KR20130060137A - 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 - Google Patents

규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20130060137A
KR20130060137A KR1020120135296A KR20120135296A KR20130060137A KR 20130060137 A KR20130060137 A KR 20130060137A KR 1020120135296 A KR1020120135296 A KR 1020120135296A KR 20120135296 A KR20120135296 A KR 20120135296A KR 20130060137 A KR20130060137 A KR 20130060137A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
silicon
film
pattern
underlayer film
organic
Prior art date
Application number
KR1020120135296A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101767692B1 (ko
Inventor
츠토무 오기하라
다카후미 우에다
요시노리 다네다
Original Assignee
신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 filed Critical 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Publication of KR20130060137A publication Critical patent/KR20130060137A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101767692B1 publication Critical patent/KR101767692B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers
    • H01L21/0332—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers characterised by their composition, e.g. multilayer masks, materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C08G77/56—Boron-containing linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/14—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/14—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0751—Silicon-containing compounds used as adhesion-promoting additives or as means to improve adhesion
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/094—Multilayer resist systems, e.g. planarising layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

[과제] (1) 밀착성이 양호한 패턴 형성이 가능하고, (2) 규소 함유 막의 상층인 포토레지스트막, 하층인 유기막과의 사이에서 양호한 드라이 에칭 마스크로서 사용할 수 있는 규소 함유 막을 형성할 수 있고, (3) 규소 함유 막을 한창 드라이 에칭하고 있을 때의 상층 레지스트의 변형을 억제할 수 있는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[해결 수단] 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물 및 그 축합물로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물(A) 1종 이상과, 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 규소 화합물(B) 1종 이상을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
R1 m0B(OH)m1(OR)(3-m0-m1) (1)
R10 m10R11 m11R12 m12Si(OR13)(4-m10-m11-m12) (2)

Description

규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법{SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS}
본 발명은 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
LSI의 고집적화와 고속도화에 따라 패턴 치수의 미세화가 급속히 진행되고 있다. 리소그래피 기술은 이 미세화에 맞춰 광원의 단파장화와 그것에 대한 레지스트 조성물의 적절한 선택에 의해 미세 패턴의 형성을 달성하여 왔다. 이 흐름에 따라서, 포토레지스트 조성물에 사용하는 수지는 노광 파장에 있어서의 광 흡수가 작은 수지가 요구되었기 때문에, i선, KrF, ArF에의 변화에 대하여, 노볼락 수지, 폴리히드록시스티렌, 지방족 다환형 골격을 지닌 수지로 변화되어 오고 있다. 이러한 해상성이 높은 최근의 포토레지스트 조성물은 에칭 내성이 낮아지는 경향이 있고, 이에 따라, 드라이 에칭 조건에 있어서의 에칭 선택성이 낮아져, 레지스트 패턴을 정확하게 피가공 기판에 전사하기가 곤란하게 되고 있다.
또한, 동일한 광원으로 미세화하는 경우에 있어서도, 사용하는 포토레지스트막의 막 두께를 그대로 미세화, 즉 패턴 폭을 보다 작게 한 경우, 현상 후의 포토레지스트 패턴의 종횡비가 커져, 결과적으로 패턴 붕괴가 발생한다. 이 때문에, 포토레지스트 패턴의 종횡비가 적절한 범위로 수습되도록 포토레지스트막 두께는 미세화에 따라 박막화되어 왔다. 이 박막화의 흐름도 드라이 에칭 조건에 있어서의 레지스트 패턴의 피가공 기판에의 전사에 불리한 조건이 된다.
이러한 문제점을 해결하는 방법의 하나로서 다층 레지스트법이 있다. 이 방법은, 포토레지스트막(즉 레지스트 상층막)과 에칭 선택성이 다른 하층막을 레지스트 상층막과 피가공 기판 사이에 개재시켜, 레지스트 상층막에 패턴을 얻은 후, 상층 레지스트 패턴을 드라이 에칭 마스크로 하여 드라이 에칭에 의해 하층막에 패턴을 전사하고, 또한 하층막을 드라이 에칭 마스크로 하여 드라이 에칭에 의해 피가공 기판에 패턴을 전사하는 방법이다.
이 다층 레지스트법으로서, 단층 레지스트법에서 사용되고 있는 일반적인 레지스트 조성물을 이용하여 행할 수 있는 3층 레지스트법이 있다. 예컨대, 피가공 기판 상에 노볼락 등에 의한 유기막을 유기 하층막으로서 성막하고, 그 위에 규소 함유 막을 규소 함유 레지스트 하층막으로서 성막하고, 그 위에 통상의 유기계 포토레지스트막을 레지스트 상층막으로서 형성한다. 불소계 가스 플라즈마에 의한 드라이 에칭에 대해서는, 유기계의 레지스트 상층막은 규소 함유 레지스트 하층막에 대하여 양호한 에칭 선택비를 얻을 수 있기 때문에, 레지스트 패턴은 불소계 가스 플라즈마에 의한 드라이 에칭을 이용함으로써 규소 함유 레지스트 하층막에 전사된다. 이 방법에 따르면, 직접 피가공 기판을 가공하기 위한 충분한 막 두께를 지닌 패턴은 형성하기가 어려운 레지스트 조성물이나, 기판을 가공하기에는 드라이 에칭 내성이 충분하지 않은 레지스트 조성물을 이용하더라도, 가공에 충분한 드라이 에칭 내성을 갖는 노볼락 막의 패턴을 얻을 수 있다.
이와 같은 다층 레지스트법에서 사용되는 규소 함유 레지스트 하층막으로서는, CVD에 의한 규소 함유 무기막, 예컨대 SiO2막(예컨대, 특허문헌 1 등)이나 SiON 막(예컨대, 특허문헌 2 등), 회전 도포에 의해 막을 얻을 수 있는 것으로서는, SOG(스핀온 글라스)막(예컨대, 특허문헌 3 등)이나 가교성 실세스퀴옥산막(예컨대, 특허문헌 4 등) 등이 사용되고 있다.
특허문헌 1 : 일본 특허공개 평7-183194호 공보 특허문헌 2 : 일본 특허공개 평7-181688호 공보 특허문헌 3 : 일본 특허 4716044호 공보 특허문헌 4 : 일본 특허공표 2005-520354호 공보
그러나, 종래의 규소 함유 레지스트 하층막은, 유기막 상에 형성된 상기 규소 함유 레지스트 하층막 위에 포토레지스트막을 형성하고, 이어서 레지스트 패턴을 형성했을 때, 밀착성이 양호한 패턴 형성 및 포토레지스트막과 유기막 사이에서의 양호한 드라이 에칭 마스크로서의 사용을 양립시키기는 어려우며, 또한, 규소 함유 막을 한창 드라이 에칭하고 있을 때에 상층의 포토레지스트막 패턴이 변형된다고 하는 문제도 있었다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, (1) 밀착성이 양호한 패턴 형성이 가능하고, (2) 규소 함유 막의 상층인 포토레지스트막, 하층인 유기막과의 사이에서 양호한 드라이 에칭 마스크로서 사용할 수 있는 규소 함유 막을 형성할 수 있고, (3) 규소 함유 막을 한창 드라이 에칭하고 있을 때의 상층 레지스트의 변형을 억제할 수 있는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물 및 그 축합물로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물(A) 1종 이상과, 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 규소 화합물(B) 1종 이상을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 제공한다.
R1 m0B(OH)m1(OR)(3-m0-m1) (1)
(식에서, R은 탄소수 1∼6의 유기기이며, 2개의 OR이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋고, R1은 탄소수 1∼30의 유기기이며, 2개의 R1이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋다. m0은 1 또는 2, m1은 0, 1 또는 2이며, 1≤m0+m1≤3이다)
R10 m10R11 m11R12 m12Si(OR13)(4-m10-m11-m12) (2)
(식에서, R13은 탄소수 1∼6의 유기기이며, R10, R11, R12는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1∼30의 1가의 유기기이고, m10, m11, m12는 0 또는 1이며, 0≤m10+m11+m12≤3이다)
이러한 본 발명은, 규소 함유 막에 붕소 원자를 도입함으로써 드라이 에칭 가스에 대한 반응성이 높아져, 종래 알려져 있는 규소 함유 재료보다 상층 포토레지스트에 대하여 높은 에칭 선택비를 얻을 수 있다.
또한, 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물이, 상기 화합물(A), 상기 화합물(B) 및 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물(C)을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하는 것이라도 좋다.
U(OR2)m2(OR3)m3(O)m4 (3)
(식에서, R2, R3은 수소 원자, 탄소수 1∼30의 유기기이며, m2+m3+m4는 U의 종류에 의해 결정되는 가수이고, m2, m3, m4는 0 이상의 정수, U는 주기율표의 III족, IV족 또는 V족의 원소로 탄소로서 및 규소를 제외한 것이다)
본 발명에서는, 상기 화합물(C)을 더 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유함으로써, 레지스트 패턴과의 밀착성이 양호하고 보존 안정성이 좋은 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 얻을 수 있다.
상기 일반식(3)에서의 U가, 붕소, 알루미늄, 갈륨, 이트륨, 게르마늄, 티탄, 지르코늄, 하프늄, 비스무트, 주석, 인, 바나듐, 비소, 안티몬, 니오븀 및 탄탈 중 어느 것인 것이 바람직하다.
상기한 U로서 나타내어져 있는 금속이 포함되어 있는 규소 함유 레지스트 하층막은, U가 포함되어 있지 않은 규소 함유 레지스트 하층막에 비해서 에칭 속도가 보다 빠르고, 박막화된 포토레지스트를 에칭 마스크로서 이용하더라도 패턴 전사가 가능한 규소 함유 레지스트 하층막을 형성할 수 있다.
또한, 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물에는 비점이 180도 이상인 용매를 함유할 수도 있다.
비점이 180도 이상인 고비점 용제를 함유함으로써, 상층 레지스트 패턴과의 밀착성이 양호한 규소 함유 레지스트 하층막을 형성할 수 있다.
또한 본 발명은, 피가공체 상에 도포형 유기 하층막 재료를 이용하여 유기 하층막을 형성하고, 이 유기 하층막 위에 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 규소 함유 레지스트 하층막을 형성하고, 이 규소 함유 레지스트 하층막 상에 화학 증폭형 레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트막을 형성하고, 가열 처리 후에 고에너지선으로 상기 포토레지스트막을 노광하고, 알칼리 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트막의 노광부를 용해시킴으로써 포지티브형 패턴을 형성하고, 이 패턴이 형성된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 규소 함유 레지스트 하층막에 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 이 패턴이 전사된 규소 함유 레지스트 하층막을 마스크로 하여 상기 유기 하층막을 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 또한 이 패턴이 전사된 유기 하층막을 마스크로 하여 상기 피가공체에 드라이 에칭으로 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공한다.
또한 본 발명은, 피가공체 상에 탄소를 주성분으로 하는 유기 하드 마스크를 CVD법으로 형성하고, 이 유기 하드 마스크 위에 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 규소 함유 레지스트 하층막을 형성하고, 이 규소 함유 레지스트 하층막 상에 화학 증폭형 레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트막을 형성하고, 가열 처리 후에 고에너지선으로 상기 포토레지스트막을 노광하고, 알칼리 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트막의 노광부를 용해시킴으로써 포지티브형 패턴을 형성하고, 이 패턴이 형성된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 규소 함유 레지스트 하층막에 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 이 패턴이 전사된 규소 함유 레지스트 하층막을 마스크로 하여 상기 유기 하드 마스크를 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 또한 이 패턴이 전사된 유기 하드 마스크를 마스크로 하여 상기 피가공체에 드라이 에칭으로 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공한다.
이러한 본 발명의 패턴 형성 방법은, CVD막이나 유기 하층막의 조합을 최적화함으로써, 사이즈 변환차를 생기게 하는 일없이, 피가공체 상에 미세한 패턴을 고정밀도로 형성할 수 있다.
또한, 상기 피가공체로서, 반도체 장치 기판, 또는 이 반도체 장치 기판에 금속막, 금속탄화막, 금속산화막, 금속질화막, 금속산화탄화막 및 금속산화질화막 중 어느 것이 성막된 것을 이용할 수 있다.
이 경우, 상기 피가공체를 구성하는 금속이 규소, 티탄, 텅스텐, 하프늄, 지르코늄, 크롬, 게르마늄, 구리, 알루미늄 및 철 중 어느 것 혹은 이들의 합금인 것이 바람직하다.
