KR20140048201A - 금속 스트립 코팅 공정에서 기체 분사를 생성하는 장치 - Google Patents

금속 스트립 코팅 공정에서 기체 분사를 생성하는 장치 Download PDF

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KR20140048201A
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다니엘리 앤드 씨. 오피시네 메카니케 쏘시에떼 퍼 아찌오니
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Abstract

장치는 노즐(10)이 고정되는 컬렉터(4)를 포함하며 연속적인 굽은 진행 평면(Z)을 정의하는 기체 흐름 레벨링 파이프(3), 가압 기체를 구멍(12)을 통해 프리챔버로 도입하기 위한 배급 매니폴드(1), 레벨링 파이프(3) 내에 파이프(3)의 굽은 진행 평면(Z)에 수직으로 배열된 제1 구멍뚫린 칸막이(5) 및 제2 구멍뚫린 칸막이(6)를 갖는다.

Description

금속 스트립 코팅 공정에서 기체 분사를 생성하는 장치{Device for generating a gas jet in processes for coating metal strips}
본 발명은 금속 스트립의 고온코팅 공정에서 기체 분사를 생성하는 장치에 관한 것이다. 이러한 장치는 또한 일반적으로 에어나이프(air knife)로 알려져 있다.
알려진 바와 같이, 고온 아연도금 공정은, 철 스트립을 탱크 내의 (450 내지 470℃의) 용융아연조에 담그는 것에 의해, 최종 용도의 기능으로써 양면에 다른 코팅 두께로 철 스트립에 아연을 코팅하는 것이다. 이 공정은 연속적인 형태이며, 기초가 되는 철에 대한 아연의 완벽한 부착과 매우 얇고 균일한 아연막의 형성을 얻기 위해서, 철 스트립은 표준화되고 두 대향면은 적절히 준비된다.
아연 코팅 두께의 조절은 에어 나이프 시스템에 의해 얻어지며, 이는 또한 양면과 스트립의 전체 길이에 걸쳐 코팅이 균일하게 분포될 수 있도록 한다. 에어 나이프 시스템은 본질적으로, 다른 것에 비해 현저한 치수를 가지며 플랫(flat) 분사를 생성하도록 적응된 노즐을 정의하는 두 개의 립(lip)으로 구성되며, 스트립이 아연 탱크로부터 나올 때 스트립의 전체 폭과 각 측면에 기체 분사를 전달한다.
동일한 과정이 스트립에 코팅되는 액체 금속의 본질과 관계없이 일반적으로 금속 스트립을 코팅하는 데 사용된다. 또한, 아연 합금이나, 실제로 액체는 알루미늄 합금 또는 페인트일 수도 있다.
조절 시스템은 각 면에 대해 다를 수도 있는 요구되는 코팅 두께를 결정하기 위하여 두 개의 립이 경사지게 하고 서로 거리를 두도록 한다.
얻어지는 아연 코팅의 두께를 측정하는 시스템에 기반한 폐루프 제어 시스템은 아연의 양을 일정하게 공급하고 이에 따라 코팅 두께가 최적화된다.
철 스트립의 최종 용도에 따라, 표준은 양면의 전체 아연 코팅에 대한 평량(mass/surface ratio)(g/m2)의 최소값을 정하거나, 면 상의 최소 코팅 두께(microns)를 정한다.
이는 시간에 따른 재료의 부식 저항이 금속 스트립에 도포된 아연 두께에 직접적으로 비례하는 것에 의해 설명된다.
에어 나이프에 의해 형성되는 분사의 질이 따라서 고온아연도금 공정의 기본적인 요소 중 하나를 나타낸다.
공기 흐름은 공간과 시간에 대하여 스트립의 양면에 균일하게 분포되어 계획된 값에 대한 코팅 두께의 최소 편차를 보장할 수 있는 것이 바람직하다.
상기한 공간 및 시간에 대해 균일한 공기 분포를 얻기 위하여, 에어 나이프는 스트립의 전체 폭 위로 연장되고 노즐을 통과하기 전에 난류를 제한할 수 있도록 제공된다.
