KR20150102023A

KR20150102023A - 세정 방법 및 조성물

Info

Publication number: KR20150102023A
Application number: KR1020157016944A
Authority: KR
Inventors: 앨런 키시; 자와하르 와클루; 가이 존슨; 캐롤라인 켈리
Original assignee: 오티아이 그린테크 그룹 아게
Priority date: 2012-11-30
Filing date: 2013-11-27
Publication date: 2015-09-04
Also published as: WO2014083062A3; EP2925844B1; CA2892430A1; EP2925844A2; CN104870624A; EA201590990A1; EA031115B1; BR112015012632A2; CA2892430C; WO2014083062A2

Abstract

프로파일링된 경질 표면, 예를 들어 규산 아연 프라이머와 같은 내부식층으로 코팅된 금속의 세정 방법이 제공된다. 본 방법은 (a) 음이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%, (b) 화학식 R'-(AO)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고; 각 AO 단위는 -OCH₂CH₂- 또는 -OCH₂CH(CH₃)-이고 n은 6 초과이다)를 갖는 제1 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량% 및 (c) 화학식 R'-(OCH₂CH₂)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고, n은 6 미만이다)를 갖는 제2 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%를 포함하고; 상기 각 중량%는 (a), (b) 및 (c)의 총 중량 기준인 세정 조성물에 표면을 접촉시키는 단계를 포함한다. 본 방법은 해양 화물 탱크의 프로파일링된 내부 표면 세정에 특히 유용하다. 대응하는 경질 표면 세정 조성물은 또한 농축물 및 물에 희석된 형태 둘 다로 개시된다.

Description

세정 방법 및 조성물{CLEANING METHOD AND COMPOSITION}

본 발명은 프로파일링된(profiled) 경질 표면, 특히 규산 아연 등으로 코팅된 것의 세정 방법, 및 이러한 표면 세정에 적합한 조성물에 관한 것이다.

규산 아연 프라이머는 철 금속 구조물을 코팅하고 희생 애노드(sacrificial anode)로 작용함으로써 그 부식을 방지하기 위해 산업 전반에 걸쳐 광범위하게 사용된다. 이러한 프라이머의 예는 통상적으로 폴리실록산 또는 에폭시 수지와 같은 결합제 또는 강화제로 배합된 조성물을 포함한다. 예를 들어 강의 표면에 60 내지 70 마이크로미터의 통상적인 두께로 바르고 경화시키면 단단하고 내마찰성이고 내산화성인 세라믹 코팅이 생성된다. 이는 특히 물리적 손상 및 부식성 염수 분무에 대한 노출 가능성이 있는 해양 응용에 사용되는 탱크의 내부 표면을 코팅하는 데에 특히 유용하게 한다.

이러한 프라이머 처리된 표면의 문제점 중 하나는 대응하는 나금속(bare metal)보다 덜 매끄럽다는 것이다. 이러한 프로파일링은 이들을 다소 세정하기 어렵게 만들고 그 결과 이는 특정한 상황에서 문제를 일으킬 수 있다. 예를 들어, 이전에 예를 들어 중탄화수소를 담았던 배의 화물칸이, 이어서 예를 들어 메탄올과 같은 알코올과 같은 다른 화물을 운반하는 데에 사용되면, 세정을 확실히 완료하기 위해 세정 단계가 오래 걸리고 사람이 밀폐된, 유해한 환경에 들어갈 것을 요할 수 있다.

US 6716804는 양쪽성 계면활성제 및 물 용해도를 달리하는 에톡실레이트인 상이한 두 가지 비-이온성 계면활성제를 포함하는 3성분 세정 조성물을 개시한다.

US 2012/0277140은 하나 이상의 음이온성 계면활성제 및 하나 이상의 비-이온성 계면활성제를 포함하는 표면 세정용 계면활성제 시스템을 개괄적으로 개시한다. 불특정 EO/PO 블록 공중합체를 포함한 광범위한 계면활성제 후보가 추론되지만 예시된 것은 하나는 수용성이고 다른 하나는 비수용성인 두 에톡실레이트 비-이온성 계면활성제의 조합이 또한 사용된 시스템이다. 한 실시태양에서 무기 염이 또한 포함된다.

본 발명자들은 이제, 오늘날 현재 사용 중이거나 위에서 언급한 참고 문헌에 개시된 것들에 비해, 탱크 세정이 일어날 수 있는 정도와 속도 모두에서 개선을 나타내는 세정 조성물을 개발했다. 또한, 이들의 개선된 성능은 스팀-세정의 필요성을 실질적으로 감소시킴으로써 상당한 환경 및 에너지 절약을 가져올 수 있다. 따라서, 본 발명의 한 측면에 따르면, (a) 음이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%, (b) 화학식 R'-(AO)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고; 각 AO 단위는 -OCH₂CH₂- 또는 -OCH₂CH(CH₃)-이고 n은 6 초과이다)를 갖는 제1 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량% 및 (c) 화학식 R'-(OCH₂CH₂)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고 n은 6 미만이다)를 갖는 제2 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%를 포함하고; 상기 각 중량%는 (a), (b) 및 (c)의 총 중량 기준인 세정 조성물에 표면을 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로파일링된 경질 표면으로부터 오염물질을 제거하는 방법이 제공된다.

특정한 상황에서, 위에서 기술한 다양한 계면활성제는 순수한 형태가 아닌 물에 희석된 형태로 얻을 수 있다. 예를 들어, 상업적으로 얻을 수 있는 음이온성 계면활성제는 통상적으로 유효 성분 25-40 %의 수용액을 포함한다. 본원에서 정의된 다양한 중량 범위가 100 % 유효 성분 기준이므로, 이로부터 유래한 임의의 세정 조성물을 만들 때 임의의 희석 효과를 고려해야 할 것이다.

본원에서 개시하는 세정 조성물에서 개별적인 성분의 밀도는 약 1 g/cc이므로 배합물은 다르게는 부피 기준으로 동일한 범위를 사용하여 만들어도 실질적으로 동일한 결과를 가져온다는 것을 쉽게 알 수 있을 것이다.

한 실시태양에서, 세정 조성물은 국부 세정 작업에 적합한 농축물을 포함한다. 다른 실시태양에서, 하나 이상의 단계에서 물의 첨가에 의한 농축물 유래의 대응하는 희석된 형태를 포함한다. 통상적으로 이러한 희석된 형태는 부피 기준으로 5 % 미만, 보다 바람직하게는 1 % 미만, 가장 바람직하게는 0.75 % 미만의 농축물 자체를 포함할 것이다. 또 다른 실시태양에서, 희석된 형태의 세정 조성물은 위에서 정의된 다양한 범위에 따른 비율의 세 계면활성제 성분에 직접 물을 혼합하여 제조된 것일 수 있다. 사용 시, 세정 조성물의 pH는 적합하게는 6 내지 9, 가장 바람직하게는 7 내지 8 범위 내이다.

위에서 기술한 세정 조성물의 세 성분에 더하여 원하는 경우 다른 유용한 첨가제, 예를 들어 염료, 소포제, 친수제 등이 있을 수 있다고 생각된다.

본원에서 개시하는 본 발명의 특정한 실시태양에서, 제1 비-이온성 계면활성제는 탈이온수 내의 1 중량% 계면활성제에서 ASTM D-2024 09에 의해 측정한 50-90, 바람직하게는 60-70 ℃ 범위 내의 흐림점을 갖고/갖거나 제2 비-이온성 계면활성제는 25 % 부틸 디글리콜(BDG) 수용액 25g 내의 5g 계면활성제로 측정한 30-70, 바람직하게는 40-60 ℃ 범위 내의 흐림점을 갖는다.

본 발명의 다른 실시태양에서; (1) 음이온성 계면활성제(비이온화된, 산 형태)는 5 내지 7 범위 내의 log₁₀P 값을 갖고/갖거나 (2) 제1 비-이온성 계면활성제는 0.1 내지 3 범위 내의 log₁₀P 값을 갖고/갖거나 (3) 제2 비-이온성 계면활성제는 0.1 내지 3 범위 내의 log₁₀P 값을 갖는다. 본원에서 사용되는 용어 log₁₀P는 표준 2-상 n-옥탄올/물 시스템에 대해 측정한 주어진 성분의 분배 계수 P의 로그를 의미한다. 이 방법론에 대한 추가적인 정보는 예를 들어 문헌 [ion Ecotoxicology and Environmental Safety, 11(3) 1986, pp.251-260]에서 찾을 수 있다.

음이온성 계면활성제를 보면, 한 실시태양에서 C₁₂ 내지 C₁₈ 알킬 술폰산 또는 황산 또는 그의 대응하는 염, 바람직하게는 IA 족 또는 IIA 족 금속 또는 아민 또는 알칸올아민 염으로부터, 또는 선형 알킬 벤젠 술폰산 또는 그의 염, 바람직하게는 IA 족 또는 IIA 족 금속 염 또는 아민 또는 알칸올아민 염으로부터 선택되는 화합물의 일종 또는 혼합물이다. 다른 실시태양에서, C₁₂ 내지 C₁₈ 알킬 폴리에테르 황산 또는 그의 대응하는 염, 바람직하게는 IA 족 또는 IIA 족 금속 또는 아민 또는 알칸올아민 염으로부터 선택된다. 바람직한 음이온성 계면활성제의 예는 나트륨 라우릴 술포네이트 또는 술페이트, 마그네슘 라우릴 술포네이트 또는 술페이트, 테트라에틸암모늄 라우릴 술포네이트 또는 술페이트, 나트륨, 칼륨 또는 마그네슘의 혼합 C₁₄ 내지 C₁₆ 알킬 술페이트 또는 술포네이트 염 및 나트륨, 칼륨 또는 마그네슘의 혼합 C₁₂ 내지 C₁₄ 알킬 술페이트 또는 술포네이트 염을 포함한다. 바람직한 선형 알킬 벤젠 술폰산 또는 그의 염은 C₆ 내지 C₁₂ 알킬 벤젠 술폰산 또는 그의 염을 포함한다. 지방족 또는 방향족 성분과 술페이트기 사이의 폴리에테르 단위를 특징으로 하는 폴리에테르 술페이트의 경우, 적합하게는 20개 이하의 -OCH₂CH₂- 단위로 이루어진 폴리에테르이다. 임의의 상기 알킬기는 분지형이거나 분지형이 아닐 수 있다.

음이온성 계면활성제가 아민 또는 알칸올아민 염일 때, 대응하는 양이온은 적합하게는 화학식 R₃NH⁺(식 중, 각 R기는 독립적으로 H 또는 C₁ 내지 C₆ 치환된 또는 비치환된 히드로카빌기이고 단, 하나 이상이 치환된 히드로카빌기이다)를 갖는 화학종 부류로부터 선택된다. 본원에서 사용되는 용어 '치환된 히드로카빌기'는, -OH, -SH, -NH₂, -NHR 등과 같은 하나 이상의 극성기로 치환된 히드로카빌, 바람직하게는 화학식 C_xH_2x ₊₁의 알킬기를 의미한다. 한 바람직한 실시태양에서, 이러한 치환된 알킬기는 하나 이상의 히드록시기를 포함하는 히드록시알킬기이고; 하위-실시태양에서 이들 히드록시기 중 하나 이상은 질소에 결합된 것으로부터 먼 알킬기의 말단에 결합된다. 다른 실시태양에서, 둘 이상의 R기가 히드록시알킬기이고 또 다른 실시태양에서 세 R기 모두가 히드록시알킬기이다. 위에서 기술한 실시태양 및 하위-실시태양 각각에 독립적으로 적용가능한 바람직한 하위-실시태양에서, 각 R기는 적합하게는 독립적으로 H 또는 C₂ 내지 C₆ 비치환된 또는 치환된 알킬기; 보다 바람직하게는 H 또는 C₂ 내지 C₄ 비치환된 또는 치환된 알킬기이다.

위에서 기술한 R₃NH⁺ 양이온의 한 특히 바람직한 하위-부류는 각 알칸올기가 2 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 양성자화된 모노-, 디- 또는 트리- 알칸올아민으로 여길 수 있는 화학종으로 구성된다. 이러한 화학종의 예는 양성자화된 모노-에탄올아민, 디-에탄올아민, 트리-에탄올아민, 모노-프로판올아민, 디-n-프로판올아민, 트리-n-프로판올아민, 디-이소-프로판올아민 또는 트리-이소-프로판올아민을 포함한다. 바람직하게는 양이온은 양성자화된 트리-에탄올아민 또는 양성자화된 트리-n-프로판올아민이다.

세정 조성물에 사용되고 비교적 친수성인 제1 비-이온성 계면활성제는, 적합하게는 화학식 R'-(AO)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬, 바람직하게는 C₉ 내지 C₁₆ 알킬이고; 각 AO 단위는 -OCH₂CH₂- 또는 -OCH₂CH(CH₃)-이고 n은 6 초과이다)를 갖는 화합물의 일종 또는 혼합물이다. 한 실시태양에서, 몰비 [-OCH₂CH(CH₃)-]/[-OCH₂CH₂-]는 8 이하, 바람직하게는 0.1 내지 4 범위 내이고/이거나 n은 7 내지 15이다. 상이한 AO 단위는 랜덤으로 또는 블록으로 배열될 수 있다. 일부 실시태양에서, AO 사슬의 말단 블록은 -OCH₂CH(CH₃)- 단위로 이루어지고; 다른 경우 -OCH₂CH₂- 단위로 이루어진다. 제1 비-이온성 계면활성제는 예를 들어 게르베 반응(Guerbet synthesis)을 사용하여 자연 발생적인 원료로부터 또는 전구체 저분자량 알코올로부터 그 자체로 유도될 수 있는 대응하는 지방 알코올 R'OH의 알콕시화에 의해 통상적으로 제조된다. 이러한 계면활성제는 종종 '링커(linker) 계면활성제'로 불리고 비교적 낮은 임계 미셀 농도(CMC)를 나타내는 것을 특징으로 한다. 위에서 언급한 알킬기는 분지형이거나 분지형이 아닐 수 있다.

세정 조성물에 사용되고 비교적 소수성인 제2 비-이온성 계면활성제는 적합하게는 화학식 R'-(OCH₂CH₂)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬, 바람직하게는 C₉ 내지 C₁₆ 알킬이고, n은 6 미만, 바람직하게는 2 내지 5이다)를 갖는 화합물의 일종 또는 혼합물이다. 이러한 계면활성제 또한 게르베 반응을 사용하여 자연 발생적인 원료로부터 또는 전구체 저분자량 알코올로부터 그 자체로 유도될 수 있는 대응하는 지방 알콜 R'OH의 에톡시화에 의해 통상적으로 제조된다. 위에서 언급한 알킬기는 분지형이거나 분지형이 아닐 수 있다.

제1 및 제2 비-이온성 계면활성제에 사용된 R'기는 같거나 상이할 수 있다.

바람직하게는 제1 및 제2 비-이온성 계면활성제 중 한쪽 또는 양쪽은 세정 조성물의 10 내지 45 중량%를 구성한다.

본 발명의 방법은 사용, 부식 또는 내부식층(예를 들어 프라이머)으로 코팅됨에 의해 프로파일링된(즉 거칠어진) 모든 더러운 경질 표면의 세정에 일반적으로 사용할 수 있다. 그 사용은 경질 표면이 규산 아연 등의 프로파일링된, 희생 코팅을 포함하는 경우 유용하고 코팅된 스테인리스 또는 연강 저장 탱크의 더러운 표면을 세정하는 데에 특히 유용하다. 이는 공간이 막혀있고 폐기 세정 조성물의 배출이 환경적으로 문제가 되는 배의 화물칸 또는 화물 탱크를 세정하는 데에 특히 유용하게 사용될 수 있다. 세정을 위해 세정 조성물을 사용하는 임의의 방법을 사용할 수 있지만 통상적으로는 액체를 수거하여 재순환시키도록 개조된 산업용 분무기 장치를 사용하여 더러운 표면과 접촉시킬 것이다. 원하는 경우, 표면을 동시에 솔질하거나 문지를 수 있다. 그 후, 적합한 기간의 세정 시간이 경과하면, 세정된 표면을 깨끗한 물 및/또는 다음에 사용될 화물의 샘플로 헹굴 수 있다. 적합하게는 세정 조성물을 100 ℃ 미만, 통상적으로 60 내지 80 ℃의 온도에서 더러운 표면으로 분무한다.

개인용 또는 가정용이 아닌 산업용으로 만들어진 본 발명의 세정 조성물은, 위에서 언급한 유형의 경질 표면으로부터 디젤, 경유, 등유, 식물성 오일 등과 같은 고분자량 탄화수소를 포함하는 오염물질을 제거하는 데에 특히 적합하다. 본 발명의 세정 조성물로 제거할 수 있는 통상적인 식물성 오일은 야자유, 대두유, 유채씨유, 해바라기유, 땅콩유, 올리브유, 면실유, 야자씨유 및 코코넛유 및 그의 정제된 부분을 포함한다.

선행 기술 대비 본 발명의 세정 조성물의 우수함을 입증하는 다음의 실험을 참고로 하여 이제 본 발명의 방법을 설명할 것이다.

실시예 1 내지 11의 일반적인 실험 방법론

화물 탱크에서 일어나는 오염을 모의 실험 하기 위해 산업 표준 규산 아연 코팅으로 코팅된 스테인리스 강 또는 연강으로 만들어진 실험 패널을 3일 동안 초저황 디젤에 담갔다. 꺼내서 물기를 제거한 후, 표준 설정의 세정 조건하에서 패널에 붙은 잔류 디젤을 최대한 제거하도록 설계된 장치에서 패널을 실험하였다. 이 장치에서, 2 시간 동안 연속적인 액체 재순환에 의해 오염된 패널 표면이 연속적으로 세정 조성물에 접촉할 수 있도록 개조된 분부기에 의해 세정 조성물을 실험 패널에 적용했다. 이 시간 동안, 세정 조성물의 온도는 70 ℃로 유지했다. 실험 기간 마지막에, 분무를 멈추었고, 패널을 깨끗한 물로 씻고 5 분 동안 실온에서 표준 부피의 메탄올에 패널을 담근 후 추출된 디젤의 양을 UV/가시광 분광기를 사용하여 측정함으로써 패널 상의 잔류 디젤을 측정했다. 알려진 농도의 표준 샘플로 검정(calibration)하여, 세정 조성물의 효능의 지표인 평균 잔류 탄화수소 값(average residual hydrocarbon reading(ARHR))으로 메탄올 내의 디젤의 양을 정량화했다. 이 때, ARHR이 높을 수록 세정 조성물이 덜 효과적이다.

실시예 1 ( 비교예 )

이 실시예에서, 70 ℃의 물을 사용하여 기준치를 설정하였다. ARHR 값은 550였다.

실시예 2 ( 비교예 )

이 실시예에서, 세정 조성물은 해양 탱크 세정용 등급이고 5.5 내지 6.5 범위 내의 pH를 갖는 단백질과 계면활성제의 혼합물을 포함하는 재료인 아셀 클린(Accell ®Clean)(어드밴스드 바이오카탈리틱스 코포레이션(Advanced BioCatalytics Corporation) 제조)의 0.5 중량% 수용액이었다. 얻어진 ARHR 값은 50이었다.

실시예 3

이 실시예에서, 세정 조성물(pH 7-8)은

45.0 % 한자놀(Hansanol) AS240A®(술폰화 모노 C₁₂ 내지 C₁₄ 알킬 에스테르 계면활성제의 나트륨 염의 30 % 수용액; 한자 그룹(Hansa Group) 제조);

27.5 % 베롤(Berol) 185®(화학식 C_10- ₁₆(OCH₂CH₂)_p(OCH₂CH(CH₃))_qOH의 비-이온성 계면활성제; 물에서의 흐림점 64-70 ℃; 악조노벨(AkzoNobel) 제조);

27.5 % 에틸란(Ethylan) 1005®(화학식 C₉(OCH₂CH₂)₅OH의 비-이온성 계면활성제; BDG 용액에서의 흐림점 47-53 ℃; 악조노벨 제조) 및

0.5 % 소포제 JH FDP®(실리콘 소포제; 줄리우스 회쉬(Julius Hoesch) 제조)을 포함하는(부피 기준) 본 발명에 따른 세정 조성물 농축물의 0.5 중량% 수용액이었다.

얻어진 ARHR 값은 25였다.

실시예 4

세 계면활성제의 중량 구성이 각각 35 %, 30 % 및 5 %이었고 소포제를 사용하지 않았다는 것을 제외하고 실시예 3을 반복하였다. 얻어진 ARHR 값은 35였다.

실시예 5

한자놀 AS240A 대신 35 % 세르뎃(Serdet) DSK-30®(C12-C14 알코올 술페이트의 나트륨 염(30 % 용액); 엘레멘티스 스페셜리티즈(Elementis Specialities) 제조)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 4를 반복하였다. ARHR 값은 28이었다.

실시예 6 ( 비교예 )

이 실시예에서, 세정 조성물(pH 7-8)은

25.0 % 바이오소프트(BioSoft) D-40®(나트륨, 2-도데실벤젠 술포네이트 계면활성제; 슈테판 컴퍼니(Stepan Company) 제조);

45 % 루텐솔(Lutensol) XP90®(화학식 C₁₀(OCH₂CH₂)₉OH(식 중, C₁₀ 알킬기는 분지형이고 C₁₀ 게르베 알코올로부터 유도된다)의 비-이온성 계면활성제; 바스프(BASF) 제조);

30 % 에틸란 1005®(화학식 C_9- ₁₁(OCH₂CH₂)₅OH의 비-이온성 계면활성제; 악조노벨 제조) 및

0.5 % 소포제 JH FDP®(실리콘 소포제; 줄리우스 회쉬 제조)를 포함하는(부피 기준) 세정 조성물 농축물의 0.8 중량% 수용액이었다.

얻어진 ARHR 값은 25였다.

실시예 7 ( 비교예 )

이 실시예에서, 세정 조성물 농축액은 15 % 세르뎃 DLK-9/30®, 45 % 루텐솔 XP90® 및 30 % 에틸란 1005®를 포함하였고 물 내의 1 % 희석률로 사용하였다. ARHR 값은 40이었다.

실시예 8 ( 비교예 )

이 실시예에서, 30 % 호스타푸르(Hostapur) SAS30®(나트륨 이차 C_14-17 알킬 술포네이트; 제조) 및 70 % 루텐솔 XP90®을 포함하는 이원 세정 조성물 농축액을 1 % 희석액으로 사용하였다. ARHR 값은 48이었다.

실시예 9

이 실시예에서 세정 조성물 농축물은 25 중량% 바이오소프트(Biosoft) D-40, 45 중량% 베롤 185 및 30 중량% 에틸란 1005를 0.1 중량%의 NFA 소포제와 함께 포함하였다. 이렇게 얻어진 생성물을 물 내의 0.5 % 희석률로 사용하였다. ARHR 값은 48(두 결과의 평균)이었다.

실시예 10 ( 비교예 )

베롤 185를 루텐솔 XP90로 대체한 것을 제외하고 실시예 9를 반복하였다. 이렇게 얻어진 생성물을 물 내의 0.5 % 희석률로 사용하였다. ARHR 값은 60(두 결과의 평균)이었다.

실시예 11 ( 비교예 )

에틸란 1005를 에틸란 1005와 다우아놀(Dowanol) EPH®(방향족 에틸렌 글리콜 에테르 C₆H₅OCH₂CH₂OH; 다우 케미컬(Dow Chemicals) 제조)의 50:50 중량 기준 혼합물로 대체한 것을 제외하고는 실시예 9를 반복하였다. 그 후에 추가적인 10 중량% 물을 혼합물에 첨가하였다. 이렇게 얻어진 생성물을 물 내의 0.5 % 희석률로 사용하였다. ARHR 값은 58(두 결과의 평균)이었다.

실시예 9 내지 11은 동등한 조건하에서 본 발명의 세정 조성물이 US2012/0277140에 기술된 것보다 우수하다는 것을 입증한다.

Claims

(a) 음이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%, (b) 화학식 R'-(AO)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고; 각 AO 단위는 -OCH₂CH₂- 또는 -OCH₂CH(CH₃)-이고 n은 6 초과이다)를 갖는 제1 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량% 및 (c) 화학식 R'-(OCH₂CH₂)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고, n은 6 미만이다)를 갖는 제2 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%를 포함하고; 상기 각 중량%는 (a), (b) 및 (c)의 총 중량 기준인 세정 조성물에 표면을 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로파일링된(profiled) 경질 표면으로부터 오염물질의 제거 방법.
제1항에 있어서, 프로파일링된 경질 표면이 규산 아연 프라이머로 코팅된 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 제1 비-이온성 계면활성제가 물에서 50-90 ℃ 범위 내의 흐림점 온도를 갖는 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 비-이온성 계면활성제가 부틸 디글리콜 용액에서 30-70 ℃ 범위 내의 흐림점 온도를 갖는 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, (1) 음이온성 계면활성제(비이온화된, 산 형태)가 5 내지 7 범위 내의 log₁₀P 값을 갖고/갖거나 (2) 제1 비-이온성 계면활성제가 0.1 내지 3 범위 내의 log₁₀P 값을 갖고/갖거나 (3) 제2 비-이온성 계면활성제가 0.1 내지 3 범위 내의 log₁₀P 값을 갖는 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 비-이온성 계면활성제 내의 몰 비 [-OCH₂CH(CH₃)-]/[-OCH₂CH₂-]가 0.1 내지 4 범위 내인 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, AO 단위가 블록으로 배열된 것을 특징으로 하는, 방법.
제7항에 있어서, 말단 블록이 OCH₂CH(CH₃)- 단위로 이루어진 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 음이온성 계면활성제가 C₁₂ 내지 C₁₈ 지방족 술폰산 또는 황산 또는 그의 염으로부터 선택되는 화합물의 일종 또는 혼합물인 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 음이온성 계면활성제가 선형 알킬 벤젠 술폰산 또는 그의 염의 일종 또는 혼합물인 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 염이 IA 족 또는 IIA 족 금속 염인 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 비-이온성 계면활성제가 n이 7 내지 15인 것임을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 비-이온성 계면활성제가 R'이 C₉ 내지 C₁₆ 알킬인 것임을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 비-이온성 계면활성제가 n이 2 내지 5인 것임을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 비-이온성 계면활성제가 R'이 C₉ 내지 C₁₆ 알킬인 것임을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 오염물질이 디젤, 경유, 등유 또는 식물성 오일 중의 하나 이상인 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 세정 조성물이 대응하는 세정 조성물 농축물로부터 유래한 물에 희석된 형태로 사용되는 것을 특징으로 하는, 방법.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 세정 조성물이 60 내지 80 ℃ 범위 내의 온도에서 사용되는 것을 특징으로 하는, 방법.
(a) 음이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%, (b) 화학식 R'-(AO)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고, 각 AO 단위는 -OCH₂CH₂- 또는 -OCH₂CH(CH₃)-이고; 몰 비 [-OCH₂CH(CH₃)-]/[-OCH₂CH₂-]가 8 이하의 범위 내이고 n은 6 초과이다)를 갖는 제1 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량% 및 (c) 화학식 R'-(OCH₂CH₂)_n-OH(식 중, R'은 C₉ 내지 C₂₀ 알킬이고, n은 6 미만이다)를 갖는 제2 비-이온성 계면활성제 5 내지 50 중량%를 포함하고 상기 각 중량%는 (a), (b) 및 (c)의 총 중량 기준인 것을 특징으로 하는 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항에 있어서, 제1 비-이온성 계면활성제가 물에서 50-90 ℃ 범위 내의 흐림점을 갖는 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항 또는 제20항에 있어서, 제2 비-이온성 계면활성제가 부틸 디글리콜 용액에서 30-70 ℃ 범위 내의 흐림점을 갖는 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, (1) 음이온성 계면활성제(비이온화된, 산 형태)가 5 내지 7 범위 내의 log₁₀P 값을 갖고/갖거나 (2) 제1 비-이온성 계면활성제가 0.1 내지 3 범위 내의 log₁₀P 값을 갖고/갖거나 (3) 제2 비-이온성 계면활성제가 0.1 내지 3 범위 내의 log₁₀P 값을 갖는 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 비-이온성 계면활성제 내의 몰 비 [-OCH₂CH(CH₃)-]/[-OCH₂CH₂-]가 0.1 내지 4 범위 내인 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, AO 단위가 블록으로 배열된 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 말단 블록이 -OCH₂CH(CH₃)- 단위로 이루어진 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
제19항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 대응하는 농축물의 물 희석에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는, 산업용 경질 표면 세정 조성물.
내부식층으로 코팅되었거나 사용 또는 부식에 의해 프로파일링된 금속 표면으로부터 식물성 오일을 제거하는 제26항 기재의 산업용 경질 표면 세정 조성물의 용도.