이와 같이, 본 발명의 패턴 형성 방법을 이용하면, 상기와 같은 피가공체를 가공하여 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 레지스트 패턴의 형성에 있어서는, 파장이 300 nm 이하인 빛 혹은 EUV광을 이용한 포토리소그래피법 또는 전자선 묘화를 이용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서는, 파장이 300 nm 이하인 빛, 특히 ArF 엑시머 레이저, 액침 ArF 엑시머 레이저, EUV를 이용하는 리소그래피나 전자선 묘화에 의해 패턴을 형상하면, 미세한 패턴을 고정밀도로 형성할 수 있다.
이상 설명한 것과 같이, 본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 형성된 규소 함유 레지스트 하층막을 이용함으로써, 그 바로 상부에 형성된 포토레지스트막은 밀착성이 좋고 양호한 패턴을 가지며 상층 레지스트와의 에칭 선택비가 양호한 패턴 형성이 가능하다. 또한, 유기 재료와의 사이에서 높은 에칭 선택성을 얻을 수 있으므로, 형성된 포토레지스트 패턴을, 규소 함유 레지스트 하층막, 유기 하층막에 순차적으로 드라이 에칭 프로세스를 이용하여 전사할 수 있다. 특히, 반도체 프로세스의 미세화가 진행되어 가면, 포토레지스트의 막 두께가 얇아지기 때문에, 종래의 규소 함유 레지스트 하층막에의 패턴 전사가 곤란하게 되어 가는데, 본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 형성된 규소 함유 레지스트 하층막에서는, 박막화된 포토레지스트를 에칭 마스크로서 사용하더라도, 드라이 에칭 중인 포토레지스트 패턴의 변형을 억제하여, 이 패턴을 기판에 높은 정밀도로 전사할 수 있다.
이하, 본 발명에 관하여 더욱 자세히 설명한다.
상술된 것과 같이, 종래의 규소 함유 레지스트 하층막은, 밀착성이 양호한 패턴 형성 및 양호한 드라이 에칭 마스크로서의 사용을 양립시키기가 어렵고, 또한, 규소 함유 막을 한창 드라이 에칭하고 있을 때에 상층의 포토레지스트막 패턴이 변형된다고 하는 문제도 있었다.
본 발명자들은, 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물의 리소그래피 특성이나 안정성에 관해서 예의 검토한 바, 붕소 화합물과 규소 화합물의 축합물은, 레지스트 패턴과의 밀착성이 양호할 뿐만 아니라, 드라이 에칭 마스크로서 충분한 에칭 선택비를 얻을 수 있는 레지스트 하층막을 얻을 수 있다는 것, 특히 상층 레지스트와 하층막과의 에칭 선택비를 개선할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물 및 그 축합물로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물(A) 1종 이상과, 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 규소 화합물(B) 1종 이상을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 제공한다.
R1 m0B(OH)m1(OR)(3-m0-m1) (1)
(식에서, R은 탄소수 1∼6의 유기기이며, 2개의 OR이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋고, R1은 탄소수 1∼30의 유기기이며, 2개의 R1이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋다. m0은 1 또는 2, m1은 0, 1 또는 2이며, 1≤m0+m1≤3이다)
R10 m10R11 m11R12 m12Si(OR13)(4-m10-m11-m12) (2)
(식에서, R13은 탄소수 1∼6의 유기기이며, R10, R11, R12는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1∼30의 1가의 유기기이고, m10, m11, m12는 0 또는 1이며, 0≤m10+m11+m12≤3이다)
본 발명은, 특허문헌 3 등에서 이미 알려져 있는 에칭 선택비가 높은 규소 함유 막에 붕소 원자를 도입함으로써, 드라이 에칭 가스에 대한 반응성이 높아져, 종래 알려져 있는 규소 함유 재료로 상층 포토레지스트에 대하여 높은 에칭 선택비를 얻을 수 있다.
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물에 있어서, 본 발명에서 사용되는 화합물(A)은 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물 및 그 축합물로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물이다.
R1 m0B(OH)m1(OR)(3-m0-m1) (1)
(식에서, R은 탄소수 1∼6의 유기기이며, 2개의 OR이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋고, R1은 탄소수 1∼30의 유기기이며, 2개의 R1이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋다. m0은 1 또는 2, m1은 0, 1 또는 2이며, 1≤m0+m1≤3이다)
여기서, R은 탄소수 1∼6의 유기기이며, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, iso-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 시클로펜틸기, n-헥실기, 시클로헥실기, 페닐기 등을 예시할 수 있다.
또한, 2개의 OR이 결합한 환상 유기기로서는 예컨대 이하의 것을 들 수 있다((B)는 B와의 결합 부위를 나타낸다(이하 마찬가지)).
Figure pat00001
한편, 본 발명에 있어서 유기기란, 탄소를 포함하는 기의 의미이며, 수소를 더 포함하고, 또한 질소, 산소, 황, 규소 등을 포함하더라도 좋다.
R1은 탄소수 1∼30의 유기기이며, 2개의 R1이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋고, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, 시클로헥실기, 페닐기나 하기에 나타내는 기 등을 들 수 있다.
Figure pat00002
상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물로서 이하의 것을 예로 들 수 있다.
Figure pat00003
Figure pat00004
Figure pat00005
Figure pat00006
Figure pat00007
Figure pat00008
Figure pat00009
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물에 있어서 사용되는 화합물(B)은 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 규소 화합물이다.
R10 m10R11 m11R12 m12Si(OR13)(4-m10-m11-m12) (2)
(식에서, R13은 탄소수 1∼6의 유기기이며, R10, R11, R12는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1∼30의 1가의 유기기이고, m10, m11, m12는 0 또는 1이며, 0≤m10+m11+m12≤3이다)
R10, R11, R12의 유기기로서는, 직쇄상, 분기상, 환상의 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 아릴기, 아랄킬기 등의 비치환의 1가 탄화수소기 및 이들 기의 수소 원자의 1개 또는 그 이상이 에폭시기, 알콕시기, 히드록시기 등으로 치환된 기나, -O-, -CO-, -OCO-, -COO-,-OCOO-가 개재된 기 등의 후술하는 일반식(4)으로 나타내어지는 기, 규소-규소 결합을 포함하는 유기기 등을 예로 들 수 있다.
상기 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물로서 이하의 것을 예로 들 수 있다.
m10=0, m11=0, m12=0인 테트라알콕시실란으로서, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-iso-프로폭시실란 등을 예시할 수 있다.
m10+m11+m12=1인 트리알콕시실란으로서, 트리메톡시실란, 트리에톡시실란, 트리-n-프로폭시실란, 트리-iso-프로폭시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리-n-프로폭시실란, 메틸트리-iso-프로폭시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리-n-프로폭시실란, 에틸트리-iso-프로폭시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리-n-프로폭시실란, 비닐트리-iso-프로폭시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, n-프로필트리-n-프로폭시실란, n-프로필트리-iso-프로폭시실란, i-프로필트리메톡시실란, i-프로필트리에톡시실란, i-프로필트리-n-프로폭시실란, i-프로필트리-iso-프로폭시실란, n-부틸트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란, n-부틸트리-n프로폭시실란, n-부틸트리-iso-프로폭시실란, sec-부틸-트리메톡시실란, sec-부틸-트리에톡시실란, sec-부틸-트리-n-프로폭시실란, sec-부틸-트리-iso-프로폭시실란, t-부틸트리메톡시실란, t-부틸트리에톡시실란, t-부틸트리-n프로폭시실란, t-부틸트리-iso-프로폭시실란, 시클로프로필트리메톡시실란, 시클로프로필트리에톡시실란, 시클로프로필-트리-n-프로폭시실란, 시클로프로필-트리-iso-프로폭시실란, 시클로부틸트리메톡시실란, 시클로부틸트리에톡시실란, 시클로부틸-트리-n-프로폭시실란, 시클로부틸-트리-iso-프로폭시실란, 시클로펜틸트리메톡시실란, 시클로펜틸트리에톡시실란, 시클로펜틸-트리-n-프로폭시실란, 시클로펜틸-트리-iso-프로폭시실란, 시클로헥실트리메톡시실란, 시클로헥실트리에톡시실란, 시클로헥실-트리-n-프로폭시실란, 시클로헥실-트리-iso-프로폭시실란, 시클로헥세닐트리메톡시실란, 시클로헥세닐트리에톡시실란, 시클로헥세닐-트리-n-프로폭시실란, 시클로헥세닐-트리-iso-프로폭시실란, 시클로헥세닐에틸트리메톡시실란, 시클로헥세닐에틸트리에톡시실란, 시클로헥세닐에틸-트리-n-프로폭시실란, 시클로헥세닐에틸트리-iso-프로폭시실란, 시클로옥타닐트리메톡시실란, 시클로옥타닐트리에톡시실란, 시클로옥타닐-트리-n-프로폭시실란, 시클로옥타닐-트리-iso-프로폭시실란, 시클로펜타디에닐프로필트리메톡시실란, 시클로펜타디에닐프로필트리에톡시실란, 시클로펜타디에닐프로필-트리-n-프로폭시실란, 시클로펜타디에닐프로필-트리-iso-프로폭시실란, 비시클로헵테닐트리메톡시실란, 비시클로헵테닐트리에톡시실란, 비시클로헵테닐-트리-n-프로폭시실란, 비시클로헵테닐-트리-iso-프로폭시실란, 비시클로헵틸트리메톡시실란, 비시클로헵틸트리에톡시실란, 비시클로헵틸-트리-n-프로폭시실란, 비시클로헵틸-트리-iso-프로폭시실란, 아다만틸트리메톡시실란, 아다만틸트리에톡시실란, 아다만틸-트리-n-프로폭시실란, 아다만틸-트리-iso-프로폭시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리-n-프로폭시실란, 페닐트리-iso-프로폭시실란, 벤질트리메톡시실란, 벤질트리에톡시실란, 벤질트리-n-프로폭시실란, 벤질트리-iso-프로폭시실란, 톨릴트리메톡시실란, 톨릴트리에톡시실란, 톨릴트리-n-프로폭시실란, 톨릴트리-iso-프로폭시실란, 페네틸트리메톡시실란, 페네틸트리에톡시실란, 페네틸트리-n-프로폭시실란, 페네틸트리-iso-프로폭시실란, 나프틸트리메톡시실란, 나프틸트리에톡시실란, 나프틸트리-n-프로폭시실란, 나프틸트리-iso-프로폭시실란 등을 예시할 수 있다.
m10+m11+m12=2인 디알콕시실란으로서, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 메틸에틸디메톡시실란, 메틸에틸디에톡시실란, 디메틸-디-n-프로폭시실란, 디메틸-디-iso-프로폭시실란, 디에틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 디에틸-디-n-프로폭시실란, 디에틸-디-iso-프로폭시실란, 디-n-프로필디메톡시실란, 디-n-프로필디에톡시실란, 디-n-프로필-디-n-프로폭시실란, 디-n-프로필-디-iso-프로폭시실란, 디-iso-프로필디메톡시실란, 디-iso-프로필디에톡시실란, 디iso-프로필-디-n-프로폭시실란, 디-iso-프로필-디-iso-프로폭시실란, 디-n-부틸디메톡시실란, 디-n-부틸디에톡시실란, 디-n-부틸디-n-프로폭시실란, 디-n-부틸-디-iso-프로폭시실란, 디-sec-부틸디메톡시실란, 디-sec-부틸디에톡시실란, 디-sec-부틸-디-n-프로폭시실란, 디-sec-부틸-디-iso-프로폭시실란, 디-t-부틸디메톡시실란, 디-t-부틸디에톡시실란, 디t-부틸-디-n-프로폭시실란, 디-t-부틸-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로프로필디메톡시실란, 디-시클로프로필디에톡시실란, 디-시클로프로필-디-n-프로폭시실란, 디-시클로프로필-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로부틸디메톡시실란, 디-시클로부틸디에톡시실란, 디-시클로부틸-디-n-프로폭시실란, 디-시클로부틸-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로펜틸디메톡시실란, 디-시클로펜틸디에톡시실란, 디-시클로펜틸-디-n-프로폭시실란, 디-시클로펜틸-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로헥실디메톡시실란, 디-시클로헥실디에톡시실란, 디-시클로헥실-디-n-프로폭시실란, 디-시클로헥실-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로헥세닐디메톡시실란, 디-시클로헥세닐디에톡시실란, 디시클로헥세닐-디-n-프로폭시실란, 디-시클로헥세닐-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로헥세닐에틸디메톡시실란, 디-시클로헥세닐에틸디에톡시실란, 디-시클로헥세닐에틸-디-n-프로폭시실란, 디-시클로헥세닐에틸-디-iso-프로폭시실란,디-시클로옥타닐디메톡시실란, 디-시클로옥타닐디에톡시실란, 디시클로옥타닐-디-n-프로폭시실란, 디-시클로옥타닐-디-iso-프로폭시실란, 디-시클로펜타디에닐프로필디메톡시실란, 디-시클로펜타디에닐프로필디에톡시실란, 디-시클로펜타디에닐프로필-디-n-프로폭시실란, 디-시클로펜타디에닐프로필-디-iso-프로폭시실란, 비스-비시클로헵테닐디메톡시실란, 비스-비시클로헵테닐디에톡시실란, 비스-비시클로헵테닐-디-n-프로폭시실란, 비스-비시클로헵테닐-디-iso-프로폭시실란, 비스-비시클로헵틸디메톡시실란, 비스-비시클로헵틸디에톡시실란, 비스-비시클로헵틸-디-n-프로폭시실란, 비스-비시클로헵틸-디-iso-프로폭시실란, 비스-아다만틸디메톡시실란, 비스-아다만틸디에톡시실란, 비스-아다만틸-디-n-프로폭시실란, 비스-아다만틸-디-iso-프로폭시실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐-디-에톡시실란, 메틸페닐디메톡시실란, 메틸페닐디에톡시실란, 디페닐-디-n프로폭시실란, 디페닐-디-iso-프로폭시실란 등을 예시할 수 있다.
