KR20160055655A - 하드코팅층 형성용 조성물 - Google Patents

하드코팅층 형성용 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20160055655A
KR20160055655A KR1020140155742A KR20140155742A KR20160055655A KR 20160055655 A KR20160055655 A KR 20160055655A KR 1020140155742 A KR1020140155742 A KR 1020140155742A KR 20140155742 A KR20140155742 A KR 20140155742A KR 20160055655 A KR20160055655 A KR 20160055655A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
composition
coat layer
forming
hard coat
Prior art date
Application number
KR1020140155742A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102314512B1 (ko
Inventor
안종남
김혜진
박영준
김원엽
윤호철
Original Assignee
에스케이이노베이션 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스케이이노베이션 주식회사 filed Critical 에스케이이노베이션 주식회사
Priority to KR1020140155742A priority Critical patent/KR102314512B1/ko
Publication of KR20160055655A publication Critical patent/KR20160055655A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102314512B1 publication Critical patent/KR102314512B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/65—Additives macromolecular
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/66—Additives characterised by particle size
    • C09D7/68—Particle size between 100-1000 nm
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2383/04—Polysiloxanes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

본 발명은 하드코팅층 형성용 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 가교제; 표면에 에폭시기를 포함하며 평균 입경이 1 내지 100㎚인 콜로이드 실리카; 중량평균분자량이 500 내지 30,000인 에폭시 실록산 수지; 및 광개시제를 포함함으로써, 현저히 개선된 경도를 갖고, 유연성이 우수하여 컬이 최소화된 하드코팅층을 형성할 수 있는 하드코팅층 형성용 조성물에 관한 것이다.

Description

하드코팅층 형성용 조성물 {COMPOSITION FOR MAKING HARD COATING LAYER}
본 발명은 하드코팅층 형성용 조성물에 관한 것이다.
최근 액정 표시 장치(liquid crystal display) 또는 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display) 등의 평판 표시 장치를 이용한 박형 표시 장치가 큰 주목을 받고 있다. 특히 이들 박형 표시 장치는 터치 스크린 패널(touch screen panel) 형태로 구현되어, 스마트폰(smart phone), 태블릿(tablet) PC 뿐만 아니라, 각종 웨어러블 기기(wearable device)에 이르기까지 휴대성을 특징으로 하는 각종 스마트 기기(smart device)에 널리 사용되고 있다.
이러한 휴대 가능한 터치 스크린 패널 기반 표시 장치들은 스크래치 또는 외부 충격으로부터 디스플레이 패널을 보호하고자 디스플레이 패널 위에 디스플레이 보호용 윈도우 커버를 구비하고 있으며, 대부분의 경우 디스플레이용 강화 유리를 윈도우 커버로 사용하고 있다. 디스플레이용 강화 유리는 일반적인 유리 보다 얇지만, 높은 강도와 함께 긁힘에 강하게 제작되어 있는 특징이 있다.
하지만 강화 유리는 무게가 무거워 휴대 기기의 경량화에 적합하지 못한 단점을 가지고 있을 뿐 아니라, 외부 충격에 취약하여 쉽게 깨지지 않는 성질(unbreakable)을 구현하기 어려우며, 일정 수준 이상 구부러지지 않아 구부리거나(bendable) 접을 수 있는(foldable) 기능을 가지는 휘는(flexible) 디스플레이 소재로서 적합하지 않다.
최근에는 유연성 및 내충격성을 확보하는 동시에 강화 유리에 상응하는 강도 또는 내스크래치성을 가지는 광학용 플라스틱 커버에 대한 검토가 다양하게 진행되고 있다. 일반적으로 강화 유리에 비해 유연성을 가지는 광학용 투명 플라스틱 커버 소재로는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리카보네이트(PC), 폴리이미드(PI), 폴리아라미드(PA)등이 있다. 하지만, 이들 고분자 플라스틱 기판의 경우, 디스플레이 보호용 윈도우 커버로 사용되는 강화 유리에 비해 경도 및 내스크래치성 측면에서 부족한 물성을 나타낼 뿐 아니라, 내충격성도 충분하지 못하다. 때문에 이들 플라스틱 기판에 복합 수지 조성물을 코팅함으로써 요구되는 물성들을 보완하고자 하는 다양한 시도가 진행되고 있다.
일반적인 하드 코팅의 경우, (메타)아크릴레이트((metha)acrylate) 또는 에폭시(epoxy) 등의 광경화형 관능기가 포함된 수지와 경화제 또는 경화 촉매 및 기타 첨가제로 이루어진 조성물을 이용하며, 특히 고관능기의 복합 수지의 경우, 이를 광학용 플라스틱 기재 필름 위에 코팅하여 경도 및 내스크래치성이 향상된 디스플레이 보호용 윈도우로의 사용이 가능하다.
하지만, 일반적인 (메타)아크릴레이트 또는 에폭시 고관능기 광경화형 복합 수지의 경우, 강화 유리에 상응하는 고경도를 구현하기 어려울 뿐만 아니라, 경화 시 수축에 의한 컬(curl) 현상이 크게 발생하고, 유연성 또한 충분하지 않아 플렉서블 디스플레이에 적용하기 위한 보호용 윈도우 기판으로는 적합하지 못한 단점이 있다.
한국공개특허 제2013-74167호에는 플라스틱 기판이 개시되어 있다.
한국공개특허 제2013-74167호
본 발명은 현저히 개선된 경도를 갖는 하드코팅층을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 우수한 유연성을 갖는 하드코팅층을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 컬링에 의한 불량이 발생하지 않는 하드코팅층을 형성할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.
1. 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 가교제;
표면에 에폭시기를 포함하며 평균 입경이 1 내지 200㎚인 콜로이드 실리카;
중량평균분자량이 500 내지 30,000인 에폭시 실록산 수지;
및 광개시제를 포함하는, 하드코팅층 형성용 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00001
(식 중에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이이고,
X는 단일 결합; 카르보닐기; 카르보네이트기; 에테르기; 티오에테르기; 에스테르기; 아미드기; 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기, 알킬리덴기, 또는 알콕실렌기; 탄소수 1 내지 6의 사이클로알킬렌기 또는 사이클로알킬리덴기; 또는 이들의 연결기;일 수 있음).
2. 위 1에 있어서, 상기 가교제는 하기 화학식 2 내지 화학식 10으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 하드코팅층 형성용 조성물:
[화학식 2]
Figure pat00002
[화학식 3]
Figure pat00003
[화학식 4]
Figure pat00004
[화학식 5]
Figure pat00005
[화학식 6]
Figure pat00006
[화학식 7]
Figure pat00007
[화학식 8]
Figure pat00008
[화학식 9]
Figure pat00009
[화학식 10]
Figure pat00010
(식 중에서, R은 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
l 및 m은 각각 독립적으로 1 내지 30의 정수임).
3. 위 1에 있어서, 상기 표면에 에폭시기를 포함하는 콜로이드 실리카는 하기 화학식 11 및 화학식 12로 표시되는 작용기 중 적어도 하나로 표면 처리된, 하드코팅층 형성용 조성물:
[화학식 11]
Figure pat00011
[화학식 12]
Figure pat00012
(식 중에서, A 및 B는 서로 독립적으로 2 내지 6의 직쇄 또는 분지쇄인 알킬렌기이고,
"*"은 결합손임).
4. 위 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 다분산지수(PDI)가 2.0 내지 4.0인, 하드코팅층 형성용 조성물.
5. 위 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 중량평균분자량이 1,000 내지 20,000인, 하드코팅층 형성용 조성물.
6. 위 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 중량평균분자량이 5,000 내지 15,000인, 하드코팅층 형성용 조성물.
7. 위 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 에폭시기 당량이 3.0 내지 6.3mmol/g인, 하드코팅층 형성용 조성물.
8. 위 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 아릴기를 갖는 모노머를 모노머 총 중량 중 10중량% 이하로 포함하여 중합된 것인, 하드코팅층 형성용 조성물.
9. 위 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 UV흡수 스펙트럼 피크가 200 내지 250nm 파장에서 최대 흡광도를 갖는, 하드코팅층 형성용 조성물.
10. 위 1에 있어서, 상기 가교제는 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함되는, 하드코팅층 형성용 조성물.
11. 위 1에 있어서, 상기 콜로이드 실리카는 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함되는, 하드코팅층 형성용 조성물.
12. 적어도 일면에 청구항 1 내지 11 중 어느 한 항의 하드코팅층 형성용 조성물로 형성된 하드코팅층을 구비한 기재를 포함하는, 하드코팅 필름.
13. 위 12에 있어서, 상기 하드코팅층은 85℃, 90% 상대습도 조건에서 1,000시간 방치 전후의 색도 b값의 변화율이 5% 이내인, 하드코팅 필름.
14. 위 12의 하드코팅 필름을 구비한 화상 표시 장치.
본 발명의 조성물은 현저히 개선된 경도를 갖는 하드코팅층을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 조성물은 유연성이 우수하며 경화 수축을 현저히 억제할 수 있는 하드코팅층을 형성할 수 있다. 이에 따라 본 발명의 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름은 별도의 컬 억제층을 구비하지 않고도 우수한 유연성을 확보할 수 있다.
도 1은 본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물로 형성된 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물로 형성된 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름에 대하여 굴곡 시험을 수행하는 일 구현예를 개략적으로 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물로 형성된 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름에 대하여 굴곡 시험을 수행하는 일 구현예를 개략적으로 도시한 것이다.
본 발명은 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 가교제; 표면에 에폭시기를 포함하며 평균 입경이 1 내지 200㎚인 콜로이드 실리카; 중량평균분자량이 500 내지 30,000인 에폭시 실록산 수지; 및 광개시제를 포함함으로써, 현저히 개선된 경도를 갖고, 유연성이 우수하여 컬이 최소화된 하드코팅층을 형성할 수 있는 하드코팅층 형성용 조성물에 관한 것이다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
<하드코팅층 형성용 조성물>
본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물은 가교제, 콜로이드 실리카, 에폭시 실록산 수지 및 광개시제를 포함한다.
가교제
본 발명에 따른 가교제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하며, 가교 결합을 촉진함과 동시에 조성물이 적정 점도를 유지할 수 있도록 하는 성분이다.
[화학식 1]
Figure pat00013
식 중에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이이고, X는 단일 결합; 카르보닐기; 카르보네이트기; 에테르기; 티오에테르기; 에스테르기; 아미드기; 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기, 알킬리덴기, 또는 알콕실렌기; 탄소수 1 내지 6의 사이클로알킬렌기 또는 사이클로알킬리덴기; 또는 이들의 연결기;이다.
본 명세서에 "단일 결합"이란, 다른 작용기 없이 직접 연결된 구조를 의미하며, 예를 들면 상기 화학식 1에 있어서, 두개의 고리형 에폭시 구조가 직접 연결된 것을 의미하며, 또한, 본 발명에서 "연결기"란, 전술한 치환기들이 2개 이상 연결된 것을 의미한다.
또한, 상기 화학식 1에 있어서, R1 및 R2의 치환 위치는 특별히 한정되지 않으나, 에폭시기가 연결된 탄소를 기준으로 3번 위치에 치환되는 것이 보다 바람직하다.
전술한 화합물들은 상기 화학식 1의 구조를 가짐으로써 분자 내에 고리형 에폭시 구조를 포함하면서도 조성물의 점도를 적정 범위로 낮출 수 있다. 이러한 점도 저하는 조성물의 도포성을 향상시킬 뿐 아니라, 에폭시기의 반응성을 더욱 향상시켜, 경화 반응을 촉진시킬 수 있는 것으로 판단된다. 또한 이들은 본 발명의 에폭시 실록산 수지와 반응을 통해 고경도 및 변색 방지를 구현할 수 있는 것으로 판단된다.
본 발명에서 사용되는 화합물의 구체적인 예를 들면, 하기 화학식 2 내지 10으로 표시되는 화합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들은 단독으로 또는 2 종이상 혼합하여 사용될 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00014
[화학식 3]
Figure pat00015
[화학식 4]
Figure pat00016
[화학식 5]
Figure pat00017
[화학식 6]
Figure pat00018
[화학식 7]
Figure pat00019
[화학식 8]
Figure pat00020
[화학식 9]
Figure pat00021
[화학식 10]
Figure pat00022
식 중에서, R은 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고, l 및 m은 각각 독립적으로 1 내지 30의 정수이다.
또한, 본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물은 본 발명에 따른 에폭시 화합물을 포함하여 열경화제를 따로 사용하지 않더라도 보다 우수한 경도 및 굴곡 특성을 갖도록 한다.
가교제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물의 함량이 상기 범위 내인 경우 조성물의 경화 효율을 더욱 개선하여 우수한 경도를 가지면서도 우수한 굴곡 특성 및 컬이 방지된 하드코팅층을 형성할 수 있다.
콜로이드 실리카
본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물은 표면에 에폭시기를 포함하며 평균 입경이 1 내지 200㎚인 콜로이드 실리카를 포함함으로써, 하드코팅층의 투명성을 우수하게 유지하면서도 경도를 현저히 개선한다.
본 발명에 따른 콜로이드 실리카는 표면에 에폭시기를 포함하여 후술할 에폭시 실록산 수지의 에폭시기와 콜로이드 실리카의 에폭시기가 공유 결합을 형성하여, 에폭시 실록산 수지와 콜로이드 실리카의 결합력이 강해져서 하드코팅층의 경도를 향상시킨다.
본 발명에 따른 콜로이드 실리카는 표면에 에폭시기를 포함하는 것이라면 특별히 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면 용매에 콜로이드 실리카를 분산시킨 콜로이드 용액이나 분산 용매를 함유하지 않는 미분말의 콜로이달 실리카 등을 에폭시기를 포함하도록 표면 처리한 것을 들 수 있다.
콜로이드 실리카를 분산시키는 용매로는 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-부탄올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 다가 알코올류 및 그 유도체; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트 등의 에스테르류; 톨루엔, 크실렌 등의 비극성 용매; 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴레이트류: 및 그 외의 유기 용제 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 표면에 에폭시기를 포함하는 콜로이드 실리카는 하기 화학식 11 및 화학식 12로 표시되는 작용기 중 적어도 하나로 표면 처리된 것 일 수 있다.
[화학식 11]
Figure pat00023
[화학식 12]
Figure pat00024
(식 중에서, A 및 B는 서로 독립적으로 2 내지 6의 직쇄 또는 분지쇄인 알킬렌기이고,
"*"은 결합손임).
콜로이드 실리카를 표면 처리하여 실리카 표면에 에폭시기를 포함하게 하는 방법으로는 특별한 제한 없이 공지된 방법을 사용할 수 있으며, 예를 들면 건식법과 습식법을 들 수 있다. 건식법은 교반기를 이용하여 실리카 분말을 고속으로 교반시키고 커플링제 등의 처리제와 균일하게 분산시켜 처리하는 방법이다. 습식법은 용제 등에 실리카를 분산시켜 슬러리화 한 것에 커플링제 등의 처리제를 첨가하여 교반하는 것으로 처리하는 방법이다
더욱 구체적으로는 콜로이드 실리카를 표면에 에폭시기를 포함하는 실란커플링제 등을 사용하여 실리카 표면에 에폭시기를 포함하도록 표면 처리하는 방법을 들 수 있다.
실란커플링제는 에폭시기를 포함하는 것이라는 특별한 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들면, 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 13]
R3Si(OR4)3
(식 중 R3은 에폭시기를 갖는 치환기이며, R4는 탄소수 1 내지 4의 알킬기임).
R3으로는, 에폭시기를 갖는 치환기이면 특히 제한은 없지만, 바람직하게는 글리시독시 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 에폭시 구조를 갖는 탄소수 5 내지 8의 사이클로알킬기로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 들 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, β-글리시독시 에틸기, γ-글리시독시 프로필기, γ-글리시독시 부틸기, β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 에틸기, γ-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 프로필기, β-(3,4-에폭시 사이클로 헵틸) 에틸기, β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 프로필기, β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 부틸기,β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 펜틸기 등을 들 수 있다. 보다 바람직하게는 글리시독시 탄소수 2 내지 3의 알킬기 또는 에폭시 구조를 갖는 탄소수 5 내지 6의 사이클로알킬기로 치환된 탄소수 1 내지 2의 알킬기를 들 수 있고 구체적으로는β-글리시독시 에틸기, γ-글리시독시 프로필기, β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 에틸기 등을 들 수 있다.
R3이 글리시독시 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 에폭시 구조를 갖는 탄노수 5 내지 8의 사이클로알킬기로 치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 에폭시기를 갖는 화합물을 단독 또는 혼합해 사용할 수 있다.
식(1)의 에폭시 기를 갖는 알콕시 규소 화합물에 있어서의 R2로서는(C1~C4) 알킬기가 들 수 있고 구체적으로는 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, s-부틸기, t-부틸기등 이며, 하기 축합 반응에 있어서의 반응성으로부터 메틸 기 또는 에틸기가 바람직하다.
화학식 13으로 표시되는 에폭시기를 갖는 실란커플링제로는, 예를 들면, β-글리시독시 에틸트리메톡시실란,β-글리시독시 에틸트리에톡시실란,γ-글리시독시 프로필트리메톡시실란,γ-글리시독시 프로필트리에톡시실란,β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 에틸트리메톡시실란,β-(3,4-에폭시 사이클로헥실) 에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
이들의 실란커플링제 화합물은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 콜로이드 실리카는 평균 입경이 1 내지 200㎚이며, 이러한 나노 크기의 실리카 입자를 포함함으로써 투과율에 영향을 미치지 않아 투명성을 우수하게 유지하면서도 경도를 개선시킬 수 있다. 평균 입경이 1nm 미만이면 경도 개선 효과가 미비하고, 200nm 초과이면 하드 코팅층의 이물로 작용될 수 있다. 콜로이드 실리카의 평균 입경은 바람직하게는 1 내지 100㎚일 수 있으며 보다 바람직하게는 5 내지 30㎚일 수 있다. 상기 범위에서 경도 개선 효과가 우수하면서 투명성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 콜로이드 실리카의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 콜로이드 실리카의 함량이 상기 범위 내인 경우 경도 개선 효과를 발휘하며 적절한 점도를 유지해 우수한 코팅성을 나타내며 우수한 굴곡 특성 및 컬이 방지된 하드코팅층을 형성할 수 있다.
에폭시 실록산 수지
본 발명의 에폭시 실록산 수지는 에폭시기를 갖는 실록산 수지를 의미하는 것으로서, 상기 에폭시기는 지환식 에폭시기, 지방족 에폭시기, 방향족 에폭시기 또는 이들의 혼합일 수 있으며, 바람직하게는 에폭시기를 갖는 실세스퀴옥산일 수 있다.
본 발명에 따른 에폭시 실록산 수지는 중량평균분자량이 500 내지 30,000이고, 고경도 및 공정성을 동시에 확보한다는 측면에서 바람직하게는 1,000 내지 20,000이고, 보다 바람직하게는 5,000 내지 15,000이다.
바람직하게는, 에폭시 실록산 수지의 다분산지수(PDI)는 2.0 내지 4.0일 수 있다. 다분산지수가 2.0 미만이면 하드 코팅층의 경도와 연성의 두 물성을 동시에 만족하기 힘들고, 4.0 초과이면 연성에 관한 물성이 과대 발현하게 된다.
본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물은 상기 특정 범위의 중량평균분자량 및 다분산지수를 갖는 에폭시 실록산 수지를 사용함으로써, 경도를 현저히 개선할 수 있다. 뿐만 아니라, 유연성도 현저히 개선되어 휨변형을 억제할 수 있다.
에폭시 실록산 수지의 에폭시기 당량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 3.0 내지 6.3 mmol/g일 수 있다. 에폭시기 당량이 상기 범위 내인 경우 중합시에 치밀한 가교를 이루어 경도를 현저히 개선할 수 있다.
본 발명에 따른 에폭시 실록산 수지는 물의 존재 하에 에폭시기를 갖는 알콕시 실란 단독으로 또는 에폭시기를 갖는 알콕시 실란과 이종의 알콕시 실란 간의 가수 분해 및 축합 반응을 통해 제조될 수 있다.
하기 반응식 1 내지 반응식 3은 물과 촉매의 존재 하에 알콕시 실란의 가수분해와 축합 반응을 개략적으로 나타낸 것이다.
[반응식 1]
Figure pat00025
[반응식 2]
Figure pat00026
[반응식 3]
Figure pat00027
상기 반응식 1 내지 3에서, R은 직쇄 또는 분지쇄인 탄소수 1 내지 7의 알킬기이고, R'은 에폭시기를 포함하는 직쇄 또는 분지쇄인 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 탄소수 3 내지 20의 알케닐기, 탄소수 2 내지 20의 알키닐기, C6 내지 20의 아릴기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐기, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기 및 알키드기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 작용기를 포함할 수 있다.
상기의 반응식 1은 출발 물질인 알콕시 실란의 알콕시기가 물에 의해 가수분해되어 수산화기를 형성하는 것을 나타낸 것이다. 이를 통해 형성된 수산화기는 반응식 2 또는 반응식 3에서 볼 수 있듯이 다른 실란의 수산화기 또는 알콕시기 간의 축합반응을 통하여 실록산 결합을 형성한다. 따라서 상기 반응 속도를 조절함으로써 최종적으로 형성되는 실록산 화합물의 중량평균분자량과 분자량 분포 (PDI)를 조절할 수 있으며, 반응 온도, 촉매의 양, 종류, 용매 등이 주요 요인이 될 수 있다.
상기의 반응식을 이용하여 중량평균분자량 500 내지 30,000, 다분산지수 2.0 내지 4.0의 에폭시 실록산 수지를 제조하기 위해 촉매를 사용하게 된다. 사용가능한 촉매로는 예를 들어 염산, 아세트산, 불화수소, 질산, 황산 클로로술폰산, 요오드산, 필로인산 등의 산 촉매; 암모니아, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 수산화바륨, 이미다졸, n-부틸아민, 디-n-부틸아민, 트리-n-부틸아민, 과염소산암모늄, 테트라메틸- 암모늄하드록사이드 등의 염기 촉매; 및 Amberite IRA-400, IRA-67 등의 이온교환수지가 있으며, 또한 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되어 사용될 수 있다.
촉매의 양은 특별히 제한되지 않으나, 산 촉매 및 염기 촉매의 경우 알콕시 실란 약 100 중량부에 대하여 약 0.0001 내지 약 0.01 중량부를 첨가할 수 있으며, 이온교환수지의 경우 알콕시 실란 약 100 중량부에 대해 약 1 내지 약 10 중량부를 첨가할 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
상기의 가수분해 및 축합반응은 상온에서 약 12 시간 내지 약 7 일 정도 교반에 의해 진행될 수 있으나, 반응을 촉진하기 위해서는 약 60℃ 내지 약 100℃에서 약 2 시간 내지 약 72 시간 동안 교반할 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
상기 반응식 1 내지 반응식 3에서 볼 수 있듯이, 반응이 일어나면 부산물인 알코올 및 물이 생성되는데 이를 제거함으로써 역반응을 줄이고 정반응을 유도할 수 있으며 이를 통해 반응속도를 조절할 수 있다. 또한 반응이 종료되었을 시 실록산 수지 내에 잔존하는 알코올 및 물은 감압 하에서 약 10 분 내지 약 60 분 동안 약 60℃ 내지 약 100℃의 조건을 가함으로써 제거될 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
본 발명의 일 구현예예 따른 에폭시 실록산 수지의 제조에 사용되는 에폭시기를 갖는 알콕시 실란은 하기 화학식 14로 예시될 수 있다:
[화학식 14]
R1 nSi(OR2)4-n
(식 중에서, R1은 탄소수 3 내지 6의 에폭시시클로알킬기 또는 옥시라닐기로 치환된 직쇄 또는 분지쇄인 탄소수 1 내지 6의 알킬기로서 산소로 중단될 수 있고,
R2는 직쇄 또는 분지쇄인 탄소수 1 내지 7의 알킬기이며,
n은 1 내지 3의 정수임).
상기 화학식 14로 표시되는 알콕시 실란은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본원의 일 구현예에 있어서, 상기 에폭시 실록산 수지는 에폭시기를 가지는 알콕시 실란 단독으로 제조될 수도 있지만 또한, 에폭시기를 가지는 알콕시 실란과 이종의 알콕시 실란 간의 가수분해와 축합반응을 통해서도 제조될 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.
이종의 알콕시 실란은 하기 화학식 15로 표시되는 알콕시 실란으로부터 1 종 이상 선택하여 사용할 수 있다:
[화학식 15]
R3 mSi(OR4)4-m;
(식 중, R3는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 탄소수 3 내지 20의 알케닐기, 탄소수 2 내지 20의 알키닐기, C6 내지 20의 아릴기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐기, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기 및 알키드기로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 작용기를 포함할 수 있고,
R4는 직쇄 또는 분지쇄인 탄소수 1 내지 7의 알킬기이고, m은 0 내지 3의 정수임).
상기 화학식 15로 표시되는 알콕시 실란은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 다이메틸다이메톡시실란, 다이메틸다이에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 다이페닐다이메톡시실란, 다이페닐다이에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필에틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, 3-아크릴옥시프로필메틸비스(트리메톡시)실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, N-(아미노에틸-3-아미노프로필)트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸-3-아미노프로필)트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 클로로프로필트리에톡시실란, 헵타데카플루오르데실트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
바람직하게는 본 발명에 따른 에폭시 실록산 수지는 아릴기를 갖는 모노머를 소량으로 포함하여 중합된 것일 수 있다. 예를 들면 아릴기를 갖는 모노머가 모노머 총 중량 중 10중량% 이하로 포함되어 중합된 것일 수 있다. 아릴기를 갖는 모노머의 함량이 모노머 총 중량 중 10중량% 초과이면 하드코팅층의 황변 현상이 발생할 수 있다.
본 발명에 따른 에폭시 실록산 수지는 황변 현상 억제를 위해 아릴기를 갖는 모노머를 소량으로, 가장 바람직하게는 아릴기를 갖는 모노머를 포함하지 않고 중합된 것일 수 있다.
또한, 상기 에폭시 실록산 수지는 UV흡수 스펙트럼 피크가 200 내지 250nm 파장에서 최대 흡광도를 보이는 것일 수 있다. 상기 파장에서 최대 흡광도를 보이는 경우, 본 발명의 조성물로 제조된 하드코팅층의 황변을 최소화 할 수 있다.
에폭시 실록산 수지의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함될 수 있다. 에폭시 실록산 수지의 함량이 상기 범위 내인 경우 경도 개선 효과를 발휘하며 우수한 굴곡 특성 및 컬이 방지된 하드코팅층을 형성할 수 있다.
광개시제
광개시제로는 상기 에폭시 실록산 수지 및 에폭시계 모노머의 중합을 개시할 수 있는 광양이온 개시제가 사용될 수 있다.
광양이온 개시제로는 예를 들면 오니움염 및/또는 유기금속 염 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어 다이아릴요오드니움 염, 트리아릴설포니움 염, 아릴디아조니움 염, 철-아렌 복합체 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
광개시제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 0.1 내지 20중량%로 포함될 수 있다. 광개시제의 함량이 상기 범위 내인 경우 조성물의 경화 효율을 우수하게 유지하고, 경화 후 잔존 성분으로 인한 물성 저하를 방지할 수 있다.
본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물은 용제를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 용제는 특별히 한정되지 않고 당 분야에 공지된 용제를 사용할 수 있으며, 예를 들면 알코올계(메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브 등), 케톤계(메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논 등), 헥산계(헥산, 헵탄, 옥탄 등), 벤젠계(벤젠, 톨루엔, 자일렌 등) 등이 사용될 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 용제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 10 내지 60중량%로 포함될 수 있다. 용제의 함량이 상기 범위 내인 경우 적당한 점도를 유지하여 작업성이 우수하고 코팅막의 두께 조절이 용이하며 공정 속도를 향상시킬 수 있다.
필요에 따라, 본 발명의 하드코팅층 형성용 조성물은 권취 효율, 내블로킹성, 내마모성, 내스크래치성의 개선을 위해 활제를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 활제의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스, 합성 왁스 또는 몬탄 왁스 등의 왁스류; 실리콘계 수지, 불소계 수지 등의 합성 수지류; 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 활제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 0.1 내지 5중량%로 포함될 수 있다. 함량이 상기 범위 내인 경우 우수한 내블로킹성, 내마찰성 및 내스크래치성을 부여하면서, 그 투명성도 탁월하게 유지할 수 있다.
이 외에도 필요에 따라서 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레블링제, 계면활성제, 윤활제, 방오제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
<하드코팅 필름>
또한, 본 발명은 적어도 일면에 상기 하드코팅층 형성용 조성물로 형성된 하드코팅층(120)을 구비한 기재(110)를 포함하는 하드코팅 필름(100)을 제공한다.
본 발명에 따른 기재(110)는 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하며, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리스티렌 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 또는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀계 수지, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리아라미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 술폰계 수지 등으로 제조된 기재일 수 있다. 이들 수지는 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
기재(110)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 10 내지 250㎛일 수 있다.
하드코팅층(120)은 상기 하드코팅층 형성용 조성물을 도포하고 경화시켜 형성되는 것으로서, 도포는 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 스핀코팅 등의 공지된 방법에 의해 수행될 수 있다.
경화의 경우, 그 방법은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 광경화나 열경화를 단독으로, 또는 광경화 이후 열경화, 열경화 이후 광경화하는 등의 방법으로 행해질 수 있다.
하드코팅층(120)의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 10 내지 100㎛일 수 있다. 두께가 상기 범위 내인 경우 컬링 현상이 거의 발생하지 않으며 우수한 경도를 갖는 하드코팅층(120)을 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 하드코팅층(120)은 상기 하드코팅층 형성용 조성물로 형성되어 현저히 개선된 경도를 갖는다. 그 경도는 개별 조성의 함량, 종류 등에 따라 달라질 수 있으나, 연필 경도가 5H 이상, 전술한 각각의 조성을 바람직한 함량으로 조합하여 사용하는 경우의 최대 9H 이상일 수 있다.
또한, 유연성이 현저히 개선되어 휨변형이 매우 적다.
뿐만 아니라, 고온고습 조건에 장시간 노출된 경우에도 황변 현상의 발생을 최소화 할 수 있다. 예를 들어, 85℃, 90% 상대 습도의 내습열 조건에서 1,000시간 방치 전후의 색도 b값의 변화율이 5% 이내일 수 있다.
본 발명의 하드코팅 필름(100)은 표면 경도가 매우 높고, 이와 동시에 우수한 유연성도 갖는 하드코팅층(120)을 구비하여, 강화 유리에 비해 가볍고 내충격성이 우수하므로, 디스플레이 패널 최외면의 윈도우 기판으로 바람직하게 사용될 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 하드코팅 필름(100)을 구비한 화상 표시 장치를 제공한다.
상기 하드코팅 필름(100)은 화상 표시 장치의 최외면 윈도우 기판으로 사용될 수 있고, 화상 표시 장치는 통상의 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치일 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다.
제조예 1
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 250 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.1 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 메틸에틸케톤(MEK) 100 mL를 첨가하여 60℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45 ㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 2
