KR20120086445A - 태양전지 및 이의 제조방법 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Se].[Se].[In] Chemical compound [Cu].[Se].[Se].[In] KTSFMFGEAAANTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000000224 chemical solution deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 235000012773 waffles Nutrition 0.000 description 2
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- YNLHHZNOLUDEKQ-UHFFFAOYSA-N copper;selanylidenegallium Chemical compound [Cu].[Se]=[Ga] YNLHHZNOLUDEKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01G—HORTICULTURE; CULTIVATION OF VEGETABLES, FLOWERS, RICE, FRUIT, VINES, HOPS OR SEAWEED; FORESTRY; WATERING
- A01G9/00—Cultivation in receptacles, forcing-frames or greenhouses; Edging for beds, lawn or the like
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Abstract
태양전지 및 이의 제조방법이 개시된다. 일 실시예에 따른 태양전지는 기판; 상기 기판 상에 투명전극층; 상기 투명전극층 상에 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 광 흡수층; 상기 광 흡수층 상에 이면전극층; 및 상기 투명전극층의 상면에 형성되고, 제1 사면 및 제2 사면을 갖는 복수의 리세스;를 포함한다.
Description
실시예는 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
최근 에너지의 수요가 증가함에 따라서, 태양광 에너지를 전기에너지로 변환시키는 태양전지에 대한 개발이 진행되고 있다.
특히, 유리기판, 금속 후면 전극층, p형 CIGS계 광 흡수층, 고저항 버퍼층, n형 투명전극층 등을 포함하는 기판 구조의 pn 헤테로 접합 장치인 CIGS계 태양전지가 널리 사용되고 있다.
또한, 이러한 태양전지의 효율을 증가시키기 위해서 다양한 연구가 진행 중이다.
실시예는 향상된 광-전 변환 효율을 가지는 태양전지 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
일 실시예에 따른 태양전지는 기판; 상기 기판 상에 투명전극층; 상기 투명전극층 상에 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 광 흡수층; 상기 광 흡수층 상에 이면전극층; 및 상기 투명전극층의 상면에 형성되고, 제1 사면 및 제2 사면을 갖는 복수의 리세스;를 포함한다.
일 실시예에 따른 태양전지의 제조방법은; 기판 상에 투명전극층을 형성하는 단계; 상기 투명전극층의 상면에 제1 사면 및 제2 사면을 포함하는 복수의 리세스를 형성하는 단계; 상기 투명전극층 상에 버퍼층을 형성하는 단계: 상기 버퍼층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 및 상기 광 흡수층 상에 이면전극층을 형성하는 단계;를 포함한다.
실시예에 따르면, 기판을 에칭하여 광 흡수층의 표면적이 증가된 태양전지를 제공한다. 이에 따라 외부의 태양광을 효율적으로 흡수하고, 향상된 광-전 변환 효율을 갖는다.
도 1은 실시예에 따른 태양전지를 도시한 단면도이다.
도 2는 도 1에서 A의 부분 확대도이다.
도 3 내지 도 6은 태양전지의 제조방법을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1에서 A의 부분 확대도이다.
도 3 내지 도 6은 태양전지의 제조방법을 나타내는 도면이다.
실시예의 설명에 있어서, 각 기판, 층, 막 또는 전극 등이 각 기판, 층, 막, 또는 전극 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여(indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.
도 1은 실시예에 따른 태양전지를 도시한 단면도이고 도 2는 도 1에서 A의 부분 확대도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 태양전지는 지지기판(100)과, 투명전극층(200), 버퍼층(300), 광 흡수층(400) 및 이면전극층(500)을 포함한다.
상기 지지기판(100)은 플레이트 형상을 가지며, 상기 투명전극층(200), 버퍼층(300), 광 흡수층(400) 및 이면전극층(500)을 지지한다.
상기 지지기판(100)은 절연체일 수 있다. 상기 지지기판(100)은 유리기판(Glass Substrate), 플라스틱기판 또는 금속기판일 수 있다. 더 자세하게, 상기 지지기판(100)은 소다 라임 글래스(soda lime glass) 기판일 수 있다.
