KR20140136396A - 압송 용기, 압송 용기를 이용한 보관 방법, 및 압송 용기를 이용한 이액 방법 - Google Patents

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KR20140136396A KR1020140060243A KR20140060243A KR20140136396A KR 20140136396 A KR20140136396 A KR 20140136396A KR 1020140060243 A KR1020140060243 A KR 1020140060243A KR 20140060243 A KR20140060243 A KR 20140060243A KR 20140136396 A KR20140136396 A KR 20140136396A
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Abstract

보호막 형성용 약액이나 상기 약액을 조제하기 위한 보호막 형성용 약액 키트를 장기간 보관한 후에도, 상기 약액 또는 상기 약액 키트 등의 액체 청정성을 확보할 수 있고, 또한 상기 액체의 대전을 억제할 수 있는 압송 용기를 제공하는 것으로서, 표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 보관함과 더불어, 내부를 가압함으로써 이액이 가능하도록 구성된 압송 용기로서, 상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고, 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고, 상기 압송 용기는, 상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B 중 어느 하나의 액체를 충전하는 용기 본체와, 상기 용기 본체에 대하여 상기 액체를 충전 및/또는 취출하기 위해서 상기 액체를 통액하는 통액 노즐을 가지고, 상기 용기 본체는, 상기 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 되어 있는 금속캔체로 구성되어 있고, 상기 통액 노즐에는 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 통액 노즐에 있어서 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분은 수지 재료로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 압송 용기.

Description

압송 용기, 압송 용기를 이용한 보관 방법, 및 압송 용기를 이용한 이액 방법{Pressure feed container, storage method using the pressure feed container, and method for transferring liquid using the pressure feed container}
본 발명은, 압송 용기, 압송 용기를 이용한 보관 방법, 및 압송 용기를 이용한 이액(移液) 방법에 관한 것이다. 상세하게는, 반도체 디바이스 제조 등에 있어서, 표면에 요철 패턴을 가지고 그 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 요철 패턴 무너짐을 유발하기 쉬운 세정 공정을 개선하는 것을 목적으로 한 발수성 보호막 형성용 약액 또는 발수성 보호막 형성용 약액 키트를 보관하기 위한 압송 용기에 관한 것이다.
네트워크나 디지털 가전용 반도체 디바이스에 있어서, 한층 더 고성능·고기능화나 저소비 전력화가 요구되고 있다. 이 때문에 회로 패턴의 미세화가 진행되고 있고, 그에 따라 제조 수율의 저하를 일으키는 파티클 사이즈도 미소화되고 있다. 그 결과, 미소화된 파티클 등의 오염 물질 제거를 목적으로 한 세정 공정이 많이 이용되고 있고, 그에 따라, 반도체 제조 공정 전체의 30%∼40%까지 세정 공정이 점유하고 있다.
그 한편, 종래 행해지고 있던 암모니아의 혼합 세정제에 의한 세정에서는, 회로 패턴의 미세화에 따라, 그 염기성에 의한 웨이퍼에 대한 손상이 문제가 된다. 이 때문에, 보다 손상이 적은, 예를 들면, 희불산계 세정제로의 대체가 진행되고 있다.
이에 따라, 세정에 의한 웨이퍼에 대한 손상의 문제는 개선되었지만, 반도체 디바이스의 미세화에 따르는 패턴의 애스펙트비(aspect ratio)가 높아짐에 의한 문제가 현저해지고 있다. 즉, 세정 또는 린스 후, 기액 계면이 패턴을 통과할 때에 패턴이 무너지는 현상을 일으켜, 수율이 대폭 저하되는 것이 큰 문제가 되고 있다.
이 패턴 무너짐은, 웨이퍼 표면으로부터 세정액 또는 린스액을 제거할 때에 발생한다. 이는, 패턴의 애스펙트비가 높은 부분과 낮은 부분 사이에 있어서, 잔액 높이의 차이가 생기고, 그에 따라 패턴에 작용하는 모세관력에 차이가 생기는 것이 원인이라고 생각된다.
이 때문에, 모세관력을 작게 하면, 잔액 높이의 차이에 의한 모세관력의 차이가 저감하여, 패턴 무너짐이 해소된다고 기대할 수 있다. 모세관력의 크기는, 이하에 나타내는 식으로 구해지는 P의 절대치이며, 이 식으로부터 γ 혹은 cosθ을 작게 하면, 모세관력을 저감시킬 수 있다고 기대된다.
P=2×γ×cosθ/S
(γ: 표면 장력, θ: 접촉각, S: 패턴 치수(오목부의 폭))
특허문헌 1∼5에는, 실리콘 웨이퍼의 요철 패턴의 적어도 오목부를 발수화하기 위한 발수성 세정액 등을 이용함으로써, 패턴 무너짐을 유발하기 쉬운 세정 공정을 개선할 수 있는 것이 개시되어 있다.
그런데, 반도체 디바이스 제조의 분야에서는, 세정 공정에서 사용하는 세정액 등은 고순도인 것이 필요하다. 이 때문에, 세정액 등의 액체를 보관하기 위한 용기에는, 이들 액체를 고순도로 유지하는 것이 요구되고 있다.
특허문헌 6에는, 도입통을 통하여 액체 수납물을 용기 본체에 도입함으로써, 수납물이 저면에서 흩날리는 것을 막고, 포립(泡立)에 의한 대전을 막는 컨테이너 용기가 개시되어 있다. 특허문헌 7에는, 외부의 기계적 영향으로부터 보호된 상태의 정전기 소산(消散: 흩어져 없어짐) 장치를 구비한 수송용 및 저장용 용기가 개시되어 있다. 특허문헌 8에는, 용접 개소에 단열재를 구비함으로써, 용접시에 라이닝재의 온도 상승을 억제하고, 그 라이닝재의 파손을 방지한 불소 수지 라이닝 탱크가 개시되어 있다. 특허문헌 9에는, 모노클로로실란을 안정된 상태로 수용할 수 있는 용기가 개시되어 있다. 특허문헌 10에는, 화학 시약 및 조성을 미소 기포 및 입자 오염의 발생을 억제하여 보존·분배하는 장치 및 프로세스가 개시되어 있다.
일본국 특허공개 2010-192878호 공보 일본국 특허공개 2010-192879호 공보 일본국 특허공개 2010-272852호 공보 일본국 특허공개 2012-033873호 공보 일본국 특허공개 2012-033881호 공보 일본국 특허공개 2010-023849호 공보 일본국 특허공개 2012-071894호 공보 일본국 특허공개 2003-170994호 공보 일본국 특허공개 2012-006827호 공보 일본국 특허공표 2008-539146호 공보
특허 문헌 1∼5에는, 표면에 요철 패턴을 가지는 웨이퍼의 그 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 발수성 보호막 형성용 약액(이후 「보호막 형성용 약액」 또는 간단히 「약액」으로 기재하는 경우가 있다)이 기재되어 있다. 이러한 약액을 보관하기 위한 용기에는, 상술한 바와 같이, 그 약액을 장기간 보관해도 약액의 청정성을 유지하는 것이 요구되고 있다.
또한, 용기에 저장된 약액은, 질소 등의 기체에 의해 용기 내부를 가압함으로써 외부에 배출하기 위해서, 기밀성을 가지는 압송 용기에 보관되는 경우가 많다. 또한, 압송 용기에 있어서는, 노동 안전 위생법이나 소방법 등의 안전성 관점에서, 그 재질이 금속 재료 등으로 한정되어 있다. 다만, 상기 약액에는, 용기의 재질에 대하여 부식성을 가지는 것이므로, 용기 유래의 금속 불순물이 그 약액에 대량으로 용출하지 않도록, 용기 내부를 불소 수지 등의 수지 재료로 라이닝 처리를 실시하는 방법이나, 회전 성형법, 블로우 성형법, 아이소스태틱법 등에 의해 불소 수지 탱크(수지캔체)를 형성한 후, 그 외장을 금속캔체로 덮는다고 하는 방법이 채용되어 있다.
그러나, 금속 재료와 달리, 수지 재료는 절연성이기 때문에, 라이닝 처리를 실시한 용기 등에 대하여 상기 약액을 넣고 뺄 때, 약액이 대전하기 쉽다는 문제가 생긴다. 약액 중의 대전 전위가 증가하면, 용기 등에 인체가 접촉했을 때에 감전되어 버리거나, 스파크(불꽃 전류)에 의한 화재나 용기의 손상을 야기해 버릴 우려가 있다.
특허문헌 6 및 특허문헌 7에 있어서는, 용기의 청정성이나 기밀성에 대하여 고려되어 있지 않고, 대전 전위를 억제하는 효과도 충분하다고 할 수 없는 경우가 있다. 특허문헌 8에 있어서는, 청정성, 기밀성, 대전 전위를 억제하는 효과에 대하여 고려되어 있지 않다. 특허문헌 9에 있어서는, 청정성, 대전 전위를 억제하는 효과에 대하여 고려되어 있지 않다. 특허문헌 10에 있어서는, 대전 전위를 억제하는 효과에 대하여 고려되어 있지 않다.
본 발명은, 보호막 형성용 약액이나 그 약액을 조제하기 위한 보호막 형성용 약액 키트를 장기간 보관한 후에도, 그 약액 또는 그 약액 키트 등의 액체의 청정성을 확보할 수 있고, 또한 그 액체의 대전을 억제할 수 있는 압송 용기; 압송 용기를 이용한 보관 방법; 및 압송 용기를 이용한 이액 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 압송 용기는, 표면에 요철 패턴을 가지고 그 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼(이후 「요철 패턴을 가지는 웨이퍼」또는 간단히 「웨이퍼」라고 기재하는 경우가 있다)의 그 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 보관함과 더불어, 내부를 가압함으로써 이액이 가능하도록 구성된 압송 용기로서, 상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고, 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고, 상기 압송 용기는, 상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B 중 어느 하나의 액체를 충전하는 용기 본체와, 상기 용기 본체에 대하여 상기 액체를 충전 및/또는 취출하기 위하여 상기 액체를 통액하는 통액 노즐을 가지고, 상기 용기 본체는, 상기 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 되어 있는 금속캔체로 구성되어 있고, 상기 통액 노즐에는 상기 액체의 대전 전위를 저감하는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 통액 노즐에 있어서 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분은 수지 재료로 구성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 압송 용기는, 내부를 가압함으로써 이액이 가능하도록 구성되어 있고, 표면에 요철 패턴을 가지는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액(이후, 간단히 「약액」이라고 기재하는 경우가 있다), 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트(이후, 간단히 「약액 키트」라고 기재하는 경우가 있다)를 보관하기 위한 용기이다. 본 발명의 압송 용기는, 안전성을 확보하기 위하여 금속 재료로 구성되어 있는데, 액체(보호막 형성용 약액, 처리액 A 또는 처리액 B)와 접촉하는 부분의 대부분이 수지 재료로 구성되어 있다. 이 때문에, 용기 유래의 금속 불순물 유래의 파티클이 액체에 용출하지 않고, 액체의 청정성을 확보할 수 있다. 또한, 본 발명의 압송 용기는, 용기 본체에 대하여 액체를 넣고 빼기 위한 통액 노즐에 제전 기구가 설치되어 있으므로, 액체의 대전 전위를 저감시킬 수 있다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 상기 제전 기구는, 접지 접속된 도전성 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하는 상기 통액 노즐의 표면의 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 함으로써 구성되어도 되고, 또한 상기 액체와 접촉하도록, 접지 접속된 도전성 재료를 상기 통액 노즐 내에 설치함으로써 구성되어도 된다.
본 발명의 압송 용기에 있어서는, 상기 용기 본체에, 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 더 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하는 표면의 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 하고, 상기 도전성 재료 이외의 접액 부분을 수지 재료로 한 봉형상체로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 상기 용기 본체는, 내부 표면에 수지 라이닝 처리가 실시된 금속캔체, 또는 수지캔체의 외장을 덮은 금속캔체로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 보관 방법은, 표면에 요철 패턴을 가지고 그 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 그 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 압송 용기에 보관하는 방법으로서, 상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고, 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고, 상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B 중 어느 하나의 액체를, 본 발명의 압송 용기에, 불활성 가스를 이용하여 45℃에 있어서의 내압이 게이지압 0.01MPa∼0.19MPa가 되도록 가압 충전하여, 0℃∼45℃에서 보관하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 이액 방법은, 표면에 요철 패턴을 가지고 그 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 그 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를, 내부를 가압함으로써 이액이 가능하도록 구성된 압송 용기에 대하여 이액하는 방법으로서, 상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고, 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고, 상기 압송 용기는, 상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B중 어느 하나의 액체를 충전하는 용기 본체를 가지고, 상기 용기 본체는, 상기 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 되어 있는 금속캔체로 구성되어 있고, 하기 (1) 및 (2) 중 적어도 한쪽을 행하는 것을 특징으로 한다.
(1) 상기 액체의 대전 전위를 저감하는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분이 수지 재료로 구성되어 있는 통액부를 통하여, 상기 액체를 상기 용기 본체에 충전한다.
(2) 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분이 수지 재료로 구성되어 있는 통액부를 통하여, 상기 액체가 충전된 상기 용기 본체로부터 상기 액체를 취출한다.
본 발명의 이액 방법에 있어서 이용하는 압송 용기는, 제전 기구가 설치된 본 발명의 압송 용기여도 되고, 제전 기구가 설치되지 않은 압송 용기여도 된다. 본 발명의 압송 용기를 이용할 경우, 통액 노즐이 통액부에 해당하고, 제전 기구가 설치되지 않은 압송 용기를 이용할 경우, 제전 기구가 설치된 배관 등이 통액부에 해당한다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 상기 제전 기구는, 접지 접속된 도전성 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하는 상기 통액부의 표면 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 함으로써 구성되어 있어도 되고, 또한 상기 액체와 접촉하도록, 접지 접속된 도전성 재료를 상기 통액부 내에 설치함으로써 구성되어 있어도 된다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 상기 액체를 상기 제전 기구에 접촉시키는 시간은, 0.001초∼100초간인 것이 바람직하다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 상기 통액부에 상기 액체를 통액하는 속도는, 0.01m/sec∼10m/sec인 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 의하면, 보호막 형성용 약액이나 그 약액을 조제하기 위한 보호막 형성용 약액 키트를 장기간 보관한 후에도, 그 약액이나 그 약액 키트 등의 액체의 청정성을 확보할 수 있고, 또한 그 액체의 대전을 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 압송 용기의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 실시예 1 및 2에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 3은 실시예 3 및 4에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 4는 실시예 5에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 5는 비교예 1에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 6은 비교예 2에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 7은 실시예 31 및 32에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 8은 실시예 33 및 34에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 9는 실시예 35에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
도 10은 비교예 13에 있어서의 압송 용기의 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 구체적으로 설명한다. 그러나, 본 발명은, 이하의 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위에 있어서 적절히 변경하여 적용할 수 있다.
