KR20150022712A - 광학 필름, 편광판, 편광판의 제조 방법, 및 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 필름, 편광판, 편광판의 제조 방법, 및 화상 표시 장치 Download PDF

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optical film
polarizing plate
resin
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가츠미 사사타
다이키 와키자카
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후지필름 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층과 하드 코트층의 밀착성이 우수하고, 또한 투습도가 낮고, 또한 표면 고도가 높은 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치, 및 그 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것.
(해결 수단) 광학 필름은, (A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층과, (B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층을 갖는다. 추가로, (C) 하드 코트층을 갖고, (A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는다.

Description

광학 필름, 편광판, 편광판의 제조 방법, 및 화상 표시 장치{OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE, METHOD OF PRODUCING POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은 광학 필름, 편광판, 편광판의 제조 방법, 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
최근 액정 표시 장치는 액정 텔레비전이나, 퍼스널 컴퓨터, 휴대 전화, 디지털 카메라 등의 액정 패널 등의 용도에서 널리 이용되고 있다. 통상적으로 액정 표시 장치는, 액정 셀의 양측에 편광판을 형성한 액정 패널 부재를 가지며, 백라이트 부재로부터의 광을 액정 패널 부재로 제어함으로써 표시가 실시되고 있다. 여기서, 편광판은 편광자와 적어도 1 매의 보호 필름 (편광판 보호 필름) 을 포함하여 이루어지고, 일반적인 편광자는 연신된 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름을 요오드 또는 이색성 색소로 염색함으로써 얻어지고, 보호 필름으로는 각종 열가소성 수지를 사용한 필름이 이용되고 있다. 또, 시인측에 배치되는 편광판의 시인측 보호 필름에는, 경도를 부여하기 위해서 추가로 하드 코트층을 적층하는 것이 일반적이다.
편광판 보호 필름에 이용되는 열가소성 수지 필름으로는, 셀룰로오스아실레이트 필름이 일반적으로 사용되고 있지만, 셀룰로오스아실레이트는 흡습성이 높기 때문에 사용되는 환경의 습도에 의해 신축하여 응력 변형에 의한 불균일이 발생하기 쉽다. 그 때문에, 방습성이 우수한 고리형 폴리올레핀계 수지 필름을 편광판 보호 필름으로서 사용하는 것도 제안되어 있다.
특허문헌 1 에는, 노르보르넨계 중합체로 이루어진 수지 필름 상에 하드 코트층을 적층한 편광판 보호 필름이 기재되어 있다.
특허문헌 2 에는, 노르보르넨계 수지 필름과 하드 코트층을 갖는 편광판 보호 필름이 기재되어 있다.
일본 공개특허공보 2006-30870호 일본 공개특허공보 2009-20485호
최근, 액정 표시 장치, 특히 중소형 용도의 액정 표시 장치는 박형화가 급격하게 진행되고 있어, 사용되는 부재 (광학 필름, 편광판 보호 필름, 편광판 등) 의 박막화가 급선무가 되고 있다.
한편, 편광판 보호 필름의 박막화에 수반하여, 박막화한 편광판 보호 필름을 갖는 편광판을 액정 표시 장치에 장착하여 사용한 경우에, 고온 고습 환경하 등에서는 흡습에 의해 편광판 보호 필름이 신축하기 때문에 발생하는 응력의 영향이 박막화하지 않은 경우보다 커져 버린다. 이 응력의 영향에 의해, 편광판을 포함하는 액정 패널이 휘어 모서리부에 광 누설이 발생하는 워프 불균일이 문제가 된다. 흡습에 의해, 편광판 보호 필름이 신축하는 것을 알 수 있으므로, 이 문제는, 투습도가 낮은 필름을 편광판 보호 필름으로서 사용함으로써 개선할 수 있는 것으로 생각된다.
보호 필름의 투습도를 낮추는 수단으로는, 전술한 투습도가 매우 낮은 소재인 고리형 올레핀계 수지를 사용하는 것을 생각할 수 있다. 그러나 본 발명자들의 검토에 의해 고리형 올레핀계 수지를 액정 표시 장치의 시인측 편광판의 시인측의 편광판 보호 필름으로서 사용하는 경우, 하드 코트층을 적층하면, 하드 코트층과 고리형 올레핀계 수지 필름의 밀착성이 낮은 것, 표면 경도가 낮은 것을 알 수 있었다.
본 발명의 목적은, 박막이어도 높은 습열 내구성을 갖고, 하드 코트층과의 밀착성이 우수하고, 또한 표면 경도가 높은 광학 필름, 이 광학 필름과 편광자를 갖는 편광판, 및 이 광학 필름 또는 이 편광판을 갖는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명자들이 예의 검토한 결과, 이하의 수단에 의해 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내었다.
[1]
(A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층과,
(B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층을 갖는 광학 필름.
[2]
상기 (A) 층의 막 두께가 20 ㎛ 이하이고, 또한 상기 (B) 층의 막 두께가 20 ㎛ 이하인 [1] 에 기재된 광학 필름.
[3]
추가로 (C) 하드 코트층을 갖고,
(A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는 [1] 또는 [2] 에 기재된 광학 필름.
[4]
상기 (C) 층의 막 두께가 10 ㎛ 이하인 [3] 에 기재된 광학 필름.
[5]
상기 분자 중에 지환 구조를 갖는 광 및/또는 열로 중합한 수지가, 하기 일반식 (I) ∼ (V) 중 어느 것으로 나타내는 기를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합한 수지인 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.
[화학식 1]
Figure pat00001
일반식 (I) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
[화학식 2]
Figure pat00002
일반식 (II) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
[화학식 3]
Figure pat00003
일반식 (III) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
[화학식 4]
Figure pat00004
일반식 (IV) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타내고, L＂ 는 수소 원자 또는 2 가 이상의 연결기를 나타낸다.
[화학식 5]
Figure pat00005
일반식 (V) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다.
[6]
상기 고리형 폴리올레핀계 수지가 하기 일반식 (A-II) 또는 (A-III) 으로 나타내는 고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위를 갖는 중합체인 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.
[화학식 6]
Figure pat00006
[화학식 7]
Figure pat00007
일반식 (A-II) ∼ (A-III) 중, m 은 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. R3 ∼ R6 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기를 나타내고, X2 ∼ X3, Y2 ∼ Y3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 되는 비닐기, (메트)아크릴로일기, -(CH2)nCOOR11, -(CH2)nOCOR12, -(CH2)nNCO, -(CH2)nNO2, -(CH2)nCN, -(CH2)nCONR13R14, -(CH2)nNR13R14, -(CH2)nOZ, -(CH2)nW, 또는 X2 와 Y2 혹은 X3 과 Y3 으로 구성된 (-CO)2O, (-CO)2NR15 를 나타낸다. 또한, R11, R12, R13, R14, R15 는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기, Z 는 탄화수소기 또는 할로겐으로 치환된 탄화수소기, W 는 SiR16 pD3-p (R16 은 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, D 는 할로겐 원자, -OCOR16 또는 -OR16, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다), n 은 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.
[7]
편광자와, [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 갖는 편광판으로서,
편광자, (A) 층, (B) 층을 이 순서로 갖는 편광판.
[8]
상기 편광자의 막 두께가 10 ㎛ 이하이고, 편광판 전체의 두께가 40 ㎛ 이하인 [7] 에 기재된 편광판.
[9]
하기 (a) ∼ (f) 의 공정을 갖는 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름의 제조 방법.
(a) 지지체 상에, 고리형 폴리올레핀계 수지와 제 1 용매를 포함하는 제 1 용액을 도포하여 제 1 도포층을 형성하는 공정
(b) 상기 제 1 도포층에 포함되는 제 1 용매를 건조시켜 (A) 층을 얻는 공정
(c) 상기 (A) 층 상에, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물과 제 2 용매를 포함하는 제 2 용액을 도포하여 제 2 도포층을 형성하는 공정
(d) 상기 제 2 도포층에 포함되는 제 2 용매를 건조시키는 공정
(e) 상기 제 2 도포층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열에 의해 중합하여 분자 중에 지환 구조를 갖는 수지를 얻어, (B) 층을 얻는 공정
(f) 상기 (A) 층과 (B) 층을 포함하는 적층체를 상기 지지체로부터 박리하는 공정
[10]
[1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름, 또는 [7] 또는 [8] 에 기재된 편광판을 포함하는 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 박막이어도 높은 내습성을 갖고, 하드 코트층과의 밀착성이 우수하고, 또한 표면 경도가 높은 광학 필름, 이 광학 필름과 편광자를 갖는 편광판, 및 이 광학 필름 또는 이 편광판을 갖는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 편광판의 일례의 단면 모식도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 있어서, 수치가 물성 값, 특성값 등을 나타내는 경우에, 「(수치 1) ∼ (수치 2)」 라고 하는 기재는 「(수치 1) 보다 크고 (수치 2) 보다 작다」 라는 의미를 나타낸다. 또, 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴레이트」 의 기재는, 「아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 적어도 어느 것」 의 의미를 나타낸다. 「(메트)아크릴산」, 「(메트)아크릴로일」 등도 동일하다.
[광학 필름]
본 발명의 광학 필름은, (A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층 (「(A) 층」 이라고도 부른다) 과, (B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층 (「(B) 층」 이라고도 부른다) 을 갖는다.
[(A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층]
본 발명의 광학 필름은 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층 ((A) 층) 을 갖는다.
〈(A) 층에 포함되는 고리형 폴리올레핀계 수지〉
(A) 층은 고리형 폴리올레핀계 수지를 함유한다. 고리형 폴리올레핀계 수지란, 고리형 올레핀 구조를 갖는 중합체 수지를 나타낸다.
본 발명에 사용하는 고리형 올레핀 구조를 갖는 중합체 수지의 예에는, (1) 노르보르넨계 중합체, (2) 단고리의 고리형 올레핀의 중합체, (3) 고리형 공액 디엔의 중합체, (4) 비닐 지환식 탄화수소 중합체, 및 (1) ∼ (4) 의 수소화물 등이 있다.
고리형 폴리올레핀계 수지로는, 하기 일반식 (A-II) 또는 (A-III) 으로 나타내는 고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위를 갖는 중합체가 바람직하다.
하기 일반식 (A-II) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 중합체는 노르보르넨계 부가 중합체이고, 하기 일반식 (A-III) 으로 나타내는 구조 단위를 갖는 중합체는 노르보르넨계 개환 중합체이다.
[화학식 8]
Figure pat00008
[화학식 9]
Figure pat00009
일반식 (A-II) ∼ (A-III) 중, m 은 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. R3 ∼ R6 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기를 나타내고, X2 ∼ X3, Y2 ∼ Y3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, -(CH2)nCOOR11, -(CH2)nOCOR12, -(CH2)nNCO, -(CH2)nNO2, -(CH2)nCN, -(CH2)nCONR13R14, -(CH2)nNR13R14, -(CH2)nOZ, -(CH2)nW, 또는 X2 와 Y2 혹은 X3 과 Y3 으로 구성된 (-CO)2O, (-CO)2NR15 를 나타낸다. 또한, R11, R12, R13, R14, R15 는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기, Z 는 탄화수소기 또는 할로겐으로 치환된 탄화수소기, W 는 SiR16 pD3 -p (R16 은 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, D 는 할로겐 원자, -OCOR16 또는 -OR16, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다), n 은 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.
전술한 일반식 (A-II) 또는 (A-III) 에 있어서의 m 이 0 또는 1 을 나타내고, R3 ∼ R6, X2 ∼ X3, Y2 ∼ Y3 이 수소 원자를 나타내는 것이 특히 바람직하다.
일반식 (A-II) 또는 (A-III) 으로 나타내는 구조 단위를 갖는 중합체는, 또한 하기 일반식 (A-I) 로 나타내는 구조 단위 중 적어도 1 종 이상을 포함해도 된다.
[화학식 10]
Figure pat00010
일반식 (A-1) 중, R1 ∼ R2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기를 나타내고, X1 및 Y1 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, -(CH2)nCOOR11, -(CH2)nOCOR12, -(CH2)nNCO, -(CH2)nNO2, -(CH2)nCN, -(CH2)nCONR13R14, -(CH2)nNR13R14, -(CH2)nOZ, -(CH2)nW, 또는 X1 과 Y1 로 구성된 (-CO)2O, (-CO)2NR15 를 나타낸다. 또한, R11, R12, R13, R14, R15 는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기, Z 는 탄화수소기 또는 할로겐으로 치환된 탄화수소기, W 는 SiR16 pD3 -p (R16 은 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, D 는 할로겐 원자, -OCOR16 또는 -OR16, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다), n 은 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.
투습도 저하 및 A 층과 B 층의 밀착성의 관점에서, 고리형 폴리올레핀계 수지가, 고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위를, 고리형 폴리올레핀계 수지의 전체 질량에 대해 90 질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 30 ∼ 85 질량％ 함유하는 것이 보다 바람직하고, 50 ∼ 79 질량％ 함유하는 것이 더욱 바람직하며, 60 ∼ 75 질량％ 함유하는 것이 가장 바람직하다. 여기서, 고리형 폴리올레핀에서 유래하는 구조 단위의 비율은 고리형 폴리올레핀계 수지 중의 평균값을 나타낸다.
노르보르넨계 중합체 수소화물은, 일본 공개특허공보 평1-240517호, 일본 공개특허공보 평7-196736호, 일본 공개특허공보 소60-26024호, 일본 공개특허공보 소62-19801호, 일본 공개특허공보 2003-1159767호 혹은 일본 공개특허공보 2004-309979호 등에 개시되어 있는 바와 같이, 다고리형 불포화 화합물을 부가 중합 혹은 메타세시스 개환 중합한 후 수소 첨가함으로써 만들어진다. 본 발명에 사용하는 노르보르넨계 중합체에 있어서, R3 ∼ R6 은 수소 원자 또는 -CH3 이 바람직하고, 투습도가 낮다는 관점에서 수소 원자인 것이 더욱 바람직하다. X3 및 Y3 은 수소 원자, Cl, -COOCH3 이 바람직하고, 투습도가 낮다는 관점에서 수소 원자인 것이 더욱 바람직하다. 그 밖의 기는 적절히 선택된다. m 은 0 혹은 1 이 바람직하다. 이 노르보르넨계 수지는, JSR (주) 로부터 아톤 (Arton) G 혹은 아톤 F 라고 하는 상품명으로 발매되고 있고, 또 닛폰 제온 (주) 로부터 제오노아 (Zeonor) ZF14, ZF16, 제오넥스 (Zeonex) 250 혹은 제오넥스 280 이라는 상품명으로 시판되고 있어, 이들을 사용할 수 있다.
노르보르넨계 부가 (공) 중합체는, 일본 공개특허공보 평10-7732호, 일본 공표특허공보 2002-504184호, 미국 공개특허 2004229157A1호 혹은 WO 2004/070463A1호 등에 개시되어 있다. 노르보르넨계 다고리형 불포화 화합물끼리를 부가 중합함으로써 얻어진다. 또, 필요에 따라, 노르보르넨계 다고리형 불포화 화합물과, 에틸렌, 프로필렌, 부텐 ; 부타디엔, 이소프렌과 같은 공액 디엔 ; 에틸리덴노르보르넨과 같은 비공액 디엔 ; 아크릴로니트릴, 아크릴산, 메타아크릴산, 무수 말레산, 아크릴산에스테르, 메타크릴산에스테르, 말레이미드, 아세트산비닐, 염화비닐 등의 선상 디엔 화합물을 부가 중합할 수도 있다. 그 중에서도 에틸렌과의 공중합체인 것이 바람직하다. 이 노르보르넨계 부가 (공)중합체는, 미츠이 화학 (주) 로부터 아펠의 상품명으로 발매되고 있고, 유리 전이 온도 (Tg) 가 상이한 예를 들면 APL8008T (Tg 70 ℃), APL6013T (Tg 125 ℃) 혹은 APL6015T (Tg 145 ℃) 등의 그레이드가 있다. 폴리플라스틱 (주) 로부터 TOPAS8007, 동(同) 6013, 동 6015 등의 펠릿이 발매되고 있다. 또한, Ferrania 사로부터 Appear3000 이 발매되고 있다.
본 발명에 있어서는, 고리형 폴리올레핀계 수지의 유리 전이 온도 (Tg) 에 제한은 없지만, 예를 들어 150 ∼ 250 ℃ 라는 높은 Tg 의 고리형 폴리올레핀계 수지도 사용할 수 있다.
고리형 폴리올레핀계 수지를 함유하는 조성물의 점도, A 층과 B 층의 밀착성의 관점에서 고리형 폴리올레핀계 수지의 멜트 플로우 레이트 (MFR) 는 1 ∼ 500 g/10 min 인 것이 바람직하고, 5 ∼ 200 g/10 min 인 것이 보다 바람직하고, 40 ∼ 200 g/10 min 인 것이 더욱 바람직하며, 100 ∼ 200 g/10 min 인 것이 가장 바람직하다.
(A) 층에 포함되는 고리형 폴리올레핀계 수지의 함유량은, 충분히 낮은 투습도를 얻기 위해서, (A) 층의 전체 고형분에 대해 70 질량％ 이상인 것이 바람직하고, 80 질량％ 이상인 것이 보다 바람직하며, 90 질량％ 이상인 것이 더욱 바람직하다.
또, 고리형 폴리올레핀계 수지를 단독 (함유량 100 질량％) 으로 사용하는 것도 바람직하다.
(A) 층의 막 두께는, 충분히 낮은 투습도를 만족하면서도 박막화의 요구를 만족한다는 이유에서, 20 ㎛ 이하가 바람직하고, 1 ㎛ 이상 15 ㎛ 이하가 보다 바람직하며, 3 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.
〈자외선 흡수제〉
(A) 층은 자외선 흡수제를 함유해도 된다. 자외선 흡수제를 함유함으로써, 광학 필름의 내광성을 향상시키거나, 편광판 및 액정 표시 장치의 액정 화합물 등의 화상 표시 부재의 열화를 방지하거나 할 수 있다.
자외선 흡수제로는, 예를 들어, 옥시벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 살리실산에스테르계 화합물, 벤조페논계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물, 자외선 흡수성기를 함유하는 고분자 자외선 흡수 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다. 자외선 흡수제는 2 종 이상 사용해도 된다.
자외선 흡수제를 함유하는 경우의 자외선 흡수제의 함유량은, (A) 층의 전체 고형분에 대해 0.2 ∼ 10 질량％ 가 바람직하고, 0.5 ∼ 7 질량％ 가 보다 바람직하며, 1 ∼ 5 질량％ 가 더욱 바람직하다.
[(B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층]
본 발명의 광학 필름은, 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층 ((B) 층) 을 갖는다.
〈(B) 층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지〉
(B) 층은, 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함한다.
분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지는, 분자 중에 갖는 지환 구조가 (A) 층의 고리형 폴리올레핀계 수지의 고리 구조와 유사한 구조이기 때문에, 고리형 폴리올레핀계 수지와의 친화성이 높고 (A) 층과의 밀착성이 우수하고, 또한 지환 구조는 소수적이기 때문에 투습도를 낮게 할 수 있어, 광학 필름의 막 두께를 얇게 한 경우에도 광학 필름의 투습도를 낮게 할 수 있는 것으로 생각된다. 또, (B) 층 상에 (C) 하드 코트층을 적층했을 경우에 계면 혼합층을 형성하기 쉽기 때문에, (C) 하드 코트층과의 밀착성도 우수한 것으로 생각된다.
분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지의 지환 구조는, 고리형의 지방족 탄화수소기인 것이 바람직하다.
지환 구조는, 바람직하게는 탄소수 5 이상 20 이하의 지환 구조이고, 보다 바람직하게는 탄소수 8 이상 16 이하의 지환 구조이며, 더욱 바람직하게는 탄소수 10 이상 14 이하의 지환 구조이다.
지환 구조는, 바람직하게는 2 고리식, 3 고리식 등의 다고리식 구조이다.
보다 바람직하게는 일본 공개특허공보 2006-215096호의 특허 청구의 범위 기재의 화합물의 중심 골격, 일본 공개특허공보 2001-10999호 기재의 화합물의 중심 골격, 혹은, 아다만탄 유도체의 골격 등을 들 수 있다.
고리형의 지방족 탄화수소기로는, 구체적으로는, 노르보르닐, 트리시클로데카닐, 테트라시클로도데카닐, 펜타시클로펜타데카닐, 아다만틸, 디아만타닐 등을 들 수 있다.
분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지는, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합한 수지인 것이 바람직하다. 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물은 1 종만이어도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 분자 중에 1 개 이상 갖는 모노머 또는 올리고머인 것이 바람직하고, 2 개 이상 갖는 다관능 모노머 또는 올리고머인 것이 보다 바람직하며, 2 개 이상 4 개 이하 갖는 다관능 모노머 또는 올리고머인 것이 더욱 바람직하다.
에틸렌성 불포화 이중 결합기로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기, 알릴기 등의 중합성 관능기를 들 수 있으며, 그 중에서도, (메트)아크릴로일기, -C(O)OCH=CH2 가 바람직하고, (메트)아크릴로일기가 더욱 바람직하다.
분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물로는, 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 2 개 이상 갖는 다관능 모노머 또는 올리고머가 특히 바람직하다. 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 2 개 이상 갖는 다관능 모노머 또는 올리고머에 의해, 저투습성이 우수하고, (A) 층과의 밀착성 및 (C) 하드 코트층과의 밀착성이 우수한 (B) 층으로 할 수 있다. 상세한 내용은 분명하지 않지만, 분자 내에 지환 구조를 갖는 화합물을 사용함으로써, 고리형 폴리올레핀계 수지와의 상용성이 양화되어, 밀착성이 양화되는 것으로 생각된다. 또, 분자 내에 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 2 개 이상 갖고 가교점 밀도를 올림으로써, 표면 경도를 향상시킬 수 있다.
지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지는, 하기 일반식 (I) ∼ (V) 중 어느 것으로 나타내는 기를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합한 수지인 것이 바람직하고, 하기 일반식 (I), (II), 또는 (IV) 로 나타내는 기를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합한 수지인 것이 보다 바람직하고, 하기 일반식 (I) 또는 (IV) 로 나타내는 기를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합한 수지인 것이 더욱 바람직하다.
[화학식 11]
Figure pat00011
일반식 (I) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
[화학식 12]
Figure pat00012
일반식 (II) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
[화학식 13]
Figure pat00013
일반식 (III) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
[화학식 14]
Figure pat00014
일반식 (IV) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타내고, L＂ 는 수소 원자 또는 2 가 이상의 연결기를 나타낸다.
[화학식 15]
Figure pat00015
일반식 (V) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다.
지환 구조를 갖고, 또한 분자 내에 2 개 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 갖는 화합물은, 지환 구조와 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기가 연결기를 개재하여 결합한 화합물인 것이 바람직하다.
연결기로는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 6 의 치환되어 있어도 되는 알킬렌기, N 위치가 치환되어 있어도 되는 아미드기, N 위치가 치환되어 있어도 되는 카르바모일기, 에스테르기, 옥시카르보닐기, 에테르기 등, 및 이들을 조합하여 얻어지는 기를 들 수 있다.
이들 화합물은, 예를 들어, 지환 구조를 갖는 디올, 트리올 등의 폴리올과, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기, 알릴기 등을 갖는 화합물의 카르복실산, 카르복실산 유도체, 에폭시 유도체, 이소시아네이트 유도체 등과의 1 단 혹은 2 단계의 반응에 의해 용이하게 합성할 수 있다.
바람직하게는 (메트)아크릴산, (메트)아크릴로일클로라이드, (메트)아크릴산 무수물, (메트)아크릴산글리시딜 등의 화합물이나, WO 2012/00316A호 기재의 화합물 (예, 1,1-비스(아크릴옥시메틸)에틸이소시아네이트) 를 사용하여, 지환 구조를 갖는 폴리올과 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
일반식 (I) 로 나타내는 기를 갖는 중합성 화합물로는, 바람직하게는 하기 일반식 (A) 또는 (B) 로 나타내는 화합물이다.
[화학식 16]
Figure pat00016
[화학식 17]
Figure pat00017
일반식 (A) 및 일반식 (B) 에 있어서, R1 은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 에틸기를 나타낸다. R2 는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬렌기 또는 알킬렌옥사이드기를 나타내고, 바람직하게는 메틸렌기, 에틸렌기, 메틸렌옥사이드기, 에틸렌옥사이드기를 나타낸다. R3 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 에틸기를 나타낸다. n 은 1 또는 2 의 정수를 나타낸다.
본 발명에 있어서, 지환 구조를 갖고 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 갖는 화합물의 바람직한 구체예 (M-1 ∼ M-7) 을 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 18]
Figure pat00018
[화학식 19]
Figure pat00019
[화학식 20]
Figure pat00020
(B) 층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지의 함유량은, 충분한 표면 경도를 얻는다는 이유에서, (B) 층의 전체 고형분에 대해 70 질량％ 이상인 것이 바람직하고, 70 질량％ 이상 99 질량％ 이하가 보다 바람직하며, 80 질량％ 이상 98 질량％ 이하가 더욱 바람직하다.
(B) 층의 막 두께는, 충분한 표면 경도를 얻으면서 박막화의 요구를 만족한다는 이유에서, 20 ㎛ 이하가 바람직하고, 2 ㎛ 이상 16 ㎛ 이하가 보다 바람직하며, 4 ㎛ 이상 12 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.
본 발명의 광학 필름은, (A) 층의 막 두께가 20 ㎛ 이하이고, 또한 (B) 층의 막 두께가 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.
(B) 층에는 중합 개시제가 포함되어 있어도 된다.
[(C) 하드 코트층]
본 발명의 광학 필름은, 또한, (C) 하드 코트층 (「C 층」 이라고도 부른다) 을 갖는 것이 바람직하고, (A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는 것이 보다 바람직하다.
여기서, 하드 코트층이란, 하드 코트층을 갖는 각 광학 필름을 25 ℃, 상대 습도 60 ％ 의 조건으로 2 시간 조습 (調濕) 한 후, JIS S 6006 이 규정하는 시험용 연필 (3H) 을 사용하여, 하드 코트층 표면에 대해, JIS K 5400 이 규정하는 연필 경도 평가법에 따라, 500 g 의 추를 사용하여 각 경도의 연필로 긁기를 5 회 반복하고, 흠집 자국이 남지 않는 횟수가 3 회 이상, 바람직하게는 4 회 이상, 보다 바람직하게는 5 회가 되는 층이다.
(C) 층의 막 두께는 3 ㎛ 이상 20 ㎛ 이하가 보다 바람직하고, 4 ㎛ 이상 12 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 3 ㎛ 이상임으로써 충분한 경도가 얻어지고, 20 ㎛ 이하임으로써 취성 (脆性) 의 점에서 바람직하다.
하드 코트층은, 광 및/또는 열에 의해 중합한 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 하드 코트층의 전체 고형분에 대해 광 및/또는 열에 의해 중합한 수지를 70 질량％ 이상 포함하는 것이 바람직하고, 75 질량％ 이상 98 질량％ 이하 포함하는 것이 보다 바람직하며, 80 질량％ 이상 95 질량％ 이하 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 하드 코트층의 광 및/또는 열에 의해 중합한 수지는, 광 및/또는 열에 의해 중합하는 중합성 화합물을 광 및/또는 열에 의해 중합한 수지인 것이 바람직하다.
광 및/또는 열에 의해 중합하는 중합성 화합물로는, 직사슬 또는 분기상의 구조를 갖고, 또한 중합성기를 2 개 이상 갖는 화합물 (다관능 모노머) 이 바람직하다.
광 및/또는 열에 의해 중합하는 중합성 화합물이 갖는 중합성기는, 에틸렌성 불포화 2 차 결합기, 에폭시기, 옥세타닐기, 알콕시실릴기가 바람직하다.
에틸렌성 불포화 이중 결합기로는, (메트)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기, 알릴기 등의 중합성 관능기를 들 수 있으며, 그 중에서도, (메트)아크릴로일기, -C(O)OCH=CH2 가 바람직하고, (메트)아크릴로일기가 더욱 바람직하다.
광 및/또는 열에 의해 중합하는 중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 포함하는 화합물, 개환 중합성기를 포함하는 화합물을 사용하는 것이 바람직하고, 이들 화합물은 단독 혹은 조합하여 사용할 수 있다.
에틸렌성 불포화 이중 결합기를 포함하는 화합물의 바람직한 예로는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 디트리메틸롤프로판테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 등의 폴리올의 폴리아크릴레이트류 ; 비스페놀 A 디글리시딜에테르의 디아크릴레이트, 헥산디올디글리시딜에테르의 디아크릴레이트 등의 에폭시아크릴레이트류 ; 폴리이소시아네이트와 하이드록시에틸아크릴레이트 등의 수산기 함유 아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 우레탄아크릴레이트 등을 바람직한 화합물로서 들 수 있다. 또, 시판 화합물로는, EB-600, EB-40, EB-140, EB-1150, EB-1290K, IRR214, EB-2220, TMPTA, TMPTMA (이상, 다이셀·유씨비 (주) 제조), UV-6300, UV-1700B (이상, 닛폰 합성 화학 공업 (주) 제조) 등을 들 수 있다.
또, 개환 중합성기를 포함하는 화합물의 바람직한 예로는, 글리시딜에테르류로서, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르, 트리메틸롤에탄트리글리시딜에테르, 트리메틸롤프로판트리글리시딜에테르, 글리세롤트리글리시딜에테르, 트리글리시딜트리스하이드록시에틸이소시아누레이트, 소르비톨테트라글리시딜에테르, 펜타에리트리톨테트라글리시딜에테르, 크레졸 노볼락 수지의 폴리글리시딜에테르, 페놀 노볼락 수지의 폴리글리시딜에테르 등, 지환식 에폭시류로서 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081, 에폴리드 GT-301, 에폴리드 GT-401, EHPE3150CE (이상, 다이 셀 화학 공업 (주) 제조), 페놀 노볼락 수지의 폴리시클로헥실에폭시메틸에테르 등, 옥세탄류로서 OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX-1009 (이상, 토아 합성 (주) 제조) 등을 들 수 있다. 그 외에 글리시딜(메트)아크릴레이트의 중합체, 혹은 글리시딜(메트)아크릴레이트와 공중합할 수 있는 모노머와의 공중합체를 하드 코트층에 사용할 수도 있다.
하드 코트층은, 하드 코트성에 더하여 기타 기능을 갖는 층이어도 된다. 기타 기능으로는, 예를 들면, 방현성, 대전 방지성, 자외선 흡수성 등을 들 수 있다. 즉, 하드 코트층에는, 기타 기능을 부여하기 위한 성분 (예를 들어 광 산란 입자, 대전 방지제, 자외선 흡수제 등) 을 포함하고 있어도 된다.
하드 코트층의 막 두께는, 충분한 경도를 확보하면서도 박막화의 요구를 만족한다는 관점에서, 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 2 ㎛ 이상 8 ㎛ 이하가 보다 바람직하며, 3 ㎛ 이상 6 ㎛ 이하가 더욱 바람직하다.
〈광학 필름의 층 구성〉
본 발명의 광학 필름은, (A) 고리형 폴리올레핀계 수지 광을 포함하는 층, 및, (B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층 을 갖는다.
본 발명의 광학 필름은, 또한, (C) 하드 코트층을 갖고, (A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는 것이 바람직하다.
(A) 층과 (B) 층은 다른 층을 개재하지 않고 직접 적층되어 있는 것이 바람직하다.
(B) 층과 (C) 층은 다른 층을 개재하지 않고 직접 적층되어 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 광학 필름은, (C) 층 상 ((B) 층 측과 반대측의 면 상) 에 반사 방지층 (저굴절률층, 중굴절률층, 고굴절률층 등의 굴절률을 조정한 층 등) 을 형성해도 된다. 본 발명의 광학 필름의 구체적인 바람직한 층 구성을 이하에 나타낸다.
· (A) 층/(B) 층
· (A) 층/(B) 층/(C) 층
· (A) 층/(B) 층/(C) 층/저굴절률층
· (A) 층/(B) 층/(C) 층/고굴절률층/저굴절률층
· (A) 층/(B) 층/(C) 층/중굴절률층/고굴절률층/저굴절률층
중굴절률층, 고굴절률층, 저굴절률층으로는, 일본 공개특허공보 2006-17870호, 일본 공개특허공보 2006-30881호, 일본 공개특허공보 2007-298974호, 일본 공개특허공보 2011-136503호, 일본 공개특허공보 2012-159692호 등에 기재된 것을 적합하게 사용할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.
(광학 필름의 투습도)
본 발명의 광학 필름의 투습도는, JIS Z-0208 을 기초로, 40 ℃, 상대 습도 90 ％ 의 조건에 있어서 측정된다.
본 발명의 광학 필름의 투습도는, 200 g/㎡/day 미만인 것이 바람직하고, 100 g/㎡/day 미만인 것이 보다 바람직하고, 50 g/㎡/day 미만인 것이 더욱 바람직하고, 30 g/㎡/day 미만인 것이 특히 바람직하며, 10 g/㎡/day 미만인 것이 더욱 특히 바람직하다.
[광학 필름의 제조 방법]
본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 예를 들어 (A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층을 용융 제막 (製膜) 으로 제조하는 방법과, 용액 제막으로 제조하는 방법을 들 수 있다.
(A) 층의 막 두께를 20 ㎛ 이하의 박막으로 하는 경우에는, 지지체 상에 제막함으로써 반송하기 쉽고, 반송 중의 접힘이나 주름의 발생을 억제하기 때문에, 양호한 면 형상의 광학 필름 및 편광판을 제조할 수 있으며, 또한 (A) 층과 (B) 층의 밀착성이 우수한 광학 필름을 제조할 수 있다는 관점에서, 용액 제막이 바람직하다.
〈용액 제막〉
(A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층을 용액 제막으로 제조하는 경우의 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 하기 (a) ∼ (f) 의 공정을 갖는 것이 바람직하다.
(a) 지지체 상에, 고리형 폴리올레핀계 수지와 제 1 용매를 포함하는 제 1 용액을 도포하여 제 1 도포층을 형성하는 공정
(b) 전술한 제 1 도포층에 포함되는 제 1 용매를 건조시켜 (A) 층을 얻는 공정
(c) 전술한 (A) 층 상에, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물과 제 2 용매를 포함하는 제 2 용액을 도포하여 제 2 도포층을 형성하는 공정
(d) 전술한 제 2 도포층에 포함되는 제 2 용매를 건조시키는 공정
(e) 전술한 제 2 도포층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열에 의해 중합하여 분자 중에 지환 구조를 갖는 수지를 얻어, (B) 층을 얻는 공정
(f) 전술한 (A) 층과 (B) 층을 포함하는 적층체를 전술한 지지체로부터 박리하는 공정
(A) 층은, (b) 공정에서 제 1 도포층에 포함되는 용매를 건조시킴으로써 얻어진다. 단, 본 발명의 과제를 해결할 수 있는 범위에 있어서, (A) 층 중에 제 1 용매가 남아 있어도 되고, 또, (b) 공정은 포함하지 않아도 된다.
(B) 층은, (d) 공정에서 제 2 용매를 건조시키고, (c) 공정에서 제 2 도포층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합시킴으로써 얻어진다. 단, 본 발명의 과제를 해결할 수 있는 범위에 있어서, (B) 층 중에 제 2 용매가 남아 있어도 된다.
전술한 (a) ∼ (f) 공정은 이 순서로 갖는 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 또한, 하기 (g) 공정을 갖는 것이 바람직하고, (g) 공정을 (c) 공정을 실시한 이후, (f) 공정을 실시하기 전에 포함하는 것이 바람직하다.
(g) 하드 코트층 형성용 용액을 제 2 도포층 또는 (B) 층 상에 도포하여, 하드 코트층을 형성하는 공정
[(a) 공정]
(a) 공정은, 지지체 상에 고리형 폴리올레핀계 수지와 제 1 용매를 포함하는 제 1 용액을 도포하여 제 1 도포층을 형성하는 공정이다.
〈지지체〉
지지체는 폴리머 필름으로 이루어진 지지체가 바람직하다.
폴리머 필름을 구성하는 폴리머로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 셀룰로오스트리아세테이트 등의 셀룰로오스에스테르 등을 들 수 있다.
(a) 공정의 제 1 용액에 포함되는 고리형 올레핀계 수지로는, (A) 층의 설명에서 기재한 바와 같다.
〈제 1 용매〉
제 1 용매는, 고리형 폴리올레핀계 수지를 용해 또는 분산할 수 있는 용매이다.
제 1 용매는 1 종류의 용매만이어도 되고, 2 종류 이상의 용매를 포함해도 된다.
제 1 용매는 유기 용매인 것이 바람직하고, n-펜탄, n-헥산, n-헵탄, 유동 파라핀, 미네랄 스피릿 등의 사슬형 지방족 탄화수소계 용제, 시클로펜탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 디메틸시클로헥산, 트리메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산, 디에틸시클로헥산, 데카하이드로나프탈렌, 디시클로헵탄, 트리시클로데칸, 헥사하이드로인덴, 시클로옥탄 등의 지환식 탄화수소계 용제, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소계 용제, 인덴, 테트라하이드로나프탈렌 등의 지환과 방향 고리를 갖는 탄화수소계 용제, 니트로메탄, 니트로벤젠, 아세토니트릴 등의 함질소 탄화수소계 용제, 디에틸에테르, 테트라하이드로푸란 등의 함산소 탄화수소계 용제, 디클로로메탄, 클로로포름 등의 염소계 용제, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부틸알코올, 시클로헥실알코올, 2-에틸-1-헥산올, 2-메틸-1헥산올, 2-메톡시에탄올, 2-프로폭시에탄올, 2-부톡시에탄올, 디아세톤알코올 등의 알코올계 용제, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 디이소프로필카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 메틸n-프로필카보네이트 등의 카보네이트계 용제, 포름산에틸, 포름산프로필, 포름산펜틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 프로피온산메틸, 프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온에틸, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-메톡시아세트산메틸, 2-에톡시아세트산메틸, 2-에톡시아세트산에틸 등의 에스테르계 용제, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르, 디부틸에테르, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 테트라하이드로푸란, 아니솔, 페네톨 등의 에테르계 용제, 아세톤, 1,2-디아세톡시아세톤, 아세틸아세톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 디이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 메틸이소부틸케톤, 2-옥타논, 2-펜타논, 2-헥사논 등 케톤계 용제 등을 들 수 있으며, 이들 중 적어도 1 종을 사용하는 것이 바람직하다.
제 1 용액에는, (A) 층의 설명에서 기재한 바와 같이 자외선 흡수제를 포함하고 있어도 된다.
제 1 용액의 고형분 농도는, 양호한 면 형상의 필름을 얻는 관점에서, 4 질량％ ∼ 40 질량％ 인 것이 바람직하고, 6 질량％ ∼ 30 질량％ 인 것이 보다 바람직하며, 8 질량％ ∼ 20 질량％ 인 것이 더욱 바람직하다.
〈도포 방법〉
제 1 용액의 도포 방법은 예를 들면 이하의 방법을 들 수 있다.
딥 코트법, 에어나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비아 코트법이나 익스트루전 코트법 (다이 코트법) (미국 특허 2681294호 명세서 참조), 마이크로 그라비아 코트법 등의 공지된 방법이 이용되며, 그 중에서도 마이크로 그라비아 코트법, 다이 코트법이 바람직하다.
[(b) 공정]
(b) 공정은, 전술한 제 1 도포층에 포함되는 제 1 용매를 건조시켜 (A) 층을 얻는 공정이다.
단, (b) 공정을 거치지 않고 (c) 공정을 실시해도 된다.
건조 방법으로는, 가열 처리가 바람직하고, 60 ∼ 200 ℃ 의 분위기 온도에서 가열 처리하는 것이 바람직하고, 80 ∼ 160 ℃ 에서 가열 처리하는 것이 보다 바람직하다.
건조시키는 시간으로는, 30 초 ∼ 10 분 처리인 것이 바람직하고, 1 분 ∼ 5 분 처리인 것이 보다 바람직하다.
[(c) 공정]
(c) 공정은, 전술한 (a) 공정에서 형성된 제 1 도포층 상에, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물과 제 2 용매를 포함하는 제 2 용액을 도포하여 제 2 도포층을 형성하는 공정이다.
(c) 공정의 제 2 용액에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물은 (B) 층의 설명에서 기재한 바와 같다.
〈제 2 용매〉
제 2 용매는, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 용해 또는 분산할 수 있는 용매이다.
제 2 용매는 1 종류의 용매만이어도 되고, 2 종류 이상의 용매를 포함해도 된다.
제 2 용매는, 유기 용매인 것이 바람직하고, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물의 용해성, 도공시의 건조성, 투광성 입자의 분산성 등을 고려하여, 각종 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제로는, 예를 들어 디부틸에테르, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 프로필렌옥사이드, 1,4-디옥산, 1,3-디옥소란, 1,3,5-트리옥산, 테트라하이드로푸란, 아니솔, 페네톨, 탄산디메틸, 탄산메틸에테르, 탄산디에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤 (MEK), 디에틸케톤, 디프로필케톤, 디이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 포름산에틸, 포름산프로필, 포름산펜틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 프로피온산메틸, 프로피온산에틸, γ-부티로락톤, 2-메톡시아세트산메틸, 2-에톡시아세트산메틸, 2-에톡시아세트산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시에탄올, 2-프로폭시에탄올, 2-부톡시에탄올, 1,2-디아세톡시아세톤, 아세틸아세톤, 디아세톤알코올, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸 등 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 시클로헥실알코올, 아세트산이소부틸, 메틸이소부틸케톤 (MIBK), 2-옥타논, 2-펜타논, 2-헥사논, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜이소프로필에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 프로필렌글리콜메틸에테르, 에틸카비톨, 부틸카비톨, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 메틸시클로헥산, 에틸시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등을 들 수 있으며, 1 종 단독으로 혹은 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 용제 중, 탄산디메틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 아세틸아세톤, 아세톤 중 적어도 1 종류를 사용하는 것이 바람직하고, 탄산디메틸, 아세트산메틸 중 어느 것을 사용하는 것이 보다 바람직하며, 아세트산메틸을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
〈중합 개시제〉
제 2 용액은, (e) 공정에서 광 및/또는 열에 의한 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물의 중합을 실시하기 때문에, 중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.
중합 개시제로는 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀옥사이드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티옥산톤류, 아조 화합물, 과산화물류, 2,3-디알킬디온 화합물류, 디술파이드 화합물류, 플루오로아민 화합물류, 방향족 술포늄류, 로핀 다이머류, 오늄염류, 보레이트염류, 활성 에스테르류, 활성 할로겐류, 무기 착물, 쿠마린류 등을 들 수 있다. 중합 개시제의 구체예 및 바람직한 양태, 시판품 등은, 일본 공개특허공보 2009-098658호의 단락 [0133] ∼ [0151] 에 기재되어 있으며, 본 발명에 있어서도 동일하게 적합하게 사용할 수 있다.
상기 서술한 중합 개시제로는 「최신 UV 경화 기술」 {(주) 기술 정보 협회} (1991년), p. 159, 및, 「자외선 경화 시스템」 카토 키요미 저 (평성 원년, 종합 기술 센터 발행), p. 65 ∼ 148 에도 여러 가지 예가 기재되어 있으며 본 발명에 유용하다.
시판되는 광 개열형의 광 라디칼 중합 개시제로는, BASF 사 제조 (구 치바·스페셜리티·케미컬즈 (주)) 제조의 「이르가큐어 651」, 「이르가큐어 184」, 「이르가큐어 819」, 「이르가큐어 907」, 「이르가큐어 1870」 (CGI-403/이르가큐어 184 = 7/3 혼합 개시제), 「이르가큐어 500」, 「이르가큐어 369」, 「이르가큐어 1173」, 「이르가큐어 2959」, 「이르가큐어 4265」, 「이르가큐어 4263」, 「이르가큐어 127」, "OXE01" 등 ; 닛폰 화약 (주) 제조의 「카야큐어 DETX-S」, 「카야큐어 BP-100」, 「카야큐어 BDMK」, 「카야큐어 CTX」, 「카야큐어 BMS」, 「카야큐어 2-EAQ」, 「카야큐어 ABQ」, 「카야큐어 CPTX」, 「카야큐어 EPD」, 「카야큐어 ITX」, 「카야큐어 QTX」, 「카야큐어 BTC」, 「카야큐어 MCA」 등 ; 사토머사 제조의 "Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KTO46, KT37, KIP150, TZT)" 등, 및 그들의 조합을 바람직한 예로서 들 수 있다.
제 2 용액 중의 중합 개시제의 함유량은, 제 2 용액 중에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 중합시키고, 또한 개시점이 지나치게 증가하지 않도록 설정한다는 이유에서, 제 2 용액 중의 전체 고형분에 대해 0.2 ∼ 10 질량％ 가 바람직하고, 1 ∼ 5 질량％ 가 보다 바람직하다.
(c) 공정에 있어서의 도포 방법은, 전술한 (a) 공정에 있어서의 도포 방법과 동일한 방법을 이용할 수 있다.
[(d) 공정]
(d) 공정은, 전술한 제 2 도포층에 포함되는 제 2 용매를 건조시키는 공정이다.
건조 방법으로는 가열 처리가 바람직하고, 40 ∼ 160 ℃ 의 분위기 온도에서 가열 처리하는 것이 바람직하고, 50 ∼ 120 ℃ 에서 가열 처리하는 것이 보다 바람직하다.
건조시키는 시간으로는, 30 초 ∼ 10 분 처리인 것이 바람직하고, 1 분 ∼ 5 분 처리인 것이 보다 바람직하다.
[(e) 공정]
(e) 공정은, 전술한 (c) 공정에서 형성된 제 2 도포층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열에 의해 중합하여 분자 중에 지환 구조를 갖는 수지를 얻어, (B) 층을 얻는 공정이다.
(열에 의한 중합)
분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물로서, 열 중합성 화합물을 사용하는 경우, 중합 온도는, 바람직하게는 60 ∼ 200 ℃, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 130 ℃, 가장 바람직하게는 80 ∼ 110 ℃ 이다. 지지체가 고온에서 열화하기 쉬운 경우에는 저온이 바람직하다. 열 중합에 필요로 하는 시간은 30 초 ∼ 60 분이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1 분 ∼ 20 분이다. 예를 들어, 에폭시기 및/또는 옥세타닐기를 갖는 화합물과 열 산발생제를 중합 개시제로서 갖는 경우에 열 중합을 사용할 수 있다.
(광에 의한 중합)
분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물로서 광 중합성 화합물을 사용하는 경우, 전리 방사선에 의한 조사에 의해 중합할 수 있다. 나아가서는 조사 전, 조사와 동시 또는 조사 후의 열 처리를 조합함으로써 중합하는 것이 유효하다. 예를 들어, 에틸렌성 불포화 이중 결합기를 갖는 화합물과 광 라디칼 개시제를 갖는 경우, 혹은 에폭시기 및/또는 옥세타닐기를 갖는 화합물과 광 산발생제를 중합 개시제로서 갖는 경우에 광 중합을 사용할 수 있다.
이하에 몇 가지 제조 공정의 패턴을 나타내는데, 이들에 한정되는 것은 아니다.
조사 전 → 조사와 동시 → 조사 후 (- 는 열 처리를 실시하지 않은 것을 나타낸다)
(1) 열 처리 → 전리 방사선 조사 → -
(2) 열 처리 → 전리 방사선 조사 → 열 처리
(3) - → 전리 방사선 조사 → 열 처리
그 외, 전리 방사선 조사시에 동시에 열 처리를 실시하는 공정도 바람직하다.
(열 처리)
본 발명에 있어서는, 상기한 바와 같이, 전리 방사선에 의한 조사와 조합하여 열 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 열 처리는, 지지체, 도포에 의해 형성된 각 층을 포함하는 구성층을 손상시키는 것이 아니면 특별히 제한은 없지만, 바람직하게는 60 ∼ 200 ℃, 더욱 바람직하게는 80 ∼ 130 ℃, 가장 바람직하게는 80 ∼ 110 ℃ 이다.
온도를 올림으로써, 도막 내에서 각 성분의 분포를 조절하거나, 광 중합의 반응을 제어할 수 있다. 열 처리에 필요로 하는 시간은, 사용 성분의 분자량, 기타 성분과의 상호 작용, 점도 등에 따라 다르지만, 30 초 ∼ 24 시간, 바람직하게는 60 초 ∼ 5 시간, 가장 바람직하게는 3 분 ∼ 30 분이다.
필름의 막면 온도를 원하는 온도로 하는 방법에 특별히 한정은 없지만, 롤을 가열하여 필름에 접촉시키는 방법, 가열한 질소를 분사하는 방법, 원적외선 또는 적외선의 조사 등이 바람직하다. 일본 특허 2523574호 명세서에 기재된, 회전 금속 롤에 온수나 증기를 흘려 가열하는 방법도 이용할 수 있다. 한편, 하기에서 서술하는 전리 방사선의 조사시에 있어서는, 필름의 막면 온도가 올라가는 경우에는, 롤을 냉각시켜 필름에 접촉시키는 방법을 이용할 수 있다.
(전리 방사선 조사 조건)
전리 방사선 조사시의 막면 온도에 대해서는, 특별히 제한은 없지만, 핸들링성 및 면 내 성능의 균일성에서, 일반적으로 20 ∼ 200 ℃, 바람직하게는 20 ∼ 150 ℃, 가장 바람직하게는 40 ∼ 120 ℃ 이다. 막면 온도가 이 상한값 이하이면, 바인더 중의 저분자 성분의 유동성이 지나치게 상승하여 면 형상이 악화되거나, 지지체가 열에 의해 데미지를 받거나 하는 문제가 발생하지 않으므로 바람직하다. 또 이 하한값 이상이면, 중합 반응의 진행이 충분하여, 도막의 밀착성이 양호한 것이 되므로 바람직하다.
전리 방사선의 종류에 대해서는, 특별히 제한은 없고, X 선, 전자선, 자외선, 가시광, 적외선 등을 들 수 있는데, 자외선을 이용하는 것이 바람직하다. 예를 들어 도막이 자외선 중합성이면, 자외선 램프에 의해 10 mJ/㎠ ∼ 1000 mJ/㎠ 의 조사량의 자외선을 조사하여 중합하는 것이 바람직하다. 조사시에는, 전술한 에너지를 한꺼번에 쬐여도 되고, 분할하여 조사할 수도 있다. 특히 도막의 면 내에서의 성능 편차를 줄이는 점에서는, 자외선을 2 ∼ 8 회 정도로 분할하여 조사하는 것도 바람직하다.
(산소 농도)
전리 방사선 조사시의 공정 내의 산소 농도는 3 체적％ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 체적％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.1 체적％ 이하이며, 가장 바람직하게는 0.03 체적％ 이하이다. 산소 농도 3 체적％ 이하로 전리 방사선을 조사하는 공정에 대해, 그 직전 또는 직후에 산소 농도 3 체적％ 이하의 분위기하에서 유지하는 공정을 마련할 수도 있다. 그렇게 함으로써, 중합을 충분히 촉진하고, 표면 경도, 도막의 밀착성이 우수한 피막을 형성할 수 있다.
전리 방사선에 의한 조사 전, 조사와 동시 또는 조사 후의 열 처리 공정은 대기 분위기하에서 실시할 수 있지만, 전리 방사선 조사시와 마찬가지로 산소 농도를 저하시켜 실시하는 것도 바람직하다. 특히, 중합 개시제나 중합성 화합물 등의 열 안정성이 불충분할 때에는, 산소 농도를 저하시켜 열 처리를 실시함으로써, 전체 중합 공정 종료 후의 막의 강도를 강하게 유지할 수 있다.
산소 농도를 저하시키는 수단으로는, 대기 (질소 농도 약 79 체적％, 산소 농도 약 21 체적％) 를 다른 불활성 기체로 치환하는 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 질소로 치환 (질소 퍼지) 하는 것이다. 전리 방사선을 조사하는 공정 전에, 저산소 농도 (0.1 체적％) 의 분위기하에서 반송을 실시함으로써, 도막 표면 및 내부의 산소 농도를 유효하게 저감시킬 수 있고, 중합을 촉진할 수 있다.
[(f) 공정]
(f) 공정은, 전술한 (A) 층과 (B) 층을 포함하는 적층체를 전술한 지지체로부터 박리하는 공정이다.
[(g) 공정]
(g) 공정은, 하드 코트층 형성용 용액을 제 2 도포층 또는 (B) 층 상에 도포하여, 하드 코트층을 형성하는 공정이다.
하드 코트층 형성용 용액에는, 하드 코트층의 설명에서 기재한 중합성 화합물과, 이 중합성 화합물을 용해 또는 분산할 수 있는 용매를 포함하는 것이 바람직하다. 이 용매로는 제 2 용매와 동일한 용매를 들 수 있다.
하드 코트층 형성용 용액의 도포 방법은 제 1 용액의 도포 방법과 동일하다.
하드 코트층은, 하드 코트층 형성용 용액 중의 중합성 화합물을 광 및/또는 열에 의해 중합하여 수지로서 형성하는 것이 바람직하다. 중합 방법에 대해서는 제 2 용액에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물의 중합과 동일하다.
〈용융 성막〉
(A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층을 용융 제막으로 제조하는 경우의 본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 고리형 폴리올레핀계 수지를 공지된 용융 제막법에 의해 제막하고, 그 후, 전술한 (c), (d), (e), (f) 공정을 실시하는 것이 바람직하다.
또, 전술한 바와 마찬가지로, (g) 공정을 갖는 것이 바람직하다.
[편광판]
본 발명의 편광판은, 편광자와 전술한 본 발명의 광학 필름을 갖는 편광판으로서, 편광자, (A) 층, (B) 층을 이 순서로 갖는다.
도 1 에 본 발명의 편광판의 일례를 나타낸다. 도 1 의 편광판은, 편광자, (A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는다.
본 발명의 광학 필름은, 편광판용 보호 필름으로서 사용할 수 있다. 편광판용 보호 필름으로서 사용하는 경우, 편광판의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 일반적인 방법으로 제조할 수 있다. 본 발명의 광학 필름을 알칼리 처리하고, 편광자에 첩합 (貼合) 하는 방법이 있다. 알칼리 처리 대신에 일본 공개특허공보 평6-94915호, 일본 공개특허공보 평6-118232호에 기재되어 있는 바와 같은 이접착 가공을 실시해도 된다. 또 코로나 처리 등의 표면 처리를 실시해도 된다. 광학 필름의 편광자와의 첩합면은 (A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 함유하는 층인 것이 바람직하다.
보호 필름 처리면과 편광자를 첩합하는 데에 사용되는 접착제로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄 등의 폴리비닐알코올계 접착제나, 부틸아크릴레이트 등의 비닐계 라텍스 등을 들 수 있다.
편광자의 본 발명의 광학 필름을 갖는 면과는 반대 면에 편광판 보호 필름을 갖고 있어도 된다. 이 편광판 보호 필름으로는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 고리형 폴리올레핀계 수지 필름, 셀룰로오스아실레이트 필름 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 광학 필름은, 액정 표시 장치의 시인측 편광판의 시인측 (액정 셀로부터 먼 측) 의 편광판 보호 필름으로서 사용되는 것이 바람직하다.
본 발명의 편광판은, 박막화의 관점에서, 막 두께는 40 ㎛ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 ∼ 30 ㎛, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 25 ㎛ 이다.
(편광자)
편광판에 사용되는 편광자는, 폴리비닐알코올계 수지를 요오드 또는 이색성 색소로 염색함으로써 얻어지는 편광자가 바람직하다.
편광자의 막 두께는, 박막화의 관점에서, 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 6 ㎛ 이다.
편광자의 제조 방법은, 얇은 편광자의 제조 방법으로는, 예를 들면 일본 특허공보 제4691205호 등을 참조할 수 있다.
[편광판의 제조 방법]
본 발명의 편광판의 제조 방법은, 전술한 광학 필름의 제조 방법의 (f) 공정에서 박리된 (A) 층과 (B) 층을 포함하는 적층체 (본 발명의 광학 필름) 의 (A) 층에 코로나 처리 등의 표면 처리를 실시하고, 별도 제조한 편광자와 (A) 층을 첩합하는 공정을 갖는 것이 바람직하다.
〈화상 표시 장치〉
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름 또는 본 발명의 편광판을 포함한다.
화상 표시 장치로는, 액정 표시 장치인 것이 바람직하다. 액정 표시 장치로는, TN, IPS, FLC, AFLC, OCB, STN, ECB, VA 및 HAN 모드의 액정 표시 장치가 바람직하고, TN, OCB, IPS 및 VA 모드의 액정 표시 장치가 보다 바람직하다. 또, 상기 표시 모드를 배향 분할한 표시 모드도 제안되어 있다. 본 발명의 광학 필름 또는 편광판은, 어느 표시 모드의 액정 표시 장치에 있어서도 유효하다. 또, 투과형, 반사형, 반투과형 중 어느 액정 표시 장치에 있어서도 유효하다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명의 범위는 이것에 의해 한정되어 해석되는 것은 아니다. 또한, 특별한 언급이 없는 한, 「부」 및 「％」 는 질량 기준이다.
[광학 필름의 제조]
((A) 고리형 폴리올레핀계 수지 함유층 형성용 조성물의 조제)
〈(A) 층 형성용 조성물 A1〉
하기 각 성분을 혼합한 후, 교반기를 부착한 유리제 세퍼러블 플라스크에 투입하고, 실온에서 24 시간 교반 후, 구멍 직경 20 ㎛ 의 폴리프로필렌제 뎁스 필터로 여과하고, (A) 층 형성용 조성물 A1 을 얻었다.
[A 층 형성용 조성물 A1 의 조성]
·APEL6015T 9.8 질량부
·UV-1 0.2 질량부
·시클로헥산 90 질량부
〈(A) 층 형성용 조성물 A2 ∼ A7〉
각 성분을 하기 표 1 과 같이 변경한 것 이외에는, (A) 층 형성용 조성물 A1 과 동일하게 하여, (A) 층 형성용 조성물 A2 ∼ A7 을 얻었다.
Figure pat00021
이하, 사용한 화합물에 대하여 설명한다. 하기 일반식 (A-IV) 와 일반식 (A-V) 는, 함께 일반식 (A-II) 의 구조 단위를 포함하는 것이다.
·APL6015T : 하기 일반식 (A-IV) 로 나타내는 고리형 폴리올레핀 수지 (미츠이 화학 (주) 제조)
에틸렌 에서 유래하는 구조 단위의 함유율 (X) : 1 9 질량％
고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위의 함유율 (Y) : 81 질량％
MFR : 10 g/10 min
·APL8008T : 하기 일반식 (A-IV) 로 나타내는 고리형 폴리올레핀 수지 (미츠이 화학 (주) 제조)
에틸렌에서 유래하는 구조 단위의 함유율 ( X) : 38 질량％
고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위의 함유율 (Y) : 62 질량％
MFR : 15 g/10 min
[화학식 21]
Figure pat00022
·TOPAS5013 : 하기 일반식 (A-V) 로 나타내는 고리형 폴리올레핀 수지 (Poly plastics (주) 제조)
에틸 렌에서 유래 하는 구조 단위의 함유율 (X) : 23 질량％
고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위의 함유율 (Y) : 77 질량％
MFR : 49 g/10 min
[화학식 22]
Figure pat00023
일반식 (A-V)
·ARTON R5000 : (JSR (주) 제조)
이것은 하기 반복 단위를 갖는 수지 (반복 단위의 비는 몰비) 이며, 일반식 (A-III) 으로 나타내는 구조 단위를 포함하는 것이다.
[화학식 23]
Figure pat00024
·UV-1 : 하기 구조식으로 나타내는 화합물
[화학식 24]
Figure pat00025
·X-1 : 하기 구조식으로 나타내는 화합물
[화학식 25]
Figure pat00026
((B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지 함유층 형성용 조성물의 조제)
〈(B) 층 형성용 조성물 B1〉
하기 각 성분을 혼합한 후, 교반기를 부착한 유리제 세퍼러블 플라스크에 투입하고, 실온에서 30 분 교반 후, 구멍 직경 5 ㎛ 의 폴리프로필렌제 뎁스 필터로 여과하고, (B) 층 형성용 조성물 B1 을 얻었다.
[(B) 층 형성용 조성물 B1 의 조성]
·DCP 28.8 질량부
·이르가큐어 907 1.2 질량부
·시클로헥산 49 질량부
·톨루엔 21 질량부
〈(B) 층 형성용 조성물 B2〉
(B) 층 형성용 조성물 B1 에서 사용한 DCP 를 A-DCP 로 변경한 것 이외에는, (B) 층 형성용 조성물 B1 과 동일하게 하여, (B) 층 형성용 조성물 B2 를 얻었다.
〈(B) 층 형성용 조성물 B3〉
(B) 층 형성용 조성물 B1 에서 사용한 DCP 를 ADDA 로 변경한 것 이외에는, (B) 층 형성용 조성물 B1 과 동일하게 하여, (B) 층 형성용 조성물 B3 을 얻었다.
이하, 사용한 화합물에 대하여 설명한다.
·DCP : 트리시클로데칸디메탄올메타크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조)
이것은, 전술한 예시 화합물 M-4 에 상당하는 화합물이다.
[화학식 26]
Figure pat00027
·A-DCP : 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트 (신나카무라 화학 공업 (주) 제조)
이것은, 전술한 예시 화합물 M-5 에 상당하는 화합물이다.
[화학식 27]
Figure pat00028
·ADDA : 1,3-아다만탄디메탄올디아크릴레이트
이것은, 전술한 예시 화합물 M-7 에 상당하는 화합물이다.
[화학식 28]
Figure pat00029
((C) 하드 코트층 형성용 조성물의 조제)
하기 조성의 각 성분을 혼합한 후, 구멍 직경 30 ㎛ 의 폴리프로필렌제 필터로 여과하여, (C) 하드 코트층용 도포액을 조제하였다.
Figure pat00030
* 1 : 「UV1700B」 (닛폰 합성사 제조)
* 2 : 이르가큐어 184 (BASF 사 제조 (구 치바·스페셜리티·케미컬즈 (주) 제조))
(광학 필름 1 의 제조)
투광성 지지체 (셀룰로오스트리아세테이트 (TAC), 후지 필름 (주) 제조 TD80UL) 상에, 전술한 (A) 층 형성용 조성물 A1 을 일본 공개특허공보 2006-122889호 실시예 1 기재의 슬롯 다이를 사용한 다이 코트법으로, 반송 속도 10 m/분의 조건으로 건조 후의 막 두께가 10 ㎛ 가 되도록 도포하고, 30 ℃ 에서 1 분 건조시켰다.
계속해서, (A) 층 상에 (B) 층 형성용 조성물 B1 을 동일한 방법으로 건조 후의 막 두께가 5 ㎛ 가 되도록 도포하고, 120 ℃ 에서 5 분 건조시켰다. 그 후, 또한 질소 퍼지하 산소 농도 약 0.01 체적％ 로 160 W/㎝ 의 공랭 메탈할라이드 램프 (아이그래픽스 (주) 제조) 를 사용하여, 조도 400 mW/㎠, 조사량 300 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하였다.
계속해서, (B) 층 상에 (C) 하드 코트층 형성용 조성물을 마이크로 그라비아 도공 방식으로 반송 속도 30 m/분의 조건으로 도포하였다. 60 ℃ 에서 150 초 건조 후, 질소 퍼지 (산소 농도 0.5 체적％ 이하) 하면서, 160 W/㎝ 의 공랭 메탈할라이드 램프 (아이그래픽스 (주) 제조) 를 사용하여, 조도 400 mW/㎠, 조사량 150 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고, 두께 5 ㎛ 의 (C) 하드 코트층을 형성하였다.
계속해서, (A) 층, (B) 층, (C) 층의 적층체를 TAC 지지체로부터 박리하였다.
이와 같이 하여, (A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는 광학 필름 1 을 제조하였다.
(광학 필름 2 ∼ 8 의 제조)
광학 필름 1 의 제조에 있어서, (A) 층 형성용 조성물, (B) 층 형성용 조성물 및 (C) 층 형성용 조성물의 종류, 각 층의 막 두께를 표 3 에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 동일하게 하여, 광학 필름 2 ∼ 8 을 제조하였다.
(광학 필름 9 ∼ 10 의 제조)
광학 필름 1 의 제조에 있어서, (A) 층 형성용 조성물의 종류, 막 두께를 표 3 에 나타내는 바와 같이 변경하고, (B) 층 및 (C) 층을 형성하지 않은 것 이외에는 동일하게 하여 광학 필름 9 ∼ 10 을 제조하였다.
(광학 필름 11 의 제조)
(A) 층 형성용 조성물 A7 을 280 ℃ 에서 용융하고, 막 두께가 10 ㎛ 가 되도록 하여, 광학 필름 11 을 얻었다.
(광학 필름 12 의 제조)
(A) 층 형성용 조성물 A7 을 280 ℃ 에서 용융하고, 막 두께가 10 ㎛ 가 되도록 한 후, 광학 필름 1 과 동일하게 (B) 층과 (C) 층을 형성하고, 광학 필름 12 를 제조하였다.
(광학 필름 13 의 제조)
(A) 층 형성용 조성물 A7 을 280 ℃ 에서 용융하고, 막 두께가 10 ㎛ 가 되도록 하여, 일방의 면에 1500 W·min /㎡ 의 조건으로 코로나 처리를 실시하였다. 전술한 코로나 처리를 실시한 면에, (C) 층 형성용 조성물을 광학 필름 1 과 동일하게 형성하여 광학 필름 13 을 얻었다.
(광학 필름 14 의 제조)
(A) 층 형성용 조성물 A7 을 280 ℃ 에서 용융하고, 막 두께가 40 ㎛ 가 되도록 형성하여 광학 필름 14 를 얻었다.
(광학 필름 15 의 제조)
(A) 층 형성용 조성물 A7 을 280 ℃ 에서 용융하고, 막 두께가 40 ㎛ 가 되도록 하여, 일방의 면에 1500 W·min/㎡ 의 조건으로 코로나 처리를 실시하였다. 전술한 코로나 처리를 실시한 면에, (C) 층 형성용 조성물을 광학 필름 1 과 동일하게 형성하여 광학 필름 15 를 얻었다.
Figure pat00031
「광학 필름의 평가]
제조한 광학 필름 1 ∼ 8, 12, 13, 15 에 대해 하기의 물성 측정과 평가를 실시하였다.
(연필 경도 평가)
하드 코트층을 갖는 각 광학 필름을 25 ℃, 상대 습도 60 ％ 의 조건으로 2 시간 조습한 후, JIS S 6006 이 규정하는 시험용 연필 (3H) 을 사용하여, 하드 코트층 표면에 대해, JIS K 5400 이 규정하는 연필 경도 평가법에 따라, 500 g 의 추를 사용하여 각 경도의 연필로 긁기를 5 회 반복하고, 흠집 자국이 남지 않는 횟수를 카운트하였다. 흠집 자국이 남지 않는 횟수가 3 회 이상이면 허용할 수 있다.
(하드 코트층의 밀착성 평가)
하드 코트층의 밀착성 평가를 하기 방법으로 실시하였다.
JIS K 5600 에 준거한 크로스 컷 시험을 실시하였다. 구체적으로는 광학 필름의 하드 코트층면 상에 1 ㎜ 간격으로 종횡으로 11 개의 절입을 넣어 가로세로 1 ㎜ 의 메시를 100 개 만들었다. 이 위에 투명 감압 부착 테이프 (니치반 주식회사 제조, 셀로테이프 (등록상표) CT-15S) 를 첩부 (貼付) 하고, 재빨리 벗겨 박리된 지점을 육안 관찰에 의해 밀착 평가하였다. 측정용 샘플은 밀착성 평가 전에 온도 25 ℃ 습도 60 ％ 의 방에서 2 시간 이상 조습한 후에 평가하였다.
밀착성 A : 박리 지점 0 ∼ 10 매스
밀착성 B : 박리 지점 11 ∼ 49 매스
밀착성 C : 박리 지점 50 매스 ∼ 99 매스
밀착성 D : 박리 지점 100 매스 이상 (테이프를 붙인 부분 전부)
상기 평가의 A 또는 B 가 허용 수준이다.
(면 형상 평가)
각 광학 필름을 평활한 대 (臺) 상에 2 m 의 길이로 넓혀 면 형상을 육안으로 평가하고, 이하의 기준으로 판정하였다.
A : 면 내에 주름, 늘어짐 등을 시인할 수 없어 허용할 수 있다.
B : 면 내에 약간 주름, 늘어짐 등이 시인되지만 허용할 수 있다.
C : 면 내에 현저한 주름, 늘어짐 등이 시인되어 허용할 수 없다.
얻어진 평가 결과를 표 4 에 나타낸다.
Figure pat00032
〈편광판의 제조〉
(광학 필름의 코로나 처리)
상기에서 제조한 광학 필름 1 ∼ 8 의 (A) 층의 (B) 층 및 (C) 층이 형성되어 있지 않은 면에 1500 W·min/㎡ 의 조건으로 코로나 방전 조사를 실시하였다. 광학 필름 12, 13, 15 에도 마찬가지로 코로나 처리를 실시하였다.
또, 상기에서 제조한 광학 필름 9 ∼ 11, 14 의 (A) 층의 상면 (지지체와 반대측의 면) 에 동일한 코로나 처리를 실시하였다.
(편광자의 제조)
·막 두께 3 ㎛ 의 편광자는, 일본 특허공보 제4691205호의 실시예 1 에 따라 제조하였다.
·막 두께 20 ㎛ 의 편광자는 이하와 같이 제조하였다.
평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰％ 이상의 폴리비닐알코올로 이루어진 두께 75 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름을 30 ℃ 의 순수에 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 질량비가 0.02/2/100 인 수용액에 30 ℃ 에서 침지하였다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 질량비가 12/5/100 인 수용액에 56.5 ℃ 에서 침지하였다.
계속해서, 8 ℃ 의 순수로 세정한 후, 65 ℃ 에서 건조시켜, 폴리비닐알코올 필름에 요오드가 흡착 배향된 편광 필름 (편광자) 을 얻었다. 연신은 주로 요오드 염색 및 붕산 처리 공정에서 실시하고, 토탈 연신 배율은 5.3 배였다.
(첩합)
편광판 보호 필름 A 로서, 상기 코로나 처리 후의 광학 필름 1 ∼ 8, 12, 13, 15 의 코로나 처리를 실시한 면 ((A) 층) 과 편광자를 PVA 계 접착제로 첩합하였다.
또, 편광판 1, 2, 4 ∼ 14 에서는, 편광자의 다른 일방의 면에, 편광판 보호 필름 B 로서, 광학 필름 9 ∼ 11, 14 를 마찬가지로 코로나 처리한 것을 PVA 계 접착제로 첩합하였다. 그 후 열 건조시켜 각 편광판 시료를 제조하였다.
각 편광판 시료에 사용한 보호 필름 A, 편광자, 보호 필름 B 를 하기 표 5 에 나타낸다.
〈습열 내구성의 평가〉
상기에서 제조한 각 편광판 시료에 대해, 파장 410 nm 에 있어서의 직교 투과율 CT 를 닛폰 분광 (주) 제조 자동 편광 필름 측정 장치 VAP-7070 을 사용하여 측정하였다. 측정에는, 410 ㎚ 에서 측정하고, 10 회 측정의 평균값을 사용하였다.
습열 내구성 시험은 편광판을 유리에 점착제를 개재하여 첩부한 형태로 다음과 같이 실시하였다. 유리 상에 편광판을 첩부한 샘플 (약 5 ㎝ × 5 ㎝) 을 제조하였다. 이 때, 보호 필름 B 또는 편광자가 유리측이 되도록 첩합하였다. 이 샘플의 보호 필름 A 측을 광원을 향해 세트하여, 편광판의 직교 투과율을 측정하였다.
그 후, 60 ℃, 상대 습도 90 ％ 의 환경하에서 1000 시간 보존한 후에 대해 동일한 수법으로 직교 투과율을 측정하였다. 시간 경과적 전후의 직교 투과율의 변화를 구하고, 이것을 편광자 내구성으로 하여 표 5 에 그 결과를 기재하였다.
여기서, 직교 투과율의 변화량이란, 하기 식으로 산출되는 것이다.
직교 투과율의 변화량 (％) = 습열 내구성 시험 후의 직교 투과율 (％) － 습열 내구성 시험 전의 직교 투과율 (％)
A : 직교 투과율의 변화량이 0.06 ％ 미만
B : 직교 투과율의 변화량이 0.06 ％ 이상, 0.08 ％ 미만
C : 직교 투과율의 변화량이 0.08 ％ 이상, 0.1 ％ 미만
D : 직교 투과율의 변화량이 0.1 ％ 이상
상기 평가의 A ∼ C 가 허용 수준이다.
Figure pat00033

Claims (10)

  1. (A) 고리형 폴리올레핀계 수지를 포함하는 층과,
    (B) 분자 중에 지환 구조를 갖는, 광 및/또는 열로 중합한 수지를 포함하는 층을 갖는, 광학 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 (A) 층의 막 두께가 20 ㎛ 이하이고, 또한 상기 (B) 층의 막 두께가 20 ㎛ 이하인, 광학 필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    추가로, (C) 하드 코트층을 갖고,
    (A) 층, (B) 층, (C) 층을 이 순서로 갖는, 광학 필름.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 (C) 층의 막 두께가 10 ㎛ 이하인, 광학 필름.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분자 중에 지환 구조를 갖는 광 및/또는 열로 중합한 수지가, 하기 일반식 (I) ∼ (V) 중 어느 것으로 나타내는 기를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열로 중합한 수지인, 광학 필름.
    [화학식 1]
    Figure pat00034

    일반식 (I) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.
    [화학식 2]
    Figure pat00035

    일반식 (II) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
    [화학식 3]
    Figure pat00036

    일반식 (III) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다. n 은 1 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.
    [화학식 4]
    Figure pat00037

    일반식 (IV) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타내고, L＂ 는 수소 원자 또는 2 가 이상의 연결기를 나타낸다.
    [화학식 5]
    Figure pat00038

    일반식 (V) 중, L 및 L' 는 각각 독립적으로 2 가 이상의 연결기를 나타낸다.
  6. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 고리형 폴리올레핀계 수지가 하기 일반식 (A-II) 또는 (A-III) 으로 나타내는 고리형 올레핀에서 유래하는 구조 단위를 갖는 중합체인, 광학 필름.
    [화학식 6]
    Figure pat00039

    [화학식 7]
    Figure pat00040

    일반식 (A-II) ∼ (A-III) 중, m 은 0 ∼ 4 의 정수를 나타낸다. R3 ∼ R6 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기를 나타내고, X2 ∼ X3, Y2 ∼ Y3 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, 치환기를 갖고 있어도 되는 비닐기, (메트)아크릴로일기, -(CH2)nCOOR11, -(CH2)nOCOR12, -(CH2)nNCO, -(CH2)nNO2, -(CH2)nCN, -(CH2)nCONR13R14, -(CH2)nNR13R14, -(CH2)nOZ, -(CH2)nW, 또는 X2 와 Y2 혹은 X3 과 Y3 으로 구성된 (-CO)2O, (-CO)2NR15 를 나타낸다. 또한, R11, R12, R13, R14, R15 는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 20 의 탄화수소기, Z 는 탄화수소기 또는 할로겐으로 치환된 탄화수소기, W 는 SiR16 pD3-p (R16 은 탄소수 1 ∼ 10 의 탄화수소기, D 는 할로겐 원자, -OCOR16 또는 -OR16, p 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다), n 은 0 ∼ 10 의 정수를 나타낸다.
  7. 편광자와 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 갖는 편광판으로서,
    편광자, (A) 층, (B) 층을 이 순서로 갖는, 편광판.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 편광자의 막 두께가 10 ㎛ 이하이고, 편광판 전체의 두께가 40 ㎛ 이하인, 편광판.
  9. 하기 (a) ∼ (f) 의 공정을 갖는 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된, 광학 필름의 제조 방법.
    (a) 지지체 상에, 고리형 폴리올레핀계 수지와 제 1 용매를 포함하는 제 1 용액을 도포하여 제 1 도포층을 형성하는 공정
    (b) 상기 제 1 도포층에 포함되는 제 1 용매를 건조시켜 (A) 층을 얻는 공정
    (c) 상기 (A) 층 상에, 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물과 제 2 용매를 포함하는 제 2 용액을 도포하여 제 2 도포층을 형성하는 공정
    (d) 상기 제 2 도포층에 포함되는 제 2 용매를 건조시키는 공정
    (e) 상기 제 2 도포층에 포함되는 분자 중에 지환 구조를 갖는 중합성 화합물을 광 및/또는 열에 의해 중합하여 분자 중에 지환 구조를 갖는 수지를 얻어, (B) 층을 얻는 공정
    (f) 상기 (A) 층과 (B) 층을 포함하는 적층체를 상기 지지체로부터 박리하는 공정
  10. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름, 또는 제 7 항 또는 제 8 항에 기재된 편광판을 포함하는, 화상 표시 장치.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6675291B2 (ja) * 2016-09-30 2020-04-01 富士フイルム株式会社 積層体及びその製造方法、並びに、偏光板及び画像表示装置
JP7155472B2 (ja) * 2016-10-14 2022-10-19 大日本印刷株式会社 光学フィルムおよび画像表示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006030870A (ja) * 2004-07-21 2006-02-02 Nippon Zeon Co Ltd 偏光板及び液晶表示装置
JP2008518280A (ja) * 2004-10-29 2008-05-29 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 環状オレフィンコポリマーを組み入れた光学フィルム
US20080075895A1 (en) * 2004-12-24 2008-03-27 Matsushita Electric Works, Ltd. Optical Laminated Film for Liquid Crystal Display Device
TWI403523B (zh) * 2006-06-26 2013-08-01 Lg Chemical Ltd 包含極性官能基之富外式環合降冰片烯單體之製備方法，其所製成之聚合物及其製備方法
JP5021357B2 (ja) * 2007-04-16 2012-09-05 旭化成イーマテリアルズ株式会社 薄型偏光板
JP2009020485A (ja) * 2007-06-14 2009-01-29 Jsr Corp 偏光板
TWI453120B (zh) * 2007-11-15 2014-09-21 Jsr Corp A raw film of a raw ice sheet having a hard coat layer and a method for producing a raw ethylidene resin film having a hard coat layer
JP5262549B2 (ja) * 2008-10-10 2013-08-14 Ｊｓｒ株式会社 無機蒸着層を有する積層フィルムおよびその製造方法
CN102317333B (zh) * 2009-02-18 2015-06-10 Lg化学株式会社 丙烯酸类树脂组合物和包含该丙烯酸类树脂组合物的光学膜
JP2013133440A (ja) * 2011-12-27 2013-07-08 Nitto Denko Corp 粘着剤、粘着剤層、および粘着シート
US20140017418A1 (en) * 2012-05-30 2014-01-16 Lg Chem, Ltd. Aqueous composition, optical film including the same, polarizing plate using the same, and liquid crystal display device using the same

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