KR20150009291A - 접이식 터치 스크린 패널 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 접이식 터치 스크린 패널을 개시한다. 본 발명은, 고분자 수지로 형성되는 박막 기판과, 상기 박막 기판의 일면 또는 양면에 패턴으로 형성된 센싱전극을 복수 개 구비하는 센싱전극부 및 상기 센싱전극부의 외곽에 형성되며, 상기 센싱전극의 일단 또는 양단에 연결된 금속배선을 복수 개 구비하는 금속배선부를 포함하며, 상기 센싱전극부는 접힘영역과, 상기 센싱전극부에서 상기 접힘영역을 제외한 나머지인 비접힘영역으로 구분된다.

Description

접이식 터치 스크린 패널{Foldable touch screen panel}
본 발명은 터치 스크린 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 접이식 터치 스크린 패널에 관한 것이다.
근래에는 키보드와 마우스 등과 같은 별도의 입력장치 없이도, 사용자가 손이나 펜 등으로 화면과 직접 접촉하여 정보를 입력하는 터치 스크린 패널(touch screen panel)의 수요가 비약적으로 성장하고 있다. 특히 최근에는 휴대가 간편하면서도 큰 크기의 화면을 구현할 수 있다는 점에서 접이식 터치 스크린 패널(foldable touch screen panel)이 각광받고 있는데, 이는 핸드폰, PMP(portable multimedia player), 네비게이션, UMPC(ultra moblile personal computer), 전자책, 전자신문 등과 같은 모바일 장치뿐만 아니라 TV, 모니터 등의 다양한 분야에 응용되고 있다.
한편 종래 터치 스크린 패널에서는 패널상에서 입력 위치를 검출하는 센싱전극들을 투명 전도성 물질인 인듐 주석 산화물(ITO, indium tin oxide)로 형성하여 왔다. 이하에서는 도 1을 중심으로 종래 터치 스크린 패널에 관하여 구체적으로 기술하도록 한다.
도 1은 종래 터치 스크린 패널(100)을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 1을 참고하면, 종래 터치 스크린 패널(100)은 기판(110)과, 기판(110)의 일면 또는 양면에 패턴으로 형성된 센싱전극(120)을 복수 개 구비하는 센싱전극부와, 센싱전극부의 외곽에 형성되며, 센싱전극(120)의 일단 또는 양단에 연결된 금속배선(130)을 복수 개 구비하는 금속배선부를 포함할 수 있다. 또한, 기판(110)의 일측 가장자리에 배치되며, 금속배선부를 회로기판(미도시)에 연결하는 접속부(140)를 포함할 수 있다.
그런데 상기와 같이 형성되는 터치 스크린 패널(100)의 경우, 센싱전극(120)에 인듐 주석 산화물을 적용함으로써 광학적, 전기적 특성은 좋은 반면, 플렉시블(flexible)한 특성이 부족하다는 문제가 있다. 따라서 잘 휘거나 접힐 수 있는 특성이 요구되는 접이식 터치 스크린 패널에 있어서 표면저항이 크고 플렉시블한 특성이 낮은 인듐 주석 산화물로는 그 센싱전극 패턴을 구현하는데 한계가 있다.
본 발명의 실시예들은 지정된 영역에서 플렉시블하게 접히는 접이식 터치 스크린 패널을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면은, 고분자 수지로 형성되는 박막 기판과, 상기 박막 기판의 일면 또는 양면에 패턴으로 형성된 센싱전극을 복수 개 구비하는 센싱전극부 및 상기 센싱전극부의 외곽에 형성되며, 상기 센싱전극의 일단 또는 양단에 연결된 금속배선을 복수 개 구비하는 금속배선부를 포함하며, 상기 센싱전극부는 접힘영역과, 상기 센싱전극부에서 상기 접힘영역을 제외한 나머지인 비접힘영역으로 구분되는 접이식 터치 스크린 패널을 제공할 수 있다.
또한, 상기 박막 기판의 일측 가장자리에 배치되며, 상기 금속배선부를 회로기판에 연결하는 접속부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 박막 기판은 0.01 내지 1mm의 두께로 형성될 수 있다.
또한, 상기 고분자 수지는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate), 사이클릭올레핀폴리머(COP, cyclicolefinpolymer), 폴리에테르설폰(PES, polyethersulfone), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN, polyethylenenaphthalate), 폴리아릴레이트(Polyarylate, PA), 가교형 에폭시, 가교형 우레탄 중 적어도 하나일 수 있다.
또한, 상기 비접힘영역을 제외한 상기 접힘영역에서 접히도록 형성될 수 있다.
또한, 상기 접힘영역에서 접히는 굴곡이 10mm 이하의 곡률반경으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 접힘영역에 형성된 상기 센싱전극의 표면저항은 500Ω/sq 이하일 수 있다.
또한, 상기 접힘영역과 상기 비접힘영역은 서로 다른 재질로 형성될 수 있다.
또한, 상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물(ITO, indium tin oxide)로 형성되고, 상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 가요성 물질로 형성될 수 있다.
또한, 상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물로 형성되고, 상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층된 구조로 형성될 수 있다.
또한, 상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물로 형성되고, 상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층되고 그 사이에 보호막이 개재되는 구조로 형성될 수 있다.
또한, 상기 가요성 물질은 은나노와이어(AgNW, Ag nanowire), 탄소나노튜브(CNT, carbon nanotube), 그래핀(graphene) 중 어느 하나일 수 있다.
또한, 상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물로 형성되고,
상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 금속으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 상기 금속의 세선(細線)들에 의해 메시(mesh) 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 세선은 10㎛ 이하의 선폭으로 형성될 수 있다.
또한, 상기 금속은 Ag, Al, Cu, Cr, Ni, Mo 중 어느 하나 또는 이들의 합금일 수 있다.
또한, 상기 금속배선부의 각각의 상기 금속배선은 상기 센싱전극부의 각각의 상기 센싱전극과 일대일로 대응하여 연결될 수 있다.
또한, 상기 접속부에서 복수 개의 상기 금속배선들이 모여 상기 접힘영역의 접힘축 방향으로 회로기판과 연결될 수 있다.
본 발명의 실시예들은 패널의 지정된 영역에서 플렉시블하게 접힐 수 있다. 즉 본 발명의 실시예들은 기존의 터치 스크린 패널보다 센싱전극의 플렉시블한 특성이 향상되어, 패널이 접힐 때 센싱전극에 균열이 생기거나 깨지는 문제를 방지할 수 있다.
도 1은 종래 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예들에 따른 접이식 터치 스크린 패널을 적용한 표시 장치의 접은 모습을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 4 내지 도 6은 도 3의 A-A'선을 따라 절취한 본 발명의 실시예들을 개략적으로 도시한 단면도들이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 접이식 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 8은 도 7의 B-B'선을 따라 절취한 본 발명의 일 실시예를 개략적으로 도시한 단면도이다.
본 발명은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
도 2는 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 접이식 터치 스크린 패널을 적용한 표시 장치의 접은 모습을 도시한 사시도이다.
도 2에서 보는 바와 같이, 일반적으로 접이식 터치 스크린 패널은 패널의 전체 영역에서 접히는 것이 아닌, 지정된 영역(접힘축 L, L')에서 접히는 특성이 요구된다. 가령 화면의 정가운데 혹은 1/3을 기준으로 접히는 형태, 화면의 외곽에 위치하는 아이콘 영역이 접히는 형태 등을 그 예로 들 수 있다.
따라서, 이러한 접힘 형태를 만족시키기 위해서는 접힘이 발생하는 영역에서만큼은 플렉시블한 센싱전극을 형성할 필요가 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 접이식 터치 스크린 패널(200)을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 3을 참고하면, 접이식 터치 스크린 패널(200)은 고분자 수지로 형성되는 박막 기판(210)을 포함할 수 있다. 접이식 혹은 가요성 표시 장치를 구현하는 패널의 경우, 그 플렉시블한 특성을 확보하기 위하여 기존의 유리 기판보다는 고분자 수지의 필름형태의 기판을 사용하게 된다. 이때, 박막 기판(210)은 잘 휘거나 접힐 수 있도록 0.01 내지 1mm 의 두께로 형성될 수 있다. 또한, 박막 기판(210)을 형성하는 재료인 고분자 수지는 그 플렉시블한 특성과 내열성 및 내화학성 등을 고려하여 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate), 사이클릭올레핀폴리머(COP, cyclicolefinpolymer), 폴리에테르설폰(PES, polyethersulfone), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN, polyethylenenaphthalate), 폴리아릴레이트(Polyarylate, PA), 가교형 에폭시, 가교형 우레탄 중 적어도 하나가 선택될 수 있다.
한편, 상기와 같은 박막 기판(210)은 센싱전극을 형성하여 화상을 표시하는 활성영역(active area)과 활성영역 외곽에 위치하여 금속배선(230)을 형성하는 비활성영역(non-active area)로 구분될 수 있다.
센싱전극부는 박막 기판(210)의 일면 또는 양면에 패턴으로 형성된 센싱전극을 복수 개 구비할 수 있다. 이러한 센싱전극부는 접힘영역(240)과 센싱전극부에서 접힘영역(240)을 제외한 나머지인 비접힘영역(220)으로 구분될 수 있다. 이때, 접이식 터치 스크린 패널(200)은 비접힘영역(220)을 제외한 접힘영역(240)에서만 접힘축(L1)을 중심으로 접히도록 형성될 수 있는데, 위의 접힘영역(240)에서 접이식 터치 스크린 패널(200)이 접히는 굴곡은 10mm 이하의 곡률반경으로 형성될 수 있다.
그런데 완만하게 휘어지는 것이 아닌, 상기와 같이 접힐 정도의 굴곡으로 휘어지게 되는 경우, 그 접힘영역(240)에서 센싱전극에 균열 및 깨짐 현상이 발생할 수 있다. 특히 기존에 인듐 주석 산화물(ITO, indium tin oxide)과 같은 투명 도전성 물질을 이용하여 센싱전극을 형성하게 되면, 그 플렉시블한 특성이 부족하여 위와 같은 문제점에 노출될 수 있다. 이때, 상기와 같은 균열 및 깨짐 현상을 방지하기 위해 접힘영역(240)에 형성된 센싱전극의 표면저항은 500Ω/sq 이하일 수 있다.
따라서 센싱전극부에서의 접힘영역(240)과 비접힘영역(220)은 서로 다른 재질로 형성될 수 있다. 즉 센싱전극부에 있어서 비접힘영역(220)의 전극 패턴은 광학적 특성 및 전기적 특성이 우수한 인듐 주석 산화물(ITO)로 형성되고, 접힘영역(240)의 전극 패턴은 플렉시블한 특성이 우수한 다른 물질로 형성될 수 있다. 이렇게 접힘영역(240)과 비접힘영역(220)에서의 전극 물질을 달리 함으로써, 접힘영역(240)에서는 원하는 굴곡으로 패널을 접을 수 있는 동시에, 터치 스크린 패널의 대부분을 차지하는 비접힘영역(220)에서는 시인성, 투과율 등과 같은 광학적 특성을 확보하여 전체 화면의 화질 저하를 최소화할 수 있다.
이하에서는 센싱전극부의 비접힘영역(220) 및 접힘영역(240)에서 사용되는 전극 물질 및 이러한 전극 물질을 배치하는 구조에 대하여 상세히 설명하기로 한다.
도 4는 도 3의 A-A'선을 따라 절취한 본 발명의 일 실시예를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 4를 참고하면, 접이식 터치 스크린 패널(200)에 있어서 비접힘영역(220)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물(ITO)로 형성되고, 접힘영역(240)에서의 센싱전극은 가요성 물질(flexible substance)로 형성될 수 있다.
구체적으로 그 적층순서를 살펴보면, 고분자 수지로 형성된 박막 기판(210)의 일면 또는 양면에 인듐 주석 산화물(ITO)을 스퍼터링(sputtering)하여 복수 개의 전극 패턴을 형성한다. 다음으로 포토노광 공정 또는 인쇄 공정을 거쳐 금속배선(230) 패턴을 형성한다. 이때, 포토노광 공정은 포토레지스트(PR, photoresist)의 도포, 노광 마스크를 이용한 노광, 노광된 포토레지스트의 현상, 식각(etching) 및 스트립(strip) 등 일련의 단위 공정을 포함하는 마스크 공정으로 진행될 수 있다. 인쇄 공정의 경우 스크린 프린트(screen print) 방식 또는 그라비아 인쇄(gravure print) 방식 등이 사용될 수 있다. 그리고 나서 지정된 접힘영역(240)에서 박막 기판(210) 상에 형성되어 있던 인듐 주석 산화물(ITO) 층을 제거한다. 이후, 대체 전극 물질인 가요성 물질을 박막 기판(210) 상에 도포한 후, 앞서 언급한 포토노광 공정 또는 인쇄 공정에 의하여 접힘영역(240)에 형성되어 있는 가요성 물질은 남기고 비접힘영역(220)에 형성되어 있는 가요성 물질은 모두 제거한다. 또한, 상기와 같은 인듐 주석 산화물(ITO)과 가요성 물질의 적층 순서는 얼마든지 변경 가능하다.
도 5는 도 3의 A-A'선을 따라 절취한 본 발명의 다른 실시예를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 5를 참고하면, 접이식 터치 스크린 패널(300)에 있어서 비접힘영역(320)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물(ITO)로 형성되고, 접힘영역(340)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층된 구조로 형성될 수 있다. 이러한 경우 접힘영역(340)에 형성된 인듐 주석 산화물에 균열 및 깨짐 현상이 발생하더라도 가요성 물질을 통하여 전기 신호가 전달될 수 있다. 이하에서는 전극 물질의 적층순서에 대하여 설명하되, 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
즉, 접힘영역(340)에서 박막 기판(310) 상에 형성되어 있던 인듐 주석 산화물(ITO) 층을 제거하지 않고, 대체 전극 물질인 가요성 물질을 박막 기판(310) 상에 그대로 도포한다는 점에서 차이가 있다. 이후, 접힘영역(340)에 형성되어 있는 가요성 물질은 남기고 비접힘영역(320)에 형성되어 있는 가요성 물질을 모두 제거하면, 접힘영역(340)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층된 구조로 형성되게 된다. 이때, 전술한 실시예와 마찬가지로 인듐 주석 산화물(ITO)과 가요성 물질의 적층 순서는 얼마든지 변경 가능하다.
도 6은 도 3의 A-A'선을 따라 절취한 본 발명의 또 다른 실시예를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 6을 참고하면, 접이식 터치 스크린 패널(400)에 있어서 비접힘영역(420)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물(ITO)로 형성되고, 접힘영역(440)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층되고 그 사이에 보호막(430:overcoat layer)이 개재되는 구조로 형성될 수 있다. 이와 같이 인듐 주석 산화물(ITO)로 전극을 형성한 후 가요성 물질을 적층하기 전에 아크릴 또는 실리콘 계열의 보호막을 추가 형성함으로써 가요성 물질로 전극 패턴을 형성하는 데 있어 훨씬 용이하게 작업할 수 있다. 이하에서는 전극 물질의 적층순서에 대하여 설명하되, 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예들과 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
즉, 전술한 실시예들은 박막 기판(210,310) 상에 인듐 주석 산화물(ITO)로 전극 패턴을 형성하고, 이에 접하여 가요성 물질을 적층하는 구조로 되어 있다. 그러나 특히 포토노광 공정을 거쳐 가요성 물질을 접힘영역(240,340)을 제외한 비접힘영역(220,320)에서 제거하게 되는 경우, 비접힘영역(220,330)에는 그대로 유지되어야 하는 인듐 주석 산화물(ITO) 전극까지 위의 가요성 물질의 에천트(echant)에 동시 식각되는 문제가 발생할 수 있다. 이렇게 되면 인듐 주석 산화물(ITO)과 가요성 물질의 에천트를 별도로 적용해야 하는 어려움이 있고, 이에 따라 공정수 및 공정비용이 증가하게 되는 문제가 발생할 수 있다.
따라서, 상기와 같이 인듐 주석 산화물과 가요성 물질 사이에 보호막(430:overcoat layer)이 개재되는 구조로 공정을 진행함으로써, 비접힘영역(420)에 있어서 기존에 형성되어 있는 인듐 주석 산화물(ITO) 패턴에 영향을 주지 않으면서 가요성 물질로 형성된 패턴을 용이하게 식각할 수 있다. 여기에서도 물론 전술한 실시예들과 마찬가지로 인듐 주석 산화물(ITO)과 가요성 물질의 적층 순서는 얼마든지 변경 가능하다.
한편, 도 4 내지 도 6의 실시예들에 개시되어 있는 가요성 물질은 은나노와이어(AgNW, Ag nanowire), 탄소나노튜브(CNT, carbon nanotube), 그래핀(graphene) 중 어느 하나일 수 있다. 여기서 언급한 은나노와이어, 탄소나노튜브, 그래핀 등의 재료는 늘리거나 구부릴 때 변형에 잘 견디고 그 전기적 성질을 잃지 않는다는 장점이 있다. 시인성, 투과도 등과 같은 광학적 특성이 기존의 인듐 주석 산화물(ITO)보다 다소 떨어지나, 10만 내지 20만 회를 접는 경우에도 표면저항이 30% 이상 증가하지 않을 정도로 플렉시블한 특성이 우수하다. 그에 반하여 상기와 동일한 테스트를 거칠 경우, 인듐 주석 산화물(ITO)은 표면저항이 30% 이상 증가함은 물론 균열 및 깨짐 현상까지 발생할 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 접이식 터치 스크린 패널을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 8은 도 7의 B-B'선을 따라 절취한 본 발명의 일 실시예를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 7 및 도 8을 참고하면, 접이식 터치 스크린 패널(500)에 있어서 비접힘영역(520)에서의 센싱전극은 인듐 주석 산화물(ITO)로 형성되고, 접힘영역(540)에서의 센싱전극은 금속으로 형성될 수 있다. 이때, 접힘영역(540)에서의 센싱전극은 금속의 세선(細線)들에 의해 메시(mesh) 형상으로 형성될 수 있다. 여기서의 메시(mesh)형상은 단순한 그물망 형상 이외에도 금속의 세선들이 서로 얽힐 수 있는 형상이면 무방하다. 이렇게 금속을 사용하여 센싱전극을 그물망 형상으로 형성하면, 센싱전극들 간 또는 센싱전극 및 금속배선(530)간의 저항을 감소시켜 터치패널의 전도성 및 검출강도를 향상시킬 수 있다.
또한, 상기의 금속 세선은 10㎛ 이하의 선폭을 가질 수 있다. 이는 센싱전극의 표면저항과, 센싱전극 형성부 및 비형성부 간의 투과율 차이로 인한 패턴 비침 현상을 고려할 때 적절한 값일 수 있다. 이하에서는 전극 물질의 적층순서에 대하여 설명하되, 설명의 편의를 위하여 전술한 실시예들과 상이한 점을 중심으로 설명하기로 한다.
즉, 고분자 수지로 형성된 박막 기판(510)의 일면 또는 양면에 인듐 주석 산화물(ITO)로 복수 개의 전극 패턴을 형성한다. 다음으로 포토노광 공정 또는 인쇄 공정을 거쳐 금속배선(530) 패턴을 형성한다. 그리고 나서 지정된 접힘영역(540)에서 박막 기판(510) 상에 형성되어 있던 인듐 주석 산화물(ITO) 층을 제거한다. 이후, 대체 전극 물질인 금속을 세선 형태로 인듐 주석 산화물(ITO)이 제거된 접힘영역(540)에 메시 형상의 전극 패턴을 형성한다. 이때, 금속의 센싱전극 및 금속배선(530)은 동일 금속 내지 합금으로 형성될 수 있으며, 이는 터치 스크린 패널의 제조공정을 단순화시킬 수 있다.
한편, 상기의 금속은 저저항 금속인 Ag, Al, Cu, Cr, Ni, Mo 중 어느 하나 또는 이들의 합금일 수 있다.
이하에서는 접이식 터치 스크린 패널(100)의 금속배선부 및 접속부(140)에 대해서 설명하기로 한다. 상기의 구성 요소들은 종래 기술과 동일하므로 도 1과 동일한 참조 번호로 나타낸다.
접이식 터치 스크린 패널(100)에서 금속배선부의 각각의 금속배선(130)은 센싱전극부의 각각의 센싱전극(120)과 일대일로 대응하여 연결될 수 있다. 이러한 복수 개의 상기 금속배선들이 모여 상기 접힘영역(240,340,440,540)의 접힘축(L1,L2,L3,L4) 방향으로 접속부(140)를 통해 위치검출회로와 같은 외부의 회로기판(미도시)과 연결될 수 있다.
이러한 금속배선(130)은 전술한 바와 같이 센싱전극(120)과 동일 금속 재질로 형성될 수 있다.
터치 스크린 패널을 구현하는 방식으로는 크게 저항막 방식과 정전용량 방식으로 나눌 수 있다. 이때, 저항막 방식은 전도성 물질이 코팅된 상ㅇ하판이 압력에 의하여 접촉할 때 그 접촉 신호를 전달하는 방식으로서, 대향하는 화면이 서로 맞닿을 수 있을 정도로 패널이 접히게 되는 본 발명의 실시예들에는 적합하지 않을 수 있다. 따라서 본 발명의 실시예들에 의한 터치 스크린 패널(100)은 정전용량 방식의 터치패널로, 사람의 손 또는 펜 등과 같은 접촉물체가 접촉되면, 센싱전극(120)으로부터 금속배선(130) 및 접속부(140)를 경유하여 회로기판(미도시) 측으로 접촉위치에 따른 정전용량의 변화가 전달될 수 있다. 그러면, X 및 Y 입력처리회로(미도시) 등에 의해 정전용량의 변화가 전기적 신호로 변환됨에 따라 그 접촉위치가 파악될 수 있다.
따라서 접이식 터치 스크린 패널(200,300,400,500)은 패널의 지정된 영역에서 플렉시블하게 접힐 수 있다. 즉 본 발명의 실시예들은 기존의 터치 스크린 패널보다 센싱전극의 플렉시블한 특성이 향상되어, 패널이 접힐 때 센싱전극에 균열이 생기거나 깨지는 문제를 방지할 수 있다.
비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되었지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허청구의 범위에는 본 발명의 요지에 속하는 한 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.
100 : 종래 터치 스크린 패널
200,300,400,500 : 접이식 터치 스크린 패널
110,210,310,410,510 : 박막 기판
120 : 센싱전극
130,230,530 : 금속배선부
140 : 접속부
220,320,420,520 : 비접힘영역
240,340,440,540 : 접힘영역
430 : 보호막
L,L`,L1,L2,L3,L4 : 접힘축

Claims (18)

  1. 고분자 수지로 형성되는 박막 기판;
    상기 박막 기판의 일면 또는 양면에 패턴으로 형성된 센싱전극을 복수 개 구비하는 센싱전극부; 및
    상기 센싱전극부의 외곽에 형성되며, 상기 센싱전극의 일단 또는 양단에 연결된 금속배선을 복수 개 구비하는 금속배선부;를 포함하며,
    상기 센싱전극부는 접힘영역과, 상기 센싱전극부에서 상기 접힘영역을 제외한 나머지인 비접힘영역으로 구분되는 접이식 터치 스크린 패널.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 박막 기판의 일측 가장자리에 배치되며, 상기 금속배선부를 회로기판에 연결하는 접속부;를 더 포함하는 접이식 터치 스크린 패널.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 박막 기판은 0.01 내지 1mm의 두께로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 고분자 수지는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate), 사이클릭올레핀폴리머(COP, cyclicolefinpolymer), 폴리에테르설폰(PES, polyethersulfone), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN, polyethylenenaphthalate), 폴리아릴레이트(Polyarylate, PA), 가교형 에폭시, 가교형 우레탄 중 적어도 하나인 접이식 터치 스크린 패널.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 비접힘영역을 제외한 상기 접힘영역에서 접히도록 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 접힘영역에서 접히는 굴곡이 10mm 이하의 곡률반경으로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 접힘영역에 형성된 상기 센싱전극의 표면저항은 500Ω/sq 이하인 접이식 터치 스크린 패널.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 접힘영역과 상기 비접힘영역은 서로 다른 재질로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물(ITO, indium tin oxide)로 형성되고,
    상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 가요성 물질로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물로 형성되고,
    상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층된 구조로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물로 형성되고,
    상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물과 가요성 물질이 적층되고 그 사이에 보호막이 개재되는 구조로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  12. 제 9 항 내지 제 11 항에 있어서,
    상기 가요성 물질은 은나노와이어(AgNW, Ag nanowire), 탄소나노튜브(CNT, carbon nanotube), 그래핀(graphene) 중 어느 하나인 접이식 터치 스크린 패널.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 비접힘영역에서의 상기 센싱전극은 인듐 주석 산화물로 형성되고,
    상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 금속으로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 접힘영역에서의 상기 센싱전극은 상기 금속의 세선(細線)들에 의해 메시(mesh) 형상으로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 세선은 10㎛ 이하의 선폭으로 형성되는 접이식 터치 스크린 패널.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 금속은 Ag, Al, Cu, Cr, Ni, Mo 중 어느 하나 또는 이들의 합금인 접이식 터치 스크린 패널.
  17. 제 1 항에 있어서,
    상기 금속배선부의 각각의 상기 금속배선은 상기 센싱전극부의 각각의 상기 센싱전극과 일대일로 대응하여 연결되는 접이식 터치 스크린 패널.
  18. 제 2 항에 있어서,
    상기 접속부에서 복수 개의 상기 금속배선들이 모여 상기 접힘영역의 접힘축 방향으로 회로기판과 연결되는 접이식 터치 스크린 패널.

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