KR20160043867A - 엑스선 검출기 및 엑스선 검출기의 제조방법 - Google Patents

엑스선 검출기 및 엑스선 검출기의 제조방법 Download PDF

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Abstract

개시된 엑스선 검출기의 제조방법은, 다수의 전하 검출부가 배열된 기판 상에 개구가 마련된 마스크를 올려놓는 단계와, 엑스선을 받아 전하를 발생시키는 광전변환물질을 포함하는 패이스트를 개구에 채우는 단계와, 마스크를 기판으로부터 이격시켜 패이스트에 의하여 광도전층을 형성하는 단계를 포함한다. 개구 내의 패이스트의 두께는 개구의 가장자리들 중 적어도 하나에 인접한 영역이 다른 영역에 비하여 두껍다.

Description

엑스선 검출기 및 엑스선 검출기의 제조방법{X-ray detector and method of fabricating X-ray detector}
피사체를 통과한 엑스선을 검출하여 영상화하기 위한 엑스선 검출기 및 그 제조방법이 개시된다.
엑스선은 산업, 과학, 의료 등의 다양한 분야에서 비파괴 검사, 재료의 구조 및 물성 검사, 영상 진단, 보안 검색 등에 사용되고 있다. 일반적으로, 이러한 엑스선을 이용한 영상 시스템, 예를 들어 엑스선 장치는 엑스선을 방출시키는 엑스선 발생기와 피사체를 통과한 엑스선을 검출하는 엑스선 검출기를 포함한다.
종래의 아날로그 방식의 엑스선 장치에는 엑스선에 반응하는 증감지(형광판)와 은염 필름이 조합된 필름판이 엑스선 검출기로서 채용되어, 검사 때마다 필름판이 다시 장착된다. 근래에 들어, 디지털 방식의 엑스선 검출기를 채용한 디지털 엑스선 장치가 사용되고 있다. 이에 따라, 엑스선 장치는 디지털 방식의 엑스선 검출기의 검출신호에 기반하여 촬영 영상을 생성하는 신호 처리장치를 더 구비한다. 이하에서, 엑스선 검출기는 디지털 방식의 엑스선 검출기를 의미한다.
엑스선 검출기는 엑스선에 반응하여 전자와 정공을 발생시키는 광도전층과, 발생된 전자 또는 정공을 검출하는 전하검출부를 구비한다. 촬영 영상의 품질은 광도전층의 광전변환 특성의 균일도에 의존된다. 특히 광도전층의 두께의 균일성은 촬영 영상의 품질에 큰 영향을 미칠 수 있다.
균일한 광도전층을 형성할 수 있는 엑스선 검출기의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
체스트 월(chest eall) 부근의 사영역(dead zone)의 크기를 줄일 수 있는 엑스선 검출기 및 엑스선 검출기의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
일 측면에 따른 엑스선 검출기는, 엑스선을 받아 전하를 발생시키는 광도전층과, 상기 전하를 검출하는 다수의 전하 검출부가 배열된 기판과, 상기 광도전층 상에 위치되는 전극을 포함하는 엑스선 검출부; 상기 엑스선 검출부를 수납하는 케이스;를 포함하며, 상기 케이스의 체스트 월과, 상기 광도전층의 상기 체스트 월에 인접한 가장자리 사이의 간격은 2mm 이하이다.
상기 기판에는 상기 전하 검출부와 전기적으로 연결되는 연결부가 마련되며, 상기 연결부는 상기 케이스의 상기 체스트 월을 제외한 가장자리 부근에 위치될 수 있다.
상기 광도전층의 두께는 100~200㎛일 수 있다.
상기 전하 검출부는 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다.
일 측면에 따른 엑스선 검출기의 제조방법은, (가) 다수의 전하 검출부가 배열된 기판 상에, 개구가 마련된 마스크를 올려놓는 단계; (나) 엑스선을 받아 전하를 발생시키는 광전변환물질을 포함하는 패이스트를 상기 개구에 채우는 단계; (다) 상기 마스크를 상기 기판으로부터 이격시켜 상기 패이스트에 의하여 광도전층을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 (나) 공정에 의하여 형성되는 상기 개구 내의 패이스트의 두께는 상기 개구의 가장자리들 중 적어도 하나에 인접한 영역이 다른 영역에 비하여 두껍다.
상기 (나) 단계는 스프린 프린팅 방식에 의하여 수행될 수 있다.
상기 (나) 단계는 스퀴지의 스퀴징부가 상기 마스크에 접촉된 상태로 상기 스퀴지를 이동시키면서 상기 마스크 상의 패이스트를 상기 개구에 채워넣은 단계;를 포함하며, 상기 스퀴징부는 상기 개구의 중앙영역에 대응되는 제1부분과, 상기 스퀴징부의 길이방향으로 상기 제1부분의 일측에 위치되고 상기 제1부분으로부터 오목하게 단차진 제2부분을 포함할 수 있다.
상기 제2부분은 상기 제1부분과 평행할 수 있다.
상기 제2부분은 사선 형태일 수 있다.
상기 제2부분은 곡선 형태일 수 있다.
상기 제1부분에 대한 상기 제2부분의 단차량은 개구의 두께보다 작을 수 있다. 상기 제1부분은 상기 개구의 가장자리로부터 내측으로 약 0.5mm 이상 연장될 수 있다.
상술한 엑스선 검출기 및 그 제조 방법에 따르면, 체스트 월과 인접한 가장자리 부근에서도 소망하는 두께의 광도전층을 확보할 수 있어, 체스트 월 부근의 사영역을 줄일 수 있다. 따라서, 유방 촬영시의 화상 품질을 확보할 수 있으며, 병변의 존재 여부를 더 정확한 진단할 수 있다. 또한, 제조 공정에서 절단 등의 추가적인 공정없이 사영역을 최소화할 수 있어, 공정 비용을 절감할 수 있으며, 절단으로 인한 전하 검출부의 손상 위험을 줄일 수 있어 수율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 엑스선 장치의 일 실시예의 구성도이다.
도 2는 엑스선 검출기의 일 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 엑스선 검출기의 일 실시예의 개략적인 평면도이다.
도 4는 전하 검출부의 일 실시예의 구성도이다.
도 5a와 도 5b는 각각 엑스선 검출기(100)가 유방 촬영에 사용되는 모습을 보여주는 측면도와 평면도이다.
도 6a 내지 도 6c은 엑스선 검출기의 제조 방법의 일 예로서, 스크린 프린팅 방식으로 광도전층을 형성하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 7은 스크린 프린팅 공정 후에 마스크를 기판으로부터 분리하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 8은 도 7에 도시된 광도전층에 전극을 형성한 모습을 보여주는 부분 단면도이다.
도 9는 가장자리 영역에까지 충분한 두께의 광도전층을 얻기 위한 스크린 프린팅용 스퀴지의 일 실시예의 측면도이다.
도 10은 도 9에 도시된 스퀴지를 이용하여 스크린 프린팅을 수행하는 모습을 보여주는 단면도이다.
도 11은 도 10에 도시된 스크린 프린팅 공정 후의 광도전층에 전극을 형성한 모습을 보여주는 부분 단면도이다.
도 12와 도 13은 스퀴지의 실시예들을 보여주는 도면들이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세히 설명한다. 아래에 예시되는 실시예는 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니며, 본 발명을 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 각 구성요소의 크기나 두께는 설명의 명료성을 위하여 과장되어 있을 수 있다.
도 1은 엑스선 장치의 일 실시예의 구성도이다. 엑스선 장치는 엑스선을 피검체에 투과시켜 피검체의 내부의 영상을 획득하는 장치이다. 엑스선 장치는 자기 공명 영상 장치(MRI장치: magnetic resonance imaging apparatus) 또는 컴퓨터 단층 촬영 장치(CT장치: computerized tomography apparatus) 등의 영상 장치에 비하여 간편하고 짧은 시간 내에 피검체의 내부 영상을 얻을 수 있다. 따라서, 흉부 촬영, 복부 촬영, 골격 촬영, 유방 촬영 등 인체를 대상으로 하는 의료 영상 획득을 위하여 널리 사용된다.
도 1을 참조하면, 엑스선 장치는 엑스선 발생기(200)와, 엑스선 검출기(100), 신호 처리부(300)를 구비할 수 있다. 참조부호 400은 촬영 영상을 표시하는 디스플레이 장치이다. 엑스선 발생기(200)에서 방출된 엑스선은 피검체(1)를 통과하여 엑스선 검출기(100)로 입사된다. 엑스선 검출기(100)는 피검체(1)를 투과한 엑스선을 검출하고, 검출 신호를 신호 처리부(300)로 송신한다. 신호 처리부(300)는 소정의 영상 처리 과정을 통하여 검출 신호로부터 영상신호를 생성하며, 디스플레이 장치(400)는 영상신호를 가시적인 영상으로 표시한다. 신호 처리부(300)의 구성 및 검출 신호로부터 영상 신호를 생성하는 과정은 당업계에서 잘 알려진 것이므로 상세한 설명은 생략한다. 엑스선 장치는 도 1에 도시된 구성 이외에도 촬영 조건 설정, 예를 들어 촬영 영역 설정, 엑스선의 세기 설정, 엑스선 조사 시간 설정 등을 위한 사용자의 조작을 입력하기 위한 입력부 등을 더 구비할 수 있다.
도 2는 엑스선 검출기(100)의 일 실시예의 단면도이다. 도 3은 도 2에 도시된 엑스선 검출기(100)의 일 실시예의 개략적인 평면도이다. 도 4는 전하 검출부(20)의 일 실시예의 구성도이다. 도 3은 전하 검출부(20)와 광도전층(30)을 위주로 도시되며, 전극(40)과 보호막(50)은 생략된다.
도 2와 도 3을 참조하면, 엑스선 검출기(100)는 엑스선을 검출하는 엑스선 검출부와, 엑스선 검출부를 수납하는 케이스(70)를 포함한다. 엑스선 검출부는 다수의 전하 검출부(20)가 배열된 기판(10)과, 광도전층(30)과, 전극(40)을 포함한다. 전극(40) 위에는 보호막(50)이 위치될 수 있다.
광도전층(30)은 엑스선을 흡수하여 전하, 예를 들어 전자와 정공을 발생시키는 광전변환물질을 포함하는 물질층으로서, 예를 들어 PbI2, PbO, PbO2, CdTe, CdZnTe, BiI3, HgI2 중 적어도 하나를 포함하는 물질층일 수 있다. 본 실시예에서는 광도전층(30)을 형성하는 광전변환물질로서 요오드화 제2수은(HgI2)이 채용된다. 광도전층(30)의 두께는 예를 들어 약 100~200㎛ 정도일 수 있다.
전하 검출부(20)는 엑스선에 의하여 광도전층(30) 내에 발생된 전하, 즉 전자 또는 정공을 검출한다. 예를 들어, 전극(40)에는 (-)전압이 인가되면, 전하 검출부(20)는 전자를 검출한다. 물론, 반대의 경우도 가능하다. 즉, 전극(40)에 (+)전압이 인가되고, 전하 검출부(20)는 정공을 검출할 수도 있다.
전하 검출부(20)는 예를 들어 박막 트랜지스터 어레이(TFT array)를 포함할 수 있다. 도 3과 도 4를 참조하면, 2차원 매트릭스 형태로 배열되는 게이트 라인(G)과 데이터 라인(D)이 교차되는 위치에 박막 트랜지스터(22)가 배치된다. 하나의 박막 트랜지스터(22)가 하나의 화소(pixel)를 형성한다. 예를 들어, 엑스선에 의하여 광도전층(30)에 전자와 정공이 발생되고, 전극(40)에 (-)전압이 인가되면, 전자는 전하수집전극(charge collector electrode)(21)으로 모인다. 게이트 라인(D)이 온(ON)되면, 전하수집전극(21)으로부터 데이터 라인(D)으로 전류가 흐른다. 데이터 라인(D)을 통하여 흐르는 전류신호는 예를 들어 증폭기에 의하여 증폭되고, 검출 신호로서 출력될 수 있다. 검출 신호는 신호 처리부(300)에서 아날로그- 디지털 변환, 노이즈 제거 등의 일련의 영상처리 과정을 거쳐 영상신호로 변환된다.
