JP6435325B2 - ガス供給を備えた蒸発装置 - Google Patents
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- ドラム(170;270;370;670;1270)によって支持された基板(160;260;360;460;560;660;760;860;960;1060;1160;1260)上に材料を堆積するための蒸発装置(100;200;300;400;500;600;700;800;900;1000;1100;1200)であって、
前記基板上に蒸発した材料を堆積させるため、前記基板が移動する方向に垂直である第1の方向(121;221;321;421;521;621;721;821;921;1021;1121;1221)に沿って、第1のライン(120;220;320;420;520;620;720;820;920;1020;1120;1220)に整列された第1の蒸発るつぼの組(110;210;310;410;510;610;710;810;910;1010;1110;1210)と;
前記第1の方向に延在し、前記第1の蒸発るつぼの組のうちの少なくとも1つの蒸発るつぼと前記ドラムとの間に配置された第1のガス供給パイプ(130;230;330;430;530;630;730;830;930;1030;1130;1230)と;
前記第1の蒸発るつぼの組と前記ドラムとの間にガスを供給するため、前記材料の前記堆積の一様性を改善するように形作られ位置付けられた開口部(150;250;350;450;550;650;750;850;951;952;953;1051;1052;1053;1151;1152)を有する、前記第1の方向に延在する第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140;1240)と、を備え、
前記第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)は、前記第1の蒸発るつぼの組(110;210;310;410;510;610;710;810;910;1010;1110)の前記蒸発るつぼの位置に前記開口部(150;250;350;450;550;650;750;850;950;1050;1150)を設けることによって、前記材料の前記堆積の一様性を改善する、蒸発装置。 - 前記第1の方向(221;321;421;521;821;1121)に沿って、第2のライン(290;390;490;590;890;1190)に整列された第2の蒸発るつぼの組(280;380;480;580;880;1180)を更に備え、前記第1の蒸発るつぼの組(110;210;310;410;510;610;710;810;910;1010;1110)の前記第1のライン(120;220;320;420;520;620;720;820;920;1020;1120)は、前記第1の蒸発るつぼの組のうちの少なくとも2つのるつぼの中心を通って画定され、前記第2の蒸発るつぼの組の前記第2のラインは、前記第2の蒸発るつぼの組のうちの少なくとも2つのるつぼの中心を通って画定され、前記第1のライン及び前記第2のラインは相互に関して、前記第1の方向に垂直な第2の方向(222;322;422;522;822;1122)に変位される、請求項1に記載の蒸発装置。
- 前記第1のライン(120;220;320;420;520;620;720;820;920;1020;1120)及び前記第2のライン(290;390;490;590;890;1190)は、前記第2の方向(222;322;422;522;822;1122)に40mmを超えて互いに変位される、請求項2に記載の蒸発装置。
- 前記第2の蒸発るつぼの組(380;480)と前記ドラムとの間にガスを供給するため、前記材料の前記堆積の一様性を改善するように形作られ位置付けられた開口部(396;496)を有する、前記第1の方向(321;421)に延在する第3のガス供給パイプ(395;495)を更に備える、請求項2又は3に記載の蒸発装置。
- 前記第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)及び前記第3のガス供給パイプ(395;495)のうちの少なくとも1つは、前記第1の方向(121;221;321;421;521;621;721;821;921;1021;1121)に垂直な第2の方向(122;222;322;422;522;622;722;822;922;1022;1122)に、前記第1のガス供給パイプ(130;230;330;430;530;630;730;830;930;1030;1130)から変位している、請求項4に記載の蒸発装置。
- 前記第1のガス供給パイプ(130;230;330;430;530;630;730;830;930;1030;1130)は、前記第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)及び前記第3のガス供給パイプ(395;495)の間に配置されている、請求項4又は5に記載の蒸発装置。
- 前記第3のガス供給パイプ(395;495)は、
前記第1の方向(321;421)に沿って、前記第2の蒸発るつぼの組(380;480)の蒸発るつぼの位置に前記開口部(396;496)を設けること、及び/又は
前記第1の方向に沿って、前記第1の蒸発るつぼの組(310;410)の蒸発るつぼの位置で閉じられること
によって前記材料の堆積の一様性を改善する、請求項4から6のいずれか一項に記載の蒸発装置。 - 前記第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)及び前記第3のガス供給パイプ(395;495)のうちの少なくとも1つは可変サイズの開口部を提供する、請求項4から7のいずれか一項に記載の蒸発装置。
- 前記第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)及び前記第3のガス供給パイプ(395;495)のうちの少なくとも1つの開口部のサイズは、前記第1の方向(121;221;321;421;521;621;721;821;921;1021;1121)に沿った前記開口部の位置に応じて変化する、請求項8に記載の蒸発装置。
- 前記第2のガス供給パイプ(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)は、前記第2の蒸発るつぼの組(280;380;480;580;880;1180)の蒸発るつぼの位置で閉じられることによって、前記材料の前記堆積の一様性を改善する、請求項2から9のいずれか一項に記載の蒸発装置。
- ドラム(170;270;370;670)によって支持された基板(160;260;360;460;560;660;760;860;960;1060;1160)上に材料を堆積させるための蒸発装置(100;200;300;400;500;600;700;800;900;1000;1100)であって、
前記基板が移動する方向に垂直である第1の方向(121;221;321;421;521;621;721;821;921;1021;1121)に延在する第1のライン(120;220;320;420;520;620;720;820;920;1020;1120)に沿って整列された第1の蒸発るつぼの組(110;210;310;410;510;610;710;810;910;1010;1110)、及び前記第1の方向に延在する第2のライン(290;390;490;590;890;1190)に沿って整列された第2の蒸発るつぼの組(280;380;480;580;880;1180)と;
