KR20150034993A - 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법 - Google Patents

금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20150034993A
KR20150034993A KR20130115044A KR20130115044A KR20150034993A KR 20150034993 A KR20150034993 A KR 20150034993A KR 20130115044 A KR20130115044 A KR 20130115044A KR 20130115044 A KR20130115044 A KR 20130115044A KR 20150034993 A KR20150034993 A KR 20150034993A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
conductive film
coating composition
weight
binder resin
Prior art date
Application number
KR20130115044A
Other languages
English (en)
Inventor
유관태
김경은
유재원
최승석
김성배
Original Assignee
주식회사 동진쎄미켐
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 동진쎄미켐 filed Critical 주식회사 동진쎄미켐
Priority to KR20130115044A priority Critical patent/KR20150034993A/ko
Priority to PCT/KR2014/008795 priority patent/WO2015046843A1/ko
Priority to CN201480053241.0A priority patent/CN105593313B/zh
Publication of KR20150034993A publication Critical patent/KR20150034993A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D101/00—Coating compositions based on cellulose, modified cellulose, or cellulose derivatives
    • C09D101/08—Cellulose derivatives
    • C09D101/10—Esters of organic acids
    • C09D101/12—Cellulose acetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24—Electrically-conducting paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D101/00—Coating compositions based on cellulose, modified cellulose, or cellulose derivatives
    • C09D101/02—Cellulose; Modified cellulose
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D101/00—Coating compositions based on cellulose, modified cellulose, or cellulose derivatives
    • C09D101/08—Cellulose derivatives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/65—Additives macromolecular
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/70—Additives characterised by shape, e.g. fibres, flakes or microspheres
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/02—Fibres or whiskers
    • C08K7/04—Fibres or whiskers inorganic
    • C08K7/06—Elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

본 발명은 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 금속 나노와이어, 사다리형 실세스퀴옥산 고분자, 유기 바인더 수지, 및 분산액을 포함함으로써 우수한 면저항, 내마모성, 경도, 기재와의 밀착성 및 유연성을 가져 전도성 필름을 제조하기에 적합한 전도성 코팅 조성물, 이를 이용한 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다.

Description

금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법{Conductive coating composition containing metallic nanowires and forming method for conductive film using the same}
본 발명은 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 금속 나노와이어, 사다리형 실세스퀴옥산 고분자, 유기 바인더 수지, 및 분산액을 포함함으로써 우수한 면저항, 내마모성, 경도, 기재와의 밀착성 및 유연성을 가져 전도성 필름을 제조하기에 적합한 전도성 코팅 조성물, 이를 이용한 전도성 필름의 제조방법에 관한 것이다.
ITO는 일반적으로 투명전도성 필름으로 터치스크린패널, OLED 소자, 유연소자 등에 활발히 적용되고 있지만, 기판이 대형화될수록 요구되는 낮은 면저항 및 우수한 유연성 등을 만족시키기에는 금속 산화물이라는 한계로 인하여 대체물질이 절실히 요청되고 있다.
이런 문제를 해결하기 위한 대체 재료로써 금속 나노와이어 기반 투명전도성 필름이 쓰이고 있으며, ITO에서 해결하지 못하는 필름에서의 높은 광학적인 특성을 유지하면서 낮은 면저항을 구현하고 우수한 유연성을 지니고 있어 다양한 분야에서 쓰이고 있다.
하지만, 금속 나노와이어 기반 투명전도성 필름은 ITO와 다르게 나노와이어의 선 접촉에 의해서 저항이 구현되는 구조이기 때문에 외부적인 충격 즉, 스크래치나 고점착 보호필름에 의한 벗겨짐 등에 의해서 선 접촉이 끊기거나 나노와이어가 끊겨 저항이 쉽게 높아질 수 있는 단점을 가지고 있다. 이러한 단점은 금속 나노와이어 기반 투명전도성 필름을 제조하는 공정 중에서도 공정 마진을 높이기 위해서도 중요한 요소이며, 더욱이 패턴을 구현 후 후 공정을 진행할 경우 수율에도 직접적인 영향을 주기 때문에 내구성은 반드시 확보하여야 하는 특성이다.
필름의 내구성 중 기재 밀착력을 높이기 위해서 미국 특허 공개번호 제2012-0097059호(NANOWIRE INK COMPOSITIONS AND PRINTING OF SAME)에서는 접착 증진제로 실란 커플링제를 적용하여 하부 기재와의 밀착력을 높이기 위해서 노력하였다. 이러한 실란 커플링제와 같이 코팅제와 기재막 사이에 존재하면서 기재 밀착력을 높이기 위해 많은 첨가제가 연구되고 있지만, 필름공정 중 내구성을 확보하기 위해서는 기재 밀착력뿐만 아니라 내마모성 및 경도까지 일정이상 확보하여야 하기 때문에 충분한 대책이라고 할 수 없다.
일반적으로 전도성 필름의 물리적인 특징인 내구성의 필요조건은 연필 경도(Pencil hardness), 내마모성(Anti-scratch), 기재 밀착력(Adhesion force)을 들 수 있으며, 적어도 ITO 이상의 내구성이 확보되어야만 필름공정에서의 수율을 확보 할 수 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 전도성 필름을 형성하기에 적합한 우수한 면저항, 내마모성, 경도, 기재와의 밀착성 및 유연성을 가지며, 광학적인 특성이 우수하고 금속 나노와이어의 분산성이 우수하여 코팅 조성물의 백탁, 상분리, 겔화 등의 문제를 해결한 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한 본 발명은 상기 방법에 의하여 제조되어 우수한 면저항, 내마모성, 경도, 기재와의 밀착성 및 유연성을 가지는 전도성 필름 및 상기 필름을 포함하는 전자소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명은,
전도성 코팅 조성물에 있어서,
1) 금속 나노와이어;
2) 사다리형 실세스퀴옥산 고분자;
3) 유기 바인더 수지; 및
4) 분산액
를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 전도성 코팅 조성물을 기재 위에 코팅하고 건조하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름 형성방법을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 전도성 필름 형성방법에 의하여 형성된 전도성 필름을 제공한다.
또한 본 발명은 상기 전도성 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자소자를 제공한다.
본 발명에 따른 전도성 코팅 조성물은 광학적인 특성이 우수하고 금속 나노와이어의 분산성이 우수하여 코팅 조성물의 백탁, 상분리, 겔화 등의 문제를 해결할 수 있으며, 본 발명에 따른 전도성 필름은 우수한 면저항, 내마모성, 경도, 기재와의 밀착성 및 유연성을 가져 전자소자에 사용하기에 적합하다.
본 발명의 전도성 코팅 조성물은 1) 금속 나노와이어; 2) 사다리형 실세스퀴옥산 고분자; 3) 유기 바인더 수지; 및 4) 분산액을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하 각 성분들에 대하여 설명한다.
1) 금속 나노와이어
본 발명의 전도성 코팅 조성물은 도전성 물질로서 금속 나노와이어를 사용한다. 본 발명에서 사용되는 금속 나노와이어는 통상적인 전도성 필름형성을 위하여 사용되는 금속 나노와이어가 사용될 수 있으며, 보다 구체적으로 사용 가능한 금속은 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 주석, 팔라듐, 백금, 아연, 철, 인듐, 마그네슘 등의 Ⅰ족, ⅡA족, ⅢA족, ⅣA족 및 Ⅷ B족 금속으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 사용하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하게는 아연, 알루미늄, 주석, 구리, 은 및 금으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 사용하는 것이 좋다.
상기 금속 나노와이어는 직경이 15 nm 내지 120 nm, 길이가 5 ㎛ 내지 60 ㎛인 것이 바람직하며, 전도성 코팅 조성물에 0.01 - 0.5 중량%의 양으로 사용되는 것이 바람직하다.
2 ) 사다리형 실세스퀴옥산 고분자
본 발명에서 사용되는 실세스퀴옥산 고분자는 사다리(ladder)형 실세스퀴옥산(silsesquioxane) 고분자로서, 중량평균분자량이 바람직하기로는 10,000 내지 200,000인 것을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하기로는 30,000 내지 100,000이다.
바람직하기로 상기 사다리형 실세스퀴옥산 고분자는 하기 화학식 1의 구조를 가진다:
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에서,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, C1 내지 C20으로 연결된 환형 또는 비환형 지방족 유기관능기, 알킬기, 알킬할로겐, 아릴기, 아미노기, (메타)아크릴기, 비닐기, 에폭시기 또는 사이올기이고, 이때, R1 내지 R4는 모두 동일하거나 모두 다른 유기관능기로 치환될 수 있고;
R5 내지 R8은 각각 독립적으로 C1-5의 알킬기, C3-10의 시클로알킬기, C6-12의 아릴기, 알코올, 알콕시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택될 수 있으며;
n은 1 내지 100,000이다.
상기에서, 상기 알코올 또는 알콕시기는 바람직하게는 -OCR' 또는 -CR'=N-OH이고, 이때 R'은 C1-6의 알킬기이다.
본 발명에 사용되는 상기 사다리형 실세스퀴옥산 고분자는 공지의 방법으로 제조되거나 또는 시판되는 것을 사용할 수도 있으며, 바람직하기로 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 고분자는 유기관능기가 도입된 삼관능계 실란으로서 하기 화학식 2의 화합물을 가수분해시킨 후 연속적으로 축합반응시켜 제조될 수 있다:
[화학식 2]
R9 4-m-Qp-Si-(OR10)m
상기 화학식 2에서,
R9는 수소, C1 내지 C20으로 연결된 환형 또는 비환형 지방족 유기관능기, 알킬기, 알킬할로겐, 아릴기, 아미노기, (메타)아크릴기, 비닐기, 에폭시기 또는 사이올기와 같은 유기관능기이고;
R10은 C1-5의 알킬기, C3-10의 시클로알킬기, C6-12의 아릴기, 알코올, 알콕시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며,
Q는 C1-6의 알킬렌기 또는 C1-6 알킬렌옥시기이고,
m은 0 내지 4의 정수이며,
p는 0 또는 1의 정수이다.
상기에서, 상기 알코올 또는 알콕시기는 바람직하게는 -OCR' 또는 -CR'=N-OH이고, 이때 R'은 C1-6의 알킬기이다.
또한 상기 화학식 2에서 R9 또는 R10이 페닐기와 같은 방향족 유기관능기가 될 수 있으나, 사다리형 실세스퀴옥산 고분자 내에 측쇄기인 R1 내지 R4 중 방향족 유기관능기의 함량이 지나치게 많은 경우 투과율이 낮아지는 경향이 있으므로, 바람직하기로 측쇄기 R1 내지 R4의 합계 100% 중 페닐의 함량은 80 몰% 미만으로 조절하는 것이 좋다.
본 발명의 상기 실세스퀴옥산 고분자의 제조시 반응조건은 당분야에서 통상적으로 사용하는 방법, 예를 들어 대한민국 특허공개 제10-2010-0131904호에 기재된 방법에 따라 수행될 수 있다.
또한 상기 실세스퀴옥산 고분자의 축합도는 1 내지 99.9%로 조절될 수 있으며, 실세스퀴옥산 고분자 말단의 -OH의 함량은 혼합 사용되는 셀룰로오스계 수지의 극성 변화에 따라 다양하게 임의로 조절하여 적용될 수 있으며, 바람직하기로 실세스퀴옥산 고분자 말단의 -OH의 함량이 말단기 중 0.01 내지 50%인 경우 보관안정성이 우수한 수지 조성물을 제조할 수 있다.
또한 상기 화학식 1의 화합물 제조시 통상적으로 알려진 자외선 흡수체들을 R1 내지 R8에 도입할 경우, 필름 제조시 자외선 차단특성을 부여하기 위한 첨가제로도 사용될 수 있다. 구체적인 일예로 자외선 흡수체로 사용될 수 있는 화합물로는 (2-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1,1-디메틸에틸)-4-메틸-페놀(2-(5-chloro-2H-benzotriazole-2-yl)-6(1,1-dimethylethyl)-4-methyl-phenol), 옥틸-3-[3-터트-부틸-4-히드록시-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)페닐]프로피오네이트(Octyl-3-[3-tert-butyl-4-hydroxy-5-(5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl)phenyl]propionate) 등의 할로겐 원소를 포함하는 자외선 흡수체와 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디터틸페놀(2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-ditertylphenol), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀(2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀(2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol), 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀(2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-(1-methyl1-phenylethyl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol, 2-[4-[(2-히드록시-3-(2'-에틸)헥실)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진(2-[4-[(2-Hydroxy-3-(2'-ethyl)hexyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine), 2-[4-[(2-히드록시-3-도데실옥시프로필)옥시]-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진(2-[4-[(2-Hydroxy-3-dodecyloxypropyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine) 등의 할로겐 원소를 포함하지 않는 자외선 흡수체가 사용될 수 있다.
본 발명의 전도성 코팅 조성물에 있어서 상기 실세스퀴옥산은 0.01 - 1.0 중량%의 양으로 사용되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 0.01 중량% 미만일 경우, 상기 실세스퀴옥산을 통해 내구성을 부여하기 위한 본래의 목적을 달성 할 수 없으며. 상기 함량이 1.0 중량%를 초과하는 경우 금속 나노와이어의 접촉을 저해하여 투명 도전막의 접촉 저항을 급격히 증가시키는 절연체 역할을 하게 되어 원하는 전도도를 구현할 수 없다.
3 ) 유기 바인더 수지
본 발명의 전도성 코팅 조성물은 유기 바인더 수지를 포함한다. 상기 유기 바인더 수지는 본 발명의 전도성 코팅 조성물의 점도를 조절하고, 조성물의 코팅성을 향상시키고, 기판과 부착력을 증가시키며, 박막의 유연성을 증가시킨다.
본 발명에 사용 가능한 상기 유기 바인더 수지로는 폴리이미드, 아크릴 폴리머, 에폭시, 폴리에틸렌글리콜, 폴리에스테르, 폴리메틸메타아크릴레이트, 폴리비닐피롤리돈, 셀룰로오스, 폴리비닐알콜, 폴리우레탄, 폴리아크릴로니트릴 등이 사용될 수 있으며 , 바람직하게는 셀룰로오스 수지이며, 특히 셀룰로오스 수지 중에서도 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 아세하이드록시프로필메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 카르복실메틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트부티레이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등을 사용할 수 있다.
상기 유기 바인더 수지는 본 발명의 전도성 코팅 조성물에 0.02 - 10 중량%의 양으로 사용되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 0.02 중량% 미만일 경우, 상기 유기 바인더 수지를 통해 점도 조절, 코팅성 향상, 기판과의 부착력 증가 및 유연성을 부여하기 위한 본래의 목적을 달성 할 수 없어 형성된 전도성 필름이 일정 이상 휘어질 경우 금속 나노와이어가 기판에서 이탈하거나, 전도성 코팅 조성물이 기판 전면에 균일하게 코팅이 되지 않아 전기전도성이 우수한 필름을 형성할 수 없는 결과를 초래할 수 있다. 또한 상기 함량이 10 중량% 이상일 경우, 유기 바인더 수지가 금속 나노와이어와 접촉을 저해하여 투명 도전막의 접촉 저항을 급격히 증가시키는 절연체 역할을 하게 되고, 점도가 급격히 상승하여 필름의 두께가 두껍게 형성되어 광학 특성을 악화시키는 문제가 발생할 수 있다. 필름 두께가 지나치게 두꺼워지면 필름 전체가 노란색을 띄게 되어 시인성에 악영향을 주게 된다.
4) 분산액
본 발명의 전도성 코팅 조성물은 상기 1) 금속 나노와이어, 2) 실세스퀴옥산 고분자, 및 3) 유기 바인더 수지 외에 잔량으로 분산액을 포함하는 바, 상기 분산액은 금속 나노와이어 분산액의 점도 조절, 원활한 필름 형성, 금속 나노와이어의 분산성 등을 고려하여 적절히 선정할 수 있다.
구체적인 일예로 상기 분산액으로는 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 이소프로필아세테이트, 부탄올, 2-부탄올, 옥탄올, 2-에틸헥사놀, 펜탄올, 벤질알콜, 헥산올, 2-헥산올, 사이클로헥산올, 테르피네올, 노나놀, 메틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 테트라에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노부틸에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노부틸에테르, 2-프로판온, 디아세틸, 아세틸아세톤, 1,2-디아세틸에탄, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 2-메톡시에틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸아세트아마이드, 디메틸포름아마이드, 모노메틸포름아마이드, 디메틸아세트아마이드, 메틸렌 클로라이드, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸이소프로필케톤, 디아세톤알콜 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 용매를 사용할 수 있고, 바람직하게는 에탄올, 이소프로판올 단독 또는 이를 포함하는 혼합용매를 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 전도성 코팅 조성물은 필요에 따라 경화제, 가소제, 자외선 차단제 또는 전도성 필름 형성용 코팅 조성물에 통상적으로 포함될 수 있는 기능성 첨가제를 통상적인 범위 내에서 추가로 포함할 수 있다.
본 발명은 또한 본 발명은 상기 전도성 코팅 조성물을 기재 위에 코팅하고 건조하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름 형성방법을 제공한다.
본 발명에 따른 전도성 코팅 조성물은 당분야에서 통상적으로 사용하는 다양한 인쇄공정, 예를 들어, 그라비아 옵-셋(Gravure off-set) 인쇄, 그라비아 다이렉트(Gravure direct) 인쇄, 마이크로 그라비아(Micro Gravure) 인쇄, 스크린 (Screen)인쇄, 임프린팅 방법, 리버스 옵-셋(Reverse off-set), 스핀코팅(spin coating), 슬릿 코팅(slit coating), 슬롯 다이 코팅(slot die coating) 등을 이용하여 통상적으로 사용되는 투명 기판, 예를 들어, 폴리이미드(PI) 기판, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 기판, 폴리카보네이트(PC) 기판, 싸이클로올레핀폴리머(COP) 기판, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 기판 등에 인쇄될 수 있다. 또한, 코팅 두께는 용도에 따라 적절히 조절될 수 있음은 물론이며, 통상적인 건조공정과 필요에 따라 저온 열처리 공정이 필름형성을 위하여 적용될 수 있다.
또한 본 발명의 전도성 필름 형성방법은 상기 건조공정 후 형성된 필름 위에 보호층을 더욱 형성할 수 있다.
상기 보호층 형성을 위한 조성물은 상기 전도성 코팅 조성물의 2) 실세스퀴옥산 고분자, 3) 유기 바인더 수지 수지 및 4) 분산액을 포함하는 조성물을 사용할 수 있다.
상기 보호층 형성을 위한 조성물에서 유기 바인더 수지는 조성물의 0.05 - 4 중량%의 양으로 사용되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 0.05 중량% 미만일 경우, 상기 유기 바인더 수지를 통해 점도 조절, 코팅성 향상, 부착력 증가 및 유연성을 부여하기 위한 본래의 목적을 달성 할 수 없어 보강효과 및 광학보강 효과를 기대하기 어려우며, 상기 함량이 4 중량%를 초과하는 경우, 필름의 접촉 저항을 급격히 증가시키고, 점도가 급격히 상승하여 도막의 두께가 두껍게 형성되어 광학 특성을 악화시키는 문제가 발생한다. 도막 두께가 지나치게 두꺼워 지면서 광학 보강효과를 구현 할 수 없다.
또한, 상기 보호층 형성을 위한 조성물에서 실세스퀴옥산은 조성물에서 0.1 - 1.0 중량%의 양으로 사용되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 0.1 중량% 미만일 경우, 내구성 향상을 기대하기 어려울 수 있으며, 상기 함량이 1.0 중량%를 초과하는 경우, 원하는 전도도를 구현하기 어려울 수 있다.
본 발명의 전도성 필름 형성방법에서 상기 보호층을 형성시 전도성 코팅 조성물을 이용하여 전도성 필름을 형성할 때에 적용되는 통상적인 인쇄방법, 건조방법과 필요에 따른 저온 열처리방법이 적용될 수 있으며, 상기 보호층을 형성하는 경우 저항 보강효과, 광학 보강효과, 내구성 보강 효과를 더욱 높일 수 있으며, 습식 에칭 등이 가능하여 후속 공정에서의 편의성도 도모할 수 있다.
본 발명은 또한 상기 방법에 따라 형성된 투명 전도성 필름을 제공한다. 본 발명의 조성물 및 방법을 이용하여 제조된 투명 전도성 필름은 광투과도가 90% 이상이고, 면저항이 200 Ω/□ 이하이며, 면저항, 내환경성, 전투과도 및 헤이즈의 특성이 우수할 뿐 아니라, 습식 에칭 공정에서도 쉽게 에칭이 가능하고 농도 조절을 통해 넓은 범위의 투명 전도막 구현이 가능하므로, 액정 표시장치, 플라즈마 표시장치, 터치패널, 전계발광 장치, 박막태양전지, 염료감응태양전지, 무기물 결정질 태양전지 등의 전극에 유용하게 활용될 수 있다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
합성예 1 : 셀룰로오스 용액의 제조
트리아세틸셀룰로오스(시그마 알드리치, Fluka) 1 중량부를 메틸렌클로라이드와 메틸에틸케톤, 디아세톤알코올, 디메틸포름아마이드 , 디메틸설폭사이드, 메틸이소부틸케톤 중 하나이상의 용매를 혼합하여 24시간 혼합하여 제조하였다.
합성예 2: 실세스퀴옥산 고분자의 제조
냉각관과 교반기를 구비한 건조된 플라스크에, 증류수 15 중량%, 메탄올(순도 99.86%) 4 중량% 및 테트라메틸 암모늄하이드록사이드(25% in water) 1 중량%를 혼합하여 촉매가 포함된 혼합반응 용매를 미리 제조한 다음, 80 중량%의 실란 단량체를 준비된 혼합반응 용매에 넣어 주었다. 이때, 실란 단량체의 혼합 비율은 트리메톡시페닐실란(다우코닝사, 상품 명 DOW CORNING(R) Z-6124 SILANE) 10 몰% 와 감마-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란(다우코닝사, 상품명 DOW CORNING(R) Z-6030 SILANE) 90 몰% 로 조절하여 넣어 주었다. 이후, 질소 분위기에서 서서히 8 시간 동안 교반한 후, 반응용액의 교반을 멈추고 상온에서 24 시간 동안 정치시킨 다음, 침전물을 포함한 상기 반응용액을 진공여과하여 침전물을 분리하였다. 분리된 침전물을 증류수와 메탄올의 혼합액으로 수차례 세정 및 여과하여 불순물을 제거하고 메탄올로 최종 수세한 후, 상온에서 20 시간 동안 진공건조하여 얻어진 수득물 1 중량부에 메틸렌클로라이드와 메탄올을 9:1(중량비)로 혼합한 혼합용매 9 중량부를 적하하여 목적하는 폴리지방족 방향족 실세스퀴옥산 고분자 수지를 제조하였다. 수득된 폴리지방족 방향족 실세스퀴옥산 고분자의 중량평균분자량은 40,000이었다. 이때, 중량평균분자량은 겔 투과 크로마토그래피를 사용하여 측정한 폴리스티렌 환산평균분자량이다.
합성예 3 내지 9 : 실세스퀴옥산 고분자의 제조
증류수 15 중량%, 메탄올(순도 99.86%) 4 중량%, 테트라메틸 암모늄하이드록사이드(25% in water) 1 중량%에 실란 단량체 80 중량%를 하기 표 1과 같은 몰 비율로 적하한 것을 제외하고는 상기 합성예 2와 동일한 방법으로 고분자 실세스퀴옥산 수지를 제조하였다.
감마-메타아크릴옥시프로필
트리메톡시실란 (몰%)		 트리메톡시페닐실란 (몰%)
합성예 3 80 20
합성예 4 70 30
합성예 5 60 40
합성예 6 50 50
합성예 7 40 60
합성예 8 30 70
합성예 9 20 80
[실시예1-4]
[실시예 1]
전도성 코팅 조성물로 종횡비가 600 이상인 실버 나노와이어 2 중량%의 에탄올 분산액 0.5 g을 하이드록시프로필셀롤로우즈와 합성예 2에서 합성된 폴리실세스퀴옥산이 3:7의 중량비로 혼합된 1 중량%의 이소프로필알콜 분산액을 1.06 g에 넣고 약하게 1시간 이상 분산시켰다. 여기에 추가로 실버 나노와이어의 함량을 조절하기 위해 에탄올 8.44 g을 넣고 전도성 코팅 조성물을 완성하였다.
2차 보호층으로 트리아세틸셀룰로오스(시그마 알드리치, Fluka) 0.3 g을 메틸렌클로라이드14.85 g에 넣고 상온에서 24시간 용해시켰다. 상기 메틸렌클로라이드에 분산된 트리아세틸셀룰로오스 용액에 메틸에틸케톤을 14.85 g을 첨가하여 1000 rpm에서 2시간 동안 교반하여 셀룰로오스용액을 제조하였다. 여기에 1 중량%로 메틸에틸케톤에 희석된 폴리실세스퀴옥산 29.7 g을 첨가하여 1000rpm 에서 6시간동안 혼합한 뒤에 시판되고 있는 열경화용 첨가제(Asahi Kasei chemical 社)를 첨가하여 1000 rpm 에서 6시간 동안 교반하면서 점도 조절 후 마무리하였다.
각각 제조된 코팅 조성물은 PET 필름에 건조 도막 두께가 130 nm가 되도록 코팅 후, 코팅된 시편을 140 ℃ 건조로에서 90초 건조하여 물성 및 성능 평가를 진행하여 [표 2] 에 표기하였다.
[실시예 2]
전도성 코팅 조성물로 종횡비가 600 이상인 실버 나노와이어 2 중량%의 에탄올 분산액 0.5 g을 셀롤로우즈아세테이트부트레이트와 합성예 2에서 합성된 폴리실세스퀴옥산이 5:5의 중량비로 혼합된 1 중량%의 이소프로필알콜 분산액을 1.06 g에 넣고 약하게 1시간 이상 분산시켰다. 여기에 추가로 실버 나노와이어의 함량을 조절하기 위해 에탄올 8.44 g을 넣고 전도성 코팅 조성물을 완성하였다.
트리아세틸셀룰로오스(시그마 알드리치, Fluka) 0.36 g을 메틸렌클로라이드17.82 g에 넣고 상온에서 24시간 용해시켰다. 이러한 메틸렌클로라이드에 분산된 트리아세틸셀룰로오스 용액에 메틸에틸케톤을 17.82 g을 첨가하여 1000 rpm에서 2시간 동안 교반하여 셀룰로오스용액을 제조하였다. 여기에 1 중량%로 메틸에틸케톤에 희석된 폴리실세스퀴옥산 24 g을 첨가하여 1000rpm 에서 6시간동안 혼합한 뒤에 시판되고 있는 열경화용 첨가제(Asahi Kasei chemical 社)를 첨가하여 1000 rpm 에서 6시간 동안 교반하면서 점도 조절 후 마무리하였다.
[실시예 3]
전도성 코팅 조성물로 종횡비가 600 이상인 실버 나노와이어 2 중량%의 에탄올 분산액 0.5 g을 셀롤로우즈아세테이트프로피오네이트와 합성예 2에서 합성된 폴리실세스퀴옥산이 7:3의 중량비로 혼합된 1 중량%의 이소프로필알콜 분산액을 1.06 g에 넣고 약하게 1시간 이상 분산시켰다. 여기에 추가로 실버 나노와이어의 함량을 조절하기 위해 에탄올 8.44 g을 넣고 전도성 코팅 조성물을 완성하였다.
트리아세틸셀룰로오스(시그마 알드리치, Fluka) 0.48 g을 메틸렌클로라이드23.76 g에 넣고 상온에서 24시간 용해시켰다. 이러한 메틸렌클로라이드에 분산된 트리아세틸셀룰로오스 용액에 메틸에틸케톤을 23.76 g을 첨가하여 1000 rpm에서 2시간 동안 교반하여 셀룰로오스용액을 제조하였다. 여기에 1 중량%로 메틸에틸케톤에 희석된 폴리실세스퀴옥산 12 g을 첨가하여 1000 rpm에서 6시간동안 혼합한 뒤에 시판되고 있는 열경화용 첨가제(Asahi Kasei chemical 社)를 첨가하여 1000 rpm에서 6시간 동안 교반하면서 점도 조절 후 마무리하였다.
[실시예 4]
전도성 코팅 조성물로 종횡비가 600 이상인 실버 나노와이어 2 중량%의 에탄올 분산액 0.5 g을 셀롤로우즈아세테이 프로피오네이트와 합성예 2에서 합성된 폴리실세스퀴옥산이 9:1의 중량비로 혼합된 1 중량%의 이소프로필알콜 분산액을 1.06 g에 넣고 약하게 1시간 이상 분산시켰다. 여기에 추가로 실버 나노와이어의 함량을 조절하기 위해 에탄올 8.44 g을 넣고 전도성 코팅 조성물을 완성하였다.
트리아세틸셀룰로오스(시그마 알드리치, Fluka) 0.54 g을 메틸렌클로라이드26.73 g에 넣고 상온에서 24시간 용해시켰다. 이러한 메틸렌클로라이드에 분산된트리아세틸셀룰로오스 용액에 메틸에틸케톤을 26.73 g을 첨가하여 1000 rpm에서 2시간 동안 교반하여 셀룰로오스용액을 제조하였다. 여기에 1 중량%로 메틸에틸케톤에 희석된 폴리실세스퀴옥산 6 g을 첨가하여 1000 rpm에서 6시간동안 혼합한 뒤에 시판되고 있는 열경화용 첨가제(Asahi Kasei chemical 社)를 첨가하여 1000 rpm에서 6시간 동안 교반하면서 점도 조절 후 마무리하였다.
[비교예 1]
전도성 코팅 조성물로 종횡비가 600 이상인 실버 나노와이어 2중량 에탄올 분산액 0.5 g을 하이드록시프로필셀롤로우즈 0.5 중량%의 이소프로필알콜 분산액을 1.06 g에 넣고 약하게 1시간 이상 분산시켰다. 여기에 추가로 실버 나노와이어의 함량을 조절하기 위해 에탄올 8.44 g을 넣고 전도성 코팅 조성물을 완성하였다.
트리아세틸셀룰로오스(시그마 알드리치, Fluka) 0.54 g을 메틸렌클로라이드26.73 g에 넣고 상온에서 24시간 용해시켰다. 이러한 메틸렌클로라이드에 분산된트리아세틸셀룰로오스 용액에 메틸에틸케톤을 26.73 g을 첨가하여 1000 rpm에서 2시간 동안 교반하여 셀룰로오스용액을 제조하였다. 여기에 시판되고 있는 열경화용 첨가제(Asahi Kasei chemical 社)를 첨가하여 1000 rpm에서 6시간 동안 교반하면서 점도 조절 후 마무리하였다.
상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1에서 제조한 전도성 코팅 조성물에 대하여 하기와 같이 성능평가를 실시하였으며 결과는 하기 표 2에 나타내었다.
1) 1차 면저항: 면저항 측정기를 통해 단위면적당 표면저항을 측정하였다.
2) 2차 면저항 : 2차 막을 도포 및 건조 후 면저항을 측정하였으며 저항 보강 효과를 관찰하였다.
3) 전 투과도: 400 nm 내지 800 nm 파장 영역에서 분광광도계를 이용하여 2차막을 도포 및 건조 후 가시광 투과도를 측정하였으며, 광학 보강 효과를 관찰하였다.
4) 헤이즈: NIPPON DENSHOKU사의 헤이즈 미터COH 400을 이용하여 2차막을 도포 및 건조 후 측정하였으며, 광학 보강 효과를 관찰 하였다.
5) 경도: 1차막에 이어 2차막을 도포 및 건조 후 연필 경도 시험기를 이용하여 측정하였으며 단선이 발생하는 경도 이하로 결정하였다.
6) 기재 밀착력: ASTM-D3359의 측정방법에 따라서 기재 밀착력을 평가하였다.
7) 긁힘 저항(Anti-scratch): 마찰력 측정기를 이용하여 저항 변화율을 측정
1차면저항
(Ω/sq)		 2차면저항 / 저항보강효과(%) 전투과도 / 광학보강 효과(%) 헤이즈/ 광학보강효과(%) 경도 기재밀착력 긁힘저항
(Ω/cm2)
실시예 1 355.5 61.4 2.05 44.3 1H 未 박리 44
실시예 2 265.0 55.9 2.31 47.4 1H 未 박리 26
실시예 3 239.7 69.4 2.45 48.4 HB 未 박리 8
실시예 4 195.8 66.6 2.64 52.5 B 未 박리 -22
비교예 1 190.5 58.9 0.66 10.5 6B 박리 400 이상
상기 표에 나타난 바와 같이 실시예 1 내지 4에서는 1차 면저항은 폴리실세스퀴옥산의 함량에 따라서 높게 형성이 되지만 2차 보호층의 저항 보강 효과에 의해서 우수한 면저항을 유지할 수 있는 것을 관찰 할 수 있었다. 또한 폴리실세스퀴옥산의 함량의 경도와 비례 관계로 함량이 증가 할수록 경도도 함께 증가하는 추세를 보였다.
비교예 1에서와 같이 폴리실시스퀴옥산이 첨가되지 않는 조성물로 투명전도성막을 형성할 경우 저항 보강 효과는 확보할 수 있지만 광학 보강과 미비하여 얼룩과 헤이즈가 심하고 경도 및 기재밀착력을 확보할 수 없어 후 공정에서 단선이 발생하였다.

Claims (14)

  1. 전도성 코팅 조성물에 있어서,
    1) 금속 나노와이어;
    2) 사다리형 실세스퀴옥산 고분자;
    3) 유기 바인더 수지; 및
    4) 분산액
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    1) 금속 나노와이어 0.01 - 0.5 중량%;
    2) 사다리형 실세스퀴옥산 고분자 0.01 - 1 중량%;
    3) 유기 바인더 수지 0.02 - 10 중량%; 및
    4) 잔량의 분산액
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 사다리형 실세스퀴옥산 고분자는 하기 화학식 1의 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
    [화학식 1]
    Figure pat00002

    상기 화학식 1에서,
    R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, C1 내지 C20으로 연결된 환형 또는 비환형 지방족 유기관능기, 알킬기, 알킬할로겐, 아릴기, 아미노기, (메타)아크릴기, 비닐기, 에폭시기 또는 사이올기이고, 이때, R1 내지 R4는 모두 동일하거나 모두 다른 유기관능기로 치환되고;
    R5 내지 R8은 각각 독립적으로 C1-5의 알킬기, C3-10의 시클로알킬기, C6-12의 아릴기, 알코올, 알콕시기 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되며;
    n은 1 내지 100,000이다.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 화학식 1에서 R1 내지 R4의 합계 100% 중 방향족 유기관능기의 함량이 80 % 미만인 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 화학식 1에서 말단의 -OH의 함량이 말단기 중 0.01 내지 50%인 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 유기 바인더 수지가 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 아세하이드록시프로필메틸셀룰로오스, 하이드록시에틸셀룰로오스, 하이드록시프로필셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 카르복실메틸셀룰로오스, 셀룰로오스아세테이트부티레이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트로 이루어진 군에서 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 유기 바인더 수지가 트리아세틸셀룰로오스인 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 수지 조성물이 경화제, 가소제, 기능성 첨가제 또는 자외선 차단제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 코팅 조성물.
  9. 제1항에 따른 전도성 코팅 조성물을 기재위에 코팅하고 건조하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 형성방법.
  10. 제9항에 있어서,
    건조된 전도성 필름 위에 사다리형 실세스퀴옥산 고분자 0.1 내지 1.0 중량%; 유기 바인더 수지 0.05 - 4 중량%; 및 잔량의 분산액를 포함하는 보호층 형성용 조성물을 2차 코팅하고 건조하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 형성방법.
  11. 제9항 또는 제10항 기재의 방법에 따라 제조된 전도성 필름.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 전도성 필름의 투과율은 적어도 90%이고, 면저항이 200 Ω/□ 이하인 것을 특징으로 하는 전도성 필름.
  13. 제11항 기재의 전도성 필름을 포함하는 전자소자.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 전도성 필름은 전극으로 작용하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름.
KR20130115044A 2013-09-27 2013-09-27 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법 KR20150034993A (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130115044A KR20150034993A (ko) 2013-09-27 2013-09-27 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법
PCT/KR2014/008795 WO2015046843A1 (ko) 2013-09-27 2014-09-22 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법
CN201480053241.0A CN105593313B (zh) 2013-09-27 2014-09-22 含有金属纳米线的导电性涂布组合物及利用其的导电性膜的形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130115044A KR20150034993A (ko) 2013-09-27 2013-09-27 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20150034993A true KR20150034993A (ko) 2015-04-06

Family

ID=52743892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130115044A KR20150034993A (ko) 2013-09-27 2013-09-27 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR20150034993A (ko)
CN (1) CN105593313B (ko)
WO (1) WO2015046843A1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10070515B2 (en) 2015-08-10 2018-09-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Transparent electrode using amorphous alloy and method of manufacturing the same
WO2021049870A1 (ko) * 2019-09-09 2021-03-18 주식회사 에스지플렉시오 전도성 광학 필름 및 이의 제조방법
KR20220023002A (ko) * 2020-08-20 2022-03-02 인하대학교 산학협력단 대면적 대전체 폴리머 필름, 그의 제조방법 및 그를 이용한 마찰전기 발전소자

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5546763B2 (ja) * 2005-08-12 2014-07-09 カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション ナノワイヤに基づく透明導電体
TWI426531B (zh) * 2006-10-12 2014-02-11 Cambrios Technologies Corp 以奈米線為主之透明導體及其應用
JP2011515510A (ja) * 2008-02-26 2011-05-19 カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション 導電性特徴をスクリーン印刷するための方法および組成物
KR101218758B1 (ko) * 2009-06-05 2013-01-07 한국과학기술연구원 실세스퀴옥산 폴리머 및 이의 합성 방법
EP2547735B1 (en) * 2010-03-19 2016-03-16 Carestream Health, Inc. Anti-corrosion agents for transparent conductive film
KR101675627B1 (ko) * 2011-04-28 2016-11-11 후지필름 가부시키가이샤 도전성 부재, 그 제조 방법, 터치 패널 및 태양 전지
KR101263194B1 (ko) * 2012-05-23 2013-05-10 주식회사 한국엔티켐 금속 나노구조체와 전도성 고분자로 이루어진 복수개의 혼합 도전층을 포함하는 투명 전도성 박막 및 이의 제조방법.

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10070515B2 (en) 2015-08-10 2018-09-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Transparent electrode using amorphous alloy and method of manufacturing the same
WO2021049870A1 (ko) * 2019-09-09 2021-03-18 주식회사 에스지플렉시오 전도성 광학 필름 및 이의 제조방법
KR20220023002A (ko) * 2020-08-20 2022-03-02 인하대학교 산학협력단 대면적 대전체 폴리머 필름, 그의 제조방법 및 그를 이용한 마찰전기 발전소자

Also Published As

Publication number Publication date
CN105593313A (zh) 2016-05-18
WO2015046843A1 (ko) 2015-04-02
CN105593313B (zh) 2018-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11814531B2 (en) Metal nanowire ink for the formation of transparent conductive films with fused networks
KR102543985B1 (ko) 전도막 및 이를 포함하는 전자 소자
KR102581899B1 (ko) 투명 전극 및 이를 포함하는 소자
KR102148154B1 (ko) 투명 전도성 막 코팅 조성물, 투명 전도성 막 및 투명 전도성 막의 제조 방법
US9674947B2 (en) Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
KR102004493B1 (ko) 사다리형 실세스퀴옥산 고분자를 포함하는 광학필름용 수지 조성물
EP3526801B1 (en) Stabilized sparse metal conductive films and solutions for delivery of stabilizing compounds
JP2018013785A (ja) ハードコーティングフィルム及びこれを備えたタッチセンサーを含むフレキシブルディスプレイウィンドウ
KR20150097498A (ko) 투명 전도성 필름용 항부식제
KR20150034993A (ko) 금속 나노와이어를 함유하는 전도성 코팅 조성물 및 이를 이용한 전도성 필름의 형성방법
KR20150118449A (ko) 자외선차단과 산화방지 기능을 갖고 있는 투명 전극 필름 오버 코팅용 광경화 코팅 조성물
KR20170072044A (ko) 코팅 조성물 및 이를 이용한 투명 도전막
KR101813752B1 (ko) 투명 도전체 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR101606578B1 (ko) 자외선 경화형 접착제 조성물
JP5157570B2 (ja) 重合性イミダゾール塩、その重合体および機能性膜
KR20220036226A (ko) 플렉서블 디스플레이 장치의 커버 윈도우 및 디스플레이 장치
KR20200009773A (ko) 크리스탈 바이올렛 및 은 나노 와이어를 포함하는 전도성 막 및 크리스탈 바이올렛 및 은 나노 와이어 잉크를 포함하는 전도성 막 형성용 조성물
KR101606577B1 (ko) 자외선 경화형 조성물
TW201517729A (zh) 軟性電子裝置以及其製備方式
JP2016126634A (ja) 透明導電性フィルム、タッチパネルおよび表示装置
JP2017149895A (ja) 樹脂組成物
KR20160005289A (ko) 투명 도전체, 이를 위한 투명 도전층용 조성물 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR20170067005A (ko) 수지 조성물 및 이를 포함하는 터치스크린 패널
KR20170003262A (ko) 도전성 적층체

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application