KR20120116912A - W/o 형 유화 화장료 - Google Patents

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다카시 후쿠이
다카시 가와타
미오 이시타
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카오카부시키가이샤
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Abstract

다음 성분 (A), (B), (C) 및 (D) :
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?10 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물
을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 W/O 형 유화 화장료.

Description

O/W 형 유화 화장료{O/W EMULSION COSMETIC}
본 발명은 W/O 형 유화 화장료에 관한 것이다.
종래, 자외선을 방어하기 위해, 자외선을 효율적으로 흡수하는 유기계 자외선 흡수제나, 자외선을 산란시키는 자외선 방어 분체가 사용되고 있다. 자외선 방어 분체로는, 산화티탄이나 산화아연이 자주 사용되고 있는데, 자외선을 방어하기 위해서는, 화장료 중에 다량으로 배합해야 한다. 이 때문에, 피부에 도포하면 하얗게 된다는 문제나, 분체 특유의 버석거림이 발생하여, 감촉이 나빠진다는 문제가 있었다.
이러한, 피부에 도포했을 때의 버석거림을 억제하기 위해, 예를 들어 안료를 표면 처리하여 흡유량을 낮게 억제하고, 피부로부터의 피지 (皮脂) 의 탈지를 최소한으로 하고, 그것에 의해, 피부의 부담을 적게 하면서, 화장 지속성, 내수성, 내피지성, 감촉, 전사 방지 효과, 발색을 개선한 화장료가 검토되고 있다 (특허문헌 1, 특허문헌 2, 특허문헌 3).
그러나, 이러한 표면 처리한 안료를 사용해도, 버석거림을 충분히 억제할 수는 없어, 높은 보습성을 얻을 수는 없었다.
일본 공개특허공보 2005-2076호 일본 공개특허공보 2005-2077호 일본 공개특허공보 2005-2078호
본 발명은 다음 성분 (A), (B), (C) 및 (D) :
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?10 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물
을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 W/O 형 유화 화장료를 제공하는 것이다.
본 발명의 W/O 형 유화 화장료는 균일하고 매끄러우며, 폐색성이 높은 피막이 얻어지고, 보습성이 우수하고, 사용감도 양호하다. 나아가서는, 자외선 방어 효과가 높은 것이다.
본 발명은 버석거림이 없고, 보습성이 우수한 화장료에 관한 것이다. 나아가서는, 자외선 방어 효과가 높은 화장료에 관한 것이다.
본 발명자들은, 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 판상 분체와, 25 ℃ 에서 고체 기름을 특정한 비율로 사용함으로써, 피부 표면에 폐색성이 높은 피막이 형성되고, 보습성이 우수하고, 사용감도 양호함과 함께, 자외선 방어 효과가 높은 W/O 형 유화 화장료가 얻어지는 것을 알아냈다.
본 발명에서 사용하는 성분 (A) 는, 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 판상 분체이고, 평균 입경이 0.1?10 ㎛, 나아가 0.2?1 ㎛ 이고, 판상비 (평균 입경/두께) 가 3 이상, 나아가 5?45, 특히 10?45 인 박편상의 분체가 바람직하다. 평균 입경은 판상의 평활면의 장경과 단경의 상가 평균으로 나타내고, 투과형 전자 현미경 사진 중, 임의의 시야의 임의의 입자 20 개에 관해서 측정한 결과로부터 산출한다. 동일하게, 평균 입자 두께는 투과형 전자 현미경 사진의 동 시야 중의 임의의 시야의 임의의 입자 20 개에 관해서 측정한 결과로부터 산출한다.
성분 (A) 에 있어서, 처리되는 판상 분체로는, 예를 들어 판상 산화아연, 판상 산화티탄, 판상 산화세륨, 판상 황산바륨, 탤크, 운모, 판상 카올린, 세리사이트, 백운모, 판상 합성 운모, 금운모, 홍운모, 흑운모, 리튬 운모, 판상 무수 규산, 판상 하이드록시아파타이트, 벤토나이트, 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 판상 세라믹스 파우더, 판상 알루미나, 판상 질화붕소, 판상 폴리메틸메타크릴레이트 파우더, 라우로일리신, 판상 산화철, 산화티탄 피복 운모, 산화티탄 처리 운모, 옥시염화비스무트, 산화티탄 피복 옥시염화비스무트, 산화티탄 피복 탤크, 어린박 (魚鱗箔), 산화티탄 피복 착색 운모, 알루미늄 등을 들 수 있다. 이들 중, 자외선 방어 효과의 관점에서, 산화아연, 산화티탄, 산화세륨이 바람직하고, 그 중에서도, 산화아연이 보다 바람직하다. 또한, 미량 원소로서 철 원소를 포함하는 산화아연이 바람직하다.
이러한 판상 분체를 처리하는 데에 사용되는 알킬알콕시실란으로는, 탄소수 6?20, 나아가 탄소수 6?10, 특히 탄소수 8 의 분기 또는 직사슬의 알킬기와, 탄소수 1?2, 나아가 탄소수 2 의 알콕시기를 갖는 것이 바람직하고, 옥틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란이 보다 바람직하다. 이들 화합물은 분체를 보다 균일하게 처리하는 것이 가능하다.
판상 분체를 알킬알콕시실란으로 처리하는 방법은 제한되지 않고, 예를 들어 습식법, 건식법, 증착법 (플라즈마 등을 사용하여 안료에 처리제를 증착시키는 방법), 기상법 (공기, 질소 가스 등의 기체 중에서 표면 처리를 실시하는 방법), 메카노케미칼법 (볼밀, 옹밀 (호소카와미크론사 제조), 하이브리다이저 (나라 기계 제작소 제조) 등의 기기를 사용하여 메카노케미칼적으로 표면 처리를 실시하는 방법) 등에 의해 실시할 수 있다.
이들 중, 습식법이란, 판상 분체와 알킬알콕시실란을, 저급 알코올, 헥산, 아세톤, 톨루엔, 시클로헥산, 자일렌, 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈, 이산화탄소, 테르펜류 등의 유기 용매 중에서 혼합하고, 균일하게 혼합한 후, 유기 용매를 가열이나 감압에 의해 제거하고, 바람직하게는 80?250 ℃ 에서 가열 처리하는 방법을 말하며, 보다 균일한 처리가 가능하다.
알킬알콕시실란의 처리량은 처리된 판상 분체 전체의 중량에 대하여 2?10 중량%, 특히 2?7 중량% 인 것이 바람직하다.
성분 (A) 는 1 종 이상을 사용할 수 있고, 후술하는 성분 (B) 25 ℃ 에서 고체 기름과의 조합으로 균질한 피막을 형성하는 관점에서, 전체 조성 중에 1?20 중량% 함유되고, 바람직하게는 3?15 중량%, 보다 바람직하게는 5?15 중량% 함유된다.
본 발명에서 사용하는 성분 (B) 는, 25 ℃ 에서 고체 기름이고, 예를 들어 지방족 알코올, 지방산, 지방족 아미드 유도체, 지방족 아민 유도체 등을 들 수 있다.
지방족 알코올로는, 라우릴알코올, 미리스틸알코올, 세탄올, 스테아릴알코올, 베헤닐알코올 등, 탄소수 12?24 의 포화 지방족 알코올이 바람직하다. 또한, 지방산으로는, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산 등, 탄소수 12?24 의 포화 지방산이 바람직하다. 지방족 아미드 유도체로는, 타입 I?타입 VI 의 천연 세라미드, N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸헥사데칸아미드, N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸데칸아미드 등의 세라미드류 및 그 유사 물질이 바람직하다. 지방족 아민 유도체로는, 스핀고신, 디하이드로스핀고신, 피트스핀고신, 데하이드로스핀고신, 데하이드로피트스핀고신, 스핀가디에닌 및 이들의 N-메틸체 또는 N,N-디메틸체 등의 스핀고신류, 1-(2-하이드록시에틸아미노)-3-이소스테아릴옥시-2-프로판올 등이 바람직하다. 또한, 콜레스테롤, 스티그마스테롤, 에르고스테롤 등의 스테롤류도 사용할 수 있다.
또한, 탄화수소계, 에스테르계, 실리콘 등의 천연계 및 합성계 왁스를 사용할 수 있다. 예를 들어, 밀랍, 경랍 등의 동물성 왁스 ; 카르나우바납, 칸델릴라납, 라이스 왁스, 목랍 등의 식물성 왁스 ; 몬탄 왁스, 오조케라이트, 세레신, 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스 등의 광물성 왁스 ; 폴리에틸렌 왁스, 피셔?트롭슈 왁스, 경화 피마자유, 수소 첨가 호호바유, 스테아르산아미드, 무수 프탈산이미드, 실리콘 왁스 등의 합성 왁스 등을 들 수 있다.
또, 유기 자외선 흡수제는 성분 (B) 에는 포함되지 않는다.
성분 (B) 는 성분 (A) 를 점결 (粘結) 하여 피부 표면에 균질한 피막을 형성시킬 수 있다. 성분 (B) 는 1 종 이상을 사용할 수 있고, 피막 형성성의 관점에서, 전체 조성 중에 0.1?10 중량% 함유되고, 바람직하게는 0.1?5 중량%, 보다 바람직하게는 0.5?5 중량% 함유된다.
또한, 본 발명에 있어서, 성분 (A) 와 성분 (B) 의 중량 비율은, (B)/(A) = 0.01?5, 바람직하게는 0.02?1, 보다 바람직하게는 0.1?1 이다.
성분 (A) 와 성분 (B) 의 중량 비율이 이 범위 내인 것에 의해, W/O 형 유화 화장료 중의 수적 (水滴) 의 크기를 작게 할 수 있고, 균일하고 폐색성이 높은 피막을 피부 상에 형성할 수 있기 때문에, 높은 보습성을 얻을 수 있을 것으로 생각된다. 종래, 자주 사용되고 있는 실리콘 처리 분체나, 불소 처리 분체에서는, 이러한 폐색성이 있는 피막이 형성되지 않아, 버석거림 등의 감촉 문제를 야기하고 있던 것으로 생각된다.
성분 (C) 는 25 ℃ 에서 액상 기름으로서, 25 ℃ 에 있어서의 점도가 0 보다 크고, 500,000 mPa?s 이하, 바람직하게는 100,000 mPa?s 이하, 보다 바람직하게는 5?1,000 mPa?s 의 기름이고, 탄화수소유, 에스테르 및 에테르유에서 선택되는 기름이다.
또, 본 발명에 있어서, 점도는 브룩필드형 (B 형) 점도계에 의해 측정한 값이다.
구체적으로는, 유동 파라핀, 유동 이소파라핀, 수소 첨가 폴리이소부텐, 중질 유동 이소파라핀, 바셀린, 스쿠알란, n-옥탄, n-헵탄, 이소도데칸, 시클로헥산 등의 탄화수소유 ; 말산디이소스테아릴, 락트산옥틸도데실, 이소노난산이소트리데실, 미리스트산옥틸도데실, 팔미트산이소프로필, 이소스테아르산이소프로필, 스테아르산부틸, 미리스트산미리스틸, 미리스트산이소프로필, 미리스트산옥틸도데실, 아디프산디-2-에틸헥실, 세바크산디이소프로필, 디카프르산네오펜틸글리콜, 트리카프로인 등의 에스테르유 ; 디옥틸에테르, 에틸렌글리콜모노라우릴에테르, 에틸렌글리콜디옥틸에테르, 글리세롤모노올레일에테르 등의 에테르유를 들 수 있다.
또, 파라메톡시계피산 2-에틸헥실 등의 유기 자외선 흡수제는, 성분 (C) 에는 포함되지 않는다.
성분 (C) 는 1 종 이상을 사용할 수 있고, 도포시의 피부에 대한 융화 용이성 면에서, 전체 조성 중에 0.5?60 중량% 함유되고, 바람직하게는 0.5?40 중량%, 보다 바람직하게는 5?30 중량% 함유된다.
또, 성분 (B) 와 성분 (C) 의 중량 비율은, (B)/(C) = 0.0025?2, 나아가 0.01?1, 특히 0.1?0.2 인 것이, 성분 (B) 의 용해성이나, 성분 (B) 의 결정화를 적절히 억제하고, 나아가서는 성분 (A) 와의 점착성을 높이고, 폐색감이 높은 피막을 형성하는 면에서 바람직하다.
성분 (D) 의 물은 다른 성분의 잔부이고, 전체 조성 중에 10?60 중량%, 나아가 20?50 중량% 함유하는 것이, 보습성과 청량감이 우수하므로 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서는, 성분 (C) 의 기름과 함께, (E) 실리콘유를 조합하여 사용하는 것이, 도포시의 끈적거림을 억제하는 관점에서 바람직하다.
이러한 실리콘유로는, 성분 (C) 와 동일하게, 25 ℃ 에서 액상 기름이고, 25 ℃ 에 있어서의 점도가 0 보다 크고, 500,000 mPa?s 이하, 나아가 100,000 mPa?s 이하인 것이 바람직하고, 예를 들어 디메틸폴리실록산, 고리형 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 아미노 변성 실리콘, 에폭시 변성 실리콘, 카르복시 변성 실리콘, 알코올 변성 실리콘, 알킬 변성 실리콘 등을 들 수 있다.
이들 중, 디메틸폴리실록산, 고리형 디메틸폴리실록산이 바람직하다.
성분 (E) 는 1 종 이상을 사용할 수 있고, 전체 조성 중에 5?50 중량%, 나아가 10?40 중량% 함유하는 것이 끈적거림을 억제한 사용감이 되므로 바람직하다.
또한, 성분 (C) 와 성분 (E) 의 합계 함유량은 전체 조성 중에 10?80 중량%, 나아가 20?60 중량% 인 것이, 사용감이 우수하므로 바람직하다.
또한, 성분 (C) 와 성분 (E) 의 중량 비율은, (C)/(E) = 0.005?5, 나아가 0.01?3 인 것이, 성분 (A) 및 (B) 로 구성하는 피막의 형성성을 향상시키고, 보다 높은 보습 효과를 얻을 수 있기 때문에 바람직하다.
본 발명의 화장료는, 나아가 (F) HLB 8 이하, 바람직하게는 HLB 4?8, 보다 바람직하게는 HLB 4?5 의 비이온 계면 활성제를 함유할 수 있다. 여기서, HLB 는, 친수성-친유성의 밸런스 (Hydrophile-Lipophile Balance) 가 있고, 오다?테라무라 들에 의한 다음 식에 의해 정의된다.
HLB = (Σ무기성 값/Σ유기성 값)×10
이러한 비이온 계면 활성제로는, 예를 들어 소르비탄 지방산 에스테르 (예를 들어, 소르비탄모노이소스테아레이트, 소르비탄모노올레에이트, 소르비탄모노팔미테이트, 소르비탄모노스테아레이트, 소르비탄세스퀴올레에이트, 소르비탄트리올레에이트 등), 글리세린 지방산 에스테르 (예를 들어, 모노스테아르산글리세린, 모노이소스테아르산글리세린, 디스테아르산글리세린, 모노스테아르산글리세린말산 등), 폴리글리세린 지방산 에스테르 (예를 들어, 모노스테아르산디글리세린, 트리스테아르산헥사글리세린 등), 프로필렌글리콜?펜타에리트리톨 지방산 에스테르 (예를 들어, 모노스테아르산프로필렌글리콜, 스테아르산펜타에리트리톨 등), 폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르 (예를 들어, POE(4) 모노스테아레이트, POE(2) 모노올레에이트 등), 폴리옥시에틸렌알킬에테르 (예를 들어, POE(2) 세틸에테르, POE(5) 베헤닐에테르, POE(3) 옥틸페닐에테르 등), 폴리옥시에틸렌 피마자유?경화 피마자유 (예를 들어, POE(3) 피마자유, POE(5) 경화 피마자유 등), 변성 실리콘으로 실리콘 사슬이 직사슬, 분기 또는 가교 타입 (예를 들어, 폴리에테르 변성 실리콘, 폴리에테르?알킬 공변성 실리콘, 폴리글리세린 변성 실리콘, 폴리글리세린?알킬 공변성 실리콘 등), 자당 지방산 에스테르 등을 들 수 있다.
성분 (F) 는 1 종 이상을 사용할 수 있고, 전체 조성 중에 0.1?20 중량% 함유하는 것이 바람직하고, 0.5?10 중량%, 나아가 1?2.5 중량% 함유하는 것이, 유화 화장료의 사간 경과적 안정성을 향상시키는 것 외에, 성분 (C), (E) 중에서의 성분 (B) 의 분산성, 도포 건조 과정에서의 성분 (A) 와 (B) 의 점착성을 향상시키는 관점에서, 보다 바람직하다.
또한, 본 발명의 화장료는 UVA 영역에 흡수를 갖는 유기 자외선 흡수제를 함유할 수 있고, 자외선 방어 효과와 보습성을 보다 높일 수 있다.
이러한 화합물로는, 유용성, 수용성 중 어느 것이나 사용할 수 있는데, 본 발명에서 보다 높은 효과를 얻는 데에 있어서, 유용성 화합물이 보다 바람직하다.
유용성인 것으로는, 디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실, t-부틸메톡시디벤조일메탄, 비스에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진 등을 들 수 있다.
수용성 자외선 흡수제로는, 페닐렌-1,4-비스(2-벤즈이미다질)-3,3'-5,5'-테트라술폰산 및 그 염 등을 들 수 있다.
이러한 화합물은, 1 종 이상을 사용할 수 있고, 전체 조성 중에 0.1?10 중량%, 나아가 0.5?5 중량% 함유하는 것이, 안정적으로 배합할 수 있고, 또한 충분한 자외선 방어 효과를 얻는 데에 있어서 바람직하다.
본 발명의 W/O 형 유화 화장료에 있어서는, 각 성분의 바람직한 범위를 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
바람직하게는, 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 산화아연, 산화티탄 및 산화셀렌에서 선택되는 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
더욱 바람직하게는, 옥틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란으로 표면 처리된 산화아연, 산화티탄 및 산화셀렌에서 선택되는 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?10 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물
을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 타입 I?타입 VI 의 천연 세라미드, N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸헥사데칸아미드 및 N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸데칸아미드에서 선택되는 세라미드류 및 그 유사 물질, 그리고 콜레스테롤, 스티그마스테롤 및 에르고스테롤에서 선택되는 스테롤류에서 선택되는 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?10 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물
을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?10 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물,
(E) 실리콘유 5?50 중량%
를 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 1?20 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물,
(E) 실리콘유 5?50 중량%,
(F) HLB 4?8 의 비이온 계면 활성제 0.1?20 중량%
를 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 옥틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란으로 표면 처리된 산화아연, 산화티탄 및 산화셀렌에서 선택되는 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
(B) 타입 I?타입 VI 의 천연 세라미드, N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸헥사데칸아미드 및 N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸데칸아미드에서 선택되는 세라미드류 및 그 유사 물질 1?20 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유 및 에스테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물,
(E) 디메틸폴리실록산, 고리형 실리콘유 5?50 중량%,
(F) HLB 4?8 의 비이온 계면 활성제 0.1?20 중량%
를 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
성분 (A) 의 함유량은 1?20 중량%, 바람직하게는 3?15 중량%,
성분 (B) 의 함유량은 0.1?10 중량%, 바람직하게는 0.1?5 중량%,
성분 (C) 의 함유량은 0.5?60 중량%, 바람직하게는 0.5?40 중량%,
성분 (D) 의 함유량은 다른 성분의 잔부,
성분 (E) 의 함유량은 5?50 중량%, 바람직하게는 10?40 중량%,
성분 (F) 의 함유량은 1?20 중량%, 바람직하게는 0.5?10 중량% 이고,
성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5, 바람직하게는 0.02?1,
성분 (B) 및 (C) 의 중량 비율이 (B)/(C) = 0.0025?2, 바람직하게는 0.01?1,
성분 (C) 와 (E) 의 합계 함유량이 (C)+(E) = 10?80 중량%, 바람직하게는 20?60 중량%,
성분 (C) 와 (E) 의 중량 비율이 (C)/(E) = 0.005?5, 바람직하게는 0.01?3
인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 3?15 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?5 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?40 중량%,
(D) 물
을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.02?1 인 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 3?15 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?5 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물,
(E) 실리콘유 10?40 중량%,
(F) HLB 4?8 의 비이온 계면 활성제 0.5?10 중량%
를 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.02?1 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 W/O 형 유화 화장료는,
(A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 3?15 중량%,
(B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?5 중량%,
(C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
(D) 물,
(E) 실리콘유 10?40 중량%,
(F) HLB 4?8 의 비이온 계면 활성제 0.5?10 중량%
를 함유하고,
성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.02?1
성분 (B) 및 (C) 의 중량 비율이 (B)/(C) = 0.01?1,
성분 (C) 와 (E) 의 합계 함유량이 (C)+(E) = 20?60 중량%,
성분 (C) 와 (E) 의 중량 비율이 (C)/(E) = 0.01?3
인 것이 바람직하다.
본 발명의 화장료는 상기 성분 외에, 통상의 화장료에 사용되는 그 밖의 성분을 함유할 수 있다. 예를 들어, 저급 알코올, 보습제, 킬레이트제, 미백제, 비타민류, 기타 각종 약효 성분, 상기 이외의 분체, 상기 이외의 자외선 흡수제, 산화 방지제, 향료, 방부제, pH 조정제, 금속 이온 봉쇄제, 살균제, 색재 등을 들 수 있다.
본 발명의 W/O 형 유화 화장료는, 통상의 방법에 따라서 제조할 수 있다.
실시예
제조예 1 (판상 산화아연의 제조)
황산아연 1.6×10-1 몰, 황산나트륨 3.8×10-2 몰 및 미량 원소의 염으로서 황산 제 1 철 1.6×10-4 몰을, 5×10-2 몰 황산 수용액 315 ㎖ 에 용해하였다.
다음으로, 이 용액을 호모 믹서에 의해 6000 r.p.m. 으로 교반하면서, 2 N 수산화나트륨 수용액 230 ㎖ 를 15 초간 투입하고 (pH = 12.8), 침전을 생성시킨 후, 10 분간 교반을 계속하였다. 그 후, 100 ℃ 에서 90 분간 숙성시키고, 여과, 수세하고, 230 ℃ 에서 약 10 시간 건조시켜 판상 산화아연을 얻었다. 이렇게 하여 얻어진 분말을 주사형 전자 현미경으로 관찰하고, 박편상 입자인 것을 확인하였다. 얻어진 분말의 평균 입경은 0.25 ㎛ 이고, 판상비는 13 이었다.
제조예 2 (옥틸실릴화 판상 산화아연의 제조)
제조예 1 에서 얻어진 판상 산화아연 분말 93 중량% 와 옥틸트리에톡시실란 7 중량% 와, 톨루엔으로 이루어지는 슬러리를 제조하고, 비즈밀 (신마루 엔터프라이지즈사 제조, 다이노밀) 을 사용하여 분쇄?해쇄를 실시하였다. 이어서, 톨루엔을 감압하에 가열 증류 제거한 후, 송풍 기류형 건조기를 사용하여 150 ℃ 에서 4 시간 가열 처리하고, 옥틸실릴화 판상 산화아연 분말을 얻었다.
이렇게 하여 얻어진 분말을 주사형 전자 현미경으로 관찰하고, 박편상 입자인 것을 확인하였다. 얻어진 분말의 평균 입경은 0.20 ㎛ 이고, 판상비는 10 이었다.
제조예 3 (실리콘 처리 판상 산화아연의 제조)
제조예 1 에서 얻어진 판상 산화아연 분말 98 중량부와 메틸하이드로겐폴리실록산 (KF-99P, 신에쯔 화학 공업사 제조) 2 중량부와, 이소프로필알코올로 이루어지는 슬러리를 제조하고, 잘 교반?분쇄한 후, 용매를 감압하에 가열 증류 제거하고, 공기중 150 ℃ 에서 4 시간 가열 처리를 실시하고, 실리콘 처리 판상 산화아연을 얻었다.
제조예 4 (옥틸실릴화 탤크의 제조)
탤크 분말 (FK-500S, 야마구치 운모 공업소사 제조) 98 중량% 와 옥틸트리에톡시실란 2 중량% 와, 톨루엔으로 이루어지는 슬러리를 제조하고, 비즈밀 (신마루 엔터프라이지즈사 제조, 다이노밀) 을 사용하여 분쇄?해쇄를 실시하였다. 이어서, 톨루엔을 감압하에 가열 증류 제거한 후, 송풍 기류형 건조기를 사용하여 150 ℃ 에서 4 시간 가열 처리하고, 옥틸실릴화 탤크 분말을 얻었다.
이렇게 하여 얻어진 분말을 주사형 전자 현미경으로 관찰하고, 박편상 입자인 것을 확인하였다. 얻어진 분말의 평균 입경은 10 ㎛ 이고, 판상비는 45 이었다.
실시예 1?2, 비교예 1?8
표 1 에 나타내는 조성의 W/O 형 유화 화장료를 이하의 방법에 의해 제조하고, 얻어진 화장료에 관해서, 자외선 방어 효과, 수분 증산율 및 버석거림이 없는 정도를 평가하였다. 결과를 표 1 에 함께 나타낸다.
이 결과로부터, 본 발명의 화장료는, 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 판상 분체와 25 ℃ 에서 고체 기름을 사용함으로써, 자외선 방어가 높고, 또한 보습성이 우수한 것이다.
(제조 방법)
성분 (B) 고체 기름, 성분 (C) 기름, 성분 (F) 비이온 계면 활성제, 자외선 흡수제 등을 혼합하고, 80 ℃ 에서 용해하여 균일하게 한다. 얻어진 유상 (油相) 을 아지호모믹서에 옮기고, 실온까지 냉각시킨 후, 성분 (E) 메틸폴리실록산, N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체 및 에탄올의 혼합 용액에 성분 (A) 의 분체를 균일하게 분산시킨 분체상을 첨가하여 교반하고, 추가로 폴리올을 포함하는 수상을 첨가하고, 아지호모믹서로 고속 교반을 실시하고, 탈기함으로써, W/O 형 유화 화장료를 얻었다.
(평가 방법)
(1) 자외선 방어 효과 :
각 화장료를 석영판 상에 2 ㎎/㎠ 가 되도록 도포하고, SPF 애널라이저 (Optometrics 사) 를 사용하여 전체 투과광 스펙트럼을 측정하고, 각각 UVB 영역에서의 방어를 300 ㎚, UVA 영역에서의 방어를 370 ㎚, 가시광의 투명성을 450 ㎚ 의 파장에 있어서의 투과율로서 구하였다.
(2) 수분 증산율 (폐색성) :
40 ㎖ 바이알병에 20 ㎖ 의 물을 넣는다. 직경 2.2 ㎝ 의 셀룰로오스 멤브레인 필터 (A300A142C, Toyo Roshi 사 제조) 에 각 화장료 0.03 ㎖ 를 도포하고, 구멍 (직경 1.4 ㎝ 의 원) 이 뚫린 뚜껑에, 화장료를 도포한 필터를 끼우고, 바이알병의 뚜껑을 덮는다.
30 ℃, 습도 40 % 의 조건에서 2 일 보존하고, 보존 전후의 무게를 달고, 수분 증산량을 계산한다. 필터에 물만을 도포했을 때의 수분 증산량을 100 으로 하고, 이하의 식으로 수분 증산율을 구하였다. 이 값이 작을수록, 수분의 폐색성이 높고, 보습성이 우수한 것을 나타낸다.
수분 증산율 (%) = (샘플의 수분 증산량/물의 수분 증산량)×100
(3) 버석거림이 없는 정도 :
전문 패널리스트 5 명에게, 각 화장료 1 g 을 손에 바르게 하고, 패널리스트마다 버석거림의 정도를 관능 평가하고, 매우 버석거리는 경우를 1 점, 버석거리지 않는 경우를 5 점으로 하고, 1?5 의 5 단계로 판정하였다. 이 값을 상가 평균하고, 평균점의 소수점 이하를 반올림한 값을 가지고 평가 결과로 하였다. 평가 점수가 높은 쪽이 버석거림이 억제되어 있는 것을 나타낸다.
Figure pct00001
실시예 3?8
실시예 1?2 와 동일하게 하여, 표 2 에 나타내는 조성의 W/O 형 유화 화장료를 제조하고, 얻어진 화장료에 관해서, 수분 증산율 및 버석거림이 없는 정도를 평가하였다. 결과를 표 2 에 함께 나타낸다.
또, 얻어진 화장료는 모두 투명성이 우수하고, 자외선 방어 효과가 높은 것이었다.
Figure pct00002
*10 : 콜레스테롤 (JSCI) (닛폰 정화사 제조)
*11 : 마루카졸 R (마루젠 석유 화학사 제조)
*12 : IP 솔벤트 1620MU (이데미쯔 고산사 제조)
*13 : 사라코스 913 (닛신 오일리오사 제조)
*14 : 실리콘 KF-6015 (신에쯔 실리콘사 제조 ; HLB 4)
*15 : Nikkol BC-2 (닛코 케미칼즈사 제조 ; HLB 8)
*16 : 레오팔 KL2 (치바 제분사 제조)
실시예 9?14
이하에 나타내는 조성의 W/O 형 유화 화장료를, 실시예 1?2 와 동일한 방법에 의해 제조하였다.
얻어진 화장료는 모두 자외선 방어 효과가 우수하고, 보습성이 높은 것이었다.
실시예 9
(성분) (중량%)
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데칸아미드
(소프케어 세라미드 SLE, 카오사 제조)
0.5
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 (유비날 MC80, BASF 사 제조) 3.0
t-부틸메톡시디벤조일메탄 (파르솔 1789, DSM 뉴트리션 재팬사 제조) 0.5
비스에틸헥실옥시페놀메톡시페닐트리아진
(티노소브 S, 치바?스페셜티?케미칼즈사 제조)
0.5
유동 이소파라핀 (팔레암 Ex, 니치유사 제조) 0.5
폴리옥시에틸렌?메틸폴리실록산 공중합체
(실리콘 SH3775M, 도레?다우코닝사 제조 ; HLB 5)
1.5
메틸시클로폴리실록산 (실리콘 TSF405A, 모멘티브사 제조) 18.0
메틸폴리실록산 (2cs) (실리콘 KF-96L-2CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 10.0
메틸폴리실록산 (6cs) (실리콘 KF-96L-6CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 5.0
옥틸실릴화 판상 산화아연 (제조예 2) 15.0
실리콘 피복 탤크
(탤크 JA-46R (아사다 제분사 제조) 을 실리콘 피복한 것)
3.0
N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체
(POLYSILICONE-9 ; INCI 명, 카오사 제조)
0.2
에탄올 3.5
글리세린 6.0
정제수 밸런스
합계 100
((B)/(A) = 0.03)
실시예 10
(성분) (중량%)
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데칸아미드
(소프케어 세라미드 SLE, 카오사 제조)
0.5
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 (유비날 MC80, BASF 사 제조) 3.0
디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실
(유비날 A Plus, BASF 사 제조)
0.5
유동 이소파라핀 (팔레암 Ex, 니치유사 제조) 0.5
폴리옥시에틸렌?메틸폴리실록산 공중합체
(실리콘 SH3775M, 도레?다우코닝사 제조 ; HLB 5)
1.5
메틸시클로폴리실록산 (실리콘 TSF405A, 모멘티브사 제조) 18.3
메틸폴리실록산 (2cs) (실리콘 KF-96L-2CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 10.0
메틸폴리실록산 (6cs) (실리콘 KF-96L-6CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 5.0
옥틸실릴화 판상 산화아연 (제조예 2) 5.0
실리콘 피복 미립자 산화아연
(미립자 산화아연 MZ500 (테이카사 제조) 의 표면을 실리콘 피복한 분체)
10.0
실리콘 피복 탤크
(탤크 JA-46R (아사다 제분사 제조) 을 실리콘 피복한 것)
3.0
N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체
(POLYSILICONE-9 ; INCI 명, 카오사 제조)
0.2
에탄올 3.5
글리세린 6.0
정제수 밸런스
합계 100
((B)/(A) = 0.1)
실시예 11
(성분) (중량%)
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데칸아미드
(소프케어 세라미드 SLE, 카오사 제조)
1.0
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 (유비날 MC80, BASF 사 제조) 4.0
디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실
(유비날 A Plus, BASF 사 제조)
0.5
스쿠알란 10.0
디카프르산네오펜틸글리콜 (에스테몰 N-01, 닛신 오일리오사 제조) 5.0
이소노난산이소트리데실 (사라코스 913, 닛신 오일리오사 제조) 5.0
수소 첨가 폴리이소부텐 (IP 솔벤트 2028, 이데미쯔 고산사 제조) 10.0
스테아르산소르비탄 (레오돌 SP-S10V, 카오사 제조 ; HLB 4.7) 0.1
폴리옥시에틸렌?메틸폴리실록산 공중합체
(실리콘 SH3775M, 도레?다우코닝사 제조 ; HLB 5)
3.0
메틸폴리실록산 (2cs) (실리콘 KF-96L-2CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 10.0
메틸폴리실록산 (6cs) (실리콘 KF-96L-6CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 3.0
옥틸실릴화 판상 산화아연 (제조예 2) 10.0
실리콘 피복 탤크
(탤크 JA-46R (아사다 제분사 제조) 을 실리콘 피복한 것)
3.0
N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체
(POLYSILICONE-9 ; INCI 명, 카오사 제조)
0.6
에탄올 1.4
글리세린 13.0
정제수 밸런스
합계 100
((B)/(A) = 0.1)
실시예 12
(성분) (중량%)
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데칸아미드
(소프케어 세라미드 SLE, 카오사 제조)
0.5
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 (유비날 MC80, BASF 사 제조) 3.0
디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실
(유비날 A Plus, BASF 사 제조)
1.0
유동 이소파라핀 (팔레암 Ex, 니치유사 제조) 0.5
폴리옥시에틸렌?메틸폴리실록산 공중합체
(실리콘 SH3775M, 도레?다우코닝사 제조 ; HLB 5)
1.0
메틸시클로폴리실록산 (실리콘 TSF405A, 모멘티브사 제조) 18.3
메틸폴리실록산 (2cs) (실리콘 KF-96L-2CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 10.0
메틸폴리실록산 (6cs) (실리콘 KF-96L-6CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 5.0
실리콘 피복 미립자 산화아연
(미립자 산화아연 MZ500 (테이카사 제조) 의 표면을 실리콘 피복한 분체)
3.0
옥틸실릴화 탤크 (제조예 4) 10.0
N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체
(POLYSILICONE-9 ; INCI 명, 카오사 제조)
0.2
에탄올 0.5
글리세린 6.0
정제수 밸런스
합계 100
((B)/(A) = 0.05)
실시예 13
(성분) (중량%)
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데칸아미드
(소프케어 세라미드 SLE, 카오사 제조)
3.0
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 (유비날 MC80, BASF 사 제조) 3.0
디에틸아미노하이드록시벤조일벤조산헥실
(유비날 A Plus, BASF 사 제조)
0.5
이소스테아르산콜레스테릴 (엑세팔 IS-CE-A, 카오사 제조) 0.2
팔미트산덱스트린 (레오팔 KL2, 치바 제분사 제조) 0.3
유동 이소파라핀 (팔레암 Ex, 니치유사 제조) 0.5
스쿠알란 0.5
디카프르산네오펜틸글리콜 (에스테몰 N-01, 닛신 오일리오사 제조) 2.0
폴리옥시에틸렌?메틸폴리실록산 공중합체
(실리콘 SH3775M, 도레?다우코닝사 제조 ; HLB 5)
2.5
메틸시클로폴리실록산 (실리콘 TSF405A, 모멘티브사 제조) 17.6
메틸폴리실록산 (6cs) (실리콘 KF-96L-6CS, 신에쯔 실리콘사 제조) 9.0
옥틸실릴화 판상 산화아연 (제조예 2) 4.0
실리콘 피복 미립자 산화아연
(미립자 산화아연 MZ500 (테이카사 제조) 의 표면을 실리콘 피복한 분체)
6.0
N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체
(POLYSILICONE-9 ; INCI 명, 카오사 제조)
0.9
황산마그네슘 1.0
에탄올 4.5
글리세린 17.0
정제수 밸런스
합계 100
((B)/(A) = 0.75)
실시예 14
(성분) (중량%)
N-(헥사데실옥시하이드록시프로필)-N-하이드록시에틸헥사데칸아미드
(소프케어 세라미드 SLE, 카오사 제조)
0.5
파라메톡시계피산 2-에틸헥실 (유비날 MC80, BASF 사 제조) 3.0
유동 이소파라핀 (팔레암 Ex, 니치유사 제조) 5.0
이소도데칸 (마루카졸 R, 마루젠 석유 화학사 제조) 10.0
이소노난산이소트리데실 (사라코스 913, 닛신 오일리오사 제조) 10.0
폴리옥시에틸렌?메틸폴리실록산 공중합체
(실리콘 SH3775M, 도레?다우코닝사 제조 ; HLB 5)
1.5
옥틸실릴화 판상 산화아연 (제조예 2) 5.0
실리콘 피복 미립자 산화아연
(미립자 산화아연 MZ500 (테이카사 제조) 의 표면을 실리콘 피복한 분체)
5.0
실리콘 피복 탤크
(탤크 JA-46R (아사다 제분사 제조) 을 실리콘 피복한 것)
3.0
N-프로피오닐폴리에틸렌이민?메틸폴리실록산 공중합체
(POLYSILICONE-9 ; INCI 명, 카오사 제조)
0.2
에탄올 3.5
글리세린 6.0
정제수 밸런스
합계 100
((B)/(A) = 0.1)

Claims (13)

  1. 다음 성분 (A), (B), (C) 및 (D) :
    (A) 알킬알콕시실란으로 표면 처리된 판상 분체 1?20 중량%,
    (B) 25 ℃ 에서 고체 기름 0.1?10 중량%,
    (C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 500,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
    (D) 물
    을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 W/O 형 유화 화장료.
  2. 제 1 항에 있어서,
    성분 (A) 의 판상 분체가 평균 입경 0.1?10 ㎛ 인 W/O 형 유화 화장료.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    성분 (A) 의 판상 분체가 산화아연, 산화티탄 및 산화세륨에서 선택되는 것인 W/O 형 유화 화장료.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (A) 의 판상 분체가 옥틸트리에톡시실란 또는 옥틸트리메톡시실란으로 표면 처리된 것인 W/O 형 유화 화장료.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (B) 가 타입 I?타입 VI 의 천연 세라미드, N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸헥사데칸아미드 및 N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸데칸아미드에서 선택되는 세라미드류 및 그 유사 물질인 W/O 형 유화 화장료.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (B) 및 (C) 의 중량 비율이 (B)/(C) = 0.0025?2 인 W/O 형 유화 화장료.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가로 (E) 실리콘유를 함유하는 W/O 형 유화 화장료.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (C) 및 (E) 의 합계 함유량이 10?80 중량% 인 W/O 형 유화 화장료.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    성분 (C) 및 (E) 의 중량 비율이 (C)/(E) = 0.005?5 인 W/O 형 유화 화장료.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가로 (F) HLB 8 이하의 비이온 계면 활성제를 함유하는 W/O 형 유화 화장료.
  11. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가로 UVA 영역에 흡수를 갖는 유기 자외선 흡수제를 함유하는 W/O 형 유화 화장료.
  12. 다음 성분 (A), (B), (C) 및 (D) :
    (A) 옥틸트리에톡시실란 또는 옥틸트리메톡시실란으로 표면 처리된 산화아연, 산화티탄 및 산화세륨에서 선택되는 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
    (B) 타입 I?타입 VI 의 천연 세라미드, N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸헥사데칸아미드 및 N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸데칸아미드에서 선택되는 세라미드류 및 그 유사 물질 0.1?10 중량%,
    (C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 100,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
    (D) 물
    을 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5 인 W/O 형 유화 화장료.
  13. 다음 성분 (A), (B), (C), (D) 및 (E) :
    (A) 옥틸트리에톡시실란으로 표면 처리된 산화아연이고, 평균 입경 0.1?10 ㎛ 의 판상 분체 1?20 중량%,
    (B) N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸헥사데칸아미드 및 N-(2-하이드록시-3-헥사데실옥시프로필)-N-2-하이드록시에틸데칸아미드에서 선택되는 세라미드류 및 그 유사 물질 0.1?10 중량%,
    (C) 25 ℃ 에 있어서의 점도가 100,000 mPa?s 이하인 탄화수소유, 에스테르유 및 에테르유에서 선택되는 기름 0.5?60 중량%,
    (D) 물
    (E) 디메틸폴리실록산 10?40 중량%
    를 함유하고, 성분 (A) 및 (B) 의 중량 비율이 (B)/(A) = 0.01?5, 성분 (B) 및 (C) 의 중량 비율이 (B)/(C) = 0.0025?2 인 W/O 형 유화 화장료.
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