KR20150059072A - Structure for supporting panel - Google Patents

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준지 나카타니
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고요 써모 시스템 가부시끼 가이샤
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Abstract

The present invention relates to a structure for supporting a panel prevents a substrate from being detached from a support unit or coming in contact with a contact prevention range although there is an error in convey precision, installation precision of a device, and precision of a support position. A substrate support structure (1) includes: a substrate support member (2); and a maintaining member (3). The substrate support member (2) is extended from the base end side to the front end side and supports the substrate to be processed (W) by a support unit (2C) formed in the upper side. The maintaining member (3) maintains the substrate support member (2) in both sides of the support position of the substrate (W) to enable the support unit (2C) to be tilted downward from the base end (2A) side to the front end (2B) side.

Description

기판 지지구조체{STRUCTURE FOR SUPPORTING PANEL}[0001] STRUCTURE FOR SUPPORTING PANEL [0002]

본 발명은 기판의 열처리장치 등에 구비되어 있고, 기판을 거의 수평자세로 지지하는 기판지지구조체에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate supporting structure for supporting a substrate in a substantially horizontal posture,

종래의 액정, 유기 EL용 기판을 열처리할 때에는, 열처리장치의 내부에 기판을 그 밑면을 지지하도록 하여 유지한다. 이때, 기판의 중앙부를 피해, 지지부가 닿아도 영향이 없는 주위부(바깥에서 약 10 mm정도)를 지지하는 경우가 있는데, 접촉이 허용되는 범위가 좁다는 제약이 있다.When the conventional liquid crystal or organic EL substrate is subjected to the heat treatment, the substrate is held inside the heat treatment apparatus so as to support the bottom of the substrate. At this time, there is a case where the peripheral portion (about 10 mm from the outside) which does not have an influence even if the supporting portion touches is supported by avoiding the central portion of the substrate. However, there is a restriction that the allowable range of contact is narrow.

이런 제약을 만족시키기 위해, 도 7에 표시된 것처럼, 기판(W)의 지지방법으로서, 바로 밑에서 핀 또는 공(101)으로 지지하고 있다(특허문헌 1 및 2참조). 도면에서, 양방향 화살표(A1)로 표시된, 기판의 중앙영역은 접촉불가범위를 나타내고, 양방향 화살표(A2)로 나타낸 기판의 주위영역은 접촉허용범위를 나타낸다.In order to satisfy such a constraint, as shown in Fig. 7, the substrate W is supported by a pin or a hole 101 directly below it (see Patent Documents 1 and 2). In the figure, the central area of the substrate, indicated by the double arrow A1, indicates the contact disable range, and the peripheral area of the substrate indicated by the double arrow A2 indicates the contact allowable range.

특허문헌 1: 일본특허공개공보 제2002-100668호Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-100668 특허문헌 2: 일본특허공개공보 제2004-111786호Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-111786

그런데, 기판에 대하여 바로 밑에서 지지하면, 반송정밀도, 장치의 설치 정밀도, 지지위치의 정밀도 등의 오차로 인해, 기판이 지지부로부터 탈락하거나 접촉불가영역(A1)에 접촉할 염려가 있다.However, when the substrate is supported directly below the substrate, there is a fear that the substrate falls off the support portion or comes into contact with the inaccessible region (A1) due to errors in conveying accuracy, installation accuracy of the apparatus, and accuracy of the support position.

본 발명은, 상술한 종래기술의 과제에 따라 이루어진 것이다. 반송정밀도, 장치의 설치정밀도, 지지위치의 정밀도 등에 오차가 있어도, 기판이 지지부에서 탈락하거나 접촉불가영역에 접촉하는 것을 방지할 수 있는 기판지지구조를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been accomplished in accordance with the problems of the prior art described above. It is an object of the present invention to provide a substrate supporting structure capable of preventing a substrate from falling off from a support portion or coming into contact with an inaccessible region even if there is an error in the conveying accuracy, the installation accuracy of the apparatus, and the accuracy of the support position.

본 발명은 피처리기판이 수용되어 처리되는 처리공간 내의 소정의 지지 위치에 상기 피처리기판을 거의 수평자세로 지지하기 위한 구조에 관한 것이다. 본 발명의 기판지지구조체는 기판지지부재를 구비하고 있다. 기판지지부재는 기단측으로부터 선단측을 향하여 뻗어나가고, 상기 지지 위치의 양측에서, 기단측으로부터 선단측을 향하여 아래쪽으로 경사진 지지부에 의해 피처리기판을 지지한다.The present invention relates to a structure for supporting a substrate to be processed in a substantially horizontal posture at a predetermined support position in a processing space where a substrate to be processed is received and processed. The substrate support structure of the present invention includes a substrate support member. The substrate supporting member extends from the proximal end side toward the distal end side and supports the substrate to be processed by supporting portions inclined downward from the proximal end side to the distal end side at both sides of the supporting position.

처리 공간은, 처리용기의 내부에 형성되어 있다. 그리고, 처리용기의 측벽의 내면에서의 기판의 지지 위치의 양측에 보유부재를 설치하여, 이러한 보유부재에 의해 기판지지부재의 기단측을 유지하도록 하면, 안정적으로 기판지지부재를 유지할 수 있다.The processing space is formed inside the processing vessel. When the holding members are provided on both sides of the supporting position of the substrate on the inner surface of the side wall of the processing container and the base end side of the substrate supporting member is held by these holding members, the substrate supporting member can be stably held.

이러한 구성에 의하면, 기판지지부재의 지지부는 아래쪽으로 경사지기 때문에, 기판의 휜 정도와 무관하게, 기판의 측단 아래쪽 가장자리부에서만 지지부를 접촉시킬 수 있다. 때문에, 기판을 돌기 등에 의해 바로 아래쪽에서 지지할 필요가 없어져서, 기판지지부재의 부착정밀도나 기판을 처리공간으로 이송하여 지지체상에 설치할 때의 정밀도와 관련하여 영향을 받지 않는다.According to such a configuration, since the support portion of the substrate support member is inclined downward, the support portion can be brought into contact with only the side edge lower edge portion of the substrate regardless of the degree of warping of the substrate. Therefore, it is not necessary to support the substrate immediately below by projection or the like, so that the accuracy of attachment of the substrate support member and the precision in installing the substrate on the support are not affected.

구체적으로, 기판지지부재는 베이스 바디 및 지지체를 구비하고 있다. 베이스 바디는, 지지부를 가지고, 기단측으로부터 선단측을 향해 뻗어나가는 형상을 하고 있고, 지지체는 베이스 바디의 상면에서 지지부를 노출시키도록 베이스 바디에 설치되어 있다. 이로써, 기판에 접촉되는 지지부를 지지체로서 부품화할 수 있어서, 취급의 간소화를 도모할 수 있다.Specifically, the substrate support member has a base body and a support. The base body has a support portion and has a shape extending from the base end side toward the tip end side, and the base body is provided on the base body so as to expose the support portion from the upper surface of the base body. As a result, the support portion that comes into contact with the substrate can be made a component as a support, and the handling can be simplified.

지지체는 원통형으로 형성되어, 베이스 바디의 길이방향을 따라 축을 중심으로 자유롭게 회전하도록 설치될 수 있다. 따라서, 기판의 지지부 위로 설치할 때의 충격을 지지체의 회전을 통해 감소시키고, 기판의 지지부와 접촉하는 부위가 손상되는 것을 막을 수 있다.The support may be formed in a cylindrical shape and may be installed to rotate freely about an axis along the longitudinal direction of the base body. Therefore, it is possible to reduce the impact upon mounting the substrate over the support through rotation of the support, and to prevent damage to the portion of the substrate contacting the support.

바람직하게, 지지체의 재질로서 수지 또는 석영을 사용할 수 있다.Preferably, resin or quartz can be used as the material of the support.

안정적으로 기판을 지지하도록, 기판지지부재가 지지 위치의 한쪽에 대해 복수개로 설치된다. 유지부재를 지지 위치의 양측에서 대향하고 처리공간의 깊이방향으로 뻗어나가도록 설치된 선반으로 하면, 1개 보유부재에 대하여 복수의 기판지지부재를 용이하게 설치할 수 있다.In order to stably support the substrate, a plurality of substrate supporting members are provided for one side of the supporting position. When the shelf is provided so as to extend in the depth direction of the processing space so as to face the holding member at both sides of the supporting position, a plurality of substrate supporting members can be easily provided with respect to one holding member.

본 발명에 의하면, 반송정밀도, 장치의 설치정밀도, 지지위치의 정밀도 등에 오차가 있어도, 기판이 지지부로부터 떨어져나가거나 접촉불가영역에 접촉하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, it is possible to prevent the substrate from being separated from the support portion or coming into contact with the non-contactable region, even if there is an error in the conveyance accuracy, the installation accuracy of the apparatus, and the accuracy of the support position.

도 1a는 본 발명의 실시형태에 따른 기판지지구조체의 개략적인 구성을 나타내는 도면으로서, 기판을 지지하기 전의 상태를 나타내는 정면 단면도이며, 도 1b는 기판을 지지한 상태를 나타내는 정면 단면도이다.
도 2는 기판지지구조체에 사용되는 기판지지부재를 나타내는 분해사시도이다.
도 3a는 기판지지부재가 유지부재쪽에 설치된 상태를 설명하는 평면도이며, 도 3b는 그 측면도이다.
도 4는 기판지지구조체를 하나의 처리용기내에 다단으로 설치한 예를 나타내는 개략도이다.
도 5는 기판지지구조체를 다단식 유닛으로서 구성한 예를 나타내는 개략도이다.
도 6은 기판지지부재의 각도조정기구의 예를 나타내는 도면이다.
도 7은 종래의 기판지지구조체의 한 예를 개략적으로 나타내는 정면단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1A is a front sectional view showing a schematic configuration of a substrate supporting structure according to an embodiment of the present invention, showing a state before a substrate is supported, and FIG. 1B is a front sectional view showing a state in which a substrate is supported.
2 is an exploded perspective view showing a substrate supporting member used in the substrate supporting structure.
Fig. 3A is a plan view for explaining a state in which the substrate supporting member is provided on the holding member side, and Fig. 3B is a side view thereof.
4 is a schematic view showing an example in which the substrate supporting structure is installed in a multi-stage in one processing vessel.
5 is a schematic view showing an example in which the substrate support structure is configured as a multi-stage unit.
6 is a view showing an example of an angle adjusting mechanism of the substrate supporting member.
7 is a front sectional view schematically showing an example of a conventional substrate supporting structure.

이하, 본 발명의 실시형태에 따른 기판 지지구조체의 구성을 도면을 참조하여 설명하도록 한다.Hereinafter, the structure of a substrate support structure according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1에서 볼 수 있듯이, 피처리 기판(W)(이하, "기판"라고 한다)은 처리용기(4)의 내부에 형성되는 처리공간(100)에 수용되어 처리된다. 기판 지지구조체(1)는 처리공간(100) 내의 소정의 지지위치에 기판(W)을 거의 수평자세로 지지하도록 구성된다. 본 발명의 기판 지지구조체는, 기판에 소정의 처리를 하는 기판처리장치(예를 들어, 열처리장치 등등)의 배치로(batch furnace) 등등에 적용된다. 기판은 재질과 무관하며, 얇고 휘어진 것에도 해당할 수 있다. 기판의 형상은 장방형 기판에 한정하지 않고, 반도체 웨이퍼 등등의 원형 기판이어도 상관이 없다.1, a substrate W to be processed (hereinafter referred to as a " substrate ") is accommodated in a processing space 100 formed inside the processing vessel 4 and processed. The substrate supporting structure 1 is configured to support the substrate W in a substantially horizontal posture at a predetermined supporting position in the processing space 100. [ The substrate support structure of the present invention is applied to a batch furnace or the like of a substrate processing apparatus (for example, a heat treatment apparatus and the like) that performs a predetermined process on a substrate. The substrate is independent of the material and can be thin and warped. The shape of the substrate is not limited to a rectangular substrate, and may be a circular substrate such as a semiconductor wafer or the like.

기판 지지구조체(1)는 기판지지부재(2) 및 유지부재(3)를 갖는다.The substrate supporting structure 1 has a substrate supporting member 2 and a holding member 3.

기판지지부재(2)는 기단(2A)측으로부터 선단(2B)측을 향해 뻗어나가고, 위쪽에 기판(W)을 지지하기 위한 지지부(2C)를 구비하고 있다. 보다 구체적으로는, 도 2에 도시된 것처럼, 기판지지부재(2)는 기단(2A)(基端) 측으로부터 선단(2B)(先端) 측을 향하여 뻗어나가는 베이스 바디(21)와 상기 지지부(2C)를 구비하고, 베이스 바디(21)의 상면으로부터 지지부(2C)를 노출시키도록 베이스 바디(21)에 설치되는 지지체(22)를 구비하고 있다.The substrate supporting member 2 extends from the base 2A side to the tip end 2B side and has a supporting portion 2C for supporting the substrate W above. 2, the substrate supporting member 2 includes a base body 21 extending from the proximal end 2A side to the distal end 2B (distal end) side, And a supporting body 22 provided on the base body 21 so as to expose the supporting portion 2C from the upper surface of the base body 21. [

베이스 바디(21) 및 지지체(22)의 재질은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 기판 지지구조체(1)가 열처리장치에 적용되는 경우에는, 내열성을 가진 재료가 필요하다. 특히, 지지체(22)는 기판(W)에 직접 접촉되는 부품이기 때문에, 기판(W)에 대해 손상을 주지 않는 것도 재질에 대하여 요구되는 요건이 된다. 이러한 요구를 충족시키는 재료로서, 수지 또는 석영 자재가 바람직하다.The material of the base body 21 and the support 22 is not particularly limited. However, when the substrate supporting structure 1 is applied to a heat treatment apparatus, a material having heat resistance is required. Particularly, since the support member 22 is a component that is in direct contact with the substrate W, it is also a requirement for the material that the substrate W is not damaged. Resins or quartz materials are preferable as the material satisfying such a demand.

지지체(22)는 도 2에서 볼 수 있듯이, 원통형으로 되어 있다. 지지체(22)는 원주면의 정점을 축방향으로 잇는 선상에 지지부(2C)를 갖는다. 또한, 이러한 지지체(22)의 형태는 한가지 예일 뿐, 이에 한정되지 않는다.The support 22 is cylindrical as shown in Fig. The support body 22 has a support portion 2C on a line connecting the vertex of the circumferential surface in the axial direction. Also, the shape of the support 22 is only one example, but it is not limited thereto.

베이스 바디(21)는 도 2와 같은 기둥 모양으로 되어 있다. 베이스 바디(21)의 윗면에는 길이 방향을 따라 뻗어나가는 오목부(21A)가 형성되어 있다. 오목부(21A)에는 지지체(22)가 수용된다. 본 실시형태에서, 오목부(21A)는, 지지체(22)의 원통형상에 대응하여 하프 파이프 모양으로 형성되어 있다. 따라서, 지지체(22)는 오목부(21A)에 수용되면 거의 윗부분의 절반이 노출되는 상태가 되고, 베이스 바디(21)의 길이 방향을 따라 자유롭게 축을 중심으로 회전한다.The base body 21 has a columnar shape as shown in Fig. On the upper surface of the base body 21, a concave portion 21A extending along the longitudinal direction is formed. The support body 22 is accommodated in the concave portion 21A. In the present embodiment, the concave portion 21A is formed in a half pipe shape corresponding to the cylindrical shape of the support body 22. [ Therefore, when the support body 22 is received in the concave portion 21A, almost half of the upper body is exposed, and the base body 21 freely rotates about the axis along the longitudinal direction of the base body 21. [

베이스 바디(21)에는, 오목부(21A)의 축중심을 통과하는 볼트구멍(21B)이 축 방향으로 관통하고 있다. 베이스 바디(21)와 오목부(21A)의 형상은 한가지 예일 뿐, 이에 한정되지 않는다.In the base body 21, a bolt hole 21B passing through the axial center of the concave portion 21A passes through in the axial direction. The shape of the base body 21 and the concave portion 21A is merely an example, but is not limited thereto.

지지체(22)는 오목부(21A)에 수용된 뒤, 볼트구멍(21B)에 볼트(23)를 맞물리게 함으로써 베이스 바디(21)에 장착된다. 볼트(23)는, 지지체(22)의 공동부에 삽입되어, 지지체(22)가 베이스 바디(21)에서 빠지는 것을 방지한다. 또한, 볼트(23)는 지지체(22)의 회전에 지장이 되지 않도록 설치되어 있다.The support body 22 is accommodated in the concave portion 21A and mounted on the base body 21 by engaging the bolt 23 with the bolt hole 21B. The bolt 23 is inserted into the hollow portion of the support body 22 to prevent the support body 22 from escaping from the base body 21. Further, the bolt 23 is provided so as not to interfere with the rotation of the support 22.

위와 같이 구성되는 기판지지부재(2)는 도 3에 도시된 것처럼, 유지부재(3)에 의해 지지부(2C)가 기단측으로부터 선단측을 향해 아래로 경사지도록 유지된다.The substrate support member 2 constructed as above is held by the holding member 3 such that the supporting portion 2C is inclined downward from the base end side toward the tip end side, as shown in Fig.

본 실시형태에서는, 유지부재(3)는 상편부(31), 측벽부(32) 및 저편부(33)에 의해, 자 모양으로 형성된 부재이다. 이러한 자 모양의 부재는, 예를 들면, 판금의 굽힘가공을 통해 제작된다.In this embodiment, the holding member 3 is a member formed in a shape of a letter by the upper piece 31, the side wall 32 and the lower piece 33. Such a shaped member is produced, for example, by bending a sheet metal.

처리공간(100)내의 기판(W)의 지지위치의 양옆에는, 윗면이 수평면으로 형성된 보(7)가 안쪽길이(깊이)방향으로 가로지른다. 도 3(A)에 도시된 것처럼, 유지부재(3)는 저편부(33)를 사용하여 보(7)의 윗면에 나사클램프에 의해 고정된다.On both sides of the supporting position of the substrate W in the processing space 100, the beam 7 whose upper surface is formed in a horizontal plane is traversed in the inner length (depth) direction. As shown in Fig. 3 (A), the holding member 3 is fixed to the upper surface of the beam 7 by a screw clamp using the lower piece 33. [

기판지지부재(2)는 베이스 바디(21)의 기단부가, 유지부재(3)의 측벽부(32)에 볼트 및 너트를 이용하여 고정된다. 기판지지부재(2)는 베이스 바디(21)의 기단측이 높게되고 선단측이 낮아지는 경사를 가지고 장착된다. 이때, 베이스 바디(21)의 기단면의 위쪽 가장자리가 유지부재(3)의 상편부(31)에 접하게 되어, 베이스 바디(21)의 회전이 저지되고, 베이스 바디(21)의 경사가 일정하게 유지된다. 이로써, 지지체(22)를 오목부(21A)에 장착하면, 도 1에서 볼 수 있듯이, 지지체(22)는 지지부(2C)가 기단측으로부터 선단측을 향해 아래쪽으로 경사지도록 유지된다.The substrate supporting member 2 is fixed to the side wall portion 32 of the holding member 3 using bolts and nuts at the proximal end portion of the base body 21. The substrate support member 2 is mounted with a base end portion of the base body 21 having a high height and a tip end portion having a low inclination. At this time, the upper edge of the base end surface of the base body 21 is brought into contact with the upper piece 31 of the holding member 3 to stop the rotation of the base body 21, maintain. Thus, when the supporting body 22 is mounted on the concave portion 21A, as shown in Fig. 1, the supporting body 22 is held such that the supporting portion 2C is inclined downward from the base end side toward the tip end side.

기판(W)을 안정적으로 지지하기 위해서는, 처리공간(100)내의 기판(W)의 한쪽 지지위치에 대해, 복수의 위치에서 기판(W)을 지지하는 것이 좋다. 직사각형의 기판인 경우, 전후방 모서리부를 지지하는 2개의 기판지지부재(2)를 설치할 수 있다. 이에 따라, 직사각형의 기판을 보다 안정적으로 지지할 수 있다. 본 실시형태에서는, 기판(W)의 한쪽 지지위치에, 보(7)가 처리공간(100)의 안쪽길이(깊이) 방향으로 뻗어나간다. 따라서, 한쪽의 보(7)의 길이방향을 따라, 복수의 유지부재(3)를 장착함으로써, 해당방향에 나란히 복수의 기판지지부재(2)를 설치할 수 있다.In order to stably support the substrate W, it is preferable to support the substrate W at a plurality of positions with respect to one supporting position of the substrate W in the processing space 100. [ In the case of a rectangular substrate, two substrate supporting members 2 for supporting the front and rear corner portions can be provided. This makes it possible to more stably support the rectangular substrate. In this embodiment, the beam 7 extends in the inner length (depth) direction of the processing space 100 at one support position of the substrate W. Therefore, by mounting a plurality of holding members 3 along the longitudinal direction of one beam 7, it is possible to arrange a plurality of substrate supporting members 2 in parallel in the corresponding direction.

상기 유지부재(3) 및 기판지지부재(2)로 이루어진 기판 지지구조체의 층의 개수는 제한이 없다. 즉, 도 4와 같이, 처리용기(4)의 측벽내면(4A)에 기판 지지구조체(1)를 다단으로 설치함으로써. 1개의 처리용기(4)의 처리공간(100)에 복수의 기판(W)을 지지할 수 있다.The number of layers of the substrate support structure composed of the holding member 3 and the substrate supporting member 2 is not limited. That is, as shown in Fig. 4, the substrate supporting structure 1 is provided in multiple stages on the side wall inner surface 4A of the processing vessel 4. It is possible to support the plurality of substrates W in the processing space 100 of one processing vessel 4. [

다단식 구조에 대한 변형예로서, 도 5와 같이, 1개의 기판 지지구조체(1)를 갖는 처리용기(4)를 편평한 유닛으로서 형성하고, 이 유닛을 복수개로 다단으로 쌓아올린 구성을 채택할 수도 있다. 이에 따르면, 겹겹이 쌓는 유닛의 개수는 자유롭게 설계할 수 있기 때문에, 기판 지지구조체의 층수를 임의로 설정할 수 있는 장점이 있다.As a modified example of the multi-stage structure, the processing container 4 having one substrate supporting structure 1 may be formed as a flat unit as shown in Fig. 5, and a plurality of such units may be stacked in multiple stages . According to this, since the number of units stacked can be freely designed, there is an advantage that the number of the layers of the substrate supporting structure can be arbitrarily set.

위와 같이 구성되는 기판 지지구조체(1)에 의해, 기판(W)을 지지할 때에는, 도 1(A)에서 볼 수 있듯이, 도시안된 반송로봇의 로봇팔의 선단부에 설치된 포크에 의해, 처리공간(100)내의 지지위치의 위쪽으로 기판(W)을 반송한다. 이어서, 로봇팔을 하강시킴으로써 도 1(B)에서 볼 수 있듯이, 지지위치의 양쪽에 대치하는 기판지지부재(2)의 지지체(22)상에 기판(W)을 올려놓는다. 기판(W)은 그 양쪽 끝에서 기판지지부재(2)의 지지부(2C)에 의해 지지된다.When the substrate W is supported by the substrate support structure 1 configured as above, as shown in Fig. 1 (A), by the fork provided at the tip of the robot arm of the conveying robot, 100 to the upper side of the supporting position. Subsequently, the robot arm is lowered to place the substrate W on the support 22 of the substrate support member 2, which is opposed to both sides of the support position, as shown in Fig. 1 (B). The substrate W is supported by the supporting portions 2C of the substrate supporting members 2 at both ends thereof.

이렇게 지지된 기판(W)은, 기판지지부재(2)에 직접 지지되지 않는 중앙부가 자중에 의해 가라앉으면서 굴곡이 발생한다. 다만, 휘어진 상태는, 기판(W)의 두께, 크기 또는 재질에 따라 다르다. 도 1(B)에 도시된 것처럼, 기판은 도면부호 W1, W2, W3의 순서대로 휘어진 정도가 크지 않다. 기판의 휘어진 정도는 기판의 두께, 크기 혹은 재질에 따라 다르다.The central portion of the substrate W thus supported, which is not directly supported by the substrate supporting member 2, is bent due to its own weight and is bent. However, the warped state differs depending on the thickness, the size or the material of the substrate W. As shown in Fig. 1 (B), the degree of warping of the substrate in the order of W1, W2, and W3 is not large. The degree of warping of the substrate depends on the thickness, size or material of the substrate.

본 발명에서는, 기판지지부재(2)의 지지부(2C)는 대각선 아래쪽 방향으로 경사져 있기 때문에, 기판(W)의 휘어진 정도에 상관없이, 기판(W)의 측단 아래쪽 가장자리부분에만 지지부(2C)를 접촉시킬 수 있다. 이 때문에, 기판(W)을 돌출부 등등에 의해 바로 아래쪽으로부터 지지할 필요가 없고, 기판지지부재(2)의 장착정밀도나 기판(W)을 처리공간으로 이송하여 지지체(22)상에 설치할 때 정밀도와 관련하여 영향을 받지 않는다.The supporting portion 2C of the substrate supporting member 2 is inclined downward in the diagonal direction so that the supporting portion 2C is provided only on the lower edge portion of the side edge of the substrate W regardless of the degree of warpage of the substrate W . Therefore, it is not necessary to support the substrate W directly below from the protruding portion or the like, and the accuracy of mounting of the substrate supporting member 2 or the accuracy of the accuracy when the substrate W is transferred to the processing space, Are not affected.

또한, 지지부(2C)를 가진 지지체(22)가 자유롭게 회전하기 때문에, 기판(W)을 지지부(2C)상에 설치할 때 발생하는 쇼크를 지지체(22)의 회전에 의해 완화하고, 기판(W)의 지지부(2C)와 접촉하는 부위가 손상되는 것을 방지할 수 있고, 지지부(2C)의 재질을 수지 또는 석영으로 함으로써 보다 확실하게 기판(W)의 손상을 막을 수 있다.Since the support 22 having the support portion 2C freely rotates, the shock generated when the substrate W is placed on the support portion 2C is relaxed by the rotation of the support 22, It is possible to prevent the portion of the substrate W contacting the support portion 2C from being damaged and to protect the substrate W more reliably by using the resin or quartz as the material of the support portion 2C.

덧붙여, 본 실시형태에서는, 유지부재(3)에 대해 기판지지부재(2)를 고정 상태(회전불가능상태)에서 설치한 경우로 설명하였지만, 처리대상이 되는 기판(W)의 수량에 따라 지지부(2C)의 하향경사각도를 바꿀수 있도록, 회전이 가능하게 장착하게 해도 좋다. 예를 들어 도 6에서 볼 수 있듯이, 회동축(5)을 이용하여 기판지지부재(2)를 기단부에서 유지부재(3)에 대해 자유롭게 회전하도록 유지시키면서, 유지부재(3)에는 세로로 길죽한 장공(34)을 설치하고 또한 기판지지부재(2)의 베이스 바디(21)에는 가로로 길죽한 장공(24)을 설치하여, 장공(34, 24) 끼리 교차하는 임의의 위치에서 핀(6) 등을 이용하여 기판지지부재(2)의 선단쪽을 고정한다. 이로써, 지지부(2C)의 경사각도를 조정할 수 있다.In this embodiment, the substrate holding member 2 is fixed to the holding member 3 in a fixed state (non-rotatable state). However, depending on the number of the substrates W to be treated, 2C may be rotatably mounted so as to change the downward inclination angle. For example, as shown in Fig. 6, while holding the substrate support member 2 freely rotatable with respect to the retaining member 3 at the base end portion using the pivot shaft 5, the retaining member 3 is provided with a vertically elongated slot And the base body 21 of the substrate supporting member 2 is provided with a horizontally elongated slot 24 so that the pins 6 and the like are arranged at arbitrary positions intersecting the slots 34, The front end side of the substrate supporting member 2 is fixed. Thereby, the inclination angle of the support portion 2C can be adjusted.

상술한 실시형태에 대한 설명은, 모든 점에서 예시일 뿐, 제한적인 것은 아니다. 본 발명의 범위는 상술한 실시형태가 아니라, 특허청구범위에 의해 제시된다. 또한, 본 발명의 범위에는, 특허청구범위와 균등한 것과 특허청구범위 내에서 변경된 모든 것이 포함될 수 있다.The foregoing description of the embodiments is by way of example only and is not restrictive. The scope of the invention is indicated by the appended claims rather than by the foregoing embodiments. In addition, the scope of the present invention includes all modifications that are within the scope of the claims and equivalents to the claims.

W, W1, W2, W3: 기판
1: 기판지지구조체
2: 기판지지부재
2A: 기단
2B: 선단
2C: 지지부
21: 베이스 바디
21A: 오목부
21B: 볼트구멍
22: 지지체
23: 볼트
3:유지부재
4: 처리용기
4A: 측벽내면
100: 처리공간W, W1, W2, W3: substrate
1: substrate support structure
2: substrate supporting member
2A: Foundation
2B: Fleet
2C: Support
21: Base body
21A:
21B: Bolt hole
22: Support
23: Bolt
3: holding member
4: Processing vessel
4A: Side wall inner surface
100: Processing space

Claims (8)

피처리기판이 수용되어 처리되는 처리 공간 내의 소정의 지지 위치에, 상기 피처리기판을 거의 수평으로 지지하기 위한 기판지지구조체로서,
기단측으로부터 선단측으로 향하여 뻗어나가고, 상기 지지 위치의 양측에서 기단측으로부터 선단측으로 향하여 아래쪽으로 경사진 지지부에 의해 상기 피처리기판을 지지하는, 기판지지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.A substrate support structure for supporting the substrate to be processed substantially horizontally at a predetermined support position in a processing space where a substrate to be processed is received and processed,
And a substrate support member extending from the proximal end side to the distal end side and supporting the substrate to be processed by supporting portions inclined downward from the proximal end side to the distal end side at both sides of the supporting position. 제1항에 있어서,
상기 처리공간은, 처리용기의 내부에 형성되어, 상기 처리용기의 측벽의 내면에서의 기판의 지지 위치의 양측에 유지부재가 설치되어 있고, 상기 유지부재에 의해 상기 기판지지부재의 기단측을 유지시키는 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.The method according to claim 1,
Wherein the processing space is formed inside the processing vessel and is provided with holding members on both sides of the substrate holding position on the inner surface of the side wall of the processing vessel and the base end side of the substrate holding member is held The substrate support structure comprising: 제1항에 있어서,
상기 기판지지부재는, 경사가 변하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 기판지지구조체. The method according to claim 1,
Wherein the substrate support member is provided so as to be inclined. 제1항에 있어서,
상기 기판지지부재는, 상기 기단측으로부터 상기 선단측으로 향하여 뻗어나가는 베이스 바디; 및 상기 지지부를 구비하며 상기 베이스 바디의 상면에서 상기 지지부를 노출시키도록 상기 베이스 바디에 설치된 지지체;를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.The method according to claim 1,
Wherein the substrate supporting member comprises: a base body extending from the base end side toward the tip end side; And a support provided on the base body to expose the support portion on the upper surface of the base body, the support body having the support portion. 제4항에 있어서,
상기 지지체는 측면형상이 원통형이고, 상기 베이스 바디의 길이방향을 따라 축을 중심으로 자유롭게 회전하도록 설치된 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.5. The method of claim 4,
Wherein the support has a cylindrical shape and is freely rotatable about an axis along a longitudinal direction of the base body. 제5항에 있어서,
상기 지지체는 수지 또는 석영으로 형성된 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.6. The method of claim 5,
Wherein the support is formed of resin or quartz. 제5항에 있어서,
상기 기판지지부재는 상기 지지 위치의 한쪽에 대해 복수개로 설치된 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.6. The method of claim 5,
Wherein a plurality of said substrate support members are provided for one of said support positions. 제7항에 있어서,
상기 지지 위치의 양측에서 대향하고 상기 처리공간의 깊이방향으로 뻗어나가면서 설치되는 유지부재로서, 복수의 상기 기판지지부재에 대응하여 설치되는 유지부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판지지구조체.8. The method of claim 7,
And a holding member provided opposite to both sides of the supporting position and extending in a depth direction of the processing space, the holding member being provided corresponding to the plurality of the substrate supporting members.
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