KR20150044367A - 파단 장치 및 분단 방법 - Google Patents

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KR20150044367A KR20140073640A KR20140073640A KR20150044367A KR 20150044367 A KR20150044367 A KR 20150044367A KR 20140073640 A KR20140073640 A KR 20140073640A KR 20140073640 A KR20140073640 A KR 20140073640A KR 20150044367 A KR20150044367 A KR 20150044367A
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나오히로 쿠로다
유마 이와츠보
이쿠요시 나카타니
마사카즈 타케다
켄지 무라카미
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미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지층이 코팅된 복합 기판의 기능 영역을 분단하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의하면, 복합 기판을 분단시킬 때에, 기능 영역을 분단시키도록 취성 재료 기판(11) 상에 스크라이브 라인을 형성하고, 이어서 취성 재료 기판(11)만을 브레이크시킨다. 다음에 수지층을 파단할 때에는, 복합 기판(10)의 취성 재료 기판이 브레이크된 면을 상부면으로 하고 수지층(12)을 하부면으로 해서 평판 형상의 탄성 지지판(40) 상에 배치한다. 그리고 브레이크 라인에 맞춰서 하부면이 원호 형상으로 형성된 익스팬드 바(32a)를 밀어내림으로써 균열을 진전시켜서 분단시킨다. 이와 같이 하면 기능 영역을 가진 다수의 칩으로 분단시킬 수 있다.

Description

파단 장치 및 분단 방법{BREAKING APPARATUS AND DIVIDING METHOD}
본 발명은 반도체 기판, 세라믹스 기판 등의 취성 재료 기판 위에 수지층 등이 코팅된 복합 기판의 파단 장치 및 분단 방법에 관한 것이다.
반도체 칩은, 반도체 웨이퍼에 형성된 소자 영역을, 그 영역의 경계 위치에서 분단시킴으로써 제조된다. 종래, 웨이퍼를 칩으로 분단할 경우에는, 다이싱 장치에 의해 다이싱 블레이드를 회전시켜서, 절삭에 의해서 반도체 웨이퍼를 작게 절단하고 있었다.
그러나 다이싱 장치를 이용할 경우에는 절삭에 의한 배출 지스러기를 배출하기 위한 물이 필요하여, 그 물이나 배출 지스러기가 반도체 칩의 성능에 악영향을 주지 않도록, 반도체 칩에의 보호를 실시하고, 물이나 배출 지스러기를 세정하기 위한 전후 공정이 필요해진다. 따라서 공정이 복잡해지고, 비용 삭감이나 가공 시간을 단축할 수 없다고 하는 결점이 있었다. 또 다이싱 블레이드를 이용한 절삭에 의해 막이 벗겨지거나 흠집이 생기는 등의 문제가 생긴다. 또한 미소한 기계구조를 가진 MEMS 기판에 있어서는, 물의 표면장력에 의한 구조의 파괴가 야기되므로 물을 사용할 수 없어, 다이싱에 의해서 분단시킬 수 없다고 하는 문제가 생기고 있었다.
또 특허문헌 1, 2에는, 스크라이브 라인이 형성된 반도체 웨이퍼를, 스크라이브 라인이 형성된 면의 이면에서부터, 스크라이브 라인을 따라서 면에 수직으로 압압함으로써 브레이크시키는 기판 파단 장치가 제안되어 있다. 이하, 이러한 파단 장치에 의한 브레이크의 개요를 나타낸다. 브레이크의 대상이 되는 반도체 웨이퍼에는, 정렬되어 다수의 기능 영역이 형성되어 있는 것으로 한다. 분단시킬 경우에는, 우선 반도체 웨이퍼에 기능 영역 간에 동일한 간격을 두고 세로방향 및 가로방향으로 스크라이브 라인을 형성한다. 그리고 이 스크라이브 라인을 따라서 파단 장치에 의해 분단시킨다. 도 1(a)는 분단시키기 전의 파단 장치에 놓인 반도체 웨이퍼의 단면도를 나타내고 있다. 본 도면에 나타낸 바와 같이, 복합 기판(101)에 기능 영역(101a, 10lb)과 그 사이에 스크라이브 라인(S1, S2, S3 ....)이 형성되어 있다. 분단시킬 경우에는 복합 기판(101)의 이면에 점착테이프(102)를 붙이고, 그 표면에 보호 필름(103)을 붙인다. 그리고 브레이크 시에는 도 1(b)에 나타낸 바와 같이 수용칼(105, 106)의 정확히 중간에 브레이크시켜야 할 스크라이브 라인, 이 경우에는 스크라이브 라인(S2)을 배치하고, 그 상부로부터 블레이드(104)를 스크라이브 라인에 맞춰서 강하시켜, 복합 기판(101)을 압압한다. 이와 같이 해서 1쌍의 수용칼(105, 106)과 블레이드(104)의 3점 휨에 의한 브레이크가 행해지고 있었다.
