KR20120105356A - 광 조사 장치 - Google Patents

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KR20120105356A
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우시오덴키 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 피조사물에 부착된 유기물 등의 오염물과 대기중에 포함되는 오염물질의 반응 생성물이 피조사물에 부착되는 것을 방지 또는 억제할 수 있어, 따라서, 필요로 하는 광 세정 처리를 확실하게 달성할 수 있는 광 조사 장치를 제공한다.
엑시머 램프와, 이 엑시머 램프를 둘러싸도록 설치된, 당해 엑시머 램프로부터의 광을 외부로 출사하는 개구 및 내부의 가스를 배출하는 가스 배출구를 갖는 램프 하우스와, 이 램프 하우스의 개구로부터 당해 램프 하우스의 내부에 대기를 도입하고, 당해 램프 하우스의 가스 배출구로부터 배출되는 가스 배출 기구를 구비하여 이루어지고, 상기 엑시머 램프에는, 그 방사광이 상기 램프 하우스 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면에 조사되지 않도록 당해 방사광을 차폐하는 광 차폐 수단이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.

Description

광 조사 장치{LIGHT IRRADIATION APPARATUS}
본 발명은, 반도체 소자나 플랫 패널 디스플레이의 제조 공정에 있어서, 웨이퍼나 유리 기판 등의 기판의 표면을 광 세정하기 위해 적절한 광 조사 장치에 관한 것이다.
반도체 소자, 액정 표시 장치 등의 플랫 패널 디스플레이, 태양 전지 등의 제조 공정에 있어서는, 일반적으로, 실리콘 웨이퍼나 유리 기판 등의 기판에 대해 밀착성이 높은 박막을 형성하기 위해서, 기판의 표면을 세정 처리함으로써, 당해 기판의 표면에 존재하는 유기물 등의 오염물을 제거하는 것이 행해지고 있으며, 기판의 표면을 세정 처리하는 방법으로는, 물이나 유기용제 등을 사용하지 않는 드라이 세정 방법이 널리 이용되고 있다. 이 드라이 세정 방법으로는, 피처리물의 표면에, 엑시머 램프로부터의 엑시머광을 조사함과 더불어, 엑시머광의 조사에 의해 생긴 산소라디칼, 오존 등을 작용시킴으로써, 당해 피처리물의 표면을 세정하는 광 세정법이 알려져 있다.
이러한 광 세정법에 이용되는 광 조사 장치는, 예를 들면 합성 석영 유리로 이루어지는 자외선 투과창을 갖는 램프 하우스와, 이 램프 하우스 내에 수납된, 자외선을 방사하는 엑시머 램프를 구비하여 이루어지는 것이 알려져 있다(특허 문헌 1 참조).
이 광 조사 장치에 있어서는, 엑시머 램프로부터 방사된 자외선이, 램프 하우스의 자외선 투과창에 도달하기까지 당해 램프 하우스 내의 가스에 의해 흡수되는 것을 방지하기 위해, 램프 하우스 내에는 질소 가스 등의 불활성 가스를 충전하여 순환시키는 것이 행해지고 있다. 따라서, 광 조사 장치에는, 불활성 가스를 순환시키는 순환 기구를 설치하는 것이 필요해져, 이 때문에, 광 조사 장치의 제조 비용이 비싸지고, 또, 광 조사 장치의 사용시에는 질소 가스 등의 불활성 가스를 이용하는 것이 필요하다는 점으로부터, 피조사물의 세정 처리의 처리 비용이 비싸진다는 문제가 있다.
그리하여, 최근에는, 자외선 방사 강도가 높은 엑시머 램프가 개발되어, 이에, 당해 엑시머 램프로부터의 자외선이 램프 하우스 내의 가스에 의해 흡수되어도, 피조사물에 대해 충분한 강도의 자외선을 조사하는 것이 가능하다는 점으로부터, 램프 하우스 내에 대기를 도입하고 당해 램프 하우스의 배기구로부터 배출시키면서, 엑시머 램프로부터의 자외선을 피조사물에 조사하는 광 조사 장치가 제안되어 있다(특허 문헌 2 참조).
이러한 광 조사 장치에 의하면, 불활성 가스를 순환시키는 순환 기구나, 고가의 자외선 투과창을 설치하는 것이 불필요하므로, 광 조사 장치의 제조 비용의 저감화를 도모할 수 있고, 또, 광 조사 장치의 사용시에는 질소 가스 등의 불활성 가스를 이용하는 것이 불필요하다는 점으로부터, 피조사물의 세정 처리의 처리 비용의 저감화를 도모할 수 있다.
