KR20140079220A - 방현필름 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 투명기재; 상기 투명기재의 일면에 적층된 광경화 수지층; 및 상기 광경화 수지층 표면에 형성된 복수 개의 무정형 패턴을 포함하는 방현필름 및 그 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 방현필름은 광확산성이 우수하고, 투과 선명성이 저하되지 않으면서도 우수한 휘도를 나타낼 수 있으며, 편광판 및 표시장치에 적용시 우수한 정면휘도와 시감 특성을 제공할 수 있다.

Description

방현필름 및 그 제조방법{ANTI-GLARE FIRM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 방현필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 액정 디스플레이(LCD)의 표시 장치의 표면에는 내부로부터 출사되는 광에 의한 눈부심을 방지하기 위하여 출사하는 광을 어느 정도 확산시킬 수 있어야 한다. 또한, 디스플레이 표면은 외부로부터 입사되는 광이 반사되어 표면상에 이미지가 형성될 수 있는데, 상기 이미지가 선명한 경우에는 표시 이미지가 반사된 이미지에 의하여 시인성이 영향 받을 수 있다. 이러한 예로서, 디스플레이 장치를 옥외 및 밝은 조명 하에서 사용하는 경우 태양광, 형광등과 같은 외부광이 디스플레이 표면에 비치면서 반사되는 문제가 발생할 수 있다.
상기와 같은 문제를 해결하기 위하여, 종래기술로는 응집성 실리카 등의 입자를 방현층 표면에 응집하여 요철(凹凸)을 형성하여 방현필름을 제조하는 방법, 또는 막 두께 이상의 입경을 갖는 유기 충전재를 수지 중에 첨가하여 층 표면에 요철을 형성하여 방현필름을 제조하는 방법 등이 있다.
그러나, 상기와 같은 종래의 방현필름은 필름의 표면에 형성된 요철의 형상에만 의존하여 방현성을 확보하고 있다. 따라서, 방현성을 높이기 위해서는 상기 요철 형상을 크게 형성하여야 하지만, 요철이 크게 되면 필름의 헤이즈 값이 상승하고 이에 따라 투과선명도가 저하되는 문제점이 존재한다.
또한, 방현필름의 헤이즈 값을 낮추게 되면, 소위 면 반짝임이라 불리는 반짝이는 감(感)이 강하게 되고, 이를 해소하기 위하여 헤이즈 값을 상승시키면 전체가 흰 빛을 띄게 되므로 흑(黑)농도가 감소될 수 있으며, 이에 따라 휘도가 저하되는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 광확산성 및 휘도가 우수한 방현필름 및 그 제조방법을 제공하기 위함이다.
본 발명의 다른 목적은 시감 특성이 우수한 방현필름 및 그 제조방법을 제공하기 위함이다.
본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.
본 발명의 하나의 관점은 투명기재; 상기 투명기재의 일면에 적층된 광경화 수지층; 및 상기 광경화 수지층 표면에 형성된 복수 개의 무정형 패턴;을 포함하고,ASTM D-523에 따라 광택 측정기를 사용하여 20° 방향에서 측정한 광택도는 30 내지 60%이고, 60° 방향에서 측정한 광택도는 35 내지 90%이며, 85° 방향에서 측정한 광택도는 85 내지 150%인 것을 특징으로 하는 방현필름에 관한 것이다.
상기 무정형 패턴 표면에는 다수의 볼록부가 형성될 수 있다.
상기 무정형 패턴의 총 면적은 필름 전체 면적의 30 내지 70%이며, 방현필름의 평균 조도(Ra)는 0.001 내지 0.03㎛일 수 있다.
상기 볼록부가 형성된 무정형 패턴 영역의 평균 조도(Ra)는 0.001 내지 0.05㎛일 수 있다.
상기 복수 개의 무정형 패턴은 이격되도록 배치되고, 상기 무정형 패턴은 최장길이(Mmax)가 300㎛ 이하이며, 최소길이(Mmin)는 10㎛ 이상일 수 있다.
상기 볼록부의 높이는 0.01~0.09㎛이고, 평균 간격은 1 내지 300㎛일 수 있다.
상기 투명기재의 두께는 50 내지 125μm이고, 상기 광경화 수지층의 두께는 3 내지 20μm일 수 있다.
상기 투명기재는 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리카보네이트(PC)이며, 상기 광경화 수지층은 자외선 경화형 불포화 화합물로 에틸렌옥사이드기 10mol% 이상을 함유하는 아크릴레이트일 수 있다.
본 발명의 또 다른 관점은 인각롤의 외주면에 레이저 패터닝하여 무정형 패턴을 식각하는 단계; 및 상기 무정형 패턴이 형성된 인각롤의 표면을 광경화형 수지에 전사하는 단계를 포함하는 방현필름의 제조방법에 관한 것이다.
상기 무정형 패턴이 식각된 인각롤의 표면을 샌드 블라스팅 가공하여 오목부를 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 무정형 패턴의 총 면적은 인각롤 전체 면적의 30 내지 70%이며, 상기 무정형 패턴은 최장길이(Mmax)가 300㎛ 이하이며, 최소길이(Mmin)는 10㎛ 이상일 수 있다.
상기 샌드 블라스팅 가공은 입자 직경이 1~45㎛의 원형 입자를 이용하여 건식 가공하는 것 일 수 있다.
상기 무정형 패턴과 오목부가 형성된 인각롤의 표면을 도금하여 엠보싱 롤을 제조하는 단계를 더 포함하고, 상기 엠보싱 롤의 표면을 광경화형 수지에 전사하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 방현필름은 광확산성이 우수하고, 투과 선명성이 저하되지 않으면서도 우수한 휘도를 나타낼 수 있으며, 편광판 및 표시장치에 적용시 우수한 시감 특성을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 방현필름의 평면도를 도시한 것이다.
도 2는 도 1 A 영역의 부분 확대 평면도를 도시한 것이다.
도 3은 도 2의 k-k’ 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 4는 실시예 1의 방현필름 표면을 촬영한 사진이다.
도 5는 실시예 2의 방현필름 표면을 촬영한 사진이다.
도 6은 실시예 3의 방현필름 표면을 촬영한 사진이다.
도 7은 비교예 1의 방현필름 표면을 촬영한 사진이다.
도 8는 비교예 2의 방현필름 표면을 촬영한 사진이다.
도 9는 비교예 1의 방현필름에 형광등이 반사된 이미지를 촬영한 사진을 나타낸 것이다.
도 10은 실시예 1의 방현필름에 형광등이 반사된 이미지를 촬영한 사진을 나타낸 것이다.
본 발명은 시감이 우수한 방현필름(anti-glare film)에 관한 것으로서, 사용자가 일정한 거리에서 디스플레이의 표시 장치를 보는 경우, 내부로부터 출사되는 광에 의한 눈부심 방지(anti-glare)와 함께 외부로부터 입사되는 광에 의한 반사 이미지의 선명도를 저감시켜 표시 이미지의 시인성을 개선한 것이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하면, 다음과 같다.
방현필름
본 발명은 레이저 패터닝과 샌드 블라스팅 가공을 이용하여 제조된 방현필름을 제공한다.
이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 방현 필름에 대해 구체적으로 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방현필름의 평면도이며, 도 2는 도 1의 A 영역의 부분 확대도이며, 도 3은 도 2의 k-k’ 선을 따라 절단한 단면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 방현필름은 투명기재; 상기 투명기재의 일면에 적층된 경화 수지층(113); 및 상기 경화 수지층(113) 표면에 형성된 다수의 무정형 패턴(115);을 포함하며, 상기 무정형 패턴 표면에는 다수의 볼록부(111)가 형성될 수 있다.
상기 투명 기재의 재료는 투명성이 있는 것이라면 특별히 한정되지 않지만 가공성의 측면에서 고분자 물질, 즉 플라스틱 필름이 바람직하다. 예를 들면, 아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 프로피오닐 셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀롤로오스, 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스류와 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산 디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복시레이트, 시클로헥산 디메틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스테르류 및 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜탄 등의 폴리올레핀류가 사용될 수 있으며 그 외에도 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리 염화 비닐, 폴리 염화 비닐리덴, 폴리 비닐 알코올, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리에테르술폰, 폴리에테르케톤, 폴리술폰, 폴리이미드 등이 있으나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. 이 중 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리카보네이트(PC)가 투명성이 우수하여 광학 필름의 투명 기재로서 적합하다. 또한 트리아세틸셀룰로오스(TAC)와 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)는 LCD용 편광필름 및 PDP용 광학필터에 사용할 수 있다.
이 때, 상기 투명기재의 두께는 50 내지 125μm 인 것이 바람직하다. 상기 범위를 벗어나는 경우에는 투명기재를 기반으로 편광자의 배향 및 합지 공정이 수반되므로 공정성이 저하 될 수 있다.
상기 투명기재의 일면에는 경화형 수지층(113)이 형성된다. 경화 수지층(113)은 광경화 수지층일 수 있다. 본 발명은 레이저 패터닝에 의하여 무정형 패턴을 형성하여야 하므로 광경화형 수지로 상기 투명 기재의 일면을 도포한 후 전사단계를 거쳐야 패턴이 형성될 수 있다.
일 구체예로서, 상기 광경화형 수지층은 자외선 경화형 불포화 화합물, 에스테르계 아크릴레이트, 대전방지제, 실리콘 첨가제 및 개시제를 포함할 수 있다.
상기 자외선 경화형 불포화 화합물로 에틸렌옥사이드기 10mol% 이상을 함유하는 아크릴레이트를 포함할 수 있다. 에틸렌옥사이드기 10mol% 이상을 함유하는 아크릴레이트는 경화 후 탄성력을 크게 향상시킴으로써 강한 복원성을 갖게 함과 동시에 우수한 내스크래치성을 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 아크릴레이트는 에틸렌옥사이드기 10 내지 50mol%를 함유하는 아크릴레이트일 수 있다. 에틸렌옥사이드기 10mol% 이상을 함유하는 아크릴레이트는 1.35-1.55의 굴절률을 가질 수 있다. 상기 광경화 수지층의 두께는 3 내지 20μm이고, 보다 바람직하게는 3 내지 8μm이다.
계속해서 도 2 및 도 3을 참조하면, 경화 수지층(113) 표면에 패턴 (I) 또는 패턴 (II)와 같은 무정형 패턴(115)이 다수 형성될 수 있다. 무정형 패턴(115)은 레이저 패터닝에 의하여 형성될 수 있다. 구체적으로, 무정형 패턴(115)은 인각롤에 포토 레지스트 레진을 도포한 후 레이저 패터닝하여 식각된 형상을 자외선 경화형 수지에 전사하여 형성될 수 있다. 상기와 같은 레이저 패터닝 방법에 의하여 무정형 패턴을 형성시, 비드와 같은 광확산 요소를 함유하지 않기 때문에 내부의 확산 요소에 의해 입사되는 광이 교란될 가능성이 낮다는 이점을 갖는다.
무정형 패턴(115)의 총 면적은 필름 전체 면적의 30 내지 70%인 것이 바람직하다. 본 발명의 일 구체예로서, 도 2를 참고하면, 광경화 수지층 표면에는 형상이 일정하지 않은 복수 개의 무정형 패턴(amorphous pattern)(I, II)이 서로 간격을 두고 이격되도록 배치되며, 상기 무정형 패턴은 최장길이(Mmax)가 300㎛ 이하이며, 최소길이(Mmin)는 10㎛ 이상일 수 있다. 또한, 상기 무정형 패턴의 높이는 0.09㎛ 이하일 수 있으며, 바람직하게는 0.01~0.09㎛ 일 수 있다. 상기 범위에서 헤이즈, 광택도, 시감이 우수한 효과를 갖는다.