m10=1, m11=1, m12=1인 모노알콕시실란으로서, 트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 디메틸에틸메톡시실란, 디메틸에틸에톡시실란, 디메틸페닐메톡시실란, 디메틸페닐에톡시실란, 디메틸벤질메톡시실란, 디메틸벤질에톡시실란, 디메틸페네틸메톡시실란, 디메틸페네틸에톡시실란 등을 예시할 수 있다.
바람직하게는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, n-프로필트리메톡시실란, n-프로필트리에톡시실란, iso-프로필트리메톡시실란, iso-프로필트리에톡시실란, n-부틸트리메톡시실란, n-부틸트리에톡시실란, iso-부틸트리메톡시실란, iso-부틸트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 시클로펜틸트리메톡시실란, 시클로펜틸트리에톡시실란, 시클로헥실트리메톡시실란, 시클로헥실트리에톡시실란, 시클로헥세닐트리메톡시실란, 시클로헥세닐트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 벤질트리메톡시실란, 벤질트리에톡시실란, 페네틸트리메톡시실란, 페네틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디에틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, 메틸에틸디메톡시실란, 메틸에틸디에톡시실란, 디-n-프로필-디-메톡시실란, 디-n-부틸디-메톡시실란, 메틸페닐디메톡시실란, 메틸페닐디에톡시실란, 트리메틸메톡시실란, 디메틸에틸메톡시실란, 디메틸페닐메톡시실란, 디메틸벤질메톡시실란, 디메틸페네틸메톡시실란 등을 예시할 수 있다.
상기 R10, R11, R12로 나타내어지는 유기기의 다른 예로서, 탄소-산소 단결합 또는 탄소-산소 이중 결합을 하나 이상 갖는 유기기를 들 수 있다. 구체적으로는 에폭시기, 에스테르기, 알콕시기, 히드록시기로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 기를 갖는 유기기이다. 상기 일반식(2) 중의 탄소-산소 단결합, 탄소-산소 이중 결합의 하나 이상을 갖는 유기기는 예로서 다음 일반식(4)으로 나타내어지는 것을 들 수 있다.
(P-Q1-(S1)v1-Q2-)u-(T)v2-Q3-(S2)v3-Q4- (4)
[상기 식에서, P는 수소 원자, 히드록실기,
Figure pat00010
탄소수 1∼4의 알콕시기, 탄소수 1∼6의 알킬카르보닐옥시기 또는 탄소수 1∼6의 알킬카르보닐기이며, Q1과 Q2와 Q3과 Q4는 각각 독립적으로 -CqH(2q-p)Pp-(식에서, P는 상기와 마찬가지이고, p는 0∼3의 정수이며, q는 0∼10의 정수(단, q=0은 단결합임을 나타냄)임), u는 0∼3의 정수이며, S1과 S2는 각각 독립적으로 -O-, -CO-, -OCO-, -COO- 또는 -OCOO-을 나타낸다. v1, v2, v3은 각각 독립적으로 0 또는 1을 나타낸다. 이들과 함께, T는 헤테로 원자를 포함하더라도 좋은 지환 또는 방향환을 포함하는 2가의 기이며, T의 산소 원자 등의 헤테로 원자를 포함하더라도 좋은 지환 또는 방향환의 예를 이하에 나타낸다. T에 있어서 Q2와 Q3과 결합하는 위치는, 특별히 한정되지 않지만, 입체적인 요인에 의한 반응성이나 반응에 이용하는 시판되는 시약의 입수성 등을 고려하여 적절하게 선택할 수 있다]
Figure pat00011
상기 일반식(2) 중의 탄소-산소 단결합 또는 탄소-산소 이중 결합을 하나 이상 갖는 유기기의 바람직한 예로서 이하의 것을 들 수 있다. 또한, 하기 식에서 (Si)는 Si와의 결합 부위를 나타내기 위해서 기재했다.
Figure pat00012
Figure pat00013
Figure pat00014
또한, R10, R11, R12의 유기기의 예로서, 규소-규소 결합을 포함하는 유기기를 이용할 수도 있다. 구체적으로는 하기의 것을 들 수 있다.
Figure pat00015
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물은, 상기 화합물(A), 상기 화합물(B) 및 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물(C)을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하더라도 좋다.
U(OR2)m2(OR3)m3(O)m4 (3)
(식에서, R2, R3은 수소 원자, 탄소수 1∼30의 유기기이며, m2+m3+m4는 U의 종류에 의해 결정되는 가수이고, m2, m3, m4는 0 이상의 정수, U는 주기율표의 III족, IV족 또는 V족의 원소로서 탄소 및 규소를 제외하는 것이다)
상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서 다음과 같은 화합물을 예시할 수 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.
예컨대, U가 붕소인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 보론메톡시드, 보론에톡시드, 보론프로폭시드, 보론부톡시드, 보론아밀옥시드, 보론헥실옥시드, 보론시클로펜톡시드, 보론시클로헥실옥시드, 보론알릴옥시드, 보론페녹시드, 보론메톡시에톡시드, 붕산, 산화붕소 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 알루미늄인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 알루미늄메톡시드, 알루미늄에톡시드, 알루미늄프로폭시드, 알루미늄부톡시드, 알루미늄아밀옥시드, 알루미늄헥실옥시드, 알루미늄시클로펜톡시드, 알루미늄시클로헥실옥시드, 알루미늄알릴옥시드, 알루미늄페녹시드, 알루미늄메톡시에톡시드, 알루미늄에톡시에톡시드, 알루미늄디프로폭시에틸아세트아세테이트, 알루미늄디부톡시에틸아세트아세테이트, 알루미늄프로폭시비스에틸아세트아세테이트, 알루미늄부톡시비스에틸아세트아세테이트, 알루미늄2,4-펜탄디오네이트, 알루미늄2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 갈륨인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 갈륨메톡시드, 갈륨에톡시드, 갈륨프로폭시드, 갈륨부톡시드, 갈륨아밀옥시드, 갈륨헥실옥시드, 갈륨시클로펜톡시드, 갈륨시클로헥실옥시드, 갈륨알릴옥시드, 갈륨페녹시드, 갈륨메톡시에톡시드, 갈륨에톡시에톡시드, 갈륨디프로폭시에틸아세트아세테이트, 갈륨디부톡시에틸아세트아세테이트, 갈륨프로폭시비스에틸아세트아세테이트, 갈륨부톡시비스에틸아세트아세테이트, 갈륨2,4-펜탄디오네이트, 갈륨2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 이트륨인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 이트륨메톡시드, 이트륨에톡시드, 이트륨프로폭시드, 이트륨부톡시드, 이트륨아밀옥시드, 이트륨헥실옥시드, 이트륨시클로펜톡시드, 이트륨시클로헥실옥시드, 이트륨알릴옥시드, 이트륨페녹시드, 이트륨메톡시에톡시드, 이트륨에톡시에톡시드, 이트륨디프로폭시에틸아세트아세테이트, 이트륨디부톡시에틸아세트아세테이트, 이트륨프로폭시비스에틸아세트아세테이트, 이트륨부톡시비스에틸아세트아세테이트, 이트륨2,4-펜탄디오네이트, 이트륨2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 게르마늄인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 게르마늄메톡시드, 게르마늄에톡시드, 게르마늄프로폭시드, 게르마늄부톡시드, 게르마늄아밀옥시드, 게르마늄헥실옥시드, 게르마늄시클로펜톡시드, 게르마늄시클로헥실옥시드, 게르마늄알릴옥시드, 게르마늄페녹시드, 게르마늄메톡시에톡시드, 게르마늄에톡시에톡시드 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 티탄인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 티탄메톡시드, 티탄에톡시드, 티탄프로폭시드, 티탄부톡시드, 티탄아밀옥시드, 티탄헥실옥시드, 티탄시클로펜톡시드, 티탄시클로헥실옥시드, 티탄알릴옥시드, 티탄페녹시드, 티탄메톡시에톡시드, 티탄에톡시에톡시드, 티탄디프로폭시비스에틸아세트아세테이트, 티탄디부톡시비스에틸아세트아세테이트, 티탄디프로폭시비스2,4-펜탄디오네이트, 티탄디부톡시비스2,4-펜탄디오네이트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 지르코늄인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시지르코늄, 에톡시지르코늄, 프로폭시지르코늄, 부톡시지르코늄, 페녹시지르코늄, 지르코늄디부톡시드비스(2,4-펜탄디오네이트), 지르코늄디프로폭시드비스(2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트) 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 하프늄인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 하프늄메톡시드, 하프늄에톡시드, 하프늄프로폭시드, 하프늄부톡시드, 하프늄아밀옥시드, 하프늄헥실옥시드, 하프늄시클로펜톡시드, 하프늄시클로헥실옥시드, 하프늄알릴옥시드, 하프늄페녹시드, 하프늄메톡시에톡시드, 하프늄에톡시에톡시드, 하프늄디프로폭시비스에틸아세트아세테이트, 하프늄디부톡시비스에틸아세트아세테이트, 하프늄디프로폭시비스2,4-펜탄디오네이트, 하프늄디부톡시비스2,4-펜탄디오네이트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 비스무트인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시비스무트, 에톡시비스무트, 프로폭시비스무트, 부톡시비스무트, 페녹시비스무트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 주석인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시주석, 에톡시주석, 프로폭시주석, 부톡시주석, 페녹시주석, 메톡시에톡시주석, 에톡시에톡시주석, 주석2,4-펜탄디오네이트, 주석2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디오네이트 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 인인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 트리메틸포스파이트, 트리에틸포스파이트, 트리프로필포스파이트, 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리프로필포스페이트, 오산화이인 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 바나듐인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 바나듐옥사이드비스(2,4-펜탄디오네이트), 바나듐2,4-펜탄디오네이트, 바나듐트리부톡시드옥사이드, 바나듐트리프로폭시드옥사이드 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 비소인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시비소, 에톡시비소, 프로폭시비소, 부톡시비소, 페녹시비소 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 안티몬인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시안티몬, 에톡시안티몬, 프로폭시안티몬, 부톡시안티몬, 페녹시안티몬, 아세트산안티몬, 프로피온산안티몬 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 니오븀인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시니오븀, 에톡시니오븀, 프로폭시니오븀, 부톡시니오븀, 페녹시니오븀 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
U가 탄탈인 경우, 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물로서, 메톡시탄탈, 에톡시탄탈, 프로폭시탄탈, 부톡시탄탈, 페녹시탄탈 등을 모노머로서 예시할 수 있다.
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물은, 상기 일반식(1)으로 나타내어지는 화합물(A)을 1종 이상, 상기 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물(B)을 1종 이상, 또한 필요에 따라서 상기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물(C)을 1종 이상 선택하여, 반응 전 또는 반응 중에 혼합한 혼합물(이하, 「모노머 혼합물」이라고 하는 경우도 있음)을, 축합물 및/또는 가수분해 축합물(이하, 「규소 함유화합물」이라고 하는 경우도 있음)을 형성하는 반응 원료로 할 수 있다.
〔규소 함유 화합물의 합성 방법〕
(합성 방법 1 : 축합물의 합성)
모노머 혼합물로 축합물을 제조할 수 있다.
조작 방법으로서, 하기의 합성 방법에 기재되어 있는 산 촉매, 염기 촉매를 이용하여 혹은 무촉매로, 모노머 혼합물을 실온에서부터 반응 혼합물이 환류하는 온도 사이의 온도에서 가열하여 그 후 숙성시키는 방법에 의해 얻을 수 있다. 이 방법은 특히 (A) 성분에서 m1이 1 또는 2인 경우에 바람직하다.
이 때, 필요하다면 유기 용매를 더하더라도 좋다. 예컨대, 알코올계의 용매로서 메탄올, 에탄올, 부탄올 등, 에테르계로서 테트라히드로푸란, 부틸에테르 등, 에스테르계로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 케톤계로서 메틸이소부틸케톤, 메틸아밀케톤, 시클로헥사논 등, 탄화수소계로서 헥산, 톨루엔 등을 예시할 수 있다.
축합이 진행되어 오면, 알코올이 부생되어 나오기 때문에, 이에 의해서도 반응의 진행을 확인할 수 있다. 반응이 적당히 진행된 시점에서 실온으로 되돌림으로써 반응을 정지할 수 있다.
반응 종료 후, 필요하다면, 반응에 사용한 유기 용매나 부생된 알코올을 적절한 온도 압력 조건 하에서 제거하여 축합물을 얻는다. 이 축합물은 그대로 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 성분(베이스 폴리머)으로서 사용하더라도 좋다. 또한, 반응에 사용한 유기 용매나 부생 알코올을 제거하지 않고서 다음 조작에 적용하더라도 좋다.
또한, 이하에 나타내어져 있는 것과 같이, 산 촉매 또는 염기 촉매에 의한 가수분해 축합 후, 레지스트 하층막 형성용 조성물의 성분으로서 사용하더라도 좋다.
(합성 방법 2 : 산 촉매를 이용한 가수분해 축합물의 합성)
본 발명의 가수분해 축합물은, 모노머 혼합물, 상기 축합물 또는 상기 축합물에 다른 모노머를 더 첨가한 혼합물을, 유기산, 무기산 등에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 산 촉매로서 이용하여 가수분해 축합을 함으로써 제조할 수 있다.
이때 사용되는 산 촉매는, 포름산, 아세트산, 옥살산, 말레산, 트리플루오로아세트산, 불산, 염산, 브롬화수소산, 황산, 질산, 과염소산, 인산, 메탄술폰산, 벤젠술폰산, 톨루엔술폰산 등을 들 수 있다. 촉매의 사용량은 모노머 혼합물 등 1 몰에 대하여 1×10-6∼10 몰, 바람직하게는 1×10-5∼5 몰, 보다 바람직하게는 1×10-4∼1 몰이다.
이들 모노머 혼합물 등으로부터 가수분해 축합에 의해 가수분해 축합물을 얻을 때의 물의 양은, 모노머 혼합물 등에 결합되어 있는 가수분해성 치환기 1 몰당 0.01∼100 몰, 보다 바람직하게는 0.05∼50 몰, 더욱 바람직하게는 0.1∼30 몰을 첨가하는 것이 바람직하다. 100 몰 이하라면, 반응에 사용하는 장치가 작아져 경제적이 된다.
조작 방법으로서, 촉매 수용액에 모노머 혼합물 등을 첨가하여 가수분해 축합 반응을 개시시킨다. 이때, 촉매 수용액에 유기 용제를 더하여도 좋고, 모노머 혼합물 등을 유기 용제로 희석해 두더라도 좋고, 양쪽 다 행하더라도 좋다. 반응 온도는 0∼100℃, 바람직하게는 5∼80℃이다. 모노머 혼합물 등의 적하시에 5∼80℃로 온도를 유지하고, 그 후 20∼80℃에서 숙성시키는 방법이 바람직하다.
산 촉매 수용액에 가할 수 있거나 또는 모노머 혼합물 등을 희석할 수 있는 유기 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라히드로푸란, 톨루엔, 헥산, 아세트산에틸, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 부탄디올모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 부탄디올모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글콜모노에틸에테르아세테이트, 피루브산에틸, 아세트산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 아세트산t-부틸, 프로피온산t-부틸, 프로필렌글리콜모노t-부틸에테르아세테이트, 감마부티로락톤 및 이들의 혼합물 등이 바람직하다.
이들 용제 중에서 바람직한 것은 수용성인 것이다. 예컨대, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 다가 알코올, 부탄디올모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 부탄디올모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 부탄디올모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등의 다가 알코올 축합물 유도체, 아세톤, 아세토니트릴, 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다. 이 중에서 특히 바람직한 것은 비점이 100℃ 이하인 것이다.
또한, 유기 용제의 사용량은, 모노머 혼합물 등 1 몰에 대하여 0∼1,000 ml, 특히 0∼500 ml가 바람직하다. 유기 용제의 사용량이 적은 쪽이 반응 용기가 작아져 경제적이다.
그 후, 필요하다면 촉매의 중화 반응을 행하여, 가수분해 축합물 수용액을 얻는다. 이때, 중화에 사용할 수 있는 알칼리성 물질의 양은, 촉매로서 사용된 산에 대하여 0.1∼2 당량이 바람직하다. 이 알칼리성 물질은 수중에서 알칼리성을 나타내는 것이라면, 임의의 물질이라도 좋다.
이어서, 가수분해 축합물 수용액으로부터 가수분해 축합 반응으로 생성된 알코올 등의 부생물을 감압 제거 등으로 제거하는 것이 바람직하다. 이때 가수분해 축합물 수용액을 가열하는 온도는, 첨가한 유기 용제와 반응에서 발생한 알코올 등의 종류에 따라 다르지만, 바람직하게는 0∼100℃, 보다 바람직하게는 10∼90℃, 더욱 바람직하게는 15∼80℃이다. 또한 이때의 감압도는 제거하여야 할 유기 용제 및 알코올 등의 종류, 배기 장치, 응축 장치 및 가열 온도에 따라 다르지만, 바람직하게는 대기압 이하, 보다 바람직하게는 절대압으로 80 kPa 이하, 더욱 바람직하게는 절대압으로 50 kPa 이하이다. 이때 제거되는 알코올량을 정확히 알기는 어렵지만, 생성된 알코올 등의 대략 80 질량% 이상이 제거되는 것이 바람직하다.
이어서, 가수분해 축합물로부터 가수분해 축합에 사용한 산 촉매를 제거하더라도 좋다. 산 촉매를 제거하는 방법으로서, 물과 가수분해 축합물을 혼합하고, 가수분해 축합물을 유기 용제로 추출한다. 이때 사용하는 유기 용제로서는, 가수분해 축합물을 용해할 수 있고, 물과 혼합시키면 2층 분리되는 것이 바람직하다. 예컨대 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 아세톤, 테트라히드로푸란, 톨루엔, 헥산, 아세트산에틸, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 부탄디올모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 부탄디올모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 부탄디올모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 피루브산에틸, 아세트산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 아세트산t-부틸, 프로피온산t-부틸, 프로필렌글리콜모노t-부틸에테르아세테이트, 감마부티로락톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜틸메틸에테르 등 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
또한, 수용성 유기 용제와 수난용성 유기 용제의 혼합물을 사용하는 것도 가능하다. 예컨대 메탄올-아세트산에틸 혼합물, 에탄올-아세트산에틸 혼합물, 1-프로판올-아세트산에틸 혼합물, 2-프로판올-아세트산에틸 혼합물, 부탄디올모노메틸에테르-아세트산에틸 혼합물, 프로필렌글리콜모노메틸에테르-아세트산에틸 혼합물, 에틸렌글리콜모노메틸에테르-아세트산에틸 혼합물, 부탄디올모노에틸에테르-아세트산에틸 혼합물, 프로필렌글리콜모노에틸에테르-아세트산에틸 혼합물, 에틸렌글리콜모노에틸에테르-아세트산에틸 혼합물, 부탄디올모노프로필에테르-아세트산에틸 혼합물, 프로필렌글리콜모노프로필에테르-아세트산에틸 혼합물, 에틸렌글리콜모노프로필에테르-아세트산에틸 혼합물, 메탄올-메틸이소부틸케톤 혼합물, 에탄올-메틸이소부틸케톤 혼합물, 1-프로판올-메틸이소부틸케톤 혼합물, 2-프로판올-메틸이소부틸케톤 혼합물, 프로필렌글리콜모노메틸에테르-메틸이소부틸케톤 혼합물, 에틸렌글리콜모노메틸에테르-메틸이소부틸케톤 혼합물, 프로필렌글리콜모노에틸에테르-메틸이소부틸케톤 혼합물, 에틸렌글리콜모노에틸에테르-메틸이소부틸케톤 혼합물, 프로필렌글리콜모노프로필에테르-메틸이소부틸케톤 혼합물, 에틸렌글리콜모노프로필에테르-메틸이소부틸케톤 혼합물, 메탄올-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 에탄올-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 1-프로판올-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 2-프로판올-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 프로필렌글리콜모노메틸에테르-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 에틸렌글리콜모노메틸에테르-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 프로필렌글리콜모노에틸에테르-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 에틸렌글리콜모노에틸에테르-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 프로필렌글리콜모노프로필에테르-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 에틸렌글리콜모노프로필에테르-시클로펜틸메틸에테르 혼합물, 메탄올-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 에탄올-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 1-프로판올-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 2-프로판올-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 프로필렌글리콜모노메틸에테르-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 에틸렌글리콜모노메틸에테르-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 프로필렌글리콜모노에틸에테르-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 에틸렌글리콜모노에틸에테르-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 프로필렌글리콜모노프로필에테르-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물, 에틸렌글리콜모노프로필에테르-프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 혼합물 등이 바람직하지만, 조합은 이들에 한정되지 않는다.
한편, 수용성 유기 용제와 수난용성 유기 용제와의 혼합 비율은 적절하게 선정되는데, 수난용성 유기 용제 100 질량부에 대하여, 수용성 유기 용제 0.1∼1,000 질량부, 바람직하게는 1∼500 질량부, 더욱 바람직하게는 2∼100 질량부이다.
이어서, 중성수로 세정하여도 좋다. 이 물은 통상 탈이온수나 초순수라고 불리고 있는 것을 사용하면 된다. 이 물의 양은 가수분해 축합물 용액 1 L에 대하여 0.01∼100 L, 바람직하게는 0.05∼50 L, 보다 바람직하게는 0.1∼5 L이다. 이 세정 방법은, 양쪽을 동일한 용기에 넣어 뒤섞은 후, 정치하여 수층을 분리하면 된다. 세정 횟수는 1회 이상이면 되지만, 10회 이상 세정하더라도 세정한 만큼의 효과는 얻어지지 않기 때문에, 바람직하게는 1∼5회 정도이다.
그 밖에 산 촉매를 제거하는 방법으로서, 이온 교환 수지에 의한 방법이나, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 에폭시 화합물로 중화한 후 제거하는 방법을 들 수 있다. 이들 방법은 반응에 사용된 산 촉매에 맞춰 적절하게 선택할 수 있다.
이때의 수세 조작에 의해, 규소 함유 화합물의 일부가 수층으로 빠져나가, 실질적으로 분획 조작과 동등한 효과가 얻어지고 있는 경우가 있기 때문에, 수세 횟수나 세정수의 양은 촉매 제거 효과와 분획 효과를 감안하여 적절하게 선택하면 된다.
산 촉매가 잔류하고 있는 가수분해 축합물 수용액 및 산 촉매가 제거된 가수분해 축합물 용액의 어느 경우에 있어서도, 최종적인 용제를 가하여 감압에서 용제 교환함으로써 원하는 가수분해 축합물 용액을 얻는다. 이때의 용제 교환 온도는 제거하여야 할 반응 용제나 추출 용제의 종류에 따라 다르지만, 바람직하게는 0∼100℃, 보다 바람직하게는 10∼90℃, 더욱 바람직하게는 15∼80℃이다. 또한 이때의 감압도는 제거하여야 할 추출 용제의 종류, 배기 장치, 응축 장치 및 가열 온도에 따라 다르지만, 바람직하게는 대기압 이하, 보다 바람직하게는 절대압으로 80 kPa 이하, 더욱 바람직하게는 절대압으로 50 kPa 이하이다.
이때, 용제가 변함으로써 가수분해 축합물이 불안정하게 되는 경우가 있다. 이것은 최종적인 용제와 가수분해 축합물과의 상성(compatibility)에 의해 발생하는데, 이것을 방지하기 위해서, 안정제로서 일본 특허공개 2009-126940호 공보의 (0180)∼(0184) 단락에 기재되어 있는 환상 에테르를 치환기로서 갖는 1가 또는 2가 이상의 알코올을 가하더라도 좋다. 가하는 양은 용제 교환 전의 용액 속의 가수분해 축합물 100 질량부에 대하여 0∼25 질량부, 바람직하게는 0∼15 질량부, 보다 바람직하게는 0∼5 질량부이지만, 첨가하는 경우는 0.5 질량부 이상이 바람직하다. 용제 교환 전의 용액에 필요하다면, 환상 에테르를 치환기로서 갖는 1가 또는 2가 이상의 알코올을 첨가하여 용제 교환 조작을 하면 된다.
가수분해 축합물은 어떤 농도 이상으로 농축하면 더욱 축합 반응이 진행되어 유기 용제에 대하여 재용해 불가능한 상태로 변화되어 버릴 우려가 있기 때문에, 적절한 농도의 용액 상태로 해 두는 것이 바람직하다. 또한, 너무 지나치게 묽으면, 용제의 양이 과대하게 되기 때문에, 적절한 농도의 용액 상태로 해 두는 것이 경제적이고 바람직하다. 이때의 농도는 0.1∼20 질량%가 바람직하다.
가수분해 축합물 용액에 가하는 최종적인 용제로서 바람직한 것은 알코올계 용제이며, 특히 바람직한 것은 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 부탄디올 등의 모노알킬에테르 유도체이다. 구체적으로는 부탄디올모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 부탄디올모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 부탄디올모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등이 바람직하다.
이들 용제가 주성분이라면, 보조 용제로서 비알코올계 용제를 첨가하는 것도 가능하다. 이 보조 용제로서는, 아세톤, 테트라히드로푸란, 톨루엔, 헥산, 아세트산에틸, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 피루브산에틸, 아세트산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 아세트산t-부틸, 프로피온산t-부틸, 프로필렌글리콜모노t-부틸에테르아세테이트, 감마부티로락톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜틸메틸에테르 등을 예시할 수 있다.
또, 비점이 180도 이상, 바람직하게는 180도 이상 300도 이하인 고비점 용제를 첨가하는 것도 가능하다. 이 고비점 용제로서는, 1-옥탄올, 2-에틸헥산올, 1-노난올, 1-데칸올, 1-운데칸올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 2,4-펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,5-헥산디올, 2,4-헵탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 글리세린, 아세트산n-노닐, 아세트산에틸렌글리콜모노에틸에테르, 1,2-디아세톡시에탄, 1-아세톡시-2-메톡시에탄, 1,2-디아세톡시프로판, 아세트산디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 아세트산디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노프로필에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노부틸에테르, 아세트산디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산디프로필렌글리콜모노에틸에테르 등을 예시할 수 있다.
또한, 산 촉매를 이용한 다른 반응 조작으로서는, 모노머 혼합물 등 또는 모노머 혼합물 등의 유기 용액에, 물 또는 함수 유기 용제를 첨가하여, 가수분해 반응을 개시시킨다. 이때 촉매는 모노머 혼합물 등 또는 모노머 혼합물 등의 유기 용액에 첨가하더라도 좋고, 물 또는 함수 유기 용제에 첨가해 두더라도 좋다. 반응 온도는 0∼100℃, 바람직하게는 10∼80℃이다. 물의 적하시에 10∼50℃로 가열하고, 그 후 20∼80℃로 승온시켜 숙성시키는 방법이 바람직하다.
유기 용제를 사용하는 경우는 수용성인 것이 바람직하고, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 아세톤, 테트라히드로푸란, 아세토니트릴, 부탄디올모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 부탄디올모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 부탄디올모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등의 다가 알코올 축합물 유도체 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.
유기 용제의 사용량은 모노머 혼합물 등 1 몰에 대하여 0∼1,000 ml, 특히 0∼500 ml가 바람직하다. 유기 용제의 사용량이 적은 쪽이 반응 용기가 작아져 경제적이다. 얻어진 반응 혼합물의 후처리는 상기한 방법과 같은 식으로 후처리하여 베이스 폴리머를 얻을 수 있다.
(합성 방법 3 : 염기 촉매를 이용한 가수분해 축합물의 합성)
또한, 가수분해 축합물은 모노머 혼합물 등을 염기 촉매의 존재 하에 가수분해 축합을 행함으로써 제조할 수 있다. 이때 사용되는 염기 촉매는 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 에틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 에틸메틸아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 시클로헥실아민, 디시클로헥실아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 디메틸모노에탄올아민, 모노메틸디에탄올아민, 트리에탄올아민, 디아자비시클로옥탄, 디아자비시클로노넨, 디아자비시클로운데센, 헥사메틸렌테트라민, 아닐린, N,N-디메틸아닐린, 피리딘, N,N-디메틸아미노피리딘, 피롤, 피페라진, 피롤리딘, 피페리딘, 피콜린, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드, 콜린하이드로옥사이드, 테트라프로필암모늄하이드로옥사이드, 테트라부틸암모늄하이드로옥사이드, 암모니아, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화바륨, 수산화칼슘 등을 들 수 있다. 촉매의 사용량은 모노머 혼합물 등 1 몰에 대하여 1×10-6 몰∼10 몰, 바람직하게는 1×10-5 몰∼5 몰, 보다 바람직하게는 1×10-4 몰∼1 몰이다.
상기한 모노머 혼합물 등으로부터 가수분해 축합에 의해 가수분해 축합물을 얻을 때의 물의 양은 모노머 혼합물 등에 결합하고 있는 가수분해성 치환기 1 몰당 0.1∼50 몰을 첨가하는 것이 바람직하다. 50 몰 이하라면, 반응에 사용하는 장치가 작아져 경제적이 된다.
조작 방법으로서, 촉매 수용액에 모노머 혼합물 등을 첨가하여 가수분해 축합 반응을 개시시킨다. 이때, 촉매 수용액에 유기 용매를 가하더라도 좋고, 모노머 혼합물 등을 유기 용매로 희석해 두더라도 좋고, 양쪽 다 행하더라도 좋다. 반응 온도는 0∼100℃, 바람직하게는 5∼80℃이다. 모노머 혼합물 등의 적하시에 5∼80℃로 온도를 유지하고, 그 후 20∼80℃에서 숙성시키는 방법이 바람직하다.
염기 촉매 수용액에 가할 수 있거나 또는 모노머 혼합물 등을 희석할 수 있는 유기 용매로서는, 산 촉매 수용액에 가할 수 있는 것으로서 예시한 유기 용제와 같은 것이 바람직하게 이용된다. 한편, 유기 용매의 사용량은 경제적으로 반응을 행할 수 있기 때문에, 모노머 혼합물 등 1 몰에 대하여 0∼1,000 ml가 바람직하다.
그 후, 필요하다면 촉매의 중화 반응을 행하여 가수분해 축합물 수용액을 얻는다. 이때, 중화에 사용할 수 있는 산성 물질의 양은 촉매로서 사용된 염기성 물질에 대하여 0.1∼2 당량이 바람직하다. 이 산성 물질은 수중에서 산성을 나타내는 것이면, 임의의 물질이라도 좋다.
이어서, 가수분해 축합물 수용액으로부터 가수분해 축합 반응으로 생성된 알코올 등의 부생물을 감압 제거 등으로 제거하는 것이 바람직하다. 이때 가수분해 축합물 수용액을 가열하는 온도는, 첨가한 유기 용매와 반응에서 발생한 알코올의 종류에 따라 다르지만, 바람직하게는 0∼100℃, 보다 바람직하게는 10∼90℃, 더욱 바람직하게는 15∼80℃이다. 또한 이때의 감압도는 제거하여야 할 유기 용제 및 알코올의 종류, 배기 장치, 응축 장치 및 가열 온도에 따라 다르지만, 바람직하게는 대기압 이하, 보다 바람직하게는 절대압으로 80 kPa 이하, 더욱 바람직하게는 절대압으로 50 kPa 이하이다. 이 때 제거되는 알코올량을 정확히 알기는 어렵지만, 생성된 알코올의 대략 80 질량% 이상이 제거되는 것이 바람직하다.
이어서 가수분해 축합에 사용한 염기 촉매를 제거하기 위해서 가수분해 축합물을 유기 용제로 추출한다. 이때 사용하는 유기 용제로서는, 가수분해 축합물을 용해할 수 있고, 물과 혼합시키면 2층 분리되는 것이 바람직하다. 또한, 수용성 유기 용제와 수난용성 유기 용제의 혼합물을 사용하는 것도 가능하다.
염기 촉매를 제거할 때에 이용되는 유기 용제의 구체예는, 산 촉매를 제거할 때에 이용되는 것으로서 구체적으로 예시한 전술한 유기 용제나, 수용성 유기 용제와 수난용성 유기 용제의 혼합물과 같은 것을 이용할 수 있다.
이어서, 중성수로 세정한다. 이 물은 통상 탈이온수나 초순수라고 불리고 있는 것을 사용하면 된다. 이 물의 양은 가수분해 축합물 용액 1 L에 대하여 0.01∼100 L, 바람직하게는 0.05∼50 L, 보다 바람직하게는 0.1∼5 L이다. 이 세정 방법은 양쪽을 동일한 용기에 넣어 뒤섞은 후, 정치하여 수층을 분리하면 된다. 세정 횟수는 1회 이상이면 되는데, 10회 이상 세정하더라도 세정한 만큼의 효과는 얻어지지 않기 때문에, 바람직하게는 1∼5회 정도이다.
세정이 끝난 가수분해 축합물 용액에 최종적인 용매를 가하여 감압에서 용매 교환함으로써 원하는 가수분해 축합물 용액을 얻는다. 이때의 용매 교환 온도는, 제거하여야 할 추출 용제의 종류에 따라 다르지만, 바람직하게는 0∼100℃, 보다 바람직하게는 10∼90℃, 더욱 바람직하게는 15∼80℃이다. 또한 이때의 감압도는 제거하여야 할 추출 용제의 종류, 배기 장치, 응축 장치 및 가열 온도에 따라 다르지만, 바람직하게는 대기압 이하, 보다 바람직하게는 절대압으로 80 kPa 이하, 더욱 바람직하게는 절대압으로 50 kPa 이하이다.
가수분해 축합물 용액에 가하는 최종적인 용매로서 바람직한 것은 알코올계 용매이며, 특히 바람직한 것은 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 모노알킬에테르, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 모노알킬에테르이다. 구체적으로는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 등이 바람직하다.
이들 용제가 주성분이라면, 보조 용제로서 비알코올계 용제를 첨가하는 것도 가능하다. 또, 비점이 180도 이상, 바람직하게는 180도 이상 300도 이하인 고비점 용제를 첨가하는 것도 가능하다.
이 보조 용제나 고비점 용제의 구체예는, (합성 방법 2)에서 구체적으로 예시한 상술한 보조 용제나, 고비점 용제와 같은 것을 이용할 수 있다.
또한, 염기 촉매를 이용한 다른 반응 조작으로서는, 모노머 혼합물 등 또는 모노머 혼합물 등의 유기 용액에 물 또는 함수 유기 용매를 첨가하여, 가수분해 반응을 개시시킨다. 이때 촉매는 모노머 혼합물 등 또는 모노머 혼합물 등의 유기 용액에 첨가하더라도 좋고, 물 또는 함수 유기 용매에 첨가해 두더라도 좋다. 반응 온도는 0∼100℃, 바람직하게는 10∼80℃이다. 물의 적하시에 10∼50℃로 가열하고, 그 후 20∼80℃로 승온시켜 숙성시키는 방법이 바람직하다.
모노머 혼합물 등의 유기 용액 또는 함수 유기 용매로서 사용할 수 있는 유기 용매로서는 수용성인 것이 바람직하며, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 아세톤, 테트라히드로푸란, 아세토니트릴, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등의 다가 알코올 축합물 유도체 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.
유기 용제의 사용량은 모노머 혼합물 등 1 몰에 대하여 0∼1,000 ml, 특히 0∼500 ml가 바람직하다. 유기 용제의 사용량이 적은 쪽이 반응 용기가 작아져 경제적이다. 얻어진 반응 혼합물의 후처리는 상기한 방법과 같은 식으로 후처리하여 베이스 폴리머를 얻을 수 있다.
상기 합성 방법 1∼3 등에 의해 얻어지는 규소 함유 화합물의 분자량은, 모노머 혼합물 등의 선택뿐만 아니라, 축합시의 반응 조건 제어에 의해 조정할 수 있는데, 중량 평균 분자량이 100,000을 넘는 것을 이용하면, 경우에 따라서는 이물의 발생이나 도포 얼룩짐이 생기는 경우가 있어, 100,000 이하, 보다 바람직하게는 200∼50,000, 나아가서는 300∼30,000인 것을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 중량 평균 분자량에 관한 데이터는, 검출기로서 RI, 용리 용제로서 테트라히드로푸란을 이용한 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 표준 물질로서 폴리스티렌을 이용하여 폴리스티렌 환산으로 분자량을 나타낸 것이다.
〔그 밖의 성분〕
(열가교 촉진제)
본 발명에서는, 열가교 촉진제를 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물에 배합하더라도 좋다. 배합 가능한 열가교 촉진제로서 하기 일반식 (5) 또는 (6)으로 나타내어지는 화합물을 들 수 있다. 구체적으로는, 일본 특허공개 2007-302873호 공보에 기재되어 있는 재료를 첨가할 수 있다.
LaHbX (5)
(식에서, L은 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐 및 세슘 중 어느 것, X는 수산기 또는 탄소수 1∼30의 1가 혹은 2가 이상의 유기산기이며, a는 1 이상의 정수, b는 0 또는 1 이상의 정수이고, a+b는 수산기 또는 유기산기의 가수이다)
MY (6)
(식에서, M은 술포늄, 요오드늄 및 암모늄 중 어느 것이며, Y는 비구핵성 대향 이온이다)
한편, 상기 열가교 촉진제는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 열가교 촉진제의 첨가량은 베이스 폴리머(상기 합성 방법으로 얻어진 규소 함유 화합물) 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0.01∼50 질량부, 보다 바람직하게는 0.1∼40 질량부이다.
(유기산)
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물의 안정성을 향상시키기 위해서, 탄소수가 1∼30인 1가 또는 2가 이상의 유기산을 첨가하는 것이 바람직하다. 이때 첨가하는 산으로서는, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 헵탄산, 옥탄산, 노난산, 데칸산, 올레인산, 스테아린산, 리놀레산, 리놀렌산, 안식향산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 살리실산, 트리플루오로아세트산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 옥살산, 말론산, 메틸말론산, 에틸말론산, 프로필말론산, 부틸말론산, 디메틸말론산, 디에틸말론산, 호박산, 메틸호박산, 글루타르산, 아디프산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 시트르산 등을 예시할 수 있다. 특히 옥살산, 말레산, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 시트르산 등이 바람직하다. 또한, 안정성을 유지하기 위해서 2종 이상의 산을 혼합하여 사용하더라도 좋다. 첨가량은 조성물에 포함되는 규소 100 질량부에 대하여 0.001∼25 질량부, 바람직하게는 0.01∼15 질량부, 보다 바람직하게는 0.1∼5 질량부이다.
혹은, 상기 유기산을 조성물의 pH로 환산하여, 바람직하게는 0≤pH≤7, 보다 바람직하게는 0.3≤pH≤6.5, 더욱 바람직하게는 0.5≤pH≤6이 되도록 배합하는 것이 좋다.
(물)
본 발명에서는 조성물에 물을 첨가하더라도 좋다. 물을 첨가하면, 규소 함유화합물이 수화되기 때문에, 리소그래피 성능이 향상된다. 조성물의 용제 성분에 있어서의 물의 함유율은 0 질량% 초과 50 질량% 미만이며, 특히 바람직하게는 0.3∼30 질량%, 더욱 바람직하게는 0.5∼20 질량%이다. 각각의 성분은, 첨가량이 지나치게 많으면, 규소 함유 레지스트 하층막의 균일성이 나빠져, 최악의 경우는 작은 구멍이 발생해 버릴 우려가 있다. 한편, 첨가량이 적으면 리소그래피 성능이 저하될 우려가 있다.
물을 포함하는 전체 용제의 사용량은 베이스 폴리머 100 질량부에 대하여 100∼100,000 질량부, 특히 200∼50,000 질량부가 적합하다.
(광산 발생제)
본 발명에서는 조성물에 광산 발생제를 첨가하더라도 좋다. 본 발명에서 사용되는 광 산발생제로서, 구체적으로는 일본 특허공개 2009-126940호 공보 (0160)∼(0179) 단락에 기재되어 있는 재료를 첨가할 수 있다.
(안정제)
또한, 본 발명에서는 조성물에 안정제를 첨가할 수 있다. 안정제로서 환상에테르를 치환기로서 갖는 1가 또는 2가 이상의 알코올을 첨가할 수 있다. 특히 일본 특허공개 2009-126940호 공보 (0181)∼(0182) 단락에 기재되어 있는 안정제를 첨가하면 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물의 안정성을 향상시킬 수 있다.
(계면활성제)
또한, 본 발명에서는 필요에 따라서 조성물에 계면활성제를 배합하는 것이 가능하다. 이러한 것으로서 구체적으로는 일본 특허공개 2009-126940호 공보 (0185) 단락에 기재되어 있는 재료를 첨가할 수 있다.
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물은 2층 레지스트법이나 3층 레지스트법 등의 소위 다층 레지스트법에 적합하게 사용할 수 있다. 본 발명의 다층 레지스트법으로서는 예컨대 이하의 방법을 들 수 있다.
(패턴 형성 방법 1)
본 발명에서는, 피가공체 상에 도포형 유기 하층막 재료를 이용하여 유기 하층막을 형성하고, 이 유기 하층막 위에 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 규소 함유 레지스트 하층막을 형성하고, 이 규소 함유 레지스트 하층막 상에 화학 증폭형 레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트막을 형성하고, 가열 처리 후에 고에너지선으로 상기 포토레지스트막을 노광하고, 알칼리 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트막의 노광부를 용해시킴으로써 포지티브형 패턴을 형성하고, 이 패턴이 형성된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 규소 함유 레지스트 하층막에 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 이 패턴이 전사된 규소 함유 레지스트 하층막을 마스크로 하여 상기 유기 하층막을 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 또한 이 패턴이 전사된 유기 하층막을 마스크로 하여 상기 피가공체에 드라이 에칭으로 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공할 수 있다.
(패턴 형성 방법 2)
또한, 본 발명에서는, 피가공체 상에 탄소를 주성분으로 하는 유기 하드 마스크를 CVD법으로 형성하고, 이 유기 하드 마스크 위에 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 규소 함유 레지스트 하층막을 형성하고, 이 규소 함유 레지스트 하층막 상에 화학 증폭형 레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트막을 형성하고, 가열 처리 후에 고에너지선으로 상기 포토레지스트막을 노광하고, 알칼리 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트막의 노광부를 용해시킴으로써 포지티브형 패턴을 형성하고, 이 패턴이 형성된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 규소 함유 레지스트 하층막에 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 이 패턴이 전사된 규소 함유 레지스트 하층막을 마스크로 하여 상기 유기 하드 마스크를 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 또한 이 패턴이 전사된 유기 하드 마스크를 마스크로 하여 상기 피가공체에 드라이 에칭으로 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 형성한 규소 함유 레지스트 하층막을 사용하여 포지티브 현상으로 패턴을 형성하면, 상기한 것과 같이, CVD막이나 유기 하층막의 조합을 최적화함으로써, 사이즈 변환차를 생기게 하는 일없이, 포토레지스트로 형성된 패턴을 기판 상에 형성할 수 있다.
이 경우, 방향족 골격을 갖는 유기막을 이용하면, 리소그래피 공정에 있어서의 반사 방지 효과가 있을 뿐만 아니라, 기판을 에칭 가공할 때에 충분한 에칭 내성을 갖는 유기막으로 되어, 에칭 가공이 가능하게 된다.
본 발명의 패턴의 형성 방법에 사용되는 규소 함유 레지스트 하층막은, 본 발명의 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물로부터, 포토레지스트막과 마찬가지로 스핀코트법 등으로 피가공체 상에 제작하는 것이 가능하다. 스핀코트 후, 용제를 증발시키고, 포토레지스트막과의 믹싱 방지를 위해, 가교 반응을 촉진시키기 위해서 베이크를 하는 것이 바람직하다. 베이크 온도는 50∼500℃의 범위 내이고, 베이크 시간은 10∼300초의 범위 내가 바람직하게 이용된다. 특히 바람직한 온도 범위는 제조되는 디바이스의 구조에 따라 다르기도 하지만, 디바이스에의 열 손상을 적게 하기 위해서, 400℃ 이하가 바람직하다.
여기서, 피가공체는, 반도체 장치 기판, 또는 반도체 장치 기판에 피가공층(피가공 부분)으로서, 금속막, 금속탄화막, 금속산화막, 금속질화막, 금속산화탄화막 및 금속산화질화막 중 어느 것이 성막된 것 등을 이용할 수 있다.
반도체 장치 기판으로서는 실리콘 기판이 일반적으로 이용되지만, 특별히 한정되는 것은 아니며, Si, 아모르퍼스 실리콘(α-Si), p-Si, SiO2, SiN, SiON, W, TiN, Al 등으로 피가공층과 다른 재질인 것이 이용되더라도 좋다.
피가공체를 구성하는 금속으로서는, 규소, 티탄, 텅스텐, 하프늄, 지르코늄, 크롬, 게르마늄, 구리, 알루미늄 및 철 중 어느 것 혹은 이들의 합금인 것을 이용할 수 있다. 이러한 금속을 포함하는 피가공층으로서는, 예컨대 Si, SiO2, SiN, SiON, SiOC, p-Si, α-Si, TiN, WSi, BPSG, SOG, Cr, CrO, CrON, MoSi, W, W-Si, Al, Cu, Al-Si 등 및 여러 가지 저유전막 및 그 에칭 스토퍼막이 이용되고, 통상 1∼10,000 nm, 특히 5∼5,000 nm의 두께로 형성할 수 있다.
본 발명에서는, 레지스트 패턴의 형성에 있어서, 파장이 300 nm 이하, 바람직하게는 15 nm 이상 300 nm 이하인 빛 혹은 EUV광을 이용한 포토리소그래피법 또는 전자선 묘화를 이용하는 것이 바람직하다.
예컨대, 본 발명에 있어서의 노광 공정을, ArF 엑시머 레이저광에 의한 노광 프로세스로 하는 경우, 포토레지스트막으로서는 통상의 ArF 엑시머 레이저광용 레지스트 조성물을 어느 것이나 사용할 수 있다.
이러한 ArF 엑시머 레이저광용 레지스트 조성물은 다수의 후보가 이미 공지되어 있으며, 이미 공지된 수지를 크게 나누면, 폴리(메트)아크릴계, COMA(Cyclo Olefin Maleic Anhydride)계, COMA-(메트)아크릴하이브리드계, ROMP(Ring Opening Methathesis Polymerization)계, 폴리노르보르넨계 등이 있는데, 이 중, 폴리(메트)아크릴계 수지를 사용한 레지스트 조성물은 측쇄에 지환식 골격을 도입함으로써 에칭 내성을 확보하고 있기 때문에, 해상 성능은 다른 수지계와 비교하여 우수하다.
패턴 형성 방법에서는, 규소 함유 레지스트 하층막을 형성한 후, 그 위에 포토레지스트 조성물 용액을 이용하여 포토레지스트막을 형성하는데, 규소 함유 레지스트 하층막과 마찬가지로 스핀코트법이 바람직하게 이용된다. 포토레지스트 조성물을 스핀코트 후, 프리베이크를 하는데, 온도는 80∼180℃의 범위이고, 시간은 10∼300초의 범위가 바람직하다. 그 후 노광을 하고, 알칼리 현상을 하여, 레지스트 패턴을 얻는다. 또한, 노광 후에 포스트 익스포져 베이크(PEB)를 행하는 것이 바람직하다.
본 발명의 패턴 형성 방법에 있어서, 규소 함유 레지스트 하층막을 에칭하는 경우, 프론계 가스 등의 불소를 함유한 가스를 주성분으로 한 가스를 사용하여 에칭을 행한다. 포토레지스트막의 막 감소를 작게 하기 위해서, 규소 함유 레지스트 하층막은 상기 가스에 대한 에칭 속도가 빠른 것이 바람직하다.
이러한 다층 레지스트법에 있어서, 상술된 것과 같이, 규소 함유 레지스트 하층막과 피가공체와의 사이에 유기 하층막을 마련하고, 유기 하층막을 피가공체의 에칭 마스크로 하는 경우에는, 유기 하층막은 방향족 골격을 갖는 유기막인 것이 바람직하지만, 유기 하층막이 희생막인 경우 등에는 규소 함량이 15 질량% 이하인 것이라면 규소 함유 유기 하층막이라도 좋다.
이러한 유기 하층막으로서는, 이미 3층 레지스트법용 혹은 실리콘 레지스트 조성물을 사용한 2층 레지스트법용의 하층막으로서 공지된 것, 일본 특허공개 2005-128509호 공보에 기재된 4,4'-(9-플루오레닐리덴)비스페놀노볼락 수지(분자량 11,000) 외에, 노볼락 수지를 비롯한 다수의 수지로서, 2층 레지스트법이나 3층 레지스트법의 유기 하층막 재료로서 공지된 것 등을 사용할 수 있다. 또한, 통상의 노볼락보다도 내열성을 올리고 싶은 경우에는, 6,6'-(9-플루오레닐리덴)-디(2-나프톨)노볼락 수지와 같은 다환식 골격을 넣는 것도 가능하며, 또한 폴리이미드계 수지를 선택할 수도 있다(예컨대, 일본 특허공개 2004-153125호 공보).
상기 유기 하층막은 조성물 용액을 이용하여 포토레지스트 조성물과 마찬가지로 스핀코트법 등으로 피가공체 상에 형성하는 것이 가능하다. 스핀코트법 등으로 유기 하층막을 형성한 후, 유기 용제를 증발시키기 위해서 베이크를 하는 것이 바람직하다. 베이크 온도는 80∼300℃의 범위 내이고, 베이크 시간은 10∼300초의 범위 내가 바람직하게 이용된다.
또한, 특별히 한정되는 것은 아니며, 에칭 가공 조건에 따라 다르지만, 유기 하층막의 두께는 5 nm 이상, 특히 20 nm 이상이며, 50,000 nm 이하인 것이 바람직하고, 본 발명에 따른 규소 함유 레지스트 하층막의 두께는 1 nm 이상 500 nm 이하인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 300 nm 이하, 더욱 바람직하게는 200 nm 이하이다. 또한, 포토레지스트막의 두께는 1 nm 이상 200 nm 이하인 것이 바람직하다.
실시예
이하, 합성예 및 실시예와 비교예를 나타내어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 기재에 의해서 한정되는 것은 아니다. 한편, 하기 예에서 %는 질량%를 나타내고, 분자량 측정은 GPC에 의했다.
베이스 폴리머의 합성
[합성예 A-1]
페닐트리메톡시실란(모노머 100) 5.0 g, 메틸트리메톡시실란(모노머 101) 17.0 g, 테트라에톡시실란(모노머 103) 52.2 g 및 에틸보론산(모노머 120) 7.4 g의 모노머 혼합물을 질소 분위기중 100℃에서 3시간 가열하고, GPC로 에틸보론산의 소실을 확인하여, 붕소 함유 실란 혼합물을 얻었다. 이 혼합물을 실온으로 냉각하여, 메탄올 120 g, 메탄술폰산 1 g 및 탈이온수 60 g의 혼합물에 실온 하에 30분 걸쳐 첨가하고, 첨가 종료 후 12시간 40℃로 유지하여 가수분해 축합시켰다. 반응 종료 후, 프로필렌글리콜에틸에테르(PGEE) 100 g을 가하고, 부생 알코올을 감압에서 유거했다. 거기에 아세트산에틸 1000 ml 및 PGEE 200 g을 가하여 수층을 분액했다. 남은 유기층에 이온교환수 100 ml를 가하여 교반, 정치, 분액했다. 이것을 3회 반복했다. 남은 유기층을 감압에서 농축하여 붕소를 포함하는 규소 함유 화합물 A-1의 PGEE 용액 250 g(폴리머 농도 8.7%)을 얻었다. 얻어진 용액을 이온 크로마토그래프로 메탄술폰산 이온을 분석했지만, 검출되지 않았다. 이것의 폴리스티렌 환산 분자량을 측정한 바, Mw=3,300이었다.
[합성예 A-1]과 같은 조건으로 표 1에 나타내어져 있는 모노머를 사용하여 [합성예 A-2]에서부터 [합성예 A-13]까지 행하여 각각 목적물을 얻었다.
[합성예 A-14]
페닐트리메톡시실란(모노머 100) 9.9 g, 메틸트리메톡시실란(모노머 101) 20.4 g, 테트라메톡시실란(모노머 102) 38.1 g 및 2-티오펜보론산(모노머 133) 7.8 g의 모노머 혼합물을, 메탄올 120 g, 메탄술폰산 1 g 및 탈이온수 60 g의 혼합물에 실온 하에 30분 걸쳐 첨가하고, 첨가 종료 후 12시간 40℃로 유지하여 가수분해 축합시켰다. 반응 종료 후, 프로필렌글리콜에틸에테르(PGEE) 100 g을 가하고, 부생 알코올을 감압에서 유거했다. 거기에 아세트산에틸 1000 ml 및 PGEE 200 g을 가하여 수층을 분액했다. 남은 유기층에 이온교환수 100 ml를 가하여 교반, 정치, 분액했다. 이것을 3회 반복했다. 남은 유기층을 감압에서 농축하여 붕소를 포함하는 규소 함유 화합물 A-14의 PGEE 용액 250 g(폴리머 농도 12.9%)을 얻었다. 얻어진 용액을 이온 크로마토그래프로 메탄술폰산 이온을 분석했지만, 검출되지 않았다. 이것의 폴리스티렌 환산 분자량을 측정한 바, Mw=2,100이었다.
[합성예 A-14]와 같은 조건으로 표 1에 나타내어져 있는 모노머를 사용하여 [합성예 A-15]에서부터 [합성예 A-39]까지 행하여 각각 목적물을 얻었다.
[표 1]
Figure pat00016
[표 2]
Figure pat00017
[실시예, 비교예]
상기 합성예에서 얻어진 규소 함유 화합물 (A-1)∼(A-39), 산, 열가교 촉진제, 용제, 기타 첨가제 등을 표 3-1, 표 3-2에 나타내는 비율로 혼합하고, 0.2 ㎛의 불소 수지제 필터로 여과함으로써, 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 용액을 각각 조제하여, 각각 Sol. 1∼51로 했다.
[표 3-1]
Figure pat00018
[표 3-2]
Figure pat00019
TPSOH : 수산화트리페닐술포늄
TPSHCO3 : 탄산모노(트리페닐술포늄)
TPSOx : 옥살산모노(트리페닐술포늄)
TPSTFA : 트리플루오로아세트산트리페닐술포늄
TPSOCOPh : 안식향산트리페닐술포늄
TPSH2PO4 : 인산모노(트리페닐술포늄)
TPSMA : 말레산모노(트리페닐술포늄)
TPSNf : 노나플루오로부탄술폰산트리페닐술포늄
QMAMA : 말레산모노(테트라메틸암모늄)
QMATFA : 트리플루오로아세트산테트라메틸암모늄
QBANO3 : 질산테트라부틸암모늄
Ph2ICl : 염화디페닐요오드늄
PGMEA : 아세트산프로필렌글리콜모노메틸에테르
GBL : 감마부티로락톤
이어서, 상기 조성물 용액 Sol. 1∼51을 실리콘 웨이퍼 상에 회전 도포하고 240℃에서 1분간 가열 성막하여 막 두께 35 nm의 규소 함유 레지스트 하층막 Film 1∼51을 형성했다. 이들 막과 후술하는 스핀온 카본막 및 포토레지스트막(각각 실리콘 웨이퍼 상에 회전 도포한 것)을 도쿄일렉트론(주) 제조 드라이 에칭 장치 Telius SP를 이용하여 하기의 에칭 조건 (1) 및 (2)로 에칭 시험을 실시했다. 그 결과를 표 4-1, 표 4-2에 나타낸다.
(1) CHF3/CF4계 가스에서의 에칭 시험
에칭 조건(1) :
챔버 압력 10 Pa
Upper/Lower RF 파워 500 W/300 W
CHF3 가스 유량 50 ml/min
CF4 가스 유량 150 ml/min
Ar 가스 유량 100 ml/min
처리 시간 10 sec
(2) CO2/N2계 가스에서의 에칭 시험
에칭 조건(2) :
챔버 압력 2 Pa
Upper/Lower RF 파워 1000 W/300 W
CO2 가스 유량 300 ml/min
N2 가스 유량 100 ml/min
Ar 가스 유량 100 ml/min
처리 시간 15 sec
[표 4-1]
Figure pat00020
[표 4-2]
Figure pat00021
패턴 에칭 시험
우선, 실리콘 웨이퍼 상에, 신에츠가가쿠고교(주) 제조 스핀온 카본막 ODL-50(카본 함유량 80 질량%)을 UL-1(유기 하층막)로서 막 두께 200 nm로 형성했다.
이어서, 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 용액 Sol. 1∼51을 도포하고 240℃에서 60초간 베이크하여 막 두께 35 nm의 규소 함유 레지스트 하층막을 형성했다. 또한 그 위에 표 5에 기재한 ArF 레지스트 용액을 도포하여 110℃에서 60초간 베이크하여 막 두께 100 nm의 포토레지스트막을 형성했다.
이어서, ArF 액침 노광 장치((주)니콘 제조; NSR-S610C, NA 1.30, σ0.98/0.65, 35도 다이폴 S 편광 조명, 6% 하프톤 위상 시프트 마스크)로 노광하고, 100℃에서 60초간 베이크(PEB)하고, 2.38 질량% 테트라메틸암모늄히드록시드(TMAH) 수용액으로 30초간 현상하여, 43 nm 1:1의 포지티브형의 라인&스페이스 패턴을 얻었다.
[표 5]
Figure pat00022
Figure pat00023
이어서, 레지스트 패턴을 마스크로 하여 규소 함유 레지스트 하층막의 가공을 도쿄일렉트론(주) 제조 드라이 에칭 장치 Telius SP를 이용하여 조건(3)으로 드라이 에칭하고, 패턴의 단면 형상을 (주)히타치세이사쿠쇼 제조 전자현미경(S-4700)으로, 에칭 가공 후의 패턴 거칠기를 (주)히타치하이테크놀로지즈 제조 전자현미경(CG4000)으로 각각 형상을 비교하여 표 6-1, 표 6-2에 정리했다.
(3) CHF3/CF4계 가스에서의 패턴 에칭 시험
에칭 조건 (3) :
챔버 압력 10 Pa
Upper/Lower RF 파워 500 W/300 W
CHF3 가스 유량 50 ml/min
CF4 가스 유량 150 ml/min
Ar 가스 유량 100 ml/min
처리 시간 40 sec
[표 6-1]
Figure pat00024
[표 6-2]
Figure pat00025
표 4-1, 표 4-2에 나타내는 것과 같이, 본 발명의 조성물을 이용하여 형성한 규소 함유 막의 CHF3/CF4 가스 에칭의 속도는, B 원자를 도입했기 때문에 ArF 레지스트보다도 에칭 속도는 충분히 빠르다. 한편, CO2/N2 가스 에칭 속도는, 유기 하층막보다 충분히 느려, B 원자를 도입하더라도 영향은 없다. 표 6-1, 표 6-2에 나타내는 것과 같이 현상 후의 레지스트 형상, 규소 함유 레지스트 하층막 가공 에칭 후의 단면 형상 및 패턴 거칠기도 본 발명은 양호하다는 것이 확인되었다.
또한, 비교예에서는, B 원자가 도입되지 않은 경우, 규소 함유 레지스트 하층막을 에칭하고 있을 때에 상층 레지스트와의 에칭 선택성의 차가 약간밖에 보이지 않아, 이에 의해 에칭 후에 패턴 거칠기의 열화로서 관찰되었다.
한편, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 상기 실시형태는 예시이며, 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 지니고, 동일한 작용 효과를 발휘하는 것은 어떠한 것이더라도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.

Claims (14)

  1. 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 유기 붕소 화합물 및 그 축합물로 이루어지는 군에서 선택되는 화합물(A) 1종 이상과, 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 규소 화합물(B) 1종 이상을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
    R1 m0B(OH)m1(OR)(3-m0-m1) (1)
    (식에서, R은 탄소수 1∼6의 유기기이며, 2개의 OR이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋고, R1은 탄소수 1∼30의 유기기이며, 2개의 R1이 결합하여 환상 유기기를 형성하더라도 좋다. m0은 1 또는 2, m1은 0, 1 또는 2이며, 1≤m0+m1≤3이다)
    R10 m10R11 m11R12 m12Si(OR13)(4-m10-m11-m12) (2)
    (식에서, R13은 탄소수 1∼6의 유기기이며, R10, R11, R12는 각각 수소 원자 또는 탄소수 1∼30의 1가의 유기기이고, m10, m11, m12는 0 또는 1이며, 0≤m10+m11+m12≤3이다)
  2. 제1항에 있어서, 상기 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물이, 상기 화합물(A), 상기 화합물(B) 및 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 화합물(C)을 포함하는 혼합물의, 축합물 또는 가수분해 축합물 혹은 그 양쪽을 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
    U(OR2)m2(OR3)m3(O)m4 (3)
    (식에서, R2, R3은 수소 원자, 탄소수 1∼30의 유기기이며, m2+m3+m4는 U의 종류에 의해 결정되는 가수이고, m2, m3, m4는 0 이상의 정수, U는 주기율표의 III족, IV족 또는 V족의 원소로서 탄소 및 규소를 제외한 것이다)
  3. 제2항에 있어서, 상기 일반식(3)에서의 U가, 붕소, 알루미늄, 갈륨, 이트륨, 게르마늄, 티탄, 지르코늄, 하프늄, 비스무트, 주석, 인, 바나듐, 비소, 안티몬, 니오븀 및 탄탈 중 어느 것인 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 비점이 180도 이상인 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
  5. 제2항에 있어서, 비점이 180도 이상인 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
  6. 제3항에 있어서, 비점이 180도 이상인 용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물.
  7. 피가공체 상에 도포형 유기 하층막 재료를 이용하여 유기 하층막을 형성하고, 이 유기 하층막 위에 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 기재한 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 규소 함유 레지스트 하층막을 형성하고, 이 규소 함유 레지스트 하층막 상에 화학 증폭형 레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트막을 형성하고, 가열 처리 후에 고에너지선으로 상기 포토레지스트막을 노광하고, 알칼리 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트막의 노광부를 용해시킴으로써 포지티브형 패턴을 형성하고, 이 패턴이 형성된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 규소 함유 레지스트 하층막에 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 이 패턴이 전사된 규소 함유 레지스트 하층막을 마스크로 하여 상기 유기 하층막을 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 또한 이 패턴이 전사된 유기 하층막을 마스크로 하여 상기 피가공체에 드라이 에칭으로 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  8. 피가공체 상에 탄소를 주성분으로 하는 유기 하드 마스크를 CVD법으로 형성하고, 이 유기 하드 마스크 위에 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 기재한 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물을 이용하여 규소 함유 레지스트 하층막을 형성하고, 이 규소 함유 레지스트 하층막 상에 화학 증폭형 레지스트 조성물을 이용하여 포토레지스트막을 형성하고, 가열 처리 후에 고에너지선으로 상기 포토레지스트막을 노광하고, 알칼리 현상액을 이용하여 상기 포토레지스트막의 노광부를 용해시킴으로써 포지티브형 패턴을 형성하고, 이 패턴이 형성된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 규소 함유 레지스트 하층막에 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 이 패턴이 전사된 규소 함유 레지스트 하층막을 마스크로 하여 상기 유기 하드 마스크를 드라이 에칭으로 패턴 전사하고, 또한 이 패턴이 전사된 유기 하드 마스크를 마스크로 하여 상기 피가공체에 드라이 에칭으로 패턴을 전사하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 피가공체로서, 반도체 장치 기판, 또는 이 반도체 장치 기판에 금속막, 금속탄화막, 금속산화막, 금속질화막, 금속산화탄화막 및 금속산화질화막 중 어느 것이 성막된 것을 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 피가공체로서, 반도체 장치 기판, 또는 이 반도체 장치 기판에 금속막, 금속탄화막, 금속산화막, 금속질화막, 금속산화탄화막 및 금속산화질화막 중 어느 것이 성막된 것을 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 피가공체를 구성하는 금속이 규소, 티탄, 텅스텐, 하프늄, 지르코늄, 크롬, 게르마늄, 구리, 알루미늄 및 철 중 어느 것 혹은 이들의 합금인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  12. 제10항에 있어서, 상기 피가공체를 구성하는 금속이 규소, 티탄, 텅스텐, 하프늄, 지르코늄, 크롬, 게르마늄, 구리, 알루미늄 및 철 중 어느 것 혹은 이들의 합금인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  13. 제7항에 있어서, 레지스트 패턴의 형성에 있어서, 파장이 300 nm 이하인 빛 혹은 EUV광을 이용한 포토리소그래피법 또는 전자선 묘화를 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  14. 제8항에 있어서, 레지스트 패턴의 형성에 있어서, 파장이 300 nm 이하인 빛 혹은 EUV광을 이용한 포토리소그래피법 또는 전자선 묘화를 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
KR1020120135296A 2011-11-29 2012-11-27 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법 KR101767692B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011260294 2011-11-29
JPJP-P-2011-260294 2011-11-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130060137A true KR20130060137A (ko) 2013-06-07
KR101767692B1 KR101767692B1 (ko) 2017-08-11

Family

ID=47262959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120135296A KR101767692B1 (ko) 2011-11-29 2012-11-27 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8945820B2 (ko)
EP (1) EP2599818B1 (ko)
JP (1) JP5798102B2 (ko)
KR (1) KR101767692B1 (ko)
TW (1) TWI506377B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160040435A (ko) * 2014-10-03 2016-04-14 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 도포형 bpsg막 형성용 조성물, 기판, 및 패턴형성방법

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5746005B2 (ja) * 2011-11-29 2015-07-08 信越化学工業株式会社 ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
JP5768788B2 (ja) * 2012-09-21 2015-08-26 信越化学工業株式会社 レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
JP5756134B2 (ja) 2013-01-08 2015-07-29 信越化学工業株式会社 金属酸化物含有膜形成用組成物及びパターン形成方法
JP5859466B2 (ja) * 2013-01-08 2016-02-10 信越化学工業株式会社 チタン含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
JP6215777B2 (ja) * 2013-06-27 2017-10-18 信越化学工業株式会社 塗布型ｂｐｓｇ膜形成用組成物、該組成物で膜を形成した基板、及び前記組成物を用いたパターン形成方法
JP6114157B2 (ja) 2013-10-02 2017-04-12 信越化学工業株式会社 ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
JP6466650B2 (ja) * 2014-04-03 2019-02-06 信越化学工業株式会社 レジスト組成物の製造方法
JP6250513B2 (ja) 2014-10-03 2017-12-20 信越化学工業株式会社 塗布型ケイ素含有膜形成用組成物、基板、及びパターン形成方法
US9791779B2 (en) 2014-10-16 2017-10-17 Tokyo Electron Limited EUV resist etch durability improvement and pattern collapse mitigation
US9580623B2 (en) * 2015-03-20 2017-02-28 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Patterning process using a boron phosphorus silicon glass film
WO2016167892A1 (en) * 2015-04-13 2016-10-20 Honeywell International Inc. Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications
US10082736B2 (en) 2017-01-13 2018-09-25 International Business Machines Corporation Approach to lowering extreme ultraviolet exposure dose for inorganic hardmasks for extreme ultraviolet patterning
CN110488407B (zh) * 2019-08-05 2021-09-03 深圳市三利谱光电科技股份有限公司 局部具有偏振差异的偏光片及其制备方法
KR20230056187A (ko) 2021-10-20 2023-04-27 에스케이머티리얼즈퍼포먼스 주식회사 보론 화합물을 이용한 고두께 하드마스크용 수지 조성물
WO2023162780A1 (ja) * 2022-02-28 2023-08-31 Jsr株式会社 半導体基板の製造方法及び組成物
CN116285658B (zh) * 2022-09-09 2024-04-02 湖北铁神新材料有限公司 耐热型硼钛锆硅氧八边形结构树脂涂层材料的制备及应用
WO2024128157A1 (ja) * 2022-12-15 2024-06-20 日産化学株式会社 レジスト下層膜形成用組成物

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07183194A (ja) 1993-12-24 1995-07-21 Sony Corp 多層レジストパターン形成方法
JPH07181688A (ja) 1993-12-24 1995-07-21 Sony Corp 多層レジストパターン形成方法
US6420088B1 (en) 2000-06-23 2002-07-16 International Business Machines Corporation Antireflective silicon-containing compositions as hardmask layer
JP4187941B2 (ja) * 2001-03-14 2008-11-26 リンテック株式会社 ホウ素含有ポリオルガノシルセスキオキサン及び接着剤組成物
AU2002329596A1 (en) 2002-07-11 2004-02-02 International Business Machines Corporation Antireflective silicon-containing compositions as hardmask layer
JP2004153125A (ja) 2002-10-31 2004-05-27 Fujitsu Ltd 加工用マスクの形成方法及び半導体装置の製造方法
US7303855B2 (en) 2003-10-03 2007-12-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photoresist undercoat-forming material and patterning process
JP4355943B2 (ja) 2003-10-03 2009-11-04 信越化学工業株式会社 フォトレジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法
JP4716037B2 (ja) 2006-04-11 2011-07-06 信越化学工業株式会社 ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法
EP1845132B8 (en) 2006-04-11 2009-04-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method
US8652750B2 (en) 2007-07-04 2014-02-18 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method
JP4716044B2 (ja) 2007-07-04 2011-07-06 信越化学工業株式会社 ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法
JP4793592B2 (ja) 2007-11-22 2011-10-12 信越化学工業株式会社 金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法
US20110021736A1 (en) * 2008-03-04 2011-01-27 Bizhong Zhu Polyborosiloxane and Method of Preparing Same
JP5015891B2 (ja) 2008-10-02 2012-08-29 信越化学工業株式会社 金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜形成基板及びパターン形成方法
JP4790786B2 (ja) * 2008-12-11 2011-10-12 信越化学工業株式会社 塗布型ケイ素含有膜の剥離方法
JP5590354B2 (ja) * 2010-02-25 2014-09-17 日産化学工業株式会社 アミック酸を含むシリコン含有レジスト下層膜形成組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160040435A (ko) * 2014-10-03 2016-04-14 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 도포형 bpsg막 형성용 조성물, 기판, 및 패턴형성방법

Also Published As

Publication number Publication date
US8945820B2 (en) 2015-02-03
US20130137271A1 (en) 2013-05-30
TWI506377B (zh) 2015-11-01
TW201327061A (zh) 2013-07-01
JP2013137512A (ja) 2013-07-11
EP2599818A1 (en) 2013-06-05
JP5798102B2 (ja) 2015-10-21
KR101767692B1 (ko) 2017-08-11
EP2599818B1 (en) 2017-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101767692B1 (ko) 규소 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법
KR101778430B1 (ko) 패턴 형성 방법
KR101737667B1 (ko) 규소 함유 표면개질제, 이것을 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법
KR102062920B1 (ko) 규소 화합물, 규소 함유 화합물, 이것을 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법
KR101735856B1 (ko) 레지스트 하층막 형성용 조성물, 및 패턴 형성 방법
KR101737666B1 (ko) 규소 함유 표면개질제, 이것을 포함하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 패턴 형성 방법
JP5746005B2 (ja) ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
JP5038354B2 (ja) ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、ケイ素含有反射防止膜形成基板及びパターン形成方法
JP5453361B2 (ja) ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法
JP6250514B2 (ja) 塗布型ｂｐｓｇ膜形成用組成物、基板、及びパターン形成方法
JP5830041B2 (ja) ポリシロキサン含有レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたパターン形成方法
KR20120022673A (ko) 규소 함유막 형성용 조성물, 규소 함유막 형성 기판, 및 이를 이용한 패턴 형성 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant