CN105549242A - 液晶显示器 - Google Patents

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CN105549242A
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liquid crystal
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color filter
crystal display
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宋大镐
权成圭
金容奭
朴宰彻
洪锡埈
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Samsung Display Co Ltd
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Abstract

本发明提供了一种液晶显示器，该液晶显示器包括：基板，配置为包括显示区域和外围区域；薄膜晶体管，设置在基板上；像素电极，连接到薄膜晶体管；顶层，设置为面对像素电极；覆盖层，设置在顶层上；以及阻挡膜，设置在外围区域中以围绕覆盖层的侧表面，其中多个微腔在显示区域中形成在像素电极和顶层之间，包含液晶材料的液晶层被容纳在微腔中，其中阻挡膜的顶表面的高度比液晶层的顶表面的高度高。

Description

液晶显示器
技术领域
本申请涉及液晶显示器及其制造方法。
背景技术
作为被广泛使用的平板显示装置中的一种，液晶显示器包括两个显示面板，其中场产生电极诸如像素电极和公共电极被形成，液晶层插置在其间。
液晶显示器通过施加电压到场产生电极而在液晶层中产生电场以确定液晶层的液晶分子的取向并控制入射光的偏振，从而显示图像。
在像素中形成空腔并用液晶填充该空腔以实现显示器的技术已经被发展用于其中一种液晶显示器。尽管在常规液晶显示器中使用两片基板，但是这种技术也可以在一个基板上形成组成元件，从而减轻装置的重量、厚度等。
通过在微腔中填充液晶分子来形成显示器的工艺包括在注入液晶分子之后形成覆盖层的步骤。然而，在当前采用的覆盖层的情况下，难以充分地阻挡外部氧和湿气，从而产生可靠性问题。
在本背景部分中公开的以上信息仅用于增强对背景的理解，因此，它可以包含不构成对于本领域普通技术人员而言在该国中众所周知的现有技术的信息。
发明内容
实施方式试图提供液晶显示器及其制造方法，具有能够通过阻挡外部氧和湿气而改善可靠性的特征。
示范性实施方式提供一种液晶显示器，该液晶显示器包括：基板，配置为包括显示区域和外围区域；薄膜晶体管，设置在基板上；像素电极，连接到薄膜晶体管；顶层，设置为面对像素电极；覆盖层，设置在顶层上；以及阻挡膜，设置在外围区域中以围绕覆盖层的侧表面，其中多个微腔在显示区域中形成在像素电极和顶层之间，在微腔中容纳包含液晶材料的液晶层，其中阻挡膜的顶表面的高度比液晶层的顶表面的高度高。
液晶显示器还可以在显示区域中包括：下绝缘层，设置在顶层下面；以及上绝缘层，设置在顶层上，其中下绝缘层和上绝缘层可以由无机膜制成，阻挡膜可以包括有机/无机结构层，该有机/无机结构层设置为对应于下绝缘层、顶层和上绝缘层。
无机/有机结构层可以包括第一无机层、有机层和第二无机层，第一无机层可以设置为对应于下绝缘层，第二无机层可以设置为对应于上绝缘层，有机层包括至少一个滤色器并且对应于所述顶层。
第一无机层可以连接到下绝缘层，第二无机层可以连接到上绝缘层。
有机层可以具有不同颜色的滤色器堆叠在该处的结构。
顶层可以包括滤色器。
微腔可以通过分隔部分被划分，分隔部分可以通过滤色器当中具有单一颜色的滤色器形成。
分隔部分可以是通过用具有单一颜色的所述滤色器填充相邻微腔之间的空间而形成的部分。
分隔部分可以沿连接到薄膜晶体管的数据线延伸的方向形成。
第二无机层可以设置为覆盖有机层的顶表面和侧表面。
液晶显示器还可以包括设置在覆盖层的顶表面上的屏障层(barrierlayer)，屏障层可以包括硅氮化物。
覆盖层和阻挡膜的顶表面可以设置在相同水平处。
