KR20160044878A - 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법 - Google Patents

잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20160044878A
KR20160044878A KR1020140139911A KR20140139911A KR20160044878A KR 20160044878 A KR20160044878 A KR 20160044878A KR 1020140139911 A KR1020140139911 A KR 1020140139911A KR 20140139911 A KR20140139911 A KR 20140139911A KR 20160044878 A KR20160044878 A KR 20160044878A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
compound
meth
resin composition
curable resin
Prior art date
Application number
KR1020140139911A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101688974B1 (ko
Inventor
최성호
김민정
신동흔
Original Assignee
한국다이요잉크 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국다이요잉크 주식회사 filed Critical 한국다이요잉크 주식회사
Priority to KR1020140139911A priority Critical patent/KR101688974B1/ko
Publication of KR20160044878A publication Critical patent/KR20160044878A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101688974B1 publication Critical patent/KR101688974B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F232/00—Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
    • C08F232/08—Copolymers of cyclic compounds containing no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system having condensed rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L45/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having no unsaturated aliphatic radicals in side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic or in a heterocyclic ring system; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/106—Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은, 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;및 광개시제;를 포함하고, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인 잉크젯용 경화성 수지 조성물에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법에 관한 것이다.

Description

잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법{CURABLE RESIN COMPOSITION FOR INKJET PRINTING, SOLDER RESIST USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 솔더레지스트, 그리고 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비를 줄일 수 있는 솔더레지스트 제조방법에 관한 것이다.
솔더(solder)라는 용어는 '납땜'을 말하며, 레지스트(resist)라는 용어는 인쇄회로기판 제조 공정에서 '어떤 처리나 반응이 미치지 않도록 보호하는 피막'을 의미한다. 따라서, 솔더 레지스트는 '인쇄회로기판의 회로 패턴을 덮어 부품의 실장 시에 이루어지는 납땜에 의해 원하지 않는 접속을 방지하는 피막'을 의미하며, 인쇄회로기판의 회로패턴을 보호하는 보호재 및 회로간의 절연성을 부여하는 역할을 담당한다.
인쇄회로기판의 회로 패턴은 기판에 입혀진 동박을 부식하여 만들어지므로 원리적으로는 절연 피복이 없는 나선이라고 할 수 있다. 이로 인하여, 전자부품을 인쇄회로기판상에 실장 시에 인쇄회로기판 표면이 녹은 납에 노출되어 원하지 않는 접속(solder bridge)이 발생할 수 있다. 이는 전자기기가 정상적으로 동작하지 못하게 하는 중대한 결함으로 이어지게 된다.
이러한 불량을 방지하기 위하여 나선인 회로 패턴을 피복할 목적으로 부품의 납땜에 필요한 랜드(land) 주변을 제외한 다른 부분을 차폐하는 피막을 솔더 레지스트라 한다. 솔더 레지스트는 차폐의 의미를 적용하여 솔더 마스크(solder mask)라고도 한다.
종래 인쇄회로기판의 솔더 레지스트 패턴 형성방법은, 노광단계 및 현상단계를 포함하여 많은 단계의 공정을 거쳐야 하기 때문에 생산성이 저하되는 한계가 있었다. 또한, 솔더 레지스트로서 요구되는 내열성, 내약품성 등의 물성을 확보하기 위해 에폭시 수지 등의 바인더 수지를 포함하여 조성물의 점도가 높아지는 한계도 있었다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 노광 및 현상 공정을 거칠 필요가 없도록 잉크젯 프린터를 이용하는 방법이 제안되었으나, 잉크젯용 잉크로서 사용하기 위해서는 일정 수준 이하로 점도를 낮추어야만 하는 한계가 있고, 점도 저하를 달성하였다고 해도, 반대로 솔더 레지스트로서 요구되는 내열성, 내약품성 등의 물성이나 잉크젯용 잉크로서 요구되는 저장안정성이나 무전해 도금성이 저하될 수 있기 때문에, 인쇄 배선판의 솔더 레지스트로서 상기 잉크젯 방식은 아이디어 영역에 한계가 있어, 잉크젯 프린터에서 사용할 수 있는 실용적인 솔더 레지스트 잉크는 존재하지 않았다.
이에, 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용한 솔더레지스트를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비를 줄일 수 있는 솔더레지스트 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 명세서에서는, 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;및 광개시제;를 포함하고, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 제공된다.
본 명세서에서는 또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 솔더레지스트가 제공된다.
본 명세서에서는 또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 잉크젯 프린터로 기재 상에 도포하는 단계; 및 상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법이 제공된다.
이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
본 명세서에서, '(메타)아크릴로일기'는 아크릴로일기 및 메타크릴로일기를 모두 포함하는 의미이다. 또한, 본 명세서에서, '(메타)아크릴로일옥시기'는 아크릴로일옥시기 및 메타크릴로일옥시기를 모두 포함하는 의미이다. 또한, 본 명세서에서, '(메타)아크릴로일옥시알킬기'는 아크릴로일옥시알킬기 및 메타크릴로일옥시알킬기를 모두 포함하는 의미이다.
발명의 일 구현예에 따르면, 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;및 광개시제;를 포함하고, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 제공될 수 있다.
본 발명자들은 상기 일 구현예의 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용하면, 에폭시 수지 등의 바인더 수지를 포함하지 않아 낮은 점도를 가지면서, 에폭시 수지 등의 바인더 수지를 포함한 경우와 대등한 수준의 우수한 내열성, 내약품성 등의 기계적 물성을 나타낼 수 있고, 우수한 저장안정성과 무전해 도금성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 제공할 수 있다는 점을 실험을 통해 확인하고 발명을 완성하였다.
