KR20140057836A - 터치 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 터치 패널은, 투명기판; 및 투명기판의 일측면 가장자리에 형성되는 백색층과, 상기 백색층의 상부에 형성되는 차광층을 구비하는 베젤부;를 포함하여 폭이 좁고, 두께가 얇은 베젤부를 구비함으로써 동일한 외관사이즈에서 보다 큰 디스플레이 화면을 구현할 수 있고, 두께가 얇으며 균일하고 충분한 색감을 갖는 백색의 베젤부가 형성된 터치 패널을 제공할 수 있게 된다.

Description

터치 패널 및 그 제조 방법{Touch panel and method for manufacturing the same}
본 발명은 터치 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.
하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.
또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고 신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력장치로서 터치패널(Touch screen)이 개발되었다.
터치패널은 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 화상표시장치의 표시면에 설치되어, 사용자가 화상표시장치를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구이다.
터치패널의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW Type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치패널은 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치패널과 정전용량방식 터치패널이다.
이러한 터치패널의 일예로, 투명 기판과 감지부가 접착제를 매개로 접합된 구조로 구성될 수 있고, 투명 기판의 테두리를 따라 형성된 베젤부가 감지부의 버스 라인(Bus Line)을 가리도록 형성될 수 있다.
최근에는 IT기기에 있어서 외관 디자인의 중요성이 점점 커지고 있으며, 디스플레이 화면도 대형화되고 있다. 기기 외관 크기의 증가 없이 디스플레이 화면을 크게 하고, 실물에 가까운 색채인 풀컬러(Full color)화를 구현하기 위해서 베젤부의 면적을 이전보다 좁게 할 필요성이 대두된다.
하기의 선행기술에 기재된 특허문헌은 검정색층과 투명전도막(Indium Tin Oxide: ITO)이 구비된 베젤부가 개시되어 있다.
소비자의 수요가 다양해짐에 따라 하기 선행기술에서 언급된 검정색 뿐만 아니라 다양한 색상의 베젤부가 공급되어야 하며, 특히 깔끔한 이미지를 주고 여성들에게 인기가 많은 백색에 대한 수요가 많다.
종래 백색 베젤부의 제작방법은, 투명기판의 외부에 백색으로 도색을 하거나, 터치패널과 일체형으로 터치패널의 내측에 백색 베젤부가 형성되도록 투명기판의 하부에 백색 잉크 또는 백색 페이스트(Paste)을 스크린 프린팅(Screen Printing) 방법을 이용한다. 후자의 방법은 좁은 폭의 베젤부 구현이 가능하고 외부 손상을 최소화할 수 있기 때문에 선호되고 있다.
하지만, 스크린 프린팅 방법을 사용하기 위해서는, 백색 잉크 또는 백색 페이스트의 점도의 제약이 있어서 점도를 높이기 위해 농축하여야 하지만, 백색 안료로 주로 사용되는 TiO2(Titanium Dioxide)는 농축하기 어려운 문제가 있고, 여러 차례 반복하여 프린팅을 해야 하는데 1회 프린팅시 두께가 최소 5㎛이상이 되기 때문에 좁은 폭의 배젤부 구현이 어려울 뿐만 아니라 터치 센서의 선폭을 40㎛미만으로 미세하게 구현하기도 어려운 문제가 있다.
이를 개선하기 위해서, 감광성 백색잉크를 통해서 박형의 협폭 백색 베젤을 개발하는 것이 진행중에 있으나, TiO2와 같은 백색 안료의 입자분말 크기와 점성 조성 등에 불균일성이 있어서, 균일하고 충분한 백색도가 구현되지 못하는 문제가 여전히 존재한다.
