KR20160083399A - 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름 - Google Patents

Abstract

본 발명은 디스플레이 분야에서 사용되는 베이스 필름으로 사용되기 위한 요구조건인 휘도를 향상시키기 위하여 전광선 투과율을 높인 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름을 제공하기 위한 것이다.

Description

광학용 이축연신 폴리에스테르 필름{Biaxial streched Polyester laminated film for optical use}

본 발명은 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게, 본 발명은 디스플레이 분야에서 사용되는 베이스 필름으로 사용되기 위한 요구조건인 휘도를 향상시키기 위하여 전광선 투과율을 높인 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.

일반적으로 폴리에스테르(Polyester), 특히 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethyleneterephthalate)(이하, PET라고 칭함)는 우수한 내열성과 기계적 강도, 투명성, 내화학성 등의 장점으로 필름, 섬유, 용기 또는 병, 기계 및 전자 부품으로 사용되고 있으며, 다른 고기능성 수지에 비해 저렴한 가격으로 그 용도 및 사용량은 계속 확대되고 있는 추세이다. 특히 현재 공업적으로 제조되고 있는 폴리에스테르 필름은 자기 기록 매체용 베이스 필름, 각종 포장용, 제품보호용, 전자재료용, 적층용, 윈도우용, 이형용 등 다양한 용도로서 광범위하게 사용되고 있으며, 최근에는 각종 디스플레이용 전자 제품의 발전과 함께 전자재료용 베이스필름 및 광학용 필름을 주축으로 그 시장이 확대되고 있다.

폴리에스테르 필름은 저온에서 고온에 이르는 넓은 온도 범위에서 물성의 안정성이 뛰어나고, 다른 고분자 수지에 비하여 내화학성이 우수하며, 기계적 강도, 표면 특성, 두께의 균일성이 양호하여 다양한 용도나 공정조건에서도 뛰어난 적용성을 가지고 있으므로 콘덴서용, 사진 필름용, 라벨용, 감압 테이프, 장식용 라미네이트, 트랜스퍼 테이프, 편광판 및 세라믹 시트 등에 적용되고 있으며, 최근 고속화 및 자동화 추세에 부응하여 그 수요가 나날이 증가하고 있는 추세이다.

디스플레이 분야에서 사용되는 폴리에스테르 필름은 액정표시장치에 사용하기 위해 오프라인 코팅을 통한 하드코팅 가공 공정 등을 거치는 터치패널용 베이스필름, PDP 패널에 사용되는 필름, 백라이트 유니트 부에 포함되는 확산시트, 프리즘 렌즈시트, 프리즘 보호필름 등에 사용되는 베이스 필름, 외부 빛에 의해 발생하는 눈부심을 방지하기 위한 무반사 코팅용 베이스 필름 등에 사용되고 있다.

이러한 디스플레이 분야에서 사용되는 베이스필름은 공정 주행안정성, 내스크래치성, 광투과성 및 우수한 휘도와 선명도 등의 여러 가지 특성을 요구하게 되어 우수한 투명성과 평활성 등을 저해하는 내부 결점 및 표면 결점을 최소화하는 기술을 요구하고 있다.

베이스필름에 요구되는 특성 중 하나인 평면성은 필름의 평면성이 불량할 경우 베이스필름의 생산 공정 중에서 장력 불균일로 인한 미끄러짐 현상이 유발되고 이로 인해 필름의 표면에 스크래치 결점 등이 발생하게 되며, 후가공 코팅공정에서 도포량이 불균일하므로 부분적인 도포불량이 발생하게 되어 제품의 가치가 떨어지는 요인으로 작용한다.

내스크래치성은 베이스필름에 스크래치가 발생하면 해당 결점 발생부분에 대하여 투명 전도막에 대한 도포 불균일로 인한 전기적인 결함인 흑점이 발생하거나 하드코팅 등 후 가공 공정에 있어서 도포 불균일 등의 문제를 야기할 수 있으므로 요구되는 특성이다. 그리고 광학 결점을 유발시켜 제품의 품질과 수율에 악영향을 끼친다.

