KR20150017706A - 제제화가 용이한 산화아연 분말 - Google Patents

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Abstract

본 개시는 약 300 nm 내지 약 600 nm 범위의 평균 입자 크기 수 분포 (D50)를 갖는, 중합체 실록산 코팅된 산화아연 분말, 및 선스크린 조성물에서의 그의 용도에 관한 것이다. 상대적으로 큰 표면적 (< 100 nm의 입자 대비)은 응집을 방지함으로써 제제화의 용이성 및 고도의 입자 분산성을 초래하는데, 이는 더 적은 광 산란 및 그에 따른 제제에서의 더 우수한 투명도로 이어진다. 또한, 상기와 같은 범위의 특정 입자 크기 수 분포 (D50)의 산화아연과 비스(레조르시닐)트리아진 UV 흡수제와의 조합은 동일 농도에서의 산화아연 및 비스 레조르시닐 트리아진 UV 흡수제 자체 단독과 비교할 때 예상치 못한 증가된 UV-A 흡광도 (320 내지 400 nm)를 나타낸다.

Description

제제화가 용이한 산화아연 분말 {EASILY FORMULATED ZINC OXIDE POWDER}
본 발명은 약 300 nm 내지 약 600 nm 범위의 평균 입자 크기 수 분포 (D50)를 갖는, 중합체 실록산 코팅된 산화아연 분말에 관한 것이다. 상기 산화아연 분말은 제제 중에 분산되었을 때 지속성인 이차 구조나 응집이 없는 산화아연 별개 입자들을 포함한다. 분산액은 분산액 내 또는 피부 상에서 높은 투명도를 나타낸다. 고도의 입자 표면적은 응집을 방지함으로써 제제화의 용이성을 초래한다. 또한, 중합체 실록산 코팅된 산화아연 분말의 비스(레조르시닐) 트리아진 UV 흡수제와의 조합은 UV-A (320 내지 400 nm) 범위에서 예상치 못한 향상된 흡광도를 나타낸다.
선스크린(sunscreen)으로서의 산화아연의 용도에 대해서는 당업계에 잘 알려져 있다. 그것은 UVA 및 UVB 파장의 전체 범위를 포함하는 뛰어난 UV 스크리닝 능력을 가지고 있다. 그것은 또한 가장 안전하고 신뢰성 있는 UV 활성물질들 중 하나인 것으로 여겨지고 있다. 또한, 그것은 고도로 광 안정성이며, 광에의 노출시 사실상 분해를 나타내지 않는다.
예를 들면, U.S. 공개 20030161795 및 U.S. 특허 5,032,390은 산화아연과 같은 물리적 UV 스크리닝제에만 의존하여 자외 방사선으로부터 피부를 보호하는 데에 사용하기 위한 산화아연 입자에 대해 기술하고 있다.
또한, 산화아연을 코팅하여 거기에 소수성 코팅을 제공함으로써 피부에서의 느낌을 개선하고 다양한 제제 내에서 입자를 분산시키는 것을 돕는 것에 대해서는 잘 알려져 있다.
구체적으로, U.S. 특허 6,045,650, 5,486,631, 5,756,788은 비-반응성이며 물에 의해 영향을 받지 않고 태양 자외선 광으로부터의 보호를 위하여 피부에 적용될 수 있는 소수성 금속 산화물로 이어지는 실록산 처리된 금속 산화물에 대해 기술하고 있다. PCT 출원 2006/105600 역시 수용성 유기규소 단량체의 수용액을 사용한 금속 산화물 입자의 처리 및 중합 개시를 통한 금속 산화물 입자의 코팅에 대해 교시하고 있다.
상기 인용된 특허 및 출원들은 나노 크기의 입자, 즉 100 nm 미만의 크기를 특징으로 하는 입자에 관한 것이다. 100 nm를 상회하는 입자 크기 범위의 산화아연 입자는 피부에 미백 효과를 야기하는 것으로 알려져 있다. 매우 작은 입자 크기의 산화아연 (< 100 nm)은 매우 바람직한 효과인 피부에서의 제제 투명도를 유지하면서도 상당량의 산화아연 혼입을 가능케 한다.
그러나, 근년에, 공공 규제 기관들은 개인 케어 제제에서의 나노입자 (입자 < 100 nm)의 사용과 관련하여 우려를 표명하고 있다. 피부에 대한 그의 흡수도와 관련한 문제, 세포 수준에서 영향을 주는 그의 능력 및 그의 거대 상대물의 것에 대비하였을 때의 그의 본질적인 독성이 우려되고 있는 것이다. 단정적인 해답은 현재 존재하지 않는다.
또한, 나노 산화아연 입자 (< 100 nm)의 제제는 수많은 과제를 제시하고 있다. 표면적이 극히 커서, 소수성 물질을 사용한 산화물의 적정한 코팅이 있다 하더라도, 입자는 입자가 선스크린제로서 균일하게 적용되도록 완전히 분산시키기 위한 추가적인 비용 및 처리 단계를 요구하는 응집의 경향이 있다. 더 용이하게 분산되는 입자를 제공하는 것은 중요하다.
따라서, 제제에서의 만족할만한 미백 효과를 가지나 100 nm보다 더 작은 입자는 배제하는 입자 크기 분포를 갖는 산화아연 입자에 대한 필요성이 여전히 존재한다.
또한, 근년의 수많은 연구에서, 320 내지 400 nm 파장 범위 (UV-A 범위)의 자외 방사선이 일광에 의해 야기되는 피부 손상에 상당한 기여를 하는 것으로 나타난 바 있다. 따라서, UV-A 방사선에 대한 적정한 차단에 대한 점증하는 요구가 존재한다. 또한, 높은 일광 차단 지수 (이하 SPF로도 지칭됨)를 갖는 일광 차단 제제들의 가용성은 사용자가 더 오랫동안 일광하에 머무르게 되며 결과적으로 증가된 양의 UV-A 방사선에 노출될 수 있다는 우려로 이어졌다.
따라서, 100 nm보다 더 작은 입자를 배제하는 크기 분포의 산화아연 입자와의 조합으로써 더 높은 UV-A 흡광도를 달성한다면 매우 바람직할 것이다.
[발명의 개요]
본 출원인은 더 높은 UV-A 흡광도 및 나노입자 배제에 대한 상기 요구를 해결하였다.
본 출원인은 특정 입자 크기 분포로 한정되며 지속성인 이차 구조 또는 응집이 없는 산화아연 입자가 뛰어난 제제화 용이성 및 선스크린 제제에서의 만족할만한 미백 효과를 제공한다는 것을 발견하였다.
따라서, 본 발명은 하기를 포함하는 선스크린 조성물에 관한 것이다:
a) 육방정계 징카이트 결정(hexagonal zincite crystal) 구조이고, 동적 광 산란(Dynamic Light Scattering) (DLS)에 의해 측정할 때 약 400 nm 내지 약 650 nm, 바람직하게는 약 450 내지 약 625, 가장 바람직하게는 약 475 nm 내지 약 600 nm의 평균 입자 크기 (부피) 분포-D50으로 한정되는 산화아연 입자로서, 분포 내 산화아연 입자의 0.0%가 100 nm 미만인 산화아연 입자 (여기서, %는 분포 내 입자의 수를 기준으로 한 것임),
b) 임의로는, 화장품용으로 허용되는 아주반트.
또한, 하기를 포함하는 농축 분산액이 본 발명에 포함된다:
a) 육방정계 징카이트 결정 구조이고, 동적 광 산란 (DLS)에 의해 측정할 때 약 400 nm 내지 약 650 nm, 바람직하게는 약 450 내지 약 625, 가장 바람직하게는 약 475 nm 내지 약 600 nm의 평균 입자 크기 (부피) 분포-D50으로 한정되는 산화아연 입자로서, 분포 내 산화아연 입자의 0.0%가 100 nm 미만인 산화아연 입자 (여기서, %는 분포 내 입자의 수를 기준으로 한 것임), 및
b) 다른 알콜과의 반응에 의해 개질된 C6-C18 지방산 디- 또는 트리-글리세리드 기재의 디- 또는 트리-글리세리드 (카프릴릭/카프릭 트리글리세리드, 밀 배아 글리세리드 등), 폴리글리세린의 지방산 에스테르 (폴리글리세릴-n, 예컨대 폴리글리세릴-4 카프레이트, 폴리글리세릴-2 이소스테아레이트 등) 또는 피마자 오일, 수소화 식물성 오일, 스윗 아몬드 오일, 밀 배아 오일, 참깨 오일, 수소화 목화씨 오일, 코코넛 오일, 아보카도 오일, 옥수수 오일, 수소화 피마자 오일, 시어 버터, 코코아 버터, 대두 오일, 밍크 오일, 해바라기 오일, 홍화 오일, 마카다미아 넛 오일, 올리브 오일, 수소화 탈로우(tallow), 살구핵 오일, 헤이즐넛 오일 및 보라고 오일, 바람직하게는 다른 알콜과의 반응에 의해 개질된 C6-C18 지방산 디- 또는 트리-글리세리드 기재의 디- 또는 트리-글리세리드 (카프릴릭/카프릭 트리글리세리드, 밀 배아 글리세리드 등)로 이루어진 군으로부터 선택되는 담체
(여기서, 산화아연 입자의 중량%는 농축 분산액의 총 중량의 약 50 이상 내지 약 90 중량%, 바람직하게는 약 60 내지 약 80 중량%를 구성함).
또한, 상기 산화아연 입자를 화장품용으로 허용되는 담체에 첨가하는 것에 의한 선스크린 조성물의 제제화 방법이 계획된다.
상기의 한정된 D50 (부피)을 갖는 상기 산화아연 입자의, 선스크린 조성물의 제제화를 위한 용도 역시 계획된다.
또한 마지막으로, 선스크린 또는 상기 농축 분산액 중 어느 하나에서, 본 발명 산화아연 분말과의 조합으로서의 비스(레조르시닐) 트리아진과 같은 특정 선스크린 활성물질과의 상기 산화아연 입자의 조합이 계획된다.
본 출원의 목적상, "포함하는"이라는 용어는 이후에 한정되거나 기술되는 특징 또는 단계에서 명시적으로 한정되거나 포함되지는 않는 본 발명에 포함되는 다른 특징 및/또는 단계가 있을 수 있다는 점에서 용어가 포괄적으로 사용되는 것을 의미한다.
"화장품용으로 허용되는 담체"라는 용어는 피부 접촉에 대해 적합한 소수성 액체를 의미한다. 그와 같은 적합한 담체는 예를 들면 액체 실리콘 또는 폴리유기실록산, 무기 오일, 수소화 폴리이소부텐, 폴리데센, 파라핀, 10개 이상 탄소 원자의 이소파라핀, 및 지방족 또는 방향족 에스테르 오일 (예컨대 이소프로필 미리스테이트, 라우릴 미리스테이트, 이소프로필 팔미테이트, 디이소프로필 세베케이트, 디이소프로필 아디페이트, 또는 C8 내지 C18 알킬 벤조에이트), 코코글리세리드, 카프릴릭/카프릭 트리글리세리드, 프로필헵틸 카프릴레이트, 디카프릴릴 카르보네이트, 에틸헥실 팔미테이트 및 에틸헥실 옥타노에이트일 수 있다. 예를 들면 물은 "화장품용으로 허용되는 담체"라는 용어에서 배제된다. 그렇기는 하나, 화장품용으로 허용되는 담체와 함께 물이 제제화될 수도 있다. 예를 들면, 화장품용으로 허용되는 담체는 오일 및 물, 또는 오일 중 물 에멀젼일 수 있다.