상기 지지기판(100)이 소다 라임 글래스로 사용되는 경우, 소다라임 글래스에 함유된 나트륨(Na)이 태양전지의 제조공정 중에 CIGS로 형성된 광 흡수층(400)으로 확산될 수 있는데, 이에 의해 광 흡수층(400)의 전하 농도가 증가하게 될 수 있다. 이는 태양전지의 광전 변환 효율을 증가시킬 수 있는 요인이 될 수 있다.
이외에, 지지기판(100)의 재질로 알루미나와 같은 세라믹 기판, 스테인레스 스틸, 유연성이 있는 고분자 등이 사용될 수도 있다. 상기 지지기판(100)은 투명할 수 있고 리지드하거나 플렉서블할 수 있다.
상기 지지기판(100) 상에는 투명전극층(200)이 형성될 수 있다. 상기 투명전극층(200)은 투명하며, 도전층으로서, 윈도우층으로 작용할 수 있다. 상기 투명전극층(200)은 산화물을 포함한다. 예를 들어, 상기 투명전극층(200)은 징크 옥사이드(zinc oxide), 인듐 틴 옥사이드(induim tin oxide;ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(induim zinc oxide;IZO) 등을 포함할 수 있다.
또한, 상기 산화물은 알루미늄(Al), 알루미나(Al2O3), 마그네슘(Mg) 또는 갈륨(Ga) 등의 도전성 불순물을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 투명전극층(200)은 알루미늄 도핑된 징크 옥사이드(Al doped zinc oxide;AZO) 또는 갈륨 도핑된 징크 옥사이드(Ga doped zinc oxide;GZO) 등을 포함할 수 있다.
상기 투명전극층(200)의 상면에는 복수의 리세스(250)가 형성된다. 상기 복수의 리세스(250)는 상기 투명전극층(200)의 일부가 식각되어 형성될 수 있다.
상기 복수의 리세스(250)에 의해 투명전극층(200) 및 광 흡수층(300)의 면적이 증가하여 태양입사각이 시간에 따라 변화할 때, 태양광의 입사각도에 따라 광을 흡수할 수 있는 유효면적이 증가하므로 발전 시간이 증가하는 효과가 있다.
상기 복수의 리세스(250) 사이의 간격(d)은 1μm 내지 2μm의 범위로 형성되는 것이 바람직하다.
상기 투명전극층(200)의 두께(h)가 너무 두꺼우면 태양전지의 투과율이 저하될 수 있으므로 이러한 점을 고려하여 상기 투명전극층(200)의 두께(h)는 0.5μm 내지 1μm의 범위로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 복수의 리세스(250)는 상기 범위 내에서 각각 다른 형성길이를 가질 수 있다. 상기 복수의 리세스(250)가 형성되는 두께는 상기 투명전극층(200) 두께의 10% 내지 70%의 범위를 가질 수 있다.
상기 복수의 리세스(250)에 의해 투명전극층(200)이 돌출되고 상기 투명전극층(200) 상에 적층되는 버퍼층(300), 광 흡수층(400) 및 이면전극층(500)이 상기 복수의 리세스(250)가 형성된 위치에 대응하여 연속적으로 돌출되어 와플(waffle) 구조를 형성하게 된다. 이때 단면은 사각형으로 형성될 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.
상기 복수의 리세스(250)에 의해 투명전극층(200)은 상부로 갈수록 폭이 좁아지는 돌출구조를 갖도록 형성될 수 있다. 또한, 이와 반대로 상부로 갈수록 폭이 넓어지는 형상으로 형성될 수도 있다.
결과적으로 상기 복수의 리세스(250)에 의해 광을 흡수하는 광 흡수층(400)의 면적이 증가하므로 외부의 태양광을 효율적으로 흡수하고, 향상된 광-전 변환 효율을 갖는다.
