KR20140027069A - 확산-방지층을 갖는 박층 태양 전지 - Google Patents

확산-방지층을 갖는 박층 태양 전지 Download PDF

Info

Publication number
KR20140027069A
KR20140027069A KR1020137015851A KR20137015851A KR20140027069A KR 20140027069 A KR20140027069 A KR 20140027069A KR 1020137015851 A KR1020137015851 A KR 1020137015851A KR 20137015851 A KR20137015851 A KR 20137015851A KR 20140027069 A KR20140027069 A KR 20140027069A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
diffusion
barrier layer
substrate
thin
Prior art date
Application number
KR1020137015851A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101824758B1 (ko
Inventor
올리버 가뻬르쯔
Original Assignee
인터페인 엔트윅클렁스- 언드 베라텅스게셀스샤프트 엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 인터페인 엔트윅클렁스- 언드 베라텅스게셀스샤프트 엠베하 filed Critical 인터페인 엔트윅클렁스- 언드 베라텅스게셀스샤프트 엠베하
Publication of KR20140027069A publication Critical patent/KR20140027069A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101824758B1 publication Critical patent/KR101824758B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/036Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
    • H01L31/0392Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
    • H01L31/03923Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate including AIBIIICVI compound materials, e.g. CIS, CIGS
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • H01L31/0322Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/036Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
    • H01L31/0392Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 박층 태양 전지(10)는 기판(11), 확산-장벽층(13), 상기 기판(11)으로부터 등지는 상기 확산-장벽층(13)의 측에 배치된 후면-접촉층(14), 및 광활성 흡수층(15)을 포함한다. 본 발명에 따르면, 추가 확산 방지층(12)이 상기 기판(11)과 상기 확산-장벽층(13) 사이에 배치된다.

Description

확산-방지층을 갖는 박층 태양 전지{THIN-LAYER SOLAR CELLS HAVING A DIFFUSION-INHIBITING LAYER}
본 발명은 청구항 1의 전제부에 대응하는 수개의 층으로부터 제조된 코팅을 갖는 박층 태양 전지에 관한 것이다.
재생 에너지를 활용하기 위하여, 태양광으로부터 전기를 생성하는데 광전지 셀이 현재 이용된다. 이러한 맥락에서, 두 유형의 광전지 셀 사이에는 차이가 있다. 제1 유형은 크리스탈 실리콘을 기반으로 하며, 실리콘 웨이퍼의 형태로 0.2-0.4mm 두께의 플레이트에서 이용된다. 제2 유형은 기판에 도포되는 박층을 포함하며, 박층 태양 전지로 칭한다. 박층 태양 전지는 수 m2 크기의 기판 상에, 예를 들면 글래스 상에 큰 영역에 걸쳐 도포될 수 있다. 이러한 맥락에서, 예를 들면, 비정질 실리콘이 광활성 층으로서 이용된다.
그러한 박층 태양 전지에 대한 한가지 문제점은 예를 들면 알칼리 이온과 같은 간섭 물질이 기판으로부터 확산된다는 것으로, 그 위에 배치된 층으로 확산된다. 이는 흡수층의 형성 동안의 입자 성장에 영향을 준다. 간섭 물질의 과도한 대량 공급이 광활성층 내의 크리스탈 입자 구조의 열화를 초래하고, 따라서 전지로부터의 전류를 감소시킨다. 따라서, 간섭 물질이 기판으로부터 확산되는 것을 방지하기 위하여 확산-장벽층이 종종 기판에 도포된다.
WO 2010/039880 A1은 황동광(chalcopyrite) 박층 태양 전지 상의 층 구조를 설명한다. 기판으로부터의 나트륨 이온을 포착하고 이것이 그 위에 배치된 층으로 확산되는 것을 방지하는 확산-장벽층이 기판, 이 경우에는 소다-석회 유리에 도포된다. 후면 접촉으로서 작용하는 적어도 하나의 몰리브덴층이 확산-장벽층에 도포된다. 구리, 인듐, 셀레늄(CIS)의 층 또는 구리, 인듐, 셀레늄 및 갈륨(CIGS)의 층이 광활성 재료로서 이에 도포된다. 예를 들면, 산화 아연(ZnO)의 층이 전면 접촉을 형성하기 위하여 이에 도포된다. 확산-장벽층은 산화 실리콘, 산화 알루미늄, 산화 티타늄, 산화 지르코늄 또는 질화 규소 또는 질화 티타늄 단독으로 형성되거나 또는 상기 재료들로부터 제조된 혼합물로 형성되고, 200nm까지의 두께의 층으로 도포한다.
그러한 확산-차단층의 단점은 상술한 재료가 코팅 상에 피착되는 코팅 속도가 느리다는 점과 층의 제조에 많은 에너지가 필요하다는 점이다.
따라서, 본 발명의 목적은 박층 태양 전지용 층 시스템을 제공하는 것으로, 여기서 간섭 물질 또는 각각의 간섭 이온이 기판으로부터 상부에 배치된 층으로 확산하는 것이 신뢰성 있게 방지되고, 또한 이를 효율 및 가격에서 만족할 방식으로 제조 동안 에너지 소비를 감소하여 달성된다.
이 목적은 청구항 1에 명시된 것처럼 본 발명에 따른 박층 태양 전지에 의해 달성된다. 종속항들은 본 발명에 따른 박층 태양 전지의 유리한 추가 개발을 명시한다.
본 발명에 따른 박층 태양 전지는 기판, 확산-장벽층, 상기 기판으로부터 등지는 상기 확산-장벽층의 측에 배치된 후면-접촉층, 및 광활성 흡수층을 포함한다. 본 발명에 따르면, 추가 확산 방지층이 상기 기판과 상기 확산-장벽층 사이에 배치된다.
이 확산 방지층은 기판으로부터 이동하는 간섭 물질을 흡수하여, 소량의 간섭 입자, 특히 이온만이 확산-장벽층에 도달한다. 이러한 방식에서, 층 두께가 작은 확산-장벽층으로도 간섭 입자를 흡수하고 이들이 확산-장벽층 위에 배치된 층들로 방출하는 것을 방지하는데 충분하다. 확산-장벽층의 도포가 큰 에너지 요구와 관련되므로, 확산-장벽층의 층 두께를 감소하는 것을 통해 확산-장벽층의 제조에 있어 상당한 에너지 절약이 달성될 수 있다.
예를 들면 스테인레스 강으로 제조된 금속성 기판 또는 금속 또는 알칼리 금속을 함유하는 소다-석회 유리와 같은 기판 상의 확산-장벽층을 갖는 확산-방지층은, 이들 기판이 상대적으로 많은 양의 이온을 방출하므로, 특히 유리하다. 또한, 특히 낮은 온도에서 전기 전압을 인가한 경우에, 이들은 위에 배치된 층들의 특성에 영향을 주고, 박층 태양 전지내의 에이징(ageing)의 흔적을 초래한다.
유리한 방식에서, 확산-방지층은 산화 아연 및 산화 주석(ZnO)x(SnO2)y를 포함하고, x의 비는 1.75와 2.25 사이이고, 바람직하게는 1.9와 2.1 사이이고, y의 비는 0.75에서 1.25까지 이고, 바람직하게는 0.9에서 1.1까지 이다. 간섭 물질, 특히 상술한 금속 이온 또는 알칼리 이온, 매우 특히 나트륨 이온이 크리스털 구조내에 피착되고, 추가 확산이 방지된다. 이는 특히 화학량론적 혼합비로부터는 약간 벋어난, 정확하게 x=2의 비 및 정확하게 y=1의 비로 배치된 산화 아연 및 산화 주석의 화합을 통해 달성된다. 산화 주석 및 산화 아연은 또한 예를 들면 스퍼터링과 같은 물리적-기상 증착(PVD) 및 화학 기상 증착(CVD)을 이용하여 우수한 코팅 속도를 가지고 적정한 에너지 입력으로 기판에 도포될 수 있다.
유리한 대안으로는 확산-방지층이 산화 주석 및/또는 산화 지르코늄 및/또는 산화 하프늄을 포함하는 경우 제공된다. 확산-방지층으로서 산화 바나듐 및/또는 산화 니오브를 이용하는 것도 유사하게 유리하다. 상술한 재료 혼합물은 산소 분위기 하에서 화학적-기상 증착(CVD)를 통해 효율적인 방식으로 도포된다.
유리한 방식으로, 질화 아연 및/또는 질화 주석 또는 대안적으로 질화 티타늄 및/또는 질화 지르코늄 및/또는 질화 하프늄 또는 대안적으로 질화 바나듐 및/또는 질화 니오브가 단일 재료로서 또는 상기 재료와 상술한 산화물의 혼합으로 확산-방지층내에 포함될 수 있다.
이러한 맥락에서, 재료는 바람직하게는 질소 분위기 하에서 화학적-기상 증착을 이용하여 도포된다. 확산-방지층은 유리하게는 10nm에서 100nm까지, 바람직하게는 50nm에서 60nm까지인 층 두께를 제공한다.
확산-장벽층은 유리하게는 SiOxNyCz 또는 AlOxNyCz을 포함한다. 그러한 확산-장벽층은 유리하게는 10nm에서 100nm까지, 바람직하게는 15nm에서 30nm까지, 특히 바람직하게는 약 20nm의 층 두께를 제공한다. 그러므로 확산-장벽층의 층 두께는 단지 종래 기술의 확산-장벽층의 층 두께의 1/10 이다. 따라서, 특히 박층 태양 전지의 제조 동안 에너지가 절감될 수 있으며, 따라서 재생 가능한 에너지원으로부터 전기를 생성하는 것은 환경 측면에서 보다 효율적일 수 있다.
또한, 전술한 층 구조에 반대측에 배치되며, 추가 확산-방지층 및 확산-장벽층을 갖는 기판의 후면측을 제공하는 것도 유리하다. 이는 간섭 물질이 기판으로부터 주변 대기로 이탈하는 것을 방지하여, 인접 박막 태양 전지로의 임의의 확산을 방지하게 된다. 기판의 후면측을 확산-방지층 및 확산-장벽층으로 코팅하는 것은 박층 태양 전지에 대해 특히 유리하며, 기판 양측에 대해 광활성층을 제공한다.
본 발명에 따른 박층 태양 전지의 예시적 실시예는 예로서 도면으로 도시되고, 이하 상세한 설명에서 보다 상세히 설명된다. 도면은 아래와 같다:
도 1은 본 발명에 따른 박층 태양 전지의 제1 예시적 실시예의 개략도이다.
도 2는 기판의 후면측 상에 추가 확산-방지층 및 확산-장벽층을 갖는 본 발명에 따른 박층 태양 전지의 제2 예시적 실시예를 도시하는 도면이다.
도 3은 상이한 코팅을 갖는 글래스 샘플의 방수 시험 결과에 대한 도면이다.
도 1에 도시된 박층 태양 전지는 예를 들면 금속성 재료, 막 및 특히 글래스로 제조되는 기판(11)을 포함한다. 확산-방지층(12)이 기판(11)에 도포된다. 이는 기판(11)에 직접 도포되거나 또는 예를 들면 접착층인 하나 이상의 중간층에 의해 기판(11)으로부터 이격되어 도포된다. 예를 들면 실리콘 산화물 및/또는 실리콘 질화물 및/또는 탄소를 포함하는 확산-장벽층(13)이 상기 확산-방지층(12) 위에 배치된다.
확산-장벽층(13)은 10nm 내지 100nm까지, 바람직하게는 15nm에서 30nm까지, 특히 바람직하게는 약 20nm의 층 두께를 제공한다. 이러한 맥락에서, 확산-장벽층(13)의 층 두께는 바람직하게는 확산-방지층(12)의 층 두께보다 작고, 바람직하게는 10nm에서 100nm까지, 특히 바람직하게는 50nm에서 60nm까지의 층 두께를 제공한다. 두 층의 층 두께는 이러한 맥락에서 종래 기술의 확산-장벽층의 층 두께와 거의 동일하나, 확산-방지층(12)의 코팅 동안 보다 유리한 코팅 속도(스퍼터링 속도) 및 낮은 에너지 요구를 통해 보다 유리한 방식으로 제조될 수 있다.
바람직하게는 몰리브데늄 또는 다른 전기적 전도성 소자를 포함하는 후면-접촉층(14)이 확산-장벽층(13) 위에 배치된다. 이 위에, 반도체 흡수층(15)이 배치되고, 여기서 예를 들면 비정질 실리콘 또는 이하 문단에서 우선적으로 추정되는 구리-인듐-셀레나이드(CIS) 또는 구리-인듐-갈륨 셀레나이드(CIGS)를 포함하는 황동광-반도체가 광활성 재료로서 이용된다. 광으로의 조사시에, 거기에 제공된 PN 정션내의 전하 운반체(charge carrier)가 방출되고, 이에 의해 전기 전압 및 전기 전류를 생성한다.
몰리브데늄 또는 선택된 층 두께에서 가시광에 투명한 다른 도전 재료를 다시 포함하는 전면-접촉층(16)이 흡수층(15) 상에 배치된다. 상술한 층들 사이에 추가 층들이, 예를 들면 흡수층(15)과 전면-접촉층(16) 사이에 황화 카드뮴으로 제조된 버퍼층이 선택적으로 제공될 수 있다. 유사하게, 접착층이 예를 들면 기판(11)과 확산-방지층(12) 사이에 제공될 수 있다.
이 경우, 간섭 물질 특히 나트륨 이온의 효과는 기판(11)으로서 소다-석회 유리 플레이트와 CIGS 흡수층(15)을 갖는 박층 태양 전지(10)의 예를 참조로 도시된다. 나트륨은 흡수 재료가 결정체 형태로 존재하는 영역을 확대시키기 때문에 CIGS 흡수층(15)의 성장에 유리하다. 이 나트륨 이온은 소다-석회 유리로부터 올 수 있거나 또는 후면-접촉층(14)을 나트륨으로 도핑함에 의해 또는 NaF 층을 후면-접촉층(14)에 도포함에 의해 표적화된 방식으로 추가될 수 있다.
한편으로는 나트륨 함량을 정확하게 조절하기 위하여, 다른 한편으로는 나트륨 이온이 기판 유리로부터 그 위에 배치된 층들로 연속적으로 확산하는 것을 방지하기 위하여, 특수한 방식으로 나트륨 이온을 포착하고 묶는 확산-방지층(12) 및 확산-장벽층(13)이 예시된 실시예에서 이용된다. 특히, 이는 저온에서 전기 전압의 인가시의 나트륨의 확산을 방지하고, 이는 태양 전지에서, 특히 흡수층(15)에서의 에이징 효과를 초래할 수 있다. 확산-방지층(12)은 이를 효율적인 방식으로 지지하고, 박층 태양 전지(10)의 층의 제조시 상당한 에너지 절감을 가능하게 한다.
도 2는 본 발명에 따른 추가 예시적 실시예를 도시한다. 추가 확산-방지층(12') 및/또는 추가 확산-장벽층(13')에 의해 간섭 물질의 이송을 통한 인접 태양 전지의 오염이 또한 효과적으로 감소된다. 이러한 맥락에서, 흡수층에 마주하여 배치된 기판(11)의 후면측 상에 추가 확산-방지층(12') 및 추가 확산-장벽층(13')이 배치된다.
도 3은 DIN 52296에 따른 98℃에서의 각종 유리 샘플의 표면의 방수성에 대한 테스트 결과를 갖는 도면(20)을 도시한다. 테스트된 샘플은 x-방향으로 표시되고, 샘플 표면으로부터 방출되는 산화 나트륨의 양은 y-방향으로 dm2 당 ㎍으로 도시된다. 약 80㎍/dm2 용해된 나트륨이 코팅되지 않은 플로트 글래스(float glass)의 표면으로부터 방출된다, 샘플 1 참조. 대조적으로, 층 두께가 d인 확산-방지층(12)을 갖는 플로트-글래스 플레이트, 샘플 2 내지 6 참조, 는 코팅되지 않은 샘플(1)과의 비교에 의해 현저하게 감소된 양의 dm2 당 산화 나트륨을 제공한다. 확산-방지층(12)은 40㎍/dm2와 0.8㎍/dm2 사이의 점선으로 제한되는 도표 20에서의 영역(21)에 배치된다. 일반적으로, 확산-방지 코팅은 영역(21)에 배치되고, 코팅되지 않은 유리 기판과 비교해서 유리 기판으로부터의 산화 나트륨은 0.01 내지 0.5 배수만큼 감소된 이동을 보인다.
동일한 층 두께 d의 확산-장벽층(13)을 갖는 플로트-글래스 플레이트, 샘플 7 참조, 는 단지 약 0.6㎍/dm2의 산화 나트륨 이동을 제공하며, 따라서 코팅되지 않은 샘플의 0.01배 값보다 작은 산화 나트륨 이동을 제공하는 확산-장벽층(22) 내에 배치된다.
상술한 및/또는 도시된 모든 특징이 본 발명의 범위내에서 서로 유리하게 결합될 수 있다. 본 발명은 예시된 실시예에 국한되지 않는다.

Claims (12)

  1. 기판(11), 확산-장벽층(13), 상기 기판(11)으로부터 등지는 상기 확산-장벽층(13)의 측에 배치된 후면-접촉층(14), 및 광활성 흡수층(15)을 포함하는 박층 태양 전지로서,
    상기 기판(11)과 상기 확산-장벽층(13) 사이에 확산-방지층(12)이 배치된 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판(11) 내에 간섭 물질, 특히 나트륨이 존재하고, 상기 확산-장벽층(13)은 상기 간섭 물질의 이온이 상기 확산-장벽층(13) 위에 배치된 층으로 확산하는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 흡수층(15)은 구리, 인듐, 셀레늄 및/또는 갈륨을 포함하는 황동광(chalcopyrite)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 확산-방지층(12)은 산화 아연 및 산화 주석 (ZnO)x(SnO2)y을 포함하며, x의 비는 1.75와 2.25 사이이고, 바람직하게는 1.9와 2.1 사이이고, y의 비는 0.75에서 1.25까지 이고, 바람직하게는 0.9에서 1.1까지인 것, 및/또는
    상기 확산-방지층(12)은 산화 티타늄 및/또는 산화 지르코늄 및/또는 산화 하프늄을 포함하는 것, 및/또는
    상기 확산-방지층(12)은 산화 바나듐 및/또는 산화 니오브를 포함하는 것, 및/또는
    상기 확산-방지층(12)은 질화 아연 및/또는 질화 주석을 포함하는 것, 및/또는
    상기 확산-방지층(12)은 질화 티타늄 및/또는 질화 지르코늄 및/또는 질화 하프늄을 포함하는 것, 및/또는
    상기 확산-방지층(12)은 질화 바나듐 및/또는 질화 니오브를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 흡수층(15)은 상기 후면-접촉층(14) 상에 배치되는 것 및/또는 상기 흡수층(15) 상에 배치된 전면-접촉층(16)이 존재하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 확산-방지층(12)은 10nm에서 100nm까지, 바람직하게는 50nm에서 60nm까지인 층 두께를 제공하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 확산-장벽층(13)은 실리콘, 산소, 질소 및 탄소(SiOxNyCz)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  8. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 확산-장벽층(13)은 알루미늄, 산소, 질소 및 탄소(AlOxNyCz)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  9. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 확산-장벽층(13)은 10nm에서 100nm까지의, 바람직하게는 15nm에서 30nm까지의, 특히 바람직하게는 약 20nm의 층 두께를 제공하는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  10. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 확산-장벽층(13)의 층 두께는 상기 확산-방지층(12)의 층 두께보다 작은 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  11. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    추가 확산-방지층(12') 및/또는 추가 확산-장벽층(13')이 상기 흡수층(15)의 맞은편에 배치된 상기 기판의 후면(17)에 도포되는 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
  12. 청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
    주어진 두께의 확산-방지층을 갖는 기판으로부터 방출되는 dm2 당 산화 나트륨의 용적은 코팅되지 않은 기판의 경우에 비해 0.01 내지 0.5 배만큼 작고, 동일한 두께의 확산-장벽층을 갖는 기판으로부터 방출되는 dm2 당 산화 나트륨의 용적은 코팅되지 않은 샘플의 0.01배의 값 미만인 것을 특징으로 하는, 박층 태양 전지.
KR1020137015851A 2011-01-11 2012-01-11 확산-방지층을 갖는 박층 태양 전지 KR101824758B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011008269.7A DE102011008269B4 (de) 2011-01-11 2011-01-11 Dünnschicht-Solarzellen mit diffusionshemmender Schicht
DE102011008269.7 2011-01-11
PCT/EP2012/050343 WO2012095443A2 (de) 2011-01-11 2012-01-11 Dünnschicht-solarzellen mit diffusionshemmender schicht

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140027069A true KR20140027069A (ko) 2014-03-06
KR101824758B1 KR101824758B1 (ko) 2018-02-02

Family

ID=45497992

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020137015851A KR101824758B1 (ko) 2011-01-11 2012-01-11 확산-방지층을 갖는 박층 태양 전지

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP2664003B1 (ko)
KR (1) KR101824758B1 (ko)
DE (1) DE102011008269B4 (ko)
WO (1) WO2012095443A2 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6548896B2 (ja) * 2014-12-26 2019-07-24 株式会社マテリアル・コンセプト 太陽電池モジュールおよびその製造方法
KR102227799B1 (ko) * 2019-02-07 2021-03-15 (주)제이비에이치 Cigs 박막 태양전지 제조방법
CN112349792B (zh) * 2020-11-06 2023-01-31 浙江师范大学 一种单晶硅钝化接触结构及其制备方法
US20220238747A1 (en) 2021-01-28 2022-07-28 Solaero Technologies Corp. Inverted metamorphic multijunction solar cell

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE1016553A3 (fr) * 2005-03-17 2007-01-09 Glaverbel Vitrage a faible emissivite.
ATE490221T1 (de) * 2006-08-08 2010-12-15 Scheuten Glasgroep Bv Temperbares low-e-schichtsystem; verfahren zur herstellung und low-e-glasprodukt mit schichtsystem
US8197942B2 (en) * 2007-03-23 2012-06-12 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Gas barrier sheet
US7863074B2 (en) * 2008-09-30 2011-01-04 Stion Corporation Patterning electrode materials free from berm structures for thin film photovoltaic cells
US8217261B2 (en) 2008-09-30 2012-07-10 Stion Corporation Thin film sodium species barrier method and structure for cigs based thin film photovoltaic cell
DE102009033417C5 (de) * 2009-04-09 2022-10-06 Interpane Entwicklungs-Und Beratungsgesellschaft Mbh Verfahren und Anlage zur Herstellung eines beschichteten Gegenstands mittels Tempern
US8134069B2 (en) * 2009-04-13 2012-03-13 Miasole Method and apparatus for controllable sodium delivery for thin film photovoltaic materials

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012095443A2 (de) 2012-07-19
EP2664003B1 (de) 2020-04-15
EP2664003A2 (de) 2013-11-20
KR101824758B1 (ko) 2018-02-02
WO2012095443A3 (de) 2012-12-06
DE102011008269A1 (de) 2012-07-12
DE102011008269B4 (de) 2015-01-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6096790B2 (ja) 光電池のための導電性基材
EP2668666B1 (en) Solar cell apparatus
KR20130045516A (ko) 박막태양전지 및 이의 제조방법
WO2011158841A1 (ja) Cigs型の太陽電池およびそのための電極付きガラス基板
US20120180869A1 (en) Solar power generation apparatus and manufacturing method thereof
US9941424B2 (en) Solar cell
CN102057496B (zh) 对于能收集光元件的改进
KR101824758B1 (ko) 확산-방지층을 갖는 박층 태양 전지
KR20110047714A (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
WO2014025176A1 (ko) Na 공급 방법이 개선된 유연기판 CIGS 태양전지 및 그 제조방법
US20130056054A1 (en) High work function low resistivity back contact for thin film solar cells
JP2014503125A (ja) 太陽電池及びその製造方法
US9362435B2 (en) Solar cell apparatus and method of fabricating the same
NL2008742C2 (en) Method for forming interconnect in solar cell.
KR101154696B1 (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
CN103348488A (zh) 具有金属硫氧化物窗口层的光伏装置
CN102867860B (zh) 一种用于cigs基薄膜光伏电池的过渡层及其制备方法
KR101315311B1 (ko) 후면전극 및 이를 포함하는 cis계 태양전지
KR101014106B1 (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
KR101284698B1 (ko) 태양 전지 및 그 제조 방법
CN102447008A (zh) 光伏器件及其制造方法
KR101173402B1 (ko) 태양전지 및 이의 제조방법
KR101432903B1 (ko) 이원계 분말을 이용한 cιs 박막 태양전지 제조 방법
CN113130679A (zh) 薄膜太阳能电池及其制备方法
Naghavi Contacts, Buffers, Substrates, and Interfaces

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant