KR20130068831A - 웨이퍼 처리장치 - Google Patents

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Abstract

웨이퍼 처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 웨이퍼 처리장치는, 풉을 지지하는 지지유닛이 스테이지의 하측에 위치되므로, 웨이퍼 처리장치의 평면상의 부피가 감소되는 효과가 있다. 그리고, 지지유닛이 스테이지의 하측에 위치되어 외부로 노출되지 않으므로, 미관상 아름다운 효과가 있다.

Description

웨이퍼 처리장치 {WAFER PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 풉을 스테이지측으로 눌러서 지지하는 클램퍼의 구조를 개선한 웨이퍼 처리장치에 관한 것이다.
전방 개구부 인터페이스 기계적 표준(FIMS: Front-opening Interface Mechanical Standard)(이하, "FIMS"라 함) 시스템은, 반도체 제조 공정에 있어서, 세계 반도체 제조 장비 재료 협회(SEMI: Semiconductor Equipment and Materials International)에서 권고하는 표준안이다.
FIMS 시스템에는 웨이퍼(Wafer) 또는 레티클(Reticle) 등을 자동으로 반송하는 로더(Loader)라는 웨이퍼 처리장치가 사용된다. 로더는 로봇아암을 매개로 웨이퍼가 적재 저장된 풉(FOUP: Front Opening Unified Pod)을 FIMS 시스템의 다음 공정을 위한 필요처로 전달한다.
즉, 로더는 웨이퍼를 FIMS 시스템의 이송장치인 로봇 등으로 넘겨주는 인터페이스 장치로서, SMIF(Standard Mechanical Interface) 시스템을 구성하는 장비에 포함된다.
SMIF는 웨이퍼 제조 공정 중 발생하는 공기 중의 미세 오염 물질인 파티클의 차단에 대해 최소한의 공통 규격을 제안하고 있다. 상세히 설명하면, 웨이퍼 제조 공정 중 발생하는 파티클의 차단을 위해, 밀폐된 풉의 공간만을 청정상태로 유지하는 국부청정장치(ME: Mini Environment), 풉과 ME 또는 웨이퍼 제조 공정장비 간의 인터페이스를 위한 장치들에 관해 파티클의 차단에 대한 최소한의 공통 규격을 제안하고 있다.
FIMS 로더는 프레임과 프레임에 직선왕복운동가능하게 설치된 스테이지를 포함한다. 스테이지에는 웨이퍼가 적재 저장된 풉이 탑재 지지되고, 풉은 스테이지의 운동에 의하여 프레임에 형성된 개방부측으로 이송된다. 이때, 스테이지에 탑재된 풉을 스테이지측으로 밀착시켜 지지하기 위한 클램퍼가 스테이지에 설치된다.
풉을 스테이지에 밀착시켜 지지하는 클램퍼에 대한 종래의 기술로는 한국등록특허공보 제10-0593424호에 개시된 "이중 도어 구조를 갖는 FIMS 로더" 등이 있다.
상기 FIMS 로더는 개구부(11)가 형성된 프레임부(10)를 포함하고, 개구부(11) 하측의 프레임부(10)에는 풉(200)이 탑재 지지되는 스테이지부(20)가 설치된다. 그리고, 스테이지부(20)에는 클램프 실린더(31), 클램프 실린더(31)에 설치되며 클램프 실린더(31)에 의하여 회전 및 승강하면서 풉(200)을 스테이지부(20)에 지지하는 꺽임부(35)를 가지는 클램핑부(30)가 설치된다.
상기와 같은 종래의 FIMS 로더는 스테이지부(20)의 측면에 클램핑부(30)가 설치되어 외부로 노출되므로, FIMS 로더의 평면상의 부피가 커지고, 미관상 흉한 단점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점들을 해소하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 평면상의 부피를 감소시킬 수 있음과 동시에 미관상 아름다운 웨이퍼 처리장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 처리장치는, 개방부가 형성된 프레임; 중앙부측에 공간부가 형성되고, 상기 개방부측 상기 프레임의 일면 부위에 결합되어 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 직선왕복운동하며, 상면에는 웨이퍼가 적재 저장된 풉(FOUP: Front Opening Unified Pod)을 탑재 지지시켜 상기 풉을 상기 개방부측으로 이송하는 스테이지; 상기 스테이지의 하면에 설치되며, 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 직선왕복운동 및 회전운동 가능하게 설치되어 상기 풉을 하측으로 눌러서 상기 스테이지에 지지하는 지지유닛; 상기 프레임의 타면에 설치되며, 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 유동하면서 상기 풉의 커버를 지지하여 상기 커버를 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 유동시키고, 상기 프레임의 일측면 방향에서 타측면 방향으로 슬라이딩하면서 상기 개방부를 개폐함과 동시에 상기 커버를 운동시켜 상기 풉의 내부와 상기 개방부를 연통 또는 차단시키는 도어를 포함한다.
본 발명에 따른 웨이퍼 처리장치는, 풉을 지지하는 지지유닛이 스테이지의 하측에 위치되므로, 웨이퍼 처리장치의 평면상의 부피가 감소되는 효과가 있다.
그리고, 지지유닛이 스테이지의 하측에 위치되어 외부로 노출되지 않으므로, 미관상 아름다운 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치의 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 풉의 저면 사시도.
도 3은 도 1에 도시된 도어 부위의 배면 사시도.
도 4는 도 1에 도시된 스테이지 부위의 사시도.
도 5는 도 4의 분해 사시도.
도 6a 내지 도 6c는 도 4에 도시된 지지유닛의 동작을 보인 도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시하여 도시한 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 충분히 상세하게 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 상호 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 특정 구조 및 특성은 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미가 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에 도시된 실시예들의 길이, 면적, 두께 및 형태는, 편의상, 과장되어 표현될 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치의 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 풉의 저면 사시도이며, 도 3은 도 1에 도시된 도어 부위의 배면 사시도이다.
도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치는 사각 형상으로 형성되어 FIMS(Front-opening Interface Mechanical Standard) 시스템의 어느 장치인 상대물에 결합되는 프레임(110)을 포함하며, 프레임(110)의 상측 부위에는 개방부(112)가 형성된다.
개방부(112) 하측의 프레임(110)의 전면 부위에는 스테이지(120)가 결합되고, 스테이지(120)의 상면에는 웨이퍼(미도시)가 적재 저장되는 풉(FOUP: Front Opening Unified Pod)(50)의 하면이 탑재 지지된다. 스테이지(120)의 중앙부측에는 공간부(120a)가 형성된다.
풉(50)의 전면은 개방되어 커버(51)가 결합되고, 커버(51)는 후술할 도어(130)에 밀착되어 도어(130)에 의하여 슬라이딩되면서 풉(50)의 내부 공간을 개방부(112)와 연통 또는 차단시킨다. 스테이지(120)는 직선왕복운동하면서 풉(50)의 커버(51)를 개방부(112)측으로 이송한다.
스테이지(120)에는 풉(50)의 하면에 형성된 지지공(53)에 삽입되어 풉(50)을 지지하는 복수의 지지핀(121), 풉(50)이 스테이지(120)에 탑재 지지되었을 때 풉(50)의 위치를 감지하는 센서(123)가 설치된다.
개방부(112)가 형성된 프레임(110)의 후면에는 도어(130)가 설치된다. 도어(130)는, 프레임(110)을 기준으로, 프레임(110)의 전후면 방향으로 유동가능함과 동시에 프레임(110)의 좌우측면 방향으로 슬라이딩가능하게 설치된다.
상세히 설명하면, 도어(130)는 단일(單一) 구조로 형성되며, 개방부(112)와 대응되는 판 형상으로 형성된다.
도어(130)는 프레임(110)의 전후방향으로 유동하면서 스테이지(120)에 지지된 풉(50)의 커버(51)에 착탈가능하게 결합되고, 좌우방향으로 슬라이딩하면서 지지된 풉(50)의 커버(51)를 개폐한다.
상세히 설명하면, 도어(130)에는 풉(50)의 커버(51)를 흡착하는 흡착판(131)과 커버(51)에 형성된 래치홈(미도시)에 삽입되어 풉(50)에 대한 커버(51)의 잠금 상태를 해제하거나 풉(50)에 대하여 커버(51)를 잠그는 래치(133)가 설치된다.
흡착판(131)의 일단부측은 도어(130)의 전면 외측으로 노출되고, 타단부측은 도어(130)의 후면 외측으로 노출되어 펌프(미도시)측과 연통된다. 그리하여, 스테이지(120)에 풉(50)이 탑재 지지되면, 흡착판(131)이 커버(51)를 흡착하고, 흡착판(131)에 커버(51)가 흡착되면, 래치(133)는 상기 래치홈에 삽입 결합되어, 정방향으로 회전한다. 그러면, 풉(50)에 대한 커버(51)의 잠금 상태가 해제된다.
이후, 도어(130)가 프레임(110)의 후면방향으로 유동한 다음 프레임(110)의 좌측방향으로 슬라이딩하면 커버(51)도 함께 운동한다. 그러면, 도어(130)에 의하여 개방부(112)가 개방되고, 커버(51)에 의하여 풉(50)의 내부 공간이 개방부(112)와 연통된다.
개방부(112) 및 풉(50)의 내부 공간이 개방되면, FIMS(Front-opening Interface Mechanical Standard) 시스템 내의 로봇(미도시)이 상기 웨이퍼를 다음 공정을 위한 필요처로 반송한다.
상기 웨이퍼의 반송이 완료되면, 도어(130)가 프레임(110)의 우측방향으로 슬라이딩한 다음 프레임(110)의 전면방향으로 유동하여, 커버(51)를 운동시킨다. 그러면, 도어(130)에 의하여 개방부(112)가 폐쇄되고, 커버(51)에 의하여 풉(50)의 내부 공간이 폐쇄된다. 커버(51)에 의하여 풉(50)의 내부 공간이 폐쇄되면, 래치(133)가 상기 래치홈에 삽입된 후 역방향으로 회전하여, 풉(50)에 대하여 커버(51)를 잠근다.
프레임(110)의 후면에는 도어(130)를 프레임(110)의 좌우방향으로 슬라이딩시키기 위한 슬라이딩부재(140)가 설치된다. 슬라이딩부재(140)는 프레임(110)의 후면에 설치되며, 프레임(110)의 좌우방향과 평행을 이루는 한 쌍의 안내바(143)에 연결되어 안내바(143)를 따라 실린더(미도시)에 의하여 운동한다.
슬라이딩부재(140)에는 도어(130)를 프레임(110)의 전후방향으로 유동시키기 위한 실린더(145)가 설치된다. 그리고, 개방부(112)는 풉(50)의 커버(51)측과 도어(130)에 의하여 밀폐되며, 도어(130)의 테두리부측에는 도어(130)와 개방부(112) 사이를 실링하는 실링부재(150)가 설치된다.
풉(50)에 상기 웨이퍼를 적재 저장한 상태에서, 소정 시간이 경과하면, 풉(50)으로 침투한 외부의 산소 등과 같은 오염 물질에 의하여 상기 웨이퍼에 산화막이 형성된다. 그러면, 상기 웨이퍼가 손상되므로, 이를 방지하기 위하여, 풉(50)의 내부로 N2 등과 같은 불활성 가스를 주입하여 배출함으로써, 오염 물질을 배출시켜 풉(50)을 청정한 상태로 유지한다.
풉(50)을 밀폐시킨 상태에서 풉(50)의 내부로 직접 불활성 가스를 주입하고, 직접 불활성 가스를 배출할 수 있도록 풉(50)의 하면에는 주입공(55) 및 배출공(57)이 각각 형성되고, 스테이지(120)의 상면에는 주입공(55) 및 배출공(57)에 각각 삽입되는 주입포트(125) 및 배출포트(127)가 각각 형성된다.
주입포트(125)가 주입공(55)에 삽입되어 밀폐된 상태의 풉(50)의 내부와 직접 연통되고, 배출포트(127)가 배출공(57)에 삽입되어 밀폐된 상태의 풉(50)의 내부와 직접 연통된다. 그러면, 불활성 가스가 풉(50)으로 주입될 때 불활성 가스가 상호 부딪히지 않고, 풉(50)으로 주입된 불활성 가스가 외부로 배출될 때 상호 부딪히지 않는다. 따라서, 불활성 가스의 부딪힘으로 인하여 난류가 발생되지 않으므로, 풉(50) 내부의 오염 물질이 완전히 배출되어, 풉(50) 내부의 청정도가 향상된다.
주입포트(125)는 불활성 가스가 저장된 가스탱크(미도시)와 연통되고, 배출포트(127)는 펌프(미도시) 등과 같은 펌핑수단과 연통된다. 그리고, 불활성 가스를 풉(50)으로 주입할 때는, 불활성 가스를 풉(50)으로 주입하는 압력과 상기 펌핑수단의 압력을 적절하게 제어하면 된다.
개방부(112) 외측의 프레임(110)의 전면 부위에는 불활성 가스의 주입 압력, 상기 펌핑수단의 압력 등과 같이 웨이퍼의 처리에 필요한 제반 사항을 제어하는 제어부(160)가 설치된다.
그리고, 불활성 가스가 밀폐된 상태의 풉(50)의 내부로 직접 주입되고, 풉(50)의 내부로 주입된 불활성 가스가 밀폐된 상태의 풉(50)의 내부에서 외부로 직접 배출되므로, 도어(130)를 판 형상의 단일구조로 형성하는 것이 가능하다.
풉(50)이 스테이지(120)에 견고하게 지지되어야, 도어(130)에 의하여, 커버(51)가 프레임(110)의 전후방향으로 정확하게 유동하고, 좌우방향으로 정확하게 슬라이딩한다.
이를 위하여, 본 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치에는 풉(50)을 스테이지(120)에 밀착시켜 지지하기 위한 지지유닛이 스테이지(120)의 하측 부위에 설치된다. 상기 지지유닛에 대하여 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한다. 도 4는 도 1에 도시된 스테이지 부위의 사시도이고, 도 5는 도 4의 분해 사시도이다.
도시된 바와 같이, 프레임(110)의 전면에는 상호 간격을 가지는 한 쌍의 고정블럭(171)이 설치된다. 고정블럭(171)은 개방부(112) 하측의 프레임(110)의 전면에 설치되어 상호 대향하며, 길이방향이 스테이지(120)의 운동방향과 평행을 이룬다.
고정블럭(171)에는 스테이지(120)의 운동방향과 평행을 이루는 제 1 안내레일(173)이 각각 설치되고, 제 1 안내레일(173)에는 제 1 가동블럭(175)이 설치된다. 즉, 제 1 가동블럭(175)의 상면은 스테이지(120)에 결합되고 하면은 제 1 안내레일(173)에 지지되어 제 1 안내레일(173)을 따라 운동하면서 스테이지(120)를 직선왕복운동시킨다. 그리고, 고정블럭(171)의 하면에는 스테이지(120)를 직선왕복운동시키기 위한 실린더(177)가 설치된다.
상기 지지유닛은 스테이지(120)의 하면에 설치되며, 프레임(110)의 전후방향으로 직선왕복운동 및 회전운동 가능하게 설치되어 풉(50)을 하측으로 눌러서 스테이지(120)에 지지한다. 풉(50)의 하면에는 상기 지지유닛에 걸린 후, 상기 지지유닛의 의하여 하측으로 눌려서 지지되는 브라켓(59)(도 2 참조)이 설치된다. 풉(50)이 스테이지(120)에 탑재 지지되면, 브라켓(59)은 공간부(120a)의 내부에 위치되어야 함은 당연하다.
상기 지지유닛은 지지브라켓(181), 제 2 안내레일(184), 제 2 가동블럭(187), 가동바(191), 회전바(193) 및 누름바(197)를 포함한다.
지지브라켓(181)은 상호 간격을 가지면서 대향하는 한 쌍으로 마련되어 스테이지(120)의 하면에 설치되고, 제 2 안내레일(184)은 지지브라켓(181)에 각각 설치된다. 지지브라켓(181)의 길이방향은 스테이지(120)의 운동방향과 평행을 이루고, 제 2 안내레일(184)의 길이방향은 스테이지(120)의 운동방향과 평행을 이룬다. 제 2 가동블럭(187)은 제 2 안내레일(184)에 각각 설치되어 제 2 안내레일(184)을 따라 직선왕복운동한다.
가동바(191)의 좌단부측 및 우단부측은, 한 쌍의 제 2 가동블럭(187) 중, 좌측 및 우측의 제 2 가동블럭(187)에 각각 결합되어, 제 2 가동블럭(187)과 함께 운동한다. 회전바(193)는 일측은 스테이지(120)에 지지되고 타측은 가동바(191)에 연결된다. 회전바(193)는 스테이지(120)에 지지된 일측 부위를 기준으로 스테이지(120)와 평행을 이루면서 진자형태로 운동가능하게 설치된다. 회전바(193)가 진자형태로 운동함에 따라 가동바(191)가 직선왕복운동한다.
가동바(191)의 길이방향은 스테이지(120)의 운동방향과 직교하며, 가동바(191)와 회전바(193)에는 회전바(193)의 진자형태의 운동을 가동바(191)의 직선왕복운동으로 변환하는 수단이 마련된다.
상기 수단은 가동바(191)의 길이방향을 따라 가동바(191)에 형성된 장공(191a)과, 회전바(193)의 타단부에 설치되어 장공(191a)에 삽입된 롤러(194)로 마련된다. 그러면, 회전바(193)가 진자형태로 운동함에 따라 롤러(194)의 위치가 변경되고, 롤러(194)의 위치가 변경됨에 따라 가동바(191)가 직선왕복운동한다. 그리고, 롤러(194)의 위치에 따라, 롤러(194)가 삽입되는 장공(191a)의 부위도 변경된다.
누름바(197)는 일측이 가동바(191)에 지지되어 가동바(191)와 함께 운동하며, 가동바(191)에 지지된 부위를 중심으로 회전가능하게 설치된다. 그리하여, 누름바(197)의 타단부는 풉(50)의 하면에 형성된 브라켓(59)을 걸어서 하측으로 당겨 풉(50)을 스테이지(120)에 밀착시켜 지지한다.
누름바(197)의 회전반경을 줄이고, 누름바(197)의 타단부에 브라켓(59)이 견고하게 걸려서 지지되도록, 누름바(197)의 타단부측은 벤딩된다. 그리고, 누름바(197)의 벤딩된 부위에는 브라켓(59)과 접촉하여 브라켓(59)을 걸어서 하측으로 당기는 롤러(198)가 설치될 수 있다.
브라켓(59)의 높이와 누름바(197)의 길이에 따라, 누름바(197)가 상사점에 위치되었을 때, 풉(50)의 하면과 접촉될 수 있다. 그러면, 누름바(197)가 풉(50)의 하면에 부딪혀 브라켓(59)측으로 회전되지 못할 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 롤러(198)는 탄성을 가짐과 동시에 누름바(191)의 회전방향과 동일한 방향으로 회전가능하게 설치된다. 그러면, 누름바(191)가 상사점에 위치되어 롤러(198)가 풉(50)의 하면과 접촉되어도, 롤러(198)가 탄성을 가지고 있음과 동시에 회전가능하게 설치되므로, 누름바(197)는 용이하게 브라켓(59)측으로 회전된다.
도 5의 미설명부호 195 및 199는 회전바(193) 및 가동바(197)를 각각 회전시키는 실린더이다.
본 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치의 상기 지지유닛의 동작을 도 1, 도 6a 내지 도 6c를 참조하여 설명한다. 도 6a 내지 도 6c는 도 4에 도시된 지지유닛의 동작을 보인 도이다.
스테이지(120)에 풉(50)이 탑재 지지되고, 도 6a에 도시된 바와 같이, 가동바(191)가 프레임(110)측으로 이동된 상태를 최초의 상태라 가정한다. 최초의 상태에서, 실린더(195)의 구동에 의하여 회전바(193)가 회전하면, 롤러(194)와 장공(191a)에 의하여, 도 6b에 도시된 바와 같이, 가동바(191)가 프레임(110)의 전면 외측으로 운동한다.
그 후, 실린더(199)의 구동에 의하여, 도 6c에 도시된 바와 같이, 누름바(197)가 회전하고, 누름바(197)가 소정 각도 이상 회전하면, 롤러(198)가 브라켓(59)(도 2 참조)에 걸려서 브라켓(59)을 하측으로 누른다. 그러면, 풉(50)이 스테이지(120)에 밀착되어 지지된다.
본 실시예에 따른 웨이퍼 처리장치는 풉(50)을 지지하는 상기 지지유닛이 스테이지(120)의 하측에 위치되어 외부로 노출되지 않는다. 그러므로, 웨이퍼 처리장치의 평면상의 부피가 감소되고, 미관상 아름답다.
이상에서는, 본 발명의 실시예들에 따라 본 발명을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 변경 및 변형한 것도 본 발명에 속함은 당연하다.
50: 풉
110: 프레임
120: 스테이지
191: 가동바
193: 회전바
197: 누름바

Claims (15)

  1. 개방부가 형성된 프레임;
    중앙부측에 공간부가 형성되고, 상기 개방부측 상기 프레임의 일면 부위에 결합되어 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 직선왕복운동하며, 상면에는 웨이퍼가 적재 저장된 풉(FOUP: Front Opening Unified Pod)을 탑재 지지시켜 상기 풉을 상기 개방부측으로 이송하는 스테이지;
    상기 스테이지의 하면에 설치되며, 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 직선왕복운동 및 회전운동 가능하게 설치되어 상기 풉을 하측으로 눌러서 상기 스테이지에 지지하는 지지유닛;
    상기 프레임의 타면에 설치되며, 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 유동하면서 상기 풉의 커버를 지지하여 상기 커버를 상기 프레임의 일면 방향에서 타면 방향으로 유동시키고, 상기 프레임의 일측면 방향에서 타측면 방향으로 슬라이딩하면서 상기 개방부를 개폐함과 동시에 상기 커버를 운동시켜 상기 풉의 내부와 상기 개방부를 연통 또는 차단시키는 도어를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 지지유닛은 상기 풉의 하면 부위를 하측으로 누르는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 공간부와 대향하는 상기 풉의 하면에는 상기 지지유닛에 의하여 지지되는 브라켓이 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 프레임에는 상호 간격을 가지는 한 쌍의 고정블럭이 대향되게 설치되고,
    상기 고정블럭에는 상기 스테이지의 운동방향과 평행을 이루는 제 1 안내레일이 각각 설치되며,
    상기 제 1 안내레일에는 상면은 상기 스테이지에 결합되고 하면은 상기 제 1 안내레일에 지지되어 상기 제 1 안내레일을 따라 운동하면서 상기 스테이지를 운동시키는 제 1 가동블럭이 각각 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 지지유닛은,
    상기 스테이지측에 지지되어 상기 스테이지의 운동방향과 평행하게 직선왕복운동가능하게 설치된 가동바;
    일측은 상기 스테이지에 지지되고 타측은 상기 가동바에 연결되며, 진자형태로 운동하면서 상기 가동바를 직선왕복운동시키는 회전바;
    상기 가동바에 일측이 지지되어 상기 가동바와 함께 운동하고, 상기 가동바에 지지된 부위를 중심으로 회전가능하게 설치되며, 상기 풉의 하면 부위를 걸어서 하측으로 당겨 상기 풉을 상기 스테이지에 밀착 지지시키는 누름바를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 스테이지의 하면에는 상호 간격을 가지면서 대향하는 한 쌍의 지지브라켓이 설치되고,
    상기 지지브라켓에는 상기 스테이지의 운동방향과 평행을 이루는 제 2 안내레일이 각각 설치되며,
    상기 제 2 안내레일에는 상기 제 2 안내레일을 따라 운동하는 제 2 가동블럭이 각각 설치되고,
    상기 가동바의 일측 및 타측은, 한 쌍의 상기 제 2 가동블럭 중, 어느 하나의 제 2 가동블럭 및 다른 하나의 제 2 가동블럭에 각각 결합된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 가동바의 길이방향은 상기 스테이지의 운동방향과 직교하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 가동바와 상기 회전바에는 상기 회전바의 진자형태의 운동을 상기 가동바의 직선왕복운동으로 변환하는 수단이 마련된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 수단은 상기 가동바의 길이방향을 따라 상기 가동바에 형성된 장공과, 상기 회전바의 타단부에 설치되어 상기 장공에 삽입된 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 누름바의 타단부측은 벤딩된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 누름바의 벤딩된 부위에는 상기 풉의 하면 부위와 접촉하는 롤러가 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 롤러는 탄성을 가지며, 상기 누름바의 회전방향과 동일한 방향으로 회전가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 풉의 하면에는 불활성 가스를 주입 및 배출하기 위한 주입공 및 배출공이 각각 형성되고,
    상기 스테이지의 상면에는 상기 주입공 및 상기 배출공에 각각 삽입되는 주입포트 및 배출포트가 각각 설치된 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 도어는 상기 개방부와 대응되는 판 형상의 단일(單一) 구조로 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 프레임의 타면에는 상기 프레임의 일측면 방향에서 타측면 방향으로 슬라이딩가능하게 설치되어 상기 도어를 슬라이딩시키는 슬라이딩부재가 설치된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 처리장치.
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