KR20120098501A - 지지 방법, 이것을 이용한 고온 처리 방법, 및 지지 지그 - Google Patents

지지 방법, 이것을 이용한 고온 처리 방법, 및 지지 지그 Download PDF

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Abstract

웨이퍼의 휘어짐 발생을 방지한다. 웨이퍼 (11) 가 첩부되어 있는 지지체 (13) 를 지지하는 지지 방법으로서, 지지체 (13) 에 있어서의 웨이퍼 (11) 가 첩부되어 있는 면과는 반대측의 피지지면 (13a) 의 내주부에 있어서의 적어도 3 점을 지지점 (14) 으로 하여 중력에 저항하여 지지한다.

Description

지지 방법, 이것을 이용한 고온 처리 방법, 및 지지 지그{SUPPORT METHOD, HIGH-TEMPERATURE TREATMENT METHOD USING SAME, AND SUPPORT JIG}
본 발명은, 웨이퍼가 첩부 (貼付) 되어 있는 피지지 기판의 지지 방법, 이것을 이용한 고온 처리 방법, 및 지지 지그에 관한 것이다.
최근, 휴대전화, 디지털 AV 기기 및 IC 카드 등의 고기능화에 수반하여, 탑재되는 반도체 실리콘 칩의 소형화, 박형화 및 고집적화에 대한 요구가 높아지고 있다.
박형의 칩은, 예를 들어 고순도 실리콘 단결정 등을 슬라이스하여 웨이퍼로 한 후, 이 웨이퍼의 이면에 반도체를 형성시킴으로써 제조된다. 반도체를 형성시키는 공정에서는, 절연막의 큐어링 (curing) 공정 등에 있어서 열처리함으로써, 200 ℃ 를 초과하는 고온에 웨이퍼를 노출시키는 경우가 있다.
또, 특허문헌 1 에는, 열처리할 때에 웨이퍼를 지지하는 방법 및 웨이퍼를 지지하는 지그에 대해 기재되어 있다. 특허문헌 1 에 기재된 지지 방법은, 결정 방위가 ＜110＞ 웨이퍼인 경우에는, 웨이퍼의 이면을, 웨이퍼의 중심점과 그 점에서 웨이퍼의 표면에 평행한 ＜100＞ 을 향하는 방향을 기준으로 하여 40° ? 60°의 범위에 있는 부채 형상의 웨이퍼면, 및 상기 부채 형상의 웨이퍼면을 90°주기로 회전시킨 당해 웨이퍼면으로 지지하는 방법이다.
일본 공개특허공보 2008-98589호 (2008년 4월 24일 공개)
웨이퍼는, 상기 서술한 칩의 소형화 및 박형화에 대한 요구에 의해 연삭하여 박판화할 필요가 있다. 그래서, 웨이퍼의 파손을 방지하기 위해, 웨이퍼를 접착제 등에 의해 지지체 (이하, 「피지지 기판」이라고도 한다) 에 첩부하여 박판화하는 경우가 있다. 이 박화 (薄化) 된 웨이퍼는, 지지체에 첩부된 상태로 상기 서술한 열처리를 실시하는 경우가 있다.
그러나, 특허문헌 1 에는, 웨이퍼가 첩부된 지지체를 지지하는 방법에 대해서는 기재되어 있지 않다.
그래서, 웨이퍼가 첩부된 지지체를 지지하는 방법으로서, 지지체의 외주의 3 점 또는 4 점을 지지하는 방법을 생각할 수 있다. 이 방법으로 지지체를 지지한 경우의 예를 도 15 및 도 16 에 나타낸다. 도 15 및 도 16 은, 종래의 방법에 의해 지지체를 지지하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 15 및 도 16 에 나타내는 예에서는, 웨이퍼 (111) 가 지지체 (113) 에 접착층 (112) 을 개재하여 첩부된 적층체 (110) 를, 지지체 (113) 의 외주에 위치하는 4 점의 지지점 (115) 으로 지지한다. 예를 들어 외주 지지부 (123) 를 구비한 지지 지그 (120) 에 의해 지지하는 방법이다. 또한, 도 15 는 적층체 (110) 를 옆에서 본 단면도이고, 도 16 은 적층체 (110) 를 위에서 본 평면도이다.
그러나, 이 방법에 의해 적층체 (110) 를 지지한 경우에는, 지지체 (113) 및 접착층 (112) 의 무게에 의한 자중 응력에 의해 적층체 (110) 의 중앙 부분이 휘어져 버린다.
특히, 300 ㎜ 를 초과하는 것 같은 대구경 웨이퍼를 사용하는 경우에는 크게 휘어져 버릴 가능성이 높다. 이와 같이 휘어진 상태로 웨이퍼에 대해 열처리를 실시한 후에 냉각시키면, 웨이퍼에는 큰 휘어짐이 발생해 버린다. 그 때문에, 그 후의 프로세스에 있어서, 로봇 아암에 의한 반송 불량, 진공 척 에러, 노광시의 디포커스 등을 발생시켜 버려, 프로세스의 진행에 큰 지장을 초래하게 된다는 문제가 있다.
본 발명은, 상기 종래 기술이 갖는 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 웨이퍼의 휘어짐 발생을 방지할 수 있는 지지 방법, 고온 처리 방법, 및 지지 지그를 제공하는 것에 있다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 관련된 지지 방법은, 웨이퍼가 첩부되어 있는 피지지 기판을 지지하는 지지 방법으로서, 상기 피지지 기판에 있어서의 상기 웨이퍼가 첩부되어 있는 면과는 반대측의 피지지면의 내주부에 있어서의 적어도 3 점을 지지점으로 하여 중력에 저항하여 지지하는 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명에 관련된 지지 방법에서는, 상기 지지점 중 적어도 3 점이, 원형인 상기 피지지면의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 관련된 지지 방법에서는, 웨이퍼가 첩부되어 있는 피지지 기판을 지지하는 지지 방법으로서, 상기 피지지 기판에 있어서의 상기 웨이퍼가 첩부되어 있는 면과는 반대측의 피지지면의 내주부에 있어서의 적어도 1 점과, 피지지면의 외주부에 있어서의 적어도 2 점을 지지점으로 하여 중력에 저항하여 지지하는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 관련된 지지 방법에서는, 상기 지지점 중 1 점이, 원형인 상기 피지지면의 중심점에 위치하는 것이 바람직하다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 관련된 고온 처리 방법은, 상기 서술한 어느 지지 방법을 이용하여 상기 피지지 기판을 지지한 상태로, 상기 웨이퍼를 고온 처리하는 것을 특징으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 관련된 지지 지그는, 피지지 기판에 있어서의 피지지면에 대향하여 배치됨으로써, 당해 피지지 기판을 지지하는 지지 지그로서, 지지 플레이트와, 상기 지지 플레이트 상에 형성되고, 상기 피지지면의 내주부를 중력에 저항하여 지지하는 적어도 3 개의 지지부를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명에 관련된 지지 지그에서는, 상기 지지부 중 적어도 3 개는, 원형인 상기 피지지면의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 점을 지지하도록 되어 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 관련된 지지 지그에서는, 피지지 기판에 있어서의 피지지면에 대향하여 배치됨으로써, 당해 피지지 기판을 지지하는 지지 지그로서, 지지 플레이트와, 상기 지지 플레이트 상에 형성되고, 상기 피지지면의 내주부를 중력에 저항하여 지지하는 적어도 하나의 지지부와, 상기 피지지면의 외주부를 중력에 저항하여 지지하는 적어도 2 개의 외주 지지부를 구비하고 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 관련된 지지 지그에서는, 상기 지지부 중 하나는, 원형인 상기 피지지면의 중심점을 지지하도록 되어 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 관련된 지지 지그에서는, 상기 지지부의 선단은, 상기 피지지면과 점 접촉하는 형상인 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼의 휘어짐 발생을 방지할 수 있는 지지 방법, 고온 처리 방법, 및 지지 지그를 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명에 관련된 지지 방법의 일 실시형태를 설명하기 위한 도면이다.
도 2 의 (a) ? 도 2 의 (e) 는, 본 발명에 관련된 지지 방법의 일 실시형태에 있어서의 지지점 배치의 예를 나타내는 도면이다.
도 3 은 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시형태를 나타내는 도면이다.
도 4 는 본 발명에 관련된 지지 지그를 이용하여 지지체를 지지하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5 의 (a) ? 도 5 의 (e) 는, 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시형태에 있어서의 지지부 배치의 변형예를 나타내는 도면이다.
도 6 은 본 발명의 다른 실시형태를 설명하기 위한 도면이다.
도 7 의 (a) ? 도 7 의 (b) 는, 본 발명의 다른 실시형태에 있어서의 지지점 배치의 예를 나타내는 도면이다.
도 8 은 본 발명에 관련된 지지 지그의 다른 실시형태를 나타내는 도면이다.
도 9 는 도 8 에 나타내는 지지 지그의 일부를 나타내는 도면이다.
도 10 은 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시예의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 11 은 본 발명에 관련된 지지 지그의 다른 실시예의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 12 는 본 발명에 관련된 지지 지그의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 13 의 (a) 는, 종래의 지지 지그의 일례를 나타내는 정면도이며, 도 13 의 (b) 는, 도 13 의 (a) 에 나타내는 지지 지그의 주요부를 나타내는 도면이다.
도 14 는 도 13 의 (a) 에 나타내는 지지 지그의 단면을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 15 는 종래의 방법에 의해 지지체를 지지하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 16 은 종래의 방법에 의해 지지체를 지지하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
〔제 1 실시형태〕
본 발명에 관련된 지지 방법 및 지지 지그의 일 실시형태에 대해, 이하에 설명한다.
(지지 방법의 개요)
우선, 본 발명에 관련된 지지 방법의 일 실시형태의 개요에 대해, 도 1 을 참조하여 설명한다. 도 1 은, 본 발명에 관련된 지지 방법의 일 실시형태를 설명하기 위한 도면이다.
본 실시형태에 관련된 지지 방법은, 웨이퍼 (11) 가 첩부되어 있는 지지체 (피지지 기판) (13) 를 지지하는 방법이다. 또한, 도 1 은, 지지체 (13) 를 옆에서 본 단면도를 나타낸다.
지지체 (13) 는, 예를 들어 웨이퍼 (11) 에 연마 등의 가공을 실시할 때에, 웨이퍼 (11) 를 보호하기 위해 지지 가능한 기판이다. 지지체 (13) 로는, 가요성을 갖는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 당업자에게 공지된 기판을 이용하면 된다. 가요성을 갖는 기판의 재료로는, 예를 들어 유리, 실리콘, 알루미나, 탄화규소, 알루미늄, 수지, 스테인리스, 또는 철-니켈 합금 등의 금속류 등을 들 수 있다.
지지체 (13) 의 형상은 웨이퍼 (11) 의 형상에 따라 적절히 설계하면 된다. 또, 지지체 (13) 에는 관통공이 형성되어 있어도 되고, 형성되어 있지 않아도 된다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 지지체 (13) 의 양면에 각각 개구면을 가지고 있는 복수의 관통공이 형성되어 있는 경우를 예로 설명한다. 본 실시형태와 같이, 지지체 (13) 로서 관통공이 형성되어 있는 지지체를 사용한 경우에는, 용해 공정에 있어서 당해 관통공으로부터 용해액을 주입하여 접착제를 용이하게 용해시킬 수 있다. 또한, 지지체 (13) 에 있어서의 관통공의 형성 방법은, 당업자에게 공지된 방법을 이용하면 된다.
또, 지지체 (13) 로서 관통공이 형성되어 있지 않는 지지체를 사용한 경우에는, 접착제의 가라앉음을 억제할 수 있다. 또, 웨이퍼를 지지체로부터 레이저 등에 의해 박리하기 때문에, 접착제의 용해 시간을 단축시킬 수 있다.
웨이퍼 (11) 는, 예를 들어 그 표면에 회로 패턴이 형성되어 있고, 당해 회로 패턴의 형성면이 지지체 (13) 와 접착될 수 있다. 웨이퍼 (11) 로는, 당업자가 이용 가능한 공지된 웨이퍼 (11) 를 이용하면 되고, 그 재료에는, 예를 들어 석영, 실리콘, 사파이어, GaAs (갈륨비소) 등의 화합물 반도체를 들 수 있다.
지지체 (13) 와 웨이퍼 (11) 는, 접착제에 의해 서로 접착되어 적층체 (10) 를 구성하고 있다. 즉, 지지체 (13) 와 웨이퍼 (11) 의 계면에는 접착제가 도포되어 접착층 (12) 이 형성되어 있다.
접착제로는, 예를 들어 아크릴계 수지, 말레이미드계 수지, 탄화수소계 수지 (시클로올레핀계 수지, 테르펜 수지, 석유 수지 등), 또는 노볼락 타입의 페놀 수지계 재료를 함유하여 이루어지는 접착제 조성물 등, 유기 용제에 대해 가용성을 나타내는 접착제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 이들을 단독으로 이용해도 되고, 조합하여 이용해도 된다.
지지체 (13) 는, 웨이퍼 (11) 가 첩부되어 있는 면과는 반대측의 면이 피지지면 (13a) 으로 되어 있다.
본 실시형태에 관련된 지지 방법에서는, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 중력에 저항하여 지지한다. 내주부 (13aa) 란, 피지지면 (13a) 의 외주 근방의 영역을 제외한 내측의 영역을 가리킨다. 또한, 내주부 (13aa) 는, 지지체 (13) 의 피지지면 (13a) 이 원형인 경우에는, 피지지면 (13a) 의 반경에 대해 95 ％ 의 반경을 갖는 동심원을 상정한 경우에 있어서의 당해 동심원의 원주 상 및 내측 부분이어도 된다.