현재 적용되고 있는 레진기제(Resin-Base)의 백색잉크는 스크린 프린팅방법으로 제작이 되고 있고, 스크리닝(Screening)을 수차례 진행해서 백색도를 증대시키고 빛 투과를 막도록 구성된다. 그러나 베젤의 두께도 15㎛이상이 형성되고 표면 조도도 커서 미세한 패턴 구현이 어려워서 평탄화 작업 및 얇은 전극층(<200nm)을 연결하기 위해서 스크린층과 테이퍼층을 형성해서 전극 배선의 연결성을 향상시키고 있다. 이와 같이 스크린 프린팅 방법을 적용함에 따라 반복적인 스크리닝 작업 수행과 두꺼워진 두께, 테이퍼(Taper)구조 등이 협폭 베젤부 구현을 곤란하게 하고 있다.
특허문헌: 국내공개특허 제 10-2011-0053940호(2011년 05월 24일 공개)
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해소하기 위한 것으로, 본 발명의 일 관점은, 터치패널의 베젤부의 면적을 좁게 하여 기기전체의 크기가 증가하지 않고 디스플레이 화면을 최대화할 수 있는 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 관점은, 터치패널의 베젤부의 두께를 얇게 구현하여 박형의 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 관점은, 균일하고 충분한 색감을 갖는 베젤부가 구비된 터치 패널 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 일관점에 따른 터치 패널은, 투명기판; 및 상기 투명기판의 일측면 가장자리에 형성되는 백색층과, 상기 백색층의 상부에 형성되는 차광층을 구비하는 베젤부;를 포함한다.
상기 차광층은 은백색의 금속 또는 이와 유사한 합금 중 어느 하나 또는 이들의 조합으로 구성될 수 있다.
또한, 상기 차광층은 티탄계 산화물(TiO2), 알루미늄계 산화물(Al2O3), 규소계 산화물(SiO2) 중 어느 하나 또는 이들의 조합으로 구성될 수도 있다.
상기 차광층은 두께가 0.1~1㎛인 것이 바람직하며, 두께가 250~400nm인 것이 더 바람직하다.
또한, 상기 차광층은 절연층을 더 포함할 수 있다.
상기 차광층은 기상 증착법, 원자층 증착법, 졸겔(Solgel)법 중 어느 하나로 형성될 수 있다.
상기 백색층은 티탄계 산화물(TiO2), 알미늄계 산화물(Al2O3), 마그네슘계 산화물(MgO), 나트륨계 산화물(Na2O), 리튬계 산화물(Li2O), 벨릴리윰계 산화물(BeO), 규소계 산화물(SiO2), 마그네슘계 황화물(MgS), MgF2, MgCo3, ZnO, ZnS, KNO3, KCl, KOH, Ga2O3, RbCl, RbF, BaTiO3, BaSO4, BaCl2, BaO, Ba(NO3)2, BaCO3, BaOH, BaB2O4, SrTiO3, SrCl2, SrO, Y2O3, YCl3, YF3, ZrO2, ZrCl4, ZrF4, Nb2O5, NbOCl3, Mo(CO)6, CdCl2, InCl3, SnO2, Sb2O3, CsI, CsCl, CsF, Ta2O5, TaCl5 또는 TaF5 중 어느 하나 또는 이들의 조합일 수 있다.
여기서, 상기 백색층은 스핀 코팅(Spin Coating), 롤 코팅(Roll Coating), 슬롯 코팅(Slot Coating) 중 어느 하나로 형성될 수 있다.
한편, 상기 베젤부는 두께가 10㎛보다 얇게 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 다른 관점에 따른 터치 패널의 제조 방법은, (A) 투명기판을 마련하는 단계; (B) 상기 투명기판의 일측면 가장자리에 백색층을 형성하는 단계; 및 (C) 상기 백색층의 상부에 차광층을 도포하는 단계;를 포함한다.
상기 (B)단계에서 상기 백색층을 스핀 코팅(Spin Coating), 롤 코팅(Roll Coating), 슬롯 코팅(Slot Coating) 중 어느 하나의 방법으로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 (C)단계에서 상기 차광층을 기상 증착법, 원자층 증착법, 졸겔(Solgel)법 중 어느 하나의 방법으로 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 (C)단계에서 상기 차광층이 표면조도를 갖도록 패턴(Pattern) 처리하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고, 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명에 따른 터치 패널은 백색층과 차광층을 구비하여 좁은 폭의 베젤부를 형성시킴으로 디스플레이 화면을 최대화하고, 터치 패널의 베젤부의 두께를 얇게 구현하여 박형의 터치 패널을 제공하는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 터치 패널은 백색층과 차광층을 별도의 층으로 코팅함으로써 균일하고 충분한 색감을 갖는 백색의 베젤부를 구비한 터치 패널을 제공하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 단면도.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널을 구성하는 베젤부의 단면도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널을 구성하는 베젤부의 단면도.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 제조공정을 도시하는 순서도.
본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.
참고로, 본 명세서 전체에 걸쳐 사용되는 '터치'라는 용어는 접촉 수용면에 대한 직접적인 접촉을 의미할 뿐만 아니라, 접촉 수용면으로부터 입력수단이 상당한 거리만큼 근접하는 것을 의미하는 것으로 넓게 해석된다. 즉, 본 발명에 따른 터치패널은 입력수단의 접촉을 인식하거나, 또는 상당한 거리 이내로의 근접을 인식하는 기능을 구비한 터치패널로 해석해야 할 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 단면도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널을 구성하는 베젤부의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널을 구성하는 베젤부의 단면도이다.
본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널(100)은 도 1에 도시된 바와 같이 활성 영역 및 활성 영역을 둘러싸는 비활성 영역으로 구획되는 제1 투명 기판(101), 절연층(111)을 매개로 하여 제1 투명 기판(101)의 일면에 접착된 제2 투명 기판(102), 제1 투명 기판(101)과 제2 투명 기판(102) 사이에 구비된 베젤부(130), 및 접착층(112)을 매개로 하여 제2 투명 기판(102)의 일면에 접착된 반사 방지층(140)을 포함한다.
투명 기판(101, 102)은 사용자에 의한 터치작용이 이루어져 사용자가 기기의 동작 장면을 시각적으로 확인하는 화면 영역인 활성 영역과 활성 영역을 둘러싸는 비활성 영역으로 구분되므로, 투명성을 갖추어야 한다. 이러한 투명성을 고려할 때, 투명 기판(101, 102)은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
이러한 투명 기판(101, 102)은 도 1의 본 발명의 일실시예에 따르면, 제1 투명 기판(101) 및 제2 투명 기판(102)으로 구성되며, 제1 투명 기판(101)의 활성 영역의 일면에 형성된 제 1 전극 패턴(121), 제1 투명 기판(101)의 비활성 영역에서 제 1 전극 패턴(121)에 연결된 제 1 버스 라인(미도시), 제 1 전극 패턴(121)에 대응하여 제2 투명 기판(102)의 활성 영역 타면에 형성된 제 2 전극 패턴(122), 및 제 2 전극 패턴(122)에 연결되어 제2 투명 기판(102)의 비활성 영역에 형성된 제 2 버스 라인(미도시)을 구비할 수 있다.
여기서, 제 1 전극 패턴(121)은 감지 전극 패턴이고, 제 2 전극 패턴(122)은 제 1 전극 패턴(121)과 교차하는 구동 전극 패턴일 수 있다. 반대로, 제 1 전극 패턴(121)은 구동 전극 패턴이고, 제 2 전극 패턴(122)은 감지 전극 패턴일 수도 있다.
도 1에 따른 본 발명의 일실시예에서는, 제1 투명 기판(101)은 터치패널의 최외측에 구비된 윈도우(Window)로 구성될 수 있다. 이때, 투명 기판(101)의 노출면(전극패턴이 형성된 투명기판 일면의 반대면)은 사용자의 터치를 수용한다. 이와 같이, 투명기판(101)이 윈도우인 경우, 윈도우에 직접 전극패턴(121)이 형성되므로, 별도의 투명 기판에 전극패턴을 형성한 후 윈도우에 부착하는 공정을 생략하여 제조공정을 단순화할 수 있고, 터치패널의 전체적인 두께를 줄일 수 있다.
이러한 제1 투명 기판(101)은 비활성 영역에서 제 1 버스 라인(미도시)에 대응하여 베젤부(130)를 구비한다.
구체적으로, 베젤부(130)는 검정색, 백색, 금색, 적색, 초록색, 노랑색, 회색, 보라색, 갈색, 청색 또는 이들의 조합으로 이루어진 컬러 잉크 등을 프린팅 인쇄법, 스크린 인쇄법, 롤 코팅법 등의 다양한 인쇄법에 의해 인쇄된 후, 예컨대 에칭 방법, 롤러 또는 스탬프를 이용한 전사 방법, 또는 프레스를 이용한 압착 방법으로 형성할 수 있다.
여기서, 베젤부(130)는 좁은 폭으로 형성할수록 화면영역인 활성영역이 넓어지기 때문에 바람직하다. 또한, 특히 깔끔한 이미지를 주고 여성들에게 인기가 많은 백색으로 베젤부(130)를 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 베젤부(130)의 두께를 얇게 형성할 수 있으면 박형의 터치패널을 구현할 수 있게 된다.
백색 안료층의 경우, 하부층의 밀착력, 두께에 따른 응력 등을 고려할 때는 얇은 막두께가 좋으나, 백색도(색감)과 빛 차단효과를 고려하면 막두께가 두꺼운 것이 필요하다.
이와 같이 박형이면서도 색감 및 광차단성을 유지하기 위해 본 발명의 일시시예에 따르면, 도 2에 도시된 바와 같이, 베젤부(130)는 백색잉크를 얇게 코팅한 백색층(131)과, 그 위에 백색도를 부연하고, 빛 투과도를 줄이기 위해 별도의 차광층(132)이 도포된다.
백색층(131)은, 티탄계 산화물(TiO2), 알미늄계 산화물(Al2O3), 마그네슘계 산화물(MgO), 나트륨계 산화물(Na2O), 리튬계 산화물(Li2O), 벨릴리윰계 산화물(BeO), 규소계 산화물(SiO2), 마그네슘계 황화물(MgS), MgF2, MgCo3, ZnO, ZnS, KNO3, KCl, KOH, Ga2O3, RbCl, RbF, BaTiO3, BaSO4, BaCl2, BaO, Ba(NO3)2, BaCO3, BaOH, BaB2O4, SrTiO3, SrCl2, SrO, Y2O3, YCl3, YF3, ZrO2, ZrCl4, ZrF4, Nb2O5, NbOCl3, Mo(CO)6, CdCl2, InCl3, SnO2, Sb2O3, CsI, CsCl, CsF, Ta2O5, TaCl5 또는 TaF5 등 중 어느 하나 또는 이들의 다양한 조합으로 구성될 수 있다.
차광층(132)은 Al, Ti, Mo, Ag, Cr 등의 은백색의 금속 또는 이와 유사한 합금을 이용하여 형성될 수 있다. 또한, 티탄계 산화물(TiO2), 알미늄계 산화물(Al2O3), 규소계 산화물(SiO2)로도 구현될 수 있다. 산화물의 경우 단일막을 형성한 후에 별도의 공정으로 산화를 시켜 형성된다. 또한, 차광층(132)이 금속으로 형성될 경우, 터치센서의 금속배선을 위해서 절연층을 형성할 수도 있다. 이를 이용하면 수 ㎛의 박형으로 베젤부(130)를 구현할 수 있게 된다.
여기서,절연층은 차광층이 금속으로 형성될 경우 뿐만 아니라 상기한 산화물로 차광층이 형성될 때에도 포함될 수 있을 뿐만 아니라, 절연층이 차광층(132) 대체하도록 구성할 수도 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 구비된 베젤부(130)는 차광층(132)의 균일한 분산을 위해 해당 재료만 별도로 고밀도 코팅을 하여, 잉크나 페이스트(Paste)를 사용할 때 발생하는 공간상의 불균일을 개선하고 얇은 두께의 베젤부(130)을 형성하였다. 이를 위해 차광층(132)은 0.1~1㎛이하로 도포하는 것이 백색의 색감과 밀착력을 고려할 때 바람직하다. 더 바람직하게는, 250~400nm의 두께로 형성될 수도 있다.
차광층(132)을 도포하는 방법은, 저온에서 균일하게 코팅하는 것이 바람직하다. 따라서, 스퍼터링(Sputtering)이나 진공증착 등과 같은 물리적 기상 증착법(PVD : Physical vapor deposition)를 사용하거나, PECVD(Plasma-Enhanced chemical vapor deposition), MOCVD(Metalorganic chemical vapor deposition)와 같은 화학적 기상 증착법(CVD : Chemical vapor deposition), 원자층 증착법(ALD : Atomic Layer Deposition), 졸겔(Solgel)법 등이 사용될 수 있다.
한편, 차광층(132)은 표면조도에 따라 색감이 향상될 수 있기 때문에 표면조도를 공급하도록 패턴(Pattern)처리를 하는 것이 바람직하다.
또한, 백색층(131)은 스핀 코팅(Spin Coating), 롤 코팅(Roll Coating), 슬롯 코팅(Slot Coating) 등을 사용하면 박형화를 할 수 있기 때문에 바람직하다. 백색층(131)의 재료는 유기 감광성 재료가 노광을 할 수 있기 때문에 바람직하다.
절연층(111)은 제1 전극패턴(121)과 제2 전극패턴(122)을 보호하는 역할을 수행하는 것이다. 여기서, 절연층(111)은 프린팅(Printing), CVD(Chemical Vaper Deposition) 또는 스퍼터링(Sputtering) 등을 통해서 유기 절연막 또는 무기 절연막으로 형성될 수 있다.
이때, 절연층은 에폭시(Epoxy) 또는 아크릴(Acrylic) 계열의 수지, SiOx 박막, 또는 SiNx 박막으로 형성할 수 있다.
도 2와 도 3을 참고하면, 본 발명의 일실시예에 따른 베젤부의 단면부는 테이퍼(Taper)부(130a)를 갖도록 경사지게 형성될 수도 있고, 직각부(130b)를 갖도록 수직으로 형성될 수도 있다. 직각부(130b)로 형성되는 것이 대화면의 구현에는 더 바람직하다고 할 수 있으나, 제조공정상 효율을 고려하면, 테이퍼부(130a)를 갖도록 하는 것이 바람직하다.
터치 패널(100)의 하측부에는 화상표시장치(미도시)가 장착된다.
화상표시장치는 화상을 출력하는 역할을 하고, 액정표시장치(LCD, Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), EL(Electroluminescence) 또는 CRT(Cathod Ray Tube) 등을 포함하는 것이다.
한편, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 제조공정을 도시하는 순서도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 터치 패널의 제작 방법은 먼저, 투명 재질로 형성된 투명 기판을 마련한다(S110).
이러한 투명 기판을 마련한 후, 투명기판의 일측면 가장자리에 백색층을 형성한다(S120).
구체적으로, 백색층을 형성하는 단계(S120)는 스핀 코팅(Spin Coating), 롤 코팅(Roll Coating), 슬롯 코팅(Slot Coating) 등의 방법을 사용하여 형성할 수 있다. 백색층의 재료는 감광성 재료를 사용하는 것이 바람직하다.
이후, 백색층의 상부에 차광층을 도포한다(S130).
차광층을 도포하는 단계(S130)는 스퍼터링(Sputtering)이나 진공증착 등과 같은 물리적 기상 증착법(PVD : Physical vapor deposition)를 사용하거나, PECVD(Plasma-Enhanced chemical vapor deposition), MOCVD(Metalorganic chemical vapor deposition)와 같은 화학적 기상 증착법(CVD : Chemical vapor deposition), 원자층 증착법(ALD : Atomic Layer Deposition), 졸겔(Solgel)법 등이 사용될 수 있다.
여기서, 차광층이 소정의 표면조도를 갖도록 에칭(etching) 공정 또는 디스미어(desmear) 공정과 같은 패턴(Pattern) 처리하는 단계를 더 포함할 수도 있다. 이와 같이 패턴처리가 되면 표면이 불규칙하게 형성된다.
또한, 필요에 따라서는 차광층을 도포하는 단계(S130) 이후, 절연층을 형성하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
한편, 차광층은 Al, Ti, Mo, Ag, Cr 등의 은백색의 금속 또는 이와 유사한 합금을 이용하여 형성될 수 있다. 또한, 티탄계 산화물(TiO2), 알루미늄계 산화물(Al2O3), 규소계 산화물(SiO2)로도 구성될 수 있는데, 이와 같은 산화물로 형성할 경우 산화과정이 추가된다.
이러한 과정을 통해 얇은 박막으로 폭이 좁은 백색 베젤부를 형성할 수 있게 된다.
본 발명의 일실시예에 따라, 상기에서는 정전용량식 터치패널을 설명하였으나, 본 발명은 저항식을 포함한 다양한 방식의 터치패널에 적용될 수 있음은 물론이다.
본 발명의 기술사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 전술한 실시예들은 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다.
또한, 본 발명의 기술분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 다양한 실시가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
100: 터치 패널 101: 제1 투명 기판
102: 제2 투명 기판 111: 절연층
112: 접착층 121: 제 1 전극 패턴
122: 제 2 전극 패턴 130: 베젤부
130a: 테이퍼부 130b: 직각부
131: 백색층 132: 차광층
140: 반사 방지층

Claims (14)

  1. 투명기판; 및
    상기 투명기판의 가장자리에 형성되는 백색층과, 상기 백색층의 상부에 형성되는 차광층을 구비하는 베젤부;
    를 포함하는 터치 패널.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 차광층은 은백색의 금속 또는 합금으로 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 차광층은 티탄계 산화물(TiO2), 알미늄계 산화물(Al2O3), 규소계 산화물(SiO2) 중 어느 하나 또는 이들의 조합으로 구성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 차광층은 두께가 0.1 ~ 1㎛ 인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 차광층은 두께가 250 ~ 400nm 인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 차광층은 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 차광층은 기상 증착법, 원자층 증착법, 및 졸겔(Solgel)법 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 백색층은 티탄계 산화물(TiO2), 알미늄계 산화물(Al2O3), 마그네슘계 산화물(MgO), 나트륨계 산화물(Na2O), 리튬계 산화물(Li2O), 벨릴리윰계 산화물(BeO), 규소계 산화물(SiO2), 마그네슘계 황화물(MgS), MgF2, MgCo3, ZnO, ZnS, KNO3, KCl, KOH, Ga2O3, RbCl, RbF, BaTiO3, BaSO4, BaCl2, BaO, Ba(NO3)2, BaCO3, BaOH, BaB2O4, SrTiO3, SrCl2, SrO, Y2O3, YCl3, YF3, ZrO2, ZrCl4, ZrF4, Nb2O5, NbOCl3, Mo(CO)6, CdCl2, InCl3, SnO2, Sb2O3, CsI, CsCl, CsF, Ta2O5, TaCl5 또는 TaF5 중 어느 하나 또는 이들의 조합인 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 백색층은 스핀 코팅(Spin Coating), 롤 코팅(Roll Coating), 슬롯 코팅(Slot Coating) 중 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 베젤부는 두께가 10㎛보다 얇게 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 패널.
  11. (A) 투명기판을 마련하는 단계;
    (B) 상기 투명기판의 가장자리에 백색층을 형성하는 단계; 및
    (C) 상기 백색층의 상부에 차광층을 도포하는 단계;
    를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 (B)단계에서 상기 백색층을 스핀 코팅(Spin Coating), 롤 코팅(Roll Coating), 슬롯 코팅(Slot Coating) 중 어느 하나의 방법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  13. 청구항 11에 있어서,
    상기 (C)단계에서 상기 차광층을 기상 증착법, 원자층 증착법, 및 졸겔(Solgel)법 중 어느 하나의 방법으로 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
  14. 청구항 11에 있어서,
    상기 (C)단계에서 상기 차광층이 표면조도를 갖도록 패턴(Pattern) 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널의 제조 방법.
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