液晶显示器还可以包括：下绝缘层，设置在顶层下面；和上绝缘层，设置在顶层上，其中下绝缘层和上绝缘层可以由无机膜制成，阻挡膜可以是包括从显示区域延伸的下绝缘层、有机层和从显示区域延伸的上绝缘层的有机/无机结构层，有机层可以具有不同颜色的滤色器可堆叠在该处的结构，滤色器中的其中之一可以连接到顶层。
液晶显示器还可以包括设置在有机/无机结构层下面的透明电极图案。
液晶显示器还可以包括设置在有机/无机结构层下面的牺牲层剩余图案。
设置在显示区域中的阻挡膜和顶层可以彼此分离。
示范性实施方式提供一种液晶显示器的制造方法，该制造方法包括：在包括显示区域和外围区域的基板上形成薄膜晶体管；形成连接到薄膜晶体管的像素电极；在像素电极上形成牺牲层；在设置于显示区域中的牺牲层上形成顶层；形成设置于外围区域中的阻挡膜；去除牺牲层以形成多个微腔；通过注入液晶材料到微腔中而形成液晶层；以及在顶层上形成覆盖层，其中顶层的形成和阻挡膜的形成被同时进行。
顶层的形成可以包括：在牺牲层上形成第一滤色器；在牺牲层上形成第二滤色器；以及在牺牲层上形成第三滤色器，阻挡膜的形成可以包括在外围区域中堆叠第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器。
该制造方法还可以包括：形成设置在顶层下面的下绝缘层；和形成设置在顶层上的上绝缘层，其中下绝缘层和上绝缘层可以由无机膜制成，形成在显示区域中的下绝缘层和上绝缘层可以延伸以与设置在外围区域中的滤色器一起形成阻挡膜。
牺牲层的形成可以包括形成根据连接到薄膜晶体管的数据线设置的开口部分，开口部分可以用第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器中的其中之一填充。
填充开口部分的滤色器可以形成分隔部分，分隔部分可以划分微腔。
阻挡膜可以形成为具有比液晶层的顶表面高的水平的顶表面。
设置在外围区域中的滤色器可以连接到第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器中的其中之一。
该制造方法还可以包括形成设置在阻挡膜下面的透明电极图案。
牺牲层的形成还可以包括在外围区域中形成牺牲层剩余图案。
该制造方法还可以包括在覆盖层的顶表面上形成屏障层，屏障层可以包括硅氮化物。
覆盖层和阻挡膜的顶表面可以设置在相同的水平。
顶层的形成可以包括形成与阻挡膜分离的顶层。
根据示范性实施方式，可以通过在外围区域处形成阻挡膜而阻挡湿气和氧渗入显示区域的边缘中，从而改善元件的可靠性。此外，由于阻挡膜在有机膜和无机膜形成在显示区域时的相同工艺中形成，所以不需要额外的掩模。
附图说明
图1是部分地示出根据示范性实施方式的液晶显示器中的外围区域和显示区域的俯视平面图；
图2是沿图1的线II-II截取的截面图；
图3是示出图1中示出的区域A的俯视平面图；
图4是沿图3的线IV-IV截取的截面图；
图5是沿图3的线V-V截取的截面图；
图6是根据示范性实施方式的液晶显示器中的滤色器和分隔部分的俯视平面图；
图7是沿线图6的线VII-VII截取的截面图；
图8是根据图5的示范性实施方式的变型示范性实施方式的截面图；
图9是根据图2的示范性实施方式的变型示范性实施方式的截面图；
图10是根据图2的示范性实施方式的变型示范性实施方式的截面图；
图11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、24、25、26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36和37是示出根据示范性实施方式的液晶显示器的制造方法的俯视平面图和截面图。
具体实施方式
在下文，将参照附图详细描述示范性实施方式。如本领域技术人员将了解的，所描述的实施方式可以以各种不同的方式修改，均不背离本发明构思的精神或范围。相反地，这里引入的实施方式被提供以使所公开的内容彻底和完整并将本发明构思的精神充分地传达给本领域技术人员。