[압송 용기]
이하, 본 발명의 압송 용기에 대하여 설명한다. 본 발명의 압송 용기는, 표면에 요철 패턴을 가지고 그 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 그 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 보관하기 위한 용기이다. 상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고 있다. 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어진다. 본 발명의 압송 용기에 보관하는 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B에 대해서는, 후에 상세하게 설명한다.
본 발명에 있어서, 발수성 보호막이란, 웨이퍼 표면에 형성됨으로써, 그 웨이퍼 표면의 젖음성을 낮게 하는 막, 즉 발수성을 부여하는 막이다. 본 발명에 있어서 발수성이란, 물품 표면의 표면 에너지를 저감시켜, 물이나 그 외의 액체와 그 물품 표면의 사이(계면)에서 상호 작용, 예를 들면, 수소 결합, 분자간력 등을 저감시키는 의미이다. 특히 물에 대하여 상호 작용을 저감시키는 효과가 큰데, 물과 물 이외의 액체의 혼합액이나, 물 이외의 액체에 대해서도 상호 작용을 저감시키는 효과를 가진다. 그 상호 작용의 저감에 의해, 물품 표면에 대한 액체의 접촉각을 크게 할 수 있다. 이후, 발수성 보호막을 간단히 「보호막」으로 기재하는 경우가 있다. 또한, 발수성 보호막은, 후술하는 발수성 보호막 형성제로 형성된 것이어도 되고, 발수성 보호막 형성제를 주성분으로 하는 반응물을 포함하는 것이어도 된다.
약액, 또는 약액 키트로부터 얻어지는 약액을 이용하여 웨이퍼의 처리를 행하면, 세정액이 웨이퍼의 요철 패턴의 오목부로부터 제거될 때, 즉, 건조될 때, 적어도 오목부 표면에 상기 보호막이 형성되어 있으므로, 그 오목부 표면의 모세관력이 작아져, 패턴 무너짐이 생기기 어려워진다. 상기 약액에 의한 웨이퍼의 처리란, 웨이퍼의 요철 패턴의 적어도 오목부에 상기 약액이나 약액 키트로부터 얻어지는 약액을 유지하는 사이에 적어도 오목부 표면에 보호막을 형성시키는 것이다. 상기 웨이퍼의 처리 방식은, 웨이퍼의 요철 패턴의 적어도 오목부에 약액을 유지할 수 있는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 웨이퍼를 거의 수평으로 유지하여 회전시키면서 회전 중심 부근에 약액을 공급하여 웨이퍼를 1장씩 처리하는 스핀 처리로 대표되는 매엽 방식이나, 처리조 내에서 복수매의 웨이퍼를 침지하여 처리하는 배치 방식을 들 수 있다. 또한, 웨이퍼의 요철 패턴의 적어도 오목부에 상기 약액을 공급할 때의 그 약액의 형태로는, 그 오목부에 유지되었을 때에 액체로 되는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 액체, 증기 등이 있다.
도 1은, 본 발명의 압송 용기의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 1에 도시하는 압송 용기(20)는, 액체를 충전하는 용기 본체(21)와, 액체를 통액하는 통액 노즐(22)과, 기체를 유통시키는 가스구 노즐(23)을 가지고 있다. 통액 노즐(22) 및 가스구 노즐(23)은, 용기 본체(21)와 각각 연결되어 있다. 통액 노즐(22)은, 용기 본체(21)에 충전된 액체와 접촉하는 접액 노즐(25)과 접속되어 있다. 통액 노즐(22)에는, 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구(26)가 설치되어 있다. 또한, 통액 노즐(22) 및 가스구 노즐(23)은, 도시하지 않은 밸브 또는 커플러 등에 접속되어 있다.
해당 밸브나 커플러 등의 부재의 접액부의 재질은, 예를 들면, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 폴리프로필렌(PP), 6,6-나일론, 테트라플루오로에틸렌(PTFE), 테트라플루오로에틸렌과 퍼플루오로알킬비닐에테르의 공중합체(PFA), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 에틸렌·클로로트리플루오로에틸렌 공중합체(ECTFE), 에틸렌·4불화에틸렌 공중합체(ETFE), 4불화 에틸렌·6불화 프로필렌 공중합체(FEP) 등의 수지 재료를 들 수 있다. 이들 중에서는, PTFE, PFA, ETFE가 바람직하고, PTFE, PFA가 보다 바람직하다. 또한, 해당 밸브나 커플러 등의 부재의 접액부의 재질은, 예를 들면, 철강, 합금 주철, 마르에이징강, 스테인리스강(예를 들면, 전해 연마된 SUS304, 전해 연마된 SUS316L 등), 니켈과 그 합금, 코발트와 그 합금, 알루미늄, 마그네슘과 그 합금, 구리와 그 합금, 티탄, 지르코늄, 탄탈, 니오브와 그 합금, 납과 그 합금, 금, 은, 백금, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 루테늄, 오스뮴 등의 귀금속과 그 합금 등의 금속 재료를 들 수 있다. 이들 중에서는, 내식성 및 경제성의 관점에서 스테인리스강이 바람직하다. 상기와 같은 밸브나 커플러 등의 부재에서는, 통액부의 유로가 좁기 때문에 선속이 빨라지는 경향이 있고, 그 결과, 대전하기 쉬워진다. 따라서 제전의 관점에서는, 밸브나 커플러 등의 부재의 접액부의 적어도 일부는 상기와 같은 금속 재료가 바람직하다.
각각의 부재는, 플랜지를 통하여 접속되어도 되고, 용착하여 접속되어도 된다. 또한, 도 1에 도시하는 압송 용기(20)에 있어서는, 용기 본체(21)와 일체적으로 연결된 부재가 제전 기구(26)와 플랜지를 통하여 접속됨으로써 통액 노즐(22)이 구성되어 있는데, 본 발명의 압송 용기에 있어서는, 통액 노즐 전체가 용기 본체와 일체적으로 연결되어 있어도 된다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 통액 노즐은, 용기 본체에 대하여 액체를 충전 및/또는 취출하기 위한 노즐이며, 가스구 노즐은, 용기 본체에 대하여 기체를 도입 및/또는 배출하기 위한 노즐이다. 또한, 용기 본체에 대하여 충전 및/또는 취출하는 액체는, 약액, 처리액 A 및 처리액 B중 어느 하나이다. 또한, 용기 본체에 대하여 도입 및/배출하는 기체로는, 불활성 가스 등을 들 수 있고, 그 중에서도 질소 가스가 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 용기 본체는, 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 되어 있는 금속캔체로 구성되어 있다. 이러한 용기 본체는, 내부 표면에 수지 라이닝 처리가 실시된 금속캔체로 구성되어 있어도 되고, 수지캔체의 외장을 덮은 금속캔체로 구성되어 있어도 된다. 또한, 도 1에는, 금속캔체의 내부 표면이 수지 라이닝층(24)으로 피복된 용기 본체(21)가 나타나 있다. 이후, 「수지 라이닝층」을 간단히 「라이닝층」이라고도 기재하는 경우가 있다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 수지 라이닝층의 두께는, 바람직하게는 1mm∼10mm, 보다 바람직하게는 1.5mm∼6mm이다. 또한, 수지캔체의 두께는, 바람직하게는 1mm∼10mm, 보다 바람직하게는 1.5mm∼5mm이다.
상기 수지 재료의 구체적인 예로는, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 폴리프로필렌(PP), 6,6-나일론, 테트라플루오로에틸렌(PTFE), 테트라플루오로에틸렌과 퍼플루오로알킬비닐에테르의 공중합체(PFA), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 에틸렌·클로로트리플루오로에틸렌 공중합체(ECTFE), 에틸렌·4불화 에틸렌 공중합체(ETFE), 4불화 에틸렌·6불화 프로필렌 공중합체(FEP) 등을 들 수 있다. 이들 중에서는, PTFE, PFA, ETFE가 바람직하고, PTFE, PFA가 보다 바람직하다.
상기 금속캔체를 구성하는 금속 재료로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 철강, 합금 주철, 마르에이징강, 스테인리스강(예를 들면, 전해 연마된 SUS304, 전해 연마된 SUS316L 등), 니켈과 그 합금, 코발트와 그 합금, 알루미늄, 마그네슘과 그 합금, 구리와 그 합금, 티탄, 지르코늄, 탄탈, 니오브와 그 합금, 납과 그 합금, 금, 은, 백금, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 루테늄, 오스뮴 등의 귀금속과 그 합금 등을 들 수 있다. 이들 중에서는, 내식성 및 경제성의 관점에서 스테인리스강이 바람직하다.
또한, 본 발명의 압송 용기에 있어서는, 통액 노즐 및 가스구 노즐이 상술한 금속 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하고, 또한 액체와 접촉하는 부분이 상술한 수지 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 예를 들면, 도 1에 도시하는 압송 용기(20)에서는, 통액 노즐(22)의 내부 표면이 수지 라이닝층(24)으로 피복되어 있고, 가스구 노즐(23)의 내부 표면이 수지 라이닝층(24)으로 피복되어 있다. 또한, 통액 노즐(22)은, 용기 본체(21)에 충전된 액체와 접촉하는 적어도 표면이 수지제인 접액 노즐(25)과 접속되어 있다.
이와 같이, 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 구성되어 있으면, 액체에 금속이 용출하지 않으므로, 액체 중의 파티클의 수의 증대를 억제할 수 있어, 액체의 청정성을 유지할 수 있다.
약액 중의 액상에서의 광 산란식 액중 입자 검출기에 의한 파티클 측정에 있어서, 0.2㎛보다 큰 입자의 수는, 약액의 청정성의 관점에서, 그 약액 1mL당 100개 이하인 것이 바람직하다. 상기 0.2㎛보다 큰 입자의 수가 그 약액 1mL당 100개를 초과하면, 파티클에 의한 패턴 손상을 유발할 우려가 있어, 디바이스의 수율 저하 및 신뢰성의 저하를 일으키는 원인이 되기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 0.2㎛보다 큰 입자의 수가 그 약액 1mL당 100개 이하이면, 상기 보호막을 형성한 후의, 용매나 물에 의한 세정을 생략 또는 저감할 수 있으므로 바람직하다. 또한, 상기 0.2㎛보다 큰 입자의 수는 적을수록 바람직하지만, 그 약액 1mL당 1개 이상 있어도 된다. 또한, 약액 키트를 구성하는 처리액 A중의 액상에서의 광 산란식 액중 입자 검출기에 의한 파티클 측정에 있어서, 0.2㎛보다 큰 입자의 수는, 그 처리액 A1mL당 100개 이하인 것이 바람직하고, 처리액 B중의 액상에서의 상기 파티클의 수는, 그 처리액 B1mL당 100개 이하인 것이 바람직하다. 처리액 A중, 및 처리액 B중의 액상에서의 상기 파티클의 수가 상기의 범위이면, 약액 키트로부터 얻어지는 약액 중의 상기 파티클의 수를, 1mL당 100개 이하로 하기 쉽기 때문이다. 또한, 본 발명에 있어서의 약액이나 처리액 중의 액체 상태에서의 파티클 측정은, 레이저를 광원으로 한 광 산란식 액중 입자 측정 방식에 있어서의 시판의 측정 장치를 이용하여 측정하는 것이며, 파티클의 입경이란, PSL(폴리스티렌제 라텍스) 표준 입자 기준의 광 산란 상당 직경을 의미한다.
여기에서, 상기 파티클이란, 원료에 불순물로서 포함되는 티끌, 먼지, 유기 고형물, 무기 고형물 등의 입자나, 약액이나 처리액의 조제 중에 오염물로서 반입되는 티끌, 먼지, 유기 고형물, 무기 고형물 등의 입자 등이며, 최종적으로 약액이나 처리액 중에서 용해하지 않고 입자로서 존재하는 것이 해당한다.
단, 액체와 접촉하는 부분이 모두 수지제이면, 액체와 수지의 접촉에 의해 액체 중의 대전 전위가 증가하기 쉬워지고, 특히 액체가 비수 유기 용매를 많이 함유하는 경우는 대전 전위가 증가하기 쉬운 경향이 있다. 여기서, 본 발명의 압송 용기에 있어서는, 통액 노즐에, 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있는 것을 특징으로 하고 있다. 또한, 제전 기구의 구성에 대해서는 이하에서 설명하는데, 통액 노즐에 있어서, 제전 기구를 제외한 접액 부분은 수지 재료로 구성되어 있다.
액체의 대전 전위를 저감시키기 위해서는, 통액 노즐에 있어서, 접지 접속된 도전성 재료에 액체를 접촉시키는 것이 바람직하다. 따라서, 제전 기구는, 접지 접속된 도전성 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 제전 기구는, 액체와 접촉하는 통액 노즐 표면의 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 함으로써 구성되어 있거나, 또는 액체와 접촉하도록, 접지 접속된 도전성 재료를 통액 노즐 내에 설치함으로써 구성되어 있는 것이 보다 바람직하다. 제전 기구의 예로는, (a) 도 1에 도시하는 것과 같은, 도전성 재료로 이루어지는 부재가 통액 노즐의 일부로서 접속된 구성, (b) 통액 노즐의 일부에 수지 라이닝층이 설치되지 않고 도전성 재료가 노출된 구성, (c) 후술의 도 3에 도시하는 것과 같은, 수지 라이닝층으로 피복된 통액 노즐 내에 도전성 재료로 이루어지는 부재를 설치한 구성 등을 들 수 있다. 도전성 재료로 이루어지는 부재로는 특별히 한정되지 않고, 슬리브 부재나 와셔 부재 등을 들 수 있다. 또한, 통액 노즐에는, 제전 기구가 복수 설치되어도 된다. 복수의 제전 기구가 설치되어 있는 경우, 동일한 종류의 제전 기구가 설치되어도 되고, 복수 종류의 제전 기구가 조합되어 설치되어도 된다.