압력 분포를 고르게 하고 공기 흐름의 소용돌이도(vorticity)를 최소화하기 위하여, 장치 내에서 부하 손실이 상당히 증가하지만, 이는 주요한 한계이다. 그러므로, 적절한 부하 손실로도 공기 흐름의 충분한 균일도를 확보할 수 있는 해결방법을 확인하기 위한 시도가 있어왔다.
에어 나이프는 공기를 고리모양의 챔버와 같은 것 안쪽으로 분사하며, 또한 배급 매니폴드(delivery manifold)로 알려져 있는 원통형 파이프를 포함하는 장치이다. 압력이 가해진 공기에 대한 출구가 원통형 파이프의 측면에 실린더의 전체 길이를 따라 정렬되어 제공된다. 고리모양 챔버 내부로의 공기 흐름을 고르게 하기 위하여 하나 또는 그 이상의 구멍뚫린 칸막이가 배열될 수 있다. 원통형 파이프는 플레넘(plenum)을 통해 양단으로부터 공급받는다.
노즐은 기체 압력의 가능한 비균일성의 일부만을 회복할 수 있을 뿐이므로, 공급의 균일성은 에어 나이프 몸체에 의해 연역적으로 얻어져야 한다.
DE19954231 공보에서, 예를 들면, 제1 변형예는 파이프의 대칭축에 평행하게 배열된 구멍의 배열을 갖는 원통형 파이프를 보여준다. 다른 변형예에서, 원통형 파이프는 서로 평행하며 원통형 파이프의 경선(meridian)에 따라 배열된 홈을 갖는다. 제3 변형예는 서로 평행하며 원통형 파이프의 경선(meridian)에 따라 배열된 구멍의 정렬을 갖는 원통형 파이프를 보여준다. 제1 구멍뚫린 칸막이가 수직으로, 즉 고리모양 챔버의 단면의 진행축에 수직으로 배열된다. 기체의 시계방향 움직임에 따라, 제2의 바로 이어지는 칸막이는, 고리모양 챔버에 실질적으로 접선 방향이며 플랫 노즐의 최고점에 있는 출구 파이프의 진행 평면에 거의 수직으로 뚫린 구멍에 거의 수평이다.
DE19954231에 개시된 장치에서는 다음의 점들이 명확하다.
- 노즐로 이르는 직선의 범위(stretch)는 고리모양 챔버에 인접하며, 고리모양 챔버와 직선의 최종 범위에 의해 형성되는 전체 파이프의 중앙 진행 평면 내에서 불연속성을 형성한다.
- 마지막 칸막이는 노즐로 이르는 직선의 범위의 진행에 대해 거의 평행하다.
- 시계 방향으로 회전하는 기체의 부분이 수직 칸막이를 통과하고, 반시계방향으로 회전하는 나머지 부분이 마지막 칸막이만을 통과하며, 이는 장치의 고리모양 용기 내에 결과적으로 두 개의 평행한 챔버를 만든다.
이러한 문헌에 나타난 장치는 압력 하의 기체가 마지막 직선 범위의 하부 벽에 충돌하고 튕겨나오게 하여 장치 내의 난류를 상당히 증가시킨다. 또한, 두 기체 부분이 마지막 칸막이를 통과하기 전에 충돌하여, 또한 난류를 생성한다.
