KR20140085463A - 투명 수지 기판 - Google Patents

투명 수지 기판 Download PDF

Info

Publication number
KR20140085463A
KR20140085463A KR1020147011076A KR20147011076A KR20140085463A KR 20140085463 A KR20140085463 A KR 20140085463A KR 1020147011076 A KR1020147011076 A KR 1020147011076A KR 20147011076 A KR20147011076 A KR 20147011076A KR 20140085463 A KR20140085463 A KR 20140085463A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
refractive index
hard coat
coat film
weight
parts
Prior art date
Application number
KR1020147011076A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101597477B1 (ko
Inventor
마사히로 사이토
테페이 이타모토
Original Assignee
후구비카가구코오교우가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후구비카가구코오교우가부시끼가이샤 filed Critical 후구비카가구코오교우가부시끼가이샤
Publication of KR20140085463A publication Critical patent/KR20140085463A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101597477B1 publication Critical patent/KR101597477B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/14—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
    • B29C45/14778—Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles the article consisting of a material with particular properties, e.g. porous, brittle
    • B29C45/14811—Multilayered articles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C08J7/0423—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
    • B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
    • B29K2995/0026—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
    • B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
    • B29K2995/0031—Refractive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
    • B29K2995/0037—Other properties
    • B29K2995/007—Hardness
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2475/00—Characterised by the use of polyureas or polyurethanes; Derivatives of such polymers
    • C08J2475/04—Polyurethanes
    • C08J2475/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C08J2475/16—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds having terminal carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2483/02—Polysilicates
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249971—Preformed hollow element-containing
    • Y10T428/249974—Metal- or silicon-containing element

Abstract

투명한 열가소 수지제 하지 시트와, 하지 시트의 한쪽의 표면에 형성된 하드코트막을 갖고 있는 투명 수지 기판에 있어서, 하드코트막은, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트를 포함하는 우레탄 아크릴레이트를 경화시켜 이루어지는 수지 성분과, 실란커플링제 또는 그 가수분해물과, 입경이 5~500 nm이고 굴절율이 1.44~1.5의 범위에 있는 실리카 졸과, 금속 킬레이트 화합물로 형성되어 있고, 하드코트막 상에는 저굴절율층이 형성되어 있고, 저굴절율층은, 입경이 10~150 nm이고 굴절율이 1.44 이하인 저굴절율 중공 실리카 졸과, 실란커플링제 또는 그 가수분해물과, 금속 킬레이트 화합물로 형성되어 있고, 저굴절율층은, 중공 실리카 졸을 10 내지 50 중량%의 양으로 포함하면서, 가수분해물과 상기 금속 킬레이트 화합물을 60/99 내지 40/1의 중량비로 함유하고 있는 것을 특징으로 한다.

Description

투명 수지 기판{TRANSPARENT RESIN SUBSTRATE}
본 발명은 투명 수지 기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 투명한 열가소 수지제의 하지 시트 상에 하드코트막이 형성되어 있는, 인서트 성형성이 우수하고, 나아가서는 내충격성도 우수한 투명 수지 기판에 관한 것이다.
종래, 사출 성형체 등의 성형체 표면에 하드코트막을 형성하는 경우에는, 일반적으로, 미리 얻어진 성형체에, 디핑 등에 의해 하드코트막 형성용의 도포액을 코팅하고, 이어서 경화함으로써 하드코트막을 형성한다고 하는 수단이 채용되고 있다. 그러나, 이러한 수단은, 성형체가 시트와 같은 편평한 형태인 경우에는 문제가 없지만, 표면에 요철을 갖는 입체적인 형상을 갖는 경우에는, 도포액을 균일하게 코팅할 수 없거나, 혹은 그 성형체로부터의 액빠짐이 나빠져, 도포액의 두께 얼룩짐이 생겨 버리고, 줄무늬 모양이 형성되어 버리는 등의 문제가 있다.
상기와 같은 문제를 피하기 위해서, 최근에는, 투명한 열가소성 수지제 시트의 표면에 하드코트막을 형성한 것을 성형용 기판으로서 사용하고, 이 성형용 기판을 사출 성형 등의 성형형 내에 설치하여, 이 기판을 열을 가하면서 소정의 형상으로 부형(賦形)하고, 이어서 소정의 수지를 형 내에 주입하여 경화시킨다고 하는 수법(인서트 성형이나 인몰드 성형이라고 불림)도 채용되게 되어 왔다(특허문헌 1~3).
특허문헌 1: 일본 특허공개 평10-48001호 공보 특허문헌 2: 일본 특허공개 2007-211218호 공보 특허문헌 3: 일본 특허공개 2010-24450호 공보
상기와 같은 인서트 성형에 의한 수단에서는, 도포액의 두께 불균일에 기인한 줄무늬 모양 등의 문제점은 방지할 수 있지만, 하드코트층에 종종 균열이 발생한다고 하는 문제가 있었다. 즉, 하드코트막은, 이것의 하지가 되는 투명한 열가소성 수지제 시트에 비해 매우 딱딱하기 때문에, 성형용 기판을 부형할 때에, 하드코트막이 유연한 열가소성 수지제의 시트에 추종할 수 없고, 이 결과, 균열을 일으켜 버리는 것이다. 또한, 폴리카보네이트 등의 플라스틱 기재에 양면 하드코트 제품으로 낙구(落球) 시험을 하면 기판이 깨어지는 현상이 일어나는데, 이것은 하드코트로부터 균열이 들어가 결과적으로 플라스틱 기재가 깨져 버리는 것이다.
이러한 문제는, 상기한 하드코트막이 반사방지막 상에 형성되어 있는 경우에는 한층 더 현저하게 된다. 반사방지막도 하드코트막과 마찬가지로 열가소성 수지제 시트에 비해 매우 딱딱하기 때문이다.
따라서, 본 발명의 목적은, 투명한 열가소성 수지제 시트의 표면에 하드코트막이 형성된 투명 수지 기판으로서, 인서트 성형시에 있어서의 하드코트막의 균열이 유효하게 방지되고, 또한 낙구 시험에 견딜 수 있는 물성도 겸비한 투명 수지 기판을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은, 상기 하드코트막 위에 반사방지막이 더욱 형성되어 있고, 하드코트막 및 반사방지막의 성형시에 있어서의 균열이 유효하게 방지되며, 또한 낙구 시험에 견딜 수 있는 물성도 겸비한 투명 수지 기판을 제공하는 데에 있다.
본 발명에 따르면, 투광성을 갖는 열가소 수지제 하지 시트와, 이 하지 시트의 한쪽의 표면에 형성된 하드코트막을 갖추고 있는 투명 수지 기판에 있어서,
상기 하드코트막은, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)를 포함하는 우레탄 아크릴레이트를 경화시켜 이루어지는 수지 성분(A) 100 중량부와, 1 내지 30 중량부의 하기 화학식(1);
Rn-Si(OR1)4-n (1)
(식에서, R은 알킬기 또는 알케닐기이고,
R1은 알킬기, 알콕시알킬기, 아실옥시기 또는 할로겐 원자이고,
n은 1 또는 2의 수이다)
으로 나타내어지는 화합물 또는 그 가수분해물(B)과, 1 내지 50 중량부의 입경이 5~500 nm이고 굴절율이 1.44~1.5의 범위에 있는 실리카 졸(C)과, 0.1 내지 3 중량부의 금속 킬레이트 화합물(D)로 형성되어 있고,
상기 하드코트막 상에는 저굴절율층이 형성되어 있고, 이 저굴절율층은, 입경이 10~150 nm이고 굴절율이 1.44 이하인 저굴절율 중공 실리카 졸(a)과, 상기 화학식(1)으로 나타내어지는 화합물 또는 그 가수분해물(b)과, 금속 킬레이트 화합물(c)로 형성되어 있고,
상기 저굴절율층은, 상기 중공 실리카 졸(a)을 10 내지 50 중량%의 양으로 포함하면서, 상기 화합물 또는 그 가수분해물(b)과 상기 금속 킬레이트 화합물(c)을 60/99 내지 40/1의 중량비(b/c)로 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 투명 수지 기판이 제공된다.
본 발명의 투명 수지 기판에 있어서는,
(1) 상기 투명 수지제 하지 시트는, 상기 하드코트막이 형성되는 쪽의 면이 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지에 의해 형성되어 있는 것,
(2) 상기 투명 수지제 하지 시트는 30 내지 1000 ㎛의 두께를 갖고 있고, 상기 하드코트막은 0.5 내지 10 ㎛의 두께를 갖고 있고, 상기 저굴절율층은 50 내지 200 nm의 두께를 갖고 있는 것,
(3) 상기 하드코트막의 수지 성분(A)에 있어서의 우레탄 아크릴레이트는, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)를, 2/98 내지 70/30의 중량비(A1/A2)로 함유하고 있는 것,
(4) 상기 하드코트막 상에는, 다층 구조의 반사방지막이 형성되어 있고, 상기 반사방지막의 최상층이 상기 저굴절율층으로 되어 있는 것이 적합하다.
또한, 이 투명 수지 기판은 인서트 성형에 적합하게 적용된다.
본 발명의 투명 수지 기판에서는, 투광성을 갖고 있는 유연한 열가소성 수지제 하지 시트의 표면에 특정 조성의 하드코트막이 형성되어 있는 동시에, 이 하드코트막 위에, 일정한 조성의 저굴절율층이 형성되어 있다. 즉, 하드코트층과 저굴절율층은 공통 성분을 많이 포함하고 있기 때문에, 양자는 밀착성이 우수하다. 또한, 저굴절율층에 배합되어 있는 무기 산화물 미립자는 중공의 실리카 졸이기 때문에, 이 저굴절율층은 비교적 자유도가 높아, 가열 하에서 부형할 때에, 하지 시트에 추종하기 쉽다. 즉, 하드코트막은, 이러한 저굴절율층과 하지 시트 사이에 협지되면서, 하지 시트 및 저굴절율층 양쪽에 대하여 우수한 밀착성을 보인다.
따라서, 본 발명에서는, 이 수지 기판을 성형형 내에 배치하는 인서트 성형을 한 경우, 또한 낙구 시험을 한 경우라도 하드코트막이나 저굴절율층에서의 균열을 유효하게 방지할 수 있다.
또한, 상기 저굴절율층의 특성을 살리고, 이 저굴절율층과 하드코트막 사이에 고굴절율의 층을 형성하여, 다층 구조의 반사방지막으로서의 기능을 발휘하게 할 수도 있다. 본 발명에서는, 이러한 반사방지막이 하드코트막 상에 형성되어 있었던 경우에도, 인서트 성형할 때나 또 낙구 시험을 했을 때의 균열을 유효하게 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 투명 수지 기판의 층 구성의 일례를 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 투명 수지 기판의 층 구성의 적합예를 도시하는 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 투명 수지 기판의 가장 심플한 층 구조는, 투광성의 열가소성 수지의 하지 시트(1)와, 하드코트막(3)과, 저굴절율층(5)으로 이루어지는 것이다.
<하지 시트(1)>
하지 시트(1)는 투광성을 갖는 것으로, 예컨대, 파장 750~400 nm에서의 전광선 투과율이 85% 이상인 열가소성 수지로 이루어진다. 이러한 투광성을 갖는 열가소성 수지로서는, 폴리메틸메타크릴레이트로 대표되는 아크릴계 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리알릴디글리콜카보네이트 수지, 폴리스티렌 수지 등이 적합하고, 하드코트막(3)이 형성되는 쪽의 면이, 아크릴계 수지, 폴리카보네이트 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하며, 따라서, 폴리카보네이트 수지와 아크릴계 수지와의 적층체도 하지 시트(1)로서 적합하게 사용할 수 있다. 또한, 이러한 하지 시트(1)는, 투광성이 손상되지 않는 한, 유용성 염료 등에 의해서 착색된 것이어도 좋다.
또한, 이러한 하지 시트(1)의 표면은, 하드코트막(3)과의 밀착성을 향상시킬 목적으로, 그 자체 공지된 프라이머로 표면 처리되어 있더라도 좋다.
더욱이, 상기한 하지 시트(1)는, 인서트 성형에 의해 최종적으로 성형되는 성형체의 형상이나 크기에 따라서도 다르지만, 일반적으로는, 적절하게 박육인 것이 바람직하고, 예컨대, 30 내지 1000 ㎛ 정도의 두께인 것이 바람직하다. 즉, 이 두께가 과도하게 두꺼우면, 인서트 성형할 때에, 성형형 내에 주입하는 수지량이 제한되어 버려, 목적으로 하는 형상의 성형체를 얻기 어렵게 될 우려가 있고, 또한, 이 두께가 지나치게 얇으면, 이 성형용 수지 기판(1)의 부형성 등이 손상되어 버려, 성형형 내에서 가열 하에 성형용 수지 기판(1)을 부형할 때에, 꺾임 등의 성형 불량을 일으키기 쉽게 되어 버린다.
<하드코트막(3)>
상기한 하지 시트(1)의 한쪽의 표면에 형성되는 하드코트막(3)은, 우레탄 아크릴레이트를 경화시켜 이루어지는 수지 성분(A), 실란 커플링 성분(B), 실리카 졸(C) 및 금속 킬레이트 화합물(D)을 함유하고 있다.
이러한 하드코트막(3)의 두께는, 상기 하지 시트(1)의 두께에 따라서도 다르지만, 일반적으로는, 0.5 내지 10 ㎛, 특히 1.0 내지 5.0 ㎛의 범위에 있는 것이 좋다. 즉, 이 두께가 지나치게 얇으면, 하드코트막(3)의 기본적인 물성(예컨대, 경도나 강도) 등을 확보하기가 곤란하게 되고, 또한, 과도하게 두꺼우면, 하지 시트(1)와의 물성차(예컨대 유연성이나 신장)가 커지고, 이 결과, 인서트 성형시에 있어서의 균열 등의 성형 불량을 일으키기 쉽게 되어 버리기 때문이다.
이하, 이 하드코트막(3)의 각 형성 성분에 관해서 설명한다.
수지 성분(A);
우레탄 아크릴레이트를 경화시켜 이루어지는 수지 성분(A)은, 막을 형성하는 바인더로서의 기능을 갖는 것인데, 이러한 우레탄 아크릴레이트로서는, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)가 병용된다. 즉, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)는 경화에 의해 비교적 유연성이 풍부한 부분을 형성하고, 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)는 경화에 의해 경질의 부분을 형성하는 것이며, 양자를 병용함으로써, 적절하게 치밀하고 경도가 높은 막을 형성할 수 있는 것이다.
한편, 우레탄 아크릴레이트는, 다가 이소시아네이트 화합물과 복수의 수산기를 갖는 폴리올 화합물을 반응하여 얻어지는 말단 이소시아네이트 화합물에, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트를 더욱 반응시켜 얻어지는 것으로, 우레탄 아크릴레이트 중의 (메트)아크릴로일기가 작용기이고, 예컨대 (메트)아크릴로일기를 2개 갖는 우레탄 아크릴레이트는 2작용이며, 3개 갖는 것은 3작용이다.
따라서, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)란, (메트)아크릴로일기를 많게 3개까지 갖고 있는 것으로, 예컨대, 펜타에리스리톨모노(메트)아크릴레이트에 말단 이소시아네이트 화합물을 반응시켜, 양 말단의 각각에 1개의 (메트)아크릴로일기가 도입되어 있는 우레탄 아크릴레이트는, 2작용의 우레탄 아크릴레이트(A1)로서 사용된다.
또한, 펜타에리스리톨모노(메트)아크릴레이트와 펜타에리스리톨디(메트)아크릴레이트를, 말단 이소시아네이트 화합물과 반응시켜, 이소시아네이트 화합물의 한쪽의 말단에 1개의 (메트)아크릴로일기를 도입하고, 또한 다른 쪽의 말단에 2개의 (메트)아크릴로일기를 도입한 것은, 3작용의 우레탄 아크릴레이트(A1)로서 사용된다.
더욱이, 펜타에리스리톨디(메트)아크릴레이트를, 말단 이소시아네이트 화합물과 반응시켜, 이소시아네이트 화합물의 양 말단에, 각각 2개의 (메트)아크릴로일기를 도입한 것은, 4작용의 우레탄 아크릴레이트(A1)로서 사용된다.
물론, 상기한 예는 일례이며, 3작용 이하이기만 하면, 다른 우레탄 아크릴레이트도 사용할 수 있다. 예컨대, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 및 3가 이상의 다가 알코올의 (메트)아크릴산의 모노에스테르, 디에스테르 등의 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르를 사용하여, 원하는 수의 (메트)아크릴로일기를 도입함으로써, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)를 얻을 수도 있다.
4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)도 마찬가지이며, 예컨대, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트에, 양 말단 이소시아네이트(예컨대 트리헥사디에틸렌디이소시아네이트)를 반응시킴으로써, 분자쇄 말단의 각각에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 6작용의 우레탄 아크릴레이트(A2)를 얻을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기한 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)는, 2/98 내지 70/30, 특히 10/90 내지 60/40의 중량비(A1/A2)로 사용되고 있는 것이 바람직하다. 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)의 사용량이 지나치게 많으면, 얻어지는 하드코트막(3)의 경도가 손상되어, 하드코트막(3)으로서의 기본적인 성능이 저하될 우려가 있고, 또한, 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)의 사용량이 지나치게 많으면, 하드코트막(3)과 수지 시트(1)와의 밀착성이 손상되거나, 하드코트막(3)의 수지 시트(1)에 대한 추종성이 손상되고, 이 결과, 인서트 성형에 있어서의 성형형 내에서의 부형시에 균열 등을 일으키기 쉽게 된다. 또한, 후술하는 무기 산화물 미립자(C)의 탈락 등이 생기기 쉽게 되는 경우도 있다.
실란 커플링 성분(B);
실란 커플링 성분(B)은, 이 하드코트막(3)에 후술하는 실리카 졸(C)을 탈락 없이 안정적으로 분산하여 유지하는 동시에, 하지 시트(1)나 저굴절율층(5)과의 밀착성을 확보하기 위해서 사용되는 성분이다.
즉, 이 성분(B)은 하기 화학식(1);
Rn-Si(OR1)4-n (1)
(식에서, R은 알킬기 또는 알케닐기이고,
R1은 알킬기, 알콕시알킬기, 아실옥시기 또는 할로겐 원자이고,
n은 1 또는 2의 수이다)
으로 나타내어지는 화합물(실란커플링제) 또는 그 가수분해물이다.
상기 화학식(1)에 있어서의 기 R로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등의 알킬기, 비닐기 등의 알케닐기를 들 수 있고, 이 알킬기는, 염소 등의 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, (메트)아크릴로일기, 옥시란환 함유기 등의 작용기로 치환되어 있더라도 좋다.
또한, 기 R1은 알킬기, 알콕시알킬기, 아실옥시기 또는 할로겐 원자이며, 규소 원자에 결합하고 있는 기 OR1은 가수분해성의 기로 되어 있다.
상기와 같은 실란커플링제의 구체예로서는, 비닐트리클로로실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아닐리노프로필트리메톡시실란, γ-(N-스티릴메틸-β-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란염산염, γ-클로로프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리클로로실란, 디메틸디클로로실란 등을 들 수 있다.
이러한 실란커플링제의 가수분해물(B)은, 가수분해와 동시에 중축합하여, Si-O-Si 결합에 의해 네트워크형으로 연속해 있는 중합물을 형성한다. 따라서, 이러한 실란커플링제의 가수분해물(B)의 사용에 의해, 하드코트막(3)을 치밀한 것으로 할 수도 있다.
본 발명에 있어서, 하드코트막(3) 중의 상기 화합물 또는 그 가수분해물(B)의 함유 비율은, 전술한 우레탄 아크릴레이트로 형성된 수지 성분 100 중량부에 대해, 1 내지 30 중량부, 특히 10 내지 20 중량부의 범위로 설정된다. 즉, 이 화합물 또는 그 가수분해물(B)의 함유량이 필요 이상으로 많으면, 하드코트막(3)의 기본적 성능(경도나 내찰상성 등)이 손상되어 버리고, 이 함유량이 지나치게 적으면, 하지 시트(1)나 저굴절율층(5)과의 밀착성이 손상되어, 하드코트막(3)의 박리 등을 일으키기 쉽게 되어 버린다.
실리카 졸(C);
하드코트막(3) 중의 실리카 졸(C)로서는, 입경이 5~500 nm이고 굴절율이 1.44~1.5의 범위에 있는 것이 사용된다. 즉, 이러한 산화물 미립자를 사용함으로써, 하드코트막(3) 전체에 걸쳐 경도 등의 기본적인 특성을 균일하게 부여할 수 있다. 또한, 이러한 실리카 졸(C)은, 후술하는 저굴절율층(5)의 형성에 사용되는 중공(中空) 실리카 졸과 달리, 중실(中實) 입자인데(예컨대, 그 밀도는 1.9 이상), 상기 중공 실리카 졸에 근사한 입경 및 굴절율을 갖고 있기 때문에, 중공 실리카 졸을 이용하는 저굴절율층(5)과의 밀착성을 높이고, 또한 저굴절율층(5)의 형성에 의해, 인서트 성형시의 하드코트막(3)이나 저굴절율층(5)의 균열 등을 효과적으로 방지할 수 있고, 나아가서는 저굴절율층(5)의 광학적 특성을 살려 반사방지막의 형성도 가능하게 되는 것이다.
이러한 실리카 졸(C)은, 전술한 우레탄 아크릴레이트로 형성되는 수지 성분(A) 100 중량부에 대해, 10 내지 80 중량부, 특히 30 내지 60 중량부의 양으로 사용된다. 이러한 실리카 졸(C)이 이러한 범위에서 하드코트막(3) 중에 포함되어 있음으로써, 하드코트막(3)의 기본 특성을 유지하면서, 저굴절율층(5)과의 밀착성을 높여, 인서트 성형시의 균열 등을 유효하게 방지할 수 있다.
금속 킬레이트 화합물(D);
본 발명에 있어서, 금속 킬레이트 화합물(D)은, 하드코트막(3) 중에 가교 구조를 도입하여, 하드코트막(3)을 보다 치밀한 것으로 하기 위해서 사용된다. 즉, 전술한 우레탄 아크릴레이트에 의한 수지 성분(A)으로도 가교 구조는 형성되지만, 유연성을 부여하기 위해서 저작용성의 우레탄 아크릴레이트(A1)를 사용함으로써, 그 치밀성은 저하되고 있다. 즉, 금속 킬레이트 화합물(D)은, 하드코트막(3)의 유연성을 손상하지 않고서, 그 치밀성의 저하를 보충하기 위해서, 환언하면, 막의 치밀성에 영향을 받는 경도 등의 기계적 특성을 조정하기 위해서 사용되는 것이다. 또한, 이러한 금속 킬레이트 화합물은, 저굴절율층(5)에도 포함되어 있기 때문에, 금속 킬레이트 화합물(D)을 사용함으로써, 하드코트막(3)과 저굴절율층(5)과의 밀착성이 보다 높아져, 인서트 성형시의 균열 등을 유효하게 방지할 수 있다.
이러한 금속 킬레이트 화합물(D)로서는, 이좌 배위자를 포함하는 티탄, 지르코늄, 알루미늄, 주석, 니오븀, 탄탈 혹은 납의 화합물이 적합하다.
이좌 배위자란, 배위좌수가 2, 즉 금속에 배위할 수 있는 원자수가 2인 킬레이트제이며, 일반적으로 O, N, S 원자에 의해서 5 내지 7원환을 형성하여, 킬레이트 화합물을 형성한다. 이들 이좌 배위자의 예로서, 아세틸아세토나토, 에틸아세토아세타토, 디에틸말로나토, 디벤조일메타나토, 살리실라토, 글리콜라토, 카테콜라토, 살리실알데히다토, 옥시아세토페노나토, 비페놀라토, 피로메코나토, 옥시나프토퀴노나토, 옥시안트라퀴노나토, 토폴로나토, 비노키칠라토, 글리시나토, 알라니나토, 안트로니나토, 피콜리나토, 아미노페놀라토, 에탄올아미나토, 머캅토에틸아미나토, 8-옥시퀴놀리나토, 살리실알디미나토, 벤조인옥시마토, 살리실알콕시마토, 옥시아조벤제나토, 페닐아조나프토라토, β-니트로소-α-나프토라토, 디아조아미노벤제나토, 비우레타토, 디페닐카르바조나토, 디페닐티오카르바조나토, 비구아니다토, 디메틸글리옥시마토 등을 예로 들 수 있다.
본 발명에 있어서, 적합하게 사용되는 금속 킬레이트 화합물(D)은, 하기 화학식(2):
M(Li)k(X)m-k (2)
(식에서, M은 티탄, 지르코늄, 알루미늄, 주석, 니오븀, 탄탈 혹은 납이고,
Li는 이좌 배위자이고,
X는 1가의 기, 적합하게는 가수분해 가능한 기이고,
m은 금속 M의 원자가이고,
k는 금속 M의 원자가를 넘지 않는 범위에서 1 이상의 수이다)
으로 나타내어진다. 이들 중에서도, 금속 M으로서는, 티탄, 지르코늄, 알루미늄이 바람직하고, 기 X로서는 알콕시기가 바람직하다.
이러한 금속 킬레이트 화합물의 구체예로서는, 이하의 Ti 킬레이트 화합물, Zr 킬레이트 화합물 및 Al 킬레이트 화합물을 예시할 수 있다.
Ti 킬레이트 화합물;
트리에톡시·모노(아세틸아세토나토)티탄
트리-n-프로폭시·모노(아세틸아세토나토)티탄
트리-i-프로폭시·모노(아세틸아세토나토)티탄
트리-n-부톡시·모노(아세틸아세토나토)티탄
트리-sec-부톡시·모노(아세틸아세토나토)티탄
트리-t-부톡시·모노(아세틸아세토나토)티탄
디에톡시·비스(아세틸아세토나토)티탄
디-n-프로폭시·비스(아세틸아세토나토)티탄
디-i-프로폭시·비스(아세틸아세토나토)티탄
디-n-부톡시·비스(아세틸아세토나토)티탄
디-sec-부톡시·비스(아세틸아세토나토)티탄
디-t-부톡시·비스(아세틸아세토나토)티탄
모노에톡시·트리스(아세틸아세토나토)티탄
모노-n-프로폭시·트리스(아세틸아세토나토)티탄
모노-i-프로폭시·트리스(아세틸아세토나토)티탄
모노-n-부톡시·트리스(아세틸아세토나토)티탄
모노-sec-부톡시·트리스(아세틸아세토나토)티탄
모노-t-부톡시·트리스(아세틸아세토나토)티탄
테트라키스(아세틸아세토나토)티탄
트리에톡시·모노(에틸아세토아세타토)티탄
트리-n-프로폭시·모노(에틸아세토아세타토)티탄
트리-i-프로폭시·모노(에틸아세토아세타토)티탄
트리-n-부톡시·모노(에틸아세토아세타토)티탄
트리-sec-부톡시·모노(에틸아세토아세타토)티탄
트리-t-부톡시·모노(에틸아세토아세타토)티탄
디에톡시·비스(에틸아세토아세타토)티탄
디-n-프로폭시·비스(에틸아세토아세타토)티탄
디-i-프로폭시·비스(에틸아세토아세타토)티탄
디-n-부톡시·비스(에틸아세토아세타토)티탄
디-sec-부톡시·비스(에틸아세토아세타토)티탄
디-t-부톡시·비스(에틸아세토아세타토)티탄
모노에톡시·트리스(에틸아세토아세타토)티탄
모노-n-프로폭시·트리스(에틸아세토아세타토)티탄
모노-i-프로폭시·트리스(에틸아세토아세타토)티탄
모노-n-부톡시·트리스(에틸아세토아세타토)티탄
모노-sec-부톡시·트리스(에틸아세토아세타토)티탄
모노-t-부톡시·트리스(에틸아세토아세타토)티탄
테트라키스(에틸아세토아세타토)티탄
모노(아세틸아세토나토)트리스(에틸아세토아세타토)티탄
비스(아세틸아세토나토)비스(에틸아세토아세타토)티탄
트리스(아세틸아세토나토)모노(에틸아세토아세타토)티탄
Zr 킬레이트 화합물;
트리에톡시·모노(아세틸아세토나토)지르코늄
트리-n-프로폭시·모노(아세틸아세토나토)지르코늄
트리-i-프로폭시·모노(아세틸아세토나토)지르코늄
트리-n-부톡시·모노(아세틸아세토나토)지르코늄
트리-sec-부톡시·모노(아세틸아세토나토)지르코늄
트리-t-부톡시·모노(아세틸아세토나토)지르코늄
디에톡시·비스(아세틸아세토나토)지르코늄
디-n-프로폭시·비스(아세틸아세토나토)지르코늄
디-i-프로폭시·비스(아세틸아세토나토)지르코늄
디-n-부톡시·비스(아세틸아세토나토)지르코늄
디-sec-부톡시·비스(아세틸아세토나토)지르코늄
디-t-부톡시·비스(아세틸아세토나토)지르코늄
모노에톡시·트리스(아세틸아세토나토)지르코늄
모노-n-프로폭시·트리스(아세틸아세토나토)지르코늄
모노-i-프로폭시·트리스(아세틸아세토나토)지르코늄
모노-n-부톡시·트리스(아세틸아세토나토)지르코늄
모노-sec-부톡시·트리스(아세틸아세토나토)지르코늄
모노-t-부톡시·트리스(아세틸아세토나토)지르코늄
테트라키스(아세틸아세토나토)지르코늄
트리에톡시·모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
트리-n-프로폭시·모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
트리-i-프로폭시·모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
트리-n-부톡시·모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
트리-sec-부톡시·모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
트리-t-부톡시·모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
디에톡시·비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
디-n-프로폭시·비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
디-i-프로폭시·비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
디-n-부톡시·비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
디-sec-부톡시·비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
디-t-부톡시·비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노에톡시·트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노-n-프로폭시·트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노-i-프로폭시·트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노-n-부톡시·트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노-sec-부톡시·트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노-t-부톡시·트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
테트라키스(에틸아세토아세타토)지르코늄
모노(아세틸아세토나토)트리스(에틸아세토아세타토)지르코늄
비스(아세틸아세토나토)비스(에틸아세토아세타토)지르코늄
트리스(아세틸아세토나토)모노(에틸아세토아세타토)지르코늄
Al 킬레이트 화합물;
디에톡시·모노(아세틸아세토나토)알루미늄
모노에톡시·비스(아세틸아세토나토)알루미늄
디-i-프로폭시·모노(아세틸아세토나토)알루미늄
모노-i-프로폭시·비스(아세틸아세토나토)알루미늄
모노-i-프로폭시·비스(에틸아세토아세타토)알루미늄
모노에톡시·비스(에틸아세토아세타토)알루미늄
디에톡시·모노(에틸아세토아세타토)알루미늄
디-i-프로폭시·모노(에틸아세토아세타토)알루미늄
상술한 금속 킬레이트 화합물(D)은, 우레탄 아크릴레이트로 형성되는 수지 성분(A) 100 중량부에 대해, 0.1 내지 30 중량부, 특히 0.5 내지 15 중량부의 양으로 사용된다. 이 범위 내에서 금속 킬레이트 화합물(D)이 사용됨으로써, 이 하드코트막(3) 상에 형성되는 저굴절율층(5)과의 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다.
<저굴절율층(5)>
상술한 하드코트막(3) 상에 형성되는 저굴절율층(5)은, 중공 실리카 졸(a)과, 실란커플링제 또는 그 가수분해물(b)과, 금속 킬레이트 화합물(c)로 형성되는 것으로, 이러한 저굴절율층(5)을 형성함으로써, 인서트 성형시의 성형 불량을 유효하게 방지할 수 있게 된다.
이러한 성분을 이용하여 형성되는 저굴절율층(5)의 두께는, 하드코트막(3)의 두께에도 영향을 받지만, 일반적으로는 50 내지 200 nm의 범위에 있는 것이 좋다. 즉, 이 두께가 지나치게 얇으면, 강도 등의 특성이 손상되어, 인서트 성형시에 파단 등을 일으키기 쉽게 되고, 지나치게 두꺼우면, 그 유연성 등이 크게 저하되어 버려, 예컨대 하지 시트(1)와의 물성차가 커져, 인서트 성형시에 있어서의 균열 등의 성형 불량이 생기기 쉽게 되는 경향이 있기 때문이다. 또한, 저굴절율층(5)의 두께가 상기 범위 내에 있을 때에는, 이 저굴절율층(5)을 가시광 등에 대한 반사방지막으로서 이용할 수도 있다.
이하, 이 저굴절율층(5)을 형성하는 각 성분에 관해서 설명한다.
중공 실리카 졸(a);
이 중공 실리카 졸(a)은, 하드코트층(3)과의 물성 조정을 위해 사용되는 것으로, 그 입경은 10~150 nm이고, 굴절율은 1.44 이하의 범위에 있으며, 전술한 하드코트막(3)의 형성에 사용되는 실리카 졸(C)에 근사한 입경 및 굴절율을 갖고 있는 것으로 이해될 것이다. 그런데, 이 저굴절율층(5)의 형성에 사용되는 실리카 졸(a)은, 내부가 공동(空洞)의 입자이기 때문에, 실리카 졸(C)에 비해 그 밀도는 낮아, 예컨대 1.5 이하이다.
즉, 이 중공 실리카 졸(a)은, 전술한 실리카 졸(C)과 마찬가지로, 굴절율이 낮은 미세한 입자이며, 하지 시트(1)의 투광성을 손상하는 일없이, 일정한 강도 및 경도를 확보하여, 내상처성 등의 특성을 부여하기 위해서 사용되는 것이다.
한편, 상기와 같은 중공 실리카 졸(a)은 그 자체 공지이며, 예컨대 템플릿으로 되는 계면활성제의 존재 하에서 실리카를 합성하고, 마지막으로 소성을 하여 계면활성제를 분해 제거함으로써 제조되며, 이소프로판올이나 메틸이소부틸케톤 등의 유기 용매에 분산시킨 졸의 형태로 시판되고 있다.
상기한 중공 실리카 졸(a)은, 중공 실리카 졸(a)과 실란커플링제 또는 그 가수분해물(b)과 금속 킬레이트 화합물(c)의 3 성분 기준으로, 저굴절율층(5) 중에 10 내지 50 중량%의 비율로 포함되어 있으면 좋다. 즉, 잔량의 90 내지 50 중량%가, 후술하는 실란커플링제 또는 그 가수분해물(b)과 금속 킬레이트 화합물(c)과의 합계 비율로 된다.
실란커플링제 또는 그 가수분해물(b) 및 금속 킬레이트 화합물(c);
본 발명에 있어서, 저굴절율층(5)의 형성에 이용하는 실란커플링제 또는 그 가수분해물(b)은, 하드코트막(3)의 형성에 이용하는 화학식(1)의 화합물(실란커플링제) 또는 그 가수분해물(B)과 완전히 같다. 전술한 하드코트막(3)에서는, 특정 우레탄 아크릴레이트로 형성되는 수지 성분(A)과 실란커플링제 또는 그 가수분해물(B)이 바인더가 되어 미세한 실리카 입자(실리카 졸(C))를 유지하고 있는데, 이 저굴절율층(5)에서는, 실란커플링제 또는 그 가수분해물이 바인더가 되어 미세한 실리카 입자(중공 실리카 졸(a))를 유지하고 있는 것이다.
즉, 본 발명에서는, 하드코트막(3)의 형성에도 사용되고 있는 실란커플링제 또는 그 가수분해물을 이용하여 저굴절율층(5)이 형성되기 때문에, 하드코트막(3)과의 사이에 높은 밀착성이 확보되어, 성형 불량을 유효하게 방지할 수 있다.
이러한 실란커플링제 또는 그 가수분해물(b)의 구체예로서는, 전술한 화학식(1)의 화합물 또는 그 가수분해물, 즉, 하드코트막(3)의 형성에 사용되는 실란커플링제 또는 그 가수분해물(B)에서 예시한 것과 같은 것을 들 수 있다.
저굴절율층(5)의 형성에 사용되는 금속 킬레이트 화합물(c)은, 가교 구조를 도입함으로써, 저굴절율층(5)을 치밀한 것으로 하여, 하드코트막(3)과의 밀착성을 높인다고 하는 것이다. 즉, 이러한 금속 킬레이트 화합물을 사용하지 않고서 저굴절율층(5)을 형성하면, 이 저굴절율층(5)의 치밀성이 저하되기 때문에, 경도 등의 특성 저하에 의해, 내상처성 등이 저하할 뿐만 아니라, 하드코트막(3)과의 밀착성이 저하되어, 박리 등이 생기기 쉽게 되는 경우도 있다.
따라서, 이러한 금속 킬레이트 화합물(c)로 하더라도, 하드코트막(3)의 형성에 사용되고 있는 금속 킬레이트 화합물(D)에서 예시되어 있는 것과 같은 것이 사용되며, 예컨대, 전술한 Ti 킬레이트 화합물, Zr 킬레이트 화합물, Al 킬레이트 화합물이 적합하고, 가장 바람직하게는, 하드코트막(3)의 형성에 사용하는 금속 킬레이트 화합물과 완전히 같은 것이 사용된다.
본 발명에 있어서, 상기한 실란커플링제 또는 그 가수분해물(b)과 금속 킬레이트 화합물(c)은, 경도 등의 특성을 필요 이상으로 증대시키지 않고, 적절한 치밀성을 얻을 수 있다고 하는 점에서, 60/99 내지 40/1의 중량비(b/c)로 사용된다. 이 화합물 또는 그 가수분해물(b)(즉, 바인더)의 사용량이 적으면, 중공 실리카 졸(a)을 안정적으로 유지하기가 곤란하게 되어, 성형시 등에 있어서 상기 실리카 졸(a)의 탈락 등이 생기기 쉽게 될 뿐만 아니라, 하드코트막(3)과의 밀착성도 손상되어, 저굴절율층(5)의 박리 등을 일으키기 쉽게 되어 버리고, 이 화합물 또는 그 가수분해물(b)의 사용량이 지나치게 많으면, 금속 킬레이트 화합물(c)의 사용량이 적어지는 결과, 저굴절율층(5)의 치밀성이 손상되고, 하드코트막(3)과의 밀착성이 저하되어, 저굴절율층(5)의 박리 등을 일으키기 쉽게 되어 버리기 때문이다.
<다른 층 구조>
이와 같이, 본 발명의 투명 수지 기판에서는, 도 1에 도시되어 있는 것과 같이, 투명한 하지 시트(1) 위에 특정 조성의 하드코트막(3)이 형성되고, 또한, 하드코트막(3) 위에, 상술한 저굴절율층(5)을 형성함으로써, 인서트 성형시의 성형 불량을 유효하게 방지할 수 있게 되지만, 그 층 구조는 도 1에 도시하는 양태에 한정되는 것은 아니다. 즉, 하드코트막(3) 위에 형성하는 반사방지막의 일부의 층으로서, 이 저굴절율층(5)을 형성할 수도 있다.
예컨대, 도 2에 도시되어 있는 것과 같이, 전술한 하지 시트(1) 위에 형성되어 있는 하드코트막(3) 위에, 다층 구조의 반사방지막(10)을 형성할 수 있고, 이 반사방지막(10) 중의 하나의 층이 상술한 저굴절율층(5)으로 되어 있다.
즉, 도 2의 예에서는, 반사방지막(10)의 최상층이, 전술한 중공 실리카 졸(a)에 의해 굴절율이 1.44 이하로 조정된 저굴절율층(5)으로 되어 있고, 그 아래에, 굴절율이 1.6 이상인 고굴절율층(7)이 형성되고, 고굴절율층(7)과 하드코트막(3) 사이에는, 굴절율이 저굴절율층(5)과 고굴절율층(7)의 중간으로 조정된 중굴절율층(9)이 형성되어 있어, 이들 3층에 의해서 반사 방지가 이루어지게 되어 있다.
상기와 같은 반사방지막(10)에 있어서, 저굴절율층(5)은 전술한 대로의 조성및 두께를 갖는 것인데, 굴절율이 1.6 이상인 고굴절율층(7) 및 중간인 굴절율(통상, 1.50~1.7)을 갖는 중굴절율층(9)도, 저굴절율층(3)과 동정(同定)의 두께, 구체적으로는 50 내지 200 nm의 두께를 갖는 것이다.
또한, 고굴절율층(7) 및 중굴절율층(9)은, 소정의 굴절율(즉, 저굴절율층(5)보다도 높은 굴절율)을 확보하기 위해서, 콜로이드형 금속 산화물(금속 산화물 졸)을 함유하고 있고, 또한 금속 산화물 미립자를 결착 고정하는 바인더 성분으로서, 실란커플링제 또는 그 가수분해물이나 금속 산화물을 형성하는 금속 알콕시드, 하드코트막이나 저굴절율층의 형성에 사용되고 있는 금속 킬레이트 화합물을 배합할 수 있다.
상기한 콜로이드형 금속 산화물(금속 산화물 졸)로서는, 산화티탄 졸, 알루미나 졸, 산화지르코늄 졸, 산화안티몬 졸 등을 들 수 있지만, 굴절율의 조정이라는 점이나 유기 용매에의 분산성, 코팅액의 안정성, 나아가서는 플라스틱 기판에의 밀착성을 고려하면, 루틸형의 산화티탄(티타니아) 졸, 산화지르코늄 졸이 바람직하다.
또한, 실란커플링제 또는 그 가수분해물로서는, 전술한 식(1)의 실란커플링제 또는 그 가수분해물을 예로 들 수 있고, 특히, 다른 층에 대한 밀착성이나 내용제성이 우수하다고 하는 관점에서, 하기 식(2):
Ep-CH-CH2-O-R-Si(OR1)3 (2)
(식에서, Ep는 에폭시기이고,
R은 알킬렌기이고,
R1은 알킬기 또는 알콕시알킬기이다)
으로 나타내어지는 에폭시실란계 커플링제 또는 그 가수분해물, 예컨대 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 화합물 또는 그 가수분해물이 적합하다.
상기한 금속 알콕시드로서는, 하기 식(3):
M(OR)m (3)
(식에서, M은 3가 또는 4가의 금속을 나타내고,
R은 탄소수 1~5의 탄화수소기를 나타내고,
m은 금속 M의 원자가(3 또는 4)를 나타낸다)
으로 나타내어지는 것이 바람직하고, 예컨대, 티탄, 알루미늄, 지르코늄, 주석의 알콕시드가 적합하다.
구체적으로는, 티탄메톡사이드, 티탄에톡사이드, 티탄n-프로폭사이드, 티탄이소프로폭사이드, 티탄n-부톡사이드, 티탄이소부톡사이드, 알루미늄에톡사이드, 알루미늄이소프로폭시드, 알루미늄부톡사이드, 알루미늄t-부톡사이드, 주석t-부톡사이드, 지르코늄에톡사이드, 지르코늄n-프로폭사이드, 지르코늄이소프로폭사이드, 지르코늄n-부톡사이드 등을 들 수 있다.
또한, 금속 킬레이트 화합물로서는, 하드코트막(3)이나 저굴절율층(5)의 형성에 사용되고 있는 것과 동종의 것을 이용하는 것이 적합하다.
더욱이, 상기한 고굴절율층(7) 및 중굴절율층(9)(특히 고굴절율층(9))에는, 굴절율을 높이기 위해서, 금속 할라이드를 함유시킬 수도 있다.
이 금속 할라이드로서는, 금속 염화물, 금속 브롬화물이 사용되고, 한층 더 구체적으로는, 삼염화안티몬, 사염화지르코늄, 삼염화비스무트, 사브롬화티탄, 사염화게르마늄, 삼브롬화안티몬, 오염화탄탈 등을 들 수 있지만, 고굴절율화라는 점이나 유기 용매에의 분산성, 코팅액의 안정성을 고려하면, 삼염화안티몬, 삼염화비스무트, 삼브롬화안티몬이 바람직하다.
더욱이, 상기한 고굴절율층(7) 및 중굴절율층(9)에는, 바인더로서 열경화성 수지를 적절하게 함유시킬 수 있다. 이러한 열경화성 수지로서는, 페놀-포름알데히드 수지, 푸란-포름알데히드 수지, 크실렌-포름알데히드 수지, 케톤-포름알데히드 수지, 요소포름알데히드 수지, 멜라민-포름알데히드 수지, 알키드 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 비스말레이미드 수지, 트리알릴시아누레이트 수지, 열경화성 아크릴 수지, 실리콘 수지, 우레탄 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지는 단독으로도 2종 이상의 조합으로도 사용된다.
본 발명에 있어서, 고굴절율층(7) 및 중굴절율층(9)의 각 성분의 함유 비율은, 소정의 굴절율을 확보할 수 있도록 설정되는데, 대표적인 예를 나타내면 다음과 같다.
(한편, 상기한 중굴절율층(9)은 경우에 따라서는 생략되는 경우도 있다)
고굴절율층(7)의 조성;
금속 산화물 졸: 30~90 중량%
실란커플링제의 가수분해물: 10~50 중량%
금속 알콕시드 혹은 금속 킬레이트 화합물: 1~15 중량%
열경화성 수지: 20 중량% 이하
중굴절율층(9)의 조성;
금속 산화물 졸: 10~60 중량%
실란커플링제의 가수분해물: 10~50 중량%
금속 알콕시드 혹은 금속 킬레이트 화합물: 0.5~10 중량%
열경화성 수지: 40 중량% 이하
<투명 수지 기판의 제조>
본 발명에 있어서, 상술한 구조의 투명 수지 기판은, 처음에, 압출 성형 등의 수단에 의해, 소정 두께의 하지 시트(1)를 제작하고, 이 위에 순차적으로 하드코트막(3) 및 저굴절율층(5)(혹은 반사방지막(10))을 형성함으로써 제조된다.
하드코트막(3)이나 저굴절율층(5)(혹은 반사방지막(10))의 형성은, 전술한 조성 비율이 되도록 각 성분을 소정의 용매에 혼합하여 코팅액을 형성하고, 이 코팅액을 소정 두께로 도포하여, 경화시킴으로써 행해질 수 있다.
한편, 각 코팅액의 조제에 사용되는 유기 용매로서는, 금속 산화물 겔이나 바인더 등과의 상용성이 있는 것이 사용되며, 예컨대, 메탄올, 이소프로판올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 초산이소부틸 등의 에스테르류, 톨루엔 등의 방향족 탄화수소류가 사용된다. 특히, 실리카 졸이나 티탄 산화물 졸은, 알코올계 용매에 분산시킨 형태로 시판되어 사용되기 때문에, 특히 알코올계 용매가 적합하다. 이들 용제를 이용하여 조제되는 각 코팅액의 고형분 농도는, 도포성 등의 관점에서, 통상 0.1~50 중량%이다.
또한, 각 코팅액에는, 수지 성분 등의 경화를 위해, 라디칼 중합개시제, 예컨대, 케톤퍼옥사이드, 퍼옥시케탄올, 하이드로퍼옥사이드, 디알킬퍼옥사이드, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시디카보네이트, 퍼옥시에스테르 등의 유기 과산화물이 배합된다. 또한, 하지 시트(1)의 열변형을 방지하기 위해서, 광중합에 의해 경화를 할 수도 있으며, 이 경우에는 광중합개시제를 배합할 수 있다. 이러한 광중합개시제의 예로서는, 이것에 한정되는 것은 아니지만, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 아세토페논, 벤조페논, 크산톤, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인프로필에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온 등을 예시할 수 있다.
또한, 각 코팅액에는, 예컨대 실란커플링제나 금속 알콕시드의 가수분해를 촉진하기 위해서, 염산, 황산, 질산, 초산 등의 산의 수용액을 첨가할 수도 있다.
상기와 같은 라디칼 중합개시제 및 산 수용액은, 그 자체 공지된 양으로 각종 코팅액에 배합할 수 있다.
상기한 각 코팅액의 도포 방법으로서는, 박막 형성이 용이한 디핑법을 적합하게 사용할 수 있다. 도포된 코팅액의 박막은, 일반적으로 70~140℃ 정도의 온도에서 열처리하고, 또한, 적절하게 광조사하여 경화시킴으로써, 순차적으로 하드코트막(3), 저굴절율층(5) 혹은 반사방지막(10)(중굴절율층(7), 고굴절율층(9) 및 저굴절율층(5))이 형성된다.
이와 같이 하여 형성된 투명 수지 기판은, 예컨대 소정의 성형형 내에 배치되어, 가열하면서 형면에 맞춰 부형하고, 이어서, 소정의 수지를 주입하여 경화함으로써, 표면에 하드코트막(및 반사방지막)을 구비한 소정 형상의 성형체를 얻을 수 있다.
한편, 주입하는 수지는, 하지 시트(1)에 대하여 양호한 열융착성을 갖는 투명한 열가소성 수지, 예컨대 폴리카보네이트 수지, 아크릴계 수지이다.
본 발명의 투명 수지 기판에 있어서는, 인서트 성형할 때에 하드코트막이나 반사방지막의 균열 등이 유효하게 방지되어, 성형 불량에 의한 수율의 저하를 피하여, 높은 생산성을 확보할 수 있다.
이 인서트 성형용 투명 수지 기판은, 예컨대 CRT, LCD, 플라즈마 디스플레이 등의 광표시면의 전면 패널 등의 성형에 적용할 수 있다.
실시예
본 발명의 우수한 효과를 다음의 실험예에 의해 설명한다.
또한, 이하의 실험예에 있어서의 측정은 다음 방법에 의해 행해졌다.
(1) 전광선 투과율
니혼분코(주) 제조 V-550+적분구를 사용하여, 주사 속도 1000 nm/min으로, 파장 780~380 nm 범위에 있어서의 최고 투과율값을 측정하여, 전광선 투과율값으로 했다.
(2) 반사율
전광선 투과율과 동일한 시험기를 이용하여, 같은 조건 하에서, 최하점(기판 표면)에 있어서의 반사율을 측정했다.
(3) 신장율
0.5 mm 기재의 한 면에 반사방지막(하드코트막을 포함함)을 도포하고, 기재 연화 온도에서 약 30초 열을 가하여, R이 달린 90° 굽힘 지그로 구부렸다. 크랙이 들어가지 않는 경우의 R값으로부터 신장율을 계산했다.
(4) 경도
요시미츠세이키 제조 경도계 C-2210를 이용하여, 연필(미쓰비시엔피츠주식회사 제조 Uni)로 경도를 측정했다. 경도는 연필 경도로 나타내어진다. 이 경도가 딱딱할수록 내찰상성이 양호하다.
(5) 내찰상성
스틸울(니혼스틸울(주) 제조 BONSTER No.0000)를 500 g/㎠의 압력으로 시험체 표면 위를 20 왕복했을 때의 상처의 발생 유무를 눈으로 확인하여 판정함으로써 내찰상성을 평가했다. 판정 기준은 다음과 같다. 또한, 본 시험에 있어서, 투과광은 투명 수지 기판을 투과한 빛을 의미하고, 반사광은 투명 수지 기판 표면에서 반사한 빛을 의미한다.
◎: 투과·반사광, 어느 쪽을 관찰하더라도 상처는 확인되지 않았다
○: 투과광을 관찰하면 상처가 여러 개 확인되었지만, 반사광에서는 확인되지 않았다
△: 투과·반사광, 어느 쪽을 관찰하더라도 여러 개의 상처가 확인되었다
×: 투과·반사광, 어느 쪽을 관찰하더라도 10개 이상의 상처가 확인되었다
(6) 열부형성(熱付形性)
성형 전에 115℃에서 60초 가열함으로써 열부형을 행할 때의 크랙의 발생 유무를 관찰했다.
○: 크랙이 없고 열부형 가능
×: 크랙이 발생
(7) 낙구 시험
각 실시예 또는 비교예에서 얻어진 투명 수지 기판을 100 mm각으로 절단하고, 100 mm각의 센터에 φ50, 깊이 10 mm의 구멍이 뚫려 있는 지지대 위에 얹고, 그 기판의 중심에 130 g의 철구를 200 mm 높이에서 떨어뜨려 기판이 깨어지는지 여부를 평가했다.
○: 기판 균열 없음
×: 기판 균열 발생
<실시예 1>
하지 시트로서 폴리카보네이트/폴리메틸메타크릴레이트 적층 시트를 준비했다. 이 하지 시트의 사양은 다음과 같았다.
하지 시트;
두께: 500 ㎛(PC: 440 ㎛, PMMA: 60 ㎛)
하드코트막 형성 측면: 폴리메틸메타크릴레이트
전광선 투과율: 91%
하기 처방에 의해 하드코트막용 코팅액을 조제했다(표 1 참조). 괄호 내에, 우레탄 아크릴레이트(A) 100 중량부당 조성을 나타냈다.
한편, 유기 용매로서는 메틸이소부틸케톤과 이소프로판올을 이용하고, 하기 처방 중의 유기 용매량에는, 실리카 졸에 사용된 분산매의 이소프로판올의 양이 포함되어 있었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) 지방족 유기 이소시아네이트계 2작용 아크릴레이트
(이하, AfOI2FA) 7.5 g(5 중량부)
(A2) 지방족 유기 이소시아네이트계 4작용 아크릴레이트
(이하, AfOI4FA) 42.5 g(95 중량부)
(A3) γ-글리시독시프로필트리메톡시실란
(이하, GPTMS) 30.0 g(20 중량부)
(C) 입경 10 nm 중실 실리카 졸
(이하, 10 nmSSS)(굴절율 1.48) 60.0 g(40 중량부)
(D) 지르코늄디부톡시비스(에틸아세트아세테이트)
(이하, ZDBB(EAA)) 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
상기한 하드코트액을 상기 하지 시트(1)의 표면에 도포하여, 가열 및 자외선 조사에 의해, 두께가 2 ㎛인 하드코트막을 형성했다.
이어서, 하기 처방에 의해, 저굴절율층용 코팅액을 조제했다(표 1 참조). 괄호 안에 이 저굴절율층의 조성을 나타냈다.
한편, 실리카 졸 등의 졸의 배합량은 전부 고형분량(즉, 용매를 제외한 양)으로 나타내고 있다.
또한, 유기 용매로서는 메틸이소부틸케톤을 이용하고, 하기 처방 중의 유기 용매량에는, 실리카 졸에 사용된 분산매의 이소프로판올의 양이 포함되어 있다.
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 입경 60 nm 중공 실리카 졸
(이하, 60 nmHSS)(굴절율 1.25) 14.0 g(50 중량부)
(b) GPTMS 8.4 g(30 중량부)
(c) ZDBB(EAA) 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 저굴절율층용 코팅액을 상기 하드코트막 상에 도포하고, 가열에 의해, 저굴절율층을 형성하여, 인서트 성형용 투명 수지 기판을 얻었다. 이 저굴절율층의 두께는 100 nm, 굴절율은 1.38이었다.
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 전광선 투과율, 반사율, 신장율, 경도, 내찰상성 및 열부형성을 전술한 방법으로 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 2>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.4였다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 105.0 g(70 중량부)
(A2) AfOI4FA 45.0 g(30 중량부)
(B) 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란
(이하, APTMS) 30.0 g(20 중량부)
(C) 입경 12 nm 중실 실리카 졸
(이하, 12 nmSSS)(굴절율 1.48) 60.0 g(40 중량부)
(D) 알킬아세토아세테이트알루미늄디이소프로필레이트
(이하, AAAADI) 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 입경 50 nm 중공 실리카 졸
(이하, 50 nmHSS)(굴절율 1.3) 14.0 g(50 중량부)
(b) APTMS 8.4 g(30 중량부)
(c) AAAADI 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 3>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.5이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.38이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) AfOI4FA 105.0 g(70 중량부)
(B) GPTMS 37.5 g(25 중량부)
(C) 10 nmSSS 1.5 g(1 중량부)
(D) 알루미늄트리스아세틸아세토네이트
(이하, ATAA) 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 796.0 g
초산 수용액 8.6 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 60 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) GPTMS 13.86 g(49.5 중량부)
(c) ATAA 0.14 g(0.5 중량부)
유기 용매 968.8 g
초산 수용액 3.2 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 4>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.4였다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) 지환족 유기 이소시아네이트계 3작용 아크릴레이트
(이하, AcOI3FA) 45.0 g(30 중량부)
(A2) 지환족 유기 이소시아네이트계 4작용 아크릴레이트
(이하, AcOI4FA) 105.0 g(70 중량부)
(B) GPTMS 1.5 g(1 중량부)
(C) 10 nmSSS 67.5 g(45 중량부)
(D) 지르코늄테트라아세틸아세토네이트
(이하, ZTAA) 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 774.2 g
초산 수용액 0.4 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 50 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) GPTMS 13.86 g(49.5 중량부)
(c) ZTAA 0.14 g(0.5 중량부)
유기 용매 968.8 g
초산 수용액 3.2 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 5>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.38이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AcOI3FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) AcOI4FA 105.0 g(70 중량부)
(B) GPTMS 37.5 g(25 중량부)
(C) 10 nmSSS 67.5 g(45 중량부)
(D) ZTAA 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 730.0 g
초산 수용액 8.6 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 60 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) GPTMS 13.86 g(49.5 중량부)
(c) ZTAA 0.14 g(0.5 중량부)
유기 용매 968.8 g
초산 수용액 3.2 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 6>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.46이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) 지방족 유기 이소시아네이트계 6작용 아크릴레이트
(이하, AfOI6FA) 105.0 g(70 중량부)
(B) 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란
(이하, (ECH)ETMS) 30.0 g(20 중량부)
(C) 10 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) ZDBB(EAA) 0.15 g(0.1 중량부)
유기 용매 748.05 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 60 nmHSS 2.8 g(10 중량부)
(b) (ECH)ETMS 15.4 g(55 중량부)
(c) ZDBB(EAA) 9.8 g(35 중량부)
유기 용매 968.5 g
초산 수용액 3.5 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
<실시예 7>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.47이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) AfOI6FA 105.0 g(70 중량부)
(B) GPTMS 30.0 g(20 중량부)
(C) 12 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) ZDBB(EAA) 4.5 g(3 중량부)
유기 용매 743.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 50 nmHSS 2.8 g(10 중량부)
(b) GPTMS 24.92 g(89 중량부)
(c) ZDBB(EAA) 0.28 g(1 중량부)
유기 용매 966.3 g
초산 수용액 5.7 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 8>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.38이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 15.0 g(10 중량부)
(A2) AfOI4FA 135.0 g(90 중량부)
(B) GPTMS 30.0 g(20 중량부)
(C) 10 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) ZDBB(EAA) 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 60 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) GPTMS 8.4 g(30 중량부)
(c) ZDBB(EAA) 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 9>
하드코트막용 코팅액의 처방 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 1 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49이고, 저굴절율층의 굴절율은 1.4였다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 90.0 g(60 중량부)
(A2) AfOI4FA 60.0 g(40 중량부)
(B) APTMS 30.0 g(20 중량부)
(C) 12 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) AAAADI 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 50 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) APTMS 8.4 g(30 중량부)
(c) AAAADI 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 1>
하드코트막용 코팅액 조정시에, AfOI2FA(A1)를 이용하지 않고, AfOI4FA(A2)만을 150 g 이용한 것 외에는 실시예 1과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 즉, 이 하드코트막의 배합 조성에 있어서, A1/A2는 0/100이었다. 또한, 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 1과 마찬가지로, 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 2>
하드코트막용 코팅액 조정시에, AfOI2FA(A1)를 120 g, AfOI4FA(A2)을 30 g 사용하고, 또한, 12 nmSSS가 아니라 10 nmSSS(C)를 사용한 것 외에는 실시예 2와 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 즉, 이 하드코트막의 배합 조성에 있어서, A1/A2는 80/20이며, 중실 실리카 졸(C)은 40 중량부였다. 또한, 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 2와 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 3>
하드코트막용 코팅액 조정시에, GPTMS(B)를 이용하지 않은 것 외에는 실시예 4와 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 4와 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 4>
하드코트막용 코팅액 조정시에, GPTMS(B)를 60 g(즉, 40 중량부) 사용한 것 외에는 실시예 4와 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 4와 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 5>
하드코트막용 코팅액 조정시에, 10 nmSSS(C)를 이용하지 않은 것 외에는 실시예 3과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.5였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 3과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 6>
하드코트막용 코팅액 조정시에, 10 nmSSS(C)를 82.5 g(즉, 55 중량부) 이용한 것 외에는 실시예 3과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 3과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 7>
하드코트막용 코팅액을 조정할 때에, ZDBB(EAA)(D)를 이용하지 않은 것 외에는 실시예 6과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 형성된 하드코트막의 굴절율은 1.49였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 6과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 8>
저굴절율층의 처방에 있어서 50 nmHSS(a)를 15.4 g, APTMS(b)을 7 g 배합한 것 외에는 실시예 2와 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 즉, 이 저굴절율층의 배합 조성에 있어서, 저굴절율 중공 실리카 졸(a)은 55 중량부, 실란커플링제의 가수분해물(b)은 25 중량부였다. 형성된 저굴절율층의 굴절율은 1.39였다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 2와 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<비교예 9>
저굴절율층의 처방에 있어서 50 nmHSS(a)를 1.4 g, APTMS(b)을 26.6 g 배합하고, AAAADI(c)를 배합하지 않은 것 외에는 실시예 2와 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다(표 2 참조). 즉, 이 저굴절율층의 배합 조성에 있어서, 저굴절율 중공 실리카 졸(a)은 5 중량부, 실란커플링제의 가수분해물(b)은 95 중량부였다. 형성된 저굴절율층의 굴절율은 1.47이었다. 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 2와 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
<실시예 10>
하기 처방에 의해 하드코트막용 코팅액을 조제했다(표 4 참조). 괄호 안에 우레탄 아크릴레이트(A) 100 중량부당의 조성을 나타냈다.
한편, 유기 용매로서는 메틸이소부틸케톤을 이용하고, 하기 처방 중의 유기 용매량에는, 실리카 졸에 사용된 분산매의 이소프로판올의 양이 포함되어 있다.
상기 하드코트액을, 실시예 1과 동일한 하지 시트(1)의 표면에 도포하고, 가열 및 자외선 조사에 의해, 두께가 2 ㎛인 하드코트막을 형성했다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) AfOI6FA 105.0 g(70 중량부)
(B) GPTMS 30.0 g(20 중량부)
(C) 10 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) ZDBB(EAA) 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
하기 처방에 의해, 중굴절율층용 코팅액을 조제했다(표 4 참조). 괄호 안에 이 중굴절율층의 조성을 나타냈다.
한편, 유기 용매로서는 메틸이소부틸케톤을 이용하고, 하기 처방 중의 유기 용매량에는, 지르코니아 졸에 사용된 분산매의 이소프로판올의 양이 포함되어 있다.
상기 코팅액을 상기 하드코트막 상에 도포하고, 가열에 의해, 두께가 85 nm이고, 굴절율이 1.62인 중굴절율층을 형성했다.
지르코니아 졸(금속 산화물 졸)(굴절율 1.9) 15.0 g(30 중량부)
GPTMS(실란커플링제)의 가수분해물 33.5 g(67 중량부)
ZDBB(EAA)(금속 킬레이트 화합물) 1.5 g(3 중량부)
유기 용매 942.4 g
초산 수용액 7.6 g
이어서, 하기 처방에 의해, 고굴절율층용 코팅액을 조제했다(표 4 참조). 괄호 안에 이 고굴절율층의 조성을 나타냈다.
한편, 유기 용매로서는 이소프로판올을 이용하고, 하기 처방 중의 유기 용매량에는, 산화티탄 졸에 사용된 분산매의 메틸이소부틸케톤의 양이 포함되어 있었다.
상기 코팅액을 상기 중굴절율층 상에 도포하고, 가열에 의해, 두께가 80 nm이고, 굴절율이 1.73인 고굴절율층을 형성했다.
산화티탄 졸(금속 산화물 졸)(굴절율 1.98) 28.9 g(85 중량부)
GPTMS(실란커플링제)의 가수분해물 5.1 g(15 중량부)
ZDBB(EAA)(금속 킬레이트 화합물) 1.02 g(3 중량부)
유기 용매 963.78 g
초산 수용액 1.2 g
이어서, 하기 처방에 의해, 저굴절율층용 코팅액을 조제했다(표 4 참조). 괄호 안에 이 저굴절율층의 조성을 나타냈다.
한편, 하기 처방 중의 유기 용매량에는, 실리카 졸에 사용된 분산매의 이소프로판올의 양이 포함되어 있었다.
상기 코팅액을 상기 하드코트막 상에 도포하고, 가열에 의해, 두께가 100 nm이고, 굴절율이 1.38인 저굴절율층을 형성하여, 인서트 성형용 투명 수지 기판을 얻었다.
(a) 60 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) GPTMS 8.4 g(30 중량부)
(c) ZDBB(EAA) 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 내찰상성 시험 이외에는, 실시예 1과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 5에 나타냈다.
한편, 내찰상성 시험은, 스틸울의 왕복 횟수를 150회로 하여 실시했다.
<실시예 11>
하드코트막용 코팅액, 중굴절율층용 코팅액, 고굴절율층용 코팅액 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 10과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다. 하드코트막의 굴절율은 1.49, 중굴절율층의 굴절율은 1.62, 고굴절율층의 굴절율은 1.65, 저굴절율층의 굴절율은 1.38이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) AfOI6FA 105.0 g(70 중량부)
(B) APTMS 30.0 g(20 중량부)
(C) 12 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) AAAADI 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
중굴절율층용 코팅액 처방;
지르코니아 졸(금속 산화물 졸) 15.0 g(30 중량부)
APTMS(실란커플링제)의 가수분해물 33.5 g(67 중량부)
AAAADI(금속 킬레이트 화합물) 1.5 g(3 중량부)
유기 용매 942.4 g
초산 수용액 7.6 g
고굴절율층용 코팅액 처방;
지르코니아 졸(금속 산화물 졸)(굴절율 1.9) 18.7 g(55 중량부)
APTMS(실란커플링제)의 가수분해물 15.3 g(45 중량부)
AAAADI(금속 킬레이트 화합물) 1.02 g(3 중량부)
유기 용매 961.38 g
초산 수용액 3.6 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 60 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) APTMS 8.4 g(30 중량부)
(c) AAAADI 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 10과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 5에 나타냈다.
<실시예 12>
하드코트막용 코팅액, 중굴절율층용 코팅액, 고굴절율층용 코팅액 및 저굴절율층용 코팅액의 처방을 변경한 것 이외에는 실시예 10과 같은 식으로 인서트 성형용 투명 수지 기판을 제작했다. 하드코트막의 굴절율은 1.49, 중굴절율층의 굴절율은 1.64, 고굴절율층의 굴절율은 1.73, 저굴절율층의 굴절율은 1.38이었다.
하드코트막용 코팅액 처방;
(A1) AfOI2FA 45.0 g(30 중량부)
(A2) AfOI6FA 105.0 g(70 중량부)
(B) (ECH)ETMS 30.0 g(20 중량부)
(C) 12 nmSSS 60.0 g(40 중량부)
(D) ATAA 1.5 g(1 중량부)
유기 용매 746.7 g
초산 수용액 6.9 g
광중합개시제 4.9 g
중굴절율층용 코팅액 처방;
산화티탄 졸(금속 산화물 졸) 15.0 g(30 중량부)
(ECH)ETMS(실란커플링제)의 가수분해물 33.5 g(67 중량부)
ATAA(금속 킬레이트 화합물) 1.5 g(3 중량부)
유기 용매 942.4 g
초산 수용액 7.6 g
고굴절율층용 코팅액 처방;
산화티탄 졸(금속 산화물 졸) 28.9 g(85 중량부)
(ECH)ETMS(실란커플링제) 5.1 g(15 중량부)
ATAA(금속 킬레이트 화합물) 1.02 g(3 중량부)
유기 용매 963.78 g
초산 수용액 1.2 g
저굴절율층용 코팅액 처방;
(a) 60 nmHSS 14.0 g(50 중량부)
(b) (ECH)ETMS 8.4 g(30 중량부)
(c) ATAA 5.6 g(20 중량부)
유기 용매 970.1 g
초산 수용액 1.9 g
상기한 인서트 성형용 투명 수지 기판에 관해서, 실시예 10과 같은 식으로 각종 특성을 평가하여, 그 결과를 표 5에 나타냈다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
Figure pct00005
1: 하지 시트, 3: 하드코트막, 5: 저굴절율층, 7: 중굴절율층, 9: 고굴절율층, 10: 하드코트막

