KR20160099622A - 액정 혼합물의 정제 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 액정 혼합물(7)의 세정 방법에 관한 것으로, 액정 혼합물(7)을 제 1 전기투석 셀(2)을 통해 이송시키고, 농축 용액(14)을 제 1 전기투석 셀(2)에 인접해 있고 이온-교환 막(9)에 의해 분리된 제 2 전기투석 셀(8)을 통해 이송시키고, 상기 전기투석 셀들(2, 8) 외부에 배치된 애노드-캐쏘드 어셈블리(15, 16)에 의해, 액정 혼합물(7)이 제 1 전기투석 셀(2)을 통해 이송되는 방향에 교차되는 방향으로 전기장을 발생시켜, 액정 혼합물(7)의 이온화된 성분들이 이온-교환 막(9)에서 떨어져 나가 액정 혼합물(7)로부터 분리되도록 한다. 액정 혼합물(7)은 1시간 초과, 바람직하게는 4시간 초과에 걸쳐 제 1 전기투석 셀(2)을 통과할 수 있다. 10 볼트 초과, 바람직하게는 80 볼트 초과, 특히 바람직하게는 400 볼트 이상의 항복 전압을 갖는 막을 이온-교환 막(9)으로서 사용하고, 가능한 한 크지만 항복 전압 이하인 전압 강하가 이온-교환 막(9)에서 이루어진다.
Description
본 발명은 액정 혼합물의 정제 방법에 관한 것이다.
액정 혼합물은 예를 들면 액정 디스플레이에 사용되는 액정-유사 방향-의존성 물성을 가진 유체 물질이다. 바람직하게는 디스플레이에 사용될 수 있는 상업적으로 입수가능한 액정 혼합물은 서로 사전 특정된 비율로 혼합된 다양한 성분들을 가지고 있다. 각각의 적용례에 필요한 액정 혼합물의 특성 및 장점은 개개의 성분과 혼합 비율의 적합한 치수에 의해 구체적으로 실현될 수 있다.
액정 혼합물의 약간의 오염에도, 의도한 적용례에 필요하거나 바람직한 액정 혼합물의 특성이 손상될 수 있고 사전 특정된 액정 혼합물의 특정 적용례에 대한 경제적으로 실행가능한 용도가 더 어렵게 되거나 심지어 불가능하게 될 수 있는 것으로 밝혀졌다.
따라서, 액정 혼합물을 정제할 수 있는 다양한 정제 방법이 실제로 개시되어 있다. 상기 다양한 정제 방법은 서로 다른 방법에 기초한다. 산업적 생산 및 처리 과정에서, 기계적 필터 공정 또는 흡착제의 첨가 및 후속 분리가 자주 사용되는 정제 공정이다.
실제로 공지된 정제 방법은 종종 액정 혼합물의 정제 효율이 매우 낮은데도 비교적 고가이다.
따라서, 본 발명의 목적은 액정 혼합물의 가능한 가장 효율적인 정제가 가능한 한 염가로 신뢰성 있게 수행될 수 있는 방식으로 액정 혼합물의 정제 방법을 설계하는 것이다.
이러한 목적은, 액정 혼합물을 제 1 전기투석 셀에 통과시키고, 농축 용액을 제 1 전기투석 셀에 인접하고 이온-교환 막에 의해 분리된 제 2 전기투석 셀에 통과시키고, 상기 전기투석 셀들 외부에 배치된 애노드/캐쏘드 구성의 도움으로, 제 1 전기투석 셀을 통한 액정 혼합물의 통과 방향에 교차되는 전기장이 발생되어 액정 혼합물의 이온화된 성분들이 제 1 전기투석 셀로부터 배출되어 액정 혼합물로부터 제거되는 것을 특징으로 하는 정제 방법에 의해 본 발명에 따라 달성된다. 따라서, 본 발명에 따른 방법은 본질적으로 액정 혼합물에 대한 전기투석의 성능에 상응한다.
실제로 관련된 많은 불순물들이 전기투석을 사용하여 액정 혼합물로부터 분리되고 제거될 수 있음이 밝혀졌다. 이온화된 불순물들은 제 1 전기투석 셀의 경계를 형성하는 이온-교환 막 및 농축 용액의 적합한 사전-규격에 의해 액정 혼합물로부터 신뢰성 있게 고 효율로 제거될 수 있다.
본 발명에 따른 방법은 연속 조작으로 수행될 수 있고, 정제 공정의 연속적인 샘플링 및 제어를 가능하게 함으로써, 개개의 액정 혼합물, 이의 오염 및 정제되는 액정 혼합물의 목적 순도에 따라, 적합한 공정 시간을 결정할 수 있고 이미 달성된 정제를 정제 공정이 수행되는 동안 모니터링할 수 있고, 필요한 경우, 조절할 수 있도록 한다.
본 발명의 바람직한 실시양태에 따르면, 액정 혼합물을 제 1 전기투석 셀을 수회 통과시키는 것이 제공된다. 또한, 액정 혼합물을 제 1 전기투석 셀에 필적하는 이온 교환 막 및 인접한 제 2 전기투석 셀의 구성을 갖는 복수의 전기투석 셀 및 필적하는 전기장에 연속적으로 통과시키는 것이 가능하다. 두 가지 모든 경우에, 제 1 전기투석 셀에서 또는 비슷한 전기투석 셀 구성에서의 액정 혼합물의 통과 속도 및 액정 혼합물의 총 정제 기간 또는 총 체류 시간을 서로 독립적으로 미리 정할 수 있는 상황을 달성하는 것이 가능하다. 따라서, 예를 들면, 매우 효율적으로 제거할 수 있는 불순물의 경우에는, 공정 시간을 맞추거나 짧게 유지하는 것이 가능하다. 대조적으로, 액정 혼합물 중의 불순물만이 비교적 천천히 액정 혼합물로부터 분리되고 제거되는 것이 관찰되는 경우, 정제 공정을 충분히 긴 시간 동안 수행해야 미리 정한 정제 효과를 확실하게 보장하거나 달성할 수 있다.
시간 간격에 따른 또는 연속적인 샘플링은 이미 달성된 정제 효과를 측정하고 제어할 수 있도록 한다. 따라서, 본 발명에 따른 정제 방법은 또한 액정 혼합물의 정제를 조절할 수 있게 하여, 목적하거나 또는 부득이하게 사전 특정된 순도를 본 발명에 따른 정제에 의해 달성하도록 보장할 수 있다.
본 발명의 실시양태에 따르면, 액정 혼합물을 1시간 이상, 바람직하게는 4시간 이상에 걸쳐 제 1 전기투석 셀에 통과시키는 것이 제공된다. 액정 혼합물을 복수 개의 유사한 전기투석 셀에 순차적으로 통과시키면, 마찬가지로 이들 전기투석 셀 내의 액정 혼합물의 총 체류 시간은 1시간 이상, 바람직하게는 4시간 이상을 제공할 수 있다. 액정 혼합물의 순도에 대한 유리한 기준으로 간주될 수 있는 비저항은 약 4시간 내지 8시간에 걸쳐 공정 기간에 따라 20배 이상 증가될 수 있음이 밝혀졌다.
상기 사용되는 농축 용액은 탈이온수가 유리한 것으로 입증되었다. 탈이온수 중에서의 비교적 효과적인 전하 수송 외에도, 농도 구배는 이온-교환 막을 통한 삼투작용을 유리하게 하고, 이는 추가적인 정제 효과를 초래한다.
그러나, 액정 혼합물의 조성에 따라, 상기 사용되는 농축 용액은 다른 적합한 용액 예를 들면 변압기 오일, 도데칸 또는 다른 유기 용매가 마찬가지로 가능하고 가능하게는 유리하다.
조사에 따르면, 큰 전위차, 결과적으로 제 1 전기투석 셀을 통과하는 액정 혼합물의 유동 방향에 교차하는 큰 전기장이 효과적인 정제 효과에 특히 유리한 것으로 나타났다. 따라서, 본 발명의 실시양태에 따르면, 사용되는 이온-교환 막은 10 볼트 초과, 바람직하게는 80 볼트 초과, 특히 바람직하게는 400 볼트 이상의 항복 전압(breakdown voltage)을 갖는 막으로 제공되고, 이온-교환 막에서 가능한 가장 큰 전압 강하를 일으키는, 항복 전압 이하의 전위차는 애노드/캐쏘드 구성의 도움으로 사전 특정된다. 항복 전압은, 막이 더 이상 신뢰성 있게 절연체로서 작용하지 못하고 막을 통한 전류 흐름이 전기투석 작용을 손상시킬 수 있는 전압을 나타낸다. 제 1 전기투석 셀 내에서의 10 내지 100 볼트 범위의 전압 강하가 정제 공정을 수행하기에 적합한 것으로 간주된다. 제 1 전기투석 셀에서의 전압 강하는 바람직하게는 80 내지 120 볼트의 범위에 있어야 하고, 이 범위가 정제 공정에 특히 유리한 것으로 입증되었다.
물 또는 다른 혼합물 성분들이 상기 전극들에서 파괴되는 것을 방지하기 위해, 본 발명의 유리한 실시양태에 따르면, 공정이 실행되는 동안, 애노드 및 캐쏘드가 변압기 오일로 플러슁되도록 제공된다. 애노드 및 캐쏘드의 접근가능한 표면적은 변압기 오일로 연속적으로 또는 시간 간격으로 플러슁될 수 있다. 애노드 및 캐쏘드에 사용되는 전극 물질은 바람직하게는 스테인리스 스틸뿐만 아니라 그래파이트, 혼합된 산화물 또는 다른 적합한 전극 물질일 수 있다.
정제 작업 후에 액정 혼합물의 잔사가 제 1 전기투석 셀에 부착된 채로 잔류하거나 유지되는 것을 방지하기 위해, 가능하면 정제되는 액정 혼합물과 접촉하는 모든 표면을 예를 들면 퍼플루오로알콕시 중합체(PFA)로 제조하거나 또는 이로 코팅하여 제공한다. 마찬가지로, 예를 들면 전기투석 셀뿐만 아니라 전기투석 셀 내의 튜브, 이온-교환 막 또는 스페이서 요소와 같은 제품과 접촉하는 구성요소들을 불활성 중합체 예컨대 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)로 제조할 수 있다. 제품과 접촉하는 구성요소들은 바람직하게는 새로운 정제 공정을 시작하기 전에 예를 들면 아세톤 또는 톨루엔 등의 유기 용매로 세정된다.
정제 공정이 수행되는 동안, 인접한 전기투석 셀들 사이에서 누출되거나 누출을 일으킬 수 있는 제 1 전기투석 셀에서의 바람직하지 않은 압력 변화를 방지하기 위해, 저-맥동 펌프가 상기 액정 혼합물 및 농축 용액을 이송시키기 위해 사용된다. 예를 들면, 기어 펌프의 사용은 액정 혼합물이 매우 일정한 압력으로 반송되도록 할 수 있고 바람직하지 않은 효과 예컨대 누출 또는 감소된 정제 효과 등을 상당히 감소시키거나 완전히 방지하는 것으로 밝혀졌다.
가능한 최단 시간 내에 액정 혼합물의 가능한 가장 효과적인 정제를 달성하기 위해, 액정 혼합물을 제 1 전기투석 셀에 도입하기 전에 완전히 혼합 및 균질화하는 것이 제공된다.
본 발명에 따른 방법이 수행될 수 있는 장치는, 액정 혼합물이 통로 방향으로 제 1 전기투석 셀을 통과하도록 할 수 있는 공급 라인과 배출 라인을 갖는 제 1 전기투석 셀, 및 농축 용액이 제 2 전기투석 셀을 통과하도록 할 수 있는, 제 1 전기투석 셀에 인접하고 적합한 이온-교환 막에 의해 분리된 공급 라인과 배출 라인을 갖는 제 2 전기투석 셀을 갖는다. 제 1 전기투석 셀 및 제 2 전기투석 셀은 제 1 전기투석 셀 내의 액정 혼합물의 통과 방향에 가로놓이는 전기장이 애노드/캐쏘드 구성에 의해 발생될 수 있는 방식으로 애노드/캐쏘드 구성 사이에 배치된다.
애노드와 캐쏘드는, 제 1 전기투석 셀과 제 2 전기투석 셀로부터 각각의 경우에 제 1 전기투석 셀과 제 2 전기투석 셀 사이의 이온-교환 막에 의해 교환되는 용존 이온에 대해 반대 전하 부호를 갖는 전하를 갖는 용존 이온들을 교환하는 이온-교환 막에 의해 분리되어 있다. 예를 들어, 양이온 교환 막이 제 1 전기투석 셀과 제 2 전기투석 셀 사이에 위치하는 경우, 애노드와 캐쏘드는 음이온-교환 막에 의해 제 1 및 제 2 전기투석 셀로부터 분리된다.
이온-교환 막은 바람직하게는 불균일한 디자인을 가질 수 있고 베이스 중합체에 포함된 이온-교환 입자들을 함유하거나 또는 다르게는 균일한 디자인을 가질 수 있고 이온성 중합체로 구성될 수 있다. 사용되는 전극 물질은 바람직하게는 스테인리스 스틸이지만, 그래파이트 또는 적합한 혼합 산화물이 사용될 수 있다.
스페이서로서 알려져 있을 뿐만 아니라 전기투석 셀 내의 유효 유체 분배를 위해 제공되는 스페이싱(spacing) 장치는 각각 인접하는 이온-교환 막들 사이에 배치된다. 스페이서는 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 및 폴리아마이드, 또는 폴리비닐 클로라이드 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등의 불활성 플라스틱 물질 또는 플라스틱-물질 혼합물로부터 제조된다. 적합한 스페이서의 전형적인 두께는 0.3 mm 내지 1.5 mm, 바람직하게는 약 0.5 mm이다.
저-맥동 및 가능한 한 정압 펌프 예를 들면 기어 펌프가 바람직하게는 액정 혼합물 및 농축 용액을 이송시키기 위해 사용된다.
액정 혼합물과 접촉하는 모든 구성요소 예를 들면 전기투석 셀, 이온-교환 막, 스페이서, 및 공급 라인과 배출 라인에 사용되는 튜브 등은 바람직하게는 불활성 중합체로부터 제조되거나 또는 상응하는 코팅 A에 의해 제공된다. 적합한 불활성 중합체는 예컨대 PFA 또는 PTFE이다.
본 발명의 예시적인 실시양태는 하기에서 더욱 상세히 설명되며 도면에 표시된다:
도 1은 적절한 전기투석 장치의 도움으로 수행되는 본 발명에 따른 정제 공정의 개략도를 도시한다.
도 2는 정제 공정 성능의 지속 시간 동안 시간에 따른 액정 혼합물의 비저항 변화의 개략도를 도시한다.
도 1은 적절한 전기투석 장치의 도움으로 수행되는 본 발명에 따른 정제 공정의 개략도를 도시한다.
도 2는 정제 공정 성능의 지속 시간 동안 시간에 따른 액정 혼합물의 비저항 변화의 개략도를 도시한다.
액정 혼합물의 정제를 위한 본 발명에 따른 방법이 수행될 수 있는 도 1에 예시적으로 도시된 정제 장치(1)는, 액정 혼합물 저장조(5)에 연결되어 있는 공급 라인(3)과 배출 라인(4)을 갖는 제 1 전기투석 셀(2)을 갖는다. 기어 펌프(6)의 도움으로, 액정 혼합물(7)의 유체의 양은 액정 혼합물 저장조(5)로부터 이송되어 제 1 전기투석 셀(2)을 통해 다시 액정 혼합물 저장조(5)로 돌아가 회로를 형성하고 액정 혼합물(7)이 제 1 전기투석 셀(2)을 연속적으로 통과하도록 된다. 도 1에 따른 도면에서, 액정 혼합물(7)은 위에서 아래로 흐르는 통과 방향으로 제 1 전기투석 셀(2)을 통해 흐른다.
제 1 전기투석 셀(2)에 인접한 제 2 전기투석 셀(8)은, 적합한 음이온-교환 막(9)에 의해 제 1 전기투석 셀(2)로부터 분리되어 있다. 제 2 전기투석 셀(8)은 마찬가지로 농축 용액(14)이 기어 펌프(13)의 도움으로 제 2 전기투석 셀(8)을 통과할 수 있도록 농축-용액 저장조(12)에 연결되어 있는 공급 라인(10)과 배출 라인(11)을 갖는다. 사용되는 농축 용액(14)은 탈이온수이다.
제 1 전기투석 셀(2) 및 제 2 전기투석 셀(8)은 제 1 전기투석 셀(2) 내의 액정 혼합물(7)의 통과 방향에 대해 횡단 방향인 전기장이 애노드/캐쏘드 구성에 의해 발생되도록 하는 방식으로 애노드(15) 및 캐쏘드(16) 사이에 배치된다.
애노드(15) 및 캐쏘드(16)는 각각의 경우에 양이온-교환 막(17)에 의해 제 1 전기투석 셀(2) 및 제 2 전기투석 셀(8)로부터 분리되고, 변압기 오일 회로(18)의 도움으로 변압기 오일(19)에 의해 연속적으로 또는 필요에 따라 플러슁될 수 있다.
액정 혼합물(7)과 접촉되는 모든 구성요소 예를 들면 공급 라인(3 및 10)과 배출 라인(4 및 11)에 사용되는 전기투석 셀(2 및 8), 이온 교환 막(9 및 17), 스페이서 및 튜브는 불활성 중합체로 제조되거나 상응하는 코팅이 제공된다. 적합한 불활성 중합체는 예를 들면 PFA 또는 PTFE이다.
정제 공정을 수행하기 위해, 예를 들면 80 볼트 또는 120 볼트가 DC 전압 소스의 도움으로 애노드(15)와 캐쏘드(16) 사이에서 발생한다. 기어 펌프(6 및 13)가 개시되어, 제 1 전기투석 셀(2)을 통한 액정 혼합물(7)과 제 2 전기투석 셀(8)을 통한 농축 용액(14)의 균일한 흐름이 이루어진다. 액정 혼합물(7)이 제 1 전기투석 셀(2)을 통해 흐르는 동안, 이온화된 불순물은 전기장에 의해 음이온-교환 막(9)에서는 제 2 전기투석 셀(8)의 방향으로, 또는 반대 전화 부호의 이온화된 불순물의 경우, 양이온-교환 막(17)에서는 캐쏘드(16)의 방향으로 전환되어, 흐르는 액정 혼합물(7)로부터 제거된다.
액정 혼합물은 충분히 긴 기간 동안 제 1 전기투석 셀(2)을 통과할 수 있다. 정제 공정이 수행되는 동안, 샘플을 연속적으로 또는 시간 간격으로 취해, 이미 달성된 액정 혼합물(7)의 정제를 결정하거나 모니터링할 수 있다.
도 2는, 액정 혼합물(7)에 대한 정제 공정이 수행되는 동안, 시간 단위의 정제 기간(t)의 함수로서 결정되는 ohm×cm 단위의 비저항(ρ)을 개략적으로 도시한다. 비저항(ρ)은 액정 혼합물(7) 중의 용존 이온의 비율의 척도이며, 따라서 적어도 간접적으로는 액정 혼합물(7)에 존재하는 이온화된 불순물의 비율의 척도이다. 비저항(ρ)이 클수록, 이온화된 불순물의 비율은 작아지고 액정 혼합물(7)의 순도는 높아진다. 전형적인 액정 혼합물(7)의 비저항(ρ)은 단지 1시간 후에 약 10배 증가하고 약 4시간 후에는 약 40배 증가하는 것으로 밝혀졌다.
본 발명에 따른 정제 방법은 표준 실험실 전기투석 장치를 사용하여 수행될 수 있으며 단지 기어 펌프의 연속적인 작동을 필요로 한다. 따라서, 상기 정제 방법은 간단한 장비를 사용하여 염가로 수행될 수 있으며, 액정 혼합물(7)의 매우 효율적인 정제를 용이하게 할 수 있다. 이러한 효율은 미리 다른 방법에 기초하여 또 하나의 정제 공정을 추가로 수행함으로써 더 증가될 수 있다.
상기 정제 방법은 2개 이상의 유기 물질, 바람직하게는 메소젠성 화합물, 특히 액정 물질을 포함하는 액정 혼합물에 특히 적합하며, 이때 상기 액정 물질은 바람직하게는 하기 화학식 I의 화합물로부터 선택된다:
상기 식에서,
R1 및 R2는 각각, 서로 독립적으로, H, 비치환되거나, CN 또는 CF3에 의해 일치환되거나, 또는 적어도 할로겐에 의해 일치환되는 15개 이하의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼이고, 이때 이들 라디칼 중 하나 이상의 CH2 기는 또한, O 원자들이 서로 직접적으로 연결되지 않는 방식으로 -O-, -S-, , -C≡C-, -CH=CH-, -CF2O-, -OCF2-, -OC-O- 또는 -O-CO-로 대체될 수 있으며, 라디칼 R1 및 R2 중 하나는 또한 F, Cl, CN, SF5, NCS, SCN 또는 OCN을 나타내고,
고리 A, B, C 및 D는 각각, 서로 독립적으로,
를 나타내고,
r, s 및 t는 각각, 서로 독립적으로, 0, 1, 2 또는 3을 나타내며, 이때 r+s+t≤3이고,
Z1 -4는 각각, 서로 독립적으로, -CO-O-, -O-CO-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2O-, -OCH2-, -CH2CH2-, -(CH2)4-, -CH=CH-CH2O-, -C2F4-, -CH2CF2-, -CF2CH2-, -CF=CF-, -CH=CF-, -CF=CH-, -CH=CH-, -C≡C- 또는 단일 결합을 나타내고,
L1 및 L2는 각각, 서로 독립적으로, H 또는 F를 나타낸다.
r+s+t=0인 경우, Z1 및 Z4는 바람직하게는, 이들이 단일 결합을 나타내지 않는 경우, 이들이 2개의 O 원자들을 통해 서로 연결되지 않는 방식으로 선택된다.
개개의 메소젠성 물질을 포함하는 액정 혼합물은 또한 예를 들면 US 6,861,107에 개시된 바와 같은 소위 반응성 메소젠(RM)이라 불리는 하나 이상의 중합성 화합물을 상기 혼합물을 기준으로 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%, 특히 바람직하게는 0.2 내지 2 중량%의 농도로 추가로 포함할 수 있다. 이러한 유형의 혼합물은 이른바 중합체 안정화된 VA(PS-VA) 모드, 네거티브 IPS(PS-IPS) 또는 네거티브 FFS(PS-FFS) 모드에 대해 사용될 수 있으며, 이때 반응성 메소젠의 중합은 액정 혼합물에서 일어나도록 의도된다. 이를 위한 전제 조건은 액정 혼합물 자체가 임의의 개개의 중합성 물질을 포함할 수 없다는 점이다.
이를 위한 전제 조건은 액정 혼합물 자체가 마찬가지로 상기 화학식 M의 화합물이 중합되는 조건 하에서 중합하는 임의의 중합성 성분들을 포함하지 않는다는 점이다.
중합은 바람직하게는 하기 조건 하에서 수행된다:
중합성 성분들은 한정된 기간 동안 한정된 강도의 UV-A 램프 및 인가 전압(전형적으로 10 V 내지 30 V 교류 전압, 60 Hz 내지 1 kHz 범위의 주파수)을 사용하여 셀 내에서 중합된다. 사용되는 UV-A 광원은 전형적으로 50 mW/㎠의 강도를 갖는 금속-할라이드 증기 램프 또는 고압 수은 램프이다. 이들은 예를 들면 알켄일 또는 알켄일옥시 측쇄를 함유하는 액정 화합물 예컨대 하기 화학식의 화합물을 중합시키지 않는 조건이다:
"반응성 메소젠"(RM)으로도 알려진 중합성 메소젠성 또는 액정 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 II의 화합물로부터 선택된다:
상기 식에서, 개개의 라디칼은 하기와 같은 의미를 갖는다:
A1 및 A2는 각각, 서로 독립적으로, 융합된 고리를 함유할 수도 있고 임의적으로 L에 의해 일치환 또는 다중치환되는 방향족, 헤테로방향족, 지환족 또는 헤테로환형 기를 나타내고,
Z1은 각각의 경우에, 동일하거나 상이하게, -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -OCO-, -O-CO-O-, -OCH2-, -CH2O-, -SCH2-, -CH2S-, -CF2O-, -OCF2-, -CF2S-, -SCF2-, -(CH2)n-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -(CF2)n-, -CH=CH-, -CF=CF-, -C≡C-, -CH=CH-COO-, -OCO-CH=CH-, CR0R00 또는 단일 결합을 나타내고,
L, Ra 및 Rb는 각각, 서로 독립적으로, H, 할로겐, SF5, NO2, 탄소 기 또는 탄화수소 기를 나타내며, 이때 상기 화합물은, P-Sp- 기를 나타내거나 함유하는 하나 이상의 라디칼 L, Ra 및 Rb를 함유하고,
R0 및 R00은 각각, 서로 독립적으로, H 또는 1 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 알킬을 나타내고,
P는 중합성 기를 나타내고,
Sp는 스페이서 기 또는 단일 결합을 나타내고,
m은 0, 1, 2, 3 또는 4를 나타내고,
n은 1, 2, 3 또는 4를 나타낸다.
상기 중합성 화합물은 하나의 중합성 기(일반응성) 또는 2개 이상(이반응성 또는 다중반응성), 바람직하게는 2개의 중합성 기를 함유할 수 있다.
상기 및 하기에서, 하기와 같은 의미들이 적용된다:
용어 "메소젠성 기"는 당업자에게 공지되어 있고 문헌에 기술되어 있으며, 인력과 척력의 상호작용의 등방성으로 인해, 본질적으로 저분자량 또는 중합체성 물질에 액정(LC) 상을 유발하는 데 기여하는 기를 나타낸다. 메소젠성 기(메소젠성 화합물)를 함유하는 화합물은 반드시 LC 상 자체를 가질 필요는 없다. 메소젠성 화합물은 다른 화합물과 혼합한 후에만 및/또는 중합한 후에만 LC 상 거동을 나타내도록 하는 것도 가능하다. 전형적인 메소젠성 기는 예를 들면 강성 막대-형 또는 디스크-형 단위이다. 메소젠성 또는 LC 화합물과 관련하여 사용되는 용어 및 정의의 개요는 문헌[Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001)] 및 [C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368]에 제시되어 있다.
상기 및 하기에서 "Sp"로도 언급되는 용어 "스페이서 기"는 당업자에게 공지되어 있고 문헌에 기재되어 있다(예컨대, 문헌[Pure Appl. Chem. 73(5), 888 (2001)] 및 [C. Tschierske, G. Pelzl, S. Diele, Angew. Chem. 2004, 116, 6340-6368] 참조). 달리 나타내지 않는 한, 상기 및 하기에서 용어 "스페이서 기" 또는 "스페이서"는 중합성 메소젠성 화합물("RM") 중의 메소젠성 기와 중합성 기를 서로 연결하는 가요성 기를 나타낸다. Sp는 바람직하게는 단일 결합 또는 1 내지 16개의 탄소를 갖는 알킬렌을 나타내며, 이때 하나 이상의 CH2 기는, 2개의 O 원자들이 서로 직접적으로 연결되지 않는 방식으로 -O-, -CO-, -COO- 또는 -OCO-로 대체될 수 있다.
용어 "유기 기"는 탄소 또는 탄화수소 기를 나타낸다.
용어 "탄소 기"는 추가의 원자(예컨대 -C≡C-)를 더 함유하지 않거나 또는 임의적으로 하나 이상의 추가의 원자(예컨대, N, O, S, P, Si, Se, As, Te 또는 Ge)(예컨대, 카보닐 등)를 더 함유하는 하나 이상의 탄소 원자를 함유하는 일가 또는 다가 유기 기를 나타낸다. 용어 "탄화수소 기"는, 하나 이상의 H 원자를 추가로 함유하고 임의적으로는 하나 이상의 헤테로원자 예컨대 N, O, S, P, Si, Se, As, Te 또는 Ge 등과 같은 하나 이상의 헤테로원자를 추가로 함유한다.
"할로겐"은 F, Cl, Br 또는 I를 나타낸다.
용어 "알킬", "아릴", "헤테로아릴" 등은 또한 예를 들면 알킬렌, 아릴렌, 헤테로아릴렌 등의 다가 기를 포함한다.
본원에서 용어 "알킬"은 1 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 및 분지형 알킬 기를 포함하며, 바람직하게는 직쇄 기는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸 및 노닐을 포함한다. 1 내지 5개의 탄소 원자를 갖는 기가 특히 바람직하다.
본원에서 용어 "알켄일"은 2 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 및 분지형 알켄일 기를 포함하며, 바람직하게는 상기 직쇄 기는 2 내지 7개의 탄소 원자를 갖는다. 특히 바람직한 알켄일 기는 C2 -C7-1E-알켄일, C4 -C7 -3E-알켄일, C5 -C7 -4-알켄일, C6 -C7 -5-알켄일 및 C7-6-알켄일, 특히 C2 -C7 -1E-알켄일, C4 -C7 -3E-알켄일 및 C5 -C7-4-알켄일이다. 바람직한 알켄일 기의 예는 비닐, 1E-프로펜일, 1E-부텐일, 1E-펜텐일, 1E-헥센일, 1E-헵텐일, 3-부텐일, 3E-펜텐일, 3E-헥센일, 3E-헵텐일, 4-펜텐일, 4Z-헥센일, 4E-헥센일, 4Z-헵텐일, 5-헥센일, 6-헵텐일 등이다. 5개 이하의 탄소 원자를 갖는 기가 특히 바람직하다.
본원에서 용어 "플루오로알킬"은 말단 플루오린을 갖는 직쇄 기, 즉 플루오로메틸, 2-플루오로에틸, 3-플루오로프로필, 4-플루오로부틸, 5-플루오로펜틸, 6-플루오로헥실 및 7-플루오로헵틸을 포함한다. 그러나, 플루오린의 다른 위치가 배제되지 않는다.
본원에서 용어 "옥사알킬" 또는 "알콕시"는 화학식 CnH2n +1-O-(CH2)m의 직쇄 라디칼을 포함하며, 이때 n 및 m은 각각, 서로 독립적으로, 1 내지 6을 나타낸다. 바람직하게는 n은 1이고 m은 1 내지 6이다.
용어 "아릴"은 방향족 탄소 기 또는 이로부터 유도되는 기를 나타낸다. 용어 "헤테로아릴"은 하나 이상의 헤테로원자를 함유하는 상기 정의에 따른 "아릴"을 나타낸다.
중합성 기 P는, 중합 반응 예를 들면 자유-라디칼 또는 이온성 쇄 중합, 중첨가 또는 중축합에, 또는 중합-유사 반응 예를 들면 중합체 주쇄 상으로의 첨가 또는 축합에 적합한 기이다. 쇄 중합을 위한 기, 특히 C=C 이중 결합 또는 -C≡C- 삼중 결합을 함유하는 기 및 개환 중합에 적합한 기 예를 들면 옥세탄 또는 에폭사이드 기가 특히 바람직하다.
중합성 화합물은 당업자에게 공지되어 있으며 유기 화학의 표준 작업 문헌(예컨대 문헌[Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Thieme-Verlag, Stuttgart])에 기재되어 있는 공정과 유사하게 제조된다.
전형적이고 바람직한 반응성 메소젠(RM)은 예를 들면 WO 93/22397, EP 0 261 712, DE 195 04 224, WO 95/22586, WO 97/00600, US 5,518,652, US 5,750,051, US 5,770,107 및 US 6,514,578에 기재되어 있다. 아주 특별히 언급되는 반응성 메소젠은 하기 표 E에 도시된다.
상기 방법은 유기 화합물로 이루어진 혼합물의 제조에 사용되며, 이들 중 하나 이상은 바람직하게는 메소젠성, 바람직하게는 그 자체로 액정성이다. 메소젠성 화합물은 바람직하게는 하나 이상의 액정 화합물을 포함한다. 공정 제품은 바람직하게는 균질한 액정 혼합물이다. 넓은 의미에서, 상기 방법은 또한 균질한 액상의 유기 물질로 이루어지고 불용성인 첨가제(예컨대 작은 입자들)를 포함하는 혼합물의 제조를 포함한다. 따라서, 상기 방법은 또한 연속적인 균질한 유기 상에 기초한 현탁액-형 또는 에멀젼-형 혼합물의 제조에 사용될 수 있다. 그러나, 이러한 유형의 공정 변형은 일반적으로 덜 바람직하다.
적당한 첨가제에 의해, 2개 이상의 화학식 I의 화합물을 포함하는 액정 혼합물은 이들이 지금까지 개시된 임의의 유형의 LCD 디스플레이 예를 들면 ECB, VAN, IPS, FFS, TN, TN-TFT, STN, OCB, GH, PS-IPS, PS-FFS, PM-VA, PVA, PSA, PS-VA 또는 ASM-VA 디스플레이에 사용될 수 있는 방식으로 개질될 수 있다.
액정 혼합물은 또한 예를 들면 당업자에게 공지되어 있고 문헌에 기재되어 있는 첨가제 예를 들면 UV 안정화제 예컨대 티누빈(Tinuvin®) 예컨대 티누빈 770(바스프), 항산화제 예컨대 이가녹스(Irganox®) 예컨대 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)-프로피오네이트)(바스프), 자유-라디칼 스캐빈저, 나노입자, 미립자, 하나 이상의 도판트 등을 포함할 수 있다. 예를 들면, 0 내지 15%의 다색성 염료, 더욱이 전도성 염, 바람직하게는 에틸다이메틸도데실암모늄 4-헥속시벤조에이트, 테트라부틸암모늄, 테트라페닐보라네이트 또는 크라운 에터의 착염(예컨대, 문헌[Haller et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst. Volume 24, pages 249-258 (1973)] 참조)이 첨가되어 전도성을 개선하거나, 또는 유전 이방성, 점도 및/또는 네마틱 상의 정렬을 개질하기 위한 물질이 첨가될 수 있다. 이러한 유형의 물질은 예를 들면 DE-A 22 09 127, 22 40 864, 23 21 632, 23 38 281, 24 50 088, 26 37 430 및 28 53 728에 기재되어 있다.
액정 혼합물의 제조 중에 전기투석 셀 내의 화학식 I의 화합물과 조합될 수 있는 적합한 안정화제 및 도펀트를 하기 표 C 및 D에 나타내었다.
하기 실시예는 본 발명을 제한하지 않고 본 발명을 설명하기 위해 의도된다. 상기 및 하기에서, 퍼센트 데이터는 중량%를 나타내고, 모든 온도는 섭씨 온도로 나타낸다.
본원에 걸쳐, 1,4-사이클로헥실렌 고리 및 1,4-페닐렌 고리는 다음과 같이 도시된다:
상기 사이클로헥실렌 고리는 트랜스-1,4-사이클로헥실렌 고리이다.
본원에서 하기 실시예에서, 액정 화합물의 구조는 두문자로 표시되고 하기 표 A 및 B에 따라 화학식으로 변환된다. 모든 라디칼 CnH2n +1 및 CmH2m +1은 각각 n 및 m개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬 라디칼이고; n, m, k 및 z는 정수, 바람직하게는 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 또는 12이다. 용어 "(O)CmH2m +1"은 OCmH2m+1 또는 CmH2m +1을 의미한다. 표 B의 부호는 자명하다.
표 A에서, 모 구조에 대한 두문자만이 표시된다. 개개의 경우, 모 구조에 대한 두문자 다음에 대쉬로 분리되고 다음에 치환기 R1 *, R2 *, L1 * 및 L2 *에 대한 코드가 따른다:
액정 혼합물의 제조에 적합하며 본 발명에 따른 정제 방법에 사용될 수 있는 바람직한 메소젠성 또는 액정 물질이 특히 하기 표 A 및 B에 열거된다:
표 A
표 B
(n = 1 내지 15; (O)CnH2n +1은 CnH2n +1 또는 OCnH2n +1을 의미한다)
하나 이상의 화학식 I의 화합물 이외에 표 B로부터의 1, 2, 3, 4개 또는 그 이상의 화합물을 포함하는 액정 혼합물이 특히 바람직하다.
표 C
하기 표 C는 일반적으로 액정 혼합물에 첨가되는 도펀트를 나타낸다. 상기 혼합물은 바람직하게는 0 내지 10 중량%, 특히 0.01 내지 5 중량%, 특히 바람직하게는 0.01 내지 3 중량%의 도펀트를 포함한다.
표 D
예를 들어 액정 혼합물에 0 내지 10 중량%의 양으로 첨가될 수 있는 안정화제는 다음과 같다(n = 1 내지 12).
바람직하게는 PSA 및 PS-VA 적용례 또는 PS-IPS/FFS 적용례에서 본 발명에 따른 혼합물에 사용하기에 적합한 중합성 화합물(반응성 메소젠)은 하기 표 E에 나타내었다:
표 E
표 E는 바람직하게는 본 발명에 따른 액정 혼합물에 반응성 메소젠성 화합물로서 사용될 수 있는 실시예 화합물을 보여준다. 액정 혼합물이 하나 이상의 반응성 화합물을 포함하는 경우, 이들은 바람직하게는 0.01 내지 5 중량%의 양으로 사용된다. 중합을 위한 개시제 또는 2개 이상의 개시제의 혼합물을 첨가할 수도 있다. 개시제 또는 개시제의 혼합물은 바람직하게는 혼합물을 기준으로 0.001 내지 2 중량%의 양으로 첨가된다. 적합한 개시제는 예를 들면 이가큐어(바스프) 또는 이가녹스(바스프)이다.
바람직하게는 PSA 및 PS-VA 적용례 또는 PS-IPS/FFS 적용례에서 본 발명에 따른 혼합물에 사용하기에 적합한 중합성 화합물(반응성 메소젠)은 하기 표 E에 나타내었다:
바람직한 실시양태에서, 액정 혼합물은 표 E로부터의 화합물의 군으로부터 선택된 하나 이상의 화합물을 포함한다.
실시예
하기 실시예는 본 발명을 제한하지 않고 본 발명을 설명하기 위한 것이다.
상기 및 하기에서, 퍼센트 데이터는 중량%를 나타낸다. 모든 온도는 섭씨 온도로 나타낸다. m.p.는 융점을 내타내고, cl.p.는 등명점을 나타낸다. 또한, C = 결정 상태, N = 네마틱 상, S = 스멕틱 상, 그리고 I = 등방성 상을 나타낸다. 이들 기호 사이의 데이터는 전이 온도를 나타낸다. 또한,
Vo는 20℃에서의 용량성 임계 전압[V]을 나타낸다.
Δn은 20℃ 및 589 nm에서 측정된 광학 이방성을 나타낸다.
Δε은 20℃ 및 1 kHz에서의 유전 이방성을 나타낸다.
cl.p.는 등명점[℃]을 나타낸다.
K1은 탄성 상수[pN]로서, 20℃에서의 "스플레이(splay)" 변형을 나타낸다.
K3은 탄성 상수[pN]로서, 20℃에서의 "굽힘(bend)" 변형을 나타낸다.
γ1은 자기장에서의 회전 방법에 의해 결정되는 20℃에서 측정한 회전 점도[mPa·S]를 나타낸다.
LTS는 시험 셀에서 결정되는 저온 안정성(네마틱 상)을 나타낸다.
하기 실시예는 본 발명을 제한하지 않고 본 발명을 설명하기 위한 것이다.
상기 및 하기에서, 퍼센트는 중량%를 나타낸다. 모든 온도는 섭씨 온도로 나타낸다.
실시예
실시예
1
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
2
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
3
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
4
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
5
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
6
하기 조성의 예를 들면 IPS 또는 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
7
하기 조성의 예를 들면 IPS 또는 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
8
하기 조성의 예를 들면 IPS 또는 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
9
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
10
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
11
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
12
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
13
하기 조성의 예를 들면 IPS 또는 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
14
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
15
하기 조성의 예를 들면 VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
16
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
17
하기 조성의 예를 들면 VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
혼합물 실시예 1 내지 17은 또한 표 C 및 D로부터의 하나 이상, 예를 들면 1 또는 2개의 안정화제 및/또는 도펀트를 추가로 포함할 수 있다.
실시예
18
하기 조성의 예를 들면 TN 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
19
하기 조성의 예를 들면 TN 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
20
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
21
하기 조성의 예를 들면 VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
22
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
23
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
24
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
25
하기 조성의 예를 들면 TN 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
26
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
27
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
28
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
29
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
30
하기 조성의 예를 들면 VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
31
하기 조성의 예를 들면 PVA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
32
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
33
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
34
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
35
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
36
하기 조성의 예를 들면 IPS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
37
하기 조성의 예를 들면 IPS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
38
하기 조성의 예를 들면 PS-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
39
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제하고, 이어서 0.005%의 STAB-25를 가한다:
실시예
40
하기 조성의 예를 들면 PS-IPS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
41
하기 조성의 예를 들면 PS-IPS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
42
하기 조성의 예를 들면 TN 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
43
하기 조성의 예를 들면 TN-TFT 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
44
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
45
하기 조성의 예를 들면 IPS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
46
하기 조성의 예를 들면 IPS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
47
하기 조성의 예를 들면 PM-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
48
하기 조성의 예를 들면 PS-FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
49
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
50
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
51
하기 조성의 예를 들면 TN 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
52
하기 조성의 예를 들면 PA-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
53
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
54
하기 조성의 예를 들면 FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
55
하기 조성의 예를 들면 PM-VA 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
실시예
56
하기 조성의 예를 들면 PS-FFS 적용례를 위한 액정 혼합물을 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제한다:
하기 혼합물들도 마찬가지로 본 발명에 따른 방법을 사용하여 정제하였다:
실시예
57
실시예
57a
실시 예 57에 따른 혼합물은 0.025%의 STAB-35를 추가로 포함한다.
실시예
58
실시예
59
실시예
60
실시예
61
실시예
62
실시예
63
실시예
64
실시예
65
실시예
66
실시예
67
실시예
68
실시예
68a
실시예 68에 따른 혼합물은 2%의 R-5011를 추가로 포함한다.
실시예
69
실시예
70
실시예
71
실시예
72
실시예
73
실시예
74
실시예
75
실시예
76
실시예
77
실시예
78
실시예
79
실시예
80
실시예
81
실시예
82
실시예
83
실시예
84
실시예
84a
실시예 84에 따른 혼합물은 0.4%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
85
실시예
86
실시예
86a
실시예 86으로부터의 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
87
실시예
88
실시예
89
실시예
89a
실시예 89로부터의 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
90
실시예
90a
실시예 90으로부터의 혼합물은 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
91
실시예
91a
실시예 91로부터의 혼합물은 0.001%의 STAB-35를 추가로 포함한다.
실시예
92
실시예
93
실시예
94
실시예
95
실시예
95a
실시예 95로부터의 혼합물은 5%의 RM-41을 추가로 포함한다.
실시예
96
실시예
97
실시예
98
실시예
99
실시예
100
실시예
100a
실시예 100으로부터의 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.45%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
101
실시예
102
실시예
102a
실시예 102에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
103
실시예
103a
실시예 103에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
104
실시예
104a
실시예 104에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
105
실시예
105a
실시예 105에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.02%의
를 추가로 포함한다.
실시예
106
실시예
106a
실시예 106에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
107
실시예
107a
실시예 107에 따른 혼합물은
0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
108
실시예
109
실시예
110
실시예
111
실시예
112
실시예
113
실시예
113a
실시예 113에 따른 혼합물은 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
114
실시예
115a
실시예 115로부터의 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
116
실시예
117
실시예
118
실시예
119
실시예
119a
실시예 119에 따른 혼합물은
0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
120
실시예
120a
실시예 120으로부터의 혼합물은 0.3%의
를 추가로 포함한다.
실시예
121
실시예
121a
실시예 121로부터의 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.45%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
122
실시예
123
실시예
124
실시예
125
실시예
126
실시예
127
실시예
128
실시예
129
실시예
130
실시예
131
실시예
132
실시예
133
실시예
134
실시예
135
실시예
136
실시예
137
실시예
138
실시예
139
실시예
140
실시예
141
실시예
142
실시예
143
실시예
143a
실시예 143에 따른 혼합물은 0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
144
실시예
145
실시예
146
실시예
147
실시예
148
실시예
149
실시예
150
실시예
151
실시예
152
실시예
153
실시예
154
실시예
155
실시예
156
실시예
157
실시예
157a
실시예 157에 따른 혼합물은 0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
157b
실시예 157에 따른 혼합물은 0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
158
실시예
159
실시예
160
실시예
161
실시예
162
실시예
163
실시예
164
실시예
165
실시예
166
실시예
167
실시예
168
실시예
169
실시예
170
실시예
171
실시예
172
실시예
173
실시예
174
실시예
175
실시예
176
실시예
177
실시예
178
실시예
179
실시예
180
실시예
180a
실시예 180으로부터의 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
181
실시예
181a
실시예 181에 따른 혼합물은 0.01%의
를 추가로 포함한다.
실시예
182
실시예
183
실시예
184
실시예
185
실시예
185a
실시예 185에 따른 혼합물은
0.25%의 RM-35
및
0.025%의
를 추가로 포함한다.
실시예
186
실시예
186a
실시예 186에 따른 혼합물은 0.03%의
를 추가로 포함한다.
실시예
186b
실시예 186에 따른 혼합물은 0.03%의
를 추가로 포함한다.
실시예
187
실시예
188
실시예
189
실시예
189a
실시예 189에 따른 혼합물은 0.01%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및 0.3%의 RM-1을 추가로 포함한다.
실시예
190
실시예
191
실시예
192
실시예
193
실시예
194
실시예
195
실시예
196
실시예
196a
실시예 196에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
197
실시예
197a
실시예 197에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
198
실시예
198a
실시예 198에 따른 혼합물은 0.25%의 RM-41을 추가로 포함한다:
실시예
198b
실시예 198에 따른 혼합물은 0.3%의 RM-17을 추가로 포함한다:
실시예
199
실시예
200
실시예
201
실시예
202
실시예
203
실시예
204
실시예
205
실시예
205a
실시예 205에 따른 혼합물은
0.015%의
및
0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
206
실시예
207
실시예
208
실시예
209
실시예
210
실시예
210a
실시예 210에 따른 혼합물은
0.25%의
및
0.25%의
를 추가로 포함한다.
실시예
211
실시예
211a
실시예 211에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.02%의
를 추가로 포함한다.
실시예
212
실시예
212a
실시예 212에 따른 혼합물은 0.25%의
를 추가로 포함한다.
실시예
213
실시예
213a
실시예 213에 따른 혼합물은 0.2%의
를 추가로 포함한다.
실시예
214
실시예
215
실시예
216
실시예
217
실시예
217a
실시예 217에 따른 혼합물은 0.04%의
를 추가로 포함한다.
실시예
218
실시예
218a
실시예 218에 따른 혼합물은 0.04%의
를 추가로 포함한다.
실시예
219
실시예
220
실시예
221
실시예
221a
실시예 221에 따른 혼합물은 0.25%의
를 추가로 포함한다.
실시예
222
실시예
223
실시예
223a
실시예 223에 따른 혼합물은 0.001%의 이가녹스 1076(옥타데실 3-(3,5-다이-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 바스프) 및
0.4%의
를 추가로 포함한다.
실시예
224
실시예
225
실시예
226
실시예
226a
실시예 226에 따른 혼합물은 0.3%의
를 추가로 포함한다.
실시예
227
실시예
227a
실시예 227에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
228
실시예
229
실시예
230
실시예
231
실시예
231a
실시예 231에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.02%의
를 추가로 포함한다.
실시예
232
실시예
232a
실시예 232에 따른 혼합물은 10%의
를 추가로 포함한다.
실시예
233
실시예
233a
실시예 233에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.02%의
를 추가로 포함한다.
실시예
234
실시예
234a
실시예 234에 따른 혼합물은
0.04%의
및
0.02%의
를 추가로 포함한다.
실시예
235
실시예
236
실시예
236a
실시예 236에 따른 혼합물은 0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
237
실시예
237a
실시예 237에 따른 혼합물은 0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
238
실시예
239
실시예
240
실시예
240a
실시예 240에 따른 혼합물은 0.008%의
를 추가로 포함한다.
실시예
241
실시예
242
실시예
242a
실시예 242에 따른 혼합물은 0.25%의 RM-41을 추가로 포함한다:
실시예
243
실시예
244
실시예
245
실시예
246
실시예
247
실시예
247a
실시예 247에 따른 혼합물은
0.03%의
및
0.4%의
를 추가로 포함한다.
실시예
248
실시예
248a
실시예 248에 따른 혼합물은 0.005%의
를 추가로 포함한다.
실시예
249
실시예
249a
실시예 249에 따른 혼합물은 0.015%의
를 추가로 포함한다.
실시예
249b
실시예 249에 따른 혼합물은 0.005%의
를 추가로 포함한다.
실시예
250
Claims (9)
- 액정 혼합물(7)을 제 1 전기투석 셀(2)에 통과시키고,
농축 용액(14)을, 제 1 전기투석 셀(2)에 인접하고 이온-교환 막(9)에 의해 분리된 제 2 전기투석 셀(8)에 통과시키고,
상기 전기투석 셀들(2, 8) 외부에 배치된 애노드/캐쏘드 구성(15, 16)의 도움으로, 제 1 전기투석 셀(2)을 통한 액정 혼합물(7)의 통과 방향에 교차되는 전기장이 발생되어, 액정 혼합물(7)의 이온화된 성분들이 이온-교환 막(9)에서 배출되고 액정 혼합물(7)로부터 제거되는, 액정 혼합물(7)의 정제 방법. - 제 1 항에 있어서,
액정 혼합물(7)이 제 1 전기투석 셀(2)을 수회 통과하는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항에 있어서,
액정 혼합물(7)을, 제 1 전기투석 셀(2)에 필적하는, 이온 교환 막(9) 및 인접한 제 2 전기투석 셀(8)의 구성을 갖는 복수의 전기투석 셀, 및 전기장에 연속적으로 통과시키는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
액정 혼합물(7)을 1시간 초과, 바람직하게는 4시간 초과의 기간에 걸쳐 제 1 전기투석 셀(2)에 통과시키는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
사용된 농축 용액(14)이 탈이온수인 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
사용된 이온-교환 막(9)이 10 볼트 초과, 바람직하게는 80 볼트 초과, 특히 바람직하게는 400 볼트 이상의 항복 전압(breakdown voltage)을 갖는 막이고,
이온-교환 막(9)에서 가능한 가장 큰 전압 강하를 일으키지만 항복 전압 이하인 전위차가, 애노드/캐쏘드 구성(15, 16)의 도움으로, 사전-특정되는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
애노드(15) 및 캐쏘드(16)가, 상기 방법이 수행되는 동안, 변압기 오일(transformer oil)(19)에 의해 플러슁(flushing)되는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
액정 혼합물(7) 및 농축 용액(14)을 이송시키기 위해 저-맥동(low-pulsation) 펌프가 사용되는 것을 특징으로 하는, 방법. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
액정 혼합물(7)을, 제 1 전기투석 셀(2) 내로 도입하기 전에, 완전히 혼합하고 균질화하는 것을 특징으로 하는, 방법.
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