在附图中，为了清晰，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。将理解，当一层被称为“在”另一层或基板“上”时，它可以直接在所述另一层或基板上，或还可以存在居间元件。同样的附图标记在说明书中始终指代同样的元件。
图1是部分地示出根据示范性实施方式的液晶显示器中的外围区域PA和显示区域DA的俯视平面图。图2是沿图1的线II-II截取的截面图。
参照图1和图2，根据本示范性实施方式的液晶显示器可以包括：液晶面板组件400；栅驱动器(未示出)和数据驱动器(未示出)，连接到液晶面板组件400；灰度电压产生器(未示出)，连接到数据驱动器；光源单元(未示出)，发射光到液晶面板组件400；光源驱动器(未示出)，控制光源单元；以及信号控制器(未示出)，控制以上部件。
栅驱动器或数据驱动器可以形成在液晶面板组件400上，并可以形成为单独的集成电路芯片。
液晶面板组件400的基板110包括显示区域DA和设置为围绕显示区域DA的外围区域PA。显示区域DA是输出实际图像的区域，在外围区域PA中，形成上述栅驱动器或数据驱动器，或者包括栅焊盘、数据焊盘等的定位栅焊盘部分121P、数据焊盘部分171P，其中所述栅焊盘、数据焊盘等是连接到外部电路的部分。栅焊盘是位于栅线121的端部的较宽部分，数据焊盘是位于数据线171的端部的较宽部分。
根据本示范性实施方式的液晶显示器包括：第一无机层350，有时被称为下绝缘层350；有机膜，其中滤色器R、G和B堆叠在外围区域PA中；以及阻挡膜EB，包括有时被称为上绝缘层370的第二无机层370。第一无机层350表示设置在显示区域DA中并延伸以位于外围区域PA中的无机膜。第二无机层370表示设置在显示区域DA中并延伸以位于外围区域PA中的无机膜。当具有不同滤色器的滤色器堆叠在有机膜中时，滤色器的堆叠顺序可以改变。
在本示范性实施方式中，描述了具有有机膜和无机膜两者的阻挡膜EB。然而，本发明构思不限于此。例如，可以省略无机膜中的至少一个。无机膜中的包括在阻挡膜EB中的下绝缘层350和上绝缘层370可以包括硅氮化物(SiNx)。
包括在阻挡膜EB中的无机膜还可以包括设置在设置于外围区域PA中的下绝缘层350下面的第三层间绝缘层180c。
在本示范性实施方式中，形成为滤色器的顶层(rooflayer)230设置在微腔305上，微腔305用作对应于包括液晶分子310的液晶层的空间，覆盖层390设置在顶层230上。在本示范性实施方式中，阻挡膜EB的顶表面的高度(level)可以比包括液晶分子310的液晶层的高度高，阻挡膜EB具有这样的结构从而围绕覆盖层390的侧表面。因此，在根据本示范性实施方式的液晶显示器中，由于显示区域DA的外周部分被阻挡膜EB围绕，所以能够防止湿气和氧渗入显示区域DA的侧表面中。因而，可以防止液晶显示器的元件的可靠性降低。
顶层230形成在对应于微腔305的部分处以包括一个滤色器。然而，阻挡膜EB可以包括一个或多个滤色器。
在下文，将参照图3至图5详细描述设置在液晶显示器的显示区域DA中的组成元件。
图3是示出图1中所示的区域A的俯视平面图。图4是沿图3的线IV-IV截取的截面图。图5是沿图3的线V-V截取的截面图。
图3示出2×2像素部分作为多个像素的中央部分，这些像素可以在根据示范性实施方式的液晶显示器中上下左右地重复布置。
参照图3至图5，栅线121和存储电极线131形成在由透明玻璃或塑料制成的基板110上。栅线121包括栅电极124。存储电极线131主要在水平方向上延伸，并传输预定电压诸如公共电压Vcom。存储电极线131包括基本上延伸为垂直于栅线121的一对垂直存储电极部分135a以及将该对垂直存储电极部分135a的端部连接到彼此的水平存储电极部分135b。垂直存储电极部分135a和水平存储电极部分135b具有围绕像素电极191的结构。
栅绝缘层140形成在栅线121和存储电极线131上。位于数据线171下面的半导体层151以及位于源电极/漏电极173/175下面并对应于薄膜晶体管Q的沟道区的半导体层154形成在栅绝缘层140上。
多个欧姆接触可以形成在半导体层151和数据线171之间以及在源电极/漏电极173/175下面并对应于沟道区的半导体层154与源电极/漏电极173/175之间，并且在附图中被省略。
包括源电极173、连接到源电极173的数据线171、以及漏电极175的数据导体171、173和175形成在半导体层151和154以及栅绝缘层140上。
栅电极124、源电极173和漏电极175与半导体层154一起形成薄膜晶体管Q，薄膜晶体管Q的沟道形成在半导体层的在源电极173和漏电极175之间的暴露部分中。
第一层间绝缘层180a形成在数据导体171、173和175以及暴露的半导体层154上。第一层间绝缘层180a可以包括无机绝缘体诸如硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)。
第二层间绝缘层180b和第三层间绝缘层180c可以位于第一层间绝缘层180a上。第二层间绝缘层180b可以由有机材料形成，第三层间绝缘层180c可以包括无机绝缘体诸如硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)。第二层间绝缘层180b由有机材料形成，从而减少或除去台阶。不同于本示范性实施方式，第一层间绝缘层180a、第二层间绝缘层180b和第三层间绝缘层180c中的一个或两个可以被省略。
可以形成穿过第一层间绝缘层180a、第二层间绝缘层180b和第三层间绝缘层180c的接触孔185。位于第三层间绝缘层180c上的像素电极191可以通过接触孔185而电地和物理地连接到漏电极175。此后，将详细地描述像素电极191。
像素电极191可以由透明导电材料诸如ITO或IZO制成。
像素电极191的总体形状为四边形，像素电极191包括由水平主干(stem)191a和交叉水平主干191a的垂直主干191b构造的十字形主干。此外，像素电极191通过水平主干191a和垂直主干191b被分成四个子区域，每个子区域包括多个微细分支191c。在本示范性实施方式中，像素电极191还可以包括在像素电极191的左右边缘处连接微细分支191c的外主干191d。在本示范性实施方式中，外主干191d位于像素电极191的左边缘和右边缘，然而它可以设置为延伸到像素电极191的上部分或下部分。
像素电极191的微细分支191c与栅线121或水平主干191a形成大致40°至45°的角度。此外，两个相邻子区域的微细分支可以彼此垂直。此外，每个细微分支的宽度可以逐渐增大，或者微细分支191c之间的距离可以改变。
像素电极191包括延伸部197，延伸部197连接在垂直主干191b的下端，具有比垂直主干191b大的面积，并通过在延伸部197处的接触孔185电地和物理地连接到漏电极175，从而从漏电极175接收数据电压。
以上描述的薄膜晶体管Q和像素电极191仅是示例，薄膜晶体管的结构和像素电极的设计可以改变以便改善侧可视性。
光阻挡构件220设置在像素电极191上以覆盖形成薄膜晶体管Q的区域。根据本示范性实施方式的光阻挡构件220可以沿栅线121延伸的方向形成。光阻挡构件220可以由阻挡光的材料形成。
绝缘层181可以形成在光阻挡构件220上，覆盖光阻挡构件220的绝缘层181可以在像素电极191上延伸。绝缘层181可以由硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)形成。
下配向层11形成在像素电极191上，可以是垂直配向层。下配向层11，作为由诸如聚酰胺酸、聚硅氧烷、聚酰亚胺等制成的液晶配向层，可以包括通常使用的材料中的至少一种。此外，下配向层11可以是光配向层。
上配向层21设置在面对下配向层11的部分处，微腔305形成在下配向层11和上配向层21之间。包括液晶分子310的液晶材料被注入到微腔305中，微腔305具有入口区307。微腔305可以沿像素电极191的列方向(也就是，在竖直方向上)形成。在本示范性实施方式中，形成配向层11和21的配向材料以及包括液晶分子310的液晶材料可以通过使用毛细管力而被注入到微腔305中。在本示范性实施方式中，下配向层11和上配向层21仅根据位置区分，并可以如图5所示地连接到彼此。下配向层11和上配向层21可以被同时形成。
微腔305通过位于交叠栅线121的部分处的多个液晶注入部分307FP而在竖直方向上被划分，从而形成多个微腔305，所述多个微腔305可以沿像素电极191的列方向(也就是，在竖直方向上)形成。此外，微腔305通过将在后面描述的分隔部分PWP而在水平方向上被划分，从而形成所述多个微腔305，微腔305可以沿像素电极191的行方向(也就是，栅线121延伸的水平方向)形成。所形成的微腔305可以分别对应于一个或多个像素区域，像素区域可以对应于显示图像的区域。
公共电极270和下绝缘层350位于上配向层21上。公共电极270接收公共电压，并与施加有数据电压的像素电极191一起产生电场以确定位于两个电极270、191之间的微腔305处的液晶分子310倾斜的方向。公共电极270与像素电极191一起形成电容器，从而即使在薄膜晶体管Q被截止之后仍保持所接收的电压。
下绝缘层350可以由硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)形成。参照图2和图4，下绝缘层350可以设置在显示区域DA和外围区域PA两者中。
在本示范性实施方式中，描述了公共电极270形成在微腔305上，但是在另一示范性实施方式中，公共电极270形成在微腔305下面，使得根据共平面电极(CE)模式的液晶驱动是可能的。
在本示范性实施方式中，滤色器230，也被称为顶层230，设置在下绝缘层350上。如图5所示，在彼此相邻的滤色器当中，其中一种颜色的滤色器230形成分隔部分PWP。分隔部分PWP被设置于在水平方向上相邻的微腔305之间。分隔部分PWP是填充在水平方向上相邻的微腔305的分离空间的部分。如图5所示，分隔部分PWP完全地填充微腔305的分离空间，然而其不限于此，其可以部分地填充分离空间。分隔部分PWP可以沿数据线171延伸的方向形成。
在分隔部分PWP上彼此相邻的滤色器230可以交叠。相邻滤色器230彼此相接的边界面可以位于与分隔部分PWP相应的部分处。
在本示范性实施方式中，滤色器230和分隔部分PWP用作支撑微腔305的顶层以保持其形状。
下面，将参照图6和图7描述根据示范性实施方式的滤色器230。
图6是根据示范性实施方式的液晶显示器中的滤色器230和分隔部分PWP的俯视平面图。图7是沿图6的线VII-VII截取的截面图。
图6和图7是示意地说明根据示范性实施方式的液晶显示器中的滤色器230和分隔部分PWP的视图，基板110和微腔305之间的组成元件可以原样地以图3至图5中的描述的状态应用。
参照图6和图7，根据本示范性实施方式的滤色器230包括第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器，第一滤色器可以包括蓝色滤色器B，第二滤色器可以包括红色滤色器R，第三滤色器可以包括绿色滤色器G。
根据本示范性实施方式，分隔部分PWP通过第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器当中的任一个形成。在示范性实施方式中，对应于蓝色滤色器B的第一滤色器形成分隔部分PWP。蓝色滤色器B可以包括从与像素区域PX相应的部分延伸的分隔部分PWP以及位于红色滤色器R和绿色滤色器G之间的分隔部分PWP。在这种情况下，覆盖分隔部分PWP中彼此相对的边缘的红色滤色器R和绿色滤色器G同时彼此相邻，并可以在分隔部分PWP上交叠。
可以形成由红色滤色器R或绿色滤色器G而不是由蓝色滤色器B制成的分隔部分PWP。然而，蓝色滤色器B具有与红色滤色器R或绿色滤色器G相比更大的阻挡效果，因此如果分隔部分PWP由蓝色滤色器B形成，则具有减少光的反射的优点。此外，蓝色滤色器B具有滤色器的光致抗蚀剂的优良流动性以及光阻挡效果，从而获得优良的渐缩角度。因此，与形成分隔部分PWP的滤色器的端部形状被底切或者是垂直的情形相比，滤色器的端部以超过约45度的角度倾斜，所以可以良好地形成涂覆在分隔部分PWP上同时覆盖分隔部分PWP的侧壁的滤色器。
如图6所示，滤色器230可以形成为具有对应于像素区域PX的岛形。
本发明构思不限于上述示范性实施方式。例如，邻近每个分隔部分PWP的滤色器230可以形成分隔部分PWP。
参照图2和图7，蓝色滤色器B、红色滤色器R和绿色滤色器G的每个可以用来通过形成显示区域DA中的顶层而支撑微腔305，并可以通过形成滤色器B、R和G堆叠在外围区域PA中的结构而用作阻挡膜EB。
再次参照图4和图5，上绝缘层370设置在滤色器230上。上绝缘层370可以由硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)形成。如图4所示，滤色器230的侧表面可以被覆盖。参照图2和图4，上绝缘层370可以设置在显示区域DA和外围区域PA两者中。
覆盖层390位于上绝缘层370上。覆盖层390还位于液晶注入部分307FP以及微腔305的通过液晶注入部分307FP暴露的入口区307处。覆盖层390包括有机材料或无机材料。这里，在液晶注入部分307FP中的液晶材料被除去，但是在被注入到微腔305之后保留的液晶材料可以保留在液晶注入部分307FP处。参照图2和图5，覆盖层390的顶表面和阻挡膜EB的顶表面可以设置在基本相同的高度/水平处。
屏障层(barrierlayer)395可以形成在覆盖层390上。屏障层395可以包括硅氮化物(SiNx)等以用来另外地防止外部湿气和氧透过。
在本示范性实施方式中，如图5所示，分隔部分PWP通过设置于在水平方向上彼此相邻的微腔305之间的具有单一颜色的滤色器230形成。分隔部分PWP能够通过形成分隔壁而分隔或限定微腔305。在本示范性实施方式中，分隔结构诸如分隔部分PWP设置在微腔305之间。因此，尽管基板110被弯曲，也可以产生更少的应力并且可以降低单元间隙变形的程度。
图8是图5的示范性实施方式的变型示范性实施方式的截面图。
参照图8，本示范性实施方式与图5中描述的示范性实施方式的大部分相同。然而，光阻挡构件220沿数据线171延伸的方向形成。光阻挡构件220位于第三层间绝缘层180c或像素电极191上。这里描述的光阻挡构件220可以由在栅线121的方向上延伸的网格形状形成。
图9是图2的示范性实施方式的变型示范性实施方式的截面图。
参照图9，该变型示范性实施方式与图2的示范性实施方式大部分相同。然而，在该变型示范性实施方式中，牺牲层剩余图案300r和透明电极图案270r可以设置在外围区域PA的一部分处以对应于阻挡膜EB。牺牲层剩余图案300r和透明电极图案270r设置在绝缘层181和下绝缘层350之间。牺牲层剩余图案300r可以通过在随后将描述的根据图13的示范性实施方式的液晶显示器的制造工艺中在图案化牺牲层300时保留在外围区域PA中而形成。牺牲层剩余图案300r可以通过采用光致抗蚀剂材料或除其之外的有机材料形成。透明电极图案270r可以通过采用与设置在显示区域DA中的公共电极270相同的材料经由相同的工艺形成。
图10是图2的示范性实施方式的变型示范性实施方式的截面图。
参照图10，该变型示范性实施方式与图2的示范性实施方式大部分相同。然而，在该变型示范性实施方式中，阻挡膜EB和形成顶层的滤色器230设置为彼此分离。
接下来，将参照图11至图37描述上述液晶显示器的制造方法的示范性实施方式。下面描述的示范性实施方式可以变化为制造方法的示范性实施方式。
图11至图37是示出根据示范性实施方式的液晶显示器的制造方法的俯视平面图和截面图。图11、14、17、28、31、32和35顺序地示出沿图3的线IV-IV截取的截面图。图12、15、18、29、33和36顺序地示出沿图3的线V-V截取的截面图。图19、图22和图25是在根据示范性实施方式的液晶显示器的制造方法中的滤色器和分隔部分的俯视平面图。图20、图23和图26分别是沿图19的线XX-XX、图22的线XXIII-XXIII和图25的线XXVI-XXVI截取的截面图。图13、图16、图21、图24、图27、图30、图34和图37分别是示出外围区域中的滤色器的堆叠工艺的截面图。
参照图3、图11和图12，为了在基板110上形成普遍知晓的开关元件，形成在水平方向上延伸的栅线121以及在栅线121上的栅绝缘层140，在栅绝缘层140上形成半导体层151和154，形成源电极173和漏电极175。在该情况下，连接到源电极173的数据线171可以形成为在竖直方向上延伸同时交叉栅线121。
在包括源电极173、漏电极175和数据线171的数据导体171、173和175以及半导体层154的暴露部分上形成第一层间绝缘层180a。
在第一层间绝缘层180a上形成第二层间绝缘层180b和第三层间绝缘层180c，并形成穿过它们的接触孔185。接下来，在第三层间绝缘层180c上形成像素电极191，像素电极191可以通过接触孔185电地和物理地连接到漏电极175。
在像素电极191或第三层间绝缘层180c上形成光阻挡构件220。可以根据栅线121延伸的方向形成光阻挡构件220。光阻挡构件220可以由阻挡光的材料形成。在光阻挡构件220上形成绝缘层181，绝缘层181可以在像素电极191上延伸同时覆盖光阻挡构件220。
接下来，在绝缘层181上形成牺牲层300。在该情况下，开口部分OPN沿平行于数据线171的方向形成在牺牲层300中。在开口部分OPN中，可以在随后的工艺中填充滤色器230，从而形成分隔部分PWP。牺牲层300可以由光致抗蚀剂或有机材料形成。
参照图13，在外围区域PA中，可以在基板110上形成栅绝缘层140、第一层间绝缘层180a、第二层间绝缘层180b、第三层间绝缘层180c、光阻挡构件220和绝缘层181。
参照图3、图14和图15，在牺牲层300上顺序地形成公共电极270和下绝缘层350。如图15所示，公共电极270和下绝缘层350可以覆盖开口部分OPN。参照图16，显示区域DA的下绝缘层350可以形成为延伸到外围区域PA。
参照图3、图17和图18，在下绝缘层350上形成滤色器230。可以通过图案化工艺或曝光/显影工艺去除在与位于在竖直方向上相邻的像素区域之间的光阻挡构件220相应的区域中的滤色器230。如图17所示，在对应于光阻挡构件220的区域中，滤色器230暴露下绝缘层350到外面。在该情况下，如图18所示，滤色器230形成分隔部分PWP同时填充光阻挡构件220的开口部分OPN。在本示范性实施方式中，填充开口部分OPN的滤色器230是其中一种颜色的滤色器230。与形成分隔部分PWP的滤色器230相邻的滤色器230可以在分隔部分PWP上彼此交叠。然而，作为示范性实施方式的变型，相邻的滤色器230可以形成为在分隔部分PWP上彼此分离。
在下文，将参照图19至图27详细描述根据示范性实施方式的滤色器230和阻挡膜EB。
参照图19和图20，在牺牲层300上形成蓝色滤色器B。在该情况下，蓝色滤色器B形成为填充在水平方向上分离的牺牲层300之间的分离空间。蓝色滤色器B形成在对应于像素区域PX的部分处，与像素区域PX相应地形成的蓝色滤色器B延伸，从而形成分隔部分PWP。此外，分隔部分PWP分离地形成在没有形成蓝色滤色器B的两个像素区域PX之间。例如，与通过延伸蓝色滤色器B形成的分隔部分PWP分离的分隔部分PWP可以通过使用一个掩模形成。
在该情况下，参照图21，可以在外围区域PA上形成蓝色滤色器B。这里，显示区域PA和外围区域PA的蓝色滤色器B可以通过采用相同的材料经由相同的工艺形成，并可以连接到彼此。
参照图22和图23，在牺牲层300上形成红色滤色器R。红色滤色器R形成为交叠分隔部分PWP，并可以在蓝色滤色器B和分隔部分PWP上交叠。
在该情况下，参照图24，在外围区域PA中，可以在蓝色滤色器B上形成红色滤色器R。红色滤色器R可以形成为覆盖蓝色滤色器B的侧表面。
参照图25和图26，在牺牲层300上形成绿色滤色器G。绿色滤色器G形成为交叠分隔部分PWP，并可以分别交叠分隔部分PWP上的蓝色滤色器B和红色滤色器R。
在该情况下，参照图27，在外围区域PA中，可以在红色滤色器R上形成绿色滤色器G。绿色滤色器G可以形成为覆盖蓝色滤色器B的侧表面和红色滤色器R的侧表面。
上述红色滤色器R和绿色滤色器G的形成位置和次序可以变化。此外，不同于图26所示的，蓝色滤色器B、红色滤色器R和绿色滤色器G的厚度可以不同。区别蓝色滤色器B、红色滤色器R和绿色滤色器G的厚度的原因是为了调节每个滤色器中的色坐标。另外，蓝色滤色器B、红色滤色器R和绿色滤色器G的高度可以不同。为了区别每个滤色器的高度，对应于每个滤色器R、G和B的牺牲层300的厚度可以变化。接下来，在去除牺牲层300时，可以形成具有不同高度的微腔305，并且位于其上的每个滤色器的高度可以不同。
接下来，参照图3、图28和图29，形成覆盖滤色器230和暴露的下绝缘层350的上绝缘层370。
在这种情况下，参照图30，显示区域DA的上绝缘层370可以形成为延伸到外围区域PA。上绝缘层370可以形成在外围区域PA中以覆盖包括蓝色滤色器B、红色滤色器R和绿色滤色器G的有机层的侧表面和顶表面。
参照图31，蚀刻上绝缘层370、下绝缘层350和公共电极270以部分地去除上绝缘层370、下绝缘层350和公共电极270并形成液晶注入部分307FP。在该情况下，上绝缘层370具有覆盖滤色器230的侧表面的结构，然而其不限于此，可以去除覆盖滤色器230的侧表面的上绝缘层370以暴露滤色器230的侧表面到外面。
参照图32至图34，通过氧(O2)灰化处理或湿蚀刻法经由液晶注入部分307FP去除牺牲层300。在该情况下，形成具有入口区307的微腔305。微腔305是在去除牺牲层300时形成的空的空间。
参照图35至图37，经由入口区307注入配向材料以在像素电极191和公共电极270上形成配向层11和21。具体地，在通过入口区307注入包括固体溶质和溶剂的配向材料之后，进行烘焙工艺。
接下来，使用喷墨方法等经由入口区307将包括液晶分子310的液晶材料注入到微腔305中。
此后，在上绝缘层370上形成覆盖层390以覆盖入口区307和液晶注入部分307FP，从而形成图2、图4和图5中示出的液晶显示器。
尽管已经结合目前被认为可行的示范性实施方式描述了本发明构思，但是将理解，本发明构思不限于所公开的实施方式，而是相反地，旨在涵盖被包括在权利要求书的精神和范围内的各种修改和等同布置。
附图标记的描述
300牺牲层305微腔
307入口区350下绝缘层
370上绝缘层390覆盖层

Claims (11)

1.一种液晶显示器，包括：
基板，配置为包括显示区域和外围区域；
薄膜晶体管，设置在所述基板上；
像素电极，连接到所述薄膜晶体管；
顶层，设置为面对所述像素电极；
覆盖层，设置在所述顶层上；以及
阻挡膜，设置在所述外围区域中以围绕所述覆盖层的侧表面，
其中多个微腔在所述显示区域中形成在所述像素电极和所述顶层之间，包含液晶材料的液晶层设置在所述微腔中，
其中所述阻挡膜的顶表面的高度比所述液晶层的顶表面的高度高。
2.如权利要求1所述的液晶显示器，还包括，在所述显示区域中：
下绝缘层，设置在所述顶层下面；以及
上绝缘层，设置在所述顶层上，
其中所述下绝缘层和所述上绝缘层由无机膜制成，以及
所述阻挡膜包括有机/无机结构层，该有机/无机结构层设置为对应于所述下绝缘层、所述顶层和所述上绝缘层。
3.如权利要求2所述的液晶显示器，
其中所述有机/无机结构层包括第一无机层、有机层和第二无机层，
其中所述第一无机层设置为对应于所述下绝缘层，所述第二无机层设置为对应于所述上绝缘层，所述有机层包括至少一个滤色器且对应于所述顶层。
4.如权利要求3所述的液晶显示器，其中所述第一无机层连接到所述下绝缘层，所述第二无机层连接到所述上绝缘层。
5.如权利要求3所述的液晶显示器，其中所述第二无机层设置为覆盖所述有机层的顶表面和侧表面。
6.如权利要求1所述的液晶显示器，还包括：
设置在所述覆盖层的顶表面上的屏障层，
其中所述屏障层包括硅氮化物。
7.如权利要求1所述的液晶显示器，其中所述覆盖层的顶表面和所述阻挡膜的顶表面设置在相同的水平。
8.如权利要求1所述的液晶显示器，还包括：
下绝缘层，设置在所述顶层下面；以及
上绝缘层，设置在所述顶层上，
其中所述下绝缘层和所述上绝缘层由无机膜制成，
所述阻挡膜是包括从所述显示区域延伸的下绝缘层、有机层和从所述显示区域延伸的所述上绝缘层的有机/无机结构层，以及
所述有机层具有不同颜色的滤色器堆叠在该处的结构，所述滤色器中的其中之一连接到所述顶层。
9.如权利要求8所述的液晶显示器，还包括：
设置在所述有机/无机结构层下面的透明电极图案。
10.如权利要求9所述的液晶显示器，还包括：
设置在所述有机/无机结构层下面的牺牲层剩余图案。
11.如权利要求1所述的液晶显示器，其中设置在所述显示区域中的所述阻挡膜和所述顶层彼此分离。
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