KR20160094430A - 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 폴리머 결합제를 함유하는 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료, 및 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 폴리머 결합제를 포함하는 신규 조성물, 유기 발광 다이오드 (OLED) 소자의 제조를 위한 전도성 잉크로서의 그 용도, 신규 제형을 사용하는 OLED 소자의 제조 방법, 및 상기 방법 및 제형으로부터 제조한 OLED 소자에 관한 것이다.
Description
본 발명은 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료, 및 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 폴리머 결합제를 포함하는 신규 조성물, 유기 발광 다이오드 (OLED) 소자의 제조를 위한 잉크로서의 그 용도, 신규 조성물을 사용하는 OLED 소자의 제조 방법, 및 상기 방법 및 조성물로부터 제조한 OLED 소자에 관한 것이다.
OLED 소자의 제조시, 통상적으로 잉크젯 인쇄, 롤 투 롤(roll to roll) 인쇄, 슬롯 다이 코팅, 플렉소그래픽 인쇄 또는 그라비어 인쇄와 같은 인쇄 기법은 활성층의 적용에 사용된다. 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료로서 유용한 유기 화합물의 대부분의 낮은 가용성으로 인해, 이들 기법은 대량의 용매의 사용을 필요로 한다.
필름 형성 능력의 개선을 위해, 결합제가 사용될 수 있다. 이들 첨가제는 특히 소 분자 중량을 갖는 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료, 또는 저 분자 중량을 갖는 폴리머 화합물에 있어서 특히 요구된다.
EP 1 883 124 A1 은 보호 다공성 매트릭스 재료, 결합제 및 용매 중에 하우징된 유기-발광 재료를 포함하는 인쇄 기법을 통해 디스플레이 및 램프의 형성에 특히 적합한 발광 재료의 제형을 기재한다. 그러나, OLED 재료는 또한 폴리머 재료를 포함한다. 나아가, 결합제 재료는 어떠한 상세한 설명 없이 항목이 많은 리스트로서 개시되어 있다.
US 2007/0103059 A1 은 매우 특정한 반복 단위를 갖는 폴리머 및 OLED 재료를 포함하는 조성물을 개시한다. 특정한 반복 단위를 갖는 폴리머는 OLED 의 발광 효율의 개선을 위해 첨가된다. 또한, 폴리머 OLED 재료가 활용될 수 있다.
US 6,818,919 B1 및 US 7,115,430 B1 에 따라, 높은 유리 전이 온도 Tg 를 갖는 폴리머는 저 분자 중량 유기 발광 및 전하 수송 재료를 처리하는데 사용되어야 한다. 그러나, 이들 재료는 고가이고, 조성물의 적용을 제한한다.
US 5,952,778 B1 은 제 1 층 부동태화 금속, 제 2 층 무기 유전체 재료 및 제 3 층 폴리머를 포함하는 개선된 보호 커버링을 갖는 캡슐화 유기 발광 소자에 관한 것이다. 유기 발광 재료는 폴리머 또는 모노머일 수 있다. 조성물은 폴리머 결합제를 함유할 수 있다. 그러나, 결합제 재료는 어떠한 상세한 설명 없이 항목이 많은 리스트로서 개시되어 있다.
US 6,277,504 B1 은 특정한 발광 화합물 및 상기를 포함하는 조성물을 개시한다. 조성물은 결합제를 포함할 수 있다. 그러나, 결합제의 상세한 설명은 제공되지 않는다.
US 6,294,273 B1 은 메탄올 중에 가용성인 발광 화합물을 기재한다. 이들 화합물을 포함하는 조성물은 폴리머 결합제를 함유할 수 있다. 그러나, 결합제 재료는 어떠한 상세한 설명 없이 항목이 많은 리스트로서 개시되어 있다.
WO 2005/055248 A2 는 특정한 유기 반도체 화합물 및 1000 Hz 에서 3.3 이하의 유전율을 갖는 유기 결합제를 포함하는 조성물에 관한 것이다. 그러나, WO 2005/055248 A2 에 개시된 바와 같은 특정한 유기 반도체 화합물은 고효율 달성을 위해 고결정도를 갖는 층을 형성해야 한다. 이와 반대로, 발광층은 통상 고효율의 제공을 위해 저결정도를 가져야 한다. 따라서, WO 2005/055248 A2 의 개념이 OLED 층에 적용될 수 없다.
용매 중의 소분자의 용액은 일반적으로 폴리머를 사용해 생성되는, 수득한 용액의 점도에 큰 영향을 미치지 않는다. 따라서, 잉크젯 인쇄, 플렉소그래픽 또는 그라비어 인쇄와 같은 종래의 인쇄 적용을 위한 소분자의 조성물은 잉크 점도의 증가 및 필름 형성의 개선을 위해 첨가제를 필요로 한다. 선행 기술은 저 분자 중량 유기 발광 및 전하 수송 재료를 처리하는데 유용한 조성물을 제공한다. 그러나, 특히 효율, 수명 및 산화 및/또는 물에 있어서 감응성의 관점에서 OLED 층의 수행성을 개선하는 것이 영구적으로 요망된다.
따라서, 고효율, 긴 수명, 및 물 및/또는 산화에 있어서 낮은 감응성을 갖는 매우 균일 OLED 소자의 제조를 가능하게 하는, 상기 언급된 용액 기재의 공정에 의해 OLED 소자의 제조에 적합한 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 유체를 갖는 것이 요망된다. 본 발명의 하나의 목적은 상기 개선된 유체를 제공하는 것이다. 또다른 목적은 상기 유체로부터 OLED 소자의 개선된 제조 방법을 제공하는 것이다. 또다른 목적은 상기 유체 및 방법으로부터 수득한 개선된 OLED 소자를 제공하는 것이다. 추가의 목적은 하기 설명으로부터 당업자에 즉시 자명하다.
놀랍게도, 이들 목적이 달성될 수 있고, 상기 언급된 문제가 본 발명에서 청구된 바와 같은 방법, 재료 및 소자를 제공함으로써, 특히 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 폴리머 결합제를 함유하는 조성물을 사용하는 OLED 소자의 제조 방법을 제공함으로써 해결될 수 있는 것으로 밝혀졌다.
본 발명은 분자 중량 5000 g/mol 이하인 하나 이상의 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료, 하나 이상의 유기 용매, 및 하나 이상의 폴리머를 포함하는 조성물로서, 상기 폴리머가 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 것을 특징으로 하는 것에 관한 것이다.
본 발명은 추가로 OLED 소자의 제조를 위한, 특히 강직성 및 유연성 OLED 소자를 위한, 코팅 또는 인쇄 잉크로서 상기 및 하기에 기재된 바와 같은 종종 제형으로도 칭하는 조성물의 용도에 관한 것이다.
본 발명은 추가로 하기 단계를 포함하는, 유기 발광 다이오드 (OLED) 소자의 제조 방법에 관한 것이다:
a)
기판에 상기 및 하기에 기재된 바와 같은 조성물을 침착시켜, 바람직하게는 필름 또는 층을 형성하고;
b)
용매(들) 를, 예를 들어 증발에 의해 제거함.
본 발명은 추가로 조성물로부터 및/또는 상기 및 하기에 기재된 바와 같은 방법에 의해 제조한 OLED 소자에 관한 것이다.
OLED 소자는, 예를 들어 조명, 의료적 조명 목적을 위해, 시그널링(signalling) 소자로서, 사이니지(signage) 소자로서, 및 디스플레이에서 사용될 수 있다. 디스플레이는 수동성 매트릭스 드라이빙, 전체 매트릭스 어드레싱 또는 활성 매트릭스 드라이빙을 사용해 처리될 수 있다. 투명 OLED 는 광학적 투명 전극을 사용함으로써 제조될 수 있다. 유연성 OLED 는 유연성 기판의 사용을 통해 평가가능하다.
본 발명의 조성물, 방법 및 소자는 OLED 소자의 효율 및 그 제조의 놀라운 개선을 제공한다. 예상외로, OLED 소자의 수행성, 수명 및 효율은, 이들 소자가 본 발명의 조성물을 사용함으로써 달성되는 경우 개선될 수 있다. 나아가, 본 발명의 조성물은 놀랍게도 높은 수준의 필름 형성을 제공한다. 특히, 필름의 균일성 및 품질이 개선될 수 있다. 그에 추가하여, 본 발명은 다층 소자의 더 나은 용액 인쇄를 가능하게 한다.
유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료는 분자 중량 5000 g/mol 이하인 문헌에 기재되고 당업자에 공지된 표준 재료로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는, 조성물은 유기 발광 재료를 포함한다. 본 출원에 따른 유기 발광 재료는 300 내지 800 nm 범위의 λmax 를 갖는 광을 발광하는 재료를 의미한다.
본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 0.01 내지 20 중량%, 더 바람직하게는 0.2 내지 10 중량%, 가장 바람직하게는 0.25 내지 5 중량% 의 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료 또는 상응하는 블렌드를 포함한다. % 데이터는 용매 또는 용매 혼합물 100% 에 관한 것이다.
본원에 사용되는 발광 재료 또는 전하 수송 재료 (하기에서 함께 유기 반도체로 칭함) 는 순수 성분 또는 2 개 이상의 성분의 혼합물이다. 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료는 바람직하게는 인광 화합물을 포함한다.
적합한 인광 화합물은 특히 바람직하게는 가시 영역에서 적합한 여기로 발광하고, 추가로 20 초과, 바람직하게는 38 초과 84 미만, 더 바람직하게는 56 초과 80 미만인 원자 번호를 갖는 하나 이상의 원자를 함유하는 화합물이다. 사용되는 인광 발광체는 바람직하게는 구리, 몰리브덴, 텅스텐, 레늄, 루테늄, 오스뮴, 로듐, 이리듐, 팔라듐, 백금, 은, 금 또는 유로퓸을 함유하는 화합물, 특히 이리듐 또는 백금을 함유하는 화합물이다.
특히 바람직한 유기 인광 화합물은 식 (1) 내지 (4) 의 화합물이다:
[식 중,
DCy
는 동일 또는 상이하게 각 경우에 시클릭기로서, 이는 카르벤 또는 인 형태로 하나 이상의 공여체 원자, 바람직하게는 질소, 탄소를 함유하고, 이를 통해 시클릭기는 금속에 결합되고, 결국에는 하나 이상의 치환기 R1 을 보유할 수 있고; 기 DCy 및 CCy 는 공유 결합을 통해 서로 연결되고;
CCy
는 동일 또는 상이하게 각 경우에 시클릭기로서, 이는 탄소 원자를 함유하고, 이를 통해 시클릭기는 금속에 결합되고, 결국에는 하나 이상의 치환기 R1 을 보유할 수 있고;
A
는 동일 또는 상이하게 각 경우에 모노음이온, 두자리 킬레이팅 리간드, 바람직하게는 디케토네이트 리간드이고;
R1
은 동일 또는 상이하게 각 경우에 F, Cl, Br, I, NO2, CN, 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 직쇄, 분지형 또는 시클릭 알킬 또는 알콕시기 (이때, 하나 이상의 비인접 CH2 기는 -O-, -S-, -NR2-, -CONR2-, -CO-O-, -C=O-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 에 의해 대체될 수 있고, 하나 이상의 수소 원자는 F 에 의해 대체될 수 있음), 또는 4 내지 14 개의 탄소 원자를 갖고 하나 이상의 비방향족 R1 라디칼에 의해 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로아릴기이고, 복수의 치환기 R1 은 동일한 고리 또는 2 개의 상이한 고리에서 함께 결국에는 모노- 또는 폴리시클릭, 지방족 또는 방향족 고리계를 형성할 수 있고;
R2
는 동일 또는 상이하게 각 경우에 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 직쇄, 분지형 또는 시클릭 알킬 또는 알콕시기 (이때, 하나 이상의 비인접 CH2 기는 -O-, -S-, -CO-O-, -C=O-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 에 의해 대체될 수 있고, 하나 이상의 수소 원자는 F 에 의해 대체될 수 있음), 또는 4 내지 14 개의 탄소 원자를 갖고 하나 이상의 비방향족 R1 라디칼에 의해 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로아릴기임].
복수의 라디칼 R1 사이에 고리계의 형성은, 브릿지가 또한 기 DCy 및 CCy 사이에 존재할 수 있는 것을 의미한다. 나아가, 복수의 라디칼 R1 사이에 고리계의 형성은, 브릿지가 또한 2 또는 3 개의 리간드 CCy-DCy 사이 또는 1 또는 2 개의 리간드 CCy-DCy 및 리간드 A 사이에 존재할 수 있어, 여러자리 또는 폴리포달(polypodal) 리간드 시스템을 제공하는 것을 의미한다.
상기 기재된 발광체의 예는 출원 WO 00/70655, WO 01/41512, WO 02/02714, WO 02/15645, EP 1191613, EP 1191612, EP 1191614, WO 04/081017, WO 05/033244, WO 05/042550, WO 05/113563, WO 06/008069, WO 06/061182, WO 06/081973 및 DE 102008027005 에 의해 나타나 있다. 일반적으로, 인광 OLED 에 관한 선행 기술에 따라 사용되는바 및 유기 전계발광 분야의 당업자에 공지되어 있는바 모든 인광 착물이 적합하고, 당업자는 진보적 단계 없이 추가의 인광 화합물을 사용할 수 있을 것이다. 특히, 인광 착물이 발광색을 발광하는 것이 당업자에 공지되어 있다.
바람직한 인광 화합물의 예가 하기 표에 나타나 있다.
바람직한 도펀트는 모노스티릴아민, 디스티릴아민, 트리스티릴아민, 테트라스티릴아민, 스티릴-포스핀, 스티릴 에테르 및 아릴아민 부류로부터 선택된다. 모노스티릴아민은 하나의 치환 또는 미치환된 스티릴기 및 하나 이상의, 바람직하게는 방향족, 아민을 함유하는 화합물을 의미한다. 디스티릴아민은 2 개의 치환 또는 미치환된 스티릴기 및 하나 이상의, 바람직하게는 방향족, 아민을 함유하는 화합물을 의미한다. 트리스티릴아민은 3 개의 치환 또는 미치환된 스티릴기 및 하나 이상의, 바람직하게는 방향족, 아민을 함유하는 화합물을 의미한다. 테트라스티릴아민은 4 개의 치환 또는 미치환된 스티릴기 및 하나 이상의, 바람직하게는 방향족, 아민을 함유하는 화합물을 의미한다. 스티릴기는 특히 바람직하게는 스틸벤으로서, 이는 또한 추가 치환될 수 있다. 상응하는 포스핀 및 에테르가 아민과 유사하게 정의된다. 본 발명의 목적을 위해, 아릴아민 또는 방향족 아민은 질소에 직접 결합된 3 개의 치환 또는 미치환된 방향족 또는 헤테로방향족 고리계를 함유하는 화합물을 의미한다. 바람직하게는, 이들 방향족 또는 헤테로방향족 고리계 중 하나 이상은 특히 바람직하게는 14 개 이상의 방향족 고리 원자를 갖는 축합 고리계이다. 그 바람직한 예는 방향족 안트라센아민, 방향족 안트라센디아민, 방향족 피렌아민, 방향족 피렌디아민, 방향족 크리센아민 또는 방향족 크리센디아민이다. 방향족 안트라센아민은 하나의 디아릴아미노기가 안트라센기에 직접, 바람직하게는 9 위치에서 결합된 화합물을 의미한다. 방향족 안트라센디아민은 2 개의 디아릴아미노기가 안트라센기에 직접, 바람직하게는 9,10-위치에서 결합된 화합물을 의미한다. 방향족 피렌아민, 피렌디아민, 크리센아민 및 크리센디아민이 그와 유사하게 정의되며, 이때 디아릴아미노기는 바람직하게는 피렌에 1 위치 또는 1,6-위치에서 결합된다. 추가 바람직한 도펀트는 인데노플루오렌아민 또는 인데노플루오렌디아민 (예를 들어, WO 06/122630 에 따름), 벤조인데노플루오렌아민 또는 벤조-인데노플루오렌디아민 (예를 들어, WO 08/006449 에 따름), 및 디벤조인데노플루오렌아민 또는 디벤조인데노플루오렌디아민 (예를 들어, WO 07/140847 에 따름) 으로부터 선택된다. 스티릴아민 부류로부터의 도펀트의 예는 치환 또는 미치환된 트리스틸벤아민 또는 WO 06/000388, WO 06/058737, WO 06/000389, WO 07/065549 및 WO 07/115610 에 기재된 도펀트이다. 나아가, 바람직한 것은 DE 102008035413 에 개시된 축합 탄화수소이다.
나아가, 적합한 도펀트는 JP 06/001973, WO 04/047499, WO 06/098080, WO 07/065678, US 2005/0260442 및 WO 04/092111 에 개시된, 하기 표에 나타낸 구조 및 이들 구조의 유도체이다.
도펀트의 또다른 기는 짧은 (올리고-) 아릴렌비닐렌 (예를 들어, EP 676461 에 따른 DPVBi 또는 스피로-DPVBi) 이다.
발광층의 혼합물 중의 도펀드의 비는 바람직하게는 0.1 내지 50.0 중량%, 더 바람직하게는 0.5 내지 20.0 중량%, 가장 바람직하게는 1.0 내지 10.0 중량% 이다. 상응하게는, 호스트 재료의 비는 바람직하게는 50.0 내지 99.9 중량%, 더 바람직하게는 80.0 내지 99.5 중량%, 가장 바람직하게는 90.0 내지 99.0 중량% 이다.
상기 목적에 적합한 호스트 재료는 각종 부류의 물질로부터의 재료이다. 바람직한 호스트 재료는 올리고아릴렌 (예를 들어, EP 676461 에 따른 2,2',7,7'-테트라페닐스피로바이플루오렌 또는 디나프틸안트라센), 특히 축합 방향족기를 함유하는 올리고아릴렌, 올리고아릴렌-비닐렌, 폴리포달 금속 착물 (예를 들어, WO 04/081017 에 따름), 정공-전도성 화합물 (예를 들어, WO 04/058911 에 따름), 전자-전도성 화합물, 특히 케톤, 포스핀 옥시드, 술폭시드 등 (예를 들어, WO 05/084081 및 WO 05/084082 에 따름), 회전장애이성질체 (예를 들어, WO 06/048268 에 따름), 보론산 유도체 (예를 들어, WO 06/117052 에 따름), 벤즈안트라센 (예를 들어, WO 08/145239 에 따름), 트리아진 또는 벤즈이미다졸 부류로부터 선택된다. 나아가, 적합한 호스트 재료는 또한 상기 기재된, 본 발명에 따른 벤조[c]페난트렌 화합물이다. 본 발명에 따른 화합물 외에도, 특히 바람직한 호스트 재료는 나프탈렌, 안트라센, 벤즈안트라센 및/또는 피렌 또는 이들 화합물의 회전장애이성질체를 함유하는 올리고아릴렌, 올리고아릴렌비닐렌, 케톤, 포스핀 옥시드 및 술폭시드 부류로부터 선택된다. 본 발명에 따른 벤조[c]페난트렌 화합물 외에도, 매우 특히 바람직한 호스트 재료는 안트라센, 벤즈안트라센 및/또는 피렌 또는 이들 화합물의 회전장애이성질체를 함유하는 올리고아릴렌 부류로부터 선택된다. 본 발명의 목적을 위해, 올리고아릴렌은 3 개 이상의 아릴 또는 아릴렌기가 서로 결합된 화합물을 의미한다.
나아가, 적합한 호스트 재료는, 예를 들어 WO 04/018587, WO 08/006449, US 5935721, US 2005/0181232, JP 2000/273056, EP 681019, US 2004/0247937 및 US 2005/0211958 에 개시된 바와 같이 하기 표에 나타낸 재료, 및 이들 재료의 유도체이다.
본 발명의 목적을 위해, 정공-주입층은 애노드에 직접 인접한 층이다. 본 발명의 목적을 위해, 정공-수송층은 정공-주입층 및 발광층 사이에 위치한 층이다. 이들이 전자-수용체 화합물, 예를 들어 F4-TCNQ 또는 EP 1476881 또는 EP 1596445 에 기재된 바와 같은 화합물로 도핑되는 것이 바람직할 수 있다.
본 발명에 따른 재료 외에도, 적합한 전하-수송 재료는 본 발명에 따른 유기 전계발광 소자의 정공-주입 또는 정공-수송층 또는 전자-주입 또는 전자-수송층에 사용될 수 있는바, 예를 들어 Y. Shirota et al., Chem. Rev. 2007, 107(4), 953-1010 에 개시된 화합물, 또는 선행 기술에 따른 이들 층에 활용되는 바와 같은 기타 재료이다.
본 발명에 따른 전계발광 소자의 정공-수송 또는 정공-주입층에 사용될 수 있는 바람직한 정공-수송 재료의 예는 인데노플루오렌아민 및 유도체 (예를 들어, WO 06/122630 또는 WO 06/100896 에 따름), EP 1661888 에 개시된 바와 같은 아민 유도체, 헥사아자트리페닐렌 유도체 (예를 들어, WO 01/049806 에 따름), 축합 방향족을 갖는 아민 유도체 (예를 들어, US 5,061,569 에 따름), WO 95/09147 에 개시된 바와 같은 아민 유도체, 모노벤조인데노-플루오렌아민 (예를 들어, WO 08/006449 에 따름) 또는 디벤조-인데노플루오렌아민 (예를 들어, WO 07/140847 에 따름) 이다. 적합한 정공-수송 및 정공-주입 재료는 나아가 JP 2001/226331, EP 676461, EP 650955, WO 01/049806, US 4780536, WO 98/30071, EP 891121, EP 1661888, JP 2006/253445, EP 650955, WO 06/073054 및 US 5061569 에 개시된 바와 같이 상기 나타낸 화합물의 유도체이다.
적합한 정공-수송 또는 정공-주입 재료는 나아가 예를 들어 하기 표에 나타낸 재료이다.
본 발명에 따른 전계발광 소자에 사용될 수 있는 적합한 전자-수송 또는 전자-주입 재료는, 예를 들어 하기 표에 나타낸 재료이다. 적합한 전자-수송 및 전자-주입 재료는 나아가 JP 2000/053957, WO 03/060956, WO 04/028217 및 WO 04/080975 에 개시된 바와 같이 상기 나타낸 화합물의 유도체이다.
본 발명에 따른 화합물에 적합한 매트릭스 재료는 케톤, 포스핀 옥시드, 술폭시드 및 술폰 (예를 들어, WO 04/013080, WO 04/093207, WO 06/005627 또는 DE 102008033943 에 따름), 트리아릴아민, 카르바졸 유도체, 예를 들어 CBP (N,N-비스카르바졸릴바이페닐) 또는 카르바졸 유도체 (WO 05/039246, US 2005/0069729, JP 2004/288381, EP 1205527 또는 WO 08/086851 에 개시), 인돌로카르바졸 유도체 (예를 들어, WO 07/063754 또는 WO 08/056746 에 따름), 아자카르바졸 (예를 들어, EP 1617710, EP 1617711, EP 1731584, JP 2005/347160 에 따름), 양극성 매트릭스 재료 (예를 들어, WO 07/137725 에 따름), 실란 (예를 들어, WO 05/111172 에 따름), 아자보롤 또는 보론 에스테르 (예를 들어, WO 06/117052 에 따름), 트리아진 유도체 (예를 들어, DE 102008036982, WO 07/063754 또는 WO 08/056746 에 따름), 또는 아연 착물 (예를 들어, DE 102007053771 에 따름) 이다.
추가로 바람직하게는, 트리아센 구조, 예컨대 안트라센 및 페난트렌 구조를 갖는 전하 수송 재료가 사용될 수 있다. 트리아센 구조는 정확히 3 개의 축합 방향족 고리를 갖는 축합 방향족 탄화수소 구조를 의미한다. 본 발명의 상기 구현예에 있어서, 트리아센 구조는 테트라센 또는 펜타센 구조를 포함하지 않는다.
발광 재료 및/또는 전하 수송 재료는 5000 g/mol 이하, 바람직하게는 2000 g/mol 이하, 더 바람직하게는 1500 g/mol 이하, 가장 바람직하게는 1000 g/mol 이하의 분자 중량을 갖는다.
본 발명의 특정한 구현예에 따라, 조성물은 바람직하게는 0.01 내지 20 중량%, 더 바람직하게는 0.2 내지 10 중량%, 가장 바람직하게는 0.25 내지 5 중량% 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함한다.
나아가, 본 발명의 조성물은 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 하나 이상의 폴리머를 포함한다. 폴리머는 불활성 결합제로서 유용하다. 이는, 폴리머가 반도체 특성을 갖지 않거나 또는 조성물에서 임의의 반도체 화합물과 화학적 반응하지 않는 것을 의미한다. 상기 및 하기에 사용되는 바와 같은 용어 "화학적 반응하는" 은 제형 및 OLED 소자의 제조, 저장, 수송 및/또는 사용을 위해 사용되는 조건 하에 가능한 산화, 또는 비전도성 첨가제와 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료와의 기타 화학 반응으로 칭한다.
폴리머는 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위로부터 선택되는, 5 내지 100 mol%, 바람직하게는 25 내지 100 mol%, 더 바람직하게는 50 내지 100 mol%, 가장 바람직하게는 100 mol% 의 반복 단위를 포함한다.
제 1 바람직한 구현예에서, 폴리머는 메타크릴산 에스테르 단위로부터 선택되는, 5 내지 100 mol%, 바람직하게는 25 내지 100 mol%, 더 바람직하게는 50 내지 100 mol%, 가장 바람직하게는 100 mol% 의 반복 단위를 포함한다.
제 2 바람직한 구현예에서, 폴리머는 아크릴산 에스테르 단위로부터 선택되는, 5 내지 100 mol%, 바람직하게는 25 내지 100 mol%, 더 바람직하게는 50 내지 100 mol%, 가장 바람직하게는 100 mol% 의 반복 단위를 포함한다.
제 3 바람직한 구현예에서, 폴리머는 아크릴산 및 메타크릴산 에스테르 단위로부터 선택되는, 5 내지 100 mol%, 바람직하게는 25 내지 100 mol%, 더 바람직하게는 50 내지 100 mol%, 가장 바람직하게는 100 mol% 의 반복 단위를 포함한다.
메타크릴산 에스테르 단위로서, 선행 기술에 공지된 모든 단위가 사용될 수 있다. 바람직한 것은 에스테르기로서 C1-10-알킬기, C3-8-시클로알킬기, C6-14-아릴기 또는 C2-13-헤테로아릴기를 갖는 메타크릴산 에스테르 단위이다. 더 바람직한 것은 에스테르기로서 메틸, 에틸, n-부틸, 이소-부틸, t-부틸, 시클로헥실, 이소보르닐, 벤질 또는 글리시딜기를 갖는 메타크릴산 에스테르 단위이다.
아크릴산 에스테르 단위로서, 선행 기술에 공지된 모든 단위가 사용될 수 있다. 바람직한 것은 에스테르기로서 C1-10-알킬기, C3-8-시클로알킬기, C6-14-아릴기 또는 C2-13-헤테로아릴기를 갖는 아크릴산 에스테르 단위이다. 더 바람직한 것은 에스테르기로서 메틸 또는 에틸기를 갖는 아크릴산 에스테르 단위이다.
아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위 외에도, 폴리머는 추가의 반복 단위를 포함할 수 있다. 폴리머는 0 내지 95 mol%, 바람직하게는 0 내지 75 mol%, 더 바람직하게는 0 내지 50 mol% 의 추가의 반복 단위를 포함한다.
아크릴산 및 메타크릴산 에스테르 단위와 상이한 추가의 반복 단위는 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 위한 공단위(co-unit) 로서 선행 기술에 공지된 모든 단위로부터 선택될 수 있다.
추가의 반복 단위로서 바람직한 것은 스티렌, 측쇄에서 알킬 치환기로 치환된 스티렌, 예컨대 α-메틸스티렌 및 α-에틸스티렌, 고리 상에서 알킬 치환기로 치환된 스티렌, 예컨대 비닐톨루엔 및 p-메틸스티렌, 할로겐 원자로 치환된 스티렌, 예컨대 모노클로로스티렌, 디클로로스티렌, 트리브로모스티렌 및 테트라브로모스티렌, 올레핀, 예컨대 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 이소프렌 및 1,3-부타디엔, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물로부터 선택되는 단위이다.
바람직하게는, 폴리머는 500,000 내지 50,000,000 g/mol, 더 바람직하게는 750,000 내지 5,000,000 g/mol, 가장 바람직하게는 1,000,000 내지 3,000,000 g/mol 범위의 중량 평균 분자 중량을 포함한다. 놀라운 효과는 500,000 g/mol 이상, 더 바람직하게는 1,000,000 g/mol 이상의 중량 평균 분자 중량을 갖는 폴리머로 달성될 수 있다.
본 발명의 특히 바람직한 구현예에서, 폴리머는 바람직하게는 750,000 내지 5,000,000 g/mol 범위, 더 바람직하게는 1,000,000 내지 3,000,000 g/mol 범위의 중량 평균 분자 중량을 갖는 폴리메틸메타크릴레이트 호모폴리머이다.
바람직하게는, 폴리머는 1.0 내지 10.0 범위, 더 바람직하게는 1.0 내지 4.0 범위, 가장 바람직하게는 1.05 내지 3 범위의 다분산 지수 Mw/Mn 을 갖는다.
통상적으로, 폴리머는 상기 및 하기에 기재된 바와 같이 본 조성물의 용매 중에 분산성 또는 가용성이다. 바람직하게는, 폴리머는 유기 용매 중에 가용성이고, 용매 중의 폴리머의 가용성은 1 g/l 이상, 더 바람직하게는 5 g/l 이상, 가장 바람직하게는 10 g/l 이상이다.
본 발명의 특정한 구현예에 따라, 조성물은 전체 고체가 바람직하게는 0.1 내지 80 중량%, 더 바람직하게는 1 내지 50 중량%, 가장 바람직하게는 5 내지 40 중량% 범위의 하나 이상의 고체 화합물인 것을 포함할 수 있다.
조성물 내에서 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료에 대한 하나 이상의 폴리머의 중량비는 바람직하게는 1:1000 내지 4:1 범위, 더 바람직하게는 1:100 내지 1:1 범위, 가장 바람직하게는 1:20 내지 2:3 범위이다.
유용하고 바람직한 폴리머는 14.5 내지 23.0 MPa0.5 범위의 Hd, 0.0 내지 20.0 MPa0.5 범위의 Hp 및 0.0 내지 15.5 MPa0.5 범위의 Hh 의 Hansen Solubility 파라미터를 포함한다. 더 바람직한 폴리머 결합제는 15.0 내지 21.0 MPa0.5 범위의 Hd, 1.0 내지 8.0 MPa0.5 범위의 Hp 및 5.0 내지 15.0 MPa0.5 범위의 Hh 의 Hansen Solubility 파라미터를 포함한다. 가장 바람직한 폴리머 결합제는 16.0 내지 20.0 MPa0.5 범위의 Hd, 3.0 내지 5.0 MPa0.5 범위의 Hp 및 5 내지 12.0 MPa0.5 범위의 Hh 의 Hansen Solubility 파라미터를 포함한다.
Hansen Solubility 파라미터는 Hanson 및 Abbot 등에 의해 제공된 바와 같은 Practice (HSPiP) 프로그램 (제 2 판) 으로 Hansen Solubility 파라미터에 따라 측정될 수 있다.
유용한 폴리머의 예가 표 1 에 개시되어 있다.
표 1: 유용한 폴리머 결합제의 Hansen Solubility 파라미터
Hd 는 분산 기여도로 칭함
Hp 는 극성 기여도로 칭함
Hh 는 수소 결합 기여도로 칭함
본 발명의 바람직한 구현예에 따라, 폴리머는 -70 내지 160℃, 바람직하게는 0 내지 150℃, 더 바람직하게는 50 내지 140℃, 가장 바람직하게는 70 내지 130℃ 범위의 유리 전이 온도를 갖는다. 유리 전이 온도는 폴리머의 DSC 를 측정함으로써 측정될 수 있다 (DIN EN ISO 11357, 가열 속도 분 당 10℃).
본 발명의 조성물은 하나 이상의 용매, 바람직하게는 하나 이상의 방향족 용매를 포함한다. 용매는 바람직하게는 방향족 탄화수소, 예컨대 톨루엔, o-, m- 또는 p-자일렌, 트리메틸 벤젠 (예, 1,2,3-, 1,2,4- 및 1,3,5-트리메틸 벤젠), 테트랄린, 기타 모노-, 디-, 트리- 및 테트라알킬벤젠 (예, 디에틸벤젠, 메틸큐멘, 테트라메틸벤젠 등), 방향족 에테르 (예, 아니솔, 알킬 아니솔, 예 2, 3 및 4 개의 메틸아니솔의 이성질체, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 및 3,5-디메틸아니솔의 이성질체), 나프탈렌 유도체, 알킬나프탈렌 유도체 (예, 1- 및 2-메틸나프탈렌), 디- 및 테트라히드로나프탈렌 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된다. 또한 바람직한 것은 방향족 에스테르 (예, 알킬 벤조에이트), 방향족 케톤 (예, 아세토페논, 프로피오페논), 알킬 케톤 (예, 시클로헥사논), 헤테로방향족 용매 (예, 티오펜, 모노-, 디- 및 트리알킬 티오펜, 2-알킬티아졸, 벤즈티아졸 등, 피리딘), 할로겐아릴렌 및 아닐린 유도체이다. 이들 용매는 할로겐 원자를 포함할 수 있다.
특히 바람직한 것은 하기이다: 3-플루오로-트리플루오로메틸벤젠, 트리플루오로메틸-벤젠, 디옥산, 트리플루오로메톡시벤젠, 4-플루오로 벤젠트리플루오라이드, 3-플루오로피리딘, 톨루엔, 2-플루오로톨루엔, 2-플루오로-벤젠트리플루오라이드, 3-플루오로톨루엔, 피리딘, 4-플루오로톨루엔, 2,5-디플루오로톨루엔, 1-클로로-2,4-디플루오로벤젠, 2-플루오로피리딘, 3-클로로플루오로벤젠, 1-클로로-2,5-디플루오로벤젠, 4-클로로플루오로벤젠, 클로로벤젠, 2-클로로플루오로-벤젠, p-자일렌, m-자일렌, o-자일렌, 2,6-루티딘, 2-플루오로-m-자일렌, 3-플루오로-o-자일렌, 2-클로로벤젠트리플루오라이드, 디메틸포름아미드, 2-클로로-6-플루오로톨루엔, 2-플루오로아니솔, 아니솔, 2,3-디메틸피라진, 브로모벤젠, 4-플루오로아니솔, 3-플루오로아니솔, 3-트리플루오로메틸아니솔, 2-메틸아니솔, 페네톨, 벤젠디옥솔, 4-메틸아니솔, 3-메틸아니솔, 4-플루오로-3-메틸아니솔, 1,2-디클로로-벤젠, 2-플루오로벤젠니트릴, 4-플루오로베라트롤, 2,6-디메틸아니솔, 아닐린, 3-플루오로벤젠니트릴, 2,5-디메틸아니솔, 3,4-디메틸아니솔, 2,4-디메틸아니솔, 벤젠니트릴, 3,5-디메틸아니솔, N,N-디메틸아닐린, 1-플루오로-3,5-디메톡시벤젠, 페닐아세테이트, N-메틸아닐린, 메틸벤조에이트, N-메틸피롤리돈, 모르폴린, 1,2-디히드로나프탈렌, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌, o-톨루니트릴, 베라트롤, 에틸벤조에이트, N,N-디에틸아닐린, 프로필벤조에이트, 1-메틸나프탈렌, 부틸벤조에이트, 2-메틸바이페닐, 2-페닐피리딘 또는 2,2'-바이톨릴.
더 바람직한 것은 방향족 탄화수소, 특히 톨루엔, 디메틸-벤젠 (자일렌), 트리메틸 벤젠, 도데실 벤젠, 테트랄린 및 메틸나프탈렌, 방향족 에테르, 특히 아니솔 및 방향족 에스테르, 특히 알킬 벤조에이트이다.
가장 바람직한 것은 방향족 에테르, 특히 아니솔 및 그 유도체, 예컨대 알킬 아니솔, 및 방향족 에스테르, 특히 메틸-벤조에이트이다.
이들 용매는 2, 3 종 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다.
바람직한 유기 용매는 17.0 내지 23.2 MPa0.5 범위의 Hd, 0.2 내지 12.5 MPa0.5 범위의 Hp 및 0.9 내지 14.2 MPa0.5 범위의 Hh 의 Hansen Solubility 파라미터를 포함할 수 있다. 더 바람직한 유기 용매는 18.5 내지 21.0 MPa0.5 범위의 Hd, 2.0 내지 6.0 MPa0.5 범위의 Hp 및 2.0 내지 6.0 MPa0.5 범위의 Hh 의 Hansen Solubility 파라미터를 포함한다.
표 2: 유용한 용매의 Hansen Solubility 파라미터
Hd 는 분산 기여도로 칭함
Hp 는 극성 기여도로 칭함
Hh 는 수소 결합 기여도로 칭함
바람직하게는, 용매는 활용되는 압력에서, 바람직하게는 주위 압력에서 (1013 hPa) < 300℃, 더 바람직하게는 ≤ 260℃, 가장 바람직하게는 ≤ 220℃ 의 비등점 또는 승화 온도를 갖는다. 증발은 또한 예를 들어 열 및/또는 감압을 적용함으로써 가속될 수 있다. 예상외의 개선은 100℃ 이상, 바람직하게는 130℃ 이상의 비등점을 갖는 용매를 사용함으로써 달성될 수 있다.
통상적으로, 유기 용매는 28 mN/m 이상, 바람직하게는 30 mN/m 이상, 더 바람직하게는 32 mN/m 이상, 가장 바람직하게는 35 mN/m 이상의 표면 장력을 포함할 수 있다. 표면 장력은 25℃ 에서 FTA (First Ten Angstrom) 1000 접촉각 각도계, 또는 Kruss DSA 100 을 사용해 측정될 수 있다. 방법의 세부사항은 First Ten Angstrom as published by Roger P. Woodward, Ph.D. "Surface Tension Measurements Using the Drop Shape Method" 로부터 이용가능하다. 바람직하게는, 팬던트 낙하 방법이 표면 장력의 측정에 사용될 수 있다.
어림 견적을 위한 목적을 위해, 표면 장력은 Hansen Solubility Parameters: A User's Handbook, Second Edition, C. M. Hansen (2007), Taylor and Francis Group, LLC (HSPiP 매뉴얼) 에서 상세히 설명된 식에 의해 Hansen Solubility 파라미터를 사용해 산출될 수 있다.
표면 장력 = 0.0146 x(2.28x δHd 2 + δHp 2 + δHh 2) x MVol0.2, 식 중,
Hd 는 분산 기여도로 칭함
Hp 는 극성 기여도로 칭함
Hh 는 수소 결합 기여도로 칭함
MVol 는 몰부피로 칭함.
Hansen Solubility 파라미터는 Hanson 및 Abbot 등에 의해 제공되는 바와 같은 Practice (HSPiP) 프로그램 (제 2 판) 으로 Hansen Solubility 파라미터에 따라 측정될 수 있다.
바람직하게는, 용매는 0.01 이상, 바람직하게는 0.1 이상, 더 바람직하게는 1 이상, 가장 바람직하게는 10 이상의 상대적 증발율 (부틸 아세테이트 = 100) 을 포함한다. 상대적 증발율은 DIN 53170: 2009-08 에 따라 측정될 수 있다. 어림 견적을 위한 목적을 위해, 상대적 증발율은 상기 및 하기에 언급된 바와 같은 HSPiP 프로그램으로 Hansen Solubility 파라미터를 사용해 산출될 수 있다.
바람직하게는, 상기 유기 용매 중에 0.5 내지 1% w/w 의 폴리머를 용해시킬때 폴리머는 용매 점도를 적어도 0.4 cps 까지 증가시킨다.
본 발명의 조성물은 바람직하게는 70 중량% 이상, 더 바람직하게는 80 중량% 이상, 가장 바람직하게는 90 중량% 이상의 유기 용매를 포함한다.
본 발명에 따른 조성물은 추가로 예를 들어 표면-활성 화합물, 윤활제, 습윤제, 분산제, 소수성제, 접착제, 유동 개선제, 소포제, 탈기제, 반응성 또는 비반응성일 수 있는 희석제, 보조제, 착색제, 염료 또는 안료, 감광제, 안정화제, 나노입자 또는 저해제와 같은 하나 이상의 추가 성분을 포함할 수 있다. 그러나, 이들 추가 성분은 산화되지 않아야 하거나, 그렇지 않으면 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료와 화학적 반응할 수 없어야 하거나, 또는 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료에 대해 전기적 도핑 영향을 갖지 않아야 한다.
놀라운 개선은 휘발성 습윤제로 달성될 수 있다. 상기 및 하기에 사용되는 용어 "휘발성" 은 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료, 또는 OLED 소자를 상당히 손상시키지 않는 조건 (예컨대, 온도 및/또는 감압) 하에 이들 재료를 OLED 소자의 기판에 침착시킨 후에 증발에 의해 이들 재료로부터 제제를 제거할 수 있는 것을 의미한다. 바람직하게, 이는 습윤제가 활용되는 압력에서, 바람직하게는 주위 압력 (1013 hPa) 에서 ≤ 350℃, 더 바람직하게는 ≤ 300℃, 가장 바람직하게는 ≤ 250℃ 의 비등점 또는 승화 온도를 갖는 것을 의미한다. 증발은 또한 예를 들어 열 및/또는 감압을 적용함으로써 가속될 수 있다.
놀라운 효과가 유사한 비등점을 갖는 휘발성 성분을 포함하는 조성물에 의해 달성될 수 있다. 바람직하게는, 습윤제 및 유기 용매의 비등점의 차이는 -50℃ 내지 50℃ 범위, 더 바람직하게는 -30℃ 내지 30℃ 범위, 가장 바람직하게는 -20℃ 내지 20℃ 범위이다.
바람직한 습윤제는 비방향족 화합물이다. 추가로 바람직하게는, 습윤제는 비이온성 화합물이다. 특히 유용한 습윤제는 35 mN/m 이하, 바람직하게는 30 mN/m 이하, 더 바람직하게는 25 mN/m 이하의 표면 장력을 포함한다. 표면 장력은 25℃ 에서 FTA (First Ten Angstrom) 1000 접촉각 각도계, 또는 Kruss DSA 100 을 사용해 측정될 수 있다. 방법의 세부사항은 First Ten Angstrom as published by Roger P. Woodward, Ph.D. "Surface Tension Measurements Using the Drop Shape Method" 로부터 이용가능하다. 바람직하게는, 팬던트 낙하 방법이 표면 장력의 측정에 사용될 수 있다.
본 발명의 특정한 양태에 따라, 유기 용매 및 습윤제의 표면 장력의 차이는 바람직하게는 1 mN/m 이상, 더 바람직하게는 5 mN/m 이상, 가장 바람직하게는 10 mN/m 이상이다.
본 발명의 특정한 양태에 따라, 습윤 첨가제는 0.01 이상, 바람직하게는 0.1 이상, 더 바람직하게는 1 이상, 가장 바람직하게는 10 이상의 상대적 증발율 (부틸 아세테이트 = 100) 을 포함한다.
예상외의 개선은 유사한 상대적 증발율 (부틸 아세테이트 = 100) 을 갖는 용매 및 습윤제를 포함하는 조성물로 달성될 수 있다. 바람직하게는, 습윤제 및 유기 용매의 상대적 증발율 (부틸 아세테이트 = 100) 의 차이는 -20 내지 20 범위, 더 바람직하게는 -10 내지 10 범위이다. 본 발명의 바람직한 구현예에 따라, 유기 용매의 상대적 증발율 (부틸 아세테이트 = 100) 에 대한 습윤제의 상대적 증발율 (부틸 아세테이트 = 100) 의 비는 230:1 내지 1:230, 바람직하게는 20:1 내지 1:20, 더 바람직하게는 5:1 내지 1:5 범위일 수 있다.
예상외의 개선은 100 g/mol 이상, 바람직하게는 150 g/mol 이상, 더 바람직하게는 180 g/mol 이상, 가장 바람직하게는 200 g/mol 이상의 분자 중량을 포함하는 습윤제에 의해 달성될 수 있다.
산화되지 않거나, 그렇지 않으면 유기 반도체 재료와 화학적 반응하지 않는 적합하고 바람직한 습윤제는 실록산, 알칸, 아민, 알켄, 알킨, 알코올 및/또는 이들 화합물의 할로겐화 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된다. 나아가, 플루오로 에테르, 플루오로 에스테르 및/또는 플루오로 케톤이 사용될 수 있다. 더 바람직하게는, 이들 화합물은 6 내지 20 개의 탄소 원자, 특히 8 내지 16 개의 탄소 원자를 갖는 메틸 실록산; C7-C14 알칸, C7-C14 알켄, C7-C14 알킨, 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 알코올, 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 플루오로 에테르, 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 플루오로 에스테르 및 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 플루오로 케톤으로부터 선택된다. 가장 바람직한 습윤제는 8 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 메틸실록산이다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 알칸은 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 트리데칸, 테트라데칸, 3-메틸헵탄, 4-에틸헵탄, 5-프로필데칸, 트리메틸시클로헥산 및 데칼린을 포함한다.
7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 할로겐화 알칸은 1-클로로헵탄, 1,2-디클로로옥탄, 테트라플루오로옥탄, 데카플루오로도데칸, 퍼플루오로-노난, 1,1,1-트리플루오로메틸데칸, 및 퍼플루오로메틸데칼린을 포함한다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 알켄은 헵텐, 옥텐, 노넨, 1-데센, 4-데센, 운데센, 도데센, 트리데센, 테트라데센, 3-메틸헵텐, 4-에틸헵텐, 5-프로필데센, 및 트리메틸시클로헥센을 포함한다.
7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 할로겐화 알켄은 1-클로로헵텐, 1,2-디클로로옥텐, 테트라플루오로옥텐, 데카플루오로도데센, 퍼플루오로-노넨, 및 1,1,1-트리플루오로메틸데센을 포함한다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 알킨은 헵틴, 옥틴, 노닌, 1-데신, 4-데신, 운데신, 도데신, 트리데신, 테트라데신, 3-메틸헵틴, 4-에틸헵틴, 5-프로필데신, 및 트리메틸시클로헥신을 포함한다.
7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 할로겐화 알킨은 1-클로로헵틴, 1,2-디클로로옥틴, 테트라플루오로옥틴, 데카플루오로도데신, 퍼플루오로-노닌, 및 1,1,1-트리플루오로메틸데신을 포함한다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 알코올은 3,5-디메틸-1-헥신-3-올, 헵탄올, 옥탄올, 노난올, 데칸올, 운데칸올, 도데칸올, 트리데칸올, 테트라데칸올, 3-메틸헵탄올, 4-에틸헵탄올, 5-프로필데칸올, 트리메틸시클로헥산올 및 히드록실데칼린을 포함한다.
7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 할로겐화 알칸올은 1-클로로-헵탄올, 1,2-디클로로옥탄올, 테트라플루오로옥탄올, 데카플루오로도데칸올, 퍼플루오로노난올, 1,1,1-트리플루오로메틸데칸올, 및 2-트리플루오로메틸-1-히드록시데칼린을 포함한다.
유용하고 바람직한 4 내지 15 개의 탄소 원자를 갖는 아민은 헥실아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 디부틸아민, 피페라진, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 운데실아민, 도데실아민, 트리데실아민, 테트라데실아민, 3-메틸헵틸아민, 4-에틸헵틸아민, 5-프로필데실아민, 트리메틸시클로헥실아민을 포함한다.
4 내지 15 개의 탄소 원자를 갖는 할로겐화 아민은 1-클로로헵틸-아민, 1,2-디클로로옥틸아민, 테트라플루오로옥틸아민, 데카플루오로도데실-아민, 퍼플루오로노닐아민, 1,1,1-트리플루오로메틸데실아민, 퍼플루오로트리부틸아민, 및 퍼플루오로트리펜틸아민을 포함한다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 플루오로 에테르는 3-에톡시-1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-도데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헥산, 3-프로폭시-1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-도데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헥산, 3-에톡시-1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-테트라데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헵탄, 3-에톡시-1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로-2-트리플루오로메틸-펜탄, 및 3-프로폭시-1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로-2-트리플루오로메틸-펜탄을 포함한다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 플루오로 에스테르는 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-도데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헥실) 에타노에이트, 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-도데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헥실) 프로파노에이트, 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-테트라데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헵틸) 에타노에이트, 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로-2-트리플루오로메틸-펜틸) 에타노에이트, 및 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로-2-트리플루오로메틸-펜틸) 프로파노에이트를 포함한다.
유용하고 바람직한 7 내지 14 개의 탄소 원자를 갖는 플루오로케톤은 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-도데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헥실) 에틸케톤, 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-도데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헥실) 프로필-케톤, 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-테트라데카플루오로-2-트리플루오로메틸-헵틸) 에틸케톤, 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로-2-트리플루오로메틸-펜틸) 에틸케톤, 및 3-(1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로-2-트리플루오로메틸-펜틸) 프로필케톤을 포함한다.
유용하고 바람직한 실록산은 헥사메틸디실록산, 옥타메틸-트리실록산, 데카메틸테트라실록산, 도데카메틸펜타실록산, 및 테트라데카메틸헥사실록산을 포함한다.
습윤제로서 유용한 화합물의 예가 표 3 에 개시되어 있다. 제시되는 상대적 증발율 (RER) 및 표면 장력 값은 상기 및 하기에 언급된 바와 같이 Hanson 및 Abbott 등에 의해 제공되는 HSPiP 프로그램으로 Hansen Solubility 파라미터를 사용해 산출된다.
표 3: 바람직한 습윤제
Hd 는 분산 기여도로 칭함
Hp 는 극성 기여도로 칭함
Hh 는 수소 결합 기여도로 칭함
MVol 는 몰부피로 칭함.
바람직하게는, 조성물은 5 중량% 이하, 더 바람직하게는 3 중량% 이하, 가장 바람직하게는 1 중량% 이하의 습윤 첨가제를 포함한다. 바람직하게는, 조성물은 0.01 내지 5 중량%, 더 바람직하게는 0.1 내지 3 중량% 의 습윤제를 포함한다.
바람직하게는, 용매가 바람직하게는 동일한 가공 단계로 습윤제와 함께 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 코팅 또는 인쇄층으로부터 증발될 수 있도록 선택되어야 한다. 용매 및 휘발성 첨가제의 제거에 사용되는 가공 온도는 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 층이 손상되지 않도록 선택되어야 한다. 바람직하게는, 침착 가공 온도는 실온 (RT; 약 25℃) 내지 135℃, 더 바람직하게는 RT 내지 100℃ 이다.
바람직하게는, 본 발명의 조성물은 20 내지 60 mN/m, 더 바람직하게는 25 내지 45 mN/m 범위의 표면 장력을 포함한다. 표면 장력은 상기 및 하기에 언급된 바와 같이 FTA (First Ten Angstrom) 1000 접촉각 각도계 또는 Kruss DSA 100 을 사용해 측정될 수 있다. 표면 장력은 적절한 방식으로 폴리머 결합제 및 용매를 선택함으로써 달성될 수 있다. 상기 언급된 바와 같은 Hanson Solubility 파라미터의 사용은 당업자에 유용한 도움을 제공한다. 나아가, 표면 장력은 상기 언급된 바와 같이 습윤제, 바람직하게는 휘발성 습윤제를 사용함으로써 달성될 수 있다.
바람직하게는, 조성물은 1 내지 100 mPas 범위, 바람직하게는 2.0 내지 40 mPas 범위, 더 바람직하게는 2.1 내지 20 mPas 범위, 가장 바람직하게는 2.1 내지 15 mPas 범위의 점도를 갖는다. 점도는 25℃ 의 온도에서 Haake 에 의해 제조된 MARS III 레오미터(rheometer) 에서 측정함으로써 측정된다. 이는 1°콘-플레이트 기하구조를 사용해 측정된다.
바람직하게는, 조성물은, 예를 들어 1 마이크론 이하로 여과될 수 있다.
OLED 소자의 제조 방법 동안, 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 층을 기판에 침착시킨 후, 임의의 존재하는 휘발성 전도성 첨가제(들) 와 함께 용매를 제거하여 필름 또는 층을 형성한다.
기판은 OLED 소자의 제조에 적합한 임의의 기판일 수 있거나, 또한 OLED 소자, 또는 그 부분일 수 있다. 적합하고 바람직한 기판은, 예를 들어 유리, ITO 코팅된 유리, PEDOT, PANI 등을 포함하는 사전 코팅된 층을 갖는 ITO 유리, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트 (PEN), 폴리이미드의 유연성 필름, 및 ITO, 또는 기타 전도층 및 장벽층을 갖는 유연성 필름, 예를 들어 Vitex 필름이다.
유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 층의 침착은 문헌에 기재되고 당업자에 공지된 표준 방법에 의해 달성될 수 있다. 적합하고 바람직한 침착 방법은 액체 코팅 및 인쇄 기법을 포함한다. 매우 바람직한 침착 방법은 제한 없이 딥 코팅, 스핀 코팅, 잉크젯 인쇄, 노즐 인쇄, 활판 인쇄, 스크린 인쇄, 그라비어 인쇄, 닥터 블레이드 코팅, 롤러 인쇄, 역-롤러 인쇄, 오프셋 리소그래피 인쇄, 플렉소그래픽 인쇄, 웹 인쇄, 분무 코팅, 커튼 코팅, 브러시 코팅, 에어브러시 코팅, 슬롯 다이 코팅 또는 패드 인쇄를 포함한다. 그라비어, 플렉소그래픽 및 잉크젯 인쇄가 바람직하다.
용매 및 임의의 휘발성 전도성 첨가제(들) 의 제거는, 바람직하게는 증발, 예를 들어 침착층을 고온 및/또는 감압, 바람직하게는 50 내지 200℃, 더 바람직하게는 60 내지 135℃ 에 노출시킴으로써 달성된다.
유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 층의 두께는 바람직하게는 1 nm 내지 500 nm, 더 바람직하게는 2 내지 150 nm 이다.
상기 및 하기에 기재된 바와 같은 재료 및 방법에 추가해서, OLED 소자 및 그 부품은 문헌에 기재되고 당업자에 공지된 표준 재료 및 표준 방법으로부터 제조될 수 있다.
본 발명의 상기 구현예에 대한 변형법이 본 발명의 범주 내에 여전히 있으면서 시행될 수 있는 것으로 인지될 것이다. 달리 언급되지 않는한 본 명세서에 개시되는 각 특성은 대안 특성에 의해 대체되어 동일하거나, 동등하거나 또는 유사한 목적을 제공할 수 있다. 따라서, 달리 언급되지 않는한 개시되는 각 특성은 단지 포괄적인 일련의 동등하거나 또는 유사한 특성의 하나의 예이다.
본 명세서에 개시되는 특성 모두는 상기 특성 및/또는 단계의 적어도 일부가 상호 배타적인 조합을 제외하고는 임의의 조합으로 조합될 수 있다. 특히, 본 발명의 바람직한 특성은 본 발명의 모든 양태에 적용가능하고, 임의의 조합으로 사용될 수 있다. 마찬가지로, 비본질적인 조합으로 기재되는 특성이 별개로 (조합되지 않고서) 사용될 수 있다.
수많은 상기 기재된 특성, 특히 바람직한 구현예가 그 자체로 진보적이고 단지 본 발명의 구현예의 일부는 아닌 것으로 인지될 것이다. 독립적인 보호는 현재 주장하는 임의의 발명에 추가적으로 또는 그에 대한 대안으로 이들 특성에 대해 추구될 수 있다.
맥락상 명백히 달리 지시되지 않는한, 본원에 사용된 바와 같이, 본원에서의 복수형의 용어는 단수형을 포함하는 것으로 간주되어야 하고, 그 역도 마찬가지다.
본 명세서의 상세한 설명 및 청구범위를 통틀어, 단어 "포함하다" 및 "함유하다" 및 그 단어들의 변형물, 예를 들어 "포함하는" 및 "(단수형을) 포함하다" 는 "이에 제한되지는 않지만 포함하는" 을 의미하고, 기타 성분을 배제하는 것으로 의도되지 않는다 (배제하지 않는다).
용어 "폴리머" 는 호모폴리머 및 코폴리머, 예를 들어 통계적, 교차 또는 블록 코폴리머를 포함한다. 추가로, 하기에 사용된 바와 같은 용어 "폴리머" 는 또한 올리고머 및 덴드리머를 포함한다. 예를 들어, M. Fischer and F. Vogtle, Angew. Chem., Int. Ed. 1999, 38, 885 에 기재된 바와 같이, 덴드리머는 전형적으로 추가의 분지형 모노머가 보통 방식으로 첨가되어 나무-유사 구조를 제공하는, 다관능성 코어 기로 이루어진 분지형 고분자 화합물이다.
용어 "공액화 폴리머" 는 하나의 π-오비탈과 또다른 사이에 낀 σ-결합과의 상호작용을 가능하게 하는, 헤테로 원자에 의해 또한 대체될 수 있는, sp2-혼성화, 또는 임의로는 sp-혼성화를 갖는 C 원자를 주로 그 백본 (또는 주쇄) 에 함유하는 폴리머를 의미한다. 가장 단순한 경우에, 이는 예를 들어 교차 탄소-탄소 (또는 탄소-헤테로 원자) 단일 및 다중 (예, 이중 또는 삼중) 결합을 갖는 백본이지만, 또한 1,3-페닐렌과 같은 단위를 갖는 폴리머를 포함한다. "주로" 는 상기 맥락에서 공액화 중단을 야기할 수 있는 자연 (동시) 발생적 결함을 갖는 폴리머가 여전히 공액화 폴리머로 간주되는 것을 의미한다. 또한, 상기 의미에서 백본이 예를 들어 아릴 아민, 아릴 포스핀 및/또는 특정한 헤테로사이클 (즉, N-, O-, P- 또는 S-원자를 통한 공액화) 및/또는 금속 유기 착물 (즉, 금속 원자를 통한 공액화) 과 같은 단위를 포함하는 폴리머가 포함된다. 용어 "공액화 연결기" 는 sp2-혼성화 또는 sp-혼성화를 갖는 C 원자 또는 헤테로 원자로 이루어진 2 개의 고리 (통상, 방향족 고리) 를 연결하는 기를 의미한다. 또한, "IUPAC Compendium of Chemical terminology, Electronic version" 를 참조하라.
달리 언급되지 않는한, 분자 중량은 달리 언급되지 않는한 폴리스티렌 표준물에 대해 겔 침투 크로마토그래피 (GPC) 로 측정되는, 수 평균 분자 중량 Mn 또는 중량 평균 분자 중량 Mw 로 제시된다.
중합도 (n) 는 달리 언급되지 않는한 n = Mn/MU (식 중, MU 는 단일 반복 단위의 분자 중량임) 로 제시되는 수 평균 중합도이다.
용어 "소분자" 는 모노머, 즉 비폴리머 화합물을 의미한다.
달리 언급되지 않는한, 고체의 백분율은 중량% ("wt.%") 이고, 액체 (예를 들어, 용매 혼합물 중) 의 백분율 또는 비는 부피% ("vol.%") 이고, 모든 온도를 섭씨도 (℃) 로 제시된다.
달리 언급되지 않는한, 백분율 또는 ppm 으로 제시되는 혼합물 성분, 예컨대 전도성 첨가제의 농도 또는 비율은 용매를 포함하는 전체 제형에 대해서이다.
본 발명은 이제부터 하기 실시예를 참조하여 보다 상세히 기재될 것이며, 이는 단지 예시적인 것이고 본 발명의 범주를 제한하고자 하는 것은 아니다.
작업예
비교예 1
식 (A) 에 따른 인광 화합물
식 (B) 에 따른 호스트 재료
및 식 (C) 에 따른 호스트 재료
를 중량비 A:B:C 1:2:2 로 하여 혼합하고, 수득한 혼합물을 아니솔 중에 용해시킴으로써 인쇄 잉크를 제조하였다. 반도체 화합물의 농도는 약 2.5 중량% 였다.
각각이 4 픽셀 구조의 ITO 및 그라비어 인쇄된 PEDOT 층을 갖는 10 개의 기판 (25 x 25 mm) 으로 덮은 PET 기판 (120 x 220 mm) 상에서 RK K 인쇄 프루퍼(proofer) 를 사용해 OLED 잉크로 그라비어 인쇄하였다. 2 개의 염색 절차 (120℃ 의 핫 플레이트 및 120℃ 의 고온 공기 대류 건조기) 를 사용해 필름 품질의 차이를 평가하였다.
상기 제형의 그라비어 인쇄는 도 3 에 나타난 바와 같이 극히 불량한 필름 품질을 산출한다.
비교예 2
본질적으로, 비교예 1 을 반복하였다. 그러나, 불활성 폴리스티렌 결합제를 인쇄 잉크에 첨가하였다. 인쇄 잉크는 Mw 2,000,000 g/mol 인 0.5 중량% 폴리스티렌 (Sigma Aldrich 에 의해 공급됨), 및 비교예 1 에 언급된 바와 같은 2.5 중량% 의 반도체 화합물을 포함한다.
PEDOT 및 PET 상의 습윤성은 비교예 1 보다 나았지만, 양호하지는 않았다. 습윤성은 도 4 에 나타난 바와 같이 상당한 문제를 나타낸다.
비교예 3
본질적으로, 비교예 1 을 반복하였다. 그러나, 불활성 폴리스티렌 결합제를 인쇄 잉크에 첨가하였다. 인쇄 잉크는 Mw 2,000,000 g/mol 인 1.0 중량% 폴리스티렌 (Sigma Aldrich 에 의해 공급됨), 및 비교예 1 에 언급된 바와 같은 2.5 중량% 의 반도체 화합물을 포함한다.
PEDOT 에서 비교예 2 보다 더 나은 습윤성을 달성하였다. 그럼에도 불구하고, 도 5 에 나타난 바와 같이 거대 핀홀이 층에 보인다. 그러나, 그 결과는 비교예 1 및 2 와 비교시 개선된다.
실시예 4
본질적으로, 비교예 1 을 반복하였다. 그러나, 불활성 폴리(메틸 메타크릴레이트) 결합제를 인쇄 잉크에 첨가하였다. 인쇄 잉크는 Mw 2,400,000 g/mol 인 0.25 중량% 폴리(메틸 메타크릴레이트) (Sigma Aldrich 에 의해 공급됨), 및 비교예 3 에 언급된 바와 같은 2.5 중량% 의 반도체 화합물을 포함한다.
PEDOT 층에서 더 나은 습윤성을 달성하였다. 그 결과는 비교예 3 과 비교시 개선된다.
실시예 5
본질적으로, 비교예 1 을 반복하였다. 그러나, 불활성 폴리(메틸 메타크릴레이트) 결합제를 인쇄 잉크에 첨가하였다. 인쇄 잉크는 Mw 2,400,000 g/mol 인 0.5 중량% 폴리(메틸 메타크릴레이트) (Sigma Aldrich 에 의해 공급됨), 및 실시예 4 에 언급된 바와 같은 2.5 중량% 의 반도체 화합물을 포함한다.
건조 후에 PEDOT 에서 매우 양호한 필름 품질 및 습윤성을 달성하였다. 그 결과는 도 6 에 나타난 바와 같이 실시예 4 와 비교시 개선된다.
소자예 6 및 7
용액-가공된 OLED 의 소자 제조
수많은 예가 대개 폴리머 소자 ("PLED", 예 WO 2004/037887 A2) 에 관하여 용액으로부터 유기 발광 다이오드의 제조에 관한 문헌에 기재되어 있다. 본 발명의 진보적인 제형이 더 나은 필름을 유도할 뿐만 아니라 잘 수행된다는 것의 예시를 위해, OLED 소자를 표준 시험 세트업으로 제조하였다. 전형적인 세트업이 도 1 에 나타나 있고, 사용되는 소자 레이아웃이 도 2 에 나타나 있다. ITO (인듐-주석-옥시드) 는 스퍼터링(sputtering) 에 의해 PET 호일 상에 침착되고 그라비어 인쇄된 리소그래피를 통해 구조화된 투명한 정공 주입 애노드로서, 각각이 크기가 6 x 4 mm 인 4 픽셀로 이루어진 10 개의 기판을 수득한다. 본 경우에, 기판을 자가 제조하였다.
175-μm-두께 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 기판을 초음파 배쓰(bath) 에서 아세톤 및 IPA 를 사용해 클린룸 환경에서 클리닝한다. 이후, 표면을 UV/오존 처리로 활성화시킨다. 제 1 층으로서, 약 60 nm 의 PEDOT 를 그라비어 인쇄로 기판에 침착시키고, 60 분 동안 130℃ 에서 건조시켰다 (PEDOT 는 H.C. Starck, Goslar 로부터 입수가능한 PEDOT, 폴리티오펜, 및 PSSH, 폴리술폰산의 물-기재 분산물임; 여기서 사용되는 것은 Clevios P 4083 AI 임, 그러나 H. C. Starck 로부터의 기타 PEDOT-생성물 또는 기타 공급업체로부터의 "버퍼" 재료 역시 가능할 것임). EML 의 필름 두께는 약 100 nm 이고, 기판을 10 분 동안 130℃ 에서 다시 어닐링하여 잔존 용매를 제거한다. 용액의 점도는 고체 농도에 따라, 즉 소분자, 폴리머 함량 및 불활성 필름 형성제 함량에 따라 변한다. 하기 예에서, 아니솔을 용매로서 사용하지만, 기타 용매 (명세서 참조) 를 역시 사용할 수 있다. 상기 경우에, 그라비어 인쇄 조건 및 건조 절차가 따라서 조정되어야 한다. 건조층을 UV 광 여기 하에 Canon EOS 550D 디지털 카메라, 및 LMPLFLN 20× 대물렌즈를 갖는 Olympus BX51 편광 현미경을 사용해 인쇄 시행 후에 검사하였다.
전기 접점을 만들기 위해, 캐소드 구조를 유기 필름의 상부에 금속 마스크를 통해 증착시킨다. 캐소드는 단 하나의 금속 (예, Yb) 으로 이루어질 수 있고, 캡핑 금속 (전형적으로, Al 또는 Ag) 과의 조합으로 반응성 및 따라서 전자 주입성 금속 (예컨대, Mg, Ba, Sr 등) 의 2 층 구조일 수 있고, 제 1 침착층으로서 알칼리 또는 토류 알칼리 플루오라이드 또는 옥시드 (예, LiF, Li2O, BaF2, BaO, MgO, NaF 등) 를 함유하는 2 또는 3 층 구조일 수 있거나, 또는 하나 이상의 증착된 전자 수송층, 이후에는 알맞는 전자 주입 금속 또는 금속 플루오라이드, 옥시드 또는 퀴놀레이트를 가질 수 있다. 본 경우에, 단지 Ca 및 Al 을 침착시켜 소자를 단순하게 유지하는데, 심지어 상기와 같은 단순한 세트업이 매우 양호한 소자를 만들 수 있는 것을 나타낸다. 수분 및/또는 산소에 대한 유기 및 캐소드 구조의 밀폐를 위해, 소자를 캡슐화하고, 이후에는 글로브박스 밖에서 취급할 수 있다.
특성화를 Botest 로부터의 세트업으로 수행한다. 소자를 스프링-접촉 연결 애노드 및 캐소드를 갖는 샘플 홀더에서 측정 회로에 고정시킨다. 시각-교정 필터를 갖는 광다이오드를 상부에 타이트하게 놓아 외부 광이 그 결과를 변조하는 것을 막는다. 이후, 전압을 0.2 V 의 단계로 단계적으로 10 V 로 증가시키면서, 광다이오드로부터의 광전류 및 샘플을 통한 전류를 측정한다. 상기 방식 소위 IVL-데이터 (전류, 전압, 휘도) 를 수합한다. 중요한 데이터는 최대 효율 (cd/A), 외부 양자 효율 (EQE; %) 및 특정한 밝기에 요구되는 전압이다.
실시예 6 및 7:
불활성 폴리스티렌 (PS) 결합제 및 불활성 폴리(메틸 메타크릴레이트) (PMMA) 결합제를 사용하는 소자의 비교
비교예 6
화합물 (A), (B) 및 (C) 를 25 g/l 의 농도로 아니솔 중에 용해시키고, 추가로 폴리스티렌 (2,000,000 g/mol, Aldrich) 을 불활성 결합제로서 5 g/l 의 농도로 첨가하여 필름 형성 및 그라비어 인쇄를 개선한다. 소자 특성화의 결과가 표 4 에 나타나 있다.
실시예 7
화합물 (A), (B) 및 (C) 를 25 g/l 의 농도로 아니솔 중에 용해시키고, 추가로 폴리 (메틸 메타크릴레이트) (2,400,000 g/mol, Aldrich) 를 불활성 결합제로서 5 g/l 의 농도로 첨가하여 필름 형성 및 그라비어 인쇄를 개선한다. 소자 특성화의 결과가 표 4 에 나타나 있다.
표 4
Claims (16)
- 분자 중량 5000 g/mol 이하인 하나 이상의 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료, 하나 이상의 유기 용매, 및 하나 이상의 폴리머를 포함하는 조성물로서, 상기 폴리머가 아크릴산 에스테르 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항에 있어서, 상기 폴리머가 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위로부터 선택되는 5 내지 100 mol% 의 반복 단위를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위가 에스테르기로서 C1-10-알킬기, C3-8-시클로알킬기, C6-14-아릴기 또는 C2-13-헤테로아릴기를 갖는 아크릴산 및/또는 메타크릴산 에스테르 단위로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머의 중량 평균 분자 중량 Mw 가 500,000 g/mol 이상인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물의 25℃ 에서의 점도가 1 내지 100 mPas 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리머의 유리 전이 온도가 -70 내지 160℃ 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 0.01 내지 20 중량% 범위의 상기 폴리머를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기 용매가 방향족 유기 용매인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 8 항에 있어서, 상기 유기 용매가 방향족 탄화수소, 방향족 에테르, 방향족 에스테르, 방향족 케톤, 헤테로방향족 용매 및 아닐린 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기 용매의 비등점이 ≤ 260℃ 인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 80 중량% 이상의 상기 유기 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 분자 중량이 5000 g/mol 이하인 상기 하나 이상의 유기 발광 재료가 발광하고 추가로 38 초과의 원자 번호를 갖는 하나 이상의 원자를 함유하는 유기 인광 화합물인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 12 항에 있어서, 상기 유기 인광 화합물이 식 (1) 내지 (4) 의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
[식 중,
DCy 는 동일 또는 상이하게 각 경우에 시클릭기로서, 이는 카르벤 또는 인 형태로 하나 이상의 공여체 원자, 바람직하게는 질소, 탄소를 함유하고, 이를 통해 시클릭기는 금속에 결합되고, 결국에는 하나 이상의 치환기 R1 을 보유할 수 있고; 기 DCy 및 CCy 는 공유 결합을 통해 서로 연결되고;
CCy 는 동일 또는 상이하게 각 경우에 시클릭기로서, 이는 탄소 원자를 함유하고, 이를 통해 시클릭기는 금속에 결합되고, 결국에는 하나 이상의 치환기 R1 을 보유할 수 있고;
A 는 동일 또는 상이하게 각 경우에 모노음이온, 두자리 킬레이팅 리간드, 바람직하게는 디케토네이트 리간드이고;
R1 은 동일 또는 상이하게 각 경우에 F, Cl, Br, I, NO2, CN, 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 직쇄, 분지형 또는 시클릭 알킬 또는 알콕시기 (이때, 하나 이상의 비인접 CH2 기는 -O-, -S-, -NR2-, -CONR2-, -CO-O-, -C=O-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 에 의해 대체될 수 있고, 하나 이상의 수소 원자는 F 에 의해 대체될 수 있음), 또는 4 내지 14 개의 탄소 원자를 갖고 하나 이상의 비방향족 R1 라디칼에 의해 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로아릴기이고, 복수의 치환기 R1 은 동일한 고리 또는 2 개의 상이한 고리에서 함께 결국에는 모노- 또는 폴리시클릭, 지방족 또는 방향족 고리계를 형성할 수 있고;
R2 는 동일 또는 상이하게 각 경우에 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 직쇄, 분지형 또는 시클릭 알킬 또는 알콕시기 (이때, 하나 이상의 비인접 CH2 기는 -O-, -S-, -CO-O-, -C=O-, -CH=CH- 또는 -C≡C- 에 의해 대체될 수 있고, 하나 이상의 수소 원자는 F 에 의해 대체될 수 있음), 또는 4 내지 14 개의 탄소 원자를 갖고 하나 이상의 비방향족 R1 라디칼에 의해 치환될 수 있는 아릴 또는 헤테로아릴기임]. - 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조성물이 5000 g/mol 이하의 분자 중량을 갖는, 0.25 내지 5 중량% 유기 발광 재료 및/또는 전하 수송 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 유기 전계발광 (EL) 소자, 바람직하게는 OLED 소자의 제조를 위한, 코팅 또는 인쇄 잉크로서의 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.
- 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 따른 조성물로부터 제조한 유기 전계발광 소자, 바람직하게는 OLED 소자.
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