KR20160014792A - 입자를 처리하기 위한 장치 어셈블리 및 그 방법 - Google Patents

입자를 처리하기 위한 장치 어셈블리 및 그 방법 Download PDF

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펭후이 니우
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게리 이 클랩
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Abstract

입자들을 준비(preparation), 채취(harvesting)및 수집(collection)하기 위한 장치 어셈블리(equipment assembly)가 개시되어 있다. 장치 어셈블리는, 하나 이상의 고압 필터, 하나 이상의 저압 필터 및 하나 이상의 수집 용기를 지닌 직렬식 필터 시스템을 포함한다. 입자들은, 연속적, 반-연속적 또는 배치-타입 작동으로 준비, 채취 및 수집될 수 있다. 또한 직렬식 필터 시스템 및 사용 방법이 개시되어 있다. 어셈블리 및 인스턴트 방법(instant methods)에 따라 만들어진 입자들이 개시되어 있다. 어셈블리는 다른 시스템 이상으로 향상된 입자 채취 및 수집을 제공하며, 특히 초임계 안티-솔벤트 내의 용질-함유 프로세스 유체의 분산에 의해 연속적인 입자 형성을 가능하게 한다.

Description

입자를 처리하기 위한 장치 어셈블리 및 그 방법{EQUIPMENT ASSEMBLY AND METHOD OF PROCESSING PARTICLES}
본 발명은 입자를 처리하기 위한 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 초임계 유체에서 부유하는 입자들을 처리하기 위한 직렬식 여과시스템(tandem filtration system)에 관한 것이다. 또한 오염물을 제거하거나 그들을 분류하기 위해 입자들을 처리하기 위한 방법이 제공된다.
입자들은, 하나 이상의 솔벤트에 용해되는 화합물과 같은, 가용성 화합물을 안티-솔벤트에 추가함에 의해 제공될 수 있다. 이런 처리과정은 많은 상이한 사이즈 분포로 입자들을 준비하기 위해 사용될 수 있다. 그러나, 이러한 처리과정의 주요 단점은 입자들의 표면 및/또는 내부에 솔벤트 및/또는 안티-솔벤트의 포획(entrapment)에 있다.
일반적으로 입자들로부터의 솔벤트의 제거는 안티-솔벤트의 추가 량으로 입자들을 세척하는 것을 포함하는데, 이는 불행하게도 안티-솔벤트가 매우 휘발성이있지 않는 한 안티-솔벤트를 지닌 입자들의 포화(saturation)를 초래한다. 이러한 이유로, 초임계 유체(SCF,supercritical fluid)가 안티-솔벤트로 종종 사용된다. SCF는, 특히 초임계 카본 디옥사이드(supercritical carbon deoxide)는, 매우 휘발성이어서 입자들로부터 쉽게 제거된다. 그러나 솔벤트는 SCF보다 덜 휘발성이어서 제거하는데 더 어렵다.
초임계 카본 디옥사이드의 극단적인 휘발성으로 인해, 입자들이 초임계 카본 디옥사이드로부터 먼저 물리적으로 분리되지 않으면 초임계 카본 디옥사이드로부터 입자들을 효과적으로 채취(harvest)하는 것이 도전이다. 여과는, 반복되는 세척 사이클이 허용되는 동안에 SCF로부터 입자를 분리하는데 영향을 미치기 위해 사용되는 가장 일반적인 접근법이다. 그러나, 마이크로입자 또는 나노입자가 처리되는 경우, 필터의 부착물로 인해 SCF로부터 입자들을 분리하기가 더 어렵고, 처리가 실행되는 경우 필터가 더러워지지 않게(막히지 않게) 하는 것이 어렵다. 또한, 입자들을 분리하는데 사용되는 일반적인 필터는 플랫 데드-앤드 필터(flat dead-end filters)인데, 이는 입자들을 채취하기 위해 개방되어야만 한다. 이러한 요구들은 입자의 지속적인 처리 및 채취를 달성하는 것을 매우 어렵게 한다.
초임계 유체에서 약품, 미네랄, 금속 또는 토너 입자의 처리를 위한 수많은 장치 및 프로세스가 개시되어 있다: U.S. 6,270,732, U.S.　5,584,913, U.S. 5,571,299, U.S. 5,460,701, U.S. 4,881,722, U.S. 5,874,029, U.S. 5,874,684, U.S.　6,113,795, U.S. 5,961,835, U.S.　5,527,466, U.S. 7,740,775, U.S. 7,635,442, U.S. 7,175,886, U.S. 7,250,152, U.S.　7,279,181, U.S. 7,449,136, U.S. 6,916,389, U.S. 7,291,296, U.S. 7,332,111, U.S. 7,150,766, U.S. 6,860,907, U.S. 6,440,337, U.S. 6,830,714, U.S. 6,620,351, U.S. 5,981,474, U.S. 8,323,685, U.S. 8,323,615, U.S. 8,215,489, U.S. 6,998,051, U.S. 5,864,923, U.S. 7,455,797, U.S. 20020010982, 및 U.S. 20010051118. 이러한 시스템은 일반적으로 데드-엔드 필터, 싸이클론, 백 필터(bag filter), 뎁스 필터(depth filters) 또는 다른 그런 타입들을 사용한다. 많은 이러한 시스템들은, 입자들을 제거하기 위해 프로세스 경로(process stream)에서 작동의 정지(halting) 및 구성요소의 개방(opening)을 필요로하기 때문에 지속적으로 작동될 수 없다. 프로세스에 기반한 초임계 유체의 중요한 양상은, 초임계 압력 및 온도가 SCF로부터 솔벤트(용매)의 상 분리(phase separation)를 방지하고 다시 솔벤트에 용질의 재용 해를 방지하기 위해 여과 단계(filtration step)에 걸쳐 유지되어야 한다는 것이다. 이것은 입자 형성이 지속적으로 수행되는 경우에 달성하기 어렵다.
작은 입자들, 특히 SCF 에서 준비된 작은 입자들의 준비, 채취 및 수집을 위한 향상된 장치 및 프로세스가 필요하다. 특히, 입자 수집을 최소로 허용하고 또는 압자 형성 단계의 중단 없이 지속적으로 또는 반-지속적으로 작동될 수 있는 고 처리량 시스템이 필요하다.
본 발명은 초임계 유체에서 부유하는 입자들을 처리하기 위한 직렬식 여과시스템에 관한 것이며, 또한 오염물을 제거하거나 그들을 분류하기 위해 입자들을 처리하기 위한 방법을 제공한다.
본 발명은 종래 기술에서 내재된 일부 또는 모든 단점들을 극복하는 것을 추구한다. 본 발명은 입자들의 준비(preparation), 채취(harvesting)및 수집(collection)에 적합한 장치 어셈블리(equipment assembly)를 제공한다. 본 발명은 입자들의, 특히 마이크로입자들 및 나노입자들의 솔벤트/안티-솔벤트 형성에 사용하는 프로세스에 특히 적합하다. 본 발명은 적어도 하나의 고압 필터, 적어도 하나의 저압 필터 및 적어도 하나의 수집 용기(collection vessel)를 포함하는 직렬식 여과시스템(tandem filtration system)을 사용한다. 직렬식 여과시스템은 입자가 형성되는 침전챔버(precipitation chamber)의 아래쪽(downstream)에 배치된다.
작동 동안에, 침전 유체(적어도 하나의 용질을 위한 안티-솔벤트를 포함하는)는 침전챔버로 충전된다. 공정 유체(process fluid)(적어고 하나의 솔벤트에 용해된 적어도 하나의 용질을 포함하는)는 침전 유체에 액적으로 분산되므로, 솔벤트가 공정 유체의 액적으로부터 멀리 확산되어 침전 유체로 들어가며, 그로인해 용질이 안티-솔벤트에 침전한다. 입자-함유 침전 매질(particle-containing precipitation milieu)은 침전챔버로부터 고압 채취 필터까지 수행되며, 그로인해 솔벤트/안티-솔벤트 혼합물은 채취 필터의 다공성 엘리먼트의 표면에서 축적되는 입자로부터 분리된다. 그 후 깨끗한 안티-솔벤트의 충전(charge)은, 입자로부터 잔류 솔벤트(residual solvent)를 제거하기 위해 침전 매질로서 동일한 방향으로 채취 필터를 통해 흐르게된다. 그후에 채취 필터의 내부 압력이 감소되어 저압 가스가 침전 매질의 역 방향(reverse direction)으로 통과되며, 그 때문에 다공성 엘리먼트의 표면에서 입자를 제거(dislodging)한다. 가스는 입자를 저압 수집 필터(low pressure collection filter)로 안내하며, 그로인해 가스는 수집 필터의 다공성 엘리먼트의 표면에서 입자로부터 분리된다. 이후 입자는 중력으로 인해(중력의 도움으로 또는 중력에 의해 강제로) 수집 용기(collection vessel)로 낙하한다.
본 발명의 직렬식 여과시스템은, 만약 입자에서 원하지 않는 구성요소(들)을 제거하기를 원한다면, 입자를 수집하기 위해 사용될 수 있으며 심지어 입자를 세척/린스하기 위해 사용될 수 있다. 채취 필터는, 반복된 세척에 의해 입자에서 오염물을 제거하기 위해, 또는 입자에서 솔벤트를 제거하기 위해, 추출에 의해 입자로부터 화합물을 추출하기 위해 사용될 수 있다. 필터는, 안티-솔벤트에서, 특히 초임계 안티-솔벤트에서, 다른 것들 중 입자를 채취하고 입자를 세척하기 위해 사용될 수 있다. 따라서, 입자들에서 원하지 않는(불필요한) 구성요소(들)는 안티-솔벤트에 용해될 것이다.
본 발명의 양상은 고압 입자 채취 여과(필터)시스템(high pressure particle harvesting filter system)을 제공하는데, 상기 고압 입자 채취 여과(필터)시스템은,
세로 프로세스 캐비티를 형성하며, 아래쪽으로 뾰족한(downwardly-pointing) 원추(테이퍼진)부분, 적어도 하나의 유입 포트(inlet port) 및 적어도 하나의 유출 포트(outlet port)를 포함하는 고압 하우징(high pressure housing);
유입 포트와 결합되며, 입자들 및 안티-솔벤트를 포함하는 고압 액체 입자 현탁액(suspension)을 제공하게끔 구성되는 액체 입자 현탁액 공급 라인(liquid particle suspension supply line);
유출 포트와 결합되며, 저압 불활성 가스(low-pressure inert gas)를 제공하게끔 구성되는 가스 공급 라인;
하우징의 온도를 조절하기 위한 온도 조절기(temperature controller); 및
캐비티 내로 연장되며, 적어도 하나의 유출 포트와 전도성으로 결합되는 세로 내부 도관(inner conduit)을 형성하는 다공성 벽(porous wall)을 포함하는 적어도 하나의 세로 다공성 엘리먼트; 를 포함하며, 여기에서 상기 다공성 엘리먼트는 유출 포트와 직접 또는 간접적 전도성으로(conductively) 결합되며, 상기 여과시스템은 제1 순 프로세스 방향(first foward process direction)으로 고압 입자 현탁액을 받아들이게끔 구성되며, 제2 역 프로세스 방향(second reverse process direction)으로 저압 불활성 가스를 받아들이게끔 구성되며, 여기에서 프로세스 방향은 다공성 엘리먼트를 통하는 흐름에 관한 것이다.
본 발명의 일부 실시예는 포함한다:(1)채취 여과시스템은 수집 용기를 더 포함하며; 2)수집 용기는 통기되며(vented); 3)프로세스 캐비티(process cavity)는, 그의 세로 축을 따라 수직으로 지향되며; 4)수직 지향은 지면에 직교하거나 플럼 보브 라인(plumb bob line)의 선형 축에 평행하며; 5) 적어도 하나의 유입 포트는 가스 입자 현탁(액)(gaseous particle suspension)을 위한 유출 포트로서 이용되게끔 구성되며; 6)다공성 엘리먼트 및 하우징은 원통형이며; 7)온도 조절기는 하우징 주위의(둘러싸는) 가열 및/또는 냉각 재킷(heating and/or cooling jacket)을 포함하며; 8)원추형 부분의 기하학 구조는, 약 25 내지 약125㎜의 직경을 갖는 상부 넓은 단부이고, 약 5 내지 약 50㎜의 직경을 갖는 하부 좁은 단부이며 원추형 부분은 그 길이에 있어 약 50 내지 약 250㎜ 이며; 9)프로세스 캐비티는, 다공성 엘리먼트가 배치되는 선형 원통형 부분(linear cylindrical portion)을 더 포함하며; 10)다공성 엘리먼트의 외부 면 및 프로세스 캐비티(process cavity)의 내부 면 사이의 간격은, 약 5 내지 약 100㎜, 약 20 내지 약 100㎜, 약 40 내지 약100㎜, 약 60 내지 80㎜, 약 70㎜ 의 범위에 있으며; 11)유출 포트는, 예컨대 액체를 위한 유출구 및 기체를 위한 유입구로서 이용되게끔 가역-흐름 포트(reversible-flow port)로서 구성되며; 12)내부 도관의 직경은 약 5 내지 약 60㎜, 약 10 내지 약 50㎜, 약 15 내지 약 35㎜, 약 20 내지 30㎜, 약 25㎜ 의 범위이며; 13)다공성 엘리먼트의 외부 직경은 약 10 내지 약 60㎜, 약 15 내지 약 35㎜, 약 20 내지 30㎜, 약 25㎜ 의 범위에 있으며; 14)액체 입자 현탁액은 입자들, 안티-솔벤트 및 솔벤트를 포함하며; 15)시스템은, 액체 입자 현탁액의 흐름을 채취 필터로 유도하고 채취 필터로부터 가스 입자 현탁액을 유도하는 하나 이상의 밸브를 더 포함하며; 16) 여과 하우징(filter housing)의 프로세스 캐비티의 부분은 원통형, 장방형, 타원형 또는 구형이다. 다공성 엘리먼트는 프로세스 캐비티 내에 배치될 수 있어서, 그 표면은, 다공성 엘리먼트의 표면을 통해서 또는 걸쳐서 유체의 전체 흐름에 대하여 또는 캐비티의 선형 축에 대하여, 접선을 이루고, 수직을 이루며, 또는 비-수직 각도(1-89°, 20-80°, 30-60°, 약 30°, 약 45°또는 약 60°)로 된다.
본 발명의 다른 양상은 저압 입자 수집 여과시스템(low pressure particle collection filter system)을 제공하는데, 저압 입자 수집 여과시스템은,
세로 프로세스 캐비티를 형성하며, 적어도 하나의 유입 포트, 적어도 하나의 가스 유출 포트 및 적어도 하나의 입자 유출 포트를 포함하는 저압 하우징; 및
적어도 하나의 유입구와 결합되며, 입자 및 가스를 포함하는 저압 가스 입자 현탁액을 제공하게끔 구성되는 가스 입자 현탁액 공급 라인(gaseous particle suspension supply line);
캐비티 내로 연장되며, 적어도 하나의 유입 포트 및 적어도 하나의 입자 유출 포트와 전도성으로 결합되는 세로 내부 도관을 형성하는 다공성 벽을 포함하는 적어도 하나의 세로 다공성 엘리먼트; 를 포함하며, 여기에서 여과시스템은 순 프로세스 방향(foward process direction)으로 저압 가스 입자 현탁액을 받아들이게끔 구성되며, 다공성 엘리먼트는 입자를 유지하고, 적어도 하나의 가스 유출구로 가스의 통과(passage)를 허용하게끔 구성되며; 다공성 엘리먼트의 도관은, 적어도 하나의 입자 유출 포트를 통해서 중력에 의해 입자들이 낙하되게 지향된다.
본 발명의 일부 실시예는 포함한다: 1)시스템은 입자 수집 용기를 더 포함하며; 2)수집 용기는 통기되며(vented); 3)내부 도관은 그의 세로 축을 따라 수직으로 지향되며(vertically oriented), 4)수직 지향은 지면에 직교하거나 플럼 보브 라인(plumb bob line)의 선형 축(linear axis)에 평행하며; 5)적어도 하나의 유입 포트는 가스 입자 현탁액을 받아들이게끔 구성되며; 6)다공성 엘리먼트는 원통형이며; 7)다공성 엘리먼트의 내부 도관은, 약 5 내지 약 60㎜, 약 10 내지 약 50㎜, 약 15 내지 35㎜, 약 20 내지 30㎜, 약 25㎜ 의 범위의 내부 직경을 갖으며; 8)시스템은, 하우징의 가스 유출구로부터 다공성 엘리먼트까지(역 작동 방향) 가스를 파동시키게끔 구성된 가스 펄싱 시스템(gas pulsing system)을 더 포함하며; 9)수집 용기는 다공성 엘리먼트의 아래에 또는 다공성 엘리먼트 아래의 레벨에 배치되며; 10)수집 용기의 통기구(vent)는 여과 매체(filtration medium)를 포함하며; 11)시스템은, 가스 입자 현탁액의 흐름을 수집 필터로 유도하게끔 유입 포트의 위쪽에(upstream) 하나 이상의 밸브를 더 포함하며; 및/또는 12)시스템은 유출 포트의 아래쪽에(downstream) 하나 이상의 밸브를 더 포함한다.
일부 실시예에서, 다공성 엘리먼트는, a)실질적으로 전체에 걸쳐 동일한 다공성을 포함하며; b)제1 다공성 부분 및 제2 다공성 부분을 포함하는데, 여기에서 제1 부분의 기공들(pores)의 평균 직경은 제2 부분의 기공들의 평균 직경보다 더 크며; 및/또는 c)각각의 기공들의 평균 직경이 상이한 두개의 실질적으로 같은 넓이를 가지는(coextensive) 다공성 부분을 포함한다. 일부 실시예에서, 제1 다공성 부분(porous portion)은 약 0.3-0.6 마이크론의 평균 기공 직경을 갖으며, 제2 다공성 부분은 약 0.02-0.10 마이크론의 평균 기공 직경을 갖는다. 다공성 엘리먼트는 튜브(tube) 또는 플레이트(plate) 일 수 있다. 일부 실시예에서, 부분은 박층(lamina)이며, 다공성 엘리먼트는 두개 이상의 박층들을 포함한다.
일부 실시예에서, 고압 필터(high pressure filter)는 하나 또는 복수 개, 예컨대, 둘, 셋, 넷 또는 그 이상의 다공성 엘리먼트들을 포함한다. 일부 실시예에서, 다공성 엘리먼트는 필터 어셈블리의 상부 부분과 전도성으로 결합된다. 다른 실시예에서, 다공성 엘리먼트는 필터 어셈블리의 하부 부분과 전도성으로 결합된다. 하나 이상의 다공성 엘리먼트들은, 필터 어셈블리의 프로세스 캐비티의 볼륨의 약 90%, 약 50%, 약 25%, 또는 약 10% 까지 함께 사용(occupy)할 수 있다.
본 발명의 또 다른 양상은 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리를 포함하는데, 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리는,
a)SCF 유입구, 프로세스 유체 유입구, 유체 유출구, 챔버로 프로세스 유체를 분산시키게끔 형성된 프로세스 유체 분산기(process fluid disperser)를 포함하는 가압가능한 침전챔버(pressurizable precipitation chamber)를 포함하는 고압 입자 형성 시스템(high pressure particle formation system)을 포함하며, 여기에서 시스템은 입자-함유 고압 액체 현탁액을 형성하게끔 구성되며; 그리고
b)직렬식 여과 입자 수집 시스템을 포함하는데, 직렬식 여과 입자 수집 시스템은, 1)입자 형성 시스템으로부터 입자-함유 고압 액체 현탁액을 받아들이게끔 그리고 입자-함유 저압 가스 현탁액을 형성하게끔 구성되는 적어도 하나의 고압 채취 필터, 2)채취 필터에 대해 직렬식(in tandem)이며 채취 필터로부터 입자-함유 저압 가스 현탁액을 받아들이고, 입자로부터 가스를 분리하고 입자들을 수집 용기로 안내하게끔 구성되는 적어도 하나의 저압 수집 필터, 및 3)입자들을 수집하고 받아들이게끔 구성되는 적어도 하나의 수집 용기를 포함한다.
본 발명의 또 다른 양상은 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리를 포함하는데, 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리는,
a)SCF 공급 시스템;
b)프로세스 유체 공급시스템;
c)SCF 유입구, 프로세스 유체 유입구, 유체 유출구, 챔버로 프로세스 유체를 분산시키게끔 형성된 프로세스 유체 분산기(process fluid disperser)를 포함하는 가압가능한 침전챔버(pressurizable precipitation chamber)를 포함하는 적어도 하나의 입자 형성 시스템; 및
d)입자 형성 시스템에 연결되며, 적어도 하나의 고압 채취 필터 및 적어도 하나의 저압 수집 필터를 포함하는 적어도 하나의 직렬식 필터 입자 여과시스템을 포함하는데, 여기에서 수집 필터는 채취 필터의 아래쪽에 있으며; 그리고
e)입자 여과시스템에 연결되며, 적어도 하나의 수집 용기를 포함하는 적어도 하나의 수집 시스템; 을 포함한다.
본 발명의 일부 실시예는 포함한다: 1)분산기는 진동가능한 부재(vibratable member)를 포함하며; 2)진동가능한 부재는 노즐(nozzle), 플레이트(plate) 또는 메시(mesh)이며; 3)분산기는 적어도 하나의 압전성 구성요소(piezoelectric component)를 포함하는 진동기(vibrator)를 포함하며; 4)분산기는 SCF를 위한 도관 및 프로세스 유체를 위한 도관을 포함하며; 5)분산기는 진동기 및 진동가능한 부재를 포함하며; 6)분산기는 진동기 및 노즐, 플레이트 또는 메시를 포함하며; 7)장치 어셈블리(equipment assembly)는 적어도 두개의 직렬식 필터 입자 여과시스템을 포함하며; 8)적어도 두개의 직렬식 필터 입자 여과시스템은 평행하게(병렬로)(in parallel) 배치되며, 교대로 작동하게끔(operate alternately)구성되며; 9)적어도 두개의 직렬식 필터 입자 여과시스템은 평행하게 배치되며, 동시에 작동하게끔 구성되며; 10)장치 어셈블리는 적어도 두개의 수집 시스템(collection systems)을 포함하며; 11)분산기는 작동 중에 정상 초음파(standing ultrasonic wave)를 발생시키는 수렴 또는 분기 노즐(converging or diverging nozzle)을 포함하며; 12)시스템은 하나 이상의 밸브, 하나 이상의 작동기(actuators), 하나 이상의 배압 조절장치(back pressure regulators), 및/또는 하나 이상의 유량조절기(flow controller)를 더 포함하며; 13)시스템은 하나 이상의 밸브, 하나 이상의 작동기, 하나 이상의 배압 조절장치, 및/또는 하나 이상의 유량조절기의 작동을 제어하기 위한 소프트웨어 또는 로직을 더 포함하며; 14)분산기는 모세관 노즐(capillary nozzle)을 포함하며; 및/또는 15)시스템은, 시스템의 하나 이상의 구성요소의 작동을 제어하기 위해 적응된 소프트웨어 또는 로직을 포함하는 메모리 저장 매체를 갖는 하나 이상의 컴퓨터를 더 포함한다.
본 발명의 또 다른 양상은 입자들의 현탁액을 프로세싱하는 방법을 제공하는데, 방법은,
a)직렬식 필터 장치 어셈블리를 제공하는데: 직렬식 필터 장치 어셈블리는, 1)적어도 하나의 고압 채취 필터; 2)적어도 하나의 저압 수집 필터; 3)적어도 하나의 수집 용기; 를 포함하며;
b)입자들의 SCF 액체 현탁액을 제공하며;
c)필터에 입자들을 유지시키게끔 순 방향으로 SCF 액체 현탁액을 채취 필터를 통해 흐르게 함에 의해 SCF 액체 현탁액을 필터링하며;
d)역 방향으로 저압 가스를 채취 필터를 통해 흐르게 함에 의해 채취 필터로부터 입자들을 제거하고, 가스 현탁액으로서 입자들을 저압 수집 필터로 안내하며(conducting);
e)순 방향으로 가스 현탁액을 수집 필터를 통해 흐르게 함에 의해 가스로부터 입자들을 분리하며;
f)입자들을 수집 용기로 안내하고 입자들을 수집 용기에 수집하는 것을 포함한다.
일부 양상에 있어서, 본 발명은 본 발명의 프로세스에 따라 만들어진 파우더 또는 본 발명의 시스템으로 만들어진 파우더를 제공한다.
본 발명의 일부 실시예는 포함한다: 1)채취 필터는 고압 필터이며; 2)프로세스는 순 방향으로 깨끗한(솔벤트 또는 입자들을 포함하지 않은)SCF 액체를 채취 필터로 충전하는 것을 더 포함하며; 3)프로세스는 채취 필터의 내부 압력을 감소시키는 것을 더 포함하며; 4)프로세스는 입자들을 중력에 의해 수집 용기로 강행(forcing)시키는 것을 포함하며; 5)고압 필터 및 침전챔버는 약 800 내지 약 3000psi, 약 1000 내지 약 2000psi, 또는 약 1,100 내지 약 1,400psi 에서 작동하게끔 적응되며; 및/또는 6)그들의 조합으로 적응된다.
장치 어셈블리는 더 포함할 수 있다; a)하나 이상의 입자 채취 필터; b)하나 이상의 입자 수집 필터; c)하나 이상의 통기 수집 용기(vented collection vessel); d)하나 이상의 압력센서; e)하나 이상의 온도센서; f)하나 이상의 침전챔버, 수집필터, 엠프팅 필터(emptying filter) 및 수집용기를 적어도 부분적으로 둘러싸는 하나 이상의 온도 조절기(temperature controller); g)scCO2를 위한 하나 이상의 히터; h)프로세스 유체 및/또는 scCO2를 펌핑하기 위한 하나 이상의 펌프; i)하나 이상의 솔벤트 분리 용기; j)하나 이상의 솔벤트 수집 용기; k) 시스템은 하나 이상의 인-라인 센서(in-line sensors)를 더 포함하며; l) 인-라인 센서는 스펙트로포토메릭 센서(spectrophotometric sensor), 입자 사이즈 센서, 압력센서, 온도센서, 적외선센서, 근적외선센서, 및 자외선센서로 구성된 그룹으로부터 선택될 수 있으며; 또는 k)그들의 임의의 조합으로 선택될 수 있다.
본 발명의 일부 실시예는 포함한다: a)장치 어셈블리는 두개의 입자 채취 필터, 두개의 입자 수집 필터 및 두개의 수집 용기를 포함하며; b)장치 어셈블리는 두개의 입자 채취 필터, 하나의 입자 수집 필터 및 하나 이상의 수집 용기를 포함하며; c)장치 어셈블리는 두개의 입자 채취 필터, 두개의 입자 수집 필터 및 하나 이상의 수집 용기를 포함하며; d)장치 어셈블리는 두개의 입자 채취 필터, 하나의 입자 수집 필터 및 하나 이상의 수집 용기를 포함하며; e)장치 어셈블리는 평행으로 배치되는 두개의 직렬식 필터 입자 채취 및 수집 시스템을 포함하며; f)장치 어셈블리는 평행으로 배치되는 두개 이상의 입자 채취 필터, 평행으로 배치되는 하나의 입자 수집 필터 및 두개 이상의 수집 용기를 포함하며; g)장치 어셈블리는 두개 이상의 침전챔버를 포함하며; 또는 h)그들의 임의의 조합을 포함한다.
본 발명은 여기에 개시된 실시예 및 양상들의 모든 조합을 포함한다.
본 발명에 따른 직렬식 여과시스템은 초임계 유체에서 부유하는 입자들을 처리하기 용이하며, 또한 오염물을 제거하거나 그들을 분류하기 위해 입자들을 처리하기 용이하다.
다음의 도면들을 본 설명의 일부를 형성하며 청구된 발명의 예시적인 실시예를 설명한다. 당업자는 이들 도면 및 설명을 감안하여 과도한 실험없이도 본 발명을 실행할 수 있을 것이다.
도 1은 직렬식 필터 입자 여과시스템 또는 단일-필터 입자 여과시스템을 포함하는 본 발명의 예시적인 입자 형성, 분리 및 수집시스템(1)을 도시한 도면이다.
도 2는 평행으로 배치되며 교대로 또는 동시에 작동하게 구성된 두개의 예시적인 직렬식 필터 입자 여과시스템을 포함하는 예시적인 입자 형성, 분리 및 수집시스템(25)의 대안적 실시예를 도시한 도면이다.
도 3은 예시적인 직렬식 필터 입자 여과시스템 및 평행하게 배치된 추가 채취 필터를 포함하는 예시적인 입자 형성, 분리 및 수집시스템(35)을 도시한 도면으로, 두개의 채취 필터가 평행하게 배치되며 동시에 또는 교대로 작동하게 구성된다.
도 4는 평행하게 배치되며 교대로 작동하게 구성된 두개의 예시적인 직렬식 필터 입자 여과시스템을 포함하는 예시적인 입자 형성, 분리 및 수집시스템(45)의 대안적 실시예를 도시한 도면이다.
도 5는 평행하게 배치되며 교대로 작동하게 구성된 두개의 예시적인 입자 채취 필터, 하나의 입자 수집 필터, 및 평행하게 배치되며 교대로 작동하게 구성된 두개의 수집 용기를 포함하는 예시적인 입자 형성, 분리 및 수집시스템(46)의 대안적 실시예를 도시한 도면이다.
도 6은 예시적인 고압 채취 필터(50)의 부분 측단면을 도시한 도면이다.
도 7은 다른 예시적인 고압 채취 필터(65)의 부분 측단면을 도시한 도면이다.
도 8은 작동중인 예시적인 저압 수집 필터(77)가 수집 용기에 연결된 측단면을 도시한 도면이다.
도 9는 다공성 엘리먼트의 예시적인 실시예의 측단면도이다.
도 10은 다공성 엘리먼트의 다른 예시적인 실시예의 측단면도이다.
도 11a-11e는 도 9의 다공성 엘리먼트를 사용하는 예시적인 고압 필터의 부분 측단면도이다.
도 12a-12e는 도 10의 다공성 엘리먼트를 사용하는 예시적인 고압 필터의 부분 측단면도이다.
도 13은 편평한 플레이트의 형태의 예시적인 다공성 엘리먼트의 측단면도이다.
도 14a,14b,15a,15b,16a,16b,17a 및 17b는 도 13의 다공성 엘리먼트를 사용한 예시적인 고압 필터의 부분 측단면도이다.
본 발명의 양상 및 실시예는 입자 형성(particle formation), 분리(separation) 및 수집(collection)시스템, 직렬식 필터 입자 분리 및 수집시스템(tandem filter particle separation and collection system), 고압 채취 필터(high pressure harvesting filter), 저압 수집 필터(low pressure collection filter), 입자를 형성(forming)하고 분리(separating)하며 수집(collecting)하는 방법 및 입자를 처리(treating)하는 방법을 포함한다.
장치 어셈블리(1, 도 1의 구성도)는 안티-솔벤트에 분산된 용질-함유 프로세스 유체로부터 용질(solute)의 침전에 의해 입자를 준비하는데 사용된다. 프로세스 유체공급시스템(3)으로부터의 프로세스 유체(process fluid)는 침전챔버(2,precipitation chamber)의 유입구(25,inlet)를 통해서 노즐(4)에 진입한다. 동시에, 안티-솔벤트 공급시스템(5)으로부터의 안티-솔벤트(anti-solvent)가 노즐을 통해 흐르게 되며, 그로인해 프로세스 유체 및 안티-솔벤트는 친밀하게 혼합되어 안티-솔벤트로 프로세스 유체의 분산을 야기한다. 대안적으로, 안티-솔벤트는 분리 유입구를 통해 침전챔버로 충전되며(charged), 프로세스 유체는 노즐을 경유해 챔버 안에 분산된다. 프로세스 유체의 액적들(droplets)이 안티-솔벤트와 접촉할시, 프로세스 유체의 솔벤트는 안티-솔벤트로 확산되며 입자로 용질의 침전을 야기한다. 그 후에 입자는 적어도 하나의 필터를 통해 안티-솔벤트/솔벤트 혼합물로부터 분리된다.
침전챔버에서 입자들의 형성에 뒤 이어, 침전 유체 매질(precipitation fluid milieu )(scCO2, 솔벤트 및 입자들을 포함하는 액체 입자 현탁액)은 유출구(24)를 통해, 하우징, 유입구, 유출구 및 유출구에 결합되는 내부 다공성 엘리먼트를 포함하는 적어도 하나의 입자 채취 필터(6a)로 안내되는데, 여기에서 유체 scCO2 및 솔벤트는 다공성 엘리먼트의 표면에서 입자로부터 분리된다. scCO2 및 솔벤트는 다공성 엘리먼트를 통과하여 솔벤트 분리 용기(7a)로 안내된다. 거기에서, 분리된 솔벤트는 솔벤트 수집 용기(8a)로 안내된다. 유출구(24)는, 프로세스가 관류 프로세스(flow-through process)로서 수행될 때 챔버 내의 하나 이상의 영역에서 침전 유체 매질의 축적을 최소화 할 수 있게 배치된다. 예컨대, 만약 노즐이 하우징의 일단부에 있으면, 안티-솔벤트 유입구는 하우징의 동일 단부에 또는 단부를 향해 배치될 것이며, 유출구는 하우징의 대향 단부에 또는 단부를 향해 배치될 것이다.
그 후 입자들은 채취 필터에서 방출된다. 이것은 채취 필터로 scCO2의 흐름을 중지하고, 채취 필터의 내부 압력을 감소시키고, 다공성 엘리먼트에서 입자들을 제거하게끔 다공성 엘리먼트에 걸쳐서, 가스, 예컨대, 공급기(9a)로부터의 불활성 가스, 의 역 흐름을 통과시키는 것을 제공함에 의해 달성된다. 제거된 입자들은, 하우징, 유입구, 유출구 및 유출구에 결합된 내부 다공성 엘리먼트를 포함하는 적어도 하나의 입자 수집 필터(12a)를 통해 수행되는데, 여기에서 가스는 다공성 엘리먼트의 내부 또는 외부 표면에서 입자로부터 분리된다. 입자를 분리함에 있어, 입자들은 중력에 의해 수집 용기(10a)로 방출된다. 대안적으로 또는 추가적으로, 입자들은, 다공성 엘리먼트에서 입자들을 제거하게끔 다공성 엘리먼트에 걸쳐서, 예컨대, 공급기(9b)로 부터의 가스의 역 흐름을 제공함에 의해 수집 필터로부터 제거될 수 있다. 제거된 입자들은 통기구(vent)가 설치된 수집 용기(10a)에 수집될 수 있다. 수집 용기는 채취 필터 및/또는 수집 필터 아래쪽에 배치될 수 있다. 수집 필터 및 관련 장치는 선택 사항이다. 이 경우에 있어, 도 1의 대안적 실시예(파선으로 도시된)가 사용된다.
다공성 엘리먼트(porous element)에서 입자를 제거하는데 사용되는 가스는 임의의 가스 물질일 수 있다. 바람직하게는 불활성 비-독성 가스이다. 적합한 가스는 질소, 헬륨, 아르곤, 또는 카본 디옥사이드(carbon dioxide)를 포함한다.
안티-솔벤트(anti-solvent )가 초임계 유체(supercritical fluid)로서 제공될 수 있기 때문에, 장치 어셈블리는 펌프(14) 및 히터(15)를 더 포함할 수 있다. 펌프 및 히터의 배치 순서는 필요한 경우 역전될 수 있다. 장치 어셈블리의 내부 압력을 안티-솔벤트의 임계 압력 근처까지 또는 초임계 압력까지 상승시킬수 있는 임의의 펌프가 사용될 수 있다. 일부 실시예에서, 펌프는 약 800 내지 약 3000psi 의 압력으로 침전챔버를 가입할 수 있다. 일부 실시예에서, 안티-솔벤트 또는 프로세스 유체를 가압하는데 사용되는 펌프는 계량 펌프(metering pump)이다. 마찬가지로, 안티-솔벤트의 온도를 임계 온도 근처까지 또는 초임계 온도까지 상승시킬 수 있는 임의의 히터가 사용될 수 있다. 히터는, 도관에 설치된 관류 히터(flow through heater) 또는 솔벤트 또는 프로세스 유체의 각각의 공급시스템에 결합된 히터 엘리먼트로부터 선택된 각각의 경우에 독립적이다. 일부 실시예에서, 히터는 프로세스 유체 또는 안티-솔벤트를 약 30°내지 약 70°의 온도까지 가열할 수 있다.
비록 일부 도면에는 표시되지 않았지만, 장치 어셈블리는 프로세스 유체,안티-솔벤트, 가스 및 침전 유체 매질의 흐름을 제어하는 복수 개의 밸브를 포함한다. 또한 어셈블리는, 어셈블리의 다양한 구성요소를 통하는 유체 및/또는 가스의 흐름을 조절하며 압력을 조절하는데 사용되는 하나 이상의 유량 제한기들(flow restrictors)(배압 조절장치)을 포함한다. 이들 구성요소는 어셈블리의 개별 구성요소들의 온도, 현탁액(액체 또는 가스)의 흐름속도(flow of rate) 및 내부 압력을 조절하는데 사용된다. 일부 실시예에서, 조절기(controller)는, 미리-설정된 값의 약 ±10%, 약 ±5%, 또는 약 ±1% 내로 구성요소의 내부 압력을 유지하게끔 적응된다. 일부 실시예에서, 조절기는, 미리-설정된 값의 약 ±10%, 약 ±5%, 또는 약 ±2% 내로 구성요소의 내부 온도를 유지하게끔 적응된다. 일부 실시예에서, 조절기는, 미리-설정된 값의 약 ±10-33% 내로 구성요소의 초임계 유체, 액체 입자 현탁액, 가스 또는 가스 입자 현탁액의 흐름 속도를 유지하게끔 적응된다. 일부 실시예에서, 조절기는, 미리-설정된 값의 약 ±5%, 약 ±2.5%, 약 ±1% 또는 약 ±0.5% 내로 구성요소에 대한 프로세스 유체의 흐름속도를 유지하게끔 적응된다.
프로세스 유체는 히터(18)를 통해 선택적으로 가열되며, 및/또는 펌프(19) 또는 가압된 가스, 즉 공급기(22)로부터의 가압된 가스로 가압될 수 있다. 침전챔버로 진입하는 프로세스 유체의 압력은, 진동 메시를 통하는 프로세스 유체의 정(순)흐름(positive flow)(forward flow)을 보장하게끔 침전챔버의 압력보다 더 커야 한다. 압력 차이(프로세스 유체에 이로운 압력 차이)는, 일반적으로 진동 메시를 통하는 프로세스 유체의 흐름이 더 빠르고 압력 차이가 더 크다는 것을 명심하여 필요에 따라 조정될 수 있다. 일반적으로 압력 차이(pressure differential)는 적어도 5psi 또는 약 1 내지 약 200, 약 1 내지 약 50 또는 약 1 내지 10psi의 범위일 것이다. 챔버 내의 압력은 압력센서(16)로 모니터될 수 있다. 이 압력 차이는 여기에서 설명되는 다른 분산기 및 장치 어셈블리들에 사용될 수 있다.
압력, 온도, 솔벤트의 흐름속도의 조절 및 솔벤트의 차이 선택은 입자 특성을 조종하는데 사용될 수 있다. 용질(solutes)의 탈용매화의 속도(rate of desolvation)는 평균 입자 직경, 입자 사이즈 분포, 결정 형태 및 결정화도(degree of crystallinity)를 변경시킬 수 있다. 안티-솔벤트 압축 가스의 압력을 조절함으로서 탈용매화의 속도는 입자 사이즈에 영향을 미치게끔 증가되거나 감소될 수 있다. 마찬가지로, 온도의 변화, 솔벤트 및 안티-솔벤트에 대한 용액의 비율 각각은 결정 형성 속도를 변경시킬수 있으며 따라서 결과로 생긴 결정(resultant crystals) 및 입자들의 특성을 변경시킨다. 입자들은 결정질, 비정질 또는 이들의 조합일 수 있다.
침전챔버에는, 안티-솔벤트의 임계 온도(critical temperature)로 또는 그 이상으로 챔버 내의 온도를 유지시키기 위해, 필요에 따라 챔버를 가열하고 냉각할 수 있는 온도 조절기(23,emperature controller)가 설치될 수 있다. 챔버 내의 온도는 온도 센서(17)로 모니터될 수 있다. 온도 조절기는 챔버를 형성하는 하우징의 적어도 일부를 둘러싸는 가열 및/또는 냉각 재킷으로 표현된다. 가열 및/또는 냉각 엘리먼트는 선택적으로 챔버 내에 배치될 수 있거나 하우징의 벽에 내장(built into)될 수 있다.
온도 조절기는 하우징 외부, 내부 또는 하우징과 통합될 수 있다. 일부 실시예에서, 온도 조절기는 하우징을 덮어 씌운다(jackets). 그것은 적어도 하나의 가열 엘리먼트, 적어도 하나의 냉각 엘리먼트 또는 이들의 조합일 수 있다. 재킷은 가스, 수증기, 스팀 또는 유체-가득한(fluid-filled) 캐비티를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 하우징은 프로세스 캐비티(process cavity)를 형성하는 내부 벽 및 내부 벽으로부터 이격된 외부 벽을 포함하며, 여기에서 벽들 및 그들 사이의 공간은 온도 조절기 재킷을 함께 형성한다.
수집 용기(10,collection vessel)은, 원하는 장치 어셈블리에 배치될 수 있다. 그것은 각각의 필터 아래쪽 또는 아래 레벨에 배치될 수 있다. 각각의 필터의 입자들은, 여기에서 설명된 바와 같이 또는 기계적 장치에 의해, 중력 및/또는 가스를 통해서 수집 용기로 안내될 수 있다. 입자의 수집을 최대화하기 위해 수집 용기는 통기(11)되어야 한다는 것을 발견하였다. 통기구(11,vent)는, 가스의 통과를 허용하는 한편 입자를 보유하기 위한 프릿(frit),천(cloth), 백(bag) 또는 다른 다공성 엘리먼트를 포함할 수 있다.
도 2는 입자를 준비하고, 채취하며 수집하는데 사용될 수 있는 대안적 장치 어셈블리(25)의 개략도를 도시한다. 안티-솔벤트 공급 시스템 및 프로세스 유체 공급시스템은 도 1과 유사한데; 그러나, 침전챔버는 프로세스 유체를 위한 제1 유입구(25,first inlet) 및 안티-솔벤트를 위한 별도의 제2 유입구(21a,separate second inlet)를 포함한다. 제2 유입구는 침전챔버에 액적(droplets)으로 프로세스 유체를 분산하는 분무기(27,atomizer)에 인접해 위치된다. 깨끗한 안티-솔벤트는, 분무기의 근접에서 형성되는 솔벤트/안티-솔벤트/침전물 혼합물의 제거를 돕기 위해 분무기 근처에 위치하는 유입구(21a)를 통해 침전챔버로 진입한다. 대안적으로, 깨끗한 안티-솔벤트를 위한 유입구(21b)가 분무기로서 챔버의, 예컨대, 동일한 절반, 3분의1, 4분의1, 5분의1 또는 더 작은 비율로, 동일섹션 내에 위치될 수 있다. 이는 깨끗한 안티-솔벤트가, 분무기의 근접(부)으로부터 떨어져 있는 솔벤트/안티-솔벤트/침전물(침전 매질)을 함유하는 유체 혼함물의 빠른 제거를 촉진하게끔 분무기에 충분히 가까운 위치에서 챔버로 진입하는 것도 중요하다
챔버로 들어가는 안티-솔벤트의 흐름 속도는 본무기를 통해 챔버로 들어가는 프로세스 유체의 흐름 속도를 초과할 것이다. 이러한 실시는, 특히 분무(atomization) 영역의 침전 유체 매질에서 솔벤트의 과도하게 높은 농도의 축적을 최소화 할 것니다. 솔벤트의 흐름속도(유속)(1/min) 대 안티-솔벤트의 흐름속도(1/min)의 비율은 일반적으로 적어도 50:1 또는 약 10:1 내지 약 2000:1, 또는 약 50:1 내지 약 500:1, 또는 약 1400:1 내지 1500:1 의 범위 일 것이다.
비록 분무기가 챔버 내의 유체의 표면에 배치된 것 처럼 표현되어 있지만, 어셈블리는 분무기가 유체의 표면 위에 또는 아래에 배치되게 작동될 수 있다.
도 2의 실시예는 일차(주) 직렬식 필터 입자 채취 및 수집시스템(도면의 좌측) 및 이차(보조) 직렬식 필터 입자 채취 및 수집시스템(도면의 우측)을 포함한다. 장치 어셈블리는 입자 채취 및 수집시스템이 순차적으로 또는 동시(sequentially or simultaneously)에 작동될 수 있게 구성된다. 따라서, 입자 형성 단계는 연속적으로 또는 반-연속적으로 수행될 수 있다.
도시된 바와 같이, 침전 유체 매질은 유출구(24,outlet)를 거쳐 챔버를 빠져나가서 밸브(26)에 의해 좌측 시스템으로 향한다. 밸브(28a)는 매질을 채취 필터(6a)로 향하게 하며, 그로인해 솔벤트/인티-솔벤트 혼합물이 입자(필터에 의해 보유된)로부터 분리되어 솔벤트 분리 용기(7a,solvent separation vessel)로 향한다. 분리된 솔벤트는 솔벤트 수집 용기(8a,solvent collection vessel )로 안내된다. 채취 필터로 침전 매질의 충전이 완료되면, 그의 내부 압력은 초임계 조건(supercritical conditions) 아래로 감소된다. 밸브(29a)가 가동되며 저압 불활성 가스(공급기(9a)로부터)가 채취 필터를 통해 역방향 흐름(reverse flow)으로 충전됨으로서 필터에 의해 보유된 입자들이 제거되어 가스 입자 현탁액을 형성한다. 또한 가스 입자 현탁액이 수집 필터(12a)로 향하게끔 밸브(28a)가 가동되는데, 이는, 위에서 설명된 바와 같이, 불활성 가스로부터 입자들을 분리한다. 분리된 입자는 수집 용기(10a)에 수집된다.
이차 채취 및 수집시스템은 일차 시스템과 거의 같은 방식으로 구성되어 작동된다. 연속적인 입자 형성 프로세스를 위해, 밸브(26)는 필요에 따라 일차 시스템에서 이차 시스템으로 되돌아가게 토글되어(toggled) 있어서 입자 채취는 하나의 시스템에서 일어나고 한편으로 입자 수집은 다른 시스템에서 일어난다.
도 3은 입자를 준비하고, 채취하며 수집하는데 사용될 수 있는 대안적 장치 어셈블리(35)의 개략도를 도시한다. 입자 형성 시스템은, 분무기의 표면이 침전 챔버의 안티-솔벤트 내에 또는 표면 아래에 위치되는 것을 제외하고는, 도 2의 시스템과 매우 유사하다. 또한 어셈블리(35)는 도 2의 시스템과 유사한 일차 채취 시스템 및 이차 채취 시스템을 포함한다. 어셈블리(25)와 어셈블리(35) 사이의 주요 차이점은 수집 시스템의 중복(redundancy)이 제거되었다는데 있다. 비록 어셈블리(35)가 연속적 또는 반-연속적으로 입자 형성을 위해 구성되고 동시에 또는 순차적으로 입자를 채취하기 위해 구성되었지만, 단지 단일 수집 필터를 사용한다. 도시된 바와 같이 밸브들(26,29a 및 30a)의 배치(배열)로 인해, 일차 채취 시스템(죄측의)은 침전 매질를 받아들여서 솔벤트/인티-솔벤트 혼합물로부터 입자를 분리한다. 이차 채취 시스템(우측의)은 밸브들(29b,30b 및 31)의 배치로 인해 입자들을 방출하고 수집한다. 또 다른 주요 차이점은 수집 시스템이 두개의 수집 용기(10a 및 10b) 및 수집된 입자를 교대로 하나의 용기 또는 다른 용기로 향하게 하는 밸브(41)를 포함한다는 것이다.
도 4는 입자를 준비하고, 채취하며 수집하는데 사용될 수 있는 대안적 장치 어셈블리(45)의 개략도를 도시한다. 입자 형성 시스템은, 일부 장치 중복이 제거되었다는 것을 제외하면 도 3의 시스템과 유사하다. 어셈블리는(45)는, 평행하게 배치되며, 순서대로 작동하게끔 구성된 두개의 직렬식 필터 입자 채취 및 수집 시스템을 포함한다. 어셈블리(35)와 어셈블리(45) 사이의 주요 차이점은 솔벤트 분리 및 솔벤트 수집 시스템의 중복이 제거되었다데 있다. 이 어셈블리(45)는 연속적 또는 반-연속적으로 입자 형성을 위해 구성되고 순차적 입자 채취 및 순차적 입자 수집을 위해 구성된다. 도시된 바와 같이 밸브들(30a, 30b, 39, 40a 및 44)의 배치로 인해, 일차 채취 및 수집 시스템(촤측의 6a,12a)은 침전 매질(precipitation milieu)을 받아들여서 솔벤트/안티-솔벤트 혼합물로부터 입자들을 분리한다. 이차 채취 시스템(우측의 6b,12b)은 밸브들(30b,40b,39,44,32 및 33)의 배치로 인해 입자들을 방출하고 수집한다. 침전 매질은 밸브(44)로 안내(41)되는데, 이는 매질을 채취 필터(6a)로 향하게 한다. 솔벤트/안티-솔벤트 혼합물은 밸브들(40a 및 39)에 의해 솔벤트 분리 및 수집 시스템으로 향하게 된다. 해당 프로세스가 일어나는 동안, 채취 필터(6b)에 의해 이미 채취된 입자들이 방출된다. 가스는 공급기(9)로부터 분배되어 밸브(40b)를 통해서 필터(6b)를 통과하게 역 흐름으로 향하게 된다. 가스 입자 현탁액은 밸브들(30b,32 및 33)에 의해 수집 필터(12b)로 향하게됨으로서 분리된 입자들은 중력에 의해 강제로 통기(11b)된 수집 용기(10b)로 들어간다. 일차 및 이차 채취 및 수집 시스템 사이의 작동은 필요에 따라 프로세스 경로(process stream)의 흐름을 지시하는 적절한 밸브의 스위칭에 의해 단순히 영향을 받는다.
어셈블리들(35 및 45) 사이의 또 다른 차이점은 형성 후에 챔버에서 입자들의 축적을 최소화하고 챔버의 세척을 용이하게하기 위해 침전챔버의 다공성 캐비티의 형태가 테이퍼진 단부(tapered end)를 갖는다는 것이다.
도 5의 장치 어셈블리(46)는, 두개의 수집 용기와 결합되는 단일(하나의) 수집 필터(48)가 있는 것을 제외하면 도 4와 설계에 있어서 유사하다. 밸브(47)는 입자가 슈트(49a, 49b)를 따라 각각의 수집용기로 향하게 한다. 이 장치 어셈블리는, 연속적인 입자 형성, 교대로 작동되는 평행한 채취 필터로 연속적인 입자 채취, 및 연속적인 입자 수집 필터 작동으로 연속적인 입자 수집 및 수집 용기의 교대 충전을 제공함으로서 연속적인 작동에 적합하다.
도 6은, 연장된 재킷 하우징(51), 연장된 다공성 엘리먼트(53) 및 플랜지(60a-60c)헤드를 포함하는 예시적인 채취 필터(50)를 도시한다. 하우징의 내부 면에는, 다공성 엘리먼트가 내부에 배치되는 프로세스 캐비티의 연장된 원통형 상부섹션(64) 및 아래쪽으로 향하는(아래쪽으로 뾰족한) 테이퍼진 하부섹션(63)이 형성된다. 재킷 하우징의 벽은, 포트들(55 및 54)를 통해 온도 조절 물질이 내부로 흐르는 캐비티(52)를 포함한다. 프로세스 캐비티는, 여기에서 설명된 바와 같이 필터가 역 방향(reverse direction)으로 작동되는 경우 또한 유출구로 이용할 수 있는 경우 유입구(56)를 포함한다. 헤드의 플랜지(60b)는, 여기에서 설명된 바와 같이 필터가 역 방향으로 작동되는 경우 또한 유입구로 이용할 수 있는 유출구(57)를 포함한다. 플랜지(60a)는 캐비티(58) 및 유입구(61) 및 유출구(62)를 포함한다. 다공성 엘리먼트의 주요 부분(major portion) 또는 실질적으로 전체가 상부 원통형 부분(upper cylindrical portion)으로 연장될 수 있다. 다공성 엘리먼트의 주요하지 않거나 주요 부분(minor or major portion)은 반전된 원추형 부분(inverted conical portion)으로 연장될 수 있다.
순 작동(forward operation) 동안, 입자들은 필터의 다공성 엘리먼트에 의해 유지(보유)된다. 침전 매질은 유입구(56)를 통해 프로세스 캐비티로 진입함으로서, 솔벤트 및 안티-솔벤트가 다공성 요소를 통과해(단면에는 도시되지 않음) 내부 도관으로 가서 유출구(57), 캐비티(58), 유출구(62)로 안내되어 최종적으로 솔벤트 분리 시스템(미도시 됨)으로 향한다. 입자들은 다공성 엘리먼트의 외부 표면에 축적된다. 적합한 작동 범위 내로 침전 매질의 온도를 유지시키기 위해, 온도 조절 유체가 재킷을 통해 안내된다.
역 작동에 있어서, 입자들이 필터로부터 방출된다. 가스가 유입구(61), 유출수(57, 지금 유입구로 이용됨), 다공성 엘리먼트의 내부 도관을 통해 그리고 다공성 엘리먼트를 관통하여 흐르게 되며, 그로인해 입자들이 제거되고 유입구(56)(지금 유출구로 이용됨)를 통해 하우징을 빠져나가는 가스 입자 현탁액(움직이는 가스에 혼입된 입자)이 형성된다.
도 7은 채취 필터(65)의 대안적 실시예를 도시한다. 이는 구성에 있어 도 6의 필터(50)와 유사한데; 그러나, 이 필터는, 하우징(60)의 연장된 프로세스 캐비티에 배치되는 두개의 연장된 다공성 엘리먼트(67,68, 복수 개)를 포함한다. 또한 상부 플랜지는 단일(하나의) 유출구(70) 및 두개의 유입구(69)를 포함하는데; 그러나, 각각 중 단 하나 또는 각각 중 복수의 것들이 사용될 수 있다. 이 필터의 작동은 다른 채취 필터의 작동과 동일하다.
도 8은 커플링(84)을 통해 수집 용기(86,collection vessel)와 연결된 수집 필터(75,collection filter)를 도시한다. 필터는, 하우징(76), 유입구(79), 유출구(78), 유입구 및 유출구와 결합되는 내부 도관을 형성하는 연장된 다공성 엘리먼트(80), 하우징의 내부 표면 및 다공성 엘리먼트의 외부 표면에 의해 형성되는 캐비티(77), 및 캐비티(77)로부터 가스를 방출하게끔 구성되며 캐비티와 소통하는 유출구(81)를 포함한다. 또한 수집 용기는, 프릿, 메시, 천 또는 다른 재료(82) 등의, 필터를 선택적으로 포함하는 통기구(83,vent)를 포함한다. 작동 동안, 가스 입자 현탁액(가스에 입자가 혼입된)은 유입구(79)로 진입하여 다공성 엘리먼트의 내부 도관을 통해 안내됨으로서, 가스는 캐비티(77)의 다공성 엘리먼트를 통과하여 유출구(81) 밖으로 나가며, 그러나 입자들은 내부 도관 내에 유지되어 유출구(78), 유입구(85)를 통해서 떨어져서(낙하하여) 수집 용기(86)에 축적된다. 통기구(83)는, 현탁액에서 가스의 주요 부분이 유출구(81)를 통해서 제거되기 때문에, 단지 가스의 주요하지 않은 부분이 빠져나가게 허용한다.
도 8에는 도시되어 있지 않지만, 유출구(81)를 통해서 역 프로세스 방향으로 가스를 파동으로 움직이게하는(pulses) 불활성 가스 소스는 다공성 엘리먼트의 표면에 축적될 수 있는, 비록 이러한 축적이 최소화 되더라도, 임의의 입자들을 제거하는 것을 포함할 수 있다.
도 9는 내부 루멘(interior lumen)의 개방단부(93), 폐쇄단부(94), 거친 다공성(도)(coarse porosity)을 갖는 외부 다공성 부분(박층,lamina), 및 미세 다공성(fine porosity)을 갖는 내부 다공성 부분(박층,lamina)을 포함하는 폐쇄된 튜브-형태 다공성 엘리먼트(90)의 측단면도를 도시한다. 도 10의 다공성 엘리먼트(100)는, 미세 다공성 부분이 다공성 엘리먼트의 외부에 있고 거친 다공성 부분이 다공성 엘리먼트의 내부에 있는 것을 제외하고는 실질적으로 도 9의 엘리먼트와 동일하다.
도 11a는 필터 어셈블리(107)의 부분 측단면도로서, 필터 어셈블리는 테이퍼진, 경사진 또는 원추형 하부 부분을 지닌 하우징(106) 및 거친 다공성 외부 면을 갖는 도 9에 도시된 바와 같은 단일 튜브 형태의 다공성 엘리먼트(105)를 포함한다. 채취 작동의 처음 부분(first part) 동안, 프로세스 유체는 하부 검은 화살표의 방향으로 하우징에 충전되며 여과액은 상부 검은 화살표의 방향으로 하우징을 빠져나가는데, 그로인해 입자들은 디공성 엘리먼트의 외부 면 및 필터의 프로세스 캐비티 내에 유지된다. 채취 작동의 두번째 부분 동안, 가스는 상부 흰색 화살표 방향으로 하우징에 충전되며 입자들의 가스 현탁액은 하부 흰색 화살표 방향으로 하우징을 빠져나가는데, 그로인해 하우징으로부터 입자들이 방출된다.
도 11b의 필터 어셈블리(101)는, 다공성 엘리먼트(108)가 다공성 엘리먼트(105) 보다 더 큰 외경을, 선택적으로부 더 긴 길이를 보유하여 그로인해 하우징의 내부 캐비티가 더 많은 비율로 사용되는 것을 제외하고는 도 11의 필터 어셈블리와 유사하다. 도 11c의 필터 어셈블리(102)는, 두개의 다공성 엘리먼트를 포함하는 것을 제외하고는 도 11a 의 필터 어셈블리와 유사하다. 도 11d의 필터 어셈블리(103)는, 세개의 다공성 엘리먼트를 포함하는 것을 제외하고는 도 11a의 필터 어셈블리와 유사하다. 도 11e의 필터 어셈블리(104)는, 다공성 엘리먼트가 거꾸로 하우징의 하단부의 플레이트와 결합되므로 프로세스 유체는 다공성 엘리먼트의 내부에 접촉하며 입자들을 다공성 엘리먼트의 외부 보다는 다공성 엘리먼트의 내부에 유지되는 것을 제외하고는 도 11d와 유사하다.
도 12a-12e는, 도 10의 더 작은 다공성 박층이 외부에 있고 거친 다공성 박층이 내부에 있는 다공성 엘리먼트가 사용되는 것을 제외하고는 각각 도 11a-11e 와 유사하다.
도 13은 편평한 플레이트(flat plate) 형태의 다공성 엘리먼트(120)를 도시한다. 이는 거친 다공성 박층(121) 및 미세 다공성 박층(122)을 포함한다. 다공성 엘리먼트는 필터 어셈블리에 장착될 수 있으므로 프로세스 유체가 거친 박층 또는 미세 박층에 접촉한다. 플레이트 편평하거나 곡선(curved) 일 수 있다.
도 14a는 필터 어셈블리(125)의 부분 단면도를 도시하는데, 필터 어셈블리는 하우징(127) 및 프로세스 유체에 접촉하는 미세 다공성 박층 및 여과액이 통과하는 거친 다공성 박층을 갖는 다공성 엘리먼트(126)를 포함한다. 채취 작동의 처음 부분 동안, 프로세스 유체는 하부 검은 화살표 방향으로 하우징에 충전되며 여과액은 상부 검은 화살표 방향으로 하우징을 빠져나가는데, 그로인해 입자들은 다공성 엘리먼트의 외부 면 및 필터의 프로세스 캐비티 내에 유지된다. 채취 작동의 두번째 부분 동안, 가스는 상부 흰색 화살표 방향으로 하우징에 충전되며 입자들의 가스 현탁액은 하부 흰색 화살표 방향으로 하우징을 빠져나가는데, 그로인해 하우징으로부터 입자들이 방출된다.
도 14b의 다공성 엘리먼트는, 거친 다공성 박층이 프로세스 유체에 접촉하며 여과액이 미세 다공성 박층을 통과하도록, 반전된(inverted) 것을 제외하고는 도 14b는 14a와 유사한 필터 어셈블리를 도시한다.
도 15a 및 15b는, 하우징이 길이에 있어 더 짧은 것을 제외하고는 각각 도 14a 및 14b와 유사하다.
도 16a는 필터(135)의 부분 측단면도를 도시하는데, 필터는 둥근 하우징(구형, 원통형, 타원형) 내부의 도 13의 플레이트 형태의 다공성 엘리먼트(136)을 포함한다. 하우징의 상부 및 하부 부분은 실질적으로 동일한 형태, 사이즈 및/또는 볼륨 일 수 있다. 채취 작동의 처음 부분 동안, 프로세스 유체는 하부 검은 화살표 방향으로 하우징에 충전되어 다공성 엘리먼트의 미세 다공성 부분에 접촉하는데, 그로인해 여과액은 거친 다공성 부분을 통과하여 상부 검은 화살표 방향으로 하우징을 빠져나가며, 그로인해 입자들은 다공성 엘리먼트의 외부 면 및 필터의 프로세스 캐비티 내에 유지된다. 채취 작동의 두번째 부분 동안, 가스는 상부 흰색 화살표 방향으로 하우징에 충전되며 입자들의 가스 현탁액은 하부 흰색 화살표 방향으로 하우징을 빠져나가며, 그로인해 입자들은 하우징으로부터 방출된다. 필터는, 프로세스 유체가 거친 다공성 부분에 먼저 접촉하도록 반전될 수 있다.
도 16b는, 몸체가 정방형, 장방형 또는 원통형인 것을 제외하고는 도 16a의 필터와 유사한 필터(137)의 부분 측단면도를 도시한다. 이 필터는 또한 작동 동안 반전될 수 있다.
도 17a는 필터(140)의 부분 측단면도를 도시하는데, 필터는 하우징(14), 다공성 엘리먼트(142)를 포함한다. 다공성 엘리먼트(126)가 하우징의 세로방향 축(lengthwise axis)에 직각을 이루게(perpendicular) 장착되는 도 14a와 다르게, 다공성 엘리먼트(142)는 하우징의 세로방향 축에 대해 또는 하우징을 통과하는 프로세스 유체의 흐름에 대해 직각을 이루지 않는 각도로 장착된다. 이 실시예에서, 프로세스 유체는 미세 다공성 박층에 접촉한다. 도 17b의 대안적인 실시예에서,프로세스 유체는 거친 다공성 박층(coarse porosity lamina)에 접촉한다.
여기에서 설명된 직렬식 필터 시스템을 사용하는 인스턴트 장치 어셈블리(instant equipment assembly) 및 다른 필터 어셈블리들 사이의 차이점의 중요성을 확립하기 위해, 어셈블리의 작동은, 채취 필터를 제외하고 침전 용기, 수집 필터 및 통기된 수집 용기를 사용하는 것이 다른 시스템과 비교된다. 하기가 관찰되었다: a)채취 필터가 저압 질소로 역류(back-flushed)되는 경우 입자는 수집 용기의 통기구의 밖으로 유출되며; b)입자들은 수집 용기의 상부 부분의 뚜껑의 내부 면에 부착되어 축적된다. 그러나, 수집 필터가 채취 필터의 아래쪽에 사용되는 경우, 입자들은 순조롭고 쉽게 수집 용기의 바닥에 수집되어 입자들이 수집 용기의 내부 면에 부착되지 않는다.
저압 가스로 채취 필터의 역류(back flushing)의 중요성을 확립하기 위해, 채취 필터는 역류가 있게 작동되며 역류가 없이 작동된다. 역류가 없으면, 입자의 상당한 량이 다공성 엘리먼트 및 프로세스 캐비티의 바닥에 축적된다. 입자들은 다공성 엘리먼트에서 제거되고 물리적/기계적 수단에 의해 바닥으로부터 제거되어야 한다. 역류가 있으면, 캐비티의 바닥에 입자의 축적이 관찰되지 않았으며 다공성 엘리먼트의 표면에 단지 입자의 최소한의 축적이 관찰되었다.
프로세스 유체는 적어도 하나의 솔벤트 및 솔벤트에 용해된 적어도 하나의 용질을 포함한다. 프로세스 유체는 두개 이상 또는 복수 개의 솔벤트들을 포함할 수 있다. 프로세스 유체의 용질의 농도는 필요에 따라 변화될 수 있다. 일부 실시예에서, 농도는 적어도 약 0.1%wt 이고 0.1% 로부터 약 20%wt 까지의 범위일 수 있다.
침전 챔버를 형성하는 하우징의 치수는 필요하다면 변화될 수 있다. 하우징은 수직으로 배치되는 것으로 도시되었지만, 경사지게 또는 수평으로 배치될 수 있다. 하우징(그리고 챔버)은 폭보다 더 길어질 수 있으며, 동일한 폭 및 길이을 갖을 수 있거나 폭 보다 더 짧아질 수 있다. 좁은 챔버를 형성하는 좁은 하우징이 사용될 수 있다. 일부 실시예에서, 챔버의 세로방향 축은 수직이며 챔버의 직경은 길이보다 더 짧다.
비록 시스템은 초임계 유체 어플리케이션에 특히 적합하지만, 이 시스템은 또한 비임계(non-critical) 및 근임계(near-critical) 안티-솔벤트/솔벤트 입자 형성시스템으로부터 입자를 준비(prepare)하는데 사용될 수 있으며, 여기에서 프로세스 유체(용질-함유 솔벤트)는 안티-솔벤트 상으로 또는 내로(into or onto) 분무(atomized)된다.
용질은 임의의 화합물 또는 화합물들의 조합 또는 안티-솔벤트에 난용성(poorly soluble) 또는 불용성(insoluble) 물질 일 수 있다. 적합한 화합물들은 약리 활성성분(pharmaceutical active ingredient), 약리 부형제(pharmaceutical excipients )(비활성 성분), 화학물질, 천연물, 생물학적 화합물, 살충제, 제초제 또는 다른 화학물질을 포함한다. 예컨대, 활성 약리 성분은 PLGA 와 같은 폴리머와 혼합될 수 있으며, 단독 활성 약리 성분과는 완전히 다른 독특한 특성을 지닌 합성물로서 공동으로 침전(co-precipitated)된다. 마찬가지로, 두개의 약리 활성 성분은 단일 솔벤트에 함께 혼합될 수 있고 조합 의약 제품(combination drug product)을 생산하기 위해 공동으로 침전될 수 있다.
프로세스 유체 및/또는 안티-솔벤트는, 궁극적으로 입자들에 및/또는 입자들의 표면 상에 포함(혼합)될 수 있는 하나 이상의 추가 성분을 포함할 수 있다.
여기에서 사용된 바와 같이, 용어 솔벤트는 용질-함유 유체(프로세스 유체)를 형성하기 위해 용질을 용해한 유체를 언급한다. 또한 솔벤트는 안티-솔벤트와 혼화 또는 용해될 수 있어서 안티-솔벤트로 용질-함유 솔벤트를 배치(placing)하는 것은 입자들을 형성하게끔 용질의 침전을 초래할 것이다. 일반적으로 솔벤트는 유기 솔벤트(organic solvent)이다. 적합한 유기 솔벤트는 에탄올, 메탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 터트-부탄올(tert-butanol), 아세톤, 메틸에틸케톤(methylethylketone), 디클로로메탄(dichloromethane), 클로로포름, 헥사플루오로이소프로판올(hexafluoroisopropanol), 디에틸에테르, 디메틸아미드, 디메틸포름아미드, DMSO 및 이들의 혼합물을 포함한다.
여기에서 사용된 바와 같이, 용어 안티-솔벤트는, 입자를 형성하는 용질이 난용성 또는 불용성인 액체(또는 압축 가스 또는 플라즈마 또는 초임계 유체)를 언급한다. 안티-솔벤트는 입자들의 불필요한 구성요소들을 제거하기 위한 솔벤트로서 사용될 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 유체를 형성할 수 있다. 적합한 초임계 유체-형성 안티-솔벤트는 카본, 디옥사이드, 프로판, 부탄, 이소부탄, 니트로스 옥사이드, 설퍼 헥사플로라이드 및 트리플루오르메탄을 포함할 수 있다.
다양한 다른 솔벤트/안티-솔벤트 조합들이 사용될 수 있다. 특정 조합의 선택은 솔벤트 및 안티-솔벤트 내에서 솔벤트의 용해도(degree of solubility)에 좌우될 것이다.
다공성 엘리먼트는 하나 이상의 프릿(frits), 하나 이상의 링, 하나 이상의 다공성 플레이트, 하나 이상의 다공성 튜브 또는 이들의 조합을 포함 할 수 있다. 다공성 엘리먼트는 소결된 금속, 세라믹, 테프론(TEFLON®), 플라스틱, 스틸 및 이러한 다른 재료들을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 다공성 엘리먼트는 적어도 하나의 소결된 금속 튜브를 포함한다. 다공성 엘리먼트의 평균(또는 명목상의) 기공 사이즈는 필터에 의해 처리되는 입자들의 평균직경 보다 적어도 10%, 적어도 15%, 적어도 20%, 적어도 40%, 적어도 50%, 적어도 75%, 적어도 80%, 적어도 90%, 적어도 95% 또는 적어도 99% 더 작을 것이다. 다공성 엘리먼트의 횡(세로방향 축에 대해 수직한)단면은 임의의 가하학적 형상일 수 있다. 일부 실시예에서, 횡단면은 원형, 타원형, 팔각형,오각형,육각형 또는 다른 기하학적 형상을 포함한다. 일부 실시예에서, 다공성 엘리먼트의 횡단면은, 하우징에 의해 형성된 프로세스 캐비티의 상부 원통형 부분의 횡단면과 실질적으로 동일한 형상을 포함한다.
필터의 하우징은 장치 어셈블리에 수직 설치로 적응될 수 있다. 일부 실시예에서, 하우징의 하부 포트는 캐비티의 하단부에 또는 하단부에 인접하여 배치되며, 상부 포트는 프로세스 캐비티의 상단부에 또는 상단부에 인접하여 배치된다. 필터에서, 다공성 엘리먼트는, 하우징의 유입 포트 위쪽에 유출 포트 아래쪽에 배치되도록 하우징 내에 수직으로 설치될 수 있다.
온도 조절기는 하우징의 외부에, 내부에 또는 통합될 수 있다. 일부 실시예에서, 온도 조절기는 하우징을 덮어 씌운다(jackets). 이는 적어도 하나의 가열 엘리먼트(heating element), 적어도 하나의 냉각 엘리먼트(cooling element) 또는 이들의 조합을 포함한다. 재캣은 유체-가득한 캐비티를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 하우징은 프로세스 캐비티를 형성하는 내부 벽 및 내부 벽으로부터 이격된 외부 벽을 포함하는데, 여기에서 벽들 및 그들 사이의 공간은 온도 조절기 재킷을 함께 형성한다.
"아래쪽으로- 뾰족한" 원추 부분이 캐비티의 원추형 섹션을 의미하는데, 원추의 좁은 직경 부분은 원추의 넓은 직경 부분 아래에 있다. 다시 말하면, 캐비티의 원추 부분은 하우징의 테이퍼진(적어도 내부 직경에 대하여) 섹션에 의해 형성됨으로서 원추 부분은 깔때기 형상으로 제공된다. 원추 섹션을 형성하는 표면의 단면 기하학적 구조는 원하는 데로 될 수 있다. 일부 실시예에서, 원추(형) 부분은, 원추 부분의 세로방향 축에 수직으로 관찰된 경우 원형 또는 타원형 단면을 갖는다.
상기 설명 및 아래의 실시예를 고려하여, 당업자는 과도한 실험없이도 청구된 것과 같은 발명을 실행할 수 있을 것이다. 본 발명에 따른 상세한 특정 어셈블리 및 방법은 하기의 실례를 참조하여 더 잘 이해할 수 있을 것이다. 이러한 실례들에 대한 모든 참조는 예시를 위한 것이다. 하기의 실례를 포괄적으로 고려되었지만, 본 발명에 의해 고려되는 많은 실시예 중 단지 일부 만을 예시한 것으로 간주되서는 안된다.
실례 1
하기 프로세스는 아세트아미노펜을 포함하는 입자를 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기의 성분들이 사용된다.
성분(ingredient) 양(amount)(%wt.)
아세톤(acetones) 96.5
아세트아미노펜(acetaminophen) 3.5
도 5에 도시된 장치 에셈블리가 사용된다. 프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 아세톤에 아세트아미노펜을 용해함으로서 준비된다. 가열 및/또는 혼합하는 동안 용해가 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드(scCO2) 이다.
침전챔버는 scCO2로 충전되며 온도 및 압력은 균형을 이룬다(equilibrated). 압력은 약 1,200psi 이며 온도는 약 38℃ 이다. 침전챔버를 통해 scCO2의 흐름이 시작(개시)된다. 깨끗한 솔벤트는, 침전챔버의 유입구를 통해서 진동 다공성 메시 및 메시의 위쪽의 모세관 노즐을 포함하는 분무기를 통해 수행되는데, 그로인해 scCO2에 직접 분무된다. 챔버로 들어가는 scCO2 의 흐름속도(약 730ml/min)는 챔버로 들어가는 솔벤트 및 프로세스 유체(약 10ml/min)의 흐름속도를 초과한다. 공급 경로(feed stream)는 깨끗한 솔벤트로부터 프로세스 유체로 점차 변화된다. 프로세스 유체는 모세관 튜브를 통해 진공 다공성 메시의 후면에 접촉하게끔 안내되며, 그로인해 scCO2 에 직접 분사된다. 프로세스는 진동 메시 없이 작동될 수 있으며 프로세스 유체는 모세관 튜브로부터 scCO2 로 직접 흐른다. 입자들의 형성은 scCO2에 접촉하는 프로세스 유체의 액적으로 발생하며 프로세스 유체의 솔벤트는 scCO2로 확산되어 입자들로 용질의 침전을 야기한다.
고압 입자 채취 필터는, 침전 매질의 로딩을 예상하고 필터를 통해 실행되는 scCO2와 균형을 이루게 된다. 침전챔버에서 입자들의 형성에 뒤이어, 침전 유체 매질(scCO2, 솔벤트 및 입자를 포함하는)은 챔버의 대향 단부를 향하는 유출구(유입구에 대해)를 통해 입자 수집 필터로 안내되는데, 유체 scCO2 및 솔벤트는 필터의 다공성 엘리먼트의 표면에서 입자로부터 분리된다. scCO2 및 솔벤트는 압력이 약 200psi 인 솔벤트 분리 용기로 안내되어, 안티-솔벤트를 초임계로부터 가스 상(gas phase)으로 변화됨에 의해 안티-솔벤트로부터 솔벤트의 분리를 야기한다. 거기에서, 분리된 솔벤트는 솔벤트 수집 용기로 안내된다. 입자들이 채취 필터에 체류(reside)하는 동안, 부가적인 깨끗한 scCO2는 입자로부터 솔벤트를 제거하기 위해 필터를 통해 흐른다. 필터 내의 압력이 감소된다.
이후 입자들은, 다공성 엘리먼트로부터 입자들을 제거하기 위해 다공성 엘리먼트에 걸쳐서, 예컨대 질소와 같은 가스의 저압(약 10 내지 약 100psi, 약 20 내지 약 50psi, 또는 약 30 내지 약 40psi) 역 흐름을 제공함으로서 채취 필터로부터 방출된다. 가스는 다공성 엘리먼트를 통해 파동(pulsed)으로 될수 있다. 제거된 입자들은 가스 입자 현탁액으로 입자 수집 필터로 안내되며, 그로인해 가스는 다공성 엘리먼트를 통과하고 입자들은 통기된 수집 용기로 낙하한다.
실례 2
하기 프로세스는 파클리탁셀(paclitaxe) 및 PLGA(poly-(lactic acid)-co-(glycolic acid)ploymer)를 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기의 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.)
아세톤 96
파클리탁셀 2.5
PLGA 1.5
다음의 예외들이 실례 1의 프로세스에 뒤 이어진다.
프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 아세톤에 파클리탁셀 및 PLGA를 용해시켜서 준비된다.
실례 3
하기 프로세스는 멜록시캄(meloxicam)을 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기의 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.)
아세톤:DMF 20:80 96.8
멜록시캄 3.2
도 5에 도시된 장치 어셈블리가 사용된다. 프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 아세톤/디메틸포름아미드(20:80)에 멜록시캄을 용해함으로서 준비된다. 용해는 가열 및/또는 혼합하는 동안에 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드((scCO2)이다.
침전챔버는 scCO2로 충전되며 온도 및 압력은 균형을 이룬다(equilibrated). 압력은 약 1,200psi 이며, 온도는 약 38℃ 이다. 침전챔버를 통해 scCO2의 흐름이 시작(개시)된다. 깨끗한 솔벤트는, 침전챔버의 유입구를 통해서 진동 다공성 메시 및 메시의 위쪽의 모세관 노즐을 포함하는 분무기를 통해 수행되는데, 그로인해 scCO2에 직접 분무된다. 챔버로 들어가는 scCO2 의 흐름속도(약 730ml/min)는 챔버로 들어가는 솔벤트 및 프로세스 유체(약 10ml/min)의 흐름속도를 초과한다. 공급 경로(feed stream)는 깨끗한 솔벤트로부터 프로세스 유체로 점차 변화된다. 프로세스 유체는 모세관 튜브를 통해 진공 다공성 메시의 후면에 접촉하게끔 안내되며, 그로인해 scCO2 에 직접 분사된다. 프로세스는 진동 메시 없이 작동될 수 있으며 프로세스 유체는 모세관 튜브로부터 scCO2 로 직접 흐른다. 입자들의 형성은 scCO2에 접촉하는 프로세스 유체의 액적으로 발생하며 프로세스 유체의 솔벤트는 scCO2로 확산되어 입자들로 용질의 침전을 야기한다.
고압 입자 채취 필터는, 침전 매질의 로딩(loading)을 예상하고 필터를 통해 실행되는 scCO2와 균형을 이루게 된다. 침전챔버에서 입자들의 형성에 뒤이어, 침전 유체 매질(scCO2, 솔벤트 및 입자를 포함하는)은 챔버의 대향 단부를 향하는 유출구(유입구에 대해)를 통해 입자 수집 필터로 안내되는데, 유체 scCO2 및 솔벤트는 필터의 다공성 엘리먼트의 표면에서 입자들로부터 분리된다. scCO2 및 솔벤트는 압력이 약 200psi 인 솔벤트 분리 용기로 안내되어, 안티-솔벤트를 초임계로부터 가스 상(gas phase)으로 변화됨에 의해 안티-솔벤트로부터 솔벤트의 분리를 야기한다. 거기에서, 분리된 솔벤트는 솔벤트 수집 용기로 안내된다. 입자들이 채취 필터에 체류하는 동안, 부가적인 깨끗한 scCO2는 입자로부터 솔벤트를 제거하기 위해 필터를 통해 흐른다. 필터 내의 압력은 감소되며 그 결과 유체로부터 가스로 카본 디옥사이드의 상 변화(phase change)가 초래된다.
이후 입자들은, 다공성 엘리먼트로부터 입자들을 제거하기 위해 다공성 엘리먼트에 걸쳐서, 예컨대 질소와 같은 가스의 저압(약 10 내지 약 100psi, 약 20 내지 약 50psi, 또는 약 30 내지 약 40psi) 역 흐름(reverse flow)을 제공함으로서 채취 필터로부터 방출된다. 가스는 다공성 엘리먼트를 통해 파동(pulsed)으로 될수 있다. 제거된 입자들은 가스 입자 현탁액으로 입자 수집 필터로 안내되며, 그로인해 가스는 다공성 엘리먼트를 통과하고 입자들은 통기된 수집 용기로 낙하한다.
실례 4
하기 프로세스는 생합성 인간 인슐린(biosynthetic human insulin)을 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.)
1,1,1,3,3,3-헥사플로로-2-프로판올 97
인슐린 3.0
도 5에 도시된 장치 어셈블리가 사용된다. 프로세스 유체는 1,1,1,3,3,3-헥사플로로-2-프로판올에 생합성 인간 인슐린을 용해함에 의해 준비된다. HFIP는 위의 테이블에 따른 양이다. 용해는 가열/또는 혼합 동안에 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드(scCO2)이다.
친전챔버는 scCO2로 충전되며 온도 및 압력은 균형을 이룬다. 압력은 약 1,200psi 이며, 온도는 약 38℃ 이다. 깨끗한 솔벤트는, 침전챔버의 유입구를 통해서 진동 다공성 메시 및 메시의 위쪽의 모세관 노즐을 포함하는 분무기를 통해 수행되는데, 그로인해 scCO2에 직접 분무된다. 챔버로 들어가는 scCO2 의 흐름속도(약 730ml/min)는 챔버로 들어가는 솔벤트 및 프로세스 유체(약 10ml/min)의 흐름속도를 초과한다. 공급 경로(feed stream)는 깨끗한 솔벤트로부터 프로세스 유체로 점차 변화된다. 프로세스 유체는 모세관 튜브를 통해 진공 다공성 메시의 후면에 접촉하게끔 안내되며, 그로인해 scCO2 에 직접 분사된다. 입자들의 형성은 scCO2에 접촉하는 프로세스 유체의 액적으로 발생하며 프로세스 유체의 솔벤트는 scCO2로 확산되어 입자들로 용질의 침전을 야기한다.
고압 입자 채취 필터는, 침전 매질의 로딩(loading)을 예상하고 필터를 통해 실행되는 scCO2와 균형을 이루게 된다. 침전챔버에서 입자들의 형성에 뒤이어, 침전 유체 매질(scCO2, 솔벤트 및 입자를 포함하는)은 챔버의 대향 단부를 향하는 유출구(유입구에 대해)를 통해 입자 수집 필터로 안내되는데, 유체 scCO2 및 솔벤트는 필터의 다공성 엘리먼트의 표면에서 입자들로부터 분리된다. scCO2 및 솔벤트는 압력이 약 200psi 인 솔벤트 분리 용기로 안내되어, 안티-솔벤트를 초임계로부터 가스 상(gas phase)으로 변화됨에 의해 안티-솔벤트로부터 솔벤트의 분리를 야기한다. 거기에서, 분리된 솔벤트는 솔벤트 수집 용기로 안내된다. 입자들이 채취 필터에 체류하는 동안, 부가적인 깨끗한 scCO2는 입자로부터 솔벤트를 제거하기 위해 필터를 통해 흐른다. 필터 내의 압력은 감소되며 그 결과 유체로부터 가스로 카본 디옥사이드의 상 변화(phase change)가 초래된다.
이후 입자들은, 다공성 엘리먼트로부터 입자들을 제거하기 위해 다공성 엘리먼트에 걸쳐서, 예컨대 질소와 같은 가스의 저압(약 10 내지 약 100psi, 약 20 내지 약 50psi, 또는 약 30 내지 약 40psi) 역 흐름(reverse flow)을 제공함으로서 채취 필터로부터 방출된다. 가스는 다공성 엘리먼트를 통해 파동(pulsed)으로 될수 있다. 제거된 입자들은 가스 입자 현탁액으로 입자 수집 필터로 안내되며, 그로인해 가스는 다공성 엘리먼트를 통과하고 입자들은 통기된 수집 용기로 낙하한다.
실례 5
하기 프로세스는 보바인 혈청 알부민(Bovine Serum Albumin )(BAS)을 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.)
1,1,1,3,3,3-헥사플로로-2-프로판올(HFIP) 97.5
BSA 2.5
도 5에 도시된 장치 어셈블리가 사용되며 실례 4의 것과 유사한 프로세스가 사용된다. 프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 1,1,1,3,3,3-헥사플로로-2-프로판올(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol)(HFIP)에 인간 BSA를 용해함에 의해 준비된다. 용해는 가열 및/또는 혼합하는 동안에 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드(scCO2)이다.
실례 6
하기 프로세스는 도세탁셀(docetaxel)을 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.)
아세톤 96.5
도세탁셀 3.5
도 5에 도시된 장치 어셈블리가 사용되며, 실례 3의 것과 유사한 프로세스가 사용된다. 프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 아세톤에 도세탁셀을 용해함에 의해 준비된다. 용해는 가열 및/또는 혼합하는 동안에 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드(scCO2)이다.
실례 7
하기 프로세스는 덱사메타손(dexamethasone)을 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.)
에탄올 98.5
덱사메타손 1.5
도 5에 도시된 장치 어셈블리가 사용되며, 실례 3의 것과 유사한 프로세스가 사용된다. 프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 에탄올에 덱사메타손을 용해함에 의해 준비된다. 용해(Dissolution)는 가열 및/또는 혼합하는 동안 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드(scCO2)이다.
실례 8
하기 프로세스는 팔리페리돈(paliperidone)을 포함하는 입자들을 만들기 위해 사용될 수 있다. 표시된 양으로 하기 성분들이 사용된다.
성분 양(%wt.
DCM:MeOH (30:70) 97.23
팔리페리돈 2.77
도 5에 도시된 장치 어셈블리가 사용되며, 실례 3의 것과 유사한 프로세스가 사용된다. 프로세스 유체는 위의 테이블에 따른 양으로 DCM:MeOH 에 팔리페리돈을 용해함에 의해 준비된다. 용해는 가열 및/또는 혼합하는 동안 이루어질 수 있다. 안티-솔벤트는 초임계 카본 디옥사이드(scCO2)이다.
여기에서 사용된 바와 같이, 용어 "약" 은 각각의 값의 ±10%, ±5%, ±2.5%, 또는 ±1% 를 의미한다.
상기는 본 발명의 특정 실시예의 상세한 설명이다. 본 발명의 특정한 실시예가 예시를 위해 여기에서 설명되었지만, 본 발명의 정신 및 범주를 벗어나지 않고 다양한 변형이 이루어질 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부된 청구항에 의해서만 제한된다. 여기에서 청구되고 개시된 모든 실시예들은 본 발명의 내용을 감안하여 과도한 실험 없이도 실행되고 이루어질 수 있다.

Claims (25)

  1. 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리에 있어서,
    상기 장치 어셈블리는,
    입자-함유 SFC 액체 현탁액을 형성하는 적어도 하나의 고압 초임계 유체(SCF) 입자 형성시스템; 및
    입자-함유 SCF 액체 현탁액을 여과하여 입자 함유 가스 현탁액을 형성하는 적어도 하나의 채취 필터시스템을 포함하며, 여기에서 필터시스템에는 적어도 하나의 다공성 엘리먼트가 설치되어 있으며,
    입자-함유 가스 현탁액을 여과하는 적어도 하나의 수집 필터시스템을 포함하며, 여기에서 적어도 하나의 수집 필터시스템은 적어도 하나의 채취 필터시스템의 아래쪽(downstream)에 있으며, 세로의 프로세스 캐비티, 적어도 하나의 유입 포트, 적어도 두개의 유출 포트, 세로 프로세스 캐비티 내에 있으며 적어도 하나의 유입 포트 및 적어도 하나의 유출 포트와 전도성으로 결합되어 세로 내부 도관을 형성하는 다공성 벽을 포함하는 다공성 엘리먼트를 형성하는 하우징을 포함하는, 적어도 하나의 직렬식 입자 여과 시스템; 및
    적어도 하나의 수집 필터시스템으로부터 입자들을 받아들여서 수집하는 적어도 하나의 입자 수집시스템; 을 포함하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 장치 어셈블리는, a)하나 이상의 온도 조절기; b)하나 이상의 밸브; c)하나 이상의 작동기; d)하나 이상의 배압 조절장치; e)하나 이상의 유량조절기; f)적어도 채취필터로 가스를 파동시키게끔 구성된 가스 펄싱 시스템; g)시스템의 하나 이상의 구성요소의 작동을 제어하기 위해 적응된 소프트웨어 또는 로직을 포함하는 메모리 저장 매체를 갖는 하나 이상의 컴퓨터; h)하나 이상의 압력센서; i)액체 입자 현탁액의 흐름을 채취 필터로 유도하고, 채취 필터로부터 수집필터로 가스 입자 현탁액의 흐름을 유도하는 하나 이상의 밸브; j)하나 이상이 펌프; k)하나 이상의 온도센서; l)하나 이상의 SCF 공급시스템; m)하나 이상의 프로세스 유체 공급시스템; n)프로세스 유체, 초임계 카본 디옥사이드(scCO2) 또는 프로세스 유체 및 scCO2 의 조합을 펌핑하기 위한 하나 이상의 펌프; o)하나 이상의 솔벤트 분리 용기; p)하나 이상의 솔벤트 수집 용기; 및/또는 q)하나 이상의 인-라인 센서(in-line sensors); 또는 r)그것들의 조합을, 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  3. 제 2항에 있어서,
    인-라인 센서는, 스펙트로포토메릭 센서(spectrophotometric sensor), 입자 사이즈 센서, 압력센서, 온도센서, 적외선센서, 근적외선센서, 및 자외선센서로 구성된 그룹으로부터 각각의 경우에 독립적으로 선택될 수 있는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  4. 제 1항에 있어서,
    장치 어셈블리는, 적어도 하나의 온도 조절기, 적어도 하나의 온도센서, 적어도 하나의 압력센서, 적어도 하나의 배압 조절장치, 적어도 하나의 유량조절기, 적어도 하나의 밸브, 적어도 하나의 SCF 공급시스템 및 적어도 하나의 프로세스 유체 공급시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  5. 제 1항에 있어서,
    적어도 하나의 입자 형성 시스템은, a)진동가능한 부재(vibratable member); b)적어도 하나의 압전성 구성요소(piezoelectric component)를 포함하는 진동기; c)작동 중에 정상 초음파를 발생시키는 수렴 또는 분기 노즐(converging or diverging nozzle); d)프로세스 유체를 위한 도관 및 SCF를 위한 도관(conduit); e) 모세관 노즐; f) 진동기 및 진동 가능한 부재; 또는 g)그것들의 조합을, 포함하는 분산기를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  6. 제 5항에 있어서,
    진동가능한 부재는 노즐, 플레이트 또는 메시(mesh) 인 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  7. 제 1항에 있어서,
    적어도 하나의 채취 필터시스템은, 프로세스 캐비티(process cavity), 프로세스 캐비티 내의 적어도 하나의 다공성 엘리먼트(porous element), 적어도 하나의 유입 포트, 적어도 하나의 유출 포트, 하우징의 온도를 조절하기 위한 온도 조절기, 적어도 하나의 가스 공급 라인, 및 SCF 공급 라인을 형성하는 하우징을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  8. 제 7항에 있어서,
    채취 필터시스템으로서: a)프로세스 캐비티는, 그의 세로 축을 따라 수직으로 지향되며; b)적어도 하나의 유입 포트는 가스 입자 현탁액을 위한 유출 포트로서 이용되게끔 구성되며; c)다공성 엘리먼트 및 하우징은 원통형이며; d)온도 조절기는 하우징을 둘러싸는 가열 및 또는 냉각 재킷을 포함하며; e)프로세스 캐비티는 원추형 부분을 포함하며; f)프로세스 캐비티는 다공성 엘리먼트가 배치되는 선형 원통형 부분을 더 포함하며; g)다공성 엘리먼트의 외부 면 및 프로세스 캐비티(process cavity)의 내부 면 사이의 간격(spacing)은, 약 5 내지 약 100㎜의 범위에 있으며; h) 내부 도관의 직경은 약 5 내지 약 60㎜의 범위에 있으며; i)다공성 엘리먼트의 외부 직경은 약 10 내지 약 60㎜의 범위에 있으며; j)채취 필터시스템은 SCF 액체 현탁액의 흐름 및 가스 입자 현탁액의 흐름을 유도하는 하나 이상의 밸브를 더 포함하며; k)고압 필터 및 침전챔버는 약 800 내지 약 3000psi 에서 작동하게끔 적응되며; 또는 l)그것들의 조합인, 채취 필터시스템 인 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  9. 제 8항에 있어서,
    프로세스 캐비티는 지면과 수직을 이루게 수직으로 지향되거나 플럼 보브 라인의 선형 축에 평행한 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  10. 제 7항에 있어서,
    다공성 엘리먼트는 프로세스 캐비티 내로 연장되며, 다공성 엘리먼트는 적어도 하나의 유출 포트 또는 적어도 하나의 유입 포트와 전도성으로(conductively) 결합되는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  11. 제 1항에 있어서,
    적어도 하나의 수집 필터시스템은, 세로의 프로세스 캐비티, 적어도 하나의 유입 포트, 적어도 하나의 가스 유출 포트, 적어도 하나의 입자 유출 포트, 적어도 하나의 가스 입자 현탁액 공급 라인, 프로세스 캐비티 내의 적어도 하나의 다공성 엘리먼트를 형성하는 하우징을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  12. 제 11항에 있어서,
    수집 필터시스템으로서: a)프로세스 캐비티는, 그의 세로 축을 따라 수직으로 지향되며; b)적어도 하나의 유입 포트는 가스 입자 현탁액을 받아들이게끔 구성되며; c)다공성 엘리먼트는 원통형이며; d)다공성 엘리먼트의 내부 도관은 약 5 내지 약 60㎜ 범위의 내부 직경을 갖으며; e)시스템은 가스 펄싱 시스템을 더 포함하며; f)수집 용기는 다공성 엘리먼트의 아래에 또는 다공성 엘리먼트 아래의 레벨에 배치되며; 또는 g) 그것들의 조합인, 수집 필터시스템인 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  13. 제 12항에 있어서,
    수직지향(vertical orientation)은 지면과 수직을 이루거나 플럼 보브 라인(plumb bob line)의 선형 축에 평행한 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  14. 제 1항에 있어서,
    장치 어셈블리는, a)두개의 채취 필터시스템, 두개의 수집 필터시스템 및 두개의 수집 시스템; b)두개의 채취 필터시스템, 하나의 수집 필터시스템 및 하나 이상의 수집 시스템; c)두개의 채취 필터시스템, 두개의 수집 필터시스템 및 하나 이상의 수집 시스템; d)두개의 채취 필터시스템, 하나의 수집 필터시스템 및 하나 이상의 수집 시스템; e)평행으로 배치되는 두개의 직렬식 입자 채취 시스템 및 수집 시스템; f)평행으로 배치되는 두개 이상의 입자 채취 필터시스템, 평행으로 배치되는 하나의 수집 필터시스템 및 두개의 이상의 수집 시스템; g)적어도 하나의 입자 형성 시스템을 위한 두개 이상의 침전챔버; h)교대로 또는 동시에 작동하게끔 구성되는 적어도 두개의 직렬식 필터시스템; 및/또는 i)교대로 또는 동시에 작동하게끔 구성되는 적어도 두개의 입자 수집 시스템; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  15. 제 1항에 있어서,
    입자 수집 시스템은 통기되는(vented) 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  16. 제 15항에 있어서,
    통기구는 여과 매체를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  17. 제 1항에 있어서,
    장치 어셈블리는, a)적어도 하나의 SCF 공급시스템; b)적어도 하나의 프로세스 유체 공급시스템; c)적어도 하나의 입자 수집용기; 또는 d)그것들의 조합을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  18. 제 17항에 있어서,
    적어도 하나의 유입 포트는 다공성 엘리먼트의 아래의 레벨에 배치되며 역 프로세스 방향으로 유출 포트로서 이용되는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  19. 제 1항에 있어서,
    적어도 하나의 수집 필터시스템은, 적어도 하나의 다공성 엘리먼트 및 프로세스 캐비티를 형성하는 하우징을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  20. 제 19항에 있어서,
    적어도 하나의 수집 필터시스템의 하우징은, 다공성 엘리먼트의 아래의 레벨에 배치되는 적어도 하나의 유출 포트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  21. 제 20항에 있어서,
    적어도 하나의 수집 필터시스템의 다공성 엘리먼트는. 프로세스 캐비티 내로 연장되며, 세로의 내부 도관을 형성하는 다공성 벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  22. 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리에 있어서,
    상기 장치 어셈블리는,
    입자-함유 SFC 액체 현탁액을 형성하는 적어도 하나의 고압 초임계 유체(SCF) 입자 형성시스템; 및
    입자-함유 SCF 액체 현탁액을 여과하여 입자 함유 가스 현탁액을 형성하는 적어도 하나의 채취 필터시스템을 포함하며, 여기에서 적어도 하나의 채취 필터시스템은, 프로세스 캐비티, 프로세스 캐비티 내의 적어도 하나의 다공성 엘리먼트, 적어도 하나의 유입 포트, 적어도 하나의 유출 포트, 하우징의 온도를 조절하기 위한 적어도 하나의 온도 조절기, 적어도 하나의 가스 공급라인, 및 적어도 하나의 SCF 공급라인을 형성하는 하우징을 포함하며,
    입자로부터 가스를 분리하기 위해 가스 현탁액을 여과하는 적어도 하나의 수집 필터시스템를 포함하며, 여기에서 적어도 하나의 수집 필터시스템은 세로의 프로세스 캐비티, 적어도 하나의 유입 포트, 적어도 하나의 가스 유출 포트, 적어도 하나의 입자 유출 포트, 적어도 하나의 가스 입자 현탁액 공급라인, 프로세스 캐비티 내에 있으며 적어도 하나의 유입 포트 및 적어도 하나의 입자 유출 포트와 전도성으로 결합되는 세로의 내부 도관을 형성하는 다공성 벽을 포함하는 적어도 하나의 다공성 엘리먼트를 형성하는 하우징을 포함하는데, 여기에서 적어도 하나의 수집 필터시스템은 적어도 하나의 채취 필터시스템의 아래쪽에 있는, 적어도 하나의 직렬식 여과 시스템; 및
    적어도 하나의 수집 필터시스템으로부터 입자를 받아들여서 수집하며 적어도 하나의 수집용기를 포함하는 적어도 하나의 입자 수집시스템; 을 포함하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  23. 제 22항에 있어서,
    장치 어셈블리에서, a)채취 필터시스템의 다공성 엘리먼트는 프로세스 캐비티 내로 연장하며 적어도 하나의 유출 포트 또는 적어도 하나의 유입 포트와 결합하며; b)적어도 하나의 유출 포트는 다공성 엘리먼트 아래의 레벨에 배치되며; c)유입 포트는 다공성 엘리먼트 아래의 레벨에 배치되어 역 프로세스 방향으로 유출 포트로서 이용되며; 또는 d)그것들의 조합을, 특징으로하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  24. 제 22항에 있어서,
    장치 어셈블리는, 적어도 하나의 SCF 입자 형성 시스템, 적어도 두개의 채취 필터시스템, 적어도 두개의 수집 필터시스템, 및 적어도 두개의 입자 수집시스템; 을 포함하며, 또는 적어도 하나의 SCF 입자 형성 시스템, 적어도 두개의 채취 필터시스템, 적어도 하나의 수집 필터시스템, 및 적어도 두개의 입자 수집시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
  25. 제 1항에 있어서,
    적어도 하나의 채취 필터시스템은, 프로세스 캐비티, 적어도 하나의 유출 포트, 적어도 하나의 유입 포트, 및 프로세스 캐비티 내로 연장하며 적어도 하나의 유출 포트 또는 적어도 하나의 유입 포트와 전도성으로 결합되는 적어도 하나의 다공성 엘리먼트를 형성하는 하우징을 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 형성 및 수집 장치 어셈블리.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200132113A (ko) * 2019-05-15 2020-11-25 경희대학교 산학협력단 마이크로 입자의 대량 생산 방법 및 이를 통해 제조된 마이크로 입자
KR20230021367A (ko) * 2021-08-05 2023-02-14 전북대학교산학협력단 나노튜브 합성장치

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014081881A2 (en) 2012-11-20 2014-05-30 Andrew Paul Joseph Fluid-based extractor
US9908062B2 (en) 2012-11-20 2018-03-06 Andrew Paul Joseph Extraction apparatus and method
US8778181B1 (en) 2013-03-14 2014-07-15 Crititech, Inc. Equipment assembly for and method of processing particles
US9925512B2 (en) 2013-03-14 2018-03-27 Crititech, Inc. Equipment assembly for and method of processing particles
JP6921759B2 (ja) * 2015-06-04 2021-08-18 クリティテック・インコーポレイテッド 捕集装置および使用法
RU2018113280A (ru) 2015-09-16 2019-10-16 ДиЭфБи СОРИА, ЭлЭлСи Доставка наночастиц лекарственного средства и способы их использования
RU2737934C2 (ru) 2016-04-04 2020-12-07 Крититек, Инк. Способы лечения солидных опухолей
JP6763740B2 (ja) * 2016-10-18 2020-09-30 太平洋セメント株式会社 噴霧熱分解装置
WO2018170207A1 (en) 2017-03-15 2018-09-20 Dfb Soria, Llc Topical therapy for the treatment of skin keratoses using nanoparticles of taxanes
WO2018170210A1 (en) 2017-03-15 2018-09-20 Dfb Soria, Llc Topical therapy for the treatment of vulvar intraepithelial neoplasia (vin) and genital warts using nanoparticles of taxanes
WO2018170196A1 (en) 2017-03-15 2018-09-20 Dfb Soria, Llc Topical therapy for the treatment of skin malignancies using nanoparticles of taxanes
SG11201909840TA (en) 2017-06-09 2019-11-28 Crititech Inc Treatment of epithelial cysts by intracystic injection of antineoplastic particles
AU2018284247B2 (en) 2017-06-14 2020-04-30 Crititech Inc. Methods for treating lung disorders
RU2020110399A (ru) 2017-10-03 2021-11-09 Крититек, Инк. Местная доставка противоопухолевых частиц в комбинации с системной доставкой иммунотерапевтических агентов для лечения рака
WO2019136187A1 (en) 2018-01-05 2019-07-11 Crititech, Inc. Treatment of bladder cancer by local administration of taxane particles
US11497726B2 (en) 2018-03-16 2022-11-15 Dfb Soria, Ll. Topical therapy for the treatment of cervical intraepithelial neoplasia (CIN) and cervical cancer using nanoparticles of taxanes
US20190365699A1 (en) 2018-05-31 2019-12-05 Crititech, Inc. Treatment of Kidney Tumors by Intratumoral Injection of Taxane Particles
AU2019276718A1 (en) 2018-05-31 2020-10-01 Crititech, Inc. Methods for isolating tumor-specific immune cells from a subject for adoptive cell therapy and cancer vaccines
US20190365698A1 (en) 2018-05-31 2019-12-05 Crititech, Inc. Use of Antineoplastic Agents to Stimulate the Immune System for Treatment of Cancer
WO2020072090A1 (en) 2018-10-03 2020-04-09 Crititech, Inc. Use of antineoplastic agents to stimulate the immune system for production of tertiary lymphoid structures (tls)
EP3699150A1 (en) * 2019-02-25 2020-08-26 Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL) Aqueous effluent treatment system
CN110420479A (zh) * 2019-07-09 2019-11-08 长乐佳纶纺织实业有限公司 一种涤纶丝生产预结晶用沸腾床
US20210179457A1 (en) * 2019-12-11 2021-06-17 Dynamic Water Technologies Global, LLC Systems and methods for the removal of minerals from conductive protonic fluids
CN113786688A (zh) * 2021-09-06 2021-12-14 山东莱钢永锋钢铁有限公司 一种助吹技术在除尘系统中的应用方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3283803A (en) * 1963-01-07 1966-11-08 Monsanto Co Separation of slurries
US4881722A (en) * 1987-01-27 1989-11-21 Neturen Company Limited Apparatus for producing superfine particle
US6270732B1 (en) * 1998-06-30 2001-08-07 Nanogram Corporation Particle collection apparatus and associated methods
US7083748B2 (en) * 2003-02-07 2006-08-01 Ferro Corporation Method and apparatus for continuous particle production using supercritical fluid

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0437451B1 (en) * 1988-10-05 1993-06-09 The Upjohn Company Finely divided solid crystalline powders via precipitation into an anti-solvent
AU2436192A (en) 1991-08-09 1993-03-02 Board Of Regents, The University Of Texas System High temperature wet oxidation using sintered separators
AU5171293A (en) 1992-10-14 1994-05-09 Regents Of The University Of Colorado, The Ion-pairing of drugs for improved efficacy and delivery
GB9313642D0 (en) * 1993-07-01 1993-08-18 Glaxo Group Ltd Method and apparatus for the formation of particles
US5460701A (en) 1993-07-27 1995-10-24 Nanophase Technologies Corporation Method of making nanostructured materials
BR9408015A (pt) 1993-11-08 1996-12-17 Gillette Co Processos para preparar material em partículas para formar material em partículas para controlar a transpiração e para evitar o mau-odor devido à transpiração em um ser humano material em antiperpirante ou desodorante
GB9413202D0 (en) 1994-06-30 1994-08-24 Univ Bradford Method and apparatus for the formation of particles
US5584913A (en) 1994-08-12 1996-12-17 Pneumafil Corporation Dust collector with two stage self-cleaning of filter elements
FR2727873B1 (fr) 1994-12-12 1997-01-10 Commissariat Energie Atomique Procede et installation de separation de composes lourds et legers par extraction par un fluide supercritique et nanofiltration
US5571299A (en) 1995-04-28 1996-11-05 Tonn; Harold H. Dust collector
US5803966A (en) * 1995-11-01 1998-09-08 Alcon Laboratories, Inc. Process for sizing prednisolone acetate using a supercritical fluid anti-solvent
US5874029A (en) 1996-10-09 1999-02-23 The University Of Kansas Methods for particle micronization and nanonization by recrystallization from organic solutions sprayed into a compressed antisolvent
GB9703673D0 (en) 1997-02-21 1997-04-09 Bradford Particle Design Ltd Method and apparatus for the formation of particles
US20010051118A1 (en) 1999-07-21 2001-12-13 Ronald J. Mosso Particle production apparatus
US6113795A (en) 1998-11-17 2000-09-05 The University Of Kansas Process and apparatus for size selective separation of micro- and nano-particles
GB9828204D0 (en) * 1998-12-21 1999-02-17 Smithkline Beecham Plc Process
GB9915975D0 (en) 1999-07-07 1999-09-08 Bradford Particle Design Ltd Method for the formation of particles
US6620351B2 (en) 2000-05-24 2003-09-16 Auburn University Method of forming nanoparticles and microparticles of controllable size using supercritical fluids with enhanced mass transfer
FR2815540B1 (fr) 2000-10-19 2005-06-10 Separex Sa Procede de fabrication de tres fines particules constituees d'un principe insere dans une molecule hote
BR0207570B1 (pt) 2001-02-26 2013-02-05 aparelho para formaÇço de partÍculas micronizadas e submicronizadas de uma substÂncia, bocal, e, processo realizado usando o aparelho.
WO2003006223A1 (en) 2001-07-10 2003-01-23 University Technology Corporation Devices and methods for the production of particles
ATE526340T1 (de) 2001-10-22 2011-10-15 Dompe Spa Verfahren durch gebrauch von überkritischen flüssigkeiten: herstellung von proteinmikropartikeln und ihre stabilisierung
GB0126716D0 (en) 2001-11-07 2002-01-02 Advanced Phytonics Ltd Method for the production of particles
US6998051B2 (en) 2002-07-03 2006-02-14 Ferro Corporation Particles from supercritical fluid extraction of emulsion
US6916389B2 (en) 2002-08-13 2005-07-12 Nanotechnologies, Inc. Process for mixing particulates
GB0229714D0 (en) 2002-12-20 2003-01-29 Glaxo Group Ltd Novel apparatus and method
WO2005005010A2 (en) 2003-02-21 2005-01-20 Ferro Corporation Methods and apparatus for producing composite particles using supercritical fluid as plasticizing and extracting agent
US7455797B2 (en) 2003-02-28 2008-11-25 Ferro Corporation Method and apparatus for producing particles using supercritical fluid
WO2004108265A2 (en) * 2003-06-03 2004-12-16 Ferro Corporation Nanoparticles from supercritical fluid antisolvent process using particle growth and agglomeration retardants
WO2004110603A2 (en) 2003-06-03 2004-12-23 Ferro Corporation Method for preparation of particles from solution-in-supercritical fluid or compressed gas emulsions
JP4317057B2 (ja) * 2004-03-04 2009-08-19 株式会社大川原製作所 超臨界微粒子製造装置
JP2005262116A (ja) * 2004-03-19 2005-09-29 Okawara Mfg Co Ltd 超臨界微粒子製造装置
CN100475310C (zh) * 2005-10-11 2009-04-08 塞巴斯蒂安·崔玛 一种气体过滤器滤料的净化工艺及装置
BRPI0720550A2 (pt) * 2006-10-06 2014-07-08 Newsouth Innovations Pty Ltd Formação de partículas
JP4705691B2 (ja) * 2006-10-11 2011-06-22 クリティテック・インコーポレイテッド 使用のための容器に小さい医薬粒子を沈殿させるための方法
US8323685B2 (en) 2008-08-20 2012-12-04 Baxter International Inc. Methods of processing compositions containing microparticles
US8323615B2 (en) 2008-08-20 2012-12-04 Baxter International Inc. Methods of processing multi-phasic dispersions
US8215489B1 (en) 2008-10-31 2012-07-10 Auburn University Method and apparatus for physical separation of different sized nanostructures
US20100294986A1 (en) * 2009-05-19 2010-11-25 Massachusetts Institute Of Technology Supercritical fluid facilitated particle formation in microfluidic systems
US20130093111A1 (en) * 2010-06-14 2013-04-18 Xspray Microparticles Ab Apparatus and Method for the Production of Particles
US8778181B1 (en) 2013-03-14 2014-07-15 Crititech, Inc. Equipment assembly for and method of processing particles

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3283803A (en) * 1963-01-07 1966-11-08 Monsanto Co Separation of slurries
US4881722A (en) * 1987-01-27 1989-11-21 Neturen Company Limited Apparatus for producing superfine particle
US6270732B1 (en) * 1998-06-30 2001-08-07 Nanogram Corporation Particle collection apparatus and associated methods
US7083748B2 (en) * 2003-02-07 2006-08-01 Ferro Corporation Method and apparatus for continuous particle production using supercritical fluid

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200132113A (ko) * 2019-05-15 2020-11-25 경희대학교 산학협력단 마이크로 입자의 대량 생산 방법 및 이를 통해 제조된 마이크로 입자
KR20230021367A (ko) * 2021-08-05 2023-02-14 전북대학교산학협력단 나노튜브 합성장치

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Publication number Publication date
SG11201507379YA (en) 2015-10-29
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MX346027B (es) 2017-03-02
JP6042009B2 (ja) 2016-12-14
US20140296140A1 (en) 2014-10-02
EP2969441B1 (en) 2020-10-28
AU2014236408B2 (en) 2016-01-28
CA2903566A1 (en) 2014-09-25
EP2969441A1 (en) 2016-01-20
US8778181B1 (en) 2014-07-15

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