KR20130043250A - 기상 증착 소스를 위한 정적 폐쇄 밸브 - Google Patents

Abstract

본 발명은 두 개의 구역이 구비된 용기를 포함하는 기상 증착 소스를 개시한다. 제 1 구역은 증기의 생성을 위한 것이다. 제 1 구역에는 물질을 위한 리셉터클 및 상기 리셉터클 내에 배치된 물질을 가열하기 위한 수단이 구비된다. 제 2 구역은, 상기 기상 물질이 개구를 통해 상기 용기의 외부를 향해 전달되도록, 상기 생성 구역과 연통되며 적어도 하나의 개구가 구비된 용기를 포함하는 확산 구역이다. 상기 소스는, 상기 오리피스의 차폐를 위한 수단, 및 상기 확산 구역의 체적을 변화시키지 않고 활성 폐쇄 위치와 오리피스 개방 위치 사이에서의 폐쇄를 위한 수단을 이동시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

기상 증착 소스를 위한 정적 폐쇄 밸브{CONSTANT VOLUME CLOSURE VALVE FOR VAPOR PHASE DEPOSITION SOURCE}

본 발명의 일반적인 분야는 마이크로-전자 산업에서 물질들의 기상 증착에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 불편함 없이 중단 가능한 큰 표면들 상의 연속적인 증착을 가능하게 하는 증기 소스의 생성에 관한 것이다.

전자 및 광학 부품 수의 꾸준한 증가 및 동일 소자 내에서의 이들의 집적은 이러한 소자들을 구성하는 얇은 층들을 형성하기 위한 기판 상에, 다양한 물질들을 증착하기 위한 정교한 기술의 개발을 이끌어 왔다.

기상 증착은 매우 넓은 범위의 공정들 특히, 기상 화학 증착(vapor-phase chemical deposition)으로 설명되며 "화학 기상 증착(chemical vapor-phase deposition)" 이라는 이들의 영어 약자 CVPD로 표시되는 공정들을 아우른다. 그 명칭에서 암시하는 바와 같이, 이러한 타입의 증착은, 예를 들면, 증착 챔버 안으로의 전구체 가스의 사전 유입에 의해, 또는 기판 상에 이미 증착된 물질층에 대해 발생하는 그리고 기판 자체에 대해 발생하는 화학 반응에 의해, 작동 도중 일어나는 화학 반응을 포함한다. 다른 타입의 화학 기상 증착들은 그러한 화학 반응들을 포함하지 않는다. 이것들은 제어되는 중성 분위기 및/또는 다소의 진공 조건에서의 증발에 의한 단순한 물리적 증착으로 이루어진다.

모든 기상 증착 기술은 증착 챔버 내에서 증착될 증발 물질의 소스를 생성하기 위한 기계적 장치를 필요로 한다. 이는 항상, 증착되는 얇은 층들의 균일한 두께 및 그것들의 이화학적(physico-chemical) 특성들에 대한 양호한 제어를 얻기 위해 적용되어야 할, 중요한 요소이다. 동일한 제조 사이클 동안 점차 늘어나는 개수의 소자들 또는 점차 커지는 소자들을 생산하기 위해 전자, 광학 소자들의 저가 대량 생산은 소자들이 적용되는 기판이 크기 면에서 점차 커질 것을 요구하기 때문에, 상기 소스를 생성하는 것이 점차 어려워지고 있다. 따라서, 수십 센티미터 심지어 대략 1 미터로 측정될 수 있는 폭에 걸쳐 다수 물질의 연속적인 기상 증착을 허용하는 소스가 요구된다는 것은 놀라운 일이 아니다. 더욱이, 그러한 소자들의 산업적 제조는 소스 및 증발 물질에 대한 손상 없이 증착이 중단되고 재개될 수 있음을 의미한다.

이는 상기 챔버의 구성을 변경하지 않고 다른 소자들에 대한 다른 필름들의 증착에서의 어떤 유연성(flexibility)을 가능하게 한다.

비록 마이크로-전자 산업은 오랜 시간 동안 유전체 또는 금속과 같은 물질들을 증착시킬 필요성에 직면해 왔지만, 유기 전자발광 다이오드(OLED)를 포함하는 디스플레이 및 스크린과 같은 전자발광 소자들의 제조는 훨씬 더 깨지기 쉬운 유기 물질들의 증착에 대한 의지를 요구한다.

유기 물질의 넓은 폭의 선형 소스(linear source)로부터의 증발은, 챔버 내에서, 증기 발생 지점과 그것의 확산(diffusion) 지점들, 즉 상기 소스의 폭 전체에 걸쳐 장착된 노즐들 사이에서 관찰될 수 밖에 없는 온도 변화라는 심각한 문제를 일으킨다. 게다가, 상기 증기를 이송하는 튜브의 벽들 및 상기 소스를 구성하는 디퓨져의 벽 상에서의 물질의 응축을 피하기 위해, 가스의 온도가 가스의 응결점 이하가 되게 하는 차가운 영역을 방지하기 위해 항상 플러스(positive)인 온도 구배(temperature gradient)를 유지할 수 있는 것이 유리하다. 이는, 유기 물질들의 경우에서 그렇듯이 증착 물질의 파괴 온도(destruction temperature)가 증착 물질의 증발 온도에 가깝다는 사실에서, 수행하기가 더욱 더 어렵다. 또한, 증발 도가니(crucible)로부터 각각의 노즐에 이르기까지 디퓨져 표면 전체에 걸친 그러한 미미한 구배를 모니터링하는 것이 필요하기 때문에, 다수의 챔버들을 구성하는 매우 넓은 선형 소스(linear sources)는 포인트 소스(point sources)에 비해 더 민감하다.

선형 소스들은 상당한 관심을 받고 있으며, 고속 증착을 달성하는 선형 소스들의 성능에 대해 특히 그러하다. 포인트 소스에 비해 훨씬 더 작은 소스-기판 거리로 인해, 선형 소스들은 대부분 물질의 효율적 사용을 또한 보장한다. 큰 표면에 걸친 균일한 증착을 보장하도록 마련된 다중 노즐들의 존재 및 다중 노즐의 설계는 전술한 전자조명 소자들과 같은 소자의 대규모 생산을 위해 다중 노즐의 사용이 필수적이게 하는 주요 자산이다. 하지만 고속 증발과 함께 이러한 짧은 거리는 기계적인 원인들로 인해 통상적인 폐쇄 시스템들(기판상의 증착 공정을 중지시킴)이 수행되기 어렵게 한다. 게다가, 노즐들은 노즐이 막히게 되는 속도로 인해 사용하기가 쉽지 않다. 따라서, 기판을 향한 증기의 확산을 막아 증발 물질이 낭비되지 않도록 하기 위해 소스들에는 증기 이송 튜브를 폐쇄하는 것을 가능하게 하는 밸브가 장착된다. 폐쇄 시, 상기 밸브는 증기가 생성되는 지점에 연결되는 파이프의 체적을 크게 감소시킨다. 상기 체적의 상당한 감소는 증기 생성 시스템 부하(vapor generation system load)의 상당한 변화를 유발하며, 이는 증기 생성 구역에서의 압력을 매우 크게 증가시킨다. 이러한 상당한 압력 변화는 증기 생성 구역이 포화될 때까지 온도 상승을 유발한다. 이러한 온도 상승은 다시 증착 물질의 열적 강하(thermal degradation)를 일으킬 것이다.

따라서, 증착 중단 및 재개 상태(phases)를 가지고 연속적으로 작동하는데 요구되는 기상 증착 시스템들에 사용되는 선형 소스들에서 발견되는 전술한 단점들 중 적어도 일부를 극복하는 것이 본 발명의 일반적인 목적이다. 파괴 온도가 증발 온도에 가까운 유기 물질들의 증착을 가능하게 하는 선형 소스를 유리하게 소개하는 것 또한 본 발명의 목적이다.

이하의 설명 및 첨부 도면들에 의해 본 발명의 다른 목적들, 특징들 및 이점들이 보다 분명해질 것이다. 다른 이점들이 통합될 수 있음이 이해된다.

이러한 목적들을 달성하기 위해, 본 발명은 물질의 기상 증착을 위한 소스를 기술한다. 이것은 두 개의 구역들로 나누어지는 용기로 구성된다. 제 1 구역은 증기를 생성하는 구역이다. 제 1 구역에는 물질을 위한 리셉터클 및 그 리셉터클 내에 배치된 물질을 가열하기 위한 수단이 장착된다. 두 번째 것은 상기 증기 생성 구역과 연통된 확산 구역이다. 확산 구역에는 적어도 하나의 오리피스가 장착되며, 기체 상태의 물질이 상기 오리피스를 통해 용기 외부로 이동된다. 상기 소스는, 상기 오리피스를 차폐하기 위한 수단, 및 활성 폐쇄 위치(active closed position)와 오리피스 개방 위치 사이에서의 차폐를 위한 수단을 이동시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.

본 발명은 이하의 옵션들을 또한 포함할 수 있다:

- 본 발명은 기체 노즐들 형태의 오리피스들을 포함한다.

- 상기 확산 구역은 상기 확산 노즐들이 나란히 배치되는 실린더형 몸체를 가진 디퓨저를 포함한다.

- 상기 차폐를 위한 수단은 상기 디퓨저의 내측면과 접촉하는 실린더형 슬리브를 포함하며, 상기 실린더형 슬리브는 한편으로는 개방 위치에서 복수의 확산 노즐 맞은편에 배치될 수 있는 복수의 개구들 및 다른 한편으로 상기 증기 생성 구역 맞은편의 하나의 개구를 포함한다.

- 상기 실린더형 슬리브는 개방된 상기 증기 생성 구역을 유지하면서 일련의 확산 노즐들을 차폐시키기 위해 상기 디퓨저 안에서 이동하도록 구성된다.

- 상기 실린더형 슬리브를 이동시키기 위한 수단은 상기 실린더형 슬리브에 연결되며 상기 디퓨저를 통해 접근 가능한 축방향 로드(axial rod)를 포함한다.

- 상기 실린더형 슬리브를 이동시키기 위한 수단은 상기 축방향 로드를 회전시키기 위한 수단을 포함한다.

- 상기 실린더형 슬리브를 이동시키기 위한 수단은 상기 축방향 로드에 의해 동작하는 측방향 이동 수단을 포함한다.

- 상기 디퓨저는 상기 실린더형 슬리브의 이동으로부터 별개로 개방된 적어도 하나의 노즐을 포함한다.

- 여기서, 적어도 하나의 독립 노즐은 유리하게는 상기 축방향 로드의 반대편 단부에 있는 상기 디퓨저의 축에 배치된다.

- 상기 물질 리셉터클은 실린더형 도가니로서 상기 디퓨저에 연결된 개구는 상기 실린더형 슬리브의 내경과 동일한 직경을 갖는다.

- 상기 확산 구역 및 상기 생성 구역은 T 형태로 결합된 튜브형 실린더들이고, 생성 구역은 상기 디퓨저를 형성하는 브랜치(branch) 상에 중심을 둔 브랜치이다.

- 상기 차폐를 위한 수단은 오리피스가 개방 위치일 때 확산 구역과 생성 구역 사이의 연결을 유지하도록 구성된다.

이하의 첨부 도면들에서 보여지는 본 발명의 실시예에 대한 상세한 설명으로부터 본 발명의 목적들, 특징들 및 이점들이 보다 잘 이해될 것이다.
도 1a 및 1b는 노즐들을 폐쇄하는 밸브가 로터리 슬리브로 이루어진, 본 발명에 따른 선형 기상 증착 소스를 도시한다.
도 2a 및 2b는 노즐들을 폐쇄하는 밸브가 슬라이딩 슬리브로 이루어진, 본 발명에 따른 선형 기상 증착 소스의 일 변형예를 도시한다.
첨부 도면들은 예로써 주어진 것이며 제한적인 것이 아니다.

도 1a 및 도 1b는 노즐 폐쇄 밸브가 로터리 슬리브로 이루어진 본 발명에 따른 기상 증착(vapor-phase deposition)의 선형 소스를 도시한다.

상기 용어 선형(linear)은 여러 노즐들을 가진 소스(본 발명의 바람직할 실시예)를 의미하며, 상기 노즐들은 소스의 크기에 따라 서로 나란히 배치된다. 바람직하게는, 이러한 병렬(juxtaposition)은 노즐들이 하나의 일직선 배열로 구성되나, 이는 제한적이지 않다.

바람직한 일 실시예에서, 본 발명은 선형 기상 증착 소스(10)가 물질 퍼니스(20)(증기 생성 구역에 배치됨)와 확산 구역에 배치된 증발 노즐들(30) 사이에서 매우 평탄한 온도 구배(temperature gradient)를 얻는 것을 가능하게 하는 방법을 기술한다. 퍼니스 도가니(21)는 증발될 물질(23)을 포함하며, 그 예는 전자발광 다이오드들을 제조하기 위해 사용되는 유형의 유기 물질이다.

증기가 상기 노즐들로 이동할 때 부하(load)의 어떤 파단(break)을 방지하기 위해, 상기 도가니로부터 수직 증기 주입 파이프(40) 및 수평 디퓨저(50)의 내부는 이상적인 직경(51)을 가진 T 조립체를 형성한다. 이러한 직경은 전형적으로 대략 40 내지 50 mm이다. 상기 디퓨저(50)의 폭은 증착이 수행될 기판(1)의 크기를 충족할 수 있는 것이어야 한다. 전형적으로, 상기 기판은 수십 센티미터 및 그 이상이 증착될 수 있다. 상기 도가니, 상기 수직 증기 주입 파이프 및 상기 디퓨저 사이에 일정한 직경을 유지하는 것은 노즐들을 통해 증발 챔버 안으로 그것이 주입되도록 안내함과 동시에 요구되는 온도 구배를 최소화한다. 일정한 직경의 개념은 과압력(overpressure)을 최소화하며 따라서 그것이 직면하는 증기의 가열을 최소화한다. 상기 온도 구배는 출구 노즐들에 이르기까지 상기 증기의 진행 및 가속을 보장한다.

도가니(21)와 그의 엔벨로프(29) 사이, 그리고 수직 파이프와 수평 디퓨저와 각각 동축인 가지들을 가진 T자 형상을 지닌 디퓨저(50)의 수직 파이프(40)와 내벽(52) 및 외측 튜브형 외곽(60) 사이에 있는 모든 환형 공간에 있는, 열전달 액체(25) 안에, 도가니(21), 수직 파이프(40) 및 디퓨저(50)가 배치된다. 본 발명의 이러한 구조에서, 가열 필라멘트들(27, 41)은 열전달 유체의 사용에 의해 도가니(21), 수직 파이프(40) 및 디퓨저(50)를 간접적으로 가열하기 위해 외측의 튜브형 엔벨로프를 둘러싼다. 이것은, 한편으로는 가열 퍼니스에서 증발될 물질과 접촉하고 다른 한편으로는 파이프(40)와 디퓨저(50) 내의 증기와 접촉하는 모든 표면들에 걸쳐 우수한 열 분포가 존재하는 것을 보장한다.

위에서 "수직(vertical)" 및 "수평(horizontal)" 이라는 용어는 실질적으로 수직 방향으로 확산하는 증기를 수반하는 바람직한 사용 위치에 있는 본 발명의 부품들의 배향(orientation)을 실질적으로 의미한다.

본 발명의 선형 소스가 연속적인 산업적 제조를 위해 사용되기 위해, 증발 물질들을 손상시키지 않고 상기 증발 공정을 중지 및 재개시키기 위한 수단이 제공되어야 한다. 본 발명의 목적은 디퓨저 내부에 디퓨저의 내경에 대응하는 직경을 가지며 로드(72)를 이용한 축방향 기계적 제어를 이용하여 회전될 수 있는 슬리브(70) 형태의 증기 체크 밸브가 배치되는 본 발명의 제 1 실시예에 의해 달성된다. 바람직한 일 실시예에서, 슬리브(70)는, 동일 형상의 디퓨저(50)와 협력하며 또한 상기 오리피스들의 개방 위치 및 폐쇄 위치 사이의 확산 구역의 구조를 변경할 수 있는 디퓨저(50) 안의 공간을 구성하는, 원형 단면을 지닌 중공의 실린더형 몸체이다. 오리피스들(73)은 증착 도중 증기가 통과할 수 있도록 상기 노즐들의 위치에서 드릴링된다(drilled). 상기 슬리브의 단순 회전은 노즐들을 마스크하고 증착 공정을 중단시키기에 충분하다. 이는 상기 소스의 내부 체적들을 변경하지 않고 일어나는 것으로 관찰될 것이다. 증기 주입 파이프(40) 반대편에 배치된 하측 오리피스(71)는, 슬리브가 노즐들을 마스크 하기 위해 회전될 때 상기 증기 주입 파이프를 방해하지 않도록 하는 것이다.

따라서 로터리 슬리브(70)는 상기 소스가 재개 준비를 유지하는 것을 보장하면서 증발을 빠르게 차단하는 것을 가능하게 한다. 상기 노즐들의 레벨에서 상기 소스들 차폐시키는 것은 상기 증기 소스에 대한 매우 미미한 충격을 줄 뿐이며 증기 포화 도중 그것의 온도의 어떠한 증가도 관찰되지 않으며, 상기 노즐들의 레벨은 증기 생성 시스템 로드(vapor creation system load)의 체적의 변경 없이 상기 증기를 포함하기 위한 최종 지점이다. 따라서 이러한 차폐 시스템은 물질 소모 없이 증발이 차단될 수 있게 한다.

상기 소스의 열동력학적 균형(thermodynamic balance)을 유지하는 것을 돕기 위해, 증착률 측정을 위한 시스템이 활성으로 유지되며, 상기 시스템은 바람직하게는 상기 소스로부터 상기 기판 쪽으로의 증발 플럭스(evaporation flux)를 방해하지 않도록 하기 위해 상기 디퓨저의 축에 배치된다. 이러한 노즐은 증착률을 측정하기 위해 사용되며, 따라서 차폐 시스템 재개방 이후 안정화 시간을 최소화할 수 있도록 소스 차폐 상태 도중 요구되는 비율에 가까운 비율을 보장하기 위해 사용된다. 증기 노즐들의 차폐 도중, 상기 측정 기능(상기 측정부는 도면에 보이지 않음)에 전용되는 노즐은 디퓨저 축에 배치되며 상기 압력을 최소화하기 위해 개방을 유지한다. 이것은 또한 차폐 기간 전체에 걸쳐 안정적인 플럭스를 유지하며, 따라서 증기 차폐 밸브(즉 노즐들을 차폐하기 위해 사용되는 로터리 밸브)가 증착을 계속하거나 다른 증착을 위해 다시 개방될 때, 상기 플럭스를 안정화하기 위해 요구되는 시간을 감소시킴으로써 보다 큰 반응성을 달성한다.

도 2a 및 2b는 본 발명에 따른 기상 선형 증착 소스의 변형예를 도시하며, 여기서 노즐 차폐 밸브는 슬라이딩 슬리브로 구성된다.

이러한 본 발명의 제 2 적용에서, 로터리 슬리브(70)는 슬라이딩 슬리브(70)에 의해 대체된다. 이것은 디퓨저(50)보다 약간 더 짧기 때문에, 이때 상기 노즐들의 차폐는 이전의 것과 같은 축방향 콘트롤(82)을 사용하는 슬라이딩 슬리브의 측방 운동에 의해 달성된다. 앞서와 마찬가지로, 증착 상태 도중 증기가 통과하는 것을 허용하기 위해 개구들(83)이 노즐들 위치에서 드릴링된다. 여기서 다시, 증착은 소스 내부 체적들을 변화시키지 않고 중지된다. 수직 증기 주입 파이프(40)에 대향 배치된 하부 오리피스(81)는, 노즐들을 마스크하기 위한 측방 변위가 어떤 방식으로 증기 파이프(40)를 방해하지 않도록 하는 형상 및 치수를 갖는다.

도 2a 및 2b는 가열 필라멘트들이 열전달 유체(25)를 포함하는 환형 공간 내에 배치 가능함을 또한 보인다. 상기 열전달 유체 내에 잠긴 필라멘트들(27, 41)은 직접적으로 열을 가하며, 이로써 온도의 균일함이 보장된다. 이는 도가니(21)를 가열하기 위해 사용되는 필라멘트들(27) 및 디퓨저(50)의 수직 파이프(40) 둘레의 온도 변화를 유지하기 위해 사용되는 필라멘트들(41) 모두에 관한 것이다.

물론, 도 1a, 1b 및 2a, 2b 상에 도시된 실시예 옵션들은 어떤 불편함 없이 조합될 수 있다. 필라멘트들(27, 41)은 냉각 유체 안에 배치될 수 있으며 이것은 로터리 슬리브(70)의 사용과 조합될 수 있다. 반대의 상황이 또한 가능하다(엔벨로프들 둘레에 슬라이딩 슬리브와 가열 요소들). 더욱이, 디퓨저(50)의 체적을 변화시키지 않고 일어나는 그러한 유형의 노즐 차폐 장치에 의해 제공되는 이점을 유지하면서, 어떤 다른 가열 장치와 함께 로터리 슬리브(70) 또는 측방 이동하는 슬리브(70)를 사용하는 것이 또한 착안될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이, 이것은 증착이 중지되어야 하는 단계들 동안 도가니(21) 내의 값비싼 물질의 손상 및 손실을 피하는 것을 도우며, 따라서 도가니 내의 값비싼 물질의 사용 가능한 주기를 연장한다.

회전형 또는 측방 이동형이던, 상기 밸브는 따라서 증발 단계 도중 소스를 유지하면서, 확산 구역 내의 이러한 증기의 배출을 순간적으로 차단하고 재개하기 위해 사용될 수 있다. 상기 밸브 만에 의한 상기 확산 노즐들의 차폐는 도가니(21) 안의 로드(load)의 체적을 변경시키지 않는 것을 가능하게 하며 따라서 그렇지 않을 경우 증기 생성 구역의 레벨에서의 소스의 차폐에 기인하게 되는 과도압력 및 온도 상승을 최소화한다.

상기 밸브가 차폐될 때조차, 상기 증기 플럭스를 상기 측정 시스템을 향하도록 유지하는 것은, 생성된 증기의 양을 유지시키기 위해 소스 유동 조건들을 유지시키며 가열 장치들을 계속적으로 제어한다. 이러한 해결책은 밸브가 개방될 때 순간적으로 안정화된 소스를 보장한다.

온도 변화들 없이 플럭스의 빠른 변화 또는 플럭스의 안정성을 보장하기 위해, 상기 밸브는 또한 인터로킹될 수 있으며 방사된 플럭스 조절을 보장하도록 사용될 수 있다. 특히, 이러한 해결책은 도가니(21)를 채우는 물질의 레벨에 종속하는 어떤 플럭스 변화들(flux variations)을 신속히 매끄럽게 한다.

Claims (10)

1. 두 개의 구역을 가진 용기를 포함하는 기상 물질의 증착 소스(10)로서, 상기 두 개의 구역은, 상기 물질을 위한 리셉터클 및 상기 리셉터클 내의 물질을 가열하기 위한 수단이 장착된 증기 생성 구역(20); 및, 상기 증기 생성 구역과 연통되며 적어도 하나의 오리피스(30)가 구비되어 기상의 상기 물질이 상기 오리피스를 통해 상기 용기의 외부를 향해 전달되도록 하는 확산 구역;인, 증착 소스(10)에 있어서,
   상기 확산 구역 및 증기 생성 구역(20)은 T 형상으로 조립된 튜브형 실린더들이며, 상기 증기 생성 구역(20)은 상기 확산 구역의 디퓨저(50)를 형성하는 브랜치(branch) 상에 중심을 둔 브랜치인 것을 특징으로 하는 증착 소스.
2. 제1항에 있어서,
   - 상기 오리피스를 차폐시키기 위한 수단 및 상기 차폐 수단을 활성 차폐 위치와 오리피스(30) 개방 위치 사이에서 이동시키기 위한 수단을 포함하고,
   - 상기 증기를 확산시키는 노즐 형태의 일련의 오리피스들(30)을 구비하며,
   상기 확산 구역은 상기 확산 노즐들이 나란히 배치된 실린더형 몸체를 가진 디퓨저(50)로 구성되고, 상기 차폐 수단은 디퓨저(50)의 내측면과 접촉하는 실린더형 슬리브(70)를 포함하고, 상기 실린더형 슬리브(70)는 한편으로는 개방 위치에서 복수의 확산 노즐 맞은편에 배치될 수 있는 복수의 개구들(73) 및 다른 한편으로는 증기 생성 구역 맞은편의 개구(71)를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
3. 제2항에 있어서,
   상기 실린더형 슬리브(70)는, 상기 증기 생성 구역(20)을 개방되도록 유지하면서 일련의 확산 노즐들을 차폐하기 위해 디퓨저(50) 내측에서 이동하도록 구성된 것을 특징으로 하는 증착 소스.
4. 제3항에 있어서,
   실린더형 슬리브(70)의 이동을 위한 수단은, 상기 실린더형 슬리브(70)에 결합되며 디퓨저(50)를 통해 접근가능한 축방향 로드(72)를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
5. 제4항에 있어서,
   상기 실린더형 슬리브(70)의 이동을 위한 수단은 상기 축방향 로드(72)의 회전을 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
6. 제4항에 있어서,
   상기 실린더형 슬리브(70)의 이동을 위한 수단은 상기 축방향 로드(72)의 측방향 이동을 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
7. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 디퓨저(50)는 상기 실린더형 슬리브(70)의 이동과 별도로 개방되는 적어도 하나의 노즐(53)을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
8. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 디퓨저(50)의 축의 상기 축방향 로드(72) 반대편 단부에는 적어도 하나의 독립 노즐(53)이 배치되는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
9. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 증기 생성 구역(20)은 상기 확산 구역의 내부에 연결된 주입 파이프(40)를 구비한 도가니(21)를 포함하고, 상기 주입 파이프(40) 및 상기 확산 구역의 내부는 동일한 지름을 가지는 것을 특징으로 하는 증착 소스.
10. 제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 차폐를 위한 수단은, 오리피스(30)가 개방될 때 확산 구역과 생성 구역 사이의 연결을 유지하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 증착 소스.

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