KR20140041506A - 반응성 증착 프로세스를 위한 가스 시스템 - Google Patents

반응성 증착 프로세스를 위한 가스 시스템 Download PDF

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Abstract

복수의 이격된 도가니들(120)을 가지는, 반응성 증착 프로세스를 위해서 구성된 가스 랜스 유닛으로서, 공간들이 상기 도가니들 사이에 제공되는 가스 랜스 유닛이 개시된다. 가스 랜스 유닛은 반응성 증착 프로세스를 위한 가스(4)를 제공하기 위한 하나 또는 둘 이상의 배출구들(30)을 가지는 가스 안내 튜브(130), 및 응축물, 특히 알루미늄 응축물을 상기 공간들 위의 하나 또는 둘 이상의 위치들로 안내하기 위한 응축물 안내 요소(140)를 포함한다.

Description

반응성 증착 프로세스를 위한 가스 시스템{GAS SYSTEM FOR REACTIVE DEPOSITION PROCESS}
본원 발명의 실시예들은 반응성 증착(deposition; 이하에서 편의상 "증착"이라 함) 프로세스, 반응성 증착 장치들 및 반응성 증착 방법들을 위한 가스 제공용 가스 랜스(lance) 유닛들에 관한 것이다. 본원 발명의 실시예들은 특히 복수의 이격된 도가니들을 이용한 반응성 증착 프로세스를 위해서 구성된 가스 랜스 유닛, 반응성 증착 프로세스를 위한 증발 장치, 및 증발 장치의 동작 방법에 관한 것이다.
플라스틱 필름들 또는 호일들과 같은 가요성 기판들을 프로세싱하는 것이 패키징 산업, 반도체 산업들 및 기타 산업들에서 크게 요구되고 있다. 프로세싱은 금속, 특히 알루미늄과 같은 희망 재료로 가요성 기판을 코팅하는 것으로 이루어질 수 있을 것이다. 이러한 과제를 수행하는 시스템들은 일반적으로, 기판 운송을 위해서 프로세싱 시스템에 커플링되고 기판의 적어도 일부가 상부에서 프로세스되는 프로세싱 드럼, 예를 들어, 원통형 롤러를 포함한다. 그에 의해서, 롤-대-롤 코팅 시스템들은, 예를 들어, 패키징 산업에서 높은 처리량의(throughput) 시스템을 제공할 수 있다. 예를 들어, 산소 또는 물에 대한 배리어들로서의 투명한 층들이 증착될 수 있다.
전형적으로, 열적 증발 프로세스와 같은 증발 프로세스를 이용하여 금속들의 얇은 층들을 증착할 수 있고, 상기 금속들은 플라스틱 또는 미리-코팅된(pre-coated) 종이와 같은 가요성 기판들 상으로 금속화될(metallized) 수 있다. 그러나, 증발 프로세스는 또한, 유리 기판들, 금속 기판들, 또는 웨이퍼들, 등과 같은 비-가요성 기판들을 위한 다른 증착 장치들에서도 이용될 수 있다.
예를 들어, 금속 산화물 층들이 반응성 증발 프로세스로 증발될 수 있다. 그에 의해서, 금속이 증발되고 그리고 산소와 같은 반응성 가스가 금속의 증기 내에서 제공된다. 이러한 증발 방법은, 예를 들어, 알루미늄 산화물, 알루미늄 질화물, 알루미늄 산질화물, 및 다른 재료들 중의 상응하는 재료들을 기판들 상에 증착하기 위해서 이용될 수 있다. 그에 의해서, 산소 등이 바람직하게 알루미늄의 증기 내에서 제공된다. 알루미늄 증기가 높은 반응성을 가지고 그리고 공격적(aggressive)이라는 사실에 비추어 볼 때 그리고 반응성 가스가 알루미늄 증기에 근접하여 또는 심지어 알루미늄 증기의 구름(cloud) 내에서 안내될 필요가 있다는 사실에 비추어 볼 때, 많은 어려움들이 있다. 비록 이러한 어려움들이 알루미늄 산화물을 반응적으로 증착하는데 있어서 특히 중요할 수 있으나, 금속들 또는 다른 재료들이 산화물들, 질화물들 또는 다른 형태들로 반응적으로 증착되는 다른 증착 프로세스들에서도 유사한 어려움들이 발생될 수 있을 것이다. 전형적인 추가적인 재료들이 Bi, Zn, Sn, In 및 Ag가 될 수 있다.
전술한 내용에 비추어 볼 때, 당업계에서의 문제점들 중 적어도 일부를 극복하기 위한 개선된 가스 랜스 유닛, 개선된 증발 장치 및 개선된 증발 프로세스를 제공하는 것이 목적이다.
전술한 내용에 비추어 볼 때, 독립항인 제 1 항에 따른 가스 랜스 유닛, 제 6 항에 따른 증발 장치, 및 독립항인 제 11 항에 따른 방법이 제공된다. 본원 발명의 추가적인 양태들, 장점들, 및 특징들이 종속항들, 상세한 설명, 및 첨부 도면들로부터 분명하다 할 것이다.
일 실시예에 따라서, 복수의 이격된 도가니들을 가지는, 반응성 증착 프로세스를 위해서 구성된 가스 랜스 유닛이 제공되고, 공간들이 상기 도가니들 사이에 제공된다. 가스 랜스 유닛은 반응성 증착 프로세스를 위한 가스를 제공하기 위한 하나 또는 둘 이상의 배출구들을 가지는 가스 안내 튜브, 및 응축물(condensate), 특히 알루미늄 응축물을 상기 공간들 위의 하나 또는 둘 이상의 위치들로 안내하기 위한 응축물 안내 요소를 포함한다.
다른 실시예에 따라서, 반응성 증착 프로세스를 위한 증발 장치가 제공된다. 증발 장치는 복수의 이격된 도가니들을 위한 복수의 지지부들로서, 상기 도가니들 사이에는 공간들이 제공되는, 복수의 지지부들, 증착 표면 상에 제공되는 기판 상으로 재료를 증착하기 위한 증착 표면, 및 가스 랜스 유닛을 포함한다. 상기 가스 랜스 유닛은 반응성 증착 프로세스를 위한 가스를 제공하기 위한 하나 또는 둘 이상의 배출구들을 가지는 가스 안내 튜브, 및 응축물, 특히 알루미늄 응축물을 상기 공간들 위의 하나 또는 둘 이상의 위치들로 안내하기 위한 응축물 안내 요소를 포함한다. 그에 의해서, 가스 랜스 유닛이 증착 표면 아래에 제공되고 그리고 제 1 방향으로 연장하는 길이를 가진다.
추가적인 실시예에 따라서, 증착 장치 동작 방법이 제공된다. 방법은 증착 표면을 향해서 복수의 이격된 도가니들 내의 재료를 증발시키는 단계로서, 상기 도가니들 사이에 공간들이 제공되는, 증발시키는 단계, 가스 안내 튜브를 이용하여 가스를 상기 도가니들과 증착 영역 사이의 증기 내로 안내하는 단계, 및 상기 증기의 응축물들을 상기 공간들 위의 위치들로 안내하는 단계를 포함한다.
실시예들은 또한 개시된 방법들을 실행하기 위한 장치들에 관한 것이고 그리고 각각의 개시된 방법 단계를 실시하기 위한 장치 부품들(parts)을 포함한다. 이러한 방법 단계들은 하드웨어 성분들, 적절한 소프트웨어에 의해서 프로그래밍된 컴퓨터에 의해서, 상기 2가지의 임의 조합에 의해서 또는 임의의 다른 방식으로 실시될 수 있을 것이다. 추가적으로, 본원 발명에 따른 실시예들은 또한, 설명된 장치가 동작하게 하는 방법들에 관한 것이다. 이는, 장치의 모든 기능을 실시하기 위한 방법 단계들을 포함한다.
본원 발명의 앞서 인용한 특징들이 구체적으로 이해될 수 있는 방식으로, 첨부된 도면들을 참조하여, 앞서서 간략하게 요약한 본원 발명의 보다 특별한 설명이 이루어진다. 첨부 도면들은 발명의 실시예들에 관한 것이고 그리고 이하에서 설명된다:
도 1은 여기에서 개시된 실시예들에 따른 가스 랜스 유닛을 가지는 증발 장치의 개략적인 측면도를 도시한다.
도 2는 여기에서 개시된 실시예들에 따른 가스 랜스 유닛을 가지는 증발 장치의 다른 개략적인 측면도를 도시한다.
도 3a 내지 3f는 여기에서 개시된 실시예들에 따른 가스 랜스 유닛의 개략적인 도면들을 도시한다.
도 4a 및 4b는 여기에서 개시된 실시예들에 따른 가스 랜스 유닛들을 증발 장치의 동작 조건들에 대해서 적응시키는 것(adaptation)을 도시한다.
도 5는 여기에서 개시된 실시예들에 따라 재료를 반응적으로 증착하는 방법의 흐름도를 도시한다.
이제, 발명의 여러 가지 실시예들을 구체적으로 참조할 것이며, 그러한 실시예들의 하나 또는 둘 이상의 예들이 도면들에 도시되어 있다. 도면들의 이하의 설명에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 성분들을 지칭한다. 일반적으로, 개별적인 실시예들에 대한 차이들만을 설명한다. 각각의 예가 발명의 설명에 의해서 제공되고 그리고 발명의 제한으로서 의미되는 것은 아니다. 또한, 하나의 실시예의 일부로서 예시된 또는 설명된 특징들이 다른 실시예들에서 사용되거나 다른 실시예들과 조합되어 또 다른 추가적인 실시예를 산출할 수 있을 것이다. 설명이 그러한 수정들 및 변경들을 포함하는 것으로 의도된다.
일부 실시예들에 따라서, 기판들 예를 들어, 가요성 기판들 상에서의 층 증착을 위한 증발 프로세스들 및 증발 장치가 제공된다. 그에 의해서, 가요성 기판들이 특히, 플라스틱 재료, 금속 또는 다른 재료들의 필름들, 호일들, 웨브들, 스트립들을 포함하는 것으로 간주될 수 있다. 전형적으로, "웨브", "호일", "스트립", 및 "기판", 등의 용어들은 동의적으로 사용된다. 일부 실시예들에 따라서, 여기에서 개시된 실시예들에 따른 증발 프로세스들을 위한 성분들, 증발 프로세스들을 위한 장치들, 및 증발 프로세스들이 전술한 가요성 기판들을 위해서 제공될 수 있다. 그러나, 그들은 또한, 증발 공급원들로부터의 반응성 증착 프로세스가 적용되는, 유리 기판들 등과 같은 비-가요성 기판들과 함께 제공될 수 있다.
도 1은 챔버(102)를 가지는 증발 장치(100)를 도시한다. 챔버(102)는, 챔버 분리 브래킷과 같은, 챔버 분리 유닛(108)에 의해서 증착 챔버(106) 및 추가적인 챔버(104)로 분리된다. 추가적인 챔버가 권양(winding) 챔버가 될 수 있고, 그러한 권양 챔버는 가요성 기판(1)의 권양 및 풀림(unwinding)을 위해서 구성된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 가요성 기판(1)이 풀림 롤러(22)로부터 제공될 수 있고 그리고 권양 롤러(24) 상으로 권양될 수 있다. 기판은 복수의 추가적인 롤러들(26)에 의해서 프로세싱 드럼(28) 위에서 안내된다. 전형적인 실시예들에 따라서, 프로세싱 드럼(28)이 냉각 드럼일 수 있고, 상기 기판(1)이 증착 챔버(106) 내의 프로세싱 지역에서의 프로세싱 중에 냉각된다.
기판을 프로세싱하기 위한 시스템들 및 방법들의 예시적인 실시예들이 앞서서 상세하게 설명되어 있다. 그러한 시스템들 및 방법들은 여기에서 개시된 구체적인 실시예들로 제한되지 않고, 오히려, 시스템들의 성분들 및/또는 방법들의 단계들이 여기에서 개시된 다른 성분들 및/또는 단계들과 독립적으로 그리고 분리적으로 이용될 수 있을 것이다. 예를 들어, STS 롤러들 및 스프레더(spreader) 롤러들과 같은, 웨브 안내 롤러들의 상이한 조합들이 제 1 롤러와 프로세싱 드럼의 상류에 배치될 수 있을 것이다.
프로세싱 챔버 내의 진공 챔버 부분이, 진공 조건이 내부에서 유지되는 동안 기판을 챔버 내로 도입하는 것을 돕도록 구성된 입구(entrance)를 구비할 수 있을 것이다. 대안적으로, 풀림 및 권양 롤러들을 포함하는, 전체 롤-대-롤 시스템이 진공 챔버 내에 수용될 수 있을 것이다.
예시적인 실시예에서, 가요성 기판이 제조될 수 있도록, 코팅 유닛이 코팅 재료의 필름으로 가요성 기판을 코팅하기 위해서 제공된다. 여기에서 개시된 실시예들 중 임의의 실시예와 조합될 수 있는 다른 실시예들에 따라서, 코팅이 열적 증발 또는 전자 비임 증발이 될 수 있다. 코팅 유닛은, 예를 들어, 코팅된 층의 개선된 균일성을 촉진하기 위해서 엇갈림형 보트(staggered boat) 증발기들로 이루어질 수 있을 것이다.
프로세싱 챔버(106) 내에서, 복수의 도가니들(120)이 알루미늄, 비스무트, 아연, 주석, 인듐, 은, 또는 이러한 재료들의 합금, 등과 같은 재료를 증발시키기 위해서 제공된다. 도 1에서, 도가니(120)를 쇄선들로 도시하여, 도 1에 도시된 횡단면에 도가니(120)가 제공되지 않았다는 것을 나타냈다. 이는, 이하에서 도 2에 대해서 보다 구체적으로 설명될 것이다. 가스 안내 튜브(130)가 상기 프로세싱 드럼(28) 아래에 그리고 상기 도가니(120) 위에 제공된다. 그에 의해서, 산소와 같은 반응성 가스(4)가, 재료 증기가 제공되는 프로세싱 지역 내로 직접적으로 안내될 수 있다. 전형적으로, 가스 안내 튜브는, 재료가 기판(1) 상에 증착되는 증착 지역을 향해서 반응성 가스를 지향시키는 하나 또는 둘 이상의 개구부들을 가진다.
그러나, 전형적으로, 가스 안내 튜브(130)는 증착하고자 하는 재료의 증발 온도 보다 낮은 온도를 가지고, 그에 따라, 증착하고자 하는 재료의 응축이 가스 안내 튜브(130)에서 발생될 수 있다. 얼마간의 동작 시간 후에, 증발된 재료의 응축물이 낙하되기 시작할 것이다. 전형적으로, 복수의 도가니들이 이용되는 증발 프로세스의 경우에, 응축물이 도가니 내로 낙하하는 것은 증발 레이트(rate)의 바람직하지 못한 편차들(deviations)을 초래하고, 그에 따라, 기판 상에 증착되는 층의 층 두께의 편차들을 초래한다. 또한, 가스 안내 튜브 상에서의 응축이 다른 증착 프로세스들에서도 발생될 수 있을 것이다. 그러나, 증착하고자 하는 재료의 대형 저장용기를 가지는 증착 프로세스들은 증발 레이트의 보다 적은 편차들을 가지는데, 이는 보다 많은 양의 액체 알루미늄과 같은 액체 재료 때문이다. 따라서, 특히, 제한된 양의 알루미늄이 각각의 도가니에서 증발되는, 복수의 도가니들로부터의 증발 프로세스들의 경우에, 가스 안내 튜브에서의 응축물 형성 및 응축물의 낙하를 피해야 할 필요가 있다.
상기 내용에 비추어 볼 때, 여기에서 개시된 실시예들에 따라서, 가스 안내 튜브(130) 및 응축물 안내 요소(140)를 가지는 가스 랜스가 제공된다. 응축물 안내 요소(140)는 적어도 부분적으로 가스 안내 튜브(130) 아래에 제공된다. 예를 들어, 응축물 안내 요소(140)가 가스 안내 튜브(130) 및 도가니(120) 사이에 부분적으로 또는 전체적으로 제공될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 가스 안내 튜브 지지부(142)가 제공된다. 그에 의해서, 가스 랜스 유닛이 홀딩 부재(146)에서 바아(144)로 지지될 수 있다. 따라서, 바아(144) 및/또는 가스 랜스 유닛이 챔버(102)의 위치에 대해서 지지될 수 있다.
도 2에 도시된 측면도는 응축물 안내 요소(140)에 관한 추가적인 상세 내용들을 도시한다. 응축물 안내 요소(140)가 가스 안내 튜브(130) 아래쪽에 전체적으로 또는 적어도 부분적으로 제공되고 그리고 돌출부들(141)을 가진다. 그에 의해서, 가스 안내 튜브(130) 및 응축물 안내 요소(140) 상에 형성된 응축물이 돌출부들(141)을 향해서 안내된다. 돌출부들(141)은, 동작 중에, 도가니들(120) 사이의 공간들 위에 또는 공간들 중간에(in-between) 위치된다. 전형적으로, 가스 안내 튜브 및 응축물 안내 요소는, 동작 중에, 재료의 용융 온도 보다 높고 재료의 증발 온도 보다 낮은 온도를 가질 것이다. 따라서, 재료의 응축물이 돌출부들(141)을 향해서 유동할 수 있다. 그에 따라, 증착하고자 하는 재료의 응축물이 도가니들 사이로 낙하되고 그리고, 예를 들어, 응축물 박스(150) 내에 수집될 수 있다. 그에 의해서, 증착된 재료의 응축물이 도가니들(120) 내로 그리고 도가니들 내부의 용융된 재료로 낙하되지 않는다. 따라서, 도가니의 증착 레이트가 영향을 받지 않고 및/또는 액체 재료가 튀는 것을 피할 수 있다.
도 2에서 볼 수 있는 바와 같이, 증착 영역을 통해서 기판을 운송하기 위해서, 프로세싱 드럼(28)이 프로세싱 중에 샤프트(29) 주위로 회전될 수 있고, 상기 증착 영역에서는 도가니들(120)로부터의 증기 재료(2)가 가스 유입구 튜브(130)로부터의 가스와의 반응 후에 기판으로 제공된다. 전형적인 실시예들에 따라서, 프로세싱 드럼 길이가 기판 폭의 적어도 105%가 된다.
전형적인 실시예들에 따라서, 가요성 필름이 CPP 필름(즉, 캐스팅(casting) 폴리프로필렌 필름), OPP 필름(즉, 지향성(oriented) 폴리프로필렌 필름), 또는 PET 필름(즉, 지향성 폴리프로필렌 텔레프탈레이트 필름)을 포함하나, 이러한 것으로 제한되는 것은 아니다. 대안적으로, 가요성 기판이 미리-코팅된 종이, 폴리프로필렌(PP) 필름, PEN 필름, 폴리 락타아제 아세테이트(poly lactase acetate)(PLA) 필름, 또는 PVC 필름이 될 수 있을 것이다. 전형적인 실시예들에 따라서, 가요성 기판이 50 ㎛ 이하(below) 또는, 보다 구체적으로, 5 ㎛, 또는 보다 더 구체적으로 2 ㎛의 두께를 가진다. 예를 들어, 가요성 기판이 20 ㎛ OPP 기판 또는 12 ㎛ PET 기판이 될 수 있을 것이다. 여기에서 설명된 실시예들은 또한, 가요성 기판이 2 ㎛ 또는 그 이하, 예를 들어, 0.7 ㎛의 두께를 가지는 초 박판 필름이 된다는 것도 고려한다. 전형적인 실시예들에 따라서, 기판이 여기에서 설명된 바와 같이 프로세스될 수 있도록, 시스템의 요소들이 가요성 기판에 의존하여 적절하기 구성된다.
전형적인 실시예들에 따라서, 알루미늄이 도가니들(120) 내에 제공될 수 있다. 알루미늄은, 예를 들어, 열적 증발에 의해서 또는 전자 비임 증발에 의해서 증발될 수 있다. 알루미늄 증기를 참조 번호 '2'로 표시하였다. 가스 안내 튜브(130) 및 응축물 안내 요소(140)의 온도가 알루미늄의 증발 온도 이하라는 사실에 비추어 볼 때, 알루미늄이 가스 랜스 유닛에서 응축될 것이다. 가스 랜스 유닛이 용융 온도 이상(above)이라는 사실에 비추어 볼 때, 알루미늄이 응축물 안내 요소의 삼각형 형상의 부분들의 돌출부들을 향해서 유동할 수 있고, 그에 따라 응축물이 응축물 박스(150) 내로 낙하될 수 있다. 돌출부들이 도가니들(120) 사이의 공간들 위에 배치된다. 그에 의해서, 응축물의 낙하가 도가니들(120) 내의 증발에 영향을 미치지 않는다.
여기에서 설명된 전형적인 실시예들에 따라서, 가스 랜스 유닛(130)이 증기 구름 내에 제공된다. 그에 의해서, 산소와 같은 반응성 가스의 상당 부분이 프로세스 내에서 구속될(bound) 수 있다. 따라서, 비교적 낮은 프로세스 압력이 챔버 내에서 제공될 수 있다. 여기에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 전형적인 실시예들에 따라서, 1*10-3 mbar 또는 그 이하의, 예를 들어 1*10-4 mbar 또는 그 이하의 프로세스 압력이 제공될 수 있다. 비교가능한(comparable) 낮은 챔버 압력이, 예를 들어, 패키징 적용예들 등을 위한 투명한 층의 증착 중에, 배리어 성질들의 개선을 초래할 수 있다. 따라서, 여기에서 설명된 실시예들이, 예를 들어, 400 nm 내지 700 nm의 파장에서, 10% 내지 100%의 광학적 투과율들을 가지는 투명한 배리어 층들을 위해서 이용될 수 있다.
도 3a 내지 3f는 여기에서 설명된 가스 랜스 유닛들의 전형적인 실시예들을 도시한다. 도 3a 및 3b에 도시된 바와 같이, 가스 랜스 유닛(130)은, 반응성 가스를 프로세싱 영역 내에서 또는 그 영역을 향해서 안내하기 위한 개구부들(30)을 가지는 본질적으로 둥근 횡단면을 가질 수 있다. 여기에서 설명된 다른 실시예들과 조합될 수 있는 전형적인 실시예들에 따라서, 반응성 가스가 산소, 질소, NH3, 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있다. 또 다른 추가적인 실시예들에 따라서, 부가적인 가스들, 전형적으로 아르곤과 같은 불활성 가스들이 반응성 가스를 포함하는 가스 혼합물로 부가될 수 있다. 그에 의해서, 전형적으로, 반응성 가스의 양이 보다 용이하게 제어될 수 있다.
응축물 안내 요소(140)가 돌출부들을 형성하는 복수의 삼각형 형상의 요소들을 가질 수 있다. 전형적으로, 삼각형 부분들이 이등변 삼각형들일 수 있다. 도 3a는 도 3b의 부분 A-A에서의 횡단면도이다. 가스 안내 튜브(130)를 내부에서 지지하기 위한 가스 안내 튜브 지지 부재(142)가 제공된다. 또한, 가스 안내 튜브가 고정 요소(342)를 이용하여 가스 랜스 유닛의 하나 또는 둘 이상의 위치들에서 가스 랜스 유닛에 고정될 수 있다. 가스 안내 튜브(130)에서, 산소와 같은 반응성 가스를 가스 안내 튜브(130)를 따라서 상이한 위치들로 제공하기 위해서 개구부들(30)이 제공된다.
도 3a 및 3b에 비교할 때, 도 3c에 도시된 가스 랜스 유닛은 가스 안내 튜브(130)의 직사각형 횡단면을 가진다. 응축물 안내 요소(140)가 복수의 돌출부들(141)을 포함하고, 상기 돌출부들은, 예를 들어, 오목한 섹션들에 의해서 형성된 몇 개의 리세스들의 선단부 부분이 될 수 있다. 돌출부들은 또한 파동유사 형상들의 부분들이 될 수 있다. 가스 랜스 유닛은, 가스 안내 튜브(130)가 내부에서 지지되는 가스 안내 튜브 지지부(142)를 포함한다. 동작 중에 형성되는 응축물이 선단부 부분들(141)을 향해서 안내될 수 있다. 응축물이, 도가니 내로의 응축물 낙하 없이, 도가니들 사이의 공간들 위에 배치되도록 구성된 선단부 부분들로부터 하향 낙하될 수 있다. 도가니 내의 낙하는 증발 레이트의 요동들 및/또는 장치 내에서 액체 알루미늄이 튀는 것을 초래할 수 있다.
도 3d 및 3f에 대해서 도시된 가스 랜스 유닛은 돌출부들을 형성하는 피크 섹션(341)을 가지는 응축물 안내 요소(140)를 구비한다. 응축물 안내 요소가 가스 안내 튜브(130)의 하부 부분에 고정된다.
여기에서 설명된 일부 실시예들에 따라서, 가스 랜스 유닛이 튜브 또는 파이프를 가지는 것에 의해서 형성될 수 있다. 가스 랜스 유닛의 하부 섹션에서, 돌출부들을 가지는 응축물 안내 요소들이 제공된다. 응축물 안내 요소가, 액체 형태의 응축물을 미리 결정된 위치들로 안내하기 위한 배수(draining) 시트로서 제공될 수 있다. 배수 시트의 돌출부들 또는 피크들이, 동작 중에, 복수의 도가니들 중의 각각의 도가니들 사이에 형성된 공간들 위의 또는 공간들 내의 위치들을 가지도록 구성된다. 동작 중에, 가스 랜스 유닛의 온도가 전형적으로 증발시키고자 하는 재료, 예를 들어, 알루미늄의 용융 온도 이상이기 때문에, 액체 재료가 도가니 위에 배치된 중심으로부터, 그에 따라, 각각의 도가니의 증기 구름의 중심 위치로부터 멀리 안내된다. 과다한 재료가, 도가니들의 동작에 영향을 미치는 액적들(droplets) 없이, 도가니들 사이의 공간들 내로, 예를 들어, 도가니들 아래의 응축물 박스 내로 낙하될 수 있다.
여기에서 설명된 바와 같이, 전형적으로, 가스 랜스 유닛은 가스 안내 튜브 및, 재료의 응축물을 미리 결정된 위치를 향해서 안내하기 위한 배수 시트와 같은 응축물 안내 요소를 포함하고, 상기 응축물의 안내는 증발 도가니들 내로 응축물이 낙하되는 것을 방지한다. 전형적으로, 응축물 안내 요소 및 튜브 지지 부재가 일체로, 예를 들어, 함께 용접되어 형성될 수 있다. 가스 안내 튜브가 지지 요소에 의해서 지지되고 그리고, 예를 들어, 튜브 지지 부재에 용접될 수 있는 고정 부재들, 예를 들어, 고정 부재(342)에 의해서 유지될 수 있다. 용접 이외의 고정 수단이 대안적으로 또는 부가적으로 제공될 수 있다. 그러나, 정기적인 유지보수가 단순화되어야 한다는 것을 고려하여야 할 것이다. 만약, 예를 들어, 알루미늄이 증발된다면, 알루미늄 증기가 매우 공격적이고 그리고 가스 튜브가 며칠 내지 몇 주의 수명을 가질 것이다. 예를 들어, 가스 안내 튜브가 0.5 내지 2주마다, 예를 들어, 매주마다 교체될 필요가 있을 수 있을 것이다. 또한, 배수 시트가 1 주 내지 4주마다, 예를 들어, 2주마다 교체될 필요가 있다. 적어도 상응하는 시간 기간을 견딜 수 있도록 고정 수단이 제공될 필요가 있다. 유지보수 중에, 가스 랜스 유닛이 예를 들어 프로세싱 챔버로부터 제거될 수 있다. 고정 부재(342)가 용접되지 않고 그리고 가스 안내 튜브가 가스 안내 튜브 지지부로부터 제거될 수 있다. 그 후에, 새로운 가스 안내 튜브가 가스 안내 튜브 지지부에 고정될 수 있고 그리고, 배수 시트, 지지부 및 가스 안내 튜브를 포함하는 가스 랜스 유닛이 증착 챔버 내로 재-삽입될 수 있다. 후속 유지보수 단계 중에, 가스 안내 튜브 및 배수 시트 양자 모두가 교체될 수 있다. 증발 지역 내의 가혹한(rough) 동작 조건들에 비추어 볼 때, 가스 안내 튜브, 배수 시트, 즉 응축물 안내 요소, 및 가스 안내 튜브를 위한 지지부가 스틸, 스테인리스 스틸, 구리, 티타늄, 탄탈륨, 니오븀, 및 이들의 조합들로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 제조될 수 있다.
본원 발명의 실시예들의 추가적인 양태가 도 4a 및 4b에 대해서 설명된다. 도 1에서 앞서서 도시한 바와 같이, 가스 랜스 유닛이, 홀딩 부재(146)에 고정된 바아(144)에 의해서 지지될 수 있다. 홀딩 부재는 챔버 하우징 부분에 또는 챔버 내의 프레임에 정렬될 수 있다. 전형적인 실시예들에 따라서, 증착 영역 내의 온도가 400 ℃ 내지 1000 ℃의 범위가 될 수 있다. 따라서, 동작 중에 가스 랜스 유닛의 온도가 400 ℃ 내지 800 ℃의 범위가 될 수 있다. 그에 의해서, 가스 랜스 유닛의 연신이 발생될 수 있다. 전형적인 구현예들에 따라서, 그러한 연신이 1% 내지 4%일 수 있다. 그에 따라, 약 2.5 mm의 가스 랜스 유닛이 약 3 cm 내지 10 cm의 길이 변화를 일으킬 수 있다.
도 4a는 증발 장치의 일부를 도시한다. 프로세싱 드럼(28)의 하부 부분이 보여진다. 또한, 도가니들(120)이 프로세싱 드럼(28) 아래에서 챔버(102) 내에 제공된다. 가스 안내 튜브(130) 및 응축물 안내 요소(140)가 프로세싱 드럼 아래에 그리고 도가니들 위에 제공된다. 도 4a는 제 1 홀딩 부재(144) 및 추가적인 홀딩 부재들(444)을 도시한다. 제 1 홀딩 부재가 중심 위치에 본질적으로 배열된다. 전형적인 실시예들에 따라서, 제 1 홀딩 부재가 가스 랜스 유닛의 길이의 중간 1/3 지점(center third portion) 내에 배열될 수 있다. 화살표(445)로 표시한 바와 같이, 외측 홀딩 부재들이 가스 랜스 유닛의 보다 긴 축의 방향으로 이동될 수 있다. 도 1에 대해서 설명한 바와 같이, 전형적으로, 홀딩 부재들이, 전형적으로, 바아 및 상기 바아를 하우징 부분 또는 프레임 부분에 고정하기 위한 부재를 가질 수 있다.
도 4a에서, 동작 조건들 하의 장치가 도시되어 있다. 그에 의해서, 돌출부들이 복수의 도가니들(120) 중 각각의 2개의 도가니 사이의 공간들 위에 본질적으로 배치된다. 도 4a는, 가스 랜스 유닛이 상온에서 제공되는 조건에서 시스템을 도시한다. 그에 의해서, 돌출부들의 일부가 사실상 저온 상태(cool state)에서 도가니 위에 배치되도록, 가스 랜스 유닛이 고온 동작 조건에 비해서 더 짧다. 이러한 효과를 최소화하기 위해서, 유닛의 길이의 방향을 따라서 이동가능한 외측 지지부들을 가스 랜스 유닛의 중심에 근접한 고정형 지지부로서 제공하는 것 그리고 가지는 것이 유리하다.
전술한 실시예들은, 증발 프로세스가 프로세싱 드럼 아래에서 제공되는, 가요성 기판들의 롤-대-롤 프로세싱을 주로 언급하였다. 증발을 위한 오도에 비추어 볼 때, 전형적으로, 냉각된 프로세싱 드럼이 이용될 수 있다. 그에 의해서, 예를 들어 Al2Ox의 배리어 층이 호일들, 웨브들, 필름들, 코팅된 종이 또는 다른 가요성 기판들 상으로 제공될 수 있다. 이는, 전형적으로, 인라인(inline)-배리어 코팅, 예를 들어, 패키징 적용예들에서 유용하다. 그러나, 발명에 따른 실시예들이 또한 다른 반응성 증착 프로세스들에 대해서 적용될 수 있다. 예를 들어, 유리 기판들 또는 다른 기판들을 증발된 재료들의 산화물들, 질화물들, 산질화물들로 코팅하는 것이 여기에서 설명된 실시예들을 이용할 수 있다. 전형적으로, 실시예들은, 반응성 가스가 증기의 구름 내의 가스 조립체에 의해서 제공되는 즉, 가스 조립체가 증발기 위에 배치되는, 금속들과 같은 재료들의 증발을 위해서 이용될 수 있다.
또 다른 추가적인 실시예들에 따라서, 특히 반응성 증발 프로세스를 위한 증발 장치의 동작 방법들이 제공된다. 예시적인 흐름도가 도 5에 도시되어 있다. 단계(502)에서, 기판 상에 증착하고자 하는 재료가 증발된다. 구체적으로, 재료가 복수의 이격된 도가니들 내에서 증착될 수 있고, 또는 증발 구역들 사이에 공간들이 존재한다. 단계(504)에서, 반응성 가스, 예를 들어, 산소가 증발된 재료와의 반응을 위해서 반응 구역 내에서 안내된다. 반응성 가스는, 적어도 부분적으로 상기 도가니들 위에 배치되는 가스 안내 튜브로 안내된다. 단계(506)에서, 가스 안내 튜브 또는 가스 안내 튜브에 상응하는 다른 성분 즉, 가스 랜스 유닛의 요소들 상에서 형성된 응축물이 증발 구역들 사이의 공간들에 상응하는 위치들로 안내된다.
증발 구역들 내로의 낙하가 발생하지 않도록 또는 증발 구역들 내의 낙하가 감소되도록, 응축물이 안내된다. 전형적으로, 낙하를 위한 돌출부들이 도가니들 사이의 공간들 위에 제공된다. 다른 실시예들에 따라서, 돌출부들이 또한 공간들 중간으로 또는 심지어 도가니들 아래로 하향 연장될 수 있다. 여기에서 설명된 실시예들에 따라서, 증발 구역들 내의 응축물의 낙하가 방지되거나 감소될 수 있도록, 증발된 재료의 응축물이 위치들로 안내된다.
전술한 내용들이 발명의 실시예들에 관한 것이지만, 발명의 다른 그리고 추가적인 실시예들이 발명의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않고도 안출될 수 있을 것이고, 발명의 범위는 이하의 청구항들에 의해서 결정된다.

Claims (12)

  1. 복수의 이격된 도가니(crucible)들(120)을 이용하는 반응성 증착 프로세스를 위해 구성된 가스 랜스 유닛으로서,
    상기 도가니들 사이에 공간들이 제공되고,
    상기 가스 랜스 유닛은,
    상기 반응성 증착 프로세스를 위한 가스(4)를 제공하기 위한 하나 또는 둘 이상의 배출구들(30)을 가지는 가스 안내 튜브(130); 및
    응축물(condensate), 특히 알루미늄 응축물을 상기 공간들 위의 하나 또는 둘 이상의 위치들로 안내하기 위한 응축물 안내 요소(140)
    를 포함하는,
    가스 랜스 유닛.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 응축물 안내 요소는 상기 하나 또는 둘 이상의 위치들에서 돌출부들(141; 341)을 포함하는, 가스 랜스 유닛.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 응축물 안내 요소는 하나 또는 둘 이상의 돌출부들을 가지는 배수 시트(draining sheet)를 포함하고, 특히, 상기 배수 시트는, 상기 돌출부들을 형성하는 삼각형 섹션(section)들을 가지는 배수 시트, 상기 돌출부들을 형성하는 파동형(wavy) 섹션들을 가지는 배수 시트, 상기 돌출부들을 형성하는 피크 섹션들을 가지는 배수 시트, 및 상기 섹션들의 조합인 섹션들을 가지는 배수 시트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 가스 랜스 유닛.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 응축물 안내 요소(140)는,
    상기 가스 안내 튜브가 상기 응축물 안내 요소 상에 지지되도록, 가스 안내 튜브 지지부(142)를 더 포함하는, 가스 랜스 유닛.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 가스 안내 튜브 지지부는 리세스(recess)를 가지며, 상기 가스 안내 튜브가 상기 리세스에 적어도 부분적으로 매립되는, 가스 랜스 유닛.
  6. 반응성 증착 프로세스를 위한 증발 장치(100)로서,
    복수의 이격된 도가니들(120)을 위한 복수의 지지부들 ― 상기 도가니들 사이에 공간들이 제공됨 ―;
    증착 표면 상에 제공되는 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 표면; 및
    제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 가스 랜스 유닛 ― 상기 가스 랜스 유닛은 상기 증착 표면 아래에 제공되고, 제 1 방향으로 연장하는 길이를 가지는, 증발 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 증착 표면은, 본질적으로 상기 제 1 방향으로 연장하는 회전 축을 가지는 코팅 드럼(28)의 표면이고, 상기 하나 또는 둘 이상의 위치들은, 본질적으로 상기 제 1 방향을 따라 제공되는, 증발 장치.
  8. 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
    상기 가스 랜스 유닛은, 상기 제 1 방향에 대하여 상기 가스 랜스 유닛의 중간 영역에 제공되는, 특히, 상기 제 1 방향에 대하여 본질적으로 상기 가스 랜스 유닛의 중심에 제공되는 장착(mounting) 지지부(144)에서 지지되는, 증발 장치.
  9. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하나 또는 둘 이상의 위치들 중 하나 또는 둘 이상은 실온에서 상응하는 공간들에 대하여 오프셋(offset)되고, 동작 온도에서 상기 공간들 위에 있는, 증발 장치.
  10. 제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 이격된 도가니들을 위한 상기 복수의 지지부들 아래에 제공되고, 동작 동안에 드리핑(dripping)하는 응축물을 수집하도록 구성된 응축물 박스(150)를 더 포함하는, 증발 장치.
  11. 증발 장치를 동작시키는 방법으로서,
    증착 표면을 향하여 복수의 이격된 도가니들(120)에서의 재료를 증발시키는 단계 ― 상기 도가니들 사이에 공간들이 제공됨 ―;
    가스 안내 튜브(130)를 이용하여 상기 도가니들과 상기 증착 구역 사이에서의 상기 증기(vapor)(2) 내로 가스(4)를 안내하는 단계; 및
    상기 증기의 응축물을 상기 공간들 위의 위치들로 안내하는 단계
    를 포함하는,
    증발 장치를 동작시키는 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 공간들 내의 또는 아래의 위치들에서 하향 드리핑하는 응축물을 수집하는 단계를 더 포함하는, 증발 장치를 동작시키는 방법.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140272346A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Rubicon Technology, Inc. Method of growing aluminum oxide onto substrates by use of an aluminum source in an oxygen environment to create transparent, scratch resistant windows
EP2818572B1 (en) * 2013-06-28 2019-11-13 Applied Materials, Inc. Evaporation apparatus with gas supply
CN103993268B (zh) 2014-04-30 2017-02-15 京东方科技集团股份有限公司 一种坩埚
US9508976B2 (en) 2015-01-09 2016-11-29 Applied Materials, Inc. Battery separator with dielectric coating
JP6121639B1 (ja) * 2015-06-09 2017-04-26 株式会社アルバック 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法
CN106978589B (zh) * 2017-04-20 2019-03-08 京东方科技集团股份有限公司 用于蒸镀设备的挡板装置及蒸镀设备
US10770705B2 (en) 2017-08-17 2020-09-08 Applied Materials, Inc. Olefin separator free Li-ion battery
KR102550247B1 (ko) 2018-08-21 2023-07-03 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 배터리들을 위한 분리기 상의 초박형 세라믹 코팅
WO2020097040A1 (en) * 2018-11-06 2020-05-14 Corning Incorporated Methods and apparatus comprising a first conduit circumscribed by a second conduit
US11631840B2 (en) 2019-04-26 2023-04-18 Applied Materials, Inc. Surface protection of lithium metal anode

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006023463A1 (de) * 2006-05-18 2007-11-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zum Elektronenstrahlverdampfen
KR20080032021A (ko) * 2005-05-25 2008-04-14 엘피이 에스피에이 반응가스들을 반응챔버로 도입하기 위한 장치 및 상기장치를 사용하는 에피택셜 반응기
JP2009263740A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Toray Ind Inc 金属酸化物薄膜付きシートの製造方法および製造装置
KR20110015661A (ko) * 2008-06-03 2011-02-16 아익스트론 아게 폴리머 파라-자일렌 또는 치환된 파라-자일렌의 얇은 층을 증착시키기 위한 방법 및 장치

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3356529A (en) 1964-07-31 1967-12-05 Gen Electric Method for the deposition of an electro-conductive transparent indium oxide coating
GB2165614A (en) * 1984-10-16 1986-04-16 David Adrian Dalton Watering hose
IT1279238B1 (it) * 1995-06-19 1997-12-09 Galileo Vacuum Tec Spa Sistema continuo di evaporazione con ossidazione assistita da plasma, per depositare sotto vuoto ossidi di metalli su pellicole plastiche
JPH11335819A (ja) * 1998-05-22 1999-12-07 Dainippon Printing Co Ltd 真空蒸着装置
JP2007270251A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Toray Ind Inc 多層薄膜付き積層体の製造方法および製造装置
US7951271B2 (en) * 2006-06-12 2011-05-31 David Brent Thompson System for recovering oil from used automobile tires
ATE492662T1 (de) * 2007-03-09 2011-01-15 Panasonic Corp Beschichtungsvorrichtung und verfahren zur herstellung einer folie mithilfe der beschichtungsvorrichtung
WO2009125496A1 (ja) * 2008-04-11 2009-10-15 東芝三菱電機産業システム株式会社 均熱装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080032021A (ko) * 2005-05-25 2008-04-14 엘피이 에스피에이 반응가스들을 반응챔버로 도입하기 위한 장치 및 상기장치를 사용하는 에피택셜 반응기
DE102006023463A1 (de) * 2006-05-18 2007-11-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zum Elektronenstrahlverdampfen
JP2009263740A (ja) * 2008-04-28 2009-11-12 Toray Ind Inc 金属酸化物薄膜付きシートの製造方法および製造装置
KR20110015661A (ko) * 2008-06-03 2011-02-16 아익스트론 아게 폴리머 파라-자일렌 또는 치환된 파라-자일렌의 얇은 층을 증착시키기 위한 방법 및 장치

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