무정형 패턴(115)의 표면상에는 다수의 볼록부(111)가 형성되어 있다. 본 발명은 응집성 실리카를 이용하여 방현층 표면에 요철(凹凸)형상을 형성하지 않고 달리 샌드 블라스팅법을 이용하여 인각롤에 오목부를 형성한 후 압출하게 되므로 전사된 무정형 패턴 상에는 광경화 수지층과 동일한 재료로 형성된 볼록부가 형성될 수 있다. 따라서, 헤이즈 값이 저하되지 않으므로 우수한 광확산성을 나타낼 수 있다. 볼록부(111)가 형성된 무정형 패턴(115) 영역의 평균 조도(Ra)는 0.001 내지 0.05이다. 상기 볼록부의 높이는 0.01 내지 0.1㎛이고, 볼록부 간의 평균 간격(N)은 1 내지 300㎛이다.
본 발명의 방현필름의 평균 조도(Ra)는 0.001 내지 0.03이며, 광택도는 ASTM D-523에 따라 광택 측정기를 사용하여 20°방향에서 측정한 광택도는 30 내지 60%이고, 60°방향에서 측정한 광택도는 35 내지 90%이며, 85°방향에서 측정한 광택도는 85 내지 150%일 수 있다. 상기 범위에서 우수한 시감 특성을 나타낼 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 방현필름은 다수의 무정형 패턴 및 상기 무정형 패턴의 표면상에 형성된 다수의 볼록부를 구비하여 광확산성이 우수하고, 특히 투과 선명성이 저하되지 않으면서도 우수한 정면 휘도를 나타낼 수 있다. 특히, 상기 방현필름은 편광판 및 표시장치에 적용시 우수한 시감 특성을 제공할 수 있다.
방현필름의 제조방법
본 발명의 방현필름을 제조하는 방법은 인각롤의 외주면에 레이저 패터닝하여 무정형 패턴을 식각하는 단계; 상기 식각된 인각롤의 무정형 패턴에 샌드 블라스팅 가공하여 오목부를 형성하는 단계; 상기 무정형 패턴과 오목부가 형성된 인각롤을 도금하여 엠보싱 롤을 제조하는 단계; 및 상기 엠보싱 롤의 표면을 광경화형 수지에 전사하는 단계를 포함한다.
보다 구체적으로 설명하면 같다. 우선, 구리도금 표면을 연마한 인각롤을 준비하고, 여기에 포토 레지스트 레진(PR)을 도포한 후 레이저 가공기를 이용하여 인각롤 외주면을 식각한다. 식각이 완료되면, 용매를 사용하여 PR층을 제거한다. 그리고 레이저 패턴닝에 의하여 식각된 인각롤의 표면에 입자직경 약 1~45㎛의 원형 입자를 이용하여 건식 샌드 블라스트 가공 후 레이저 패턴닝에 의하여 식각된 인각롤의 표면에 음각으로 오목부를 형성한다. 상기 샌드 블라스트 가공이 완료된 인각롤에 도금을 실시하여 엠보싱 롤을 제작한다. 상기 제작된 엠보싱 롤의 표면을 자외선 광경화형 수지에 전사함으로서 방현필름을 제조가 완료된다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 하나, 이러한 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것으로, 본 발명을 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.
실시예
실시예 1-3 및 비교예 1-2
실시예 1
구리 도금 표면을 연마한 인각롤(φ315 x 1800mm)을 준비하고, 여기에 포토 레지스트 레진(PR)을 5㎛ 도포한 후 레이저 가공기를 사용하여 도 1의 무정형 패턴으로 식각하였다. 용매를 사용하여 PR 층을 제거한 후 도금을 실시하여 엠보싱 롤을 제작하였다.
PET(일본 TOYOBO社) 투명기재에 아크릴계의 자외선 경화형 수지(한국 SK-CYTEC社 FA-9883-102)를 도포한 후, 상기 제작된 엠보싱 롤을 상기 자외선 경화형 수지에 전사하여 방현필름을 제조하였다.
상기 제조된 방현필름의 물성을 측정한 후 하기 표 1에 나타내었으며, 제조된 방현필름을 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)으로 촬영한 후 도 4에 도시하였다.
실시예 2
구리 도금 표면을 연마한 인각롤(φ315 x 1800mm)을 준비하고, 여기에 포토 레지스트 레진(PR)을 5㎛ 도포한 후 레이저 가공기를 사용하여 도 1의 무정형 패턴으로 식각하였다. 용매를 사용하여 PR 층을 제거한 후 레이저 패턴닝에 의하여 식각된 인각롤의 표면에 입자직경 약 1~45㎛의 원형 입자를 이용하여 샌딩 조건 150kpa, 왕복 1회로 건식 샌드 블라스트 가공 후 레이저 패턴닝에 의하여 식각된 인각롤의 표면에 음각으로 오목부를 형성하였다. 상기 샌드 블라스트 가공이 완료된 인각롤에 니켈 도금하여 엠보싱 롤을 제조하였다.
PET(일본 TOYOBO社) 투명기재에 아크릴계의 자외선 경화형 수지(한국 SK-CYTEC社 FA-9883-102)를 도포한 후, 상기 제작된 엠보싱 롤을 상기 자외선 경화형 수지에 전사하여 방현필름을 제조하였다.
상기 제조된 방현필름의 물성을 측정한 후 하기 표 1에 나타내었으며, 제조된 방현필름을 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)으로 촬영한 후 도 5에 도시하였다.
실시예 3
샌딩 조건이 150kpa, 왕복 3회인 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 방법으로 엠보싱 롤 제작 후 방현필름을 제조하였다.
상기 제조된 방현필름의 물성을 측정한 후 하기 표 1에 나타내었으며, 제조된 방현필름을 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)으로 촬영한 후 도 6에 도시하였다.
비교예 1
구리 도금 표면을 연마한 인각롤(φ315 x 1800mm)을 준비하고, 레이저 패터닝 공정을 제외하고 인각롤의 표면에 입자직경 약 1~45㎛의 원형 입자를 이용하여 샌딩 조건 150kpa, 왕복 3회로 건식 샌드 블라스트 가공하여 인각롤의 표면에 음각으로 오목부를 형성하였다. 상기 샌드 블라스트 가공이 완료된 인각롤에 니켈 도금하여 엠보싱 롤을 제조하였다.
PET(일본 TOYOBO社) 투명기재에 아크릴계의 자외선 경화형 수지(한국 SK-CYTEC社 FA-9883-102)를 도포한 후, 상기 제작된 엠보싱 롤을 상기 자외선 경화형 수지에 전사하여 방현필름을 제조하였다.
상기 제조된 방현필름의 물성을 측정한 후 하기 표 1에 나타내었으며, 제조된 방현필름을 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)으로 촬영한 후 도 7에 도시하였다.
비교예 2
샌딩 조건이 150kpa, 왕복 6회인 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법으로 엠보싱 롤 제작 후 방현필름을 제조하였다.
상기 제조된 방현필름의 물성을 측정한 후 하기 표 1에 나타내었으며, 제조된 방현필름을 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)으로 촬영한 후 도 8에 도시하였다.
물성 평가 방법
볼록부 평균 간격 : 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)을 사용하여, 무정형 패턴 표면에 형성된 볼록부들의 평균 간격을 JIS B0601-1994규정에 의거하여 측정하였다.
광택도 : 이면에 흑색 잉크를 도포한 광학 유리 상에 메틸페닐실리콘오일을 점착시켜 이면 반사를 방지한 상태에서 광택계(BYK Gardner사 제품 Micro TRI Gloss)를 이용하여 각 방현필름의 20°광택도, 60°광택도 및 85°광택도를 각각 측정하였다.
헤이즈 : 주식회사 동양정기제작소(株式會社 東洋精機製作所) 제품인 헤이즈 가드 II를 이용하여 방현필름의 헤이즈를 ISO 모드로 측정하였다.
방현성(시감특성) : 형광등을 필름 뒤에 위치 시키고 필름을 비추어 육안 관찰 시 형광등 불빛에 의한 비침이 둔한 경우 상(上), 약간의 비침이 있는 경우 중(中), 비침이 심한 경우 하(下)로 구분하여 측정하였다. 도 9는 비교예 1의 방현필름을, 도 10은 실시예 1의 방현필름에 형광등이 반사된 이미지를 촬영한 사진이다.
조도(Roughness, Ra) : 레이저 현미경(주식회사 기엔스 제품 VK-9500)을 이용하여 ASTM D4417 방법에 의거하여 필름 전면적의 평균 조도(㎛)를 측정하였다.
[표 1]
Figure pat00001
상기 표 1에서와 같이, 실시예 1 내지 3은 무정형 패턴이 형성되지 않은 비교예 1-2에 비하여 ASTM D-523에 따라 광택 측정기를 사용하여 측정한 20°방향에서 측정한 광택도가 30 내지 60%의 범위, 60°방향에서 측정한 광택도는 35 내지 90%의 범위, 85°방향에서 측정한 광택도는 85 내지 150%의 범위 내에 속하여 시감 특성이 우수하고, 헤이즈 값이 낮아 광확산성이 우수한 것을 알 수 있다. 또한, 도 9 및 도 10에 나타난 바와 같이, 실시예 1의 방현필름을 사용시 외부 물체의 반사 이미지의 선명도를 낮추어 반사 이미지를 은폐되는 효과, 즉, 시감 특성이 우수한 것을 알 수 있다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (13)

  1. 투명기재;
    상기 투명기재의 일면에 적층된 경화 수지층; 및
    상기 경화 수지층 표면에 형성된 복수 개의 무정형 패턴;을 포함하고,
    ASTM D-523에 따라 광택 측정기를 사용하여 20°방향에서 측정한 광택도는 30 내지 60%이고, 60°방향에서 측정한 광택도는 35 내지 90%이며, 85°방향에서 측정한 광택도는 85 내지 150%인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 무정형 패턴 표면에는 다수의 볼록부가 형성된 것을 특징으로 하는 방현필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 무정형 패턴의 총 면적은 필름 전체 면적의 30 내지 70%이며, 상기 방현필름의 평균 조도(Ra)는 0.001 내지 0.03㎛인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 볼록부가 형성된 무정형 패턴 영역의 평균 조도(Ra)는 0.001 내지 0.05㎛인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 무정형 패턴은 서로 이격되도록 배치되고, 상기 무정형 패턴의 최장길이(Mmax)는 300㎛ 이하이며, 최소길이(Mmin)는 10㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 볼록부의 평균 높이는 상기 무정형 패턴의 표면으로부터 0.01 내지 0.09㎛이고, 평균 간격은 1 내지 300㎛인 것을 특징으로 하는 방현필름.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 투명기재의 두께는 50 내지 125μm이고,
    상기 경화 수지층의 두께는 3 내지 20μm인 것을 특징으로 하는 방형필름.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 투명기재는 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리카보네이트(PC)이며,
    상기 경화 수지층은 자외선 경화형 불포화 화합물로 에틸렌옥사이드기 10mol% 이상을 함유하는 아크릴레이트를 포함하는 방현필름.
  9. 인각롤의 외주면에 레이저 패터닝하여 무정형 패턴을 식각하는 단계; 및
    상기 무정형 패턴이 형성된 인각롤의 표면을 광경화형 수지에 전사하는 단계를 포함하는 방현필름의 제조방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 무정형 패턴이 식각된 인각롤의 표면을 샌드 블라스팅 가공하여 오목부를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 무정형 패턴의 총 면적은 인각롤 전체 면적의 30 내지 70%이며, 상기 무정형 패턴은 최장길이(Mmax)가 300㎛ 이하이며, 최소길이(Mmin)는 10㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 샌드 블라스팅 가공은 입자 직경이 1~45㎛의 원형 입자를 이용하여 건식 가공하는 것을 특징으로 하는 방현필름의 제조방법.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 무정형 패턴과 오목부가 형성된 인각롤의 표면을 도금하여 엠보싱 롤을 제조하는 단계를 더 포함하고, 상기 엠보싱 롤의 표면을 광경화형 수지에 전사하는 단계를 포함하는 방현필름의 제조방법.
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