구체적으로, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함할 수 있다. 상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함함에 따라, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 저장안정성과 무전해 도금성이 향상될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 저장안정성은 오랜 시간의 흐름 내지 고온의 조건에서도 잉크 입자의 입경, 잉크 조성물의 점도, 외관의 변화가 없이 품질이 유지되는 것을 의미한다. 상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함한 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 고온 토출이 진행되는 45℃의 온도에서 5주 이상의 안정성을 확보할 수 있고, 상온에서 3개월이 지나도 안정성이 유지되는 등 우수한 저장안정성을 나타낼 수 있다. 또한, 상기 무전해 도금은 전기적 특성이 아닌 촉매로 순수화학 반응에 의해 도금 하는 방식으로서, 상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체를 포함한 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 표면 경화성의 향상 및 수축율 저하에 따른 밀착력 향상으로인해 우수한 무전해도금성을 가질 수 있다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 우수한 무전해도금성을 가짐에 따라, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 표면에 금속 처리를 통해 내열성, 내마모성, 내약품성이 향상될 수 있다.
상기 나노실리카 분산체는 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 나노실리카 분산체에는 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자를 포함하는 분산질이 아크릴계 단량체를 포함하는 분산매 상에 분산되어 있을 수 있다. 상기 분산질은 분산계에 있어서 분산매 중에 미립상으로 되어 산재하는 물질을 의미한다. 이에 따라, 상기 나노실리카 분산체와 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물에 포함된 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물 간의 혼화성을 향상시킬 수 있다.
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자는 상기 실록산 화합물이 실록산 결합을 매개로 표면에 결합된 실리카 입자를 포함할 수 있다. 상기 실록산 화합물은 규소원자와 산소원자가 교대로 공유결합하는 실록산 결합을 통해 사슬식 구조를 형성하고 있는 화합물을 의미한다.
구체적으로, 상기 실록산 화합물이 실록산 결합을 매개로 표면에 결합된 실리카 입자는 하기 화학식1의 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에서, R1는 수소 또는 메틸기이며, R2는 수소 또는 메틸기이며, R3는 수소 또는 메틸기 또는 히드록시기이며, q는 1 내지 20의 정수이고, a는 1이상의 정수이고, Silica는 실리카 입자를 의미한다.
보다 구체적으로, 상기 화학식1에서 q는 2 내지 10의 정수이고, a는 5 내지 10의 정수이고, 실리카 입자는 이산화 규소(SiO2) 화합물일 수 있다.
상기 나노 실리카 분산체에 포함된 아크릴계 단량체는 단관능 아크릴레이트 화합물, 2관능 아크릴레이트 화합물 및 3관능 아크릴레이트 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다. 즉, 상기 나노 실리카 분산체에 포함된 아크릴계 단량체는 단관능 아크릴레이트 화합물, 2관능 아크릴레이트 화합물, 3관능 아크릴레이트 화합물 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 단관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 1개 치환된 탄소수 1 내지 10의 헤테로 고리 화합물을 포함할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 1개 치환된 탄소수 1 내지 10의 헤테로 고리 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시알킬기가 1개 치환된 탄소수 5 내지 9의 헤테로 고리 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시알킬기가 1개 치환된 탄소수 5 내지 9의 헤테로 고리 화합물의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판 포말 아크릴레이트 등을 들 수 있다.
또한, 상기 2관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다.
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 에테르 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 10의 지방족 에테르 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 10의 지방족 에테르 화합물의 구체적인 예로는, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 3관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 20의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다.
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 9의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 9의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 20의 지방족 에테르 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 15의 지방족 에테르 화합물 등을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 3개 치환된 탄소수 5 내지 15의 지방족 에테르 화합물의 구체적인 예로는, 에톡시레이티드 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 입경은 5 ㎚ 내지 100 ㎚, 또는 10 ㎚ 내지 50 ㎚, 또는 15 ㎚ 내지 30 ㎚, 또는 18 ㎚ 내지 25 ㎚일 수 있다. 상기 입경은 실리카 입자의 지름을 의미한다.
상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 함량이 상기 나노 실리카 분산체에 대해 40 중량% 내지 70 중량%, 또는 45 중량% 내지 60 중량%, 또는 48 중량% 내지 55 중량%일 수 있다.
상기 나노 실리카 분산체는 25℃에서 150 mPa·s 내지 3,500 mPa·s, 또는 160 mPa·s 내지 3,400 mPa·s, 또는 170 mPa·s 내지 3,350 mPa·s 의 동역학점도(dynamic viscosity)를 가질 수 있다. 상기 동역학점도(dynamic viscosity)는 유동상태의 물질이 운동방향에 거슬려 저항하는 끈끈한 정도를 나타내는 절대적인 크기를 의미한다. 이에 따라, 상기 동역학점도가 작을 수록, 유체의 유동성이 향상되어 잘 흐를 수 있다. 상기 동역학점도를 측정하는 방법의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, NV방법 또는 P/K방법 등을 사용할 수 있다. 상기 동역학점도가 3,500 mPa·s를 초과하여 지나치게 커지면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물내에서 상기 나노 실리카 분산체의 혼화성이 감소할 수 있다.
또한, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%, 또는 4 중량% 내지 12 중량%일 수 있다. 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 미만이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 저장안정성 및 무전해 도금성이 감소할 수 있다. 또한, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 20중량% 초과이면, 점도가 상승하고, 기포가 발생하여 여과가 불가능하고, 토출성이 불안정해질 수 있다.
한편, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물을 포함할 수 있다.
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은 높은 유리전이온도를 나타내어 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 내열성을 향상시킬 수 있고, 내약품성 내지 내마모성이 우수하여 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 기계적 물성 향상에도 기여할 수 있다.
