KR101335219B1 - Non-contact type cleaning device of slit nozzle and cleaning method using same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 슬릿 노즐의 비접촉식 세정기구 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 세정하는 세정 기구로서, 상기 토출구 양측의 노즐 측면과 대향하는 대향면이 구비되고, 상기 슬릿 노즐로부터 이격되어 상기 토출구를 따라 이동하는 세정 몸체와; 상기 노즐 측면을 향하여 세정액을 분사하고, 상기 대향면에 형성된 세정액 분사구와; 상기 노즐 측면을 세정한 오염된 세정액을 수집하도록 상기 대향면에 부압이 작용하고, 상기 대향면에 형성된 세정액 흡입구를; 포함하여 구성되어, 분사된 세정액이 노즐 표면의 약액 등의 이물질을 함유한 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구로 흡입하여 외부로 배출함으로써, 슬릿 노즐의 측면을 세정액이 세정하는 과정에서 외부로 누출되지 않고 곧바로 회수되어 오염된 세정액이 외부로 비산되어 슬릿 노즐의 측면 및 주변을 2차 오염시키는 것을 방지할 수 있는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 이를 이용한 세정 방법을 제공한다.The present invention relates to a non-contact cleaning mechanism of a slit nozzle and a cleaning method using the same, the cleaning mechanism for cleaning around the discharge port of the slit nozzle, provided with opposing surfaces facing the nozzle side on both sides of the discharge port, spaced apart from the slit nozzle A cleaning body moving along the discharge port; A cleaning liquid injection port for spraying a cleaning liquid toward the nozzle side, and formed on the opposite surface; A negative pressure acting on the opposing surface to collect the contaminated washing liquid cleaning the nozzle side, and a cleaning liquid suction port formed on the opposing surface; It is configured to include, and the sprayed cleaning liquid immediately sucks out the contaminated cleaning liquid containing foreign substances such as chemicals on the nozzle surface to the cleaning liquid suction port and discharges it to the outside, so that the side of the slit nozzle is not leaked to the outside in the process of cleaning the cleaning liquid. Provided are a cleaning mechanism of a slit nozzle capable of preventing secondary contamination of the side and periphery of the slit nozzle by immediately being recovered and contaminated cleaning liquid, and a cleaning method using the same.

Description

슬릿 노즐의 비접촉식 세정기구 및 이를 이용한 세정 방법 {NON-CONTACT TYPE CLEANING DEVICE OF SLIT NOZZLE AND CLEANING METHOD USING SAME} Non-contact cleaning mechanism of slit nozzle and cleaning method using same {NON-CONTACT TYPE CLEANING DEVICE OF SLIT NOZZLE AND CLEANING METHOD USING SAME}

본 발명은 슬릿 노즐의 비접촉식 세정기구 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 비접촉 방식으로 세정하면서도 주변에 오염된 세정액이 튀는 것을 방지하여 노즐 표면의 2차 오염을 방지하여 보다 깨끗하게 세정할 수 있으면서, 작업 환경을 청결하고 친환경적으로 유지할 수 있는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 이를 이용한 세정 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a non-contact cleaning mechanism of the slit nozzle and a cleaning method using the same, and more particularly, to clean the surroundings of the discharge port of the slit nozzle in a non-contact manner while preventing contaminated cleaning solution from splashing around the secondary surface of the nozzle The present invention relates to a slit nozzle cleaning mechanism and a cleaning method using the same, which can be prevented and can be cleaned more cleanly, while maintaining a clean and environmentally friendly working environment.

LCD 등 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 공정에서는 유리 등으로 제작된 피처리 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. LCD의 크기가 작았던 종래에는 피처리 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 피처리 기판을 회전시키는 것에 의하여 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다. In the process of manufacturing flat panel displays, such as LCD, the coating process of apply | coating chemical liquids, such as a resist liquid, to the surface of the to-be-processed substrate made from glass etc. is accompanied. Conventionally, when the size of the LCD was small, a spin coating method was used in which the chemical was applied to the surface of the substrate by rotating the substrate while applying the chemical to the center of the substrate.

그러나, LCD 화면의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 피처리 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 슬릿 노즐과 피처리 기판을 상대 이동시키면서 슬릿 노즐로부터 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다. However, as the size of the LCD screen becomes larger, the spin coating method is scarcely used, and a slit-shaped slit nozzle having a length corresponding to the width of the substrate to be processed and a slit nozzle A coating method of coating the surface of the substrate is used.

도1은 종래의 기판 코터 장치를 개략적으로 도시한 도면이다. 도1에 도시된 바와 같이, 종래의 기판 코터 장치는 피처리 기판(G)을 기판 지지대(10)상에 거치시킨 상태에서, 피처리 기판(G)의 폭에 대응하는 토출구를 구비한 노즐(30)을 30d로 표시된 방향으로 이동시키면서 약액을 피처리 기판(G)의 표면에 도포한다. 그리고, 미리 정해진 수의 피처리 기판의 약액 도포 공정을 마치면, 기판 지지대(10)로부터 멀리 떨어진 노즐 세정 기구(40)로 이동하여 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)를 세정한다.1 is a view schematically showing a conventional substrate coater apparatus. As shown in FIG. 1, the conventional substrate coater apparatus includes a nozzle having a discharge port corresponding to the width of the substrate G in a state where the substrate G is mounted on the substrate support 10. The chemical liquid is applied to the surface of the substrate G to be processed while moving 30) in the direction indicated by 30d. Then, after the predetermined number of chemical liquid application steps of the substrates to be processed are moved to the nozzle cleaning mechanism 40 away from the substrate support 10, the discharge port 30a of the slit nozzle 30 is cleaned.

여기서, 기판 지지대(10)은 유리 기판(G)을 안착시키기 위해 통상 유리 기판보다 큰 직사각형 형상으로 형성되고, 상부에는 진공 흡착을 위하여 진공 펌프와 연통된 다수개의 진공홀(미도시)이 형성되어 있다. 예비 토출부(20)는 기판 지지대(10)의 일측에 마련되는 데, 세정조(24)와 상기 세정조(24) 내에 회전 가능하게 설치된 원통형의 프라이밍 롤러(22)로 구성된다. 세정조(24)에는 시너 등의 세정액이 채워져 프라이밍 롤러(22)가 회전하면서 침지되어 세정되고, 상기 세정조(24)의 상부의 개구를 통하여 프라이밍 롤러(22)의 상부가 외부로 노출된다. Here, the substrate support 10 is formed in a rectangular shape larger than the glass substrate in order to seat the glass substrate (G), a plurality of vacuum holes (not shown) in communication with the vacuum pump for the vacuum adsorption is formed thereon have. The preliminary discharge part 20 is provided on one side of the substrate support 10, and is composed of a cleaning tank 24 and a cylindrical priming roller 22 rotatably installed in the cleaning tank 24. The cleaning tank 24 is filled with a cleaning liquid such as thinner, and the priming roller 22 is immersed while rotating, and the upper portion of the priming roller 22 is exposed to the outside through an opening in the upper portion of the cleaning tank 24.

그리고, 노즐 세정 기구(40)는 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변의 노즐 표면(30s)과 마주보는 대략 'V'자 형상의 대향면이 구비된 세정 몸체(41)가 도면부호 40d로 표시된 방향으로 이동하면서 토출구 주변에 묻은 이물질과 약액을 제거한다. 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)로부터 제거되는 이물질과 약액은 트래이(42)에 의해 수거된다.The nozzle cleaning mechanism 40 includes a cleaning body 41 having an opposing surface having a substantially 'V' shape facing the nozzle surface 30s around the discharge port 30a of the slit nozzle 30. Remove foreign substances and chemicals around the discharge port while moving in the direction indicated by. The foreign matter and the chemical liquid removed from the discharge port 30a of the slit nozzle 30 are collected by the tray 42.

기판 지지대(10) 상측에는 기판 지지대(10)의 길이 방향(30d)으로 이동 가능한 노즐(30)이 예비 토출부(20) 및 기판 지지대(10)의 상부를 수평 이동하면서 피처리 기판(G)에 포토레지스트 등의 약액을 도포한다. On the substrate support 10, the nozzle 30 movable in the longitudinal direction 30d of the substrate support 10 moves the preliminary discharge portion 20 and the upper portion of the substrate support 10 while horizontally moving the substrate G to be processed. Chemical liquids, such as photoresist, are apply | coated to this.

상기와 같이 구성된 기판 코터 장치의 약액 도포 공정을 거치기 이전에, 슬릿 노즐(30)은 프라이밍 롤러(22) 상에 약액을 약간 토출하는 것에 의하여 예비 토출 공정을 행한다. 프라이밍 롤러(22)의 외주면에 묻은 약액은 롤러(22)의 회전에 의해 세정조(24) 내의 세정액에 침지되면서 제거되고, 프라이밍 롤러(22)의 표면은 건조 에어(미도시)에 의해 건조되어 그 다음 예비 토출 공정을 행할 수 있는 준비가 완료된다. Before going through the chemical liquid application process of the substrate coater apparatus configured as described above, the slit nozzle 30 performs a preliminary ejection process by slightly discharging the chemical liquid on the priming roller 22. The chemical liquid on the outer circumferential surface of the priming roller 22 is removed while being immersed in the cleaning liquid in the cleaning tank 24 by the rotation of the roller 22, and the surface of the priming roller 22 is dried by dry air (not shown). Then, preparation for carrying out the preliminary ejection step is completed.

상기와 같은 예비 토출을 마친 후, 슬릿 노즐(30)은 약액 코팅을 행한다. 피처리 기판(G)의 표면에 약액을 1회 내지 수회를 도포하면, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변 양측의 노즐 측면(30s)에는 약액 등의 이물질이 묻게 된다. 따라서, 미리 정해진 수의 피처리 기판(G)에 대하여 약액 도포 공정을 마치면, 노즐 세정 기구(40)에 의해 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)의 양측면에 묻은 이물질을 제거하는 공정을 거친다.After completing the preliminary discharge as described above, the slit nozzle 30 performs chemical coating. When the chemical liquid is applied to the surface of the substrate G to be processed once or several times, foreign substances such as chemical liquid are deposited on the nozzle side surfaces 30s on both sides of the discharge port 30a of the slit nozzle 30. Therefore, when the chemical liquid application process is completed with respect to the predetermined number of to-be-processed board | substrates G, the nozzle cleaning mechanism 40 goes through the process of removing the foreign matter which arose on both sides of the discharge port 30a of the slit nozzle 30. FIG.

이 때, 슬릿 노즐(30)의 토출구 주변의 세정은 대한민국 등록특허공보 제10-642666호에 개시된 도2의 세정 기구에 의해 이루어질 수 있다. 즉, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변을 따라 세정 몸체(41)가 이동하는 동안에, 세정 몸체로부터 세정액과 가스가 노즐 측면(30s)을 향하여 거의 수직으로 분사하는 것에 의해 슬릿 노즐(30)의 토출구 주변의 노즐 측면(30s)을 세정한다. 그러나, 이와 같은 세정 방법은 슬릿 노즐(30)의 노즐 측면(30s)에 닿는 세정액과 가스의 압력이 높아 세정이 원활히 이루어질 것 같지만, 노즐 측면(30s)에 도포된 세정액이 가스에 의해 사방으로 번지므로, 이미 세정 몸체(41)가 지나친 노즐 측면(30s)에도 이물질이 남게되는 문제가 야기되었다. 이에 따라, 이와 같이 구성된 노즐 세정 기구는 세정 몸체(41)가 토출구를 따라 한번 이동하는 것에 의해서는 충분히 세정할 수 없는 문제가 있었다.
At this time, the cleaning around the discharge port of the slit nozzle 30 may be performed by the cleaning mechanism of Figure 2 disclosed in the Republic of Korea Patent Publication No. 10-642666. That is, while the cleaning body 41 is moved around the discharge port 30a of the slit nozzle 30, the cleaning liquid and gas are sprayed from the cleaning body toward the nozzle side surface 30s almost vertically, thereby slit nozzle 30 The nozzle side surface 30s around the discharge port of () is cleaned. However, in this cleaning method, since the pressure of the cleaning liquid and gas touching the nozzle side 30s of the slit nozzle 30 is high, the cleaning is likely to be performed smoothly, but the cleaning liquid applied to the nozzle side 30s is swept in all directions by the gas. Therefore, the problem that foreign matters remain in the nozzle side 30s which has already passed the cleaning body 41 has been caused. Accordingly, the nozzle cleaning mechanism configured as described above has a problem that the cleaning body 41 cannot be sufficiently cleaned by moving the cleaning body 41 once along the discharge port.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 비접촉 방식으로 세정하면서도 주변에 오염된 세정액이 튀는 것을 방지하여 노즐 표면의 2차 오염을 방지하여 보다 깨끗하게 세정할 수 있으면서, 작업 환경을 청결하고 친환경적으로 유지할 수 있는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 이를 이용한 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the above problems, while cleaning the surroundings of the discharge port of the slit nozzle in a non-contact manner while preventing the contaminated cleaning solution from splashing around to prevent secondary contamination of the nozzle surface can be cleaned more cleanly, It is an object of the present invention to provide a cleaning mechanism of a slit nozzle capable of maintaining a clean and environmentally friendly working environment and a cleaning method using the same.

또한, 본 발명은 슬릿 노즐의 토출구 주변을 비접촉 방식으로 세정 몸체가 슬릿 노즐의 토출구를 따라 1회만 이동하더라도 깨끗하게 토출구 주변의 노즐 측면을 세정할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention to clean the nozzle side around the discharge port even if the cleaning body moves only once along the discharge port of the slit nozzle in a non-contact manner around the discharge port of the slit nozzle.

무엇보다도, 본 발명의 목적은 세정액으로 오염된 노즐 측면을 분사하는 동안에 그리고 노즐 측면으로부터 세정액을 건조시키기 위해 세정액을 불어내는 동안에, 오염된 세정액이 주변으로 튀어 노즐 측면에 2차 오염이 발생되는 것을 근본적으로 방지함으로써 보다 깨끗하게 노즐 측면을 세정할 수 있을 뿐만 아니라 세정 효율을 보다 향상시키는 것이다. Above all, it is an object of the present invention that during the spraying of the nozzle side contaminated with the cleaning liquid and during the blowing of the cleaning liquid from the nozzle side, the contaminated cleaning liquid will bounce to the periphery to generate secondary contamination on the nozzle side. By fundamentally preventing, the nozzle side can be cleaned more cleanly and the cleaning efficiency is further improved.

그리고, 본 발명은 세정액이 작업자 및 작업 환경에 차단되도록 함으로써, 인체에 유해한 시너 등의 세정액에 작업자가 접촉할 가능성을 배제하여 친환경적이면서 청결한 작업 환경을 구현하는 것을 다른 목적으로 한다.
In addition, the present invention is to block the cleaning liquid to the worker and the working environment, to remove the possibility of the operator contacting the cleaning liquid, such as thinner, which is harmful to the human body to implement an environmentally friendly and clean working environment for another object.

본 발명은 상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 슬릿 노즐의 토출구 주변을 세정하는 세정 기구로서, 상기 토출구 양측의 노즐 측면과 대향하는 대향면이 구비되고, 상기 슬릿 노즐로부터 이격되어 상기 토출구를 따라 이동하는 세정 몸체와; 상기 노즐 측면을 향하여 세정액을 분사하고, 상기 대향면에 형성된 세정액 분사구와; 상기 노즐 측면을 세정한 오염된 세정액을 수집하도록 상기 대향면에 부압이 작용하고, 상기 대향면에 형성된 세정액 흡입구를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구를 제공한다.The present invention is a cleaning mechanism for cleaning the periphery of the discharge port of the slit nozzle, in order to achieve the above object, is provided with opposing surfaces facing the nozzle side on both sides of the discharge port, spaced apart from the slit nozzle along the discharge port A moving cleaning body; A cleaning liquid injection port for spraying a cleaning liquid toward the nozzle side, and formed on the opposite surface; A negative pressure acting on the opposing surface to collect the contaminated washing liquid cleaning the nozzle side, and a cleaning liquid suction port formed on the opposing surface; It provides a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that it comprises a.

이는, 슬릿 노즐의 측면에 세정액을 분사하여 노즐 측면에 묻어 있는 약액을 제거하는 과정에서, 분사된 세정액이 노즐 표면의 약액 등의 이물질을 함유한 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구로 흡입하여 외부로 배출함으로써, 슬릿 노즐의 측면을 세정액이 세정하는 과정에서 외부로 누출되지 않고 곧바로 회수되어 오염된 세정액이 외부로 비산되어 슬릿 노즐의 측면 및 주변을 2차 오염시키는 것을 방지하기 위함이다. In the process of spraying the cleaning liquid on the side of the slit nozzle to remove the chemical liquid on the side of the nozzle, the sprayed cleaning liquid immediately sucks the contaminated cleaning liquid containing foreign substances such as the chemical liquid on the nozzle surface through the cleaning liquid suction port and discharges it to the outside. By doing so, the side surface of the slit nozzle is not immediately leaked to the outside in the process of cleaning the cleaning liquid, so that the contaminated cleaning liquid is scattered to the outside to prevent secondary contamination of the side and the surroundings of the slit nozzle.

따라서, 슬릿 노즐의 측면에 오염된 세정액이 튀어 2차 오염되는 것을 방지할 수 있으므로, 본 발명은 노즐 몸체를 1회만 노즐의 토출구를 따라 이동시키면서 세정하는 것에 의하여, 노즐 측면을 깨끗하게 세정할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.Therefore, since the cleaning liquid contaminated on the side of the slit nozzle can be prevented from being secondary polluted, the present invention can clean the nozzle side by cleaning the nozzle body while moving along the discharge port of the nozzle only once. Advantageous effects can be obtained.

더욱이, 세정액은 시너 등 인체에 유해한 물질로 이루어지므로 종래에는 주변으로 비산하는 세정액에 의하여 작업자의 건강에 악영향을 미치는 문제가 있었지만, 노즐 측면을 세정한 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구를 통해 회수함에 따라, 작업자 및 주변 환경에 인체에 유해한 물질이 비산하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 종래에 비하여 보다 친환경적인 작업 환경을 구현할 수 있다.Moreover, since the cleaning liquid is made of a substance harmful to the human body such as thinner, there has been a problem that the cleaning liquid scattered to the surroundings adversely affects the health of the worker. However, as the contaminated cleaning liquid which has cleaned the side of the nozzle is immediately recovered through the cleaning liquid suction port, This prevents the release of substances harmful to the human body to the worker and the surrounding environment. Therefore, it is possible to implement a more environmentally friendly working environment than the conventional.

무엇보다도, 본 발명은 상기 세정액 분사구와 상기 세정액 흡입구를 감싸는 형태로 고압의 압축 기체를 분사하여 상기 대향면과 상기 노즐 측면의 사이에 에어 커튼을 형성하는 압축기체 분사구를 추가적으로 포함한다. 이에 의하여, 노즐 표면에 분사된 세정액이 주변으로 비산하는 것을 완전히 차단함으로써, 2차 오염을 근본적으로 방지할 수 있으며 보다 친환경적인 작업 환경을 갖출 수 있게 된다. Above all, the present invention further includes a compressor body injection port for forming an air curtain between the opposing surface and the nozzle side by injecting a high pressure compressed gas in a form surrounding the cleaning liquid injection port and the cleaning liquid suction port. As a result, by completely preventing the cleaning liquid sprayed on the nozzle surface from scattering to the surroundings, secondary contamination can be fundamentally prevented and a more environmentally friendly working environment can be provided.

이 때, 상기 세정액 흡입구는 상기 세정액 분사구의 중앙부에 위치하고, 상기 세정액 분사구는 상기 세정액 흡입구를 향하여 경사지게 상기 노즐 측면에 세정액을 분사하는 것이 좋다. 이를 통해, 세정액 분사구로부터 분사된 세정액이 노즐 표면의 특정 위치에 보다 집중하여 도달함에 따라, 노즐 측면에 묻은 이물질을 보다 효과적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 그 중앙부에 위치한 세정액 흡입구에서 오염된 세정액을 남김없이 보다 효과적으로 흡입하여 제거할 수 있다. At this time, the cleaning liquid suction port is located in the center of the cleaning liquid injection port, the cleaning liquid injection port is preferably sprayed on the nozzle side inclined toward the cleaning liquid suction port. As a result, as the cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid injection hole reaches more concentratedly at a specific position on the nozzle surface, it is possible not only to effectively remove foreign substances on the side of the nozzle, but also to leave the contaminated cleaning liquid at the cleaning liquid inlet located at the center thereof. Can be removed more effectively by suction.

그리고, 상기 세정액 분사구의 끝단은 상기 세정액 흡입구의 끝단보다 더 외향 위치하여, 분사된 세정액이 먼저 노즐 측면을 높은 분사압으로 가격하여 이물질을 노즐 표면으로부터 분리시키고, 그 중앙부에 작용하는 세정액 흡입구의 부압에 의해 오염된 세정액을 외부로 배출시키는 것에 의해 노즐 측면을 깨끗하게 세정할 수 있다.And, the end of the cleaning liquid injection port is located more outward than the end of the cleaning liquid suction port, the sprayed cleaning liquid first blows the nozzle side with a high injection pressure to separate foreign matter from the nozzle surface, the negative pressure of the cleaning liquid suction port acting on the center It is possible to clean the nozzle side by discharging the cleaning liquid contaminated by the outside to the outside.

이 때, 세정액 분사구는 세정액만을 노즐 측면을 향하여 분사할 수도 있지만, 상기 세정액 분사구는 압축 기체와 함께 고압으로 세정액을 분사할 수도 있다. 이를 통해, 세정액의 사용량을 줄이면서도 노즐 측면에 묻은 이물질을 보다 효과적으로 분리할 수 있다.At this time, the cleaning liquid injection port may inject only the cleaning liquid toward the nozzle side, but the cleaning liquid injection port may inject the cleaning liquid at a high pressure together with the compressed gas. Through this, it is possible to more effectively separate the foreign matter on the side of the nozzle while reducing the amount of cleaning solution used.

그리고, 상기 세정 몸체의 하측에는 상기 슬릿 노즐의 측면 세정에 사용된 세정액과 이물질을 수용하는 이동 트래이가 구비될 수 있다. 이에 의하여, 세정액 흡입구를 통해 배기되지 못한 세정액은 이동 트래이에 수거되어, 세정 중 또는 세정을 마친 후에 이동 트래이에 수거된 오염된 세정액을 제거할 수도 있다. 이에 의해, 오염된 세정액이 주변으로 비산하는 것을 보다 줄일 수 있다. 이 때, 이동 트래이에 모인 이물질과 사용된 세정액을 외부로 배출하는 배수 통로가 상기 이동 트래이로부터 연장될 수 있다.And, the lower side of the cleaning body may be provided with a moving tray for receiving the cleaning liquid and foreign matter used for cleaning the side of the slit nozzle. Thereby, the cleaning liquid that has not been exhausted through the cleaning liquid suction port may be collected in the moving tray to remove the contaminated cleaning liquid collected in the moving tray during or after cleaning. This makes it possible to further reduce the contaminated washing liquid from scattering to the surroundings. At this time, a drain passage for discharging the foreign matter collected in the moving tray and the used cleaning liquid to the outside may extend from the moving tray.

본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 "오염된 세정액"은 세정액 분사구에서 분사된 깨끗한 세정액이 노즐 측면의 이물질을 제거하면서 그 이물질을 함유한 상태로 정의하기로 한다.
The "contaminated cleaning liquid" described in the present specification and claims is defined as a state in which the clean cleaning liquid injected from the cleaning liquid injection port contains the foreign matter while removing the foreign matter on the side of the nozzle.

한편, 본 발명은, 피처리 기판을 지지하는 기판 스테이지와; 상기 기판 스테이지 상의 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 토출구에서 도포하는 슬릿 노즐과; 상기 슬릿노즐의 상기 토출구 양측의 노즐 표면을 세정하는 전술한 세정 기구를; 포함하여 구성된 기판 코터 장치를 제공한다.On the other hand, the present invention includes a substrate stage for supporting a substrate to be processed; A slit nozzle for applying a chemical liquid to a surface of the substrate to be processed on the substrate stage at a discharge port; A cleaning mechanism as described above for cleaning nozzle surfaces on both sides of the discharge port of the slit nozzle; It provides a substrate coater device configured to include.

그리고, 발명의 다른 분야에 따르면, 본 발명은, 전술한 슬릿 노즐의 토출구 양측의 노즐 표면의 세정 방법으로서, 상기 세정 몸체를 상기 슬릿 노즐의 토출구의 슬릿 방향을 따라 세정 몸체 이동시키는 단계와; 상기 세정 몸체를 이동시키면서 상기 세정액 분사구로부터 상기 노즐 표면을 향하여 세정액을 분사하는 세정액 분사단계와; 상기 세정액 분사단계와 동시에 상기 세정액 흡입구로부터 상기 노즐 표면으로부터 오염된 세정액을 흡입하는 세정액 흡입단계를; 포함하여, 상기 세정 몸체가 상기 토출구의 슬릿 방향을 따라 이동하면서 상기 노즐 표면을 세정하는 슬릿 노즐의 세정 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a cleaning method of nozzle surfaces on both sides of a discharge port of a slit nozzle, the method comprising: moving the cleaning body along a slit direction of a discharge port of the slit nozzle; A washing liquid spraying step of spraying the washing liquid from the washing liquid spraying hole toward the nozzle surface while moving the washing body; A cleaning liquid suction step of sucking the contaminated cleaning liquid from the nozzle surface from the cleaning liquid suction port at the same time as the cleaning liquid spraying step; Including, the cleaning body provides a cleaning method of the slit nozzle for cleaning the nozzle surface while moving along the slit direction of the discharge port.

이 때, 상기 세정액 분사구의 둘레를 둘러싸는 에어커튼을 형성하도록 고압의 가스를 압축기체 분사구로부터 폐단면의 형태의 압축 기체를 분사하는 에어커튼 형성단계를; 상기 세정액 분사단계를 개시하기 이전부터 상기 세정액 분사단계를 행하는 동안 내내 행함으로써, 노즐 측면으로 분사된 세정액이 주변으로 비산하지 않고 세정액 흡입구를 통해 모두 회수될 수 있게 된다.At this time, the air curtain forming step of injecting the compressed gas in the form of a closed cross-section from the high pressure gas from the compressor body injection port to form an air curtain surrounding the cleaning liquid injection port; By performing the cleaning liquid spraying step from before starting the cleaning liquid spraying step, the cleaning liquid sprayed to the nozzle side can be recovered through the cleaning liquid suction port without scattering to the surroundings.

본 특허청구범위 및 명세서에 기재된 '동심'이라는 용어는 그 중심이 일치한다는 의미로 정의한다. 따라서, '동심'이 되기 위한 요건으로서 반드시 원형 형상으로 형성될 필요가 없으며(원형 형상의 동심은 '동심원' 형태임), 동심을 이루는 형상이 모두 동일한 형태(예컨대, 원형, 사각형 등)로 형성될 필요가 없다. 예를 들어, 세정 기구의 세정액 분사구는 원형으로 형성되고 세정액 유입구는 사각형으로 형성되더라도 이들의 중심이 일치한다면, 이들은 '동심'인 상태가 된다.
The term 'concentric' described in the claims and the specification is defined to mean that the center is coincident. Therefore, it is not necessary to be formed in a circular shape as a requirement to be 'concentric' (concentric concentric circles are 'concentric circles'), and all concentric shapes are formed in the same shape (for example, circular, square, etc.). Need not be. For example, even if the cleaning liquid injection port of the cleaning mechanism is formed in a circular shape and the cleaning liquid inlet is formed in a square shape, if their centers coincide, they become 'concentric'.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명은 슬릿 노즐의 토출구 주변의 양측면을 세정함에 있어서, 슬릿 노즐의 양 측면을 향하여 세정액 분사구로부터 분사된 세정액이 노즐 표면에 묻은 약액 등의 이물질을 표면으로부터 분리시켜 세정액이 이물질을 함유하게 된 상태에서, 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구로 흡입하여 외부로 배출시킴으로써, 슬릿 노즐의 측면을 세정액이 세정하는 과정에서 외부로 누출되지 않고 곧바로 회수되어 오염된 세정액이 외부로 비산되어 슬릿 노즐의 측면 및 주변을 2차 오염시키는 것을 방지할 수 있는 슬릿 노즐의 세정 기구 및 그 방법을 제공한다.As described above, in the present invention, in cleaning both sides around the discharge port of the slit nozzle, the cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid injection port toward both sides of the slit nozzle is separated from the surface such as a chemical liquid such as a chemical liquid on the nozzle surface and the cleaning liquid is foreign matter. In this state, the contaminated cleaning liquid is immediately sucked into the cleaning liquid suction port and discharged to the outside, so that the side of the slit nozzle is recovered immediately without being leaked to the outside in the process of cleaning the cleaning liquid, and the contaminated cleaning liquid is scattered to the outside and the slit. Provided are a cleaning mechanism and a method of a slit nozzle capable of preventing secondary contamination of the side and periphery of the nozzle.

이를 통해, 본 발명은 슬릿 노즐의 측면에 오염된 세정액이 튀어 2차 오염되는 것을 방지할 수 있으므로, 노즐 몸체를 1회만 노즐의 토출구를 따라 이동시키면서 세정하는 것에 의하여 노즐 측면을 보다 깨끗하게 세정할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.In this way, the present invention can prevent the contamination of the cleaning liquid contaminated on the side of the slit nozzle to prevent secondary contamination, it is possible to clean the nozzle side by cleaning the nozzle body by moving along the discharge port of the nozzle only once. That can achieve the beneficial effect.

이와 같이, 본 발명은 세정 몸체가 슬릿 노즐의 토출구의 슬릿 방향(토출구가 형성된 방향)을 따라 1회만 이동하면서 세정하더라도, 이물질과 세정액이 노즐 측면에 남지않고 깨끗하게 세정할 수 있으므로, 슬릿 노즐의 토출구 주변의 측면 세정에 소요되는 시간을 단축하여 피처리 기판의 약액 도포의 공정 효율을 보다 향상시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. As described above, even if the cleaning body is cleaned while moving only once along the slit direction (the direction in which the discharge port is formed) of the discharge port of the slit nozzle, the foreign matter and the cleaning liquid can be cleaned without remaining on the side of the nozzle, so that the discharge port of the slit nozzle An advantageous effect of shortening the time required to clean the surrounding side can be further improved the process efficiency of chemical liquid coating of the substrate to be processed.

무엇보다도, 본 발명은 고압기체 분사구를 통해 고압의 압축 기체를 분사하여 상기 세정액 분사구로와 상기 세정액 흡입구를 감싸는 에어 커튼을 형성함으로써, 노즐 표면에 분사된 세정액이 주변으로 비산하는 것을 완전히 차단되고 오염된 세정액을 세정액 흡입구를 통해 전부 수거함으로써, 2차 오염을 근본적으로 방지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.Above all, the present invention sprays high-pressure compressed gas through the high-pressure gas injection port to form an air curtain surrounding the cleaning liquid injection port and the cleaning liquid suction port, thereby completely preventing the cleaning liquid sprayed on the nozzle surface from scattering to the surroundings and contaminating it. By collecting all the used cleaning liquid through the cleaning liquid suction port, it is possible to obtain an advantageous effect of fundamentally preventing secondary contamination.

그리고, 본 발명은 종래의 비접촉식 세정 기구에서 세정액으로 노즐 측면을 세정한 이후에 건조 압축 공기를 불어내는 공정이 필요하지 않을 뿐만 아니라, 종래에 건조 압축 공기를 불어내는 과정에서 오염된 세정액이 노즐 측면의 이미 세정된 영역으로 옮겨져 3차 오염이 발생하는 문제점을 해소한 잇점도 얻어진다. In addition, the present invention does not require a step of blowing dry compressed air after cleaning the nozzle side with the cleaning liquid in the conventional non-contact cleaning mechanism, and the cleaning liquid contaminated in the process of blowing the dry compressed air in the conventional nozzle side The advantage of eliminating the problem of tertiary contamination by moving to the already cleaned area is also obtained.

또한, 본 발명은, 인체에 유해한 물질인 시너 등으로 이루어진 세정액이 에어 커튼에 의하여 외부로 비산될 가능성이 완전히 배제되고, 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구를 통해 전부 회수함에 따라, 종래에 비하여 훨씬 더 친환경적인 작업 환경을 구현할 수 있다.In addition, the present invention completely eliminates the possibility that the cleaning liquid made of thinner or the like which is harmful to the human body is scattered to the outside by the air curtain, and recovers all of the contaminated cleaning liquid directly through the cleaning liquid suction port, which is much more than in the related art. An environmentally friendly working environment can be realized.

그리고, 본 발명은 오염된 세정액이 주변으로 튀어 발생되는 2차 오염 및 3차 오염을 방지하여 보다 깨끗하게 노즐 측면을 세정할 수 있게 됨에 따라, 슬릿 노즐의 측면이 보다 확실하게 세정됨에 따라 오염 물질로 인한 코팅 품질의 저하 현상을 방지하여 보다 높은 품질의 코팅을 구현하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
In addition, the present invention prevents secondary and tertiary contamination caused by contaminated cleaning solution splashing to the periphery, so that the nozzle side can be cleaned more cleanly. It is possible to prevent the deterioration of the coating quality due to the advantageous effect of achieving a higher quality coating.

도1은 종래의 일반적인 기판 코터 장치의 구성을 도시한 개략 사시도
도2는 도1에 적용될 수 있는 종래의 노즐 세정 기구의 구성을 도시한 도면
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 세정 기구를 도시한 사시도
도4는 도3의 세정 몸체 및 그 주변 구성을 도시한 도면
도5a는 도4의 절단선 A-A에 따른 단면도
도5b는 도4의 절단선 B-B에 따른 단면도
도5c는 도4의 'C'부분의 확대도
도6은 본 발명의 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 단면도
도7은 본 발명의 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 외형도
도8은 본 발명의 또 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 사시도
도9는 본 발명의 또 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 사시도
1 is a schematic perspective view showing the structure of a conventional general substrate coater apparatus
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a conventional nozzle cleaning mechanism that can be applied to FIG.
Figure 3 is a perspective view showing a cleaning mechanism of the slit nozzle according to an embodiment of the present invention
4 is a view showing the cleaning body and its surrounding configuration of FIG.
5A is a cross-sectional view along the cutting line AA of FIG.
FIG. 5B is a cross-sectional view along the cutting line BB of FIG. 4
FIG. 5C is an enlarged view of portion 'C' of FIG. 4
Fig. 6 is a sectional view showing a cleaning body of another embodiment of the present invention.
7 is an external view showing a cleaning body according to another embodiment of the present invention.
Figure 8 is a perspective view showing a cleaning body of another embodiment of the present invention
Figure 9 is a perspective view showing a cleaning body of another embodiment of the present invention

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐(30)의 세정 기구(100)를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.Hereinafter, the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle 30 according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail to avoid obscuring the subject matter of the present invention.

도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 세정 기구를 도시한 사시도, 도4는 도3의 세정 몸체 및 그 주변 구성을 도시한 도면, 도5a는 도4의 절단선 A-A에 따른 단면도, 도5b는 도4의 절단선 B-B에 따른 단면도, 도5c는 도4의 'C'부분의 확대도, 도6은 본 발명의 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 단면도, 도7은 본 발명의 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 외형도, 도8은 본 발명의 또 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 사시도, 도9는 본 발명의 또 다른 실시 형태의 세정 몸체를 도시한 사시도이다.
Figure 3 is a perspective view showing a cleaning mechanism of the slit nozzle according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a view showing the cleaning body and its peripheral configuration of Figure 3, Figure 5a is a cross-sectional view along the cutting line AA of Figure 4 5B is a sectional view taken along the cutting line BB of FIG. 4, FIG. 5C is an enlarged view of a portion 'C' of FIG. 4, FIG. 6 is a sectional view showing a cleaning body according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a perspective view showing a cleaning body according to another embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a perspective view showing a cleaning body according to another embodiment of the present invention.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐(30)의 세정 기구(100)는, 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 양측의 노즐 측면(30s)과 대향하는 대향면(110s)이 구비되고 토출구(30a)를 따라 이동 구동되는 세정 몸체(110)와, 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 이동하면서 노즐 측면(30s)을 세정한 세정액을 수집하는 고정 트래이(120)와, 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 이동하면서 세정액을 분사하도록 세정 몸체(110)에 형성된 세정액 분사구(130)와, 세정액 분사구(130)의 중앙부에 형성되어 오염된 세정액을 회수하여 배출시키는 세정액 흡입구(140)와, 세정액 분사구(130)의 둘레를 동심원 형태로 감싸 압축 가스를 노즐 측면을 향해 분사하는 압축가스 분사구(150)를 구비한다.
As shown in the figure, the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle 30 according to an embodiment of the present invention, the opposite surface facing the nozzle side surface 30s on both sides of the discharge port 30a of the slit nozzle 30 Fixed tray for collecting the cleaning body 110 is provided and the cleaning body 110 that is driven to move along the discharge port (30a) and the cleaning body 110 to clean the nozzle side (30s) while moving along the discharge port (30a) The cleaning liquid injection port 130 formed in the cleaning body 110 to spray the cleaning liquid while the cleaning body 110 moves along the discharge port 30a, and the cleaning liquid is formed at the central portion of the cleaning liquid injection port 130 and is contaminated. It is provided with a cleaning liquid suction port 140 for collecting and discharging the discharge, and a compressed gas injection port 150 for injecting compressed gas toward the nozzle side by wrapping the circumference of the cleaning liquid injection port 130 in a concentric manner.

상기 세정 몸체(110)는 도4에 도시된 바와 같이 슬릿 노즐(30)의 노즐 표면(30s)과 마주보는 대향면(110s)이 구비되어 대략 'V'자 형상의 단면으로 형성된다. 이때, 대향면(110s)은 노즐 측면(30s)과 대략 1mm 내지 3mm의 협소한 간격(d)을 두고 위치한다. 슬릿 노즐(30)의 양 측면(30s)을 향하는 세정 몸체(110)의 대향면에는 세정액 분사구(130)와, 세정액 흡입구(140)와, 압축가스 분사구(150)가 설치된다.As shown in FIG. 4, the cleaning body 110 is provided with an opposing surface 110s facing the nozzle surface 30s of the slit nozzle 30 to have a substantially 'V' shaped cross section. At this time, the opposing surface 110s is positioned at a narrow distance d between the nozzle side surface 30s and about 1 mm to 3 mm. The cleaning liquid injection port 130, the cleaning liquid suction port 140, and the compressed gas injection port 150 are provided on opposite surfaces of the cleaning body 110 facing both side surfaces 30s of the slit nozzle 30.

세정 몸체(110)에는 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변의 양측면(30s)을 세정하면, 노즐 측면(30s)으로부터 떼어낸 약액 등의 이물질이 함유된 오염된 세정액은 세정액 흡입구(140)에 작용하는 부압에 의해 흡입되어 외부로 전부 배출된다. 다만, 압축가스 분사구(150)에 의해 에어 커튼(150a)이 형성되는 것에 오작동이 있는 경우에는 모든 오염된 세정액이 세정액 흡입구(140)를 통해 흡입되어 배출되지 않을 수 있으므로, 오염된 세정액을 수집하는 이동 트래이(115)가 대향면(110s)의 사이에 요입 형성되어 구비된다. 이에 의해, 세정 몸체(110)가 이동하면서 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)을 세정하면서 흡입되어 배출되지 못한 오염된 세정액은 이동 트래이(115)에 수집된다. When the cleaning body 110 cleans both side surfaces 30s around the discharge port 30a of the slit nozzle 30, the contaminated cleaning liquid containing foreign matter such as a chemical liquid removed from the nozzle side 30s may be the cleaning liquid suction port 140. It is sucked by the negative pressure acting on and discharged to the outside. However, if there is a malfunction in the air curtain (150a) is formed by the compressed gas injection port 150, all the contaminated cleaning liquid may be sucked through the cleaning liquid inlet 140 and may not be discharged, thereby collecting the contaminated cleaning liquid The movement tray 115 is recessed and provided between the opposing surfaces 110s. Thereby, the contaminated cleaning liquid that is not sucked and discharged while cleaning the side surfaces 30s of the slit nozzle 30 while the cleaning body 110 moves is collected in the movement tray 115.

슬릿 노즐(30)의 측면(30s)의 세정이 완료되면 이동 트래이(115)와 연통 설치된 배수 통로(115p)를 통해 이동 트래이(115)에 수집된 오염된 세정액 및 이물질은 외부로 배출된다. 이를 위하여, 도면에 도시되지 않았지만, 배수 통로(115p)에는 펌프가 설치된다. When the cleaning of the side surface 30s of the slit nozzle 30 is completed, the contaminated cleaning liquid and foreign matter collected in the moving tray 115 are discharged to the outside through the drainage passage 115p installed in communication with the moving tray 115. For this purpose, although not shown in the figure, a pump is installed in the drain passage 115p.

세정 몸체(110)가 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)를 따라 이동하면서 세정하는 동안 이동 트래이(115)에 모인 오염된 세정액이 하측의 고정 트래이(120)에 떨어지는 것을 방지하기 위하여, 이동 트래이(115)의 양단에는 이동 트래이(115)의 경계벽 높이를 더 높게 하는 보조 브라켓(미도시)이 부착될 수 있다.
In order to prevent the contaminated cleaning liquid collected in the moving tray 115 from falling into the lower fixing tray 120 while the cleaning body 110 moves along the discharge port 30a of the slit nozzle 30, the cleaning tray 110 may move to the lower fixing tray 120. An end bracket (not shown) may be attached to both ends of the 115 to make the height of the boundary wall of the moving tray 115 higher.

상기 고정 트래이(120)는 세정 몸체(110)의 이동 트래이(115)에 수집된 오염된 세정액이 세정 공정 중에 일부 떨어지는 것을 수집하기 위하여, 세정 몸체(110)의 이동 경로에 걸쳐 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)의 방향을 따라 길게 형성된다. 도면에는 세정 몸체(110)에 이동 트래이(115)가 형성되고 그 하측에 고정 트래이(120)가 함께 설치된 구성을 예로 들었지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면 이동 트래이(115)와 고정 트래이(120) 중 어느 하나만 설치될 수도 있다.The fixed tray 120 is a slit nozzle 30 over the movement path of the cleaning body 110 in order to collect some of the contaminated cleaning liquid collected in the moving tray 115 of the cleaning body 110 during the cleaning process. It is formed long along the direction of the discharge port (30a) of the. In the drawings, the moving tray 115 is formed on the cleaning body 110 and the fixing tray 120 is installed at the lower side thereof as an example, but according to another embodiment of the present invention, the moving tray 115 and the fixing tray 120 are provided. Only one of) may be installed.

상기 세정액 분사구(130)는 세정 몸체(110)가 슬릿 노즐(30)을 세정할 때 세정액 공급부(132)로부터 깨끗한 세정액을 세정액 공급관(130p)을 통해 공급받아 고압의 세정액을 분사한다. 세정액은 통상적으로 알려진 시너 등을 사용할 수 있다. 적은 세정액으로 보다 높은 이물질 제거 효율을 얻기 위하여 혼합 챔버(130c)에서 질소 등의 압축 가스와 혼합되어 분사될 수도 있다. 세정액(130w)은 슬릿 노즐(30)의 측면(30s)에 수직 방향으로 분사되어, 가장 큰 타격력을 갖고 슬릿 노즐(30)의 양 측면(30s)에 묻은 약액 등의 이물질을 측면(30s)으로부터 효과적으로 분리시킨다. When the cleaning body 110 cleans the slit nozzle 30, the cleaning liquid injection port 130 receives a clean cleaning liquid from the cleaning liquid supply unit 132 through the cleaning liquid supply pipe 130p and injects a high pressure cleaning liquid. As the cleaning liquid, commonly known thinners and the like can be used. In order to obtain higher foreign matter removal efficiency with less cleaning liquid, the mixing chamber 130c may be mixed with a compressed gas such as nitrogen and injected. The cleaning liquid 130w is sprayed in a direction perpendicular to the side surface 30s of the slit nozzle 30, so that foreign matter such as a chemical liquid that has the greatest impact force and adheres to both side surfaces 30s of the slit nozzle 30 from the side surface 30s. Effective separation

세정액 흡입구(140)는 세정액 분사구(130)의 중앙에 위치하여 세정액 흡입부(142)에 의해 진공 또는 부압으로 흡입관(140p)을 통해 노즐 측면(30s)의 세정을 마친 오염된 세정액을 140d로 표시된 방향으로 흡입하여 외기로 배출시킨다. 이와 같이, 세정액 흡입구는 노즐 측면(30s)의 세정을 마친 오염된 세정액을 곧바로 외기로 배출시킴에 따라, 오염된 세정액이 주변으로 비산되어 2차 오염을 야기하고, 또한 노즐 측면(30s)에 남아있는 오염된 세정액을 고압의 압축 건조 공기로 불어내는 과정에서 3차 오염을 야기하였던 문제를 일거에 해결할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. The cleaning liquid inlet 140 is positioned at the center of the cleaning liquid injector 130 to display the contaminated cleaning liquid 140d after cleaning the nozzle side 30s through the suction pipe 140p by vacuum or negative pressure by the cleaning liquid suction unit 142. Inhale in the direction and discharge to the outside. In this way, as the cleaning liquid suction port immediately discharges the contaminated cleaning liquid that has been cleaned on the nozzle side 30s to the outside, the contaminated cleaning liquid scatters to the surroundings, causing secondary contamination, and also remains on the nozzle side 30s. In the process of blowing the contaminated cleaning solution with high-pressure compressed air, it is possible to obtain an effect that can solve the problem that caused the tertiary contamination at one time.

한편, 도5a에 도시된 바와 같이 세정액 분사구(130)은 끝단이 그 중앙에 위치한 세정액 흡입구(140)를 향하여 모아진 형태로 경사지게 형성됨에 따라, 세정하고자 하는 노즐 측면(30s)에 세정액을 130d로 표시된 방향으로 집중하여 분사하게 되므로, 고착된 이물질도 손쉽게 제거할 수 있는 잇점을 얻을 수 있다. 그리고, 세정액 흡입구(140)를 중심으로 세정액이 모아진 형태로 분사되므로, 진공 내지 부압이 작용하는 세정액 흡입구(140)를 통해 오염된 세정액을 손쉽게 흡입하여 배출시킬 수 있는 장점이 얻어진다. Meanwhile, as shown in FIG. 5A, the cleaning liquid injection hole 130 is formed to be inclined in a form in which the end is collected toward the cleaning liquid intake port 140 located at the center thereof, and the cleaning liquid is indicated as 130d on the nozzle side 30s to be cleaned. Since the spray is concentrated in the direction, it is possible to obtain an advantage that can easily remove the stuck foreign matter. Further, since the cleaning solution is sprayed around the cleaning solution suction port 140, the contaminated cleaning solution can be easily sucked and discharged through the cleaning solution suction port 140 under vacuum or negative pressure.

도면에는 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140)는 동심원 형태인 것을 예로 들었지만, 이들 중 어느 하나 이상의 형상은 삼각형, 사각형, 육각형 등의 다각형이나 타원형 등 다양한 형태로 형성될 수도 있다. 즉, 도7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 세정액 분사구(130")와 세정액 흡입구(140")는 사각형 형태로 형성될 수 있으며, 동시에 동심을 이룬다. 도5c 및 도7에는 세정액 분사구와 세정액 흡입구가 동심원 및 동심 사각형 형태로 형성된 구성을 예로 들었지만, 타원이나 그 밖의 다각형 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. 또한, 세정액 분사구와 세정액 흡입구는 서로 다른 형상으로 그 단면이 형성될 수도 있다.
In the drawings, the cleaning liquid injection port 130 and the cleaning liquid suction port 140 have been exemplarily concentric, but any one or more of these shapes may be formed in various shapes such as polygons or ellipses such as triangles, squares, and hexagons. That is, as shown in Figure 7, according to another embodiment of the present invention, the cleaning liquid injection port 130 "and the cleaning liquid suction port 140" may be formed in a square shape, and at the same time concentric. 5C and 7 illustrate the configuration in which the cleaning liquid jet port and the cleaning liquid suction port are formed in the form of concentric circles and concentric squares, but may be formed in various shapes such as ellipses or other polygons. In addition, the cross section of the cleaning liquid injection port and the cleaning liquid suction port may be formed in different shapes.

한편, 도6에 도시된 바와 같이, 세정액 흡입구(140')가 세정액 분사구(130')의 둘레를 감싸는 형태로 형성될 수도 있다(도5a 내지 도5c에 도시된 구성에 대응하는 구성에 대한 상세한 설명은 유사한 도면부호를 부여하고 이에 대한 상세한 설명은 생략함). 이는, 세정액 분사구(130')의 분사 영역이 도5a 내지 도5c에 도시된 세정액 분사구(130)에 비해 더 좁은 영역에 대해 세정액이 고압 분사되므로, 노즐의 측면을 보다 집중하여 좁은 영역에 대해 확실히 세정을 하고자 할 때 유용하다. Meanwhile, as shown in FIG. 6, the cleaning liquid suction port 140 ′ may be formed to surround the cleaning liquid injection port 130 ′ (the configuration corresponding to the configuration shown in FIGS. 5A to 5C). The description is given like reference numerals and detailed description thereof will be omitted). This is because the cleaning liquid is injected at a high pressure to a narrower area than the cleaning liquid injection port 130 shown in FIGS. 5A to 5C in the injection area of the cleaning liquid injection port 130 ', so that the side of the nozzle is more concentrated to ensure the narrow area. It is useful when you want to clean.

압축 기체 분사구(150)는 도5c에 도시된 바와 같이 원형 폐곡선 형태로 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140)를 감싸도록 형성될 수도 있지만, 세정액 분사구(140) 및 세정액 흡입구(140)를 감싸는 형태라면 다양한 폐곡선 형태로 형성될 수 있다. 그리고, 도8에 도시된 바와 같이, 압축 기체 분사구(150)내에 2쌍 이상의 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140)가 형성되어, 노즐 측면(30s)의 보다 넓은 영역에 걸쳐 세정 공정을 행하도록 할 수도 있으며, 도9에 도시된 바와 같이 노즐 측면(30s)의 위치별로 세정을 각각 행하기 위하여 각 대향면(110s)에는 높이(h1, h2, h3)를 달리하여 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140) 및 압축가스 분사구(150)가 배열될 수도 있다.The compressed gas injection hole 150 may be formed to surround the cleaning liquid injection port 130 and the cleaning liquid suction port 140 in a circular closed curve shape as shown in FIG. 5C, but may surround the cleaning liquid injection port 140 and the cleaning liquid suction port 140. If the shape can be formed in a variety of closed curve shape. As shown in FIG. 8, two or more pairs of the cleaning liquid injection ports 130 and the cleaning liquid suction ports 140 are formed in the compressed gas injection port 150 to perform the cleaning process over a wider area of the nozzle side surface 30s. As shown in FIG. 9, in order to perform cleaning for each position of the nozzle side surface 30s, each of the opposing surfaces 110s has different heights h1, h2, and h3 so that the cleaning liquid injection holes 130 may be separated from each other. The cleaning liquid suction port 140 and the compressed gas injection port 150 may be arranged.

압축기체 분사구(150)는 세정액 분사구(140)의 둘레를 감싸는 폐곡선 형태로 형성되어, 압축기체 공급부(152)에 의해 대기압보다 높은 1.5bar 내지 5bar의 압축 기체를 압축기체 공급관(150p)을 통해 공급받아 노즐 측면(30s)을 향하여 분사한다. 이 때, 압축 기체 분사구(150)는 세정액 분사구(130) 및 세정액 흡입구(140)와 동심으로 형성된다. 이에 의해, 압축기체 분사구(150)로부터 노즐 측면(30s)의 사이에는 외기와 차단시키는 에어 커튼(150a)이 형성되어, 세정액 분사구(130)로부터 분사되어 노즐 측면(30s)을 세정하는 세정액(130w)이 에어 커튼(150a)의 바깥으로 노출되는 것이 원천적으로 차단된다. Compressor injection hole 150 is formed in the form of a closed curve surrounding the circumference of the cleaning liquid injection port 140, the compressed gas supply unit 152 to supply the compressed gas of 1.5bar to 5bar higher than the atmospheric pressure through the compressor supply pipe 150p. It receives and sprays toward nozzle side 30s. At this time, the compressed gas injection port 150 is formed concentrically with the cleaning liquid injection port 130 and the cleaning liquid suction port 140. As a result, an air curtain 150a is formed between the compressor body injection port 150 and the nozzle side surface 30s to block outside air. The cleaning liquid 130w is injected from the cleaning liquid injection port 130 to clean the nozzle side surface 30s. ) Is originally blocked to be exposed to the outside of the air curtain (150a).

이 때, 도5a에 도시된 바와 같이 에어 커튼(150a)은 세정액 흡입구를 향하여 모아진 형태로 경사지게 압축 가스를 분사함으로써, 직경(150L)으로 둘러싸는 에어 커튼(150a)이 중앙부를 향하는 방향 성분을 가짐에 따라, 세정액(130w)이 에어 커튼(150a)의 바깥으로 누수되는 것이 보다 확실하게 방지될 뿐만 아니라, 압축 가스가 중앙을 향하여 유동함에 따라 세정액(130w)과 혼합되면서 노즐 표면(30s)의 이물질을 보다 효과적으로 분리시키는 효과를 얻을 수 있다. At this time, as shown in FIG. 5A, the air curtain 150a injects compressed gas in an inclined manner toward the cleaning liquid suction port, whereby the air curtain 150a surrounded by the diameter 150L has a direction component toward the center portion. Accordingly, the leakage of the cleaning liquid 130w to the outside of the air curtain 150a is more reliably prevented, and the foreign matter on the nozzle surface 30s is mixed with the cleaning liquid 130w as the compressed gas flows toward the center. It is possible to obtain the effect of separating the more effectively.

한편, 압축 기체 분사구(150)는 도5c에 도시된 바와 같이 원형 폐곡선 형태로 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140)를 감싸도록 형성될 수도 있지만, 세정액 분사구(140) 및 세정액 흡입구(140)를 감싸는 형태라면 다양한 폐곡선 형태로 형성될 수 있다. 그리고, 도7에 도시된 바와 같이, 압축 기체 분사구(150)내에 2쌍 이상의 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140)가 형성되어, 노즐 측면(30s)의 보다 넓은 영역에 걸쳐 세정 공정을 행하도록 할 수도 있으며, 노즐 측면(30s)의 위치별로 세정을 각각 행하기 위하여 각 대향면(110s)에는 높이(h1, h2, h3)를 달리하여 세정액 분사구(130)와 세정액 흡입구(140) 및 압축가스 분사구(150)가 배열될 수도 있다.Meanwhile, although the compressed gas injection hole 150 may be formed to surround the cleaning liquid injection port 130 and the cleaning liquid suction port 140 in a circular closed curve shape as shown in FIG. 5C, the cleaning liquid injection port 140 and the cleaning liquid suction port 140 may be formed. If it surrounds the form can be formed in a variety of closed curve shape. As shown in FIG. 7, two or more pairs of cleaning liquid injection holes 130 and a cleaning liquid suction port 140 are formed in the compressed gas injection port 150 to perform a cleaning process over a wider area of the nozzle side surface 30s. In order to perform cleaning for each position of the nozzle side surface 30s, each of the opposing surfaces 110s may have different heights h1, h2, and h3, so that the cleaning liquid jet port 130, the cleaning liquid suction port 140, and the compression are different. Gas injection holes 150 may be arranged.

압축가스 분사구(150)에 의해 분사되는 압축 가스는 1.5bar 내지 5bar의 대기압보다 높은 압력으로 가스를 분사하며, 공기, 질소 등 다양한 기체를 분사하여 외기와 차단할 수 있는 에어 커튼(150a)을 형성한다.
The compressed gas injected by the compressed gas injection port 150 injects the gas at a pressure higher than atmospheric pressure of 1.5 bar to 5 bar, and forms an air curtain 150a that can block air from various gases such as air and nitrogen. .

상기와 같이 구성된 슬릿 노즐의 세정 기구(100)를 이용하여 슬릿 노즐(30)의 양측면(30s)을 세정하는 공정은, 도1에 도시된 기판 코터 장치를 이용하여 피처리 기판(G)의 표면에 약액을 1회 내지 수회 도포하면, 슬릿 노즐(30)의 양측면(30s)에 약액 및 이물질이 묻게 된다. The process of cleaning both side surfaces 30s of the slit nozzle 30 using the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle configured as described above is performed by using the substrate coater device shown in FIG. When the chemical liquid is applied once or several times, the chemical liquid and foreign matter are buried on both side surfaces 30s of the slit nozzle 30.

이 때, 슬릿 노즐(30)을 노즐 세정 기구(100)가 위치한 곳으로 이동시킨 후, 세정 몸체(110)의 V자 단면의 중심과 토출구(30a)를 정렬시킨다. 그리고 나서, 세정 몸체(110)를 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)의 슬릿 방향(110d)을 따라 이동시킨다. 이 때, 압축가스 분사구(150)로부터 압축 가스가 노즐 측면(30s)에 분사되어, 세정 몸체(110)와 노즐 측면(30s)의 사이에는 외기와 밀폐시키는 에어 커튼(150a)이 먼저 형성된다. At this time, the slit nozzle 30 is moved to the position where the nozzle cleaning mechanism 100 is located, and then the center of the V-shaped cross section of the cleaning body 110 and the discharge port 30a are aligned. Then, the cleaning body 110 is moved along the slit direction 110d of the discharge port 30a of the slit nozzle 30. At this time, the compressed gas is injected from the compressed gas injection port 150 to the nozzle side 30s, and an air curtain 150a for first sealing the outside air is formed between the cleaning body 110 and the nozzle side 30s.

그리고 나서, 세정 몸체(110)를 이동시키면서 세정액 분사구(130)로부터 노즐 측면(30s)을 향하여 세정액(130w)을 분사하고, 이와 동시에 세정액 흡입구(140)에는 진공 또는 부압이 작용하여 노즐 측면(30s)을 세정한 오염된 세정액을 흡입하여 외부로 배출시켜 버린다. 세정액 흡입구(140)에서 곧바로 오염된 세정액을 흡입하지 못하더라도, 에어 커튼(150a)에 의해 오염된 세정액은 외부로 비산하지 않고 밀폐된 에어 커튼(150a)의 내측에 위치하게 된다. 따라서, 세정액 흡입구(140)에 작용하는 부압에 의해 빨려들어가 외부로 배출된다.Then, while the cleaning body 110 is moved, the cleaning liquid 130w is injected from the cleaning liquid injection port 130 toward the nozzle side 30s, and at the same time, a vacuum or a negative pressure is applied to the cleaning liquid inlet 140 and the nozzle side 30s. ), The contaminated cleaning liquid is sucked out and discharged to the outside. Even if the cleaning liquid suction port 140 does not directly suck the cleaning liquid contaminated, the cleaning liquid contaminated by the air curtain 150a is located inside the sealed air curtain 150a without being scattered to the outside. Therefore, it is sucked by the negative pressure acting on the cleaning liquid suction port 140 and discharged to the outside.

이를 통해, 본 발명에 따른 슬릿 노즐의 세정 기구(100)는 슬릿 노즐(30)의 양 측면(30s)을 향하여 세정액 분사구(130)로부터 분사된 세정액(130w)이 노즐 표면(30s)에 묻은 약액 등의 이물질을 표면으로부터 분리시켜 세정액이 이물질을 함유하게 된 상태에서, 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구로 흡입하여 외부로 배출시키므로, 슬릿 노즐의 측면을 세정한 오염된 세정액이 외부로 비산되어 누출되지 않고 곧바로 회수되므로, 오염된 세정액에 의해 슬릿 노즐(30)의 측면(30s) 및 주변을 2차 오염시키는 것을 방지할 수 있다 Through this, the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle according to the present invention is the chemical liquid 130w sprayed from the cleaning liquid injection port 130 toward both sides 30s of the slit nozzle 30 on the nozzle surface (30s) In the state where the foreign matter such as this is separated from the surface and the cleaning liquid contains the foreign matter, the contaminated cleaning liquid is immediately sucked into the cleaning liquid suction port and discharged to the outside. Since it is immediately recovered, the secondary contamination of the side surface 30s and the periphery of the slit nozzle 30 can be prevented by the contaminated cleaning liquid.

따라서, 세정 몸체(110)를 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a)를 따라 1회만 이동하면서 양측면(30s)을 세정하는 것에 의하더라도, 토출구(30a) 주변의 양측면(30s)을 보다 깨끗하게 세정할 수 있게 된다.Therefore, even if the cleaning body 110 is cleaned only on both sides 30s while moving along the discharge port 30a of the slit nozzle 30 only once, both sides 30s around the discharge port 30a can be cleaned more cleanly. It becomes possible.

또한, 본 발명은 세정액(130w)으로 노즐 측면을 세정한 이후에 세정액을 곧바로 흡입하여 회수 배출시킴에 따라, 건조 압축 공기로 세정액을 불어내어 건조시키는 공정이 필요하지 않을 뿐만 아니라, 종래의 건조 압축 공기를 불어내는 과정에서 오염된 세정액이 노즐 측면의 이미 세정된 영역으로 옮겨져 3차 오염이 발생되었던 문제점도 해결한 효과가 있다. 이와 더불어, 인체에 유해한 물질인 시너 등으로 이루어진 세정액(130w)이 에어 커튼(150a)에 의하여 외부로 비산될 가능성이 완전히 배제되고, 오염된 세정액을 곧바로 세정액 흡입구를 통해 전부 회수함에 따라, 종래에 비하여 훨씬 더 친환경적인 작업 환경을 구현할 수 있다.
In addition, according to the present invention, after washing the nozzle side with the cleaning liquid 130w, the cleaning liquid is immediately sucked and recovered and discharged, so that the process of blowing the cleaning liquid with dry compressed air to dry it is not necessary, and the conventional dry compression. In the process of blowing air, the contaminated cleaning liquid is transferred to the already cleaned area on the side of the nozzle, which has the effect of solving the problem of tertiary contamination. In addition, the cleaning liquid 130w made of thinner or the like, which is a harmful substance to the human body, is completely eliminated from being scattered to the outside by the air curtain 150a, and the contaminated cleaning liquid is immediately recovered through the cleaning liquid suction port. Compared to this, a much greener working environment can be realized.

한편, 본 발명은 피처리 기판(G)을 지지하는 기판 스테이지(10)와, 기판 스테이지(10) 상의 피처리 기판(G)의 표면에 약액을 토출구(30a)에서 도포하는 슬릿 노즐(30)과, 상기와 같이 구성된 슬릿 노즐의 세정 기구(100)를 구비한 기판 코터 장치를 제공한다. 세정 몸체(110)가 토출구(30a)를 따라 1회 진행하는 것에 의해 슬릿 노즐을 깨끗하게 세정할 수 있으므로, 상기와 같이 구성된 기판 코터 장치는 슬릿 노즐(30)의 토출구(30a) 주변의 측면(30s) 세정에 소요되는 시간을 단축하여 피처리 기판(G)의 약액 도포의 공정 효율을 보다 향상시킬 수 있다.
On the other hand, in the present invention, the substrate stage 10 supporting the substrate G and the slit nozzle 30 applying the chemical liquid to the surface of the substrate G on the substrate stage 10 at the discharge port 30a. And it provides the substrate coater apparatus provided with the cleaning mechanism 100 of the slit nozzle comprised as mentioned above. Since the cleaning body 110 can cleanly clean the slit nozzle by advancing once along the discharge port 30a, the substrate coater device configured as described above has a side surface 30s around the discharge port 30a of the slit nozzle 30. By shortening the time required for cleaning, the process efficiency of chemical liquid application of the substrate G to be processed can be further improved.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구 범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention.

** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **
10: 기판 지지대 30: 슬릿 노즐
100: 노즐 세정 기구 110: 세정 몸체
115: 이동 트래이 120: 고정 트래이
130: 세정액 분사구 140: 세정액 흡입구
150: 압축기체 분사구DESCRIPTION OF REFERENCE NUMERALS
10: substrate support 30: slit nozzle
100: nozzle cleaning mechanism 110: cleaning body
115: moving tray 120: fixed tray
130: cleaning liquid injection port 140: cleaning liquid suction port
150: compressed gas nozzle

Claims (17)

슬릿 노즐의 토출구 주변을 세정하는 세정 기구로서,
상기 토출구 양측의 노즐 측면과 대향하는 대향면이 구비되고, 상기 슬릿 노즐로부터 이격되어 상기 토출구를 따라 이동하는 세정 몸체와;
상기 슬릿 측면을 향하여 세정액을 분사하고, 상기 대향면에 형성된 세정액 분사구와;
상기 노즐 측면을 세정한 오염된 세정액을 수집하도록 상기 대향면에 부압이 작용하고, 상기 대향면에 형성된 세정액 흡입구와;
상기 세정액 분사구와 상기 세정액 흡입구를 감싸는 형태로 고압의 압축 기체를 분사하여 상기 대향면과 상기 노즐 측면의 사이에 에어 커튼을 형성하는 압축기체 분사구를;
포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
As a cleaning mechanism for cleaning around the discharge port of the slit nozzle,
A cleaning body provided with opposing surfaces facing the nozzle side surfaces on both sides of the discharge port, spaced apart from the slit nozzle, and moving along the discharge port;
A cleaning liquid injection hole for spraying a cleaning liquid toward the side of the slit, and formed on the opposite surface;
A negative pressure acting on the opposite surface to collect contaminated cleaning liquid cleaning the nozzle side, and a cleaning liquid suction port formed on the opposite surface;
A compressor body injection port for forming an air curtain between the opposing surface and the nozzle side by injecting a high pressure compressed gas in a form surrounding the cleaning liquid injection port and the cleaning liquid suction port;
Cleaning mechanism of the slit nozzle characterized in that it comprises a.
제 1항에 있어서,
상기 압축기체 분사구는 상기 세정액 흡입구를 향하여 모아진 형태로 경사지게 압축 가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 1,
The compressor body injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for injecting the compressed gas inclined in a gathered toward the cleaning liquid suction port.
제 1항에 있어서,
상기 압축 기체 분사구는 상기 세정액 분사구와 동심(同心)을 이루는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 1,
The compressed gas injection port is concentric with the cleaning liquid injection port.
제 3항에 있어서,
상기 세정액 흡입구는 상기 세정액 분사구의 중앙부에 위치한 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 3, wherein
The cleaning liquid suction port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that located in the central portion of the cleaning liquid injection port.
제 4항에 있어서,
상기 세정액 분사구는 상기 세정액 흡입구를 향하여 경사지게 상기 노즐 측면에 세정액을 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
5. The method of claim 4,
The cleaning liquid injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for spraying the cleaning liquid to the nozzle side inclined toward the cleaning liquid suction port.
제 5항에 있어서,
상기 세정액 분사구의 끝단은 상기 세정액 흡입구의 끝단보다 더 외향 위치한 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
6. The method of claim 5,
And the end of the cleaning liquid injection port is located outwardly than the end of the cleaning liquid suction port.
제 3항에 있어서,
상기 세정액 분사구는 상기 세정액 흡입구의 중앙부에 위치한 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
The method of claim 3, wherein
The cleaning liquid jet opening is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that located in the central portion of the cleaning liquid suction port.
제 1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정액 분사구와 상기 세정액 흡입구 중 어느 하나 이상은 원형, 타원형, 다각형 중 어느 하나의 형태로 끝단부가 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
At least one of the cleaning liquid injection port and the cleaning liquid suction port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that the end portion is formed in any one of a circle, an ellipse, a polygon.
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정액 분사구는 압축 기체와 함께 고압으로 세정액을 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
The cleaning liquid injection port is a cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that for spraying the cleaning liquid at high pressure with the compressed gas.
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정 몸체에는 세정 이물질을 수거하는 이동 트래이가 구비된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that the cleaning body is provided with a moving tray for collecting the cleaning foreign matter.
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압축 기체 분사구에서 분사되는 고압 기체에 의해 형성되는 에어 커튼 내에는 상기 세정액 분사구 및 상기 세정액 흡입구가 2쌍 이상 포함된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
And two or more pairs of the cleaning liquid jet port and the cleaning liquid suction port are included in the air curtain formed by the high pressure gas injected from the compressed gas jet port.
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 세정 몸체의 각 대향면에는 상기 압축 기체 분사구가 2개 이상 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Cleaning mechanism of the slit nozzle, characterized in that two or more of the compressed gas injection port is formed on each opposite surface of the cleaning body.
제 12항에 있어서,
상기 압축 기체 분사구 내의 상기 세정액 흡입구는 서로 다른 높이에 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 기구.
13. The method of claim 12,
The cleaning device of the slit nozzle, characterized in that the cleaning liquid suction port in the compressed gas injection port is formed at different heights.
피처리 기판을 지지하는 기판 스테이지와;
상기 기판 스테이지 상의 상기 피처리 기판의 표면에 약액을 토출구에서 도포하는 슬릿 노즐과;
상기 슬릿노즐의 상기 토출구 양측의 노즐 표면을 세정하는 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 세정 기구를;
포함하여 구성된 기판 코터 장치.
A substrate stage for supporting a substrate to be processed;
A slit nozzle for applying a chemical liquid to a surface of the substrate to be processed on the substrate stage at a discharge port;
A cleaning mechanism according to any one of claims 1 to 7, which cleans nozzle surfaces on both sides of the discharge port of the slit nozzle;
Substrate coater device configured to include.
제 1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 슬릿 노즐의 토출구 양측의 노즐 표면의 세정 방법으로서,
상기 토출구 양측의 노즐 측면과 대향하는 상기 대향면이 구비된 상기 세정 몸체를 상기 슬릿 노즐의 토출구의 슬릿 방향을 따라 세정 몸체 이동시키는 단계와;
상기 세정 몸체를 이동시키면서 상기 세정액 분사구로부터 상기 노즐 표면을 향하여 세정액을 분사하는 세정액 분사단계와;
상기 세정액 분사단계와 동시에 상기 세정액 흡입구로부터 상기 노즐 표면으로부터 오염된 세정액을 흡입하되, 상기 세정액 흡입구는 상기 세정액 분사구와 동심(同心)을 이루는 형태로 형성되어 상기 오염된 세정액을 흡입하는 세정액 흡입단계와;
상기 세정액 분사구와 상기 세정액 흡입구를 감싸는 형태로 고압의 압축 기체를 분사하여 상기 대향면과 상기 노즐 측면의 사이에 폐단면 형태의 에어 커튼을 형성하는 에어커튼 형성단계를;
포함하여, 상기 세정 몸체가 상기 토출구의 슬릿 방향을 따라 이동하면서 상기 노즐 표면을 세정하는 슬릿 노즐의 세정 방법.
A cleaning method of nozzle surfaces on both sides of discharge ports of a slit nozzle according to any one of claims 1 to 7,
Moving the cleaning body along the slit direction of the discharge port of the slit nozzle, the cleaning body having the opposing surface facing the nozzle sides on both sides of the discharge port;
A washing liquid spraying step of spraying the washing liquid from the washing liquid spraying hole toward the nozzle surface while moving the washing body;
A washing liquid suction step of sucking the contaminated cleaning liquid from the cleaning liquid suction port at the same time as the cleaning liquid spraying step, wherein the cleaning liquid suction port is formed concentrically with the cleaning liquid injection hole; ;
Forming an air curtain forming a closed cross-sectional air curtain between the opposite surface and the nozzle side by injecting a high pressure compressed gas in a form surrounding the cleaning liquid injection port and the cleaning liquid intake port;
And cleaning the nozzle surface while the cleaning body moves along the slit direction of the discharge port.
제 15항에 있어서,
상기 세정액 흡입구는 상기 세정액 분사구의 중앙부에 위치한 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 방법.
16. The method of claim 15,
The cleaning liquid suction port is a cleaning method of the slit nozzle, characterized in that located in the center of the cleaning liquid injection port.
제 16항에 있어서,
상기 압축 기체 분사구는 상기 세정액 흡입구를 향하여 모아진 형태로 경사지게 압축 가스를 분사하는 것을 특징으로 하는 슬릿 노즐의 세정 방법.


17. The method of claim 16,
The compressed gas injection port is a cleaning method of the slit nozzle, characterized in that for injecting the compressed gas inclined in the form toward the cleaning liquid suction port.


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