본 발명의 과제는 특히 메탈 스트립에 대한 고온 코팅 공정에 적합한 노즐의 길이에 걸친 기체 분포의 균일성을 개선하는데 부합시킨 또한 플랫 분사를 생성하도록 부합시킨 노즐을 따라 기체 흐름을 레벨링하는 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 특히 금속 스트립의 고온 코팅 공정에서 플랫 층류 기체 분사를 생성하기 위한 장치로서, 청구항 1에 따라,
- 제1 구멍이 제공되는 주변 벽을 갖는 길이방향 배급 매니폴드,
- 상기 제1 구멍을 통해 상기 길이방향 배급 매니폴드와 연결되는 레벨링(levelling) 프리챔버,
- 제1 말단에서 상기 레벨링 프리챔버와 연결되는 레벨링 파이프,
- 상기 플랫 기체 분사를 생성하도록 부합시킨 노즐을 포함하고,
- 상기 레벨링 파이프는 제2 말단에서 상기 노즐과 연결되고, 점점 가늘어지며 상기 레벨링 프리챔버로부터 상기 노즐로의 기체 흐름 경로를 형성하도록, 상기 제 2 말단은 상기 제1 말단과 대향하고 상기 제1 말단보다 작은 단면을 가지며, 상기 경로는 굽은 중앙 진행 평면(curved medial development surface)을 정의하고,
- 적어도 두 개의 구멍뚫린 칸막이가 상기 굽은 중앙 진행 평면에 직각으로 상기 레벨링 파이프 내에 배열되어, 상기 레벨링 파이프의 서로 인접하여 연결된 적어도 두 개의 연속적인 부분을 정의하며,
상기 제1 구멍은 상기 배급 매니폴드의 상기 주변 벽의 제1 길이방향 부채꼴 내에만 제공되고, 상기 레벨링 프리챔버는 외부로 적어도 약 상기 제1 길이방향 부채꼴로 연장되고,
상기 레벨링 파이프의 상기 제1 부분은 상기 제1 길이방향 부채꼴에 인접되게, 상기 배급 매니폴드의 상기 주변 벽의 제2 길이방향 부채꼴로 외부로 연장되며,
상기 레벨링 파이프의 제2 부분은 상기 제2 길이방향 부채꼴의 하류에서 상기 배급 매니폴드에 대해 실질적으로 접선 방향으로 배열되며,
상기 레벨링 파이프의 상기 제1 말단의 난류로부터 상기 제2 말단으로의 층류로의 기체 흐름 변화를 최적화하도록 상기 굽은 중앙 진행 평면이 모난 점이 없이 이상적인 연속 곡면에 의해 표현된다.
바람직한 변형예에서, 레벨링 프리챔버는 유리하게는 상기 제1 길이방향 부채꼴 외부로 감겨 있으며, 레벨링 파이프의 제1 부분은 상기 제2 길이방향 부채꼴 외부로 감겨 있다.
레벨링 파이프의 제1 부분은 바람직하게는 배급 매니폴드의 상기 제2 길이방향 부채꼴을 30 내지 180°범위, 예를 들면, 약 90°의 각도 범위로 감겨 있다.
바람직한 변형예에서, 레벨링 프리챔버는 상기 제1 길이방향 부채꼴만을 둘러싸고 있으며, 바람직하게는 그렇지만 필수적이지는 않게 약 90°의 각도 범위에 대해 둘러싸고 있다.
장치는 제1 구멍을 통해 배급 매니폴드를 빠져나오는 기체 흐름이 레벨링 파이프에 도달하기 위해서 단일의 회전 방향으로 레벨링 프리챔버를 가로지를 수 있도록 형성된다.
굽은 중앙 진행 평면의 제1 범위(stretch)는 실질적으로 적어도 반원기둥의 측면의 일부이며, 굽은 중앙 진행 평면의 상기 제1 범위에 인접한 제2 범위는 실질적으로 편평한 평면이다.
본 발명은 전체 노즐 연장부에 대해 균일하고 특히 시간에 대해 균일한, 즉 불안정성이 없는 흐름을 노즐로 공급하는 문제를 유리하게 해결한다. 특히, 레벨링 파이프의 진행 평면은 연속적이고 모난 점이 없으므로 기체 흐름 방향 내 파이프의 임의의 점에서 파이프의 진행 평면에서 계산된 제1 미분이 또한 연속적임을 내포한다. 따라서, 흐름이 파이프의 벽에 대해 각도를 갖고 충돌하여 난류를 발생시키는 영역이 없다. 또한, 이는 기체 흐름에 수직이며 따라서 레벨링 파이프의 진행 평면에 대해 수직인 면을 가지며 칸막이가 배열되는 위치에 따라 기체 흐름의 방향에 대해 평행한 구멍 축을 갖는 레벨링 칸막이를 삽입하는 것을 가능하게 한다.
하나의 구멍뚫린 칸막이와 다음 것 사이에, 압축된 기체 흐름 레벨링 파이프의 부분이 이렇게 정의된다. 그러므로 레벨링 파이프의 범위는 하나가 다른 하나에 대해서 일렬로 또는 계단식으로 프리챔버의 하류에 배열되며, 기체 흐름의 점진적인 균질화를 제공한다.