상기 에틸렌계 불포화기는 탄소와 탄소간 이중결합을 포함하고 있는 작용기 내지 원자단을 의미하며, 에틸렌계 불포화기의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기, (메타)아크릴로일옥시알킬기 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물은, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 이상 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물을 포함할 수 있다. 상기 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 노르보난(norbornane, Bicyclo[2,2,1]heptane), 노르보넨(norbornene, Bicyclo[2.2.1]hept-2-ene), 노르피난(norpinane, Bicyclo[3,1,1]heptane), 노르피넨(norpinene, Bicyclo[3,1,1]hept-2-ene), 노르보난 유도체, 노르보넨 유도체, 노르피난 유도체 또는 노르피넨 유도체 등을 포함할 수 있다. 상기 유도체(derivative)는 화합물 중의 수소원자 또는 특정 원자단이 다른 원자 또는 원자단에 의하여 치환된 화합물을 의미한다.
구체적으로, 상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 이상 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물은 하기 화학식 2의 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식2]
Figure pat00002
상기 화학식 2에서,
R5, R6, R7, R8 및 R9 중 적어도 2개는 하기 화학식 3의 작용기이며,
나머지는 수소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
[화학식3]
Figure pat00003
상기 화학식3에서,
A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
X는 직접 결합 또는 산소이고,
R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.
보다 구체적으로, 상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 2의 R5, R6 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기이고, 상기 화학식 2의 R7, R8, R9 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기인 화합물을 포함할 수 있다.
한편, 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 이상 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물을 포함할 수 있다. 상기 헤테로 방향족 화합물은 헤테로 원자를 포함하는 고리모양의 화합물로서 방향족의 성질을 가진 것을 의미한다.
구체적으로, 상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개이상 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물은 하기 화학식 4의 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식4]
Figure pat00004
상기 화학식4에서,
Y1, Y2 및 Y3 중 적어도 하나는 질소이고 나머지는 탄소이며,
R21, R22 및 R23은 각각 하기 화학식 3의 작용기이며,
[화학식3]
Figure pat00005
상기 화학식3에서,
A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
X는 직접 결합 또는 산소이고,
R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물의 유리전이온도는 150℃ 내지 220℃일 수 있고, 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물의 유리전이온도는 250℃ 내지 300℃일 수 있다. 상기 유리전이온도는 상기 2개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 또는 상기 3개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물을 300℃에서 5분간 어닐링(Annealing)하고, 상온으로 냉각시킨 후, 승온 속도 10℃/min로 다시 스캔(2nd Scan)하여 측정할 수 있다. 상기 2개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 또는 상기 3개의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물의 유리전이온도가 지나치게 낮으면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 충분한 내열성을 확보하기 어려울 수 있다.
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 20중량% 내지 50중량%, 또는 25 중량% 내지 40 중량%의 함량으로 포함될 수 있다. 또한, 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 5중량% 내지 20중량%, 또는 7 중량% 내지 15중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 내지 10:1, 또는 2.2:1 내지 5:1, 또는 2.5:1 내지 4:1, 또는 2.8:1 내지 3.5:1일 수 있다. 상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 미만이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화속도가 감소할 수 있고, 상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 10:1 초과이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도가 지나치게 증가할 수 있다.
또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물은 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 또는 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다.
상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물을 사용할 수 있다.
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 2개 치환된 탄소수 5 내지 9의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 4개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물을 사용할 수 있다.
상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 4개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물의 예가 크게 한정되는 것은 아니나 예를 들어, (메타)아크릴로일옥시기가 4개 치환된 탄소수 3 내지 7의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소 화합물을 사용할 수 있다. 상기 (메타)아크릴로일옥시기가 4개 치환된 탄소수 3 내지 7의 탄화수소 화합물의 구체적인 예로는, 펜타세리트리톨 테트라아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 및 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 중량비가 0.5:1 내지 1.5:1, 또는 0.7:1 내지 1.3:1, 또는 0.9:1 내지 1.1:1일 수 있다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 및 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 중량비를 상술한 특정 범위로 가짐에 따라, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물이 낮은 점도를 가지면서, 우수한 내열성, 내약품성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있다.
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 광개시제를 포함할 수 있다. 상기 광개시제는 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화성을 향상시키기 위해 열 또는 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼을 발생시키는 역할을 할 수 있다. 상기 광개시제의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 벤조인과 그 알킬에테르류, 아세토페논류, 안트라퀴논류, 티오크산톤류, 케탈류, 벤조페논류, α-아미노아세토페논류, 아실포스핀옥사이드류 및 옥심에스테르류로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 광개시제는 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 0.1중량% 내지 20 중량%, 또는 5 중량% 내지 10중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.
한편, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 전체 잉크젯용 경화성 수지 조성물 중량의 10중량% 내지 95중량%의 함량으로 유기 용매를 더 포함할 수 있다.
상기 유기 용매의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 테트라메틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 셀로솔브, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 카르비톨, 메틸카르비톨, 부틸카르비톨, 프로필렌글리콜모노메틸에테르,디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 카르비톨아세테이트, 부틸카르비톨아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 탄산프로필렌 등의 에스테르류; 옥탄, 데칸 등의 지방족 탄화수소류; 석유 에테르, 석유 나프타, 용매 나프타 등의 석유계 용제를 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 안료, 분산제, 산화방지제, 광중합 촉진제, 표면 조절제 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 포함하는 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 안료는 유기 또는 무기안료를 모두 포함할 수 있고, 상기 무기 안료의 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 산화코발트, 산화알루미늄, 이산화티타늄, 황화아연, 황산비스무트 등을 사용할 수 있고, 상기 유기안료의 예 또한 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, 안트라퀴논계, 페릴렌계, 디스아조계, 이소인돌린계, 프탈로시아닌계 등을 사용할 수 있다. 상기 안료는 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 1중량% 내지 20 중량%, 또는 10 중량% 내지 15 중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.
상기 분산제는 통상 사용되는 다양한 분산제를 제한없이 사용할 수 있고, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 0.1중량% 내지 5 중량%, 또는 1 중량% 내지 2 중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.
상기 광중합 촉진제는 중합 반응을 촉진하며, 구체적인 예가 크게 한정되는 것은 아니나, 예를 들어, N,N-디메틸아미노벤조산에틸에스테르, N,N-디메틸아미노벤조산이소아밀에스테르, 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 트리에틸아민, 트리에탄올아민 등의 제3급 아민류 등을 사용할 수 있다. 상기 광중합 촉진제는 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 기준으로 0.1중량% 내지 5 중량%, 또는 0.5 중량% 내지 2 중량% 의 함량으로 포함될 수 있다.
상술한 성분을 배합하여 얻어진 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은, 교반기 또는 분산기, 예를 들면 롤밀, 샌드밀, 볼밀, 비드밀 또는 아트라이터와 같은 분산기를 사용하여 균일해질 때까지 혼합ㆍ분산하여 조정할 수 있다.
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 25℃에서 100mpa·s이하, 또는 30 mpa·s 내지 60 mpa·s이고, 45℃에서 20 mpa·s이하, 또는 7 mpa·s 내지 15mpa·s일 수 있다. 상기 초기 점도란, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 제조완료 직후의 점도를 의미한다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 일정 수준 이하로 낮아져야만 잉크젯 프린터로 도포하는 것이 가능하다. 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 25℃에서 100mpa·s초과이거나, 40℃에서 20mpa·s초과이면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도가 상승함에 따라 잉크젯 도포성이 저하되거나, 도막 특성이 저하될 수 있다.
또한, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 45℃ 온도에서 점도 변화율은 10% 이하, 또는 1% 내지 10%, 또는 1.5% 내지 7%, 또는 1.8% 내지 6%일 수 있다. 상기 점도 변화율은 하기 수학식 1를 통해 구할 수 있다.
[수학식1]
점도 변화율(%)= (|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|) / 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도 X 100
상기 수학식1에서, '|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|'는 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도와 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도의 차이값의 절대값을 의미한다.
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 45℃ 온도에서 장기간 보관할 경우, 초기 점도를 기준으로 증가하거나 감소하는 변화가 발생할 수 있다. 상기 점도 변화율이 지나치게 증가하면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 온도에 대한 안정성이 감소하여 고온 토출에 따른 잉크젯 사용이 어려울 수 있다.
한편, 발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 솔더레지스트가 제공될 수 있다.
상기 솔더레지스트는 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 및 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상의 화합물 간의 가교 결합을 포함할 수 있다.
상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 내지 10:1, 또는 2:1 내지 5:1일 수 있다.
한편, 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 일 구현예의 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 잉크젯 프린터로 기재 상에 도포하는 단계; 및 상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법이 제공될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 솔더레지스트의 제조방법은 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 이용하여, 알칼리 현상형 솔더 레지스트와 같은 복잡한 공정을 필요로 하지 않고, 잉크젯 프린터를 이용하여 특정 부분에 특정 양만큼 도포함으로써, 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비 등도 감소시킬 수 있다.
상기 잉크젯 프린터로서는, 온디맨드 또는 피에조 방식의 잉크젯 프린터가 사용될 수 있고, 바람직하게는 피에조 방식의 잉크젯 프린터가 사용될 수 있다. 상기 피에조 방식이란, 특정 방향으로 압력을 가하면 결정체(수정, 전기석 등)의 표면에서 전기가 발생하는 성질을 이용하는 방식을 의미한다.
상기 기재로는 회로 형성된 인쇄 배선판 등을 사용할 수 있다.
한편, 상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계는, 광경화단계; 및 열경화단계;를 포함할 수 있다.
상기 광경화단계는 150 mJ/㎠ 내지 250 mJ/㎠, 또는 180 mJ/㎠ 내지 220 mJ/㎠의 노광량을 가질 수 있다. 광원으로는 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프 또는 메탈할라이드 램프 등을 사용할 수 있다.
상기 열경화단계는 100℃ 내지 200℃, 또는 140℃ 내지 160℃에서 30분 내지 90분, 또는 40분 내지 70분간 진행될 수 있다. 또한, 상기 열경화단계는 열풍 순환식 건조로에서 진행될 수 있다. 상기 열경화단계를 통해 내열성이 우수한 경화물을 포함하는 레지스트 패턴을 얻을 수 있다.
본 발명에 따르면, 낮은 점도를 가지면서, 우수한 저장안정성, 무전해 도금성 및 기계적 물성을 나타낼 수 있는 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 솔더레지스트, 그리고 공정이 간략화되고, 생산성이 향상되며, 설비의 유지비를 줄일 수 있는 솔더레지스트 제조방법이 제공될 수 있다.
발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
< 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2: 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 솔더레지스트의 제조>
(1) 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 제조
하기 표 1에 나타난 함량으로 반응물을 교반기를 이용하여 2,000rpm의 속도로 45℃에서 1.5시간 동안 혼합하고, 안료 및 분산제를 추가하여 입경이 0.2㎛인 지르코니아 비드를 사용하여 3시간 동안 분산시켰다. 이후, 산화방지제, 광중합 촉진제, 표면 조절제 등의 첨가제를 투입하고, 1 ㎛의 필터로 여과하여 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 제조하였다.
(2) 솔더레지스트의 제조
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 압전방식(piezoelectric type)의 프린트헤드에 적용하여 회로 형성된 인쇄 배선판 1.6T FR-4(150 ㎜X 95㎜)상에 솔더 레지스트 패턴으로 도포하였다. 그리고, 상기 인쇄 배선판 상에 도포된 솔더레지스트 용액에 대하여 수은램프를 이용하여 200mJ/㎠로 자외선을 조사하면서 광경화를 진행하였다. 상기 광경화 이후, 열풍 순환식 건조로에서 150℃ 온도에서 60분간 열경화를 진행하여 솔더레지스트를 제조하였다.
< 실험예 : 실시예 및 비교예에서 얻어진 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 솔더레지스트의 물성 측정>
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 잉크젯용 경화성 수지 조성물 및 솔더레지스트의 물성을 하기 방법으로 측정하였으며, 그 결과를 표1 에 나타내었다.
1. 저장안정성
1-1. 입경(㎛)
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후, Malvern사의 입도분석기 MS3000을 사용하여 레이저 회절법에 따라(용매로 Ethyl alcohol사용) 상기 솔더레지스트 조성물에 포함된 입자의 최대 입경을 측정하였다.
1-2. 점도 변화율(%)
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 45℃ 온도에서 초기 및 5주간 보관한 후의 비중을 비중계를 사용하여 측정하고, 동점도는 캐논 펜스케형 점도계를 사용하여 측정하여, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도를 측정하였다.
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도를 기준으로 점도 변화율을 측정하였다. 상기 점도 변화율은 하기 [수학식1]을 통해 구할 수 있다.
[수학식1]
점도 변화율(%)= (|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|) / 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도 X 100
상기 수학식1에서, '|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|'는 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도와 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도의 차이값의 절대값을 의미한다.
1-3. 침전 및 분리여부
상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후, 육안으로 침전 및 분리여부를 관찰하였다.
OK: 침전 및 분리가 관찰되지 않음
NG: 침전 및 분리가 관찰됨
2. 접착력
ASTM D3359의 시험 방법에 따라 상기 솔더레지스트의 접착력을 측정하였다.
3. 연필 경도(H)
JIS K-5600-5의 시험 방법에 따라 상기 솔더레지스트의 연필 경도를 측정하였다
4. 내약품성
JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 10 vol％의 염산에 10분간 침지한 후의 도막 상태를 평가하였다.
4-1. 내용제성
JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 이소 프로필 알코올에 5분간 침지한 후 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.
OK: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 없음
NG: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 관찰됨
4-2. 내산성
JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 2N의 염산에 5분간 침지한 후 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.
OK: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 없음
NG: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 관찰됨
4-3. 내알카리성
JIS-C-5016시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 2N의 수산화 나트륨에 5분간 침지한 후 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.
OK: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 없음
NG: 솔더레지스트 상에 부풀음, 변색, 벗겨짐이 관찰됨
5. 내열성
JSTD-003 의 시험 방법에 따라, 상기 솔더레지스트를 260 ℃의 땜납조에 5초간 침지한 후, 스카치 테이프에 의한 필링 시험을 행하여 다음 기준 하에 도막 상태를 평가하였다.
OK: 솔더레지스트가 스카치 테이프에 의해 떨어져 나오지 않음
NG: 솔더레지스트가 스카치 테이프에 의해 떨어져 나옴
6. 무전해 도금성
콘베이어 속도 2.5m/min로 무전해 니켈 도금욕 및 무전해 금도금욕을 사용하여 상기 솔더레지스트를 니켈 3.745 ㎛, 금 0.056 ㎛ 로 도금하고, 테이프 필링에 의해 경화 도막의 박리의 유무나 도금의 스며듦의 유무를 평가하였다.
OK: 솔더레지스트가 박리되거나 도금의 스며듦이 없음
NG: 솔더레지스트가 박리되거나 도금의 스며듦이 있음
상기 실시예 및 비교예의 솔더레지스트의 조성과 실험예의 결과를 하기 표1 및 2에 기재하였다.
실시예 및 비교예의 솔더레지스트 조성 및 실험예 결과(단위 : 중량%)
구분 실시예1 실시예2 비교예1 비교예2
트리스(2-하이드록시에틸) 아이소시아누레이트 트리메타크릴레이트(THEICTA) 10 10 10 10
트리사이클로데칸디메탄올 디아크릴레이트(TCDDA) 30 30 30 30
펜타세리트리톨 테트라아크릴레이트(PETRA) 10 10 10 10
1,6-헥산디올 디아크릴레이트(HDDA) 10 10 - 10
디프로필렌 글리콜 디아크릴레이트(DPGDA) - - 20 -
4-하이드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 20 20 20 20
나노 실리카 분산체 5 10 - 2.5
초기 점도(mpa·s) 12.4 14.5 28.1 19.3
저장안정성 입경(㎛) 0.18 0.17 0.64 0.38
점도 변화율(%) 5 2 20 12
침전 및 분리여부 OK OK NG NG
접착력 100/100 100/100 100/100 100/100
연필경도 6H 7H 5H 5H
내약품성 OK OK OK OK
내열성 OK OK OK OK
무전해 도금성 OK OK NG NG
상기 표1에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경우, 각각 5중량%, 10중량%의 나노 실리카 분산체를 포함함에 따라, 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후에도 입경이 0.2 ㎛ 미만으로 낮게 유지될 수 있고, 점도 변화율이 10% 미만이며, 침전 및 분리가 일어나지 않는 등 우수한 저장안정성을 나타냄을 확인할 수 있었다. 반면, 비교예 1내지 2의 경우에는, 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 충분하지 않아, 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 입경이 0.3 ㎛ 초과이며, 점도 변화율이 10% 초과이고, 침전 및 분리가 일어나는 등 저장안정성이 충분히 확보되지 않음을 확인할 수 있다.
또한, 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경우, 각각 5중량%, 10중량%의 나노 실리카 분산체를 포함함에 따라, 우수한 무전해 도금성을 나타낸 반면 상기 나노 실리카 분산체의 함량이 충분하지 않은 비교예 1 내지 2의 경우 무전해도금성이 충분히 확보되지 않음을 확인할 수 있다.
또한, 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경우, 각각 5중량%, 10중량%의 나노 실리카 분산체를 포함하더라도, 접착력, 연필경도, 내약품성 및 내열성 등의 기계적물성은 비교예와 동등한 수준에서 구현함을 확인할 수 있다.
이에 따라, 상기 실시예 1 내지 2의 잉크젯용 경화성 수지 조성물은 특정 함량의 나노 실리카 분산체를 포함하여, 우수한 저장안정성을 나타냄에 따라 오랜기간 보관이 가능할 뿐 아니라, 고온 토출시에도 안정성을 확보할 수 있다. 또한, 우수한 무전해 도금성을 가질 수 있어, 상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 표면에 금속 처리를 통해 내열성, 내마모성, 내약품성이 향상될 수 있다.

Claims (25)

  1. 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체;
    2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물;
    3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물; 및
    광개시제;를 포함하고,
    상기 나노 실리카 분산체의 함량이 전체 조성물에 대해 3 중량% 내지 20 중량%인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자는 상기 실록산 화합물이 실록산 결합을 매개로 표면에 결합된 실리카 입자를 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 실록산 화합물이 실록산 결합을 매개로 표면에 결합된 실리카 입자는 하기 화학식1의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
    [화학식1]
    Figure pat00006

    상기 화학식 1에서,
    R1는 수소 또는 메틸기이며,
    R2는 수소 또는 메틸기이며,
    R3는 수소 또는 메틸기 또는 히드록시기이며,
    q는 1 내지 20의 정수이고,
    a는 1이상의 정수이고,
    Silica는 실리카 입자를 의미한다.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 나노 실리카 분산체에 포함된 아크릴계 단량체는 단관능 아크릴레이트 화합물, 2관능 아크릴레이트 화합물 및 3관능 아크릴레이트 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 단관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 1개 치환된 탄소수 1 내지 10의 헤테로 고리 화합물을 포함하고,
    상기 2관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하고,
    상기 3관능 아크릴레이트 화합물은 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 10의 지방족 화합물; 및 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 1 내지 20의 지방족 에테르 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 입경이 5 ㎚ 내지 100 ㎚인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자의 함량이 상기 나노 실리카 분산체에 대해 40 중량% 내지 70 중량%인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물 및 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물 간의 중량비가 2:1 내지 10:1인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물은,
    (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물은 노르보난(norbornane, Bicyclo[2,2,1]heptane), 노르보넨(norbornene, Bicyclo[2.2.1]hept-2-ene), 노르피난(norpinane, Bicyclo[3,1,1]heptane), 노르피넨(norpinene, Bicyclo[3,1,1]hept-2-ene), 노르보난 유도체, 노르보넨 유도체, 노르피난 유도체 및 노르피넨 유도체로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 2개 치환된 탄소수 6 내지 15의 다중고리 화합물은 하기 화학식 2의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
    [화학식2]
    Figure pat00007

    상기 화학식 2에서,
    R5, R6, R7, R8 및 R9 중 적어도 2개는 하기 화학식 3의 작용기이며,
    나머지는 수소, 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이고,
    [화학식3]
    Figure pat00008

    상기 화학식3에서,
    A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
    X는 직접 결합 또는 산소이고,
    R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 화학식 2의 화합물은 상기 화학식 2의 R5, R6 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기이고, 상기 화학식 2의 R7, R8, R9 중 적어도 하나가 상기 화학식 3의 작용기인 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물은,
    (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴로일옥시기 및 (메타)아크릴로일옥시알킬기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기가 3개 치환된 탄소수 2 내지 5의 헤테로 방향족 화합물은 하기 화학식 4의 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
    [화학식4]
    Figure pat00009

    상기 화학식4에서,
    Y1, Y2 및 Y3 중 적어도 하나는 질소이고 나머지는 탄소이며,
    R21, R22 및 R23은 각각 하기 화학식 3의 작용기이며,
    [화학식3]
    Figure pat00010

    상기 화학식3에서,
    A는 직접 결합 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
    X는 직접 결합 또는 산소이고,
    R11, R12 및 R13은 각각 수소, 메틸기, 에틸기로 이루어진 군에서 선택된 1종의 작용기이다.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물은 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 또는 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물을 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 2관능 지방족 아크릴레이트 화합물 및 4관능 지방족 아크릴레이트 화합물의 중량비가 0.5:1 내지 1.5:1인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  17. 제1항에 있어서,
    안료, 분산제, 산화방지제, 광중합 촉진제 및 표면 조절제로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 첨가제를 더 포함하는, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  18. 제1항에 있어서,
    상기 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도가 45℃에서 10 mpa·s 내지 20 mpa·s인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물.
  19. 제1항에 있어서,
    하기 수학식 1에 따른 45℃에서의 점도 변화율이 10% 이하인, 잉크젯용 경화성 수지 조성물:
    [수학식1]
    점도 변화율(%)= (|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|) / 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도 X 100
    상기 수학식1에서, '|45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도 - 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도|'는 45℃ 온도에서 5주간 보관한 후 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 점도와 45℃ 온도에서 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 초기 점도의 차이값의 절대값을 의미한다.
  20. 제1항의 잉크젯용 경화성 수지 조성물의 경화물을 포함하는, 솔더레지스트.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 실록산 화합물이 표면에 처리된 실리카 입자 및 아크릴계 단량체를 포함한 나노 실리카 분산체; 2이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 4 내지 20의 지환족 화합물; 3이상의 에틸렌계 불포화기를 포함하는 탄소수 1 내지 10의 방향족 화합물; 및 다관능 지방족 아크릴레이트 화합물;로 이루어진 군에서 선택된 2종 이상의 화합물 간의 가교 결합을 포함하는, 솔더 레지스트.
  22. 제1항의 잉크젯용 경화성 수지 조성물을 잉크젯 프린터로 기재 상에 도포하는 단계; 및
    상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법.
  23. 제 22항에 있어서,
    상기 도포된 수지 조성물을 경화하는 단계는,
    광경화단계; 및 열경화단계;를 포함하는, 솔더레지스트의 제조방법.
  24. 제 23항에 있어서,
    상기 광경화단계는 150 mJ/㎠ 내지 250 mJ/㎠의 노광량을 갖는, 솔더레지스트의 제조방법.
  25. 제 23항에 있어서,
    상기 열경화단계는 100℃ 내지 200℃에서 30분 내지 90분간 진행되는, 솔더레지스트의 제조방법.
KR1020140139911A 2014-10-16 2014-10-16 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법 KR101688974B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140139911A KR101688974B1 (ko) 2014-10-16 2014-10-16 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140139911A KR101688974B1 (ko) 2014-10-16 2014-10-16 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160044878A true KR20160044878A (ko) 2016-04-26
KR101688974B1 KR101688974B1 (ko) 2016-12-22

Family

ID=55919217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140139911A KR101688974B1 (ko) 2014-10-16 2014-10-16 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101688974B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190079567A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 금호석유화학 주식회사 우수한 방투습 성능을 갖는 투명 광경화성 수지 조성물
KR20190079566A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 금호석유화학 주식회사 우수한 방투습 성능을 갖는 유색 수지 조성물
EP3543304A1 (en) * 2018-03-19 2019-09-25 ABCR Laboratorios, S.L. Organofunctional siloxanes, method for its preparation and use for the treatment of fillers and surfaces
WO2024029959A1 (ko) * 2022-08-03 2024-02-08 삼성디스플레이 주식회사 잉크 조성물, 이를 이용한 막, 이를 포함하는 전기영동 장치 및 디스플레이 장치

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102293308B1 (ko) 2021-01-15 2021-08-23 한국전기연구원 유기 실록산 바인더 기반 광감성 솔더레지스트 및 그 제조방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080069679A (ko) * 2005-11-11 2008-07-28 도요 잉키 세이조 가부시끼가이샤 활성 에너지선 경화형 잉크젯 잉크
US20090000727A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Kanta Kumar Hardcoat layers on release liners
KR20130132460A (ko) * 2010-11-30 2013-12-04 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 및 이것을 사용한 감광층, 영구 패턴, 웨이퍼 레벨 렌즈, 고체 촬상 소자 및 패턴형성방법
KR20140054022A (ko) * 2011-07-26 2014-05-08 제이엔씨 주식회사 광경화성 잉크젯 잉크 및 전자 회로 기판

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080069679A (ko) * 2005-11-11 2008-07-28 도요 잉키 세이조 가부시끼가이샤 활성 에너지선 경화형 잉크젯 잉크
US20090000727A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Kanta Kumar Hardcoat layers on release liners
KR20130132460A (ko) * 2010-11-30 2013-12-04 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 및 이것을 사용한 감광층, 영구 패턴, 웨이퍼 레벨 렌즈, 고체 촬상 소자 및 패턴형성방법
KR20140054022A (ko) * 2011-07-26 2014-05-08 제이엔씨 주식회사 광경화성 잉크젯 잉크 및 전자 회로 기판

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190079567A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 금호석유화학 주식회사 우수한 방투습 성능을 갖는 투명 광경화성 수지 조성물
KR20190079566A (ko) * 2017-12-27 2019-07-05 금호석유화학 주식회사 우수한 방투습 성능을 갖는 유색 수지 조성물
EP3543304A1 (en) * 2018-03-19 2019-09-25 ABCR Laboratorios, S.L. Organofunctional siloxanes, method for its preparation and use for the treatment of fillers and surfaces
WO2019180285A3 (es) * 2018-03-19 2019-12-19 Abcr Laboratorios, S.L. Siloxanos organofuncionales, método para su preparación y uso para el tratamiento de rellenos y superficies
US11773289B2 (en) 2018-03-19 2023-10-03 Abcr Laboratorios, S.L. Organofunctional siloxanes, process for preparing same and their use for the treatment of fillings and surfaces
WO2024029959A1 (ko) * 2022-08-03 2024-02-08 삼성디스플레이 주식회사 잉크 조성물, 이를 이용한 막, 이를 포함하는 전기영동 장치 및 디스플레이 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR101688974B1 (ko) 2016-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101688974B1 (ko) 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법
JP5727623B2 (ja) インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
JP6703112B2 (ja) インクジェット印刷用樹脂組成物およびそれを使用して調製されたプリント配線板
KR101951129B1 (ko) 광경화형 도전성 잉크 조성물
WO2006035679A1 (ja) 光硬化性白色インク組成物及びその硬化物
JP5619368B2 (ja) インクジェット用硬化性樹脂組成物
JP2014159598A (ja) インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
TW201942144A (zh) 噴墨印刷用硬化性組成物、其之硬化物、及具有該硬化物之電子零件
JP5799144B2 (ja) インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
TW201247796A (en) Photocurable/thermosetting inkjet composition, and printed wiring board using same
JP5940828B2 (ja) インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
WO2018084121A1 (ja) プリント配線板用の硬化性絶縁性組成物、ドライフィルム、硬化物、プリント配線板およびプリント配線板用の硬化性絶縁性組成物の製造方法
US9104099B2 (en) Curable coatings for photoimaging
JPWO2016052473A1 (ja) 多孔質体の製造方法、多孔質体、デバイスの製造方法、デバイス、配線構造の製造方法、配線構造
JP6209690B1 (ja) インクジェット用硬化性組成物、硬化物、およびプリント配線板
JP2016169380A (ja) 紫外線硬化型組成物および記録物
US20200216690A1 (en) Ink jet resin composition and printed wiring board using the same
KR101724322B1 (ko) 잉크젯용 경화성 수지 조성물, 이를 이용한 솔더레지스트 및 그 제조방법
DE112017002537T5 (de) Verfahren zur Herstellung einer Tintenstrahlharzzusammensetzung
JP5695955B2 (ja) 白色硬化性樹脂組成物及びその樹脂組成物の硬化物、並びに当該硬化物を有する反射板
TW202212495A (zh) 硬化性組成物、防焊用塗料及印刷電路基板
JP2014055288A (ja) インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
JP2012052074A (ja) インクジェット用硬化組成物及びプリント配線基板の製造方法
JP5618516B2 (ja) 絶縁性光硬化性熱硬化性樹脂組成物およびプリント配線板
TWI774422B (zh) 密封物組成物以及發光元件

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191216

Year of fee payment: 4