KR20140000318A

KR20140000318A - 열교환기를 갖는 열 확산 챔버

Info

Publication number: KR20140000318A
Application number: KR1020137020105A
Authority: KR
Inventors: 마크 알. 에릭슨; 헨리 제이. 풀; 나데르 잠쉬디; 3세 아서 더블유. 커스터; 애런 엘. 딩구스
Original assignee: 풀 벤츄라, 인코포레이티드
Priority date: 2010-12-30
Filing date: 2011-12-22
Publication date: 2014-01-02
Also published as: EP2659024A1; WO2012099687A1; CN103547703A; US20120168143A1

Abstract

태양 전지판의 기판을 가공하는 중에 기체 셀렌화물 종이 대기로 이동하여 누출되는 것을 방지하는 확산 챔버에 관한 것으로, 이 챔버는 시일링되는 처리 챔버를 구속하는 격납 챔버를 지지하는 프레임, 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 제 1 유체 처리 시스템/열원 모듈 및 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 제 1 유체 처리 시스템/열원 모듈을 포함한다.

Description

열교환기를 갖는 열 확산 챔버{THERMAL DIFFUSION CHAMBER WITH HEAT EXCHANGER}

어떤 형태의 태양 에너지 생산은 태양 전지판(solar panel)에 의존하고, 이 태양 전지판은 선택된 재료의 기판 상으로의 확산에 의존한다. 일 예로, 기판으로서 유리가 사용되고, 이 유리는 기체 셀렌화물 종에 노출되어, 구리, 인듐 및 셀렌화물을 함유하는 막이 상기 기판상에 형성된다. 상기 기체 셀렌화물 종은 사람에게 독성이 있는 것으로 알려져 있는데, 이 때문에 열 조절 시스템을 포함하여 신중한 처리 방법이 강조된다.

따라서, 처리 챔버의 내부로부터 기체 셀렌화물 종이 대기로 나가고 누출되는 것을 효율적으로 또한 신뢰적으로 막을 수 있는 열 조절 시스템이, 구리, 인듐 및 셀렌화물을 함유하는 막이 확산되어 있는 기판을 제공하는데 사용되는 열 챔버의 작동 및 생산 출력을 크게 개선할 수 있다.

이에 따라, 열 확산 챔버를 위한 처리 챔버를 열 조절하는 개선된 기구 및 방법에 대한 필요성이 계속 제기되고 있다.

본 발명은 열확산 챔버에 관한 것으로, 구체적으로, 열확산 챔버 장비의 처리 챔버의 내외부 온도를 제어하기 위한 열 제어 시스템 및 방법에 관한 것이다.

다양한 예시적인 실시 형태에 따르면, 프레임이 격납 챔버를 지지하고, 이 격납 챔버는 시일링되는 처리 챔버를 구속한다. 상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에는 열원 모듈이 배치되고, 적어도 하나의 유체 입구 박스가 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통되며, 또한 상기 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 유체 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함한다. 열 센서가 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부에서 그 시일링되는 열 챔버의 벽에 인접하여 접촉해서 배치되고, 상기 열 센서는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 온도값을 측정한다.

바람직하게는, 제어기가 상기 유동 조절 구조체 및 열 센서와 연결되어 있고 이 제어기는 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도 값에 응하여, 유체 공급원으로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 유체 유동을 조절하기 위해 상기 유동 조절 구조체의 유동 위치를 설정한다.

대안적인 예시적인 실시 형태에서, 열확산 챔버 형성 방법은 적어도, 프레임을 제공하는 단계; 격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계; 열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계; 및 시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 상기 방법은 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 적어도 하나의 유체 입구 박스를 고정시키는 단계(상기 유체 입구 박스는 유체 공급원으로부터 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 가는 유체 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함함); 열 센서 어셈블리를 상기 시일링되는 처리 챔버 내부에 배치하는 단계(상기 열 센서 어셈블리는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 온도 값을 측정함); 및 상기 제어기를 상기 유동 조절 구조체 및 열 센서 각각에 연결하는 단계를 포함하고, 상기 제어기는 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도 값에 응하여, 상기 유체 공급원으로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 유체 유동을 조절하기 위해 상기 유동 조절 구조체의 유동 위치를 설정한다.

다양한 대안적이고 예시적인 실시 형태에 따르면, 프레임이 격납 챔버를 지지하고, 이 격납 챔버는 시일링되는 처리 챔버를 구속하며, 상기 격납 챔버와 상기 시일링되는 처리 챔버 사이에는 열원 모듈이 배치된다. 바람직하게는, 제 1 유체 처리 시스템이 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 환경과 유체 연통하며, 제 2 유체 처리 시스템이 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하고, 바람직하게는 제어 시스템이 상기 제 1 및 2 유체 처리 시스템 각각에 연결되어 있다. 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버와 연결되어 있는 열 센서에 의해 제공되는 그 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도 값에 응하여, 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 제 1 유량을 설정한다. 또한 바람직하게, 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도에 응하여 그 시일링되는 처리 챔버의 내부로 방출되는 제 2 유체의 제 2 유량을 설정하게 된다.

대안적으로, 열확산 챔버 형성 방법은 적어도, 프레임을 제공하는 단계; 격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계; 열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계; 시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계를 포함한다. 또한 바람직하게, 상기 방법은 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 제 1 유체 처리 시스템을 고정시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 제 2 유체 처리 시스템을 배치하는 단계; 및 제어 시스템을 상기 제 1 및 2 처리 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함하고, 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버와 연결되어 있는 열 센서에 의해 제공되는 그 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도 값에 응하여, 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 제 1 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도에 응하여 그 시일링되는 처리 챔버의 내부로 방출되는 제 2 유체의 제 2 유량을 더 설정한다.

대안적인 다른 실시 형태에서, 열확산 챔버는 적어도 격납 챔버를 지지하는 프레임을 포함하고, 시일링되는 처리 챔버가 상기 격납 챔버 내부에 구속되며, 상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에는 열원 모듈이 배치되며, 유체 처리 시스템이 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 폐쇄 루프 열 교환 시스템이 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하고, 제어 시스템이 상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되어 있다. 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정한다.

대안적인 다른 열확산 챔버 형성 방법에서, 단계들은 바람직하게 적어도 프레임을 제공하는 단계; 격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계; 열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계; 시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템을 고정시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 및 제어 시스템을 상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열교환 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함하고, 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정한다. 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 설정한다.

다른 대안적인 실시 형태에서, 열확산 챔버는 적어도, 격납 챔버를 지지하는 프레임; 상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버; 상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈; 상기 시일링되는 처리 챔범의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열 교환 시스템; 및 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되어 있는 제어 시스템을 포함한다. 바람직하게는, 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정한다.

대안적인 다른 열확산 챔버 형성 방법에서, 단계들은 바람직하게는, 프레임을 제공하는 단계; 격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계; 열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계; 시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템을 고정시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 및 제어 시스템을 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열교환 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함한다. 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도 값에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도에 응하여 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정한다.

추가적인 예시적 실시 형태에 따르면, 열확산 챔버는 적어도, 격납 챔버를 지지하는 프레임; 상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버; 상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈; 상기 시일링되는 처리 챔범의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열 교환 시스템; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열 교환 시스템; 및 상기 유체 처리 시스템, 폐쇄 루프 열 교환 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되어 있는 제어 시스템을 포함한다. 바람직하게는, 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유량을 설정한다. 또한 상기 제어 시스템은 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 3 유체의 유량을 더 설정한다.

열확산 챔버를 형성하는 추가적인 예시적 실시 형태에 따르면, 단계들은 적어도, 프레임을 제공하는 단계; 격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계; 열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계; 시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템을 고정시키는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 및 제어 시스템을 상기 유체 처리 시스템, 폐쇄 루프 열교환 시스템 및 개방 루프 열교환 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유량; 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통과하는 제 2 유체의 유량; 및 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통과하는 제 3 유체의 유량을 설정한다.

청구되는 본 발명의 특징이 되는 이들 및 다양한 다른 특징들 및 이점들은 이하의 상세한 설명 및 관련된 도면을 통해 명확히 알 수 있을 것이다.

도 1 은 일 부분이 생략되어 있는 본 발명의 열 챔버의 일 예시적인 실시 형태의 정사영도를 나타낸다.
도 2 는 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태에 사용되는 일 예시적인 기판 지지 프레임의 정사영도를 나타낸다.
도 3 은 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태의 우측 단면도를 나타낸다.
도 4 는 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태의 전방 단면도를 도시하는 것으로, 배출 매니폴드와 도관이 나타나 있다.
도 5 는 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태의 입구 도관이 부착되어 있는 유체 입구 박스의 확대 상세 단면도를 나타낸다.
도 6 은 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태의 우측 단면도를 나타내는 것으로, 예시적인 폐쇄 루프 내부 열 교환기가 나타나 있다.
도 7 은 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태의 우측 단면도를 나타내는 것으로, 예시적인 개방 루프 내부 열 교환기가 나타나 있다.
도 8 은 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태의 우측 단면도를 나타내는 것으로, 예시적인 내부 열 센서가 나타나 있다.
도 9 는 일반적으로 도 1 의 열 챔버의 예시적인 조합 내부 열 센서, 개방 루프 내부 열 교환기 및 폐쇄 루프 내부 열 교환기 어셈블리의 평면도를 도시한다.
도 10 은 도 1 의 열 챔버의, 일차 열 편향 어셈블리가 부착되어 있는 예시적인 도어의 정사영도를 나타낸다.
도 11 은 도 10 의 일차 열 분산 어셈블리의 정사영도를 나타낸다.
도 12 는 도 1 의 열 챔버의 이차 열 분산 어셈블리의 정사영도를 나타낸다.
도 13 은 도 1 의 열 챔버의 내외부를 냉각시키는데 사용되는 냉각 열 교환 시스템을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 14 는 도 1 의 열 챔버의 대안적이고 예시적인 조합 내부 열 센서, 개방 루프 내부 열 교환기 및 폐쇄 루프 내부 열 교환기 어셈블리의 평면도를 도시한다.
도 15 는 도 14 의 대안적이고 예시적인 조합 내부 열 센서, 개방 루프 내부 열 교환기 및 폐쇄 루프 내부 열 교환기 어셈블리의 단부도를 도시한다.
도 16 은 도 14 의 대안적이고 예시적인 조합 내부 열 센서, 개방 루프 내부 열 교환기 및 폐쇄 루프 내부 열 교환기 어셈블리의 측면도를 도시한다.
도 17a 는 도 1 의 열 챔버 내부에 배치되어 있는 도 14 의 대안적이고 예시적인 조합 내부 열 센서, 개방 루프 내부 열 교환기 및 폐쇄 루프 내부 열 교환기 어셈블리의 단부도를 도시한다.
도 17b 는 도 17a 의 열 챔버에 부착되어 있는 바닥 포트 지지부의 평면도를 나타낸다.
도 18 은 도 1 의 열 챔버 내부에 배치되어 있는 도 14 의 대안적이고 예시적인 조합 내부 열 센서, 개방 루프 내부 열 교환기 및 폐쇄 루프 내부 열 교환기 어셈블리의 측면도를 도시한다.
도 19 는 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태를 형성하는 방법의 흐름도를 전체적으로 나타낸다.
도 20 은 도 1 의 열 챔버의 예시적인 실시 형태를 형성하는 방법의 흐름도를 나타낸다.
도 21 은 도 1 의 열 챔버의 대안적이고 예시적인 실시 형태를 형성하는 방법의 흐름도를 나타낸다.
도 22 는 도 1 의 열 챔버의 대안적이고 예시적인 실시 형태를 형성하는 방법의 흐름도를 나타낸다.
도 23 은 도 1 의 열 챔버의 대안적이고 예시적인 실시 형태를 형성하는 방법의 흐름도를 나타낸다.