JP 2004-39931 A JP 2010-149495 A
이러한 구성을 갖는 파단 장치에 있어서는, 브레이크 시에 블레이드(104)를 밀어내려서 압압한 경우, 복합 기판(101)은 근소하지만 휘므로, 복합 기판(101)과 수용칼(105, 106)의 앞쪽 가장자리가 접하는 부분에 응력이 집중된다. 이 때문에 파단 장치의 수용칼(105, 106)의 부분이 도 1(a)에 나타낸 바와 같이 기능 영역(101a, 10lb)에 접촉하고 있으면, 브레이크 시 기능 영역에 힘이 가해져 버린다. 그 때문에 반도체 웨이퍼 상의 기능 영역이 손상될 가능성이 있다고 하는 문제점이 있었다.
또 파단 장치를 이용해서 분단하는 기판으로서, 세라믹스 기판 상에 실리콘 수지가 코팅된 복합 기판이 있다. 이러한 복합 기판에서는 세라믹스 기판을 브레이크시킨 후에, 수지층을 직접 브레이크 바(bar)로 압압한 경우에는, 수지층이 변형되어 손상되기 쉽다고 하는 문제점이 있었다. 또한 이것을 해소하기 위하여 레이저 광을 이용해서 분단하려고 하면, 레이저에 의한 열의 영향에 의해 손상을 받거나, 레이저를 조사한 후, 비산물이 주변에 부착되어 버리는 일이 있다고 하는 문제점이 있었다.
본 발명은 이러한 문제점에 착안해서 이루어진 것으로, 이미 취성 재료 기판이 브레이크되어 있는 복합 기판을 손상 없이 파단할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
이 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 분단 방법은, 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지가 코팅되고, 상기 기능 영역을 분단하도록 상기 취성 재료 기판에 브레이크 라인이 형성된 복합 기판을 분단하는 분단 방법으로서, 탄성 지지판 상에 상기 복합 기판을 취성 재료 기판의 면이 상부면이 되도록 배치하고, 익스팬드 바를 상기 취성 재료 기판의 브레이크 라인을 따라서 밀어내림으로써 수지층을 파단하는 것이다.
이 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 분단 방법은, 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지가 코팅된 복합 기판을 분단하는 분단 방법으로서, 상기 복합 기판의 기능 영역을 분단하도록 상기 취성 재료 기판의 수지가 코팅되어 있지 않은 면을 스크라이브시켜 스크라이브 라인을 형성하고, 상기 복합 기판의 취성 재료 기판을 상기 스크라이브 라인을 따라서 브레이크하고, 탄성 지지판 상에 상기 복합 기판을 취성 재료 기판의 면이 상부면이 되도록 배치하고, 하단의 단면이 원호 형상으로 형성된 익스팬드 바를 상기 취성 재료 기판의 브레이크 라인을 따라서 밀어내림으로써 수지층을 파단하는 것이다.
이 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 파단 장치는, 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지가 코팅되고, 상기 기능 영역을 분단하도록 상기 취성 재료 기판에 브레이크 라인이 형성된 복합 기판의 수지층을 파단하는 파단 장치로서, 테이블과, 적어도 상기 복합 기판과 동등한 평면방향의 넓이를 지니는 탄성 부재로 이루어진 평판이며, 상기 격자 형상의 브레이크 라인으로 둘러싸인 영역의 각각의 중심위치에 형성된 보호 구멍을 갖고, 상기 테이블 상에 배치되어, 브레이크 라인이 형성된 면을 상부면으로 해서 상기 복합 기판을 보유하는 탄성 지지판과, 익스팬드 바를 구비한 익스팬더와, 상기 테이블을 그 면을 따라서 이동시키는 이동 기구와, 상기 복합 기판과 익스팬드 바를 평행하게 유지하면서, 상기 탄성 지지판 상의 복합 기판의 면을 향해서 상기 익스팬더를 승강시키는 승강 기구를 구비하는 것이다.
여기서 상기 익스팬더의 익스팬드 바는, 하단의 단면이 원호 형상으로 형성된 것으로 해도 된다.
이러한 특징을 지니는 본 발명에 따르면, 복합 기판을 탄성 지지판 상에 배치하고, 브레이크 라인에 스트라이프 형상의 익스팬드 바의 최하단 라인이 대응하도록 위치맞춤해서 파단하고 있다. 그 때문에, 기능 영역이 손상되는 일 없이 수지층을 브레이크 라인을 따라서 파단할 수 있다는 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 종래의 반도체 웨이퍼의 브레이크 시의 상태를 도시한 단면도;
도 2는 본 발명의 실시형태의 분단의 대상이 되는 기판의 정면도 및 측면도;
도 3은 본 실시형태에 의한 파단 시에 이용되는 수지층의 파단 장치의 일례를 도시한 사시도;
도 4는 본 실시형태의 익스팬더의 일례를 도시한 사시도;
도 5는 본 발명의 실시형태에 의한 파단 시에 이용되는 탄성 지지판을 도시한 사시도;
도 6은 본 실시형태에 의한 복합 기판의 분단의 과정을 도시한 개략도;
도 7은 본 실시형태에 의한 수지층의 분단 과정을 도시한 개략도.
다음에 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다. 도 2는 이러한 기판의 일례로서 장방 형상의 반도체 소자가 형성된 복합 기판(10)의 정면도 및 측면도를 나타내고 있다. 이 실시형태에 있어서는 분단의 대상이 되는 복합 기판(10)을 세라믹스 기판(11) 상에 수지층, 예를 들어, 실리콘 수지(12)가 코팅된 복합 기판(10)으로 한다. 여기서 복합 기판(10)의 세라믹스 기판(11)만의 분단은, 기판에 수직으로 스크라이브가 침투해서 단숨에 분단이 진행되므로 「브레이크」라고 표현하고, 실리콘 수지층(12)의 분단은, 힘을 가함으로써 수지층의 균열이 서서히 확대되어서 파열되므로 「파단」이라고 표현하고 있다. 또 복합 기판(10)의 전체의 분단을 「분단」이라고 표현하고 있다. 복합 기판(10)의 제조 공정에서 x축, y축에 평행한 라인을 따라서 종횡으로 정렬되어 격자 형상으로 다수의 기능 영역(13)이 형성되어 있다. 이 기능 영역(13)은, 예를 들어, LED나 기계구성부품, 센서, 액추에이터 등을 편입시킨 MEMS 기능 영역으로 한다. 그리고 각 기능 영역마다 분단시켜 반도체 칩으로 하기 위하여, 1점 쇄선으로 표시된 바와 같이 세로방향으로 등간격의 라인을 스크라이브 예정 라인(Sy1 내지 Syn), 가로방향의 등간격의 라인을 스크라이브 예정 라인(Sx1 내지 Sxm)으로 하고, 이들 스크라이브 예정 라인으로 둘러싸인 정방형의 중앙에 기능 영역의 부품이 위치하도록 한다.
다음에 이 실시형태의 수지층의 파단에 이용되는 파단 장치(20)에 대해서 설명한다. 파단 장치(20)는, 도 3에 나타낸 바와 같이 y방향으로의 이동 및 회전하는 것이 가능한 테이블(21)을 구비하고 있다. 파단 장치(20)에는 테이블(21)의 아래쪽으로 테이블(21)을 그 면을 따라서 y축 방향으로 이동시키고, 또한 그 면을 따라서 회전시키는 이동 기구가 설치되어 있다. 그리고 테이블(21) 위에 후술하는 탄성 지지판(40)을 개재해서 분단 대상이 되는 복합 기판(10)이 놓인다. 테이블(21)의 상부에는 ㄷ자 형상의 수평 고정 부재(22)가 설치되고, 그 상부에는 서보 모터(23)가 유지되어 있다. 서보 모터(23)의 회전축에는 볼 나사(24)가 직결되고, 볼 나사(24)의 하단은, 다른 수평 고정 부재(25)에서 회전할 수 있게 지지되어 있다. 상부 이동 부재(26)는 중앙부에 볼 나사(24)에 나사결합하는 암컷 나사(27)를 구비하고, 그 양단부에서 아래쪽을 향해서 지지 축(28a, 28b)을 구비하고 있다. 지지 축(28a, 28b)은 수평 고정 부재(25)의 1쌍의 관통 구멍을 관통해서 하부 이동 부재(29)에 연결되어 있다. 하부 이동 부재(29)의 하부면에는 후술하는 익스팬더(30)가 테이블(21)의 면에 평행하게 부착되어 있다. 이것에 의해, 서보 모터(23)에 의해 볼 나사(24)를 회전시킨 경우, 상부 이동 부재(26)와 하부 이동 부재(29)가 일체로 되어서 상하 이동하고, 익스팬더(30)도 동시에 상하 이동하는 것으로 된다. 여기서 서보 모터(23)와 수평 고정 부재(22, 25), 상하 이동 부재(26, 29)는 익스팬더(30)를 승강시키는 승강 기구를 구성하고 있다.