그러나, 상기 광 조사 장치에 있어서는, 피조사물에 부착된 유기물 등의 오염물과, 램프 하우스 내에 도입되는 대기중에 포함되는 AMC(Airborne Molecular Contaminants) 등의 오염물질이, 엑시머 램프로부터의 자외선에 의해 활성화됨으로써 반응하고, 그 반응 생성물이 램프 하우스의 내벽면에 퇴적된 후, 당해 램프 하우스의 내벽면으로부터 이산하여 피조사물에 부착되기 때문에, 필요로 하는 광 세정 처리를 확실하게 달성하는 것이 곤란하게 된다는 문제가 있다고 판명되었다. 이 현상은 파티클이 피조사물을 오염시키는 것과는 상이하다.
일본국 특허 공개 평 8-124540호 공보 일본국 특허 공개 2004－290935호 공보
본 발명은, 이상과 같은 사정에 의거하여 이루어진 것으로서, 그 목적은, 피조사물에 부착된 유기물 등의 오염물과 대기중에 포함되는 오염물질의 반응 생성물이 피조사물에 부착되는 것을 방지 또는 억제할 수 있어, 따라서, 필요로 하는 광 세정 처리를 확실하게 달성할 수 있는 광 조사 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 광 조사 장치는, 엑시머 램프와,
이 엑시머 램프를 둘러싸도록 설치된, 당해 엑시머 램프로부터의 광을 외부로 출사하는 개구 및 내부의 가스를 배출하는 가스 배출구를 갖는 램프 하우스와,
이 램프 하우스의 개구로부터 당해 램프 하우스의 내부에 대기를 도입하고, 당해 램프 하우스의 가스 배출구로부터 배출되는 가스 배출 기구를 구비하여 이루어지고,
상기 엑시머 램프에는, 그 방사광이 상기 램프 하우스 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면에 조사되지 않도록 당해 방사광을 차폐하는 광 차폐 수단이 설치되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 광 조사 장치에 있어서는, 상기 광 차폐 수단은, 상기 엑시머 램프에 있어서의 방전 용기의 내면 또는 외면에 형성된 광 차폐막인 것이 바람직하다.
또, 상기 광 차폐막은, 상기 엑시머 램프에 있어서의 방전 용기 내에서 발생한 광을 반사하는 광 반사 기능을 갖는 것임이 바람직하다.
본 발명의 광 조사 장치에 의하면, 엑시머 램프에는, 그 방사광이 램프 하우스 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면에 조사되지 않도록 당해 방사광을 차폐하는 광 차폐 수단이 설치되어 있음으로써, 램프 하우스 내의 가스 유통로를 흐르는 대기에 엑시머 램프로부터의 광이 조사되는 것이 방지 또는 억제되는 결과, 피조사물에 부착된 유기물 등의 오염물과, 램프 하우스 내에 도입되는 대기중에 포함되는 오염물질이 반응하는 것을 방지 또는 억제할 수 있으므로, 그 반응 생성물이 피조사물에 부착되는 것을 방지 또는 억제할 수 있어, 따라서, 피처리물에 대해 필요로 하는 광 세정 처리를 확실하게 달성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 광 조사 장치의 일례에 있어서의 구성의 개략을 나타낸 설명용 단면도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 광 조사 장치에 있어서의 엑시머 램프의 구성을 나타낸 설명용 단면도이며, (a)는 종단면도, (b)는 횡단면도이다.
이하, 본 발명의 광 조사 장치의 실시형태에 대해서 설명한다.
도 1은, 본 발명의 광 조사 장치의 일례에 있어서의 구성의 개략을 나타낸 설명용 단면도이다. 이 광 조사 장치는, 반도체 소자나 플랫 패널 디스플레이의 제조 공정에 있어서, 웨이퍼나 유리 기판 등의 기판의 표면을 광 세정하기 위한 것으로서, 예를 들면 파장 200nm 이하의 자외선(L)을 하방에 위치되는 피조사물(W)을 향해 방사하는 엑시머 램프(10)를 갖고, 이 엑시머 램프(10)로부터의 자외선(L)을 외부로 출사하는 개구(21)를 하면에 갖는 금속제의 램프 하우스(20)가, 당해 엑시머 램프(10)를 둘러싸도록 배치되어 있다.
램프 하우스(20)에 있어서의 일측벽에는, 내부의 가스를 배출하는 가스 배출구(22)가 형성되어 있다. 램프 하우스(20)에 있어서의 일측벽의 외면에는, 램프 하우스(20)의 개구(21)로부터 당해 램프 하우스(20)의 내부에 대기(A)를 도입하고, 엑시머 램프(10)를 통해 가스 배출구(22)로부터 배출되는 가스 배출 기구(30)가 일체적으로 설치되고, 이 가스 배출 기구(30)에는, 가스 배출관(35)이 접속되어 있다. 또, 램프 하우스(20) 내에는, 가스 배출 기구(30)에 의해 도입되는 대기가 흐르는 가스 유통로를 형성하는 가스 유통로 부재(25)가 설치되어 있다.
또, 램프 하우스(20)의 하방에는, 피조사물(W)을 반송하는 복수의 반송 롤러(41)를 갖는 반송 기구(40)가 설치되어 있다.
도 2는, 도 1에 나타낸 광 조사 장치에 있어서의 엑시머 램프(10)의 구성을 나타낸 설명용 단면도이며, (a)는 종단면도, (b)는 횡단면도이다. 이 엑시머 램프(10)는, 엑시머용 가스가 기밀하게 봉입된 방전 공간(S)을 형성하는 방전 용기(11)를 갖는다. 이 방전 용기(11)는, 서로 대향하는 각각 직사각형 상벽부(11a) 및 하벽부(11b)와, 상벽부(11a) 및 하벽부(11b)의 둘레 가장자리를 연접하는 4개의 측벽부(11c, 11d, 11e, 11f)로 이루어지는 편평한 상자형의 것이며, 전체가 예를 들면 파장 200nm 이하의 자외선의 투과성이 우수한 재료로 구성되어 있다.
방전 용기(11)에 있어서의 상벽부(11a)의 외면(도 2에서 상면)에는, 망형상의 한쪽의 전극(12)이 설치되고, 당해 방전 용기(11)에 있어서의 하벽부(11b)의 외면(도 2에서 하면)에는, 망형상의 다른쪽의 전극(13)이 설치되어 있고, 한쪽의 전극(12) 및 다른쪽의 전극(13)의 각각은, 고주파 전원(도시생략)에 접속되어 있다.
방전 용기(11)를 구성하는 재료로는, 진공 자외선을 양호하게 투과하는 것, 구체적으로는, 합성 석영 유리 등의 실리카 유리, 사파이어 유리 등을 이용할 수 있다.
방전 용기(11)의 치수의 구체적인 일례를 나타내면, 상벽부(11a), 하벽부(11b)의 폭방향의 길이가 70mm, 측벽부(11c, 11d, 11e, 11f)의 높이 방향의 길이가 18mm, 두께가 3.Omm이다.
한쪽다른쪽극(12) 및 다른쪽의 전극(13)을 구성하는 재료로는, 금, 은, 동, 니켈, 크롬 등의 내부식성을 갖는 금속재료를 이용할 수 있다. 또, 한쪽의 전극(12) 및 다른쪽의 전극(13)은, 상기 금속재료를 포함하는 도전성 페이스트를 스크린 인쇄함으로써, 혹은 상기 금속재료를 진공 증착함으로써, 형성할 수 있다.
한쪽의 전극(12) 및 다른쪽의 전극(13)의 각각의 두께는, 예를 들면 0.1㎛?수십㎛이다.
방전 용기(11) 내에 봉입되는 엑시머용 가스로는, 진공 자외선을 방사하는 엑시머를 생성할 수 있는 것, 구체적으로는, 크세논, 아르곤, 크립톤 등의 희가스, 또는, 희가스와, 브롬, 염소, 옥소, 불소 등의 할로겐 가스를 혼합한 혼합 가스 등을 이용할 수 있다. 엑시머용 가스의 구체적인 예를, 방사되는 자외선의 파장과 함께 나타내면, 크세논 가스에서는 172nm, 아르곤과 옥소의 혼합 가스에서는 191nm, 아르곤과 불소의 혼합 가스에서는 193nm이다.
또, 엑시머용 가스의 봉입압은, 예를 들면 10?100kPa이다.
그리고, 엑시머 램프(10)에는, 그 방사광이 램프 하우스(20) 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면(나타낸 예에서는, 램프 하우스(20)의 내면 및 가스 유통로 부재(25)의 표면)에 조사되지 않도록 당해 방사광을 차폐하는 광 차폐 수단이 설치되어 있다. 구체적으로는, 이 예의 광 차폐 수단은, 엑시머 램프(10)의 방전 용기(11)에 있어서의 상벽부(11a) 및 4개의 측벽부(11c, 11d, 11e, 11f)의 각각의 내면 전면 및 하벽부(11b)의 주변 부분의 내면을 덮도록 형성된 광 차폐막(15)으로 구성되어 있다.
광 차폐막(15)은, 엑시머 램프(10)에 있어서의 방전 용기(11) 내의 방전 공간(S)에서 발생한 자외선을 반사하는 광 반사 기능을 갖는 것임이 바람직하고, 이로써, 높은 광의 이용율이 얻어진다.
이러한 광 반사 기능을 갖는 광 차폐막(15)으로는, 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 지르코늄 등으로 이루어지는 것을 이용할 수 있고, 예를 들면 실리카 입자와 알루미나 입자로 이루어지는 것, 특히, 광 차폐막(15)에 있어서의 실리카 입자의 함유 비율이 30?99질량%로, 알루미나 입자의 함유 비율이 1?70질량%인 것이 바람직하다.
상기한 광 조사 장치에 있어서는, 엑시머 램프(10)에 있어서의 한쪽의 전극(12)과 다른쪽의 전극(13) 사이에, 고주파 전원에 의해 고주파 전계가 인가되고, 당해 고주파 전계에 의해, 엑시머 램프(10)에 있어서의 방전 용기(11) 내의 방전 공간(S)에서 유전체 배리어 방전이 발생하여, 이 유전체 배리어 방전에 의해 엑시머용 가스에 유래하는 엑시머 분자가 형성되고, 이에 의해, 예를 들면 파장 200nm이하의 자외선(L)이 발생하고, 이 자외선(L)은, 직접 또는 광 차폐막(15)에 반사되어 방전 용기(11)의 하벽부(11b)로부터 하방으로 방사된다.
한편, 가스 배출 기구(30)가 작동됨으로써, 광 조사 장치의 외부 대기(A)가 램프 하우스(20)의 개구(21)로부터 당해 램프 하우스(20)의 내부에 도입된 후, 램프 하우스(20) 내의 가스 유통로를 따라 흐르고, 당해 램프 하우스(20)의 가스 배출구(22)로부터 외부로 배출된다. 이 때, 엑시머 램프(10)는, 램프 하우스(20) 내에 있어서의 가스 유통로 내에 배치되어 있기 때문에, 램프 하우스(20) 내의 가스 유통로를 흐르는 대기(A)에 의해 냉각된다.
그리고, 엑시머 램프(10)로부터의 자외선(L)은, 램프 하우스(20)의 개구(21)로부터 하방으로 출사되어, 반송 기구(40)에 의해 램프 하우스(20)의 직하의 위치에 반송된 피처리물(W)에 조사되고, 이에 의해, 피처리물(W)에 대한 광 세정 처리가 달성된다.
이상에서, 엑시머 램프(10)와 피처리물(W) 사이의 이격 거리는, 3?5mm인 것이 바람직하다. 이 이격 거리가 과대한 경우에는, 대기중의 산소에 의해 172nm의 광이 흡수되어 버려, 피처리물(W)에 도달하는 광의 광량이 작아지기 때문이다. 이 때문에, 이격 거리가 5mm를 넘어도, 그 나름의 효과는 있으나 실용상 부적절하다. 한편, 이 이격 거리가 과소한 경우에는, 반송 기구(40)의 반송 롤러(41) 상에 있어서의 피처리물(W)의 휨, 반송에 의한 피처리물(W)의 상하 진동, 반송 롤러(41) 자체의 휨, 광 조사 장치 자체의 휨 등이 있을 때에는 부적절하게 된다.
또, 피조사물(W)에 대한 자외선(L)의 조사 시간은, 예를 들면 0.5?2.0초간이다.
또, 램프 하우스(20)의 개구(21)로부터 도입되는 대기(A)의 유량은, 20OO?5000L/min인 것이 바람직하다. 대기(A)의 유량이 과소한 경우에는, 유속이 느리기 때문에 광 조사 장치 내에 대기(A)의 체류가 생기거나, 혹은 역류가 생겨버리거나 한다. 한편, 대기(A)의 유량이 과대한 경우에는, 화학적 작용으로서는 문제가 없으나, 배기 장치의 대형화, 덕트 직경의 대형화를 필요로 하므로 장치 전체가 너무 커져, 실용적인 장치 비용이라는 관점으로부터 부적절하다.
상기 광 조사 장치에 의하면, 엑시머 램프(10)에 있어서의 방전 용기(11)의 내표면에는, 당해 엑시머 램프(10)의 방전 용기(11) 내의 방전 공간(S)에서 발생하는 자외선(L)이, 램프 하우스(20) 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면에 조사되지 않도록 당해 자외선(L)을 차폐하는 광 차폐막(15)이 형성되어 있음으로써, 램프 하우스(20) 내의 가스 유통로를 흐르는 대기(A)에 자외선(L)이 조사되는 것이 방지 또는 억제되는 결과, 피조사물(W)에 부착된 유기물 등의 오염물과, 램프 하우스(20) 내에 도입되는 대기(A)중에 포함되는 오염물질이 반응하는 것을 방지 또는 억제할 수 있으므로, 그 반응 생성물이 피조사물(W)에 부착되는 것을 방지 또는 억제할 수 있어, 따라서, 피처리물(W)에 대한 필요로 하는 광 세정 처리를 확실하게 달성할 수 있다.
본 발명의 광 조사 장치에서는, 상기 실시형태에 한정되지 않고, 여러 가지의 변경을 가하는 것이 가능하다.
예를 들면 램프 하우스(20) 내에는, 복수의 엑시머 램프(10)가 설치되어 있어도 된다.
또, 광 차폐막(15)은, 엑시머 램프(10)의 방전 용기(11)의 외면에 형성되어 있어도 되고, 또, 광 차폐 수단으로는, 광 차폐막(15)으로 한정되지 않고, 엑시머 램프(10)의 방사광이 램프 하우스(20) 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면에 조사되지 않도록 당해 방사광을 차폐하는 적절한 것을 설치할 수 있다.
또, 램프 하우스(20)의 가스 배출구(22)는, 당해 램프 하우스(20)의 상측벽에 형성되어 있어도 된다.
또, 광 차폐막(15)은, 광 반사 기능을 갖지 않는 것이어도 되고, 그 재질로는, 산화 마그네슘, 산화 이트륨 등을 이용할 수 있다.
[실시예]
이하, 본 발명의 광 조사 장치의 구체적인 실시예에 대해서 설명하는데, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
도 1 및 도 2의 구성에 따라, 폭이 160mm, 높이가 250mm, 엑시머 램프를 수납하는 부분의 높이가 100mm, 전체 길이(안길이)가 3000mm인 램프 하우스와, 전체 길이가 2500mm, 폭이 70mm, 높이가 18mm, 유효 발광 길이가 2200mm인 엑시머 램프를 갖는 광 조사 장치를 제작했다. 이 광 조사 장치에 있어서의 엑시머 램프는, 방전 용기의 내부에는 크세논 가스가 봉입되어 있고, 또, 광 차폐 수단으로서, 방전 용기에 있어서의 상벽부 및 4개의 측벽부의 각각의 내면 전면 및 하벽부의 주변 부분의 내면을 덮도록 자외선 차폐막이 형성되어 있다. 그리고, 피조사물로서 액정용 유리 기판을 이용하고, 엑시머 램프의 램프 전력이 1.6kW, 방전 용기의 외표면에 있어서의 자외선 조도가 150mW/cm2, 엑시머 램프와 피조사물의 이격 거리가 4mm, 가스 배기량이 3000l/min, 반송 기구에 의한 유리 기판의 반송 속도가 4m/min인 조건에서, 유리 기판의 세정 처리를 행하고, 세정 처리전 및 세정 처리후의 유리 기판 표면의 접촉각을 측정했다.
그 결과, 유리 기판 표면의 접촉각은, 세정 처리전에 40°였는데, 세정 처리후에 2°였다. 액정용 유리 기판 표면의 접촉각의 요구 레벨은 5° 이하로 되어 있는 점으로부터, 높은 세정 처리 능력이 얻어짐이 확인되었다.
또한, 이 광 조사 장치를 6개월간 연속 운전하여 유리 기판의 세정 처리를 행한 바, 유리 기판의 세정 처리에 문제점은 발생하지 않았고, 6개월 경과 후에 세정 처리를 행한 유리 기판의 접촉각을 측정한 바, 4°였다.
<실시예 2>
자외선 차폐막을 형성하는 위치를, 방전 용기에 있어서의 상벽부 및 4개의 측벽부의 각각의 외면 전면 및 하벽부의 주변 부분의 외면으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 구성의 광 조사 장치를 제작했다. 그리고, 피조사물로서 액정용 유리 기판을 이용하여, 실시예 1과 같은 조건으로, 유리 기판의 세정 처리를 행하고, 세정 처리전 및 세정 처리후의 유리 기판 표면의 접촉각을 측정했다.
그 결과, 유리 기판 표면의 접촉각은, 세정 처리전에 40°이었으나, 세정 처리후에 2°로, 높은 세정 처리 능력이 얻어졌음이 확인되었다.
또한, 이 광 조사 장치를 6개월간 연속 운전하여 유리 기판의 세정 처리를 행한 바, 유리 기판의 세정 처리에 문제점은 발생하지 않았고, 6개월 경과 후에 세정 처리를 행한 유리 기판의 접촉각을 측정한 바, 4°였다.
<비교예 1>
방전 용기의 내면에 자외선 차폐막이 형성되어 있지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 구성의 광 조사 장치를 제작했다. 그리고, 피조사물로서 액정용 유리 기판을 이용하고, 엑시머 램프의 램프 전력이 1.6kW, 방전 용기의 외표면에 있어서의 자외선 조도가 100mW/cm2, 엑시머 램프와 피조사물의 이격 거리가 4mm, 가스 배기량이 3000l/min 반송 기구에 의한 유리 기판의 반송 속도가 4m/min인 조건에서, 2개월간 연속 운전하여 유리 기판의 세정 처리를 행하고, 2개월 경과 후에 세정 처리를 행한 유리 기판의 접촉각을 측정했더니, 10° 이상이고, 또, 유리 기판을 관찰한 바, 그 표면에 부착물이 육안으로 확인되게 되었다.
<비교예 2>
자외선 차폐막이, 방전 용기에 있어서의 상벽부에만 형성되어 있는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 구성의 광 조사 장치를 제작했다. 그리고, 피조사물로서 액정용 유리 기판을 이용하고, 실시예 1과 동일한 조건에서, 3개월간 연속 운전하여 유리 기판의 세정 처리를 행하고, 3개월 경과 후에 세정 처리를 행한 유리 기판의 접촉각을 측정한 바, 5°였는데, 또한, 3개월간(합계 6개월간) 연속 운전하여 유리 기판의 세정 처리를 행하고, 3개월(합계 6개월간) 경과 후에 세정 처리를 행한 유리 기판의 접촉각을 측정한 바, 10° 이상이고, 또, 유리 기판을 관찰했더니, 그 표면에 부착물이 육안으로 확인되게 되었다.
10 : 엑시머 램프
11 : 방전 용기
11a : 상벽부
11b : 하벽부
11c, 11d, 11e, 11f : 측벽부
12 : 한쪽의 전극
13 : 다른쪽의 전극
15 : 광 차폐막
20 : 램프 하우스
21 : 개구
22 : 가스 배출구
25 : 가스 유통로 부재
30 : 가스 배출 기구
35 : 가스 배출관
40 : 반송 기구
41 : 반송 롤러
W : 피조사물

Claims (3)

  1. 엑시머 램프와,
    이 엑시머 램프를 둘러싸도록 설치된, 당해 엑시머 램프로부터의 광을 외부로 출사하는 개구 및 내부의 가스를 배출하는 가스 배출구를 갖는 램프 하우스와,
    이 램프 하우스의 개구로부터 당해 램프 하우스의 내부에 대기를 도입하고, 당해 램프 하우스의 가스 배출구로부터 배출되는 가스 배출 기구를 구비하여 이루어지고,
    상기 엑시머 램프에는, 그 방사광이 상기 램프 하우스 내에 있어서의 가스 유통로를 형성하는 벽면에 조사되지 않도록 당해 방사광을 차폐하는 광 차폐 수단이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 광 조사 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 광 차폐 수단은, 상기 엑시머 램프에 있어서의 방전 용기의 내면 또는 외면에 형성된 광 차폐막인 것을 특징으로 하는 광 조사 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 광 차폐막은, 상기 엑시머 램프에 있어서의 방전 용기 내에서 발생한 광을 반사하는 광 반사 기능을 갖는 것임을 특징으로 하는 광 조사 장치.
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