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 250 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.1 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 70℃에서 24시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터(Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 3
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.1 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매로 첨가하여 80℃에서 24 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 4
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.1 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 100 mL를 첨가하여 60℃에서 36시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 5
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 1.0 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매를 첨가하여 70℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 6
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.2 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 60℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 7
2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란(ECTMS, TCI社)과 다이페닐실란디올(DPSD, TCI社), 물(H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.164g: 2.7g (0.1 mol: 0.01 mol:0.15mol) 의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.2 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 60℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 8
2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란(ECTMS, TCI社)과 다이페닐실란디올(DPSD, TCI社), 물(H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 3.246g: 2.7g (0.1 mol: 0.015 mol:0.15mol) 의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.2 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 60℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 9
2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란(ECTMS, TCI社): 다이페닐실란디올(DPSD, TCI社), 물(H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 10.82g: 2.7g(0.1 mol: 0.05 mol:0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.2 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 60℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 10
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.05 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 70℃에서 36 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 11
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 물 (H2O, Sigma-Aldrich社)을 24.64g: 2.70g (0.1mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 100 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.5 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 70℃에서 24 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 12
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 (ECTMS, TCI社)과 페닐트리메톡시실란 (PTMS, Sigma-Aldrich社), 물(H2O, Sigma-Aldrich社)을 11.09g: 13.22g: 2.70 g (0.045 mol: 0.055 mol: 0.15mol)의 비율로 혼합하여 250 mL 2 neck 플라스크에 넣었다. 그 후 상기 혼합물에 0.1 mL의 테트라메틸암모니움하이드록사이드를 촉매와 MEK 50 mL를 첨가하여 80℃에서 24 시간 동안 교반하였다. 이후, 0.45 ㎛ 테프론 필터 (Teflon filter)를 사용해 여과하여 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지를 얻었다. 상기 지환식 에폭시 실세스퀴옥산 수지의 분자량은 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 측정하였다.
제조예 13
교반장치와 냉각관이 붙은 둥근바닥 플라스크에 MEK-ST(닛산 화학공업(주), 오르가노 실리카 졸(고형분 30%)) 90 중량%, 3-글리시독시 프로필트리메톡시실란 10 중량%를 실온의 조건에서 6시간 동안 교반하여 표면에 에폭시기를 포함하는 평균 입경 12㎚의 콜로이드 실리카를 얻었다.
제조예 14
교반장치와 냉각관이 붙은 둥근바닥 플라스크에 MEK-ST(닛산 화학공업(주), 오르가노 실리카 졸(고형분 30%)) 90 중량%, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 10 중량%를 실온의 조건에서 6시간 동안 교반하여 표면에 에폭시기를 포함하는 평균 입경 12㎚의 콜로이드 실리카를 얻었다.
구분 Mn Mw PDI (Mw/Mn) 에폭시기 당량(mmol/g) 최대 UV흡수파장(nm)
제조예 1 650 1980 3.05 6.3 220nm
제조예 2 2300 5500 2.39 6.3 217nm
제조예 3 3645 11745 3.22 6.3 220nm
제조예 4 972 2430 2.50 6.3 225nm
제조예 5 4210 8700 2.07 6.3 223nm
제조예 6 1740 6800 3.91 6.3 220nm
제조예 7 1771 5500 3.11 5.2 245nm
제조예 8 3560 8560 2.40 4.8 270nm
제조예 9 2590 10500 4.05 6.3 227nm
제조예 10 2804 5206 1.86 6.3 224nm
제조예 11 1210 5320 4.40 6.3 220nm
제조예 12 1700 5000 2.94 2.84 219nm
실시예 및 비교예
하기 표 2에 기재된 조성 및 함량을 갖는 하드코팅층 형성용 조성물을 제조하였다.
구분 실록산 수지 광개시제 가교제 콜로이드 실리카 용매
성분 중량% 성분 중량% 성분 중량% 성분 중량% 성분 중량%
실시예 1 제조예 1 20 A 5 B-1 20 C-1 30 D 25
실시예 2 제조예 2 20 A 5 B-1 20 C-2 30 D 25
실시예 3 제조예 3 20 A 5 B-1 20 C-1 30 D 25
실시예 4 제조예 4 20 A 5 B-2 20 C-1 30 D 25
실시예 5 제조예 5 20 A 5 B-1 20 C-2 30 D 25
실시예 6 제조예 6 20 A 5 B-2 20 C-2 30 D 25
실시예 7 제조예 7 20 A 5 B-1 20 C-1 30 D 25
실시예 8 제조예 8 20 A 5 B-1 20 C-1 35 D 25
실시예 9 제조예 9 20 A 5 B-1 20 C-1 5 D 25
실시예 10 제조예 10 20 A 5 B-1 20 C-1 30 D 25
실시예 11 제조예 11 20 A 5 B-1 20 C-1 30 D 25
실시예 12 제조예 12 20 A 5 B-1 20 C-1 30 D 25
실시예 13 제조예 3 8 A 1 B-1 75 C-1 8 D 8
실시예 14 제조예 3 8 A 1 B-1 8 C-1 75 D 8
비교예 1 제조예 1 20 A 5 B-3 20 C-1 30 D 25
비교예 2 제조예 1 20 A 5 B-1 20 C-3 30 D 25
비교예 3 제조예 2 20 A 5 - - C-1 30 D 25
비교예 4 제조예 3 20 A 5 B-1 20 - - D 25
A: (4-메틸페닐)[4-(2-메틸프로필)페닐]아이오도늄 헥사플루오로포스페이트
B-1: 화학식 2의 화합물
B-2:
Figure pat00028

B-3:
Figure pat00029

C-1: 제조예 13의 콜로이드 실리카
C-2: 제조예 14의 콜로이드 실리카
C-3: 표면 처리되지 않은 평균 입경 12㎚의 콜로이드 실리카(아엘로질社)
D: 메틸에틸케톤
실험예
상기 실시예 및 비교예의 하드코팅층 형성용 조성물을 마이어바를 이용하여 125um PET필름(SKC사)에 도포 후 100℃에서 10분간 경화 시키고 고압수은램프를 이용하여 1J/cm2으로 UV조사한 후 150℃에서 10분간 경화 시켜 두께 50um의 하드코팅층을 얻었다.
(1) 경화 수축에 의한 컬( Curl ) 측정
상기 실시예 및 비교예로부터 제조된 샘플을 10mm*10mm 사이즈로 샘플링한 후, 평탄한 글라스 판 위에 하드코팅층이 상면에 오도록 두고, 각 모서리의 일변이 평면으로부터 이격되는 거리의 최대값을 25℃, 55% 상대습도에서 측정하였다.
(2) 연필 경도의 측정
JIS K5600에 따른 연필경도계를 사용하여 하드코팅층의 경도를 측정하였다.
(3) 굴곡성 평가
상기 실험예에서 제조된 하드코팅필름을 도 2와 같이 밑면 반지름 R1의 원기둥에 하드코팅층이 내측에 외도록 180°로 휘감았다가 원위치시킨 후에 접힌 흔적이 남거나, 얼룩, 백화, 크랙 등이 발생하는 휨변형이 관찰되지 않은 최소 R1을 기록하였다.
그리고, 도 3과 같이 밑면 반지름 R2의 원기둥에 하드코팅층이 외측에 오도록 180°로 휘감았다가 원위치시킨 후에 휨변형이 관찰되지 않은 최소 R2를 기록하였다.
(4) UV 흡수 피크
제조예에서 제조된 실세스퀴옥산 수지의 UV 파장대별 흡광도를 UV-Vis spectrometer(Shimadzu社)를 이용하여 측정하였다.
(5) 황변 현상 발생 여부
상기 실시예 및 비교예로부터 제조된 샘플을 10mm*10mm 사이즈로 샘플링한 후 85℃, 90% 상대습도 조건의 고온고습 챔버에서 1,000시간 방치 후 투입 전후의 b*를 분광색차계(Nippon denshoku社)를 이용하여 측정하였다.
구분 컬량
(㎜)		 연필 경도 굴곡성(mm) 색도 b값 변화율(%)
R1 R2
실시예 1 -2 9H 8 17 1.3
실시예 2 -4 9H 6 15 2.1
실시예 3 -5 9H 9 19 1.7
실시예 4 -3 9H 6 14 1.6
실시예 5 -5 9H 10 20 2.3
실시예 6 -4 9H 7 15 2.0
실시예 7 +4 8H 12 29 4.1
실시예 8 +5 8H 14 31 4.7
실시예 9 -10 8H 16 38 2.3
실시예 10 -7 7H 14 33 2.1
실시예 11 -8 7H 12 20 2.1
실시예 12 +6 7H 15 24 7.2
실시예 13 -13 9H 14 35 1.9
실시예 14 -10 9H 15 27 2.6
비교예 1 +46 4H 20 41 2.3
비교예 2 -35 4H 22 45 1.8
비교예 3 -52 3H 26 51 2.0
비교예 4 -63 3H 38 73 2.1
상기 표 3을 참조하면, 실시예 1 내지 14의 조성물로 제조된 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름은 우수한 컬링 특성, 경도 및 굴곡성을 나타내었다. 그리고, 내습열 처리 후에도 색도 b값의 변화율이 적어 황변 현상이 최소화됨을 확인하였다.
그러나, 비교예 1 내지 6의 조성물로 제조된 하드코팅층을 구비한 하드코팅 필름은 경화 후에 수축이 일어나 컬링이 발생하였으며 경도 및 굴곡성이 현저히 떨어졌다.
100: 하드코팅 필름 110: 기재
120: 하드코팅층

Claims (14)

  1. 화학식 1로 표시되는 화합물을 함유하는 가교제;
    표면에 에폭시기를 포함하며 평균 입경이 1 내지 200㎚인 콜로이드 실리카;
    중량평균분자량이 500 내지 30,000인 에폭시 실록산 수지;
    및 광개시제를 포함하는, 하드코팅층 형성용 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00030

    (식 중에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 5의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기이이고,
    X는 단일 결합; 카르보닐기; 카르보네이트기; 에테르기; 티오에테르기; 에스테르기; 아미드기; 탄소수 1 내지 18의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기, 알킬리덴기, 또는 알콕실렌기; 탄소수 1 내지 6의 사이클로알킬렌기 또는 사이클로알킬리덴기; 또는 이들의 연결기;일 수 있음).
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 가교제는 하기 화학식 2 내지 화학식 10으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 하드코팅층 형성용 조성물:
    [화학식 2]
    Figure pat00031

    [화학식 3]
    Figure pat00032

    [화학식 4]
    Figure pat00033

    [화학식 5]
    Figure pat00034

    [화학식 6]
    Figure pat00035

    [화학식 7]
    Figure pat00036

    [화학식 8]
    Figure pat00037

    [화학식 9]
    Figure pat00038

    [화학식 10]
    Figure pat00039

    (식 중에서, R은 탄소수 1 내지 8의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고,
    l 및 m은 각각 독립적으로 1 내지 30의 정수임).
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 표면에 에폭시기를 포함하는 콜로이드 실리카는 하기 화학식 11 및 화학식 12로 표시되는 작용기 중 적어도 하나로 표면 처리된, 하드코팅층 형성용 조성물:
    [화학식 11]
    Figure pat00040