Claims (6)

  1. 투광성을 갖는 열가소 수지제 하지 시트와, 이 하지 시트의 한쪽의 표면에 형성된 하드코트막을 갖고 있는 투명 수지 기판에 있어서,
    상기 하드코트막은, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)를 포함하는 우레탄 아크릴레이트를 경화시켜 이루어지는 수지 성분(A) 100 중량부와, 1 내지 30 중량부의 하기 화학식(1);
    Rn-Si(OR1)4-n (1)
    (식에서, R은 알킬기 또는 알케닐기이고,
    R1은 알킬기, 알콕시알킬기, 아실옥시기 또는 할로겐 원자이고,
    n은 1 또는 2의 수이다)
    으로 나타내어지는 화합물 또는 그 가수분해물(B)과, 1 내지 50 중량부의 입경이 5~500 nm이고 굴절율이 1.44~1.5의 범위에 있는 실리카 졸(C)과, 0.1 내지 3 중량부의 금속 킬레이트 화합물(D)로 형성되어 있고,
    상기 하드코트막 상에는 저굴절율층이 형성되어 있고, 이 저굴절율층은, 입경이 10~150 nm이고 굴절율이 1.44 이하인 저굴절율 중공 실리카 졸(a)과, 상기 화학식(1)으로 나타내어지는 화합물 또는 그 가수분해물(b)과, 금속 킬레이트 화합물(c)로 형성되어 있고,
    상기 저굴절율층은, 상기 중공 실리카 졸(a)을 10 내지 50 중량%의 양으로 포함하면서, 상기 화합물 또는 그 가수분해물(b)과 상기 금속 킬레이트 화합물(c)을 60/99 내지 40/1의 중량비(b/c)로 함유하고 있는 것을 특징으로 하는 투명 수지 기판.
  2. 제1항에 있어서, 상기 투명 수지제 하지 시트는, 상기 하드코트막이 형성되는 쪽의 면이 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지에 의해 형성되어 있는 것인 투명 수지 기판.
  3. 제1항에 있어서, 상기 투명 수지제 하지 시트는 30 내지 1000 ㎛의 두께를 갖고 있고, 상기 하드코트막은 0.5 내지 10 ㎛의 두께를 갖고 있고, 상기 저굴절율층은 50 내지 200 nm의 두께를 갖고 있는 투명 수지 기판.
  4. 제1항에 있어서, 상기 하드코트막의 수지 성분(A)에 있어서의 우레탄 아크릴레이트는, 3작용 이하의 우레탄 아크릴레이트(A1)와 4작용 이상의 우레탄 아크릴레이트(A2)를, 2/98 내지 70/30의 중량비(A1/A2)로 함유하고 있는 것인 투명 수지 기판.
  5. 제1항에 있어서, 상기 하드코트막 상에는, 다층 구조의 반사방지막이 형성되어 있고, 이 반사방지막의 최상층이 상기 저굴절율층으로 되어 있는 투명 수지 기판.
  6. 제1항에 있어서, 인서트 성형에 사용되는 투명 수지 기판.
KR1020147011076A 2011-10-26 2011-10-26 투명 수지 기판 KR101597477B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2011/074703 WO2013061428A1 (ja) 2011-10-26 2011-10-26 透明樹脂基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140085463A true KR20140085463A (ko) 2014-07-07
KR101597477B1 KR101597477B1 (ko) 2016-02-24

Family

ID=48167295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147011076A KR101597477B1 (ko) 2011-10-26 2011-10-26 투명 수지 기판

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9149962B2 (ko)
JP (1) JP5745639B2 (ko)
KR (1) KR101597477B1 (ko)
CN (1) CN104023977B (ko)
MY (1) MY167693A (ko)
WO (1) WO2013061428A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170094179A (ko) * 2014-12-05 2017-08-17 리껭테크노스 가부시키가이샤 하드 코트 적층 필름

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6256074B2 (ja) * 2014-02-12 2018-01-10 日油株式会社 インサート成形用防眩性反射防止フィルム及びこれを用いた樹脂成形品
JP6276211B2 (ja) * 2014-05-30 2018-02-07 リケンテクノス株式会社 透明樹脂積層体
JP6369187B2 (ja) * 2014-07-14 2018-08-08 日油株式会社 インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及びこれを用いた樹脂成型品
WO2016043240A1 (ja) * 2014-09-17 2016-03-24 株式会社巴川製紙所 保護フィルム、フィルム積層体および偏光板
JP6153977B2 (ja) * 2014-10-02 2017-06-28 リケンテクノス株式会社 粘着フィルム
WO2017170246A1 (ja) 2016-03-30 2017-10-05 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 成形加飾用積層フィルム
EP3560707B1 (en) * 2016-12-22 2023-07-19 Fukuvi Chemical Industry Co., Ltd. Transparent resin substrate
US20190033491A1 (en) * 2017-07-28 2019-01-31 Ppg Industries Ohio, Inc. Multi-layer antireflective coated articles
CN111819059A (zh) * 2018-03-05 2020-10-23 柯尼卡美能达株式会社 成型品的制造方法
US11317507B2 (en) * 2018-03-09 2022-04-26 Arisawa Mfg. Co., Ltd. Laminate and method for manufacturing the same
JP2019164255A (ja) * 2018-03-20 2019-09-26 株式会社ダイセル 反射防止フィルム
WO2019202942A1 (ja) 2018-04-19 2019-10-24 フクビ化学工業株式会社 反射防止板
TWI667303B (zh) * 2018-08-02 2019-08-01 明基材料股份有限公司 硬塗層光學膜、具有此硬塗層光學膜的偏光板、及含此硬塗層光學膜及/或偏光板的影像顯示裝置
TWI684632B (zh) * 2018-08-02 2020-02-11 明基材料股份有限公司 抗反射膜、具此抗反射膜之偏光板、及含此抗反射膜及/或含具此抗反射膜之偏光板的影像顯示裝置
CN110818641B (zh) * 2018-08-07 2022-10-14 北京诺诚健华医药科技有限公司 哒嗪-3-甲酰胺类化合物、其制备方法及其在医药学上的应用
JP7199185B2 (ja) * 2018-09-12 2023-01-05 アイカ工業株式会社 成形用反射防止ハードコートフィルム
JP2019091071A (ja) * 2019-02-05 2019-06-13 東レフィルム加工株式会社 成型用積層フィルム
JP7389765B2 (ja) 2021-01-18 2023-11-30 フクビ化学工業株式会社 反射防止基板
WO2022191063A1 (ja) * 2021-03-11 2022-09-15 積水化学工業株式会社 コーティング剤作製キット、コーティング剤、電子基板及び電子部品モジュールの製造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1048001A (ja) 1996-08-07 1998-02-20 Yazaki Corp メータ用無反射パネルの製造方法
JP2002221602A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Fukuvi Chem Ind Co Ltd 耐液性に優れた反射防止膜
JP2007211218A (ja) 2006-02-13 2007-08-23 Aica Kogyo Co Ltd インサート成型用ハードコートフィルム
JP2007229999A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Jsr Corp 反射防止積層体
JP2009090523A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Nippon Soda Co Ltd ハードコートフィルム
JP2010024450A (ja) 2008-06-18 2010-02-04 Toyobo Co Ltd 成型用ハードコート用樹脂組成物

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0996702A (ja) * 1995-07-27 1997-04-08 Fukuvi Chem Ind Co Ltd 光学的材料
US6620493B2 (en) 2000-03-07 2003-09-16 Fukuvi Chemcial Industry Co Ltd Reflection-reducing film
JP2006035778A (ja) 2004-07-29 2006-02-09 Fukuvi Chem Ind Co Ltd 耐衝撃性樹脂積層板
US7990617B2 (en) * 2006-03-28 2011-08-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate comprising low-refractive index layer
US20090176077A1 (en) * 2006-03-31 2009-07-09 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body
JPWO2007142142A1 (ja) 2006-06-02 2009-10-22 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置
JP5230313B2 (ja) * 2008-09-10 2013-07-10 株式会社日本触媒 積層板および表示装置用前面板
WO2011102311A1 (ja) 2010-02-17 2011-08-25 フクビ化学工業株式会社 表示パネル用透明保護板および表示装置
US20140168776A1 (en) 2011-08-01 2014-06-19 Fukuvi Chemical Industry Co., Ltd. Antireflection film and antireflection plate

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1048001A (ja) 1996-08-07 1998-02-20 Yazaki Corp メータ用無反射パネルの製造方法
JP2002221602A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Fukuvi Chem Ind Co Ltd 耐液性に優れた反射防止膜
JP2007211218A (ja) 2006-02-13 2007-08-23 Aica Kogyo Co Ltd インサート成型用ハードコートフィルム
JP2007229999A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Jsr Corp 反射防止積層体
JP2009090523A (ja) * 2007-10-05 2009-04-30 Nippon Soda Co Ltd ハードコートフィルム
JP2010024450A (ja) 2008-06-18 2010-02-04 Toyobo Co Ltd 成型用ハードコート用樹脂組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170094179A (ko) * 2014-12-05 2017-08-17 리껭테크노스 가부시키가이샤 하드 코트 적층 필름

Also Published As

Publication number Publication date
CN104023977A (zh) 2014-09-03
WO2013061428A1 (ja) 2013-05-02
KR101597477B1 (ko) 2016-02-24
US20140248478A1 (en) 2014-09-04
JP5745639B2 (ja) 2015-07-08
CN104023977B (zh) 2016-01-06
JPWO2013061428A1 (ja) 2015-04-02
MY167693A (en) 2018-09-21
US9149962B2 (en) 2015-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101597477B1 (ko) 투명 수지 기판
JP6796997B2 (ja) 防眩性および反射防止性を有する透明基板用の中間積層体と透明基板の製造方法
US11498315B2 (en) Transparent resin substrate
JP4918101B2 (ja) 二層構造の耐スクラッチおよび耐摩耗被膜を含む光学物品、およびこれを生産する方法
TWI611920B (zh) 用於窗片之層合物、含有該層合物之窗片以及含有該層合物之顯示裝置
JP4380752B2 (ja) 反射防止積層体の製造方法
KR20140058565A (ko) 반사 방지막 및 반사 방지판
KR100676405B1 (ko) 반사 감소 필름
JP2005043749A (ja) 反射防止膜、反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置およびハードコート処理物品
JP2002221602A (ja) 耐液性に優れた反射防止膜
KR20160055655A (ko) 하드코팅층 형성용 조성물
TWI502034B (zh) 透明樹脂基板
JP6016397B2 (ja) フォトクロミックレンズの製造方法
JP7389765B2 (ja) 反射防止基板
JP2019191426A (ja) 光学部材
JPWO2013018187A1 (ja) 反射防止膜および反射防止板

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191226

Year of fee payment: 5