다음에 실리콘 수지층의 파단 시에 이용되는 익스팬더(30)에 대해서 설명한다. 익스팬더(30)는 예를 들면 도 4에 사시도를 도시한 바와 같이, 평면 형상의 기저부(31)에 평행한 스트라이프 형상의 익스팬드 바(32a 내지 32n)가 다수 병렬로 형성되어 있는 것으로 한다. 이 각 익스팬드 바의 모든 능선은 1개의 평면을 구성하고 있다. 또 익스팬드 바의 간격은 일정하고 스크라이브 예정 라인의 간격의 2 이상의 정수배이면 되며, 본 실시형태에서는 2배로 한다. 그리고 각 익스팬드 바의 단면은 브레이크 라인을 따라서 압압하는 것이 가능한 돌출부를 구비하는 형상이면 특별히 한정되지 않지만, 후술하는 바와 같이 만곡된 원호 형상으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 도 4에서는 익스팬드 바(32a 내지 32n)를 명시하기 위해서 그들이 상부면으로 되도록 나타내고 있지만, 사용 시에는 익스팬드 바(32a 내지 32n)가 아래쪽이 되도록 하부 이동 부재(29)에 부착된다.
본 실시형태에서는, 복합 기판(10)의 수지층을 파단할 때에 탄성 지지판(40)을 이용한다. 탄성 지지판(40)은 도 5에 사시도를 도시한 바와 같이 직사각형의 평판의 고무제 지그로서, 복합 기판(10)과 동일한 크기이며, 예를 들어, 두께를 수 ㎜ 정도로 한다.
다음에 복합 기판(10)을 분단하는 방법에 대해서 설명한다. 도 6은 분단하는 과정을 나타낸 도면으로, 도 6(a)는 복합 기판(10)의 일부분을 나타내고 있다. 우선 도 6(b)에 나타낸 바와 같이, 세라믹스 기판(11)의 면을 상부면으로 해서 도시하지 않은 스크라이브 장치에 의해 스크라이빙 호일(50)을 이동시키고, 스크라이브 예정 라인을 따라서 스크라이브한다. 그리고 도 2 (a)에 나타낸 바와 같이 x방향의 스크라이브 라인(Sx1 내지 Sxm), y방향의 스크라이브 라인(Sy1 내지 Syn)을 형성한다.
다음에, 브레이크 공정에서는, 도 6(c)에 나타낸 바와 같이, 우선 복합 기판(10)을 반전시킨다. 그리고 도시하지 않은 브레이크 장치를 이용해서 이미 형성되어 있는 스크라이브 라인의 바로 위에 브레이크 바(51)가 위치하도록 하고, 브레이크 바(51)를 밀어내림으로써 세라믹스 기판(11)만을 브레이크시킨다.
이것에 의해서 세라믹스 기판(11)만이 스크라이브 라인(Sx1 내지 Sxm), (Sy1 내지 Syn)을 따라서 브레이크된 상태가 된다. 도 6(d)는 x방향 및 y방향의 각 스크라이브 라인을 따라서 브레이크된 복합 기판(10)의 일부를 나타내고 있다. 또 스크라이브 라인(Sx1 내지 Sxm), (Sy1 내지 Syn)은 모두 브레이크되어 있으므로, 이하에서는 브레이크 라인(Bx1 내지 Bxm), (By1 내지 Byn)이라 지칭한다.
다음에 도 7에 나타낸 바와 같이 세라믹스 기판(11)에 형성된 브레이크 라인을 실리콘 수지층에도 침투시켜서 복합 기판(10)의 분단을 완료하는 방법에 대해서 설명한다. 도 7은 수지층의 파단하는 과정을 도시한 도면으로, 도 7(a)는 복합 기판의 일부분을 나타내고 있다. 우선, 전술한 파단 장치(20)의 테이블(21) 상에 탄성 지지판(40)을 배치하고, 또한 그 표면에 복합 기판(10)을 배치한다. 이때 도 7(a)에 도시한 바와 같이 실리콘 수지층(12)을 탄성 지지판(40)에 맞닿도록 배치하고, 세라믹스 기판(11)의 면을 상부면으로 한다. 이어서, 이 익스팬더(30)의 어느 쪽인가의 익스팬드 바, 예를 들어, (32a)의 최하부의 능선을 브레이크 라인, 예를 들어, (Bx1)에 합치되도록 위치 결정한다. 이렇게 하면 다른 익스팬드 바에 대해서도, 1개 걸러 브레이크 라인의 바로 위가 되게 된다.
다음에 서보 모터(23)를 구동하고, 상부 이동 부재(26)와 하부 이동 부재(29)를 동시에 저하시켜서 익스팬더(30)의 익스팬드 바를 테이블(21)에 대하여 평행하게 유지하면서 서서히 강하시킨다. 그리고 도 7(b)에 나타낸 바와 같이 익스팬드 바(32a)를 브레이크 라인(Bx1)의 바로 위에서부터 세라믹스 기판(11)을 압압한다. 이렇게 하면 도 7(c)에 나타낸 바와 같이 세라믹스 기판(11)이 익스팬드 바(32a)에 밀려서 변형되어, 깊이 내려가 탄성 지지판(40)이 마찬가지로 V자 형상으로 변형된다. 이때 익스팬드 바(32a)의 압입에 따라서 세라믹스 기판의 좌우가 균등하게 변형되어 감으로써, 균열을 브레이크 라인을 따라서 아래쪽으로 침투시킬 수 있다. 여기서 익스팬드 바의 아래쪽의 단면의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 삼각형상의 경우에는, 정점을 브레이크 라인에 일치시키는 위치 결정을 고정밀도로 행할 필요성이 상대적으로 높아진다. 그래서 세라믹스 기판(11), 실리콘 수지(12)를 이와 같이 밸런스 양호하게 변형시키기 위하여, 각 익스팬드 바의 아래쪽의 단면은 원호 형상으로 하고 있다. 이것에 의해, 익스팬드 바의 능선을 브레이크 라인과 일치시키는 위치 결정의 정밀도의 허용 범위가 상대적으로 넓게 되어 있다. 그리고 익스팬드 바를 충분히 강하시킴으로써, 수지 내의 균열이 진전되어서 좌우로 밀어서 벌리는 힘이 가해져, 파단이 완료하는 것으로 된다. 파단이 완료되면, 서보 모터(23)를 역전시켜서 익스팬더(30)를 상승시킨다.
이때 익스팬더(30)는 다수의 익스팬드 바가 병렬로 형성되어 있고, 그 간격은 스크라이브 라인의 2배이기 때문에, 1개 걸러 복수의 브레이크 라인을 따라서 동시에 실리콘 수지(12)를 파단할 수 있다.
그리고 테이블(21)을 y축 방향으로 브레이크 라인의 피치분만큼 이동시키고, 마찬가지로 해서 익스팬더(30)를 강하시킴으로써 다른 인접하는 브레이크 라인에 대해서도 수지층의 파단을 완료할 수 있다. 여기에서는 익스팬드 바의 간격이 스크라이브 라인의 피치의 2배이므로, 1회 테이블(21)을 시프트시켜서 파단함으로써 복합 기판(10)의 모든 X축 방향의 파단을 완료할 수 있다. 또 익스팬드 바의 간격이 스크라이브 라인의 피치의 3배인 경우에는, 2회 테이블(21)을 이동시켜서 파단함으로써 모든 X축 방향의 파단을 완료할 수 있다.
그리고 테이블(21)을 90°회전시켜서 y축의 브레이크 라인에 대해서도 마찬가지로 익스팬더(30)를 강하시켜, 수지층을 파단시킨다. 그리고 테이블(21)을 y축 방향으로 브레이크 라인의 피치분만큼 이동시키고, 마찬가지로 해서 익스팬더(30)를 강하시킨다. 이렇게 하면 전체 면의 파단이 완료되고, 각 브레이크 라인을 따라서 수지를 갈라서 정방형상의 기능 영역을 분단시켜 MEMS 칩을 다수 형성할 수 있다.
또, 이 실시형태에서는, 기저부로 되어 있는 기판으로서 세라믹스 기판에 대해서 설명하고 있지만, 본 발명은 반도체 기판이나 유리 기판 등의 각종 취성 재료 기판에도 적용할 수 있다.
또한, 이 실시형태에서는, 세라믹스 기판에 도포하는 수지로서 실리콘 수지에 대해서 설명하고 있지만, 그 밖의 각종 재질의 층, 예를 들어, 유리 기판에 대해서 적층하는 것으로 해서 편광판 등의 층이어도 된다.
또, 이 실시형태에서는 익스팬더를 하부면에 다수의 익스팬드 바를 구비하는 평판 형상의 부재로 하고 있지만, 1개의 익스팬드 바만으로 익스팬더를 형성하고, 이 익스팬더를 복합 기판에 눌러서 파단하도록 해도 된다.
본 발명은 보호해야 할 영역을 가진 취성 재료 기판을 스크라이브시켜 분단시킬 때에, 보호해야 할 영역을 손상되는 일 없이 파단할 수 있으므로, 기능 영역이 형성된 기판의 파단 장치에 유효하게 적용할 수 있다.
10: 복합 기판 11: 세라믹스 기판
12: 실리콘 수지 13: 기능 영역
20: 파단 장치 21: 테이블
22, 25: 수평 고정 부재 23: 서보 모터
24: 볼 나사 26, 29: 이동 부재
30: 익스팬더 31: 기저부
32a 내지 32n: 익스팬드 바 40: 탄성 지지판

Claims (5)

  1. 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지가 코팅되고, 상기 기능 영역을 분단시키도록 상기 취성 재료 기판에 브레이크 라인이 형성된 복합 기판을 분단하는 분단 방법으로서,
    탄성 지지판 상에 상기 복합 기판을 취성 재료 기판의 면이 상부면이 되도록 배치하는 단계; 및
    익스팬드 바를 상기 취성 재료 기판의 브레이크 라인을 따라서 밀어내림으로써 수지층을 파단하는 단계를 포함하는, 분단 방법.
  2. 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지가 코팅된 복합 기판을 분단하는 분단 방법으로서,
    상기 복합 기판의 기능 영역을 분단시키도록 상기 취성 재료 기판의 수지가 코팅되어 있지 않은 면을 스크라이브시켜 스크라이브 라인을 형성하는 단계;
    상기 복합 기판의 취성 재료 기판을 상기 스크라이브 라인을 따라서 브레이크시키는 단계;
    탄성 지지판 상에 상기 복합 기판을 취성 재료 기판의 면이 상부면이 되도록 배치하는 단계; 및
    하단의 단면이 원호 형상으로 형성된 익스팬드 바를 상기 취성 재료 기판의 브레이크 라인을 따라서 밀어내림으로써 수지층을 파단하는 단계를 포함하는, 분단 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 익스팬드 바는, 하단의 단면이 원호 형상으로 형성된 것인 분단 방법.
  4. 한쪽 면에 기능 영역을 가진 취성 재료 기판 상에 수지가 코팅되고, 상기 기능 영역을 분단시키도록 상기 취성 재료 기판에 브레이크 라인이 형성된 복합 기판의 수지층을 파단하는 파단 장치로서,
    테이블;
    적어도 상기 복합 기판과 동등한 평면방향의 넓이를 지니는 탄성 부재로 이루어진 평판이며, 상기 격자 형상의 브레이크 라인으로 둘러싸인 영역의 각각의 중심위치에 형성된 보호 구멍을 갖고, 상기 테이블 상에 배치되어, 브레이크 라인이 형성된 면을 상부면으로 해서 상기 복합 기판을 보유하는 탄성 지지판;
    익스팬드 바를 구비한 익스팬더;
    상기 테이블을 그 면을 따라서 이동시키는 이동 기구; 및
    상기 복합 기판과 익스팬드 바를 평행하게 유지하면서, 상기 탄성 지지판 상의 복합 기판의 면을 향해서 상기 익스팬더를 승강시키는 승강 기구를 포함하는, 파단 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 익스팬더의 익스팬드 바는, 하단의 단면이 원호 형상으로 형성된 것인 파단 장치.
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