    [화학식 12]
    Figure pat00041

    (식 중에서, A 및 B는 서로 독립적으로 2 내지 6의 직쇄 또는 분지쇄인 알킬렌기이고,
    "*"은 결합손임).
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 다분산지수(PDI)가 2.0 내지 4.0인, 하드코팅층 형성용 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 중량평균분자량이 1,000 내지 20,000인, 하드코팅층 형성용 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 중량평균분자량이 5,000 내지 15,000인, 하드코팅층 형성용 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 에폭시기 당량이 3.0 내지 6.3mmol/g인, 하드코팅층 형성용 조성물.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 아릴기를 갖는 모노머를 모노머 총 중량 중 10중량% 이하로 포함하여 중합된 것인, 하드코팅층 형성용 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 실록산 수지는 UV흡수 스펙트럼 피크가 200 내지 250nm 파장에서 최대 흡광도를 갖는, 하드코팅층 형성용 조성물.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 가교제는 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함되는, 하드코팅층 형성용 조성물.
  11. 청구항 1에 있어서, 상기 콜로이드 실리카는 하드코팅층 형성용 조성물 총 중량 중 5 내지 70중량%로 포함되는, 하드코팅층 형성용 조성물.
  12. 적어도 일면에 청구항 1 내지 11 중 어느 한 항의 하드코팅층 형성용 조성물로 형성된 하드코팅층을 구비한 기재를 포함하는, 하드코팅 필름.
  13. 청구항 12에 있어서, 상기 하드코팅층은 85℃, 90% 상대습도 조건에서 1,000시간 방치 전후의 색도 b값의 변화율이 5% 이내인, 하드코팅 필름.
  14. 청구항 12의 하드코팅 필름을 구비한 화상 표시 장치.
KR1020140155742A 2014-11-10 2014-11-10 하드코팅층 형성용 조성물 KR102314512B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140155742A KR102314512B1 (ko) 2014-11-10 2014-11-10 하드코팅층 형성용 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140155742A KR102314512B1 (ko) 2014-11-10 2014-11-10 하드코팅층 형성용 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160055655A true KR20160055655A (ko) 2016-05-18
KR102314512B1 KR102314512B1 (ko) 2021-10-19

Family

ID=56113462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140155742A KR102314512B1 (ko) 2014-11-10 2014-11-10 하드코팅층 형성용 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102314512B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180010872A (ko) * 2016-07-22 2018-01-31 삼성에스디아이 주식회사 윈도우 필름용 조성물 및 이로부터 형성된 플렉시블 윈도우 필름
KR102147297B1 (ko) * 2019-09-30 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 윈도우 커버 필름 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 패널
US11845842B2 (en) 2019-09-30 2023-12-19 Sk Innovation Co., Ltd. Window cover film and flexible display panel including the same
US11970592B2 (en) 2019-09-30 2024-04-30 Sk Innovation Co., Ltd. Window cover film and flexible display panel including the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100018462A (ko) * 2008-08-06 2010-02-17 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판 및 그의 제조 방법, 및 액정 표시 장치
KR20100121283A (ko) * 2009-05-08 2010-11-17 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 조성물, 이를 이용한 하드코팅 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20140004568A (ko) * 2012-06-12 2014-01-13 한국과학기술원 실록산 하드코팅 수지 조성물
JP2014191173A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Daicel Corp ハードコートフィルム及びその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100018462A (ko) * 2008-08-06 2010-02-17 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판 및 그의 제조 방법, 및 액정 표시 장치
KR20100121283A (ko) * 2009-05-08 2010-11-17 동우 화인켐 주식회사 하드코팅 조성물, 이를 이용한 하드코팅 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR20140004568A (ko) * 2012-06-12 2014-01-13 한국과학기술원 실록산 하드코팅 수지 조성물
JP2014191173A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Daicel Corp ハードコートフィルム及びその製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180010872A (ko) * 2016-07-22 2018-01-31 삼성에스디아이 주식회사 윈도우 필름용 조성물 및 이로부터 형성된 플렉시블 윈도우 필름
KR102147297B1 (ko) * 2019-09-30 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 윈도우 커버 필름 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 패널
US11531143B2 (en) 2019-09-30 2022-12-20 Sk Innovation Co., Ltd. Window cover film and flexible display panel including the same
US11845842B2 (en) 2019-09-30 2023-12-19 Sk Innovation Co., Ltd. Window cover film and flexible display panel including the same
US11970592B2 (en) 2019-09-30 2024-04-30 Sk Innovation Co., Ltd. Window cover film and flexible display panel including the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR102314512B1 (ko) 2021-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105295718B (zh) 硬质涂层形成用组合物
US9617449B2 (en) Siloxane hard coating resin
KR102165717B1 (ko) 실록산 올리고머 및 무기미립자를 포함하는 경화성 조성물
KR102118904B1 (ko) 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름
US9709707B2 (en) Optical article containing self-healing and abrasion-resistant coatings
KR20160057221A (ko) 하드코팅층 형성용 조성물
US20110317239A1 (en) Coating composition and optical article
KR20140058565A (ko) 반사 방지막 및 반사 방지판
JP3894254B2 (ja) 反射防止膜およびそれを配置した表示装置
KR102314512B1 (ko) 하드코팅층 형성용 조성물
EP2724185B1 (en) Optical article containing self-healing and abrasion-resistant coatings
JP5629973B2 (ja) 低屈折率組成物および反射防止材の製造方法
US10519342B2 (en) Hard coating composition and hard coating film using the same
KR20160063073A (ko) 하드코팅층 형성용 조성물
KR20170075343A (ko) 하드코팅 조성물 및 이를 이용한 하드코팅 필름
JP2003147268A (ja) 硬化被膜が形成された透明基材及びそのための硬化性樹脂組成物
JPH1152103A (ja) 反射防止膜およびそれを配置した表示装置
KR100789403B1 (ko) 반사방지 및 대전방지 필름 및 그 제조방법
JP2009108123A (ja) 表面処理金属酸化物粒子の製造方法、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材
WO2017155336A1 (ko) 반사 방지 필름
KR20180036269A (ko) 하드코팅 조성물 및 이를 이용한 하드코팅 필름
JPWO2011099505A1 (ja) 屋外設置用デバイスおよび屋外設置用デバイス用反射防止層
CN110858008A (zh) 防反射硬涂膜及其制备方法
KR20200082886A (ko) 하드코팅 조성물, 하드코팅 필름 및 하드코팅 필름의 제조방법
JPH11106704A (ja) 反射防止膜およびそれを配置した表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant