JP2018066059A - 真空堆積チャンバ - Google Patents

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Abstract

【課題】材料堆積装置を有する真空堆積装置、及び、材料を基板の上に堆積させるためのの提供
【解決手段】真空堆積チャンバは、分配管106a、106b、106cを有する材料堆積装置100と、堆積中に基板を支持するための基板支持体とを備え、材料堆積装置100の分配管106a、106b、106cの少なくとも1つと基板支持体との間の距離は、250mm未満である。分配管106a、106b、106cの各々は、複数のノズル712を含む分配管ハウジングを含み、複数のノズル712を通して、蒸発した材料は、放出され、基板に案内される。
【選択図】図1

Description

[0001]実施形態は、材料堆積装置、材料堆積装置用の分配管、材料堆積装置を有する堆積装置、及び材料を基板の上に堆積させるための方法に関する。実施形態は、特に、真空堆積チャンバ用の材料堆積装置、材料堆積装置を有する真空堆積装置、及び真空堆積チャンバの中の基板の上に材料を堆積させるための方法に関する。
[0002]有機蒸発器は、有機発光ダイオード(OLED)の生産用ツールである。OLEDは、特殊な発光ダイオードであり、その中で発光層がある有機化合物の薄膜を含んでいる。有機発光ダイオード(OLED)は、情報を表示するためのテレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、その他の手持ちデバイスなどの製造時に使用される。OLEDはまた、一般的な空間照明にも使用することができる。OLEDディスプレイで可能な色、輝度、及び視野角の範囲は、OLEDピクセルが直接発光し、バックライトを使用しないので、従来のLCDディスプレイの範囲よりも大きい。したがって、OLEDディスプレイのエネルギー消費は、従来のLCDディスプレイのエネルギー消費よりもかなり少ない。更に、実際、OLEDは、フレキシブル基板上に製造することができ、更なる用途がもたらされる。例えば、OLEDディスプレイは、個々にエネルギー供給可能なピクセルを有するマトリクスディスプレイパネルを形成するように、基板上にすべてが堆積された2つの電極の間に位置する有機材料の層を含み得る。OLEDは、一般的に2つのガラスパネルの間に置かれ、ガラスパネルのエッジは、OLEDを内部にカプセル化するために密閉される。
[0003]そのようなディスプレイデバイスの製造時に遭遇する多くの課題がある。OLEDディスプレイ又はOLED照明アプリケーションは、例えば、真空の中で蒸発する、幾つかの大量の有機材料を含む。有機材料は、シャドウマスクを通して、後続の方法で堆積される。効率の高いOLEDスタックの製造に関して、混合層/ドープ層につながる、二又はそれを上回る材料、例えば、ホスト及びドーパントなどの同時堆積又は同時蒸発が望ましい。更に、非常に繊細な有機材料の蒸発について幾つかの処理条件があることが考慮されなければならない。
[0004]基板の上に材料を堆積させるために、材料は、蒸発するまで加熱される。また、材料を基板に案内する管は、例えば、蒸発した材料を制御された温度で維持するため、又は蒸発した材料が管内で凝縮するのを回避するために、加熱され得る。材料は、蒸発すると、例えば、蒸発した材料のための出口又はノズルを有する分配管を通過することなどによって、基板に案内される。ここ数年、例えば、提供されるピクセルサイズをますます小さくすることができるように、堆積処理の精度が高められている。しかしながら、マスクのシャドウイング効果、蒸発した材料の広がりなどにより、蒸発処理の精度及び予測性を更に高めることは難しい。
[0005]以上を考慮し、本技術分野の問題の少なくとも幾つかを克服する、材料堆積装置、真空堆積チャンバ、分配管、及び材料を基板の上に堆積させるための方法を提供することが、本明細書に記載の実施形態の目的である。
[0006]上記に照らして、真空堆積チャンバが提供される。実施形態の更なる態様、利点、及び特徴は、従属請求項、明細書、及び添付の図面から明らかである。
[0007]一実施形態によると、真空堆積チャンバが提供される。真空堆積チャンバは、分配管を有する材料堆積装置と、堆積中に基板を支持するための基板支持体を含み、材料堆積装置の分配管の少なくとも1つと基板支持体との間の距離は、250mm未満である。
[0008]実施形態は、開示された方法を実行する装置も対象とし、記載されたそれぞれの方法の特徴を実行する装置部分を含む。方法の特徴は、ハードウェア構成要素、適切なソフトウェアによってプログラムされたコンピュータ、これらの2つの任意の組合せ、又は任意の他の方法で実行され得る。更に、実施形態は、説明されている装置を動作させるための方法も対象とする。それは、装置のあらゆる機能を実施するための方法の特徴を含む。
[0009]上記の特徴を詳細に理解することができるよう、実施形態を参照することによって、上記で簡潔に概説したより詳細な説明を得ることができる。添付の図面は、実施形態に関連し、以下において説明される。
aからfは、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置の概略図、及び部分詳細図を示す。 aからcは、本明細書に記載の実施形態による堆積装置の分配管の概略図を示す。 本明細書に記載の実施形態による分配管及びノズルの材料分配の図を示す。 既知のシステムの分配管の材料分配の図を示す。 本明細書に記載の実施形態及び既知のシステムによる分配管の材料分配の比較図を示す。 本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置を示す。 既知の堆積システムを示す。 a及びbは、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置の概略側面図及び概略上面図を示す。 a及びbは、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置の概略側面図、並びに本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置の分配管及びノズルの詳細図を示す。 aからdは、本明細書に記載の実施形態による分配管及び材料堆積装置で使用されるノズルの概略図を示す。 aからcは、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置及び分配管を示す。 a及びbは、本明細書に記載の実施形態による分配管を示す。 本明細書に記載の実施形態による真空堆積チャンバを示す。 本明細書に記載の実施形態による、材料を基板の上に堆積させるための方法のフローチャートを示す。
[0010]これより、一又は複数の例が図に示されている様々な実施形態を詳しく参照していく。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は、同じ構成要素を表している。概括的に、個々の実施形態に関する相違のみが説明される。各例は単なる説明として提示されており、限定を意味するものではない。更に、1つの実施形態の部分として図示又は説明される特徴は、更なる実施形態をもたらすために、他の実施形態で使用されることも、他の実施形態と併用されることも可能である。本明細書は、かかる修正及び改変を含むことが意図されている。
[0011]本明細書で使用されるように、「流体連通」という用語は、流体連通している2つの要素が、結合を介して流体を交換でき、流体が2つの要素間を流れることができることと理解され得る。1つの例では、流体連通している要素は、流体がそれを通って流れ得る中空構造を含み得る。幾つかの実施形態によれば、流体連通している要素の少なくとも1つは、管のような要素であり得る。
[0012]更に、以下の説明では、材料源は、基板の上に堆積させる材料を提供する源として理解され得る。特に、材料源は、真空堆積チャンバ又は装置などの真空チャンバの中の基板の上に堆積させる材料を提供するように構成され得る。幾つかの実施形態では、材料源は、堆積させる材料を蒸発させるように構成されることによって、基板の上に堆積させる材料を提供し得る。例えば、材料源は、基板の上に堆積させる材料を蒸発させ、特に、基板に向かった方向に又は材料源の分配管内に蒸発した材料を放出する、蒸発器又はるつぼを含み得る。幾つかの実施形態では、蒸発器は、例えば、蒸発した材料を分配するために、分配管と流体連通した状態で位置し得る。
[0013]本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、分配管は、蒸発した材料を案内及び分配するための管と理解され得る。特に、分配管は、蒸発器から分配管の出口又は開口まで蒸発した材料を案内し得る。直線的分配管は、第1の方向、特に縦の方向に延びる管と理解され得る。幾つかの実施形態では、直線的分配管は、円形底面形状又は任意の他の適した底面形状を有し得る円筒形状の管を含む。
[0014]本明細書に見られるノズルは、流体を案内するためのデバイス、特に、流体の方向又は特性(ノズルから現れる流体の流れ、速度、形状及び/又は圧力の割合など)を制御するためのデバイスと理解され得る。本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、ノズルは、蒸気、例えば、基板の上に堆積させる蒸発した材料の蒸気などの蒸気を案内又は方向付けるためのデバイスであり得る。ノズルは、流体を受容するための入り口、ノズルを通して流体を案内するための開口(例えば、穴又は通路)、及び流体を放出するための出口を有し得る。典型的には、ノズルの開口又は通路は、ノズルを通して流れる流体の所望の方向又は特徴を実現するための画定された形状寸法を含み得る。幾つかの実施形態によれば、ノズルは、分配管の一部であり、又は蒸発した材料を提供する分配管に結合され、分配管から蒸発した材料を受容し得る。
[0015]本明細書に記載の実施形態によれば、蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための材料堆積装置が提供される。幾つかの実施形態によれば、材料蒸発装置は、2以上の蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるように構成され得る。材料堆積装置は、基板の上に堆積させる第1の材料を蒸発させるように構成された第1の材料蒸発器を含む第1の材料源を含む。幾つかの実施形態によれば、第1の材料は、基板の上に堆積させる2以上の材料からの第1の材料であり得る。第1の材料源は、第1の分配管ハウジングを含む第1の分配管であって、第1の材料蒸発器と流体連通しており、材料源が第1の分配管ハウジングの複数の第1のノズルを更に含む、第1の分配管を更に含む。典型的には、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルは、開口長さと開口サイズとを備え、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルの長さ対サイズの比率は、2:1である。材料堆積装置は、基板の上に堆積させる第2の材料を蒸発させるように構成された第2の材料蒸発器を含む第2の材料源を含む。幾つかの実施形態によれば、第2の材料は、基板の上に堆積させる2以上の材料の第2の材料である。第2の材料源は、第2の分配管ハウジングを含む第2の分配管であって、第2の材料蒸発器と流体連通している第2の分配管を更に含む。第2の材料源は、第2の分配管ハウジングの中に複数の第2のノズルを更に含む。本明細書に記載の実施形態によれば、複数の第1のノズルの第1のノズルと複数の第2のノズルの第2のノズルとの間の距離は、30mm以下である。幾つかの実施形態によれば、第1の材料及び第2の材料は、同一の材料であってもよく、又は、代替的には、異なる材料であってもよい。
[0016]図1aは、本明細書に記載された実施形態による材料堆積装置100の側面図を示す。図1aに示す材料堆積装置の実施形態は、第1の材料蒸発器102aを有する第1の材料源と、第2の材料蒸発器102bを有する第2の材料源と、第3の材料蒸発器102cを有する第3の材料源とを含み得る。1つの実施形態では、材料蒸発器102a、102b、及び102cの各々は、異なる材料を提供し得る。別の実施形態では、材料蒸発器の各々は、同一の材料を提供し、又は材料蒸発器の一部は、同一の材料を提供し得るのに対し、材料蒸発器の別の一部は、異なる材料を提供する。幾つかの実施形態によれば、材料蒸発器102a、102b、及び102cは、基板の上に堆積させる材料を蒸発させるように構成されているるつぼであり得る。材料蒸発器102a、102b、及び102cは、分配管106a、106b、及び106cとそれぞれ流体連通した状態で位置している。材料蒸発器の1つによって蒸発した材料は、材料蒸発器から放出され、それぞれの分配管内を流れ得る。
[0017]図1aから分かるように、分配管106a、106b、及び106cの各々は、複数のノズル712を含む分配管ハウジングを含む。複数のノズルを通して、蒸発した材料は、放出され、コーティングされる基板(図示されず)に案内される。幾つかの実施形態によれば、ノズル712は、分配管ハウジングに形成されている開口などの分配管の必須部分であり、又は、例えば、コーティングされる基板に向かって蒸発した材料を案内するなど、画定した処理を遂行するために分配管ハウジングに結合されるノズルによって提供され得る。1つの例では、ノズルは、ねじ留め、プラグ埋め、又は収縮処理によって分配管に結合され得る。1つの実施形態では、ノズルは、材料堆積装置の分配管に交換可能に結合され得る。
[0018]図1bは、図1aに示された第3の分配管106cのセクションAの拡大図を示す。図1bに示された部分図は、分配管106c、及び分配管106cの複数のノズルのうちの1つのノズル712を示す。ノズル712は、蒸発した材料が通過できる開口713又は通路を提供する。ノズル712の開口713は、図1bに示すように、開口長さ714を提供する。幾つかの実施形態によれば、開口長さ714は、ノズルの縦軸又は長さ軸に沿って、特にノズルを出る平均流体方向に対応する方向に測定され得る。1つの実施形態では、ノズルの開口長さ714は、分配管の縦(又は直線的)方向に実質的に直角であり得る。
[0019]「実質的に直角」という用語は、厳密に直角な配置から最大で15°までのずれを含むと理解され得る。幾つかの実施形態によれば、続く記載において「実質的に」で表されている更なる用語は、示された角度を有する配置から最大で15°までのずれ、又はある寸法の約15%のずれを含み得る。
[0020]図1cは、図1aに示す材料堆積装置に対応し得るが、約90°回転させた、前面図における材料堆積装置100を示す。材料蒸発器102a、102b、及び102cは、分配管106a、106b、及び106cとそれぞれ流体連通した状態で位置している。ノズル712の開口は、前面図に見ることができる。異なる分配管106a、106b、及び106cのノズル712は、互いに距離200を設ける。本明細書に記載の実施形態によれば、第1のノズルの間の距離は、典型的には50mm未満、より典型的には30mm未満、更に典型的には25mmであり得る。
[0021]幾つかの実施形態によれば、異なる分配管106a、106b、及び106cのノズル間の距離は、各ノズルの開口の中心点から測定される。1つの例では、ノズルの開口の中心点は、開口の形状寸法の中心点として画定され得る。開口が円の場合、円の中心点は、エッジ上の点から等距離の点である。例えば、ノズルの開口が対称的な形状を有している場合、開口の中心点は、対称的な動作によって変化しない状態を保つ点と説明され得る。例えば、正方形、長方形、ひし形、又は平行四辺形の中心点は、対角線が交わる部分、即ち、回転対称の固定点である中心点である。同様に、楕円の中心は、軸が交差する部分である。幾つかの実施形態によれば、中心点は、形状の重心であると理解され得る。
[0022]幾つかの実施形態では、分配管のノズル間の距離200は、実質的に水平距離であり得る。例えば、分配管106a、106b、及び106cは、実質的に垂直方向に延びうる。ノズルは、蒸発方向、即ち、実質的に水平である、ノズルが蒸発した材料を放出する方向を有し得る。幾つかの実施形態によれば、異なる分配管のノズル間の実質的な水平距離は、厳密な水平配置から約15°のずれを含むと理解され得る。
[0023]幾つかの実施形態によれば、ノズル間の距離は、例えば、分配管の縦軸から測定される、異なる分配管同士の互いに対する距離と説明され得る。1つの実施形態では、分配管は、互いに対する距離200を有している。
[0024]図1dから図1fは、図1cの前面図に示されている部分図Bの実施形態を示す。図1dから図1fに、ノズル712の開口サイズ716が示される。ノズルの開口サイズは、ノズルの形状次第で決定し得る。1つの実施形態では、開口サイズは、開口長さでない開口の1つの寸法と理解され得る。幾つかの実施形態によれば、開口サイズは、開口の断面、特にノズルの出口(蒸発材料がノズルを出る位置である)における断面の最小寸法であり得る。
[0025]図1dは、ノズル開口及び開口サイズ716の例を示しており、開口サイズは、断面、特に開口の直径に対応している。図1eは、ノズル開口が楕円のような形状を有しており、開口サイズが開口の断面の最小寸法によって画定される例を示している。図1fは、ノズル開口が細長い円の形状を有しており、開口サイズが開口の断面の最小寸法によって画定される例を示している。以下で詳しく理解されるように、図1aから図1fの図示された実施形態が、単なる例に過ぎず、本適用がノズル開口のサイズ、形状及び長さの図示された例に、又は材料源及び分配管配置の図示された例に限定されないと当業者は理解するだろう。
[0026]本明細書に記載された実施形態によれば、第1の分配管の各ノズルは、2:1以上の開口長さ対サイズ比率を有し得る、又は第1の分配管のノズルの一部のみが、記載された長さ対サイズ比率を有し得る。幾つかの実施形態によれば、本明細書に記載の材料堆積装置の第2及び/又は第3の分配管はまた、開口長さ対サイズ比率が2:1以上の一又は複数のノズルを含み得る。
[0027]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい、幾つかの実施形態によれば、分配管は、実質的に三角形の断面を有し得る。図2aは、分配管106の断面の例を示す。分配管106は、内部空洞710を取り囲む壁322、326、及び324を有している。壁322は、ノズル712が提供される材料源の出口側に提供される。分配管の断面は、本質的に三角形と説明することができ、要するに、分配管の主要部分が三角形の部分に対応し、及び/又は分配管の断面が、丸みを帯びた角及び/又は切断された角を有する三角形とすることができる。図2aに示されるように、例えば、出口側の三角形の角は、切断される。
[0028]分配管の出口側の幅、例えば、図2aに示された断面の壁322の寸法は、矢印352によって示される。更に、分配管106の断面の他の寸法は、矢印354及び矢印355によって示される。本明細書に記載の実施形態によれば、分配管の出口側の幅は、断面の最大寸法の30%又はそれを下回り、例えば、矢印354及び355によって示された寸法のより大きな寸法の30%である。分配管の寸法及び形状に照らして、隣接する分配管106のノズル712は、より小さな距離で提供することができる。距離が小さければ、互いに隣り合って蒸発する有機材料の混合が改善される。
[0029]図2bは、2つの分配管が互いに隣り合って提供される場合の実施形態を示す。したがって、図2bに示されるような2つの分配管を有する材料堆積装置は、互いに隣り合う2つの有機材料を蒸発させることができる。そのような材料堆積装置はまた、材料堆積アレイとも呼ぶことができる。図2bに示されるように、分配管106の断面形状により、隣接する分配管のノズルを互いに近接して置くことが可能になる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、第1の分配管の第1のノズルと、第2の分配管の第2のノズルとは、30mm以下の距離、例えば、5mmから25mmまでの距離などを有することができる。更に具体的には、第1の出口又はノズルの第2の出口又はノズルまでの距離は、10mm又はそれ未満とすることができる。
[0030]本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、第1の分配管の第1のノズルと第2の分配管の第2のノズルとの間の距離は、それぞれのノズルの縦軸間の最小距離として測定され得る。1つの例では、それぞれのノズルの縦軸間の最小距離は、ノズルの出口(要するに、蒸発した材料がノズルを離れる場所)で測定される。図2cは、図2bに示した装置の部分図Cを示す。図2cで拡大された部分図Cは、2つのノズル106a及び106bの例を示しており、ノズル間の距離200は、それぞれのノズルの出口における、第1の分配管106aの第1のノズルの縦軸201と第1の分配管106bの第2のノズルの縦軸202との間で測定される。幾つかの実施形態によれば、本明細書で参照するノズルの縦軸は、ノズルの長さ方向に沿って延びる。
[0031]本明細書に記載の実施形態によれば、本明細書に記載の材料堆積装置は、OLED生産処理などの高精度処理で使用され得る。図3a及び図4aは、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置の効果を示す。図3b及び図4bは、比較例の既知の材料堆積装置の効果を示す。図3aには、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置から放出される蒸発した材料の分配の試験データが示される。曲線800は、2:1以上の長さ対サイズ比率を有するノズルから放出された蒸発した材料の実験結果を示す。図3aの例は、蒸発した材料の分配がおよそcos形状に従うことを示す。図3bに示す既知の材料堆積装置との比較は、従来の材料堆積装置の分配が、曲線801によって示されるcos形状に対応することを示す。本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置によって生成された曲線800と既知のシステムの曲線801との差は、実質的には、蒸発した材料のプルームの幅とプルーム内の蒸発した材料の濃度分布である。例えば、OLED生産システムなどにおいて、材料を基板の上に堆積させるためにマスクが使用される場合、約50μm×約50μm、又は更にそれを下回るサイズを有するピクセル開口、例えば、約30μm以下、又は約20μmの断面の寸法(例えば、断面の最小寸法)を有するピクセル開口など、を有するピクセルマスクであり得る。1つの例では、ピクセルマスクは、約40μmの厚さを有し得る。マスクの厚さ及びピクセル開口のサイズを考慮すると、マスクのピクセル開口がピクセル開口を遮断するシャドウイング効果が現れることがある。本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置及び/又は分配管及び/又はノズルは、シャドウイング効果の低下に役立ち得る。
[0032]本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置で蒸発を用いることによって実現することができる高い方向性は、一層多くの蒸発した材料が実際には基板に(例えば、基板上下のエリアではなく)達するので、蒸発した材料の改良された利用をもたらす。
[0033]図3cは、マスクのピクセルにおける蒸発した材料の分配と、3つの異なる線を示している。3つの線すべてが、ノズルと基板との間の画定した距離における蒸発した材料の分布を示す。1つの例では、ノズル出口(蒸発した材料がノズルを離れる場所)と基板又は基板支持体との間の距離は、250mm以下、例えば、約200mm又は約150mmなど、であり得る。第1の線804は、既知の材料堆積装置によって提供されるマスクのピクセル開口における蒸発した材料の分配を示す。第1の線804の分配は、cosのような分配に対応する。本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置又は分配管で、蒸発した材料の分配は、第2の線805によって示されるcosのような分配に対応し得る。特に、第2の線805の傾きは、第1の線804の傾きより急である。当業者は、図3cから、マスクのピクセル開口のエッジがcos分配よりもcos分配でよく充填されていると理解することができる。第3の線806は、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置又は分配管での実験テストの結果を示す。第3の線806は、実質的には、蒸発した材料のcosのような分配による第2の線805に従う。シャドウイング効果は、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置又は分配管を使用するときに、低減することができる。
[0034]図4aは、3つの材料堆積装置100a、100b、及び100cを典型的に含む、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置を示す。材料堆積装置は、本明細書の実施形態に記載の材料堆積装置であり得る。図4aの堆積システムは、蒸発した材料でコーティングされる基板121、及び基板121をマスクするためのマスク132を更に示す。図4aは、蒸発した材料802がどのようにして材料堆積装置100a、100b、及び100cを、特に材料堆積装置のノズルを出て離れるかを概略的に示す。本明細書に記載の実施形態によれば、蒸発した材料802は、材料堆積装置を離れ、堆積チャンバの真空空間に侵入するときに広がる。長さ対サイズの比率が2:1以上であるノズルは、例えば、約30°以下の角度を含むことによって、蒸発した材料の限定的な広がりを有することができるようになる。既知の堆積システムとの比較は、図4bにおいて、蒸発した材料803が約60°の角度を含むことを示している。
[0035]図3a、図3b、図3c、図4a、及び図4bに示された例により分かるように、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置は、蒸発した材料のより小さな分配の広がりを提供し得、蒸発した材料を基板により正確に、特に、高精度で基板をコーティングするためにマスク開口により正確に、案内することができる。
[0036]30mm未満の距離に分配管のノズルを配置することにより、異なる材料源100a、100b、及び100cの異なる材料を混合するためのオプションが更に提供される。材料堆積装置のノズル間の距離の短縮が、図4aに典型的に示された三角形のような形状など、特殊な形状を分配管に使用することによって、更に改善され得る。
[0037]蒸発した材料のcosのような分配を有することで、より小さなマスク開口の使用、及びOLED製品用のピクセルなど、基板上でコーティングされるより小さな構造の精度の向上が可能になり得る。
[0038]幾つかの実施形態によれば、蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための材料堆積装置が提供される。幾つかの実施形態によれば、材料蒸発装置は、2以上の蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるように構成され得る。材料堆積装置は、基板の上に堆積させる第1の材料を蒸発させるように構成された第1の材料蒸発器を含む第1の材料源を含む。幾つかの実施形態によれば、第1の材料は、基板の上に堆積させる2以上の材料の第1の材料であり得る。第1の材料源は、第1の分配管ハウジングを含む第1の分配管であって、第1の材料蒸発器と流体連通している第1の分配管を更に含む。更に、第1の材料源は、第1の分配管ハウジングの中の複数の第1のノズルであって、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルが、開口長さと開口サイズとを備え、かつ第1の分配方向を提供するように構成されている、複数の第1のノズルを含む。複数の第1のノズルの一又は複数のノズルの長さ対サイズの比率は、2:1以上である。材料堆積装置は、基板の上に堆積させる第2の材料を蒸発させるように構成された第2の材料蒸発器を含む第2の材料源を更に含む。幾つかの実施形態によれば、第2の材料は、基板の上に堆積させる2以上の材料の第2の材料であり得る。第2の材料源は、第2の分配管ハウジングを含む第2の分配管であって、第2の材料蒸発器と流体連通している第2の分配管を更に含む。第2の材料源は、第2の分配管ハウジングの中の複数の第2のノズルであって、第2のノズルの一又は複数が、第2の分配方向を提供するように構成されている、複数の第2のノズルとを更に含む。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせられ得る、本明細書に記載の実施形態によれば、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルの第1の分配方向、及び複数の第2のノズルの一又は複数のノズルの第2の分配方向は、互いに平行に配置されている又は平行な配置から最大で5°までずれて配置されている。幾つかの実施形態によれば、第1の材料及び第2の材料は、同一の材料であってもよく、又は、代替的には、異なる材料であってもよい。
[0039]図5aは、第1の分配管ハウジングのノズルの第1の分配方向と、第2の分配管ハウジングのノズルの第2の分配方向が実質的に平行に配置されている、材料堆積装置を示す。図5aに典型的に示されている材料堆積装置は、第1の材料源100a及び第2の材料源100bを示す。材料源100a及び100bの各々は、材料蒸発器102a及び102bをそれぞれ含む。1つの実施形態では、材料蒸発器の各々は、異なる材料を提供し得る。別の実施形態では、材料蒸発器の各々は、同一の材料を提供し、又は材料蒸発器の一部は、同一の材料を提供し得るのに対し、材料蒸発器の別の一部は、異なる材料を提供する。本明細書に記載の実施形態によれば、第1の材料源100aは、第1の分配管106aを含み、第2の材料源100bは、第2の分配管106bを含む。第1及び第2の分配管は各々、ノズル712が内部に配置されている分配管ハウジングを有している。特に、それぞれの分配管ハウジングからコーティングされる基板に向かって蒸発した材料を放出するために、第1の分配管は、複数の第1のノズルを含み、第2の分配管は、複数の第2のノズルを含む。
[0040]本明細書に記載の実施形態によれば、第1の分配管及び/又は第2の分配管のノズルの一又は複数は、2:1以上、例えば、2.5:1、3:1、5:1、又は5:1を上回る長さ:サイズの比率を有し得る。ノズル開口のサイズ及び長さは、図1aから図1fに関して先ほど詳細に説明されたと理解され得る。幾つかの実施形態では、第1の分配管の一又は複数のノズルは、第1の分配方向を提供し、第2の分配管の一又は複数のノズルは、第2の分配方向を提供する。
[0041]本明細書に記載の実施形態によれば、ノズルの分配方向は、ノズルの平均分配方向と理解され得る。幾つかの実施形態では、平均分配方向は、ノズルからコーティングされる基板に向かって放出される蒸発した材料のプルームの中の線、特に、蒸発した材料の濃度が、それに沿って蒸発した材料のプルーム内で最大値に達する線と、実質的に対応し得る。幾つかの実施形態では、ノズルの平均分配方向は、ノズルから堆積させる基板に向かって放出される蒸発した材料のプルームの形状寸法の中心線に対応すると理解され得る。幾つかの実施形態では、蒸気プルームの中心線は、蒸発した材料のプルームの形状寸法の重心と、ノズルの長さ軸又は縦軸の点、例えばノズル出口の点、とを含む線とに対応すると説明され得る。更なる実施形態によれば、ノズルの平均分配方向は、ノズル出口とコーティングされる基板との間、特にノズルの長さ軸又は縦軸に位置するノズル出口の点とコーティングされる基板との間の距離が最小となる状態で、線に沿って延びると説明され得る。
[0042]図5bは、幾つかの実施形態による材料源100a及び100bを含む材料堆積装置の上面図を示す。図5a及び図5bに示される例から分かるように、第1の分配管106aのノズル712は、第1の分配方向210を提供し、第2の分配管106bのノズル712は、第2の分配方向211を提供する。典型的には、第1の分配管及び第2の分配管のノズルは、第1の分配方向及び第2の分配方向が互いに平行であるように配置される。幾つかの実施形態によれば、第1の分配方向及び第2の分配方向は、厳密な平行配置から最大で5°までのずれ、例えば、厳密な平行配置から約3°又は約2°のずれなど、を有し得る。幾つかの実施形態によれば、図5a及び図5bに示された第1の分配方向210及び第2の分配方向211は、互いの間に約30mm以下の距離を有し得る。
[0043]先ほど既に説明されたように、図5a及び図5bに図示された材料堆積装置の第1の分配管及び第2の分配管は、三角形のような形状を有し得る。図6a及び図6bは、第1の分配管及び第2の分配管のノズルの分配方向が互いに実質的に平行である、実質的に三角形状の材料堆積装置を示す。
[0044]図6aは、第1の分配管106aを有する第1の材料源、第2の分配管106bを有する第2の材料源、及び第3の分配管106cを有する第3の材料源が提供される実施形態の断面図を示す。幾つかの実施形態によれば、分配管には、加熱効率を改善し、分配管内の蒸発した材料の凝縮を回避するための加熱要素380及び熱絶縁体879が装備され得る。蒸発器制御ハウジング702は、分配管に隣接して提供され、熱絶縁体879を介して分配管に結合される。分配管106a、106b、及び106c上(投影面で見たとき)の矢印は、分配管106a、106b、及び106cを出る蒸発した有機材料を図解する。分配管のそれぞれのノズルの平均分配方向は、参照符号210、211、及び212で表示される。図6aで分かるように、異なる分配管の分配方向は、実質的に平行である。
[0045]3つの分配管106a、106b、及び106cのノズル712の部分的簡略図が、図6bに示されている。典型的に示された3つのノズル712は、長さ軸又は縦軸201、202、203を有している。ノズル712は、分配管106a、106b、及び106cからコーティングされる基板(図示されず)に向かって、第1の分配方向210、第2の分配方向211、及び第3の分配方向212に、蒸発した材料を案内し得る。図6bに図示した実施形態に示されるように、3つの分配方向は互いに平行であるか、又は厳密な平行配置から最大で5°までずれることがある。
[0046]本明細書に記載の実施形態によれば、本明細書で参照した第1、第2の及び第3の分配管などの異なる分配管は、例えば、3つの分配管の場合に3つの異なる蒸発器などの、異なる蒸発器と流体連通して位置し得る。幾つかの実施形態では、異なる分配管は、同一の種類の蒸発器であるが異なる材料を蒸発させる蒸発器と流体連通して位置してもよい。例えば、3つの異なる構成要素が、3つの蒸発器と流体連通して位置する3つの分配管によって提供され得る。1つの例では、本明細書に記載の材料堆積装置は、OLEDを生産するために使用され得る。蒸発した材料は、OLEDを生産するために使用される3つの構成要素を含み得る。
[0047]本明細書に記載の実施形態による、異なるノズルの分配方向の平行配置を使用すること、及び長さ対サイズの比率が2:1であるノズルを使用することは、ノズルから放出される際の、蒸発した材料の挙動の均一性及び予測性を改善するのに役立ち得る。例えば、蒸発した材料の方向が別の蒸発した材料の方向と実質的に平行であるか隣接していることにより、マスク及び/又は基板に蒸発した材料の規則正しく均一な影響を及ぼすことが可能になり得る。1つの例では、異なる分配管の異なる構成要素は、マスク及び/又は基板に実質的に同一の衝突角、特にマスク及び/又は基板に実質的に直角の衝突角を有し得る。一又は複数の構成要素のコーティングの生産は、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置によって、より精密な方法で実行され得る。更に、分配方向の平行な配置を有する材料源は、異なる材料源が分配方向同士の間に画定した角度を有しているときに、例えば、既知のシステムで行われるような、装着及び計算の労力を低減し得る。更に、本明細書に記載の実施形態による、上述の分配方向の平行配置を含む材料堆積装置は、異なる構成要素が異なる材料源で使用される場合、結果として、異なる構成要素を均一に混合することができる。
[0048]幾つかの実施形態によれば、蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための分配管が提供される。分配管は、分配管ハウジングと、分配管ハウジング内のノズルとを含む。ノズルは、開口長さと開口サイズとを含み、ノズルの長さ対サイズの割合は、2:1以上である。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせてもよい、幾つかの実施形態によれば、ノズルは、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含む。1つの例では、蒸発した有機材料は、典型的には約150℃及び約650℃、より典型的には約100℃から500℃までの温度を有し得る。
[0049]図7aから図7dは、本明細書に記載の実施形態による分配管のノズルの例を示す。図7aから図7dに示すノズル200は、蒸発した材料をノズルを介して案内するための開口203(又は通路若しくは穴203)を含む。本明細書に記載の実施形態によれば、ノズル200は、開口長さ714と開口サイズ716とを有している。本明細書に記載の実施形態におけるノズルの長さ対サイズの比率は、例えば上述のように、2:1以上であり得る。「開口長さ」及び「開口サイズ」という用語は、図1aから図1fに関して先ほど説明されたと理解され得る。
[0050]図7aは、第1のノズル材料206と第2のノズル材料208とを含むノズルを示す。例えば、第1のノズル材料206は、例えば、銅など、21W/mKを上回る熱伝導率値を有する材料であり得る。第2のノズル材料208は、開口又は通路203の内側に提供され得、幾つかの実施形態では、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性であり得る。例えば、第2のノズル材料は、Ta、Nb、Ti、DLC、ステンレス鋼、石英ガラス及びグラファイトから選択され得る。図7aに示された実施形態から分かるように、第2のノズル材料208は、経路203の内側で薄いコーティングとして提供され得る。
[0051]図7bは、第1のノズル材料206と第2のノズル材料208とを有するノズルの実施形態を示す。図7bに示したノズルの例は、第1のノズル材料206(例えば、21W/mKを上回る熱伝導率値を有している)から作られた第1の部品と、蒸発した有機材料に対して不活性であり得る、第2のノズル材料208から作られた第2の部品とから成る。1つの例では、第1及び第2のノズル材料は、図7aに関して説明されたように選択され得る。図7bから分かるように、第2のノズル材料208は、特に内側の通路側面というだけではなく、ノズルの一部である。
[0052]幾つかの実施形態によれば、第2のノズル材料の厚さは、典型的には、数ナノメートルから数マイクロメートルの範囲内であり得る。1つの例では、ノズル開口の第2のノズル材料の厚さは、典型的には、約10nmから約50μmの間、より典型的には、約100nmから約50μmの間、更により典型的には、約500nmから約50μmの間であり得る。1つの例では、第2のノズル材料の厚さは、約10μmであり得る。
[0053]図7cは、ノズルが結合され得る分配管の熱伝導率より大きい熱伝導率、又は21W/mKを上回る熱伝導率を有する、第1のノズル材料から作られている、ノズル712の実施形態を示す。本明細書に記載の実施形態では、第1のノズル材料206は、蒸発した有機材料に対して不活性である。1つの例では、第1のノズル材料は、Ta、Nb、Ti、DLC、又はグラファイトから選択され得る。
[0054]図7dは、本明細書に記載された実施形態による、図7aに示されたノズルの斜視図を示す。開口713の中に、第2のノズル材料208を見ることができ、その一方で、ノズル712の外側には、第1のノズル材料206が示される。
[0055]本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、蒸発プロセス中に蒸発した材料がそれを介して流れ、コーティングされる基板に到達する、ノズルの開口又は通路は、典型的には、約1mmから約10mmまで、より典型的には、約1mmから約6mmまで、更により典型的には、約2mmから約5mmまでのサイズを有し得る。幾つかの実施形態によれば、通路又は開口の直径は、例えば、通路又は開口の直径など、断面の最小寸法に言及し得る。1つの実施形態では、開口又は通路のサイズは、ノズルの出口で測定される。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせてもよい、本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、開口又は通路は、例えば、約10μmから約18μmの公差で生産されるなど、公差域H7で生産され得る。
[0056]本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、本明細書に記載の実施形態による、真空堆積チャンバの中の基板の上に材料を堆積させるための材料堆積装置用の又は分配管用のノズルは、分配管へのノズルの結合及び結合解除を反復的に行うためのねじ山を備え得る。幾つかの実施形態では、分配管に結合するためのねじ山を有するノズルは、特に分配管又はノズルを破壊せずに、ノズルを分配管に反復可能に結合することができる雌ねじ及び/又は雄ねじを有し得る。例えば、定義された特徴を有する第1のノズルは、第1のプロセスのために分配管に結合され得る。第1のプロセスが終了した後に、第1のノズルは結合解除され、第2のノズルが、第2のプロセスのために分配管に結合され得る。第1のプロセスが再び実行される場合、第2のノズルが分配管から結合解除され、第1のノズルが、第1のプロセスを実行するために分配管に再び結合され得る。幾つかの実施形態によれば、分配管はまた、例えば、ノズルのねじ山に一致させることによって、ノズルの分配管への交換可能な結合用のねじ山を更に備え得る。
[0057]本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、本明細書の実施形態に記載の材料堆積装置、及び本明細書の実施形態に記載の分配管は、図8aから図8cに見ることができる。分配管106は、るつぼ104によって提供される蒸発材料を分配するためにるつぼと流体連通した状態で位置し得る。分配管は、例えば、加熱ユニット715を有する細長い立方体とすることができる。蒸発るつぼは、加熱ユニット725で蒸発する有機材料用のリザーバとすることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、典型的な実施形態によれば、分配管106は、線源を提供する。本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、材料堆積装置100は、少なくとも1つの線に沿って配置されているノズルなど、蒸発した材料を基板に向かって放出するための複数の開口及び/又は出口を更に含む。
[0058]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、分配管のノズルは、分配管の長さ方向に実質的に直角である方向など、分配管の長さ方向と異なる方向に蒸発した材料を放出するように適合され得る。幾つかの実施形態によれば、出口(例えば、ノズル)は、主要な蒸発方向が水平に±20°となるように配置される。幾つかの特定の実施形態によれば、蒸発方向は、僅かに上方に、例えば、3°から7°上方になど、水平から15°までの範囲で上方に配向することができる。同様に、基板は、蒸発方向に実質的に直角となるように僅かに傾斜させることができる。傾斜した基板の場合、不所望な粒子の生成を低減することができる。しかしながら、本明細書に記載の実施形態によるノズル及び材料堆積装置はまた、水平に配向された基板の上に材料を堆積させるように構成されている堆積装置で使用されてもよい。
[0059]1つの例では、分配管106の長さは、少なくとも堆積装置の中に堆積させる基板の高さに対応する。多くの場合、分配管106の長さは、堆積させる基板の高さよりも、少なくとも10%ほど又は20%ほどさえも長いことがあろう。分配管が基板の高さより長い状態で、基板の上端及び/又は基板の下端における均一な堆積を提供することができる。
[0060]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、分配管の長さは、1.3m以上、例えば、2.5m以上とすることができる。1つの構成によれば、図1aに示されるように、蒸発るつぼ104は、分配管106の下端に提供される。有機材料は、蒸発るつぼ104の中で蒸発する。有機材料の蒸気が、分配管の底で分配管106に入り、本質的に横に分配管の中の複数のノズルを通って、例えば、本質的に垂直な基板の方へ案内される。
[0061]図8bは、分配管106が蒸発るつぼ104に結合された状態の材料源の一部の拡大概略図を示す。蒸発るつぼ104と分配管106との間を結合するように構成されているフランジユニット703が提供される。例えば、蒸発るつぼ及び分配管が、例えば、材料源の動作のために、フランジユニットで分離及び結合又は組み立てできる別個のユニットとして提供される。
[0062]分配管106は、内部空洞710を有している。加熱ユニット715は、分配管を加熱するために提供され得る。したがって、分配管106は、蒸発るつぼ104によって提供される有機材料の蒸気が、分配管106の壁の内側部分で液化しない温度まで加熱することができる。
[0063]例えば、分配管は、典型的には、約1℃から約20℃、更に典型的には、約5℃から約20℃、また更に典型的には、約10℃から約15℃の温度で保持され得、それらの温度は、基板の上に堆積させる材料の蒸発温度よりも高い。2以上の熱シールド717が、分配管106の管周囲に提供される。
[0064]動作中に、分配管106が、フランジユニット703で蒸発るつぼ104と結合され得る。蒸発るつぼ104は、蒸発させる有機材料を受容し、有機材料を蒸発させるように構成される。幾つかの実施形態によれば、蒸発させる材料は、ITO、NPD、Alq3、キナクリドン、Mg/AG、スターバースト材料などのうちの少なくとも1つを含み得る。図8bは、蒸発るつぼ104のハウジングを通る断面図を示す。リフィル開口は、例えば、プラグ722、蓋、カバー又は蒸発るつぼ104の筐体を閉じるための同種のものを使用して閉鎖することができる、蒸発るつぼの上部に提供される。
[0065]外側加熱ユニット725は、蒸発るつぼ104の筐体内に提供される。外側加熱要素は、少なくとも蒸発るつぼ104の壁の一部に沿って延びることができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、一又は複数の中央加熱要素726を追加的に又は代替的に提供することができる。図8bは、2つの中央加熱要素726を示す。幾つかの実施態様によれば、蒸発るつぼ104は、シールド727を更に含むことができる。
[0066]幾つかの実施形態によれば、図8a及び図8bに典型的に示されるように、蒸発るつぼ104は、分配管106の下端に提供される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、蒸気導管732は、分配管106の中央部分又は分配管の下端と分配管の上端との間の別の位置で分配管に提供することができる。図8cは、分配管106及び分配管の中央部分に提供される蒸気導管732を有する材料源の例を示す。有機材料の蒸気は、蒸発るつぼ104の中で生成され、蒸気導管732を通って分配管106の中央部分に案内される。蒸気は、図7aから図7dに関して記載されたノズルであり得る、複数のノズル712を通って、分配管106を出る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、2つ以上の蒸気導管732を分配管106の長さに沿って異なる位置に提供することができる。幾つかの実施形態では、蒸気導管732は、1つの蒸発るつぼ104か、幾つかの蒸発るつぼ104かのどちらかに結合することができる。例えば、各蒸気導管732は、対応する蒸発るつぼ104を有することができる。代替的には、蒸発るつぼ104は、分配管106に結合されている2以上の蒸気導管732と流体連通することができる。
[0067]本明細書に記載されるように、分配管は、中空円筒とすることができる。円筒という用語は、円形の底部形状と、円形の上部形状と、上部の円及び小さな下部の円とを結合する湾曲した表面積又は外郭とを有するものと一般に認められると理解することができる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる追加的又は代替的実施形態によれば、円筒という用語は、数学的意味において、任意の底部形状と、一致する上部形状と、上部形状と下部形状とを結合する湾曲した表面積又は外郭とを有すると更に理解することができる。したがって、円筒は、必ずしも円形断面を有している必要はない。その代わりに、底面及び上部面は、円と異なる形状を有することができる。
[0068]図9a及び図9bは、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置のための分配管106の実施形態の断面図を示す。幾つかの実施形態によれば、分配管106は、第1のハウジング材料を含む又は第1のハウジング材料から作られる分配管ハウジング116を含む。図9a及び図9bに示す実施形態から分かるように、分配管は、第1の方向136に沿って延びる直線的分配管である。
[0069]図9aは、分配管ハウジングの第1の方向に沿って配置されている複数の開口107を有する分配管を示す。幾つかの実施形態では、分配管の開口の壁109は、本明細書に記載の実施形態によるノズルと理解され得る。1つの例では、開口107の壁109は、第1のノズル材料を含み得(例えば、第1のノズル材料でコーティングされることによって)、第1のノズル材料の熱伝導率値は、幾つかの例において、第1の分配管材料の熱伝導率より大きい又は21W/mKより大きいことがある。1つの例では、開口107の壁109は、銅で覆われてもよい。1つの実施形態では、壁は、銅及び蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料などの第2のノズル材料で覆われてもよい。
[0070]図9bは、本明細書に記載の実施形態による分配管の実施形態を示す。図9bに示された分配管106は、延長壁108が提供されている開口107を含む。典型的には、開口107の延長壁108は、分配管ハウジング116の第1の方向136に実質的に直角な方向に延びる。幾つかの実施形態によれば、開口107の壁108は、分配管から任意の適した角度で延び得る。幾つかの実施形態では、分配管ハウジング116の開口107の壁108は、本明細書の実施形態による分配管106のノズルを提供し得る。例えば、壁108は、第1のノズル材料を含み得る、又は第1のノズル材料から作られ得る。幾つかの実施形態では、壁108は、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料などの、第1及び/又は第2のノズル材料で内壁がコーティングされ得る。
[0071]幾つかの実施形態では、壁108は、例えば、図8aから図8dに典型的に示されているノズルなどのノズルを分配管ハウジング116に装着するための装着補助具を提供する。幾つかの実施形態によれば、壁108は、ノズルを分配管ハウジング116にねじで取り付けるためのねじ山を提供し得る。
[0072]本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせてもよい、幾つかの実施形態によれば、本明細書で参照される材料堆積装置又は分配管のノズルは、cosのような形状の輪郭を有するプルームを形成するように設計され得、この場合、nは特に4を上回る。1つの例では、ノズルは、cosのような形状の輪郭を有するプルームを形成するように設計される。蒸発した材料のcosに形成されたプルームを実現するノズルは、狭い形状のプルームが所望される場合に役立ち得る。例えば、小さな開口(約20μmのサイズを有する開口など)を有する基板用のマスクを含む堆積プロセスは、狭いcos形状のプルームから利益を得、材料の利用は、蒸発した材料のプルームがマスクの上に広がらないが、マスクの開口を通過するので、増加し得る。幾つかの実施形態によれば、ノズルは、ノズルの長さとノズルの通路の直径との関係が、2:1以上などの定義された関係で位置するように設計され得る。追加的又は代替的な実施形態によれば、ノズルの通路は、所望のプルーム形状を実現するためのステップ、傾斜、一又は複数のコリメータ構造及び/又は圧力段を含み得る。
[0073]本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、真空堆積チャンバが記載される。真空堆積チャンバは、上記の実施形態のいずれかによる材料堆積装置を含む。真空堆積チャンバは、堆積中に基板を支持するための基板支持体を更に含む。典型的には、材料堆積装置の分配管の少なくとも1つと基板支持体との間の距離は、250mm未満である。幾つかの実施形態によれば、分配管と基板支持体との間の距離は、分配管のノズル出口及び基板との平面に位置する基板支持体の位置(例えば、接点、クランプ又はそのようなもの)から測定され得る。
[0074]幾つかの実施形態では、真空堆積チャンバは、開口サイズ対開口長さの比率が2:1以上であるノズルを有する材料堆積装置を含み得る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい、幾つかの実施形態によれば、真空堆積チャンバは、前述の第1の及び第2の材料源(例えば、複数の第1のノズルを有する第1の分配管、及び複数の第2のノズルを有する第2の分配管)などの、第1の材料源及び第2の材料源を有する材料堆積装置を含み得る。典型的には、複数の第1のノズルの第1のノズルと複数の第2のノズルの第2のノズルとの間の距離は、30mm以下である。
[0075]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい、幾つかの実施形態によれば、真空堆積チャンバは、開口サイズ対開口長さの比率が2:1以上であるノズルを有する材料堆積装置を含み得る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい、幾つかの実施形態によれば、真空堆積チャンバは、前述の第1の及び第2の材料源(例えば、複数の第1のノズルを有する第1の分配管、及び複数の第2のノズルを有する第2の分配管)などの、第1の材料源及び第2の材料源を有する材料堆積装置を含み得る。典型的には、第1の分配管の複数の第1のノズルの少なくとも1つは、第1の分配方向を提供し、複数の第2のノズルの少なくとも1つは、第2の分配方向を提供する。幾つかの実施形態では、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルの第1の分配方向、及び複数の第2のノズルの一又は複数のノズルの第2の分配方向は、互いに平行に配置されている又は平行な配置から最大で5°までずれて配置されている。
[0076]幾つかの実施形態によれば、真空堆積チャンバは、分配管ハウジングと分配管ハウジングのノズルとを含む分配管を有する材料堆積装置を含み得る。ノズル開口の長さ対サイズの割合は、2:1以上であり、ノズルは、上記で参照した有機材料などの蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含む。
[0077]図10は、本明細書に記載の実施形態による材料堆積装置、分配管又はノズルが使用され得る堆積装置300を示す。ノズル又は分配管など、以下で参照される要素は、図1から図9に関して先ほど詳しく記載された要素であり得る。例えば、以下で参照される分配管は、組み合わせた実施形態が互いに矛盾しない限り、図1から図9に関して典型的に記載された分配管であり得る。
[0078]図10の堆積装置300は、真空チャンバ110の中のある位置における材料源100を含む。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、材料源は、並進運動及び軸周囲での回転のために構成される。材料源100は、一又は複数の蒸発るつぼ104と、一又は複数の分配管106とを有している。2つの蒸発るつぼと2つの分配管が、図10に示される。分配管106は、支持体102によって支持される。更に、幾つかの実施形態によれば、蒸発るつぼ104はまた、支持体102によっても支持することができる。2つの基板121が、真空チャンバ110の中に提供される。典型的には、基板上への層堆積のマスキング用マスク132は、基板と材料源100との間に提供することができる。幾つかの実施形態では、マスクは、典型的には、約10μmから約50μmまで、より典型的には、約15μmから40μmまで、更に典型的には、約15μmから約30μmまでのサイズ(例えば、断面の直径又は最小寸法)を含む開口を有するピクセルマスクなどのピクセルマスクであり得る。1つの例では、マスク開口のサイズは、約20μmである。別の例では、マスク開口は、約50μm×50μmの延長を有する。有機材料は、分配管106から蒸発する。
[0079]本明細書に記載の実施形態によれば、基板は、本質的に垂直位置において有機材料でコーティングされる。図10に示された図は、材料源100を含む装置の上面図である。典型的には、分配管は、直線的蒸気分配シャワーヘッドである。幾つかの実施形態によれば、分配管は、本質的に垂直に延びる線源を提供する。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、本明細書に記載の実施形態によれば、本質的に垂直とは、特に基板配向に言及する際に、20°以下、例えば、10°以下、の垂直方向からのずれを許容すると理解される。そのずれは、例えば、垂直配向からのいくらかのずれを有する基板支持体がより安定した基板位置をもたらし得るので、提供される可能性がある。しかし、有機材料の堆積中の基板配向は、本質的に垂直と考えられ、水平な基板配向とは異なると考えられる。幾つかの実施形態では、基板の表面は、1つの基板寸法及び他の基板寸法に対応する他の方向に沿った並進運動に対応する1つの方向に延びる線源によってコーティングされる。他の実施形態では、堆積装置は、本質的に水平に配向された基板の上に材料を堆積させるための堆積装置であり得る。例えば、堆積装置における基板のコーティングは、上下方向に実行され得る。
[0080]図10は、真空チャンバ110の中に有機材料を堆積させるための堆積装置300の実施形態を示す。材料源100は、例えば、ループ状軌道又は線形ガイド320などの軌道で真空チャンバ110の中に提供される。線形ガイド320の軌道は、材料源100の並進運動のために構成される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる異なる実施形態によれば、並進運動のためのドライバを、材料源100の中に、軌道又は線形ガイド320に、真空チャンバ110内に、又はそれらの組み合わせにおいて、提供することができる。図10は、例えば、ゲートバルブなどの、バルブ205を示す。バルブ205は、隣接する真空チャンバ(図10に示されず)に対する真空密閉を可能にする。バルブは、基板121又はマスク132の真空チャンバ110内への又は真空チャンバ110からの搬送のために開放することができる。
[0081]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、保守真空チャンバ210などの更なる真空チャンバが、真空チャンバ110に隣接して提供される。幾つかの実施形態では、真空チャンバ110及び保守真空チャンバ210は、バルブ207で結合される。バルブ207は、真空チャンバ110と保守真空チャンバ210との間の真空密閉を開閉するように構成される。材料源100は、バルブ207が開放状態にある間、保守真空チャンバ210に移送することができる。その後、バルブは、真空チャンバ110と保守真空チャンバ210との間に真空密閉を提供するために閉鎖することができる。バルブが閉鎖される場合、保守真空チャンバ210は、真空チャンバ110の中の真空を破壊せずに、材料源100保守のために換気及び開放することができる。
[0082]2つの基板121は、図10に示される実施形態の真空チャンバ110内のそれぞれの搬送軌道上で支持される。幾つかの実施形態によれば、分配管の少なくとも1つと基板支持体との間の距離は、250mm未満である。図10で、距離は、基板支持体126と材料源100の分配管106のノズルの出口との間の距離101によって示される。更に、上部にマスク132を提供するための2つの軌道が提供される。基板121のコーティングは、それぞれのマスク132によってマスクすることができる。典型的な実施形態によれば、マスク132、即ち、第1の基板121に対応する第1のマスク132、及び第2の基板121に対応する第2のマスク132は、マスクフレーム131の中に提供され、所定の位置でマスク132を保持する。
[0083]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、基板121は、位置合わせユニット112に結合された基板支持体126によって支持することができる。位置合わせユニット112は、マスク132に対する基板121の位置を調整することができる。図10は、基板支持体126が位置合わせユニット112に結合される実施形態を示す。したがって、基板は、有機材料の堆積中に、基板とマスクとの間で正確な位置合わせを行うために、マスク132に対して移動される。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる更なる実施形態によれば、代替的に又は追加的に、マスク132及び/又はマスク132を保持するマスクフレーム131を位置合わせユニット112に結合することができる。幾つかの実施形態によれば、マスクを基板121に対して位置付けることができるか、マスク132及び基板121の双方を互いに対して位置付けることができるかのどちらかである。位置合わせユニット112は、基板121とマスク132との間で互いに対して位置を調整するように構成され、堆積処理中にマスキングの正しい位置合わせを可能にするが、これは、高品質のLEDディスプレイ製造、又はOLEDディスプレイ製造に有益である。
[0084]図10に示されるように、線形ガイド320は、材料源100の並進運動の方向を提供する。材料源100の両側に、マスク132が提供される。マスク132は、並進運動の方向に本質的に平行に延びることができる。更に、材料源100の対向する側面における基板121はまた、並進運動の方向に本質的に平行に延びることができる。典型的な実施形態によれば、基板121は、バルブ205を介して、真空チャンバ110内へ及び真空チャンバ110から移動させることができる。堆積装置300は、基板121各々の搬送用のそれぞれの搬送軌道を含むことができる。例えば、搬送軌道は、図10に示される基板位置に平行に、真空チャンバ110内へかつ真空チャンバ110から延びることができる。
[0085]典型的には、更なる軌道が、マスクフレーム131及びマスク132を支持するように提供される。したがって、本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態は、真空チャンバ110内に4つの軌道を含むことができる。マスク132の洗浄のためなど、チャンバからマスク132の1つを移動させるために、マスクフレーム131及びマスクは、基板121の搬送軌道上に移動させることができる。次に、それぞれのマスクフレームは、基板の搬送軌道上で真空チャンバ110を出入りすることができる。真空チャンバ110内への及び真空チャンバ110からの別個の搬送軌道をマスクフレーム131に提供することが可能であっても、堆積装置300の所有コストは、ただ2つの軌道、即ち、基板の搬送軌道が、真空チャンバ110内に及び真空チャンバ110から延びる場合に、削減することができ、加えて、マスクフレーム131は、適切なアクチュエータ又はロボットによって基板の搬送軌道のそれぞれ1つの上に移動させることができる。
[0086]図10は、材料源100の典型的実施形態を示す。材料源100は、支持体102を含む。支持体102は、線形ガイド320に沿った並進運動のために構成される。支持体102は、2つの蒸発るつぼ104、及び蒸発るつぼ104の上に提供された2つの分配管106を支持する。蒸発るつぼで生成された蒸気は、上に向かって、分配管の一又は複数のノズル又は出口から移動することができる。
[0087]本明細書に記載の実施形態によれば、材料源は、一又は複数の蒸発るつぼと、一又は複数の分配管とを含み、一又は複数の分配管のそれぞれ1つが、一又は複数の蒸発るつぼのそれぞれ1つと流体連通することができる。OLEDデバイス製造への様々な適用は、一又は複数の有機材料が同時に蒸発する処理の特徴を含む。したがって、図10に示された例について、2つの分配管及び対応する蒸発るつぼを、互いに隣接して提供することができる。したがって、材料源100はまた、例えば、2種類以上の有機材料が同時に蒸発する、材料源アレイと呼ばれることがある。本明細書に記載されるように、材料源アレイそれ自体は、2以上の有機材料のための材料源と呼ぶことができ、例えば、3つの材料を蒸発させ、それらを1つの基板上に堆積させるための材料源アレイが提供され得る。幾つかの実施形態によれば、材料源アレイは、同一の材料を異なる材料源から同時に提供するように構成され得る。
[0088]分配管の一又は複数のノズルは、例えば、シャワーヘッド又は別の蒸気分配システムに提供することができる、一又は複数のノズルを含み得る。本明細書に記載の分配管に提供されるノズルは、図8aから図8dに関して記載されたノズルなど、本明細書の実施形態に記載されたノズルであり得る。分配管は、分配管の圧力が分配管の外側の圧力よりも、例えば、少なくとも1桁ほど、高くなるような開口を有する筐体を含むと、本明細書では理解できる。1つの例では、分配管の圧力は、約10−2mbarから約10−3mbarまでであり得る。
[0089]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、本明細書に記載の実施形態によれば、分配管の回転は、少なくとも分配管が装着される蒸発器制御ハウジングの回転により提供することができる。追加的に又は代替的には、分配管の回転は、ループ状軌道の湾曲部分に沿って材料源を移動させることによって提供することができる。典型的には、また蒸発るつぼは、蒸発器制御ハウジングに装着される。したがって、材料源は、分配管と蒸発るつぼとを含み、その双方が、例えば一緒に、回転可能に装着されうる。
[0090]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、分配管又は蒸発管は、三角形に設計することができ、ゆえに分配管の開口又はノズルを互いにできるだけ接近させることが可能である。分配管の開口又はノズルを互いにできるだけ接近させることによって、例えば、2つ、3つ又はそれ以上の異なる有機材料を一緒に蒸発させる場合など、異なる有機材料の改良された混合を実現できるようになる。
[0091]本明細書に記載の実施形態によれば、分配管の出口側(開口を含む分配管の側)の幅は、断面の最大寸法の30%以下である。これに照らして、分配管の開口又は隣接する分配管のノズルは、より小さな距離で提供することができる。距離が小さければ、互いに隣り合って蒸発する有機材料の混合が改善される。また更に、追加的に又は代替的には、有機材料の混合が改善されることとは別に、本質的に平行に基板に面している壁の幅を低減することができる。同様に、本質的に平行には基板に面している壁の表面積を低減することができる。この配置より、堆積エリアの中で又は堆積エリアより少し前に支持されるマスク又は基板に提供される熱負荷が低減される。
[0092]追加的に又は代替的には、材料源の三角形状を考慮すると、マスクに向かって放射状に広がる面積は、低減される。加えて、例えば、最大で10までの金属板など、大量の金属板が、材料源からマスクまでの熱伝達を低減するために提供できる。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、幾つかの実施形態によれば、熱シールド又は金属板には、ノズルに対してオリフィスを提供することができ、源の少なくとも前側、即ち、基板に面する側面に取り付けられ得る。
[0093]図10に示される実施形態は、堆積装置に可動源を提供するが、当業者は、上記実施形態がまた、処理中に基板が移動する堆積装置内にも適用され得ると理解するだろう。例えば、コーティングされる基板は、静止した材料源に沿って案内及び駆動され得る。
[0094]本明細書に記載の実施形態は、特に、例えば、大面積基板上でのOLEDディスプレイ製造用などの、有機材料の堆積に関する。幾つかの実施形態によれば、大面積基板、又は一又は複数の基板を支持するキャリア、即ち、大面積キャリアが、少なくとも0.174mのサイズを有しうる。例えば、約1.4mの基板(1.1m×1.3m)に対応するGEN5、約4.29mの基板(1.95m×2.2m)に対応するGEN7.5、約5.7mの基板(2.2m×2.5m)に対応するGEN8.5、又は約8.7mの基板(2.85m×3.05m)に対応するGEN10の基板など、大面積基板を処理するために、堆積装置が適合され得る。GEN11及びGEN12などの更に大型の世代並びに対応する基板面積も、同様に実装可能である。本明細書に記載された他の実施形態と組み合わせることができる典型的な実施形態によれば、基板の厚さを0.1から1.8mmとすることができ、基板用の保持装置は、そのような基板の厚さに適合することができる。しかしながら、特に基板の厚さは、約0.9mm以下、0.5mm又は0,3mmなどとすることができ、保持装置は、そのような基板の厚さに適合される。典型的には、基板は、材料堆積に適した任意の材料から作られ得る。例えば、基板は、ガラス(例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど)、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、又は堆積処理によってコーティングできる任意の他の材料若しくは材料の組合せからなる群から選択された材料から作られ得る。
[0095]幾つかの実施形態によれば、蒸発した材料を、チャンバ空間を有する真空堆積チャンバの中の基板の上に堆積させるための方法が提供される。チャンバ空間は、チャンバ壁によって包囲された空間、特に同一の圧力レジームを提供する空間と理解され得る。本明細書に記載の実施形態による方法を示すフローチャート400が、図11に示される。方法は、ブロック410で、チャンバ空間内に配置された第1の材料蒸発器によって第1の材料を蒸発させることを含む。例えば、第1の材料蒸発器は、有機材料を蒸発させるための源であり得る。1つの例では、蒸発器は、約150℃から約500℃の蒸発温度を有する材料を蒸発させるために適合され得る。幾つかの実施形態では、材料源は、るつぼであり得る。
[0096]ブロック420で、方法は、蒸発した第1の材料を、第1の分配管ハウジングを備える第1の分配管に提供することを含む。本明細書に記載の実施形態によれば、第1の分配管は、第1の材料蒸発器と流体連通している。幾つかの実施形態によれば、分配管は、例えば、直線的分配管などの前述の分配管、又は図1から図9に関して図示され説明された分配管であり得る。第1の分配管に蒸発した第1の材料を提供することは、第1の分配管の中に約10−2〜10−1mbarの圧力を提供することを更に含む。ブロック430で、蒸発した材料は、第1の分配管ハウジングの中の複数の第1のノズルの一又は複数を通して案内される。典型的には、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルは、開口長さと開口サイズとを有しており、一又は複数のノズルを通して蒸発した材料を案内することが、2:1以上の長さ対サイズの比率を有する一又は複数のノズルを通して蒸発した材料を案内することを更に含む。幾つかの実施形態によれば、蒸発した材料がそこを通して案内されるノズルは、上記実施形態に記載されたノズルであり得る。1つの例では、ノズルは、分配管ハウジングにねじで取り付けられ得る。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよいある実施形態では、ノズルは、図7aから図7dに示されているノズルなど、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含み得る。幾つかの実施形態によれば、ノズルは、図9a及び図9bに関して典型的に図示され説明された分配管の一部であり得る。
[0097]ブロック440で、蒸発した材料は、チャンバ空間の中の基板に向かって、チャンバ空間に放出される。典型的には、チャンバ空間は、約10−5mbarから10−7mbar、より典型的には約10−6mbarから約10−7mbarの圧力を提供する。例えば、真空チャンバは、チャンバを約10−5mbarから10−7mbarの圧力まで排気することができ、その圧力をチャンバ内で維持するためのポンプ、シールなどを含み得る。幾つかの実施形態では、ノズルから放出された蒸気プルームは、cosのような分配を有し得る。本明細書に記載の幾つかの実施形態によれば、cosのような分配を有する蒸気プルームは、例えば、cosのような分配を有する蒸気プルームより小さなシャドウイング効果を提供し得る。その効果は、例えば、図3aから図3cに示される。分配した材料のcosのような分配により、堆積の精密さだけではなく、基板上での材料堆積の均一性も、増加させることができる。
[0098]幾つかの実施形態によれば、方法は、チャンバ空間の中の第2の材料蒸発器を使用して第2の材料を蒸発させることと、蒸発した第2の材料を、第2の分配管ハウジングを含む第2の分配管に提供することとを更に含む。幾つかの実施形態によれば、第2の材料は、第1の材料と同一の材料であり得る。他の実施形態では、第2の材料は、第1の材料と異なる。幾つかの実施形態では、第2の分配管は、上記の分配管であり得る。典型的には、第2の分配管は、第2の材料蒸発器と流体連通しており、蒸発した材料を第2の分配管に提供することは、約10−2mbarから10−1mbarの圧力を第2の分配管の中に提供することを含む。真空チャンバ及び/又は材料堆積装置には、分配管の中に圧力を提供し維持するためのポンプ、シール、スルースなどが提供され得る。方法は、第2の分配管ハウジングの中の複数の第2のノズルの一又は複数を通して蒸発した材料を案内することを更に含み得る。幾つかの実施形態では、第1の蒸発した材料及び第2の蒸発した材料は、30mm未満の距離で、第1の分配管の一又は複数の第1のノズル及び第2の分配管の一又は複数の第2のノズルを通して案内される。30mm未満の距離により、例えば、OLEDディスプレイ又はそのようなものの生産に対して、異なる蒸発した材料の基板への正確な堆積が可能となり得る。
[0099]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい実施形態によれば、第1の蒸発した材料が、第2の分配管の一又は複数の第2のノズルの第2の分配方向に平行である又は平行な配置から最大で5°までずれている第1の分配方向に、第1の分配管の一又は複数の第1のノズルから放出される。分配方向の平行な配置により、異なる材料源からもたらされる異なる蒸発材料の定義された堆積及び混合特性が可能になり得る。
[00100]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい更なる実施形態によれば、第1の分配管及び第2の分配管の少なくとも1つの一又は複数のノズルは、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含む。不活性材料(例えば、ノズル開口のコーティングとしての不活性材料)を含むノズルを通過する蒸発した材料は、ノズル材料によって影響を受けず、所望の状態に留まる。例えば、蒸発した材料の組成物は、ノズルの前後で同一のままである。1つの例では、方向、流速及び圧力は、しかしながら、ノズルによって影響を受けることがある。
[00101]幾つかの実施形態では、方法は、基板又は上方に堆積させる材料の蒸発温度まで分配管を加熱することを含む。分配管の加熱は、加熱デバイスによって実行され得る。1つの例では、加熱デバイスの性能は、例えば、図8aから図8cに関して先ほど説明されたように、熱シールドによって支持される。
[00102]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい幾つかの実施形態では、蒸発した材料を、真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための材料堆積装置が提供される。材料堆積装置は、基板の上に堆積させる第1の材料を蒸発させるように構成された第1の材料蒸発器と;第1の材料蒸発器と流体連通している第1の分配管ハウジングと;第1の分配管ハウジングと流体連通している複数の第1のノズルであって、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルが、開口長さと開口サイズとを備え、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルの開口長さ対開口サイズの比率が2:1以上である、複数の第1のノズルとを備える第1の材料源を備え、更に、基板の上に堆積させる第2の材料を蒸発させるように構成された第2の材料蒸発器と;第2の材料蒸発器と流体連通している第2の分配管ハウジングと;第2の分配管ハウジングと流体連通している複数の第2のノズルとを備える、第2の材料源を備える。複数の第1のノズルのうち少なくとも1つの第1のノズルと複数の第2のノズルのうち少なくとも1つの第2のノズルとの間の距離は、50mm以下である。
[00103]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい幾つかの実施形態では、第1の分配方向は、複数の第1のノズルの一又は複数のノズルの長さ方向に対応し、第2の分配方向は、複数の第2のノズルの一又は複数のノズルの長さ方向に対応する。
[00104]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい幾つかの実施形態では、開口長さ対開口サイズの比率が無次元である。
[00105]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせてもよい幾つかの実施形態では、ノズルの開口サイズが開口の断面の最小寸法によって画定される。
[00106]幾つかの実施形態によると、本明細書に記載の材料堆積装置の使用、及び/又は本明細書に記載の分配管の使用が提供される。
[00107]上記に照らして、複数の実施形態が記載され、実施形態は以下を含む。
(態様1)
蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための装置であって、
第1の材料源であって、
第1の材料を蒸発させるように構成された第1の材料蒸発器と、
第1の分配管ハウジングを備える第1の分配管であって、前記第1の材料蒸発器と流体連通している第1の分配管と、
前記第1の分配管ハウジングの中の複数の第1のノズルであって、前記複数の第1のノズルの一又は複数のノズルが、開口長さと開口サイズとを備え、前記複数の第1のノズルの前記一又は複数のノズルの前記開口長さ対前記開口サイズの比率が2:1以上である、複数の第1のノズルと
を備える、第1の材料源と、
第2の材料源であって、
第2の材料を蒸発させるように構成された第2の材料蒸発器と、
第2の分配管ハウジングを備える第2の分配管であって、前記第2の材料蒸発器と流体連通している第2の分配管と、
前記第2の分配管ハウジングの中の複数の第2のノズルと
を備える、第2の材料源と
を備え、
前記複数の第1のノズルのうち少なくとも1つの第1のノズルと前記複数の第2のノズルのうち少なくとも1つの第2のノズルとの間の距離が、50mm以下である、装置。
(態様2)
前記複数の第1のノズルのうち前記少なくとも1つの第1のノズルと前記複数の第2のノズルのうち前記少なくとも1つの第2のノズルとの間の前記距離が、水平距離である、態様1に記載の装置。
(態様3)
前記第1の分配管と前記第2の分配管との間の距離が、30mm以下である、態様1又は2に記載の装置。
(態様4)
前記複数の第1のノズルのうち前記少なくとも1つの第1のノズルと前記複数の第2のノズルのうち前記少なくとも1つの第2のノズルとの間の前記距離が、前記少なくとも1つの第1のノズルの第1の中心点と前記少なくとも1つの第2のノズルの第2の中心点との間の距離である、態様1から3の何れか一項に記載の装置。
(態様5)
前記第1のノズルが、第1の分配方向を提供し、前記第2のノズルが、第2の分配方向を提供し、前記第1の分配方向及び前記第2の分配方向が、互いに平行な状態から最大で5°までずれて配置されている、態様1から4の何れか一項に記載の装置。
(態様6)
蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための装置であって、
第1の材料源であって、
第1の材料を蒸発させるように構成された第1の材料蒸発器と、
第1の分配管ハウジングを備える第1の分配管であって、前記第1の材料蒸発器と流体連通している第1の分配管と、
前記第1の分配管ハウジングの中の複数の第1のノズルであって、前記複数の第1のノズルのうち一又は複数の第1のノズルが、開口長さと開口サイズとを備え、かつ第1の分配方向を提供し、前記複数の第1のノズルのうち前記一又は複数のノズルの前記開口長さ対前記開口サイズの比率が2:1以上である、複数の第1のノズルと
を備える、第1の材料源と、
第2の材料源であって、
第2の材料を蒸発させるように構成された第2の材料蒸発器と、
第2の分配管ハウジングを備える第2の分配管であって、前記第2の材料蒸発器と流体連通している第2の分配管と、
前記第2の分配管ハウジングの中の複数の第2のノズルであって、前記複数の第2のノズルのうち一又は複数のノズルが、第2の分配方向を提供するように構成されている、複数の第2のノズルと
を備える、第2の材料源と
を備え、
前記複数の第1のノズルのうち前記一又は複数のノズルの前記第1の分配方向及び前記複数の第2のノズルのうち前記一又は複数のノズルの前記第2の分配方向が、平行な状態から最大で5°までずれて配置されている、装置。
(態様7)
前記第1の分配方向が、前記複数の第1のノズルのうち前記一又は複数のノズルから放出された蒸発した材料のプルームの平均蒸発方向に対応しており、前記第2の分配方向が、前記複数の第2のノズルのうち前記一又は複数のノズルから放出された蒸発した材料のプルームの平均蒸発方向に対応している、態様6に記載の装置。
(態様8)
前記複数の第1のノズルのうち少なくとも1つの第1のノズルと前記複数の第2のノズルのうち少なくとも1つの第2のノズルとの間の距離が、50mm以下である、態様6又は7に記載の装置。
(態様9)
前記第1の分配管及び前記第2の分配管の少なくとも1つの前記複数のノズルのうち前記一又は複数のノズルが、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含む、態様1から8の何れか一項に記載の装置。
(態様10)
蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための分配管であって、
分配管ハウジングと、
前記分配管ハウジングの中のノズルであって、開口長さ及び開口サイズを有する開口を備える、ノズルと
を備え、
前記ノズルの前記開口長さ対前記開口サイズの比率が2:1以上であり、
前記ノズルが、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含む、分配管。
(態様11)
前記ノズルの材料が、最大で650℃までの温度で前記蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である、態様10に記載の分配管。
(態様12)
前記ノズルの前記開口の内側が、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性な材料でコーティングされている、態様10又は11に記載の分配管。
(態様13)
蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である前記材料が、ステンレス鋼、石英ガラス、チタニウム、タンタル、Nb、及びDLCから成る群から選択される、態様10から12の何れか一項に記載の分配管。
(態様14)
蒸発した材料を真空チャンバの中の基板の上に堆積させるための装置であって、
第1の材料源であって、
第1の材料を蒸発させるように構成された第1の材料蒸発器と、
前記装置の第1の分配管である、態様10から13の何れか一項に記載の分配管であって、前記第1の分配管が前記第1の材料蒸発器と流体連通している、分配管と、
前記第1の分配管の分配管ハウジングの中の複数の第1のノズルと
を備える、第1の材料源と、
第2の材料源であって、
第2の材料を蒸発させるように構成された第2の材料蒸発器と、
第2の分配管ハウジングを備える第2の分配管であって、前記第2の材料蒸発器と流体連通している第2の分配管と、
前記第2の分配管ハウジングの中の複数の第2のノズルと
を備える、第2の材料源と
を備え、
前記第1のノズルの少なくとも1つと前記第2のノズルの少なくとも1つとの間の距離が、50mm以下であり、又は
前記第1のノズルの少なくとも1つが、第1の分配方向を提供するように構成されており、前記第2のノズルの少なくとも1つが、第2の分配方向を提供するように構成されており、前記第1の分配方向及び前記第2の分配方向が、互いに平行な状態から最大で5°までずれて配置されている、装置。
(態様15)
少なくとも2:1の開口長さ対開口サイズの比率を有している前記ノズルが、蒸発した有機材料のcos6形状の蒸気プルームを形成する、態様1から14の何れか一項に記載の蒸発した材料を堆積させるための装置又は分配管。
(態様16)
真空堆積チャンバであって、
態様1から9の何れか一項に記載の蒸発した材料を堆積させるための装置と、
堆積中に基板を支持するための基板支持体と
を備え、
前記装置の前記分配管の少なくとも1つと前記基板支持体との間の距離が250mm未満である、真空堆積チャンバ。
(態様17)
前記基板支持体と前記装置との間にマスクを更に備える、態様16に記載の真空堆積チャンバ。
(態様18)
前記装置が、前記真空堆積チャンバ内を移動可能である、態様16又は17に記載の真空堆積チャンバ。
(態様19)
蒸発した材料をチャンバ空間を有する真空堆積チャンバの中の基板の上に堆積させるための方法であって、
前記チャンバ空間内に配置された第1の材料蒸発器によって第1の材料を蒸発させることと、
第1の分配管ハウジングを備える第1の分配管に蒸発した前記第1の材料を提供することであって、前記第1の分配管が、前記第1の分配管の中で約10−2〜10−1mbarの圧力で、前記第1の材料蒸発器と流体連通している、提供することと、
前記第1の分配管ハウジングの中の複数の第1のノズルのうち一又は複数のノズルを通して前記蒸発した第1の材料を案内することであって、前記複数の第1のノズルのうち前記一又は複数のノズルが、開口長さと開口サイズとを備え、2:1以上の前記開口長さ対前記開口サイズの比率を有する、案内することと、
前記チャンバ空間の中の基板に向かって前記チャンバ空間内に前記蒸発した第1の材料を放出することであって、前記チャンバ空間が約10−5〜10−7mbarの圧力を提供する、放出することと
を含む、方法。
(態様20)
前記チャンバ空間の中の第2の材料蒸発器によって第2の材料を蒸発させることと、
第2の分配管ハウジングを備える第2の分配管に蒸発した前記第2の材料を提供することであって、前記第2の分配管が、前記第2の分配管の中で約10−2〜10−1mbarの圧力で、前記第2の材料蒸発器と流体連通している、提供することと、
前記第2の分配管ハウジングの中の複数の第2のノズルのうち一又は複数のノズルを通して蒸発した前記第2の材料を案内することと
を更に含み、
蒸発した前記第1の材料及び蒸発した前記第2の材料が、50mm未満の間隔を置いて、それぞれ前記第1の分配管の前記一又は複数の第1のノズル及び前記第2の分配管の前記一又は複数の第2のノズルを通って案内され、及び/又は
蒸発した前記第1の材料が、前記第2の分配管の前記一又は複数の第2のノズルの第2の分配方向に平行であるか又は前記平行な配置から最大で5°までずれている第1の分配方向に、前記第1の分配管の前記一又は複数の第1のノズルから放出され、及び/又は
前記第1の分配管及び前記第2の分配管の少なくとも1つの前記一又は複数のノズルが、蒸発した有機材料に対して化学的に不活性である材料を含む、態様19に記載の方法。
(態様21)
前記第1の分配管及び前記第2の分配管が、実質的に垂直方向に延びる、態様1、6又は14に記載の装置。
[00108]以上の説明は幾つかの実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲を逸脱せずに他の実施形態及び更なる実施形態を考案してもよく、本開示の範囲は、続く特許請求の範囲によって定められる。

Claims (14)

  1. 分配管を有する材料堆積装置と、
    堆積中に基板を支持するための基板支持体と
    を備え、前記材料堆積装置の分配管の少なくとも1つと前記基板支持体との間の距離は、250mm未満である、真空堆積チャンバ。
  2. 前記分配管の断面が、本質的に平行に基板に面している壁の幅を低減するために、丸みを帯びた角を有する三角形の一部に対応する主要部分を含む、請求項1に記載の真空堆積チャンバ。
  3. 前記壁の幅が、前記分配管の断面の最大寸法の30%以下である、請求項1又は2に記載の真空堆積チャンバ。
  4. 前記分配管が、約30°以下の角度に広がる蒸発した材料の分配を有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
  5. 隣接する分配管のノズルの間の距離が50mm以下である、請求項1から4のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
  6. 隣接する分配管のノズルの間の前記距離が、第1の分配管の第1のノズルの第1の中心点と、第2の分配管の第2のノズルの第2の中心点の間の距離である、請求項5に記載の真空堆積チャンバ。
  7. 第1の蒸発した材料が、前記分配管の第2の分配管の一又は複数の第2のノズルの第2の分配方向に平行な方向から最大で5°までずれている第1の分配方向に、前記分配管の第1の分配管の一又は複数の第1のノズルから放出される、請求項1から6のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
  8. 複数の第1のノズルのうち一又は複数のノズルの長さ対サイズの比率が2:1以上である、請求項5又は6に記載の真空堆積チャンバ。
  9. 前記比率が、蒸発した有機材料のcos6形状の蒸気プルームを形成する、請求項8に記載の真空堆積チャンバ。
  10. 第1の分配管の少なくとも1つが、蒸発した有機材料のための分配管である、請求項1から9のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
  11. 前記基板支持体(126)と前記材料堆積装置(100)との間にピクセルマスク支持体を更に備える、請求項1から10のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
  12. 前記ピクセルマスク支持体上に、50μm×50μm以下のサイズを有するピクセル開口を備えるピクセルマスクを更に備える、請求項11に記載の真空堆積チャンバ。
  13. 前記材料堆積装置(100)が、前記真空堆積チャンバ(110)内で移動可能である、請求項1から12のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
  14. 前記分配管が、実質的に垂直方向に延びる、請求項1から13のいずれか一項に記載の真空堆積チャンバ。
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