KR20160047648A - 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

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KR20160047648A
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Abstract

액정 표시 장치를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치는 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판, 상기 기판 위에 위치하는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극, 상기 화소 전극과 마주보며 위치하는 루프층, 상기 루프층 위에 위치하는 캐핑층 그리고 상기 주변 영역에 위치하고, 상기 캐핑층의 측면부를 둘러싸는 차단막을 포함하고, 상기 표시 영역에는 상기 화소 전극과 상기 루프층 사이에 복수의 미세 공간(Microcavity)이 형성되어 있고, 상기 미세 공간은 액정 물질을 포함하는 액정층을 형성하고, 상기 차단막의 상부면 레벨은 상기 액정층의 상부면 레벨보다 높다.

Description

액정 표시 장치 및 그 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 화소 전극과 공통 전극 등 전기장 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 들어 있는 액정층으로 이루어진다.
전기장 생성 전극에 전압을 인가하여 액정층에 전기장을 생성하고 이를 통하여 액정층의 액정 분자들의 배향을 결정하고 입사광의 편광을 제어함으로써 영상을 표시한다.
액정 표시 장치 가운데 하나로써, 픽셀에 복수의 미세 공간(micro cavity)을 형성하고, 여기에 액정을 채워 디스플레이를 구현하는 기술이 개발되고 있다. 종래의 액정 표시 장치에서는 두 장의 기판이 사용되었으나, 이 기술은 하나의 기판 위에 구성 요소들을 형성함으로써 장치의 무게, 두께 등을 줄일 수 있다.
미세 공간에 액정을 채우는 디스플레이를 형성하는 공정은 액정 주입 이후에 캐핑층을 형성하는 공정을 포함한다. 하지만, 현재 사용하는 캐핑층은 외부의 산소 및 수분 등을 충분히 차단하기 어려워 신뢰성 문제가 발생한다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 외부의 산소 및 수분 등을 차단하여 신뢰성이 개선된 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치는 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판, 상기 기판 위에 위치하는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극, 상기 화소 전극과 마주보며 위치하는 루프층, 상기 루프층 위에 위치하는 캐핑층 그리고 상기 주변 영역에 위치하고, 상기 캐핑층의 측면부를 둘러싸는 차단막을 포함하고, 상기 표시 영역에는 상기 화소 전극과 상기 루프층 사이에 복수의 미세 공간(Microcavity)이 형성되어 있고, 상기 미세 공간은 액정 물질을 포함하는 액정층을 형성하고, 상기 차단막의 상부면 레벨은 상기 액정층의 상부면 레벨보다 높다.
상기 액정 표시 장치는 상기 표시 영역에서 상기 루프층 아래 위치하는 하부 절연층 그리고 상기 루프층 위에 위치하는 상부 절연층을 더 포함하고, 상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층을 무기막으로 형성되고, 상기 차단막은 상기 하부 절연층, 상기 루프층 및 상기 상부 절연층과 대응하는 유무기 구조층을 포함할 수 있다.
상기 유무기 구조층은 제1 무기층, 유기층 및 제2 무기층을 포함하고, 상기 제1 무기층은 상기 하부 절연층에 대응하고, 상기 제2 무기층은 상기 상부 절연층에 대응하며, 상기 유기층은 적어도 하나의 색필터를 포함할 수 있다.
상기 제1 무기층은 상기 하부 절연층과 연결되고, 상기 제2 무기층은 상기 상부 절연층과 연결될 수 있다.
상기 유기층은 서로 다른 색상을 갖는 색필터가 적층된 구조를 포함할 수 있다.
상기 루프층은 색필터를 포함할 수 있다.
상기 복수의 미세 공간은 격벽부에 의해 구획되고, 상기 격벽부는 상기 색필터 중에서 한가지 색상의 색필터에 의해 형성될 수 있다.
상기 격벽부는 서로 이웃하는 미세 공간 사이의 이격 공간을 상기 한가지 색상의 색필터가 채우는 부분일 수 있다.
상기 격벽부는 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 데이터선이 뻗는 방향을 따라 형성될 수 있다.
상기 제2 무기층은 상기 유기층의 상부면 및 측면을 덮을 수 있다.
상기 캐핑층 상부면 위에 위치하는 배리어층을 더 포함하고, 상기 배리어층은 질화 규소를 포함할 수 있다.
상기 캐핑층의 상부면과 상기 차단막의 상부면은 동일한 레벨에 위치할 수 있다.
상기 액정 표시 장치는 상기 루프층 아래 위치하는 하부 절연층 그리고 상기 루프층 위에 위치하는 상부 절연층을 더 포함하고, 상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층을 무기막으로 형성되고, 상기 차단막은 상기 표시 영역에서 연장된 상기 하부 절연층, 유기층 및 상기 표시 영역에서 연장된 상기 상부 절연층을 포함하는 유무기 구조층이고, 상기 유기층은 서로 다른 색상을 갖는 색필터가 적층된 구조를 포함하고, 상기 색필터 중 하나가 상기 루프층과 연결될 수 있다.
상기 액정 표시 장치는 상기 유무기 구조층 아래 위치하는 투명 전극 패턴을 더 포함할 수 있다.
상기 유무기 구조층 아래 위치하는 희생층 잔류 패턴을 더 포함할 수 있다.
상기 차단막과 상기 표시 영역에 위치하는 상기 루프층은 서로 이격될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판 위에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계, 상기 박막 트랜지스터와 연결되도록 화소 전극을 형성하는 단계, 상기 화소 전극 위에 희생층을 형성하는 단계, 상기 희생층 위에 상기 표시 영역에 위치하는 루프층을 형성하는 단계, 상기 주변 영역에 위치하는 차단막을 형성하는 단계, 상기 희생층을 제거하여 복수의 미세 공간(Microcavity)을 형성하는 단계, 상기 복수의 미세 공간에 액정 물질을 주입하여 액정층을 형성하는 단계 그리고 상기 루프층 위에 캐핑층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 루프층을 형성하는 단계와 상기 차단막을 형성하는 단계는 동시에 수행한다.
상기 루프층을 형성하는 단계는 상기 희생층 위에 제1 색필터를 형성하는 단계, 상기 희생층 위에 제2 색필터를 형성하는 단계 그리고 상기 희생층 위에 제3 색필터를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 차단막을 형성하는 단계는 상기 주변 영역에 상기 제1 색필터, 상기 제2 색필터 및 상기 제3 색필터가 적층되는 단계를 포함할 수 있다.
상기 액정 표시 장치의 제조 방법은 상기 루프층 아래 위치하는 하부 절연층을 형성하는 단계 그리고 상기 루프층 위에 위치하는 상부 절연층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층은 무기막으로 형성하고, 상기 표시 영역에 형성된 상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층이 연장되어 상기 주변 영역에 위치하는 색필터와 함께 상기 차단막을 형성할 수 있다.
상기 희생층을 형성하는 단계는 상기 박막 트랜지스터에 연결되는 데이터선을 따라 위치하는 오픈부를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제1 색필터, 상기 제2 색필터 및 상기 제3 색필터 중 하나의 색필터가 상기 오픈부를 채울 수 있다.
상기 오픈부를 채우는 색필터는 격벽부를 형성하고, 상기 격벽부는 상기 복수의 미세 공간을 구획할 수 있다.
상기 차단막의 상부면 레벨이 상기 액정층의 상부면 레벨보다 높도록 형성할 수 있다.
상기 주변 영역에 위치하는 상기 색필터와 상기 표시 영역에 위치하는 상기 제1 색필터, 상기 제2 색필터 및 상기 제3 색필터 중 하나가 연결될 수 있다.
상기 차단막 아래 위치하는 투명 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 액정 표시 장치의 제조 방법은 상기 희생층을 형성하는 단계는 상기 주변 영역에 희생층 잔류 패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 액정 표시 장치의 제조 방법은 상기 캐핑층의 상부면 위에 배리어층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 배리어층은 질화 규소를 포함할 수 있다.
상기 캐핑층의 상부면과 상기 차단막의 상부면은 동일한 레벨에 위치하도록 형성할 수 있다.
상기 루프층을 형성하는 단계는 상기 차단막과 상기 루프층이 이격되되도록 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 주변 영역에 차단막을 형성함으로써 표시 영역의 가장자리로 침투하는 수분 및 산소 등을 방지하여 소자의 신뢰성을 높일 수 있다. 또한, 표시 영역에 형성되는 유기막 및 무기막을 형성하는 단계와 동일 공정으로 차단막을 형성하기 때문에 마스크를 추가하지 않아도 되는 이점이 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치에서 주변 영역과 표시 영역의 일부분을 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 절단선 II-II를 따라 자른 단면도이다.
도 3은 도 1에 표시한 A영역을 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 3의 절단선 IV-IV를 따라 자른 단면도이다.
도 5는 도 3의 절단선 V-V를 따라 자른 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치에서 색필터 및 격벽부를 나타내는 평면도이다.
도 7은 도 6의 절단선 VII-VII을 따라 자른 단면도이다.
도 8은 도 5에서 설명한 실시예를 변형한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 9는 도 2에서 설명한 실시예를 변형한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 10은 도 2에서 설명한 실시예를 변형한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 11 내지 도 37은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타내는 평면도 및 단면도들이다.
첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한, 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 층이 개재될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치에서 주변 영역과 표시 영역의 일부분을 나타내는 평면도이다. 도 2는 도 1의 절단선 II-II를 따라 자른 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참고하면, 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치는 액정 표시판 조립체(liquid crystal panel assembly)(400) 및 이에 연결되어 있는 게이트 구동부(미도시)와 데이터 구동부(미도시), 데이터 구동부에 연결된 계조 전압 생성부(미도시), 액정 표시판 조립체(400)에 빛을 조사하는 광원부(미도시), 광원부를 제어하는 광원 구동부(미도시) 및 이들을 제어하는 신호 제어부(signal controller)(미도시)를 포함할 수 있다.
게이트 구동부나 데이터 구동부는 액정 표시판 조립체(400) 위에 형성될 수도 있고, 별개의 직접 회로 칩으로 형성될 수도 있다.
액정 표시판 조립체(400)의 기판(110)은 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)을 둘러싸는 주변 영역(PA)을 포함한다. 표시 영역(DA)은 실제 이미지를 출력하는 영역이며, 주변 영역(PA)은 앞에서 설명한 게이트 구동부 또는 데이터 구동부가 형성되거나 외부 회로와 연결되는 부분인 게이트 패드 또는 데이터 패드 등을 포함하는 게이트 패드부(121P) 및 데이터 패드부(171P)가 위치한다. 게이트 패드는 게이트선(121)의 끝단에 위치하는 넓은 부분이고, 데이트 패드는 데이터선(171)의 끝단에 위치하는 넓은 부분이다.
본 실시예에 따른 액정 표시 장치는 제1 무기층(350), 주변 영역(PA)에 색필터(R, G, B)가 적층된 유기막, 및 제2 무기층(370)을 포함하는 차단막(EB)을 포함한다. 제1 무기층(350)은 표시 영역(DA)에 위치하는 하부 절연층(350)이 연장되어 주변 영역(PA)에 위치하는 무기막이고, 제2 무기층(370)은 표시 영역(DA)에 위치하는 상부 절연층(370)이 연장되어 주변 영역(PA)에 위치하는 무기막이다. 서로 다른 색상을 갖는 색필터가 적층된 유기막에서 적층되는 순서는 다양하게 조합될 수 있다.
본 실시예에서는 유기막과 무기막을 모두 포함하는 형태의 차단막으로 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않고 무기막 가운데 적어도 하나가 생략될 수 있다. 차단막(EB)에 포함되는 무기막 가운데 하부 절연층(350) 및 상부 절연층(370)은 질화 규소(SiNx)를 포함할 수 있다.
차단막(EB)에 포함되는 무기막은 주변 영역(PA)에 위치하는 하부 절연층(350) 아래의 제3 층간 절연막(180c)를 더 포함할 수 있다.
본 실시예에서 액정층에 대응하는 공간인 미세 공간(305) 위에 색필터로 형성된 루프층(230)이 위치하고, 루프층(230) 위에 캐핑층(390)이 위치한다. 본 실시예에 따른 차단막(EB)의 상부면 레벨은 액정층의 상부면 레벨보다 높을 수 있고, 차단막(EB)은 캐핑층(390)의 측면부를 둘러싸는 구조를 가진다. 이에 따라, 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치에서 표시 영역(DA)의 외곽부가 차단막(EB)으로 둘러싸임으로써, 표시 영역(DA)의 측면부를 통해 수분 및 산소 등이 침투하여 액정 표시 장치의 소자의 신뢰성을 떨어뜨리는 것을 방지할 수 있다.
미세 공간(305)에 대응하는 부분에서 루프층(230)은 하나의 색필터로 형성되나, 차단막(EB)에 포함되는 색필터는 적어도 하나 이상일 수 있다.
이하에서는 도 3 내지 도 5를 참고하여 표시 영역(DA)에서의 액정 표시 장치 구성 요소에 대해 상세히 설명하기로 한다.
도 3은 도 1에 표시한 A영역을 나타내는 평면도이다. 도 4는 도 3의 절단선 IV-IV를 따라 자른 단면도이다. 도 5는 도 3의 절단선 V-V를 따라 자른 단면도이다.
도 3은 복수의 화소 영역 가운데 일부분인 2 X 2 화소 영역 부분을 나타내는 것이고, 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치는 이러한 화소 영역이 상하좌우로 반복 배열될 수 있다.
도 3 내지 도 5를 참고하면, 투명한 유리 또는 플라스틱 등으로 만들어진 기판(110) 위에 게이트선(121) 및 유지 전극선(131)이 형성되어 있다. 게이트선(121)은 게이트 전극(124)을 포함한다. 유지 전극선(131)은 주로 가로 방향으로 뻗어 있으며 공통 전압(Vcom) 등의 정해진 전압을 전달한다. 유지 전극선(131)은 게이트선(121a)과 실질적으로 수직하게 뻗은 한 쌍의 세로부(135a) 및 한 쌍의 세로부(135a)의 끝을 서로 연결하는 가로부(135b)를 포함한다. 세로부(135a)와 가로부(135b)는 화소 전극(191)을 둘러싸는 구조를 가진다.
게이트선(121) 및 유지 전극선(131) 위에 게이트 절연막(140)이 형성되어 있다. 게이트 절연막(140) 위에는 데이터선(171) 하부에 위치하는 반도체층(151), 소스/드레인 전극의 하부 및 박막 트랜지스터(Q)의 채널 부분에 위치하는 반도체층(154)이 형성되어 있다.
각 반도체층(151, 154) 위이며, 데이터선(171), 소스/드레인 전극의 사이에는 복수의 저항성 접촉 부재가 형성되어 있을 수 있는데, 도면에서는 생략되어 있다.
각 반도체층(151, 154) 및 게이트 절연막(140) 위에 소스 전극(173) 및 소스 전극(173)과 연결되는 데이터선(171), 드레인 전극(175)을 포함하는 데이터 도전체(171, 173, 175)가 형성되어 있다.
게이트 전극(124), 소스 전극(173), 및 드레인 전극(175)은 반도체층(154)과 함께 박막 트랜지스터(Q)를 형성하며, 박막 트랜지스터(Q)의 채널(channel)은 소스 전극(173)과 드레인 전극(175) 사이의 반도체층 부분(154)에 형성된다.
데이터 도전체(171, 173, 175) 및 소스 전극(173)과 드레인 전극(175)에 의해 가리지 않고 노출된 반도체층(154) 부분 위에는 제1 층간 절연막(180a)이 형성되어 있다. 제1 층간 절연막(180a)은 규소 질화물(SiNx)과 규소 산화물(SiOx) 따위의 무기 물질을 포함할 수 있다.
제1 층간 절연막(180a) 위에는 제2 층간 절연막(180b) 및 제3 층간 절연막(180c)이 위치할 수 있다. 제2 층간 절연막(180b)은 유기 물질로 형성될 수 있고, 제3 층간 절연막(180c)은 규소 질화물(SiNx)과 규소 산화물(SiOx) 따위의 무기 물질을 포함할 수 있다. 제2 층간 절연막(180b)을 유기 물질로 형성하여 단차를 줄이거나 제거할 수 있다. 본 실시예와 달리 제1 층간 절연막(180a), 제2 층간 절연막(180b) 및 제3 층간 절연막(180c) 중 하나 또는 두개의 막이 생략될 수 있다.
제1 층간 절연막(180a), 제2 층간 절연막(180b) 및 제3 층간 절연막(180c)을 관통하여 접촉 구멍(185)이 형성될 수 있다. 접촉 구멍(185)을 통해 드레인 전극(175)과 제3 층간 절연막(180c) 위에 위치하는 화소 전극(191)이 전기적, 물리적으로 연결될 수 있다. 이하에서는 화소 전극(191)에 대해 구체적으로 설명하기로 한다.
화소 전극(191)은 ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전 물질로 만들어질 수 있다.
화소 전극(191)은 전체적인 모양이 사각형이며 가로 줄기부(191a) 및 이와 교차하는 세로 줄기부(191b)로 이루어진 십자형 줄기부를 포함한다. 또한 가로 줄기부(191a)와 세로 줄기부(191b)에 의해 네 개의 부영역으로 나뉘어지며 각 부영역은 복수의 미세 가지부(191c)를 포함한다. 또한, 본 실시예에서 화소 전극(191)의 좌우 외곽에서 미세 가지부(191c)를 연결하는 외곽 줄기부(191d)를 더 포함할 수 있다. 본 실시예에서 외곽 줄기부(191d)는 화소 전극(191)의 좌우 외곽에 위치하나, 화소 전극(191)의 상부 또는 하부까지 연장되어 위치할 수도 있다.
화소 전극(191)의 미세 가지부(191c)는 게이트선(121) 또는 가로 줄기부와 대략 40도 내지 45도의 각을 이룬다. 또한, 이웃하는 두 부영역의 미세 가지부는 서로 직교할 수 있다. 또한, 미세 가지부의 폭은 점진적으로 넓어지거나 미세 가지부(191c)간의 간격이 다를 수 있다.
화소 전극(191)은 세로 줄기부(191b)의 하단에서 연결되고, 세로 줄기부(191b)보다 넓은 면적을 갖는 연장부(197)를 포함하고, 연장부(197)에서 접촉 구멍(185)을 통하여 드레인 전극(175)과 물리적, 전기적으로 연결되어 있으며, 드레인 전극(175)으로부터 데이터 전압을 인가 받는다.
지금까지 설명한 박막 트랜지스터(Q) 및 화소 전극(191)에 관한 설명은 하나의 예시이고, 측면 시인성을 향상시키기 위해 박막 트랜지스터 구조 및 화소 전극 디자인을 변형할 수 있다.
화소 전극(191) 위에 박막 트랜지스터(Q)가 형성되는 영역을 덮도록 차광 부재(220)가 위치한다. 본 실시예에 따른 차광 부재(220)는 게이트선(121)이 뻗어 있는 방향을 따라 형성될 수 있다. 차광 부재(220)는 빛을 차단할 수 있는 물질로 형성할 수 있다.
차광 부재(220) 위에 절연막(181)이 형성될 수 있고, 절연막(181)은 차광 부재(220)를 덮으며, 화소 전극(191) 위로 연장되어 형성될 수 있다. 절연막(181)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiOx)로 형성할 수 있다.
화소 전극(191) 위에는 하부 배향막(11)이 형성되어 있고, 하부 배향막(11)은 수직 배향막일 수 있다. 하부 배향막(11)은 폴리 아믹산(Polyamic acid), 폴리 실록산(Polysiloxane) 또는 폴리 이미드(Polyimide) 등의 액정 배향막으로써 일반적으로 사용되는 물질들 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 하부 배향막(11)은 광배향막일 수도 있다.
하부 배향막(11)과 대향하는 부분에 상부 배향막(21)이 위치하고, 하부 배향막(11)과 상부 배향막(21) 사이에는 미세 공간(305)이 형성되어 있다. 미세 공간(305)에는 액정 분자(310)를 포함하는 액정 물질이 주입되어 있고, 미세 공간(305)은 입구부(307)를 갖는다. 미세 공간(305)은 화소 전극(191)의 열 방향 다시 말해 세로 방향을 따라 형성될 수 있다. 본 실시예에서 배향막(11, 21)을 형성하는 배향 물질과 액정 분자(310)를 포함하는 액정 물질은 모관력(capillary force)을 이용하여 미세 공간(305)에 주입될 수 있다. 본 실시예에서 하부 배향막(11)과 상부 배향막(21)은 위치에 따른 구별일 뿐이고, 도 5에 도시한 바와 같이 서로 연결될 수 있다. 하부 배향막(11)과 상부 배향막(21)은 동시에 형성될 수 있다.
미세 공간(305)은 게이트선(121)과 중첩하는 부분에 위치하는 복수의 액정 주입구(307FP)에 의해 세로 방향으로 나누어짐으로써 복수개의 미세 공간(305)을 형성하며, 복수의 미세 공간(305)은 화소 전극(191)의 열 방향 다시 말해 세로 방향을 따라 형성될 수 있다. 또한 이후에 설명하는 격벽부(PWP)에 의해 미세 공간(305)은 가로 방향으로 나누어짐으로써 복수개의 미세 공간(305)을 형성하며, 복수의 미세 공간(305)은 화소 전극(191)의 행 방향 다시 말해 게이트선(121)이 뻗어 있는 가로 방향을 따라 형성될 수 있다. 복수개 형성된 미세 공간(305) 각각은 화소 영역 하나 또는 둘 이상에 대응할 수 있고, 화소 영역은 화면을 표시하는 영역에 대응할 수 있다.
상부 배향막(21) 위에는 공통 전극(270), 하부 절연층(350)이 위치한다. 공통 전극(270)은 공통 전압을 인가 받고, 데이터 전압이 인가된 화소 전극(191)과 함께 전기장을 생성하여 두 전극 사이의 미세 공간(305)에 위치하는 액정 분자(310)가 기울어지는 방향을 결정한다. 공통 전극(270)은 화소 전극(191)과 축전기를 이루어 박막 트랜지스터가 턴 오프(turn-off)된 후에도 인가된 전압을 유지한다.
하부 절연층(350)은 규소 질화물(SiNx) 또는 규소 산화물(SiOx)로 형성될 수 있다. 도 2 및 도 4를 참고하면, 하부 절연층(350)은 표시 영역(DA)과 주변 영역(PA)에 모두 위치할 수 있다.
본 실시예에서는 공통 전극(270)이 미세 공간(305) 상단부에 형성되는 것으로 설명하였으나, 다른 실시예로 공통 전극(270)이 미세 공간(305) 하부에 형성되어 수평 전계 모드에 따른 액정 구동도 가능하다.
본 실시예에서는 하부 절연층(350) 위에 색필터(230)가 위치한다. 도 5에 도시한 바와 같이 서로 이웃하는 색필터 가운데 한가지 색상의 색필터(230)는 격벽부(PWP)를 형성한다. 격벽부(PWP)는 가로 방향으로 이웃하는 미세 공간(305) 사이에 위치한다. 격벽부(PWP)는 가로 방향으로 이웃하는 미세 공간(305)의 이격 공간을 채우는 부분이다. 도 5에 도시한 바와 같이 격벽부(PWP)는 미세 공간(305)의 이격 공간을 완전히 채우는 구조로 형성되어 있으나, 반드시 이에 한정되지 않고, 이격 공간의 일부를 채우는 구조로 변형 실시 가능하다. 격벽부(PWP)는 데이터선(171)이 뻗어 있는 방향을 따라 형성될 수 있다.
격벽부(PWP) 위에서 서로 이웃하는 색필터(230)는 중첩할 수 있다. 서로 이웃하는 색필터(230)가 만나는 경계면은 격벽부(PWP) 대응하는 부분에 위치할 수 있다.
본 실시예에서 색필터(230) 및 격벽부(PWP)는 미세 공간(305)이 그 형상을 유지할 수 있도록 지지하는 루프층 역할을 한다.
이하에서는 도 6 및 도 7을 참고하여 본 발명의 일실시예에 따른 색필터(230)에 대해 상세히 설명하기로 한다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치에서 색필터 및 격벽부를 나타내는 평면도이다. 도 7은 도 6의 절단선 VII-VII을 따라 자른 단면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치에서 색필터 및 격벽부를 중심으로 설명하기 위해 개략적으로 나타낸 도면이고, 기판(110)과 미세 공간(305) 사이의 구성 요소들은 도 3 내지 도 5에서 설명한 내용이 그대로 적용될 수 있다.
도 6 및 도 7을 참고하면, 본 실시예에 따른 색필터(230)는 제1 색필터, 제2 색필터 및 제3 색필터를 포함하고, 제1 색필터는 청색 색필터(B), 제2 색필터는 적색 색필터(R), 제3 색필터는 녹색 색필터(G)를 포함할 수 있다.
본 실시예에 따르면, 격벽부(PWP)는 제1 색필터, 제2 색필터, 및 제3 색필터 중 어느 한 가지 색필터에 의해 형성된다. 본 발명의 일실시예에서 청색 색필터(B)에 해당하는 제1 색필터가 격벽부(PWP)를 형성한다. 청색 색필터(B)는 화소 영역(PX)에 대응하는 부분에서 연장되어 형성된 격벽부(PWP)와 적색 색필터(R)와 녹색 색필터(G) 사이에 위치하는 격벽부(PW)를 포함할 수 있다. 이 때, 적색 색필터(R)와 녹색 색필터(G)는 동시에 인접한 격벽부(PWP)의 서로 반대되는 가장자리 부분을 덮으며, 격벽부(PWP) 위에서 서로 중첩할 수 있다.
청색 색필터(B) 대신에 적색 색필터(R) 또는 녹색 색필터(G)로 격벽부(PWP)를 형성하는 것도 가능하다. 하지만, 청색 색필터(B)가 적색 색필터(R) 또는 녹색 색필터(G) 대비하여 광을 차단하는 효과가 크기 때문에 청색 색필터(B)로 격벽부(PWP)를 형성하게 되면 외부광에 의한 빛 반사를 줄일 수 있는 장점이 있다. 뿐만 아니라, 청색 색필터(B)는 광차단 역할 및 색필터의 성분인 포토 레지스트의 유동성이 우수하여 테이퍼각(taper angle)이 양호하다. 따라서, 격벽부(PWP)를 형성하는 색필터의 끝단 모양에 언더컷이 발생하거나 수직인 경우보다 대략 45도 이상의 각도로 누워서 형성되면 격벽부(PWP)의 측벽을 덮으면서 격벽부(PWP) 위에 도포되는 색필터가 잘 형성될 수 있다.
도 6에 도시한 바와 같이, 색필터(230)는 화소 영역(PX)에 대응하도록 섬형으로 형성할 수 있다.
앞에서 설명한 실시예에 한정되지 않고 각각의 격벽부(PWP)에 인접한 색필터(230)가 연장되어 격벽부(PWP)를 형성할 수도 있다.
도 2 및 도 7을 참고하면, 표시 영역(DA)에서 청색 색필터(B), 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)는 각각 루프층을 형성하여 미세 공간(305)을 지지하는 역할을 하고, 주변 영역(PA)에서 청색 색필터(B), 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)는 서로 적층된 구조를 형성하여 차단막(EB) 역할을 할 수 있다.
도 4 및 도 5를 다시 참고하면, 색필터(230) 위에 상부 절연층(370)이 위치한다. 상부 절연층(370)은 규소 질화물(SiNx) 또는 규소 산화물(SiOX)로 형성될 수 있다. 도 4에 도시한 바와 같이 상부 절연층(370)은 색필터(230)의 측면부를 덮을 수 있다. 도 2 및 도 4를 참고하면, 상부 절연층(370)은 표시 영역(DA)과 주변 영역(PA)에 모두 위치할 수 있다.
상부 절연층(370) 위에 캐핑층(390)이 위치한다. 캐핑층(390)은 액정 주입구(307FP)에도 위치하고, 액정 주입구(307FP)에 의해 노출된 미세 공간(305)의 입구부(307)를 덮는다. 캐핑층(390)은 유기 물질 또는 무기 물질을 포함한다. 여기서, 액정 주입구(307FP)에 액정 물질이 제거된 것으로 도시하였으나, 미세 공간(305)에 주입되고 남은 액정 물질이 액정 주입구(307FP)에 잔존할 수도 있다. 도 2 및 도 5를 참고하면, 캐핑층(390)의 상부면과 차단막(EB)의 상부면은 실질적으로 동일한 높이/레벨에 위치할 수 있다.
캐핑층(390) 위에 배리어층(395)을 형성할 수 있다. 배리어층(395)은 질화 규소(SiNx) 등을 포함할 수 있고, 외부의 수분 및 산소 등이 침투하는 것을 추가적으로 방지하는 역할을 한다.
본 실시예에서는 도 5에 도시한 바와 같이, 가로 방향으로 이웃하는 미세 공간(305) 사이에 한가지 색상의 색필터(230)에 의해 격벽부(PWP)가 형성되어 있다. 격벽부(PWP)는 격벽(Partition Wall)을 형성함으로써 미세 공간(305)을 구획 또는 정의할 수 있다. 본 실시예에서는 미세 공간(305) 사이에 격벽부(PWP)와 같은 격벽 구조가 있기 때문에 기판(110)이 휘더라도 발생하는 스트레스가 적고, 셀 갭(Cell Gap)이 변경되는 정도가 감소할 수 있다.
도 8은 도 5에서 설명한 실시예를 변형한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 8을 참고하면, 도 5에서 설명한 실시예와 대부분 동일하나 데이터선(171)이 뻗어 있는 방향을 따라 차광 부재(220)가 형성되어 있다. 차광 부재(220)는 제3 층간 절연막(180c) 또는 화소 전극(191) 위에 위치한다. 여기서 설명하는 차광 부재(220)는 게이트선(121) 방향을 따라 뻗어 있는 차광 부재(220)와 더불어 격자 모양으로 형성될 수 있다.
도 9는 도 2에서 설명한 실시예를 변형한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 9를 참고하면, 도 2에서 설명한 실시예와 대부분 동일하나 차단막(EB)과 대응하는 주변 영역(PA) 부분에 희생층 잔류 패턴(300r)과 투명 전극 패턴(270r)이 위치할 수 있다. 희생층 잔류 패턴(300r) 및 투명 전극 패턴(270r)은 절연막(181)과 하부 절연층(350) 사이에 위치한다. 희생층 잔류 패턴(300r)은 후술하는 도 13의 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 공정 단계에서 희생층(300)이 패터닝될 때 주변 영역(PA)에 남아 형성될 수 있다. 희생층 잔류 패턴(300r)은 포토 레지스트 물질 또는 이를 제외한 유기 물질로 형성할 수 있다. 투명 전극 패턴(270r)은 표시 영역(DA)에 위치하는 공통 전극(270)과 동일한 물질로 형성되고, 공통 전극(270)과 동일한 공정을 통해 형성될 수 있다.
도 10은 도 2에서 설명한 실시예를 변형한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 10을 참고하면, 도 2에서 설명한 실시예와 대부분 동일하나 차단막(EB)과 루프층을 형성하는 색필터(230)가 서로 이격되어 있다.
이하에서는 도 11 내지 도 37을 참고하여 앞에서 설명한 액정 표시 장치를 제조하는 방법에 대한 일실시예를 설명하기로 한다. 하기에 설명하는 실시예는 제조 방법의 일실시예로 다른 형태로 변형 실시 가능하다.
도 11 내지 도 37은 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 나타내는 평면도 및 단면도들이다. 도 11, 14, 17, 28, 31, 32, 35는 도 3의 절단선 IV-IV를 따라 자른 단면도를 순서대로 나타낸 것이다. 도 12, 15, 18, 29, 33, 36은 도 3의 절단선 V-V를 따라 자른 단면도이다. 도 19, 도 22, 도 25는 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에서 색필터 및 격벽부를 나타내는 평면도들이다. 도 20, 23, 26은 각각 도 19의 절단선 XX-XX을 따라 자른 단면도, 도 22의 절단선 XXIII-XXIII을 따라 자른 단면도 및 도 25의 절단선 XXVI-XXVI을 따라 자른 단면도이다. 도 21, 도 24, 도 27은 각각 주변 영역에서 색필터의 적층 공정을 나타내는 단면도이다.
도 3, 도 11 및 도 12를 참고하면, 기판(110) 위에 일반적으로 알려진 스위칭 소자를 형성하기 위해 가로 방향으로 뻗어 있는 게이트선(121), 게이트선(121) 위에 게이트 절연막(140)을 형성하고, 게이트 절연막(140) 위에 반도체층(151, 154)을 형성하고, 소스 전극(173) 및 드레인 전극(175)을 형성한다. 이 때 소스 전극(173)과 연결된 데이터선(171)은 게이트선(121)과 교차하면서 세로 방향으로 뻗도록 형성할 수 있다.
소스 전극(173), 드레인 전극(175) 및 데이터선(171)을 포함하는 데이터 도전체(171, 173, 175) 및 노출된 반도체층(154) 부분 위에는 제1 층간 절연막(180a)을 형성한다.
제1 층간 절연막(180a) 위에 제2 층간 절연막(180b) 및 제3 층간 절연막(180c)을 형성하고, 이들을 관통하는 접촉 구멍(185)을 형성한다. 이후, 제3 층간 절연막(180c) 위에 화소 전극(191)을 형성하고, 화소 전극(191)은 접촉 구멍(185)을 통해 드레인 전극(175)과 전기적, 물리적으로 연결될 수 있다.
화소 전극(191) 또는 제3 층간 절연막(180c) 위에 차광 부재(220)를 형성한다. 차광 부재(220)는 게이트선(121)이 뻗어 있는 방향을 따라 형성할 수 있다. 차광 부재(220)는 빛을 차단할 수 있는 물질로 형성할 수 있다. 차광 부재(220) 위에 절연막(181)을 형성하고, 이 절연막(181)은 차광 부재(220)를 덮으면서 화소 전극(191) 위로 연장되어 형성할 수 있다.
이후, 화소 전극(191) 위에 희생층(300)을 형성한다. 이 때, 희생층(300)에는 데이터선(171)과 평행한 방향을 따라 오픈부(OPN)를 형성한다. 오픈부(OPN)에는 이후 공정에서 색필터(230)가 채워져 격벽부(PWP)를 형성할 수 있다. 희생층(300)은 포토 레지스트 물질 또는 이를 제외한 유기 물질로 형성할 수 있다.
도 13을 참고하면, 주변 영역(PA)에서는 기판(110) 위에 게이트 절연막(140), 제1 층간 절연막(180a), 제2 층간 절연막(180b), 제3 층간 절연막(180c), 차광 부재(220) 및 절연막(180)이 형성될 수 있다.
도 3, 도 14 및 도 15를 참고하면, 희생층(300) 위에 공통 전극(270) 및 하부 절연층(350)을 차례로 형성한다. 도 14에 도시한 바와 같이 공통 전극(270)은 하부 절연층(350)은 오픈부(OPN)을 덮을 수 있다. 도 16을 참고하면, 표시 영역(DA)의 하부 절연층(350)은 주변 영역(PA)까지 연장하여 형성할 수 있다.
도 3, 도 17 및 도 18을 참고하면, 하부 절연층(350) 위에 색필터(230)를 형성한다. 색필터(230)는 패터닝 공정 또는 노광/현상 공정에 의해 세로 방향으로 이웃하는 화소 영역 사이에 위치하는 차광 부재(220)와 대응하는 영역에서 제거될 수 있다. 도 17에 도시한 바와 같이, 색필터(230)는 차광 부재(220)와 대응하는 영역에서 하부 절연층(350)을 외부로 노출시킨다. 이 때, 도 18에 도시한 바와 같이 색필터(230)는 세로 차광 부재(220b)의 오픈부(OPN)를 채우면서 격벽부(PWP)를 형성한다. 본 실시예에서 오픈부(OPN)를 채우는 색필터는 한가지 색상의 색필터(230)이다. 격벽부(PWP)를 형성하는 색필터(230)와 이웃하는 색필터(230)는 격벽부(PWP) 위에서 서로 중첩할 수 있다. 다만, 변형된 실시예로 서로 이웃하는 색필터(230)가 격벽부(PWP) 위에서 이격되도록 형성할 수도 있다.
이하에서는 도 19 내지 도 27을 참고하여 본 발명의 일실시예에 따른 색필터(230) 및 차단막(EB)을 제조하는 과정에 대해 상세히 설명하기로 한다.
도 19 및 도 20을 참고하면, 희생층(300) 위에 청색 색필터(B)를 형성한다. 이 때, 가로 방향으로 이격된 희생층(300) 사이의 이격 공간을 채우도록 청색 색필터(B)를 형성한다. 청색 색필터(B)는 복수의 화소 영역(PX) 가운데 일부에 형성되고, 화소 영역(PX)에 대응하여 형성된 청색 색필터(B)가 연장되어 격벽부(PWP)를 형성한다. 또한, 청색 색필터(B)가 형성되지 않은 두 화소 영역(PX) 사이에는 격벽부(PWP)만 분리하여 형성한다. 청색 색필터(B)가 연장되어 형성된 격벽부(PWP)와 분리된 격벽부(PWP)는 하나의 마스크를 사용하여 형성하는 것이 바람직하다.
이 때, 도 21을 참고하면, 주변 영역(PA)에 청색 색필터(B)를 형성할 수 있다. 여기서, 표시 영역(PA)의 청색 색필터(B)와 주변 영역(PA)의 청색 색필터(B)는 동일한 물질로 동일한 공정으로 형성할 수 있으며, 서로 연결될 수 있다.
도 22 및 도 23을 참고하면, 희생층(300) 위에 적색 색필터(R)를 형성한다. 적색 색필터(R)는 격벽부(PWP)와 중첩하도록 형성하며, 청색 색필터(B)와 격벽부(PWP) 위에서 중첩할 수 있다.
이 때, 도 24를 참고하면, 주변 영역(PA)에서 적색 색필터(R)를 청색 색필터(B) 위에 형성할 수 있다. 적색 색필터(R)는 청색 색필터(B)의 측면을 덮을 수 있다.
도 25 및 도 26을 참고하면, 희생층(300) 위에 녹색 색필터(G)를 형성한다. 녹색 색필터(G)는 격벽부(PWP)와 중첩하도록 형성하며, 청색 색필터(B) 및 적색 색필터(R)와 각각 격벽부(PWP) 위에서 중첩할 수 있다.
이 때, 도 27을 참고하면, 주변 영역(PA)에서 녹색 색필터(G)를 적색 색필터(R) 위에 형성할 수 있다. 녹색 색필터(G)는 청색 색필터(B) 및 적색 색필터(R)의 측면을 덮을 수 있다.
앞에서 설명한 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)의 형성 위치 및 순서는 변경 가능하다. 또한, 도 26에서 도시한 바와 달리 청색 색필터(B), 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)의 두께가 서로 다를 수 있다. 청색 색필터(B), 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)의 두께를 서로 다르게 하는 이유는 각각의 색필터에서 색좌표의 조정을 위한 것일 수 있다. 또는 청색 색필터(B), 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)의 높이가 서로 다를 수 있다. 이 때, 각각의 색필터의 높이를 서로 다르게 하기 위해 각각의 색필터(R, G, B)에 대응하는 희생층(300)의 두께를 다르게 할 수 있다. 이후, 희생층(300)이 제거되면 서로 다른 높이의 미세 공간(305)을 가질 수 있고, 그 위에 위치하는 각각의 색필터의 높이도 서로 다를 수 있다.
다음으로, 도 3, 도 28 및 도 29를 참고하면, 색필터(230)와 노출된 하부 절연층(350) 위를 덮도록 상부 절연층(370)을 형성한다.
이 때, 도 30을 참고하면, 표시 영역(DA)의 상부 절연층(370)은 주변 영역(PA)까지 연장하여 형성할 수 있다. 주변 영역(PA)에 형성되는 상부 절연층(370)은 청색 색필터(B), 적색 색필터(R) 및 녹색 색필터(G)를 포함하는 유기층의 측면 및 상부면을 덮을 수 있다.
도 31을 참고하면, 상부 절연층(370), 하부 절연층(350) 및 공통 전극(270)을 식각하여 상부 절연층(370), 하부 절연층(350) 및 공통 전극(270)이 부분적으로 제거됨으로써 액정 주입구(307FP)를 형성한다. 이 때, 상부 절연층(370)이 색필터(230)의 측면을 덮는 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되지 않고 색필터(230)의 측면을 덮고 있던 상부 절연층(370)이 제거되어 색필터(230)의 측면이 외부로 노출되도록 할 수도 있다.
도 32 내지 도 34를 참고하면, 액정 주입구(307FP)을 통해 희생층(300)을 산소(O2) 애싱(Ashing) 처리 또는 습식 식각법 등으로 제거한다. 이 때, 입구부(307)를 갖는 미세 공간(305)이 형성된다. 미세 공간(305)은 희생층(300)이 제거되어 빈 공간 상태이다.
도 35 내지 도 37을 참고하면, 입구부(307)를 통해 배향 물질을 주입하여 소 전극(191) 및 공통 전극(270) 위에 배향막(11, 21)을 형성한다. 구체적으로, 입구부(307)를 통해 고형분과 용매를 포함하는 배향 물질을 주입한 후에 베이크 공정을 수행한다.
그 다음, 입구부(307)를 통해 미세 공간(305)에 잉크젯 방법 등을 사용하여 액정 분자(310)를 포함하는 액정 물질을 주입한다.
이후, 상부 절연층(370) 위에 입구부(307) 및 액정 주입구(307FP)을 덮도록 캐핑층(390) 및 배리어층(395)을 형성하면 도 2, 도 4 및 도 5와 같은 액정 표시 장치를 형성할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
300 희생층 305 미세 공간(microcavity)
307 액정 주입구 350 하부 절연층
370 상부 절연층 390 캐핑층

Claims (28)

  1. 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판,
    상기 기판 위에 위치하는 박막 트랜지스터,
    상기 박막 트랜지스터와 연결되는 화소 전극,
    상기 화소 전극과 마주보며 위치하는 루프층,
    상기 루프층 위에 위치하는 캐핑층 그리고
    상기 주변 영역에 위치하고, 상기 캐핑층의 측면부를 둘러싸는 차단막을 포함하고,
    상기 표시 영역에는 상기 화소 전극과 상기 루프층 사이에 복수의 미세 공간(Microcavity)이 형성되어 있고, 상기 미세 공간은 액정 물질을 포함하는 액정층을 형성하고,
    상기 차단막의 상부면 레벨은 상기 액정층의 상부면 레벨보다 높은 액정 표시 장치.
  2. 제1항에서,
    상기 표시 영역에서
    상기 루프층 아래 위치하는 하부 절연층 그리고
    상기 루프층 위에 위치하는 상부 절연층을 더 포함하고,
    상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층을 무기막으로 형성되고,
    상기 차단막은 상기 하부 절연층, 상기 루프층 및 상기 상부 절연층과 대응하는 유무기 구조층을 포함하는 액정 표시 장치.
  3. 제2항에서,
    상기 유무기 구조층은 제1 무기층, 유기층 및 제2 무기층을 포함하고, 상기 제1 무기층은 상기 하부 절연층에 대응하고, 상기 제2 무기층은 상기 상부 절연층에 대응하며, 상기 유기층은 적어도 하나의 색필터를 포함하는 액정 표시 장치.
  4. 제3항에서,
    상기 제1 무기층은 상기 하부 절연층과 연결되고, 상기 제2 무기층은 상기 상부 절연층과 연결되는 액정 표시 장치.
  5. 제4항에서,
    상기 유기층은 서로 다른 색상을 갖는 색필터가 적층된 구조를 포함하는 액정 표시 장치.
  6. 제5항에서,
    상기 루프층은 색필터를 포함하는 액정 표시 장치.
  7. 제6항에서,
    상기 복수의 미세 공간은 격벽부에 의해 구획되고,
    상기 격벽부는 상기 색필터 중에서 한가지 색상의 색필터에 의해 형성되는 액정 표시 장치.
  8. 제7항에서,
    상기 격벽부는 서로 이웃하는 미세 공간 사이의 이격 공간을 상기 한가지 색상의 색필터가 채우는 부분인 액정 표시 장치.
  9. 제8항에서,
    상기 격벽부는 상기 박막 트랜지스터와 연결되는 데이터선이 뻗는 방향을 따라 형성되는 액정 표시 장치.
  10. 제3항에서,
    상기 제2 무기층은 상기 유기층의 상부면 및 측면을 덮는 액정 표시 장치.
  11. 제1항에서,
    상기 캐핑층 상부면 위에 위치하는 배리어층을 더 포함하고, 상기 배리어층은 질화 규소를 포함하는 액정 표시 장치.
  12. 제1항에서,
    상기 캐핑층의 상부면과 상기 차단막의 상부면은 동일한 레벨에 위치하는 액정 표시 장치.
  13. 제1항에서,
    상기 루프층 아래 위치하는 하부 절연층 그리고
    상기 루프층 위에 위치하는 상부 절연층을 더 포함하고,
    상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층을 무기막으로 형성되고,
    상기 차단막은 상기 표시 영역에서 연장된 상기 하부 절연층, 유기층 및 상기 표시 영역에서 연장된 상기 상부 절연층을 포함하는 유무기 구조층이고,
    상기 유기층은 서로 다른 색상을 갖는 색필터가 적층된 구조를 포함하고, 상기 색필터 중 하나가 상기 루프층과 연결되는 액정 표시 장치.
  14. 제13항에서,
    상기 유무기 구조층 아래 위치하는 투명 전극 패턴을 더 포함하는 액정 표시 장치.
  15. 제14항에서,
    상기 유무기 구조층 아래 위치하는 희생층 잔류 패턴을 더 포함하는 액정 표시 장치.
  16. 제1항에서,
    상기 차단막과 상기 표시 영역에 위치하는 상기 루프층은 서로 이격되어 있는 액정 표시 장치.
  17. 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판 위에 박막 트랜지스터를 형성하는 단계,
    상기 박막 트랜지스터와 연결되도록 화소 전극을 형성하는 단계,
    상기 화소 전극 위에 희생층을 형성하는 단계,
    상기 희생층 위에 상기 표시 영역에 위치하는 루프층을 형성하는 단계,
    상기 주변 영역에 위치하는 차단막을 형성하는 단계,
    상기 희생층을 제거하여 복수의 미세 공간(Microcavity)을 형성하는 단계,
    상기 복수의 미세 공간에 액정 물질을 주입하여 액정층을 형성하는 단계 그리고
    상기 루프층 위에 캐핑층을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 루프층을 형성하는 단계와 상기 차단막을 형성하는 단계는 동시에 수행하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제17항에서,
    상기 루프층을 형성하는 단계는
    상기 희생층 위에 제1 색필터를 형성하는 단계,
    상기 희생층 위에 제2 색필터를 형성하는 단계 그리고
    상기 희생층 위에 제3 색필터를 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 차단막을 형성하는 단계는 상기 주변 영역에 상기 제1 색필터, 상기 제2 색필터 및 상기 제3 색필터가 적층되는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제18항에서,
    상기 루프층 아래 위치하는 하부 절연층을 형성하는 단계 그리고
    상기 루프층 위에 위치하는 상부 절연층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층은 무기막으로 형성하고,
    상기 표시 영역에 형성된 상기 하부 절연층 및 상기 상부 절연층이 연장되어 상기 주변 영역에 위치하는 색필터와 함께 상기 차단막을 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제19항에서,
    상기 희생층을 형성하는 단계는 상기 박막 트랜지스터에 연결되는 데이터선을 따라 위치하는 오픈부를 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 제1 색필터, 상기 제2 색필터 및 상기 제3 색필터 중 하나의 색필터가 상기 오픈부를 채우는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  21. 제20항에서,
    상기 오픈부를 채우는 색필터는 격벽부를 형성하고, 상기 격벽부는 상기 복수의 미세 공간을 구획하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  22. 제21항에서,
    상기 차단막의 상부면 레벨이 상기 액정층의 상부면 레벨보다 높도록 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  23. 제19항에서,
    상기 주변 영역에 위치하는 상기 색필터와 상기 표시 영역에 위치하는 상기 제1 색필터, 상기 제2 색필터 및 상기 제3 색필터 중 하나가 연결되는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  24. 제23항에서,
    상기 차단막 아래 위치하는 투명 전극 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  25. 제24항에서,
    상기 희생층을 형성하는 단계는 상기 주변 영역에 희생층 잔류 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  26. 제17항에서,
    상기 캐핑층의 상부면 위에 배리어층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 배리어층은 질화 규소를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  27. 제17항에서,
    상기 캐핑층의 상부면과 상기 차단막의 상부면은 동일한 레벨에 위치하도록 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  28. 제17항에서,
    상기 루프층을 형성하는 단계는 상기 차단막과 상기 루프층이 이격되되도록 형성하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
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