KR20130019416A - 필터 유지 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 - Google Patents

Abstract

필터 유지 장치는, 제 1, 제 2 필터를 유지하는 제 1, 제 2 프레임과, 제 1, 제 2 프레임에 형성된 제 1, 제 2 손잡이부를 구비하고, 제 1, 제 2 프레임의 측면의 적어도 일부에 형성되고, 제 1, 제 2 프레임의 일방의 단면으로부터 타방의 단면을 향하며, 또한 제 1, 제 2 프레임의 외측으로 변화한 제 1, 제 2 형상 변화부를 갖고, 제 1 프레임에 대한 제 1 손잡이부의 위치 관계와 제 2 프레임에 대한 제 2 손잡이부의 위치 관계가 상이하다. 필터의 교환을 정확하게 실시할 수 있다.

Description

필터 유지 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법{FILTER HOLDER, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE PRODUCTION METHOD}

본 발명은, 예를 들어 기체 중의 불순물 등을 제거하기 위한 필터를 유지하는 필터 유지 장치, 이 필터 유지 장치를 구비하는 노광 장치, 및 이 노광 장치를 사용하여 예를 들어 반도체 소자, 액정 표시 소자, 또는 촬상 소자 등을 제조하기 위한 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.

예를 들어 반도체 소자 등의 전자 디바이스 (마이크로 디바이스) 를 제조하기 위한 리소그래피 공정에서 사용되는 노광 장치에 있어서, 높은 노광 정밀도 (해상도 및 위치 결정 정밀도 등) 를 얻기 위해서는, 조명 광학계의 조명 특성 및 투영 광학계의 결상 특성을 소정 상태로 유지하고, 또한 레티클 (또는 포토마스크 등), 투영 광학계, 및 웨이퍼 (또는 유리 플레이트 등) 가 설치되는 공간을 소정의 환경으로 유지할 필요가 있다. 그 때문에, 종래부터, 노광 장치의 조명 광학계의 일부, 레티클 스테이지, 투영 광학계, 및 웨이퍼 스테이지 등을 포함하는 노광 본체부는, 상자형의 챔버 내에 설치되고, 이 챔버 내에, 소정 온도로 제어되며, 또한 방진 필터를 통과한 청정한 기체 (예를 들어 공기) 를 다운 플로우 방식 및 사이드 플로우 방식으로 공급하는 공조 (空調) 장치가 구비되어 있다.

또, 노광 장치에서는, 최근의 회로 패턴의 현저한 미세화 요구에 대응하기 위하여, 노광광의 단파장화가 진행되고 있고, 최근에는, 노광광으로서 KrF 엑시머 레이저 (파장 248 ㎚), 및 추가로 거의 진공자외역의 ArF 엑시머 레이저 (파장 193 ㎚) 가 사용되고 있다. 이와 같은 단파장의 노광광을 사용하는 경우, 노광광이 통과하는 공간 (예를 들어, 경통의 내부 공간) 내에 미량인 유기물 가스 (유기계 가스) 가 존재하면, 노광광의 투과율이 저하됨과 함께, 노광광과 유기계 가스의 반응에 의해, 렌즈 엘리먼트 등의 광학 소자의 표면에 헤이즈 물질을 발생시킬 우려가 있다. 또한, 챔버 내에 공급하는 기체로부터는, 웨이퍼에 도포된 포토레지스트 (감광 재료) 와 반응하는 알칼리성 물질의 가스 (알칼리계 가스) 등도 제거하는 것이 바람직하다.

그래서, 종래부터, 노광 장치의 공조 장치의 기체의 취입부에는, 챔버 내에 공급되는 기체로부터 유기계 가스 및/또는 알칼리계 가스 등을 제거하기 위한 복수의 케미컬 필터가 형성되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).

국제 공개 제2004/108252호 팜플렛

종래의 노광 장치에 있어서, 케미컬 필터를 케이싱 내에 설치하는 경우, 예를 들어 케미컬 필터를 수납하는 평판상의 프레임을 수평으로 (필터면이 연직 방향이 되는 방향) 케이싱 내의 측벽에 닿을 때까지 반입한 후, 소정의 설치 위치까지, 작업자가 그 프레임을, 그 측벽을 따라 필터면에 대해 법선 방향으로 이동시키고 있었다. 이 경우, 프레임의 단면 (端面) 과, 그 케이싱의 통기용 개구가 형성된 구획 부재의 면 사이에 간극이 있으면, 케미컬 필터를 통과시키지 않고, 이 간극을 통하여 불순물을 함유하는 기체가 노광 본체부에 공급될 우려가 있다. 그 때문에, 그 프레임을 그 설치 위치에 정확하게 위치 결정하기 위한 시간이 길어지고, 나아가서는 사용이 완료된 케미컬 필터의 교환 시간도 길어지고 있었다.

또한, 노광 장치에 있어서는, 요구되는 노광 정밀도의 향상에 한층 더 대응하고, 설치하는 케미컬 필터의 수가 증가되고 있기 때문에, 케미컬 필터의 교환을 정확하게 또한 효율적으로 실시할 필요가 있다.

본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하여, 필터의 교환을 정확하게 실시하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 제 1 양태에 의하면, 제 1 필터 및 제 2 필터를 포함하는 복수의 필터를 유지하는 필터 유지 장치가 제공된다. 이 필터 유지 장치는, 그 제 1 필터를 유지하는 제 1 프레임과, 그 제 1 프레임에 형성된 제 1 손잡이부와, 그 제 2 필터를 유지하는 제 2 프레임과, 그 제 2 프레임에 형성된 제 2 손잡이부를 구비하고, 그 제 1 프레임의 측면 중 제 1 측면의 적어도 일부에 형성되고, 그 제 1 프레임의 2 개의 단면 중, 일방의 단면측으로부터 타방의 단면측을 향하여, 또한 그 제 1 프레임의 외측으로 변화한 제 1 형상 변화부와, 그 제 2 프레임의 측면 중 제 2 측면의 적어도 일부에 형성되고, 그 제 2 프레임의 2 개의 단면 중, 일방의 단면측으로부터 타방의 단면측을 향하여, 또한 그 제 2 프레임의 외측으로 변화한 제 2 형상 변화부를 갖고, 그 제 1 측면에 있어서의 제 1 형상 변화부의 위치 관계와 그 제 2 측면에 있어서의 제 2 형상 변화부의 위치 관계, 및 그 제 1 프레임에 대한 제 1 손잡이부의 위치 관계와 그 제 2 프레임에 대한 제 2 손잡이부의 위치 관계의 적어도 일방이 상이한 것이다.

또, 본 발명의 제 2 양태에 의하면, 노광광으로 패턴을 통해 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 그 기판을 노광하는 노광 본체부를 수납하는 챔버와, 본 발명의 필터 유지 장치와, 그 챔버의 외부로부터 받아들여진 기체를 그 필터 유지 장치를 개재하여 그 챔버 내로 송풍하는 공조 장치를 구비하는 노광 장치가 제공된다.

또, 본 발명의 제 3 양태에 의하면, 본 발명의 노광 장치를 사용하여 감광성 기판을 노광하는 것과, 그 노광된 감광성 기판을 처리하는 것을 포함하는 디바이스 제조 방법이 제공된다.

본 발명에 의하면, 제 1 프레임의 측면 (제 1 측면) 에 있어서의 그 제 1 형상 변화부의 위치 관계와 제 2 프레임의 측면 (제 2 측면) 에 있어서의 그 제 2 형상 변화부의 위치 관계, 및 제 1 프레임에 대한 제 1 손잡이부의 위치 관계와 제 2 프레임에 대한 제 2 손잡이부의 위치 관계의 적어도 일방이 상이하기 때문에, 제 1 프레임과 제 2 프레임을 외관으로부터 식별할 수 있고, 필터의 교환을 정확하게 실시할 수 있다.

도 1 은 실시형태의 일례의 노광 장치의 구성을 나타내는 일부가 절결된 도면이다.
도 2 는 도 1 의 필터 장치 (26) 를 나타내는 사시도이다.
도 3 은 도 2 의 필터 장치 (26) 를 나타내는 단면도이다.
도 4(A) 는 도 3 중의 필터 박스 (38) 를 나타내는 사시도이고, 도 4(B) 는 도 3 중의 필터 박스 (40) 를 나타내는 사시도이다.
도 5(A) 및 도 5(B) 는 각각 필터 박스 (38) 와 케이싱 (28) 의 상대 위치의 변화를 나타내는 일부가 절결된 평면도이다.
도 6(A) 및 도 6(B) 는 각각 필터 박스 (38, 40) 와 케이싱 (28) 의 상대 위치의 변화를 나타내는 일부가 절결된 평면도이다.
도 7(A) 는 제 1 변형예의 필터 박스 (38A) 를 나타내는 사시도이고, 도 7(B) 는 제 1 변형예의 필터 박스 (40A) 를 나타내는 사시도이다.
도 8(A) 는 제 2 변형예의 필터 박스 (38B) 를 나타내는 사시도이고, 도 8(B) 는 제 2 변형예의 필터 박스 (40B) 를 나타내는 사시도이다.
도 9(A), (B), (C) 는 각각 제 3 변형예, 제 4 변형예, 및 제 5 변형예의 필터 박스를 나타내는 평면도이다.
도 10(A) 는 다른 예의 필터 장치를 나타내는 단면도, 도 10(B) 는 도 10(A) 중의 필터 박스를 나타내는 사시도이다.
도 11 은 전자 디바이스의 제조 공정의 일례를 나타내는 플로우 차트이다.

이하, 본 발명의 실시형태의 일례에 대해 도 1 ～ 도 6 을 참조하여 설명한다.

도 1 은, 본 실시형태의 스캐닝 스텝퍼로 이루어지는 주사 노광형의 노광 장치 (EX) 를 나타내는 일부를 절결한 도면이다. 도 1 에 있어서, 노광 장치 (EX) 는, 노광광 (노광용 조명광) (EL) 을 발생시키는 광원부 (2) 와, 노광광 (EL) 으로 레티클 (R) (마스크) 을 조명하는 조명 광학계 (ILS) 와, 레티클 (R) 을 유지하여 이동시키는 레티클 스테이지 (RST) 와, 레티클 (R) 의 패턴의 이미지를 포토레지스트 (감광 재료) 가 도포된 웨이퍼 (W) (기판) 의 표면에 투영하는 투영 광학계 (PL) 를 구비하고 있다. 또한, 노광 장치 (EX) 는, 웨이퍼 (W) 를 유지하여 이동시키는 웨이퍼 스테이지 (WST) 와, 그 밖의 구동 기구 및 센서류 등과, 복수 장의 레티클을 보관하는 레티클 라이브러리 (9) 와, 복수 장의 미노광 및/또는 노광이 완료된 웨이퍼를 보관하는 웨이퍼 카세트 (7) 와, 노광 장치 (EX) 의 동작을 통괄적으로 제어하는 주제어 장치 (도시하지 않음) 를 구비하고 있다. 이들의 광원부 (2) 로부터 주제어 장치 (도시하지 않음) 까지의 부재는, 예를 들어 반도체 디바이스 제조 공장의 클린룸 내의 제 1 플로어 (FL1) 의 상면에 설치되어 있다.

또, 노광 장치 (EX) 는, 플로어 (FL1) 상에 설치된 상자상의 기밀성이 높은 챔버 (10) 를 구비하고, 챔버 (10) 의 내부는, 예를 들어 셔터 (24R 및 24W) 로 개폐되는 2 개의 개구를 갖는 구획 부재 (10d) 에 의해, 노광실 (10a) 과 로더실 (10b) 로 구획되어 있다. 그리고, 노광실 (10a) 내에, 조명 광학계 (ILS), 레티클 스테이지 (RST), 투영 광학계 (PL), 및 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 포함하는 노광 본체부 (4) 가 설치되고, 로더실 (10b) 내에, 레티클 라이브러리 (9) 및 웨이퍼 카세트 (7) 를 각각 포함하는 레티클 로더계 및 웨이퍼 로더계가 설치되어 있다.

또, 노광 장치 (EX) 는, 챔버 (10) 의 내부 전체를 공조하기 위한 전체 공조 시스템을 구비하고 있다. 이 전체 공조 시스템은, 제 1 플로어 (FL1) 의 아래층의 기계실의 제 2 플로어 (FL2) 의 상면에 설치되어, 직렬로 배치된 복수의 케미컬 필터를 갖는 필터 장치 (26) 와, 플로어 (FL2) 의 상면에 설치된 공조 본체부 (31) 를 갖는 공조 장치 (30) 와, 노광실 (10a) 의 상부에 설치된 대형의 분출구 (18) 와, 조명 광학계 (ILS) 를 수납하는 서브 챔버 (22) 의 바닥면에 배치된 소형의 분출구 (19R) 와, 투영 광학계 (PL) 의 근방에 배치된 소형의 분출구 (19W) 를 구비하고 있다. 필터 장치 (26) 는, 배관 (25) 을 통하여 공급되는 공조용 기체인 공기 (AR) 로부터 소정의 불순물을 제거하고, 불순물을 제거한 공기를 화살표 (A1) 로 나타내는 바와 같이 제 1 덕트 (32) 를 통하여 공조 본체부 (31) 에 공급한다 (상세한 것은 후술한다).

공조 장치 (30) 는, 제 1 덕트 (32) 와, 공조 본체부 (31) 와, 공조 본체부 (31) 와 챔버 (10) 의 내부를 플로어 (FL1) 에 형성된 개구를 통하여 연결하는 제 2 덕트 (35) 와, 예를 들어 제 2 덕트 (35) 의 도중에 배치되어, 내부를 흐르는 공기로부터 미소한 입자 (파티클) 를 제거하는 ULPA 필터 (Ultra Low Penetration Air-filter) 등의 방진 필터 (36) 를 구비하고 있다. 덕트 (32, 35) 및 배관 (25) 은, 예를 들어 스테인리스강 또는 불소 수지 등, 오염 물질의 발생량이 적은 재료를 사용하여 형성되어 있다.

공조 본체부 (31) 는, 제 1 덕트 (32) 를 통하여 공급되는 공기의 온도를 제어하는 온도 제어부 (33A) 와, 그 공기의 습도를 제어하는 습도 제어부 (33B) 와, 그 공기를 제 2 덕트 (35) 측으로 송풍하는 팬 모터 (34) 를 구비하고 있다. 그 공기는, 온도가 20 ℃ ～ 30 ℃ 의 범위 내인 예를 들어 23 ℃ 로 제어되고, 제 2 덕트 (35) 및 분출구 (18) 를 통하여 노광실 (10a) 의 내부에 다운 플로우 방식으로 공급된다. 챔버 (10) 의 내부는, 이 공기의 공급에 의해 양압 상태로 설정된다. 또, 제 2 덕트 (35) 내의 공기는, 분기관 (35a 및 35b) 과, 대응하는 분출구 (19W) 및 분출구 (19R) 를 통하여 노광실 (10a) 내에 공급된다. 노광실 (10a) 내의 공기의 일부는 로더실 (10b) 에도 유입된다.

일례로서, 챔버 (10) 의 내부 (노광실 (10a)) 를 흐른 공기는, 챔버 (10) 의 바닥면에 형성된 다수의 개구 (45a) 및 플로어 (FL1) 에 형성된 다수의 개구 (45b) 를 통하여 플로어 아래의 배기 덕트 (44) 내로 흐르고, 배기 덕트 (44) 내의 공기는, 도시하지 않는 필터를 개재하여 청정화된 후, 배기된다. 또한, 배기 덕트 (44) 에 흐른 공기의 전부 또는 일부를 배관 (25) 측으로 되돌려 재이용할 수도 있다.

이하, 도 1 에 있어서, 투영 광학계 (PL) 의 광축 (AX) 에 평행하게 Z 축을 취하고, Z 축에 수직인 평면 (본 실시형태에서는 거의 수평면에 평행하다) 내에서 도 1 의 지면 (紙面) 에 수직으로 X 축을, 도 1 의 지면에 평행하게 Y 축을 취하여 설명한다. 본 실시형태에서는, 주사 노광시의 레티클 (R) 및 웨이퍼 (W) 의 주사 방향은 Y 방향이다. 또, X 축, Y 축, Z 축의 둘레의 회전 방향을 θx, θy, θz 방향이라고도 부른다.

먼저, 챔버 (10) 의 외측의 플로어 (FL1) 상에 설치된 광원부 (2) 는, 노광광 (EL) 으로서 ArF 엑시머 레이저광 (파장 193 ㎚) 을 발생시키는 노광 광원과, 그 노광광 (EL) 을 조명 광학계 (ILS) 로 유도하는 빔 송광 광학계를 구비하고 있다. 광원부 (2) 의 노광광 (EL) 의 사출단은, 챔버 (10) 의 ＋Y 방향의 측면 상부의 개구를 통하여 노광실 (10a) 내에 배치되어 있다. 또한, 노광 광원으로는, KrF 엑시머 레이저 광원 (파장 248 ㎚) 등의 자외 펄스 레이저 광원, YAG 레이저의 고조파 발생 광원, 고체 레이저 (반도체 레이저 등) 의 고조파 발생 장치, 또는 수은 램프 (i 선 등) 등도 사용할 수 있다.

또, 챔버 (10) 내의 상부에 배치된 조명 광학계 (ILS) 는, 예를 들어 미국 특허출원공개 제2003/0025890호 명세서 등에 개시되는 바와 같이, 옵티컬 인터그레이터 등을 포함하는 조도 균일화 광학계, 레티클 블라인드, 및 콘덴서 광학계 등을 구비하고 있다. 조명 광학계 (ILS) 는, 레티클 블라인드로 규정된 레티클 (R) 의 패턴면의 X 방향으로 가늘고 긴 슬릿상의 조명 영역을 노광광 (EL) 에 의해 거의 균일한 조도로 조명한다.

레티클 (R) 에 형성된 패턴 영역 중, 조명 영역 내의 패턴의 이미지는, 양측 텔레센트릭으로 투영 배율 (β) 이 축소 배율 (예를 들어 1/4) 인 투영 광학계 (PL) 를 통하여 웨이퍼 (W) 의 표면에 결상 투영된다.

또, 챔버 (10) 의 노광실 (10a) 내의 플로어 (FL1) 상에, 복수의 대좌 (11) 를 개재하여 하부 프레임 (12) 이 설치되고, 하부 프레임 (12) 의 중앙부에 평판상의 베이스 부재 (13) 가 고정되고, 베이스 부재 (13) 상에 예를 들어 3 지점의 방진대 (14) 를 개재하여 평판상의 웨이퍼 베이스 (WB) 가 지지되고, 웨이퍼 베이스 (WB) 의 XY 평면에 평행한 상면에 에어 베어링을 개재하여 웨이퍼 스테이지 (WST) 가 X 방향, Y 방향으로 이동 가능하게, 또한 θz 방향으로 회전 가능하게 재치되어 있다. 또, 하부 프레임 (12) 의 상단에, 웨이퍼 베이스 (WB) 를 둘러싸도록 배치된 예를 들어 3 지점의 방진대 (15) 를 개재하여 광학계 프레임 (16) 이 지지되어 있다. 광학계 프레임 (16) 의 중앙부의 개구에 투영 광학계 (PL) 가 배치되고, 광학계 프레임 (16) 상에 투영 광학계 (PL) 를 둘러싸도록 상부 프레임 (17) 이 고정되어 있다.

또, 광학계 프레임 (16) 의 바닥면의 ＋Y 방향의 단부 (端部) 에 Y 축의 레이저 간섭계 (21WY) 가 고정되고, 그 바닥면의 ＋X 방향의 단부에 X 축의 레이저 간섭계 (도시하지 않음) 가 고정되어 있다. 이들의 간섭계로 이루어지는 웨이퍼 간섭계는, 각각 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 측면의 반사면 (또는 이동경) 에 복수 축의 계측용 빔을 조사하고, 예를 들어 투영 광학계 (PL) 의 측면의 참조경 (도시하지 않음) 을 기준으로 하여, 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 X 방향, Y 방향의 위치, 및 θx, θy, θz 방향의 회전각을 계측하고, 계측치를 주제어 장치 (도시하지 않음) 에 공급한다.

주제어 장치 (도시하지 않음) 내의 스테이지 제어계가, 상기의 웨이퍼 간섭계의 계측치 및 오토포커스 센서 (도시하지 않음) 의 계측치 등에 기초하여, 리니어 모터 등을 포함하는 구동 기구 (도시하지 않음) 를 개재하여 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 X 방향, Y 방향의 위치 및 속도와 θz 방향의 회전각을 제어함과 함께, 웨이퍼 (W) 의 표면이 투영 광학계 (PL) 의 이미지면에 초점이 맞춰지도록, 웨이퍼 스테이지 (WST) 내의 Z 스테이지 (도시하지 않음) 를 제어한다. 또, 레티클 (R) 및 웨이퍼 (W) 를 얼라인먼트를 실시하기 위한 얼라인먼트계 (ALG) 등도 형성되어 있다.

한편, 상부 프레임 (17) 의 ＋Y 방향의 상부에, 조명 광학계 (ILS) 를 수납하는 서브 챔버 (22) 가 고정되어 있다. 또한, 상부 프레임 (17) 의 XY 평면에 평행한 상면에 에어 베어링을 개재하여, 레티클 스테이지 (RST) 가 Y 방향으로 정속 (定速) 이동 가능하게, 또한 X 방향으로의 이동 및 θz 에 대한 회전이 가능하게 재치되어 있다.

또, 상부 프레임 (17) 의 상면의 ＋Y 방향의 단부에 Y 축의 레이저 간섭계 (21RY) 가 고정되고, 그 상면의 ＋X 방향의 단부에 X 축의 레이저 간섭계 (도시하지 않음) 가 고정되어 있다. 이들의 간섭계로 이루어지는 레티클 간섭계는, 각각 레티클 스테이지 (RST) 에 형성된 이동경 (21MY) 등에 복수 축의 계측용 빔을 조사하고, 예를 들어 투영 광학계 (PL) 의 측면의 참조경 (도시하지 않음) 을 기준으로 하여, 레티클 스테이지 (RST) 의 X 방향, Y 방향의 위치, 및 θz, θx, θy 방향의 회전각을 계측하고, 계측치를 주제어 장치 (도시하지 않음) 에 공급한다.

주제어 장치 (도시하지 않음) 내의 스테이지 제어계는, 그 레티클 간섭계의 계측치 등에 기초하여 리니어 모터 등을 포함하는 구동 기구 (도시하지 않음) 를 개재하여 레티클 스테이지 (RST) 의 Y 방향의 속도 및 위치, X 방향의 위치, 그리고 θz 방향의 회전각 등을 제어한다.

또, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 가 액침형인 경우에는, 투영 광학계 (PL) 의 하단의 광학 부재의 하면에 배치되는 예를 들어 링상의 노즐 헤드를 포함하는 국소 액침 기구 (도시하지 않음) 로부터, 투영 광학계 (PL) 의 선단의 광학 부재와 웨이퍼 (W) 사이의 국소적인 액침 영역에 소정의 액체 (순수 등) 가 공급된다. 그 국소 액침 기구로는, 예를 들어 미국 특허출원공개 제2007/242247호 명세서 등에 개시되어 있는 액침 기구를 사용할 수 있다. 또한, 노광 장치 (EX) 가 드라이형인 경우에는, 그 액침 기구를 구비할 필요는 없다.

또, 로더실 (10b) 의 내부에 있어서, 상방의 지지대 (67) 의 상면에 레티클 라이브러리 (9) 및 수평 다관절형 로봇인 레티클 로더 (8) 가 설치되어 있다. 레티클 로더 (8) 는, 구획 부재 (10d) 의 셔터 (24R) 로 개폐되는 개구를 통하여, 레티클 라이브러리 (9) 와 레티클 스테이지 (RST) 사이에서 레티클 (R) 을 교환한다.

또, 로더실 (10b) 의 내부에 있어서, 하방의 지지대 (68) 의 상면에 웨이퍼 카세트 (7) 와, 웨이퍼 카세트 (7) 와의 사이에서 웨이퍼를 출입시키는 수평 다관절형 로봇 (6a) 이 설치되어 있다. 수평 다관절형 로봇 (6a) 의 상방에는, 수평 다관절형 로봇 (6a) 과 함께 웨이퍼 로더 (6) 를 구성하는 웨이퍼 반송 장치 (6b) 가 설치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치 (6b) 는, 구획 부재 (10d) 의 셔터 (24W) 로 개폐되는 개구를 통하여, 수평 다관절형 로봇 (6a) 과 웨이퍼 스테이지 (WST) 사이에서 웨이퍼 (W) 를 반송한다.

그리고, 노광 장치 (EX) 의 노광시에는, 먼저 레티클 (R) 및 웨이퍼 (W) 의 얼라인먼트가 실시된다. 그 후, 레티클 (R) 에 대한 노광광 (EL) 의 조사를 개시하여, 투영 광학계 (PL) 를 통하여 레티클 (R) 의 패턴의 일부의 이미지를 웨이퍼 (W) 의 표면의 하나의 쇼트 영역에 투영하면서, 레티클 스테이지 (RST) 와 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 투영 광학계 (PL) 의 투영 배율 (β) 을 속도비로서 Y 방향으로 동기하여 이동 (동기 주사) 시키는 주사 노광 동작에 의해, 그 쇼트 영역에 레티클 (R) 의 패턴 이미지가 전사된다. 그 후, 웨이퍼 스테이지 (WST) 를 개재하여 웨이퍼 (W) 를 X 방향, Y 방향으로 단계 이동시키는 동작과, 상기의 주사 노광 동작을 반복함으로써, 스텝·앤드·스캔 방식으로 웨이퍼 (W) 의 전부의 쇼트 영역에 레티클 (R) 의 패턴 이미지가 전사된다.

다음으로, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 는, 조명 광학계 (ILS) 의 조명 특성 (조도 균일성 등) 및 투영 광학계의 결상 특성 (해상도 등) 을 소정 상태로 유지하고, 또한 레티클 (R), 투영 광학계 (PL), 및 웨이퍼 (W) 가 설치되는 분위기 (공간) 를 소정의 환경으로 유지하여 높은 노광 정밀도 (해상도, 위치 결정 정밀도 등) 로 노광을 실시하기 위해서, 상기 서술한 바와 같이, 챔버 (10) 의 내부에 온도 제어된 청정한 공기를 다운 플로우 방식으로 공급하는 공조 장치 (30) 를 포함하는 전체 공조 시스템을 구비하고 있다.

또, 그 전체 공조 시스템은 국소 공조부를 구비하고 있다. 즉, 제 2 덕트 (35) 의 분기관 (35b 및 35a) 으로부터 각각 서브 챔버 (22) 의 바닥면의 분출부 (19R), 및 광학계 프레임 (16) 의 바닥면의 분출부 (19W) 로 온도 제어된 청정한 공기가 공급되고 있다. 이 경우, 분출부 (19R 및 19W) 는, 각각 레티클 스테이지 (RST) 용의 Y 축의 레이저 간섭계 (21RY) 및 웨이퍼 스테이지 (WST) 용의 Y 축의 레이저 간섭계 (21WY) 의 계측용 빔의 광로 상에 배치되어 있다. 분출부 (19R, 19W) 는, 각각 온도 제어된 공기를, 거의 균일한 풍속 분포로 계측용 빔의 광로 상에 다운 플로우 방식 (또는 사이드 플로우 방식이어도 된다) 으로 분출한다. 동일하게, X 축의 레이저 간섭계의 계측용 빔의 광로에도 온도 제어된 공기가 국소적으로 공급된다. 이로써, 레티클 간섭계 (21R) 및 웨이퍼 간섭계 (21W) 등에 의해 레티클 스테이지 (RST) 및 웨이퍼 스테이지 (WST) 의 위치를 고정밀도로 계측할 수 있다.

또, 로더실 (10b) 내에 국소 공조 장치 (60) 가 설치되어 있다. 국소 공조 장치 (60) 는, 지지대 (68) 의 바닥면에 배치된 소형의 팬 모터 (61) 와, 팬 모터 (61) 로 송풍된 공기를 상부에 공급하는 덕트 (62) 와, 레티클 라이브러리 (9) 및 웨이퍼 카세트 (7) 의 상방에 배치된 분출구 (65 및 66) 를 구비하고 있다. 덕트 (62) 의 선단부는 각각 분출구 (65 및 66) 에 공기를 공급하는 분기관 (62R 및 62W) 으로 나누어져 있다. 또, 분출구 (65 및 66) 의 공기의 유입구의 근방에 각각 ULPA 필터 등의 방진 필터가 설치되고, 팬 모터 (61) 의 근방의 덕트 (62) 내에, 소정의 불순물을 제거하는 케미컬 필터를 수납하는 필터 박스 (63, 64) 가 설치되어 있다. 일례로서 필터 박스 (63) 의 케미컬 필터는, 유기계 가스 (유기물 가스) 를 제거하고, 필터 박스 (64) 의 케미컬 필터는, 알칼리계 가스 (알칼리성 물질의 가스) 및 산성 가스 (산성 물질의 가스) 를 제거한다.

로더실 (10b) 내에서 국소 공조 장치 (60) 를 동작시키면, 팬 모터 (61) 로부터 송풍된 공기는, 필터 박스 (63, 64) 및 덕트 (62) 를 통하여 분출구 (65 및 66) 로부터 각각 다운 플로우 방식으로 레티클 라이브러리 (9) 및 웨이퍼 카세트 (7) 가 배치된 공간에 공급된다. 그리고, 레티클 라이브러리 (9) 의 주위를 흐른 공기는, 지지대 (67) 의 주위, 지지대 (67) 의 하방의 웨이퍼 카세트 (7) 의 주위, 및 지지대 (68) 의 주위를 거쳐 팬 모터 (61) 에 되돌려진다. 또, 분출구 (66) 로부터 웨이퍼 카세트 (7) 의 주위에 공급된 공기는, 지지대 (68) 의 주위를 거쳐 팬 모터 (61) 에 되돌려진다. 그리고, 팬 모터 (61) 에 되돌려진 공기는, 다시 필터 박스 (63, 64) 및 방진 필터를 개재하여 분출구 (65, 66) 로부터 로더실 (10b) 내에 공급된다. 이와 같이, 국소 공조 장치 (60) 에 의해, 로더실 (10d) 내의 공기는 청정한 상태로 유지된다.

다음으로, 본 실시형태의 전체 공조 시스템에 있어서, 공조 장치 (30) 에 연결되는 필터 장치 (26) 의 구성 및 작용에 대해 설명한다. 필터 장치 (26) 는, Y 방향으로 가늘고 긴 기밀화된 상자상의 케이싱 (28) 과, 케이싱 (28) 내의 공간을 거의 수평면 내에서 Y 방향으로 4 개의 공간으로 나누는 XZ 평면에 평행한 구획판 (42A, 42B, 42C) 과, 구획판 (42A, 42B, 42C) 의 각각의 일방의 면 (도 1 에서는 ＋Y 방향의 면) 에 밀착시켜 설치되는 제 1 종류의 필터 박스 (38), 제 2 종류의 필터 박스 (40), 및 제 1 종류의 필터 박스 (38) 를 갖는다. 필터 장치 (26) 는, 2 종류로 3 개 (3 단) 의 직렬로 배치된 필터 박스 (38, 40) 를 갖는다. 이하에서는, 제 1 종류의 필터 박스 (38) 를 제 1 필터 박스 (38) 라고도 부르고, 제 2 종류의 필터 박스 (40) 를 제 2 필터 박스 (40) 라고도 부른다.

본 실시형태에 있어서, 필터 박스는, 필터면이 수평 방향에 대해 교차하는 방향, 예를 들어, 필터 박스의 필터면이 XZ 면 내에 설치된다. 또한, 필터 박스의 필터면은, XZ 면에 대해 경사지게 설치되어도 된다. 이 경우, 필터 박스의 프레임의 설치면에 테이퍼를 형성하거나 또는 케이싱 (28) 의 바닥판 (28h) 에 테이퍼 부재를 형성하거나 하면 된다.

본 실시형태에서는 이 필터 박스의 설치 상태를 수평으로 하여, 이하 설명한다.

또한, 필터 장치 (26) 는, 필터 박스 (38, 40) 의 삽입시 또는 교환시에, 필터 박스 (38, 40) 를 출입시키 위한 창문부 (28b) (도 2 참조) 를 열기 위하여, 케이싱 (28) 에 복수 지점에서 힌지 기구 (29h) (도 3 참조) 를 개재하여 개폐 가능하게 장착된 도어 (29) 를 갖는다. 케이싱 (28) 의 ＋Y 방향의 단부의 제 1 공간의 상판에는, 개구 (28a) 가 형성되어 있고, 이 개구 (28a) 에 공조용 공기 (AR) 를 받아들이는 배관 (25) 의 단부가 장착되어 있다. 케이싱 (28) 의 -Y 방향의 측벽에 개구 (28g) 가 형성되고, 케이싱 (28) 의 -Y 방향의 단부의 제 4 공간에 개구 (28g) 를 통하여 제 1 덕트 (32) 가 연결되어 있다.

도 2 는, 도 1 중의 케이싱 (28) 의 도어 (29) 를 연 상태의 필터 장치 (26) 를 나타낸다. 도 2 에 있어서, 설명의 편의상, 케이싱 (28), 도어 (29), 및 구획판 (42A ～ 42C) 은 2 점 쇄선으로 나타내고 있다. 도 2 에 있어서, 도어 (29) 에는, 도어 (29) 로 케이싱 (28) 의 창문부 (28b) 를 닫았을 때에, 창문부 (28b) 의 주변 및 구획판 (42A ～ 42C) 의 단부와 도어 (29) 사이를 밀폐하기 위한 개스킷 (46) 이 고정되어 있다. 개스킷 (46) 은, 내식성이 우수하며, 또한 탈가스가 적은 재료, 예를 들어 테플론 (듀퐁사의 등록상표) 의 시트, 또는 실리콘 고무 시트 등으로 형성할 수 있다.

또, 케이싱 (28) 의 내부에 있어서, -Y 방향의 단부의 구획판 (42A) 및 ＋Y 방향의 단부의 구획판 (42) 에 각각 밀착하도록 수평으로 된 제 1 필터 박스 (38) 는, 프레임 (50) 의 개구 (50f) (도 3 참조) 에 유기계 가스 (유기물 가스) 를 제거하는 케미컬 필터 (51) 를 유지한 것이다. 또, 중앙의 구획판 (42B) 에 밀착하도록 수평으로 된 제 2 필터 박스 (40) 는, 프레임 (55) 의 개구 (55f) (도 3 참조) 에 암모니아나 아민 등의 알칼리계 가스 (알칼리성 물질의 가스) 및 산성 가스 (산성 물질의 가스) 를 제거하는 케미컬 필터 (56) 를 유지한 것이다.

각 필터 박스 (38, 40) 의 Y 방향의 폭은 예를 들어 200 ～ 400 ㎜ 이고, 각 필터 박스 (38, 40) 의 중량은 예를 들어 10 ～ 20 ㎏ 정도이다.

유기계 가스 제거용 케미컬 필터 (51) 로는, 예를 들어 활성탄형 필터 또는 세라믹스형 필터 등이 사용 가능하다. 또, 알칼리계 가스 및 산성 가스 제거용 케미컬 필터 (56) 로는, 첨착제 활성탄형 필터, 이온 교환 수지형 필터, 이온 교환 섬유형 필터, 또는 첨착제 세라믹스형 필터 등을 사용할 수 있다. 또, 프레임 (50, 55), 구획판 (42A ～ 42C), 케이싱 (28), 및 도어 (29) 는, 각각 내식성이 있어 탈가스 등이 적은 재료, 예를 들어 표면에 산화 피막 (산화알루미늄 등) 이 형성된 알루미늄 (알루마이트 처리된 알루미늄), 또는 스테인리스강 등으로 형성되어 있다. 또한, 프레임 (50, 55) 등은, 내식성이 있어 탈가스가 적은 수지 재료를 함유하는 재료 (폴리에틸렌으로 덮은 합판, 또는 불소계 수지 등) 등으로 형성할 수도 있다.

또한, 유기계 가스를 제거함으로써, 챔버 (10) 의 노광실 (10a) 내에서 노광광 (EL) 의 투과율이 향상되고, 또한 유기계 가스와 노광광 (EL) 의 상호 작용에 의해 광학 소자에 표면에 형성되는 헤이즈 물질의 발생이 억제된다. 또, 알칼리계 가스 및 산성 가스를 제거함으로써, 웨이퍼 (W) 의 포토레지스트의 특성의 변화 등이 억제된다. 특히, 포토레지스트가 화학 증폭형 포토레지스트인 경우에는, 공기 중에 암모니아나 아민 등의 알칼리계 가스가 있으면, 발생한 산이 반응하여 포토레지스트 표면에 난용화층이 발생할 우려가 있다. 따라서, 특히 암모니아나 아민 등의 알칼리계 가스의 제거가 유효하다.

또한, 도 1 의 로더실 (10b) 내의 필터 박스 (63, 64) 내의 케미컬 필터의 구성은, 케미컬 필터 (51, 56) 의 구성과 동일하다. 단, 필터 박스 (63, 64) 는 필터 박스 (38, 40) 보다 소형이어도 된다.

또, 필터 장치 (26) 는, 케이싱 (28) 의 -X 방향의 측벽 (28i) 에 고정되어, 각각 구획판 (42A, 42B, 42C) 에 대해 필터 박스 (38, 40, 38) 를 위치 결정하기 위한 위치 결정 블록 (48A, 48B, 48C) 과, 위치 결정 블록 (48A, 48B, 48C) 에 대해 각각 필터 박스 (38, 40, 38) 를 Z 방향의 중앙 부근에서 탄성 지지하기 위한 이동용 레버 (58A, 58B, 58C) 를 갖는다. 위치 결정 블록 (48A, 48B, 48C) 은, 각각 ZY 평면에 대해 시계 회전 방향으로 소정의 테이퍼각 (φ) (도 3 참조) 으로 경사진 평면으로 이루어지는 테이퍼부 (48Aa, 48Ba, 48Ca) 를 갖는다.

도 3 은, 도 2 의 케이싱 (28) 의 도어 (29) 를 닫은 상태의 필터 장치 (26) 를 나타내는 평면의 단면도이다. 단, 도 3 에 있어서는, 케이싱 (28) 의 상판에 형성되어 있는 공기 취입용 개구 (28a) 를 2 점 쇄선으로 나타내고 있다. 도 3 에 있어서, 구획판 (42A ～ 42C) 에는 각각 필터 박스 (38, 40) 를 통과한 공기를 통하는 개구 (42Aa, 42Ba, 42Ca) 가 형성되어 있다. 또, 케이싱 (28) 내의 공간은, 구획판 (42A ～ 42C) 에 의해, ＋Y 방향으로부터 순서대로 4 개의 공간 (28c, 28d, 28e, 28f) 으로 나누어지고, 제 1 공간 (28c) 이 개구 (28a) 를 통하여 도 1 의 배관 (25) 으로 연통되고, 제 4 공간 (28f) 이 개구 (28g) 를 통하여 도 1 의 제 1 덕트 (32) 에 연통되어 있다. 또한, 위치 결정 블록 (48A ～ 48C) 의 테이퍼부 (48Aa ～ 48Ca) 의 테이퍼각 (φ) 은 서로 동등하고, 테이퍼각 (φ) 은 예를 들어 20°～ 40°이고, 일례로서 테이퍼각 (φ) 은 30°이다.

또, 서로 동일한 구성의 이동용 레버 (58A, 58B, 58C) 는 각각 구획판 (42B, 42C) 및 케이싱 (28) 의 ＋Y 방향의 측벽에 고정된 지점 부재 (59A, 59B, 59C) 에 대해 Z 축에 평행한 축의 둘레 (θz 방향) 로 회전 가능하게 연결되어 있다. 일례로서 이동용 레버 (58A) 는, 지점 부재 (59A) 에 회전 가능하게 연결된 로드 (58A1) 와, 로드 (58A1) 의 선단부의 각각 필터 박스 (38) 측 및 이것과 반대측에 고정된 반구상의 맞닿음 부재 (58A2) 및 손잡이 (58A3) 를 갖는다.

다음으로, 필터 박스 (38 및 40) 의 구성에 대해, 도 2 의 구획판 (42A 및 42B) 측으로부터 각각 필터 박스 (38 및 40) 를 보았을 때의 사시도인 도 4(A) 및 도 4(B) 를 참조하여 설명한다. 도 4(A) 및 도 4(B) 중의 직교 좌표계 (X, Y, Z) 는, 각각 필터 박스 (38 및 40) 가 필터 장치 (26) 내에서 목표로 하는 위치에 설치된 상태에 있어서의 좌표계를 나타내고 있다.

도 4(A) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 필터 박스 (38) 는, 중앙부에 거의 정방형의 개구 (50f) 가 형성된 거의 고리형 프레임 (50) 과, 개구 (50f) 내에 유지된 케미컬 필터 (51) 와, 프레임 (50) 에 고정된 1 쌍의 볼록 손잡이부 (70A) 를 갖는다. 개스킷 (54) 의 재료는 개스킷 (46) 과 동일하다.

또한, 본 실시형태에 있어서, 프레임 (50) 의 XZ 평면에 평행한 -Y 방향의 제 1 단면 (50a) 에, 개구 (50f) 를 둘러싸도록 접착 등으로 고정된 거의 정방형의 고리형 개스킷 (54) (시일 부재) 을 형성하고 있다. 또한, 개스킷 (54) 은, 제 1 단면 (50a) 이 밀착되는 상대측 (예를 들어, 구획판) 에 형성해도 된다.

또한, 제 1 필터 박스 (38) 의 개구 (50f) 는, 사각형 등의 사각 형상이어도 되고, 다각 형상이어도 된다. 또, 프레임 (50) 의 형상도 정방형에 한정되지 않고, 장방형이나 다각 형상이어도 된다.

또, 필터 박스 (38) 는, 프레임 (50) 의 4 개의 측면 중, -X 방향측의 측면 및 ＋X 방향측의 측면의 전체면에, 각각 프레임 (50) 의 XZ 평면에 평행한 ＋Y 방향의 제 2 단면 (50g) 으로부터 제 1 단면 (50a) 측을 향하여, 프레임 (50) 의 외측으로 경사지도록 형성된 평면으로 이루어지는 대칭인 제 1 테이퍼부 (50b) 및 제 2 테이퍼부 (50c) 를 갖는다. 이 제 2 측면은, 케미컬 필터 (56) (또는 프레임 (50) 의 개구 (50f)) 에 관하여 제 1 측면과 반대측의 면이다. 제 1 테이퍼부 (50b) 는 ZY 평면에 대해 시계 회전 방향으로 테이퍼각 (φ) 으로 경사지고, 제 2 테이퍼부 (50c) 는 ZY 평면에 대해 반시계 회전 방향으로 테이퍼각 (φ) 으로 경사져 있다. 테이퍼각 (φ) 은, 도 3 의 위치 결정 블록 (48A ～ 48C) 의 테이퍼부 (48Aa ～ 48Ca) 의 테이퍼각과 동등하다. 따라서, 도 3 에 있어서, 프레임 (50) 의 단면 (50a) 에 대해 제 1 테이퍼부 (50b) 가 이루는 각도를 α 로 하면, 각도 (α) 와 테이퍼각 (φ) 의 합은 90°이다.

도 4(A) 에 있어서, 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 의 중앙부로부터 -Z 방향으로 어긋난 위치에 손잡이부 (70A) 가 고정되고, 제 2 테이퍼부 (50c) 의 중앙부로부터 ＋Z 방향으로 어긋난 위치에 손잡이부 (70A) 가 고정되어 있다. 즉, 프레임 (50) 의 중심에 대해 1 쌍의 손잡이부 (70A) 는 거의 점대칭인 위치에 있다. 또, 프레임 (50) 의 -Z 방향 및 ＋Z 방향의 측면이 각각 XY 평면에 평행한 설치면 (50d 및 50e) 이다.

필터 박스 (38) 의 프레임 (50) 의 설치면 (50d) 을 케이싱 (28) 의 제 3 공간 (28e) 의 바닥판 (28h) 의 상면에 재치하고, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 를 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 에 접촉시키고, 또한 프레임 (50) 의 단면 (50a) 을 개스킷 (54) 을 개재하여 구획판 (42A) 에 밀착시킨 상태가, 제 3 공간 (28e) 내의 필터 박스 (38) 의 설치 위치 (Q1) 이다. 필터 박스 (38) 는, 수평으로 자중에 의해 안정적으로 정지 (靜止) 하고 있다. 이 경우, 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 의 손잡이부 (70A) 에 대향하는 위치에는 오목부 (48Ab) 가 형성되어 있기 때문에, 손잡이부 (70A) 가 있어도 테이퍼부 (48Aa) 에 테이퍼부 (50b) 를 밀착 가능하다.

동일하게, 케이싱 (28) 의 제 1 공간 (28c) 내의 설치 위치 (Q3) 에 있어서도, 필터 박스 (38) 의 프레임 (50) 의 설치면 (50d) 이 바닥판 (28h) 의 상면에 재치되고, 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 가 위치 결정 블록 (48C) 의 테이퍼부 (48Ca) 에 접촉하고, 또한 단면 (50a) 이 개스킷 (54) 을 개재하여 구획판 (42C) 에 밀착하고 있다. 또, 제 1 테이퍼부 (50b) 에 형성한 손잡이부 (70A) 가 위치 결정 블록 (48C) 의 테이퍼부 (48Ca) 의 오목부 (48Cb) 내에 수용되어 있다.

또한, 필터 박스 (38) 는, 1 쌍의 손잡이부 (70A) 를 떼어낸 상태에 있어서, Y 축에 평행한 축의 둘레 (θy 방향) 로 180°회전해도 형상이 동일하기 때문에, 프레임 (50) 의 타방의 설치면 (50e) 을 케이싱 (28) 의 바닥판 (28h) 상에 재치하는 것도 가능하다. 이와 같이 설치면 (50e) 을 바닥판 (28h) 상에 재치했을 때에는, 프레임 (50) 의 제 2 테이퍼부 (50c) 가 위치 결정 블록 (48A) (48C) 의 테이퍼부 (48Aa) (48Ca) 에 접촉하고, 제 2 테이퍼부 (50c) 에 형성한 손잡이부 (70A) 가 오목부 (48Ab) (48Cb) 내에 수용되기 때문에, 필터 박스 (38) 는 정확하게 설치 위치 (Q1 또는 Q3) 에 설치할 수 있다.

도 4(B) 에 나타내는 바와 같이, 제 2 필터 박스 (40) 는, 프레임 (50) 과 동일한 형상의 중앙부에 개구 (55f) 가 형성된 거의 고리형 프레임 (55) 과, 개구 (55f) 내에 유지된 케미컬 필터 (56) 를 갖는다. 또, 필터 박스 (40) 는, 프레임 (55) 의 -X 방향측의 측면 및 ＋X 방향의 측면의 전체면에, 각각 ＋Y 방향의 제 2 단면 (55g) 으로부터 -Y 방향의 제 1 단면 (55a) 측을 향하여, 프레임 (55) 의 외측에 테이퍼각 (φ) 으로 경사지도록 대칭으로 형성된 제 1 테이퍼부 (55b) 및 제 2 테이퍼부 (55c) 를 갖는다. 제 2 필터 박스 (40) 는, 제 1 필터 박스 (38) 와 동일하게, 프레임 (55) 의 -Y 방향의 제 1 단면 (55a) 에, 개구 (55f) 를 둘러싸도록 개스킷 (54) 을 고정시켜도 된다. 또, 제 2 필터 박스 (40) 의 개구 (55f) 도, 제 1 필터 박스 (38) 와 동일하게, 사각형 등의 사각 형상이어도 되고, 다각 형상이어도 된다. 또, 프레임 (55) 의 형상도 정방형에 한정되지 않고, 장방형이나 다각 형상이어도 된다.

또한, 프레임 (50, 55) 은, 예를 들어 몰드 성형 등에 의해 제조 가능하다.

또한, 필터 박스 (40) 는, 제 1 테이퍼부 (55b) 의 중앙으로부터 ＋Z 방향으로 어긋난 위치, 및 이 위치와 프레임 (55) 의 중심에 관하여 거의 점대칭인 제 2 테이퍼부 (55c) 상의 위치에 고정된 1 쌍의 손잡이부 (70B) 를 갖는다. 또, 프레임 (55) 의 -Z 방향 및 ＋Z 방향의 측면이 각각 설치면 (55d 및 55e) 이다.

본 실시형태에서는, 제 1 필터 박스 (38) 및 제 2 필터 박스 (40) 의 형상은, 각각의 1 쌍의 손잡이부 (70A 및 70B) 의 위치가 Z 방향을 따라 역방향으로 어긋나 있는 점이 상이하다. 또, 이 형상의 상이는, 필터 박스 (38, 40) 를 θy 방향으로 180°회전해도 유지된다. 따라서, 작업자는, 외관으로부터 필터 박스 (38, 40) 를 용이하게 서로 식별 가능하다. 또한, 도 4(A) 의 프레임 (50) 의 1 쌍의 손잡이부 (70A) 는 예를 들어 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 테이퍼부 (50b, 50c) 의 나사 구멍에 고정되고, 테이퍼부 (50b, 50c) 의 중심으로부터 손잡이부 (70A) 와 Z 방향으로 대칭인 위치에 손잡이부 (70A) 를 장착 가능한 나사 구멍이 형성된 장착 영역 (E1, E2) 이 설정되어 있다. 이 때문에, 1 쌍의 손잡이부 (70A) 의 테이퍼부 (50b, 50a) 에 대한 장착 위치는, 경사 방향과는 상이한 방향, 본 실시형태에서는, 경사 방향에 대해 직교하는 방향을 따라 가변이다. 따라서, 손잡이부 (70A) 를 프레임 (50) 의 장착 영역 (E1, E2) 에 장착함으로써, 프레임 (50) 은 제 2 필터 박스 (40) 용 프레임 (55) 으로서 사용 가능하다.

동일하게, 도 4(B) 에 있어서, 1 쌍의 손잡이부 (70B) 의 프레임 (55) 의 테이퍼부 (55b, 55a) 에 대한 장착 위치는, 장착 영역 (E3, E4) 과의 사이에서 경사가 없는 방향을 따라 가변이다. 따라서, 손잡이부 (70B) 를 프레임 (55) 의 장착 영역 (E3, E4) 에 장착함으로써, 프레임 (55) 은 제 1 필터 박스 (38) 용 프레임 (50) 으로서 사용 가능하다.

필터 박스 (40) 의 프레임 (55) 의 설치면 (55d) 을 케이싱 (28) 의 제 2 공간 (28d) 의 바닥판 (28h) 의 상면에 재치하고, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 프레임 (55) 의 제 1 테이퍼부 (55b) 를 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 에 접촉시키고, 또한 프레임 (55) 의 단면 (55a) 을 개스킷 (54) 을 개재하여 구획판 (42B) 에 밀착시킨 상태가, 제 2 공간 (28d) 내의 필터 박스 (40) 의 설치 위치 (Q2) 이다. 필터 박스 (40) 도, 수평으로 자중에 의해 안정적으로 정지하고 있다. 이 경우, 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 의 손잡이부 (70B) 에 대향하는 위치에는 오목부 (48Bb) 가 형성되어 있기 때문에, 손잡이부 (70B) 가 있어도 테이퍼부 (48Ba) 에 테이퍼부 (55b) 를 밀착 가능하다.

또한, 필터 박스 (40) 도, θy 방향으로 180°회전해도 형상이 동일하기 때문에, 1 쌍의 손잡이부 (70B) 를 떼어낸 상태에서, 프레임 (55) 의 타방의 설치면 (55e) 을 케이싱 (28) 의 바닥판 (28h) 상에 재치하는 것도 가능하다. 이와 같이 설치면 (55e) 을 바닥판 (28h) 상에 재치했을 때에는, 프레임 (55) 의 제 2 테이퍼부 (55c) 가 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 에 접촉하고, 제 2 테이퍼부 (55c) 에 형성한 손잡이부 (70B) 가 오목부 (48Bb) 내에 수용되기 때문에, 필터 박스 (40) 는 정확하게 설치 위치 (Q2) 에 설치할 수 있다.

또한, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 위치 결정 블록 (48C) 의 오목부 (48Cb) 의 위치는 손잡이부 (70A) 에 맞추어 낮은 위치에 있고 (위치 결정 블록 (48A) 의 오목부 (48Ab) 도 동일), 위치 결정 블록 (48B) 의 오목부 (48Bb) 의 위치는 손잡이부 (70B) 에 맞추어 높은 위치에 있다. 따라서, 공간 (28c 또는 28e) 내의 설치 위치 (Q3 또는 Q1) 에 제 2 필터 박스 (40) 를 설치하려고 하면, 필터 박스 (40) 의 손잡이부 (70B) 가 위치 결정 블록 (48C 또는 48A) 의 테이퍼부 (48Ca 또는 48Aa) 와 기계적으로 간섭하기 때문에, 설치 위치 (Q3, Q1) 에 잘못하여 필터 박스 (40) 를 설치하는 것을 방지할 수 있다. 동일하게, 공간 (28d) 내의 설치 위치 (Q2) 에 제 1 필터 박스 (38) 를 설치하려고 하면, 필터 박스 (38) 의 손잡이부 (70A) 가 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 와 기계적으로 간섭하기 때문에, 설치 위치 (Q2) 에 잘못하여 필터 박스 (38) 를 설치하는 것을 방지할 수 있다. 이와 같이 본 실시형태에 의하면, 필터 박스 (38) 의 손잡이부 (70A) 의 위치와 필터 박스 (40) 의 손잡이부 (70B) 의 위치가 상이하고, 또한 대응하는 케이싱 (28) 내의 위치 결정 블록 (48A, 48C) 의 오목부 (48Aa, 48Ca) 의 위치와 위치 결정 블록 (48B) 의 오목부 (48Bb) 의 위치가 상이하다. 따라서, 구획판 (42A, 42C) 의 앞면에 알칼리계 가스 및 산성 가스를 제거하기 위한 케미컬 필터 (56) 를 갖는 필터 박스 (40) 를 설치하는 것을 방지할 수 있고, 반대로 구획판 (42B) 의 앞면에 유기계 가스를 제거하기 위한 케미컬 필터 (51) 를 갖는 필터 박스 (38) 를 설치하는 것을 방지할 수 있다.

그리고, 도 3 에 있어서, 구획판 (42A, 42B, 42C) 의 앞면의 설치 위치 (Q1, Q2, Q3) 에 각각 필터 박스 (38, 40, 38) 를 설치한 후, 이동용 레버 (58A, 58B, 58C) 로, 각 필터 박스 (38, 40, 38) 를 구획판 (42A, 42B, 42C) 에 탄성 지지하고, 케이싱 (28) 의 도어 (29) 가 닫혀진 상태에서는, 위치 결정 블록 (48A ～ 48C) 및 이동용 레버 (58A ～ 58C) 에 의해, 구획판 (42A ～ 42C) 과 필터 박스 (38, 40) 의 프레임 (50, 55) 사이의 기밀성은 개스킷 (54) 에 의해 높게 유지되고 있다. 이 결과, 케이싱 (28) 의 개구 (28a) 가 형성된 상판과 구획판 (42C) 에 의해 협지된 제 1 공간 (28c) 내의 기체는, 반드시 필터 박스 (38) 의 케미컬 필터 (51) 를 통과한 후, 개구 (42Ca) 를 통과하여, 구획판 (42B 및 42C) 에 의해 협지된 제 2 공간 (28d) 으로 유입한다. 동일하게, 공간 (28d) 내의 기체는, 반드시 필터 박스 (40) 의 케미컬 필터 (56) 를 통과한 후, 개구 (42Ba) 를 통과하여, 구획판 (42A 및 42B) 에 의해 협지된 제 3 공간 (28e) 으로 유입한다. 동일하게, 공간 (28e) 내의 기체는, 반드시 필터 박스 (38) 의 케미컬 필터 (51) 를 통과한 후, 개구 (42Aa), 구획판 (42A) 의 이면의 제 4 공간 (28f), 및 케이싱 (28) 의 측벽의 개구 (28g) 를 통과하여, 도 2 의 제 1 덕트 (32) 로 흐른다. 따라서, 케이싱 (28) 의 ＋Y 방향의 상부의 개구 (28a) 로부터 유입되는 공기 (AR) 는, 반드시 2 개 (2 단) 의 유기계 가스 제거용 필터 박스 (38) 및 1 개 (1 단) 의 알칼리계 가스 및 산성 가스 제거용 필터 박스 (40) 를 통과하여 도 1 의 공조 장치 (30) 에 공급되기 때문에, 챔버 (10) 내에는 불순물을 고도로 제거한 공기가 공급된다.

다음으로, 케이싱 (28) 에 대한 필터 박스 (38, 40) 의 설치 동작 및 교환 동작의 일례에 대해, 도 5(A) ～ 도 6(B) 를 참조하여 설명한다. 도 5(A) ～ 도 6(B) 는, 각각 케이싱 (28) 을 단면 (斷面) 으로 나타낸 필터 장치 (26) 를 나타내는 평면도이다.

먼저, 케이싱 (28) 에 최초로 2 개의 필터 박스 (38) 및 1 개의 필터 박스 (40) 를 설치할 때에는, 도 4(A) 의 미사용 케미컬 필터 (51) 가 충전된 2 개의 필터 박스 (38) 와, 도 4(B) 의 미사용 케미컬 필터 (56) 가 충전된 1 개의 필터 박스 (40) 를 준비한다. 다음으로, 케이싱 (28) 의 로크 (도시하지 않음) 를 해제하여 도어 (29) 를 연 후, 도 5(A) 에 있어서, 화살표 (B1) 로 나타내는 바와 같이, 이동용 레버 (58A ～ 58C) 를 전방 (케이싱 (28) 의 창문부 (28b) 의 외측) 으로 연다.

다음으로 작업자는, 1 번째의 필터 박스 (38) 의 손잡이부 (70A) 를 쥐고, 케이싱 (28) 의 제 3 공간 (28e) 내의 바닥판 (28h) (도 2 참조) 상에 필터 박스 (38) (프레임 (50)) 의 설치면 (50d) 을 재치한다. 그리고, 작업자는 화살표 (B2) 로 나타내는 바와 같이, 제 3 공간 (28e) 내에 필터 박스 (38) 를 밀어넣는다. 다음으로, 도 5(B) 에 화살표 (B3) 로 나타내는 바와 같이 작업자는, 필터 박스 (38) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 를 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 에 걸어맞춘다 (접촉시킨다). 필터 박스 (38) 의 일방의 손잡이부 (70A) 는 위치 결정 블록 (48A) 의 오목부 (48Ab) 내에 수용된다. 그리고, 화살표 (B4) 로 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (38) 의 제 2 테이퍼부 (50c) 에 이동용 레버 (58A) 를 가압한다. 다음으로 작업자는, 도 6(A) 에 화살표 (B5) 로 나타내는 바와 같이 이동용 레버 (58A) 를 추가로 회전시켜, 필터 박스 (38) 를 -X 방향 및 -Y 방향으로 탄성 지지한다. 이로써, 화살표 (B6) 로 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (38) 는 케이싱 (28) 내의 설치 위치 (Q1) 까지 이동시키고, 필터 박스 (38) 의 단면 (50a) 이 개스킷 (54) 을 개재하여 구획판 (42A) 에 밀착한다. 또한, 필터 박스 (38) 의 개스킷 (54) 이 구획판 (42A) 에 접촉한 상태에서, 필터 박스 (38) 의 제 2 테이퍼부 (50c) 에, 이동용 레버 (58A) 를 가압한 후, 이동용 레버 (58A) 를 추가로 회전시켜도 된다.

작업자는, 다음으로 2 번째의 필터 박스 (40) 의 손잡이부 (70B) 를 쥐고, 케이싱 (28) 의 제 2 공간 (28d) 내의 바닥판 (28h) 상에 필터 박스 (40) (프레임 (55)) 의 설치면 (55d) 을 재치한다. 그리고, 작업자는 화살표 (B7) 로 나타내는 바와 같이, 케이싱 (28) 의 제 2 공간 (28d) 내에 필터 박스 (40) 를 밀어넣는다. 다음으로 작업자는 도 6(B) 에 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (40) 의 제 1 테이퍼부 (55b) 를 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 에 걸어맞추고 (접촉시킨다), 필터 박스 (40) 의 제 2 테이퍼부 (55c) 에 이동용 레버 (58B) 를 가압한다. 필터 박스 (40) 의 일방의 손잡이부 (70B) 는 위치 결정 블록 (48B) 의 오목부 (48Bb) 내에 수용된다.

다음으로 작업자는, 화살표 (B8) 로 나타내는 바와 같이 이동용 레버 (58B) 를 추가로 회전시켜, 화살표 (B9) 로 나타내는 바와 같이 필터 박스 (40) 를 케이싱 (28) 내의 설치 위치 (Q2) 까지 이동시킨다. 이로써, 필터 박스 (40) 의 단면 (55a) 이 개스킷 (54) 을 개재하여 구획판 (42B) 에 밀착한다. 또한, 필터 박스 (40) 의 개스킷 (54) 이 구획판 (42B) 에 접촉한 상태에서, 필터 박스 (40) 의 제 2 테이퍼부 (55c) 에, 이동용 레버 (58B) 를 가압한 후, 이동용 레버 (58B) 를 추가로 회전시켜도 된다.

다음으로 화살표 (B10) 로 나타내는 바와 같이, 케이싱 (28) 의 제 1 공간 (28c) 내에서 3 번째의 필터 박스 (38) 를 이동시키고, 이동용 레버 (58C) 를 회전시켜, 제 1 공간 (28c) 내의 설치 위치에 필터 박스 (38) 를 설치한다. 다음으로, 케이싱 (28) 의 도어 (29) 를 닫아 로크함으로써, 필터 박스 (38, 40) 의 설치가 완료된다.

이 때에, 필터 박스 (38 (40)) 의 제 1 테이퍼부 (50b (55b)) 를 위치 결정 블록 (48A (48B)) 의 테이퍼부 (48Aa (48Ba)) 에 가압하여, 필터 박스 (38 (40)) 를 탄성 지지하는 것만으로, 필터 박스 (38 (40)) 는 구획판 (42A (42B)) 의 앞면의 설치 위치 (Q1 (Q2)) 에 단시간에 설치된다. 따라서, 필터 박스 (38 (40)), 나아가서는 이 내부의 케미컬 필터 (51 (56)) 의 목표로 하는 위치로의 설치를 효율적으로, 또한 용이하게 위치 결정할 수 있도록 실시할 수 있다.

다음으로, 케이싱 (28) 내의 필터 박스 (38, 40) 의 교환을 실시하는 경우, 먼저 작업자는, 케이싱 (28) 의 로크를 해제하여 도어 (29) 를 열고, 도 6(B) 에 화살표 (D1) 로 나타내는 바와 같이 이동용 레버 (58C) 를 필터 박스 (38) 로부터 떼어낸다. 다음으로 작업자는, 제 1 공간 (28c) 내의 필터 박스 (38) 의 손잡이부 (70A) 를 쥐고, 화살표 (D2) 로 나타내는 바와 같이 필터 박스 (38) 를 반출한다. 다음으로, 도 6(A) 에 화살표 (D3) 로 나타내는 바와 같이 이동용 레버 (58B) 를 필터 박스 (40) 로부터 떼어낸 후, 작업자는, 제 2 공간 (28d) 내의 필터 박스 (40) 의 손잡이부 (70B) 를 쥐고, 필터 박스 (40) 의 제 1 테이퍼부 (55b) 를 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (42Ba) 를 따라 전방으로 이동시킨다. 다음으로 작업자는 화살표 (D4) 로 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (40) 를 케이싱 (28) 의 제 2 공간 (28d) 으로부터 빼낸다.

다음으로, 도 5(B) 에 화살표 (D5) 로 나타내는 바와 같이 이동용 레버 (58A) 를 필터 박스 (38) 로부터 떼어낸 후, 작업자는, 제 3 공간 (28e) 내의 필터 박스 (38) 의 손잡이부 (70A) 를 쥐고, 손잡이부 (70A) 를 화살표 (D6) 로 나타내는 방향으로 당긴다. 이로써, 화살표 (D7) 로 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (38) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 는, 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 를 따라 전방으로 이동한다. 다음으로 작업자는, 도 5(A) 에 화살표 (D8) 로 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (38) 를 케이싱 (28) 의 제 3 공간 (28e) 으로부터 빼낸다.

다음으로, 상기의 필터 박스 (38, 40) 의 설치 동작과 동일한 공정에 의해, 작업자는 새로운 필터 박스 (38, 40) 를 케이싱 (28) 내의 목표로 하는 위치에 설치한다. 다음으로, 케이싱 (28) 의 도어 (29) 를 닫아 로크함으로써, 필터 박스 (38, 40) 의 교환이 종료된다.

이 때에, 필터 박스 (38, 40) 는, 설치 위치로부터 용이하게 빼낼 수 있기 때문에, 케이싱 (28) 에 있어서의 필터 박스 (38, 40) 의 교환을 용이하게, 또한 효율적으로 실시할 수 있다.

본 실시형태의 효과 등은 이하와 같다.

(1) 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 는, 필터 장치 (26) 및 공조 장치 (30) 를 포함하는 전체 공조 시스템을 구비하고, 필터 장치 (26) 는 케미컬 필터 (51) 및 케미컬 필터 (56) 를 포함하는 복수의 필터를 유지하는 장치이다. 그리고, 필터 장치 (26) (필터 유지 장치) 는, 케미컬 필터 (51) (제 1 필터) 를 유지하는 거의 고리형 프레임 (50) (제 1 프레임) 과, 프레임 (50) 의 -X 방향의 측면 (제 1 측면) 에 형성되고, 제 2 단면 (50g) 측으로부터 제 1 단면 (50a) 측을 향하여 프레임 (50) 의 외측으로 점차 경사지는 제 1 테이퍼부 (50b) (제 1 형상 변화부로서의 제 1 경사부) 와, 제 1 테이퍼부 (50b) 에 형성된 볼록 손잡이부 (70A) (제 1 손잡이부) 를 구비하고 있다. 또한, 필터 장치 (26) 는, 케미컬 필터 (56) (제 2 필터) 를 유지하는 거의 고리형 프레임 (55) (제 2 프레임) 과, 프레임 (55) 의 -X 방향의 측면 (제 2 측면) 에 형성되고, 제 2 단면 (55g) 측으로부터 제 1 단면 (55a) 측을 향하여, 프레임 (55) 의 외측으로 점차 경사지는 제 1 테이퍼부 (55b) (제 2 형상 변화부로서의 제 2 경사부) 와, 제 1 테이퍼부 (55b) 에 형성된 볼록 손잡이부 (70B) (제 2 손잡이부) 를 구비하고 있다.

또한, 프레임 (50) 의 제 1 단면 (50a) 에 개스킷 (54) (시일 부재) 이 형성되고, 프레임 (55) 의 제 1 단면 (55a) 에 개스킷 (54) (시일 부재) 이 형성되어 있다.

그리고, 프레임 (50) 에 대한 손잡이부 (70A) 의 위치 관계 (제 1 테이퍼부 (50b) 가 형성된 측면에 있어서의 -Z 방향의 측단 (설치면 (50d)) 으로부터의 거리) 와 프레임 (55) 에 대한 손잡이부 (70B) 의 위치 관계 (제 1 테이퍼부 (55b) 가 형성된 측면에 있어서의 -Z 방향의 측단 (설치면 (55d)) 으로부터의 거리) 이 상이하다.

본 실시형태에 의하면, 프레임 (50) (필터 박스 (38)) 및 프레임 (55) (필터 박스 (40)) 을 수납하는 케이싱 (28) 내의 설치 위치의 근방에, 제 1 테이퍼부 (50b, 55b) 와 동일한 경사각의 테이퍼부 (48Aa, 48Ba) 가 형성된 위치 결정 블록 (48A, 48B) 이 형성되어 있다. 그리고, 케이싱 (28) 의 테이퍼부 (48Aa, 48Ba) 를 따라 프레임 (50, 55) 의 제 1 테이퍼부 (50b, 55b) 가 이동하도록, 프레임 (50, 55) 을 탄성 지지함 (이동함) 으로써, 프레임 (50, 55) (케미컬 필터 (51, 56)) 의 케이싱 (28) 내의 목표 위치에 대한 설치를 효율적으로, 및 용이하게 위치 결정할 수 있도록 실시할 수 있다. 바꾸어 말하면, 프레임 (50, 56) 의 제 1 테이퍼부 (50b, 55b) 는, 이동 및 위치 결정의 2 가지의 기능을 할 수 있다.

또한, 프레임 (50) 에 대한 손잡이부 (70A) 의 위치 관계와, 프레임 (55) 에 대한 손잡이부 (70B) 의 위치 관계가 상이하다. 따라서, 프레임 (50) 과, 프레임 (55) 을 외관으로부터 용이하게 식별할 수 있기 때문에, 케미컬 필터 (51, 56) 를 상이한 위치에 설치하는 것을 방지할 수 있고, 나아가서는 예를 들어 사용이 완료된 케미컬 필터 (51, 56) 의 교환을 정확하게 실시할 수 있다.

(2) 또, 필터 장치 (26) 는, 필터 박스 (38) 의 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 가 형성된 측면 (제 1 측면) 에 대해, 케미컬 필터 (51) 를 협지하여 반대측의 ＋X 방향의 측면 (제 3 측면) 에 형성되고, 제 2 단면 (50g) 으로부터 제 1 단면 (50a) 측을 향하여, 제 1 테이퍼부 (50b) 와 대칭으로 프레임 (50) 의 외측으로 점차 경사지는 제 2 테이퍼부 (50c) (제 3 경사부) 를 갖는다. 또한, 필터 장치 (26) 는, 필터 박스 (40) 의 프레임 (55) 의 제 1 테이퍼부 (55b) 가 형성된 측면 (제 2 측면) 에 대해, 케미컬 필터 (56) 를 협지하여 반대측의 ＋X 방향의 측면 (제 4 측면) 에 형성되고, 제 1 테이퍼부 (55b) 와 대칭으로 프레임 (55) 의 외측으로 점차 경사지는 제 2 테이퍼부 (55c) (제 4 경사부) 를 갖는다.

따라서, 프레임 (50, 55) 을 180°회전한 경우라도, 프레임 (50, 55) 의 제 2 테이퍼부 (50c, 55c) 를 케이싱 (28) 의 테이퍼부 (48Aa, 48Ba) 를 따라 이동시킴으로써, 프레임 (50, 55) (케미컬 필터 (51, 56)) 의 케이싱 (28) 내의 목표 위치에 대한 설치를 효율적으로 실시할 수 있다.

(3) 또, 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 및 제 2 테이퍼부 (50c) 는 프레임 (50) 의 2 개의 측면의 전체면에 형성되고, 프레임 (55) 의 제 1 테이퍼부 (55b) 및 제 2 테이퍼부 (55c) 는 프레임 (55) 의 2 개의 측면의 전체면에 형성되어 있다. 따라서, 테이퍼부 (50b, 50c) 등의 가공이 용이하다.

또한, 테이퍼부 (50b, 50c) 는 프레임 (50) 이 대응하는 측면의 일부에만 형성해도 된다. 이 경우에는, 케이싱 (28) 측의 대응하는 위치 결정 블록 (48A, 48C) 에는, 테이퍼부 (50b) 에 대응하는 부분에만 테이퍼부를 형성해 두어도 된다. 이것은 테이퍼부 (55b, 55c) 도 동일하다.

(4) 또, 필터 박스 (38) (프레임 (50)) 의 테이퍼부 (50b, 50c) 및 필터 박스 (40) (프레임 (55)) 의 테이퍼부 (55b, 55c) 는 각각 평면, 즉 직선상으로 형성되어 있고, 이들에 대응하는 위치 결정 블록 (48A, 48B) 의 테이퍼부 (48Aa, 48Ba) 도 평면으로 형성되어 있기 때문에, 테이퍼부 (50b, 50c) 등의 형성이 용이하다.

그러나, 테이퍼부 (50b, 50c) 및 테이퍼부 (55b, 55c) 를 볼록 또는 오목한 구면상, 즉 곡선상으로 형성해도 된다. 이 경우에는, 이들에 대응하는 위치 결정 블록 (48A, 48B) 의 테이퍼부 (48Aa, 48Ba) 는 오목 또는 볼록의 구면상으로 형성함으로써, 상기의 실시형태와 동일하게 위치 결정 블록 (48A, 48B) 을 사용하여 필터 박스 (38, 40) 의 이동 및 위치 결정을 실시할 수 있다.

(5) 또, 도 4(A) 의 필터 박스 (38) 의 프레임 (50) 의 -X 방향의 측면에 형성한 볼록 손잡이부 (70A) (제 1 손잡이부) 는, 제 1 테이퍼부 (50b) 에 형성되어 있고, 이것에 대응하는 케이싱 (28) 내의 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 에는 손잡이부 (70A) 가 통과 가능한 오목부 (48Ab) 가 형성되어 있다. 따라서, 손잡이부 (70A) 가 있어도, 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b) 를 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 에 밀착시켜 이동시킬 수 있다. 이것은 필터 박스 (40) 의 제 1 테이퍼부 (55b) 의 손잡이부 (70B) 에 대해서도 동일하다.

(6) 또, 도 4(A) 의 필터 박스 (38) 의 프레임 (50) 의 ＋X 방향의 측면에 형성한 볼록 손잡이부 (70A) (제 3 손잡이부) 는, 제 2 테이퍼부 (50c) 에 형성되어 있다. 이 경우, 2 개의 손잡이부 (70A) 가 있기 때문에, 필터 박스 (38) 의 반송이 용이함과 함께, 필터 박스 (38) 를 180°회전한 경우라도, 프레임 (50) 의 제 2 테이퍼부 (50c) 를 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 에 밀착시켜 이동시킬 수 있다. 이것은 필터 박스 (40) 의 제 2 테이퍼부 (55c) 의 손잡이부 (70B) (제 4 손잡이부) 에 대해서도 동일하다.

또한, 프레임 (50) 에는 볼록 손잡이부 (70A) 대신에 오목 손잡이부를 형성해도 된다. 동일하게 프레임 (55) 에도 볼록 손잡이부 (70B) 대신에 오목 손잡이부를 형성해도 된다.

(7) 또, 도 4(A) 에 있어서, 제 1 필터 박스 (38) 의 프레임 (50) 의 제 2 테이퍼부 (50c) 의 중앙 부근에서, 단면 (50a) 에 가까운 위치 (F2) 에 손잡이부 (70A) 를 형성하고, 제 1 테이퍼부 (50b) 의 위치 (F2) 와 대칭인 위치에 손잡이부 (70A) 를 형성해도 된다. 이 경우에는, 도 2 의 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 의 대응하는 위치에 오목부 (48Ab) 를 형성해 둔다. 또, 도 4(B) 에 있어서, 제 2 필터 박스 (40) 의 프레임 (55) 의 제 2 테이퍼부 (55c) 의 중앙 부근에서, 단면 (50a) 으로부터 떨어진 위치 (F4) 에 손잡이부 (70B) 를 형성하고, 제 1 테이퍼부 (55b) 의 위치 (F4) 와 대칭인 위치에 손잡이부 (70B) 를 형성한다. 또한, 도 2 의 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 의 대응하는 위치에 오목부 (48Bb) 를 형성해 둔다. 이 경우에는, 프레임 (50, 55) 에 대한 손잡이부 (70A, 70B) 의 위치 관계는 단면 (50a, 55a) 과의 거리가 상이하다. 따라서, 작업자는, 프레임 (50, 55) 에 대한 손잡이부 (70A, 70B) 의 위치로부터 필터 박스 (38, 40) 를 식별 가능하다.

(8) 또, 필터 장치 (26) 는, 케이싱 (28) 내에서 필터 박스 (38, 40) 의 프레임 (50, 55) 을 위치 결정 블록 (48A ～ 48C) 측에 탄성 지지하는 이동용 레버 (58A ～ 58C) 를 구비하고 있기 때문에, 프레임 (50, 55) 의 이동을 원활하게 실시할 수 있다.

또한, 이동용 레버 (58A ～ 58C) 는 반드시 형성할 필요는 없다.

또, 케이싱 (28) 내의 구획판 (42A ～ 42C) 은, 연직선을 포함하는 면에 거의 평행 (거의 수평면에 수직) 하지만, 본 실시형태에서는, 위치 결정 블록 (48A ～ 48C) 이 있기 때문에, 필터 박스 (38, 40) 의 이동 및 위치 결정을 원활히 실시할 수 있다. 또한, 구획판 (42A ～ 42C) 은, 예를 들어 연직선을 포함하는 면에 대해 비스듬하게 경사져 있어도 된다.

(9) 또, 필터 박스 (38) (프레임 (50) 내) 의 케미컬 필터 (51) (여과재) 는, 그 속을 통과하는 기체 중의 유기계 가스 (유기물) 를 제거하고, 필터 박스 (40) (프레임 (55) 내) 의 케미컬 필터 (56) (여과재) 는, 그 속을 통과하는 기체 중의 알칼리성 가스 및 산성 가스를 제거하고 있기 때문에, 노광 본체부 (4) 가 수납되는 챔버 (10) 내에 불순물이 고도로 제거된 공기를 공급할 수 있다.

또한, 프레임 (56) 내의 필터는, 예를 들어 그 속을 통과하는 기체 중의 알칼리성 물질 및 산성 물질의 적어도 일방을 제거하는 필터여도 된다. 또, 케미컬 필터가 제거하는 불순물은 임의이고, 예를 들어 1 개의 케미컬 필터에 의해, 유기계 가스와 알칼리성 가스 및 산성 가스를 흡수하도록 해도 된다.

또한, 프레임 (50, 55) 내의 필터는, 케미컬 필터 이외의 임의의 필터 (여과재) 를 사용할 수 있다. 예를 들어, 프레임 (50, 55) 내의 필터로는, HEPA 필터 또는 ULPA 필터와 같은 미소한 입자 (파티클) 를 제거하기 위한 방진 필터를 사용하는 것도 가능하다.

(10) 또한, 본 실시형태의 필터 장치 (26) 에는, 2 개의 필터 박스 (38) (프레임 (50)) 및 1 개의 필터 박스 (40) (프레임 (55)) 가 설치되어 있지만, 필터 장치 (26) 가 구비하는 프레임 (50, 55) 의 개수는 임의이다. 또, 필터 장치 (26) 에는, 1 개 또는 복수의 프레임 (50), 또는 1 개 또는 복수의 프레임 (55) 을 포함하는 복수의 각각 필터를 수납하는 프레임을 설치하는 것만이어도 된다.

또, 필터 장치 (26) 의 케이싱 (28) 은 구획판 (42A ～ 42C) 에 의해 복수의 공간으로 구획되어 있지만, 케이싱 (28) 내를 구획판 (42A ～ 42C) 에 의해 구획하는 일 없이, 간단히 필터 박스 (38, 40) (프레임 (50, 55)) 를 예를 들어 교대로 겹쳐 쌓는 것도 가능하다.

(11) 또, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 는, 노광광 (EL) 으로 레티클 (R) 의 패턴 및 투영 광학계 (PL) 를 통하여 웨이퍼 (W) (기판) 를 노광하는 노광 장치에 있어서, 웨이퍼 (W) 를 노광하는 노광 본체부 (4) 를 수납하는 챔버 (10) 와, 본 실시형태의 필터 장치 (26) 와, 챔버 (10) 의 외부로부터 받아들여진 공기를 필터 장치 (26) 를 개재하여 챔버 (10) 내로 송풍하는 공조 장치 (30) 를 구비하고 있다.

본 실시형태에 의하면, 필터 장치 (26) 의 필터 박스 (38, 40) (프레임 (50, 55)) 의 교환을 효율적으로 실시할 수 있고, 프레임 (50, 55) 의 위치 결정을 고정밀도로 실시할 수 있기 때문에, 노광 장치의 메인터넌스를 효율적으로 실시할 수 있고, 또한 챔버 (10) 내의 공기의 불순물을 고정밀도로 제거할 수 있다.

또한, 본 실시형태에 있어서, 로더실 (10b) 내의 국소 공조 장치 (60) 의 필터 박스 (63, 64) 의 프레임으로서도, 필터 박스 (38, 40) 의 프레임 (50, 55) 과 동일한 테이퍼부가 형성된 프레임을 사용하고, 필터 박스 (63, 64) 를 위치 결정 블록 (48A ～ 48C) 과 상사형 (相似型) 테이퍼부가 형성된 위치 결정 블록을 구비한 케이싱에 수납해도 된다.

또한, 상기의 실시형태에 있어서는 다음과 같은 변형이 가능하다. 이하의 변형예에 있어서, 도 4(A) 및 도 5(B) 에 대응하는 부분에는 동일 부호를 붙여 그 상세한 설명을 생략한다.

(1) 도 7(A) 는, 상기의 실시형태의 제 1 변형예의 제 1 필터 박스 (38A) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48A) 을 나타내는 사시도, 도 7(B) 는, 그 제 1 변형예의 제 2 필터 박스 (40A) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48B) 을 나타내는 사시도이다. 도 7(A) 의 위치 결정 블록 (48A) 및 도 7(B) 의 위치 결정 블록 (48B) 을 각각 도 2 의 위치 결정 블록 (48A, 48C 및 48B) 대신에 케이싱 (28) 내에 설치함으로써, 이 제 1 변형예의 필터 박스 (38A, 40A) 를 케이싱 (28) 내에 설치할 수 있다.

도 7(A) 에 있어서, 제 1 필터 박스 (38A) 는, 케미컬 필터 (51) 를 유지하는 거의 고리형 프레임 (50) 과, 프레임 (50) 의 제 1 단면 (50a) 에 형성된 개스킷 (54A) (개스킷 (54) 의 일부를 절결한 형상) 과, 프레임 (50) 의 -X 방향의 측면 (제 1 측면) 에 형성된 오목부로 이루어지는 손잡이부 (50b1) (제 1 손잡이부) 와, 프레임 (50) 의 -X 방향의 측면에 손잡이부 (50b1) 를 Z 방향으로 협지하도록 형성되고, 프레임 (50) 의 제 2 단면 (50g) 으로부터 제 1 단면 (50a) 측을 향하여, 프레임 (50) 의 외측으로 점차 경사지는 2 개의 제 1 테이퍼부 (50b2 및 50b3) (제 1 경사부의 2 개의 부분) 를 갖는다. 또한, 필터 박스 (38A) 는, 프레임 (50) 의 ＋X 방향의 측면 (제 3 측면) 에 형성된 오목부로 이루어지는 손잡이부 (50c1) (제 3 손잡이부) 와, 프레임 (50) 의 ＋X 방향의 측면에 손잡이부 (50c1) 를 Z 방향으로 협지하도록 형성되고, 제 1 테이퍼부 (50b2, 50b3) 와 대칭으로 경사지는 2 개의 제 2 테이퍼부 (50c2, 50c3) (제 2 경사부의 2 개의 부분) 를 갖는다. 또, 손잡이부 (50b1, 50c1) 에는 작업자가 더욱 쥐기 쉽도록 그립부 (49A) 가 형성되어 있다.

또, 프레임 (50) 의 설치면에 대한 손잡이부 (50b1) 의 Z 방향의 위치는, 손잡이부 (50c1) 의 Z 방향의 위치보다 낮고, 손잡이부 (50b1, 50c1) 는, 프레임 (50) 의 중심에 대해 회전 대칭인 위치 관계로 형성되어 있다. 바꾸어 말하면, 일방의 손잡이부 (50b1) 의 프레임 (50) 의 하방의 설치면으로부터의 Z 방향의 거리와, 타방의 손잡이부 (50c1) 의 프레임 (50) 의 상방의 설치면으로부터의 Z 방향의 거리는 동등하다. 또한, 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 의 손잡이부 (50b1 및 50c1) 에 대응하는 위치에 볼록부 (49C) 가 형성되어 있다. 볼록부 (49C) 의 높이는, 테이퍼부 (50b2, 50b3) 로부터 그립부 (49A) 까지의 깊이보다 낮게 설정되어 있다. 따라서, 프레임 (50) 의 테이퍼부 (50b2, 50b3) (또는 50c2, 50c3) 는, 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부 (48Aa) 에 밀착시킬 수 있다.

또, 도 7(B) 에 있어서, 제 2 필터 박스 (40A) 는, 케미컬 필터 (56) 를 유지하는 거의 고리형 프레임 (55) 과, 프레임 (55) 의 제 1 단면 (55a) 에 형성된 개스킷 (54B) (개스킷 (54) 의 일부를 절결한 형상) 과, 프레임 (55) 의 -X 방향의 측면 (제 2 측면) 및 이것에 대향하는 측면 (제 4 측면) 에 형성된 오목부로 이루어지는 1 쌍의 손잡이부 (55b1, 55c1) (제 2 손잡이부 및 제 4 손잡이부) 와, 프레임 (55) 의 X 방향의 2 개의 측면에 각각 손잡이부 (55b1, 55c1) 를 Z 방향으로 협지하도록 형성된, 제 1 테이퍼부 (55b2 및 55b3) (제 2 경사부의 2 개의 부분) 및 제 2 테이퍼부 (55c2 및 55c3) (제 4 경사부의 2 개의 부분) 를 갖는다. 또, 손잡이부 (55b1, 55c1) 에는 그립부 (49B) 가 형성되어 있다.

또, 프레임 (55) 에 대한 손잡이부 (55b1, 55c1) 의 Z 방향의 위치 관계는, 프레임 (50) 에 대한 손잡이부 (50b1, 50c1) 의 Z 방향의 위치 관계와 반대로 되어 있다. 바꾸어 말하면, 일방의 손잡이부 (55b1) 의 프레임 (55) 의 하방의 설치면으로부터의 Z 방향의 거리와, 타방의 손잡이부 (55c1) 의 프레임 (55) 의 상방의 설치면으로부터의 Z 방향의 거리는 동등하다. 또한, 필터 박스 (40A) 의 일방의 손잡이부 (55b1) 의 프레임 (55) 의 하방의 설치면으로부터의 Z 방향의 거리와, 필터 박스 (38A) 의 일방의 손잡이부 (50b1) 의 프레임 (50) 의 하방의 설치면으로부터의 Z 방향의 거리는 서로 상이하다. 또한, 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 의 손잡이부 (55b1 및 55c1) 에 대응하는 위치에 볼록부 (49D) 가 형성되어 있다. 따라서, 위치 결정 블록 (48B) 에 잘못하여 제 1 필터 박스 (38A) 의 프레임 (50) 을 접촉시키려고 하면, 볼록부 (49D) 와 프레임 (50) 의 제 1 테이퍼부 (50b2 또는 50c2) 가 기계적으로 간섭한다. 이에 대하여, 프레임 (55) 의 테이퍼부 (55b2, 55b3 또는 55c2, 55c3) 는, 위치 결정 블록 (48B) 의 테이퍼부 (48Ba) 에 밀착시킬 수 있다. 반대로, 도 7(A) 의 위치 결정 블록 (48A) 에 잘못하여 제 2 필터 박스 (40A) 의 프레임 (55) 을 접촉시키려고 하면, 볼록부 (49C) 와 프레임 (55) 의 제 1 테이퍼부 (55b2 또는 55c2) 가 기계적으로 간섭한다. 따라서, 이 제 1 변형예에 있어서도, 위치 결정 블록 (48A) 이 있는 공간에 잘못하여 제 2 필터 박스 (40A) 를 설치하는 것이 방지되고, 위치 결정 블록 (48B) 이 있는 공간에 잘못하여 제 1 필터 박스 (38A) 를 설치하는 것이 방지된다.

또한, 이 제 1 변형예에 있어서, 필터 박스 (38A) 의 그립부 (49A) 및 필터 박스 (40A) 의 그립부 (49B) 는 반드시 형성하지 않아도 된다.

(2) 다음으로, 도 8(A) 는, 상기의 실시형태의 제 2 변형예의 제 1 필터 박스 (38B) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48A1) 을 나타내는 사시도, 도 8(B) 는, 그 제 1 변형예의 제 2 필터 박스 (40B) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48A2) 을 나타내는 사시도이다. 도 8(A) 의 위치 결정 블록 (48A1) 및 도 8(B) 의 위치 결정 블록 (48A1) 을 각각 도 2 의 위치 결정 블록 (48A, 48C 및 48B) 대신에 케이싱 (28) 내에 설치함으로써, 이 제 2 변형예의 필터 박스 (38B, 40B) (프레임 (50A, 55A)) 를 케이싱 (28) 내에 설치할 수 있다.

도 8(A) 에 있어서, 제 1 필터 박스 (38B) 는, 케미컬 필터 (51) 를 유지하는 거의 고리형 프레임 (50A) (제 1 프레임) 과, 프레임 (50A) 의 -Y 방향의 제 1 단면에 형성된 개스킷 (54) 과, 프레임 (50) 의 ＋Z 방향의 측면에 형성된 볼록부로 이루어지는 손잡이부 (70C) (제 1 손잡이부) 와, 프레임 (50A) 의 -X 방향의 측면 (50Ab) 의 ＋Z 방향측에 형성되고, 개스킷 (54) 측을 향하여 프레임 (50A) 의 외측에 테이퍼각 (φ) 으로 경사지는 제 1 테이퍼부 (50Abt) (제 1 경사부) 를 갖는다. 프레임 (50A) 의 ＋X 방향의 측면 (50Ac) 은 ZY 평면에 평행하게 경사져 있지 않다.

또한, 위치 결정 블록 (48A1) 의 테이퍼각 (φ) 의 테이퍼부 (48A1a) 는 프레임 (50A) 의 제 1 테이퍼부 (50bt) 에 대응하는 부분에만 형성되어 있다. 따라서, 프레임 (50A) 의 제 1 테이퍼부 (50Abt) 는, 위치 결정 블록 (48A1) 의 테이퍼부 (48A1a) 에 밀착시킬 수 있다.

또, 도 8(B) 에 있어서, 제 2 필터 박스 (40B) 는, 케미컬 필터 (56) 를 유지하는 거의 고리형 프레임 (55A) (제 2 프레임) 과, 프레임 (55A) 의 제 1 단면에 형성된 개스킷 (54) 과, 프레임 (55) 의 ＋Z 방향의 측면에 형성된 볼록부로 이루어지는 손잡이부 (70D) (제 2 손잡이부) 와, 프레임 (55A) 의 -X 방향의 측면 (55Ab) 의 -Z 방향측에 형성되고, 개스킷 (54) 측을 향하여 프레임 (55A) 의 외측에 테이퍼각 (φ) 으로 경사지는 제 1 테이퍼부 (55Abt) (제 2 경사부) 를 갖는다. 프레임 (55A) 의 ＋X 방향의 측면 (55Ac) 은 ZY 평면에 평행하게 경사져 있지 않다. 또한, 위치 결정 블록 (48A2) 의 테이퍼각 (φ) 의 테이퍼부 (48A2a) 는 프레임 (55A) 의 제 1 테이퍼부 (55Abt) 에 대응하는 부분에만 형성되어 있다.

이 경우, 프레임 (55A) 에 대한 제 1 테이퍼부 (55Abt) 의 Z 방향의 위치 관계는, 프레임 (50A) 에 대한 제 1 테이퍼부 (50Abt) 의 Z 방향의 위치 관계와 반대로 되어 있다. 또한, 위치 결정 블록 (48A1) 의 테이퍼부 (48A1a) 와 위치 결정 블록 (48A2) 의 테이퍼부 (48A2a) 는 Z 방향의 위치가 상이하다. 따라서, 프레임 (50A, 55A) 은 외관으로부터 용이하게 식별 가능하다. 또한, 위치 결정 블록 (48A2) 이 있는 공간에 잘못하여 제 1 필터 박스 (38B) 를 설치하는 것이 방지되고, 반대로, 도 8(A) 의 위치 결정 블록 (48A1) 이 있는 공간에 잘못하여 제 2 필터 박스 (40B) 를 설치하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 이 변형예에 있어서, 일례로서 제 1 필터 박스 (38B) 의 프레임 (50A) 의 상면에 있어서의 손잡이부 (70C) 의 제 2 측면 (50Ac) 으로부터의 거리와, 제 2 필터 박스 (40B) 의 프레임 (55A) 의 상면에 있어서의 손잡이부 (70D) 의 제 2 측면 (50Ac) 으로부터의 거리를 상이하게 해도 된다. 또는, 손잡이부 (70C) 의 단면 (50Aa) 으로부터의 거리와, 손잡이부 (70D) 의 단면 (55Ac) 으로부터의 거리를 상이하게 해도 된다.

(3) 다음으로, 도 9(A) 는, 상기의 실시형태의 제 3 변형예의 제 1 필터 박스 (38C) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48A) 을 나타내는 평면도이다. 필터 박스 (38C) 는, 고리형 프레임 (50C) 내에 케미컬 필터 (51) 를 수납하고, 프레임 (50C) 의 단면에 개스킷 (54) 을 고정시킨 것이다. 또, 프레임 (50C) 이 대향하는 제 1 측면 (50Cb) 및 제 2 측면 (50Cc) 은 평균적으로 대칭으로 경사짐과 함께, 각각 계단상의 단차부가 형성되고, 측면 (50Cb, 50Cc) 에 손잡이부 (70A) 가 장착되어 있다.

제 1 측면 (50Cb) 또는 제 2 측면 (50Cc) 을 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부에 접촉시켜 필터 박스 (38C) 를 이동시킴으로써, 용이하게 케이싱 (28) 내에서 필터 박스 (38C) 를 구획판 (42A) 에 접촉하도록 위치 결정할 수 있다.

또, 도 9(B) 는, 제 4 변형예의 제 1 필터 박스 (38D) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48A) 을 나타내는 평면도이다. 필터 박스 (38D) 는, 고리형 프레임 (50D) 내에 케미컬 필터 (51) 를 수납하고, 프레임 (50D) 의 단면에 개스킷 (54) 을 고정시킨 것이다. 또, 프레임 (50D) 이 대향하는 제 1 측면 (50Db) 및 제 2 측면 (50Dc) 은 평균적으로 대칭으로 경사짐과 함께, 각각 외측으로 볼록한 복수의 원호부가 형성되고, 측면 (50Db, 50Dc) 에 손잡이부 (70A) 가 장착되어 있다.

제 1 측면 (50Db) 또는 제 2 측면 (50Dc) 을 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부에 접촉시켜 필터 박스 (38D) 를 이동시킴으로써, 용이하게 필터 박스 (38D) 를 구획판 (42A) 에 접촉하도록 위치 결정할 수 있다.

또, 도 9(C) 는, 제 5 변형예의 제 1 필터 박스 (38E) 및 이것에 대응하는 위치 결정 블록 (48A) 을 나타내는 평면도이다. 필터 박스 (38E) 는, 고리형 프레임 (50E) 내에 케미컬 필터 (51) 를 수납하고, 프레임 (50E) 의 단면에 개스킷 (54) 을 고정시킨 것이다. 또, 프레임 (50E) 의 대향하는 제 1 측면 (50Eb) 및 제 2 측면 (50Ec) 은 평균적으로 대칭으로 경사짐과 함께, 각각 외측으로 볼록한 원호부가 형성되고, 측면 (50Eb, 50Ec) 에 손잡이부 (70A) 가 장착되어 있다.

제 1 측면 (50Eb) 또는 제 2 측면 (50Ec) 을 위치 결정 블록 (48A) 의 테이퍼부에 접촉시켜 필터 박스 (38E) 를 이동시킴으로써, 용이하게 필터 박스 (38E) 를 구획판 (42A) 에 접촉하도록 위치 결정할 수 있다.

또한, 도 9(B) 의 복수의 원호부, 또는 도 9(C) 의 볼록한 원호부를 회전 롤러로 구성해도 된다.

(4) 다음으로, 도 10(A) 는, 상기의 실시형태의 다른 예의 필터 장치 (26B) 를 나타내고, 도 10(B) 는 도 10(A) 중의 제 1 필터 박스 (38F) 를 나타낸다. 도 10(A) 의 필터 장치 (26B) 에 있어서, 케이싱 (28) 내의 구획판 (42A) 의 필터 박스 (38F, 40F) 에 대향하는 면에, 개스킷 (54) 으로부터 용이하게 떼어놓는 것이 가능하고, 또한 미끄러지기 쉬움과 함께, 중앙부에 기체를 통과시키는 개구가 형성된 평판상의 커버 부재 (TF5) 가 피착되어 있다. 커버 부재 (TF5) 는, 예를 들어 합성 수지로 형성되고, 구체적으로는 예를 들어 테플론 (듀퐁사의 등록상표) 으로 형성되어 있다.

또, 구획판 (42A) 에 피착된 커버 부재 (TF5) 에 밀착하도록 제 1 필터 박스 (38F) 가 위치 결정되고, 이 필터 박스 (38F) 에 밀착하도록 순차적으로 제 2 필터 박스 (40F), 제 1 필터 박스 (38F), 및 제 2 필터 박스 (40F) 가 위치 결정되어 있다. 일렬의 필터 박스 (38F, 40F, 38F, 40F) 는, 각각 케이싱 (28) 의 내면에 고정된 위치 결정 블록 (48A3, 48B3, 48A4, 48B4) 에 의해 위치 결정되어 있다. 위치 결정 블록 (48A3, 48B3) 등의 Y 방향의 길이는, 필터 박스 (38F, 40F) 의 Y 방향의 높이보다 작게 설정되어 있다.

또, 필터 박스 (38F, 40F) 는, 각각 고리형 프레임 (50F, 55F) 내에 케미컬 필터 (51, 56) 를 수납하고, 프레임 (50F, 55F) 의 단면에 개스킷 (54) 을 고정시킨 것이다. 또한, 프레임 (50F, 55F) 이 대향하는 제 1 측면 및 제 2 측면은 대칭으로 경사지는 테이퍼면이 되고, 프레임 (50F, 55F) 의 제 1 측면, 제 2 측면, 및 개스킷 (54) 이 고정되어 있는 단면에 대향하는 단면을 따라, 개스킷 (54) 으로부터 용이하게 떼어놓는 것이 가능하고, 또한 미끄러지기 쉬운 커버 부재 (TF1, TF2) 가 피착되어 있다. 프레임 (50F, 55F) 의 제 1 측면 및 제 2 측면에, 커버 부재 (TF3, TF4) 를 통하여 손잡이부 (70A, 70B) 가 고정되어 있다. 손잡이부 (70A, 70B) 가 고정되어 있는 위치의 높이는 서로 상이하다. 위치 결정 블록 (48A3, 48A4 및 48B3, 48B4) 의 테이퍼부에도, 각각 평판상으로 일부에 홈이 형성된 커버 부재 (TF3 및 TF4) 가 고정되어 있다. 커버 부재 (TF1, TF2, TF3, TF4) 의 재료는, 예를 들어 커버 부재 (TF5) 의 재료와 동일하다.

도 10(B) 에 나타내는 바와 같이, 필터 박스 (38F) 의 커버 부재 (TF1) 의 케미컬 필터 (51) 에 대향하는 부분에는 기체를 통과시키는 직사각형의 개구 (TF1c) 가 형성되어 있다. 프레임 (50F) 의 제 1 측면 및 제 2 측면을 덮는 커버 부재 (TF1) 의 부분은, 대칭으로 경사지는 테이퍼부 (TF1a, TF1b) 로 되어 있다. 필터 박스 (40F) 의 구성도 동일하지만, 손잡이부 (70B) 의 위치가 손잡이부 (70A) 의 위치와는 상이하다.

도 10(A) 에 있어서, 케이싱 (28) 을 닫는 도어 (29) 의 내측에 이동용 레버부 (58G) 가 형성되어 있다. 이동용 레버 (58G) 는, 대좌부 (58G3) 와, Y 방향을 따라 신장하는 가이드부 (58G4) 와, 가이드부 (58G4) 를 따라 Y 방향으로 이동 가능한 경사면을 갖는 레버부 (58G1) 와, 대좌부 (58G3) 로부터 레버부 (58G1) 를 위치 결정 블록 (48B4) 에 접촉하고 있는 필터 박스 (40F) 의 커버 부재 (TF2) 의 테이퍼부에 탄성 지지하는 압축 코일 스프링 (58G2) 을 구비하고 있다.

이 예의 필터 장치 (26B) 에 있어서, 필터 박스 (38F, 40F) 를 케이싱 (28) 내에 수납할 때에는, 위치 결정 블록 (48A3, 48B3, 48A4, 48B4) 을 덮는 커버 부재 (TF3, TF4) 에, 각각 필터 박스 (38F, 40F) 의 커버 부재 (TF1, TF2) 의 테이퍼부를 접촉시켜, 필터 박스 (38F, 40F) 를 순차적으로 거의 -Y 방향으로 이동시킨다. 이 때에, 커버 부재 (TF1 ～ TF4) 는 미끄러지기 쉽기 때문에, 필터 박스 (38F, 40F) 를 용이하게 이동 가능하다.

또한, 필터 박스 (38F, 40F, 38F, 40F) 를 위치 결정한 상태에서는, -Y 방향의 단부의 필터 박스 (38F) 의 개스킷 (54) 이 구획판 (42A) 을 덮는 커버 부재 (TF5) 에 접촉하고, 필터 박스 (38F) (40F) 의 커버 부재 (TF1) (TF2) 에 그것에 인접하는 필터 박스 (40F) (38F) 의 개스킷 (54) 이 접촉하고 있다. 이 상태에서, 도어 (29) 를 닫으면, 이동용 레버부 (58G) 에 의해, ＋Y 방향의 단부의 필터 박스 (40F) 가 -Y 방향으로 탄성 지지되기 때문에, 구획판 (42A) (커버 부재 (TF5)) 과 필터 박스 (38F, 40F) 는 기밀성을 유지하여 밀착할 수 있다. 따라서, 4 단의 필터 박스 (38F, 40F) 를 통하여 공조 장치의 송풍부 (도시하지 않음) 에 청정한 기체를 공급할 수 있다.

또, 필터 박스 (38F, 40F) 를 교환하는 경우에는, 도어 (29) 를 열어, 순차적으로 필터 박스 (40F, 38F) 를 케이싱 (28) 으로부터 반출한다. 이 때에, 예를 들어 필터 박스 (40F) 의 개스킷 (54) 은 필터 박스 (38F) 의 커버 부재 (TF1) 로부터 용이하게 떼어놓는 것이 가능하고, 필터 박스 (38F) 의 개스킷 (54) 도 커버 부재 (TF5) 로부터 용이하게 떼어놓는 것이 가능하기 때문에, 필터 박스 (38F, 40F) 의 교환을 용이하게 실시할 수 있다.

또한, 필터 장치 (26B) 에 있어서, 필터 박스 (38F, 40F) 의 단수는 임의이다. 또, 위치 결정 블록 (48A3, 48B3) 등의 커버 부재 (TF3, TF4) 는 생략 가능하다. 또한, 위치 결정 블록 (48A3, 48B3) 등의 커버 부재 (TF3, TF4) 가 형성되어 있는 경우에는, 필터 박스 (38F, 40F) 측의 커버 부재 (TF1, TF2) 의 테이퍼부를 생략할 수도 있다.

또한, 커버 부재 (TF1 ～ TF4) 대신에, 예를 들어 미끄러지기 쉬운 수지제 점착 테이프를 첩착 (貼着) 시켜도 된다.

(5) 상기의 실시형태 및 변형예에 있어서는, 필터 박스 (38 ～ 38F, 40 ～ 40F) 의 프레임 (50, 50A ～ 50F 및 55, 55A ～ 55F) 의 외형은 거의 정방형 (거의 정방형의 고리형 (프레임상)) 이다. 그러나, 프레임 (50, 50A 등 및 55, 55A 등) 의 외형은 예를 들어 장방형 등의 거의 사각 형상 (거의 직사각형의 고리형 (프레임상)), 또는 거의 정방형상 또는 사각 형상으로 모서리부에 모따기 등이 실시되어 있어도 된다.

또, 상기 실시형태의 노광 장치 (EX) 를 사용하여 반도체 디바이스 등의 전자 디바이스 (또는 마이크로 디바이스) 를 제조하는 경우, 전자 디바이스는, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 전자 디바이스의 기능·성능 설계를 실시하는 단계 221, 이 설계 단계에 기초한 마스크 (레티클) 를 제작하는 단계 222, 디바이스의 기재인 기판 (웨이퍼) 을 제조하여 레지스트를 도포하는 단계 223, 상기 서술한 실시형태의 노광 장치에 의해 마스크의 패턴을 기판 (감응 기판) 에 노광하는 공정, 노광한 기판을 현상하는 공정, 현상한 기판의 가열 (큐어) 및 에칭 공정 등을 포함하는 기판 처리 단계 224, 디바이스 조립 단계 (다이싱 공정, 본딩 공정, 패키지 공정 등의 가공 프로세스를 포함한다) 225, 그리고 검사 단계 226 등을 거쳐 제조된다.

따라서, 이 디바이스 제조 방법은, 상기 실시형태의 노광 장치를 사용하여 기판 상에 감광층의 패턴을 형성하는 것과, 그 패턴이 형성된 기판을 처리하는 것 (단계 224) 을 포함하고 있다. 그 노광 장치에 의하면, 메인터넌스 비용을 저감시킬 수 있고, 노광 정밀도를 향상시킬 수 있기 때문에, 전자 디바이스를 저렴하게 고정밀도로 제조할 수 있다.

또한, 상기의 실시형태에서는, 공조용 기체로서 공기가 사용되고 있지만, 그 대신에 질소 가스 또는 희가스 (헬륨, 네온 등), 또는 이들 기체의 혼합 기체 등을 사용해도 된다.

또, 본 발명은, 주사 노광형의 투영 노광 장치뿐만 아니라, 일괄 노광형 (스텝퍼형) 의 투영 노광 장치를 사용하여 노광하는 경우에도 적용하는 것이 가능하다.

또, 본 발명은, 투영 광학계를 사용하지 않는 프록시미티 방식이나 컨택트 방식의 노광 장치 등으로 노광을 실시할 때에도 적용할 수 있다.

또, 본 발명은, 반도체 디바이스의 제조 프로세스에 대한 적용에 한정되지 않고, 예를 들어, 각형 (角型) 의 유리 플레이트에 형성되는 액정 표시 소자, 또는 플라스마 디스플레이 등의 디스플레이 장치의 제조 프로세스나, 촬상 소자 (CCD 등), 마이크로 머신, MEMS (Microelectromechanical Systems : 미소 전기 기계 시스템), 박막 자기 헤드, 및 DNA 칩 등의 각종 디바이스의 제조 프로세스에도 널리 적용할 수 있다. 또한, 본 발명은, 각종 디바이스의 마스크 패턴이 형성된 마스크 (포토마스크, 레티클 등) 를 포토리소그래피 공정을 사용하여 제조할 때의 제조 공정에도 적용할 수 있다.

이와 같이, 본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지의 구성을 취할 수 있는 것은 물론이다.

또, 본원에 기재한 상기 공보, 각 국제공개 팜플렛, 미국 특허, 또는 미국 특허출원공개 명세서에 있어서의 개시를 원용하여 본 명세서의 기재의 일부로 한다. 또, 명세서, 특허 청구의 범위, 도면, 및 요약을 포함하는 2010년 4월 5일자로 제출된 미국 특허출원 제61/320,922호의 모든 개시 내용은, 전부 그대로 인용하여 본원에 삽입되어 있다.

EX : 노광 장치
R : 레티클
PL : 투영 광학계
W : 웨이퍼
4 : 노광 본체부
10 : 챔버
26 : 필터 장치
28 : 케이싱
30 : 주 공조 장치
38, 40 : 필터 박스
42A ～ 42C : 구획판
48A ～ 48C : 위치 결정 블록
50, 55 : 프레임
50b, 55b : 제 1 테이퍼부
51, 56 : 케미컬 필터
60 : 국소 공조 장치
70A, 70B : 손잡이부

Claims (27)

1. 제 1 필터 및 제 2 필터를 포함하는 복수의 필터를 유지하는 필터 유지 장치로서,
   상기 제 1 필터를 유지하는 제 1 프레임과,
   상기 제 1 프레임에 형성된 제 1 손잡이부와,
   상기 제 2 필터를 유지하는 제 2 프레임과,
   상기 제 2 프레임에 형성된 제 2 손잡이부를 구비하고,
   상기 제 1 프레임의 측면 중 제 1 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 제 1 프레임의 2 개의 단면 중, 일방의 단면측으로부터 타방의 단면측을 향하여, 또한 상기 제 1 프레임의 외측으로 변화한 제 1 형상 변화부와,
   상기 제 2 프레임의 측면 중 제 2 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 제 2 프레임의 2 개의 단면 중, 일방의 단면측으로부터 타방의 단면측을 향하여, 또한 상기 제 2 프레임의 외측으로 변화한 제 2 형상 변화부를 갖고,
   상기 제 1 측면에 있어서의 상기 제 1 형상 변화부의 위치 관계와 상기 제 2 측면에 있어서의 상기 제 2 형상 변화부의 위치 관계, 및 상기 제 1 프레임에 대한 상기 제 1 손잡이부의 위치 관계와 상기 제 2 프레임에 대한 상기 제 2 손잡이부의 위치 관계의 적어도 일방이 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 제 1 형상 변화부는, 상기 제 1 프레임의 상기 제 1 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 제 1 프레임의 상기 2 개의 단면 중, 상기 일방의 단면측으로부터 상기 타방의 단면측을 향하여, 상기 제 1 프레임의 외측으로 점차 경사지는 제 1 경사부를 갖고,
   상기 제 2 형상 변화부는, 상기 제 2 프레임의 상기 제 2 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 제 2 프레임의 상기 2 개의 단면 중, 상기 일방의 단면측으로부터 상기 타방의 단면측을 향하여, 상기 제 2 프레임의 외측으로 점차 경사지는 제 2 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 제 1 손잡이부는, 상기 제 1 프레임의 상기 제 1 측면에 형성되고,
   상기 제 2 손잡이부는, 상기 제 2 프레임의 상기 제 2 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 제 1 손잡이부는, 상기 제 1 형상 변화부에 형성되고,
   상기 제 2 손잡이부는, 상기 제 2 형상 변화부에 형성되는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 제 1 손잡이부는 상기 제 1 형상 변화부에 형성되는 볼록부이고,
   상기 제 2 손잡이부는 상기 제 2 형상 변화부에 형성되는 볼록부인 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
6. 제 4 항에 있어서,
   상기 제 1 손잡이부는 상기 제 1 형상 변화부에 형성되는 오목부이고,
   상기 제 2 손잡이부는 상기 제 2 형상 변화부에 형성되는 오목부인 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
7. 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제 1 형상 변화부에 있어서의 상기 제 1 손잡이부의 위치와, 상기 제 2 형상 변화부에 있어서의 상기 제 2 손잡이부의 위치는, 서로 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제 1 프레임의 상기 일방의 단면으로부터 상기 제 1 손잡이부까지의 거리와, 상기 제 2 프레임의 상기 일방의 단면으로부터 상기 제 2 손잡이부까지의 거리가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 제 1 프레임의 상기 제 1 측면의 측단으로부터 상기 제 1 손잡이부까지의 거리와, 상기 제 2 프레임의 상기 제 2 측면의 측단으로부터 상기 제 2 손잡이부까지의 거리가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 프레임의 측면 중, 상기 필터에 관하여 상기 제 1 측면과 반대측의 제 3 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 일방의 단면측으로부터 상기 타방의 단면측을 향하여, 또한 상기 제 1 프레임의 외측으로 변화하는 제 3 형상 변화부와,
    상기 제 2 프레임의 측면 중, 상기 필터에 관하여 상기 제 2 측면과 반대측의 제 4 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 일방의 단면측으로부터 상기 타방의 단면측을 향하여, 또한 상기 제 2 프레임의 외측으로 변화하는 제 4 형상 변화부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 3 형상 변화부는, 상기 제 1 프레임의 상기 제 3 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 제 1 프레임의 상기 일방의 단면측으로부터 상기 타방의 단면측을 향하여, 상기 제 1 프레임의 외측으로 점차 경사지는 제 3 경사부를 갖고,
    상기 제 4 형상 변화부는, 상기 제 2 프레임의 상기 제 2 측면의 적어도 일부에 형성되고, 상기 제 2 프레임의 상기 일방의 단면측으로부터 상기 타방의 단면측을 향하여, 상기 제 2 프레임의 외측으로 점차 경사지는 제 4 경사부를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 프레임의 상기 제 3 측면에 형성되는 제 3 손잡이부와,
    상기 제 2 프레임의 상기 제 4 측면에 형성되는 제 4 손잡이부를 구비하는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제 3 손잡이부는, 상기 제 3 형상 변화부에 형성되고,
    상기 제 4 손잡이부는, 상기 제 4 형상 변화부에 형성되는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 3 손잡이부는 상기 제 3 형상 변화부에 형성되는 볼록부이고,
    상기 제 4 손잡이부는 상기 제 4 형상 변화부에 형성되는 볼록부인 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
15. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 3 손잡이부는 상기 제 3 형상 변화부에 형성되는 오목부이고,
    상기 제 4 손잡이부는 상기 제 4 형상 변화부에 형성되는 오목부인 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
16. 제 13 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 3 형상 변화부에 있어서의 상기 제 3 손잡이부의 위치와, 상기 제 4 형상 변화부에 있어서의 상기 제 4 손잡이부의 위치는, 서로 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
17. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 형상 변화부와 상기 제 3 형상 변화부는 대칭으로 경사지고,
    상기 제 2 형상 변화부와 상기 제 4 형상 변화부는 대칭으로 경사져 있는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
18. 제 10 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 형상 변화부, 상기 제 2 형상 변화부, 상기 제 3 형상 변화부, 및 상기 제 4 형상 변화부는, 각각 상기 제 1 측면, 상기 제 2 측면, 상기 제 3 측면, 및 상기 제 4 측면의 전체면에 형성된 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 측면에 있어서의 상기 제 1 형상 변화부의 위치와, 상기 제 2 측면에 있어서의 상기 제 2 형상 변화부의 위치가 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
20. 제 19 항에 있어서,
    상기 제 1 프레임의 상기 제 1 측면의 측단으로부터 상기 제 1 형상 변화부까지의 거리와, 상기 제 2 프레임의 상기 제 2 측면의 측단으로부터 상기 제 2 형상 변화부까지의 거리가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
21. 제 19 항에 있어서,
    상기 제 1 형상 변화부는, 상기 제 1 측면에 있어서 적어도 2 개로 분리되고,
    상기 제 2 형상 변화부는, 상기 제 2 측면에 있어서 적어도 2 개로 분리되고,
    상기 제 1 형상 변화부가 적어도 2 개로 분리되는 위치와, 상기 제 2 형상 변화부가 적어도 2 개로 분리되는 위치가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
22. 제 21 항에 있어서,
    상기 제 1 손잡이부는, 분리된 상기 제 1 형상 변화부 사이에 배치되고,
    상기 제 2 손잡이부는, 분리된 상기 제 2 형상 변화부 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
23. 제 1 항 내지 제 22 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 프레임의 상기 일방의 면 및 상기 제 2 프레임의 상기 일방의 면은, 각각 수평면에 대해 수직 또는 경사진 설치면에 배치되는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
24. 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 필터는, 상기 제 1 필터를 통과하는 기체 중의 유기물을 제거하고,
    상기 제 2 필터는, 상기 제 2 필터를 통과하는 기체 중의 알칼리성 물질 및 산성 물질의 적어도 일방을 제거하는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
25. 제 1 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 프레임의 2 개의 단면 중, 타방의 단면에 형성된 시일 부재와,
    상기 제 2 프레임의 2 개의 단면 중, 타방의 단면에 형성된 시일 부재를 갖는 것을 특징으로 하는 필터 유지 장치.
26. 노광광으로 패턴을 통해 기판을 노광하는 노광 장치로서,
    상기 기판을 노광하는 노광 본체부를 수납하는 챔버와,
    제 1 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 기재된 필터 유지 장치와,
    상기 챔버의 외부로부터 받아들여진 기체를 상기 필터 유지 장치를 개재하여 상기 챔버 내로 송풍하는 공조 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
27. 제 26 항에 기재된 노광 장치를 사용하여 감광성 기판을 노광하는 것과,
    상기 노광된 감광성 기판을 처리하는 것을 포함하는, 디바이스 제조 방법.

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