상기 도전성 재료로는, 예를 들면, 철강, 합금 주철, 마르에이징강, 스테인리스강(예를 들면, 전해 연마된 SUS304, 전해 연마된 SUS316L 등), 니켈과 그 합금, 코발트와 그 합금, 알루미늄, 마그네슘과 그 합금, 구리와 그 합금, 티탄, 지르코늄, 탄탈, 니오브와 그 합금, 납과 그 합금, 금, 은, 백금, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 루테늄, 오스뮴 등의 귀금속과 그 합금, 다이아몬드, 유리상 탄소 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 재료로서, 카본 등을 비롯한 상기의 도전성 재료가 함유된 (단련하여 넣은) 수지 재료를 이용해도 된다. 그러한 수지 재료로는, 예를 들면, 주식회사 니치아스 제의 상품명 「나프론 PFA-AS 튜브」, 다이킨공업 주식회사 제의 상품명 「네오프론 PFA-AP-210AS, PFA-AP-230AS, PFA-AP-230ASL」등을 들 수 있다. 그 도전성 재료는, 상기 액체에 대한 금속 용출량이 적은 것이 바람직하고, 예를 들면, 액체와 도전성 재료가 45℃에서 700시간 접촉하는 것과 같은 조건에서, 상기 액체와 그 도전성 재료의 테스트 피스편을 이용한 침지 시험을 행하고, 그 침지 시험에 있어서의 테스트 피스편 단위 면적당 Na, Mg, K, Ca, Mn, Fe, Cu, Li, Al, Cr, Ni, Zn 및 Ag의 각 원소의 용출량을 구하고, 이를 실설비 조건(상기 액체와 도전성 재료의 접촉 면적, 상기 액체의 처리량)에 적용시켜서 농도 환산하여, 얻어지는 액체 중의 Na, Mg, K, Ca, Mn, Fe, Cu, Li, Al, Cr, Ni, Zn 및 Ag의 농도가 각 원소 0.01질량ppb 미만, 또는 정량 하한치가 0.01질량 ppb 이상의 원소는 정량 하한치 미만인 도전성 재료를 선택하는 것이 바람직하다. 여기에서 말하는 정량 하한치 미만이란, 6회의 공시험 측정에 있어서 검출된 농도에 대하여 표준 편차를 구하고, 그 표준 편차를 10배한 농도, 또는 유도 결합 플라즈마 질량 분석 장치의 노이즈의 5배에 상당하는 응답치에 대응하는 농도 중 어느쪽인가 큰 쪽에 의해 규정한 정량 하한치 미만인 것을 의미한다. 또한, 전기 전도율이 높은 것이 보다 바람직하다. 그러한 관점에서, 도전성 재료로는, 스테인리스강, 금, 백금, 다이아몬드, 유리상 탄소 등이 특히 바람직하다. 또한, 액체의 청정성의 관점에서, 상기 도전성 재료에 전해 연마를 실시한 것이 바람직하고, 전해 연마를 실시한 스테인리스강이 보다 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 통액 노즐에 설치된 제전 기구의 크기는 특별히 한정되지 않지만, 너무 작으면 액체의 대전 전위를 저감시키는 효과를 충분히 얻을 수 없고, 너무 크면 금속이 용출하고, 그 결과 파티클이 증대해 버려, 액체의 청정성을 유지하는 것이 곤란해진다. 이 때문에, 제전 기구에 있어서의 액체와 접촉하는 시간이, 바람직하게는 0.001초∼100초간, 더욱 바람직하게는 0.01초∼10초간, 보다 바람직하게는 0.01초∼1초간이 되도록 액체와 접촉하는 면적을 가지는 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 있어서는, 용기 본체에, 액체의 대전 전위를 저감하는 제전 기구가 더 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이 제전 기구는, 용기 본체에 충전된 액체와 접촉함으로써 액체의 대전 전위를 저감시킬 수 있다. 용기 본체에 설치되는 제전 기구의 구성은 특별히 한정되지 않지만, 액체와 접촉하는 표면의 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 하고, 도전성 재료 이외의 접액 부분을 수지 재료로 한 봉형상체로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 용기 본체에 설치되는 제전 기구의 크기는 특별히 한정되지 않지만, 너무 작으면 액체의 대전 전위를 저감시키는 효과를 충분히 얻을 수 없고, 너무 크면 금속이 용출하여, 그 결과 파티클이 증대해 버려, 액체의 청정성을 유지하는 것이 곤란해지는 경향이 있다. 이 때문에, 제전 기구에 있어서의 액체와 접촉하는 면적은, 바람직하게는 1㎟∼100,000㎟, 보다 바람직하게는 10㎟∼10,000㎟, 더욱 바람직하게는 10㎟∼1,000㎟이다.
또한, 대전 전위의 측정은, 예를 들면, 정전 전위 측정기에 의해 행할 수 있다. 또한, 참고로, 약액이나 약액 키트에 이용하는 용매의 대전 전위의 관리 지표는, 독립 행정 법인 노동 안전 위생 종합 연구소 발간의 「정전기 안전 지침 2007」p88에 기재된 바와 같이, 액체 중의 최소 착화 에너지가 0.1mJ 미만이면, 그 액체 중의 대전 전위를 1kV 이하로, 상기 에너지가 0.1mJ 이상, 1mJ 미만이면, 상기 대전 전위를 5kV 이하로, 상기 에너지가 1mJ 이상이면, 상기 대전 전위를 10kV 이하로 관리하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 대전 전위를 보다 낮게 억제할수록, 얻어지는 약액이나 약액 키트가 착화하기 어려워지기 때문에, 안전성의 관점에서 보다 바람직하다.
본 발명의 압송 용기는, 내부를 가압함으로써 액체의 이송이 가능하도록 구성되어 있다. 예를 들면, 도 1에 도시하는 압송 용기(20)에 있어서는, 통액 노즐(22) 및 가스구 노즐(23)이, 도시하지 않은 밸브 또는 커플러 등에 접속되고, 압송 용기(20)의 각 구성이, 압송 용기(20) 내를 밀폐로 유지하도록 접속된 구조로 되어 있다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 약액, 처리액 A 또는 처리액 B를 가압 충전했을 때의 45℃에 있어서의 초기 내압에 대하여, 45℃에서 12개월 보관한 후의 45℃에 있어서의 내압의 변화율은, 약액 등의 성능 유지의 관점에서, ±10% 이내인 것이 바람직하고, 또한 그 보관후의 내압이 대기압을 초과하는 기밀성을 가지고 있는 것이 바람직하다. 또한, 45℃에 있어서의 초기 내압은, 바람직하게는 게이지압 0.01MPa∼0.19MPa, 보다 바람직하게는 게이지압 0.03MPa∼0.1MPa이다.
상술한 기밀성은, 공지의 방법에 의해 얻을 수 있다. 예를 들면, 밸브로서, 다이어프램 밸브, 니들 밸브, 게이트 밸브, 글로브 밸브, 볼 밸브, 버터플라이 밸브 등을 사용할 수 있는데, 이들 중에서는 기밀성이 뛰어나고, 유체를 오염시키지 않는 구조인 다이어프램 밸브를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 용기의 용적이나 종류는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 용적 200L 정도의 원통형 압송 용기나, 용적 1000L 정도의 컨테이너형 압송 용기 등을 들 수 있다.
본 발명의 압송 용기에 있어서, 통액 노즐은, 액체를 충전 및/또는 취출하기 위한 노즐인데, 액체의 충전 및 취출을 1개의 노즐로 행해도 되고, 2개 이상의 노즐로 별개로 행해도 된다. 마찬가지로, 가스구 노즐은, 기체를 도입 및/또는 배출하기 위한 노즐인데, 기체의 도입 및 배출을 1개의 노즐로 행해도 되고, 2개 이상의 노즐로 별개로 행해도 된다.
본 발명의 압송 용기가 2개의 통액 노즐을 가지는 경우, 제전 기구는, 양쪽의 통액 노즐에 설치되어 있는 것이 바람직하지만, 한쪽의 통액 노즐에 설치되어 있어도 된다. 제전 기구가 한쪽의 통액 노즐에 설치되어 있는 경우, 액체를 충전하기 위한 통액 노즐에 설치되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 압송 용기가 2개 이상인 통액 노즐을 가지는 경우, 제전 기구는, 모든 통액 노즐에 설치되어 있는 것이 바람직하지만, 적어도 1개의 통액 노즐에 설치되어 있어도 된다.
본 발명의 압송 용기는, 도 1에 도시한 통액 노즐(22), 가스구 노즐(23), 접액 노즐(25) 이외에, 다른 노즐을 더 가지고 있어도 된다. 다른 노즐로는, 예를 들면, 용기 본체의 압력을 측정하는 압력계와 접속하기 위한 노즐 등을 들 수 있다.
이하, 본 발명의 압송 용기에 보관하는 보호막 형성용 약액 및 보호막 형성용 약액 키트에 대하여 설명한다. 상술한 바와 같이, 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고 있고, 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어진다.
약액 중의 비수 유기 용매는, 구체적으로는, 톨루엔, 벤젠, 크실렌, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 탄화 수소류, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 아세토아세트산에틸 등의 에스테르류, 디에틸에테르, 디프로필에테르, 디부틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, 아세톤, 아세틸아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸부틸케톤, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 퍼플루오로옥탄, 퍼플루오로노난, 퍼플루오로시클로펜탄, 퍼플루오로시클로헥산, 헥사플루오로벤젠 등의 퍼플루오로카본, 1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄, 옥타플루오로시클로펜탄, 2,3-디하이드로데카플루오로펜탄, 제오로라 H(니폰제온 제) 등의 하이드로플루오로카본, 메틸퍼플루오로이소부틸에테르, 메틸퍼플루오로부틸에테르, 에틸퍼플루오로부틸에테르, 에틸퍼플루오로이소부틸에테르, 아사히클린 AE-3000(아사히가라스 제), Novec7100, Novec7200, Novec7300, Novec7600(모두 3M 제) 등의 하이드로플루오로에테르, 테트라클로로메탄 등의 클로로카본, 클로로포름 등의 하이드로클로로카본, 디클로로디플루오로메탄 등의 클로로플루오로카본, 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판, 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판, 1-클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜, 1,2-디클로로-3,3,3-트리플루오로프로펜 등의 하이드로클로로플루오로카본, 퍼플루오로에테르, 퍼플루오로폴리에테르 등이 있는 할로겐 함유 용매, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드계 용매, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, γ-헥사노락톤, γ-헵타노락톤, γ-옥타노락톤, γ-노나노락톤, γ-데카노락톤, γ-운데카노락톤, γ-도데카노락톤, δ-발레로락톤, δ-헥사노락톤, δ-옥타노락톤, δ-노나노락톤, δ-데카노락톤, δ-운데카노락톤, δ-도데카노락톤, ε-헥사노락톤 등의 락톤계 용매, 디메틸카보네이트, 에틸메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 디프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 트리에틸렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 테트라프로필렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노프로필에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노에틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노프로필에테르, 테트라에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노프로필에테르, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르, 테트라프로필렌글리콜모노메틸에테르, 부틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디아세테이트, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디부틸에테르, 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜디아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라에틸렌글리콜디부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜디부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸프로필에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디아세테이트, 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜디부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜디아세테이트, 테트라프로필렌글리콜디메틸에테르, 테트라프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 테트라프로필렌글리콜디아세테이트, 부틸렌글리콜디메틸에테르, 부틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 부틸렌글리콜디아세테이트, 글리세린트리아세테이트 등의 다가 알코올의 유도체, 포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 디에틸아민, 트리에틸아민, 피리딘 등의 질소 원소 함유 용매를 들 수 있다.
상기 비수 유기 용매는, 탄화수소류, 에스테르류, 에테르류, 케톤류, 할로겐 함유 용매, 술폭시드계 용매, 락톤계 용매, 카보네이트계 용매, OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체, N-H기를 가지지 않는 질소 원소 함유 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 바람직하다. 상기 실릴화제는 OH기나 N-H기를 함유하는 비수 유기 용매와 반응하기 쉬우므로, 상기 비수 유기 용매로서, OH기나 N-H기를 함유하는 비수 유기 용매를 이용하면, 상기 실릴화제의 반응성이 저감할 우려가 있고, 그 결과, 단시간에 발수성을 발현하기 어려울 우려가 있다. 한편, 상기 실릴화제는 OH기나 N-H기를 함유하지 않는 비수 유기 용매와 반응하기 어려우므로, 상기 비수 유기 용매로서, OH기나 N-H기를 함유하지 않는 비수 유기 용매를 이용하면, 상기 실릴화제의 반응성이 저감하기 어렵고, 그 결과, 단시간에 발수성을 발현하기 쉽다. 또한, OH기나 N-H기를 함유하지 않는 비수 유기 용매는, OH기나 N-H기를 함유하지 않는 비수극성 용매와 OH기나 N-H기를 함유하지 않는 비수 비극성 용매의 양쪽을 말한다.
또한, 상기 비수 유기 용매의 일부, 또는 전체에 불연성인 것을 사용하면, 보호막 형성용 약액이 불연성이 되거나, 혹은 인화점이 높아져, 그 약액의 위험성이 저하되므로 바람직하다. 할로겐 함유 용매는 불연성인 것이 많고,불연성 할로겐 함유 용매는 불연성 유기 용매로서 적합하게 사용할 수 있다.
또한, 상기 비수 유기 용매로서 인화점이 70℃를 초과하는 용매를 이용하는 것이, 소방법 상의 안전성의 관점에서 바람직하다.
또한, 「화학품의 분류 및 표시에 관한 국제적 조화 시스템; GHS」에 의하면, 인화점이 93℃ 이하의 용매를 「인화성 액체」로서 정의하고 있다. 이 때문에, 불연성 용매가 아니어도, 상기 비수 유기 용매로서 인화점이 93℃를 초과하는 용매를 이용하면, 상기 보호막 형성용 약액의 인화점은 93℃ 초과가 되기 쉬워, 그 약액이 「인화성 액체」에 해당하기 어려워지므로, 안전성의 관점에서 더욱 바람직하다.
락톤계 용매나, 카보네이트계 용매나, 다가 알코올의 유도체 중 OH기를 가지지 않는 것은, 인화점이 높은 것이 많으므로, 상기 보호막 형성용 약액의 위험성을 낮게 할 수 있으므로 바람직하다. 상기의 안전성의 관점에서, 구체적으로는 인화점이 70℃를 초과하는, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, γ-헥사노락톤, γ-헵타노락톤, γ-옥타노락톤, γ-노나노락톤, γ-데카노락톤, γ-운데카노락톤, γ-도데카노락톤, δ-발레로락톤, δ-헥사노락톤, δ-옥타노락톤, δ-노나노락톤, δ-데카노락톤, δ-운데카노락톤, δ-도데카노락톤, ε-헥사노락톤, 프로필렌카보네이트, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디아세테이트, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디부틸에테르, 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜디아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르, 테르라에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라에틸렌글리콜디부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디아세테이트, 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜디부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜디아세테이트, 테트라프로필렌글리콜디메틸에테르, 테트라프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 테트라프로필렌글리콜디아세테이트, 부틸렌글리콜디아세테이트, 글리세린트리아세테이트 등을 상기 비수 유기 용매로서 이용하는 것이 보다 바람직하고, 인화점이 93를 초과하는, γ-부티로락톤, γ-헥사노락톤, γ-헵타노락톤, γ-옥타노락톤, γ-노나노락톤, γ-데카노락톤, γ-운데카노락톤, γ-도데카노락톤, δ-발레로락톤, δ-헥사노락톤, δ-옥타노락톤, δ-노나노락톤, δ-데카노락톤, δ-운데카노락톤, δ-도데카노락톤, ε-헥사노락톤, 프로필렌카보네이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디에틸에테르, 트리에틸렌글리콜디부틸에테르, 트리에틸렌글리콜부틸메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리에틸렌글리콜디아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라에틸렌글리콜디부틸에테르, 테트라에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 테트라에틸렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜디에틸에테르, 트리프로필렌글리콜디부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 트리프로필렌글리콜디아세테이트, 테트라프로필렌글리콜디메틸에테르, 테트라프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 테트라프로필렌글리콜디아세테이트, 부틸렌글리콜디아세테이트, 글리세린트리아세테이트 등을 상기 비수 유기 용매로서 이용하는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 약액 중의 실릴화제(이후, 약액 중의 실릴화제를 「보호막 형성제」라고도 기재하는 경우가 있다)는, 하기 일반식 [1]로 표시되는 규소 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 바람직하다.