피부 접촉에 대해 적합한 소수성 액체는 상기에 열거한 군으로부터 선택될 수 있다.
산화아연
본 출원의 목적을 위한 산화아연은 당업계에 알려져 있는 어떠한 수단에 의해서도 수득될 수 있다. 예를 들면, U.S 특허 6,203,768은 기계-화학적 공정을 사용하여 산화아연을 형성시킨다. 기계-화학적 처리는 기계적 분쇄 동안, 또는 이후의 분쇄된 분말의 열 처리 동안의 전구체 금속 화합물과 적합한 반응물 사이의 기계적으로 활성화되는 화학 반응을 수반한다. U.S. 특허 공개 2003/0161795는 단락 [0073] 내지 [0081] 및 실시예 1에서 다양한 기계-화학적 공정들을 상세하게 기술하고 있다.
그러나, 본 출원의 산화아연은 플라스마 아크에 공급되는 아연 금속으로부터 직접 형성되는 것이 매우 바람직하다. 이후, 금속이 증기화되고 산소가 첨가되어 산화아연이 생성되며, 이것은 냉각시 응축되어 나노결정질 산화아연을 형성한다.
따라서, 산화아연은 바람직하게는 직접 건조 분말로서 형성된다. 그것은 분쇄되거나, 침전되거나, 또는 유기 전구체로부터 유도 (퓸드)되지 않는다. 이로 인하여, 입자 표면이 화학적으로 매우 "깨끗"한데, 이는 오랜 시간 동안 뛰어난 안정성을 갖는 분산액을 수득하는 것을 수월하게 한다. 또한, 최종 물질의 색상에 영향을 주는 불순물이 더 적게 존재한다.
산화아연을 생성시키는 데에 사용되는 플라스마는 예를 들면 DC 플라스마 아크, RF 플라스마, 전기 가열, 전도 가열, 화염 반응기, 유도 플라스마 또는 레이저 반응기일 수 있다.
입자의 플라스마 생성에 대해서는 당업계에 잘 알려져 있다. 구체적으로, U.S. 특허 5,200,595, 6,669,823 및 7,517,513은 우수하게 조절된 무기 입자를 생성시키기 위한 플라스마 시스템의 사용에 대해 교시하고 있다. 또한, U.S. 특허 5,460,701, 5,514,349 및 5,874,684 역시 플라스마 아크를 사용한 응집이 없는 무기 미립자의 조절 생성을 고찰하기 위한 우수한 참고문헌이 된다.
평균 입자 크기 분포
평균 입자 크기 분포는 종종 D50으로 축약된다. 평균 입자 크기 편차는 수 또는 부피 분포일 수 있다. 본 출원에서 "평균 입자 크기 분포"라는 용어가 사용되는 경우, 다르게 특정되지 않는 한, D50은 부피를 기준으로 한 것이다.
평균 입자 크기 분포의 측정치는 측정 방법에 따라 달라진다. 서로 다른 측정은 서로 다른 값에 도달하게 된다. 예를 들어, 평균 입자 크기는 BET (N2 흡착), 정적 광 산란 또는 동적 광 산란으로부터 계산될 수 있다. 본 출원인에 의해 사용된 D50 (부피) 측정은 맬번(Malvern)® 나노 ZS 기기를 사용한 동적 광 산란 (DLS) 기준이다.
본원에서 교시되는 산화아연 입자는 동적 광 산란 (DLS)에 의해 측정할 때 약 4 nm 내지 약 650 nm, 바람직하게는 약 450 내지 약 625, 가장 바람직하게는 약 475 nm 내지 약 600 nm의 평균 입자 크기 (부피) 분포-D50을 갖는다. 크기 분포가 사실상 100 nm 미만에 속하는 입자 없이 고도로 조절되기 때문에, 산화아연 입자는 뛰어난 일차 입자의 분산액을 형성하며 (응집 없음), 이는 제제에서의 더 높은 투명도로 이어진다.
상기에서 설명한 바와 같이, < 100 nm의 입자는 사실상 평균 입자 분포를 구성하지 않는 것이 매우 바람직하다. < 100 nm의 입자가 없다는 것은 입자 중 0.0%가 100 nm 미만에 속한다는 것을 의미한다. %는 총 수 분포를 기준으로 한 것이다.
산화아연의 형태구조
X-선 회절에 의해 측정할 때, 산화아연 입자 결정 구조는 징카이트 (육방정계)이다.
상기 결정 형태구조는 연장된다. 이는 막대 또는 막대-형과 동일한 것이 아니라, 투과 전자 현미경사진에서 드러나듯이, 결정이 낮은 종횡비를 갖는다는 것이다.
산화아연의 평균 결정 크기 (DXRD)는 약 150 nm 내지 약 350 nm, 바람직하게는 약 175 nm 내지 약 320 nm, 더욱 바람직하게는 약 200 nm 내지 약 300 nm로 다양하다.
이차 구조 또는 응집
본 발명의 산화아연 입자에는 이차 구조 또는 응집이 실질적으로 존재하지 않는다. 본 출원의 목적상, "이차 구조 또는 응집"이라는 용어는 입자가 별개의 것이라는 것을 의미한다. 소형 입자가 결합되어 복합 응집체를 형성하지 않는 것이다.
건조 상태에서는, 입자들이 응집된다. 그러나, 유체 중에서의 적정한 처리에 의해, 입자들은 일차 입자로 분산된다.
예컨대 바람직하게는, 선스크린 조성물은 바람직하게는 소수성인 화장품용으로 적합한 담체를 추가적으로 함유하게 되며, 이차 구조가 없는 별개 입자가 드러나도록, 산화아연 입자가 상기 담체 중에 우수하게 분산된다.
응집 또는 이차 구조는 나노물질, 특히 코팅된 나노물질에서는 방지하기가 어렵다. 나노물질은 특히 기계-화학적 공정, 콜로이드 침전, 기계적 마쇄 후 코팅에 의해 서로 결합된 응집물을 초래하는 코팅 또는 소수성 처리에 의해 생성되는 경우, 처리 동안 응집될 가능성이 있게 된다.
그러나, 본 출원에서 사용되는 나노크기의 분말은 바람직하게도 증기화 및 기체 상 핵화 (플라스마 시스템) 및 성장에 의해 생성된다. 이는 조절된 일차 입자 크기 분포를 갖는 나노입자를 생성시키고, 생성 입자 특성의 결정을 돕는 압력, 온도 및 농도와 같은 공정 파라미터들을 조절하는 것에 의해 응집도를 조절하는 것을 가능케 한다.
산화아연 입자의 처리
산화아연 입자는 그의 특성상 친수성인데, 이는 화장품 또는 선스크린 적용분야에서 빈번하게 담체 매체로 사용되는 유기 용매, 오일 및 플라스틱에 의해 입자가 비-침윤성이 되게 한다. 또한, 산화아연은 높은 광-활성을 가지고 있는데, 이는 금속 산화물과 선스크린 또는 화장품 중 다른 성분 사이의 반응에 의해 야기되는 원치 않는 효과를 초래할 수 있다.
또한, 나노 크기의 산화아연은 높은 표면 반응성을 가질 수도 있는데, 이는 이웃하는 입자들 사이의 상호작용 증가로 이어진다. 시간이 지나면서, 이는 제제 중 입자들의 엉김을 초래할 수 있다.
이와 같은 문제점들을 극복하는 일반적으로 허용되는 방법이 금속 산화물 입자를 표면 코팅하여 거기에 소수성을 부여하는 것이었다.
이와 같은 문제점을 극복하기 위한 시도에서 금속 산화물 분말을 표면 처리하는 데에는, 실리콘 및 폴리실록산과 같은 유기 규소 화합물들이 사용되어 왔다. 실리콘은 -Si-O-의 규칙적인 반복 백본을 가지며 다양한 관능성의 측기들을 포함하는 중합체이다. 가장 주목할만한 것으로서, 메틸 측기 (디메틸 폴리실록산), 메틸 및 수소 측기 (메틸 수소 폴리실록산) 및 알킬 기 (알킬 폴리실록산)를 포함하는 유기규소 화합물들이 이용되어 왔다. 또한, 실리콘의 측기는 선택된 담체 매체에 맞추어 표면 처리된 분말과 담체 매체 사이의 더 큰 친화성을 가능케 하도록 선택될 수 있다. 몇 가지 선행 기술상의 기술들이 실리콘 또는 유기규소를 사용한 금속 산화물 미세 입자 코팅용으로 개발되어 있다. 예를 들면, 용매 중에서 또는 직접 건조된 분말 상에, 유기규소 중합체가 산화아연 입자를 코팅하는 데에 사용되어 왔다. 추가적인 유기규소 단량체 또는 올리고머가 건조된 분말 또는 분산된 분말에 적용된 다음 중합될 수 있다.
건조된 분말 또는 분산된 분말은 입자의 존재하에 중합되는 단량체 또는 올리고머로 처리되는 것이 바람직하다. 이는 응집을 조절하며, 각 개별 입자를 완전하게 코팅할 가능성을 더 크게 한다. 특히 중요한 것은 중합되어 폴리알킬실세스퀴옥산 코팅을 형성하는 트리알콕시알킬 실란 단량체이다. 예를 들어, 트리에톡시옥틸 실란 단량체는 중합되어 산화아연 상에 폴리실세스퀴옥산 코팅을 형성할 수 있다. 이 단량체는 중합시 폴리실세스퀴옥산, 특히 바람직한 산화아연용 코팅인 폴리-n-옥틸실세스퀴옥산 또는 폴리카프릴실세스퀴옥산을 형성한다.
산화아연의 코팅 또는 표면처리의 중량%는 코팅된 산화아연을 기준으로 .01 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 3 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.2 내지 약 2 중량% 범위이다.
산화아연 화장품 선스크린 제제
선스크린 제제로서 특히 중요한 것은 피부용 광-차단 제제, 예컨대 선 밀크, 로션, 크림, 오일, 선블록 또는 트로피칼(tropical), 태닝전 제제 또는 애프터-선(after-sun) 제제이다. 특히 중요한 것은 일광 차단 크림, 일광 차단 로션, 일광 차단 밀크, 및 스프레이 형태의 일광 차단 제제이다.
화장품 또는 선스크린 제제는 예를 들면 크림, 겔, 로션, 알콜성 및 수성/알콜성 용액, 에멀젼, 왁스/지방 조성물, 스틱 제제, 분말 또는 연고의 형태일 수 있다. 상기 언급된 산화아연 입자 이외에도, 화장품 또는 선스크린 제제는 추가적인 화장품용으로 허용되는 아주반트를 함유할 수 있다.
화장품용으로 허용되는 아주반트는 피부 노출에 적합한 사실상 모든 성분이다. 예컨대, 화장품용으로 허용되는 아주반트는 계면활성제, 과지방화제(super-fatting agent), 오일, 유화제, 점조도 조절제, 증점제, 중합체, 안정화제, 생원성 활성 성분, 팽윤제, 추가의 UV 광-차단제, 항산화제, 굴수성제, 보존제, 가용화제, 퍼퓸 오일, 착색제, 박테리아-억제제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
특히 중요한 것은 물 및 오일을 함유하는 선스크린 조성물이다. 예를 들면, W/O, O/W, O/W/O 및 W/O/W 에멀젼 또는 미세에멀젼이다. 이러한 에멀젼은 상기한 산화아연 입자 이외에도 예를 들면 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 15 중량%, 특히 0.5 내지 10 중량%의 1종 이상 UV 흡수제, 조성물의 총 중량을 기준으로 1 내지 60 중량%, 특히 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 35 중량%의 1종 이상 오일 성분, 조성물의 총 중량을 기준으로 0 내지 30 중량%, 특히 1 내지 30 중량%, 바람직하게는 4 내지 20 중량%의 1종 이상 유화제, 조성물의 총 중량을 기준으로 10 내지 90 중량%, 특히 30 내지 90 중량%의 물, 및 0 내지 88.9 중량%, 특히 1 내지 50 중량%의 추가적인 화장품용으로 허용되는 아주반트를 함유할 수 있다.
본 발명의 산화아연 입자는 사실상 모든 양으로 화장품, 또는 선스크린 조성물을 포함하는 일광차단 조성물에 첨가될 수 있다. 예를 들면, 화장품, 선스크린 조성물을 포함하는 일광차단 조성물에서의 산화아연 입자의 중량%는 약 0.01 내지 약 25 중량%, 바람직하게는 0.1 내지 약 20 중량%, 가장 바람직하게는 1.0 내지 약 15 중량%로 다양할 수 있다 (여기서, 중량%는 제제의 총 중량을 기준으로 한 것임).
본 발명에 따른 화장품 또는 선스크린 조성물/제제는 1종 또는 1종 초과의 하기하는 바와 같은 추가적인 화합물을 함유할 수도 있다.
지방 알콜
세틸 알콜, 스테아릴 알콜, 세테아릴 알콜, 올레일 알콜, 옥틸도데칸올, C12-C15 알콜의 벤조에이트, 아세틸화 라놀린 알콜 등을 포함하여, 6 내지 18개, 바람직하게는 8 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 지방 알콜 기재의 게르베(Guerbet) 알콜.
지방산의 에스테르
선형 C6-C24 지방산의 선형 C3-C24 알콜과의 에스테르, 분지형 C6-C13 카르복실산의 선형 C6-C24 지방 알콜과의 에스테르, 선형 C6-C24 지방산의 분지형 알콜 특히 2-에틸헥산올과의 에스테르, 히드록시카르복실산의 선형 또는 분지형 C6-C22 지방 알콜 특히 디옥틸 말레이트와의 에스테르, 선형 및/또는 분지형 지방산의 다가 알콜 (예를 들면 프로필렌 글리콜, 이량체 디올 또는 삼량체 트리올) 및/또는 게르베 알콜과의 에스테르, 예를 들면 카프로산, 카프릴산, 2-에틸헥산산, 카프르산, 라우르산, 이소트리데칸산, 미리스트산, 팔미트산, 팔미톨레산, 스테아르산, 이소스테아르산, 올레산, 엘라이드산, 페트로셀린산, 리놀레산, 리놀렌산, 엘라에오스테아르산, 아라키드산, 가돌레산, 베헨산 및 에루스산, 및 이들의 기술-등급 혼합물 (예를 들면 천연 지방 및 오일의 압력 제거에서, 로엘렌 옥소합성(Roelen's oxosynthesis)으로부터의 알데히드의 환원에서, 또는 불포화 지방산의 이량체화에서 수득됨)의, 알콜 예를 들면 이소프로필 알콜, 카프로 알콜, 카프릴 알콜, 2-에틸헥실 알콜, 카프릭 알콜, 라우릴 알콜, 이소트리데실 알콜, 미리스틸 알콜, 세틸 알콜, 팔몰레일 알콜, 스테아릴 알콜, 이소스테아릴 알콜, 올레일 알콜, 엘라이딜 알콜 페트로셀리닐 알콜, 리노일 알콜, 리놀레닐 알콜, 엘라에오스테아릴 알콜, 아라키딜 알콜, 가돌레일 알콜, 베헤닐 알콜, 에루실 알콜 및 브라씨딜 알콜, 및 이들의 기술-등급 혼합물 (예를 들면 지방 및 오일, 또는 로엘렌 옥소합성으로부터의 알데히드 기재 기술-등급 메틸 에스테르의 고-압 수소화에서, 및 불포화 지방 알콜의 이량체화에서 단량체 분획으로 수득됨)과의 에스테르.
그와 같은 에스테르 오일의 예는 이소프로필미리스테이트, 이소프로필팔미테이트, 이소프로필스테아레이트, 이소프로필 이소스테아레이트, 이소프로필올레에이트, n-부틸스테아레이트, n-헥실라우레이트, n-데실올레에이트, 이소옥틸스테아레이트, 이소-노닐스테아레이트, 이소노닐 이소노나노에이트, 2-에틸헥실팔미테이트, 2-헥실라우레이트, 2-헥실데실스테아레이트, 2-옥틸도데실팔미테이트, 올레일올레에이트, 올레일에루케이트, 에루실올레에이트, 에루실에루케이트, 세테아릴 옥타노에이트, 세틸 팔미테이트, 세틸 스테아레이트, 세틸 올레에이트, 세틸 베헤네이트, 세틸 아세테이트, 미리스틸 미리스테이트, 미리스틸 베헤네이트, 미리스틸 올레에이트, 미리스틸 스테아레이트, 미리스틸 팔미테이트, 미리스틸 락테이트, 프로필렌 글리콜 디카프릴레이트/카프레이트, 스테아릴 헵타노에이트, 디이소스테아릴 말레이트, 옥틸 히드록시스테아레이트 등이다.
기타 아주반트
디에틸헥실 2,6-나프탈레이트, 디-n-부틸 아디페이트, 디(2-에틸헥실)-아디페이트, 디(2-에틸헥실)-숙시네이트 및 디이소트리데실 아셀레이트, 및 또한 디올 에스테르, 예컨대 에틸렌 글리콜 디올레에이트, 에틸렌 글리콜 디이소트리데카노에이트, 프로필렌 글리콜 디(2-에틸헥사노에이트), 프로필렌 글리콜 디이소스테아레이트, 프로필렌 글리콜 디펠라르고네이트, 부탄디올 디이소스테아레이트 및 네오펜틸 글리콜 디카프릴레이트. C6-C24 지방 알콜 및/또는 게르베 알콜의 포화 및/또는 불포화인 방향족 카르복실산 특히 벤조산과의 에스테르, C2-C12 디카르복실산의 1 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 알콜, 또는 2 내지 10개의 탄소 원자 및 2 내지 6개의 히드록시 기를 갖는 폴리올과의 에스테르.
글리세릴 에스테르 및 유도체를 포함하는 천연 또는 합성 트리글리세리드
다른 알콜과의 반응에 의해 개질된 C6-C18 지방산 기재의 디- 또는 트리-글리세리드 (카프릴릭/카프릭 트리글리세리드, 밀 배아 글리세리드 등). 폴리글리세린의 지방산 에스테르 (폴리글리세릴-n, 예컨대 폴리글리세릴-4 카프레이트, 폴리글리세릴-2 이소스테아레이트 등) 또는 피마자 오일, 수소화 식물성 오일, 스윗 아몬드 오일, 밀 배아 오일, 참깨 오일, 수소화 목화씨 오일, 코코넛 오일, 아보카도 오일, 옥수수 오일, 수소화 피마자 오일, 시어 버터, 코코아 버터, 대두 오일, 밍크 오일, 해바라기 오일, 홍화 오일, 마카다미아 넛 오일, 올리브 오일, 수소화 탈로우, 살구핵 오일, 헤이즐넛 오일, 보라고 오일 등.
장쇄 산과 알콜의 에스테르를 포함하는 왁스는 물론, 왁스-유사 특성을 갖는 화합물, 예컨대 카르나우바 왁스, 밀랍 (백색 또는 황색), 라놀린 왁스, 칸델릴라 왁스, 오조케라이트, 일본 왁스, 파라핀 왁스, 미세결정질 왁스, 세레신, 세테아릴 에스테르 왁스, 합성 밀랍 등. 또한, 세테아릴 알콜 또는 부분적 글리세리드와 같은 친수성 왁스.
진주광택 왁스:
알킬렌 글리콜 에스테르, 특히 에틸렌 글리콜 디스테아레이트; 지방산 알칸올아미드, 특히 코코 지방산 디에탄올아미드; 부분적 글리세리드, 특히 스테아르산 모노글리세리드; 다가 불포화 또는 히드록시-치환 카르복실산의 6 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 지방 알콜과의 에스테르, 특히 타르타르산의 장쇄 에스테르; 지방 물질, 예를 들면 총 24개 이상의 탄소 원자를 갖는 지방 알콜, 지방 케톤, 지방 알데히드, 지방 에테르 및 지방 카르보네이트, 특히 라우릴 및 디스테아릴 에테르; 지방산, 예컨대 스테아르산, 히드록시스테아르산 또는 베헨산, 12 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 올레핀 에폭시드의 12 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 지방 알콜, 및/또는 2 내지 15개의 탄소 원자 및 2 내지 10개의 히드록시 기를 갖는 폴리올과의 개환 생성물, 및 이들의 혼합물.
탄화수소 오일:
무기 오일 (경량 또는 중량), 바셀린 (황색 또는 백색), 미세결정질 왁스, 파라핀계 및 이소파라핀계 화합물, 폴리데센 및 폴리부텐과 같은 수소화 이소파라핀계 분자, 수소화 폴리이소부텐, 스쿠알란, 이소헥사데칸, 이소도데칸 및 기타 식물 및 동물계 유래의 것들.
실리콘 또는 실록산 (유기치환된 폴리실록산)
디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 고리형 실리콘, 및 또한 아미노-, 지방산-, 알콜-, 폴리에테르-, 에폭시-, 플루오르-, 글리코시드- 및/또는 알킬-개질된 실리콘 화합물 (실온에서 액체 또는 수지 형태 중 어느 하나일 수 있음). 선형 폴리실록산, 디메티콘 (다우 코닝 200 플루이드(Dow Corning 200 fluid)), 도미니카 로디아 미라실 소재), 디메티콘올, 고리형 실리콘 플루이드, 시클로펜타실록산 휘발성물질 (다우 코닝 345 플루이드), 페닐트리메티콘 (다우 코닝 556 플루이드). 역시 적합한 것은 200 내지 300개 디메틸실록산 단위의 평균 사슬 길이를 갖는 디메티콘의 수소화 실리케이트와의 혼합물인 시메티콘이다. 적합한 휘발성 실리콘에 대한 토드(Todd) 등의 상세한 고찰을 문헌 [Cosm. Toil. 91 , 27 (1976)]에서 추가적으로 찾아볼 수 있다.
유화제
어떠한 통상적으로 사용가능한 유화제도 조성물에 사용될 수 있다. 유화제 시스템은 예를 들면 하기를 포함할 수 있다: 카르복실산 및 그의 염; 나트륨, 칼륨 및 암모늄의 알칼리성 비누, 칼슘 또는 마그네슘의 금속성 비누, 유기 기재의 비누 예컨대 라우르산, 팔미트산, 스테아르산 및 올레산 등. 알킬 포스페이트 또는 인산 에스테르, 산 포스페이트, 디에탄올아민 포스페이트, 칼륨 세틸 포스페이트. 에톡실화 카르복실산 또는 폴리에틸렌글리콜 에스테르, PEG-n 아실레이트. 12 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 지방산 및 알킬 기에 8 내지 15개의 탄소 원자를 갖는 알킬페놀을 포함하는 2 내지 30 mol의 에틸렌 옥시드 및/또는 0 내지 5 mol의 프로필렌 옥시드로부터 분지된 8 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 선형 지방 알콜. 지방 알콜 폴리글리콜에테르 예컨대 라우레트-n, 세테아레트-n, 스테아레트-n, 올레트-n. 지방산 폴리글리콜에테르 예컨대 PEG-n 스테아레이트, PEG-n 올레에이트, PEG-n 코코에이트. 모노글리세리드 및 폴리올 에스테르. 1 내지 30 mol의 에틸렌 옥시드의 폴리올과의 첨가 생성물의 C12-C22 지방산 모노- 및 디-에스테르. 지방산 및 폴리글리세롤 에스테르 예컨대 모노스테아레이트 글리세롤, 디이소스테아로일 폴리글리세릴-3-디이소스테아레이트, 폴리글리세릴-3-디이소스테아레이트, 트리글리세릴 디이소스테아레이트, 폴리글리세릴-2-세스퀴이소스테아레이트 또는 폴리글리세릴 디메레이트. 다수의 이러한 물질 종류에 속하는 화합물들의 혼합물 역시 적합하다. 지방산 폴리글리콜에스테르 예컨대 모노스테아레이트 디에틸렌 글리콜, 지방산 및 폴리에틸렌 글리콜 에스테르, 지방산 및 사카로스 에스테르 예컨대 수크로 에스테르, 글리세롤 및 사카로스 에스테르 예컨대 수크로 글리세리드. 소르비톨 및 소르비탄, 6 내지 22개의 탄소 원자를 갖는 포화 및 불포화 지방산 및 에틸렌 옥시드 첨가 생성물의 소르비탄 모노- 및 디-에스테르. 폴리소르베이트-n 시리즈, 소르비탄 에스테르 예컨대 세스퀴이소스테아레이트, 소르비탄, PEG-(6)-이소스테아레이트 소르비탄, PEG-(10)-소르비탄 라우레이트, PEG-17-디올레에이트 소르비탄. 글루코스 유도체, C8-C22 알킬-모노 및 올리고-글리코시드 및 에톡실화 유사체 (당 성분으로는 글루코스가 바람직함). O/W 유화제 예컨대 메틸 글루세트-20 세스퀴스테아레이트, 소르비탄 스테아레이트/수크로스 코코에이트, 메틸 글루코스 세스퀴스테아레이트, 세테아릴 알콜/세테아릴 글루코시드. W/O 유화제 예컨대 메틸 글루코스 디올레에이트/메틸 글루코스 이소스테아레이트. 술페이트 및 술포네이트화 유도체, 디알킬술포숙시네이트, 디옥틸 숙시네이트, 알킬 라우릴 술포네이트, 선형 술폰화 파라핀, 술폰화 테트라프로플린 술포네이트, 나트륨 라우릴 술페이트, 암모늄 및 에탄올아민 라우릴 술페이트, 라우릴 에테르 술페이트, 나트륨 라우레트 술페이트, 술포숙시네이트, 아세일 이소티오네이트, 알칸올아미드 술페이트, 타우린, 메틸 타우린, 이미다졸 술페이트. 폴리실록산/폴리알킬/폴리에테르 공중합체 및 유도체, 디메티콘, 코폴리올, 실리콘 폴리에틸렌 옥시드 공중합체, 실리콘 글리콜 공중합체. 프로폭실화 또는 POE-n 에테르 (메록사폴), 폴록사머 또는 폴리(옥시에틸렌)m-블록-폴리(옥시프로필렌)n-블록(옥시에틸렌). 분자에 1개 이상의 4급 암모늄 기 및 1개 이상의 카르복실레이트 및/또는 술포네이트 기를 보유하는 쯔비터이온성 계면활성제. 특히 적합한 쯔비터이온성 계면활성제는 베타인, 예컨대 각각 알킬 또는 아실 기에 8 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 N-알킬-N,N-디메틸암노늄 글리시네이트, 코코알킬디메틸암모늄 글리시네이트, N-아실아미노프로필-N,N-디메틸암모늄 글리시네이트, 코코아실아미노프로필디메틸암모늄 글시시네이트 및 2-알킬-3-카르복시메틸-3-히드록시에틸이미다졸린, 및 또한 코코아실아미노에틸히드록시에틸카르복시메틸글리시네이트, N-알킬베타인, N-알킬아미노베타인이다. 알킬이미다졸린, 알킬로펩티드, 리포아미노산, 자가 에멀젼화 염기 및 문헌 [K.F. DePolo, A short textbook of cosmetology, Chapter 8, Table 8-7, p250-251]에 기술되어 있는 바와 같은 화합물들.
비이온성 염기 예컨대 PEG-6 밀랍 (및) PEG-6 스테아레이트 (및) 폴리글리세릴-2-이소스테아레이트, 글리세릴 스테아레이트 (및) PEG-100 스테아레이트, PEG-5 글리세릴 스테아레이트, 소르비탄 올레에이트 (및) 폴리글리세릴-3-리시놀레에이트, 소르비탄 스테아레이트 및 수크로스 코코에이트, 글리세릴 스테아레이트 및 라우레트-23, 세테아릴 알콜 및 세테트-20, 세테아릴 알콜 및 콜리소르베이트 60 및 PEG-150 및 스테아레이트-20, 세테아릴 알콜 및 세테아릴 폴리글루코시드, 세테아릴 알콜 및 세테아레트-20, 세테아릴 알콜 및 PEG-40 피마자 오일, 세테아릴 알콜 및 PEG-40 피마자 오일 및 나트륨 세테아릴 술페이트, 스테아릴 알콜 및 스테아레트-7 및 스테아레트-10, 세테아릴 알콜 및 스제아레트-7 및 스테아레트-10, 글리세릴 스테아레에트 및 PEG-75 스테아레이트, 프로필렌 글리콜 세테트-3 아세테이트, 프로필렌 글리콜 이소세트-3 아세테이트, 세테아릴 알콜 및 세테트-12 및 올레트-12, PEG-6 스테아레이트 및 PEG-32 스테아레이트, PEG-6 스테아레이트 및 세테트-20 및 스테아레트-20, PEG-6 스테아레이트 및 세테트-20 및 글리세릴 스테아레이트 및 스테아레트-20, 글리세릴 스테아레이트 및 세테아레트-20.
음이온성 알칼리성 염기 예컨대 PEG-2 스테아레이트 SE, 글리세릴 스테아레이트 SE, 프로필렌 글리콜 스테아레이트. 음이온성 산 염기 예컨대 세테아릴 알콜 및 나트륨 세테아릴 술페이트, 세테아릴 알콜 및 나트륨 라우릴 술페이트, 트리라네트-4 포스페이트 및 글리콜 스테아레이트 및 PEG-2 스테아레이트, 글리세릴 스테아레이트 및 나트륨 라우릴 술페이트. 양이온성 산 염기 예컨대 세테아릴 알콜 및 세트리모늄 브로마이드.
유화제는 예를 들면 조성물의 총 중량을 기준으로 1 내지 30 중량%, 특히 4 내지 20 중량%, 바람직하게는 5 내지 10 중량%의 양으로 사용될 수 있다.
O/W 에멀젼으로 제제화될 경우, 바람직하게는 이와 같은 유화제 시스템의 양은 오일 상의 5 % 내지 20%를 나타낼 수 있다.
아주반트 및 첨가제
화장품 선스크린 조성물, 예를 들면 크림, 겔, 로션, 알콜성 및 수성/알콜성 용액, 에멀젼, 왁스/지방 조성물, 스틱 제제, 분말 또는 연고는 또한 추가적인 아주반트 및 첨가제로서 약한 계면활성제, 과지방화제, 점조도 조절제, 증점제, 중합체, 안정화제, 생원성 활성 성분, 팽윤제, 추가의 UV 광-차단 인자, 항산화제, 굴수성제, 보존제, 자가-태닝제, 가용화제, 퍼퓸 오일, 착색제, 박테리아-억제제 등을 함유할 수 있다.
과지방화제
과지방화제로서 사용하기에 적합한 물질은 예를 들면 라놀린 및 레시틴, 및 또한 폴리에톡실화 또는 아크릴화 라놀린 및 레시틴 유도체, 폴리올 지방산 에스테르, 모노글리세리드 및 지방산 알칸올아미드이며, 후자는 동시에 발포 안정화제로서 작용한다.
계면활성제
적합한 약한 계면활성제, 다시 말하자면 피부에 의한 허용성이 특히 큰 계면활성제의 예에는 지방 알콜 폴리글리콜 에테르 술페이트, 모노글리세리드 술페이트, 모노- 및/또는 디-알킬 술포숙시네이트, 지방산 이세티오네이트, 지방산 사르코시네이트, 지방산 타우라이드, 지방산 글루타메이트, 알파-올레핀 술포네이트, 에테르카르복실산, 알킬 올리고글루코시드, 지방산 글루카미드, 알킬아미도베타인 및/또는 단백질 지방산 축합 생성물이 포함되는데, 후자는 바람직하게는 밀 단백질을 기재로 한다.
점조도 조절제/증점제 및 레올로지 개질제
이산화규소, 마그네슘 실리케이트, 알루미늄 실리케이트, 폴리사카라이드 또는 그의 유도체 예를 들면 히아루론산, 크산탄 검, 구아-구아, 아가-아가, 알기네이트, 카라기난, 겔란, 펙틴, 또는 개질된 셀룰로스 예컨대 히드록시셀룰로스, 히드록시프로필메틸셀룰로스. 또한, 망상 아크릴산의 폴리아크릴레이트 또는 단독중합체 및 폴리아크릴아미드, 카르보머 (카르보폴(CARBOPOL) 유형 980, 981, 1382, ETD 2001, ETD2020, 울트레즈(ULTREZ) 10) 또는 살케어(SALCARE) 시리즈 예컨대 살케어 SC80 (스테아레트-10 알릴 에테르/아크릴레이트 공중합체), 살케어 SC81 (아크릴레이트 공중합체), 살케어 SC91 및 살케어 AST (나트륨 아크릴레이트 공중합체/PPG-1 트리데세트-6), 스피겔(SEPIGEL) 305 (폴리아크릴아미드/라우레트-7), 시물겔(SIMULGEL) NS 및 시물겔 EG (히드록시에틸 아크릴레이트/나트륨 아크릴로일디메틸 타우레이트 공중합체), 스타빌렌(STABILEN) 30 (아크릴레이트/비닐 이소데카노에이트 가교중합체), 페물렌(PEMULEN) TR-1 (아크릴레이트/C10-30 알킬 아크릴레이트 가교중합체), 루비겔(LUVIGEL) EM (나트륨 아크릴레이트 공중합체), 아큘린(ACULYN) 28 (아크릴레이트/베헤네트-25 메타크릴레이트 공중합체) 등.
중합체
음이온성, 쯔비터이온성, 양쪽성 및 비-이온성 중합체로는 예를 들면 비닐 아세테이트/크로톤산 공중합체, 비닐피롤리돈/비닐 아크릴레이트 공중합체, 비닐 아세테이트/부틸 말레에이트/이소보르닐 아크릴레이트 공중합체, 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체 및 이들의 에스테르, 비가교 폴리아크릴산 및 폴리올을 사용하여 가교된 폴리아크릴산, 아크릴아미도프로필-트리메틸암모늄 클로라이드/아크릴레이트 공중합체, 옥틸 아크릴아미드/메틸 메타크릴레이트-tert-부틸아미노에틸 메타크릴레이트/2-히드록시프로필 메타크릴레이트 공중합체, 폴리비닐피롤리돈, 비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체, 비닐피롤리돈/디메틸아미노에틸 메타크릴레이트/ 비닐 카프로락탐 삼원공중합체 및 또한 임의로 유도체화된 셀룰로스 에테르 및 실리콘이 고려된다. 또한, EP 1093796 (페이지 3-8, 단락 17-68)에 기술되어 있는 바와 같은 중합체들이 사용될 수 있다.
생원성 활성 성분
생원성 활성 성분은 예를 들면 토코페롤, 토코페롤 아세테이트, 토코페롤 팔미테이트, 아스코르브산, 데옥시리보핵산, 레티놀, 비사볼롤, 알란토인, 피탄트리올, 판테놀, AHA 산, 아미노산, 세라미드, 슈도세라미드, 에센셜 오일, 식물 추출물 및 비타민 복합체를 의미하는 것으로 이해될 수 있다.
항산화제
일차 광-차단 물질들 이외에, UV 방사선이 피부 또는 모발에 침투하는 경우에 촉발되는 광화학적 반응 사슬을 차단하는 항산화제 종류의 이차 광-차단 물질을 사용하는 것 역시 가능하다. 이와 같은 항산화제의 통상적인 예는 아미노산 (예컨대 글리신, 히스티딘, 티로신, 트립토판) 및 그의 유도체, 이미다졸 (예컨대 우로칸산) 및 그의 유도체, 펩티드, 예컨대 D,L-카르노신, D-카르노신, L-카르노신 및 이들의 유도체 (예컨대 안세린), 카로티노이드, 카로텐, 리코펜 및 이들의 유도체, 클로로젠산 및 그의 유도체, 리포산 및 그의 유도체 (예컨대 디히드로리포산), 아우로티오글리코스, 프로필티오우라실 및 기타 티올 (예컨대 티오레독신, 글루타치온, 시스테인, 시스틴, 시스타민 및 이들의 글리코실, N-아세틸, 메틸, 에틸, 프로필, 아밀, 부틸, 라우릴, 팔미토일, 올레일, 리놀레일, 콜레스테릴 및 글리세릴 에스테르) 및 또한 이들의 염, 디라우릴 티오디프로피오네이트, 디스테아릴 티오디프로피오네이트, 티오디프로피온산 및 이들의 유도체 (에스테르, 에테르, 펩티드, 지질, 뉴클레오티드, 뉴클레오시드 및 염) 및 또한 술폭스이민 화합물 (예컨대 부티오닌 술폭스이민, 호모시스테인 술폭스이민, 부티오닌 술폰, 펜타-, 헥사-, 헵타-티오닌 술폭스이민), 또한 (금속) 킬레이트화제 (예컨대 히드록시 지방산, 팔미트산, 피트산, 락토페린), 히드록시산 (예컨대 시트르산, 락트산, 말산), 부식산, 담즙산, 담즙 추출물, 빌리루빈, 빌리베르딘, EDTA, EDDS, EGTA 및 이들의 유도체, 불포화 지방산 및 그의 유도체 (예컨대 리놀렌산, 리놀레산, 올레산), 엽산 및 이들의 유도체, 유비퀴논 및 유비퀴놀 및 이들의 유도체, 비타민 C 및 유도체 (예컨대 아스코르빌 팔미테이트, 마그네슘 아스코르빌 포스페이트, 아스코르빌 아세테이트), 토코페롤 및 유도체 (예컨대 비타민 E 아세테이트), 비타민 A 및 유도체 (예컨대 비타민 A 팔미테이트) 및 또한 벤조인 수지의 코니페릴 벤조에이트, 루틴산 및 그의 유도체, 글리코실루틴, 페룰산, 푸르푸릴리덴 글루시톨, 카르노신, 부틸 히드록시톨루엔, 부틸 히드록시아니솔, 노르디히드로구아이아레트산, 트리히드록시부티로페논, 요산 및 그의 유도체, 만노스 및 그의 유도체, 수퍼옥시드 디스뮤타제, N-[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오닐]술파닐산 (및 그의 염, 예를 들면 디나트륨염), 셀레늄 및 그의 유도체 (예컨대 셀레늄 메티오닌), 스틸벤 및 그의 유도체 (예컨대 스틸벤 옥시드, 트랜스-스틸벤 옥시드), 및 언급된 이들 활성 성분들의 본 발명에 있어서 적합한 유도체 (염, 에스테르, 에테르, 당, 뉴클레오티드, 뉴클레오시드, 펩티드 및 지질)이다. HALS (= "장애 아민 광 안정화제") 화합물도 언급될 수 있다. 항산화제의 존재량은 보통 선스크린 조성물의 중량을 기준으로 0.001 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.01 내지 3 중량%이다.
특히 바람직한 항산화제는 바스프(BASF)로부터 구입가능한 티노가드(Tinogard)® 계열의 것들이다. 예를 들면, 티노가드® TT (펜타에리트리틸 테트라-디-t-부틸 히드록시히드로신나메이트) 및 티노가드® TL (벤조트리아졸릴 도데실 p-크레졸)이다.
굴수성제
유동 거동을 개선하기 위하여, 굴수성제, 예를 들면 적은 수의 탄소 원자를 갖는 에톡실화 또는 비에톡실화 모노-알콜, 디올 또는 폴리올 또는 이들의 에테르 (예컨대 에탄올, 이소프로판올, 1,2-디프로판디올, 프로필렌글리콜, 글리세린, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노부틸에테르 및 유사 생성물들)을 사용하는 것 역시 가능하다. 이와 같은 목적으로 고려되는 폴리올은 바람직하게는 2 내지 15개의 탄소 원자 및 2개 이상의 히드록시 기를 갖는다. 폴리올은 또한 추가적인 관능기, 특히 아미노 기를 포함할 수 있거나, 및/또는 질소에 의해 개질될 수 있다. 통상적인 예는 하기와 같다: 글리세롤, 알킬렌 글리콜, 예를 들면 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 헥실렌 글리콜 및 또한 100 내지 1000 달톤의 평균 분자량을 갖는 폴리에틸렌 글리콜; 1.5 내지 10의 고유 축합도를 갖는 기술등급 올리고글리세롤 혼합물, 예를 들면 40 내지 50 중량%의 디글리세롤 함량을 갖는 기술등급 디글리세롤 혼합물; 메틸올 화합물, 예컨대 특히 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 트리메틸올부탄, 펜타에리트리톨 및 디펜타에리트리톨; 저급 알킬-글루코시드, 특히 알킬 라디칼에 1 내지 8개의 탄소 원자를 갖는 것들, 예를 들면 메틸 및 부틸 글루코시드; 5 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 당 알콜, 예를 들면 소르비톨 또는 만니톨; 5 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 당, 예를 들면 글루코스 또는 사카로스; 아미노당, 예를 들면 글루카민; 디알콜 아민, 예컨대 디에탄올아민 또는 2-아미노-1,3-프로판디올.
보존제 및 박테리아-억제제
적합한 보존제에는 예를 들면 메틸-, 에틸-, 프로필-, 부틸-파라벤, 벤즈알코늄 클로라이드, 2-브로모-2-니트로-프로판-1,3-디올, 데히드로아세트산, 디아졸리디닐 우레아, 2-디클로로-벤질 알콜, DMDM 히단토인, 포름알데히드 용액, 메틸디브로모글루타니트릴, 페녹시에탄올, 나트륨 히드록시메틸글리시네이트, 이미다졸리디닐 우레아, 트리클로산 및 하기 참고문헌에 열거되어 있는 추가적인 물질 종류들이 포함된다: 문헌 [K.F. DePolo-A short textbook of cosmetology, Chapter 7, Table 7-2, 7-3, 7-4 and 7-5, p210-219].
박테리아-억제제
박테리아-억제제의 통상적인 예는 그람-양성 박테리아에 대하여 특이적인 작용을 갖는 보존제, 예컨대 2,4,4'-트리클로로-2'-히드록시디페닐 에테르, 클로르헥시딘 (1,6-디(4-클로로페닐-비구아니도)헥산) 또는 TCC (3,4,4'-트리클로로카르브아닐리드)이다. 수많은 방향족 물질들 및 에테르계 오일들 역시 항미생물 특성을 가지고 있다. 통상적인 예는 정향 오일, 민트 오일 및 타임 오일의 활성 성분 유제놀, 멘톨 및 티몰이다. 중요한 천연 탈취제로는 라임 꽃 오일에 존재하는 테르펜 알콜 파르네솔 (3,7,11-트리메틸-2,6,10-도데카트리엔-1-올)이다. 글리세롤 모노라우레이트 역시 정균제인 것으로 입증되어 있다. 추가적인 박테리아-억제제의 존재량은 보통 제제의 고체 함량을 기준으로 0.1 내지 2 중량%이다.
퍼퓸 오일
퍼퓸 오일로는 천연 및/또는 합성 방향족 물질들의 혼합물이 언급될 수 있다. 천연 방향족 물질은 예를 들면 꽃 (백합, 라벤더, 장미, 재스민, 네롤리, 일랑-일랑), 줄기 및 잎 (제라늄, 파촐리, 페티그레인), 과실 (아니스열매, 고수, 캐러웨이, 주니퍼), 과실 껍질 (베르가못, 레몬, 오렌지), 뿌리 (육두구, 안겔리카, 셀러리, 카르다몬, 코스투스, 아이리스, 창포), 목재 (소나무, 백단, 유창목, 삼목, 자단), 허브 및 풀 (타라곤, 레몬 그라스, 샐비어, 타임), 침엽 및 분지 (가문비나무, 소나무, 스코틀랜드 소나무, 산 소나무), 수지 및 발삼 (풍자향, 엘레미, 벤조인, 미르, 유향, 몰약) 유래의 추출물이다. 동물 원료 역시 고려되는데, 예를 들면 사향액 및 해리향이다. 통상적인 합성 방향족 물질은 예를 들면 에스테르, 에테르, 알데히드, 케톤, 알콜 또는 탄화수소 유형의 생성물이다. 에스테르 유형의 방향족 물질 화합물은 예를 들면 벤질 아세테이트, 페녹시에틸 이소부티레이트, p-tert-부틸시클로헥실 아세테이트, 리날릴 아세테이트, 디메틸벤질카르비닐 아세테이트, 페닐에틸 아세테이트, 리날릴 벤조에이트, 벤질 포르메이트, 에틸메틸페닐 그리시네이트, 알릴시클로헥실 프로피오네이트, 스티르알릴 프로피오네이트 및 벤질 살리실레이트이다. 에테르에는 예를 들면 벤질 에틸 에테르가 포함되며; 알데히드에는 예를 들면 8 내지 18개의 탄화수소 원자를 갖는 선형 알칸알, 시트랄, 시트로넬알, 시트로넬릴 옥시아세트알데히드, 시클라멘 알데히드, 히드록시시트로넬알, 릴리알 및 부르게오날이 포함되고; 케톤에는 예를 들면 이온온, 이소메틸이온온 및 메틸 세드릴 케톤이 포함되며; 알콜에는 예를 들면 아네톨, 시트로넬올, 유제놀, 이소유제놀, 제라니올, 리날로올, 페닐 에틸 알콜 및 테르피놀이 포함되고; 탄화수소에는 주로 테르펜 및 발삼이 포함된다. 그러나, 함께 매력적인 향기를 생성하는 다양한 방향족 물질들의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 주로 방향 성분으로 사용되는 상대적으로 낮은 휘발성의 에테르계 오일 역시 퍼퓸 오일로서 적합한데, 예를 들면 샐비어 오일, 카모마일 오일, 정향 오일, 멜리사 오일, 계피 잎의 오일, 라임 꽃 오일, 주니퍼 베리 오일, 베티버 오일, 유향 오일, 풍자향 오일, 라볼라눔 오일 및 라반딘 오일이다. 바람직한 것은 베르가못 오일, 디히드로미르세놀, 릴리알, 리랄, 시트로넬올, 페닐 에틸 알콜, 헥실 신남알데히드, 제라니올, 벤질 아세톤, 시클라멘 알데히드, 리날로올, 보이스암브렌 포르테, 암브록산, 인돌, 헤디온, 산델리스, 레몬 오일, 탠저린 오일, 오렌지 오일, 알릴 아밀 글리콜레이트, 시클로베르탈, 라반딘 오일, 무스카텔 샐비어 오일, 다마스콘, 버번 제라늄 오일, 시클로헥실 살리실레이트, 베르토픽스 코유르, 이소-E-수퍼, 픽솔리드 NP, 에베르닐, 이랄데인 감마, 페닐아세트산, 제라닐 아세테이트, 벤질 아세테이트, 로즈 옥시드, 로밀라트, 이로틸 및 플로라마트 단독, 또는 이들 서로간의 혼합물을 사용하는 것이다.
착색제
착색제로는 예를 들면 문헌 ["Kosmetische Farbemittel" of the Farbstoffkommission der Deutschen Forschungsgemeinschaft, Verlag Chemie, Weinheim, 1984, pages 81 to 106]에 동의되어 있는 바와 같은 화장 목적에 적합하며 허용되는 물질들이 사용될 수 있다. 착색제는 보통 총 혼합물을 기준으로 0.001 내지 0.1 중량%의 농도로 사용된다.
추가의 UV 스크리닝제
상기한 선스크린 조성물에서 산화아연 입자와 조합될 수 있는 일광 스크리닝제에는 1(+/-)-1,7,7-트리메틸-3-[(4-메틸페닐)메틸렌]비시클로[2.2.1]헵탄-2-온; p-메틸 벤질리덴 캄포르, 1,7,7-트리메틸-3-(페닐메틸렌)비시클로[2.2.1]헵탄-2-온; 벤질리덴 캄포르, (2-히드록시-4-메톡시페닐)(4-메틸페닐)메타논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논-5-술폰산, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 알파-(2-옥소보른-3-일리덴)톨루엔-4-술폰산 및 그의 염, 1-[4-(1,1-디메틸에틸)페닐]-3-(4-메톡시페닐)프로판-1,3-디온, 메틸 N,N,N-트리메틸-4-[(4,7,7-트리메틸-3-옥소비시클로[2.2.1]-헵트-2-일리덴)메틸]아닐리늄 술페이트, 3,3,5-트리메틸 시클로헥실-2-히드록시 벤조에이트, 이소펜틸 p-메톡시신나메이트, 멘틸-o-아미노벤조에이트, 2-에틸헥실 2-시아노, 3,3-디페닐아크릴레이트, 2-에틸헥실 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-에틸헥실 4-메톡시신나메이트, 2-에틸헥실 살리실레이트, 벤조산, 4,4',4"-(1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일트리이미노)트리스-, 트리스(2-에틸헥실)에스테르, 4-아미노벤조산, 벤조산, 4-아미노-, 에틸 에스테르, 옥시란과의 중합체, 2-페닐-1H-벤즈이미다졸-5-술폰산, 2-프로펜아미드, N-[[4-[(4,7,7-트리메틸-3-옥소비시클로[2.2.1]헵트-2-일리덴)메틸]페닐]메틸]-, 단독중합체, 트리에탄올아민 살리실레이트, 3,3'-(1,4-페닐렌디메틸렌)비스[7,7-디메틸-2-옥소-비시클로[2.2.1]헵탄-1 메탄술폰산], 이산화티타늄, 2,2'-메틸렌-비스-[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸-부틸)-페놀], 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 1H-벤즈이미다졸-4,6-디술폰산, 2,2'-(1,4-페닐렌)비스-, 디나트륨 염, 벤조산, 4,4'-[[6-[[4-[[(1,1-디메틸에틸)아미노]카르보닐]페닐]아미노]1,3,5-트리아진-2,4-디일]디이미노]비스-, 페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-[2-메틸-3-[1,3,3,3,-테트라메틸-1-[(트리메틸실릴)옥시]디실록사닐]프로필]-, 디메티코디에틸벤잘말로네이트, 벤젠술폰산, 3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시-5-(1-메틸-프로필)-, 모노나트륨 염, 벤조산, 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]-, 헥실 에스테르, 1-도데칸아미늄, N-[3-[[4-(디메틸아미노)벤조일]아미노]프로필]-N,N-디메틸-, 4-메틸벤젠술폰산과의 염 (1:1), 1-프로판아미늄, N,N,N-트리메틸-3-[(1-옥소-3-페닐-2-프로페닐)-아미노]-, 클로라이드, 1H-벤즈이미다졸-4,6-디술폰산, 2,2'-(1,4-페닐렌)비스-, 1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(4-메톡시페닐)-, 1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[4-[(2-에틸헥실)옥시]페닐]-, 1-프로판아미늄, 3-[[3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1-디메틸에틸)-4-히드록시페닐]-1-옥소프로필]아미노]-N,N-디에틸-N-메틸-, 메틸 술페이트 (염), 2-프로펜산, 3-(1H-이미다졸-4-일)-, 벤조산, 2-히드록시-, [4-(1-메틸에틸)페닐]메틸 에스테르, 1,2,3-프로판트리올, 1-(4-아미노벤조에이트), 벤젠아세트산, 3,4-디메톡시-a-옥소-, 2-프로펜산, 2-시아노-3,3-디페닐-, 에틸 에스테르, 안트랄린산, p-멘트-3-일 에스테르, 2,2'-비스(1,4-페닐렌)-1H-벤즈이미다졸-4,6-디술폰산 모노 나트륨 염 또는 디나트륨 페닐 디벤즈이미다졸 테트라술포네이트, 1,3,5-트리아진-2,4,6-트리아민 및 N,N'-비스[4-[5-(1,1-디메틸프로필)-2-벤즈옥사졸릴]페닐]-N"-(2-에틸헥실)로 이루어진 군으로부터 선택되는 일련의 유기 UV 스크리닝제들이 포함될 수 있다.
특히 중요한 것은 상기한 산화아연과의 조합으로서의 하기 화학식 1을 갖는 비스(레조르시닐) s-트리아진 UV 흡수제이다.
화학식 1은 하기와 같이 정의되는 비스 레조르시닐 s-트리아진을 나타낸다:
<화학식 1>
Figure pct00001
(상기 식에서,
R1 및 R2는 서로 독립적으로 C3-C18알킬; C2-C18알케닐; 화학식 -CH2-CH(-OH)-CH2-O-T1의 라디칼이거나; 또는
R1 및 R2는 하기 화학식 4a의 라디칼이며:
<화학식 4a>
Figure pct00002
;
R12는 직접 결합; 직쇄형 또는 분지형 C1-C4알킬렌 라디칼 또는 화학식
Figure pct00003
또는
Figure pct00004
의 라디칼이고;
R13, R14 및 R15는 서로 독립적으로 C1-C18알킬; C1-C18알콕시 또는 화학식
Figure pct00005
의 라디칼이며;
R16은 C1-C5알킬이고;
m1 및 m3는 서로 독립적으로 1 내지 4이며;
p1은 0 또는 1 내지 5의 수이고;
A1은 하기 화학식 1b, 1c 또는 1d의 라디칼이며:
<화학식 1b>
Figure pct00006
<화학식 1c>
Figure pct00007
<화학식 1d>
Figure pct00008
,
R3은 수소; C1-C10알킬, -(CH2CHR5-O)n1-R4; 또는 화학식 -CH2-CH(-OH)-CH2-O-T1의 라디칼이고;
R4는 수소; M; C1-C5알킬; 또는 화학식 -(CH2)m2-O-T1의 라디칼이며;
R5는 수소; 또는 메틸이고;
T1은 수소; 또는 C1-C8알킬이며;
Q1은 C1-C18알킬이고;
M은 금속 양이온이며;
m2는 1 내지 4이고;
n1은 1-16임).
C1-C5알킬, C1-C8알킬, C1-C10알킬 및 C3-C18알킬은 직쇄형 또는 분지형 알킬 라디칼 예컨대 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀 또는 tert-아밀, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실 또는 옥타데실이다.
C2-C18알케닐은 예를 들면 알릴, 메트알릴, 이소프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-펜타-2,4-디에닐, 3-메틸-부트-2-에닐, n-옥트-2-에닐, n-도데크-2-에닐, 이소-도데세닐, n-도데크-2-에닐 또는 n-옥타데크-4-에닐이다.
바람직한 화학식 1의 비스(레조르시닐) 화합물은 A1이 하기 화학식 1a1, 1a2, 1b1 또는 1b2의 라디칼인 것들이다:
<화학식 1a1>
Figure pct00009
<화학식 1a2>
Figure pct00010
<화학식 1b1>
Figure pct00011
<화학식 1b2>
Figure pct00012
(상기 식에서, R3 및 R4는 화학식 1a 및 1b에서 정의된 바와 같음).
본 발명에 있어서 중요한 비스레조르시닐 화합물은 하기 화학식 2a, 2b, 3a 또는 3b를 갖는다:
<화학식 2a>
Figure pct00013
<화학식 2b>
Figure pct00014
<화학식 3a>
Figure pct00015
<화학식 3b>
Figure pct00016
(상기 식에서,
R6 및 R7은 서로 독립적으로 C3-C18 알킬; 또는 -CH2-CH(-OH)-CH2-O-T1이며;
R8은 C1-C10 알킬 또는 하기 화학식 2a1 또는 2a2의 라디칼이고:
<화학식 2a1>
Figure pct00017
<화학식 2a2>
Figure pct00018
;
R9는 수소; M; C1-C5 알킬; 또는 화학식 -(CH2)m-O-T2의 라디칼이며;
T1 및 T2는 서로 독립적으로 수소; 또는 C1-C5 알킬이고;
m은 1 내지 4임).
가장 중요한 것은 R6 및 R7이 서로 독립적으로 C3-C18알킬; 또는 -CH2-CH(-OH)-CH2-O-T1이고; R8이 C1-C10알킬인 화학식 2a 및 2b의 화합물; 및 R6 및 R7이 서로 독립적으로 C3-C18알킬 또는 -CH2-CH(-OH)-CH2-O-T1이고; T1이 수소; 또는 C1-C5알킬인 화학식 3a 및 3b의 화합물이다.
이와 같은 경우에서 매우 특히 바람직한 것은 R6 및 R7이 동일한 의미를 갖는 화학식 2 또는 3의 트리아진 화합물이다.
언급될 수 있는 화학식 1 화합물의 예는 하기이다:
2-(4'-메톡시페닐)-4,6-비스(2'-히드록시-4'-n-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(3-(2-프로필옥시)-2-히드록시프로필옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시]페닐}-6-[4-(2-메톡시에틸카르복실)페닐아미노]-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(트리스(트리메틸실록시실릴프로필옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(2"메틸프로페닐옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-헵타메틸트리실릴-2"-메틸프로필옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(3-(2-프로필옥시)-2-히드록시프로필옥시)-2-히드록시]페닐}-6-[4-에틸카르복실)-페닐아미노]-1,3,5-트리아진;
2,4-비스{[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(1-메틸피롤-2-일)-1,3,5-트리아진; 또는
2,4-비스{[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진.
특별히 중요한 것은 하기 화학식 1의 화합물이다:
<화학식 1>
Figure pct00019
놀랍게도, 본 발명의 분포의 산화아연 입자와 조합되었을 경우, 이러한 비스레조르시닐 s-트리아진들의 조합은 UV-A 영역에서의 UV 흡광도의 예상치 못한 증가를 제공한다.
산화아연 코팅 입자에 대한 비스레조르시닐 트리아진, 바람직하게는 화학식 2a, 2b, 3a 또는 3b의 비스레조르시닐 트리아진, 가장 바람직하게는 화학식 2a 또는 2b의 비스레조르시닐 트리아진, 특히 2,4-비스{[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시]페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진의 중량비는 사실상 모든 비일 수 있으나, 바람직하게는 선스크린 제제에서 산화아연 대 비스레조르시닐 트리아진의 비는 약 25:1 내지 1:25의 범위일 수 있다. 그러나, 가장 통상적으로는, 산화아연 입자가 선스크린 제제에서 비스레조르시닐 트리아진의 중량을 초과하게 된다. 예를 들어, 산화아연 대 비스레조르시닐 트리아진의 중량비는 약 25:1 내지 약 1;1, 가장 바람직하게는 20:1 내지 약 5:1로 다양할 수 있다.
[ 실시예 ]
본 발명에 따른 산화아연 분말의 형성
제1 단계에서는, 고순도의 아연 금속을 플라스마 아크에 공급하는데, 거기에서 그것은 증기화된다. 산화아연을 생성시키기 위하여, 산소가 아연 금속 증기에 첨가된다. 이후, 새로 형성되는 산화아연 분자가 서로 결합되기 시작하면서, 증기로부터 나노결정질 산화아연이 응축된다. 다음에, 이들 나노입자는 그의 소결 온도 미만에서 그것을 수득하기 위하여 (입자 크기 성장을 방지함) 신속하게 냉각된다. 건조 상태에서, ZnO의 나노입자는 느슨하고 비-지속성인 정전기적 응집물로 서로 결합되는데, 이는 통상적인 분말 운반 장비를 사용한 생성물의 취급 및 포장을 가능케 한다. 다른 반응, 부산물 또는 폐기물 흐름은 존재하지 않는다.
본 발명에 따른 산화아연 입자는 (코팅 전에) 동적 광 산란에 의해 측정할 때 580.8 nm의 부피 기준 D50 평균 입자 분포를 갖는다. 분포 내 0.0%의 입자가 100 nm 미만에 속한다. 결정의 형태구조는 징카이트 (육방정계)이며, 평균 결정 크기는 셰어러 식(Scherrer equation)을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정할 때 286.3 nm이다.
나노미립자 산화아연 분말의 형성
산화아연의 나노입자는 대안적인 분포의 입자가 수집된다는 것 이외에는 상기한 바와 같이 제조된다. 코팅 전의 입자는 동적 광 산란에 의해 측정할 때 378 nm의 부피 기준 D50 평균 입자 분포를 갖는다. 분포 내 2.5 %의 입자가 100 nm 미만에 속한다. 결정의 형태구조는 징카이트 (육방정계)이며, 평균 결정 크기는 셰어러 식을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정할 때 69.6 nm이다.
산화아연의 코팅
제2 단계에서는, 상이한 장비를 사용하여 본 발명에 따른 산화아연 및 나노미립자 산화아연을 트리에톡시옥틸 실란 단량체와 반응시킨다. 이와 같은 반응에서, 단량체는 산화아연의 표면 또는 그 주변에서 자체적으로 반응하며 부산물로서 에탄올을 생성시키는데, 그것은 제거된다.
이와 같은 반응은 폴리-n-옥틸실세스퀴옥산으로 코팅된 산화아연 입자를 생성시킨다.
코팅 및 비코팅 입자는 제제화되고 나면 별개인 것으로 나타난다. 입자 코팅 전 (수 중) 및 코팅 후 (오일 중)의 산화아연 분산액의 투명도는 유사한 투명도 (% 투과)를 갖는다.
코팅은 본 발명의 산화아연 분말 및 나노미립자 산화아연 분말 모두에서 코팅된 입자의 총 중량을 기준으로 약 1 중량%를 구성한다.
실시예 1
제1 단계에서 본 발명에 따른 산화아연 분말을 제조한 다음, 제2 단계에서 그것을 코팅하여 소수성이 되게 한다.
실시예 2
입자 분포가 100 nm 미만에 속하고 셰어러 식을 사용하여 X-선 회절에 의해 측정된 평균 결정 크기가 실시예 1의 것과 다르다는 것 이외에는 실시예 1에서와 같이 나노 미립자 산화아연 분말을 제조한다.
Figure pct00020
1. 맬번 나노 ZS에서 동적 광 산란에 의해 측정된 부피 기준 D50.
2. XRD에 의해 측정된 결정 크기; 셰어러 식에 의한 결정 크기.
3. 투과 전자 현미경법에 의해 측정된 형태구조 및 X-선 회절에 의해 측정된 상 순도.
화장품용 담체 중 산화아연의 농축 분산
70 그램의 폴리-n-옥틸실세스퀴옥산 코팅된 실시예 1의 산화아연 입자를 화장품용으로 적합한 담체로서의 카프릴릭 카프릭 트리글리세리드 (미리톨(Myritol)® 312) 30 그램과 강하게 혼합하여 안정한 분산액을 형성시킨다.
적용 제제
실시예 2
UV 방어 선-케어 크림
SPF 15
성분 %w/w
상 A
탈이온수 q/s
DC 193 플루이드 (디메티콘 코폴리올)2 0.10
EDETA® BD (디나트륨 EDTA)1 0.10
상 B
글리세린 (글리세린)3 3.00
켈트롤 CG (크산탄 검)4 0.20
비검 울트라 (마그네슘 알루미늄 실리케이트)5 0.60
상 C
크레모포어® GS 32 (폴리글리세릴-3 디스테아레이트)1 3.00
크레모포어® A 20 (세테아레트-20)1 1.75
라네트 O (세테아릴 알콜)1 3.00
세티올 B (디부틸 아디페이트)1 8.00
세티올 A (헥실 라우레이트)1 5.00
UV CUT TiO2-55-AC (이산화티타늄 및 C12-15 알킬 벤조에이트 및 시클로펜타실록산 및 스테아르산 및 폴리히드록시스테아르산 및 알루미나)6 8.00
실시예 1 (산화아연 및 트리에톡시카프릴리실란 ) 1 11.50
상 D
글리단트 플러스 플루이드 (DMDM 히단토인 (및) 로도프로피닐 부틸카르바메이트)7 0.50
향료 (카모마일 향료 6109505)8 0.05
절차:
프로펠러 혼합을 사용하여 상 A를 합하고, 75-80℃로 가열한다.
상 B를 상 A에 첨가하고, 잘 혼합한다.
상 C를 합친 후, 75-80℃로 가열하고, 1-3분 동안 균질화한다.
균질화기를 사용하여 상 C를 상 A/B에 첨가하고, 4-5분 동안 균질화한다.
스윕 혼합(sweep mixing)으로 전달하고, 40℃로 냉각한다.
상 D를 배치에 첨가하고, 잘 혼합한다.
실온으로 냉각한다.
공급자
1. 바스프, 2. 다우 코닝 Corp., 3. 진(Jeen), 4. CP 켈코(Kelco), 5. R.T. 반데르빌트(Vanderbilt), 6. 그랜트(Grant), 7. 론자(Lonza) Inc, 8. 벨 플레이버스 앤드 프래그란시즈(Bell Flavors and Fragrances)
실시예 3
베이비 선스크린 스틱
SPF 30
성분 %w/w
상 A
리포볼® CO (리시누스 콤뮤니스 (피마자) 종자 오일)2 q.s.
세티올® SB-45 (부티로스페르뮴 파르키이 (시어 버터))1 4.33
백색 밀랍 SP422P (밀랍)3 6.00
칸델릴라 왁스 SP 75 (유포리아 세리페라 (칸델릴라) 왁스)3 6.00
오조케라이트® 왁스 향정 SP273 P (오조케라이트)3 4.50
세티올® A (헥실 라우레이트)1 2.13
세티올® 센소프트 (프로필헵틸 카프릴레이트)1 3.26
상 B
리포볼® CO (리시누스 콤뮤니스 (피마자) 종자 오일)2 10.00
세티올® B (디부틸 아디페이트)1 4.60
펠레몰® PHS-8 (폴리히드록시스테아르산)4 0.50
유비눌® MC 80 (에틸헥실 메톡시신나메이트)1 7.50
티노가드® TL (벤조트리아졸릴 도데실 p-크레졸)1 0.50
유비눌® N 539T (옥토크릴렌)1 5.50
라네트® 18 (스테아릴 알콜)1 3.00
루비톨® 라이트 (수소화 폴리이소부텐)1 4.00
실시예 1 (산화아연 및 트리에톡시카프릴릴실란)1 11.50
티노가드® TT (펜타에리트리틸 테트라-디-t-부틸 히드록시히드로신나메이트)1 0.05
세티올® RLF (카프릴릴-카프릴레이트 카프레이트)1 4.50
비타민 E 아세테이트 (토코페릴 아세테이트)1 0.75
비사볼올 Rac. (비사볼올)1 0.75
육실 K 300 (페녹시에탄올 및 메틸파라벤 및 에틸파라벤 및 부틸파라벤 및 프로필파라벤 및 이소부틸파라벤)5 0.75
다우 코닝 EP 9261 TI 화장품용 분말 (디메티콘/비닐 디메티콘 가교중합체 및 이산화티타늄)6 1.50
절차:
상 A를 합하고, 잘 혼합하고, 85℃로 가열한다.
상 B를 합하고, 혼합하면서 85℃로 가열한 다음, 균일해질 때까지 균질화한다.
85℃를 유지하면서 상 B를 상 A에 첨가하고, 저속 내지 중간 속도로 3분 동안 균질화한다.
혼합하면서 금형으로 전달하고, 냉각을 개시한다.
60-65℃에서 충전을 개시한다.
공급자
1. 바스프, 2. 리포(Lipo), 3. 스트랄 & 피츄(Strahl & Pitsch), 4. 피닉스 케미칼(Phoenix Chemical), 5. 슐케 & 메이어(Schulke & Mayr), 6. 다우 코닝.
실시예 4
소프트 선스크린 크림
SPF 15
성분 %w/w
상 A
세티올® 센소프트 (프로필헵틸 카프릴레이트)1 5.00
유비눌® MC 80 (옥티녹세이트)1 7.50
크레모포어® WO7 (PEG-7 수소화 피마자 오일)1 3.50
루비톨® 라이트 (수소화 폴리이소부텐)1 5.00
실시예 1 (산화아연 (및) 트리에톡시카프릴릴실란)1 6.00
크레모포어® GS32 (폴리글리세릴-3 디스테아레이트)1 2.00
데히물스® LE (PEG-30 디폴리히드록시스테아레이트)1 3.00
세티올® RLF (카프릴릴-카프릴레이트 카프레이트)1 6.00
백색 밀랍 SP-422P (밀랍)2 1.75
미리톨® 331 (코코글리세리드)1 5.00
비타민 E 아세테이트 (토코페릴 아세테이트)1 0.50
비사볼올, rac (비사볼올)1 0.20
다우 코닝 556 (페닐 트리메티콘)4 2.00
상 B
탈이온수 Q/S
글리세린 99.7 % (글리세린)3 2.00
다우 코팅 193 C 플루이드 (PEG-12 디메티콘)4 1.00
소금 (나트륨 클로라이드)5 0.50
오리스타® MS (마그네슘 술페이트)6 0.10
상 C
글리단트 플러스 플루이드 (DMDM 히단토인 이도프로피닐 부틸카르바메이트)7 0.50
바이올렛 앰버 및 샌달우드 향료 F-1383988 0.20
절차:
상 A를 합하고, 75-80℃로 가열하고, 매끄럽고 균일해질 때까지 균질화한다.
상 B를 합하고, 75-80℃로 가열한다.
75-80℃를 유지하면서 상 B를 상 A에 첨가하고, 저속/중간 속도에서 1-3분 동안 균질화한다.
스윕 혼합으로 전달하고, 냉각을 개시한다.
40℃ 이하에서 상 C를 하나씩 첨가하고, 잘 혼합한 다음 중지한다.
공급자
1. 바스프, 2. 스트랄 & 피츄, 3. 진, 4. 다우 코닝, 5. 카르길(Cargill), 6. 오리엔트 스타스(Orient Stars), 7. 론자(Lonza) Inc, 8. 인타롬(Intarome)
실시예 5
데일리 웨어 SPF 트리트먼트
추정 SPF 30
성분 %w/w
상 A
탈이온수 q.s.
D-판테놀 75W (판테놀)1 0.75
EDTA BD (디나트륨 EDTA)1 0.10
상 B
글리세린 (글리세린 99 %)2 2.00
켈트롤® CG (크산탄 검)3 0.25
비검® 울트라 (마그네슘 알루미늄 실리케이트)4 0.35
상 C
라네트® 22 (베헤닐 알콜)1 2.00
크레모포어® GS 32 (폴리글리세릴-3 디스테아레이트 검)1 1.75
에물게이드® PL 68/50 (세테아릴 글루코시드 및 세테아릴 알콜)1 2.75
크레모포어® WO-7 (PEG-7 수소화 피마자 오일)1 0.20
미리톨® 331 (코코글리세리드)1 3.50
유비눌® 539T (옥토크릴렌)1 4.00
세티올® OE (디카프릴릴 에테르)1 3.00
상 D
실시예 1 (산화아연 및 트리에톡시카프릴리실란)1 11.50
유비눌® MC 80 (에틸헥실 메톡시신나메이트)1 7.50
세티올® RLF (카프릴릴-카프릴레이트 카프레이트)1 3.50
세티올® 센소프트 (프로필헵틸 카프릴레이트)1 3.50
상 E
지사이드® P (페녹시에탄올 및 메틸파라벤 및 에틸파라벤 및 부틸 파라벤 및 프로필파라벤 및 이소부틸파라벤)2 0.75
마린 충전 구체 (펜타에리트리틸 테트라이소스테아레이트 및 실리카 디메틸 실릴레이트 및 나트륨 콘드로이틴 술페이트 및 아텔로콜라겐 및 부틸렌 글리콜)1 1.00
델리너 (제아 메이스 (옥수수) 인 추출물 및 부틸렌 글리콤 및 크산탄 검)1 1.00
향료 (피부 케어용 유니섹스 향료 #2)5 0.10
절차:
상 A를 합하고, 75-80℃로의 가열을 개시한다.
상 B를 사전혼합하고, 75-80℃로 가열하면서 상 A에 첨가한다.
상 C를 합하고, 75-80℃로 가열한다.
상 D를 합하고, 매끄러워질 때까지 균질화하고, 75-80℃로 가열한다.
75-80℃로 가열하면서 상 D를 상 C에 첨가하고, 1-3분 동안 균질화한다.
균질화하에 상 C/D를 배치에 첨가하고, 균일해질 때까지 균질화한다.
스윕 혼합으로 전달하고, 냉각을 개시한다.
상 E 성분들을 하나씩 첨가하고, 첨가 사이에는 잘 혼합한다.
실온으로 냉각하고, 중지한다.
공급자
1. 바스프, 2. 진, 3. CP 켈코, 4. RT 반데르빌트, 5. 인타롬.
비교 연구
모두 동일한 기본 제제를 사용하는 6종의 선스크린 제제를 비교한다.
Figure pct00021
공급자
1. 바스프, 2. CP 켈코, 3. RT 반데르빌트, 4. 슐케 & 메이어 게엠베하.
대조군은 UV 흡수제를 함유하지 않는다 (대조군).
제제 1은 15 중량%의 실시예 1 산화아연을 함유한다.
제제 2는 2 중량%로 티노소르브® S를 함유하나, 산화아연은 함유하지 않는다.
제제 3은 15 중량%의 실시예 1 산화아연 및 2 중량%의 티노소르브® S를 함유한다.
제제 4는 입자 분포가 실시예 2에서와 같은 15 중량%의 산화아연을 함유한다.
제제 5는 입자 분포가 실시예 2에서와 같은 15 중량%의 산화아연, 및 2 중량%의 티노소르브® S를 함유한다.
대조군으로서, ~0.75 mg/cm2 샘플 제제 및 글리세린을 사용하여 PMMA 플레이트를 코팅한다. FDA 선스크린 분석 (2011) 프로토콜에 따라 랩스피어(Labsphere) 2000S를 사용하여 대조군 및 각 샘플에 대하여 290 nm 내지 400 nm의 흡광도 스펙트럼을 비교한다.
각 시험 플레이트마다 9개 위치에서 미가공 기기 데이터를 평균하여 평균 흡광도를 수득한다. 각 샘플에 대하여, 어떠한 선스크린도 없는 제제의 흡광도를 데이터로부터 차감하여, 소정의 배경 (직선성 가정)을 보정한다.
제제 3의 초과 흡광도(excess absorbance)는 제제 3 (실시예 1의 산화아연 및 티노소르브® S 모두를 함유)의 흡광도를 수득한 다음, 제제 1 및 2의 흡광도를 차감함으로써 측정한다.
370 nm를 상회하는 파장 (UVA 영역)에서, 실시예 1의 산화아연 및 티노소르브® S 모두를 함유하는 제제 3의 초과 흡광도는 명백하게 양성이다.
상기와 유사한 방식으로, 제제 5 (나노미립자 산화아연 및 티노소르브® S 함유)에 대해서도 초과 흡광도를 측정한다.
제제 5의 초과 흡광도는 제제 5 (실시예 2의 산화아연 및 티노소르브® S 모두를 함유)의 흡광도를 수득한 다음, 제제 4 및 2의 흡광도를 차감함으로써 측정한다.
370 nm를 상회하는 파장 (UVA 영역)에서, 실시예 1의 산화아연 및 티노소르브® S 모두를 함유하는 제제 3의 초과 흡광도는 명백하게 양성이다.
380 nm를 상회하는 파장에서의 제제 5의 흡광도 초과도 존재한다 (그러나, 제제 5의 본 발명 조합에 의해 나타나는 것만큼 유의성이 있지는 않음). 그러나 더욱 유의성 있게는, 제제 3과 비교하였을 때 제제 5에서 290 nm 내지 375 nm 범위에서의 명백하게 더 낮은 흡광 성능이 존재한다.
결과는 하기 표 3에 제시한다.
Figure pct00022

Claims (12)

  1. a) 육방정계 징카이트 결정 구조이고, 동적 광 산란 (DLS)에 의해 측정할 때 약 400 nm 내지 약 650 nm, 바람직하게는 약 450 내지 약 625 nm, 가장 바람직하게는 약 475 nm 내지 약 600 nm의 평균 입자 크기 (부피) 분포-D50으로 한정되는 산화아연 입자이고, 여기서 산화아연 입자의 0.0%가 100 nm 미만에 속하고, %는 분포 내 입자의 수를 기준으로 한 것인 산화아연 입자, 및
    b) 임의로는, 화장품용으로 허용되는 아주반트
    를 포함하는 선스크린 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 산화아연이 XRD 및 셰어러 식(Scherrer equation)에 의해 측정할 때 150 nm 내지 약 350 nm, 바람직하게는 약 175 nm 내지 약 320 nm, 가장 바람직하게는 약 200 nm 내지 약 300 nm로 다양한 평균 결정 크기를 갖는 것인 선스크린 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 산화아연 입자가 선스크린 조성물의 약 0.1 내지 약 25 중량%를 구성하는 것인 선스크린 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 계면활성제, 과지방화제(super-fatting agent), 오일, 유화제, 점조도 조절제, 증점제, 중합체, 안정화제, 생원성 활성 성분, 팽윤제, 추가의 UV 광-차단제, 항산화제, 굴수성제, 보존제, 가용화제, 퍼퓸 오일, 착색제, 박테리아-억제제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 화장품용으로 허용되는 아주반트를 함유하고, 화장품용으로 허용되는 담체는 피부 접촉에 대해 적합한 소수성 액체를 의미하는 것인 선스크린 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 화장품용으로 허용되는 아주반트가 하기 화학식 2a, 2b, 3a 및 3b로 정의되는 군으로부터 선택된 UV 광-차단제인 선스크린 조성물.
    <화학식 2a>
    Figure pct00023

    <화학식 2b>
    Figure pct00024

    <화학식 3a>
    Figure pct00025

    <화학식 3b>
    Figure pct00026

    상기 식에서,
    R6 및 R7은 서로 독립적으로 C3-C18알킬; 또는 -CH2-CH(-OH)-CH2-O-T1이고;
    R8은 C1-C10알킬 또는 하기 화학식 2a1 또는 화학식 2a2의 라디칼이고:
    <화학식 2a1>
    Figure pct00027

    <화학식 2a2>
    Figure pct00028
    ;
    R9는 수소; M; C1-C5알킬; 또는 화학식 -(CH2)m-O-T2의 라디칼이고;
    T1 및 T2는 서로 독립적으로 수소; 또는 C1-C5알킬이고;
    m은 1 내지 4이다.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 산화아연이 소수성으로 코팅된 것인 선스크린 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 산화아연 입자 상의 소수성 코팅이 코팅된 산화아연의 총 중량을 기준으로 .01 내지 약 5 중량%, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 3 중량%, 가장 바람직하게는 약 0.2 내지 약 2 중량%의 범위인 선스크린 조성물.
  8. 제7항 또는 제8항에 있어서, 소수성 코팅이 폴리실록산, 바람직하게는 폴리실세스퀴옥산인 선스크린 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 크림, 겔, 로션, 알콜성 및 수성/알콜성 용액, 에멀젼, 왁스/지방 조성물, 스틱 제제, 분말 또는 연고의 형태인 선스크린 조성물.
  10. a) 제1항에 따른 산화아연 입자, 및
    b) 다른 알콜과의 반응에 의해 개질된 C6-C18 지방산 디- 또는 트리-글리세리드 기재의 디- 또는 트리-글리세리드 (카프릴릭/카프릭 트리글리세리드, 밀 배아 글리세리드 등), 폴리글리세린의 지방산 에스테르 (폴리글리세릴-n, 예컨대 폴리글리세릴-4 카프레이트, 폴리글리세릴-2 이소스테아레이트 등) 또는 피마자 오일, 수소화 식물성 오일, 스윗 아몬드 오일, 밀 배아 오일, 참깨 오일, 수소화 목화씨 오일, 코코넛 오일, 아보카도 오일, 옥수수 오일, 수소화 피마자 오일, 시어 버터, 코코아 버터, 대두 오일, 밍크 오일, 해바라기 오일, 홍화 오일, 마카다미아 넛 오일, 올리브 오일, 수소화 탈로우, 살구핵 오일, 헤이즐넛 오일 및 보라고 오일, 바람직하게는 다른 알콜과의 반응에 의해 개질된 C6-C18 지방산 디- 또는 트리-글리세리드 기재의 디- 또는 트리-글리세리드로 이루어진 군으로부터 선택된 화장품용으로 허용되는 담체
    를 포함하며, 여기서 산화아연 입자의 중량%는 농축 분산액의 총 중량의 약 50 이상 내지 약 90 중량%, 바람직하게는 약 60 내지 약 80 중량%를 구성하는 것인 농축 분산액.
  11. 제1항에 따른 분포의 산화아연 입자를, 피부 접촉에 대해 적합한 소수성 액체인 화장품용으로 허용되는 담체에 첨가하는 것에 의한, 선스크린 조성물의 제제화 방법.
  12. 선스크린 조성물의 제제화를 위한, 제1항에 따른 분포의 산화아연 입자의 용도.
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