KR20150006157A - 그라핀층을 갖는 발광소자와 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명의 실시예인 발광소자는, 기판; 상기 기판 상에 형성된 그라핀 패턴; 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 성장된 갈륨나이트라이드층을 포함하며, 상기 기판의 면적 대비 상기 그라핀 패턴이 차지하는 면적이 60 내지 70%인 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 구조를 갖는 발광소자는 LED소자 제작 시, 열전도도(thermal conductivity)가 높은 그라핀층을 GaN와 사파이어기판 사이에 형성시켜 LED에서 발생하는 열을 잘 내보낼 수 있게 됨으로써 열방출효율이 증가하고 이로 인한 LED소자의 특성이 향상된다.

Description

그라핀층을 갖는 발광소자와 그 제조방법{Light Emitting devices with Graphene layer And Manufacturing Method Thereof}

본 발명은 발광소자에 관한 것으로, 상세하게는 기판에 그라핀층을 형성하여 발광소자의 특성을 개선하는 그라핀층을 갖는 발광소자와 그 제조방법에 관한 것이다.

현재 보고되고 있는 그라핀(그래핀, 그레핀, Graphene 등)층을 형성시키는 방법에는 2가지가 있다. 즉, Si. Cu기판상에서 기상CVD성장(no spray)시키는 방법과, 그라파이트상에 화학적 처리를 통해 그라핀옥사이드 솔루션을 제작하여 분산매(물)와 함께 spray 또는 spin coating하는 분사법(spray 방법)이 있다. 종래에는 그라핀의 뛰어난 전기적 특성 때문에 투명전극과 contact layer를 대체할 물질로 검토되어 왔고 그라핀을 CVD로 성장 후 물리적으로 분리시켜 붙여 사용하는 방식을 사용하였다. 또한 높은 열전달특성(ideal한 그라핀의 thermal conductivity는 3000~5000 W/mK , Room temperature에서는 600 W/mK)을 가지며, 특히, 두께방향보다는 평면방향으로 열전도율이 좋다. 따라서 이러한 특성을 가진 그라핀을 방열물질로서 사용하기 위한 시도가 이루어지고 있다.

그러나, 종래에는 LED에 적용하기 위한 사파이어 위에 직접 GaN를 성장시키는 기술이 없었으며 ZnO를 이용해 GaN성장하는 기술을 사용하여 GaN를 성장하였다.이런 ZnO를 사용하게 되면 GaN의 품질저하 및 대면적으로 사용하지 못하고 LED에 열적 특성을 개선하지 못하는 문제가 있다. 따라서 사파이어 위에 전면적으로 그라핀옥사이드를 형성한 후 GaN를 성장시켜 LED의 열적 특성을 개선하기 위하여 사파이어 전면적에 그라핀 옥사이드를 형성한 후 GaN을 성장하였지만 제대로 layer를 형성하지 못하였다(성장조건 예시 1 참조).

GaN 성장조건 예시1.

Normal growth condition:

Nuclear layer 1min 45 (560C, 400mbar, TMGa=16, NH3 = 3500),

HT-GaN layer 30min (1100C, 400mbar, TMGa=27, NH3 = 4500)

종래에 그라핀 위에 ZnO seed를 사용하여 GaN층을 성장시키는 시도가 있었다. 도 1은 ZnO를 seed로 사용하여 그라핀 위에 GaN을 성장시키는 과정의 개요도와 성장 후의 표면사진이다. 이 경우, 그라핀 형성을 위한 CVD 공정이 추가로 필요하며, ZnO을 성장한 후, 다시 MOCVD로 성장시켜야 하므로 공정이 복잡하다. 또한, 2인치 사파이어 웨이퍼 상에서는 양호한 그라핀층의 형성자체가 불가능하기 때문에 갈륨나이트라이드의 결정성(GaN crystal quality)을 보장하지 못하는 문제점이 있다. 이러한 시도가 성공적이지 못했기 때문에, 결과적으로 그라핀층 상에 성장된 GaN층을 사용하는 구조의 열전달특성에 대한 연구가 불가능했었다.

도 2는 분사법으로 그라핀옥사이드층을 형성한 후, 성장조건 예시1에 따라 성장시킨 후의 표면사진이다. GaN 층이 제대로 형성되지 않았다.

성장 조건을 아래의 예시2와 같이 바꿔도 층(GaN layer)을 형성하지 못하였다.

GaN성장조건 예시2.

Ramping growth condition:

Nucle layer 5min (560C, 400mbar, TMGa=16, NH3 = 3500)

First GaN Layer 20min (1050C, 400 mbar, TMGa=27, NH3=4500)

Second GaN layer 30min (1100C, 400mbar, TMGa=27, NH3 = 4500)

도 3은 분사법으로 그라핀옥사이드 층을 형성한 후, 성장조건 예시2에 따라 성장시킨 후의 표면사진이다. 격자구조의 차이 등의 이유로 GaN가 결정성장이 안 된 것으로 보인다.

대한민국 등록특허공보 등록번호 제10-1038213호(2011. 05. 25.)

SCIENCE 29 OCTOBER (2010) VOL 330 (Kunook Chung, Chul-Ho Lee, Gyu-Chul Yi, Transferable GaN Layers Grown on ZnO-Coated Graphene Layers for Optoelectronic Devices)

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 사파이어 기판상에 그라핀층을 형성하고, 그 위에 갈륨나이트라이드를 직접 성장시켜 열특성과 결정품질이 개선된 그라핀층을 갖는 발광소자와 그 제조방법을 제공하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예인 발광소자는 기판; 상기 기판상에 형성된 그라핀 패턴; 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 성장된 갈륨나이트라이드층을 포함하며, 상기 기판의 면적 대비 그라핀 패턴이 차지하는 면적이 60 내지 70%인 그라핀층을 갖는 발광소자를 제공한다.

또한, 상기 그라핀 패턴이 그라핀옥사이드와 그라핀으로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 그라핀 패턴으로 이루어진 층이 이 소자 내의 방열경로일 수 있다.

또한, 상기 그라핀 패턴이 전극일 수 있다.

또한, 상기 갈륨나이트라이드층이 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 수평성장(ELOG)될 수 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판상에 PR패턴을 형성하는 단계; 상기 기판상에 그라핀 옥사이드를 어레이하는 단계; 상기 PR패턴을 제거하여 그라핀옥사이드 패턴을 형성하는 단계; 상기 기판상에 형성된 상기 그라핀옥사이드패턴을 MOCVD 내에서 열처리하여 그라핀 패턴으로 환원시키는 단계; 상기 기판과 상기 그라핀 패턴 위에 갈륨나이트라이드를 성장시키는 단계;를 포함하는 그라핀층을 갖는 발광소자의 제조방법을 제공한다.

또한, 상기 열처리가 MOCVD 내에서 온도 1,100℃, 압력 400mbar, H2 flow 양 9.5slm, 시간 10min의 조건으로 수행될 수 있다.

상기한 바와 같이 본 발명에 의해, 사파이어 기판상에 그라핀층의 형성이 가능해 졌다. 그라핀의 패터닝은 반도체리소그래피 공정을 활용하였고, 그라핀 패터닝위에서 양호한 결정특성을 갖는 갈륨나이트라이드층을 성장시켰다. 또한, 그라핀옥사이드의 열환원과정을 MOCVD 내에서 수행함으로서, MOCVD 내에서의 일괄공정의 진행이 가능해졌다. 이러한 결과로, 사파이어 기판상에 그라핀층으로 전극관련 구조를 간단하게 구현하게 되었고, 원활한 방열이 가능하게 되었다. 본 발명에 의한 구조를 갖는 발광소자는 LED 소자 제작 시, 열전도도(thermalconductivity)가 높은 그라핀층을 GaN와 사파이어 기판사이에 형성시켜 LED에서 발생하는 열을 잘 내보낼 수 있게 됨으로서 열방출효율과 결정품질이 증가하고 이로 인한 LED소자의 특성이 향상되는 효과가 있다.

도 1은 ZnO을 seed로 사용하여 그라핀을 성장시키는 과정의 종래기술의 개요도와 성장 후 표면사진,
도 2는 종래기술의 분사법으로 그라핀옥사이드 층을 형성한 후, 성장조건 예시1에 따라 성장시킨 후의 표면사진,
도 3은 종래기술의 분사법으로 그라핀옥사이드 층을 형성한 후, 성장조건 예시2에 따라 성장시킨 후의 표면사진,
도 4는 본 발명의 실시예인 그라핀층을 갖는 발광소자의 그라핀 옥사이드 패터닝 후 AFM 사진,
도 5는 도 4의 그라핀층을 갖는 발광소자 제작 후 IR카메라로 표면온도를 찍은 결과,
도 6은 도 4의 그라핀층을 갖는 발광소자의 구조에 따른 구간별 온도특성 그래프,
도 7은 도 4의 그라핀층을 갖는 발광소자의 그라핀 패턴 위에 GaN 성장 후 찍은 TEM사진,
도 8은 도 4의 그라핀층을 갖는 발광소자의 30분, 50분, 90분 후 GaN 성장모습을 찍은 SEM 이미지 및 90분 성장 후 GaN 표면을 측정한 AFM 이미지,
도 9는 본 발명의 실시예인 발광소자의 제조방법 중 그라핀옥사이드의 패터닝과 GaN성장완료까지의 공정을 나타낸 개요도,
도 10은 본 발명의 발광소자의 제조방법 중 열처리(annealing) 후의 탄소와 산소간 결합이 감소한 결과를 나타낸 그래프,
도 11은 사파이어 위에 패터닝 된 그래핀 옥사이드의 AFM 이미지(coverage 63%),
도 12는 GaN와 사파이어 기판에 위치한 그래핀 옥사이드의 TEM 이미지,
도 13은 (002), (102)면의 XRD 데이터,
도 14는 시간에 따른 그래핀 옥사이드 패턴위에 성장된 GaN Template,
도 15는 그래핀 옥사이드의 커버리지에 따른 LED소자의 Thermal resistance 그래프,
도 16은 그래핀 옥사이드의 커버리지에 따른 Thermal resistance 그래프와 GaN 품질 그래프,
도17은 사파이어 위에 패터닝된 stripe 패턴 그래핀 옥사이드의 AFM 이미지 (coverage 35%)이다.

이하, 본 발명의 그라핀층을 갖는 발광소자와 그 제조방법의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고로 상세히 설명하기로 한다.

그라핀 상에 GaN가 성장되지 않는 문제점은 그라핀층을 패터닝함으로서 해소된다.

도 4는 본 발명의 실시예인 그라핀층을 갖는 발광소자의 그라핀 옥사이드 패터닝 후 AFM 사진으로서, 홀(hole패턴)을 포함하는 사파이어기판 위의 여러 종류의 그라핀 및 그라핀옥사이드 패턴을 도시하고 있다. 이러한 그라핀의 패터닝은 반도체리소그래피 공정을 활용하였다. 이렇게 형성된 그라핀 패터닝 위에서 양호한 결정특성을 갖는 나이트라이드층을 최초로 성장시켰다.

본 발명의 실시예인 발광소자는, 기판; 상기 기판상에 형성된 그라핀 패턴; 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 성장된 갈륨나이트라이드 층을 포함하며, 상기 기판의 면적 대비 그라핀 패턴이 차지하는 면적이 60 내지 70%이다.

통상적인 발광소자는 사파이어가 열전도율이 낮아서 고출력 LED의 동작시 열에 의한 LED 발광특성이 저하하게 된다(예: high current 상의 outpower 감소). 본발명에 의한 구조를 갖는 발광소자는 LED 소자 제작 시, 열전도도(thermal conductivity)가 높은 그라핀층을 GaN와 사파이어 기판사이에 형성시켜 LED에서 발생하는 열을 잘 내보낼 수 있게 됨으로서 열방출효율이 증가하고 이로 인한 LED소자의 특성이 향상된다.

또한, 본 발명의 실시예인 발광소자는, 상기 그라핀이 그라핀옥사이드와 그라핀으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 실시예로서 발광소자는 사파이어기판에 그라핀층을 가지는 바, 상기 그라핀은 통상적인 명칭으로서 그라핀 및 그라핀 옥사이드를 모두 포함하는 넓은 개념이다.

또한, 본 발명의 실시예인 발광소자는 상기 그라핀패턴으로 이루어진 층이 이 소자 내의 방열층(또는 방열경로)인 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 실시예인 발광소자 제작시 그라핀 및 그라핀 옥사이드로 방열층을 형성하는 경우, 그라핀 또는 그라핀 옥사이드의 높은 열전도도(thermal conductivity)특성으로 인해 그라핀 및 그라핀 옥사이드층이 발광소자 내에서 발생하는 열을 효과적으로 방출시키는 효과가 있다. 도 5는 발광소자 제작후 IR카메라로 표면온도를 찍은 결과로서, 그라핀층이 있는 경우의 표면온도가 실제로 낮아짐을 보여준다.

그라핀패턴에 의한 열적인 특성의 개선은, LED chip에서 Ag paste까지의 열저항(Thermal resistance)을 관찰하여 알 수 있다. 도 6은 발광소자의 구조에 따른 구간별 온도특성 그래프이다. 통상의 LED(conventional LED)에 비해 그라핀층이 형성된 LED(Graphene embedded LED)의 수치가 낮음을 보여주고 있다. 이 값이 낮을수록 칩(chip)에서 발생하는 열을 잘 전달한다는 의미이다.

또한, 본 발명의 실시예인 발광소자는 상기 그라핀패턴이 전극인 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 실시예인 발광소자는, 기판상에 형성되는 그라핀 옥사이드 패턴을 그라핀 패턴으로 환원시켜 전기적 특성을 향상시킨 구조를 가질 수 있다. 따라서 이렇게 형성된 그라핀 패턴을 직접 전극으로 사용하여 전기이동도 및 열 특성을 동시에 향상시킬 수 있다. 이러한 구성에 의해 수직형LED(vertical LED)를 구성할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시예인 발광소자에 있어서, 상기 갈륨나이트라이드층이 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 수평성장(ELOG)된 것을 특징으로 할 수 있다. GaN가 그라핀 패턴 위에서 수평성장(Epitaxial Lateral overgrowth)하므로 전위밀도(dislocation density)가 낮은 양질의 반도체층의 성장이 가능하다.

본 발명의 실시예인 발광소자의 제조방법은 기판을 준비하는 단계; 상기 기판상에 PR패턴을 형성하는 단계; 상기 기판상에 그라핀 옥사이드를 어레이하는 단계; 상기 PR패턴을 제거하여 그라핀옥사이드 패턴을 형성하는 단계; 상기 기판상에 형성된 상기 그라핀옥사이드 패턴을 열처리하여 그라핀 패턴으로 환원시키는 단계; 상기 기판과 상기 그라핀 패턴 위에 갈륨나이트라이드를 성장시키는 단계;를 포함한다.

이러한 본 발명의 실시예인 발광소자의 제조방법에 의해, 그라핀옥사이드 패터닝 후, MOCVD를 이용하여 GaN를 성장하게 되면 GaN 성장 프로세스 진행 중에 그라핀옥사이드를 환원시켜 그라핀을 형성하면서 동시에 GaN를 성장할 수 있게 된다.

따라서 종래기술처럼 그라핀옥사이드 환원작업을 CVD내에서 수행할 필요 없이, 한번에 GaN 성장과 환원작업까지 MOCVD 내에서 수행하게 된다.

도 9는 본 발명의 실시예인 발광소자의 제조방법 중 그라핀옥사이드의 패터닝과 GaN성장완료까지의 공정을 나타낸 개요도이다.

그라핀 옥사이드의 일반적인 패터닝은 다음의 예시A의 조건에 따라 수행될 수 있다.

예시A

1. 4:2 홀 패턴 마스크를 이용한 PR 패터닝 공정

2. 핫플레이트 위에 패턴된 기판을 올린 후 그라핀 옥사이드 솔루션을 에어브러쉬 시스템을 이용해 분사 (1.5ml GO solution 사용)

3. 그라핀 옥사이드 솔루션 분사 후, 아세톤을 이용하여 PR 제거

도 9에서 그라핀옥사이드를 환원하는 작업은 생략되어 있다.

그라핀옥사이드패턴 또는 그라핀패턴 상에서 GaN층은 수평성장법(ELOG)에 의해 성장될 수 있다.

환원된 그라핀의 상부에 수행되는 일반적인 갈륨나이트라이드 성장은 다음의 예시B의 조건에 따라 수행될 수 있다.

예시B

1. 1100C, H2 분위기에서 약 5분간 annealing process

2. 560C, 400mbar, TMGa 16sccm, NH3 3500 slm을 사용하여 약 3분간 핵형성층 성장

3. 1020C, 400mbar, TMGa 24sccm, NH3 4500 slm을 사용하여 약 20분간 수직성장 조건으로 GaN를 상장

4. 1120C, 200mbar, TMGa 32sccm, NH3 4500 slm을 사용하여 약 1시간 40분간 수평성장 조건으로 GaN 성장.