이제, 도면에 도시되어 있는 본 발명의 다양한 실시 형태들 중의 하나 이상의 예를 자세히 참조하도록 한다. 각각의 예는 본 발명의 다양한 실시 형태를 설명하기 위해 제공되는 것이지 본 발명을 한정하려는 것은 아니다. 예컨대, 일 실시 형태의 일 부분으로서 도시되어 있거나 설명되는 특징적 사항을 다른 실시 형태에 사용하여 또 다른 실시 형태를 만들 수도 있다. 설명되는 실시 형태에 대한 다른 수정과 변경도 본 발명의 범위와 요지에 포함되는 것이다.

도면을 참조하면, 도 1 은 프레임(104)에 의해 지지되는 적어도 하나의 격납 챔버(102)를 포함하는 일 예시적인 열 확산 챔버(100)를 나타낸다. 상기 격납 챔버(102)는 처리 챔버(106)를 지지한다. 바람직하게는 상기 예시적인 열 확산 챔버(100)는 상기 처리 챔버(106)와 격납 챔버(102) 사이에 배치되는 열원 모듈(108)및 처리 챔버(106)와 상기 열원 모듈(108) 사이에 형성되는 열 조절 공동부(110)를 포함한다. 또한 도 1 에서 보는 바와 같이, 적어도 하나의 유체 입구 박스(112)가 제공되어 있는데, 이 박스는 상기 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되어 있다.

도 2 는 열 확산 챔버(100)(도 1)의 상기 예시적인 실시 형태에 사용되는 일 예시적인 기판 지지 프레임(113)을 나타낸다. 바람직한 실시 형태에서, 상기 기판 지지 프레임(113)은 석영으로 형성되며 복수의 기판(115)(하나만 나타나 있음)을 수용한다. 작업시, 기판 지지 프레임(113)에는 기판(115)이 최대한으로 채워지고 상기 처리 챔버(106) 내부에 배치된다. 이 처리 챔버(106) 내부에서, 기판 지지 프레임(113)은 확산 공정 중에 기판(115)을 위한 고정구로서 역할한다. 바람직하게는 기판(115)은 실질적으로 650 mm의 폭과 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 직사각형이고, 유리, 바람직하게는 소다 라임 실리카 유리(soda-lime-silica glass)로 형성된다.

도 3 에서 보는 바와 같이, 열 확산 챔버(100)의 일 예시적인 실시 형태는 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되는 유체 입구 박스(112)를 포함한다. 또한 도 3 에는, 바람직하게는 상기 열원 모듈(108)과 처리 챔버(106) 사이에 배치되는 복수의 지지부(114)가 나타나 있다.

바람직한 예시적인 실시 형태에서, 상기 열원 모듈은 복수의 가열기(116)(여기서는 열원이라고도 함)로 형성되어 있는데, 그 열원 모듈은 일 예시적인 실시 형태에서 실질적으로 총 22개의 가열기로 이루어져 있다. 바람직하게는, 각각의 가열기는 가열기 쉘(118), 이 가열기 쉘(118)에 인접한 가열기 절연부(120) 및 복수의 가열 요소(122)를 갖는다. 일 예시적인 실시 형태에서, 상기 가열 요소(122)는 전기를 받으며 바람직하게는 코일형 요소이다. 그러나, 용어 "열원"은 개시된 복수의 가열기(116)에 한정되지 않는다. 열원(116)은 상기 처리 챔버(106) 내부에서 원하는 온도를 낼 수 있는 천연 가스, 과열 증기, 지열 에너지 또는 다른 에너지원일 수 있다.

다시 도 1 을 참조하면, 상기 유체 입구 박스(112)는 입구 매니폴드(126)에 고정되는 입구 도관(124)을 더 포함한다. 바람직하게는, 그 입구 매니폴드(126)는 도 3 에 나타나 있는 바와 같이 공기를 처리 챔버(106)에 분산시키기 위해 상기 공기 입구 박스(112)에 전달한다

또한 도 3 에 나타나 있는 바와 같이, 예시적인 열 확산 챔버(100)는 퍼지 (purge) 도관(128)을 포함하는데, 이 퍼지 도관은 상기 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되어 있고 출구 매니폴드(130)에 고정되며, 이 출구 매니폴드(130)는 상기 유체 입구 박스(112)를 통해 공기를 처리 챔버(106) 주위로 끌어 들여 상기 퍼지 도관(128) 밖으로 보내기 위해 대기압 보다 작은 내부 압력을 선택적으로 제공한다.

또한 도 3 에는 대응하는 가열기(116)를 통과하여 처리 챔버(106)에 인접하여 접촉하는 복수의 외부 열 센서(132)가 나타나 있으며, 이들 센서는 격납 챔버(102) 외부에서의 연결을 위한 전기 리드선(133)을 갖고 있다. 예시적인 열 확산 챔버(100)의 바람직한 작동 모드에서, 처리 챔버(106)의 외부 온도의 더 정확한 판독을 제공하기 위해 유체 유동이 일시 중단되는데, 즉 유체 유동은 유체 유동 조절을 받게 된다. 복수의 외부 열 센서(132)로부터 수집된 정보는 도 8 의 내부 열 센서 어셈블리(158)에 의해 수집된 정보를 크로스 체크하기 위해 사용된다. 바람직하게는 내부 열 센서에 의해 수집된 정보는 어떤 공기 입구 박스(112)가 유체 유동의 제한을 받야야 할지 또한 어떤 것이 최대 유체 유동을 위해 조절되어야 할지를 결정하는데 사용된다.

상기 복수의 공기 입구 박스(112)를 통과하는 유체 유동을 조절함으로써, 처리 챔버(106)의 더 균일한 냉각을 달성할 수 있다. 또한, 예시적인 열 확산 챔버(100)의 대안적인 바람직한 작동 모드에서, 상기 복수의 외부 열 센서(132)로부터 추가적인 입력을 받는 내부 열 센서 어셈블리(158)는 처리 챔버(106)의 가열 사이클 중에 가열 요소(122)에 공급되는 전력의 양을 조절하기 위한 정보를 제공한다. 즉, 처리 챔버(106)의 가열 사이클 중에, 복수의 가열기(116) 각각에 전력이 공급된다. 복수의 가열기(116) 각각에 공급되는 전력을 조절함으로써, 처리 챔버(106)의 더욱 균일한 가열이 달성될 수 있다.

도 4 에 나타나 있는 바와 같이, 상기 유체 입구 박스(112)는 플레이트 밸브(134)를 포함하는데, 이 밸브는 상기 열 조절 공동부(110)로부터 유체 입구 박스(112)를 통과하여 격납 챔버(102)의 외부로 가는 유체 유동을 줄여준다. 또한 도 4 에 나타나 있는 바와 같이, 유체 입구 박스(112)는 유동 조절 구조체(136)를 포함하는데, 이 유동 조절 구조체는 바람직하게는 모터(137)로 제어되는 위치결정 축(135)을 포함한다. 모터(137)의 회전에 따라 상기 위치결정 축(135)은 플레이트 밸브(134)와 상호 작용하여, 격납 챔버(102)의 외부로부터 상기 플레이트 밸브(134)를 지나 열 조절 공동부(110) 안으로 들어가는 유체 유동을 제어한다.

도 5 는 상기 유체 입구 박스(112)를 더 상세히 나타낸 것이다. 바람직한 실시 형태에서, 유체 입구 박스(112)는 입구 도관(124)을 지지하는 흡입 포트(138)를 가지며, 그 입구 도관은 상기 플레이트 밸브(134)에 인접하여 접촉한다. 바람직하게는, 상기 유체 입구 박스(112)는 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되는 출구 도관(142)을 지지하는 배출 포트(140)를 또한 갖는다. 유체 입구 박스(112)의 작동 중에, 모터(137)의 한쌍의 핀치 롤러(139)가 상기 위치결정 축(135)에 작용하여 플레이트 밸브(134)에 대한 위치결정 축(135)의 위치를 변경하게 된다.

도 5 에 나타나 있는 바와 같이, 바람직한 실시 형태에서는 출구 도관(142)을 지지하는 상기 배출 포트(140)를 제공하는 것 외에도, 유체 입구 박스(112)는 기단부와 말단부를 갖는 연장 도관(150)을 가지며, 상기 기단부는 출구 도관(142)에 고정되고 그에 인접하여 접촉하며, 상기 연장 도관(150)은 격납 챔버(102)에서 오는 유체를 도 4 의 열 조절 공동부(110)에 전달하기 위해 제공되는 것이다. 연장 도관(150)의 말단부에는 바람직하게는 확산 부재(152)가 부착되어 있으며, 이 확산 부재(152)는 격납 챔버(102) 외부의 유체가 도 4 의 처리 챔버(106)의 외부에 수직인 스트림으로 그 처리 챔버(106)에 들어가는 것을 방지한다.

또한 도 5 에 나타나 있는 바와 같이, 유체 입구 박스(112)는 플레이트 밸브(134)와 피봇 지지부(156) 사이에 배치되는 피봇 핀(154)을 또한 갖고 있다. 피봇 지지부(156)는 입구 도관(124)에 인접하여 고정된다. 유동 조절 구조체(136)와 함께 상기 피봇 핀(154)은, 유체가 열 조절 공동부(110) 안으로 흡인될 때 입구 도관(124)과의 인접 접촉으로부터의 플레이트 밸브(134)의 제어된 미리 정해진 그리고 조절가능한 변위를 촉진한다. 피봇 핀(154)은 격납 챔버(102) 외부의 유체 유동이 중단될 때 플레이트 밸브(134)가 입구 도관(124)에 인접하여 폐쇄되는 것을 촉진한다. 다시 말해, 유체가 열 조절 공동부(110) 안으로 흡인되지 않을 때, 폐쇄된 플레이트 밸브(134)는 유체가 열 조절 챔버(110)에서 격납 챔버(102)의 외부로 가는 것을 막게 된다.

도 6 에 나타나 있는 바와 같이, 열 확산 챔버(100)의 일 예시적인 실시 형태는 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되는 유체 입구 박스(112)를 포함한다. 또한 도 6 에는 챔버 도어(160)가 나타나 있다. 바람직하게는, 이 챔버 도어(160)는 주 몸체부(164)에 고정되는 정면 판(162) 및 이 정면 판(162)에 고정되는 일차 열 분산 어셈블리(166)를 포함한다. 바닥부를 제외하고, 상기 일차 열 분산 어셈블리(166)는 시일링되는 처리 챔버(168)(여기서는 처리 챔버(168)라고도 함)의 내부 표면에 근접하여 정렬된다. 상기 시일링되는 처리 챔버(168)는 바람직하게는 챔버 도어(160)가 처리 챔버(106)와 시일링 접촉할 때 형성된다.

도 6 의 예시적인 실시 형태에서, 이차 열 분산 어셈블리(170)가 상기 일차 열 분산 어셈블리(166)와 정렬되어 있고 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면의 벽과 연결되어 있다. 복수의 지지 부재(172)와 함께 상기 이차 열 분산 어셈블리(170)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 벽에 인접한 폐쇄 루프 열 교환기(174)를 구속하고 지지한다. 상기 폐쇄 루프 열 교환기(174)는 열 확산 챔버(100)의 처리 사이클 중에 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 내부의 냉각이 잘 일어나도록 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부를 통해 순환시키기 위한 수단을 제공한다.

도 7 에 나타나 있는 바와 같이, 열 확산 챔버(100)의 다른 대안적인 실시 형태는 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되는 유체 입구 박스(112)를 포함한다. 또한 도 7 에는 챔버 도어(160)가 나타나 있는데, 바람직하게는 이 챔버 도어는 주 몸체부(164)에 고정되는 정면 판(162) 및 이 정면 판(162)에 고정되는 일차 열 분산 어셈블리(166)를 포함한다. 바닥부를 제외하고, 상기 일차 열 분산 어셈블리(166)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 근접하여 정렬된다.

도 7 의 대안적이고 예시적인 실시 형태에서, 바람직하게는 이차 열 분산 어셈블리(170)가 일차 열 분산 어셈블리(166)와 정렬되어 있으며 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면의 바닥에 배치되어 있다. 복수의 지지 부재(176)와 함께 상기 이차 열 분산 어셈블리(170)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 바닥에 인접한 개방 루프 열 교환기(178)를 구속하고 지지한다. 상기 개방 루프 열 교환기(178)는 복수의 공급 포트(180)를 갖고 있는데, 열 확산 챔버(100)의 처리 사이클 중에 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 냉각이 잘 일어나도록 유체가 상기 공급 포트틀 통해 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 안으로 들어갈 수 있다.

도 8 에 나타나 있는 바와 같이, 열 확산 챔버(100)의 대안적이고 예시적인 실시 형태는 열 조절 공동부(110)와 유체 연통되는 유체 입구 박스(112)를 포함한다. 또한 도 8 에는 챔버 도어(160)가 나타나 있는데, 바람직하게는 이 챔버 도어는 주 몸체부(164)에 고정되는 정면 판(162) 및 이 정면 판(162)에 고정되는 일차 열 분산 어셈블리(166)를 포함한다. 바닥부를 제외하고, 상기 일차 열 분산 어셈블리(166)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 근접하여 정렬된다.

도 8 의 대안적이고 예시적인 실시 형태에서, 이차 열 분산 어셈블리(170)가 일차 열 분산 어셈블리(166)와 정렬되어 있으며 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면의 바닥에 배치되어 있다. 복수의 지지 부재(182)와 함께 상기 이차 열 분산 어셈블리(170)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 바닥에 인접하는 열 센서 어셈블리(158)를 구속하고 지지한다. 바람직하게는, 열 센서 어셈블리(158)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 길이를 따라 배치되는 복수의 열전대(thermocouple; 184)를 갖는다. 이들 복수의 열전대(184)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 내부의 온도 변화에 반응한다. 바람직하게는, 상기 열 센서 어셈블리(158)는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 개구로부터 연장되어 그 시일링되는 처리 챔버(168)의 적어도 중간 부분을 통과하는 센서 도관(186)을 더 포함한다. 이 센서 도관(186)은 상기 복수의 열전대(184)가 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 환경에 노출되는 것을 차단한다.

또한 도 8 에 나타나 있는 바와 같이, 열 센서 어셈블리(158)는 바람직하게는 복수의 신호 라인(188)을 포함하는데, 이들 신호 라인은 복수의 열전대(184) 각각에 대응하여 연결되어 있다. 각각의 신호 라인(188)은 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 내부의 온도 변화에 응하여 신호를 그 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부로 전달된다.

도 9 의 바람직한 실시 형태에 나타나 있는 바와 같이, 조합형 열 교환 어셈블리(190)는, 도 6 의 폐쇄 루프 열 교환기(174), 도 7 의 개방 루프 열 교환기(178), 및 도 8 의 열 센서 어셈블리(158)를 포함한다. 폐쇄 루프 열 교환기(174), 개방 루프 열 교환기(178) 및 열 센서 어셈블리(158) 각각은 복수의 열 교환기 지지부(192)에 의해 각각 지지되며 이차 열 분산 어셈블리(170)에 부착되어 그에 의해 구속된다.

도 10 은 상기 챔버 도어(160)를 더욱 상세히 나타낸 것이다. 바람직하게는, 이 챔버 도어(160)는 주 몸체부(164)에 고정되는 정면 판(162) 및 이 정면 판(162)에 고정되는 램프 지지부(194)를 포함한다. 도 10 에 나타나 있는 바와 같이, 챔버 도어(160)는 일차 열 분산 어셈블리(166)를 더 포함하고, 상기 램프 지지부(194)는 복수의 정렬 노치(195)(도 11 에 나타나 있음)를 가지며, 도 8 의 열 확산 챔버(100)의 작동 모드 중에 열 분산 어셈블리(166)가 상기 노치에 정렬되어 배치된다.

도 11 에 또한 나타나 있는 바와 같이, 일차 열 분산 어셈블리(166)는 복수의 복사선(radiation) 반사판(197)에 인접하는 확산판(196)을 포함한다. 이 확산판(196) 및 복수의 복사선 반사판(197)은 바람직하게는 램프 지지부(194)에 의해 정렬 유지된다. 바람직한 예시적인 실시 형태에서, 상기 주 몸체부(164), 정면 판(162) 및 열 분산 어셈블리(166)는 바람직하게는 석영으로 형성된다.

도 12 에 나타나 있는 바와 같이, 상기 이차 열 분산 어셈블리(170)는 복수의 접근 포트(198)를 가지며, 이들 접근 포트는 폐쇄 루프 열 교환기(174), 개방 루프 열 교환기(178) 및 도 8 의 열 센서 어셈블리(158)를 정렬시키고 지지하며 또한 구속하는데 사용된다. 바람직하게는, 상기 이차 열 분산 어셈블리(170)는 복수의 복사선 반사판(197a)에 인접한 확산판(196)을 포함하고, 그 복사선 반사판은 바람직한 실시 형태에서 석영으로 형성된다.

도 13 은 열 확산 챔버(100)의 처리 사이클 중에 상기 시일링되는 열 챔버(168)의 내부와 외부를 냉각시키는데 사용되는 열 교환 시스템(200)을 개략적으로 도시한 것이다. 바람직한 실시 형태에서, 상기 열 교환 시스템(200)은 제어 시스템(202)(여기서는 제어기(202)라고도 함)을 포함하는데, 이 제어 시스템은 제 1 유체 처리 시스템(216), 제 2 유체 처리 시스템(218) 및 제 3 유체 처리 시스템(220) 각각과 연결되어 있다. 바람직하게는, 상기 제어 시스템(202)은 적어도 제어 신호 버스(222)를 포함하며, 그 제어 신호 버스는 적어도 상기 제 1, 2 및 3 유체 처리 시스템(216, 218, 220) 및 제어기(202)와 연결되어 있다.

바람직한 실시 형테에서, 상기 제어기(202)는 상기 제어 신호 버스(222)와 연결되어 있는 입력/출력 모듈(204), 이 입력/출력 모듈(204)과 연결되어 있는 프로세서(206), 제어 논리(210)를 저장하고 상기 프로세서(206)와 연결되어 있는 메모리(208), 상기 프로세서(206)와 연결되어 있는 입력 장치(212) 및 프로세서(206)와 연결되어 있는 디스플레이(214)를 포함한다.

열 챔버(100)의 바람직한 작동 중에, 상기 입력/출력 모듈(204)이 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 입력/출력 모듈(204)은 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서(206)에 제공한다. 이 프로세서(206)는 상기 저장된 제어 논리(210)에 접근하여, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 된다. 상기 프로세서(206)는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈(204)에 전달하고, 이 입력/출력 모듈(204)은 상기 제어 신호 버스(222)를 통해 상기 제어 신호를 제 1 유체 처리 시스템(216)에 전달한다.

바람직하게는, 상기 프로세서(206)는 제 1 유체 처리 장치(216)의 유체 전달 장치(226)와 연결되어 있는 유동 사용량 모니터링 장치(224)로부터 받은 데이타에 근거하여 제 1 유체 처리 시스템(216)을 통해 흐르는 유체의 사용 유동량을 또한 결정한다. 프로세서(206)는 더 바람직하게는 상기 제 1 유체 전달 장치(226)의 사용 유동량 및 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이(214)에 제공한다.

도 13 에 개략적으로 나타나 있는 바와 같이, 열 교환 시스템(200)은 바람직하게는 프로세서(206)에 의해 발생되어 제어 신호 버스(222)에 의해 상기 복수의 제어 밸브(228) 각각 제공되는 제어 신호에 응답하는 복수의 제어 밸브(228)를 이용하여, 상기 제 1, 2 및 3 유체 처리 시스템(216, 218, 220) 각각을 통과하는 유체의 유동을 제어하게 된다. 도 13 에서 또한 보는 바와 같이, 상기 열 교환 시스템(200)은 바람직하게는 상기 제 1, 2 및 3 유체 처리 시스템(216, 218, 220) 각각을 통과하는 유체 유동의 역류를 제어하는 복수의 역지 밸브(230) 및 복수의 열 센서(232)를 이용하고 있으며, 이 열 센서는 프로세서(206)가 복수의 제어 밸브(228)의 각각의 대응하는 제어 밸브에 전달될 복수의 제어 신호를 결정하는데 있어 근거가 되는 온도 측정 값을 상기 프로세서(206)에 제공한다.

도 13 에는 또한 유동 방향 기호(234)가 나타나 있는데, 이 기호는 각각의 대응하는 제 1, 2 및 3 유체 처리 시스템(216, 218, 220)을 통과하는 유체의 유동의 방향을 나타내며, 복수의 제어 밸브(228) 각각과 함께 복수의 열 센서(232) 각각은 제어 신호 버스(222)에 연결되어 있다. 바람직한 실시 형태에서, 제 1 유체 처리 시스템(216)은 적어도 하나의 유체 입구 박스(112)와 유체 연통되는 제 1 유체 전달 장치(226)를 포함한다. 상기 적어도 하나의 유체 입구 박스(112)는 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부와 유체 연통되며, 적어도 하나의 유체 입구 박스(112)는 적어도, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하는 유동 조절 구조체(137)(도 5), 및 상기 시일링되는 처리 챔버(168)와 제 1 유체 전달 장치(226) 각각의 외부와 유체 연통되는 유체 복귀 도관(130)을 포함하며, 이 유체 복귀 도관(130)은 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 주위로 흐르는 제 1 유체를 제 1 유체 전달 장치(226)에 되돌려 보낸다.

도 13 에서 보는 바와 같이, 상기 제 1 유체 처리 시스템(216)은 바람직하게는 복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템(202) 각각과 연결되어 있는 복수의 유체 센서(232) 중의 제 1 열 센서를 포함하며, 이 제 1 열 센서는 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하여 그 값을 제어 시스템(202)에 제공한다. 제어 시스템(202)이 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템(202)의 프로세서(206)는 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 상기 유체 복귀 도관(130)과 제 1 유체 전달 장치(226) 사이에 배치되는 복수의 제어 밸브(228) 중의 제 1 제어 밸브에 제어 신호를 보낸다. 이 제어 신호에 응답하여, 제 1 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)에서 제 1 유체 전달 장치(226)에 복귀하는 제 1 유체의 유동을 조절하게 된다.

또한 도 13 에서 보는 바와 같이, 상기 제 1 유체 처리 시스템(216)은 바람직하게는 미국의 댄버스 메인에 있는 OSRAM Sylvania에서 제조된 SureHeat MAX®와 같은 인라인 유체 가열기(236)를 더 포함한다. 바람직하게는 그 인라인 유체 가열기(236)는 유체 전달 장치(226)와 복수의 유체 입구 박스(112) 사이에서 상기 제 1 유체 처리 시스템(216)에 연결되어 있다. 인라인 유체 가열기(236)는 유체 전달 장치(226)에서 나가는 제 1 유체를 측정하는 제 2 열 센서에 의해 제공되는 온도 측정 값에 근거하여 프로세서(206)로부터 제어 신호 버스(222)에 의해 제공되는 제어 신호에 응답하여 제 2 제어 밸브를 작동시켜 제 1 유체의 유체 경로에 선택적으로 포함될 수 있다. 유체 전달 장치(226)에서 나가는 제 1 유체의 유출 유동 온도가 유체 입구 박스(112)의 원하는 입구 온도 보다 낮을 때 상기 인라인 유체 가열기(236)가 바람직하게 사용된다.

추가적으로, 상기 제 1 유체 처리 시스템(216)은 바람직하게는 상기 제 1 유체 처리 시스템(216)의 외부에 있는 열 교환기(238)를 더 포함하는데, 이 열 교환기는 열 확산 챔버(100)와 유체 전달 장치(226) 사이에서 상기 제 1 유체 처리 시스템에 연결되어 있다. 상기 열 교환기(238)는 열 확산 챔버(100)에서 나가는 제 1 유체를 측정하는 제 3 열 센서에 의해 제공되는 온도 측정 값에 근거하여 상기 프로세서(206)로부터 제어 신호 버스(222)에 의해 제공되는 제어 신호에 응답하여 제 3 제어 밸브를 작동시켜 제 1 유체의 유체 경로에 선택적으로 포함될 수 있다. 바람직하게는, 열 교환기(238)는 유체 전달 장치(226)가 그의 작동 파라미터를 초과하는 열적 조건을 받지 않도록 해주는데 이용된다.

상기 복수의 열원(116)(도 8) 각각의 사용 열 용량에 관한 데이타를 제공하기 위해, 제 1 유체 처리 시스템(216)은 바람직하게는 에너지 사용 모니터링 장치(240)를 더 포함하고, 이 장치는 복수의 열원(116)의 열 요소(130) 및 제어 시스템(202)과 연결되어 있다. 상기 에너지 모니터링 장치(240)는 바람직하게는 복수의 열원(116) 각각의 열 손실을 막기 위해 사용된다. 즉, 복수의 열원(116) 중 어떤 것이라도 바람직한 미리 정해진 사용량을 초과하면, 상기 프로세서(206)는 열원(116)의 작동 범위에서 벗어난 에너지 공급을 멈추기 위한 지령을 에너지원 제어 유닛에 보낸다. 상기 프로세서는 바람직하게는 복수의 열원(116) 각각의 사용 열용량 상태를 디스플레이(214)에 제공하여 그 디스플레이(214)에 의해 나타나게 한다.

바람직한 실시 형태에서, 도 13 에 나타나 있는 바와 같이, 제 3 유체 처리 시스템(220)은 바람직하게는 적어도 하나의 유체 분산 도관(244)과 유체 연통되는 폐쇄형 시스템 유체 전달 장치(242)를 포함한다. 적어도 하나의 유체 분산 도관(244)은 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부와 유체 연통된다. 바람직하게는, 이송 도관(246)이 상기 제 2 유체 전달 장치(242)와 적어도 하나의 유체 분산 도관(244) 사이에 배치되어 있다. 상기 이송 도관(246)은 바람직하게는 제 2 유체 전달 장치(242)로부터 제 2 유체를 적어도 하나의 유체 분산 도관(244)에 전달한다.

또한 바람직하게는 상기 제 2 유체 처리 시스템(218)에 의해, 상기 이송 도관(246)과 적어도 하나의 유체 분산 도관(244) 사이에 배치되는 역지 밸브가 제공되며, 이 역지 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)로부터 제 2 유체 전달 장치(242)로 가는 역류를 줄여준다. 추가적으로, 내부 유체 제어 밸브가 바람직하게는 상기 제 2 유체 전달 장치(242)와 적어도 하나의 유체 분산 도관(244) 사이에 연결되어, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부로 들어가는 제 2 유체의 유동을 제어한다. 바람직한 실시 형태에 따르면 유체 집결 도관(248)이 제공되는데, 이 도관은 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 및 제 2 유체 전달 장치(242)와 유체 연통된다. 상기 유체 집결 도관(248)은 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부에 유입하는 제 2 유체를 제 2 유체 전달 장치(242)에 복귀시킨다.

바람직하게는, 상기 복귀되는 제 2 유체 및 제어 시스템(202)과 연결되어 있는 제 4 열 센서가 제 2 유체 처리 시스템(218)에 의해 제공된다. 제 4 열 센서는 바람직하게는 상기 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하고 그 측정된 온도 값을 제어 시스템(202)에 제공한다. 이 제어 시스템(202)이 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템(202)은 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 내부 유체 제어 밸브 신호를 내부 유체 제어 밸브에 보내어, 그 내부 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 제 2 유체 전달 장치(242)로부터 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 된다.

또한 도 13 에 나타나 있는 바와 같이, 상기 제 2 유체 처리 시스템(218)은 바람직하게는 미국의 댄버스 메인에 있는 OSRAM Sylvania에서 제조된 SureHeat MAX®와 같은 인라인 유체 가열기(236)를 더 포함한다. 바람직하게는 그 인라인 유체 가열기(236)는 유체 전달 장치(242)와 이송 도관(246) 사이에서 상기 제 2 유체 처리 시스템(218)에 연결되어 있다. 인라인 유체 가열기(236)는 상기 프로세서(206)로부터 제어 신호 버스(222)에 의해 제공되는 제어 신호에 응답하여 제 4 제어 밸브를 작동시켜 제 2 유체의 유체 경로에 선택적으로 포함될 수 있다. 그 제어 신호는 바람직하게는 유체 전달 장치(242)에서 나가는 제 2 유체를 측정하는 제 5 열 센서에 의해 제공되는 온도 측정 값에 근거한다. 유체 전달 장치(242)에서 나가는 제 2 유체의 유출 유동 온도가 적어도 하나의 유체 분산 도관(244)의 원하는 입구 온도 보다 낮을 때 상기 인라인 유체 가열기(236)가 바람직하게 사용된다.

추가적으로, 상기 제 2 유체 처리 시스템(218)은 바람직하게는 상기 제 2 유체 처리 시스템(218)의 외부에 있는 열 교환기(250)를 더 포함하는데, 이 열 교환기는 상기 유체 집결 도관(248)과 제 2 유체 전달 장치(242) 사이에서 상기 제 2 유체 처리 시스템에 연결되어 있다. 상기 열 교환기(250)는 유체 집결 도관(248)에 들어가는 제 2 유체를 측정하는 제 6 열 센서에 의해 제공되는 온도 측정 값에 근거하여 상기 프로세서(206)로부터 제어 신호 버스(222)에 의해 제공되는 제어 신호에 응답하여 제 5 제어 밸브를 작동시켜 제 2 유체의 유체 경로에 선택적으로 포함될 수 있다.

바람직하게는, 열 교환기(250)는 유체 전달 장치(242)가 그의 작동 파라미터를 초과하는 열적 조건을 받지 않도록 해주는데 이용된다. 또한, 유체 전달 장치(242)의 사용량에 관한 데이타를 제공하기 위해, 유동 사용 모니터링 장치(252)가 바람직하게 사용되어, 유체 전달 장치(242)의 작동 능력이 초과되지 않도록 해준다.

바람직한 실시 형태에서, 도 13 에 나타나 있는 바와 같이, 제 3 유체 처리 시스템(220)은 바람직하게는 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)이다. 즉, 제 3 유체는 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220) 외부의 모든 환경으로부터 격리되어 있다. 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)은 바람직하게는 적어도 하나의 유체 분산 도관(256)과 유체 연통되는 적어도 하나의 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)를 포함한다. 적어도 하나의 유체 분산 도관(256)은 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부에 인접하여 있다. 바람직하게는, 이송 도관(258)이 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)와 적어도 하나의 유체 분산 도관(256) 사이에 배치되어 있다. 상기 이송 도관(258)은 바람직하게는 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)로부터 상기 격리된 제 3 유체를 적어도 하나의 유체 분산 도관(244)에 전달한다.

또한 바람직하게는 상기 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)에 의해, 상기 이송 도관(258)과 적어도 하나의 유체 분산 도관(256) 사이에 배치되는 역지 밸브가 제공되며, 이 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 유체 분산 도관(256)으로부터 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)로 가는 역류를 줄여준다. 추가적으로, 제 6 유체 제어 밸브가 바람직하게 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)와 적어도 하나의 유체 분산 도관(256) 사이에 연결되어, 적어도 하나의 유체 분산 도관(256) 안으로 들어가는 상기 격리된 제 3 유체의 유동을 제어한다. 상기 바람직한 실시 형태는 복귀 도관(262) 및 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)와 유체 연통되는 유체 집결 도관(260)을 또한 갖는다. 이 유체 집결 도관(260)은 상기 적어도 하나의 유체 분산 도관(256) 안으로 유입하는 상기 격리된 제 3 유체를 복귀시킨다.

바람직하게는, 복귀되는 격리된 제 3 유체 및 제어 시스템(202)과 연결되는 제 7 열 센서가 제 2 유체 처리 시스템(220)에 의해 제공된다. 상기 제 7 열 센서는 바람직하게는 상기 복귀되는 격리된 제 3 유체의 온도 값을 측정하고 그 측정된 온도 값을 제어 시스템(202)에 제공한다. 제어 시스템(202)이 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템(202)은 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 유체 제어 밸브(바람직하는, 유체 집결 도관(260)과 복귀 도관(262) 사이에 연결됨)에 유체 제어 밸브 신호를 보낸다. 유체 제어 밸브는 바람직하게는 상기 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 복귀 도관(262)으로부터 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)로 가는 상기 복귀되는 격리된 제 3 유체의 유동을 조절하는 기능을 한다.

또한 도 13 에서 보는 바와 같이, 상기 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)은 바람직하게는 미국의 댄버스 메인에 있는 OSRAM Sylvania에서 제조된 SureHeat MAX®와 같은 인라인 유체 가열기(264)를 더 포함한다. 바람직하게는 그 인라인 유체 가열기(264)는 이송 도관(586)과 적어도 하나의 유체 분산 도관(256) 사이에서 상기 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)에 연결되어 있다. 인라인 유체 가열기(236)는 제어 신호에 응답하여 상기 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)의 작동 모드 중에 선택적으로 결합되거나 분리될 수 있다. 상기 제어 신호는 바람직하게는 외부 가스-가스 열 교환기(266)에서 나가는 상기 격리된 제 3 유체를 측정하는 제 8 열 센서에 의해 제공되는 온도 측정 값에 근거한다. 상기 외부 가스-가스 열 교환기(266)는 바람직하게는 이송 도관(258)과 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254) 사이에서 상기 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)에 연결된다. 외부 가스-가스 열 교환기(266)에서 나가는 격리된 제 3 유체의 유출 유동 온도가 적어도 하나의 유체 분산 도관(256)의 원하는 입구 온도 보다 낮을 때 상기 인라인 유체 가열기(264)가 바람직하게 사용된다. 바람직하게는, 상기 외부 가스-가스 열 교환기(266)는 복귀 도관(262)에 의해 제공되는 상기 격리된 제 3 유체로부터 열을 추출하며, 그 추출된 열을 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)에 의해 제공되는 격리된 제 3 유체에 전달하게 된다.

추가적으로, 상기 폐쇄 루프 유체 처리 시스템(220)은 바람직하게는 상기 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)의 내부에 있는 열 교환기(268)를 더 포함하는데, 이 열 교환기는 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)의 내부에 연결되어 있다. 상기 열 교환기(268)는 외부 가스-가스 열 교환기(266)에서 나가는 상기 격리된 제 3 유체를 측정하는 제 9 열 센서에 의해 제공되는 온도 측정 값에 근거하여 상기 프로세서(206)로부터 제어 신호 버스(222)에 의해 제공되는 제어 신호에 응답하여 제 6 제어 밸브를 작동시켜 상기 격리된 제 3 유체의 유체 경로에 선택적으로 포함될 수 있다.

바람직하게는, 상기 열 교환기(268)는, 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254) 내부에 수용되는 유체 전진 장치(270)가 이 유체 전진 장치(270)의 작동 파라미터를 초과하는 열적 조건을 받지 않도록 해주는데 이용된다. 또한, 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)의 사용량에 관한 데이타를 제공하기 위해, 유동 사용 모니터링 장치(272)가 바람직하게 사용되어, 유체 전진 장치(270)가 이 유체 전진 장치(270)에 연결되어 있는 구동 시스템(274)에 의해 작동되는 중에 그 유체 전진 장치의 작동 능력이 초과되지 않도록 해준다. 바람직한 실시 형태에서, 상기 격리된 제 3 유체가 주변 온도에 있을 때 그 유체가 대기압 보다 낮은 압력으로 유지되어, 상기 격리된 제 3 유체가 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부로부터 열 에너지를 흡수하면 상기 격리된 제 3 유체의 열 팽창이 일어나게 된다.

상기 제 1, 2 유체 및 격리된 제 3 유체 각각은 공기, 물, 질소, 헬륨, 프로필렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 또는 열전달에 좋은 다른 유체를 포함하는 많은 유체중 어떤 것이라도 될 수 있으며, 이에 한정되지 않는다.

또한, 도 13 에 나타나 있는 바와 같이, 바람직한 실시 형태의 열 교환 시스템(200)은 예시적인 조합형 열 교환 어셈블리(190)를 포함하며, 이 열 교환 어셈블리는 도 6 의 폐쇄 루프 열 교환기(174), 도 7 의 개방 루프 열 교환기(178) 및 도 8 의 열 센서 어셈블리(158)를 포함한다.

당업자라면 대안적인 실시 형태들이 본래 도 13 에 의해 주어짐을 이해할 것이다. 이들 많은 대안적인 실시 형태는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부와 유체 연통되는 유체 처리 시스템(216)을 포함하고, 이는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부와 유체 연통되는 폐쇄 루프 열 교환 시스템과 결합된다. 제어 시스템(202)은 유체 처리 시스템(216) 및 폐쇄 루프형 열 교환 시스템과 연결되어 있고, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 측정된 내부 온도에 응하여, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 유체 및 폐쇄 루프 열 교환 시스템을 통해 흐르는 유체의 유량을 설정한다.

본 대안적인 실시 형태에서, 폐쇄 루프 열 교환 시스템은 바람직하게는 도 6 의 폐쇄 루프 열 교환기(174)와 같은 적어도 하나의 폐쇄 루프 열 교환기와 유체 연통되는 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)와 같은 유체 전달 장치를 포함한다. 본 대안적인 실시 형태에서, 예시적인 폐쇄 루프 열 교환기(174)의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 인접해 있다.

제 2 대안적인 실시 형태는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부와 유체 연통되는 유체 처리 시스템(216)을 포함하고, 이는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부와 유체 연통되는 개방 루프 열 교환 시스템과 결합된다. 상기 제 2 대안적인 실시 형태는 바람직하게는 제어 시스템(202)을 더 포함하는데, 이 제어 시스템은 유체 처리 시스템(216) 및 개방 루프 열 교환 시스템과 연결되어 있고, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 유체 및 개방 루프 열 교환 시스템을 통과하여 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 처리 공동부 안으로 유입하는 유체의 유량을 설정한다.

본 제 2 대안적인 실시 형태에서, 개방 루프 열 교환 시스템은 바람직하게는 도 7 의 개방 루프 열 교환기(178)와 같은 적어도 하나의 개방 루프 열 교환기와 유체 연통되는 유체 전달 장치(242)와 같은 유체 전달 장치를 포함한다. 본 대안적인 실시 형태에서, 예시적인 폐쇄 루프 열 교환기(174)의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 인접해 있다.

제 3 대안적인 실시 형태는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부와 유체 연통되는 유체 처리 시스템(216)을 포함하고, 이는 폐쇄 루프 열 교환 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템과 결합되며, 이들 개방 루프 및 폐쇄 루프 열 교환 시스템 둘다는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부와 유체 연통된다.

상기 제 3 대안적인 실시 형태는 바람직하게는 제어 시스템(202)을 더 포함하는데, 이 제어 시스템은 유체 처리 시스템(216), 폐쇄 루프 열 교환 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템과 연결되어 있고, 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 외부 주위로 흐르는 유체 및 개방 루프 및 폐쇄 루프 열 교환 시스템을 통과하여 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 처리 공동부 안으로 유입하는 유체의 유량을 설정한다.

본 제 3 대안적인 실시 형태에서, 개방 루프 열 교환 시스템은 바람직하게는 도 7 의 개방 루프 열 교환기(178)와 같은 적어도 하나의 개방 루프 열 교환기와 유체 연통되는 유체 전달 장치(242)와 같은 유체 전달 장치를 포함한다. 본 대안적인 실시 형태에서, 예시적인 폐쇄 루프 열 교환기(174)의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 인접해 있다. 또한, 제 3 대안적인 실시 형태에서, 폐쇄 루프 열 교환 시스템은 바람직하게는 도 6 의 폐쇄 루프 열 교환기(174)와 같은 하나의 폐쇄 루프 열 교환기와 유체 연통되는 폐쇄 루프 유체 전달 장치(254)와 같은 유체 전달 장치를 포함한다. 본 대안적인 실시 형태에서, 예시적인 폐쇄 루프 열 교환기(174)의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 인접해 있다.

도 14 를 참조하면, 조합형 열 교환 어셈블리(276)의 대안적이고 예시적인 실시 형태가 나타나 있는데, 이 어셈블리는 바람직하게는 폐쇄 루프 열 교환기(278), 개방 루프 열 교환기(280) 및 도 8 의 열 센서 어셈블리(158)를 포함한다. 폐쇄 루프 열 교환기(278), 개방 루프 열 교환기(280) 및 열 센서 어셈블리(158) 각각은 복수의 열 교환기 지지부(192)에 의해 지지되며, 도 17 의 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 접근 포트(286)에 인접하여 부착되어 있는 도 17 의 바닥 포트 지지부(284)에 부착되어 구속된다.

도 15 는 예시적인 조합형 열 교환 어셈블리(276)의 정면도를 나타낸다. 바람직하게는 상기 조합형 열 교환 어셈블리(276)는, 열 센서 어셈블리에 인접하고 복수의 열 교환기 지지부(192)에 의해 지지되는 상기 폐쇄 루프 열 교환기(278)를 포함한다. 도 16 은 예시적인 조합형 열 교환 어셈블리(276)의 우측면도를 나타낸다. 바람직하게는, 조합형 열 교환 어셈블리(276)는, 개방 루프 열 교환기(280) 및 열 센서 어셈블리(158)에 인접하는 폐쇄 루프 열 교환기(278)를 포함한다.

도 17a 는 열 확산 시스템(294)의 상기 시일링되는 처리 챔버(168) 내부에 장착되는 예시적인 조합형 열 교환 어셈블리(276)의 정면도를 나타낸다. 열 교환 어셈블리(276)는 바람직하게는 열 센서 어셈블리에 인접해 있는 폐쇄 루프 열 교환기(278)를 포함하는데, 이 열 교환기는 바닥 포트 지지부(284)에 고정되고 도 17 의 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 접근 포트(286)를 통과해 돌출되어 있고 또한 복수의 열 교환기 지지부(192)에 의해 지지된다.

도 17b 는 바닥 포트 지지부(284)의 평면도를 나타내는데, 한쌍의 폐쇄 루프 접근 포트(288)(이 접근 포트를 통해 상기 폐쇄 루프 열 교환기(278)가 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부에 접근함); 한쌍의 개방 루프 접근 포트(290)(이 접근 포트를 통해 상기 개방 루프 열 교환기(280)가 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부에 접근함); 및 열 센서 접근 포트(292)(이 접근 포트를 통해 상기 열 센서 어셈블리(158)가 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부에 접근한다)가 나타나 있다.

도 18 은 예시적인 확산 챔버(294)의 우측면도를 나타내는데, 그 확산 챔버는 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버(168)의 내부 표면에 인접하는 조합형 열 교환 어셈블리(276)를 포함한다. 바람직하게는, 상기 조합형 열 교환 어셈블리(276)는, 개방 루프 열 교환기(280)와 열 센서 어셈블리(158)에 인접하는 폐쇄 루프 열 교환기(278)를 포함한다. 도 18 에 또한 나타나 있는 바와 같이, 상기 조합형 열 교환 어셈블리(276)는 복수의 열 교환기 지지부(192)에 의해 지지되며 바닥 포트 지지부(284)에 고정되어 있다.

도 19 는 열 챔버(300)를 만드는 예시적인 방법을 나타내는데, 이는 시작 단계(302)에서 시작하고 공정 단계(304)로 계속된다. 공정 단계(304)에서, 프레임(104)이 제공된다. 공정 단계(306)에서, 격납 챔버(102)가 상기 프레임에 지지 및 고정된다. 공정 단계(308)에서, 열원 모듈이 상기 격납 챔버 내부에 배치되어 그에 의해 구속된다. 공정 단계(310)에서, 시일링되는 처리 챔버(168)가 상기 열원 모듈 내부에 구속된다. 바람직하게는, 상시 시일링되는 처리 챔버는 적어도 내부 표면과 외부 표면을 포함한다.

공정 단계(312)에서, 유체 입구 박스(112)가 바람직하게는 열 조절 공동부와 유체 연통되는 상기 격납 챔버에 고정된다. 바람직하게는, 상기 유체 입구 박스는 상기 열 조절 공동부로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 대기로 가는 가스의 유동을 줄여주는 플레이트 밸브(134)를 가지며, 그 유체 입구 박스는 대기로부터 상기 밸브를 지나 열 조절 공동부 안으로 유입하는 유체 유동을 제어하기 위해 상기 밸브와 상호 작용하는 유동 조절 구조체(136)를 더 포함한다.

공정 단계(314)에서, 열 센서 어셈블리(158)가 상기 시일링되는 처리 챔버 내부에 배치된다. 공정 단계(316)에서, 제어기(204)가 유동 조절 구조체(136) 및 열 어셈블리 각각에 연결되고, 공정은 최종 공정 단계(318)에서 끝난다.

도 20 은 열 챔버(400)를 만드는 예시적인 방법을 나타내는데, 이 방법은 시작 단계(402)에서 시작하고 공정 단계(404)로 계속된다. 공정 단계(404)에서, 프레임(104)이 제공된다. 공정 단계(406)에서, 격납 챔버(102)가 상기 프레임에 지지 및 고정된다. 공정 단계(408)에서, 열원 모듈이 상기 격납 챔버 내부에 배치되어 그에 의해 구속된다. 공정 단계(410)에서, 시일링되는 처리 챔버(168)가 상기 열원 모듈 내부에 구속된다. 바람직하게는, 상시 시일링되는 처리 챔버는 적어도 내부 표면과 외부 표면을 포함한다.

공정 단계(412)에서, 제 1 유체 처리 시스템(216)이 바람직하게는 상기 시일된 처리 챔버의 외부와 유체 연통되면서 그에 고정된다. 바람직하게는, 상기 제 1 유체 처리 시스템은 유체 입구 박스(112)를 가지며, 이 유체 입구 박스는 플레이트 밸브(134)를 갖는다. 이 플레이트 밸브는 상기 열 조절 공동부로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 격납 챔버의 외부로 가는 유체의 유동을 줄여주며, 상기 유체 입구 박스는 격납 챔버의 외부로부터 상기 플레이트 밸브를 지나 열 조절 공동부 안으로 들어가는 유체 유동을 제어하기 위해 상기 플레이트 밸브와 상호 작용하는 유동 조절 구조체(136)를 더 포함한다.

공정 단계(414)에서, 제 2 유체 처리 시스템(218 또는 220)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통되어 배치된다. 바람직하게는, 제 2 유체 처리 시스템은 열 확산 공정 사이클 중에 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 안으로 또한 그 밖으로 전달하는 수단을 갖는다. 공정 단계(416)에, 제어기(204)가 상기 제 1 및 2 유체 처리 시스템 각각에 연결되고, 공정은 최종 공정 단계(418)에서 끝난다.

도 21 은 열 챔버(500)를 만드는 예시적인 방법을 나타내는데, 이 방법은 시작 단계(502)에서 시작하고 공정 단계(504)로 계속된다. 공정 단계(504)에서, 프레임(504)이 제공된다. 공정 단계(506)에서, 격납 챔버(102)가 상기 프레임에 지지 및 고정된다. 공정 단계(508)에서, 열원 모듈이 상기 격납 챔버 내부에 배치되어 그에 의해 구속된다. 공정 단계(510)에서, 시일링되는 처리 챔버(168)가 상기 열원 모듈 내부에 구속된다. 바람직하게는, 상시 시일링되는 처리 챔버는 적어도 내부 표면과 외부 표면을 포함한다.

공정 단계(512)에서, 유체 처리 시스템(216)이 바람직하게는 상기 시일된 처리 챔버의 외부와 유체 연통되면서 그에 고정된다. 바람직하게는, 제 1 유체 처리 시스템은 유체 입구 박스(112)를 가지며, 이 유체 입구 박스는 플레이트 밸브(134)를 갖는다. 이 플레이트 밸브는 상기 열 조절 공동부로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 격납 챔버의 외부로 가는 유체의 유동을 줄여주며, 상기 유체 입구 박스는 격납 챔버의 외부로부터 상기 플레이트 밸브를 지나 열 조절 공동부 안으로 들어가는 유체 유동을 제어하기 위해 상기 플레이트 밸브와 상호 작용하는 유동 조절 구조체(136)를 더 포함한다.

공정 단계(514)에서, 폐쇄 루프 열 교환 시스템(도 13 의 296)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통되어 배치된다. 바람직하게는, 폐쇄 루프 열 교환 시스템은, 전달되는 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 환경에 노출시킴이 없이, 열 확산 공정 사이클 중에 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 안으로 또한 그 밖으로 전달하는 수단을 갖는다. 공정 단계(516)에서, 제어기(204)가 상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되고, 공정은 최종 공정 단계(518)에서 끝난다.

도 22 는 열 챔버(600)를 만드는 예시적인 방법을 나타내는데, 이 방법은 시작 단계(602)에서 시작하고 공정 단계(604)로 계속된다. 공정 단계(604)에서, 프레임(504)이 제공된다. 공정 단계(606)에서, 격납 챔버(102)가 상기 프레임에 지지 및 고정된다. 공정 단계(608)에서, 열원 모듈이 상기 격납 챔버 내부에 배치되어 그에 의해 구속된다. 공정 단계(610)에서, 시일링되는 처리 챔버(168)가 상기 열원 모듈 내부에 구속된다. 바람직하게는, 상시 시일링되는 처리 챔버는 적어도 내부 표면과 외부 표면을 포함한다.

공정 단계(612)에서, 유체 처리 시스템(216)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통되면서 그에 고정된다. 바람직하게는, 제 1 유체 처리 시스템은 유체 입구 박스(112)를 가지며, 이 유체 입구 박스는 플레이트 밸브(134)를 갖는다. 이 플레이트 밸브는 상기 열 조절 공동부로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 격납 챔버의 외부로 가는 유체의 유동을 줄여주며, 상기 유체 입구 박스는 격납 챔버의 외부로부터 상기 플레이트 밸브를 지나 열 조절 공동부 안으로 들어가는 유체 유동을 제어하기 위해 상기 플레이트 밸브와 상호 작용하는 유동 조절 구조체(136)를 더 포함한다.

공정 단계(614)에서, 개방 루프 열 교환 시스템(도 13 의 298)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통되어 배치된다. 바람직하게는, 상기 루프 열 교환 시스템은, 전달되는 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 환경에 통과시켜, 열 확산 공정 사이클 중에 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 안으로 또한 그 밖으로 전달하는 수단을 제공한다. 공정 단계(616)에서, 제어기(204)가 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템 각각에 에 연결되고, 공정은 최종 공정 단계(618)에서 끝난다.

도 23 은 열 챔버(700)를 만드는 예시적인 방법을 나타내는데, 이 방법은 시작 단계(702)에서 시작하고 공정 단계(704)로 계속된다. 공정 단계(704)에서, 프레임(104)이 제공된다. 공정 단계(706)에서, 격납 챔버(102)가 상기 프레임에 지지 및 고정된다. 공정 단계(708)에서, 열원 모듈이 상기 격납 챔버 내부에 배치되어 그에 의해 구속된다. 공정 단계(710)에서, 시일링되는 처리 챔버(168)가 상기 열원 모듈 내부에 구속된다. 바람직하게는, 상시 시일링되는 처리 챔버는 적어도 내부 표면과 외부 표면을 포함한다.

공정 단계(712)에서, 유체 처리 시스템(216)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통되면서 그에 고정된다. 바람직하게는, 제 1 유체 처리 시스템은 유체 입구 박스(112)를 가지며, 이 유체 입구 박스는 플레이트 밸브(134)를 갖는다. 이 플레이트 밸브는 상기 열 조절 공동부로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 격납 챔버의 외부로 가는 유체의 유동을 줄여주며, 상기 유체 입구 박스는 격납 챔버의 외부로부터 상기 플레이트 밸브를 지나 열 조절 공동부 안으로 들어가는 유체 유동을 제어하기 위해 상기 플레이트 밸브와 상호 작용하는 유동 조절 구조체(136)를 더 포함한다.

공정 단계(714)에서, 개방 루프 열 교환 시스템(도 13 의 298)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통되어 배치된다. 바람직하게는, 상기 루프 열 교환 시스템은, 전달되는 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 환경에 통과시켜, 열 확산 공정 사이클 중에 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 안으로 또한 그 밖으로 전달하는 수단을 갖는다.

공정 단계(716)에서, 폐쇄 루프 열 교환 시스템(도 13 의 296)이 바람직하게는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통되어 배치된다. 바람직하게는, 상기 폐쇄 루프 열 교환 시스템은, 전달되는 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 환경에 노출시킴이 없이, 열 확산 공정 사이클 중에 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 안으로 또한 그 밖으로 전달하는 수단을 갖는다.

공정 단계(718)에서, 제어기(204)가 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되고, 공정은 최종 공정 단계(720)에서 끝난다.

본 발명의 다양한 실시 형태의 많은 특징과 이점들을 본 발명의 다양한 실시 형태의 구조체와 기능의 상세점과 함께 앞의 설명에서 제시하였지만, 이 상세한 설명은 단지 실례적인 것이며, 권리 청구되는 본 발명의 원리 내에서 첨부된 청구 범위를 기술하는 용어의 넓은 일반적 의미로 나타나는 완전한 정도로 특히 부품의 구조체와 배치에 있어 구체적인 변경이 가능하다. 예컨대, 특정 요소는 청구된 본 발명의 요지와 범위를 벗어남이 없이 특정 용도에 따라 변할 수 있다.

본 발명은 언급된 목적과 이점 및 그에 내재적인 것들을 달성하는데 잘 적합하다. 현재의 바람직한 실시 형태를 이 개시를 위해 설명했지만, 당업자라면 쉽게 생각할 수 있고 첨부된 청구 범위에 포함되는 많은 변경이 가능하다.

Claims

열확산 챔버로서,
격납 챔버를 지지하는 프레임;
상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버;
상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통되며, 유체 공급원으로부터 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 가는 유체 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하는 적어도 하나의 유체 입구 박스;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부에서 그 시일링되는 열 챔버의 벽에 인접하여 접촉해서 배치되고, 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 온도값을 측정하는 열 센서 어셈블리; 및
상기 유동 조절 구조체 및 열 센서 어셈블리와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도 값에 응하여, 상기 유체 공급원으로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 유체 유동을 조절하기 위해 상기 유동 조절 구조체의 유동 위치를 설정하는 열확산 챔버.
제 1 항에 있어서,
상기 유체 입구 박스는 적어도,
상기 유동 조절 구조체와 상호 작용하며, 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 격납 챔버의 외부 환경으로 가는 유체 유동을 줄여주는 플레이트 밸브; 및
상기 플레이트 밸브에 인접하여 접촉하는 입구 도관을 지지하는 흡입 포트를 더 포함하는 열확산 챔버.
제 1 항에 있어서,
상기 열 센서 어셈블리는,
상기 시일링되는 처리 챔버의 길이를 따라 배치되고, 그 시일링되는 처리 챔버의 내부의 온도 변화에 반응하는 복수의 열전대(thermocouple);
상기 시일링되는 처리 챔버의 개구로부터 연장되어 그 시일링되는 처리 챔버의 적어도 중간 부분을 통과하며, 상기 복수의 열전대가 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 환경에 노출되는 것을 차단하는 센서 도관; 및
상기 복수의 열전대 각각에 대응하여 연결되어 있고, 상기 시일링되는 처리 챔버 내부의 온도 변화에 응하여 신호를 그 시일링되는 처리 챔버의 외부로 전달하는 복수의 신호 라인을 포함하는 열확산 챔버.
제 3 항에 있어서,
상기 시일링되는 처리 챔버의 개구는 그 시일링되는 처리 챔버의 입구인 열확산 챔버.
제 3 항에 있어서,
상기 시일링되는 처리 챔버의 개구는 그 시일링되는 처리 챔버의 측벽을 관통하는 구멍인 열확산 챔버.
제 1 항에 있어서,
적어도 상기 유동 조절 구조체, 열 센서 어셈블리 및 제어기와 연통하는 제어 신호 버스를 더 포함하고,
상기 제어 신호 버스는 열 센서 어셈블리로부터 상기 측정된 내부 온도값을 받고, 또한 상기 제어 신호 버스는 그 받은 측정된 내부 온도값에 응답하여 상기 유동 조절 구조체에 제어 신호를 더 보내는 열확산 챔버.
제 6 항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 입력/출력 모듈이 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 측정된 내부 온도 값을 받으면, 그 입력/출력 모듈은 상기 측정된 내부 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 유동 조절 구조체에 전달하며,
상기 프로세서는 상기 측정된 내부 온도 값에 근거하여, 상기 유체 입구 박스를 통해 흐르는 유체의 사용 유동량 및 유체 입구 박스를 통해 흐르는 유체의 온도를 더 결정하고, 또한 상기 프로세서는 유체 입구 박스를 통해 흐르는 유체의 상기 사용 유동량 및 온도를 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버.
열확산 챔버 형성 방법으로서,
프레임을 제공하는 단계;
격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계;
열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계;
시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계;
시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 적어도 하나의 유체 입구 박스를 고정시키는 단계 - 상기 유체 입구 박스는 유체 공급원으로부터 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 가는 유체 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함함;
열 센서 어셈블리를 상기 시일링되는 처리 챔버 내부에 배치하는 단계 - 상기 열 센서 어셈블리는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 온도 값을 측정함; 및
상기 제어기를 상기 유동 조절 구조체 및 열 센서 어셈블리 각각에 연결하는 단계를 포함하고,
상기 제어기는 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도 값에 응하여, 상기 유체 공급원으로부터 상기 유체 입구 박스를 통과하여 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 유체 유동을 조절하기 위해 상기 유동 조절 구조체의 유동 위치를 설정하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 8 항에 있어서,
상기 유체 입구 박스는 적어도,
상기 유동 조절 구조체와 상호 작용하며, 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 격납 챔버의 외부 환경으로 가는 유체 유동을 줄여주는 플레이트 밸브; 및
상기 플레이트 밸브에 인접하여 접촉하는 입구 도관을 지지하는 흡입 포트를 더 포함하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 8 항에 있어서,
상기 열 센서 어셈블리는,
상기 시일링되는 처리 챔버의 길이를 따라 배치되고, 그 시일링되는 처리 챔버의 내부의 온도 변화에 반응하는 복수의 열전대(thermocouple);
상기 시일링되는 처리 챔버의 개구로부터 연장되어 그 시일링되는 처리 챔버의 적어도 중간 부분을 통과하며, 상기 복수의 열전대가 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 환경에 노출되는 것을 차단하는 센서 도관; 및
상기 복수의 열전대 각각에 대응하여 연결되어 있고, 상기 시일링되는 처리 챔버 내부의 온도 변화에 응하여 신호를 그 시일링되는 처리 챔버의 외부로 전달하는 복수의 신호 라인을 포함하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 시일링되는 처리 챔버의 개구는 그 시일링되는 처리 챔버의 입구인 열확산 챔버 형성 방법.
제 10 항에 있어서,
상기 시일링되는 처리 챔버의 개구는 그 시일링되는 처리 챔버의 측벽을 관통하는 구멍인 열확산 챔버 형성 방법.
제 8 항에 있어서,
적어도 상기 유동 조절 구조체, 열 센서 어셈블리 및 제어기와 연통하는 제어 신호 버스를 설치하는 단계를 더 포함하고,
상기 제어 신호 버스는 열 센서 어셈블리로부터 상기 측정된 내부 온도값을 받고, 또한 상기 제어 신호 버스는 그 받은 측정된 내부 온도값에 응답하여 상기 유동 조절 구조체에 제어 신호를 더 보내는 열확산 챔버 형성 방법.
제 13 항에 있어서,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 입력/출력 모듈이 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 측정된 내부 온도 값을 받으면, 그 입력/출력 모듈은 상기 측정된 내부 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 유동 조절 구조체에 전달하며,
상기 프로세서는 상기 측정된 내부 온도 값에 근거하여, 상기 유체 입구 박스를 통해 흐르는 유체의 사용 유동량 및 유체 입구 박스를 통해 흐르는 유체의 온도를 더 결정하고, 또한 상기 프로세서는 유체 입구 박스를 통해 흐르는 유체의 상기 사용 유동량 및 온도를 상기 디스플레이에 더 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
열확산 챔버로서,
격납 챔버를 지지하는 프레임;
상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버;
상기 격납 챔버와 상기 시일링되는 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 제 1 유체 처리 시스템;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 제 2 유체 처리 시스템; 및
상기 제 1 및 2 유체 처리 시스템 각각에 연결되어 있는 제어 시스템을 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버와 연결되어 있는 열 센서에 의해 제공되는 그 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도 값에 응하여, 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 제 1 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도에 응하여 그 시일링되는 처리 챔버의 내부로 방출되는 제 2 유체의 제 2 유량을 설정하는 열확산 챔버.
제 15 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버.
제 15 항에 있어서,
상기 제 1 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 제 1 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 제 1 유체 전달 장치 각각과 유체 연통하며, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 상기 제 1 유체를 상기 제 1 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
상기 복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템 각각과 연결되어 있고, 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하여 그 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 제 1 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 그 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 제 1 유체 전달 장치에 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버.
제 15 항에 있어서,
상기 제 2 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 분산 도관과 유체 연통하는 제 2 유체 전달 장치;
상기 제 2 유체 전달 장치와 적어도 하나의 유체 분산 도관 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 유체 분산 도관 사이에 배치되는 역지 밸브;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부로 들어가는 제 2 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 제 2 유체 전달 장치와 적어도 하나의 유체 분산 도관 사이에 배치되는 내부 유체 제어 밸브;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 및 제 2 유체 전달 장치와 유체 연통하고, 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부로 유입하는 제 2 유체를 상기 제 2 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 집결 도관; 및
복귀되는 제 2 유체 및 제어 시스템과 연결되어 있는 열 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 분산 도관은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하며,
상기 이송 도관은 상기 제 2 유체 전달 장치로부터 제 2 유체를 상기 유체 분산 도관에 전달하며,
상기 역지 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부로부터 제 2 유체 전달 장치로 가는 역류를 줄여주고,
상기 열 센서는 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하여 그 측정된 온도 값을 제어 시스템에 제공하며, 이 제어 시스템이 상기 측정된 온도 값을 받으면, 제어 시스템은 그 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 상기 내부 유체 제어 밸브에 내부 유체 제어 밸브 신호를 보내게 되며, 또한 그 내부 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 상기 내부 유체 제어 밸브는 제 2 유체 전달 장치에 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버.
제 15 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 제 1 및 2 유체 처리 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 입력/출력 모듈이 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 입력/출력 모듈은 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위를 흐르는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 제 1 유체 처리 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 제 1 유체 처리 시스템을 통과하여 흐르는 유체의 사용 유동량을 더 결정하고, 또한 상기 프로세서는 상기 제 1 유체 전달 장치의 사용 유동량 및 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 더 제공하는 열확산 챔버.
열확산 챔버 형성 방법으로서,
프레임을 제공하는 단계;
격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계;
열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계;
시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 제 1 유체 처리 시스템을 부착시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 제 2 유체 처리 시스템을 배치하는 단계; 및
제어 시스템을 상기 제 1 및 2 처리 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버와 연결되어 있는 열 센서에 의해 제공되는 그 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도 값에 응하여, 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 제 1 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도에 응하여 그 시일링되는 처리 챔버의 내부로 방출되는 제 2 유체의 제 2 유량을 더 설정하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 20 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 21 항에 있어서,
상기 제 1 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 제 1 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 제 1 유체 전달 장치 각각과 유체 연통하며, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 상기 제 1 유체를 상기 제 1 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
상기 복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템 각각과 연결되어 있고, 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하여 그 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 제 1 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 그 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 제 1 유체 전달 장치에 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버 형성 방법.
제 22 항에 있어서,
상기 제 2 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 분산 도관과 유체 연통하는 제 2 유체 전달 장치;
상기 제 2 유체 전달 장치와 적어도 하나의 유체 분산 도관 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 유체 분산 도관 사이에 배치되는 역지 밸브;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부로 들어가는 제 2 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 제 2 유체 전달 장치와 적어도 하나의 유체 분산 도관 사이에 배치되는 내부 유체 제어 밸브;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 및 제 2 유체 전달 장치와 유체 연통하고, 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부로 유입하는 제 2 유체를 상기 제 2 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 집결 도관; 및
복귀되는 제 2 유체 및 제어 시스템과 연결되어 있는 열 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 분산 도관은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하며,
상기 이송 도관은 상기 제 2 유체 전달 장치로부터 제 2 유체를 상기 유체 분산 도관에 전달하며,
상기 역지 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부로부터 제 2 유체 전달 장치로 가는 역류를 줄여주고,
상기 열 센서는 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하여 그 측정된 온도 값을 제어 시스템에 제공하며, 이 제어 시스템이 상기 측정된 온도 값을 받으면, 제어 시스템은 그 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 상기 내부 유체 제어 밸브에 내부 유체 제어 밸브 신호를 보내게 되며, 또한 그 내부 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 상기 내부 유체 제어 밸브는 제 2 유체 전달 장치에 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버 형성 방법.
제 23 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 제 1 및 2 유체 처리 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 입력/출력 모듈이 제 1 유체 처리 시스템의 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 입력/출력 모듈은 제 1 유체 처리 시스템의 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 제 1 유체 처리 시스템의 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 제 1 유체 처리 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 제 1 유체 처리 시스템을 통과하여 흐르는 유체의 사용 유동량을 더 결정하고, 또한 상기 프로세서는 상기 제 1 유체 전달 장치의 사용 유동량 및 제 1 유체 처리 시스템의 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 더 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
열확산 챔버로서,
격납 챔버를 지지하는 프레임;
상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버;
상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열 교환 시스템; 및
상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되어 있는 제어 시스템을 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정하는 열확산 챔버.
제 25 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버.
제 25 항에 있어서,
상기 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 유체 전달 장치 각각과 유체 연통하며, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 제 1 유체를 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템 각각에 연결되어 있으며, 그 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하고 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 워해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 유체 전달 장치로 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버.
제 25 항에 있어서,
상기 폐쇄 루프 열교환 시스템은,
적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브;
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부 공간 내로 들어가는 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 유체 전달 장치와 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기 사이에 배치되는 내부 제어 밸브; 및
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기에 의해 복귀되는 상기 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체와 연결되어 있는 열 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 상기 유체 전달 장치로부터 제 2 유체를 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기에 전달하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부로부터 유체 전달 장치로 가는 제 2 유체의 역류를 줄여주고,
상기 열 센서는 상기 제어 시스템과 더 연통하며, 열 센서는 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하고 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하며,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값과 미리 정해진 온도 값의 비교에 근거하여 내부 유체 제어 밸브에 유체 제어 밸브 신호를 보내게 되며, 또한 그 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 상기 내부 유체 제어 밸브는 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기에 의해 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버.
제 25 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열교환 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 폐쇄 루프 열교환 시스템의 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기로부터 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템의 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 입력/출력 모듈이 상기 제어 신호 버스를 통해 받으면, 그 입력/출력 모듈은 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 상기 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 유체의 사용 유동량을 더 결정하고 또한 폐쇄 루프 열교환 시스템의 사용 유동량 및 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기로부터 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버.
열확산 챔버 형성 방법으로서,
프레임을 제공하는 단계;
격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계;
열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계;
시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템을 부착시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 및
제어 시스템을 상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열교환 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 설정하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 31 항에 있어서,
상기 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 제 1 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 제 1 유체 전달 장치와 각각 유체 연통하고, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 상기 제 1 유체를 상기 제 1 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템 각각과 연결되며, 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하고 그 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 제어 시스템에 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 제 1 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 제 1 유체 전달 장치로 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버 형성 방법.
제 32 항에 있어서,
상기 폐쇄 루프 열교환기는,
적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 유체 연통하는 제 2 유체 전달 장치;
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 제 2 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브;
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부 공간 내로 들어가는 제 2 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 제 2 유체 전달 장치와 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기 사이에 배치되는 내부 제어 밸브; 및
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기에 의해 제 2 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체와 연결되어 있는 열 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부에 상기 제 2 유체를 제공하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부로부터 제 2 유체 전달 장치로 가는 제 2 유체의 역류를 줄여주고,
상기 열 센서는 상기 제어 시스템과 더 연통하며, 열 센서는 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하고 또한 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하며,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값과 미리 정해진 온도 값의 비교에 근거하여 내부 유체 제어 밸브에 유체 제어 밸브 신호를 보내게 되며, 또한 그 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 상기 내부 유체 제어 밸브는 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기에 의해 제 2 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버 형성 방법.
제 33 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 유체 처리 시스템 및 폐쇄 루프 열교환 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 입력/출력 모듈이 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 제어 신호 버스를 통해 받으면, 그 입력/출력 모듈은 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값에 근거하여 유체 제어 밸브 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 유체 제어 밸브 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 유체 제어 밸브 신호를 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통과하여 흐르는 유체의 사용 유동량을 더 결정하고 또한 폐쇄 루프 열교환 시스템의 사용 유동량 및 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기로부터 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
열확산 챔버로서,
격납 챔버를 지지하는 프레임;
상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버;
상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈;
상기 시일링되는 처리 챔범의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열 교환 시스템; 및
상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되어 있는 제어 시스템을 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도에 응하여 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 설정하는 열확산 챔버.
제 35 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버.
제 35 항에 있어서,
상기 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 제 1 유체 전달 장치와 유체 연통하며, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 제 1 유체를 상기 제 1 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템 각각에 연결되어 있으며, 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하고 또한 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 더 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 제 1 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 또한 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 제 1 유체 전달 장치로 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버.
제 35 항에 있어서,
상기 개방 루프 열교환 시스템은,
적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브;
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부 공간 내로 들어가는 제 2 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 유체 전달 장치와 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 내부 제어 밸브; 및
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기에 의해 상기 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체와 연결되어 있는 열 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 상기 제 2 유체를 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부에 전달하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부로부터 유체 전달 장치로 가는 제 2 유체의 역류를 줄여주고,
상기 열 센서는 상기 제어 시스템과 더 연통하며, 열 센서는 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하고 또한 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하며,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 또한 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값과 미리 정해진 온도 값의 비교에 근거하여 내부 유체 제어 밸브에 유체 제어 밸브 신호를 보내게 되며, 또한 그 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 상기 내부 유체 제어 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기에 의해 제 2 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 되며,
상기 적어도 개방 루프 열교환기는 적어도 하나의 유체 분산 도관을 포함하고, 이 유체 분산 도관은 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 제 2 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 공간 내로 방출하기 위한 개구를 제공하는 열확산 챔버.
제 35 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열교환 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 개방 루프 열교환 시스템의 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 입력/출력 모듈이 상기 제어 신호 버스를 통해 받으면, 그 입력/출력 모듈은 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 상기 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 개방 루프 열교환 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 유체의 사용 유동량을 더 결정하고 또한 개방 루프 열교환 시스템의 사용 유동량 및 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버.
열확산 챔버 형성 방법으로서,
프레임을 제공하는 단계;
격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계;
열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계;
시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템을 부착시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 및
제어 시스템을 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열교환 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 내부 온도 값에 응하여, 그 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체 공급원의 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 측정된 온도에 응하여 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 40 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 41 항에 있어서,
상기 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 제 1 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 제 1 유체 전달 장치와 유체 연통하고, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 제 1 유체를 상기 제 1 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템과 연결되며, 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하여, 또한 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 제어 시스템에 더 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 제 1 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 또한 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 유체의 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 제 1 유체 전달 장치로 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버 형성 방법.
제 42 항에 있어서,
상기 개방 루프 열교환 시스템은,
적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브;
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부 공간 내로 들어가는 제 2 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 유체 전달 장치와 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 내부 제어 밸브; 및
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기에 의해 상기 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체와 연결되어 있는 열 센서를 포함하고,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 상기 제 2 유체를 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부에 제공하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부로부터 유체 전달 장치로 가는 제 2 유체의 역류를 줄여주고,
상기 열 센서는 상기 제어 시스템과 더 연통하며, 열 센서는 복귀되는 제 2 유체의 온도 값을 측정하고 또한 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 제공하며,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고, 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값과 미리 정해진 온도 값의 비교에 근거하여 내부 유체 제어 밸브에 유체 제어 밸브 신호를 보내게 되며, 또한 그 유체 제어 밸브 신호에 응답하여 상기 내부 유체 제어 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기에 의해 제 2 유체 전달 장치로 복귀되는 제 2 유체의 유동을 조절하게 되며,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기는 적어도 하나의 유체 분산 도관을 포함하고, 이 유체 분산 도관은 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 제 2 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 공간 내로 방출하기 위한 개구를 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 43 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 유체 처리 시스템 및 개방 루프 열교 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 입력/출력 모듈이 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 제어 신호 버스를 통해 받으면, 그 입력/출력 모듈은 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 복귀되는 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값에 근거하여 유체 제어 밸브 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 유체 제어 밸브 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 유체 제어 밸브 신호를 상기 개방 루프 열교환 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 유체의 사용 유동량을 더 결정하고 또한 개방 루프 열교환 시스템의 사용 유동량 및 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 복귀되는 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
열확산 챔버로서,
격납 챔버를 지지하는 프레임;
상기 격납 챔버 내부에 구속되며 시일링되는 처리 챔버;
상기 격납 챔버와 처리 챔버 사이에 배치되는 열원 모듈;
상기 시일링되는 처리 챔범의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열 교환 시스템;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열 교환 시스템; 및
상기 유체 처리 시스템, 폐쇄 루프 열 교환 시스템 및 개방 루프 열 교환 시스템 각각에 연결되어 있는 제어 시스템을 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 2 유체의 유량을 더 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통해 흐르는 제 3 유체의 유량을 더 설정하는 열확산 챔버.
제 45 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버.
제 45 항에 있어서,
상기 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 유체 전달 장치와 유체 연통하며, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 제 1 유체를 유체 전달 장치에 복귀시키는 유체 복귀 도관;
복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템과 연결되어 있으며, 복귀되는 상기 제 1 유체의 온도 값을 측정하고 또한 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 제어 시스템에 더 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 또한 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 위해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 또한 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 유체 전달 장치로 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버.
제 45 항에 있어서,
상기 폐쇄 루프 열교환 시스템은,
유체 전달 장치;
상기 유체 전달 장치와 유체 연통하는 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기;
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관; 및
상기 이송 도관과 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 제 2 유체를 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부에 제공하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부로부터 유체 전달 장치로 가는 제 2 유체의 역류를 줄여주는 열확산 챔버.
제 45 항에 있어서,
상기 개방 루프 열교환기는,
적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 유체 연통하는 유체 전달 장치;
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브; 및
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부 공간 내로 들어가는 제 3 유체의 유동을 제어하기 위해 상기 유체 전달 장치와 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 내부 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 제 2 유체를 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부에 제공하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부로부터 유체 전달 장치로 가는 제 3 유체의 역류를 줄여주고,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기는 적어도 하나의 유체 분산 도관을 포함하고, 이 유체 분산 도관은 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 제 3 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 공간 내로 방출하기 위한 개구를 제공하는 열확산 챔버.
제 45 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 유체 처리 시스템, 폐쇄 루프 열교환 시스템 및 개방 루프 열교 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 폐쇄 루프 열교환 시스템의 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 연결되어 있는 열 센서에 의해 측정되는 제 2 유체 온도 값을 상기 입력/출력 모듈이 상기 제어 신호 버스를 통해 받으면, 그 입력/출력 모듈은 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기 제어 신호를 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 폐쇄 루프 열교환 시스템의 사용 용량을 더 결정하고 또한 폐쇄 루프 열교환 시스템의 사용 용량 및 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버.
열확산 챔버 형성 방법으로서,
프레임을 제공하는 단계;
격납 챔버를 상기 프레임에 지지하는 단계;
열원 모듈을 상기 격납 챔버 내부에 배치하는 단계;
시일링되는 처리 챔버를 상기 열원 모듈 내부에 구속시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하는 유체 처리 시스템을 부착시키는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 폐쇄 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계;
상기 시일링되는 처리 챔버의 내부와 유체 연통하는 개방 루프 열교환 시스템을 배치하는 단계; 및
제어 시스템을 상기 유체 처리 시스템, 폐쇄 루프 열교환 시스템 및 개방 루프 열교환 시스템 각각에 연결하는 단계를 포함하고,
상기 제어 시스템은 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유량을 설정하고, 또한 상기 제어 시스템은 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템을 통과하는 제 2 유체의 유량을 설정하며, 또한 상기 제어 시스템은 상기 개방 루프 열교환 시스템을 통과하는 제 3 유체의 유량을 더 설정하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 51 항에 있어서,
상기 열원 모듈은,
상기 격납 챔버의 내부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 격납 챔버에 인접하여 배치되는 쉘;
상기 쉘에 고정되고 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 형상에 맞는 형상으로 형성되어 그 처리 챔버에 인접하여 배치되는 절연 코어;
상기 절연 코어에 의해 구속되고 상기 시일링되는 처리 챔버에 열을 제공하는 열원; 및
상기 열원과 연결되어 있고 이 열원의 사용 열용량을 결정하는 에너지 사용 모니터링 장치를 포함하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 52 항에 있어서,
상기 유체 처리 시스템은,
적어도 하나의 유체 입구 박스와 유체 연통하는 제 1 유체 전달 장치;
상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 및 상기 유체 전달 장치와 유체 연통하고, 상기 시일링되는 처리 챔버 주위로 흐르는 제 1 유체를 상기 유체 전달 장치로 복귀시키는 유체 복귀 도관;
복귀되는 제 1 유체 및 제어 시스템과 연결되고, 복귀되는 제 1 유체의 온도 값을 측정하며 또한 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 제어 시스템에 더 제공하는 열 센서; 및
상기 유체 복귀 도관과 제 1 유체 전달 장치 사이에 배치되는 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 유체 입구 박스는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부와 유체 연통하며, 또한 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부 주위로 흐르는 제 1 유체의 유동을 제어하기 워해 적어도 유동 조절 구조체를 포함하고,
상기 제어 시스템이 복귀되는 제 1 유체의 상기 측정된 온도 값을 받으면, 그 제어 시스템은 복귀되는 제 1 유체의 측정된 온도 값을 미리 정해진 온도 값과 비교하고 상기 제어 밸브에 제어 신호를 보내게 되며, 또한 그 제어 신호에 응답하여 상기 제어 밸브는 상기 시일링되는 처리 챔버의 외부로부터 제 1 유체 전달 장치로 복귀되는 제 1 유체의 유동을 조절하게 되는 열확산 챔버 형성 방법.
제 53 항에 있어서,
상기 폐쇄 루프 열교환 시스템은,
제 2 유체 전달 장치;
상기 제 2 유체 전달 장치와 유체 연통하는 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기;
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기와 제 2 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관; 및
상기 이송 도관과 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 제 2 유체를 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부에 제공하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 내부로부터 제 2 유체 전달 장치로 가는 제 2 유체의 역류를 줄여주는 열확산 챔버 형성 방법.
제 54 항에 있어서,
상기 개방 루프 열교환 시스템은,
제 3 유체 전달 장치;
상기 제 3 유체 전달 장치와 유체 연통하는 적어도 하나의 개방 루프 열교환기;
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기와 제 3 유체 전달 장치 사이에 배치되는 이송 도관;
상기 이송 도관과 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 역지 밸브; 및
상기 제 3 유체 전달 장치와 적어도 하나의 개방 루프 열교환기 사이에 배치되는 내부 제어 밸브를 포함하고,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 외부 표면은 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 표면에 인접하고,
상기 이송 도관은 제 3 유체를 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부에 제공하며,
상기 역지 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부로부터 제 3 유체 전달 장치로 가는 제 3 유체의 역류를 줄여주며,
상기 내부 제어 밸브는 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기의 내부 공간 내로 들어가는 제 3 유체의 유동을 제어하며,
상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기는 적어도 하나의 유체 분산 도관을 포함하고, 이 유체 분산 도관은 상기 적어도 하나의 개방 루프 열교환기로부터 제 3 유체를 상기 시일링되는 처리 챔버의 내부 공간 내로 방출하기 위한 개구를 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 55 항에 있어서,
상기 제어 시스템은,
적어도 상기 유체 처리 시스템, 폐쇄 루프 열교환 시스템 및 개방 루프 열교환 시스템과 연결되어 있는 제어 신호 버스; 및
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 제어기를 포함하고,
상기 제어기는,
상기 제어 신호 버스와 연결되어 있는 입력/출력 모듈;
상기 입력/출력 모듈과 연결되어 있는 프로세서;
제어 논리를 저장하고 상기 프로세서와 연결되어 있는 메모리;
상기 프로세서와 연결되어 있는 입력 장치; 및
상기 프로세서와 연결되어 있는 디스플레이를 포함하고,
상기 적어도 하나의 폐쇄 루프 열교환기의 제 2 유체와 연결되어 있는 열 센서에 의해 측정되는 제 2 유체 온도 값을 상기 입력/출력 모듈이 받으면, 그 입력/출력 모듈은 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값을 상기 프로세서에 제공하고, 이 프로세서는 상기 저장된 제어 논리에 접근하고 또한 제 2 유체의 상기 측정된 온도 값에 근거하여 제어 신호를 결정하게 되며, 상기 프로세서는 그 제어 신호를 입력/출력 모듈에 더 전달하고, 이 입력/출력 모듈은 상기 제어 신호 버스를 통해 상기제어 신호를 상기 폐쇄 루프 열교환 시스템에 전달하며, 상기 프로세서는 폐쇄 루프 열교환 시스템의 사용 용량을 더 결정하고 또한 폐쇄 루프 열교환 시스템의 사용 용량 및 제 2 유체의 측정된 온도 값을 상기 디스플레이에 제공하는 열확산 챔버 형성 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버.
제 8 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버 형성 방법.
제 15 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버.
제 20 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버 형성 방법.
제 25 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버 형성 방법.
제 30 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버.
제 35 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버 형성 방법.
제 40 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버 형성 방법.
제 45 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버.
제 51 항에 있어서,
상기 처리 챔버는 이 처리 챔버내에 배치되는 기판을 수용하도록 되어 있고, 그 기판은 적어도 650 mm의 폭과 적어도 실질적으로 1650 mm의 길이를 갖는 열확산 챔버 형성 방법.