벤조푸라닐메틸기)이다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
R2에 있어서의 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기는, 보다 바람직하게는 2-피리딜메틸기, 3-피리딜메틸기, 2-피리미디닐메틸기, 5-피리미디닐메틸기, 3-피리다지닐메틸기, 2-인돌릴메틸기, 5-인돌릴메틸기, 2-벤조푸라닐메틸기, 5-인돌릴메틸기, 2-벤조티에닐메틸기, 5-벤조티에닐메틸기, 6-플루오로-2-벤조푸라닐메틸기, 6-클로로-2-벤조푸라닐메틸기, 6-메톡시-2-벤조푸라닐메틸기, 6-플루오로-2-벤조티에닐메틸기, 6-클로로-2-벤조티에닐메틸기, 6-메톡시-2-벤조티에닐메틸기 또는 6-페닐-3-피리다지닐메틸기이다.
일반식 (2)의 화합물에 있어서, X는 할로겐 원자이며, 바람직하게는 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자이며, 더욱 바람직하게는 염소 원자이다.
일반식 (2) 및 (3)의 화합물에 있어서, R3은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 알킬기, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이다.
R3에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 알킬기」의 치환기의 예로서는, 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 10의 알콕시기; 시아노기; 또는 니트로기 등을 들 수 있다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
본 발명의 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (2) 및 (3)의 화합물에 있어서의 R3은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이다. 본 발명의 특히 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (2) 및 (3)의 화합물에 있어서의 R3은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 벤질기 또는 피리딜메틸기이다.
R3에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기(특히, 벤질기)」 또는 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기(특히, 피리딜메틸기)」의 치환기의 예로서는, 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 탄소수 2 내지 10의 알키닐기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기; 탄소수 1 내지 10의 알콕시기; 탄소수 2 내지 20의 알콕시알콕시기; 탄소수 2 내지 11의 아실기; 탄소수 2 내지 11의 알콕시카르보닐기; 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기; 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기; 탄소수 6 내지 14의 아릴옥시기; 탄소수 7 내지 14의 아르알킬옥시기; 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기; 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기; 시아노기; 또는 니트로기 등을 들 수 있다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R3에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아르알킬기」는, 바람직하게는 탄소수 7 내지 14의 아르알킬기(특히, 벤질기); 혹은 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알킬기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 탄소수 7 내지 14의 아르알킬기(특히, 벤질기)이다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R3에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기」는, 바람직하게는 6 내지 14원의 헤테로아릴알킬기(특히, 피리딜메틸기); 혹은 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 3 내지 21의 알콕시카르보닐알콕시기, 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기, 치환기를 갖고 있을 수도 있는 아미노기, 시아노기 및 니트로기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개, 2개 또는 3개의 치환기로 치환된 탄소수 7 내지 14의 아르알킬기(특히, 벤질기)이다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다. 또한 인접하는 환 원자에 치환된 2개의 치환기는, 이러한 환 원자와 하나가 되어 환을 형성할 수도 있다.
R3에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기」로서는, 예를 들어 2-피리딜메틸, 3-피리딜메틸, 4-피리딜메틸, 2-(3-메틸)푸릴메틸기, 2-(4-메틸)푸릴메틸기, 2-(3-에틸)푸릴메틸기, 2-(4-에틸)푸릴메틸기, 2-(3-플루오로)푸릴메틸기, 2-(3-클로로)푸릴메틸기, 2-(3-메톡시)푸릴메틸기, 2-(3-니트로)푸릴메틸기, 2-(3-시아노)푸릴메틸기, 2-(3-메틸)피리딜메틸기, 2-(4-메틸)피리딜메틸기, 2-(3-에틸)피리딜메틸기, 2-(4-에틸)피리딜메틸기, 2-(3-플루오로)피리딜메틸기, 2-(4-클로로)피리딜메틸기, 2-(3-메톡시)피리딜메틸기, 2-(3-니트로)피리딜메틸기, 2-(3-시아노)피리딜메틸기, 2-(3,5-디클로로)피리딜메틸기, 3-(2-클로로)피리딜메틸기, 2-(3-메틸)피롤릴메틸기, 2-(3-메틸)티에닐메틸기, 2-(6-메톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-에톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-프로폭시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-이소프로폭시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-t-부톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기 또는 2-(6-헥실옥시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 2-(3-메틸)푸릴메틸기, 2-(3-플루오로)푸릴메틸기, 2-(3-메틸)피리딜메틸기, 2-(3-플루오로)피리딜메틸기, 2-(3-니트로)피리딜기, 2-(3-시아노)피리딜메틸기, 2-(3,5-디클로로)피리딜메틸기, 2-(6-메톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-에톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-프로폭시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-이소프로폭시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-t-부톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기 또는 2-(6-헥실옥시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기이다.
R3에 있어서의 치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴알킬기는, 보다 바람직하게는 2-피리딜메틸, 3-피리딜메틸, 4-피리딜메틸, 2-(6-메톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-에톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-프로폭시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-이소프로폭시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기, 2-(6-t-부톡시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기 또는 2-(6-헥실옥시카르보닐메틸아미노)피리딜메틸기이다.
본 발명의 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (1)로 표시되는 술폰아미드 화합물은 일반식 (4):
Figure pct00006
(식 중
R1a는 R1과 동의이며,
R4는 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아릴기 또는 헤테로아릴기이다)로 표시되는 술폰아미드 화합물이다.
본 발명의 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (2)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물은 일반식 (5):
Figure pct00007
(식 중 R5는 알킬기이며, X1은 X와 동의이다)
로 표시되는 할로겐화 유기 화합물이다.
본 발명의 바람직한 실시 형태에서는, 일반식 (3)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은 일반식 (6):
Figure pct00008
(식 중 R1a, R4 및 R5는 상기와 동의이다)
으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물이다.
일반식 (4) 및 (6)에 있어서, R1a는 R1과 동의이다.
일반식 (4) 및 (6)에 있어서, R4는 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아릴기 또는 헤테로아릴기이다.
R4에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 아릴기」 또는 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기」의 치환기의 예로서는, 할로겐 원자; 탄소수 1 내지 10의 알킬기; 탄소수 2 내지 10의 알케닐기; 탄소수 2 내지 10의 알키닐기; 탄소수 1 내지 10의 알콕시기; 탄소수 1 내지 4의 할로알킬기; 시아노기; 또는 니트로기 등을 들 수 있다. 2 이상의 치환기는 동일할 수도, 상이할 수도 있다.
R4에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기」는, 예를 들어 티아졸기, 옥사졸기, 벤조티아졸기, 벤조피리독신티아졸기, 피리독신티아졸기, 피리딘기, 피리다진기, 피리미딘기, 피라진기, 트리아진기, 퀴놀린기, 피리도벤조티아졸기 또는 피라졸기 등(각종 이성체를 포함한다) 혹은 2-(4-메틸)티아졸기, 2-(5-메틸)티아졸기, 2-(5-플루오로)티아졸기, (1H)-1-(3-메틸)피라졸기, 1H-1-(5-메틸)피라졸기, 2-(4-메틸)옥사졸기 또는 2-(5-메틸)옥사졸기 등을 들 수 있다.
R4에 있어서의 「치환기를 갖고 있을 수도 있는 헤테로아릴기」로서는, 바람직하게는 2-티아졸기, 2-(4-메틸)티아졸기, 2-(5-플루오로)티아졸기, 1H-1-피라졸기, 1H-(3-메틸)피라졸기 또는 2-메톡시티아졸이다.
일반식 (5) 및 (6)에 있어서, R5는 알킬기, 예를 들어 탄소수 1 내지 10의 알킬기이며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, t-부틸기 또는 n-헥실기이다.
일반식 (5)에 있어서, X1은 X와 동의이다.
본 발명의 반응은 탄산세슘 또는 탄산칼륨의 존재 하에서 행하여진다. 보다 바람직하게는, 탄산세슘이다.
본 발명에서 사용되는 탄산세슘 또는 탄산칼륨의 사용량은, 일반식 (1) 또는 (4)로 표시되는 술폰아미드 화합물 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.5 내지 10몰이며, 보다 바람직하게는 0.5 내지 5몰이며, 특히 바람직하게는 1 내지 3몰이다.
본 발명에서 사용되는 탄산세슘 또는 탄산칼륨으로서는, 무수물 및 수화물을 들 수 있지만, 바람직하게는 무수물이다.
본 발명에서 사용되는 탄산세슘 또는 탄산칼륨의 순도는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 95％ 이상이며, 더욱 바람직하게는 98％ 이상이 바람직하다.
본 발명의 반응은 유기 용매의 존재 하에서 행하여진다. 본 발명의 반응에 있어서 사용되는 유기 용매로서는, 반응에 영향을 미치지 않는 용매이면 특별히 한정되지 않는다.
본 발명에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 프로판올, 2-프로판올, 부틸알코올 또는 t-부틸알코올과 같은 알코올계 유기 용매; 아세토니트릴 또는 벤조니트릴과 같은 니트릴계 유기 용매; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피리돈, 디메틸이미다졸 또는 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논과 같은 아미드계 용매; 염화메틸렌, 클로로포름 또는 1,2-디클로로에탄과 같은 할로겐계 유기 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로펜탄, 시클로헥산 또는 시클로펜탄과 같은 지방족 탄화수소계 용매; 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌과 같은 방향족 탄화수소계 용매; 디에틸에테르, t-부틸메틸에테르, 디이소프로필에테르, 테트라히드로푸란 또는 1,4-디옥산과 같은 에테르계 용매 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 알코올계 유기 용매, 방향족 탄화수소계 유기 용매, 할로겐계 유기 용매 또는 니트릴계 유기 용매이며, 보다 바람직하게는 니트릴계 유기 용매이다. 또한, 이들 유기 용매를 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.
유기 용매의 사용량은, 일반식 (1) 또는 (4)로 표시되는 술폰아미드 화합물 1g에 대하여, 바람직하게는 2 내지 200mL, 보다 바람직하게는 5 내지 50mL, 특히 바람직하게는 5 내지 20mL이다.
본 발명의 반응은, 예를 들어 일반식 (1) 또는 (4)로 표시되는 술폰아미드 화합물, 일반식 (2) 또는 (5)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물, 탄산세슘 또는 탄산칼륨 및 유기 용매를 혼합하고, 교반하면서 반응시키는 등의 방법에 의해 행하여진다. 여기서, 반응 압력은 특별히 제한되지 않지만, 상압 하에서 행하는 것이 바람직하다.
본 발명의 반응에 있어서의 반응 온도는, 예를 들어 -20 내지 130℃이며, 바람직하게는 0 내지 90℃이고, 보다 바람직하게는 30 내지 90℃이고, 특히 바람직하게는 60 내지 90℃이다.
본 발명의 반응은, 일반적으로 고체-액체계의 불균일계이다. 반응 종료 시에 여과에 의해 탄산세슘 또는 탄산칼륨을 제거하고, 얻어진 여과액을 농축, 추출 또는 정석 조작을 행함으로써 생성물을 간단하게 고순도로 취득할 수 있다.
본 발명의 반응에서 사용하는 제조 장치는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 반응 용기, 가열(냉각) 장치, 증류 장치(예를 들어, 딘스타르크 트랩 등) 등, 일반적인 제조 장치로 행할 수 있다.
본 발명의 방법으로 얻어진, 일반식 (3) 또는 (6)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은 증류, 분액, 추출, 정석, 재결정 및 칼럼 크로마토그래피 등의 일반적인 방법에 의해 더 정제할 수도 있다.
본 발명의 제조 방법으로 얻어지는 일반식 (3) 또는 (6)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은 탄산세슘 또는 탄산칼륨을 사용하여 선택적으로 제조되고 있기 때문에, 종래의 제법에서 일어날 수 있는 부반응에 의한 제거 곤란한 부생성물의 혼입이 매우 적어, 의약품으로서 보다 안전한 제품이다.
본 발명의 제조 방법으로 얻어지는 일반식 (3) 또는 (6)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은, 바람직하게는 그의 HPLC 순도가 99.5％ 이상이며, 또한 함유되는 모든 불순물의 함량이 각각 0.10％ 미만이고, 보다 바람직하게는 그의 HPLC 순도가 99.9％ 이상이다.
따라서, 본 발명은, 고순도의 일반식 (3) 또는 (6)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물을 제공할 수도 있다. 본 발명의 일반식 (3) 또는 (6)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물은 고순도, 바람직하게는 그의 HPLC 순도가 99.5％ 이상이며, 또한 함유되는 모든 불순물의 함량이 각각 0.10％ 미만이고, 보다 바람직하게는 그의 HPLC 순도가 99.9％ 이상이다.
또한, 본 발명은, 일반식 (5)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물 및 그의 원료인 히드록시메틸 화합물을 제공할 수도 있다. 그들 화합물은 일반식 (9):
Figure pct00009
(식 중 R5는 알킬기이며, X2는 할로겐 원자 또는 히드록시기이다)
로 표시된다. 일반식 (9)에 있어서, R5는 알킬기, 예를 들어 탄소수 1 내지 10의 알킬기이며, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, t-부틸기 또는 n-헥실기이며, X2는 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 원자 또는 브롬 원자이다. 일반식 (9)의 화합물의 구체적 형태는 다음의 실시예에 개시되어 있다.
실시예
이어서, 실시예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들에 한정되는 것은 아니다.
얻어진 목적물은 IR, NMR 스펙트럼 분석 등으로 구조 확인을 행했다. 또한 고속 액체 크로마토그래피(HPLC)를 사용하여, 반응 수율(내부 표준화법) 및 화학 순도의 측정을 행했다.
[실시예 1]
Figure pct00010
2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 합성
교반 장치, 온도계 및 상부 냉각 장치를 구비한 내용적 약 50ml의 유리제 용기에, N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드 3.21g(10.2mmol), 실시예 6에서 얻어진 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 2.43g(10.0mmol), 탄산세슘 6.65g(20.4mmol) 및 아세토니트릴 17.6g을 추가하고, 80℃에서 가열 교반했다. 반응은, 고속 액체 크로마토그래피 분석에 있어서, 원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 면적 백분율이 0.03％ 이하가 될 때까지 2시간 행하고, 추가로 2시간 행했다. 또한, 가열 교반 개시 1시간 및 2시간 후의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 반응 전화율은 각각 99.88％ 및 99.97％이었다. 반응 종료 후, 반응액을 실온까지 냉각하고, 셀라이트(상품명)를 사용하여 여과하고, 여과물을 아세토니트릴로 세정했다. 얻어진 여과액을 고속 액체 크로마토그래피로 정량 분석한바, 목적물이 5.08g 포함되어 있었다(반응 수율 97.5％). 이어서, 반응액을 액 중량이 7.85g이 될 때까지 감압 농축하고, 톨루엔 42.8g을 첨가한 후, 물로 3회 세정했다. 얻어진 유기층에, 1㏖/L 염산 31.5ml(31.5mmol)을 첨가하고, 실온에서 20분간 교반 후, 분액했다. 또한, 분액 후의 유기층에는 0.17g(수율3.2％ 상당)의 목적물이 포함되어 있었다. 얻어진 수층에, 톨루엔 42.8g 및 1㏖/L 수산화나트륨 수용액 34.6ml(34.6mmol)을 첨가하고, 40℃까지 가온하고, 20분간 교반했다. 40℃에서 열시 여과한 후, 분액했다. 얻어진 유기층을 물로 2회 세정했다. 유기층을 액 중량이 8.97g이 될 때까지 감압 농축하고, 2-프로판올 7.40g을 첨가했다. 60℃까지 가온한 후, 서냉하고, 33℃에서 30분간 교반한 후, 5℃ 이하까지 천천히 냉각하고, 동일 온도에서 추가로 1시간 교반했다. 석출된 고체를 여과하고, 냉각한 2-프로판올로 세정한 후, 50℃에서 진공 건조시켜, 2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 3.90g을 미갈색 고체로서 얻었다(원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 기준의 단리 수율 75.1％). 또한, HPLC 고속 크로마토그래피법에 의한 정량 순도는 99.5％이며, 원료의 N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드가 0.04％ 포함되어 있었다. 또한, HPLC 고속 액체 크로마토그래피법에 의한 측정(파장 260㎚)에 있어서, 면적 백분율이 0.1％ 이상을 나타내는 불순물은 없었다.
얻어진 2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 물성값은 이하와 같았다.
EI-MS(m/z):520 [M].
CI-MS(m/z):521 [M+1].
1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)): 1.24(6H, d, J=6.3Hz), 3.82(2H, d, J=5.5Hz), 4.31(2H, s), 4.64(2H,s), 4.94(1H, t, J=5.5Hz), 5.07(1H, sep, J=6.3Hz), 6.26(1H, d, J=8.3Hz), 6.41(1H, dd, J=7.2, 0.5Hz), 6.46(1H, dd, J=2.5, 1.8Hz), 7.25(1H, dd, J=8.3, 7.2Hz), 7.32(1H, ddd, J=8.0, 4.9, 0.8Hz), 7.37-7.42(2H, m), 7.62-7.66(2H, m), 7.71(1H, dd, J=1.8, 0.6Hz), 7.93(1H, dd, J=2.6, 0.6Hz), 7.94(1H, ddd, J=8.0, 2.4, 1.7Hz), 8.69(1H, dd, J=4.8, 1.6Hz), 8.98(1H, dd, J=2.4, 0.8Hz).
13C-NMR(CDCl3, δ(ppm)):21.8, 43.7, 51.0, 51.1, 68.9, 107.4, 107.7, 112.6, 119.2, 123.3, 126.7, 129.9, 133.8, 134.6, 137.3, 137.6, 139.8, 141.1, 148.0, 152.6, 153.2, 157.3, 170.5.
IR(KBr ㎝-1):764(C-H), 1161(S=O), 1525(C=N), 1737(C=O), (2981, 2933)(C-H), 3437(N-H).
원소 분석; 계산값: C, 59.80％; H, 5.31％; N, 16.07％
실측값: C, 59.98％; H, 5.42％; N, 16.14％.
[실시예 2]
Figure pct00011
2-({6-[(N-벤질피리딘-3-술폰아미드)메틸]피리딘-2-일}아미노)아세트산이소프로필의 합성
교반 장치, 온도계 및 상부 냉각 장치를 구비한 내용적 약 50ml의 유리제 용기에, N-벤질피리딘-3-술폰아미드 0.253g(1.02mmol), 실시예 6에서 얻어진 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 0.243g(1.00mmol), 탄산세슘 0.665g(2.04mmol) 및 아세토니트릴 1.76g을 추가하고, 80℃에서 가열 교반했다. 반응은, 고속 액체 크로마토그래피 분석에 있어서, 원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 면적 백분율이 0.03％ 이하가 될 때까지 2시간 행하고, 추가로 2시간 행했다. 또한, 가열 교반 개시 1시간 및 2시간 후의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 반응 전화율은 각각 99.81％ 및 99.99％ 이상이었다. 반응 종료 후, 반응액을 실온까지 냉각하고, 셀라이트(상품명)를 사용하여 여과하고, 여과물을 아세토니트릴로 세정했다. 얻어진 여과액을 고속 액체 크로마토그래피로 정량 분석한바, 목적물이 0.430g 포함되어 있었다(반응 수율 94.5％). 이어서, 반응액을 액 중량이 0.785g이 될 때까지 감압 농축하고, 톨루엔 4.3g을 첨가한 후, 물로 3회 세정했다. 이때, 목적물을 포함하는 에멀전이 생성되었지만, 수층과 함께 폐기했다. 얻어진 유기층에, 1㏖/L 염산 3.15ml(3.15mmol)을 첨가하고, 실온에서 20분간 교반 후 분액했다. 얻어진 수층에, 톨루엔 4.27g 및 1㏖/L 수산화나트륨 수용액 3.46ml(3.46mmol)을 첨가하고, 40℃까지 가온하고, 20분간 교반했다. 분액 후, 얻어진 유기층을 물로 2회 세정했다. 유기층을 액 중량이 0.239g이 될 때까지 감압 농축하여, 2-({6-[(N-벤질피리딘-3-술폰아미드)메틸]피리딘-2-일}아미노)아세트산이소프로필을 담갈색 고체로서 얻었다(원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 기준의 단리 수율 53.8％). 또한, HPLC 고속 액체 크로마토그래피법에 의한 정량 순도는 98.0％이었다. 또한, HPLC 고속 액체 크로마토그래피법에 의한 측정(파장 260㎚)에 있어서, 면적％가 0.1％ 이상을 나타내는 불순물은 없었다.
얻어진 2-({6-[(N-벤질피리딘-3-술폰아미드)메틸]피리딘-2-일}아미노)아세트산이소프로필의 물성값은 이하와 같았다.
EI-MS(m/z):454 [M].
CI-MS(m/z):455 [M+1].
1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)):1.27(6H, d, J=6.3Hz), 3.82(2H, d, J=5.4Hz), 4.31(2H, s), 4.62(2H, s), 4.73(1H, t, J=5.2Hz), 5.09(1H, sep, J=6.3Hz), 6.26(1H, d, J=8.1Hz), 6.43(1H, d, J=6.9Hz), 7.26-7.33(7H, m), 7.90-7.93(1H, m), 8.69(1H, dd, J=4.8, 1.6Hz), 8.95(1H, dd, J=2.3, 0.7Hz).
13C-NMR(CDCl3, δ(ppm)):21.8, 43.8, 51.1, 51.6, 69.0, 107.2, 112.6, 123.2, 127.9, 128.6, 128.8, 134.7, 135.6, 137.6, 137.7, 148.2, 152.5, 153.6, 157.3, 170.5.
IR(KBr ㎝-1):1169(S=O), 1724(C=O), (2936, 2984)(C-H), 3428(N-H).
원소 분석; 계산값: C, 60.77％; H, 5.77％; N, 12.33％
실측값: C, 61.03％; H, 5.85％; N, 12.15％.
[실시예 3]
Figure pct00012
2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 합성
교반 장치, 온도계 및 상부 냉각 장치를 구비한 내용적 약 30ml의 유리제 용기에, N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드 641㎎(2.04mmol), 실시예 6에서 얻어진 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 485㎎(2.00mmol), 탄산세슘 1.33g(4.08mmol) 및 아세토니트릴 3.53g을 추가하고, 30℃에서 교반했다. 반응은, 고속 액체 크로마토그래피 분석에 있어서, 원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 면적 백분율이 0.3％ 이하가 될 때까지 26시간 행하고, 추가로 2시간 행했다. 반응 종료 후, 반응액을 여과하고, 여과물을 아세토니트릴로 세정했다. 얻어진 여과액을 고속 액체 크로마토그래피로 정량 분석한바, 목적물이 991㎎ 포함되어 있었다(반응 수율 95.2％).
[실시예 4]
2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 합성
교반 장치, 온도계 및 상부 냉각 장치를 구비한 내용적 약 50ml의 유리제 용기에, N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드 3.21g(10.2mmol), 실시예 6에서 얻어진 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 2.43g(10.0mmol), 탄산칼륨 2.82g(20.4mmol) 및 아세토니트릴 17.6g을 추가하고, 80℃에서 가열 교반했다. 반응은, 고속 액체 크로마토그래피 분석에 있어서, 원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일아미노]아세트산이소프로필의 면적 백분율이 0.03％ 이하가 될 때까지 10시간 행했다. 또한, 가열 교반 개시 1시간 후의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 반응 전화율은 43.9％이었다. 반응 종료 후, 반응액을 실온까지 냉각하고, 셀라이트(상품명)를 사용하여 여과하고, 여과물을 아세토니트릴로 세정했다. 얻어진 여과액을 고속 액체 크로마토그래피로 정량 분석한바, 목적물이 5.00g 포함되어 있었다(반응 수율 96.0％). 이어서, 반응액을 액 중량이 7.85g이 될 때까지 감압 농축하고, 톨루엔 42.77g을 첨가한 후, 물로 3회 세정했다. 얻어진 유기층에, 1㏖/L 염산 31.5ml(31.5mmol)을 첨가하고, 실온에서 20분간 교반 후, 분액했다. 또한, 분액 후의 유기층에는 0.62g(수율 11.8％ 상당)의 목적물이 포함되어 있었다. 얻어진 수층에, 톨루엔 42.77g 및 1㏖/L 수산화나트륨 수용액 34.6ml(34.6mmol)을 첨가하고, 40℃까지 가온하고, 20분간 교반했다. 40℃에서 열시 여과한 후, 분액했다. 얻어진 유기층을 물로 2회 세정했다. 유기층을 액 중량이 8.97g이 될 때까지 감압 농축하고, 2-프로판올 7.40g을 첨가했다. 60℃까지 가온한 후, 서냉하고, 결정이 석출되기 시작한 온도에서 30분간 교반시킨 후, 5℃ 이하까지 천천히 냉각하고, 동일 온도에서 추가로 1시간 교반했다. 얻어진 슬러리를 여과하고, 얻어진 여과물을 냉각한 2-프로판올로 세정한 후, 50℃에서 진공 건조시켜, 2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 3.90g을 미갈색 고체로서 얻었다(원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 기준의 단리 수율 74.9％). 또한, HPLC 고속 크로마토그래피법에 의한 정량 순도는 99.0％이며, 원료의 N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드가 0.11％ 포함되어 있었다.
얻어진 2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 물성값은 이하와 같았다.
EI-MS(m/z):520 [M].
CI-MS(m/z):521 [M+1].
1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)): 1.24(6H, d, J=6.3Hz), 3.82(2H, d, J=5.5Hz), 4.31(2H, s), 4.64(2H, s), 4.94(1H, t, J=5.5Hz), 5.07(1H, sep, J=6.3Hz), 6.26(1H, d, J=8.3Hz), 6.41(1H, dd, J=7.2, 0.5Hz), 6.46(1H, dd, J=2.5, 1.8Hz), 7.25(1H, dd, J=8.3, 7.2Hz), 7.32(1H, ddd, J=8.0, 4.9, 0.8Hz), 7.37-7.42(2H, m), 7.62-7.66(2H, m), 7.71(1H, dd, J=1.8, 0.6Hz), 7.93(1H, dd, J=2.6, 0.6Hz), 7.94(1H, ddd, J=8.0, 2.4, 1.7Hz), 8.69(1H, dd, J=4.8, 1.6Hz), 8.98(1H, dd, J=2.4, 0.8Hz).
13C-NMR(CDCl3, δ(ppm)):21.8, 43.7, 51.0, 51.1, 68.9, 107.4, 107.7, 112.6, 119.2, 123.3, 126.7, 129.9, 133.8, 134.6, 137.3, 137.6, 139.8, 141.1, 148.0, 152.6, 153.2, 157.3, 170.5.
IR(KBr ㎝-1):764(C-H), 1161(S=O), 1525(C=N), 1737(C=O), (2981, 2933)(C-H), 3437(N-H).
원소 분석; 계산값: C, 59.80％; H, 5.31％; N, 16.07％
실측값: C, 59.98％; H, 5.42％; N, 16.14％.
[비교예 1]
2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 합성
교반 장치, 온도계 및 상부 냉각 장치를 구비한 내용적 약 50ml의 유리제 용기에, N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드 3.21g(10.2mmol), 실시예 6에서 얻어진 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 2.43g(10.0mmol), 탄산나트륨 2.16g(20.4mmol) 및 아세토니트릴 17.6g을 추가하고, 80℃에서 가열 교반했다. 반응은, 고속 액체 크로마토그래피 분석에 있어서, 원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 면적 백분율이 0.05％ 이하가 될 때까지 110시간 행했다. 또한, 가열 교반 개시 1시간 후의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 반응 전화율은 0.92％이었다. 반응 종료 후, 반응액을 실온까지 냉각하고, 셀라이트(상품명)를 사용하여 여과하고, 여과물을 아세토니트릴로 세정했다. 얻어진 여과액을 고속 액체 크로마토그래피로 정량 분석한바, 목적물이 0.72g 포함되어 있었다(반응 수율 13.8％). 이어서, 액 중량이 7.85g이 될 때까지 감압 농축하고, 톨루엔 42.6g을 첨가한 후, 물로 3회 세정했다. 또한, 수세 시에 타르분이 분리되었기 때문에, 수층과 함께 폐기했다. 얻어진 유기층에 1㏖/L 염산 31.5ml(31.5mmol)을 첨가하고, 실온에서 20분간 교반 후, 분액했다. 얻어진 수층에 톨루엔 42.6g 및 1㏖/L 수산화나트륨 수용액 34.6ml(34.6mmol)을 첨가하고, 40℃까지 가온하고 20분간 교반했다. 40℃에서 열시 여과한 후, 분액하고, 얻어진 유기층을 물로 2회 세정했다. 유기층을 감압 농축하여, 2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필을 포함하는 암갈색 점조(粘稠) 액체 0.764를 얻었다. 또한, HPLC 고속 크로마토그래피법에 의한 정량 순도는 60.2％이며, 순분은 0.460g이었다(원료의 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 기준의 단리 수율 8.8％).
얻어진 2-{[6-({N-[4-(1H-피라졸-1-일)벤질]피리딘-3-술폰아미드}메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 물성값은 이하와 같았다.
EI-MS(m/z):520 [M].
CI-MS(m/z):521 [M+1].
1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)): 1.24(6H, d, J=6.3Hz), 3.82(2H, d, J=5.5Hz), 4.31(2H, s), 4.64(2H, s), 4.94(1H, t, J=5.5Hz), 5.07(1H, sep, J=6.3Hz), 6.26(1H, d, J=8.3Hz), 6.41(1H, dd, J=7.2, 0.5Hz), 6.46(1H, dd, J=2.5, 1.8Hz), 7.25(1H, dd, J=8.3, 7.2Hz), 7.32(1H, ddd, J=8.0, 4.9, 0.8Hz), 7.37-7.42(2H, m), 7.62-7.66(2H, m), 7.71(1H, dd, J=1.8, 0.6Hz), 7.93(1H, dd, J=2.6, 0.6Hz), 7.94(1H, ddd, J=8.0, 2.4, 1.7Hz), 8.69(1H, dd, J=4.8, 1.6Hz), 8.98(1H, dd, J=2.4, 0.8Hz).
13C-NMR(CDCl3, δ(ppm)):21.8, 43.7, 51.0, 51.1, 68.9, 107.4, 107.7, 112.6, 119.2, 123.3, 126.7, 129.9, 133.8, 134.6, 137.3, 137.6, 139.8, 141.1, 148.0, 152.6, 153.2, 157.3, 170.5.
IR(KBr ㎝-1):764(C-H), 1161(S=O), 1525(C=N), 1737(C=O), (2981, 2933)(C-H), 3437(N-H).
[실시예 5]
2-{[6-(히드록시메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 합성
교반 장치, 온도계 및 상부 냉각 장치를 구비한 내용적 약 2L의 유리제 용기에, 2-프로판올 948g 및 농황산 76.7g을 추가하고, 75℃까지 가온했다. 이것에 일본 특허 공개 제2011-57633호 공보의 참고예 3-(b)에 기재된 방법으로 합성한 2-{[(t-부톡시카르보닐)(6-히드록시메틸피리딘-2-일)]아미노}아세트산t-부틸 135g, 톨루엔 45g 및 2-프로판올 311g의 혼합 용액을 40분간에 걸쳐 적하한 후, 78℃에서 6시간 가열 교반했다. 냉각 후, 내압 20hPa, 외온 40℃에서 액량이 309g이 될 때까지 감압 농축하고, 톨루엔 677g 및 물 406g을 추가하여 실온에서 교반 후에 분액했다. 얻어진 수층을, 별도로 준비한 탄산수소나트륨 129g, 물 812g, 톨루엔 677g의 혼합 용액에, 20분간에 걸쳐 적하하고, 실온에서 1시간 교반한 후, 분액하여, 수층을 톨루엔 338g으로 추출했다. 얻어진 유기층을 혼합하고, 5중량％ 염화나트륨 수용액 426g으로 세정하여, 유기층 1370g을 얻었다. 이 중 1356g 정도 분취하고, 액량이 113g이 될 때까지 농축한 후, 액량이 300g이 될 때까지 톨루엔을 첨가했다. 이 용액에 n-헵탄 190g을 추가하고, 45℃로 가온하여 결정을 용해시킨 후, 35℃까지 냉각했다. 마찬가지의 방법으로 별도로 합성한 소량의 시드 결정(seed crystal)을 첨가하고, 35℃에서 1시간 교반한바, 결정이 서서히 증가했다. n-헵탄 365g을 30분간에 걸쳐 적하하고, 내온이 5℃가 될 때까지 40분간에 걸쳐 냉각한 후, 동일 온도에서 30분간 교반했다. 석출된 결정을 여과 분별하고, n-헵탄으로 세정한 후, 50℃에서 감압 건조하여, 2-{[6-(히드록시메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 70.4g을 백색 분말로서 얻었다. 또한, HPLC 고속 크로마토그래피법에 의한 정량 순도는 94.3％이며, 순분은 66.4g이었다(원료의 2-{[(t-부톡시카르보닐)(6-히드록시메틸피리딘-2-일)]아미노}아세트산t-부틸 기준의 단리 수율 74.7％).
얻어진 2-{[6-(히드록시메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 물성값은 이하와 같았다.
EI-MS(m/z):224 [M].
CI-MS(m/z):225 [M+1].
1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)):1.27(6H, d, J=6.3Hz), 3.76(1H, s), 4.10(2H, d, J=5.5Hz), 4.59(2H, s), 5.00(1H, s), 5.10(1H, m), 6.36(1H, dd, J=8.2, 0.6Hz), 6.51(1H, dd, J=7.3, 0.7Hz), 7.41(1H, ddd, J=5.74, 3.88Hz).
13C-NMR(CDCl3, δ(ppm)):21.8, 44.1, 63.5, 69.0, 106.6, 109.5, 138.0, 156.8, 156.9, 170.7.
IR(KBr ㎝-1):416, 469, 531, 559, 731, 785, 826, 862, 903, 916, 941, 980, 1014, 1052, 1082, 1106, 1131, 1147, 1182, 1217, 1256, 1276, 1347, 1378, 1402, 1471, 1526(C=N), 1582, 1607, 1687, 1724(C=O), 2878, 2935(C-H), 2983(C-H), 3381(N-H).
원소 분석; 계산값: C, 58.91％; H, 7.19％; N, 12.49％
실측값: C, 58.99％; H, 7.17％; N, 12.48％.
[실시예 6]
2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 합성
실시예 5에서 얻어진 2-{[6-(히드록시메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 35.7g을 염화메틸렌 396g에 용해시킨 용액에, 염화티오닐 19.6g을 실온에서 20분간에 걸쳐 적하하고, 실온에서 1시간 교반했다. 얻어진 반응액을, 탄산수소나트륨 37.8g 및 물 149g의 혼합액 슬러리에 적하하고, 실온에서 20분간 교반했다. 분액 후, 유기층에 황산마그네슘 6.73g을 추가하여 탈수하고, 여과액을 50℃에서 농축 건고하여, 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필 37.8g을 담갈색 고체로서 얻었다.
얻어진 2-{[6-(클로로메틸)피리딘-2-일]아미노}아세트산이소프로필의 물성값은 이하와 같았다.
EI-MS(m/z):242 [M].
CI-MS(m/z):243 [M+1].
1H-NMR(CDCl3, δ(ppm)):1.24(6H, m), 4.10(2H, d, J=5.4Hz), 4.48(2H, s), 5.03(1H, s), 5.10(1H, m), 6.39(1H, d, J=8.3Hz), 6.76(1H, d, J=7.3Hz), 7.43(1H, dd, J=7.8, 7.8Hz).
13C-NMR(CDCl3, δ(ppm)):21.8, 44.0, 44.7, 68.9, 107.7, 112.2, 138.1, 154.6, 157.3, 170.7.
IR(KBr ㎝-1):415, 446, 530, 560, 627, 735, 804, 827, 874, 903, 939, 952, 982, 1042, 1088, 1108, 1128, 1144, 1167, 1180, 1219, 1269, 1281, 1350, 1378, 1400, 1420, 1434, 1470, 1525(C=N), 1580, 1613, 1690, 1728(C=O), 2878, 2934(C-H), 2981(C-H), 3379(N-H).
원소 분석; 계산값: C, 54.44％; H, 6.23％; N, 11.54％
실측값: C, 54.46％; H, 6.23％; N, 11.56％.
본 발명은, 술폰아미드 화합물과 할로겐화 유기 화합물을 반응시켜, 고순도의 N-치환 술폰아미드 화합물을 얻는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법은 특정한 염기를 사용함으로써, 종래보다 반응이 빠르고 고수율이며 부생성물이 적은 공업적으로도 매우 유용한 방법이다. 또한 본 제조에 의해 얻어지는 고순도 N-치환 술폰아미드 화합물은 의약 중간체 및 원체로서 품질에도 문제는 없다.

Claims (24)

  1. 일반식 (1):
    Figure pct00013

    (식 중
    R1 및 R2는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이다)
    로 표시되는 술폰아미드 화합물과, 일반식 (2):
    Figure pct00014

    (식 중
    R3은 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기이며, X는 할로겐 원자이다)
    로 표시되는 할로겐화 유기 화합물을, 탄산세슘 또는 탄산칼륨의 존재 하에서, 유기 용매 중에서 반응시키는 공정을 포함하는, 일반식 (3):
    Figure pct00015

    (식 중 R1, R2 및 R3은 상기와 동의이다)
    으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, R1이 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아릴기 또는 헤테로아릴기인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, R1이 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 페닐기 또는 피리딜기인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서, R2가 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아르알킬기 또는 헤테로아릴알킬기인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  5. 제1항 또는 제4항에 있어서, R2가 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 벤질기 또는 벤조푸라닐메틸기인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  6. (삭제)
  7. 제1항 또는 제6항에 있어서, R3이 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 벤질기 또는 피리딜메틸기인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서, X가 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  9. 제1항 또는 제8항에 있어서, X가 염소 원자 또는 브롬 원자인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  10. 제1항에 있어서, 일반식 (1)로 표시되는 술폰아미드 화합물이 일반식 (4):
    Figure pct00016

    (식 중
    R1a는 R1과 동의이며,
    R4는 치환기를 갖고 있을 수도 있는, 아릴기 또는 헤테로아릴기이다)
    로 표시되는 술폰아미드 화합물인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  11. 제1항에 있어서, 일반식 (2)로 표시되는 할로겐화 유기 화합물이 일반식 (5):
    Figure pct00017

    (식 중 R5는 알킬기이며, X1은 X와 동의이다)
    로 표시되는 할로겐화 유기 화합물인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  12. 제1항에 있어서, 일반식 (3)으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물이 일반식 (6):
    Figure pct00018

    (식 중 R1a, R4 및 R5는 상기와 동의이다)
    으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물인, N 치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 반응 온도가 0 내지 90℃인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 용매가 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드 및 아세토니트릴로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 유기 용매인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 유기 용매가 아세토니트릴인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  16. 일반식 (1):
    Figure pct00019

    (식 중 R1 및 R2는 상기와 동의이다)
    로 표시되는 술폰아미드 화합물과, 일반식 (2):
    Figure pct00020

    (식 중 R3 및 X는 상기와 동의이다)
    로 표시되는 할로겐화 유기 화합물을, 탄산세슘의 존재 하에서, 유기 용매 중에서 반응시키는 공정을 포함하는, 일반식 (3):
    Figure pct00021

    (식 중 R1, R2 및 R3은 상기와 동의이다)
    으로 표시되는 N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서, 반응 온도가 30 내지 90℃인, N-치환 술폰아미드 화합물의 제조 방법.
  18. 일반식 (3):
    Figure pct00022

