KR20130004788A - Non-contact type cleaning device of slit nozzle and cleaning method using same - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A cleaning mechanism of slit nozzles capable of cleanly washing impurities from a nozzle side, and a cleaning method using the same are provided to minimize vortex generation. CONSTITUTION: A cleaning mechanism of slit nozzles comprises a washing body(110), a cleaning liquid injection hole(130), and a drying gas injection nozzle(140). The washing body comprises opposing surfaces, and includes first and second jetting surfaces. Projections are formed between the first and second jetting surfaces to separate the second jetting surface further than the first jetting surface. The washing body moves along an outlet of the slit nozzles. The cleaning liquid injection hole is positioned at the first jetting surface to spray a washing solution. [Reference numerals] (132) Washing solution supplying part; (142) Drying gas supplying part

Description

슬릿 노즐의 비접촉식 세정기구 및 이를 이용한 세정 방법 {NON-CONTACT TYPE CLEANING DEVICE OF SLIT NOZZLE AND CLEANING METHOD USING SAME} Non-contact cleaning mechanism of slit nozzle and cleaning method using same {NON-CONTACT TYPE CLEANING DEVICE OF SLIT NOZZLE AND CLEANING METHOD USING SAME}

본 발명은 슬릿 노즐의 비접촉식 세정기구 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 비접촉 방식으로 보다 깨끗하게 세정하는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a non-contact cleaning mechanism of the slit nozzle and a cleaning method using the same, and more particularly, to a cleaning mechanism and a cleaning method of the slit nozzle for cleaning more cleanly in a non-contact manner around the discharge port of the slit nozzle.

LCD 등 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 공정에서는 유리 등으로 제작된 피처리 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. LCD의 크기가 작았던 종래에는 피처리 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 피처리 기판을 회전시키는 것에 의하여 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다. In the process of manufacturing flat panel displays, such as LCD, the coating process of apply | coating chemical liquids, such as a resist liquid, to the surface of the to-be-processed substrate made from glass etc. is accompanied. Conventionally, when the size of the LCD was small, a spin coating method was used in which the chemical was applied to the surface of the substrate by rotating the substrate while applying the chemical to the center of the substrate.

그러나, LCD 화면의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 피처리 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 슬릿 노즐과 피처리 기판을 상대 이동시키면서 슬릿 노즐로부터 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다. However, as the size of the LCD screen becomes larger, the spin coating method is scarcely used, and a slit-shaped slit nozzle having a length corresponding to the width of the substrate to be processed and a slit nozzle A coating method of coating the surface of the substrate is used.

도1은 종래의 기판 코터 장치를 개략적으로 도시한 도면이다. 도1에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 코터 장치는 피처리 기판(G)을 기판 지지대(10)상에 거치시킨 상태에서, 피처리 기판(G)의 폭에 대응하는 토출구를 구비한 노즐(30)을 30d로 표시된 방향으로 이동시키면서 약액을 피처리 기판(G)의 표면에 도포한다. 그리고, 미리 정해진 수의 피처리 기판의 약액 도포 공정을 마치면, 기판 지지대(10)로부터 멀리 떨어진 노즐 세정 기구(40)로 이동하여 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)를 세정한다.1 is a view schematically showing a conventional substrate coater apparatus. As shown in FIG. 1, the conventional substrate coater apparatus includes a nozzle having a discharge port corresponding to the width of the substrate G in a state where the substrate G is mounted on the substrate support 10. The chemical liquid is applied to the surface of the substrate G to be processed while moving 30) in the direction indicated by 30d. Then, after the predetermined number of chemical liquid application steps of the substrates to be processed are moved to the nozzle cleaning mechanism 40 away from the substrate support 10, the discharge port 30a of the slit nozzle 30 is cleaned.

여기서, 기판 지지대(10)은 유리 기판(G)을 안착시키기 위해 통상 유리 기판보다 큰 직사각형 형상으로 형성되고, 상부에는 진공 흡착을 위하여 진공 펌프와 연통된 다수개의 진공홀(미도시)이 형성되어 있다. 예비 토출부(20)는 기판 지지대(10)의 일측에 마련되는 데, 세정조(24)와 상기 세정조(24) 내에 회전 가능하게 설치된 원통형의 프라이밍 롤러(22)로 구성된다. 세정조(24)에는 시너 등의 세정액이 채워져 프라이밍 롤러(22)가 회전하면서 침지되어 세정되고, 상기 세정조(24)의 상부의 개구를 통하여 프라이밍 롤러(22)의 상부가 외부로 노출된다. Here, the substrate support 10 is formed in a rectangular shape larger than the glass substrate in order to seat the glass substrate (G), a plurality of vacuum holes (not shown) in communication with the vacuum pump for the vacuum adsorption is formed thereon have. The preliminary discharge part 20 is provided on one side of the substrate support 10, and is composed of a cleaning tank 24 and a cylindrical priming roller 22 rotatably installed in the cleaning tank 24. The cleaning tank 24 is filled with a cleaning liquid such as thinner, and the priming roller 22 is immersed while rotating, and the upper portion of the priming roller 22 is exposed to the outside through an opening in the upper portion of the cleaning tank 24.

그리고, 노즐 세정 기구(40)는 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변의 노즐 표면(30s)과 마주보는 대략 'V'자 형상의 세정 몸체(41)가 도면부호 40d로 표시된 방향으로 이동하면서 토출구 주변에 묻은 이물질과 약액을 제거한다. 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)로부터 제거되는 이물질과 약액은 트래이(42)에 의해 수거된다.In addition, the nozzle cleaning mechanism 40 moves the cleaning body 41 having a substantially 'V' shape facing the nozzle surface 30s around the discharge port 30a of the slit nozzle 30 in the direction indicated by 40d. Remove foreign substances and chemicals around the outlet. The foreign matter and the chemical liquid removed from the discharge port 30a of the slit nozzle 30 are collected by the tray 42.

기판 지지대(10) 상측에는 기판 지지대(10)의 길이 방향(30d)으로 이동 가능한 노즐(30)이 예비 토출부(20) 및 기판 지지대(10)의 상부를 수평 이동하면서 피처리 기판(G)에 포토레지스트 등의 약액을 도포한다. On the substrate support 10, the nozzle 30 movable in the longitudinal direction 30d of the substrate support 10 moves the preliminary discharge portion 20 and the upper portion of the substrate support 10 while horizontally moving the substrate G to be processed. Chemical liquids, such as photoresist, are apply | coated to this.

상기와 같이 구성된 기판 코터 장치의 약액 도포 공정을 거치기 이전에, 도2a에 도시된 바와 같이 슬릿 노즐(30)을 후방(30d')으로 이동시킨 후, 다시 슬릿 노즐(30)을 하방으로 이동시켜, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)가 예비 토출부(20)의 프라이밍 롤러(22)에 근접하도록 위치시킨다. 그리고, 슬릿 노즐(30)은 프라이밍 롤러(22) 상에 약액(55)을 약간 토출하는 것에 의하여 예비 토출 공정을 행한다. Before going through the chemical liquid application process of the substrate coater apparatus configured as described above, as shown in FIG. 2A, the slit nozzle 30 is moved to the rear 30d ', and then the slit nozzle 30 is moved downward again. The discharge port 30a of the slit nozzle 30 is positioned close to the priming roller 22 of the preliminary discharge part 20. Then, the slit nozzle 30 performs a preliminary ejection step by slightly discharging the chemical liquid 55 on the priming roller 22.

프라이밍 롤러(22)의 외주면에 묻은 약액(55)은 도2c에 도시된 바와 같이 롤러(22)의 회전에 의해 세정조(24) 내의 세정액에 침지되면서 제거되고, 프라이밍 롤러(22)의 표면은 건조 에어(미도시)에 의해 건조되어 그 다음 예비 토출 공정을 행할 수 있는 준비가 완료된다. The chemical liquid 55 attached to the outer circumferential surface of the priming roller 22 is removed while being immersed in the cleaning liquid in the cleaning tank 24 by the rotation of the roller 22, as shown in FIG. 2C, and the surface of the priming roller 22 is removed. It is dried by drying air (not shown), and preparation for carrying out a preliminary ejection process is completed.

상기와 같은 예비 토출을 마친 후, 도2b에 도시된 바와 같이, 슬릿 노즐(30)은 피처리 기판(G) 상으로 전방(30d) 이동하고, 피처리 기판(G)의 끝단으로부터 소정거리(s)만큼 이격된 위치에서 다시 슬릿 노즐(30)을 하방(30y)으로 이동시킨 상태로 약액(55)을 토출하여 피처리 기판(G)에 대하여 슬릿노즐(30)이 이동하면서 피처리 기판(G)의 표면에 약액(55)을 도포한다. 이는 기판(G)의 선단 및 말단의 일정 부분이 코팅되지 않아야 하는 공정 상의 조건에 따라 노즐(30)은 기판(G)의 선단에서 일정 거리(s)만큼 더 진행한 뒤 포토레지스트 등의 약액 코팅을 시작하게 된다. After completing the preliminary discharge as described above, as shown in FIG. 2B, the slit nozzle 30 moves forward 30d onto the substrate G, and a predetermined distance from the end of the substrate G is processed. The chemical liquid 55 is discharged while the slit nozzle 30 is moved downwardly 30y at a position spaced apart by s), and the slit nozzle 30 is moved with respect to the substrate G, thereby processing the substrate ( The chemical liquid 55 is applied to the surface of G). This is because the nozzle 30 is further processed by a predetermined distance (s) from the tip of the substrate G according to the process conditions in which a certain portion of the tip and the end of the substrate G should not be coated. Will start.

도2a 및 도2b에 도시된 구성을 반복하여, 피처리 기판(G)의 표면에 약액(55)을 1회 내지 수회를 도포하면, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변 양측의 노즐 측면(30s)에는 약액 등의 이물질이 묻게 된다. 따라서, 미리 정해진 수의 피처리 기판(G)에 대하여 약액 도포 공정을 마치면, 도2c에 도시된 바와 같이 슬릿 노즐(30)은 Y'만큼 상방으로 이동한 후 도면부호 30d'로 표시된 후방으로 이동하여, 노즐 세정 기구(40)에 의해 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)의 양측면에 묻은 이물질을 제거하는 공정을 거친다.By repeating the configuration shown in Figs. 2A and 2B and applying the chemical solution 55 to the surface of the substrate G once or several times, the nozzle side surfaces on both sides around the discharge port 30a of the slit nozzle 30 are applied. At 30 s, foreign substances such as chemicals are buried. Therefore, upon completion of the chemical liquid application process for the predetermined number of substrates G to be processed, as shown in Fig. 2C, the slit nozzle 30 is moved upward by Y 'and then moved backward by the reference numeral 30d'. Thus, the nozzle cleaning mechanism 40 undergoes a step of removing foreign matter on both sides of the discharge port 30a of the slit nozzle 30.

이 때, 슬릿 노즐(30)의 토출구 주변의 세정은 대한민국 등록특허공보 제10-642666호에 개시된 도3의 세정 기구에 의해 이루어질 수 있다. 즉, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변을 따라 세정 몸체(41)가 이동하는 동안에, 세정 몸체로부터 세정액과 가스가 노즐 측면(30s)을 향하여 거의 수직으로 분사하는 것에 의해 슬릿 노즐(30)의 토출구 주변의 노즐 측면(30s)을 세정한다. 그러나, 이와 같은 세정 방법은 슬릿 노즐(30)의 노즐 측면(30s)에 닿는 세정액과 가스의 압력이 높아 세정이 원활히 이루어질 것 같지만, 노즐 측면(30s)에 도포된 세정액이 가스에 의해 사방으로 번지므로, 이미 세정 몸체(41)가 지나친 노즐 측면(30s)에도 이물질이 남게되는 문제가 야기되었다. 이에 따라, 이와 같이 구성된 노즐 세정 기구는 세정 몸체(41)가 토출구를 따라 한번 이동하는 것에 의해서는 충분히 세정할 수 없는 문제가 있었다.At this time, the cleaning around the discharge port of the slit nozzle 30 may be performed by the cleaning mechanism of Figure 3 disclosed in the Republic of Korea Patent Publication No. 10-642666. That is, while the cleaning body 41 is moved around the discharge port 30a of the slit nozzle 30, the cleaning liquid and gas are sprayed from the cleaning body toward the nozzle side surface 30s almost vertically, thereby slit nozzle 30 The nozzle side surface 30s around the discharge port of () is cleaned. However, in this cleaning method, since the pressure of the cleaning liquid and gas touching the nozzle side 30s of the slit nozzle 30 is high, the cleaning is likely to be performed smoothly, but the cleaning liquid applied to the nozzle side 30s is swept in all directions by the gas. Therefore, the problem that foreign matters remain in the nozzle side 30s which has already passed the cleaning body 41 has been caused. Accordingly, the nozzle cleaning mechanism configured as described above has a problem that the cleaning body 41 cannot be sufficiently cleaned by moving the cleaning body 41 once along the discharge port.

이와 같은 문제점을 해결하고자, 대한민국 등록특허공보 제10-876377호가 제안되었다. 이에 따르면, 분사된 세정액이 이미 세정하면서 지나온 영역으로 세정액이 유입되는 것을 방지하기 위하여 세정액을 분사하는 노즐과 가스를 분사하는 노즐 사이에 격벽이 형성된 구성을 개시하고 있다. 그러나, 격벽을 형성함에 따라 분사되는 가스가 충분히 노즐 측면을 닦아내거나 건조시키지 못하고, 유동에 와류가 발생되어 세정 효율이 저하되는 문제점이 있었다.
In order to solve this problem, Korean Patent Publication No. 10-876377 has been proposed. According to this, a configuration is disclosed in which a partition wall is formed between a nozzle for injecting the cleaning liquid and a nozzle for injecting gas in order to prevent the cleaning liquid from flowing into a region that has been passed while the jetted cleaning liquid has already been cleaned. However, as the partition wall is formed, the injected gas does not sufficiently wipe or dry the nozzle side, and there is a problem in that vortices are generated in the flow and the cleaning efficiency is lowered.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 비접촉 방식으로 세정 몸체가 슬릿 노즐의 토출구를 따라 1회만 이동하더라도 깨끗하게 토출구 주변의 노즐 측면을 세정할 수 있는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 이를 이용한 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
The present invention is to solve the above problems, cleaning the slit nozzle that can clean the nozzle side around the discharge port cleanly even if the cleaning body moves only once along the discharge port of the slit nozzle in a non-contact manner around the discharge port of the slit nozzle An object of the present invention is to provide a mechanism and a cleaning method using the same.

본 발명은 상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 세정하는 세정 기구로서, 상기 토출구 양측의 노즐 측면과 대향하는 제1분사면과 제2분사면을 구비한 대향면이 구비되며, 상기 제1분사면은 상기 제2분사면에 비하여 상기 노즐 측면에 보다 멀리 이격되도록 상기 제1분사면과 상기 제2분사면의 사이에는 단턱(段, step)이 형성되고, 상기 슬릿 노즐의 상기 토출구를 따라 이동하는 세정 몸체와; 상기 노즐 측면을 향하여 세정액을 분사하고 상기 세정 몸체의 상기 제1분사면에 위치한 세정액 분사구과; 상기 노즐 측면을 향하여 건조 공기를 분사하고, 상기 토출구 주변을 세정하기 위하여 세정 몸체가 이동하는 세정진행방향을 기준으로 상기 세정액 분사구보다 후방에 위치하며, 상기 세정 몸체의 상기 제2분사면에 위치한 건조가스 분사구을; 포함하여 구성되어, 상기 토출구 양측 노즐 측면을 상기 세정액 분사구와 상기 건조가스 분사구에서 분사된 세정액과 건조 가스로 세정 건조시키는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 이를 이용한 세정 방법을 제공한다.The present invention provides a cleaning mechanism for cleaning the periphery of the discharge port of the slit nozzle, in order to achieve the object as described above, provided with an opposing surface having a first injection surface and a second injection surface facing the nozzle side on both sides of the discharge port The first injection surface is formed with a step between the first injection surface and the second injection surface so as to be spaced farther from the nozzle side than the second injection surface, and the slit nozzle A cleaning body moving along the discharge port of the; A cleaning liquid injection hole for spraying a cleaning liquid toward the nozzle side and positioned at the first injection surface of the cleaning body; Drying is sprayed toward the side of the nozzle, located behind the cleaning liquid injection port based on the cleaning progress direction in which the cleaning body moves to clean around the discharge port, drying located on the second injection surface of the cleaning body Gas nozzles; And a cleaning mechanism and a cleaning method using the same, wherein both sides of the discharge port are cleaned and dried by the cleaning liquid and the drying gas injected from the cleaning liquid injection port and the drying gas injection port.

이는, 세정액 분사구가 위치하는 제1분사면이 건조가스 분사구가 위치하는 제2분사면에 비하여 노즐 측면으로부터 보다 멀리 떨어진 상태에서 세정 몸체의 세정진행방향을 기준으로 전방에 위치함에 따라, 노즐 측면에 분사되는 세정액이 단턱에 의해 후방으로 밀려 이동하는 것이 억제되면서, 노즐 측면에 보다 근접하게 배치된 건조가스 분사구에 의해 분사되는 건조가스는 장애물에 의해 유동이 차단되지 않으므로 와류의 생성이 최소화되어 노즐 측면에 남아 있는 세정액과 이물질을 보다 확실하게 제거하면서 건조시킬 수 있도록 하기 위함이다. This is because the first injection surface on which the cleaning liquid injection port is located is located forward with respect to the cleaning progress direction of the cleaning body in a state farther from the nozzle side than the second injection surface on which the dry gas injection hole is located. While the sprayed cleaning liquid is suppressed from being pushed backward by the step, the dry gas injected by the dry gas injection port disposed closer to the nozzle side is not blocked by the obstacle, so the generation of vortices is minimized and the nozzle side is minimized. This is to ensure that the cleaning solution and foreign matter remaining in the cleaner can be dried while being removed more reliably.

이 때, 상기 건조가스 분사구는 상기 세정진행방향에 경사진 전방으로 건조 가스를 분사하는 것이 효과적이다. 이를 통해, 슬릿 노즐의 노즐 측면에 묻은 세정액과 이물질이 고압의 건조 가스세정 몸체의 이동 방향 쪽(전방)으로 밀려나면서 노즐 측면으로부터 제거된다. 이를 통해, 세정 몸체가 슬릿 노즐의 토출구 주변을 지나갔음에도 불구하고 이물질이나 세정액이 슬릿 노즐의 측면에 남아있지 않게 된다. At this time, it is effective that the dry gas injection port injects dry gas forward inclined in the cleaning progress direction. Through this, the cleaning liquid and the foreign matter on the nozzle side of the slit nozzle are removed from the nozzle side while being pushed toward the moving direction (front) of the high-pressure dry gas cleaning body. Through this, even though the cleaning body has passed around the discharge port of the slit nozzle, no foreign matter or cleaning liquid remains on the side of the slit nozzle.

보다 바람직하게는, 본 발명의 다른 실시형태에 따르면, 상기 건조가스 분사구는 상기 세정진행방향에 대하여 대략 20°내지 50°만큼의 경사진 방향으로 전방을 향하도록 건조가스를 분사하여, 노즐 측면에 묻어있는 세정액과 이물질이 후방으로 밀려 남게 되는 것을 확실하게 방지할 수 있게 된다. 또한, 건조가스 분사구는 수평면을 기준으로 10° 내지 20°만큼 하향 분사하도록 구성되어, 노즐 측면에 묻은 이물질과 세정액을 하측으로 끌어내린다. 이에 의해, 약액 등의 이물질을 씻어내는 세정액은 노즐 몸체의 위치에 비해 전방에 위치한 측면으로 이동하면서, 세정 몸체의 하측에 위치하는 이동 트래이에 모이게 된다. More preferably, according to another embodiment of the present invention, the dry gas injection port injects the dry gas to the front in the inclined direction by approximately 20 ° to 50 ° with respect to the cleaning progress direction, to the nozzle side It is possible to reliably prevent the cleaning liquid and foreign matter from being pushed back. In addition, the dry gas injection port is configured to inject downward by 10 ° to 20 ° with respect to the horizontal plane, and pulls the foreign matter and the cleaning liquid attached to the nozzle side downward. As a result, the cleaning liquid for washing away foreign substances such as chemical liquid is collected in the moving tray located under the cleaning body while moving toward the side located in front of the nozzle body.

그리고 건조가스 분사구는 높은 압력으로 슬릿 노즐의 측면에 건조 가스를 분사한다. 따라서, 건조 가스는 직선 형태의 경로로 건조가스 분사구로부터 슬릿 노즐의 측면에 도달하게 된다. 이에 의해, 슬릿 노즐의 측면에 잔류하는 세정액과 이물질은 완전히 제거되며 건조된다.And the dry gas injection port injects dry gas to the side of the slit nozzle at a high pressure. Therefore, the dry gas reaches the side of the slit nozzle from the dry gas injection port in a straight path. As a result, the cleaning liquid and foreign matter remaining on the side of the slit nozzle are completely removed and dried.

상기 세정액 분사구는 상기 세정진행방향에 거의 수직인 횡방향으로 세정액을 상기 노즐의 측면에 분사한다. 세정액 분사구에 의해 분사되는 세정액은 노즐의 측면에 이물질을 제거하는 가장 큰 힘이 작용하도록 수직으로 분사되어, 노즐 측면에 묻어있는 이물질을 표면으로부터 효과적으로 분리할 수 있도록 한다.The cleaning liquid injection port injects the cleaning liquid to the side of the nozzle in a lateral direction substantially perpendicular to the cleaning progress direction. The cleaning liquid sprayed by the cleaning liquid injection port is vertically sprayed to apply the greatest force to remove the foreign matter on the side of the nozzle, so that the foreign matter on the side of the nozzle can be effectively separated from the surface.

여기서, 세정액 분사구로부터 분사되는 세정액은 건조 가스에 비하여 낮은 저압으로 분사되어, 슬릿 노즐의 측면에 도달하기 까지 포물선 경로를 형성하는 것이 좋다. 이를 통해, 슬릿 노즐에 도달한 세정액이 주변으로 튀어 오염시키는 것을 방지하면서도 노즐의 측면을 효과적으로 세정할 수 있다. Here, the cleaning liquid injected from the cleaning liquid injection port is injected at a low pressure lower than that of the dry gas, and it is preferable to form a parabolic path until reaching the side surface of the slit nozzle. Through this, it is possible to effectively clean the side surface of the nozzle while preventing the cleaning liquid reaching the slit nozzle from splashing around.

한편, 상기 제1분사면과 상기 제2분사면의 단턱의 단차는 1mm 내지 3mm인 것이 좋다. 제1분사면과 제2분사면의 단턱의 단차가 1mm보다 낮으면 세정액 분사구로부터 분사된 세정액이 후방으로 유입될 가능성이 커지며, 이들 단차가 3mm보다 커지면 세정 몸체의 부피가 비대해지므로 바람직하지 않다. On the other hand, the step of the step between the first injection surface and the second injection surface is preferably 1mm to 3mm. When the step difference between the step of the first injection surface and the second injection surface is lower than 1 mm, it is more likely that the cleaning liquid injected from the cleaning liquid injection port flows backward, and when the step is larger than 3 mm, the volume of the cleaning body is enlarged, which is not preferable. .

상기와 같이 구성된 슬릿 노즐의 세정 기구는 세정 몸체가 슬릿 노즐의 토출구를 따라 이동하면서 세정액 분사구에서는 세정액이 분사되고, 세정액 분사구보다 후방에 위치하면서 노즐 측면과 근접한 제2분사면에 위치한 건조가스 분사구에서는 건조 가스가 고압으로 분사되면서, 슬릿 노즐의 측면의 세정이 이루어진다. In the cleaning mechanism of the slit nozzle configured as described above, the cleaning liquid is injected from the cleaning liquid injection port while the cleaning body moves along the discharge port of the slit nozzle, and the drying gas injection port located at the second injection surface adjacent to the nozzle side is located behind the cleaning liquid injection port. As the drying gas is injected at high pressure, cleaning of the side of the slit nozzle is performed.

이 때, 상기 세정액 분사구는 상기 세정 몸체의 전방 끝단부에 위치하고, 상기 건조가스 분사구는 상기 세정 몸체의 후방 끝단부에 위치하여, 상기 세정액 분사구와 상기 가스 분사구는 가능한 멀리 이격되어 위치하는 것이 좋다. 이에 의하여, 세정액과 가스가 서로 영향을 받지 않아, 세정 몸체가 지나간 자리에 세정액이나 이물질이 남아 있게 될 가능성이 최소화된다. At this time, the cleaning liquid injection port is located in the front end of the cleaning body, the dry gas injection port is located in the rear end of the cleaning body, the cleaning liquid injection port and the gas injection port is preferably located as far apart as possible. As a result, the cleaning liquid and the gas are not affected by each other, so that the possibility of remaining the cleaning liquid or foreign matter in the place where the cleaning body has passed is minimized.

그리고, 상기 세정 몸체의 하측에는 상기 슬릿 노즐의 측면 세정에 사용된 세정액과 이물질을 수용하는 이동 트래이가 구비된다. 세정 몸체의 하측에 사용된 세정액과 이물질을 수용하는 고정 트래이가 구비될 수도 있지만, 세정 몸체 내에 이동 트래이가 구비됨에 따라 사용된 세정액과 이물질이 주변으로 튀어 오염시키는 것을 방지할 수 있다. 이 때, 이동 트래이에 모인 이물질과 사용된 세정액을 외부로 배출하는 배수 통로가 상기 이동 트래이로부터 연장될 수 있다.And, the lower side of the cleaning body is provided with a moving tray for receiving the cleaning liquid and foreign matter used for cleaning the side of the slit nozzle. Although a fixed tray for accommodating the cleaning liquid and foreign matter used below the cleaning body may be provided, the moving tray is provided in the cleaning body to prevent the used cleaning liquid and foreign matter from splashing to the surroundings. At this time, a drain passage for discharging the foreign matter collected in the moving tray and the used cleaning liquid to the outside may extend from the moving tray.

이동 트래이는 상기 제1분사면 및 상기 제2분사면의 하측에 폭이 상측에 비하여 넓어지는 확폭부가 구비된다. 이에 따라, 확폭부에서는 압력이 감소하므로, 건조 가스와 세정액이 슬릿 노즐의 측면에 부딪혀 튕겨나오는 것을 원활하게 배기시킬 수 있다. The movement tray is provided with a widening part which is wider than the upper side in the lower side of the said 1st injection surface and the said 2nd injection surface. As a result, the pressure decreases in the widening portion, so that the dry gas and the cleaning liquid collide with the side surface of the slit nozzle to be ejected smoothly.

한편, 본 발명은, 피처리 기판을 지지하는 기판 스테이지와; 상기 기판 스테이지 상의 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 토출구에서 도포하는 슬릿 노즐과; 상기 슬릿노즐의 상기 토출구 양측의 노즐 측면을 세정하는 전술한 슬릿 노즐의 세정 기구를 포함하여 구성된 기판 코터 장치를 제공한다.On the other hand, the present invention includes a substrate stage for supporting a substrate to be processed; A slit nozzle for applying a chemical liquid to a surface of the substrate to be processed on the substrate stage at a discharge port; Provided is a substrate coater device including a cleaning mechanism of the slit nozzle described above for cleaning nozzle side surfaces of both sides of the discharge port of the slit nozzle.

그리고, 본 발명은 슬릿 노즐의 토출구 양측의 노즐 측면의 세정방법으로서, 상기 세정 몸체를 상기 슬릿 노즐의 토출구의 슬릿 방향을 따라 세정 몸체 이동시키는 단계와; 상기 세정 몸체를 이동시키면서 상기 세정액 분사구로부터 상기 노즐 측면을 향하여 세정액을 분사하는 단계와; 상기 세정 몸체를 이동시키면서 상기 세정 몸체의 이동 방향을 기준으로 상기 세정액 분사구보다 후방에 위치한 상기 건조가스 분사구로부터 상기 노즐 측면을 향하여 건조 가스를 고압으로 분사하는 단계를; 포함하여, 상기 세정 몸체가 상기 토출구의 슬릿 방향을 따라 이동하면서 상기 노즐 측면을 세정하는 슬릿 노즐의 세정 방법을 제공한다.
In addition, the present invention provides a cleaning method of the nozzle side on both sides of the discharge port of the slit nozzle, comprising: moving the cleaning body along the slit direction of the discharge port of the slit nozzle; Spraying the cleaning liquid from the cleaning liquid jet port toward the nozzle side while moving the cleaning body; Injecting dry gas at a high pressure toward the nozzle side from the dry gas jet port located behind the cleaning liquid jet port based on the moving direction of the cleaning body while moving the cleaning body; Including, the cleaning body provides a cleaning method of the slit nozzle for cleaning the nozzle side while moving along the slit direction of the discharge port.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 슬릿 노즐의 토출구 주변의 양측면을 세정함에 있어서, 세정액 분사구가 위치하는 제1분사면이 건조가스 분사구가 위치하는 제2분사면에 비하여 노즐 측면으로부터 보다 멀리 떨어진 상태에서 세정 몸체의 세정진행방향을 기준으로 전방에 위치함에 따라, 노즐 측면에 분사되는 세정액이 단턱에 의해 후방으로 밀려 이동하는 것이 억제되면서, 노즐 측면에 보다 근접하게 배치된 건조가스 분사구에 의해 분사되는 건조가스는 장애물에 의해 유동이 차단되지 않으므로 와류의 생성이 최소화되어 노즐 측면에 남아 있는 세정액과 이물질을 보다 확실하게 제거하면서 세정 건조시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. As described above, in the present invention, in cleaning both sides around the discharge port of the slit nozzle, the first injection surface on which the cleaning liquid injection port is located is farther from the nozzle side than the second injection surface on which the dry gas injection port is located. As it is located in front of the cleaning progress direction of the cleaning body, it is suppressed that the cleaning liquid sprayed on the nozzle side is pushed backward by the step, and the drying sprayed by the dry gas injection port disposed closer to the nozzle side. Since the gas is not blocked by the obstacles, the generation of vortices is minimized, so that the cleaning and drying of the cleaning liquid and foreign matter remaining on the side of the nozzle can be more reliably removed.

또한, 본 발명은 건조가스 분사구로부터 분사되는 건조 가스가 세정진행방향에 대하여 대략 20°내지 50°만큼의 경사진 방향을 이룸으로써, 노즐 측면에 묻어있는 세정액과 이물질이 후방으로 밀려 남게 되는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있는 효과도 얻을 수 있다. In addition, according to the present invention, the dry gas injected from the dry gas injection port is inclined by approximately 20 ° to 50 ° with respect to the cleaning progress direction, so that the cleaning liquid and foreign matter buried on the nozzle side are pushed back. The effect which can be reliably prevented can also be obtained.

그리고, 건조가스 분사구는 수평면을 기준으로 10° 내지 20°만큼 하향 분사하도록 구성되어, 노즐 측면에 묻은 이물질과 세정액을 하측으로 끌어내고, 그 하측에는 세정 몸체와 함께 이동하는 이동 트래이가 구비됨으로써, 이물질과 세정액을 이동 트래이에 수집하여 세정된 오염 액체가 주변으로 튀어 2차 오염시키는 것을 방지할 수 있는 잇점을 얻을 수 있다.And, the dry gas injection port is configured to inject downward by 10 ° to 20 ° relative to the horizontal plane, by drawing the foreign matter and the cleaning liquid on the nozzle side to the lower side, the lower side is provided with a moving tray that moves with the cleaning body, Foreign matter and cleaning liquid can be collected in a moving tray to obtain the advantage of preventing the cleaned contaminated liquid from splashing around and causing secondary contamination.

이와 같이, 본 발명은 세정 몸체가 슬릿 노즐의 토출구의 슬릿 방향(토출구가 형성된 방향)을 따라 1회만 이동하면서 세정하더라도, 이물질과 세정액이 노즐 측면에 남지않고 깨끗하게 세정할 수 있으므로, 슬릿 노즐의 토출구 주변의 측면 세정에 소요되는 시간을 단축하여 피처리 기판의 약액 도포의 공정 효율을 보다 향상시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
As described above, even if the cleaning body is cleaned while moving only once along the slit direction (the direction in which the discharge port is formed) of the discharge port of the slit nozzle, the foreign matter and the cleaning liquid can be cleaned without remaining on the side of the nozzle, so that the discharge port of the slit nozzle An advantageous effect of shortening the time required to clean the surrounding side can be further improved the process efficiency of chemical liquid coating of the substrate to be processed.

도1은 종래의 일반적인 기판 코터 장치의 구성을 도시한 개략 사시도
도2a 내지 도2c는 도1의 기판 코터 장치를 이용한 예비 토출 공정 및 기판 코팅 공정을 설명하기 위한 개략도
도3은 도1에 적용될 수 있는 종래의 노즐 세정 기구의 구성을 도시한 도면
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 세정 기구를 도시한 사시도
도5는 도4의 세정 몸체 및 그 주변 구성을 도시한 도면
도6은 도5의 세정 몸체에 이동 브라켓이 부착된 상태의 구성을 도시한 사시도
도7은 도5의 세정 몸체의 평면도
도8은 도5의 절단선 A-A에 따른 단면도
도9는 도5의 절단선 B-B에 따른 단면도이다.
1 is a schematic perspective view showing the structure of a conventional general substrate coater apparatus
2A to 2C are schematic views for explaining a preliminary ejection process and a substrate coating process using the substrate coater device of FIG.
3 is a view showing the configuration of a conventional nozzle cleaning mechanism that can be applied to FIG.
Figure 4 is a perspective view showing a cleaning mechanism of the slit nozzle according to an embodiment of the present invention
FIG. 5 shows the cleaning body and its surrounding configuration of FIG.
Figure 6 is a perspective view showing the configuration of a state in which the moving bracket is attached to the cleaning body of Figure 5
7 is a plan view of the cleaning body of FIG.
8 is a cross-sectional view along the cutting line AA of FIG.
9 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 5.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐(30)의 세정 기구(100)를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.Hereinafter, the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle 30 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail to avoid obscuring the subject matter of the present invention.

도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 세정 기구를 도시한 사시도, 도5는 도4의 세정 몸체 및 그 주변 구성을 도시한 도면, 도6은 도5의 세정 몸체에 이동 브라켓이 부착된 상태의 구성을 도시한 사시도, 도7은 도5의 세정 몸체의 평면도, 도8은 도5의 절단선 A-A에 따른 단면도, 도9는 도5의 절단선 B-B에 따른 단면도이다.Figure 4 is a perspective view showing a cleaning mechanism of the slit nozzle according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is a view showing the cleaning body and its surrounding configuration of Figure 4, Figure 6 is a cleaning bracket of the cleaning body of Figure 5 7 is a plan view of the cleaning body of FIG. 5, FIG. 8 is a sectional view taken along the cutting line AA of FIG. 5, and FIG. 9 is a sectional view along the cutting line BB of FIG.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐(30)의 세정 기구(100)는, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 양측의 노즐 측면(30s)과 대향하는 대향면(110s)이 구비되고 토출구(30a)를 따라 이동 구동되는 세정 몸체(110)와, 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 이동하면서 노즐 측면(30s)을 세정한 세정액을 수집하는 고정 트래이(120)와, 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 이동하면서 세정액을 분사하는 세정액 분사구(130)와, 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 이동하면서 세정액 분사구(130)보다 후행하면서 건조 가스를 고압으로 분사하는 건조가스 분사구(140)로 구비된다.As shown in the figure, the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle 30 according to an embodiment of the present invention, the opposite surface facing the nozzle side surface 30s on both sides of the discharge port 30a of the slit nozzle 30 Fixed tray for collecting the cleaning body 110 is provided and the cleaning body 110 that is driven to move along the discharge port (30a) and the cleaning body 110 to clean the nozzle side (30s) while moving along the discharge port (30a) 120, a cleaning liquid injection port 130 for spraying the cleaning liquid while the cleaning body 110 moves along the discharge port 30a, and a cleaning liquid injection port 130 as the cleaning body 110 moves along the discharge port 30a. It is provided with a dry gas injection port 140 for injecting dry gas at a high pressure while following.

상기 세정 몸체(110)는 도5에 도시된 바와 같이 슬릿 노즐(30)의 노즐 표면(30s)과 마주보는 대향면(110s)이 구비되어 대략 'V'자 형상의 단면으로 형성된다. 대향면(110s)은 세정 몸체(110)가 세정을 위해 이동하는 세정진행방향을 기준으로 전방에는 노즐 측면(30s)으로부터 보다 멀리 이격된 제1분사면(s1)과, 제1분사면(s1)보다 단턱에 의해 보다 노즐 측면(30s)과 근접한 제2분사면(s2)으로 이루어진다. 여기서, 제1분사면(s1)과 제2분사면(s2)의 단턱의 높이차(d)는 1mm 내지 3mm로 정해지며, 가장 바람직하게는 1.5mm로 정해진다. As shown in FIG. 5, the cleaning body 110 is provided with an opposing surface 110s facing the nozzle surface 30s of the slit nozzle 30 and has a cross-section having a substantially 'V' shape. The opposing surface 110s includes a first injection surface s1 spaced farther from the nozzle side 30s in front of the cleaning progress direction in which the cleaning body 110 moves for cleaning, and a first injection surface s1. The second injection surface s2 is closer to the nozzle side surface 30s by a step than the step S1). Here, the height difference d of the step between the first injection surface s1 and the second injection surface s2 is determined to be 1 mm to 3 mm, most preferably 1.5 mm.

세정 몸체(110)에는 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변의 양측면(30s)을 세정하면, 세정액과 이물질이 수집되는 이동 트래이(115)가 대향면(110s)의 사이에 요입 형성되어 구비된다. 이에 의해, 세정 몸체(110)가 이동하면서 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)을 세정하면서 떨어지는 오염된 세정액과 이물질(이하, 이를 통칭하여 '폐수'라고 함)은 이동 트래이(115)에 수집된다. When the cleaning body 110 cleans both side surfaces 30s around the discharge port 30a of the slit nozzle 30, a moving tray 115 through which the cleaning liquid and the foreign matter are collected is recessed and formed between the opposing surfaces 110s. do. As a result, contaminated cleaning liquid and foreign matter (hereinafter referred to as 'waste water'), which are dropped while cleaning the side surface 30s of the slit nozzle 30 while the cleaning body 110 moves, are collected in the movement tray 115. do.

이동 트래이(115)는 도8 및 도9에 도시된 바와 같이 상측에 비해 하측이 더 단면이 커지는 확폭부(115z)를 구비하여, 분사되는 세정액 및 건조가스가 슬릿 노즐(30)의 표면(30s)에 부딪힌 이후에 튕겨나온 유동에 와류가 발생되는 것을 방지하여 분사된 세정액과 건조 가스를 원활히 배기시키는 역할을 한다. As shown in FIGS. 8 and 9, the movement tray 115 includes a widening portion 115z having a larger cross section at a lower side than an upper side, so that the cleaning liquid and the dry gas sprayed are sprayed on the surface 30s of the slit nozzle 30. It prevents the generation of vortex in the flow bounced after hitting the) and serves to smoothly discharge the sprayed cleaning liquid and dry gas.

슬릿 노즐(30)의 측면(30s)의 세정이 완료되면 이동 트래이(115)와 연통 설치된 배수 통로(115p)를 통해 이동 트래이(115)에 수집된 오염된 세정액 및 이물질은 외부로 배출된다. 이를 위하여, 도면에 도시되지 않았지만, 배수 통로(115p)에는 펌프가 설치된다. When the cleaning of the side surface 30s of the slit nozzle 30 is completed, the contaminated cleaning liquid and foreign matter collected in the moving tray 115 are discharged to the outside through the drainage passage 115p installed in communication with the moving tray 115. For this purpose, although not shown in the figure, a pump is installed in the drain passage 115p.

세정 몸체(110)가 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)를 따라 이동하면서 세정하는 동안 이동 트래이(115)에 모인 폐수가 하측의 고정 트래이(120)에 떨어지는 것을 방지하기 위하여, 이동 트래이(115)의 양단에는 이동 트래이(115)의 경계벽 높이를 더 높게 하는 보조 브라켓(115c)이 부착될 수 있다.
In order to prevent the waste water collected in the movement tray 115 from falling into the lower fixing tray 120 while the cleaning body 110 moves along the discharge port 30a of the slit nozzle 30, the movement tray 115 Auxiliary brackets (115c) to the height of the boundary wall of the moving tray 115 may be attached to both ends of the).

상기 고정 트래이(120)는 세정 몸체(110)의 이동 트래이(115)에 수집된 폐수가 세정 공정 중에 일부 떨어지는 것을 수집하기 위하여, 세정 몸체(110)의 이동 경로에 걸쳐 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)의 방향을 따라 길게 형성된다. 도면에는 세정 몸체(110)에 이동 트래이(115)가 형성되고 그 하측에 고정 트래이(120)가 함께 설치된 구성을 예로 들었지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면 이동 트래이(115)와 고정 트래이(120) 중 어느 하나만 설치될 수도 있다.The fixed tray 120 is a discharge port of the slit nozzle 30 over the movement path of the cleaning body 110 to collect some of the waste water collected in the moving tray 115 of the cleaning body 110 during the cleaning process. It is formed long along the direction of 30a. In the drawings, the moving tray 115 is formed on the cleaning body 110 and the fixing tray 120 is installed at the lower side thereof as an example, but according to another embodiment of the present invention, the moving tray 115 and the fixing tray 120 are provided. Only one of) may be installed.

상기 세정액 분사구(130)는 세정 몸체(110)가 슬릿 노즐(30)을 세정할 때 이동하는 세정진행방향의 전방측의 제1분사면(s1)에 위치하여, 세정액 공급부(132)로부터 세정액 공급관(130p)을 통해 시너 등의 세정액을 공급받아 노즐 측면(30s)을 향하여 분사한다. 세정액 분사구(130)는 그 직경(d1)이 0.6mm 내지 1.0mm으로 상대적으로 크게 형성되어, 도8에 도시된 바와 같이 세정액이 포물선 경로(130u)가 되도록 세정액을 분사한다. 이는, 세정액의 분사압력이 지나치게 높으면 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)에 접촉한 이후에 주변으로 튀어 주변을 오염시키는 것을 방지하기 위함이다. 그리고, 도7에 도시된 바와 같이 세정액은 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)에 거의 수직에 가까운 방향을 이루도록 세정액 분사구(130)로부터 분사된다. 이에 의해, 세정액은 분사압이 낮게 분사되지만 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)에 수직 방향으로 접촉하게 되어, 가장 큰 타격력을 갖고 슬릿 노즐(30)의 양 측면(30s)에 묻은 약액 등의 이물질을 측면(30s)으로부터 효과적으로 분리시킨다. The cleaning liquid injection port 130 is located on the first injection surface s1 on the front side in the cleaning progress direction, which moves when the cleaning body 110 cleans the slit nozzle 30, and the cleaning liquid supply pipe from the cleaning liquid supply part 132. The cleaning liquid such as thinner is supplied through 130p and sprayed toward the nozzle side surface 30s. The cleaning liquid injection port 130 has a relatively large diameter d1 of 0.6 mm to 1.0 mm, and sprays the cleaning liquid such that the cleaning liquid becomes a parabolic path 130u as shown in FIG. This is to prevent contamination of the surroundings by splashing to the periphery after contacting the side surface 30s of the slit nozzle 30 when the injection pressure of the cleaning liquid is too high. As shown in FIG. 7, the cleaning liquid is injected from the cleaning liquid injection port 130 to form a direction almost perpendicular to the side surface 30s of the slit nozzle 30. As a result, the cleaning liquid is sprayed with a low injection pressure, but comes into contact with the side surface 30s of the slit nozzle 30 in the vertical direction, and has the greatest impact force, such as a chemical liquid applied to both side surfaces 30s of the slit nozzle 30. Effectively separate the foreign matter from the side (30s).

상기 건조가스 분사구(140)는 세정 몸체(110)가 슬릿 노즐(30)을 세정할 때 이동하는 세정진행방향의 후방측의 제2분사면(s2)에 위치하여, 건조가스 공급부(142)로부터 건조가스 공급관(140p)을 통해 건조 압축 공기를 공급받아 노즐 측면(30s)을 향하여 분사한다. 건조가스 분사구(140)는 그 직경(d2)이 0.4mm 내지 0.6mm으로 상대적으로 작게 형성되어, 도9에 도시된 바와 같이 건조 가스가 직선 경로(140y)가 되도록 세정액을 분사한다. 이는, 건조가스 분사구(140)를 세정액 분사구(130)에 비해 작게 형성하여 작은 압력으로도 건조 가스의 분사압을 높일 수 있기 때문이다. 이와 같이, 건조 가스가 직선 형태로 분사되도록 분사 압력을 높임으로써, 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)에 잔류하는 세정액을 밀어내어 측면(30s)을 신속하게 건조시킬 수 있을 뿐만 아니라, 노즐 측면(30s)에 잔류하는 이물질도 함께 밀어내는 효과를 얻을 수 있다. The dry gas injection port 140 is located on the second injection surface s2 on the rear side of the cleaning progress direction, which moves when the cleaning body 110 cleans the slit nozzle 30, and thus, from the dry gas supply unit 142. Dry compressed air is supplied through the dry gas supply pipe 140p and sprayed toward the nozzle side 30s. The dry gas injection port 140 has a diameter d2 of 0.4 mm to 0.6 mm, which is relatively small, and sprays the cleaning liquid such that the dry gas is a straight path 140y as shown in FIG. This is because the dry gas injection port 140 may be formed smaller than the cleaning liquid injection port 130 to increase the injection pressure of the dry gas even at a small pressure. In this way, by increasing the injection pressure so that the drying gas is injected in a straight line, the cleaning liquid remaining on the side surface 30s of the slit nozzle 30 can be pushed out to dry the side surface 30s quickly, and the nozzle side surface. The foreign matter remaining at (30s) can also be pushed out together.

그리고, 건조 가스는 세정진행방향에 대하여 20°내지 50°의 사잇각(140h)을 이루면서 전방을 향하고, 수평면에 대하여 10° 내지 20°의 사잇각(120v)을 이루도록 하향 분사되어, 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)에 도달한다. Then, the dry gas is directed downward while forming the angle 140h of 20 ° to 50 ° with respect to the washing progress direction, and is injected downward to form the angle of angle 120v of 10 ° to 20 ° with respect to the horizontal plane, and the slit nozzle 30. Reach to side 30s of.

이와 같이, 건조 가스가 세정진행방향에 대해 20°내지 50°의 사잇각(140h)을 이루면서 전방에 분사됨에 따라, 노즐 측면에 묻어있는 세정액과 이물질이 후방으로 밀려 남게 되는 것을 확실하게 방지할 수 있게 된다. 이 때, 세정진행방향에 대한 사잇각(140h)이 20°보다 작으면 세정액과 이물질을 밀어내는 힘이 크지만, 노즐 측면(30s)에 붙어있는 이물질을 떼어내는 힘이 약할 수 있으므로, 20°이상의 사잇각(140h)을 유지하는 것이 좋다. 그리고, 세정진행방향에 대한 사잇각(140h)이 50°보다 크면 노즐 측면(30s)에 가하는 건조 가스의 압력이 높아, 노즐 측면(30s)에 잔류하던 세정액 등이 주변으로 튈 수 있으므로, 50°이하의 사잇각(140h)을 유지하는 것이 좋다.In this way, as the dry gas is sprayed to the front while forming a side angle (140h) of 20 ° to 50 ° with respect to the cleaning progress direction, it is possible to reliably prevent the cleaning liquid and foreign matter from the nozzle side from being pushed back. do. At this time, if the angle 140h in the cleaning progress direction is smaller than 20 °, the force to push out the cleaning liquid and foreign matter is large, but the force to remove the foreign matter adhering to the nozzle side 30s may be weak. It is good to keep the angle 140h. When the angle 140h of the cleaning progress direction is larger than 50 °, the pressure of the dry gas applied to the nozzle side 30s is high, and the cleaning liquid and the like remaining on the nozzle side 30s may float to the periphery. It is good to keep the angle of 140h.

또한, 건조 가스가 수평면에 대하여 10° 내지 20°의 사잇각(120v)으로 하향 분사됨에 따라, 노즐 측면(30s)에 묻은 이물질과 세정액을 하측으로 끌어내려, 노즐 측면(30s)에 묻어 있던 세정액이 공중으로 부유하면서 주변을 오염시키는 것을 방지하고, 세정 몸체(110)의 하측에 위치한 이동 트래이(115)로 수집할 수 있게 된다. In addition, as the dry gas is injected downward to the horizontal angle 120v of 10 ° to 20 ° with respect to the horizontal plane, the foreign matter and the cleaning liquid on the nozzle side 30s are drawn downward, and the cleaning liquid on the nozzle side 30s is discharged. While floating in the air to prevent the contamination of the surroundings, it is possible to collect in the movement tray 115 located below the cleaning body (110).

또한, 세정액 분사구(130)가 위치하는 제1분사면(s1)이 건조가스 분사구(140)가 위치하는 제2분사면(s2)에 비하여 노즐 측면(30s)으로부터 보다 멀리 떨어지게 위치하고, 그 사이에 단턱이 d만큼 차이가 나게 형성됨으로써, 노즐 측면(30s)에 분사되어 측면(30s)과 접촉한 이후의 세정액 유동이 단턱에 의해 후방으로 밀려 이동하는 것이 억제되고, 노즐 측면(30s)에 보다 근접하게 배치된 건조가스 분사구(140)에 의해 분사되는 건조가스는 보다 높은 압력으로 노즐 측면(30s) 을 강타하면서 건조 가스의 유동을 차단하는 벽을 주변에 두지 않음에 따라, 노즐 측면(30s)과 접촉한 이후의 건조가스 유동에 와류가 생성되는 것이 최소화된다. 따라서, 노즐 측면에 남아 있는 세정액과 이물질을 보다 확실하게 제거할 수 있으면서, 종래에 비해 훨씬 효과적으로 세정 건조시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. In addition, the first injection surface s1 on which the cleaning liquid injection port 130 is located is located farther from the nozzle side surface 30s than the second injection surface s2 on which the dry gas injection port 140 is located, and between Since the step is formed to be different from the d, the flow of the cleaning liquid after being injected into the nozzle side 30s and in contact with the side 30s is suppressed from being pushed backward by the step, and closer to the nozzle side 30s. The dry gas injected by the dry gas injection port 140 disposed so as to hit the nozzle side 30s at a higher pressure and does not have a wall blocking the flow of the dry gas around the nozzle side 30s, Vortex formation in the dry gas flow after contact is minimized. Therefore, while the cleaning liquid and the foreign matter remaining on the nozzle side can be removed more reliably, the advantageous effect of washing and drying much more effectively than in the related art can be obtained.

상기와 같이 구성된 슬릿 노즐의 세정 기구(100)를 이용하여 슬릿 노즐(30)의 양측면(30s)을 세정하는 공정은, 도1에 도시된 기판 코터 장치를 이용하여 피처리 기판(G)의 표면에 약액을 1회 내지 수회 도포하면, 슬릿 노즐(30)의 양측면(30s)에 약액 및 이물질이 묻게 된다. The process of cleaning both side surfaces 30s of the slit nozzle 30 using the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle configured as described above is performed by using the substrate coater device shown in FIG. When the chemical liquid is applied once or several times, the chemical liquid and foreign matter are buried on both side surfaces 30s of the slit nozzle 30.

이 때, 슬릿 노즐(30)을 노즐 세정 기구(100)가 위치한 곳으로 이동시킨 후, 세정 몸체(110)의 V자 단면의 중심과 토출구(30a)를 정렬시킨다. 그리고 나서, 세정 몸체(110)를 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)의 슬릿 방향을 따라 이동시킨다. 이 때, 세정 몸체(110)를 이동시키면서 세정진행방향의 전방에 위치한 세정액 분사구(130)로부터 노즐 측면(30s)을 향하여 세정액을 분사하고, 세정액 분사구(130)보다 후방에 위치한 건조가스 분사구(140)로부터 노즐 측면(30s)을 향하여 건조 가스를 고압으로 경사지게 분사한다. At this time, the slit nozzle 30 is moved to the position where the nozzle cleaning mechanism 100 is located, and then the center of the V-shaped cross section of the cleaning body 110 and the discharge port 30a are aligned. Then, the cleaning body 110 is moved along the slit direction of the discharge port 30a of the slit nozzle 30. At this time, the cleaning liquid is injected toward the nozzle side surface 30s from the cleaning liquid injection port 130 located in the front of the cleaning progress direction while moving the cleaning body 110, and the dry gas injection port 140 located behind the cleaning liquid injection port 130. ), The drying gas is inclined at a high pressure toward the nozzle side 30s.

이와 같이, 세정 몸체(110)를 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)를 따라 1회 이동하면서 양측면(30s)에 세정액과 건조가스를 분사하는 것에 의해, 토출구(30a) 주변의 양측면(30s)을 깨끗하게 세정할 수 있게 된다.In this way, the cleaning body 110 is injected once along the discharge port 30a of the slit nozzle 30 while spraying the cleaning liquid and dry gas on both side surfaces 30s, thereby allowing both side surfaces 30s around the discharge port 30a. It is possible to clean the.

한편, 본 발명은 피처리 기판(G)을 지지하는 기판 스테이지(10)와, 기판 스테이지(10) 상의 피처리 기판(G)의 표면에 약액을 토출구(30a)에서 도포하는 슬릿 노즐(30)과, 상기와 같이 구성된 슬릿 노즐의 세정 기구(100)를 구비한 기판 코터 장치를 제공한다. 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 1회 진행하는 것에 의해 슬릿 노즐을 깨끗하게 세정할 수 있으므로, 상기와 같이 구성된 기판 코터 장치는 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변의 측면(30s) 세정에 소요되는 시간을 단축하여 피처리 기판(G)의 약액 도포의 공정 효율을 보다 향상시킬 수 있다.
On the other hand, in the present invention, the substrate stage 10 supporting the substrate G and the slit nozzle 30 applying the chemical liquid to the surface of the substrate G on the substrate stage 10 at the discharge port 30a. And it provides the substrate coater apparatus provided with the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle comprised as mentioned above. Since the cleaning body 110 can cleanly clean the slit nozzle by advancing once along the discharge port 30a, the substrate coater device configured as described above has a side surface 30s around the discharge port 30a of the slit nozzle 30. By shortening the time required for cleaning, the process efficiency of chemical liquid application of the substrate G to be processed can be further improved.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구 범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention.

** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **
10: 기판 지지대 30: 슬릿 노즐
100: 노즐 세정 기구 110: 세정 몸체
115: 이동 트래이 115z: 확폭부
120: 고정 트래이 130: 세정액 분사구
140: 건조가스 분사구DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS
10: substrate support 30: slit nozzle
100: nozzle cleaning mechanism 110: cleaning body
115: moving tray 115z: widening section
120: fixed tray 130: cleaning liquid jet port
140: dry gas nozzle

Claims (13)

슬릿 노즐의 토출구 주변을 세정하는 세정 기구로서,
상기 토출구 양측의 노즐 측면과 대향하는 제1분사면과 제2분사면을 구비한 대향면이 구비되며, 상기 제1분사면은 상기 제2분사면에 비하여 상기 노즐 측면에 보다 멀리 이격되도록 상기 제1분사면과 상기 제2분사면의 사이에는 단턱(段, step)이 형성되고, 상기 슬릿 노즐의 상기 토출구를 따라 이동하는 세정 몸체와;
상기 노즐 측면을 향하여 세정액을 분사하고 상기 세정 몸체의 상기 제1분사면에 위치한 세정액 분사구과;
상기 노즐 측면을 향하여 건조 공기를 분사하고, 상기 토출구 주변을 세정하기 위하여 세정 몸체가 이동하는 세정진행방향을 기준으로 상기 세정액 분사구보다 후방에 위치하며, 상기 세정 몸체의 상기 제2분사면에 위치한 건조가스 분사구을;
포함하여 구성되어, 상기 토출구 양측 노즐 측면을 상기 세정액 분사구와 상기 건조가스 분사구에서 분사된 세정액과 건조 가스로 세정 건조시키는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
As a cleaning mechanism for cleaning around the discharge port of the slit nozzle,
An opposing surface having a first injection surface and a second injection surface facing the nozzle side surfaces on both sides of the discharge port is provided, and the first injection surface is spaced farther from the nozzle side than the second injection surface. A stepping body formed between the first injection surface and the second injection surface, the cleaning body moving along the discharge port of the slit nozzle;
A cleaning liquid injection hole for spraying a cleaning liquid toward the nozzle side and positioned at the first injection surface of the cleaning body;
Drying is sprayed toward the side of the nozzle, located behind the cleaning liquid injection port based on the cleaning progress direction in which the cleaning body moves to clean around the discharge port, drying located on the second injection surface of the cleaning body Gas nozzles;
The cleaning mechanism of the slit nozzle, comprising: cleaning and drying the nozzle both sides of the discharge port with the cleaning liquid and dry gas injected from the cleaning liquid injection port and the dry gas injection port.
제 1항에 있어서,
상기 건조가스 분사구는 상기 세정진행방향에 경사진 전방으로 건조 가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 1,
The dry gas injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for injecting dry gas forward inclined in the cleaning progress direction.
제 2항에 있어서,
상기 건조가스 분사구는 상기 세정진행방향에 대하여 대략 20°내지 50°만큼의 경사진 방향으로 전방을 향하고, 수평면을 기준으로 10° 내지 20°만큼 하향 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 2,
The dry gas injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that the forward direction in the inclined direction by approximately 20 ° to 50 ° with respect to the cleaning progress direction, and spraying downward by 10 ° to 20 ° relative to the horizontal plane.
제 2항에 있어서,
상기 건조가스 분사구는 직선 형태로 상기 건조 가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 2,
The dry gas injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for injecting the dry gas in a straight form.
제 1항에 있어서,
상기 세정액 분사구는 상기 세정진행방향의 횡방향으로 세정액을 상기 노즐측면을 향해 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 1,
The cleaning liquid injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for spraying the cleaning liquid toward the nozzle side in the transverse direction of the cleaning progress direction.
제 5항에 있어서,
상기 세정액 분사구는 포물선 형태로 세정액를 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
6. The method of claim 5,
The cleaning liquid injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for spraying the cleaning liquid in the form of a parabola.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1분사면과 상기 제2분사면의 단턱의 단차는 1mm 내지 3mm인 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The step of the step between the first injection surface and the second injection surface is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that 1mm to 3mm.
제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정액 분사구는 상기 건조가스 분사구에 비해 더 큰 크기로 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The cleaning liquid injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that formed in a larger size than the dry gas injection port.
제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정 몸체의 하측에는 상기 슬릿 노즐의 측면 세정에 사용된 세정액과 이물질을 수용하는 이동 트래이가 구비된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that the lower side of the cleaning body is provided with a moving tray for receiving the cleaning liquid and foreign matter used for cleaning the side of the slit nozzle.
제 9항에 있어서,
상기 제1분사면 및 상기 제2분사면의 하측에 위치하는 상기 이동 트레이는 단면이 커지는 확폭부를 구비한 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 9,
The moving tray located below the first injection surface and the second injection surface has a widening portion having a large cross section, and the cleaning mechanism of the slit nozzle.
제 9항에 있어서,
상기 이동 트래이에 모인 이물질과 사용된 세정액을 외부로 배출하는 배수 통로가 상기 이동 트래이로부터 연장된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 9,
And a drain passage for discharging the foreign matter collected in the moving tray and the used cleaning liquid to the outside extends from the moving tray.
피처리 기판을 지지하는 기판 스테이지와;
상기 기판 스테이지 상의 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 토출구에서 도포하는 슬릿 노즐과;
상기 슬릿노즐의 상기 토출구 양측의 노즐 측면을 세정하는 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 세정 기구를;
포함하여 구성된 기판 코터 장치.
A substrate stage for supporting a substrate to be processed;
A slit nozzle for applying a chemical liquid to a surface of the substrate to be processed on the substrate stage at a discharge port;
A cleaning mechanism according to any one of claims 1 to 6 for cleaning nozzle side surfaces of both sides of the discharge port of the slit nozzle;
Substrate coater device configured to include.
제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 따른 슬릿 노즐의 토출구 양측의 노즐 측면의 세정 방법으로서,
상기 세정 몸체를 상기 슬릿 노즐의 토출구의 슬릿 방향을 따라 세정 몸체 이동시키는 단계와;
상기 세정 몸체를 이동시키면서 상기 세정액 분사구로부터 상기 노즐 측면을 향하여 세정액을 분사하는 단계와;
상기 세정 몸체를 이동시키면서 상기 세정 몸체의 이동 방향을 기준으로 상기 세정액 분사구보다 후방에 위치한 상기 건조가스 분사구로부터 상기 노즐 측면을 향하여 건조 가스를 고압으로 분사하는 단계를;
포함하여, 상기 세정 몸체가 상기 토출구의 슬릿 방향을 따라 이동하면서 상기 노즐 측면을 세정하는 슬릿 노즐의 세정 방법.

A cleaning method of nozzle side surfaces on both sides of discharge ports of a slit nozzle according to any one of claims 1 to 6,
Moving the cleaning body along the slit direction of the discharge port of the slit nozzle;
Spraying the cleaning liquid from the cleaning liquid jet port toward the nozzle side while moving the cleaning body;
Injecting dry gas at a high pressure toward the nozzle side from the dry gas jet port located behind the cleaning liquid jet port based on the moving direction of the cleaning body while moving the cleaning body;
And cleaning the nozzle side while the cleaning body moves along the slit direction of the discharge port.

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