前記第1の蒸発るつぼの組及び前記第2の蒸発るつぼの組にガスを供給するように構成された前記第1の方向に延在する第1のガス供給(130;230;330;430;530;630;730;830;930;1030;1130)と;
前記第1の蒸発るつぼの組にガスを供給するため前記第1の方向に延在し、パイプを備える第2のガス供給(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)とを備え、
前記パイプは、前記第1の方向に沿って、前記第1の蒸発るつぼの組の蒸発るつぼの位置にガス排出開口部(150;250;350;450;550;650;750;850;951;952;953;1051;1052;1053;1151;1152)を備え、前記第1の方向に沿って、前記第2の蒸発るつぼの組の蒸発るつぼの位置で閉じられる、蒸発装置。 - 前記第1の蒸発るつぼの組(110;210;310;410;510;610;710;810;910;1010;1110)の前記第1のライン(120;220;320;420;520;620;720;820;920;1020;1120)は、前記第1の蒸発るつぼの組の少なくとも2つのるつぼの中心を通って画定され、前記第2の蒸発るつぼの組(280;380;480;580;880;1180)の前記第2のライン(290;390;490;590;890;1190)は、前記第2の蒸発るつぼの組の少なくとも2つのるつぼの中心を通って画定され、前記第1のライン及び前記第2のラインは相互に、前記第1の方向(121;221;321;421;521;621;721;821;921;1021;1121)に垂直な第2の方向(222;322;422;522;622;722、822;922、1022;1122)に変位される、請求項11に記載の蒸発装置。
- 前記第2の蒸発るつぼの組(380;480)にガスを供給するため前記第1の方向(321;421)に延在し、パイプを備える第3のガス供給(395;495)を更に備え、前記パイプは、
前記第1の方向(321;421)に沿って、前記第2の蒸発るつぼの組(380;480)の蒸発るつぼの位置にガス排出開口部(396;496)を備え、前記第1の方向に沿って、前記第1の蒸発るつぼの組(310;410)の蒸発るつぼの位置で閉じられる、請求項11又は12に記載の蒸発装置。 - 前記第2のガス供給(140;240;340;440;540;640;740;840;940;1040;1140)及び前記第3のガス供給(395;495)のうちの少なくとも1つは、前記第1の方向(121;221;321;421;521;621;721;821;921;1021;1121)に垂直な第2の方向(122;222;322;422;522;622;722;822;922;1022;1122)に、前記第1のガス供給(130;230;330;430;530;630;730;830;930;1030;1130)から変位している、請求項13に記載の蒸発装置。
- 前記第1のガス供給(130;230;330;430;530;630;730;830;930;1030;1130)は、ガス排出開口部を設けることによって、前記第1の蒸発るつぼの組(110;210;310;410;510;610;710;810;910;1010;1110)及び前記第2の蒸発るつぼの組(280;380;480;580;880;1180)にガスを供給するように構成されており、単位長さあたりの前記第1のガス供給のガス排出開口部の数は、前記第2のガス供給及び前記第3のガス供給のうちの少なくとも1つの単位長さあたりのガス排出開口部の数よりも多い、請求項13または14に記載の蒸発装置。
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EP3491161B1 (en) * | 2016-08-01 | 2023-06-07 | Applied Materials, Inc. | Deposition apparatus |
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Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5242500A (en) * | 1990-08-27 | 1993-09-07 | Leybold Aktiengesellschaft | Apparatus for the continuous coating of band-type substrate |
MY139695A (en) * | 1996-05-21 | 2009-10-30 | Panasonic Corp | Thin film, method and apparatus for forming the same, and electronic component incorporating the same |
JPH1053868A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-24 | Kao Corp | 薄膜形成装置 |
JPH11335819A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 真空蒸着装置 |
US20050147753A1 (en) * | 1999-10-22 | 2005-07-07 | Kurt J. Lesker Company | Material deposition system and a method for coating a substrate or thermally processing a material in a vacuum |
JP2006274308A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 蛍光体シート製造装置 |
JP2007270251A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toray Ind Inc | 多層薄膜付き積層体の製造方法および製造装置 |
JP5194939B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-05-08 | 東レ株式会社 | 金属酸化物薄膜形成装置ならびに金属酸化物薄膜付きシートの製造方法 |
JP5121638B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2013-01-16 | パナソニック株式会社 | 蒸着装置および蒸着装置を用いた蒸着膜の製造方法 |
CN103502502B (zh) * | 2011-04-29 | 2017-09-01 | 应用材料公司 | 反应沉积工艺的气体系统 |
JP2013234364A (ja) * | 2012-05-09 | 2013-11-21 | Mitsubishi Plastics Inc | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
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