    (식 중 R1, R2, R3은 상기한 바와 같다)
    으로 표시되는, 고순도의 N-치환 술폰아미드 화합물.
  19. 제18항에 있어서, N-치환 술폰아미드 화합물의 HPLC 순도가 99.5％ 이상이며, 함유되는 모든 불순물의 함량이 각각 0.10％ 미만인, 고순도의 N-치환 술폰아미드 화합물.
  20. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법으로 얻어지는 고순도 N-치환 술폰아미드 화합물.
  21. N-치환 술폰아미드 화합물의 HPLC 순도가 99.9％ 이상인, 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법으로 얻어지는 고순도 N-치환 술폰아미드 화합물.
  22. N-치환 술폰아미드 화합물의 HPLC 순도가 99.5％ 이상이며, 함유되는 모든 불순물의 함량이 각각 0.10％ 미만인, 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법으로 얻어지는 고순도 N-치환 술폰아미드 화합물.
  23. N-치환 술폰아미드 화합물이 일반식 (6):
    Figure pct00023

    (식 중 R1a, R4 및 R5는 상기와 동의이다)
    으로 표시되는, 고순도 N-치환 술폰아미드 화합물.
  24. 일반식 (9):
    Figure pct00024

    (식 중 R5는 알킬기이며, X2는 할로겐 원자 또는 히드록시기이다)
    로 표시되는 화합물.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10849901B2 (en) 2014-05-27 2020-12-01 Navigen, Inc. Arf6 inhibitors and methods of synthesis and use thereof
US10940144B2 (en) 2017-09-29 2021-03-09 Santen Pharmaceutical Co., Ltd. Drug containing pyridylaminoacetic acid compound
KR20200103041A (ko) 2017-12-21 2020-09-01 산텐 세이야꾸 가부시키가이샤 오미데네팍의 조합
CN114345388B (zh) * 2022-01-11 2023-11-28 广州亦盛环保科技有限公司 一种类石墨相氮化碳的改性方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007067817A1 (en) 2005-12-07 2007-06-14 Cv Therapeutics, Inc. Abca1 elevating compounds
WO2009086123A1 (en) 2007-12-21 2009-07-09 Wyeth Imidazo [1,2-a] pyridine compounds
WO2010059627A1 (en) 2008-11-19 2010-05-27 Wyeth Llc Polar quinazolines as liver x receptors ( lxrs ) modulators
JP2011057633A (ja) 2009-09-11 2011-03-24 Ube Industries Ltd ピリジルアミノ酢酸化合物を含有する医薬

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002322054A (ja) 2001-04-26 2002-11-08 Dai Ichi Seiyaku Co Ltd 薬剤排出ポンプ阻害薬
JP2007517905A (ja) 2004-01-16 2007-07-05 ワイス アゾールを含有するベータアミロイド産生のヘテロ環式スルホンアミド阻害剤
EP1860940A1 (en) * 2005-03-16 2007-12-05 Basf Aktiengesellschaft Biphenyl-n- (4-pyridyl) methylsulfonamides
WO2008103615A1 (en) 2007-02-21 2008-08-28 Kalypsys, Inc. Isoquinolines useful as inducible nitric oxide synthase inhibitors
CN103965099A (zh) 2008-03-12 2014-08-06 宇部兴产株式会社 吡啶基氨基乙酸化合物
AR075442A1 (es) 2009-02-16 2011-03-30 Abbott Gmbh & Co Kg Derivados de aminotetralina, composiciones farmaceuticas que las contienen y sus usos en terapia
DK2415763T3 (en) * 2009-03-30 2016-03-07 Ube Industries A pharmaceutical composition for the treatment or prevention of glaucoma
WO2010125831A1 (en) 2009-05-01 2010-11-04 Raqualia Pharma Inc. Sulfamoyl benzoic acid derivatives as trpm8 antagonists
JP2013500267A (ja) 2009-07-23 2013-01-07 ヴァンダービルト ユニバーシティー ｍＧＬｕＲ４増強剤としての置換されたベンゾイミダゾールスルホンアミド類および置換されたインドールスルホンアミド類
HUE032983T2 (en) 2009-09-03 2017-11-28 Bristol Myers Squibb Co Quinazoline as potassium ion channel inhibitor
WO2011030865A1 (ja) 2009-09-11 2011-03-17 宇部興産株式会社 置換ベンジル化合物
CN102911086B (zh) 2012-11-19 2014-04-02 江西国化实业有限公司 三氟甲磺酸酐的制备方法
KR20150135460A (ko) 2013-03-28 2015-12-02 우베 고산 가부시키가이샤 치환 비아릴 화합물
JP2017206444A (ja) 2014-09-26 2017-11-24 宇部興産株式会社 置換フェニル化合物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007067817A1 (en) 2005-12-07 2007-06-14 Cv Therapeutics, Inc. Abca1 elevating compounds
WO2009086123A1 (en) 2007-12-21 2009-07-09 Wyeth Imidazo [1,2-a] pyridine compounds
WO2010059627A1 (en) 2008-11-19 2010-05-27 Wyeth Llc Polar quinazolines as liver x receptors ( lxrs ) modulators
JP2011057633A (ja) 2009-09-11 2011-03-24 Ube Industries Ltd ピリジルアミノ酢酸化合物を含有する医薬

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Arzneimittel Forschung(DrugResearch), 2008, Vol. 58, No. 11, 585-591
Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 2001, Vol. 11, 757-760
Chemistry of Heterocyclic Compounds, 2009, Vol. 45, No. 4, 436-444
J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1, 1985, 831-836
J. Med. Chem., 1997, Vol. 40, 2525-2532
J. Org. Chem., 2002, Vol. 67, 5250-5256
Tetrahedron Letters, 1986, Vol. 27, No. 50, 6083-6086

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