레벨링 파이프의 상기 점진적인 범위를 포함하는 레벨링 파이프는 노즐을 향해 점진적으로 줄어드는 면적을 갖는 기체 흐름에 수직인 단면을 가져, 레벨링 파이프의 배급 매니폴드의 일부를 둘러싸는 부분이 난류를 일으키지 않는다. 또한, 레벨링 파이프의 제1 및 제2 부분이 연결되어, 흐름은 제2 부분의 대응하는 중앙 진행 평면에 평행한 제2 부분으로 도입된다.
또한, 유체가 통과하도록 강제되는 칸막이 구멍은 기체 흐름 방향의 진행을 따르는 각 칸막이의 위치에 따라 점진적으로 지름이 줄어들고 수가 늘어나, 유체 가닥이 파이프의 벽에 평행하게 배열되도록 하고 점진적으로 기체 흐름 운동을 난류로부터 선형으로 전환한다. 다른 장점은 칸막이가 레벨링 파이프의 실질적으로 선형 부분에 배열되어 난류율(turbulence rate)이 현저하게 줄어들고 이에 따라 추가로 명확한 난류의 감소가 일어나며 공기역학적으로 이상적인 선형성에 이르게 된다는 것이다.
종속청구항은 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하며, 본 명세서의 필수 부분을 구성한다.
본 발명의 다른 특징과 이점은, 첨부한 도면을 참고로 비제한적인 예로서 나타낸, 특히 금속 스트립에 대한, 예를 들면 아연 합금 또는 알루미늄 합급의 고온 코팅 공정을 위한, 플랫 분사를 생성하기 위해 적응된 노즐을 따라 기체 흐름을 레벨링하는 장치의, 바람직하지만 비제한적인 실시예의 상세한 설명에 의하여 명확해질 것이다.
도 1은 장치의 개략단면도를 나타낸다.
도 2a, 2b 및 2c는 도 1의 장치의 기체 흐름 방향에 수직인 세 단면도를 나타낸다.
도면의 동일한 인용번호와 문자는 동일한 요소 또는 성분을 가리킨다.
도 1을 참조하여, 본 발명에 따른 기체 흐름을 레벨링하는 장치는 길이방향의 배급 매니폴드(1)와 기체를 배급 매니폴드(1)로부터 노즐(10)이 체결된 레벨링 파이프(3)로 향하게 하는 레벨링 프리챔버(2)를 포함한다. 상기 매니폴드의 전체 길이 또는 길이방향 연장부에 대해 약 90°의 각도 범위의 제1 길이방향 부채꼴(11) 내의 배급 매니폴드의 주변 벽은 기체가 통과하는 제1 구멍(12)을 포함한다. 도 1 및 2a에서, 예를 들면, 3줄의 제1 구멍(12) 이 제공된다. 다른 변형예에서, 제1 구멍(12)의 줄 수는 3과 다른 수일 수 있다. 레벨링 프리챔버(2)는 구멍(12)이 있는 제1 길이방향 부채꼴(11)을 덮으며, 즉, 약 바람직하게는 90°에 대해 제2 길이방향 부채꼴에 대해 배급 매니폴드(1)를 둘러싸는 제1 범위 또는 부분(3a)과 배급 매니폴드(1)에 대해 접선 방향으로 실질적으로 연장된 제2 범위 또는 부분(3b)으로 나누어진 레벨링 파이프(3)에 연결된다. 레벨링 파이프(3)의 두 부분은 인접하며 서로 완벽하게 연결되어 전체 레벨링 파이프를 따라 모서리의 존재가 없도록 한다.
길이방향 배급 매니폴드(1)는 원형, 타원형 등의 단면을 가질 수 있으며 측면은 동일한 또는 다른 각도 범위의 길이방향 부채꼴로 구분될 수 있다. 레벨링 파이프(3)의 제1 부분(3a)은 배급 매니폴드(1)의 부분 또는 길이방향 부채꼴 주위로 연장될 수 있으며, 바람직하게는 30°에서 180°의 범위의 각도이다.
참조 문자 Z는 도 1의 장치의 단면과 실질적으로 또는 완전히 선형인 파이프 부분 내의 가스 흐름의 방향에 따른 진행축에 대응하는 레벨링 파이프(3)의 이상적인 중앙 진행 평면의 윤곽을 나타낸다.
레벨링 파이프(3)는 제1 부분(3a)으로부터 노즐(10)이 체결된 출구 파이프(4)까지의 제2 부분(3b)를 향해 점점 가늘어진다.
노즐(10)은 별도의 구성요소이거나 출구 파이프(4)와 하나의 구성요소로 만들어져 통합된다. 도 1에 도시된 노즐(10)은 단지 플랫 기체 분사를 생성하기 위한 폭을 갖는 노즐의 존재를 도식화하기 위해 의도한 것이다.
구멍(12)은 기체가 레벨링 프리챔버(2) 내로 도입되도록 한다. 제1 구멍(12)이 뚫려있는 배급 파이프(1)의 측벽의 범위는 배급 파이프(1)와 레벨링 프리챔버(2) 사이에서 공통일 수 있다.
칸막이(5)는 실질적으로 레벨링 프리챔버(2)와 레벨링 파이프(3)의 제1 부분(3a) 사이의 연결지점에 배열된다. 이 칸막이(5)는 제2 구멍(25)을 포함한다.
이어지는 칸막이(6)는 실질적으로 기체 흐름 방향에 대하여 제1 칸막이(5)의 하류의 중간 영역에 배열된다. 이 칸막이(6)는 제3 구멍(26)을 포함한다.
칸막이(5, 6)는 유지관리와 장치의 구성 변경을 위한 두 가지 이유로 분리할 수 있는 것이 바람직하다.
칸막이(5, 6)는 굽은 중앙 진행 평면(Z)에 수직이다. 상기 평면(Z)은 먼저 실질적으로 반원기둥이고 이어서 실질적으로 편평한 패턴을 따른다, 즉, 굽은 중앙 진행 평면(Z)의 제1 범위는 실질적으로 반원기둥의 측면의 적어도 일부분인 반면 상기 굽은 평면(Z)의 제2 범위는 실질적으로 편평한 평면이다.
주어진 파이프(3)의 형태에서, 도 1의 장치 변형예를 특별히 참조하여, 칸막이(5)는 실질적으로 수평이고 칸막이(6)는 실질적으로 수직이다. 더 일반적으로는, 두 칸막이(5, 6)는 서로 실질적으로 수직인 평면 상에 각각 배열된다.
본 발명에 따르면, 각 벽이 둘러싼 레벨링 파이프(3)의 제1 부분(3a)과 제2 부분(3b) 사이의 완벽한 연결은 난류 현상을 유발하지 않고 그보다도 기체의 유출을 용이하게 한다.
또한, 구멍뚫린 칸막이(5, 6)는 레벨링 파이프(3)를 따라 각 위치에서 기체 흐름의 층류 움직임 방향에 평행한 각 구멍의 축을 가지며 항상 평면(Z)에 수직이다.
칸막이(6)를 특별히 참조하면, 난류 세기와 구멍뚫린 칸막이(5, 6)의 위치 사이에는 관계가 있다. 높은 난류율로 구멍뚫린 칸막이(6)에 유체가 도달하면, 구멍(26)의 레벨링 작용은 최대한의 이득까지 이용될 수 없다. 칸막이(6)는 이전 칸막이(5)로부터 이격되어 칸막이(6)의 입구에서 난류율이 전체 기체 흐름보다 적어도 7% 낮고, 흐름의 나머지 양은 층류 움직임으로 이동하는 것이 바람직하다.
그러므로, 7%보다 낮은 난류율, 바람직하게는 5%보다 낮은 난류율로 사용하는 칸막이(6)가 특히 중요하다.
레벨링 파이프(3)가 좁아지는 것은 본질적으로 칸막이(5)와 노즐(10)에서 끝나는 출구 파이프(4) 사이에서 일어난다. 다른 것에 비해 현저한 치수를 특징으로 하는 노즐, 즉, 약 2-3미터의 폭과 폭에 비해 훨씬 낮은 높이 및 길이를 갖는 노즐을 가진 장치의 경우, 2-3미터 폭의 대응하는 편평한 기체 분사를 생성하기 위하여 단면을 1/4로 축소한다, 즉, 60mm의 단면으로부터 15mm의 것으로 변경한다. 이는 500 내지 900mm 사이의 이상적인 평면(Z) 상에서 측정된 전체 경로에 대해 제공된다.
본 발명의 다른 면에 따르면, 제1 구멍(12), 제2 구멍(25) 및 제3 구멍(26)은 서로 특별한 관계를 갖도록 치수가 정해지고 배열된다.
제1 구멍(12), 제2 구멍(25) 및 제3 구멍(26)은 바람직하게는 둥근 구멍이다.
도 2a, 2b 및 2c를 참조하면:
- 제1 구멍(12)은 지름 Φ1을 갖고, 제1 방향으로 d1과 동일한 치수만큼, 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 s1과 동일한 치수만큼 서로 이격되어 있다;
- 제2 구멍(25)은 지름 Φ2를 갖고, 제1 방향으로 d2와 동일한 치수만큼, 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 s2와 동일한 치수만큼 서로 이격되어 있다;
- 제3 구멍(26)은 지름 Φ3을 갖고, 제1 방향으로 d3과 동일한 치수만큼, 제1 방향과 수직인 제2 방향으로 s3과 동일한 치수만큼 서로 이격되어 있다;
지름 Φ1과 Φ2 사이의 관계와 지름 Φ2와 Φ3 사이의 관계는 유리하게는 구멍 수의 증가비와 동일하다. 구멍 사이의 거리 s2, d2와 s3, d3은 따라서 기체 흐름 경로를 따라 줄어든다. 예를 들면, 칸막이(5)의 제2 구멍(25)의 지름은 제1 구멍(12)의 지름에 비해 절반이며, 제2 구멍(25)의 수는 제1 구멍(12)의 수의 두 배이다. 이는 구멍이 배열된 레벨링 파이프(3)의 위치와는 독립적으로 일어난다. 이는 도 1의 변형예의 경우에서와 같은 3줄의 구멍이 동일한 부하 손실을 나타내는 것을 수반한다. 그러므로, 전체 부하 손실은 3줄의 구멍 중 한 줄의 부하 손실의 3배와 동일하다.
모든 구멍의 줄에 대하여, 두 연속된 줄의 구멍은 서로 오프셋되어 구멍이 배열된 경우에 대해 2배의 컬럼 수를 정의한다. 또한, 연속된 컬럼은 서로 동일 간격으로 이격되어 있다. 구멍의 치수와 위치에 대한 동일한 규칙이 두 개 이상, 예를 들면, 3개 또는 4개의 칸막이가 있는 경우에 또한 적용된다.
도 2a, 2b 및 2c는 위에서부터 아래로 제1 구멍(12)의 줄(도 2a), 칸막이(5)(도 2b) 및 칸막이(6)(도 2c)를 보여준다. 두 개의 평행한 수직선(a, b)이 두 연속적인 열의 구멍(12)의 중심을 통과하는 점을 유의할 만하다.
상기 선(a, b)은 각각 칸막이(5, 6)의 구멍(25)의 중심을 통과하고 또한 구멍(26)의 중심을 통과한다.
선(a, b) 사이에, 즉, 선에 의해 교차되지 않는 구멍(25)의 중간 열이 있다.
선(a, b) 사이에, 즉, 선에 의해 교차되지 않는 구멍(26)의 중간 3열이 있다.
그러므로, 구멍 열의 수가 증가함에 따라 상기 구멍의 지름이 유사하게 감소함을 유의할 만하다.
본 발명은 노즐의 전체 길이에 대해 균일하고 시간에 대해 안정한 흐름을 노즐(10)로 공급하는 문제를 유리하게 해결한다.
이는 첫째로 비연속성을 갖지 않는 레벨링 파이프(3)의 진행 평면(Z)에 기인한다. 그리고 유체가 통과하는 칸막이가 항상 진행 평면(Z)에 대해 수직으로 배열된다는 사실에 기인한다.
흐름의 추가적인 최적화는 배급 매니폴드의 주변 벽에 형성된 것으로부터 레벨링 파이프의 마지막 구멍뚫린 칸막이 내에 제공되는 것까지, 점차적으로 지름이 줄어들고 수가 늘어나는 구멍에 의해 얻어진다.
또한, 대응 부분의 중앙 진행 평면이 실질적으로 편평한 부분(3b)에 칸막이(6)가 배열된다. 이는 레벨링 파이프(3)의 상기 부분(3b)과 내부에 배열된 칸막이(6) 사이의 시너지 효과를 생성한다. 또한, 상기 칸막이(6)에 난류를 2% 이하의 비율로 더 감소시킬 수 있는 매우 작은 지름의 구멍이 있으므로, 출구 파이프(4)에서 거의 배타적으로 층류인 기체 흐름 움직임의 생성을 얻을 수 있다.
본 발명의 장치는 유리하게는 동일한 플랫 노즐(10)로 향하는 기체 흐름의 균일도와 함께 더 낮은 손실 부하를 갖는다. 이는 스트립에 가해지는 분사의 전단응력(shear stress)을 더 크게 하고 과잉의 아연을 더 많이 잘 제거할 수 있다.
다양한 바람직한 실시예에서 나타난 구성요소와 특징은 결합될 수 있지만, 본 출원의 보호 범위를 벗어나지 않는다.

Claims (14)

  1. 특히 금속 스트립의 고온 코팅 공정에 적합한 플랫 층류 기체 분사를 생성하기 위한 장치로서,
    - 제1 구멍(12)이 제공되는 주변 벽을 갖는 길이방향 배급 매니폴드(1),
    - 상기 제1 구멍(12)을 통해 상기 길이방향 배급 매니폴드(1)와 연결되는 레벨링(levelling) 프리챔버(2),
    - 제1 말단에서 상기 레벨링 프리챔버(2)와 연결되는 레벨링 파이프(3),
    - 상기 플랫 기체 분사를 생성하도록 부합시킨 노즐(10)을 포함하고,
    - 상기 레벨링 파이프(3)는 제2 말단에서 상기 노즐(10)과 연결되고, 점점 가늘어지며 상기 레벨링 프리챔버(2)로부터 상기 노즐(10)로의 기체 흐름 경로를 형성하도록, 상기 제 2 말단은 상기 제1 말단과 대향하고 상기 제1 말단보다 작은 단면을 가지며, 상기 경로는 굽은 중앙 진행 평면(curved medial development surface)(Z)을 정의하고,
    - 적어도 두 개의 구멍뚫린 칸막이(5, 6)가 상기 굽은 중앙 진행 평면(Z)에 직각으로 상기 레벨링 파이프(3) 내에 배열되어, 상기 레벨링 파이프(3)의 서로 인접하여 연결된 적어도 두 개의 연속적인 부분(3a, 3b)을 정의하며,
    상기 제1 구멍(12)은 상기 배급 매니폴드(1)의 상기 주변 벽의 제1 길이방향 부채꼴(11) 내에만 제공되고, 상기 레벨링 프리챔버(2)는 외부로 적어도 약 상기 제1 길이방향 부채꼴(11)로 연장되고,
    상기 레벨링 파이프(3)의 상기 제1 부분(3a)은 상기 제1 길이방향 부채꼴에 인접되게, 상기 배급 매니폴드(1)의 상기 주변 벽의 제2 길이방향 부채꼴로 외부로 연장되며,
    상기 레벨링 파이프(3)의 제2 부분(3b)은 상기 제2 길이방향 부채꼴의 하류에서 상기 배급 매니폴드(1)에 대해 실질적으로 접선 방향으로 배열되며,
    상기 레벨링 파이프(3)의 상기 제1 말단의 난류로부터 상기 제2 말단으로의 층류로의 기체 흐름 변화를 최적화하도록 상기 굽은 중앙 진행 평면(Z)이 모난 점이 없이 이상적인 연속 곡면에 의해 표현되는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 레벨링 프리챔버(2)는 상기 제1 길이방향 부채꼴(11) 외부로 감겨 있으며, 상기 레벨링 파이프(3)의 상기 제1 부분(3a)은 상기 제2 길이방향 부채꼴 외부로 감겨 있는 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2 길이방향 부채꼴은 30 내지 180°범위의 각도 범위를 갖는 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제2 길이방향 부채꼴은 약 90°의 각도 범위를 갖는 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레벨링 프리챔버(2)는 상기 제1 길이방향 부채꼴(11)에만 감긴 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1 길이방향 부채꼴은 약 90°의 각도 범위를 갖는 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 굽은 중앙 진행 평면(Z)의 제1 범위(stretch)는 실질적으로 적어도 반원기둥의 측면의 일부이며, 상기 굽은 중앙 진행 평면(Z)의 상기 제1 범위에 인접한 제2 범위는 실질적으로 편평한 평면인 장치.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 구멍뚫린 칸막이(5)와, 상기 제1 칸막이의 하류에 배열된 제2 구멍뚫린 칸막이(6)를 포함하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제1 칸막이는 상기 레벨링 프리챔버(2)와 상기 레벨링 파이프(3)의 제1 부분(3a) 사이의 연결지점에 배열된 장치.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 제2 구멍뚫린 칸막이(6)는 실질적으로 상기 레벨링 파이프(3)의 제1 부분(3a) 및 제2 부분(3b) 사이의 연결지점에 배열된 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 칸막이(5)와 출구 파이프(4) 사이의 범위 내의 상기 레벨링 파이프(3)의 단면은 초기값의 약 1/4로 감소하는 장치.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 구멍뚫린 칸막이(5)는 제2 구멍(25)을 포함하고, 상기 제2 구멍뚫린 칸막이(6)는 제3 구멍(26)을 포함하며, 구멍(12, 25, 26)의 지름(Φ1, Φ2, Φ3)은 구멍(12, 25, 26)의 번호가 증가하는 기체 흐름 경로를 따라 감소하는 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제2 구멍(25)의 지름(Φ2)은 상기 제1 구멍(12)의 지름(Φ1)의 절반이고, 상기 제2 구멍(25)의 수는 상기 제1 구멍(12)의 수의 두 배인 장치.
  14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 제3 구멍(26)의 지름(Φ3)은 상기 제2 구멍(25)의 지름(Φ2)의 절반이고, 상기 제3 구멍(26)의 수는 상기 제2 구멍(25)의 수의 두 배인 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190003873A (ko) * 2017-06-30 2019-01-10 유윤석 열교환기용 에어팬쿨러 핀 튜브 클리닝장치

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107723643A (zh) * 2017-11-10 2018-02-23 常州九天新能源科技有限公司 一种圆形风刀
WO2023014358A1 (en) * 2021-08-05 2023-02-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Gas jets
CN115354257B (zh) * 2022-08-30 2023-07-25 武汉钢铁有限公司 一种气刀

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4041895A (en) * 1975-09-29 1977-08-16 Republic Steel Corporation Coating thickness and distribution control
SU899707A1 (ru) * 1980-05-16 1982-01-23 Славянский Филиал Всесоюзного Ордена Ленина Научно-Исследовательского И Проектно-Конструкторского Института Металлургического Машиностроения Устройство дл регулировани толщины покрыти
JPH09217162A (ja) 1996-02-13 1997-08-19 Sumitomo Metal Ind Ltd ガスワイピングノズル
FR2748410B1 (fr) * 1996-05-07 1998-06-05 Air Liquide Procede et machine de brasage ou etamage a la vague
DE19729232C1 (de) * 1997-07-09 1999-04-08 Duma Masch Anlagenbau Vorrichtung zur Vergleichmäßigung der Gasdruckverteilung über die Austrittsöffnung einer Flachstrahldüse
DE19954231C1 (de) * 1999-11-04 2000-12-28 Duma Masch Anlagenbau Vorrichtung zur Vergleichmäßigung der Gasdruckverteilung über die Austrittsöffnung einer Flachstrahldüse
WO2007142396A1 (en) * 2006-06-05 2007-12-13 Posco Gas wiping apparatus
KR100843923B1 (ko) * 2006-12-08 2008-07-03 주식회사 포스코 다단 노즐형 가스 와이핑 장치
ITMI20071164A1 (it) * 2007-06-08 2008-12-09 Danieli Off Mecc Metodo e dispositivo per il controllo dello spessore di rivestimento di un prodotto metallico piano
DE102010008989B4 (de) 2009-03-06 2018-07-26 Primetals Technologies Japan, Ltd. Gasabstreifvorrichtung
JP5602371B2 (ja) * 2009-03-06 2014-10-08 三菱日立製鉄機械株式会社 ガスワイピング装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190003873A (ko) * 2017-06-30 2019-01-10 유윤석 열교환기용 에어팬쿨러 핀 튜브 클리닝장치

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