본 실시형태에 관련된 지지 방법은, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 지지하는 방법이다. 따라서, 300 ㎜ 를 초과하는 큰 사이즈 (예를 들어 450 ㎜ 등) 의 웨이퍼 (11) 를 사용한 경우이더라도, 지지체 (13) 의 무게에 의한 자중 응력에 의해 중앙 부분이 휘어져 버리는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 웨이퍼 (11) 의 휘어짐 발생을 방지할 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 점에 있어서 지지하는 것이 바람직하다. 이로써, 지지체 (13) 를 지지하는 부재와 지지체 (13) 가 접촉하는 면적을 작게 할 수 있기 때문에, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 할 수 있다.
이하에, 본 실시형태에 관련된 지지 방법에 대해 보다 상세하게 설명한다.
(지지 방법의 상세)
본 실시형태에서는, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있어서의 적어도 3 점을 지지점 (14) 으로 하여 중력에 저항하여 지지체 (13) 를 지지한다. 지지체 (13) 를 안정적으로 지지한다는 관점에서는, 지지점 (14) 으로 하는 점 모두가 일직선 상에 존재하고 있지 않는 것이 바람직하다. 예를 들어, 내주부 (13aa) 내에 있어서의 임의의 다각형의 각 정점을 지지점 (14) 으로 하여 지지해도 된다. 이와 같이, 적어도 3 점을 지지점 (14) 으로 하여 지지함으로써 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다.
지지점 (14) 의 수는, 3 점 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 또한, 지지점 (14) 의 수는, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 한다는 관점에서 10 점 이하인 것이 바람직하다.
여기서, 피지지면 (13a) 이 원형인 경우의 지지점 (14) 으로 하는 점의 수 및 배치의 예를 도 2 의 (a) ? 도 2 의 (e) 에 몇 가지 나타내는데, 본 발명은 특별히 이들에 한정되는 것은 아니다. 도 2 의 (a) ? 도 2 의 (e) 는, 본 발명에 관련된 지지 방법의 일 실시형태에 있어서의 지지점 배치의 예를 나타내는 도면이다. 또한, 도 2 의 (a) ? 도 2 의 (e) 는, 지지체 (13) 를 피지지면 (13a) 측에서 본 평면도로, 1 점쇄선은 내주부 (13aa) 와 외주부 (13ab) 의 경계를 나타낸다.
지지점 (14) 배치의 일례로는, 지지점 (14) 중 적어도 3 점이, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 구성을 들 수 있다. 또한, 중심점으로는, 예를 들어 피지지면 (13a) 이 원형이면 그 중심이어도 되고, 피지지면 (13a) 이 다각형이면 그 대각선의 교점이어도 된다. 이 구성에 의해, 지지체 (13) 를 안정적으로 지지하는 것이 가능하다.
예를 들어, 도 2 의 (a), 도 2 의 (b) 및 도 2 의 (c) 에 나타내는 바와 같이, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있는, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 3 점 또는 4 점을 지지점 (14) 으로 해도 된다. 또한, 이 동심원은, 도 2 의 (a) 및 도 2 의 (c) 에 나타내는 바와 같이 내주부 (13aa) 와 외주부 (13ab) 의 경계의 조금 내측에 있는 원이어도 되고, 도 2 의 (b) 에 나타내는 바와 같이 피지지면 (13a) 의 중심점에 가까운 위치에 있는 원이어도 된다.
또, 지지점 배치의 다른 예로는, 지지점 (14) 중 1 점이 피지지면 (13a) 의 중심점에 위치하는 구성을 들 수 있다. 이 구성에 의해, 지지체 (13) 가 중앙 부분에 있어서 휘어지는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
예를 들어, 도 2 의 (d) 에 나타내는 바와 같이, 피지지면 (13a) 의 중심점과, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있는, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 3 점 또는 4 점을 지지점 (14) 으로 해도 된다.
또, 예를 들어, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 적어도 2 개의 동심원의 각각의 원주 상에 위치하는 점을 지지점 (14) 으로 해도 된다. 지지점 (14) 으로 하는 점은, 각각의 동심원의 원주 상에 적어도 2 점 이상 배치되어 있는 것이 바람직하고, 그것들은 서로 등간격으로 위치하고 있는 것이 보다 바람직하다.
예를 들어, 도 2 의 (e) 에 나타내는 바와 같이, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 2 개의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 각각의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 2 점씩을 지지점 (14) 으로 해도 된다. 도 2 의 (e) 에 나타내는 예에서는, 같은 동심원의 원주 상에 위치하는 2 개의 지지점 (14) 은, 피지지면 (13a) 에 있어서의 동일한 직경 상에 있다. 그리고, 일방의 동심원의 원주 상에 위치하는 2 개의 지지점 (14) 을 통과하는 직경과, 타방의 동심원의 원주 상에 위치하는 2 개의 지지점 (14) 을 통과하는 직경은 직교하고 있다. 이 구성에 의해, 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다.
또한, 본 발명에 관련된 지지 방법은, 본 발명에 관련된 지지 지그에 의해 실시될 수 있다.
(지지 지그)
다음으로, 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시형태에 대해, 도 3 및 도 4 를 참조하여 설명한다. 도 3 은, 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시형태를 나타내는 도면이다. 도 4 는, 본 발명에 관련된 지지 지그를 이용하여 지지체를 지지하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도 4 에는, 웨이퍼 (11) 와 지지체 (13) 의 적층체 (10) 를 지지하고 있는 지지 지그 (20) 를 옆에서 본 단면도를 나타낸다. 도 4 의 우측 도면은, 도 4 의 좌측 도면에 있어서의 주요부를 확대하여 나타내는 도면이다.
본 실시형태에 관련된 지지 지그 (20) 는, 지지체 (13) 에 있어서의 피지지면 (13a) 에 대향하여 배치됨으로써, 지지체 (13) 를 지지하는 지지 지그 (20) 이다.
지지 지그 (20) 는, 지지 플레이트 (21) 와 지지부 (22) 를 구비하고 있다. 지지 플레이트 (21) 는 원형의 판상 부재이다. 또한, 본 발명에 있어서의 지지 플레이트는 원형에 한정되지 않고, 예를 들어 다각형이어도 된다. 또, 지지 플레이트는, 피지지 기판과 동일한 형상이어도 되고, 상이한 형상이어도 된다. 또, 지지 플레이트의 직경은, 피지지 기판의 직경과 대략 동일한 크기여도 되고, 피지지 기판의 직경보다 커도 되고, 작아도 된다.
지지부 (22) 는, 지지체 (13) 를 중력에 저항하여 지지하기 위한 부재이다. 지지부 (22) 는, 지지 플레이트 (21) 상에 형성되어 있다.
지지 플레이트 (21) 및 지지부 (22) 로는, 내열성 재료를 사용하는 것이 바람직하고, 예를 들어 석영 등을 사용할 수 있다. 또한, 지지부 (22) 는, 지지 플레이트 (21) 와 동일한 재료에 의해 구성되어 있어도 되고, 상이한 재료에 의해 구성되어 있어도 된다. 또, 지지부 (22) 는, 지지 플레이트 (21) 와 일체로 구성되어 있어도 된다. 지지부 (22) 는, 지지 플레이트 (21) 상에, 예를 들어 용접함으로써 형성될 수 있다.
지지부 (22) 는, 그 선단에서 피지지면 (13a) 에 접촉한다. 지지부 (22) 의 선단은, 피지지면 (13a) 과 점 접촉하는 형상인 것이 바람직하다. 지지부 (22) 의 선단에 있어서의 피지지면 (13a) 과 접촉하는 면은, 피지지면 (13a) 과 점 접촉할 수 있는 구성이면 곡면이어도 되고, 평탄한 면이어도 된다. 예를 들어, 지지부 (22) 의 선단은, 도 12 에 나타내는 바와 같은 둥근머리 형상이어도 된다. 도 12 는, 본 발명에 관련된 지지 지그의 일례를 나타내는 단면도이다.
지지부 (22) 의 선단이 피지지면 (13a) 과 점 접촉하는 형상이면, 지지체 (13) 를 점으로 지지할 수 있어, 지지체 (13) 를 고온 처리에 제공한 후에 냉각시킬 때 효율적으로 열을 빠져나가게 할 수 있다.
또, 지지부 (22) 는, 기둥 형상의 동체 부분과, 이 동체 부분에 이어지는 선단 부분으로 이루어져 있어도 된다. 동체 부분은, 예를 들어 기둥 형상, 송곳 형상 등이어도 되고, 예를 들어 원기둥 형상, 각기둥 형상, 원뿔 형상, 각뿔 형상 등을 들 수 있다. 선단 부분은, 상기 서술한 같은 선단을 가지고 있으면 되고, 둥근머리 형상이어도 되고, 선단을 향하여 끝이 가늘어지는 테이퍼 형상이어도 된다.
지지부 (22) 는, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 지지하는 구성으로 되어 있다. 즉, 지지부 (22) 는, 지지 지그 (20) 가 피지지면 (13a) 에 대향하여 배치되었을 때에, 예를 들어 그 선단이 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 접촉함으로써 지지체 (13) 를 지지할 수 있도록 구성되어 있다.
본 실시형태의 지지 지그 (20) 는, 상기 서술한 구성에 의해 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 지지할 수 있다. 따라서, 큰 사이즈의 웨이퍼 (11) 를 사용한 경우이더라도, 지지체 (13) 의 무게에 의한 자중 응력에 의해 중앙 부분이 휘어져 버리는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 웨이퍼 (11) 의 휘어짐 발생을 방지할 수 있다.
본 실시형태에서는, 지지부 (22) 는 지지 플레이트 (21) 상에 적어도 3 개 형성되어 있다. 이들 지지부 (22) 는, 지지체 (13) 의 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있어서의 적어도 3 점을 중력에 저항하여 지지하도록 되어 있다. 지지체 (13) 를 안정적으로 지지한다는 관점에서는, 각 지지부 (22) 가 지지하는 점 모두가 일직선 상에 존재하고 있지 않는 것이 바람직하다.
예를 들어, 지지부 (22) 는 내주부 (13aa) 내에 있어서의 임의의 다각형의 각 정점을 각각 지지하도록 되어 있어도 된다. 또 지지부 (22) 는, 상기 서술한 바와 같은 배치의 지지점 (14) 을 지지하도록 되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이, 지지 지그 (20) 는, 내주부 (13aa) 의 적어도 3 점을 지지함으로써 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다.
하나의 지지체 (13) 를 지지하는 지지부 (22) 의 수는, 3 개 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 또한, 지지부 (22) 의 수는, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 한다는 관점에서 10 개 이하인 것이 바람직하다. 또한, 도 3 및 도 4 에는 지지부 (22) 가 3 개인 구성을 나타낸다.
지지 지그 (20) 는, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 지지 플레이트 (21) 를 수평으로 지지하는 종형 보트 (40) 를 추가로 구비하고 있어도 된다.
종형 보트 (40) 는, 지주 (41) 와 지지 플레이트 지지부 (42) 를 구비하고 있다. 종형 보트 (40) 로는, 내열성 재료를 사용하는 것이 바람직하고, 예를 들어 석영 등을 사용할 수 있다. 지주 (41) 는, 지지 플레이트 (21) 의 주위에 수직으로 형성되어 있다. 종형 보트 (40) 는, 예를 들어 3 개 또는 4 개의 지주 (41) 를 구비하고 있어도 된다. 지지 플레이트 지지부 (42) 는 각 지주 (41) 에 형성되어 있고, 지지 플레이트 (21) 의 외주부를 중력에 저항하여 지지한다. 지지 플레이트 지지부 (42) 는, 지주 (41) 의 각각에 수직 방향으로 복수 형성되어 있어도 된다.
종형 보트 (40) 를 사용함으로써, 도 4 에 나타내는 바와 같이 적층체 (10) 를 수직 방향으로 복수 나열하여 지지할 수 있다.
(지지부 배치의 변형예)
여기서, 지지부 (22) 의 수 및 배치의 변형예를 도 5 의 (a) ? 도 5 의 (e) 에 몇 가지 나타내는데, 본 발명은 특별히 이들에 한정되는 것은 아니다. 도 5 의 (a) ? 도 5 의 (e) 는, 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시형태에 있어서의 지지부 배치의 변형예를 나타내는 도면이다. 또한, 도 5 의 (a) ? 도 5 의 (e) 는, 지지 지그 (20A ? 20E) 를 위에서 본 평면도이다.
지지부 (22) 배치의 일례로는, 지지부 (22) 중 적어도 3 개가, 원형인 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 배치되어 있는 구성을 들 수 있다. 이들 지지부 (22) 는, 원형인 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 점을 지지하도록 되어 있다. 이 구성에 의해, 지지 지그 (20) 는 지지체 (13) 를 안정적으로 지지하는 것이 가능하다.
예를 들어, 도 5 의 (a), 도 5 의 (b) 및 도 5 의 (c) 에 나타내는 지지 지그 (20A, 20B, 20C) 와 같이, 3 개 또는 4 개의 지지부 (22) 가, 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 원주 상에 서로 등간격으로 배치되어 있어도 된다.
또한, 이 동심원은, 예를 들어 도 5 의 (a) 및 도 5 의 (c) 에 나타내는 바와 같이 지지 플레이트 (21) 의 반경에 대해 50 ％ 의 반경을 가지고 있어도 되고, 도 5 의 (b) 에 나타내는 바와 같이 지지 플레이트 (21) 의 반경에 대해 약 33 ％ (1/3) 의 반경을 가지고 있어도 된다.
또, 지지부 (22) 배치의 다른 예로는, 지지부 (22) 중 하나가 지지 플레이트 (21) 의 중심점에 배치되어 있는 구성을 들 수 있다. 이 지지부 (22) 는, 원형인 피지지면 (13a) 의 중심점을 지지하도록 되어 있다. 이 구성에 의해, 지지 지그 (20) 는, 지지되고 있는 지지체 (13) 가 중앙 부분에 있어서 휘어지는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
예를 들어, 도 5 의 (d) 에 나타내는 지지 지그 (20D) 와 같이, 지지부 (22) 가, 지지 플레이트 (21) 의 중심점과, 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 3 점 또는 4 점에 배치되어 있어도 된다. 또한, 이들 지지부 (22) 는, 피지지면 (13a) 의 중심점과, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있는, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 3 점 또는 4 점을 지지하도록 되어 있다.
또, 예를 들어 지지부 (22) 는, 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 적어도 2 개의 동심원의 각각의 원주 상에 배치되어도 된다. 이들 지지부 (22) 는, 내주부 (13aa) 내로서, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 적어도 2 개의 동심원의 각각의 원주 상에 위치하는 점을 지지하도록 되어 있다. 지지부 (22) 는, 각각의 동심원의 원주 상에 적어도 2 개 이상 배치되어 있는 것이 바람직하고, 그것들은 서로 등간격으로 배치되어 있는 것이 보다 바람직하다.
예를 들어, 도 5 의 (e) 에 나타내는 지지 지그 (20E) 와 같이, 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 2 개의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 각각의 원주 상에 각각 2 개의 지지부 (22) 가 서로 등간격으로 배치되어도 된다. 이들 지지부 (22) 는, 내주부 (13aa) 내로서, 피지지면 (13a) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 2 개의 동심원의 각각의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 2 점씩을 지지하도록 되어 있다.
도 5 의 (e) 에 나타내는 예에서는, 동일한 동심원의 원주 상에 배치되어 있는 2 개의 지지부 (22) 는 지지 플레이트 (21) 에 있어서의 동일한 직경 상에 있다. 그리고, 일방의 동심원의 원주 상에 배치되어 있는 2 개의 지지부 (22) 를 통과하는 직경과, 타방의 동심원의 원주 상에 배치되어 있는 2 개의 지지부 (22) 를 통과하는 직경은 직교하고 있다. 이 구성에 의해, 지지 지그 (20E) 는 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다.
〔제 2 실시형태〕
다음으로, 본 발명에 관련된 지지 방법 및 지지 지그의 다른 실시형태에 대해 이하에 설명한다. 또한, 본 실시형태에 있어서는, 상기 서술한 제 1 실시형태에 있어서의 구성 요소와 동일한 기능을 갖는 구성 요소에는 동일한 번호를 부여하고, 그 설명을 생략한다. 여기서는, 주로 제 1 실시형태와 상이한 점에 대해 설명한다.
(지지 방법)
본 발명에 관련된 지지 방법의 다른 실시형태에 대해, 도 6 및 도 7 의 (a) ? 도 7 의 (b) 를 참조하여 이하에 설명한다. 도 6 은, 본 발명의 다른 실시형태를 설명하기 위한 도면으로, 지지체 (13) 를 옆에서 본 단면도를 나타낸다. 또, 도 7 의 (a) ? 도 7 의 (b) 는, 본 발명의 다른 실시형태에 있어서의 지지점 배치의 예를 나타내는 도면이다. 또한, 도 7 의 (a) ? 도 7 의 (b) 는, 지지체 (13) 를 피지지면 (13a) 측에서 본 평면도로, 1 점쇄선은 내주부 (13aa) 와 외주부 (13ab) 의 경계를 나타낸다.
본 실시형태에 있어서의 지지 방법은, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있어서의 적어도 1 점을 지지점 (14) 으로 하여 지지하는 점, 및 피지지면 (13a) 의 외주부 (13ab) 에 있어서의 적어도 2 점을 지지점 (15) 으로 하여 지지하는 점만 제 1 실시형태에 있어서의 지지 방법과 상이하다.
본 실시형태라면, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 지지하기 때문에, 큰 사이즈의 웨이퍼 (11) 를 사용한 경우이더라도, 지지체 (13) 의 무게에 의한 자중 응력에 의해 중앙 부분이 휘어져 버리는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 웨이퍼 (11) 의 휘어짐 발생을 방지할 수 있다.
내주부 (13aa) 에 있어서 지지점 (14) 으로 하는 점은 내주부 (13aa) 의 어디에 있어도 된다. 또한, 지지점 (14) 으로 하는 점 중 1 점은 지지체 (13) 의 휘어짐을 효과적으로 방지한다는 관점에서는, 피지지면 (13a) 의 중앙에 가까운 위치인 것이 바람직하다. 예를 들어 피지지면 (13a) 이 원형인 경우에는, 지지점 (14) 으로 하는 점 중 1 점은 피지지면 (13a) 의 중심점에 위치하는 것이 바람직하다.
내주부 (13aa) 에 있어서 지지점 (14) 으로 하는 점의 수는 1 점 이상이면 된다. 또한, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 한다는 관점에서는 10 점 이하인 것이 바람직하다. 지지점 (14) 의 배치는, 예를 들어 상기 서술한 제 1 실시형태에 있어서 예시한 배치여도 된다.
외주부 (13ab) 란, 내주부 (13aa) 보다 외측 부분, 즉 피지지면 (13a) 의 외주 근방의 영역을 가리킨다. 또한, 외주부 (13ab) 는, 지지체 (13) 의 피지지면 (13a) 의 반경에 대해 95 ％ 의 반경을 갖는 동심원을 상정한 경우에 있어서의 당해 동심원의 외측 부분이어도 된다.
외주부 (13ab) 에 있어서 지지점 (15) 으로 하는 점의 수는, 2 점 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 지지점 (15) 으로 하는 점이 2 점 이상임으로써, 휘어짐을 방지하면서 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다. 또한, 지지점 (15) 으로 하는 점의 수는, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 한다는 관점에서 5 점 이하인 것이 바람직하다.
외주부 (13ab) 에 있어서의 지지점 (15) 은, 내주부 (13aa) 에 있어서의 지지점 (14) 과 함께 지지됨으로써, 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있도록 배치되는 것이 바람직하다. 지지체 (13) 를 안정적으로 지지한다는 관점에서는, 외주부 (13ab) 에 있어서의 지지점 (15) 과 내주부 (13aa) 에 있어서의 지지점 (14) 모두가 일직선 상에 존재하고 있지 않는 것이 바람직하다. 예를 들어, 외주부 (13ab) 에 있어서의 지지점 (15) 과 내주부 (13aa) 에 있어서의 지지점 (14) 은, 피지지면 (13a) 내에 있어서의 임의의 다각형의 각 정점이어도 된다.
여기서, 피지지면 (13a) 이 원형인 경우의 지지점 (14, 15) 으로 하는 점의 수 및 배치의 예를 도 7 의 (a) ? 도 7 의 (b) 에 몇 가지 나타내는데, 본 발명은 특별히 이들에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어 도 7 의 (a) 에 나타내는 바와 같이, 지지점 (14) 으로 하는 점이 1 점으로서, 원형인 피지지면 (13a) 의 중심점에 위치하고, 또한 지지점 (15) 으로 하는 점이 4 점인 구성을 들 수 있다. 또, 예를 들어 도 7 의 (b) 에 나타내는 바와 같이, 지지점 (14) 으로 하는 점이 1 점으로서, 원형인 피지지면 (13a) 의 중심점에 위치하고, 또한 지지점 (15) 으로 하는 점이 3 점인 구성을 들 수 있다.
지지점 (15) 으로 하는 점은, 도 7 의 (a) ? 도 7 의 (b) 에 나타내는 바와 같이, 외주부 (13ab) 에 비균등하게 위치해도 된다. 즉, 피지지면 (13a) 의 외주를 따라 서로 이웃하는 지지점 (15) 의 간격 중 어느 하나가 다른 간격보다 커도 된다. 이로써, 지지 지그의 형상에 따라서는, 지지체 (13) 를 지지 지그에 장착하거나, 지지 지그로부터 떼어내거나 하는 것이 용이해지는 경우가 있다. 또한, 이것에 한정되지 않고, 지지점 (15) 으로 하는 점은 외주부 (13ab) 에 있어서 서로 균등하게 위치하고 있어도 된다.
(지지 지그)
이어서, 본 발명에 관련된 지지 지그의 다른 실시형태에 대해 도 8 및 도 9 를 참조하여 이하에 설명한다. 도 8 은, 본 발명에 관련된 지지 지그의 다른 실시형태를 나타내는 도면이다. 또, 도 9 는, 도 8 에 나타내는 지지 지그의 일부를 나타내는 도면이다. 또한, 도 8 은, 웨이퍼 (11) 와 지지체 (13) 의 적층체 (10) 를 지지하고 있는 지지 지그 (30) 를 옆에서 본 단면도이다. 또, 도 9 는, 지지 지그 (30) 중 지지 플레이트 (21) 와 지지부 (22) 만을 나타내는 평면도이다.
본 실시형태의 지지 지그 (30) 는, 특히 지지부 (22) 를 적어도 하나 구비하고 있는 점, 및 적어도 2 개의 외주 지지부 (23) 를 구비하고 있는 점이, 제 1 실시형태의 지지 지그 (20) 와 상이하다. 즉, 본 실시형태에 있어서의 지지 지그 (30) 는, 지지 플레이트 (21) 와, 적어도 하나의 지지부 (22) 와, 적어도 2 개의 외주 지지부 (23) 를 구비하고 있다.
또, 본 실시형태에서는, 지지 지그 (30) 가, 지지 플레이트 (21) 를 수평으로 지지하는 종형 보트 (50) 를 구비하고 있는 점에서도 제 1 실시형태와 상이하다. 종형 보트 (50) 는, 복수의 지주 (41) 와, 지지 플레이트 지지부 (42) 와, 외주 지지부 (23) 를 구비하고 있다. 지주 (41) 및 지지 플레이트 지지부 (42) 의 구성은, 제 1 실시형태에 있어서 설명한 구성과 동일하다. 또, 각 지주 (41) 에는, 지지 플레이트 지지부 (42) 와 외주 지지부 (23) 가 교대로 형성되어 있다.
본 실시형태에서는, 지지부 (22) 는 지지 플레이트 (21) 상에 적어도 하나 형성되어 있다. 지지부 (22) 는, 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 지지하도록 되어 있으면 지지 플레이트 (21) 상의 어디에 형성되어 있어도 된다.
본 실시형태의 지지 지그 (30) 는, 지지부 (22) 에 의해 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 를 지지할 수 있다. 따라서, 큰 사이즈의 웨이퍼 (11) 를 사용한 경우이더라도, 지지체 (13) 의 무게에 의한 자중 응력에 의해 중앙 부분이 휘어져 버리는 것을 방지할 수 있다. 그 때문에, 웨이퍼 (11) 의 휘어짐 발생을 방지할 수 있다.
또한, 지지부 (22) 중 하나는 지지체 (13) 의 휘어짐을 효과적으로 방지한다는 관점에서는, 피지지면 (13a) 의 중앙에 가까운 위치를 지지하도록 되어 있는 것이 바람직하다. 예를 들어 피지지면 (13a) 이 원형인 경우에는, 지지부 (22) 중 하나는 피지지면 (13a) 의 중심점을 지지하도록 되어 있는 것이 바람직하다.
지지부 (22) 의 수는, 하나 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 또한, 지지부 (22) 의 수는, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 한다는 관점에서 10 개 이하인 것이 바람직하다. 지지부 (22) 의 배치는, 상기 서술한 제 1 실시형태에 있어서 예시한 배치를 바람직하게 사용할 수 있다.
외주 지지부 (23) 는, 지지체 (13) 를 중력에 저항하여 지지하기 위한 부재이다. 외주 지지부 (23) 는, 피지지면 (13a) 의 외주부 (13ab) 를 지지하는 구성으로 되어 있다. 즉, 외주 지지부 (23) 는, 지지 지그 (30) 의 지지 플레이트 (21) 가 피지지면 (13a) 에 대향하여 배치되었을 때에, 피지지면 (13a) 의 외주부 (13ab) 에 접촉함으로써 지지체 (13) 를 지지할 수 있도록 구성되어 있다.
본 실시형태에서는, 외주 지지부 (23) 는 지주 (41) 에 형성되어 있다. 또한, 본 발명에 있어서의 외주 지지부는 본 실시형태의 구성에 한정되지 않고, 피지지면의 외주부를 지지하도 구성되어 있으면 되고, 예를 들어 지지 플레이트 상에 직접 형성되어 있어도 된다.
하나의 지지체 (13) 를 지지하는 외주 지지부 (23) 의 수는, 2 개 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 외주 지지부 (23) 가 2 개 이상임으로써, 휘어짐을 방지하면서 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다. 또한, 외주 지지부 (23) 의 수는, 웨이퍼 (11) 를 열처리한 후 냉각시킬 때에 효율적으로 열을 빠져나가게 한다는 관점에서 5 개 이하인 것이 바람직하다. 또, 외주 지지부 (23) 는 3 개 또는 4 개인 것이 보다 바람직하다. 이로써, 지지 지그 (30) 를 용이하게 제조할 수 있다. 또, 적층체 (10) 를 지지 지그 (30) 에 장착하거나, 지지 지그 (30) 로부터 떼어내거나 하는 것이 용이해진다.
외주 지지부 (23) 는, 지지부 (22) 와 함께 지지체 (13) 를 지지함으로써, 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있도록 배치되는 것이 바람직하다. 지지체 (13) 를 안정적으로 지지한다는 관점에서는, 지지부 (22) 와 외주 지지부 (23) 모두가 일직선 상에 존재하고 있지 않는 것이 바람직하다.
예를 들어, 지지부 (22) 와 외주 지지부 (23) 는, 피지지면 (13a) 내에 있어서의 임의의 다각형의 각 정점을 지지하도록 되어 있어도 된다. 또, 지지부 (22) 와 외주 지지부 (23) 는, 각각 상기 서술한 바와 같은 배치의 지지점 (14 또는 15) 을 지지하도록 되어 있는 것이 바람직하다. 이들 구성에 의해, 지지 지그 (30) 는 지지체 (13) 를 안정적으로 지지할 수 있다.
〔고온 처리 방법〕
다음으로, 본 발명에 관련된 고온 처리 방법의 일 실시형태에 대해 설명한다.
본 실시형태에 관련된 고온 처리 방법은, 상기 서술한 지지 방법을 이용하여, 웨이퍼 (11) 가 첩부되어 있는 지지체 (13) 를 지지한 상태로 웨이퍼 (11) 를 고온 처리하는 방법이다. 또한, 「고온」이란, 여기서는 접착제 조성물이 함유하는 수지 성분의 유리 전이점을 초과하는 온도를 가리키고, 구체적으로는 70 ℃ 이상이면 되고, 바람직하게는 120 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 180 ℃ 이상, 더욱 바람직하게는 200 ℃ 이상의 온도를 가리킨다. 또한, 고온이라는 경우의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 400 ℃ 이하, 바람직하게는 350 ℃ 이하이다.
고온 처리하는 방법으로는, 예를 들어 상기 서술한 지지 방법에 의해 지지된 상태의 웨이퍼 (11) 를 오븐 등의 가열 기기 안에 일정 시간 정치 (靜置) 하는 방법 등을 들 수 있다.
상기 서술한 방법에 의해 웨이퍼 (11) 를 지지한 상태로 고온 처리함으로써, 웨이퍼 (11) 의 휘어짐 발생을 방지할 수 있다. 따라서, 그 후의 프로세스를 효율적으로 진행시킬 수 있다.
본 발명은 상기 서술한 각 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 청구항에 나타낸 범위에서 다양한 변경이 가능하고, 상이한 실시형태에 각각 개시된 기술적 수단을 적절히 조합하여 얻어지는 실시형태에 대해서도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
실시예
(접착제 조성물의 조제 방법)
수지로서, 시클로올레핀 코폴리머 (「TOPAS」(상품명) 8007, 폴리플라스틱스사 제조) 를 사용하였다. 이 수지를, p-멘탄에 수지 고형분 농도가 25 중량％ 가 되도록 용해시키고, 또 산화 방지제 IR1010 (BASF 사 제조) 을 수지 고형분에 대해 5 중량％ 가 되도록 첨가하여 접착제 조성물을 조제하였다.
〔실시예 1〕
본 실시예에서는, 지지체로서 유리 기판을 사용하고, 웨이퍼로서 직경 300 ㎜ 의 실리콘 웨이퍼를 사용하였다. 또, 접착제 조성물로서, 상기 서술한 조제 방법에 의해 조제한 접착제 조성물을 사용하였다.
또한, 본 실시예 및 실시예 2 에 있어서 사용한 지지 지그의 구성은, 도 1 에 나타내는 지지 지그와 동일하기 때문에, 설명의 편의상 동일한 기능을 갖는 부재에는 동일한 번호를 부여하여 설명한다.
우선, 웨이퍼 (11) 에 스핀 코트에 의해 접착제 조성물을 두께 80 ㎛ 가 되도록 도포하고, 100 ℃, 160 ℃, 220 ℃ 에서 베이크하여 접착층 (12) 을 형성시켰다. 그 후, 접착층 (12) 상에 지지체 (13) 를 160 ℃ 에서 첩부하여 적층체 (10) 를 제작하였다.
이 적층체 (10) 에 있어서의 웨이퍼 (11) 를 백그라인딩에 의해 두께 50 ㎛ 로까지 박화시켰다.
그 후, 이 적층체 (10) 를, 도 5 의 (a) 에 나타내는 지지 지그 (20A) 와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 즉, 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 배치되어 있는 3 개의 지지부 (22) 를 구비한 지지 지그 (20A) 를 이용하여, 지지체 (13) 의 피지지면 (13a) 의 내주부 (13aa) 에 있어서 3 점 지지하였다.
또한, 지지 플레이트 (21) 에는 직경 300.5 ㎜, 두께 3 ㎜ 의 석영 플레이트를 사용하였다. 지지부 (22) 가 배치되는 동심원의 직경은 150 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 50 ％) 였다. 지지부 (22) 는 높이가 9 ㎜ 였다. 또, 지지부 (22) 의 동체 부분은 원주 형상이고, 단면이 직경 6 ㎜ 의 원이었다. 지지부 (22) 의 선단은, 도 12 에 나타내는 바와 같은 둥근머리 형상이었다.
이 상태로, 오븐 중에서 200 ℃, 1 시간의 가열 공정을 실시한 후, 오븐의 스위치를 끄고, 그대로 2 시간 냉각시켰다. 그 후, 적층체 (10) 의 휘어짐 량을 측정하였다.
휘어짐 량은, 적층체 (10) 를 정반 상에 두고, LK-G-30 (키엔스사 제조) 을 이용하여 웨이퍼 (11) 의 X, Y 면의 임의의 57 점에 있어서의 변위량을 계측함으로써 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 또한, 표 1 에 있어서 각 결과는, 휘어짐 량이 700 ㎛ 미만인 경우에 「○」(휘어짐이 적어서 양호) 로 나타내고, 휘어짐 량이 700 ㎛ 이상인 경우에 「×」(휘어짐이 커서 불량) 로 나타내었다.
Figure pat00001
표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔실시예 2〕
본 실시예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를, 지지부 (22) 가 배치되는 동심원의 직경이 240 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 80 ％) 인 점 이외에는, 실시예 1 에서 사용한 지지 지그와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 이 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔실시예 3〕
본 실시예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를, 지지부 (22) 가 배치되는 동심원의 직경이 270 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 90 ％) 인 점 이외에는, 실시예 1 에서 사용한 지지 지그와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 이 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔실시예 4〕
본 실시예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를, 지지부 (22) 가 배치되는 동심원의 직경이 285 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 95 ％) 인 점 이외에는, 실시예 1 에서 사용한 지지 지그와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 이 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔실시예 5〕
본 실시예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를, 도 10 에 나타내는 지지 지그 (20F) 와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 도 10 은, 본 발명에 관련된 지지 지그의 일 실시예의 구성을 나타내는 평면도이다.
이 지지 지그 (20F) 는, 지지 플레이트 (21) 의 중심점을 공유하는, 반경이 상이한 2 개의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 각각의 원주 상에 각각 4 개의 지지부 (22) 가 서로 등간격으로 배치되어 있었다. 지지부 (22) 가 배치되는 동심원의 직경은, 각각 150 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 50 ％) 및 225 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 75 ％) 였다.
이 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔실시예 6〕
본 실시예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를, 도 11 에 나타내는 지지 지그 (20G) 와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 도 11 은, 본 발명에 관련된 지지 지그의 다른 실시예의 구성을 나타내는 평면도이다.
이 지지 지그 (20G) 는, 직사각형의 지지 플레이트 (21＇) 와 3 개의 지지부 (22) 를 구비하고 있었다. 지지 플레이트 (21＇) 는, 세로 (21a) 가 200 ㎜, 가로 (21b) 가 300 ㎜ 인 직사각형이었다. 3 개의 지지부 (22) 는, 지지 플레이트 (21) 의 대각선의 교점을 공유하는 하나의 동심원 (도면 중, 점선으로 나타낸다) 의 원주 상에 서로 등간격으로 배치되어 있었다. 지지부 (22) 가 배치되는 동심원의 직경은 150 ㎜ (지지 플레이트 (21) 의 직경에 대해 50 ％) 였다.
이 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔실시예 7〕
본 실시예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를, 도 8 및 도 9 에 나타내는 지지 지그 (30) 와 동일한 구성의 지지 지그에 의해 지지하였다. 본 실시예에서 사용한 지지 지그는, 지지 플레이트 (21) 의 중심점에 배치되어 있는 하나의 지지부 (22) 와, 피지지면 (13a) 의 외주부 (13ab) 를 지지하는 4 개의 외주 지지부 (23) 를 구비하고 있었다. 또, 종형 보트 (50) 로는, 석영에 의해 구성된 보트를 사용하였다.
이 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시예에서는 휘어짐 량이 적다는 결과가 얻어졌다.
〔비교예 1〕
본 비교예에서는, 실시예 1 과 동일하게 적층체 (10) 를 제작하고, 웨이퍼 (11) 를 박화시켰다. 그 후, 이 적층체 (10) 를 종래의 방법으로 지지하였다.
본 비교예에 있어서 사용한 지지 지그 (130) 의 구성을 도 13 의 (a) ? 도 13 의 (b) 및 도 14 에 나타낸다. 도 13 의 (a) 는, 종래의 지지 지그의 일례를 나타내는 정면도이고, 도 13 의 (b) 는, 도 13 의 (a) 에 나타내는 지지 지그의 주요부를 나타내는 도면이다. 또, 도 14 는, 도 13 의 (a) 에 나타내는 지지 지그의 단면을 모식적으로 나타내는 도면이다.
지지 지그 (130) 는 석영에 의해 구성된 종형 보트로, 4 개의 지주 (131) 와 지지체 유지부 (132) 를 구비하고 있다. 하나의 지주 (131) 에는 10 개의 지지체 유지부 (132) 가 형성되어 있어, 지지 지그 (130) 는 10 장의 적층체 (10) 를 유지하는 것이 가능하다.
적층체 (10) 가 유지되는 내부 영역의 수평 방향의 폭 (130a) 은 307.5 ㎜ 이고, 상하로 서로 이웃한 지지체 유지부 (132) 의 간격 (130b) 은 30 ㎜ 이다. 또, 지지 지그 (130) 의 저면을 구성하는 석영판의 두께 (130c) 는 10 ㎜ 이다.
또, 지주 (131) 의 폭 (131a) 은 15 ㎜ 이고, 지지체 유지부 (132) 의 수직 방향의 두께 (132a) 는 5 ㎜ 이며, 지지체 유지부 (132) 의 수평 방향의 길이 (132b) 는 10 ㎜ 이다.
또, 도 14 에 나타내는 바와 같이, 지지 지그 (130) 의 수평 방향의 단면에 있어서, 4 개의 지주 (131) 의 각각에 형성된 4 개의 지지체 유지부 (132) 는, 지지 지그 (130) 의 외주를 따라 비균등하게 배치되어 있다. 4 개의 지지체 유지부 (132) 중 2 개의 위치는, 지지 지그 (130) 의 중심점과의 이루는 각이 90°이다. 이 2 개의 지지체 유지부 (132) 를 사이에 두고 위치하는 다른 2 개의 지지체 유지부 (132) 의 위치는, 지지 지그 (130) 의 직경 (도 14 중, 부호 「130a」를 부여한 직경) 에 대해 동일한 방향으로 조금 어긋나 있으며, 이들 지지체 유지부 (132) 의 위치와 당해 직경의 거리 (130d) 는 20 ㎜ 이다. 이 구성에 의해, 지지 지그 (130) 의 외주를 따라 서로 이웃하는 지지체 유지부 (132) 의 간격 중 하나가 다른 간격보다 크게 되어 있다.
상기 서술한 구성의 지지 지그 (130) 를 이용하여 적층체 (10) 를 지지한 상태로, 실시예 1 과 동일하게 가열 공정을 실시한 후에 냉각시켜, 휘어짐 량을 측정하였다.
결과를 표 1 에 나타낸다. 표 1 에 나타내는 바와 같이, 큰 휘어짐이 발생된 것이 확인되었다.
본 발명은, 휴대전화, 디지털 AV 기기 및 IC 카드 등에 탑재되는 반도체 칩의 제조에 이용할 수 있다.
11 웨이퍼
13 지지체 (피지지 기판)
13a 피지지면
13aa 내주부
13ab 외주부
14, 15 지지점
20, 20A ? H 지지 지그
21, 21＇ 지지 플레이트
22 지지부
23 외주 지지부
30 지지 지그

Claims (10)

  1. 웨이퍼가 첩부되어 있는 피지지 기판을 지지하는 지지 방법으로서,
    상기 피지지 기판에 있어서의 상기 웨이퍼가 첩부되어 있는 면과는 반대측의 피지지면의 내주부에 있어서의 적어도 3 점을 지지점으로 하여 중력에 저항하여 지지하는 것을 특징으로 하는 지지 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지점 중 적어도 3 점이, 원형인 상기 피지지면의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 것을 특징으로 하는 지지 방법.
  3. 웨이퍼가 첩부되어 있는 피지지 기판을 지지하는 지지 방법으로서,
    상기 피지지 기판에 있어서의 상기 웨이퍼가 첩부되어 있는 면과는 반대측의 피지지면의 내주부에 있어서의 적어도 1 점과, 피지지면의 외주부에 있어서의 적어도 2 점을 지지점으로 하여 중력에 저항하여 지지하는 것을 특징으로 하는 지지 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지점 중 1 점이, 원형인 상기 피지지면의 중심점에 위치하는 것을 특징으로 하는 지지 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 지지 방법을 이용하여 상기 피지지 기판을 지지한 상태로, 상기 웨이퍼를 고온 처리하는 것을 특징으로 하는 고온 처리 방법.
  6. 피지지 기판에 있어서의 피지지면에 대향하여 배치됨으로써, 당해 피지지 기판을 지지하는 지지 지그로서,
    지지 플레이트와,
    상기 지지 플레이트 상에 형성되고, 상기 피지지면의 내주부를 중력에 저항하여 지지하는 적어도 3 개의 지지부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 지지 지그.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 지지부 중 적어도 3 개는, 원형인 상기 피지지면의 중심점을 공유하는 하나의 동심원의 원주 상에 서로 등간격으로 위치하는 점을 지지하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 지지 지그.
  8. 피지지 기판에 있어서의 피지지면에 대향하여 배치됨으로써, 당해 피지지 기판을 지지하는 지지 지그로서,
    지지 플레이트와,
    상기 지지 플레이트 상에 형성되고, 상기 피지지면의 내주부를 중력에 저항하여 지지하는 적어도 하나의 지지부와,
    상기 피지지면의 외주부를 중력에 저항하여 지지하는 적어도 2 개의 외주 지지부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 지지 지그.
  9. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지부 중 하나는, 원형인 상기 피지지면의 중심점을 지지하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 지지 지그.
  10. 제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 지지부의 선단은, 상기 피지지면과 점 접촉하는 형상인 것을 특징으로 하는 지지 지그.
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