(R1)aSi(H)bX1 4 -a-b [1]
[식 1 중, R1은, 각각 서로 독립하여, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기를 포함하는 1가의 유기기이다. 또한, X1은, 각각 서로 독립하여, 규소 원소와 결합하는 원소가 질소인 1가의 관능기, 규소 원소와 결합하는 원소가 산소인 1가의 관능기, 할로겐기, 니트릴기 및 -CO-NH-Si(CH3)3으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 기를 나타낸다. a는 1∼3의 정수, b는 0∼2의 정수이며, a와 b의 합계는 1∼3이다.]
상기 일반식 [1]의 R1은 상기 보호막의 표면 에너지를 저감시켜, 물이나 그 외의 액체와 그 보호막 표면 사이(계면)에서 상호 작용, 예를 들면, 수소 결합, 분자간력 등을 저감시킨다. 특히 물에 대하여 상호 작용을 저감시키는 효과가 크지만, 물과 물 이외의 액체의 혼합액이나, 물 이외의 액체에 대해서도 상호 작용을 저감시키는 효과를 가진다. 이에 따라, 물품 표면에 대한 액체의 접촉각을 크게 할 수 있다.
상기 일반식 [1]의 X1은, 예를 들면, 실리콘 웨이퍼의 반응 사이트인 실라놀기에 대하여 반응성을 가지는 반응성 부위이며, 그 반응성 부위와 웨이퍼의 실라놀기가 반응하여, 실릴화제가 실록산 결합을 통하여 실리콘 웨이퍼의 규소 원소와 화학적으로 결합함으로써 상기 보호막이 형성된다. 세정액을 이용한 실리콘 웨이퍼의 세정에 있어, 웨이퍼의 오목부로부터 세정액이 제거될 때, 즉, 건조될 때, 상기 오목부 표면에 상기 보호막이 형성되어 있으면, 그 오목부 표면의 모세관력이 작아져, 패턴 무너짐이 발생하기 어려워 진다.
상기 일반식 [1]의 X1의 일례인 규소 원소에 결합하는 원소가 질소의 1가인 관능기에는, 수소, 탄소, 질소, 산소뿐만 아니라, 규소, 유황, 할로겐 등의 원소가 포함되어 있어도 된다. 그 관능기의 예로는, 이소시아네이트기, 아미노기, 디알킬아미노기, 이소티오시아네이트기, 아미드기, 아세트아미드기, -N(CH3)C(O)CH3, -N(CH3)C(O)CF3, -N=C(CH3)OSi(CH3)3, -N=C(CF3)OSi(CH3)3, -NHC(O)-OSi(CH3)3, -NHC(O)-NH-Si(CH3)3, 이미다졸환(하기 식 [7]), 옥사졸리디논환(하기 식 [8]), 모르폴린환(하기 식[9]), -NH-C(O)-Si(CH3)3, -N(H)2-h(Si(H)iR9 3-i)h(R9는, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1∼18인 1가의 탄화수소기, h는 1 또는 2, i는 0∼2의 정수) 등이 있다.
Figure pat00001
또한, 상기 일반식 [1]의 X1의 일례인 규소 원소에 결합하는 원소가 산소의 1가인 관능기에는, 수소, 탄소, 질소, 산소뿐만 아니라, 규소, 유황, 할로겐 등의 원소가 포함되어 있어도 된다. 그 관능기의 예로는, 알콕시기, -OC(CH3)=CHCOCH3, -OC(CH3)=N-Si(CH3)3, -OC(CF3)=N-Si(CH3)3, -O-CO-R10(R10은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기), 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 알킬술포네이트기 등이 있다.
또한, 상기 일반식[1]의 X1의 일례인 할로겐기에는, 클로로기, 브로모기, 요오드기 등이 있다.
상기 일반식[1]로 표시되는 실릴화제로는, 예를 들면, CH3Si(OCH3)3, C2H5Si(OCH3)3, C3H7Si(OCH3)3, C4H9Si(OCH3)3, C5H11Si(OCH3)3, C6H13Si(OCH3)3, C7H15Si(OCH3)3, C8H17Si(OCH3)3, C9H19Si(OCH3)3, C10H21Si(OCH3)3, C11H23Si(OCH3)3, C12H25Si(OCH3)3, C13H27Si(OCH3)3, C14H29Si(OCH3)3, C15H31Si(OCH3)3, C16H33Si(OCH3)3, C17H35Si(OCH3)3, C18H37Si(OCH3)3, (CH3)2Si(OCH3)2, C2H5Si(CH3)(OCH3)2, (C2H5) 2Si(OCH3)2, C3H7Si(CH3)(OCH3)2, (C3H7)2Si(OCH3)2, C4H9Si(CH3)(OCH3)2, (C4H9)2Si(OCH3)2, C5H11Si(CH3)(OCH3)2, C6H13Si(CH3)(OCH3)2, C7H15Si(CH3)(OCH3)2, C8H17Si(CH3)(OCH3)2, C9H19Si(CH3)(OCH3)2, C10H21Si(CH3)(OCH3)2, C11H23Si(CH3)(OCH3)2, C12H25Si(CH3)(OCH3)2, C13H27Si(CH3)(OCH3)2, C14H29Si(CH3)(OCH3)2, C15H31Si(CH3)(OCH3)2, C16H33Si(CH3)(OCH3)2, C17H35Si(CH3)(OCH3)2, C18H37Si(CH3)(OCH3)2, (CH3)3SiOCH3, C2H5Si(CH3)2OCH3, (C2H5)2Si(CH3)OCH3, (C2H5)3SiOCH3, C3H7Si(CH3)2OCH3, (C3H7) 2Si(CH3)OCH3, (C3H7)3SiOCH3, C4H9Si(CH3)2OCH3, (C4H9)3SiOCH3, C5H11Si(CH3)2OCH3, C6H13Si(CH3)2OCH3, C7H15Si(CH3)2OCH3, C8H17Si(CH3)2OCH3, C9H19Si(CH3)2OCH3, C10H21Si(CH3)2OCH3, C11H23Si(CH3)2OCH3, C12H25Si(CH3)2OCH3, C13H27Si(CH3)2OCH3, C14H29Si(CH3)2OCH3, C15H31Si(CH3)2OCH3, C16H33Si(CH3)2OCH3, C17H35Si(CH3)2OCH3, C18H37Si(CH3)2OCH3, (CH3)2Si(H)OCH3, CH3Si(H)2OCH3, (C2H5)2Si(H)OCH3, C2H5Si(H)2OCH3, C2H5Si(CH3)(H)OCH3, (C3H7)2Si(H)OCH3 등의 알킬메톡시실란, 혹은 CF3CH2CH2Si(OCH3)3, C2F5CH2CH2Si(OCH3)3, C3F7CH2CH2Si(OCH3)3, C4F9CH2CH2Si(OCH3)3, C5F11CH2CH2Si(OCH3)3, C6F13CH2CH2Si(OCH3)3, C7F15CH2CH2Si(OCH3)3, C8F17CH2CH2Si(OCH3)3, CF3CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C2F5CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C3F7CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C4F9CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C5F11CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C6F13CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C7F15CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, C8F17CH2CH2Si(CH3)(OCH3)2, CF3CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C2F5CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C3F7CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C4F9CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C5F11CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C6F13CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C7F15CH2CH2Si(CH3)2OCH3, C8F17CH2CH2Si(CH3)2OCH3, CF3CH2CH2Si(CH3)(H)OCH3 등의 플루오로알킬메톡시실란, 혹은 상기 알킬메톡시실란 이나 상기 플루오로알킬메톡시실란의 메톡시기의 메틸기 부분을, 탄소수가 2∼18인 1가의 탄화수소기로 치환한 알콕시실란 화합물, 혹은 상기 메톡시기를, -OC(CH3)=CHCOCH3, -OC(CH3)=N-Si(CH3)3, -OC(CF3)=N-Si(CH3)3, -O-CO-R10(R10은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화 수소기), 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 알킬술포네이트기, 이소시아네이트기, 아미노기, 디알킬아미노기, 이소티오시아네이트기, 아미드기, 아세트아미드기, -N(CH3)C(O)CH3, -N(CH3)C(O)CF3, -N=C(CH3)OSi(CH3)3, -N=C(CF3)OSi(CH3)3, -NHC(O)-OSi(CH3)3, -NHC(O)-NH-Si(CH3)3, 이미다졸환, 옥사졸리디논환, 모르폴린환, -NH-C(O)-Si(CH3)3, -N(H)2-h(Si(H)iR9 3-i)h (R9은 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1∼18인 1가의 탄화수소기, h는 1 또는 2, i는 0∼2의 정수), 클로로기, 브로모기, 요오드기, 니트릴기 또는 -CO-NH-Si(CH3)3으로 치환한 화합물 등을 들 수 있다.
상기 일반식[1]에 있어서 4-a-b로 표시되는 실릴화제의 X1의 수가 1이면, 상기 보호막을 균질하게 형성할 수 있으므로 보다 바람직하다.
또한, 상기 일반식[1]에 있어서의 R1은, 각각 서로 독립하여, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기에서 선택되는 적어도 1개의 기, 보다 바람직하게는, CmH2m +1(m=1∼18) 및 CnF2n +1CH2CH2(n=1∼8)에서 선택되는 적어도 1개의 기이면, 상기 요철 패턴 표면에 보호막을 형성했을 때에, 그 표면의 젖음성을 보다 낮게 할 수 있다. 즉, 그 표면에 보다 뛰어난 발수성을 부여할 수 있으므로 보다 바람직하다. 또한, m이 1∼12, n이 1∼8이면, 상기 요철 패턴 표면에 보호막을 단시간에 형성할 수 있으므로 보다 바람직하다.
또한, 약액 중의 산은, 염화수소, 황산, 과염소산, 하기 일반식[2]로 표시되는 술폰산 및 그 무수물, 하기 일반식[3]으로 표시되는 카르본산 및 그 무수물, 알킬붕산에스테르, 아릴붕산에스테르, 트리스(트리플루오로아세톡시)붕소, 트리알콕시보록신, 트리플루오로붕소, 하기 일반식 [4]로 표시되는 실란 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 바람직하다.
R2S(O)2OH [2]
[식 2 중, R2은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기이다.]
R3COOH [3]
[식 3 중, R3은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기이다.]
(R4)cSi(H)dX2 4 -c-d [4]
[식 4 중, R4는, 각각 서로 독립하여, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기이다. 또한, X2은, 각각 서로 독립하여, 클로로기, -OCO-R5(R5은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기) 및 -OS(O)2-R6(R6은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 기를 나타낸다. c는 1∼3의 정수, d는 0∼2의 정수이며, c와 d의 합계는 1∼3이다.]
상기 일반식[2]로 표시되는 술폰산 및 그 무수물로는, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, p-톨루엔술폰산, 트리플루오로메탄술폰산, 무수트리플루오로메탄술폰산 등이 있고, 상기 일반식[3]으로 표시되는 카르본산 및 그 무수물로는, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 펜타플루오로프로피온산, 무수아세트산, 무수트리플루오로아세트산, 무수펜타플루오로프로피온산 등이 있고, 상기 일반식[4]로 표시되는 실란 화합물로는, 클로로실란, 알킬실릴알킬술포네이트, 알킬실릴에스테르가 바람직하고, 트리메틸실릴트리플루오로아세테이트, 트리메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 데실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 데실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트 등이 있다.
또한, 약액 중의 염기는, 암모니아, N,N,N',N'-테트라메틸에틸렌디아민, 트리에틸렌디아민, 디메틸아닐린, 알킬아민, 디알킬아민, 트리알킬아민, 피리딘, 피페라진, N-알킬모르폴린, 하기 일반식[5]로 표시되는 실란 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개가 바람직하다.
(R7)eSi(H)fX3 4 -e-f [5]
[식 5 중, R7은, 각각 서로 독립하여, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기이다. 또한, X3은, 각각 서로 독립하여, 규소 원소와 결합하는 원소가 질소이며, 불소 원소나 규소 원소를 포함하고 있어도 되는 1가의 관능기이다. e는 1∼3의 정수, f는 0∼2의 정수이며, e와 f의 합계는 1∼3이다.]
약액 중에 포함되는 상기의 산 또는 염기에 의해, 상기 실릴화제와 예를 들면, 실리콘 웨이퍼의 요철 패턴 표면의 반응 사이트인 실라놀기와의 반응이 촉진되기 때문에, 그 약액에 의한 표면 처리에 의해 웨이퍼 표면에 뛰어난 발수성을 부여할 수 있다. 또한, 상기 산 또는 염기는, 보호막의 일부를 형성해도 된다.
반응 촉진 효과를 고려하면, 상기 약액 중에는 산이 포함되는 것이 바람직하고, 그 중에서도 염화수소나 과염소산 등의 강산의 브뢴스테드산, 트리플루오로메탄술폰산이나 무수트리플루오로메탄술폰산 등의, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 알칸술폰산이나 그 산 무수물, 트리플루오로아세트산이나 무수 트리플루오로아세트산이나 펜타플루오로프로피온산 등의, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 카르본산이나 그 산 무수물, 클로로실란, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 알킬실릴알킬술포네이트, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 알킬실릴에스테르가 특히 바람직하다. 또한, 알킬실릴에스테르는, 규소 원소에 알킬기와 -O-CO-R'기(R'은 알킬기이다)가 결합된 것이다. 또한, 약액 중에 포함되는 산은, 반응에 의해 생성되는 것이어도 되고, 예를 들면, 알킬클로로실란과 알코올을 반응시켜서, 생성된 알킬알콕시실란을 실릴화제로 하고, 생성된 염산을 산으로 하고, 반응으로 소비되지 않은 알코올을 비수 유기 용매로 하는, 보호막 형성용 약액을 얻어도 된다.
보호막 형성용 약액으로는, 예를 들면, 하이드로플루오로에테르, 하이드로클로로플루오로카본, OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체 및 락톤계 용매로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 비수 유기 용매가 76질량%∼99.8999질량%, CxH2x +1기(x=1∼12) 또는 CyF2y +1CH2CH2기(y=1∼8)를 가지는 알콕시실란, 트리메틸디메틸아미노실란, 트리메틸디에틸아미노실란, 부틸디메틸(디메틸아미노)실란, 부틸디메틸(디에틸아미노)실란, 헥실디메틸(디메틸아미노)실란, 헥실디메틸(디에틸아미노)실란, 옥틸디메틸(디메틸아미노)실란, 옥틸디메틸(디에틸아미노)실란, 데실디메틸(디메틸아미노)실란, 데실디메틸(디에틸아미노)실란, 도데실디메틸(디메틸아미노)실란, 도데실디메틸(디에틸아미노)실란으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 실릴화제가 0.1질량%∼20질량%, 트리플루오로아세트산, 무수트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 무수트리플루오로메탄술폰산, 트리메틸실릴트리플루오로아세테이트, 트리메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 데실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 및 데실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 산이 0.0001질량%∼4질량%로 이루어지는 혼합물을 포함하는 것, 또는 해당 혼합물만으로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 예를 들면, 하이드로플루오로에테르, 하이드로클로로플루오로카본, 및 OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 비수 유기 용매가 76질량%∼99.8999질량%, 헥사메틸디실라젠, 테트라메틸디실라젠, 1,3-디부틸테트라메틸디실라젠, 1,3-디헥실테트라메틸디실라젠, 1,3-디옥틸테트라메틸디실라젠, 1,3-디데실테트라메틸디실라젠, 1,3-디도데실테트라메틸디실라젠으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 실릴화제가 0.1질량%∼20질량%, 트리플루오로아세트산, 무수트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 무수트리플루오로메탄술폰산, 트리메틸실릴트리플루오로아세테이트, 트리메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 데실디메틸실릴트리플루오로아세테이트 및 데실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 산이 0.0001질량%∼4질량%로 이루어지는 혼합물을 포함하는 것, 또는 해당 혼합물만으로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기를 이용하여 보호막 형성용 약액을 보관할 경우, 상기 약액을, 45℃에서 12개월 보관하는 고온 보존 시험에 있어서, 그 시험전의 약액 중의 실릴화제 농도에 대한, 그 시험후의 약액 중의 실릴화제 농도의 저하율은, 약액의 성능 유지의 관점에서, 바람직하게는 80% 이하, 보다 바람직하게는 50% 이하, 더욱 바람직하게는 10% 이하이다.
처리액 A 또는 처리액 B중의 비수 유기 용매는, 상기 약액 중의 비수 유기 용매와 동일한 것을 이용할 수 있다.
처리액 A 중의 실릴화제는, 상기 일반식[1]로 표시되는 규소 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개인 것이 바람직하다.
또한, 처리액 A중의 실릴화제는, 하기 일반식[6]으로 표시되는 규소 화합물인 것이 바람직하다.
R8 gSiX4 4 -g [6]
[식 6 중, R8은, 각각 서로 독립하여, 수소기, 및 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기에서 선택되는 적어도 1개의 기이며, 규소 원소와 결합하는 모든 상기 탄화수소기에 포함되는 탄소수의 합계는 6이상이다. 또한, X4는, 각각 서로 독립하여, 규소 원소와 결합하는 원소가 질소인 1가의 관능기, 규소 원소와 결합하는 원소가 산소인 1가의 관능기, 할로겐기, 니트릴기, 및 -CO-NH-Si(CH3)3에서 선택되는 적어도 1개의 기이며, g는 1∼3의 정수이다.]
상기 일반식[6]의 R8은 상기 보호막의 표면 에너지를 저감시켜, 물이나 그 외의 액체와 그 보호막 표면 사이(계면)에서 상호 작용, 예를 들면, 수소 결합, 분자간력 등을 저감시킨다. 특히 물에 대하여 상호 작용을 저감시키는 효과가 큰데, 물과 물 이외의 액체의 혼합액이나, 물 이외의 액체에 대해서도 상호 작용을 저감시키는 효과를 가진다. 이에 따라, 물품 표면에 대한 액체의 접촉각을 크게 할 수 있다. R8은 소수성기이며, 소수성기가 큰 것으로 보호막을 형성하면, 처리한 후의 웨이퍼 표면은 양호한 발수성을 나타낸다. R8로서 규소 원소와 결합하는 모든 상기 탄화수소기에 포함되는 탄소수의 합계가, 6이상이면, 예를 들면, 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 요철 패턴의 단위 면적당 OH기 수량이 적어도, 충분히 발수 성능을 발생시키는 발수막을 형성할 수 있다.
상기 일반식[6]의 X4은, 예를 들면, 실리콘 웨이퍼의 반응 사이트인 실라놀기에 대하여 반응성을 가지는 반응성 부위이며, 그 반응성 부위와 웨이퍼의 실라놀기가 반응하여, 실릴화제가 실록산 결합을 통하여 실리콘 웨이퍼의 규소 원소와 화학적으로 결합함으로써 상기 보호막이 형성된다. 세정액을 이용한 실리콘 웨이퍼의 세정에 있어, 웨이퍼의 오목부로부터 세정액이 제거될 때, 즉, 건조될 때, 상기 오목부 표면에 상기 보호막이 형성되어 있으면, 그 오목부 표면의 모세관력이 작아져, 패턴 무너짐이 생기기 어려워 진다.
일반식[6]으로 표시되는 규소 화합물로는, 예를 들면, C4H9(CH3)2SiCl, C5H11(CH3)2SiCl, C6H13(CH3)2SiCl, C7H15(CH3)2SiCl, C8H17(CH3)2SiCl, C9H19(CH3)2SiCl, C10H21(CH3)2SiCl, C11H23(CH3)2SiCl, C12H25(CH3)2SiCl, C13H27(CH3)2SiCl, C14H29(CH3)2SiCl, C15H31(CH3)2SiCl, C16H33(CH3)2SiCl, C17H35(CH3)2SiCl, C18H37(CH3)2SiCl, C5H11(CH3)HSiCl, C6H13(CH3)HSiCl, C7H15(CH3)HSiCl, C8H17(CH3)HSiCl, C9H19(CH3)HSiCl, C10H21(CH3)HSiCl, C11H23(CH3)HSiCl, C12H25(CH3)HSiCl, C13H27(CH3)HSiCl, C14H29(CH3)HSiCl, C15H31(CH3)HSiCl, C16H33(CH3)HSiCl, C17H35(CH3)HSiCl, C18H37(CH3)HSiCl, C2F5C2H4(CH3)2SiCl, C3F7C2H4(CH3)2SiCl, C4F9C2H4(CH3)2SiCl, C5F11C2H4(CH3)2SiCl, C6F13C2H4(CH3)2SiCl, C7F15C2H4(CH3)2SiCl, C8F17C2H4(CH3)2SiCl, (C2H5)3SiCl, C3H7(C2H5)2SiCl, C4H9(C2H5)2SiCl, C5H11(C2H5)2SiCl, C6H13(C2H5)2SiCl, C7H15(C2H5)2SiCl, C8H17(C2H5)2SiCl, C9H19(C2H5)2SiCl, C10H21(C2H5)2SiCl, C11H23(C2H5)2SiCl, C12H25(C2H5)2SiCl, C13H27(C2H5)2SiCl, C14H29(C2H5)2SiCl, C15H31(C2H5)2SiCl, C16H33(C2H5)2SiCl, C17H35(C2H5)2SiCl, C18H37(C2H5)2SiCl, (C4H9)3SiCl, C5H11(C4H9)2SiCl, C6H13(C4H9)2SiCl, C7H15(C4H9)2SiCl, C8H17(C4H9)2SiCl, C9H19(C4H9)2SiCl, C10H21(C4H9)2SiCl, C11H23(C4H9)2SiCl, C12H25(C4H9)2SiCl, C13H27(C4H9)2SiCl, C14H29(C4H9)2SiCl, C15H31(C4H9)2SiCl, C16H33(C4H9)2SiCl, C17H35(C4H9)2SiCl, C18H37(C4H9)2SiCl, CF3C2H4(C4H9)2SiCl, C2F5C2H4(C4H9)2SiCl, C3F7C2H4(C4H9)2SiCl, C4F9C2H4(C4H9)2SiCl, C5F11C2H4(C4H9)2SiCl, C6F13C2H4(C4H9)2SiCl, C7F15C2H4(C4H9)2SiCl, C8F17C2H4(C4H9)2SiCl, C5H11(CH3)SiCl2, C6H13(CH3)SiCl2, C7H15(CH3)SiCl2, C8H17(CH3)SiCl2, C9H19(CH3)SiCl2, C10H21(CH3)SiCl2, C11H23(CH3)SiCl2, C12H25(CH3)SiCl2, C13H27(CH3)SiCl2, C14H29(CH3)SiCl2, C15H31(CH3)SiCl2, C16H33(CH3)SiCl2, C17H35(CH3)SiCl2, C18H37(CH3)SiCl2, C3F7C2H4(CH3)SiCl2, C4F9C2H4(CH3)SiCl2, C5F11C2H4(CH3)SiCl2, C6F13C2H4(CH3)SiCl2, C7F15C2H4(CH3)SiCl2, C8F17C2H4(CH3)SiCl2, C6H13SiCl3, C7H15SiCl3, C8H17SiCl3, C9H19SiCl3, C10H21SiCl3, C11H23SiCl3, C12H25SiCl3, C13H27SiCl3, C14H29SiCl3, C15H31SiCl3, C16H33SiCl3, C17H35SiCl3, C18H37SiCl3, C4F9C2H4SiCl3, C5F11C2H4SiCl3, C6F13C2H4SiCl3, C7F15C2H4SiCl3, C8F17C2H4SiCl3 등의 클로로실란계 화합물, 혹은 상기 클로로실란의 클로로(Cl)기를 알콕시기, -OC(CH3)=CHCOCH3, -OC(CH3)=N-Si(CH3)3, -OC(CF3)=N-Si(CH3)3, -O-CO-R10(R10은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1 내지 18인 1가의 탄화수소기), 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 알킬술포네이트기, 이소시아네이트기, 아미노기, 디알킬아미노기, 이소티오시아네이트기, 아미드기, 아세트아미드기, -N (CH3)C(O)CH3, -N(CH3)C(O)CF3, -N=C(CH3)OSi(CH3)3, -N=C(CF3)OSi(CH3)3, -NHC(O)-OSi(CH3)3, -NHC(O)-NH-Si(CH3)3, 이미다졸환, 옥사졸리디논환, 모르폴린환, -NH-C(O)-Si(CH3)3, -N(H)2-h(Si(H)iR9 3-i)h(R9은, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 1∼18인 1가의 탄화수소기, h는 1 또는 2, i는 0∼2의 정수), 브로모기, 요오드기, 니트릴기 또는 -CO-NH-Si(CH3)3으로 치환한 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 일반식[6]의 g는 1∼3의 정수이면 되지만, g가 1 또는 2인 경우, 상기 약액 키트로부터 얻어지는 약액을 장기 보존하면, 수분의 혼입 등에 의해, 규소 화합물의 중합이 발생하여, 보존 가능 기간이 짧아질 가능성이 있다. 이를 고려하면, 일반식[6]의 g가 3인 것이 바람직하다.
또한, 일반식[6]으로 표시되는 규소 화합물에 있어서, R8 중 1개가, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환되어도 되는 탄소수가 4 내지 18인 1가의 탄화수소기이며, 나머지 R8이 메틸기 2개로 이루어지는 것은, 요철 패턴 표면이나 웨이퍼 표면의 OH기와의 반응 속도가 빠르므로 바람직하다. 이는, 요철 패턴 표면이나 웨이퍼 표면의 OH기와 상기 규소 화합물의 반응에 있어서, 소수성기에 의한 입체 장해가 반응 속도에 큰 영향을 주기 때문이며, 규소 원소에 결합하는 알킬쇄는 가장 긴 한개를 제외한 나머지 두개는 짧은 쪽이 바람직하기 때문이다.
또한, 처리액 B중의 산은, 상기 약액 중의 산과 동일한 것을 이용할 수 있다.
또한, 처리액 B중의 염기는, 상기 약액 중의 염기와 동일한 것을 이용할 수 있다.
처리액 B중에 포함되는 상기의 산 또는 염기에 의해, 약액 키트를 혼합하여 조제한 발수성 보호막 형성용 약액에 있어서, 상기 실릴화제와 예를 들면, 실리콘 웨이퍼의 요철 패턴 표면의 반응 사이트인 실라놀기와의 반응이 촉진되기 때문에, 그 약액에 의한 표면 처리에 의해 웨이퍼 표면에 뛰어난 발수성을 부여할 수 있다. 또한, 상기 산 또는 염기는, 보호막의 일부를 형성해도 된다.
반응 촉진 효과를 고려하면, 상기 처리액 B 중에는 산이 포함되는 것이 바람직하고, 그 중에서도 염화수소나 과염소산 등의 강산의 브뢴스테드산, 트리플루오로메탄술폰산이나 무수 트리플루오로메탄술폰산 등의, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 알칸술폰산이나 그 산 무수물, 트리플루오로아세트산이나 무수트리플루오로아세트산이나 펜타플루오로프로피온산 등의, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 카르본산이나 그 산 무수물, 클로로실란, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 알킬실릴알킬술포네이트, 일부 또는 모든 수소 원소가 불소 원소로 치환된 알킬실릴에스테르가 특히 바람직하다.
보호막 형성용 약액 키트의 처리액 A로서, 예를 들면, 하이드로플루오로에테르, 하이드로클로로플루오로카본, OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체, 및 락톤계 용매로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 비수 유기 용매가 60질량%∼99.8질량%, CxH2x +1기(x=1∼10)또는 CyF2y +1CH2CH2기(y=1∼8)를 가지는 알콕시실란, 트리메틸디메틸아미노실란, 트리메틸디에틸아미노실란, 부틸디메틸(디메틸아미노)실란, 부틸디메틸(디에틸아미노)실란, 헥실디메틸(디메틸아미노)실란, 헥실디메틸(디에틸아미노)실란, 옥틸디메틸(디메틸아미노)실란, 옥틸디메틸(디에틸아미노)실란, 데실디메틸(디메틸아미노)실란, 데실디메틸(디에틸아미노)실란, 도데실디메틸(디메틸아미노)실란, 도데실디메틸(디에틸아미노)실란으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 실릴화제가 0.2질량%∼40질량%로 이루어지는 혼합물을 포함하는 것, 또는 해당 혼합물만으로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 그 약액 키트의 처리액 B로서, 예를 들면, 하이드로플루오로에테르, 하이드로클로로플루오로카본, OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체, 및 락톤계 용매로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 비수 유기 용매가 60질량%∼99.9998질량%, 트리플루오로아세트산, 무수트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 무수트리플루오로메탄술폰산, 트리메틸실릴트리플루오로아세테에트, 트리메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 데실디메틸실릴트리플루오로아세테이트 및 데실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 산이 0.0002질량%∼40질량%로 이루어지는 혼합물을 포함하는 것, 또는 해당 혼합물만으로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 처리액 A와 처리액 B를 혼합하여 발수성 보호막 형성용 약액을 조제할 때는, 조제 후의 약액의 총량 100질량%에 대하여, 상기의 비수 유기 용매가 76질량%∼99.8999질량%, 상기의 실릴화제가 0.1질량%∼20질량%, 상기의 산이 0.0001질량%∼4질량%가 되도록 혼합하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 약액 키트의 처리액 A로서, 예를 들면, 하이드로플루오로에테르, 하이드로클로로플루오로카본, 및 OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 비수 유기 용매가 60질량%∼99.8질량%, 헥사메틸디실라젠, 테트라메틸디실라젠, 1,3-디부틸테트라메틸디실라젠, 1,3-디헥실테트라메틸디실라젠, 1,3-디옥틸테트라메틸디실라젠, 1,3-디데실테트라메틸디실라젠, 1,3-디도데실테트라메틸디실라젠으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 실릴화제가 0.2질량%∼40질량%로 이루어지는 혼합물을 포함하는 것, 또는 해당 혼합물만으로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 약액 키트의 처리액 B로서, 예를 들면, 하이드로플루오로에테르, 하이드로클로로플루오로카본, 및 OH기를 가지지 않는 다가 알코올의 유도체로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 비수 유기 용매가 60질량%∼99.9998질량%, 트리플루오로아세트산, 무수트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 무수트리플루오로메탄술폰산, 트리메틸실릴트리플루오로아세테이트, 트리메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 부틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 헥실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로아세테이트, 옥틸디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트, 데실디메틸실릴트리플루오로아세테이트 및 데실디메틸실릴트리플루오로메탄술포네이트로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 산이 0.0002질량%∼40질량%로 이루어지는 혼합물을 포함하는 것, 또는 해당 혼합물만으로 이루어지는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 처리액 A와 처리액 B를 혼합하여 발수성 보호막 형성용 약액을 조제할 때는, 조제 후의 약액의 총량 100질량%에 대하여, 상기의 비수 유기 용매가 76질량%∼99.8999질량%, 상기의 실릴화제가 0.1질량%∼20질량%, 상기의 산이 0.0001질량%∼4질량%가 되도록 혼합하는 것이 바람직하다.
본 발명의 압송 용기를 이용하여 처리액 A를 보관할 경우, 상기 처리액 A를, 45℃에서 12개월 보관하는 고온 보존 시험에 있어서, 그 시험전의 처리액 A중의 실릴화제 농도에 대한, 상기 시험후의 처리액 A중의 실릴화제 농도의 저하율은, 약액의 성능 유지의 관점에서, 바람직하게는 80% 이하, 보다 바람직하게는 50% 이하, 더욱 바람직하게는 10% 이하이다.
본 발명의 압송 용기를 이용하여 처리액 B를 보관할 경우, 상기 처리액 B를, 45℃에서 12개월 보관하는 고온 보존 시험에 있어서, 상기 시험전의 처리액 B중의 산 또는 염기 농도에 대한, 그 시험후의 처리액 B중의 산 또는 염기 농도의 저하율은, 약액의 성능 유지의 관점에서, 바람직하게는 80% 이하, 보다 바람직하게는 50% 이하, 더욱 바람직하게는 10% 이하이다.
표면에 요철 패턴을 가지는 웨이퍼는, 이하와 같은 순서로 얻어지는 경우가 많다. 먼저, 평활한 웨이퍼 표면에 레지스트를 도포한 후, 레지스트 마스크를 통하여 레지스트에 노광하고, 노광된 레지스트 또는 노광되지 않은 레지스트를 에칭 제거함으로써 원하는 요철 패턴을 가지는 레지스트를 제작한다. 또한, 레지스트에 패턴을 가지는 몰드를 눌러 접촉하는 것으로도, 요철 패턴을 가지는 레지스트를 얻을 수 있다. 다음에, 웨이퍼를 에칭한다. 이 때, 레지스트 패턴의 오목 부분에 대응하는 웨이퍼 표면이 선택적으로 에칭된다. 마지막으로, 레지스트를 박리하면, 요철 패턴을 가지는 웨이퍼가 얻어진다.
표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼로는, 웨이퍼 표면에 실리콘, 산화 규소 또는 질화 규소 등 실리콘을 포함하는 막이 형성된 것, 혹은 상기 요철 패턴을 형성했을 때에, 상기 요철 패턴 표면의 적어도 일부가 실리콘, 산화 규소 또는 질화 규소 등 규소 원소를 포함하는 것이 포함된다.
또한, 실리콘, 산화 규소 및 질화 규소에서 선택되는 적어도 1개를 포함하는 복수의 성분으로 구성된 웨이퍼에 대해서도, 실리콘, 산화 규소 및 질화 규소에서 선택되는 적어도 1개의 표면에 보호막을 형성할 수 있다. 상기 복수의 성분으로 구성된 웨이퍼로는, 실리콘, 산화 규소 및 질화 규소에서 선택되는 적어도 1개가 웨이퍼 표면에 형성된 것, 혹은 요철 패턴을 형성했을 때에, 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 실리콘, 산화 규소 및 질화 규소에서 선택되는 적어도 1개로 이루어지는 것도 포함된다. 또한, 상기 약액으로 보호막을 형성할 수 있는 것은 상기 요철 패턴 중의 규소 원소를 포함하는 부분의 표면이다.
웨이퍼의 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에, 보호막 형성용 약액에 의해 상기 보호막이 형성되었을 때, 상기 표면에 물이 유지되었다고 가정했을 때의 접촉각은, 조제후 10분 이내의 약액을 이용한 경우의 접촉각 θ0에 대하여, 조제 후, 소정 시간 보관한 약액을 이용한 경우의 접촉각 θ1이, 15°이상 저하하지 않는 것이 바람직하다(즉, θ0-θ1<15°인 것이 바람직하다). 상기의 접촉각의 저하가 15° 이상이면, 보호막의 발수 성능이 안정되지 않아, 패턴 무너짐을 유발하기 쉬운 세정 공정에 대한 개선 효과가 충분히 지속되지 않을 우려가 있기(가사 시간(pot life)이 나쁘다) 때문에 바람직하지 않다. 또한, 상기의 접촉각 θ0 및 θ1이 모두 50°∼130°이면, 패턴 무너짐이 발생하기 어렵기 때문에 보다 바람직하다. 또한, 상기 접촉각은 90°에 가까울수록 오목부에 작용하는 모세관력이 작아져, 패턴 무너짐이 더욱 발생하기 어려워지기 때문에, 60°∼120°가 특히 바람직하고, 70°∼110°가 더욱 바람직하다.
상기 웨이퍼의 오목부 표면에서의 발수성 보호막의 형성은, 상기 약액이나 상기 약액 키트로부터 얻어지는 약액에 포함되는 실릴화제의 반응성 부위와 웨이퍼의 반응 사이트인 실라놀기가 반응하고, 실릴화제가 실록산 결합을 통하여 실리콘 웨이퍼 등의 규소 원소와 화학적으로 결합함으로써 행해진다. 상기 반응성 부위는 물에 의해 분해되거나 변질되어, 반응성이 저하될 경우가 있다. 이 때문에, 상기 규소 화합물은 물과의 접촉을 저감시킬 필요가 있다.
상기 약액이나 상기 약액 키트를 혼합하여 얻어지는 약액에 있어서, 상기 실릴화제는 약액의 총량 100질량%에 대하여 0.1질량%∼50질량% 포함되어 있으면, 웨이퍼의 오목부 표면에 충분한 발수성을 부여할 수 있다. 당연히 50질량%를 초과하는 농도라도 웨이퍼의 오목부 표면에 충분한 발수성을 부여할 수 있지만, 비용의 관점에서, 상기 농도는 0.1질량%∼50질량%가 바람직하다. 따라서, 상기 약액에 포함되는 성분 중, 상기 규소 화합물 이외의 주요 성분인 비수 유기 용매 중의 수분 농도를 저감하는 것이, 규소 화합물의 반응성 부위의 반응성 저하를 저감시키는데 중요하다.
또한, 상기 약액 또는 약액 키트는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 다른 첨가제 등을 함유해도 된다. 그 첨가제로는, 과산화수소, 오존 등의 산화제, 계면 활성제 등을 들 수 있다. 또한, 웨이퍼의 요철 패턴의 일부에, 상기 규소 화합물에서는 보호막이 형성되지 않는 재질이 있는 경우는, 그 재질에 보호막을 형성할 수 있는 것을 첨가해도 된다. 또한, 촉매 이외의 목적으로 다른 산이나 염기를 첨가해도 된다.
[보관 방법]
이하, 본 발명의 보관 방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 보관 방법은, 표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 압송 용기에 보관하는 방법이다. 또한, 본 발명의 보관 방법으로 사용하는 압송 용기는, 상술한 본 발명의 압송 용기이므로, 압송 용기의 상세한 설명은 생략한다.
상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고 있다. 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어진다. 본 발명의 보관 방법을 이용하여 보관하는 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B는, 본 발명의 압송 용기에 보관하는 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B와 동일하기 때문에, 그 상세한 설명을 생략한다.
본 발명의 보관 방법에 있어서는, 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B중 어느 하나의 액체를, 본 발명의 압송 용기에, 불활성 가스를 이용하여 45℃에 있어서의 내압이 게이지압 0.01MPa∼0.19MPa가 되도록 가압 충전한다. 불활성 가스로는, 질소 가스를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 45℃에 있어서의 내압은, 바람직하게는 게이지압 0.01MPa∼0.19MPa, 보다 바람직하게는 게이지압 0.03MPa∼0.1MPa이다.
본 발명의 보관 방법에 있어서, 액체를 보관하는 온도는, 0℃∼45℃이며, 바람직하게는 10℃∼35℃이다.
[이액 방법]
이하, 본 발명의 이액 방법에 대하여 설명한다. 본 발명의 이액 방법은, 표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를, 내부를 가압함으로써 이액이 가능하도록 구성된 압송 용기에 대하여 이액하는 방법이다.
상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고 있다. 상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어진다. 본 발명의 이액 방법을 이용하여 이액하는 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B는, 본 발명의 압송 용기에 보관하는 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B와 동일하기 때문에, 그 상세한 설명을 생략한다.
본 발명의 이액 방법에 있어서는, 하기 (1) 및 (2) 중 적어도 한쪽을 행하는 것을 특징으로 한다.
(1) 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분이 수지 재료로 구성되어 있는 통액부를 통하여, 상기 액체를 상기 용기 본체에 충전한다.
(2) 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분이 수지 재료로 구성되어 있는 통액부를 통하여, 상기 액체가 충전된 상기 용기 본체로부터 상기 액체를 취출한다.
본 발명의 이액 방법으로 사용하는 압송 용기는, 제전 기구가 설치된 본 발명의 압송 용기여도 되고, 제전 기구가 설치되지 않은 압송 용기여도 된다. 예를 들면, 통액 노즐에 제전 기구가 설치되지 않은 압송 용기를 사용하여, 제전 기구가 설치된 배관 등의 부재를 압송 용기의 통액 노즐에 접속하여 이액하는 양태 등을 들 수 있다. 제전 기구가 설치된 본 발명의 압송 용기를 사용할 경우, 통액 노즐이 「통액부」에 해당하고, 제전 기구가 설치되지 않은 압송 용기를 사용할 경우, 제전 기구가 설치된 배관 등의 부재가 「통액부」에 해당한다. 이와 같이, 본 발명의 이액 방법은, 제전 기구가 압송 용기 구성의 일부인지 압송 용기와 별도의 구성인지가 상이한 이외는, 동일하게 이액하는 것이다. 또한, 통액부는 복수 설치되어도 되고, 제전 기구가 복수 설치되어도 된다. 또한, 본 발명의 압송 용기를 사용하는 경우에도, 압송 용기 이외의 부재에 제전 기구가 더 설치되어도 된다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 제전 기구의 구성은, 본 발명의 압송 용기에 설치되어 있는 제전 기구의 구성과 동일하다. 제전 기구는, 접지 접속된 도전성 재료로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 제전 기구는, 액체와 접촉하는 통액부의 표면 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 함으로써 구성되어 있거나, 또는 액체와 접촉하도록, 접지 접속된 도전성 재료를 통액부 내에 설치함으로써 구성되어 있는 것이 보다 바람직하다. 제전 기구의 예로는, (a) 도전성 재료로 이루어지는 부재가 통액 노즐의 일부로서 접속된 구성, (b) 통액 노즐의 일부에 수지 라이닝층이 설치되어 있지 않고 도전성 재료가 노출된 구성, (c) 수지 라이닝층으로 피복된 통액 노즐 내에 도전성 재료로 이루어지는 부재를 설치한 구성, (d) 도전성 재료로 이루어지는 배관, 내부 표면의 일부에 수지 라이닝층이 설치되어 있지 않고 도전성 재료가 노출된 배관, 내부 표면 전체가 수지 라이닝층으로 피복되어 있는 중에 도전성 재료로 이루어지는 부재가 설치된 배관 등이, 압송 용기의 통액 노즐과 접속된 구성 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 재료에 대해서는, 이미 설명한 대로이다.
본 발명의 이액 방법으로 사용하는 압송 용기에 있어서는, 용기 본체에, 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 더 설치되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 용기 본체에 제전 기구가 설치되어 있는 본 발명의 압송 용기를 사용해도 되는 것은 물론, 통액 노즐에 제전 기구는 설치되어 있지 않지만, 용기 본체에 제전 기구가 설치되어 있는 압송 용기를 사용해도 된다. 용기 본체에 설치되는 제전 기구의 구성은 특별히 한정되지 않지만, 액체와 접촉하는 표면의 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 하고, 도전성 재료 이외의 접액 부분을 수지 재료로 한 봉형상체로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 제전 기구가 설치되지 않은 압송 용기를 사용할 경우, 제전 기구를 제외한 압송 용기의 구성은, 본 발명의 압송 용기의 구성과 동일하다.
본 발명의 이액 방법에 있어서는, 상기 (1) 및 (2)의 양쪽을 행하는 것이 바람직한데, (1) 및 (2)의 한쪽만을 행해도 된다. (1) 및 (2)의 한쪽만을 행할 경우, (1)만을 행하는 것이 바람직하다. 또한, (1) 및 (2)의 양쪽을 행할 경우, 제전 기구가 설치된 통액부는 같아도 되고, 상이해도 된다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B중 어느 하나의 액체를 제전 기구에 접촉시키는 시간은, 대전 전위를 낮추는 관점에서는 긴 쪽이 바람직하지만, 액체에 의한 금속 용출이 초래하는 파티클 증가의 관점에서는 짧은 쪽이 바람직하다. 이 때문에, 접촉 시간은, 바람직하게는 0.001초∼100초간, 보다 바람직하게는 0.001초∼10초간, 더욱 바람직하게는 0.01초∼1초간이다. 또한, 제전 기구가 복수 설치되어 있는 경우, 접촉 시간이란, 액체를 모든 제전 기구에 접촉시키는 시간의 합계이다.
본 발명의 이액 방법에 있어서, 보호막 형성용 약액, 처리액 A 및 처리액 B 중 어느 하나의 액체를 통액부에 통액하는 속도는, 대전 전위를 낮추는 관점에서는 느린쪽이 바람직하지만, 경제성의 관점에서는 빠른 쪽이 바람직하다. 이 때문에, 통액하는 속도는, 바람직하게는 0.01m/sec∼10m/sec, 보다 바람직하게는 0.1m/sec∼1m/sec이다.
[실시예]
이하, 본 발명의 실시 형태를 보다 구체적으로 개시한 실시예를 나타낸다. 또한, 본 발명은 이 실시예만에 한정되는 것은 아니다.
본 실시예 및 비교예에서는, 보호막 형성용 약액 또는 보호막 형성용 약액 키트(이후 「샘플액」이라고 기재하는 경우가 있다)를, 압송 용기에 충전, 보관 및 취출하여, 이하에 나타내는 방법에 의해 평가를 행했다.