상기 버퍼층(300)은 상기 투명전극층(200) 상에 배치된다. 본 발명과 같이 CIGS 화합물을 광흡수층(400)으로 갖는 태양전지는 p형 반도체인 CIGS 화합물 박막과 n형 반도체인 투명전극층(200) 박막간에 pn 접합을 형성한다. 하지만 두 물질은 격자상수와 밴드갭 에너지의 차이가 크기 때문에 양호한 접합을 형성하기 위해서는 밴드갭이 두 물질의 중간에 위치하는 버퍼층이 필요하다. 버퍼층(300)을 형성하는 물질로는 CdS, ZnS등이 있으나 태양전지의 발전 효율 측면에서 CdS가 상대적으로 우수하다. CdS박막은 n형 반도체이며, 인듐(In), 갈륨(Ga), 알루미늄(Al) 등을 도핑함으로써 낮은 저항값을 얻을 수 있다.
상기 버퍼층(300) 상에는 광 흡수층(400)이 형성될 수 있다. 상기 광 흡수층(400)은 p형 반도체 화합물을 포함한다. 더 자세하게, 상기 광 흡수층(400)은 Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ족 계 화합물을 포함한다. 예를 들어, 상기 광 흡수층(400)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In,Ga)Se2;CIGS계) 결정 구조, 구리-인듐-셀레나이드계 또는 구리-갈륨-셀레나이드계 결정 구조를 가질 수 있다. 상기 광 흡수층(400)의 에너지 밴드갭(band gap)은 약 1eV 내지 1.8eV일 수 있다.
상기 광 흡수층(400) 상에는 이면전극층(500)이 형성될 수 있다. 상기 이면전극층(500)은 도전층이다. 상기 이면전극층(500)은 태양전지 중 상기 광 흡수층(400)에서 생성된 전하가 이동하도록 하여 태양전지의 외부로 전류를 흐르게 할 수 있다. 상기 이면전극층(500)은 이러한 기능을 수행하기 위하여 전기 전도도가 높고 비저항이 작아야 한다.
또한, 상기 이면전극층(500)은 CIGS 화합물 형성시 수반되는 황(S) 또는 셀레늄(Se) 분위기 하에서의 열처리 시 고온 안정성이 유지되어야 한다.
이러한 이면전극층(500)은 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 금(Au), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 텅스텐(W) 및 구리(Cu)중 어느 하나로 형성될 수 있다. 이 가운데, 특히 몰리브덴(Mo)은 상술한 이면전극층(500)에 요구되는 특성을 전반적으로 충족시킬 수 있다.
상기 이면전극층(500)은 두 개 이상의 층들을 포함할 수 있다. 이때, 각각의 층들은 같은 금속으로 형성되거나, 서로 다른 금속으로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 태양전지에 따르면, 굴곡을 갖는 광 흡수층을 형성함으로써 태양양 발전장치로 입사되는 빛의 양을 효과적으로 흡수하여 광-전 변환효율이 향상될 수 있다.
또한 기존의 박막 태양전지 구조와는 반대로 윈도우층이 투명한 기판과 접하도록 형성되기 때문에 공기/유리/투명전극층의 굴절율 차이가 완만한 구조로 형성되므로 태양전지로 입사된 빛의 반사 손실이 적어 향상된 광-전 변환 효율을 갖고, 윈도우층이 물(H2O) 또는 산소(O2) 등에 의해 산화되어 전기적 특성이 악화되는 것을 방지할 수 있으므로 신뢰성이 향상된 태양전지를 제공할 수 있다.
도 3 내지 도 6은 실시예에 따른 태양전지의 제조방법을 도시한 단면도들이다. 본 제조방법에 관한 설명은 앞서 설명한 태양전지에 대한 설명을 참고한다. 앞서 설명한 태양전지에 대한 설명은 본 제조방법에 관한 설명에 본질적으로 결합될 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 지지기판(100) 상에 윈도우층(200)을 형성할 수 있다. 상기 윈도우층(200)은 CVD 공정 또는 스퍼터링 공정에 의해서 증착되어 형성될 수 있다.
도 2 및 도 4를 참조하면, 상기 윈도우층(200)의 일부를 식각하여 복수의 리세스(250)를 형성할 수 있다. 상기 복수의 리세스(250)는 식각 공정에 의하여 형성될 수 있다. 식각 용액은 불산, 황산, 질산을 혼합하여 만들 수 있고, 불소의 농도는 10?25wt%로 하였고, 여기에 황산 15wt%, 질산 15wt% 등의 산을 첨가한 혼산 용액을 제조하여 약 10분 정도 상온에서 에칭하여 형성될 수 있다.
상기 복수의 리세스(250)가 형성되는 깊이(h')는 상기 윈도우층(200) 두께(h)의 절반 이하로 형성하는 것이 바람직하나. 이에 대해 한정하지는 않는다.
상기 복수의 리세스(250)는 제1 사면(210)과 제2 사면(220)을 포함할 수 있다. 상기 지지기판(100)의 법선과 상기 제1 사면(210)이 이루는 각(θ)은 1<θ<45˚의 범위로 형성될 수 있다.
또한, 상기 지지기판(100)의 법선과 상기 제1 사면(210)이 이루는 각(θ)을 복수의 리세스(250)와 관련하여 살펴보면, θ의 값이 필요이상으로 크게 되면 유효면적의 증가에 제한적이므로 1<θ<tan-1(d/h)의 범위로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 리세스(250)의 형성과정에서 제1 사면(210) 및 제2 사면(220)과 경사를 이루는 절곡면(l)이 형성될 수 있다. 상기 절곡면의 폭은 θ의 값이 증가함에 따라 감소할 수 있고, 제1 사면(210) 및 제2 사면(220)이 접하는 임계각도에서 상기 절곡면은 형성되지 않는다. 상기 절곡면은 상기 지지기판(100)과 평행할 수도 있다.
도 5를 참조하면, 상기 윈도우층(200) 상에 버퍼층(300)이 형성될 수 있다. 상기 버퍼층(300)은 황화 카드뮴이 스퍼터링 공정 또는 용액성장법(chemical bath deposition;CBD) 등에 의해서 증착되어 형성될 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 버퍼층(300) 상에 광 흡수층(400) 및 이면전극층(500)이 형성된다.
상기 광 흡수층(400)은 예를 들어, 구리, 인듐, 갈륨, 셀레늄을 동시 또는 구분하여 증발시키면서 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계 (Cu(In,Ga)Se2;CIGS계)의 광 흡수층(400)을 형성하는 방법과 금속 프리커서 막을 형성시킨 후 셀레니제이션(Selenization) 공정에 의해 형성시키는 방법이 폭넓게 사용되고 있다.
이와는 다르게, 구리 타겟 및 인듐 타겟 만을 사용하거나, 구리 타겟 및 갈륨 타겟을 사용하는 스퍼터링 공정 및 셀레니제이션 공정에 의해서, CIS계 또는 CIG계 광 흡수층(400)이 형성될 수도 있다.
다음으로, 광 흡수층(400) 상에 이면전극층(500)이 형성될 수 있다. 상기 이면전극층(500)은 몰리브덴을 사용하여 PVD(Physical Vapor Deposition) 또는 도금의 방법으로 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 향상된 광 흡수율을 갖는 태양전지가 제공될 수 있다.
또한, 이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
Claims (11)
- 기판;
상기 기판 상에 투명전극층;
상기 투명전극층 상에 버퍼층;
상기 버퍼층 상에 광 흡수층;
상기 광 흡수층 상에 이면전극층; 및
상기 투명전극층의 상면에 형성되고, 제1 사면 및 제2 사면을 갖는 복수의 리세스;를 포함하는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 복수의 리세스가 형성되는 두께는 상기 투명전극층 두께의 10% 내지 70%의 범위를 갖는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 제1 사면과 상기 지지기판의 법선이 이루는 제1 각도(θ)는 1<θ<45˚의 범위로 형성되는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 복수의 리세스의 중심 사이의 간격은 d이고, 상기 투명전극층의 두께는 h일 때, 제1 각도(θ)는 1<θ<tan-1(d/h)의 범위로 형성되는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 복수의 리세스는 상부로 갈수록 폭이 넓어지도록 형성되는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 복수의 리세스의 저면에 형성되고, 상기 제1 사면 및 제2 사면과 접하는 절곡면을 포함하는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 투명전극층의 두께(h)는 0.5μm 내지 1μm로 형성되는 태양전지. - 제1항에 있어서,
상기 투명전극층, 버퍼층, 광 흡수층, 이면전극층은 상기 복수의 리세스에 대응하는 돌출부를 갖는 태양전지. - 기판 상에 투명전극층을 형성하는 단계;
상기 투명전극층의 상면에 제1 사면 및 제2 사면을 포함하는 복수의 리세스를 형성하는 단계;
상기 투명전극층 상에 버퍼층을 형성하는 단계:
상기 버퍼층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 및
상기 광 흡수층 상에 이면전극층을 형성하는 단계;를 포함하는 태양전지의 제조방법. - 제9항에 있어서,
상기 복수의 리세스는 불소 10?25wt%, 황산 15wt%, 질산 15wt%의 산을 첨가한 혼산 용액으로 에칭하여 형성하는 태양전지의 제조방법. - 제9항에 있어서,
상기 투명전극, 버퍼층, 광 흡수층, 이면전극층은 상기 복수의 리세스에 대응하는 돌출부를 갖도록 형성하는 태양전지의 제조방법.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110007676A KR101283140B1 (ko) | 2011-01-26 | 2011-01-26 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
EP12739578.8A EP2668670A4 (en) | 2011-01-26 | 2012-01-02 | SOLAR CELL AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME |
JP2013551889A JP5902199B2 (ja) | 2011-01-26 | 2012-01-02 | 太陽電池及びその製造方法 |
PCT/KR2012/000001 WO2012102492A2 (en) | 2011-01-26 | 2012-01-02 | Solar cell and method of fabricating the same |
CN201280015572.6A CN103477443B (zh) | 2011-01-26 | 2012-01-02 | 太阳能电池及其制造方法 |
US13/982,195 US9941427B2 (en) | 2011-01-26 | 2012-01-02 | Solar cell and method of fabricating the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110007676A KR101283140B1 (ko) | 2011-01-26 | 2011-01-26 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120086445A true KR20120086445A (ko) | 2012-08-03 |
KR101283140B1 KR101283140B1 (ko) | 2013-07-05 |
Family
ID=46581241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110007676A KR101283140B1 (ko) | 2011-01-26 | 2011-01-26 | 태양전지 및 이의 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9941427B2 (ko) |
EP (1) | EP2668670A4 (ko) |
JP (1) | JP5902199B2 (ko) |
KR (1) | KR101283140B1 (ko) |
CN (1) | CN103477443B (ko) |
WO (1) | WO2012102492A2 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107768143A (zh) * | 2017-09-16 | 2018-03-06 | 景德镇陶瓷大学 | 一种量子点敏化太阳能电池的钝化层及其制备方法和应用 |
CN108649080A (zh) * | 2018-07-19 | 2018-10-12 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种太阳能电池及其制备方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4599482A (en) * | 1983-03-07 | 1986-07-08 | Semiconductor Energy Lab. Co., Ltd. | Semiconductor photoelectric conversion device and method of making the same |
JPH04133360A (ja) | 1990-09-25 | 1992-05-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
JP3048732B2 (ja) * | 1991-11-25 | 2000-06-05 | 三洋電機株式会社 | 光起電力装置 |
JPH0951109A (ja) | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Katsuaki Sato | カルコパイライト型化合物の薄膜の作製方法及びその薄膜を有した太陽電池 |
US6222117B1 (en) * | 1998-01-05 | 2001-04-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Photovoltaic device, manufacturing method of photovoltaic device, photovoltaic device integrated with building material and power-generating apparatus |
CN1287690A (zh) * | 1998-01-22 | 2001-03-14 | 时至准钟表股份有限公司 | 太阳能电池装置及其制造方法 |
US6259016B1 (en) | 1999-03-05 | 2001-07-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solar cell |
JP3434259B2 (ja) * | 1999-03-05 | 2003-08-04 | 松下電器産業株式会社 | 太陽電池 |
EP1443527A4 (en) | 2001-10-19 | 2007-09-12 | Asahi Glass Co Ltd | SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF AND PHOTOELECTRIC IMPLEMENTATION ELEMENT |
US20080105293A1 (en) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
US7982127B2 (en) | 2006-12-29 | 2011-07-19 | Industrial Technology Research Institute | Thin film solar cell module of see-through type |
US20080223430A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Guardian Industries Corp. | Buffer layer for front electrode structure in photovoltaic device or the like |
US20080308145A1 (en) | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Guardian Industries Corp | Front electrode including transparent conductive coating on etched glass substrate for use in photovoltaic device and method of making same |
JP4304638B2 (ja) * | 2007-07-13 | 2009-07-29 | オムロン株式会社 | Cis系太陽電池及びその製造方法 |
KR101363327B1 (ko) | 2007-08-16 | 2014-02-14 | 주성엔지니어링(주) | 박막형 태양전지 및 그 제조방법 |
TW201025647A (en) | 2008-10-03 | 2010-07-01 | Toppan Printing Co Ltd | Photovoltaic module |
US8022291B2 (en) | 2008-10-15 | 2011-09-20 | Guardian Industries Corp. | Method of making front electrode of photovoltaic device having etched surface and corresponding photovoltaic device |
US20100186816A1 (en) | 2009-01-23 | 2010-07-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Solar cell |
JP2010205804A (ja) | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光電変換装置 |
KR20100115193A (ko) | 2009-04-17 | 2010-10-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 태양전지의 제조방법 |
JP2010272466A (ja) * | 2009-05-25 | 2010-12-02 | Fujifilm Corp | 透明導電体及びその製造方法 |
JP5165115B2 (ja) * | 2009-07-14 | 2013-03-21 | 三菱電機株式会社 | 基板の粗面化方法、光起電力装置の製造方法、光起電力装置 |
KR100989615B1 (ko) | 2009-09-02 | 2010-10-26 | 엘지전자 주식회사 | 태양전지 |
DE102009040621A1 (de) | 2009-09-08 | 2011-03-24 | Schott Solar Ag | Dünnschichtsolarmodul und Verfahren zu dessen Herstellung |
KR20120055132A (ko) * | 2010-11-23 | 2012-05-31 | 엘지전자 주식회사 | 박막 태양 전지 |
-
2011
- 2011-01-26 KR KR1020110007676A patent/KR101283140B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-01-02 EP EP12739578.8A patent/EP2668670A4/en not_active Withdrawn
- 2012-01-02 US US13/982,195 patent/US9941427B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-01-02 WO PCT/KR2012/000001 patent/WO2012102492A2/en active Application Filing
- 2012-01-02 CN CN201280015572.6A patent/CN103477443B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-01-02 JP JP2013551889A patent/JP5902199B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5902199B2 (ja) | 2016-04-13 |
US9941427B2 (en) | 2018-04-10 |
EP2668670A4 (en) | 2014-07-23 |
US20140034124A1 (en) | 2014-02-06 |
WO2012102492A2 (en) | 2012-08-02 |
CN103477443A (zh) | 2013-12-25 |
KR101283140B1 (ko) | 2013-07-05 |
EP2668670A2 (en) | 2013-12-04 |
WO2012102492A3 (en) | 2012-11-29 |
CN103477443B (zh) | 2017-02-15 |
JP2014504036A (ja) | 2014-02-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170605 Year of fee payment: 5 |
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LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |