KR20160005289A - 투명 도전체, 이를 위한 투명 도전층용 조성물 및 이를 포함하는 광학표시장치 - Google Patents

투명 도전체, 이를 위한 투명 도전층용 조성물 및 이를 포함하는 광학표시장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기재층, 및 상기 기재층 상에 형성되고 도전성 물질을 포함하는 투명 도전층을 포함하고, 식 1의 채널 저항 편차 값이 30% 미만인 투명 도전체, 이를 위한 투명 도전층용 조성물 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.

Description

투명 도전체, 이를 위한 투명 도전층용 조성물 및 이를 포함하는 광학표시장치{TRANSPARENT CONDUCTOR, COMPOSITION FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER FOR THE SAME AND OPTICAL DISPLAY APPARATUS COMPRISING THE SAME}
본 발명은 투명 도전체, 이를 위한 투명 도전층용 조성물 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.
투명 도전체는 터치 패널, 태양 전지, 투명 디스플레이, E-paper 등에서 사용되고 있다. 투명 도전체는 에칭 등에 의해 x 방향과 y 방향으로 패턴화되어 채널을 형성한다. 투명 도전체의 면저항은 접촉식 또는 비접촉식으로 측정될 수 있고, 투명 도전체는 패턴화된 후에 균일한 면저항을 가져야 한다. 투명 도전층을 동일 면적의 복수개의 분획으로 나누고 각각의 분획에서 면저항을 측정하고 이로부터 얻은 복수개의 면저항으로부터 산출된 면저항 편차로 면저항의 균일도를 평가해 왔다.
인듐 주석 산화물(ITO), 금속 산화물 등의 도전성 물질을 포함하는 투명 도전체는 상기 도전성 물질이 연속성이 있으므로 배향성에 문제가 없어, 패턴화된 후에도 면저항은 균일할 수 있다. 그러나, 금속 나노와이어, 금속 나노로드, 금속 나노튜브, 금속 나노리본과 같은 도전성 물질은 투명 도전체 제조과정에서 코팅 및/또는 도포되는데, 이들의 코팅 방향을 MD(machine direction), MD에 수직인 방향을 TD(transverse direction)라고 할 때, 도전성 물질의 형상으로 인하여 배향성을 가짐으로써 MD와 TD의 채널 저항간에 편차가 생길 수 있고, 패턴화된 후에도 MD와 TD의 채널 저항 간에 편차가 생겨 채널 저항 균일도가 떨어질 수 있다. 또한, 종래 금속 나노와이어 포함 투명 도전체의 면저항을 줄이기 위한 방법이 제시되어 있으나 이는 전도도를 증가시키는 것으로 채널 저항 편차를 감소시키는데 한계가 있었다. 이와 관련하여, 미국공개특허 제2007/0074316호는 투명 도전체의 제조방법을 개시하고 있다.
본 발명의 목적은 채널 저항 편차가 낮은 투명 도전체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 면저항 편차가 낮은 투명 도전체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 간단한 방법으로 제조되어 채널 저항 균일도가 높고 면저항 편차가 낮은 투명 도전체를 제공하는 것이다.
본 발명의 투명 도전체는 기재층, 및 상기 기재층 상에 형성되고 도전성 물질을 포함하는 투명 도전층을 포함하고, 하기 식 1의 채널 저항 편차 값이 30% 미만이 될 수 있다:
<식 1>
채널 저항 편차 값 = (RTD - RMD)/RMD x 100
(식 1에서 RTD, RMD는 하기 발명의 상세한 설명에서 정의한 바와 같다)
본 발명의 투명 도전체용 조성물은 도전성 물질을 포함하고, 점도가 25℃에서 8cP 이하가 될 수 있다.
본 발명의 표시장치는 상기 투명 도전체를 포함할 수 있다.
본 발명은 채널 저항 균일도가 높은 투명 도전체를 제공하였고, 면저항 편차가 낮은 투명 도전체를 제공하였고, 간단한 방법으로 제조되어 채널 저항 편차와 면저항 편차가 낮은 투명 도전체를 제공하였다.
도 1은 본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 2는 본 발명 도전성 물질의 대표도이다.
도 3은 본 발명의 채널 저항 편차 값의 평가 방법의 모식도이다.
도 4는 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 5는 본 발명 또 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 6은 본 발명 일 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
도 7은 본 발명 다른 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
도 8은 본 발명 또 다른 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 의해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 본 명세서에서, '(메트)아크릴레이트'는 아크릴레이트 및/또는 메타아크릴레이트를 의미할 수 있다.
이하, 본 발명 일 실시예의 투명 도전체를 도 1을 참고하여 설명한다. 도 1은 본 발명 일 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명 일 실시예의 투명 도전체(100)는 기재층(110), 및 기재층(110) 상에 형성되고 도전성 물질을 포함하는 투명 도전층(120)을 포함하고, 투명 도전체(100)는 채널 저항 편차 값이 30% 미만이 될 수 있다.
종래 투명 도전체의 면저항 균일도는 투명 도전체를 접촉식 또는 비접촉식으로 면저항을 측정하거나, 투명 도전체를 동일 면적의 복수 개의 분획으로 분획하고 각각의 분획에서 측정된 면저항으로부터 면저항 편차를 계산하여 평가하였다. 그러나, 이 방법에 의해 면저항 균일도가 높은 투명 도전체라도 도전성 물질이 배향성이 있는 물질인 경우에는 도전성 물질의 코팅 방향인 MD(machine direction), 및 MD와 수직인 방향인 TD(transverse direction) 간의 저항이 균일하지 못하여, 기존 평가 방법만으로는 면저항 균일도의 신뢰성이 떨어질 수 있다. 즉, 도전성 물질이 배향되는 방향과 동일 방향의 패턴은 저항이 낮지만, 그와 수직인 방향의 패턴은 저항이 높아져, 저항 균일도가 떨어지게 된다. 또한, 투명 도전체를 패턴화한 후에도 저항 균일도가 낮아 광학표시장치에 사용시 문제점이 있을 수 있다.
도 2는 본 발명 도전성 물질의 배향성을 설명하기 위한 도전성 물질의 대표도이다. 도 2를 참조하면, 도전성 물질(121)은 최단변(d) 대비 최장변(L)이 현저하게 커서 도전성 물질은 최장변 방향으로 주로 코팅되며 이를 배향성이라고 정의하였다. 구체적으로, 도전성 물질의 최단변에 대한 최장변의 비(aspect ratio)는 10 내지 2000, 구체적으로 10 내지 1000이 될 수 있다.
채널 저항 균일도(uniformity of conducting channel resistance)는 투명 도전층 중 도전성 물질이 코팅된 방향을 MD, MD에 수직인 방향을 TD라고 할 때, MD와 TD 간의 선저항의 균일도를 평가한 값으로, 선저항의 균일도가 높을수록 투명 도전체 또는 패턴화된 투명 도전체의 저항 편차를 낮추어 신뢰성을 높일 수 있다.
도 3은 본 발명의 채널 저항 편차 값의 평가 방법의 모식도이다. 도 3을 참조하면, 본 명세서에서 "채널 저항 편차 값"은 투명 도전체(100) 또는 패턴화된 투명 도전체에 대하여, 투명 도전층 중 도전성 물질이 코팅된 방향을 MD, MD에 수직인 방향을 TD라고 할 때, MD가 장변인 직사각형의 제1시편(122)의 MD 방향 선저항을 RMD(단위:Ω), TD가 장변인 직사각형의 제2시편(124)의 TD 방향 선저항을 RTD(단위:Ω)라고 할 때, 하기 식 1로 계산되는 값이 될 수 있다:
<식 1>
채널 저항 편차 값 = (RTD - RMD) / RMD x 100
RMD와 RTD는 도전성 물질의 배향 방향에만 영향을 받고, 각각 제1시편과 제2시편의 크기에는 영향을 받지 않는다. 제1시편, 제2시편은 각각 장변 x 단변(70mm x 4mm)의 직사각형 시편 또는 장변 x 단변(30mm x 50㎛)의 직사각형 시편이 될 수 있다. 채널 저항 편차 값이 낮을수록 채널 저항 균일도가 높다. 장변 x 단변(30mm x 50㎛)의 직사각형 시편은 투명 도전체를 에칭으로 패터닝하여 제조될 수 있다. 도 3에서 MD와 TD는 직교한다.
채널 저항 편차 값이 30% 미만일 때, 투명 도전층의 면저항 편차가 20% 이하로 낮아져 투명 도전체로 사용할 수 있고, 투명 도전체를 패턴화하여 표시장치에 사용시 채널의 각도별로 채널 저항(선저항)의 편차가 발생하지 않아 장치 구동에 문제가 없을 수 있다. 구체적으로, 채널 저항 편차 값은 1 내지 20%가 될 수 있다.
투명 도전체(100)는 가시광선 영역 예를 들면 파장 380-700nm에서 투명성을 가질 수 있다. 구체예에서, 투명 도전체는 파장 380-700nm에서 헤이즈 미터로 측정된 헤이즈가 1.5% 이하, 구체적으로 0.01-1.5%이고, 전광선 투과율이 88% 이상, 구체적으로 90-95%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 투명 도전체로 사용될 수 있다.
투명 도전체(100)는 4-프로브로 측정된 면저항이 150(Ω/□) 이하, 구체적으로 50-150(Ω/□), 더 구체적으로 50-100(Ω/□)이 될 수 있다. 상기 범위에서, 면저항이 낮아 터치패널용 전극 필름으로 사용할 수 있고, 대면적 터치패널에 적용될 수 있다.
투명 도전체(100)는 투과 b* 값이 0.6 내지 1.6이 될 수 있고, 상기 범위에서 yellowish가 감소되어 패턴 시인성이 감소되는 효과가 있을 수 있다. 투과 b* 값은 폴리카보네이트 기재필름(두께:50㎛)에 투명도전층(두께:100nm)이 적층된 투명 도전체 또는 선택적으로 오버코팅층(두께:100nm)이 투명도전층 위에 더 적층된 투명도전체에 대해 파장 380nm 내지 780nm의 가시광선에서 색차 측정기 CM3600D(Konica Minolta社, CIE Lab에 의함)를 사용하여 측정할 수 있지만, 기재필름의 재질과 두께, 투명도전층의 두께, 오버코팅층의 두께(50 내지 150nm), 파장을 변경하더라도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.
투명 도전체(100)는 두께가 10 내지 100㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서, 투명 도전체를 투명 전극 필름으로 사용할 수 있다.
기재층(100)은 투명 도전층을 지지하는 것으로, 광학적으로 투명한 필름이 될 수 있고, 구체적으로 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에스테르 나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르, 폴리올레핀, 시클릭올레핀폴리머, 폴리술폰, 폴리이미드, 실리콘(silicone), 폴리스티렌, 폴리아크릴, 폴리비닐클로라이드 중 하나 이상의 수지로 형성된 필름이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
기재층(100)은 두께가 10 내지 100㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서, 투명 도전체를 투명 전극 필름으로 사용할 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 기재층의 일면 또는 양면에는 기능성 층이 더 적층될 수 있고, 기능성 층으로는 하드코팅층, 부식방지층, anti-glare 코팅층, adhesion promoter, 올리고머 용출 방지층 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
투명 도전층(120)은 기재층(110) 상에 형성되고 도전성 물질을 포함하여, 투명 도전체에 도전성을 부여한다.
도전성 물질은 도전성 금속으로 형성되고, 도 2의 배향성을 갖는 물질이 될 수 있는데, 구체적으로 금속 나노와이어(nanowire), 금속 나노로드(nanorod), 금속 나노튜브(nanotube), 금속 나노리본(nanoribbon) 중 하나 이상의 형태를 취할 수 있고, 도전성 금속은 은, 구리, 금 또는 이들의 혼합 금속이 될 수 있다. 구체적으로, 도전성 물질은 금속 나노와이어가 될 수 있다. 금속 나노와이어는 투명 도전층에 포함시 양호한 유연성(flexibility)과 굴곡성을 제공할 수도 있다.
금속 나노와이어는 금속 나노와이어 단면의 직경(d, 단변)에 대한 나노와이어 길이(L, 장변)의 비(L/d, aspect ratio)는 10 내지 2,000이 될 수 있다. 상기 범위에서, 낮은 나노와이어 밀도에서도 높은 전도성 네트워크를 구현할 수 있고, 투명 도전체의 면저항이 낮아질 수 있다. 구체적으로 aspect ratio는 500 내지 1,000, 더 구체적으로 500 내지 700이 될 수 있다.
금속 나노와이어는 단면의 직경(d)이 0 초과 100nm 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 L/d를 확보하여 전도성이 높고 면저항이 낮은 투명 도전체를 구현할 수 있다. 구체적으로 30nm-100nm, 더 구체적으로 60nm-100nm가 될 수 있다.
금속 나노와이어는 길이(L)가 20㎛ 이상이 될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 L/d를 확보하여 전도성이 높고 면저항이 낮은 도전성 필름을 구현할 수 있다. 구체적으로 20㎛-50㎛가 될 수 있다.
투명 도전층(120)의 두께는 60 내지 200nm가 될 수 있고, 상기 범위에서 투명 도전체에 사용할 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 투명 도전층의 전체 또는 일부는 패턴화될 수 있다. 그 결과, 투명 도전체를 표시장치 등에서 투명 전극 필름으로 사용하게 할 수 있다. 투명 도전층의 패턴화는 습식 에칭 등에 의해 수행될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 투명 도전층이 패턴화되더라도 채널 저항 편차 값은 30% 미만이 될 수 있다.
본 발명 일 실시예의 투명 도전체는 본 발명 일 실시예의 투명 도전층용 조성물로 제조될 수 있다. 이하, 본 발명 일 실시예의 투명 도전층용 조성물 및 투명 도전체의 제조방법에 대해 상세히 설명한다.
본 발명 일 실시예의 투명 도전층용 조성물은 도전성 물질을 포함하고, 점도가 25℃에서 8cP 이하가 될 수 있다. 점도가 8cP 이하일 때, 도전성 물질의 배향성에 의한 MD와 TD간의 선저항의 편차를 완화하여 채널 저항 균일도를 낮출 수 있다. 따라서, 본 발명은 점도만을 제어하여 채널 저항 균일도가 낮은 투명 도전체를 간단한 방법으로 제조할 수 있다. 구체적으로, 점도는 25℃에서 1 내지 6cP가 될 수 있다.
도전성 물질은 상기 금속 나노와이어, 금속 나노로드, 금속 나노튜브, 금속 나노리본 중 하나 이상, 구체적으로 금속 나노와이어가 될 수 있고, 투명 도전체용 조성물 중 10 내지 50중량%, 구체적으로 20 내지 40중량%로 포함될 수 있고, 상기 범위에서 도전성 효과를 구현하고, 채널 저항 편차 값을 낮출 수 있다.
도전성 물질은 도전성 물질 단독으로 포함될 수도 있고, 상업적으로 판매되는 제품에 따라 도전성 물질과 바인더의 혼합물로 포함될 수 있다. 도전성 물질과 바인더의 혼합물은 투명 도전체용 조성물 중 10 내지 50중량%, 구체적으로 20 내지 40중량%로 포함될 수 있고, 상기 범위에서 도전성 효과를 구현하고, 채널 저항 균일도를 높일 수 있다.
투명 도전체용 조성물의 점도는 투명 도전체용 조성물에 포함되는 용제, 점도 조절제 등의 첨가제 등의 종류 및/또는 함량을 제어하여 달성될 수 있다. 용제, 첨가제는 당업자들에게 통상적으로 알려진 것을 사용할 수 있으며, 하기 용제, 첨가제에 대한 설명은 단지 예시에 불과한 것이다.
용제는 극성 용제, 비극성 용제, 또는 이들의 조합이 될 수 있고, 또는 수계 용제, 유기 용제, 또는 이들의 조합이 될 수 있고, 또는 25℃에서 점도 0.5 cP 이상 내지 1.5cP 이하의 저점도 용제, 25℃에서 점도 1.5cP 초과 내지 4cP 이하의 고점도 용제, 또는 이들의 조합이 될 수 있다. 구체적으로, 용제는 탈이온수 등을 포함하는 물, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올 등의 C1 내지 C5의 알칸올; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드; 아세톤, 디아세톤 알코올 등의 케톤과 케톤 알코올; 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 C2 내지 C4의 에테르; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 펜틸렌글리콜, 헥실렌글리콜 등의 C2 내지 C6의 알킬렌기를 갖는 알킬렌글리콜 또는 티오글리콜; 디에틸렌글리콜, 티오디글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리(알킬렌글리콜) 또는 폴리(티오글리콜); 글리세롤, 1,2,6-헥산트리올 등의 폴리올; 2-메톡시에탄올, 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-(2-부톡시에톡시)에탄올 등의 폴리글리콜에테르; 시클릭 에스테르; 시클릭 아미드; 피롤리돈; 술폴란(sulpholane) 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 용제는 투명 도전체용 조성물 중 고형분을 제외한 잔량으로 포함될 수 있고, 예를 들면 45 내지 75중량%로 포함될 수 있다.
점도 조절제는 통상의 점도 조절제를 사용될 수 있는데, 히드록시에틸셀룰로스, 히드록시프로필셀룰로스, 히드록시에틸메틸셀룰로스, 카복시메틸셀룰로스 등의 수용성 또는 수분산성 고분자, 폴리스티렌술포네이트 등의 술포네이트, 폴리스티렌술포네이트 소듐염 등의 술포네이트 알칼리 금속염, 폴리비닐알콜, 퍼플로우르알킬 에틸렌 옥사이드계의 불소 계면활성제 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있다. 점도 조절제는 투명 도전체용 조성물 중 0.05 내지 15중량%, 구체적으로 0.1 내지 15중량%로 포함될 수 있고, 상기 범위에서 투명 도전체의 채널 저항 편차 값이 낮아질 수 있다.
본 발명 일 실시예의 투명 도전체는 기재층 상에 투명 도전체용 조성물을 코팅하고, 건조시켜 제조될 수 있다. 구체적으로, 투명 도전체용 조성물은 두께 60 내지 200nm로 코팅될 수 있고, 코팅 방법은 제한되지 않지만 바 코팅, 슬롯 다이 코팅, 그라비아 코팅 등을 사용할 수 있다. 건조는 60 내지 150℃에서 10초 내지 10분 수행될 수 있고, 건조는 1회 이상 수행될 수 있다. 따라서, 본 발명 일 실시예의 투명 도전체는 점도만을 제어하여 간단한 방법으로 제조될 수 있다.
이하, 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체를 도 4를 참고하여 설명한다. 도 4는 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 4를 참고하면, 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체(200)는 기재층(110), 기재층(110) 상에 형성되고 도전성 물질을 포함하는 투명 도전층(120), 및 투명 도전층(120) 상에 형성된 오버코팅층(130)을 포함하고, 투명 도전체(200)는 채널 저항 편차 값이 30% 미만이 될 수 있다. 투명 도전층(120) 상에 오버코팅층(130)이 더 형성된 점을 제외하고는 본 발명 일 실시예의 투명 도전체와 실질적으로 동일하므로, 이에 이하에서는 오버코팅층에 대해 설명한다.
오버코팅층(130)은 도전성 물질의 외부 환경에 의한 산화를 방지하고, 투명 도전층(120)과 기재층(110) 간의 접착력을 높일 수 있다. 오버코팅층(130)은 자외선 경화형 또는 열 경화형 수지, 자외선 경화형 또는 열 경화형 모노머 중 하나 이상 및 개시제를 포함하는 오버코팅층용 조성물로 형성될 수 있고, 구체적으로 우레탄 (메타)아크릴레이트와 개시제를 포함하는 오버코팅층용 조성물, 또는 1관능 내지 6관능의 (메타)아크릴레이트 모노머 또는 그의 올리고머를 포함하는 바인더와 개시제를 포함하는 오버코팅층용 조성물로 형성될 수 있다.
일 구체예에서, 오버코팅층용 조성물은 고형분 기준 6관능 모노머 50 내지 70중량%, 3관능 모노머 10 내지 30중량%, 개시제 1 내지 15중량%, 부착증진제 1 내지 15중량%, 산화방지제 0.01 내지 5중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서 투명 도전체의 투과도와 신뢰성을 높이고, 투명 도전층이 노란색으로 색이 왜곡되어 보이는 현상을 막을 수 있다.
6관능 모노머는 (메트)아크릴레이트기를 갖는 6관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 구체적으로 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 6관능 모노머가 될 수 있다. 특히, 오버코팅층은 우레탄기를 갖지 않는 비-우레탄계 6관능 모노머를 포함함으로써 금속나노와이어의 나노 메쉬 구조 내에 경화물의 적층이 조밀해지고 기재층에 대한 부착성이 향상될 수 있다. 6관능 모노머는 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
3관능 모노머는 (메트)아크릴레이트기를 갖는 3관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 오버코팅층은 우레탄기를 갖지 않는 비-우레탄계 3관능 모노머를 포함함으로써 금속 나노와이어의 나노 메쉬 구조 내에 경화물의 적층이 조밀해지고 기재층에 대한 부착성이 향상될 수 있는데, 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머, 알콕시기로 개질된 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머는 보다 구체적으로 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 알콕시기로 개질된 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 3관능 모노머는 알콕시기를 갖지 않는 3관능 모노머 대비 투명 도전체의 투과도, 신뢰성을 더 높일 수 있고, 투과 b* 값을 낮추어 투명 도전층이 노란색으로 왜곡되어 보이는 현상을 막을 수 있다. 구체적으로, 알콕시기(예:탄소수 1-5의 알콕시기)를 갖는 3관능 모노머는 에톡시화된 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화된 글리세릴트리(메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
6관능 모노머와 3관능 모노머는 경화되어 오버코팅층을 형성하지만, 3관능 모노머가 6관능 모노머보다 지나치게 많을 경우 기재층과의 부착성이 약해지고 신뢰성이 낮아질 수 있어서 6관능 모노머와 3관능 모노머의 배합 비율을 제어해야 한다. 구체적으로, 6관능 모노머:3관능 모노머는 오버코팅층용 조성물 중 2:1 내지 5:1, 구체적으로 2:1 내지 3.5:1의 중량비로 포함될 수 있고, 상기 범위에서, 투명 도전체의 투과도, 신뢰성이 높아질 수 있다.
부착증진제는 투명 도전층에 대한 오버코팅층의 부착을 증진시킴과 동시에 투명 도전체의 신뢰성을 높일 수 있는데, 실란커플링제, 2관능 모노머 중 하나 이상을 사용할 수 있다. 실란커플링제는 통상의 알려진 실란커플링제를 사용할 수 있는데, 구체적으로 3-글리시드옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시드옥시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물; 비닐 트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, (메타)아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물; 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸 디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 및 3-클로로프로필 트리메톡시실란 중 하나 이상을 사용할 수 있다. 특히, 오버코팅층은 실란커플링제를 특정 함량으로 포함함으로써 투명 도전체와 기재층의 부착력이 높도록 할 수 있다. 구체예에서, 투명 도전체 중 실리콘(Si)의 함량은 구체적으로 0.01 내지 0.2중량%, 보다 구체적으로 0.02 내지 0.1중량%로 포함될 수 있고, 상기 범위에서 투명 도전층의 도전성에 영향을 주지 않고 부착성을 높일 수 있다. 2관능 모노머는 (메트)아크릴레이트기를 갖는 2관능 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 구체적으로 탄소수 3 내지 20의 다가알코올의 2관능 모노머, 보다 구체적으로 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 헥산디올디(메타)아크릴레이트, 사이클로데칸디메탄올 디(메타)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
산화방지제는 투명 도전층의 금속 나노와이어 네트워크의 산화를 방지할 수 있는데, 인계 산화방지제, HALS(Hinder amine light stabilizer)계 산화방지제, 페놀계 산화방지제 중 하나 이상, 예를 들면 2종 이상을 혼합하여 사용함으로써 금속 나노와이어의 산화를 막고 신뢰성을 높일 수 있다. 일 구체예에서, 산화방지제는 인계와 페놀계의 혼합물, 인계와 HALS계의 혼합물, 또는 페놀계와 HALS계의 혼합물을 사용할 수 있다. 일 실시예에서, 투명 도전체는 인계 산화방지제를 특정 함량으로 포함함으로써 투명 도전층의 도전성에 영향을 주지 않고, 투과 b*값을 낮출 수 있는데, 투명 도전체 중 인(P)은 0.001 내지 0.05중량%, 구체적으로 0.001 내지 0.01중량%로 포함될 수 있고, 상기 범위에서, 투명 도전층의 도전성에 영향을 주지 않고, 투과 b*값을 낮출 수 있다.
예를 들면, 인계 산화방지제는 트리스(2,4-디터트부틸페닐)포스파이트, 페놀계 산화방지제는 펜타에리트리톨테트라키스(3-(3,5-디-터트부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트가 될 수 있고, HALS계 산화방지제는 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-5-피페리디닐)세바케이트, 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-1-피페리딘-에탄올을 갖는 디메틸숙시네이트 공중합체, 2,4-비스[N-부틸-N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)아미노]-6-(2-히드록시에틸아민)-1,3,5-트리아진 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
개시제는 통상의 광중합 개시제로서 알파-히드록시케톤 계열로서, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 또는 이를 포함하는 혼합물을 사용할 수 있다.
오버코팅층(130)의 두께는 50 내지 150nm가 될 수 있고, 상기 범위에서 투명 도전체에 사용될 수 있다.
본 발명 다른 실시예의 투명 도전체는 기재층 상에 투명 도전체용 조성물을 코팅하고, 1차 건조시키고, 오버코팅층용 조성물을 코팅하고 2차 건조 및 경화시켜 제조할 수 있다. 구체적으로, 투명 도전체용 조성물은 두께 60 내지 200nm로 코팅될 수 있고, 코팅 방법은 제한되지 않지만 바 코팅법을 사용할 수 있다. 1차 건조는 60 내지 150℃에서 10초 내지 10분 수행될 수 있고, 건조는 1회 이상 수행될 수 있다. 오버코팅층용 조성물은 두께 50 내지 150nm로 코팅될 수 있고, 코팅 방법은 제한되지 않지만 스핀 코팅법을 사용할 수 있다. 2차 건조는 60 내지 150℃에서 10초 내지 10분 수행될 수 있고, 2차 건조는 1회 이상 수행될 수 있다. 경화는 UV 경화로 500mJ/cm2 이상의 광 조사에 의해 수행될 수 있다. 따라서, 본 발명 일 실시예의 투명 도전체는 점도만을 제어하여 간단한 방법으로 제조될 수 있다.
이하, 본 발명 또 다른 실시예의 투명 도전체를 도 5를 참고하여 설명한다. 도 5는 본 발명 또 다른 실시예의 투명 도전체의 단면도이다.
도 5를 참고하면, 본 발명 또 다른 실시예의 투명 도전체(300)는 기재층(110), 기재층(110) 상에 형성되고 도전성 물질(121)을 포함하는 도전성 물질 함유 투명 도전층(120a)과 도전성 물질을 포함하지 않는 도전성 물질 비함유 투명 도전층(120b)을 포함하는 패턴화된 투명 도전층(120'), 및 투명 도전층(120') 상에 형성된 오버코팅층(130)을 포함하고, 투명 도전체(300)는 채널 저항 편차 값이 30% 미만이 될 수 있다. 투명 도전층이 패턴화된 것을 제외하고는 본 발명 다른 실시예의 투명 도전체와 실질적으로 동일하다. 패턴화는 습식 에칭 등에 의해 수행될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 장치는 본 발명의 투명 도전체를 포함할 수 있고, 구체적으로 터치스크린패널, 플렉시블(flexible) 디스플레이 등을 포함하는 광학 표시 장치, E-paper, 또는 태양 전지 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
도 6 내지 도 8은 본 발명 실시예의 광학표시장치의 단면도이다.
도 6을 참조하면, 본 발명 일 실시예의 광학표시장치(400)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성된 제1전극(255)과 제2전극(260), 및 기재층(110)의 하부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 투명 전극체(230), 제1전극(255)과 제2전극(260)의 상부에 형성된 윈도우 글라스(205), 제3전극(265)과 제4전극(270)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성되고 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), TFT 글라스(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함하고, 투명 전극체(230)는 본 발명 실시예의 투명 도전체로 형성될 수 있다.
투명 전극체(230)는 본 발명 실시예의 투명 도전체에서 투명 도전층(120)을 각각 소정의 방법(예:에칭 등)으로 패터닝하여 제1전극, 제2전극, 제3전극, 제4전극을 형성함으로써 제조된 것일 수 있다. 제1전극(255)과 제2전극(260)은 Rx 전극, 제3전극(265)과 제4전극(270)은 Tx 전극이 될 수 있고, 그 역의 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다. 윈도우 글라스(205)는 광학표시장치에서 화면 표시 기능을 수행하는 것으로, 통상의 유리 재질로 제조될 수 있다. 제1편광판(235), 제2편광판(250)은 광학표시장치에 편광 성능을 부여하기 위한 것으로, 외부광 또는 내부광을 편광시킬 수 있고, 편광자, 또는 편광자와 보호필름의 적층체를 포함할 수 있고, 편광자, 보호필름은 편광판 분야에서 알려진 통상의 것을 포함할 수 있다. 윈도우 글라스(205)와 투명 전극체(230) 사이 및 투명 전극체(230)와 제1 편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212)을 부가함으로써, 투명 전극체(230), 윈도우 글라스(205), 제1편광판(235) 간의 결합을 유지할 수 있다. 점착 필름(210, 212)은 통상의 점착 필름으로서, 예를 들면 OCA(optical clear adhesive) 필름이 될 수 있다.
도 7을 참조하면, 본 발명 다른 실시예의 광학표시장치(500)는 기재층(110), 기재층(110)의 상부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 투명 전극체(330), 제3전극(265)과 제4전극(270)의 상부에 형성되고 하부면에 제1전극(255)과 제2전극(260)이 형성된 윈도우 글라스(205), 투명 전극체(330)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성된 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스를 포함하는 패널(245), TFT 글라스(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함하고, 투명 전극체(330)는 본 발명 실시예의 투명 도전체로 형성될 수 있다.
투명 전극체(330)는 본 발명 실시예의 투명 도전체에서 투명 도전층(120)을 소정의 방법으로 패터닝하여 제3전극(265), 제4전극(270)을 형성함으로써 제조된 것일 수 있다. 제2편광판(250), CF 글라스(240), TFT 글라스(245) 및 제1편광판(235)을 투과한 빛에 대한 광 효율을 높일 수 있다. 제1전극(255)과 제2전극(260)은 통상의 전극 형성 방법을 채용하여 형성할 수 있다. 윈도우 글라스(205)와 투명 전극체(330) 사이 및 투명 전극체(330)와 제1 편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212)을 부가함으로써, 투명 전극체, 윈도우 글라스, 제1편광판 간의 결합을 유지할 수 있다.
도 8을 참조하면, 본 발명 또 다른 실시예의 광학표시장치(600)는 제1기재층(110a), 제1기재층(110a)의 상부면에 형성된 제1전극(255)과 제2전극(260)을 포함하는 제1투명 전극체(430a), 제1투명 전극체(430a)의 하부에 형성되고, 제2기재층(110b), 제2기재층(110b)의 상부면에 형성된 제3전극(265)과 제4전극(270)을 포함하는 제2투명 전극체(430b), 제2투명 전극체(330b)의 하부에 형성된 제1편광판(235), 제1편광판(235)의 하부면에 형성된 CF(COLOR FILTER) 글라스(240), CF 글라스(240)의 하부면에 형성된 TFT(THIN FILM TRANSISTOR) 글라스(245), TFT 글라스(245) 하부면에 형성된 제2편광판(250)을 포함하고, 제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b)는 본 발명 실시예의 투명 도전체로 형성될 수 있다.
제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b)는 본 발명 실시예의 투명 도전체에서 투명 도전층(120)을 소정의 방법으로 패터닝하여 제1전극, 제2전극 제3전극, 제4전극을 형성함으로써 제조된 것일 수 있다. 제1투명 전극체(430a)와 윈도우 글라스(205) 사이, 제1투명 전극체(430a)와 제2투명 전극체(430b) 사이, 및 제2 투명 전극체(430b)와 제1 편광판(235) 사이에는 각각 점착 필름(210, 212, 214)을 부가함으로써, 투명 전극체, 윈도우 글라스, 제1편광판 간의 결합을 유지할 수 있다. 점착 필름(210, 212, 214)은 통상의 점착 필름으로서, 예를 들면 OCA(optical clear adhesive) 필름이 될 수 있다. 또한, 도 6 내지 도 8에서 도시되지 않았지만, 제1기재층, 제2기재층 또는 기재층은 수지 필름이 접착제 등에 의해 적층된 형태가 될 수도 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
실시예 1
기재층(폴리카보네이트 필름, Teijin Chemical)에 하기 표 1의 점도 및 조성을 갖는 투명 도전층용 조성물을 바 코팅으로 코팅하고, 80℃ 오븐에서 90초, 140℃ 오븐에서 90초 건조하여 투명 도전체를 제조하였다. 투명 도전층용 조성물은 은 나노와이어 함유 용액(Clearohm-A G4-05, Cambrios사, 은 나노와이어와 바인더를 포함), 탈이온수, 첨가제인 perfluoroalky ethylene oxide계 계면활성제(F-444, DIC사)를 사용하여 제조하였다. 첨가제는 탈이온수에 1%로 희석하여 첨가하였다.
실시예 2
투명 도전층용 조성물은 은 나노와이어 함유 용액(Clearohm-A G4-05, Cambrios사, 은 나노와이어와 바인더를 포함), 탈이온수, 첨가제인 perfluoroalky ethylene oxide계 계면활성제(F-444, DIC사)를 사용하여 제조하였다. 첨가제는 탈이온수에 1%로 희석하여 첨가하였다.
디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(SK CYTEC사) 65.4중량부, 에톡시화된 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(SARTOMER사) 20.8중량부, 페놀계 산화방지제 Irganox 1010과 인계 산화방지제 Irgafos 168(BASF사) 혼합물 1.3중량부, 부착증진제 KBE-903(SHIN-ETSU사) 8.6중량부, 개시제 Irgacure 184(CIBA사) 4.3중량부를 포함하는 100.4중량부의 혼합물 중 1중량부를 이소프로필 알콜 49.5중량부와 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 49.5중량부에 첨가하여 오버코팅층용 조성물을 제조하였다.
기재층(폴리카보네이트 필름, Teijin Chemical)에 하기 표 1의 점도 및 조성을 갖는 투명 도전층용 조성물을 바 코팅으로 코팅하고, 80℃ 오븐에서 90초, 140℃ 오븐에서 90초 건조하였다. 그런 다음, 오버코팅층용 조성물을 200-450-200rpm 3-10-3 sec 조건으로 스핀 코팅으로 코팅하고, 80℃ 오븐에서 90초 건조시킨 후 , 120℃ 오븐에서 90초 건조시키고, 500mJ/cm2으로 UV 경화시켜 투명 도전체를 제조하였다.
실시예 3
실시예 2에서, 투명 도전층용 조성물을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.
실시예 4 내지 6
실시예 1에서, 투명 도전층용 조성물 중 은 나노와이어와 바인더의 함량, 첨가제의 종류 및 함량을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.
비교예 1과 2
실시예 2에서, 투명 도전층용 조성물 제조시 탈이온수 대신에 이소프로판올을 사용하고, 투명 도전층용 조성물의 조성을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 투명 도전체를 제조하였다.
실시예와 비교예의 투명 도전체에 대해 하기 표 1의 물성을 평가하였다.
실시예 1 실시에 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6 비교예 1 비교예 2
도전층용 조성물 중 은나노와이어와 바인더의 함량
(중량%)		 30.61 30.61 36.73 36.55 36.37 35.63 30.6 36.7
도전층용 조성물 중 총 용제의 함량(중량%) 69.24 69.24 63.09 61.2 59.13 50.87 69.4 63.3
도전층용 조성물 중 첨가제의 함량
(중량%)		 perfluoroalkyl ethylene oxide계면활성제 0.15 0.15 0.18 - - - - -
폴리스티렌술포네이트 소듐염 - - - 2.25 4.5 13.5 - -
점도(25℃, cP) 4.18 4.18 5.66 3.53 3.6 3.96 8.67 11.1
Haze(%) 0.8 1.05 0.99 1.07 1.21 1.34 0.88 1.08
전광선 투과율(%) 88.62 90.51 90.53 91.01 90.99 91.14 90.535 90.11
투과 b* 0.67 0.91 0.86 1.08 1.13 1.4 1.52 1.82
면저항(Ω/□) 42.77 49.25 48.77 48.06 57.05 56.72 48.505 39.42
면저항 편차(%) 9 10 9 8 9 9 30 28
채널 저항 편차 값 1(%) 14 13 16 11 8 22 49 160
채널 저항 편차 값 2(%) 15 12 20 11 8 22 51 168
상기 표 1에서 나타난 바와 같이, 본 발명의 투명 도전체는 헤이즈가 낮고, 전광선 투과율이 높으며 투과 b*값도 낮아 광학적 특성이 우수할 뿐만 아니라, 채널 저항 편차 값이 패터닝 전과 후 모두 낮아 도전성이 균일한 투명 전극을 구현할 수 있다. 반면에, 본 발명의 투명 도전체용 조성물의 점도 범위를 벗어나는 비교예 1, 2는 채널 저항 편차 값이 높음을 확인하였다.
(1)점도: 투명 도전층용 조성물에 대해 rotational viscometer (25℃ cone and plate 점도계 DVII+Pro, Brookfield사)를 이용하여 25℃에서 측정하였다.
(2)광특성(헤이즈, 전광선 투과율, 투과 b*(yellowish)): 투명 도전층(오버코팅층) 면이 광원을 항하도록 거치하고, 파장 380 내지 780nm에서 헤이즈 미터(Nippon denshoku사, NDH-2000)와 스펙트로포토미터(Konika Minolta사, CM3600D, illuminant D65, observer 2도)를 사용하여 측정하였다.
(3)면저항: 투명 도전층(또는 오버코팅층) 면에 대해 비접촉식 면저항 측정기(Napson사, EC-80P)를 사용하여 측정하였다.
(4)면저항 편차: 투명 도전층(오버코팅층) 면에 대해 동일 면적의 5개 분획으로 나누고 각 분획에서 비접촉식 면저항 측정기(Napson사, EC-80P)를 사용하여 면저항을 측정하고, 측정값 중 (면저항 최대값 - 면저항 평균값)/(면저항 평균값) x 100으로 평가하였다.
(5)채널 저항 편차 값 1: 투명 도전체에 있어서, 투명 도전층용 조성물의 코팅 방향을 MD, MD에 수직인 방향을 TD라고 할 때, MD가 장변인 장변 x 단변(70mm x 4mm)의 직사각형 제1시편을 커팅하여 얻었다. 또한, TD가 장변인 장변 x 단변(70mm x 4mm)의 직사각형 제2시편을 커팅하여 얻었다. 제1시편과 제2시편 각각에 대해 멀티미터(Sanwa社, CD800a)를 사용하여 선저항을 각각 측정하여 MD 선저항과 TD 선저항을 구하고, 채널 저항 편차 값은 상기 식 1로 계산하였다.
(6)채널 저항 편차 값 2: 투명 도전체를 포토리토그래피 방식으로 습식 에칭하였다. 구체적으로, 투명 도전체에 포지티브 포토레지스트(동우화인켐 SS03A9)을 코팅하고, 120℃에서 180초 동안 소프트 베이킹(soft baking)하고, i-line 200mJ/cm2으로 마스크 노광하고, 120℃에서 60초 동안 하드 베이킹(hard baking)하고, TMAH(테트라메틸암모늄히드록시드) 5% 용액으로 25℃에서 10초 동안 현상하고, PMA-3A(Soulbrain사)를 에칭액으로 사용하여 45℃에서 60초 동안 에칭하고, 스트리핑하였다. 에칭된 후 남아 있는 투명 도전체 부분으로부터 채널 저항 균일도를 평가하였다. 투명 도전층용 조성물의 코팅 방향을 MD, MD에 수직인 방향을 TD라고 할 때, MD가 장변인 장변 x 단변(30mm x 50㎛)의 직사각형의 제1시편(패턴된 채널)과 TD가 장변인 장변 x 단변(30mm x 50㎛)의 직사각형의 제2시편(패턴된 채널)을 얻었다. 제1시편과 제2시편 각각에 대해 멀티미터(Sanwa社, CD800a)를 사용하여 선저항을 각각 측정하여 MD 선저항과 TD 선저항을 구하고, 채널 저항 편차 값은 상기 식 1로 계산하였다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (10)

  1. 기재층, 및 상기 기재층 상에 형성되고 도전성 물질을 포함하는 투명 도전층을 포함하고,
    하기 식 1의 채널 저항 편차 값이 30% 미만인 투명 도전체:
    <식 1>
    채널 저항 편차 값 = (RTD - RMD) / RMD x 100
    (상기 식 1에서, 상기 투명 도전층 중 상기 도전성 물질이 코팅된 방향을 MD, MD에 수직인 방향을 TD라고 할 때, RMD(단위:Ω)는 MD가 장변인 직사각형인 제1시편의 MD 방향 선저항이고, RTD(단위:Ω)는 TD가 장변인 직사각형인 제2시편의 TD 방향 선저항이다).
  2. 제1항에 있어서, 상기 투명 도전체는 투과 b* 값이 0.6 내지 1.6인 투명 도전체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 도전성 물질은 금속 나노와이어(nanowire), 금속 나노로드(nanorod), 금속 나노튜브(nanotube), 금속 나노리본(nanoribbon) 중 하나 이상을 포함하는 투명 도전체.
  4. 제3항에 있어서, 상기 금속 나노와이어는 은 나노와이어인 투명 도전체.
  5. 제1항에 있어서, 상기 기재층은 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 시클릭올레핀폴리머, 폴리술폰, 폴리이미드, 실리콘, 폴리스티렌, 폴리아크릴, 폴리비닐클로라이드 중 하나 이상의 수지로 형성된 필름인 투명 도전체.
  6. 제1항에 있어서, 상기 투명 도전층 상에 오버코팅층이 더 형성된 투명 도전체.
  7. 제1항에 있어서, 상기 투명 도전층은 패턴화된 투명 도전체.
  8. 도전성 물질을 포함하고,
    점도가 25℃에서 8cP 이하인 투명 도전층용 조성물.
  9. 제8항에 있어서, 상기 도전성 물질은 금속 나노와이어, 금속 나노로드, 금속 나노튜브, 금속 나노리본 중 하나 이상을 포함하는 투명 도전층용 조성물.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 투명 도전체를 포함하는 광학표시장치.
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