도 7은 도 4의 그라핀층을 갖는 발광소자의 그라핀 패턴 위에 GaN를 성장시킨 후 TEM을 통하여 관찰한 결과로서, GaN와 사파이어 기판 사이에 그라핀이 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다.

또한 도 8의 (a)는 30분 성장 후, 상기 기판 위에 GaN가 성장 된 SEM 사진이며, (b)는 60분 성장 후, 상기 기판 위에 GaN가 성장된 SEM 사진이며, (c)는 90 분 성장 후, GaN가 성장되어 layer를 형성한 SEM 사진으로서, 성장이 다 된 후 표면이 일반적인 사파이어 기판 위에 성장된 모습과 똑같은 것을 확인할 수 있다. (d)는 90분 성장 후, GaN 표면을 AFM을 통해 측정한 사진이다.

또한, 본 발명의 실시예인 발광소자의 제조방법은 상기 열처리가 MOCVD 내에서 수행되는 것을 특징으로 한다.

이러한 본 발명의 실시예로서의 발광소자의 제조방법은 그라핀옥사이드를 그라핀으로 산화시키는 CVD 공정을 따로 수행할 필요 없이, MOCVD안에서 그라핀 옥사이드를 환원시켜 그라핀으로 만드는 작업과 GaN 층 성장 및 LED structure 구성에 필요한 성장이 한 번의 공정으로 가능하게 한다. 도 10은 열처리(annealing) 후의 탄소와 산소간 결합이 감소한 결과를 나타낸 그래프이다. 이 그래프를 통하여 열처리 후 탄소와 산소의 결합이 줄어들면서 그라핀의 품질(quality)이 향상됨을 알 수 있다.

도 11은 기판(사파이어) 위에 패터닝된 그래핀 옥사이드의 AFM 이미지 (coverage 63%)로서, a는 MOCVD에 들어가기 전 그래핀 옥사이드 패턴이며, b는 MOCVD에서 annealing을 한 후의 그래핀 옥사이드 패턴의 모습을 보여준다. 기판(사파이어)상에 그라핀 패턴이 도 11과 같이 생성되며, 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 갈륨나이트라이드 층을 성장시켜 발광소자를 형성한다.

coverage는 기판을 기판 면 위에서 관찰할 때, 아래와 같이 표현된다.

coverage=(그래핀패턴의 면적/기판의 면적)

열처리 조건은 다음과 같다.

온도 : 1100C

압력 : 400mbar

H2 flow 양 : 9.5 slm

시간 : 10min

도 12는 GaN와 사파이어 기판에 위치한 그래핀 옥사이드의 TEM 이미지로서, 이러한 구조를 바탕으로 그래핀 및 그래핀 옥사이드 층이 질화갈륨 사이에 위치하는 발광 소자 또는 그래핀 및 그래핀 옥사이드 패턴이 질화갈륨 사이에 위치하는 발광 소자를 만들 수 있다.

본 발명에서는 기판이 사파이어인 경우, 열전도도가 상대적으로 나쁘기 때문에 열전도도가 좋은 그라핀을 패턴화하여 방열특성을 개선시키는 효과를 의도하였다. 그러나 그래핀 옥사이드를 전면적에 array할 경우 그래핀의 안정화된 원자 결합 때문에 GaN 에피 성장이 이루어 지지 않아서 사파이어가 노출된 부분이 꼭 필요하다. 그래핀 패터닝으로 인해 laternal overgrowth가 되면서 GaN의 crystal quality가 향상되는 결과가 나타나게 되며, 도 13의 (a)와 (b)에서 보는 바와 같이 (002), (102)면의 XRD 데이터 상으로 CONVENTIONAL 대비 160arcsec 정도 좋아지는 점을 알 수 있다. 따라서 본 발명의 실시 예에서는 개구율의 관점에서 변화를 주어 테스트를 하였고, 그라핀 패턴이 기판이 (원형으로) 노출된 부분을 제외한 나머지 부분에 형성된 발광소자를 만들었다.

elog 봉합관점에서 보면 사파이어 오픈면적 : 그라핀면적의 비율이 어느 정도일 때 어느 시점부터 봉합이 되는지 (즉, 성장이 되었다고 볼 수 있는 최저조건)와 어느 비율 범위에서 양호한 품질을 갖는지(즉, 성장이 잘 이루어졌다고 볼 수 있는 최적조건)가 중요하다. 도 14는 시간에 따른 그래핀옥사이드 패턴 위에 성장된 GaN Template을 보여준다. 시간이 60분이 넘어서부터 전체적인 GaN layer가 형성되면서 양호한 GaN template를 형성한다(성장 조건 : TMGa 32 sccm, NH3 4.5 slm, Temperature 1120℃, Pressure 400 mbar, growth time 1시간 30분).

도 15는 그래핀 옥사이드의 커버리지에 따른 LED소자의 Thermal resistance를 나타내는 그래프로서 그래핀 면적이 증가하면 thermal resistance가 낮아지는 현상을 볼 수 있다. 즉, 점선으로 표시한 부분이 chip에서 방열판 사이로 열이 전달되는 지점이며, 이 부분을 chip의 온도라고 볼 때, 연두색 그래프 (커버리지 63%)의 thermal conductivity가 가장 낮고 그 다음이 빨강색 그래프(커버리지 35%)이고, 그 다음이 파란색 그래프(커버리지 0%)의 순서로 온도가 높다.

도 16은 그래핀 옥사이드의 커버리지에 따른 Thermal resistance 그래프와 GaN 품질 그래프이다. 커버리지가 증가할수록 Thermal resistance가 낮아지므로 열 특성은 개선되고 있는 것을 알 수 있다(검정색 그래프). 그러나 커버리지가 증가하면서 XRD(102)면의 FWHM이 높아지는 것으로 봐서 Crystal quality는 감소하는 것을 알 수 있다(파랑색 그래프).

도 17은 사파이어 위에 패터닝된 stripe 패턴 그래핀 옥사이드의 AFM 이미지 (coverage 35%)로서, 도 11에 비하여 커버리지를 다르게 하기 위해서 패턴 모양을 바꾼 실시예이다.

따라서, 기판 위에 그래핀의 면적이 높으면 높을수록 Thermal resistance가 감소하지만, GaN 성장이 원활하게 이뤄지지 않아 품질이 저하되는 보상관계가 발생함을 알 수 있다. 그래핀 패턴의 면적과 품질이 최적인 범위를 그래프 상으로 확인 한 결과 그라핀 패턴의 면적이 60%∼70%때에 최적의 방열효과 및 GaN의 품질이 확보되어, 방열특성이 우수하고 결정품질이 좋은 발광소자(LED) 제작이 가능함을 알 수 있다.

본 명세서에 기재된 본 발명의 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고 발명의 기술적 사상을 모두 포괄하는 것은 아니므로, 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

따라서, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 권리범위 내에 있게 된다.

Claims (7)

1. 기판;
   상기 기판 상에 성장된 그라핀 패턴;
   상기 기판과 그라핀 패턴 위에 성장된 갈륨나이트라이드 층을 포함하며, 상기 기판의 면적 대비 상기 그라핀 패턴이 차지하는 면적이 60 내지 70%인 그라핀층을 갖는 발광소자.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 그라핀 패턴이 그라핀옥사이드와 그라핀으로 이루어진 것을 특징으로 하는 그라핀층을 갖는 발광소자.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 그라핀 패턴이 소자 내 방열경로인 것을 특징으로 하는 그라핀층을 갖
   는 발광소자.
4. 제 1 항에 있어서,
   상기 그라핀 패턴이 전극인 것을 특징으로 하는 그라핀층을 갖는 발광소자.
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 갈륨나이트라이드층이 상기 기판과 그라핀 패턴 위에 수평성장(ELOG)된 것을 특징으로 하는　그라핀층을 갖는 발광소자.
6. 기판을 준비하는 단계;
   상기 기판상에 PR패턴을 형성하는 단계;
   상기 기판 상에 그라핀 옥사이드를 어레이하는 단계;
   상기 PR패턴을 제거하여 그라핀옥사이드 패턴을 형성하는 단계;
   상기 기판 상에 형성된 상기 그라핀옥사이드 패턴을 MOCVD 내에서 열처리하여 그라핀 패턴으로 환원시키는 단계; 및
   상기 기판과 상기 그라핀 패턴 위에 갈륨나이트라이드를 성장시키는 단계
   를 포함하는 그라핀층을 갖는 발광소자의 제조방법.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 열처리가 MOCVD 내에서 온도 1,100℃, 압력 400 mbar, H2 flow 양 9.5 slm, 시간 10min의 조건으로 수행되는 것을 특징으로 하는 그라핀층을 갖는 발광소자의 제조방법.
   

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