[내압(45℃) 변화]
압송 용기에 샘플액을 충전하여, 45℃에서 12개월간 고온 보존하고, 상기 고온 보존의 개시시 및 종료시의 45℃에 있어서의 내압(절대압)을 용기 부수의 벨로즈식 압력계로 측정하여, 이하의 식으로부터 내압의 변화율을 산출했다. 약액 등의 성능 유지의 관점에서 상기 변화율은 작을수록 바람직하고, ±10% 이내를 합격으로 했다.
내압의 변화율(%)=(고온 보존 종료시 내압-고온 보존 개시시 내압)×100/ (고온 보존 개시시 내압)
[샘플액의 농도 변화]
미리 가스 크로마토그래프로 샘플액의 농도(「보호막 형성제 농도」, 「실릴화제 농도」또는 「산 또는 염기의 농도」)를 측정한 샘플액을 압송 용기에 충전하고, 45℃에서 12개월간 고온 보존한 후에, 샘플액의 농도(「보호막 형성제 농도」, 「실릴화제 농도」또는 「산 또는 염기의 농도」)를 측정하여, 이하의 식에 의해 얻어지는 절대치로부터 농도 저하율을 산출했다. 약액 등의 성능 유지의 관점에서 상기 저하율은 작을수록 바람직하고, 10% 이하가 특히 바람직하다.
농도 저하율(%)=(고온 보존 개시 전 농도-고온 보존 종료 후 농도)×100/ (고온 보존 개시 전 농도)
[샘플액의 파티클수 변화]
샘플액을 압송 용기에 충전한 후, 상기 샘플액을 후술하는 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 일부 취출하고, 액상에서의 광 산란식 액중 입자 검출기에 의한 파티클 측정으로, 0.2㎛보다 큰 파티클에 1mL당의 수(이후, 간단히 「파티클수」로 기재하는 경우가 있다)를 측정했다. 이 때의 파티클수는 「고온 보존 전의 파티클수」이다. 압송 용기 내에서 샘플액을 45℃에서 12개월간 고온 보존한 후에, 상기 샘플액의 파티클수를 동일하게 측정했다. 이 때의 파티클수는 「고온 보존 후의 파티클수」이다. 청정성의 관점에서 고온 보존 후도 파티클수는 적을수록 바람직하다.
[샘플액의 대전 전위]
압송 용기에 샘플액을 충전한 후, 상기 샘플액을 후술하는 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 일부 취출하고, 샘플액의 대전 전위를 방폭 타입 디지털 정전 전위 측정기(春日전기 제, 형식 KSD-0108)에 의해 측정했다. 이 때의 대전 전위는 「충전 후의 대전 전위」이다. 또한, 충전 후에 압송 용기를 진폭 70mm의 왕복식 진탕 조건으로 1시간 진탕한 후, 상기 샘플액을 후술하는 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 일부 취출하여, 샘플액의 대전 전위를 동일하게 측정했다. 이 때의 대전 전위는 「진탕 후의 대전 전위」이다. 또한, 상기와 마찬가지로 충전 후, 진탕하지 않고 후술하는 샘플액 출입용 노즐(8)로부터 취출했을 때의 샘플액의 대전 전위를 동일하게 측정했다. 이 때의 대전 전위는 「취출 후의 대전 전위」이다. 안전성의 관점에서 상기의 어떠한 상태의 샘플액에 있어서도 대전 전위가 작을수록 바람직하다.
본 실시예 및 비교예에 있어서, 샘플액으로서, 이하의 샘플액 (1)∼(6)을 이용했다.
[샘플액(1)]
헥사메틸디실라젠〔(H3C)3Si-NH-Si(CH3)3〕을 5질량부, 무수트리플루오로아세트산〔{CF3C(O)}2O〕을 0.7질량부, 비수 유기 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)를 94.3질량부의 비율로 혼합하여 반응시킴으로써, 산으로서 트리메틸실릴트리플루오로아세테이트〔(CH3)3Si-OC(O)CF3〕, 보호막 형성제(실릴화제)로서 헥사메틸디실라젠을 포함하는 액을 얻은 후, 제(除)입자 직경 0.05㎛의 제(除)입자막 부착 이온 교환 수지막(일본인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)으로 금속 불순물과 파티클을 제거함으로써, 보호막 형성용 약액인 샘플액(1)을 조제했다. 또한, 본 실시예의 약액에 포함되는 헥사메틸디실라젠은, 상기의 산을 얻기 위한 반응에서 소비되지 않은 헥사메틸디실라젠이며, 그 성분은 보호막 형성제(실릴화제)로서 기능하는 것이다. 샘플액(1)의 보호막 형성제 농도는 4.5질량%이다.
[샘플액(2)]
실릴화제로서 옥틸디메틸(디메틸아미노)실란〔C8H17Si(CH3)2-N(CH3)2〕을 10질량부, 비수 유기 용매로서 PGMEA를 90질량부의 비율로 혼합한 후, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)으로 금속 불순물과 파티클을 제거함으로써, 보호막 형성용 약액 키트(처리액 A)인 샘플액 (2)를 조제했다. 또한, 샘플액 (2)의 실릴화제 농도는 10질량%이다.
[샘플액(3)]
트리메틸클로로실란〔(CH3)3SiCl〕을 10질량부, 비수 유기 용매로서 2-프로판올(iPA)을 90질량부의 비율로 혼합하여 반응시킴으로써, 산으로서 염화수소, 보호막 형성제(실릴화제)로서 트리메틸이소프로폭시실란〔(CH3)3SiOC3H7〕을 포함하는 액을 얻은 후, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본 인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)으로 금속 불순물과 파티클을 제거함으로써, 보호막 형성용 약액인 샘플액(3)을 조제했다. 또한, 샘플액(3)의 보호막 형성제 농도는 12.2질량%이다.
[샘플액(4)]
실릴화제로서 트리메틸실릴디메틸아민〔(CH3)3Si-N(CH3)2〕을 5.5질량부, 비수 유기 용매로서 PGMEA를 94.5질량부의 비율로 혼합한 후, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본 인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No.PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)으로 금속 불순물과 파티클을 제거함으로써, 보호막 형성용 약액 키트(처리액 A)인 샘플액(4)을 조제했다. 또한, 샘플액(4)의 실릴화제 농도는 5.5질량%이다.
[샘플액(5)]
산으로서 무수트리플루오로아세트산〔{CF3C(O)}2O〕을 1.5질량부, 비수 유기 용매로서 PGMEA를 98.5질량부의 비율로 혼합한 후, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본 인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)으로 금속 불순물과 파티클을 제거함으로써, 보호막 형성용 약액 키트(처리액 B)인 샘플액(5)를 조제했다. 또한, 샘플액(5)의 산 농도는 1.5질량%이다.
[샘플액(6)]
염기로서 디에틸아민〔(C2H5)2NH:DEA〕을 2질량부, 비수 유기 용매로서 3M 제 Novec7100을 93질량부와 iPA를 5질량부의 비율로 혼합한 후, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본 인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)으로 금속 불순물과 파티클을 제거함으로써, 보호막 형성용 약액 키트(처리액 B)인 샘플액(6)을 조제했다. 또한, 샘플액(6)의 염기 농도는 2질량%이다.
[실시예 1]
본 실시예에서는 도 2에 도시하는 압송 용기(A1)를 이용했다. 그 용기(A1)는, 용기 본체(1a)와, 노즐(4, 5, 6, 7)과, 대전 전위를 저감시키는 제전 기구(10a)를 가진다. 노즐(4, 5, 6, 7)과 제전 기구(10a)는 SUS304 제이다. 용기 본체(1a)는, SUS304 제의 금속캔체의 내부 표면이 PFA 제의 라이닝층(2a)으로 피복된 구조이다. 용기 본체(1a)와 노즐(4, 5, 6, 7)의 샘플액과 접촉하는 내부의 표면은 PFA 제의 라이닝층(2a)으로 피복되어 있다. 노즐(4)은 PFA 제의 샘플액 출입용 노즐(8)과 접속되어 있고, 노즐(5)은 접액부가 PFA 제의 벨로즈식 압력계(9)와 접속되어 있다. 또한, 노즐(4, 6, 7)은 도시하지 않는 밸브 혹은 커플러 등에 접속되어 있고, 상기한 본 용기의 각 구성은 용기 내를 밀폐로 유지할 수 있게 접속된 구조로 되어 있다. 샘플액과 접촉하는 표면은, 제전 기구(10a)(SUS304 제)의 부분을 제외하고, PFA 제의 라이닝층(2a)으로 피복되어 있거나, 혹은 PFA 제의 노즐이다. 즉, 제전 기구(10a)의 부분(내경: 28.4mmφ, 길이: 50mm, 접액 면적: 44.6㎠)에서는, SUS304가 표면에 노출된 상태이며, 샘플액과 접촉할 수 있는 상태이다. 또한, 제전 기구(10a)는, 도시하지 않은 배선 등에 의해 접지 접속되어 있다. 또한, 제전 기구(10a)의 접액 부분 이외 (예를 들면, 접지 접속을 위한 배선 등)는 샘플액에 접촉하지 않는다.
청정한 압송 용기의 내부를 가스구 노즐(6)을 통하여 질소 가스로 채운 후, 실온(25℃)에서, 통액 노즐(4)로부터 샘플액 출입용 노즐(8)을 거쳐 샘플액(3)으로서 상기 샘플액(1)을 주액 했다. 또한, 주액은, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본 인테그리스 주식회사 제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)을 통액 노즐(4)에 연결하고, 샘플액(1)을 상기 제입자막 부착 이온 교환 수지막에 통액시켜, 파티클을 제거하면서 행했다. 이 때, 주액과 함께 가스구 노즐(6)을 통하여 질소 가스를 배기하고, 주액 완료 후, 가스구 노즐(6)에서 용기의 내압이 게이지압 0.043MPa가 되도록 하여 충전을 완료했다.
상기의 용기를 45℃의 온도에서 12개월간 보존했다. 또한, 45℃의 보관 개시시의 용기의 내압은 게이지압 0.05MPa이었다. 12개월간 보존 후의 45℃에 있어서의 용기의 내압은 게이지압 0.05MPa이며, 내압의 변화율은 0%였다. 또한, 12개월간 보존 후의 샘플액(1)의 보호막 형성제 농도는 4.5질량%이며, 농도 저하율은 0%였다. 또한, 12개월간 보존 후의 샘플액(1)의 파티클수는 13개/mL이었다.
또한, 별도, 청정한 압송 용기의 내부를 가스구 노즐(6)을 통하여 질소 가스로 채운 후, 통액 노즐(4)로부터 샘플액 출입용 노즐(8)을 거쳐 샘플액(3)으로서 샘플액(1)을 주액하고, 충전을 완료한 후, 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 샘플액(1)을 빼내 상기 액의 대전 전위를 측정한 바 0.6kV이었다. 또한, 상기 조작 후, 압송 용기를 진탕하고, 마찬가지로 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 샘플액(1)을 빼내 상기 액의 대전 전위를 측정한 바 0.6kV이었다. 또한, 상기와 동일하게 충전 후, 진탕하지 않고 샘플액 출입용 노즐(8)을 거쳐 통액 노즐(4)로부터 샘플액(1)을 빼내 상기 액의 대전 전위를 측정한 바 0.1kV이었다. 또한, 본 실시예에서 샘플액의 충전 및 취득시의 통액 속도는 0.5m/sec이며, 샘플액을 상기 제전 기구에 접촉시키는 경우의 시간(접액 시간)은 0.1초간이었다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 표시한다.
[실시예 2]
용기 본체(1a)의 금속캔체, 및 제전 기구(10a)를 SUS316L의 전해 연마제로 한 이외는 실시예 1과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 표시한다.
[실시예 3]
본 실시예에서는 도 3에 도시하는 압송 용기(A2)를 이용했다. 그 용기(A2)는, 제전 기구(10b)로서, SUS304 제의 슬리브 부재(내경: 28.4mmφ, 길이: 10mm, 접액 면적: 8.9㎠)를 노즐(4)에 집어넣은 구조이며, 그 슬리브 부재가 샘플액과 접촉할 수 있는 상태이다. 또한, 제전 기구(10b)(슬리브 부재)는 도시하지 않은 배선 등에 의해 접지 접속되어 있다. 또한, 제전 기구(10b)의 접액 부분 이외(예를 들면, 접지 접속을 위한 배선 등)는 샘플액에 접촉하지 않는다. 상기 이외는 도 2의 압송 용기(A1)와 동일한 구조이다. 상기의 압송 용기(A2)를 이용하는 이외는 실시예 1과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 표시한다.
[실시예 4]
용기 본체(1a)의 금속캔체, 및 제전 기구(10b)(슬리브 부재)를 SUS316L의 전해 연마제로 한 이외는 실시예 3과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[실시예 5]
본 실시예에서는 도 4에 도시하는 압송 용기(A3)를 이용했다. 그 용기(A3)는, 도 2의 압송 용기(A1)에, 대전 전위를 더욱 저감시키는 제전 기구(12)를 가지는 구조이다. 압송 용기(A3) 내에 있어서, SUS304 제의 봉형상체(11)의 표면 중 제전 기구(12)의 부분을 제외하고는, PFA 제의 라이닝층(2a)으로 피복되어 있다. 즉, 제전 기구(12)의 부분(접액 면적 200㎟)에서는, SUS304 제의 봉형상체(11)가 표면에 노출된 상태이며 샘플액과 접촉할 수 있는 상태이다. 또한 제전 기구(12)(봉형상체(11))는 도시하지 않은 배선 등에 의해 접지 접속되어 있다. 또한, 제전 기구(12)(봉상체(11)의 접액 부분) 이외(예를 들면, 접지 접속을 위한 배선 등)는 샘플액에 접촉하지 않는다. 상기의 압송 용기(A3)를 이용하는 이외는 실시예 1과 같은 조작을 행했다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 1]
도 5에 나타내는 압송 용기(B1), 즉 제전 기구가 없는 압송 용기를 이용하는 이외는 실시예 1과 같은 조작을 행했다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
[비교예 2]
도 6에 나타내는 압송 용기(B2), 즉 라이닝층이 없는 압송 용기를 이용하는 이외는 실시예 1과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 1에, 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pat00002
Figure pat00003
[실시예 6∼10, 비교예 3∼4]
샘플액으로서 샘플액(2)을 이용한 이외는 각각 실시예 1∼5, 비교예 1∼2와 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 3에, 평가 결과를 표 4에 나타낸다.
Figure pat00004
Figure pat00005
[실시예 11∼15, 비교예 5∼6]
샘플액으로서 샘플액(3)을 이용한 이외는 각각 실시예 1∼5, 비교예 1∼2와 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 5에, 평가 결과를 표 6에 나타낸다.
Figure pat00006
Figure pat00007
[실시예 16∼20, 비교예 7∼8]
샘플액으로서 샘플액(4)를 이용한 이외는 각각 실시예 1∼5, 비교예 1∼2와 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 7에, 평가 결과를 표 8에 나타낸다.
Figure pat00008
Figure pat00009
[실시예 21∼25, 비교예 9∼10]
샘플액으로서 샘플액(5)를 이용한 이외는 각각 실시예 1∼5, 비교예 1∼2와 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 9에, 평가 결과를 표 10에 나타낸다.
Figure pat00010
Figure pat00011
[실시예 26∼30, 비교예 11∼12]
샘플액으로서 샘플액(6)을 이용한 이외는 각각 실시예 1∼5, 비교예 1∼2와 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 11에, 평가 결과를 표 12에 나타낸다.
Figure pat00012
Figure pat00013
[실시예 31]
본 실시예에서는 도 7에 나타내는 압송 용기(A4)를 이용했다. 상기 용기(A4)는, 용기 본체(1b)와, 노즐(4, 5, 6, 7)과, 대전 전위를 저감시키는 제전 기구(10a)를 가진다. 노즐(4, 5, 6, 7)과 제전 기구(10a)는 SUS304 제이다. 용기 본체(1b)는, PFA를 회전 성형법에 의해 통자루형상으로 성형한 수지캔체(2b)(이후 「PFA층(2b)」이라고도 기재한다)의 외장을 SUS304 제의 금속캔체로 덮은 구조이다. 실시예 1∼30과 마찬가지로, 용기 본체(1b)와 노즐(4, 5, 6, 7)의 샘플액과 접촉하는 표면은 PFA층(2b)으로 피복되어 있다. 노즐(4)은 PFA 제의 샘플액 출입용 노즐(8)과 접속되어 있고, 노즐(5)은 접액부가 PFA제의 벨로즈식 압력계(9)와 접속되어 있다. 또한, 노즐(4, 6, 7)은 도시하지 않은 밸브 혹은 커플러 등에 접속되어 있고, 상기한 본 용기의 각 구성은 용기 내를 밀폐로 유지할 수 있도록 접속된 구조로 되어 있다. 샘플액과 접촉하는 표면은, 제전 기구(10a)(SUS304 제)의 부분을 제외하고, PFA층(2b)이나, 혹은 PFA 제의 노즐이다. 즉, 제전 기구(10a)의 부분(내경: 28.4mmφ, 길이: 50mm, 접액 면적: 44.6㎠)에서는, SUS304이 표면에 노출된 상태이며 샘플액과 접촉할 수 있는 상태이다. 또한, 제전 기구(10a)는 도시하지 않은 배선 등에 의해 접지 접속되어 있다. 또한, 제전 기구(10a)의 접액 부분 이외(예를 들면, 접지 접속을 위한 배선 등)는 샘플액에 접촉하지 않는다.
청정한 압송 용기의 내부를 가스구 노즐(6)을 통하여 질소 가스로 채운 후, 실온(25℃)에서, 통액 노즐(4)로부터 샘플액 출입용 노즐(8)을 거쳐 샘플액(3)으로서 상기 샘플액(1)을 주액했다. 또한, 주액은, 제입자 직경 0.05㎛의 제입자막 부착 이온 교환 수지막(일본 인테그리스 주식회사제 프로테고플러스 LTX, 제품 No. PRLZ02PQ1K, 막의 표면적 1.38㎡)을 통액 노즐(4)에 연결하고, 샘플액(1)을 상기 제입자막 부착 이온 교환 수지막에 통액시켜, 파티클을 제거하면서 행했다. 이 때, 주액과 함께 가스구 노즐(6)을 통하여 질소 가스를 배기하고, 주액 완료 후, 가스구 노즐(6)에서 용기의 내압이 게이지압 0.043MPa가 되도록 하여 충전을 완료했다.
상기의 용기를 45℃의 온도에서 12개월간 보존했다. 또한, 45℃의 보관 개시시의 용기의 내압은 게이지압 0.05MPa이었다. 12개월간 보존 후의 45℃에 있어서의 용기의 내압은 게이지압 0.05MPa이며, 내압의 변화율은 0%였다. 또한, 12개월간 보존 후의 샘플액(1)의 보호막 형성제 농도는 4.5질량%이며, 농도 저하율은 0%였다. 또한, 12개월간 보존 후의 샘플액(1)의 파티클수는 17개/mL이었다.
또한, 별도, 청정한 압송 용기의 내부를 가스구 노즐(6)을 통하여 질소 가스로 채운 후, 통액 노즐(4)로부터 샘플액 출입용 노즐(8)을 거쳐 샘플액(3)으로서 샘플액(1)을 주액하고, 충전을 완료한 후, 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 샘플액(1)을 빼내 상기 액의 대전 전위를 측정한 바 0.5kV였다. 또한, 상기 조작 후, 압송 용기를 진탕하고, 마찬가지로 샘플액 취출용 노즐(7)로부터 샘플액(1)을 빼내 상기 액의 대전 전위를 측정한 바 0.5kV였다. 또한, 상기와 마찬가지로 충전 후, 진탕하지 않고 샘플액 출입용 노즐(8)을 거쳐 통액 노즐(4)로부터 샘플액(1)을 빼내 상기 액의 대전 전위를 측정한 바 0.1kV였다. 또한, 본 실시예에서 샘플액의 충전 및 취득시의 통액 속도는 0.5m/sec이며, 샘플액을 상기 제전 기구에 접촉시키는 경우의 시간(접액 시간)은 0.1초간이었다. 평가 조건을 표 13에, 평가 결과를 표 14에 나타낸다.
[실시예 32]
상기 수지캔체(2b)의 외장을 피복하는 금속캔체, 및 제전 기구(10a)를 SUS316L의 전해 연마제로 한 이외는 실시예 31과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 13에, 평가 결과를 표 14에 나타낸다.
[실시예 33]
본 실시예에서는 도 8에 나타내 압송 용기(A5)를 이용했다. 상기 용기(A5)는, 제전 기구(10b)로서, SUS304 제의 슬리브 부재(내경: 28.4mmφ, 길이: 10mm, 접액 면적: 8.9㎠)를 노즐(4)에 집어넣은 구조이며, 상기 슬리브 부재가 샘플액과 접촉할 수 있는 상태이다. 또한, 제전 기구(10b)(슬리브 부재)는 도시하지 않는 배선 등에 의해 접지 접속되어 있다. 또한, 제전 기구(10b)의 접액 부분 이외(예를 들면, 접지 접속을 위한 배선 등)는 샘플액에 접촉하지 않는다. 상기 이외는 도 7의 압송 용기(A4)와 동일한 구조이다. 상기의 압송 용기(A5)를 이용하는 이외는 실시예 31과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 13에, 평가 결과를 표 14에 나타낸다.
[실시예 34]
상기 수지캔체(2b)의 외장을 피복하는 금속캔체, 및 제전 기구(10b)(슬리브 부재)를 SUS316L의 전해 연마제로 한 이외는 실시예 33과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 13에, 평가 결과를 표 14에 나타낸다.
[실시예 35]
본 실시예에서는 도 9에 나타내는 압송 용기(A6)를 이용했다. 상기 용기(A6)는, 도 7의 압송 용기(A4)에, 대전 전위를 더욱 저감시키는 제전 기구(12)를 가지는 구조이다. 압송 용기(A6) 내에 있어서, SUS304 제의 봉형상체(11)의 표면 중 제전 기구(12)의 부분을 제외하고는, PFA 제의 라이닝층(2a)으로 피복되어 있다. 즉, 제전 기구(12)의 부분(접액 면적 200㎟)에서는, SUS304 제의 봉형상체(11)가 표면에 노출된 상태이며 샘플액과 접촉할 수 있는 상태이다. 또한 제전 기구(12)(봉형상체(11))는 도시하지 않은 배선 등에 의해 접지 접속되어 있다. 또한, 제전 기구(12)(봉형상체(11)의 접액 부분) 이외(예를 들면, 접지 접속을 위한 배선 등)는 샘플액에 접촉하지 않는다. 상기의 압송 용기(A6)를 이용하는 이외는 실시예 31과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 13에, 평가 결과를 표 14에 나타낸다.
[비교예 13]
도 10에 나타내는 압송 용기(B3), 즉 제전 기구가 없는 압송 용기를 이용하는 이외는 실시예 31과 동일한 조작을 행했다. 평가 조건을 표 13에, 평가 결과를 표 14에 나타낸다.
Figure pat00014
Figure pat00015
A1, A2, A3, A4, A5, A6, B1, B2, B3 : 압송 용기
1a, 1b : 용기 본체 2a : 라이닝층
2b : PFA층(수지캔체) 3 : 샘플액
4 : 통액 노즐 5 : 압력계용 노즐
6 : 가스구 노즐 7 : 샘플액 취출용 노즐(통액 노즐)
8 : 샘플액 출입용 노즐(접액 노즐) 9 : 압력계
10a, 10b : 제전 기구(통액 노즐에 설치된 제전 기구)
11 : 봉형상체 12 : 제전 기구(용기 본체에 설치된 제전 기구)
20 : 압송 용기 21 : 용기 본체
22 : 통액 노즐 23 : 가스구 노즐
24 : 수지 라이닝층 25 : 접액 노즐
26 : 제전 기구(통액 노즐에 설치된 제전 기구)

Claims (17)

  1. 표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 보관함과 더불어, 내부를 가압함으로써 이액(移液)이 가능하도록 구성된 압송 용기로서,
    상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고,
    상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고,
    상기 압송 용기는, 상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B 중 어느 하나의 액체를 충전하는 용기 본체와, 상기 용기 본체에 대하여 상기 액체를 충전 및/또는 취출하기 위해서 상기 액체를 통액하는 통액 노즐을 가지고,
    상기 용기 본체는, 상기 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 되어 있는 금속캔체로 구성되어 있고,
    상기 통액 노즐에는 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 통액 노즐에 있어서 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분은 수지 재료로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 압송 용기.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제전 기구는, 접지 접속된 도전성 재료로 구성되어 있는, 압송 용기.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하는 상기 통액 노즐의 표면 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 함으로써 구성되어 있는, 압송 용기.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하도록, 접지 접속된 도전성 재료를 상기 통액 노즐 내에 설치함으로써 구성되어 있는, 압송 용기.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용기 본체에, 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 더 설치되어 있는, 압송 용기.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 용기 본체에 설치된 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하는 표면의 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 하고, 상기 도전성 재료 이외의 접액 부분을 수지 재료로 한 봉형상체로 구성되어 있는, 압송 용기.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용기 본체는, 내부 표면에 수지 라이닝 처리가 실시된 금속캔체, 또는 수지캔체의 외장을 덮은 금속캔체로 구성되어 있는, 압송 용기.
  8. 표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를 압송 용기에 보관하는 방법으로서,
    상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고,
    상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고,
    상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B 중 어느 하나의 액체를, 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 압송 용기에, 불활성 가스를 이용하여 45℃에 있어서의 내압이 게이지압 0.01MPa∼0.19MPa가 되도록 가압 충전하여, 0℃∼45℃에서 보관하는 것을 특징으로 하는 보관 방법.
  9. 표면에 요철 패턴을 가지고 상기 요철 패턴의 적어도 일부가 규소 원소를 포함하는 웨이퍼의 상기 요철 패턴의 적어도 오목부 표면에 발수성 보호막을 형성하기 위한 보호막 형성용 약액, 또는 혼합함으로써 상기 보호막 형성용 약액이 되는 보호막 형성용 약액 키트를, 내부를 가압함으로써 이액이 가능하도록 구성된 압송 용기에 대하여 이액하는 방법으로서,
    상기 보호막 형성용 약액은, 비수 유기 용매와, 실릴화제와, 산 또는 염기를 가지고,
    상기 보호막 형성용 약액 키트는, 비수 유기 용매와 실릴화제를 가지는 처리액 A와, 비수 유기 용매와 산 또는 염기를 가지는 처리액 B로 이루어지고,
    상기 압송 용기는, 상기 보호막 형성용 약액, 상기 처리액 A 및 상기 처리액 B 중 어느 하나의 액체를 충전하는 용기 본체를 가지고,
    상기 용기 본체는, 상기 액체와 접촉하는 부분이 수지 재료로 되어 있는 금속캔체로 구성되어 있고, 하기 (1) 및 (2) 중 적어도 하나를 행하는 것을 특징으로 하는 이액 방법.
    (1) 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분이 수지 재료로 구성되어 있는 통액부를 통하여, 상기 액체를 상기 용기 본체에 충전한다.
    (2) 상기 액체의 대전 전위를 저감시키는 제전 기구가 설치되어 있고, 상기 제전 기구를 제외한 접액 부분이 수지 재료로 구성되어 있는 통액부를 통하여, 상기 액체가 충전된 상기 용기 본체로부터 상기 액체를 취출한다.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 제전 기구는, 접지 접속된 도전성 재료로 구성되어 있는, 이액 방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하는 상기 통액부의 표면 일부를, 접지 접속된 도전성 재료로 함으로써 구성되어 있는, 이액 방법.
  12. 청구항 10에 있어서,
    상기 제전 기구는, 상기 액체와 접촉하도록, 접지 접속된 도전성 재료를 상기 통액부 내에 설치함으로써 구성되어 있는, 이액 방법.
  13. 청구항 9 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액체를 상기 제전 기구에 접촉시키는 시간은 0.001초∼100초간인, 이액 방법.
  14. 청구항 9 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 통액부에 상기 액체를 통액하는 속도는 0.01m/sec∼10m/sec인, 이액 방법.
  15. 청구항 2에 있어서,
    상기 도전성 재료는, 철강, 합금 주철, 마르에이징강, 스테인리스강(예를 들면, 전해 연마된 SUS304, 전해 연마된 SUS316L 등), 니켈과 그 합금, 코발트와 그 합금, 알루미늄, 마그네슘과 그 합금, 구리와 그 합금, 티탄, 지르코늄, 탄탈, 니오브와 그 합금, 납과 그 합금, 금, 은, 백금, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 루테늄, 오스뮴 등의 귀금속과 그 합금, 다이아몬드 및 유리상 탄소로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종으로 구성되어 있는, 압송 용기.
  16. 청구항 2에 있어서,
    상기 도전성 재료는, 철강, 합금 주철, 마르에이징강, 스테인리스강(예를 들면, 전해 연마된 SUS304, 전해 연마된 SUS316L 등), 니켈과 그 합금, 코발트와 그 합금, 알루미늄, 마그네슘과 그 합금, 구리와 그 합금, 티탄, 지르코늄, 탄탈, 니오브와 그 합금, 납과 그 합금, 금, 은, 백금, 팔라듐, 로듐, 이리듐, 루테늄, 오스뮴 등의 귀금속과 그 합금, 다이아몬드, 유리상 탄소, 및 카본이 함유된 수지 재료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 2종으로 구성되어 있는, 압송 용기.
  17. 청구항 1에 있어서,
    상기 수지 재료는, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 폴리프로필렌(PP), 6,6-나일론, 테트라플루오로에틸렌(PTFE), 테트라플루오로에틸렌과 퍼플루오로알킬비닐에테르의 공중합체(PFA), 폴리클로로트리플루오로에틸렌(PCTFE), 에틸렌·클로로트리플루오로에틸렌 공중합체(ECTFE), 에틸렌·4불화 에틸렌 공중합체(ETFE) 및 4불화 에틸렌·6불화 프로필렌 공중합체(FEP)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종으로 구성되어 있는, 압송 용기.
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