베이스필름에서 요구되는 이런 특성들은 결국 필름에 휘도향상, 열적안정성, 가공특성 등을 증가시키기 위하여 필요한 특성이라 할 수 있다. 투명성, 내스크래치성, 평면성 및 전광선투과성의 저하는 휘도의 저하 및 신뢰성에 문제를 일으키고 수율저하를 초래하게 된다. 이러한 휘도의 저하는 필요한 광량을 얻기 위하여 더 높은 광원을 요구하게 되며, 높은 광원을 얻기 위하여 재료의 단가상승과 높은 소비전력을 필요로 하기 때문에 디스플레이 분야에서 사용되는 베이스필름에 치명적인 결함요인으로 작용한다.

따라서, 휘도를 향상시키기 위해서 베이스필름 연구들이 진행되어 왔으며, 일본공개특허 제2006-208993호에서는 기재필름과 도포량을 가지고 상기 도포층은 바인더와 입자가 포함된 광확산층인 이축연신 폴리에스테르 필름을 게재하고 있고, 일본공개특허 제2006-163378호에서는 필름 내부에 미세한 기포를 함유하고 필름의 표면에 광안정제와 산화방지제를 함유하는 도포층이 적층된 폴리에스테르 필름을 개시하고 있으며, 일본공개특허 제1994-059108호에서는 기재필름에 요철을 형성하고 기재필름의 양면을 광확산제를 포함한 층으로 적층한 폴리에스테르 필름을 개재하고 있다.

또한, 일본공개특허 평6-59108호와 일본특허제3698978호에 의하면 이축연신 폴리에스테르 필름의 표면에 미립자를 함유한 투명 수지로 광확산층을 코팅하는 경와 같이 디스플레이용 폴리에스테르 필름의 휘도 향상을 위해 내부의 무기입자 크기와 함량을 조절하여 광산란을 최소화하거나 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지의 밝기(L값)를 높여 전광선 투과율을 높여 휘도 특성을 발현코자 하였다.

이에 본 발명의 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름은 베이스 필름으로 사용되기 위한 요구조건인 휘도를 향상시키기 위하여 전광선 투과율을 높인 폴리에스테르 필름을 제공하는데 그 목적이 있는 것이다.

본 발명의 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름은 다음과 조건을 갖는 것을 특징으로 한다.

기재필름의 서로 직교하는 방향의 주 굴절율 nx(MD 방향)와 ny(TD 방향)을 가지되

(1) ny의 굴절율이 nx의 굴절율 보다 크고, 기재 평면의 복굴절율(nx-ny)이 0.0001 이상

(2) nx의 방향과 프리즘 산의 방향이 대응될 때 기재 중심부의 최대 투과율의 방향이 nx 방향과 3° 이내

(3) 기재 전폭 범위에서 MD 방향 기준으로 -34도<최대 투광도 각도<34도

(4) 기재의 편면 또는 양면에 동종 또는 이종의 수지를 포함하는 이접착층을 포함한다.

본 발명에 따른 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름은 전폭 기준 TD 방향으로 분자들을 배향시켜 해당 방향의 수직인 MD 방향으로 최대 투과율을 갖도록 하여 프리즘 산의 방향으로 빛을 입사시켜 휘도를 향상시킬 수 있는 필름으로서, 전광성 투과율 90% 이상, 헤이즈가 1.5% 이하, 필름의 표면 조도 Rz가 0.5㎛ 이하의 특성을 갖는 효과가 있다.

도 1은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 기계방향(MD)/폭방향(TD) 연신에 따른 각 부위에 배향각을 나타낸 것이다.
도 2는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 nx 방향과 프리즘 코팅시 프리즘 산의 방향과 대응되는 것을 나타내는 도면이다.

이와 같은 본 발명을 다음에서 상세하게 설명하기로 한다.

본 발명에서 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름은 이축연신 폴리에스테르 필름을 기재로 하고 상기의 기재의 한 면 또는 양면에 동종 또는 이종의 고분자 수지를 포함하는 이접착층을 형성한 광학용 필름이다. 여기서 상기 이접착층은 상기 이축연신 폴리에스테르 필름의 1축 연신 후에 도포되는 것이 바람직하다.

본 발명에 의하면, 이축연신 폴리에스테르 필름의 제조공정 중에 동종 또는 이종의 고분자 수지는 폴리우레탄계수지 및 폴리아크릴계 수지를 혼용하여 프라이머층을 형성하는 것이 바람직하다.

여기서 기재하는 기재층으로서의 폴리에스테르계 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트에서 선택하며, 단독으로 사용하거나 이의 공중합체를 사용할 수 있으며, 첨가제를 포함하여도 좋다.

본 발명에 따른 이축연신 폴리에스테르 필름을 형성하는 공중합 폴리에스테르계 수지는 디카르복실산을 주성분으로 하는 산성분과 알킬글리콜을 주성분으로 하는 글리콜 성분을 구성성분으로 하며, 이들 성분을 중축합하여 제조한다.

여기서 지개하는 글리콜 성분으로서는 에틸렌글리콜을 주된 대상으로 하지만, 그 일부를 예컨대 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 트리메틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 부탄디올, 헥산디올, 1,4-사이클로헥산디올, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,4-비스옥시에톡시벤젠, 비스페놀, 폴리옥시에틸렌글리콜로 대체하여 사용할 수도 있으며, 또 적은 함량이라면 일관능성 화합물 또는 삼관능성 화합물을 병용하여도 좋다.

상기 화합물 중에서 에틸렌글리콜이 가장 바람직하다. 소량이면, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 헥산디올 또는 1,4-시클로헥산디메탄올 등을 사용하는 것이 가장 바람직하다.

여기서 기재하는 디카르복실산의 주성분으로는 테레프탈산 또는 그의 알킬에스테르나 페닐에스테르 등을 주로 사용하지만 그의 일부를 이소프탈산, 옥시에톡시 안식향상, 아디프산, 세바신산, 5-나트륨설포이소프탈산 등의 이관능성 카르본산 또는 그의 에스테르형성 유도체로 대체하여 사용할 수 있다.

이중에서 테레프탈산 및 이소프탈산이 가장 바람직하며, 상기 디카르복실산 성분 외에, 수분산성을 부여시키기 위해서, 5-술포이소프탈산을 사용하는 것도 바람직하고, 예컨대 술포테레프탈산, 5-술포이소프탈산, 4-술포나프탈렌이소프탈산-2,7-디카르복실산 및 5-(4-술포페녹시) 이소프탈산 및 그 염류 등을 들 수 있다.

한편, 상기 기재층은 기재층 수지와 굴절율 차이가 있거나 불용성인 입자상의 물질은 포함하지 않으며, 대전방지제, 자외선안정제, 방수제, 슬립제 및 열안정제에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 성분을 포함할 수 있다.

대전방지제는 기재층에 먼지 등의 이물질의 부착이나 흡착을 방지하여 후 가공 공정에서 이물질에 의한 접착력 감소를 줄이기 위하여 사용하고, 통상적으로 폴리에스테르필름에 사용하는 대전방지제라면 그 사용에 제한을 두지 않는다. 사용하는 대전방지제의 대표적인 예를 들면 부틸옥시에틸 하이드록시에틸 오르쏘데실옥시 암모늄염, 비스하이드록시데실프로필 암모늄염, 하이드록시부틸 도데실옥시부틸 에틸암모늄염 등의 4급 암모늄염이나, 은, 금, 구리, 알루미늄, 백금, 니켈, 크롬, 납, 코발트, 로듐, 루테늄, 주석, 이리듐, 팔라듐, 티탄 등의 금속입자를 단독 또는 코팅시킨 금속 대전방지제 등이 포함되나 이에 제한되는 것은 아니다.

자외선 안정제는 자외선을 흡수하여 빛에 의한 기재층의 분해를 방지하기 위하여 사용되며, 통상적인 폴리에스테르필름에 사용하는 자외선안정제라면 그 사용에 제한을 두지 않는다. 사용하는 자외선안정제의 대표적인 예로는 벤조페논계, 벤조트리아졸계, 레솔시놀 모노벤조에이트계, 살리실레이트계, 하이드록시에이트계, 포름아미딘계 등의 자외선 흡수제, 힌들드 아민계 자외선 안정제, 이미노에스테르계 자외선 안정제 등이 사용될 수 있으나 이들로 한정하는 것은 아니다.

방수제는 기재층이 흡습의 증가에 따라 수분의 표면흡착이 많아져 슬립성이 악화되는 것을 방지하기 위하여 사용하고, 폴리에스테르필름에 통상적으로 사용되는 방수제라면 그 사용에 제한을 두지 않는다. 대표적인 방수제의 예로는 퍼플루오로알킬 아크릴레이트와 같은 불소-함유 화합물 및 실리콘 화합물과 같은 방수제를 사용할 수 있다.

슬립제는 기재층의 이형성 증가와 후 가공공정에 의한 결함 억제를 위하여 사용되며, 콜로이드성실리카, 유기실리콘폴리머 또는 이의 유도체 등을 사용할 수 있으나 폴리에스테르필름에 사용하는 통상적인 슬립제라면 그 사용에 제한을 두지 않는다.

열안정제는 기재층의 가공 시 회전 냉각롤 상에서 정전인가법에 의해 두께가 균일한 시트를 얻기 위하여 사용되거나 코팅조성상에 열처리구간 및 재생칩 제조 시 산화방지를 목적으로 사용되는 열안정제를 사용할 수 있으며, 통상적으로 폴리에스테르필름에 사용되는 인산 또는 인화합물 등의 열안정제라면 특별히 그 사용에 제한을 두지 않는다.

한편, 본 발명의 광학용 이접착층에 사용하는 폴리아크릴계 수지로는, 1분자 중에 3개 이상, 보다 바람직하게는 4개 이상, 더욱 바람직하게는 5개 이상의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체 및 프리폴리머 중1종 이상과 1분자 중에 1~2개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 단량체 중 1종 이상으로 이루어진 혼합물을 주요 구성성분으로 한다. 보다 구체적인 예로는 펜타에리스톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스톨 테트라(메타) 아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스톨 헥사(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스톨 트리아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트 우레탄 프리폴리머, 펜타에리스톨 트리아크릴레이트 톨루엔디이소시아네이트 우레탄 프리폴리머, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 이소포론디이소시아네이트 우레탄 프리폴리머 등을 사용할 수 있다. 이들 단량체 및 프리 폴리머는 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 특히 이들 중 1개 이상의 수산기를 갖는 다관능 아크릴레이트 화합물은 에폭시계 경화제를 병용하면 기재필름의 접착성을 향상시킬 수 있으므로 특히 바람직하다.

본 발명에 따른 이축연신 폴리에스테르 필름의 이접착층을 형성하는 계면활성제는 수용성 코팅액에 사용가능하며, 기재 필름의 습윤성을 증가시키고 코팅액을 균일하게 도포하기 위해 공지의 음이온 또는 비이온 계면활성제를 필요량 사용하여 기재 필름에 도포하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 이접착층은 1차 연신 후의 필름 위에 수지 바인더 등과 함께 도포하여 형성한다. 또한 바람직하게는 상기 이접착층은 상기 이축연신 폴리에스테르 필름의 1축 연신 후 도포된다.

본 발명의 이축연신 폴리에스테르 필름의 제조방법은 다음과 같다.

기재층과 이의 편면 또는 양면에 기재층에 동종 또는 이종의 수지를 포함하는 수지로 된 표층을 동시에 공압출하는 단계; 상기 공압출된 필름의 유리전이온도(Tg)이상의 온도에서 기계방향(MD)으로 연신하는 단계; 상기 기계방향의 연신온도 이상에서 기계방향의 수직인 폭방향(TD)으로 연신하는 단계; 및 열고정하는 단계로 이루어진다.

여기서 기재한 제조방법에서, 구체적으로 상기 기계방향(MD)의 연신단계는 80 ~ 110℃에서 수행하고, 상기 폭방향(TD)으로의 연신단계는 100 ~ 140℃에서 수행하며, 상기 열고정 단계는 200 ~ 235℃에서 수행하는 것이 바람직하다. 또한 연신비율은 3 ~ 5배가 바람직하다.

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름은 앞서 설명한 바와 같이, 이축연신을 통해서 필름으로 제조되며, 제막 공정 조건에 따라 분자 배향도(복굴절)및 배향 각도가 달라지게 된다. 예를 들어 기계방향(MD)/폭방향(TD) 연신비를 3.1/3.4배로 연신할 때 필름 전폭에서 분자 배향은 도 1에서와 같이 늘어서게 된다.

도 1에서, CT는 필름 전폭 부위중 센터부위이며 OP 및 DR은 각 필름 전폭에서 에지부위이고, OP-CT 및 CT-DR은 센터 부위와 에지 부위의 중간이다. 폴리에틸렌테레프탈레이트 분자들은 기계방향(MD) 연신후 최종적으로 연신되는 폭방향(TD)으로 늘어서게 되며, 전폭으로는 도 1의 배향각 방향으로 늘어서게 된다. 필름을 통과하는 투과광의 각도는 필름 배향 방향의 수직으로 투과하게 된다. 이렇게 투과하게 되는 광은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 위에 프리즘 코팅층을 통과하게 되고 프리즘의 방향과 일치될 때 최대의 광효율을 낼 수 있게 된다.

도 2에 나타낸 바와 같이, 이상적으로는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 CT부위와 같이 분자배향이 90도로 늘어서게 되어 최대 투과광이 0도 방향으로 투과될 때 최대의 광효율을 낼수 있으며 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 에지부는 상대적으로 효율이 저하되게 된다. 이를 위해 폭방향(TD) 연신비를 증가시켜 폭방향(TD) 방향의 굴절율을 높여 배향도를 크게 하게 분자배향 방향을 최대한 90도 방향으로 늘이게 되었을시 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 폭방향(TD) 휘도 편차를 줄이고, 전반적인 휘도 상승의 효과를 가져올 수 있게 된다.

이에 따라, 앞에서 기재한 방법에 의해 제조된 본 발명의 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름은 다음과 조건을 갖는다.

기재필름의 서로 직교하는 방향의 주 굴절율 nx(MD 방향)와 ny(TD 방향)을 가지되 (1) ny의 굴절율이 nx의 굴절율 보다 크고, 기재 평면의 복굴절율(nx-ny)이 0.0001 이상, (2) nx의 방향과 프리즘 산의 방향이 대응될 때 기재 중심부의 최대 투과율의 방향이 nx 방향과 3° 이내, (3) 기재 전폭 범위에서 MD 방향 기준으로 -34도<최대 투광도 각도<34도, 및 (4) 기재의 편면 또는 양면에 동종 또는 이종의 수지를 포함하는 이접착층을 포함한다.

싱가와 같은 조건을 구비하게 되는 본 발명에 따른 이축연신 폴리에스테르 필름은 전폭 기준 TD 방향으로 분자들을 배향시켜 해당 방향의 수직인 MD 방향으로 최대 투과율을 갖도록 하여 프리즘 산의 방향으로 빛을 입사시켜 휘도를 향상시킬 수 있는 필름으로서, 전광성 투과율 90% 이상, 헤이즈가 1.5% 이하, 필름의 표면 조도 Rz가 0.5㎛ 이하의 특성을 갖는 효과가 있다.

이하, 본 발명을 실시예에 의거 상세하게 설명하겠는 바, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.

실시예 1

평균입자 크기가 0.3㎛(90%)와 1.0㎛(10%)인 무기입자(콜로이달 실리카)함량이 300ppm 함유하는 폴리에틸렌 테레프탈레이트를 건조 후 다이를 통해 압출한 후 캐스팅 드럼에서 냉각시켜 시트를 제조하였다. 이 시트를 종방향으로 90℃에서 120℃의 온도범위에서 3.1배의 연신비로 연신 후 양면에 우레탄 코팅처리를 하여 횡방향으로 100℃에서 140℃의 온도 범위에서 3.4배 연신하여 210℃~230℃의 온도 범위에서 열처리를 행하여 250㎛의 필름을 제조하였으며, 그 특성을 다음 표 1에 수록하였다.

실시예 2

평균입자 크기가 0.3㎛(90%)와 1.0㎛(10%)인 무기입자(콜로이달 실리카)함량이 300ppm으로 종방향으로 3.2배의 연신비로 연신 후 횡방향으로 3.4배 연신하여 평균두께 250㎛의 필름을 제작하였으며 표 1및 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.

실시예 3

평균입자 크기가 0.3㎛(90%)와 1.0㎛(10%)인 무기입자(콜로이달 실리카)함량이 300ppm으로 종방향으로 3.3배의 연신비로 연신 후 횡방향으로 3.4배 연신하여 평균두께 250㎛의 필름을 제작하였으며 표 1및 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.

비교예 1

평균입자 크기가 0.3㎛(90%)와 1.0㎛(10%)인 무기입자(콜로이달 실리카)함량이 300ppm으로 종방향으로 3.4배의 연신비로 연신 후 횡방향으로 3.4배 연신하여 평균두께 250㎛의 필름을 제작하였으며 표 1및 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하였다.

구분	제막 연신 조건		방향별 굴절율		복굴절 (△n=ny-nx)	광특성			표면조도
	MD	TD	MD(nx)	TD(ny)		T.T (%)	Haze (%)	휘도 (cd/m2)	Ra (㎛)	Rz (㎛)
실시예1	3.1	3.4	1.637809	1.638084	0.000275	92.03	1.4%	100%	0.004	0.327
실시예2	3.2	3.4	1.641331	1.641448	0.000117	91.94	1.4%	99%	0.004	0.385
실시예3	3.3	3.4	1.642774	1.642821	0.000047	92.01	1.4%	98%	0.004	0.462
비교예1	3.4	3.4	1.643862	1.643794	-0.000068	91.78	1.4%	96%	0.004	0.478

Claims (3)

1. 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름에 있어서,
   기재필름의 서로 직교하는 방향의 주 굴절율 nx(MD 방향)와 ny(TD 방향)을 가지되
   (1) ny의 굴절율이 nx의 굴절율 보다 크고, 기재 평면의 복굴절율(nx-ny)이 0.0001 이상
   (2) nx의 방향과 프리즘 산의 방향이 대응될 때 기재 중심부의 최대 투과율의 방향이 nx 방향과 3° 이내
   (3) 기재 전폭 범위에서 MD 방향 기준으로 -34도<최대 투광도 각도<34도
   (4) 기재의 편면 또는 양면에 동종 또는 이종의 수지를 포함하는 이접착층을 포함하는 조건을 갖는 것을 특징으로 하는 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름.
2. 제1항에 있어서, 상기 기재필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리트리메틸렌테레프탈레이트에서 선택하며, 단독으로 사용하거나 이의 공중합체인 것을 특징으로 하는 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름.
3. 제1항에 있어서, 상기 동종 또는 이종의 고분자 수지는 공중합 폴리에스테르계 수지 및 폴리아크릴계 수지를 혼용하여 공증합한 수지인 것을 특징으로 하는 광학용 이축연신 폴리에스테르 필름.
   

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