다시 도 3을 참조하면, 기판(10)에는 전하 검출부(20)와 전기적으로 연결되는 연결부(61)(62)(63)가 마련된다. 전하 검출부(20)를 구동하는 구동 신호와 전하 검출부(20)로부터 출력되는 검출 신호는 연결부(61)(62)(63)를 통하여 송신되고 수신된다. 연결부(61)(62)(63)에는 구동 신호와 검출 신호를 송수신하는 회로 소자(미도시)가 연결될 수 있다. 예를 들어, 전하 검출부(20)로서 박막 트랜지스터(22)가 채용된 경우, 게이트 라인(G)과 데이터 라인(D)은 연결부(61)(62)(63)를 통하여 회로 소자와 연결된다. 회로 소자는 예를 들어, 연결부(61)(63)에 마련되어 게이트 라인(G)을 통하여 박막 트랜지스터(22)를 구동하기 위한 구동 신호를 공급하는 구동회로소자(미도시)와, 연결부(62)에 마련되어 전하수집전극(21) 및 데이터 라인(D)을 따라 흐르는 검출 신호(전류 신호)를 받는 검출회로소자(미도시), 예를 들어 증폭기가 연결될 수 있다. 예를 들어, 회로 소자들은 COF(chip on flexible printed circuit)본딩 방식에 의하여 연결부(61)(62)(63)에 연결될 수 있다.
도 5a와 도 5b는 각각 엑스선 검출기(100)가 유방 촬영에 사용되는 모습을 보여주는 측면도와 평면도이다. 도 5a와 도 5b를 참조하면, 유방 촬영 시에는 엑스선 검출기(100)의 일측 가장자리(101)가 인체와 밀착된다. 이 밀착되는 가장자리(101)를 체스트 월(chest wall)이라 한다. 유방 촬영 시에 정밀한 촬영을 위하여는 엑스선 검출기(100)의 유효검출영역이 가급적 체스트 월(101)에 근접하여야 한다. 유효검출영역은 광도전층(30)에 의하여 결정된다. 도 5b를 참조하면, 광도전층(30)의 체스트 월(101)과 인접한 가장자리(31)는 체스트 월(101)과 가까울수록 좋으며, 다른 가장자리(32)(33)(34)는 대응되는 엑스선 검출기(100)의 가장자리들과 다소 이격되더라도 촬영에는 영향을 미치지 않는다.
따라서, 도 3을 참조하면, 광도전층(30)의 체스트 월(101)에 인접한 가장자리(31)와 체스트 월(101) 사이의 간격(R)은 작을수록 좋으며, 엑스선 검출기(100)의 케이스(70)의 두께를 고려할 때에 약 2mm 이하로 함으로써, 유방 진단의 정확도를 더욱 향상시킬 수 있다.
이를 위하여, 광도전층(30)의 가장자리(31)와 체스트 월(101) 사이에는 연결부가 마련되지 않는다. 연결부(61)(62)(63)는 케이스(70)의 체스트 월(101)을 제외한 가장자리를 따라 마련된다. 즉, 연결부(61)(62)(63)는 광도전층(30)의 가장자리(31)를 제외한 다른 가장자리(32)(33)(34)와 케이스(70)의 체스트 월(101)을 제외한 가장자리들 사이에 마련된다.
체스트 월(101)에 인접한 영역에서도 양호한 화질의 영상을 얻기 위하여는 광도전층(30)의 두께가 가장자리(31)까지 균일하여야 한다. 광도전층(30)은 예를 들어 기판(10) 상에 스크린 프린팅 방식으로 광전변환물질을 포함하는 패이스트(paste)를 도포하고, 이를 경화시킴으로써 형성될 수 있다. 도 6a 내지 도 6c은 엑스선 검출기(100)의 제조 방법의 일 예로서, 스크린 프린팅 방식으로 광도전층(30)을 형성하는 과정을 보여주는 도면이다.
도 6a를 참조하면, 광도전층(30)이 형성될 영역을 정의하는 개구(82)가 형성된 마스크(81)가 기판(10) 상에 위치된다. 마스크(81) 상에 광전변환물질, 예를 들어 요오드화 제2수은을 포함하는 패이스트를 놓는다. 패이스트의 점도는 예를 들어 약 100,000~150,000cps 정도일 수 있다.
다음으로, 도 6b에 도시된 바와 같이 스퀴지(squeegee)(90)를 이용하여 스크린 프린팅을 수행한다. 즉, 스퀴지(90)를 화살표시(C)방향으로 이동시켜 패이스트를 얇게 펴서 개구(82)에 밀어넣는다. 그러면, 개구(82) 내에 패이스트가 채워진다.
다음으로, 도 6c에 도시된 바와 같이 마스크(81)를 기판(10)으로부터 이격시키면, 기판(10) 상에 개구(82)와 동일한 형상의 광도전층(30)이 형성된다.
도면으로 도시되지는 않았지만, 도 6c에 도시된 공정 후에, 패이스트를 경화시키는 공정, 전극(40)을 형성하는 공정, 보호막(50)을 형성하는 공정, 케이스(70)에 수납하는 공정 등이 더 수행될 수 있다.
전술한 바와 같이 패이스트는 점도가 매우 높아서, 점착성이 강하다. 그러므로, 도 6c에 도시된 단계에서 마스크(81)를 기판(10)으로부터 이격시킬 때에 개구(82)의 가장자리에 패이스트가 묻을 수 있다. 도 7은 스크린 프린팅 공정 후에 마스크(81)를 기판(10)으로부터 분리하는 과정을 보여주는 도면이다. 도 7을 참조하면, 개구(82)의 가장자리에 참조부호 A, B로 표시한 바와 같이 고점도의 패이스트가 부착되고, 개구(82)의 가장자리에 부착된 패이스트(A)(B)는 마스크(81)와 함께 기판(10)으로부터 분리될 수 있다. 따라서, 광도전층(30)의 두께는 전체적으로 균일하지 않으며, 가장자리(31~34)의 두께가 중앙 영역에 비하여 얇아질 수 있다.
도 8은 도 7에 도시된 광도전층(30)에 전극(40)을 형성한 모습을 보여주는 부분 단면도이다. 도 8을 참조하면, 광도전층(30)의 가장자리 영역(D)은 그 두께가 중앙 영역에 비하여 얇다. 이와 같은 중앙영역과 가장자리 영역(D)의 두께의 차이는 촬영된 영상의 품질에 영향을 미친다. 동일한 양(또는 강도)의 엑스선이 입사되는 경우 중앙영역에 비하여 가장자리 영역(D)에서의 전하 발생량이 더 적다. 따라서, 가장자리 영역(D)은 영상의 품질을 담보할 수 없는 사영역(dead zone)이 된다. 유방 촬영의 경우 유방과 몸통과의 경계까지 정밀한 영상을 획득할 필요가 있다. 따라서, 체스트 월(101) 부근의 가장자리 영역(D)에까지 충분한 두께의 광도전층(30)을 형성하여 사영역을 줄일 필요가 있다.
도 8에서 절단선(L)을 따라서 가장자리 영역(D)을 잘라내는 방법을 고려할 수 있으나, 이 경우에는 절단선(L)이 기판(10)에 형성된 전하 검출부(20), 예를 들어 박막 트랜지스터 어레이와 매우 가깝기 때문에 절단과정에서 절단선(L)에 인접한 전하 검출부(20)가 손상될 우려가 있으며, 추가적인 공정이 필요하므로 엑스선 검출기(100)의 제조 비용이 증가될 수 있다.
이하에서, 추가적인 공정없이 스크린 프린팅 방식에 의하여 가장자리 영역(D)에서 충분한 두께의 광도전층(30)을 얻을 수 있는 실시예를 설명한다. 본 실시예에 따르면, 개구(82)의 도 6b의 단계를 수행함으로써 형성되는 개구(82) 내의 패이스트의 두께를 가장자리들 중 적어도 하나에 인접한 영역이 다른 영역에 비하여 두껍게 한다. 이에 의하여, 개구(82)의 가장자리 부근의 패이스트가 도 6c에 도시된 마스크(81)를 기판(10)으로부터 이격시키는 과정에서 개구(82)에 부착되어 손질되더라도 가장자리 부근의 패이스트의 두께가 소망하는 두께로 유지되도록 한다.
도 9는 가장자리 영역(D)에까지 충분한 두께의 광도전층(30)을 얻기 위한 스크린 프린팅용 스퀴지(90)의 일 실시예의 측면도이다. 도 9를 참조하면, 스퀴지(90)는 마스크(81) 상의 패이스트를 얇게 펴는 스퀴징부(91)를 구비한다. 스크리 프린팅 시에 스퀴지(90)는 스퀴징부(91)가 마스크(81)의 상면에 접촉된 상태에서 C방향으로 이동된다. 이에 의하여 마스크(81) 상의 패이스트는 얇게 펴지면서 개구(82) 내에 채워진다. 스퀴징부(91)는 스크린 프린팅 시에 스퀴지(90)의 이동방향(C)에 대하여 직각 방향으로 길이를 가진다. 스퀴징부(91)는 개구(82)의 중앙 영역에 대응되는 제1부분(92)과, 제1부분(92)의 길이방향의 적어도 일측에 위치되고 제1부분(92)에 대하여 오목하게 단차진 제2부분(93)을 구비한다. 스퀴지(90)는 예를 들어 아크릴, 고무 등으로 제조될 수 있다.
도 10은 도 9에 도시된 스퀴지(90)를 이용하여 스크린 프린팅을 수행하는 모습을 보여주는 단면도이다. 도 11은 도 10에 도시된 스크린 프린팅 공정 후의 광도전층(30)에 전극(40)을 형성한 모습을 보여주는 부분 단면도이다.
도 10을 참조하면, 참조부호 "E"로 표시된 바와 같이 제1부분(92)에 대하여 오목한 제2부분(93)으로 인하여 스크린 프린팅 후에 개구(82)의 가장자리 영역, 즉 광도전층(30)의 가장자리(31) 부근의 두께가 다른 영역에 비하여 두껍게 형성된다. 따라서, 마스크(81)를 분리할 때에 도 7의 참조부호 A, B로 표시된 바와 같이 패이스트가 일부 마스크(81)에 묻어서 기판(10)으로부터 분리되더라도, 도 11에 도시된 바와 같이 가장자리(31) 부근의 광도전층(30)의 두께가 소망하는 두께로 유지될 수 있다.
제2부분(93)은 체스트 월(101)에 인접한 가장자리(31)에 대응되는 위치에 마련될 수 있다. 케이스(70)의 두께, 예를 들어 약 1.5mm를 고려하여 광도전층(30)의 체스트 월(101)에 인접한 가장자리(31)와 체스트 월(101) 사이의 간격(R)을 약 2mm 이하로 하기 위하여는, 예를 들어 개구(82)의 가장자리로부터 내측으로 약 0.4mm 까지 비유효영역이 될 수 있다. 따라서, 제2부분(93)은 개구(82)의 가장자리로부터 내측으로 약 0.4mm 이상 연장될 수 있으며, 공정 마진을 포함하여 개구(82)의 가장자리로부터 내측으로 약 0.5mm 이상 연장될 수 있다. 즉, 도 10에서 M1은 약 0.5mm 이상일 수 있다. 이에 의하여, 체스트 월(101)에 인접한 가장자리(31)와 체스트 월(101) 사이의 비활성 영역의 범위를 약 0.5mm 이하로 제한하여, 광도전층(30)의 체스트 월(101)에 인접한 가장자리(31)와 체스트 월(101) 사이의 간격(R)을 약 2mm 이하로 할 수 있다.
또한, 제2부분(93)의 제1부분(92)에 대한 단차량(M2)은 마스크(90)를 분리할 때에 함께 분리되는 패이스트의 두께를 감안하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 개구(82)의 가장자리 부근의 패이스트가 100% 손실되는 것은 아니므로, 제2부분(93)의 제1부분(92)에 대한 단차량(M2)은 광도전층(30)의 두께, 다시 말하면 개구(82)의 두께보다 작을 수 있다. 단차량(M2)은 패이스트의 점도, 개구(82)의 크기 등을 고려하여 개구(82)의 두께의 100% 미만의 범위 내에서 적절히 결정될 수 있다.
상술한 구성에 의하여, 광도전층(30)의 체스트 월(101)과 인접한 가장자리(31) 부근에서도 소망하는 두께를 확보할 수 있어, 체스트 월(101) 부근의 사영역을 줄일 수 있다. 따라서, 유방 촬영시의 화상 품질을 확보할 수 있으며, 병변의 존재 여부를 더 정확한 진단할 수 있다. 또한, 제조 공정에서 절단 등의 추가적인 공정없이 사영역을 최소화할 수 있어, 공정 비용을 절감할 수 있으며, 절단으로 인한 전하 검출부(20)의 손상 위험을 줄일 수 있어 수율을 향상시킬 수 있다.
도 9에서는 제1부분(92)과 제2부분(93)이 평행한 형태의 스퀴지(90)를 예로써 설명하였으나, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 도 12에 도시된 바와 같이, 제2부분(93)은 제1부분(92)으로부터 경사지게 연장된 사선 형태일 수도 있다. 또한, 도 13에 도시된 바와 같이 제2부분(93)은 제1부분(92)으로부터 연장된 곡선 형태일 수도 있다. 이외에도 제2부분(93)의 형태는 마스크(81)를 분리할 때에 손실되는 패이스트의 양을 보상할 수 있는 다양한 형태를 가질 수 있다.
또한 도 9에서는 제2부분(93)이 제1부분(92)의 길이방향의 일측에 마련된 형태가 도시되어 있으나, 제2부분(93)은 제1부분(92)의 길이방향의 양에 마련될 수도 있다.
이상에서 예시적인 실시예들을 통하여 기술적 내용을 설명하였으나, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.
1...피검체 10...기판
20...전하 검출부 21...전하수집전극
22...박막 트랜지스터 30...광도전층
40...전극 50...보호막
61, 62, 63...연결부 70...케이스
81...마스크 82...개구
90...스퀴지 91...스퀴징부
92...제1부분 93...제2부분
100...엑스선 검출기 101...체스트 월
200...엑스선 발생기 300...신호 처리부
400...디스플레이 장치

Claims (12)

  1. 엑스선을 받아 전하를 발생시키는 광도전층과, 상기 전하를 검출하는 다수의 전하 검출부가 배열된 기판과, 상기 광도전층 상에 위치되는 전극을 포함하는 엑스선 검출부;
    상기 엑스선 검출부를 수납하는 케이스;를 포함하며,
    상기 케이스의 체스트 월과, 상기 광도전층의 상기 체스트 월에 인접한 가장자리 사이의 간격은 2mm 이하인 엑스선 검출기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판에는 상기 전하 검출부와 전기적으로 연결되는 연결부가 마련되며,
    상기 연결부는 상기 케이스의 상기 체스트 월을 제외한 가장자리 부근에 위치되는 엑스선 검출기.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 광도전층의 두께는 100~200㎛인 엑스선 검출기.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전하 검출부는 박막 트랜지스터를 포함하는 엑스선 검출기.
  5. 엑스선 검출기의 제조방법으로서,
    (가) 다수의 전하 검출부가 배열된 기판 상에, 개구가 마련된 마스크를 올려놓는 단계;
    (나) 엑스선을 받아 전하를 발생시키는 광전변환물질을 포함하는 패이스트를 상기 개구에 채우는 단계;
    (다) 상기 마스크를 상기 기판으로부터 이격시켜 상기 패이스트에 의하여 광도전층을 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 (나) 공정에 의하여 형성되는 상기 개구 내의 패이스트의 두께는 상기 개구의 가장자리들 중 적어도 하나에 인접한 영역이 다른 영역에 비하여 두꺼운 엑스선 검출기의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (나) 단계는 스프린 프린팅 방식에 의하여 수행되는 엑스선 검출기의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 (나) 단계는 스퀴지의 스퀴징부가 상기 마스크에 접촉된 상태로 상기 스퀴지를 이동시키면서 상기 마스크 상의 패이스트를 상기 개구에 채워넣은 단계;를 포함하며,
    상기 스퀴징부는 상기 개구의 중앙영역에 대응되는 제1부분과, 상기 스퀴징부의 길이방향으로 상기 제1부분의 일측에 위치되고 상기 제1부분으로부터 오목하게 단차진 제2부분을 포함하는 엑스선 검출기의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제2부분은 상기 제1부분과 평행한 엑스선 검출기의 제조 방법.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제2부분은 사선 형태인 엑스선 검출기의 제조 방법.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제2부분은 곡선 형태인 엑스선 검출기의 제조 방법.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 제1부분에 대한 상기 제2부분의 단차량은 개구의 두께보다 작은 엑스선 검출기의 제조 방법.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 제1부분은 상기 개구의 가장자리로부터 내측으로 약 0.5mm 이상 연장된 엑스선 검출기의 제조방법.
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