KR20120074157A - 스나우트내 오염원 제거장치 - Google Patents
스나우트내 오염원 제거장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120074157A KR20120074157A KR1020100136123A KR20100136123A KR20120074157A KR 20120074157 A KR20120074157 A KR 20120074157A KR 1020100136123 A KR1020100136123 A KR 1020100136123A KR 20100136123 A KR20100136123 A KR 20100136123A KR 20120074157 A KR20120074157 A KR 20120074157A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- snout
- dust collecting
- contact
- zinc
- induction
- Prior art date
Links
- 210000004894 snout Anatomy 0.000 title claims abstract description 111
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 title claims abstract description 28
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 title description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 105
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 91
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 90
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 61
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 67
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 60
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 38
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 26
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 17
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 16
- 238000011109 contamination Methods 0.000 claims description 15
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000002889 diamagnetic material Substances 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000005292 diamagnetic effect Effects 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 ZnO compound Chemical class 0.000 description 1
- JMTIXSZQYHAMLY-UHFFFAOYSA-N [P].[Zn] Chemical compound [P].[Zn] JMTIXSZQYHAMLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
- C23C2/06—Zinc or cadmium or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0034—Details related to elements immersed in bath
- C23C2/00342—Moving elements, e.g. pumps or mixers
- C23C2/00344—Means for moving substrates, e.g. immersed rollers or immersed bearings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0035—Means for continuously moving substrate through, into or out of the bath
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0038—Apparatus characterised by the pre-treatment chambers located immediately upstream of the bath or occurring locally before the dipping process
- C23C2/004—Snouts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/325—Processes or devices for cleaning the bath
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
- C23C2/52—Controlling or regulating the coating processes with means for measuring or sensing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/005—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material incorporating means for heating or cooling the liquid or other fluent material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
강판 도금 특히, 강판의 아연 도금시 스나우트 내부의 오염원 제거를 용이토록 한 스나우트내 오염원 제거장치가 제공된다.
상기 스나우트 내 오염원 제거장치는 그 구성 일예로서, 가열로와 도금조 사이의 스나우트에 연계되는 하나 이상의 집진수단; 및, 상기 스나우트의 내측으로 자기장 변화를 구현하여 강판이나 설비 오염원을 비접촉상태로 집진수단으로 강제 유도토록 제공된 비접촉 유도수단을 포함하여 구성될 수 있다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 유도전류를 매개로 항력과 부양력 중 적어도 하나를 반자성체인 아연 또는 아연산화물의 아연재나 탕면측 드로스에 형성하여 강판이나 설비 오염원의 집진 제거를 용이하게 하는 한편, 적절한 집진은 물론, 스나우트의 내부 분위기는 안정적으로 유지시키어, 궁극적으로 아연재나 드로스 등에 의한 강판의 도금불량이나 설비 오염을 효과적으로 방지 가능하게 하는 개선된 효과를 얻을 수 있다.
상기 스나우트 내 오염원 제거장치는 그 구성 일예로서, 가열로와 도금조 사이의 스나우트에 연계되는 하나 이상의 집진수단; 및, 상기 스나우트의 내측으로 자기장 변화를 구현하여 강판이나 설비 오염원을 비접촉상태로 집진수단으로 강제 유도토록 제공된 비접촉 유도수단을 포함하여 구성될 수 있다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 유도전류를 매개로 항력과 부양력 중 적어도 하나를 반자성체인 아연 또는 아연산화물의 아연재나 탕면측 드로스에 형성하여 강판이나 설비 오염원의 집진 제거를 용이하게 하는 한편, 적절한 집진은 물론, 스나우트의 내부 분위기는 안정적으로 유지시키어, 궁극적으로 아연재나 드로스 등에 의한 강판의 도금불량이나 설비 오염을 효과적으로 방지 가능하게 하는 개선된 효과를 얻을 수 있다.
Description
본 발명은 강판의 도금 특히, 강판의 아연 도금시 스나우트 내부의 오염원 제거를 용이토록 한 스나우트내 오염원 제거장치에 관한 것이며, 더욱 상세하게는 유도전류를 매개로 항력과 부양력을 반자성체인 아연 또는 아연산화물의 아연재나 탕면측 드로스에 형성하여 강판이나 설비 오염원의 집진 제거를 용이하게 하는 한편, 적정한 집진(최소의 집진)을 통하여 스나우트의 내부 분위기는 안정적으로 유지시키어, 궁극적으로 아연재나 드로스 등에 의한 강판의 도금불량이나 설비 오염을 효과적으로 방지 가능하게 한 스나우트내 오염원 제거장치에 대한 것이다.
도금강판 특히, 아연 도금 강판은 우수한 내식성을 바탕으로 일반 건축자재용을 비롯하여 미려한 표면관리가 요구되는 가전용 외판재 및 특히 자동차용 외판재로 그 사용범위가 확대되고 있다.
특히, 근래 그 사용량이 증대되는 칼라강판, 가전재 및 자동차 내, 외판 등의 용도에서는 내식성 못지 않게 표면특성이 매우 중요한 인자이고, 따라서 강판의 표면 도금 특히, 용융아연 도금강판의 수요자들은 엄격한 표면품질을 요구하고 있다.
한편, 도 1에서는 이와 같은 강판의 아연 도금 공정을 개략적으로 도시하고 있는데, 냉간 압연된 코일의 강판(100)이 페이오프 릴(미도시)과 용접기(미도시)를 통하여 연속 통판되면서, 잔류 응력을 제거하도록 가열로(110)에서 열처리 되고, 가열된 강판(100)은 아연도금에 적당한 온도로 유지되는 상태에서, 도금액 즉, 용융아연(130a)이 충진된 도금조(130)로 인입된다.
이때, 가열로(110)와 도금조(130)사이에 연계되는 설비는, 고온으로 열처리된 강판이 대기에 노출됨에 따른 표면산화를 방지하기 위하여 제공되는 스나우트(120)(snout)이다. 이와 같은 알려진 스나우트(120)의 내부에는 표면 산화에 의한 강판의 도금불량을 방지하기 위하여 분위기용 불활성가스가 충진될 수 있다.
그리고, 가열로(110), 스나우트(120) 및, 도금조(130)의 싱크롤(132)과 스테빌라이징 롤(134)들을 통과한 도금강판(100)은 도금조 직상부에 배치되는 에어나이프(140)에서 수요가가 원하는 도금량으로 조정된다.
그 다음, 도금량 조정작업이 완료된 도금강판은 조질압연기(미도시)를 거치고, 적정한 표면 조도 부여 및 형상교정을 거쳐 절단기(미도시)에서 절단된 후, 텐션 릴(미도시)에서 권취되어 최종 도금코일 제품으로 생산되는 것이다.
그런데, 도 2에서 도시한 바와 같이, 상기 스나우트(120)의 내벽(내면)에는 증발한 아연증기(화살표)가 애쉬(ash)로 발전하여 누적 응축되는 아연재(130b)가 발생되는데, 이와 같이 증발된 아연재(130b)는 스나우트(120)의 내벽에 누적되면서 그 크기가 임계수준을 넘어서면, 도금조 용융아연(130a)의 탕면에 떨어져 부유하다가 도금되는 강판(100)의 표면에 부착되면서 표면 결함을 초래한다.
예컨대, 이와 같은 아연재는, 아연의 증발 및 응축과, 스나우트 내부 분위기 가스의 정체, 탕면의 강판 침적에 따른 파동 등과 같은 여러 요인으로, 아연의 증발로 발생되는데, 통상 Zn 또는 ZnO 화합물이다.
따라서, 아연재는 강판 오염원 즉, 강판 표면에 선상결함 및 미도금 등을 발생시키는 오염원이기 때문에, 고급 아연도금 제품에 있어서 치명적인 결함 요인이 되는 것이다.
한편, 이와 같은 스나우트 내부에서의 아연재 발생을 억제하거나 아연재를 제거하는 종래의 관련 기술들은 알려져 있는데, 예를 들어 아연의 증발을 근원적으로 억제하는 방법이나, 스나우트 내부의 용융아연 탕면의 면적을 감소시키는 방법 또는, 가스를 주입하거나 아연재나 아연증기를 집진하여 제거하는 집진 방식 등이다.
그러나, 이와 같은 종래의 아연재 문제를 해소하기 위한 알려진 기술들은, 아연재로 성장하는 아연의 증발을 제한하여 아연재가 스나우트의 내벽에 부착 성장하는 것을 효과적으로 방지하는 데에는 한계가 있었다.
특히, 아연재나 아연증기를 집진하여 제거하는 경우, 스나우트 내부에 유지되어야 하는 분위기 자체도 취약하게 되고, 스나우트 내부의 아연증기 또는 아연재를 효율적으로 집진하여 제거하기 위하여는 상당한 집진 능력을 갖추어야 하고, 이를 위하여는 가동 비용이 상당한 문제가 있었으며, 특히 아연재 제거효율도 높지 않은 실정이었다.
더하여, 스나우트 내부의 용융아연 탕면에서 분위기 또는 대기 중 공기(산소)와의 접촉으로 인한 산화물인 드로스(dross)가 형성되는데, 종래 집진을 통한 스나우트의 내부 아연재 제거방식으로는 드로스를 동시에 효과적으로 제거하는 것은 어려운 것이었다.
더욱이, 이와 같은 아연재나 드로스를 자기장 변화의 시변자계를 통한 유도전류를 매개로 반자성체인 아연 또는 아연 산화물의 아연재나 드로스에 항력과 부양력을 형성시키어 집진라인으로 강제 유도하여 제거하는 기술이 제안된 바는 없는 것이다.
본 발명은 상기와 같은 종래 문제점을 해소하기 위하여 제안된 것으로서 그 목적 측면은, 유도전류를 매개로 항력과 부양력을 반자성체인 아연 또는 아연산화물의 아연재나 탕면측 드로스에 형성하여 강판이나 설비 오염원의 집진 제거를 용이하게 하는 한편, 적절한 집진은 물론, 스나우트의 내부 분위기는 안정적으로 유지시키어, 궁극적으로 아연재나 드로스 등에 의한 강판의 도금불량이나 설비 오염을 효과적으로 방지 가능하게 한 스나우트내 오염원 제거장치를 제공하는 데에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 기술적인 측면으로서 본 발명은, 가열로와 도금조 사이의 스나우트에 연계되는 하나 이상의 집진수단; 및,
상기 스나우트의 내측으로 자기장 변화를 구현하여 강판이나 설비 오염원을 비접촉상태로 집진수단으로 강제 유도토록 제공된 비접촉 유도수단;
을 포함하여 구성된 스나우트내 오염원 제거장치를 제공한다.
바람직하게는, 상기 강판 또는 설비 오염원은 전자석의 교류전류 인가 또는 영구자석의 회전시 발생되는 유도전류에 의한 항력과 부양력 중 적어도 어느 하나가 형성되는 반자성체인 아연 또는 아연산화물을 포함하고, 상기 집진수단은, 스나우트에 연결된 집진관과 상기 집진관과 연결된 집진라인으로 구성된 것이다.
더 바람직하게는, 상기 비접촉 유도수단은, 스나우트에 연결되는 집진수단의 집진관 주변으로 진행 강판의 적어도 일측에 배치되면서, 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스 중 적어도 하나를 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공되는 것이다.
더 바람직하게는, 상기 비접촉 유도수단은, 상기 스나우트에 연결되는 집진수단의 집진관 주변으로 진행 강판의 적어도 일측에 다단으로 제공되어 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스를 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공되는 것이다.
그리고, 상기 다단 비접촉 유도수단중 적어도 하단측 유도수단은 탕면 근처 또는 일부 침지되면서 배치되어 적어도 스나우트 내부의 오염원인 드로스를 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공될 수 있다.
바람직하게는, 상기 비접촉 유도수단은, 서로 다른 극성을 갖는 영구자석이 회전체에 교대로 구비되어 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스 중 적어도 하나를 집진수단의 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공되는 제1 비접촉 유도수단;을 포함하는 것이다.
더 바람직하게는, 상기 제1 비접촉 유도수단의 상기 회전체는, 강판의 폭 방향으로 스나우트를 가로질러 구동모터로서 회전 가능하게 제공된 회전축; 및, 상기 회전축에 조립되고 상기 서로 다른 극성의 영구자석들이 교대로 장착되는 영구자석 장착부를 갖는 회전블록;를 포함하여 구성될 수 있다.
또는, 상기 비접촉 유도수단은, 단상 또는 3상의 교류전류가 인가되면서 발생되는 시변자계를 생성하는 전자석이 배열되어 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스 중 적어도 어느 하나를 집진수단의 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공된 제2 비접촉 유도수단;을 포함하는 것이다.
그리고, 상기 제2 비접촉 유도수단은, 강판의 폭 방향으로 스나우트를 가로질러 배치되고 상기 전자석들이 배열 장착되는 중공 지지체; 및,상기 중공 지지체를 통하여 케이블로 전자석과 연계되는 펄스 폭 변조기;를 포함하여 구성될 수 있다.
바람직하게는, 상기 스나우트의 내부로 상기 집진수단의 집진관 입구 주변으로 제공되는 유도용 가이드판; 및, 상기 비접촉 유도수단과 소정 간격을 유지하면서 포위되어 강판 또는 설비 오염원으로부터 비접촉 유도수단을 보호하는 절연 커버체;중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.
더 바람직하게는, 상기 스나우트의 내부에 제공된 다단의 비접촉 유도수단들 사이로 스나우트에 연결되는 제1 차단판 및, 상기 제1 차단판의 단부에 강판 진행방향으로 제공되는 제2 차단판중 적어도 제1 차단판;을 더 포함할 수 있다.
더 바람직하게는, 상기 집진수단에 구비된 집진라인에는, 집진된 오염원의 유량을 감지하고 장치 제어부와 연계되는 유량센서가 구비되고, 상기 유량센서와 연계된 장치 제어부에는 비접촉 유도수단을 구성하는 제1 비접촉 유도수단측 구동모터와, 제2 비접촉 유도수단측 펄스 폭 변조기가 연계되어 오염원 집진량에 따라, 비접촉 유도수단의 가동을 제어토록 구성될 수 있다.
이와 같은 본 발명에 의하면, 영구자석의 회전이나 전자석의 교류전류 펄스 인가를 통하여 시변자계에 의한 유도전류를 통하여, 스나우트 내부의 오염원인 반자성체의 아연재나 드로스 등의 강판 또는 설비 오염원을, 스나우트 내부에서 집진수단 측으로 비접촉상태로 강제 유도 가능하게 하기 때문에, 그 제거성을 향상시키는 것이다.
즉, 본 발명은 강판이나 설비 오염원인 아연재나 드로스의 제거가 안정적으로 유지되어 스나우트 내부의 청정성을 제공하는 것이다.
따라서, 본 발명은 무엇보다도 강판 오염원인 아연재나 드로스 제거를 통하여, 강판의 도금 품질을 적어도 안정적으로 유지 가능하게 하고, 특히 비접촉식으로 항력과 부양력을 매개로 오염원을 집진라인에 강제 유도하는 방식이므로 접촉에 따른 추가적인 부착 오염원 제거와 같은 번거로운 작업도 필요없는 것이다.
따라서, 본 발명은 근래 높은 도금 품질을 요구하는 자동차 강판용으로의 품질 확보를 가능하게 하는 것이다.
도 1은 종래 강판 도금 라인을 도시한 전체 구성도
도 2는 종래 스나우트의 내부에서 형성되는 아연재를 도시한 개략도
도 3은 본 발명에 따른 스나우트내 오염원 제거장치를 도시한 전체 구성도
도 4는 본 발명 장치의 비접촉 유도수단을 도시한 작동 상태도
도 5는 본 발명 장치에서 시변자계에 의한 유도전류를 통한 반자성체의 항력과 부양력 발생 원리를 설명하기 위하여 제시된 개략도
도 6은 본 발명 장치의 비접촉 유도수단의 사용상태를 도시한 사시도
도 7은 도 6의 본 발명 비접촉 유도수단의 다단 설치상태를 도시한 사시도
도 8은 본 발명 장치의 비접촉 유도수단의 조립 상태를 도시한 사시도
도 9는 본 발명장치의 비접촉 유도수단에서 영구자석을 이용한 유도수단을 도시한 분해 사시도
도 10은 전자석과 영구자석의 제1,2 비접촉 유도수단을 병합하여 도시한 구성도
도 2는 종래 스나우트의 내부에서 형성되는 아연재를 도시한 개략도
도 3은 본 발명에 따른 스나우트내 오염원 제거장치를 도시한 전체 구성도
도 4는 본 발명 장치의 비접촉 유도수단을 도시한 작동 상태도
도 5는 본 발명 장치에서 시변자계에 의한 유도전류를 통한 반자성체의 항력과 부양력 발생 원리를 설명하기 위하여 제시된 개략도
도 6은 본 발명 장치의 비접촉 유도수단의 사용상태를 도시한 사시도
도 7은 도 6의 본 발명 비접촉 유도수단의 다단 설치상태를 도시한 사시도
도 8은 본 발명 장치의 비접촉 유도수단의 조립 상태를 도시한 사시도
도 9는 본 발명장치의 비접촉 유도수단에서 영구자석을 이용한 유도수단을 도시한 분해 사시도
도 10은 전자석과 영구자석의 제1,2 비접촉 유도수단을 병합하여 도시한 구성도
이하, 첨부된 도면에 따라 본 발명을 상세하게 설명한다.
도 3 및 도 4에서는 본 발명에 따른 강판 도금 라인의 스나우트내 오염원 제거장치(1)를 도시하고 있다.
다만, 이하의 본 실시예에서는 도금라인을 아연도금라인으로 설명하고, 도금강판을 아연도금강판(100)으로 설명하며, 스나우트 내부에서 발생되는 아연 또는 아연산화물인 아연재(2a)와 탕면상의 드로스(2b)를 강판 또는 설비 오염원(2)으로 일괄하여 설명하되, 필요한 부분에서는 구분하여 설명한다.
그리고, 도 1에서 설명한 종래 기술과 동일한 구성부분은 100단위의 도면부호로 설명하되, 본 발명의 스나우트 관련 구성요소는 10단위의 도면부호로 설명한다.
먼저, 도 3 및 도 4에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 아연도금라인의 스나우트의 오염원 제거장치(1)는, 그 구성 일예로서 가열로(100)(소둔로)와 도금조(130) 사이의 스나우트(10)에 연계되는 하나 이상의 집진수단(30); 및, 상기 스나우트(10)의 내측으로 자기장 변화를 구현하여 강판이나 설비 오염원을 비접촉상태로 집진수단으로 강제 유도하여 제거토록 제공된 비접촉 유도수단(50 또는 70)을 포함하여 구성될 수 있다.
따라서, 도 3 및 도 4와 같이, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)는 스나우트 내부에 상기 비접촉 유도수단을 구비하기 때문에, 기존에 단순하게 집진관을 스나우트에 연결하고 집진을 통하여 아연재(2a) 등의 오염원(2)을 제거하는 것에 비하여, 상기 집진수단(30)의 집진관(32)으로 아연재(2a) 또는/및 탕면 상의 드로스(2b)를 강제 유도하여 그 제거효율을 높이도록 하는 것이다.
즉, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)는 스나우트의 내부에서 발생되는 아연 또는 아연 산화물인 아연재나 탕면 상에서 공기 접촉으로 생성되는 드로스(2b)의 제거효율을 극대화시키는 것을 가능하게 할 것이다.
예를 들어, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)의 경우에는 스나우트 내부의 청정성을 확보 가능하게 함으로써, 아연재(2a)나 드로스(2b)가 강판 표면에 부착되거나 싱크롤 등에 부착되면서, 강판의 도금불량, 표면결함이나. 설비 결함이 발생되지 않게 하는 것이다.
특히, 본 발명 장치의 상기 비접촉 유도수단은, 다음에 상세하게 설명하듯이, (전)자기장을 시간에 따라 변화시키는 시변자계(Time Traveling Magnetic Flux)를 통하여 유도전류를 매개로 오염원 특히, 아연이나 아연 산화물인 반자성체의 아연재나 드로스에 항력과 부양력을 동시에 형성시키어 비접촉식으로 집진라인(30)의 집진관(32)으로 강제 유도하도록 하여, 기존에 비하여 적정한 집진효율을 유지하면서 오염원 집진 제거성을 향상시키도록 하는 것이다.
즉, 도 3 내지 도 5에서 도시한 바와 같이, 본 발명 장치(1)에서 스나우트 10)의 내부에서, 전자석의 단상 또는 3상의 교류전류 인가시 또는 영구자석의 회전시 반자성체 오염원(2)인 아연재(2a)나 탕면상의 드로스(2b)에 형성되는 항력(Drag Force)과 부양력(Levitation Force)중 적어도 어느 하나 또는 이들 모두를 이용하여 오염원(2)의 집진관 유도를 강제적으로 원활하게 하는 것이다.
한편, 도 5에서 도면부호 70은 다음에 상세하게 설명하는 전자석(72)을 이용한 제2 비접촉 유도수단을 나타내고, 도면부호 50은 서로 극성이 다른 영구 즉, N극(52a)과 S극(52b)이 교대로 배열되는 영구자석(52)을 이용하는 제1 비접촉 유도수단(50)을 나타낸다.
이때, 도 5에서는 본 발명에 따른 비접촉 유도수단 즉, 영구자석(52)을 포함하는 제1 비접촉 유도수단(50)과 전자석(72)을 포함하는 제2 비접촉 유도수단(70)를 이용하여 반자성체인 아연이나 아연산화물인 아연재(2a)나 드로스(2b)의 오염원(2)에 항력과 부양력을 형성하는 원리를 개략적으로 도시하고 있다.
즉, 도 5의 그래프에서, 영구자석(52)이 N극 영구자석(52b)과 S극 영구자석(52a)으로 교대로 배열되고, 이를 회전시키면 자기장이 시간에 따라 변화하는 시변자계로 유도전류가 생성되면서 반자성체 예를 들어, 아연(Zn),알루미늄(Al),구리(Cu) 등의 반자성체에 항력(Drag Force)과 부양력(Leviation Force)을 형성시킨다. 다만, 이경우 임계의 회전속도에 이르기 전까지 부양력 보다는 주로 항력을 형성시킨다.
더하여, 도 5와 같이, 전자석(72)에 교류전류를 펄스 폭 변조기(도 10의 78)를 이용하여 인가하는 경우 앞에서 설명한 반자성체에 항력과 부양력을 형성시킨다. 물론, 부양력 형성을 위하여는 적정한 교류전류의 인가가 필요하다.
즉, 이와 같은 항력과 부양력은 영구자석의 회전력을 증감하여 제어할 수 있고, 부양력은 전자석에 상당한 전류를 인가하지 않으면 미약하기는 하나, 적절한 크기의 교류전류를 인가시키면 부양력 형성과 그 제어도 충분히 가능한 것이다.
다음, 도 3 및 도 4에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 상기 집진수단(30)은, 본 발명 스나우트(10)에 연결되는 집진관(32)과 상기 집진관과 연결된 집진라인(34)(suction line)으로 제공될 수 있다.
예를 들어, 도 3과 같이 본 발명의 비접촉 유도수단(50)(70)들이 상,하로 배치되는 경우, 상,하측으로 스나우트(10)의 양측에 각각 집진관(32)들이 상기 비접촉 유도수단에 근접하여 배치되고(반대로 집진관의 근처에 유도수단들을 배치하는 것일 수 있음), 상기 각각의 집진관에는 연결되는 각각의 집진라인(34)에는 탕면측의 드로스(2b)와 스나우트 상부에 증발된 아연재(2a)를 각각 집진하기 위한 각각 펌프(36)가 연결된다.
그리고, 상기 펌프를 통과하는 집진라인은 아연재나 드로스를 수집하여 재활용하는 수집조(38)가 연결될 수 있고, 각각의 집진라인(34)에는 유량센서(40) 들이 구비되어 집진(포집)되는 강판 또는 설비 오염원(2)인 아연재(2a)와 드로스(2b)의 집진량을 감지할 수 있다.
이때, 상기 유량센서(40)들은 각각 장치 제어부(C)와 연계되고, 상기 장치 제어부(C)는, 도 10에서 도시한 바와 같이, 제1 비접촉 유도수단(50)측의 구동모터(56)와, 제2 비접촉 유도수단(70)측의 전자석에 교류전류를 공급하는 펄스 폭 변조기(78)와 연계되어, 오염원 집진량에 따라 제1 또는 제2 비접촉 유도수단의 가동을 제어할 수 있다.
예컨대, 영구자석의 회전력을 증가하면 항력과 부양력이 증폭되고, 전자석에 인가되는 교류전류를 제어하면 항력과 부양력을 조정할수 있을 것이다.
따라서, 도 3 및 도 4에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)에서, 제1 및 제2 비접촉 유도수단(50)(70)으로 구성되는 비접촉 유도수단은, 스나우트(10)에 연결되는 집진수단(30)의 집진관(32) 주변으로 적어도 진행 강판의 양측에 배치되면서, 스나우트 내부에 형성되는 반자성체의 강판 또는 설비(싱크롤 등) 오염원인 아연재(2a)와 드로스(2b)중 적어도 어느 하나 또는 이들 모두를 상기 집진관으로 강제 유도하여 그 제거를 용이하게 하는 것이다.
이때, 항력은 회전하는 유도수단의 원주방향으로 형성되면서 오염원인 아연재나 드로스를 비접촉상태로 강제로 집진관으로 유도 견인하게 된다.
다음, 바람직하게는 영구자석을 포함하는 제1 비접촉 유도수단(50)의 경우 임계의 회전속도에 이르기 전까지 부양력 보다는 주로 항력을 형성시키므로, 스나우트(10)의 내부로 아연증기가 증발되어 응축 생성되는 아연재(2a)가 주로 모이는 상측에는 영구자석(52)을 포함하여 회전 구동되면서 임계 회전속도에 이르기 전까지는 주로 항력을 발생시키는 제1 비접촉 유도수단(50)을 배치하고, 하측으로 탕면측에는 전자석(72)을 포함하여 펄스 폭 변조기(78)에서 인가되는 단상 또는 3상의 교류전류 인가폭에 따라 항력과 함께 부양력도 발생시키는 제2 비접촉 유도수단(70)을 배치하여 탕면측 드로스(2b)의 강재 유도 제거를 구현하는 것이 가장 바람직할 것이다.
예를 들어, 도 4에서 도시한 바와 같이, 영구자석(52) 즉, N극 자석(52a)과 S극 영구자석(52b)들이 교대로 배열되는 본 발명의 제1 비접촉 유도수단(50)의 경우, 영구자석의 회전시 반자성체의 항력과 부양력이 발생되고, 따라서 아연증기의 고착물인 아연재(2a)는 항력(화살표)으로 집진관(32)에서 집진되고, 하측으로 탕면측 드로스(2b)도 항력과 부양력을 받아 집진관 측으로 원활하게 되는 것이다.
즉, 영구자석(52)을 포함하는 제1 비접촉 유도수단(50)에서는 임계 회전속도에 이르기 전까지는 주로 항력이 형성되고, 전자석(72)을 포함하는 제2 비접촉 유도수단(70)은 인가되는 고류 전류의 인가(PWM 변조)시 항력과 같이 부양력을 발생시키므로, 도 4와 같이 아연재(2a) 보다는 탕면측의 드로스(2b)의 제거를 용이하게 할 것이다.
더 바람직하게는, 도 3 및 도 7과 같이, 입도가 아연재 보다는 큰 드로스(2b)의 원활하게 집진관 측으로 유도하기 위하여는, 비접촉 유도수단(50 또는 70)을 일부가 탕면에 침지되는 형태로 배치하는 것인데, 이 경우 전자석의 제2 비접촉 유도수단(70)은 다음에 도 10에서 설명하듯이, 영구자석과는 다르게 회전 구동이 필요하지 않기 때문에, 탕면 유동을 발생시키지 않는다.
물론, 도 4와 같이, 영구자석(52)을 포함하는 제1 비접촉 유도수단(50)만을 용융아연에 침지시키지 않으면서 탕면 상에 근접시키고, 그 상,하측에 각각 집진관(32)을 위치시키면, 상기 제1 비접촉 유도수단(50)만으로도 아연재(2a)와 드로스(2b)의 오염원(2)의 강제 유도 제거를 가능하게 할 것이다.
다음, 도 3 및 도 4에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 상기 스나우트(10)의 내측에 오염원 유도용 가이드판(80)을 배치하는 경우 더 바람직할 것이다.
즉, 상기 가이드판(80)은 선단부분이 만곡되어 호형의 가이드공간을 제공하고, 따라서 제1 비접촉 유도수단(50)의 회전시 영구자석의 회전으로 강판 또는 설비 오염원의 아연재(2a)에 항력이 형성되는 경우, 아연재는 가이드판의 만곡 선단부에 의하여 집진관(32) 측으로 더 효과적으로 유도 집진(제거)될 수 있다.
또한, 상기 가이드판(80)은 비접촉 유도수단의 회전시 원주방향으로 형성되는 항력을 차단하여 아연재가 항력에 영향을 받아 진행 강판측으로 비산(퍼지는)것을 차단하는 것도 가능하게 할것이다.
따라서, 바람직하게는 상기 가이드판(80)은 비접촉 유도수단(50)의 외연에 배치되고 스나우트 벽사이에 소정 간격으로 배치된 절연 커버체(90)에 거의 근접하게 만곡 선단부를 형성시키면, 아연재는 거의 100% 집진관으로 집진 제거될 것이다.
다음, 도 6 및 도 7에서는 도 4 및 도 3에서 도시한 본 발명의 제1,2 비접촉 유도수단(50)(70)의 스나우트(10)의 설치 상태를 사시도로 도시하고 있다. 다만, 도 7에서는 하측에 제1,2 비접촉 유도수단(50)(70)을 선택적으로 배치하는 것을 도시하였다.
에컨대, 본 발명 스나우트 내 오염원 제거장치(1)는 제1,2 비접촉 유도수단(50)(70) 중 적어도 하나를 포함하는 세트 구성장치로 제작하여, 도 6 및 도 7과 같이, 기존 스나우트 하측에 연계 설치할 수 있을 것이다.
한편, 도 3 및 도 7에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)에서, 상기 스나우트(10)의 내부에 2단(다단)으로 제1,2 비접촉 유도수단(50)(70)을 배치하는 경우에는 스나우트(10)에서 수평하게 배치되는 제 차단판(12)을 더 제공하는 것이 바람직할 것이다.
이 경우 상기 제1 차단판(12)은 앞에서 설명한 바와 같이, 각각의 비접촉 유도수단에서 반자성체 오염원 즉, 아연재(2a)나 드로스(2b)에 항력과 부양력을 형성시키는 경우, 상기 항력과 부양력이 서로 간섭되는 것을 차단하는 역할을 할 것이다. 즉, 상,하측 항력 등이 서로 충돌하여 아연재 등이 스나우트 내부에서 비산되지 않게 하는 것이다.
더 바람직하게는 별도의 도면으로 도시하지 않았지만, 상기 제1 차단판(12)의 선단부에 수직한 제2 차단판(미도시)을 진행 강판에 대응하여 강판과 소정 간격을 가지도록 제공하면, 강판과 비접촉 유도수단 사이를 차단하여 오염원(2)인 아연재(2a) 또는 드로스(2b)의 집진관으로의 강제 유도(견인)를 더 용이하게 할 것이다.
다음, 도 8 내지 도 10에서는 지금까지 설명한 본 발명의 영구자석(52)을 포함하는 제1 비접촉 유도수단(50)을 각각 조립상태와 분해상태 및 설치상태로 도시하고 있다.
즉, 도 8 내지 도 10에서는, 서로 다른 N,S 극성을 갖는 영구자석(52a) (52b)들이 회전체(54)에 교대로 배열 장착되어 항력으로 반자성체 오염원(2)을 집진수단(30)의 집진관(32)으로 강제 유도토록 제공되는 제1 비접촉 유도수단(50)을 도시하고 있다.
다만, 도 10에서는 전자석(72)을 포함하는 제2 비접촉 유도수단(70)을 같은 설치상태도로 병기하고 있다.
이때, 상기 제1 비접촉 유도수단(50)의 회전체(54)는, 도 8 및 도 9에서 도시한 바와 같이, 스나우트(10)의 내부를 통과하는 강판(100)의 폭 방향으로 스나우트(10)를 가로질러 일측에 구동모터(도 10의 56)로서 회전 가능하게 제공된 회전축(58)과, 상기 회전축(58)이 중앙의 조립구멍(62a)에 조립되고 상기 서로 다른 극성의 영구자석(52a)(52b)들이 교대로 장착되는 영구자석 장착부(60)를 갖는 회전블록(62)으로 구성된다.
한편, 도 10와 같이, 상기 회전축(58)의 양측에는 고정판(64)이 고정되면서 상기 영구자석들의 이탈을 방지하도록 한다.
따라서, 도 10과 같이, 스나우트(10)의 측벽에 수평 장착된 구동모터(56)의 구동시, 스나우트 벽에 베어링(미부호)로 회동토록 조립된 상기 회전체(54)의 회전축(58)과 일체로 회전블록(62)이 회전되고, 회전블록에 장착된 영구자석들은 일체로 회전 구동된다.
결국, 앞에서 설명한 바와 같이, 상기 영구자석의 회전으로 도 5와 같은 시변자계를 통한 유도전류의 생성으로 반자성체인 오염원(2) 즉, 적어도 반자성체의 아연이나 아연산화물을 포함하는 아연재나 드로스에 항력과 부양력을 형성시키게 되고, 이는 비접촉상태로 강제 유도되도록 하는 것이다.
다음, 도 10에서 도시한 바와 같이, 단상 또는 3상의 교류전류가 인가되는 인가되는 전자석(72)이 배열 구비되어 항력과 부양력중 적어도 어느 하나 또는 이들 모두를 형성하여 오염원(2)인 아연재(2a)나 드로스(2b)를 집진관으로 강제 유도토록 하는 상기 제2 비접촉 유도수단(70)은, 강판(100)의 폭 방향으로 스나우트(10)를 가로질러 배치되고 상기 전자석(72)들이 배열 장착되는 중공 지지체(74)를 포함한다.
즉, 전자석을 이용하는 제2 비접촉 유도수단(70)의 경우, 영구자석과는 다르게 회전 구동시키지 않고, 상기 중공 지지체(74)의 내부 공간(74a)을 통하여 전자석(72)(도 5와 같이 다층의 전자석 들이 배열됨)과 케이블(76)을 통하여 연결된 펄스 폭 변조기(78)를 통하여 교류전류의 적절한 인가를 구현할 수 있다.
한편, 도 3 및 도 10에서 도시하고, 앞에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)에서는, 집진된 아연재나 드로스의 집진량을 감지하여 강판의 통판 속도와 제1 비접촉 유도수단(50)의 구동모터(56)와 제2 비접촉 유도수단(70)의 펄스 폭 변조기(78)의 가동을 제어할 수 있는데, 예를 들어 도금공정의 강판 통판속도(라인속도)에 맞추어 제1 비접촉 유도수단(50)의 회전체(도 9의 4)의 회전속도를 셋트하고, 연속 강판의 용점위치후 200 m 지점에서 집진된 아연산화물인 오염원(2)의 아연재나 드로스의 집진량을 유량센서(도 3의 40)를 통하여 감지하고, 이를 도태로 집진 압력을 적정하게 유지하는 것이 가능하다.
따라서, 본 발명의 스나우트내 오염원 제거장치(1)는, 반자성체인 아연이나 아연산화물인 아연재(2a)나 드로스(2b)의 오염원(2)에 적정한 항력과 더하여 부양력을 형성하여 비접촉상태의 강제 유도(견인)이 구현되기 때문에, 최소의 집진력만으로도 오염원 제거효율은 극대화할 수 있다.
즉, 본 발명은 과도한 집진에 따른 비용 증대나 스나우트 내부의 분위기 저하를 방지하는 것도 가능하게 할 것이다.
무엇보다도, 본 발명은 아연재(2a)와 드로스(2b)와 같은 강판이나 설비 즉, 싱크롤 등의 설비 오염원에 의한 도금불량이나 싱크롤 등의 설비 오염을 미연에 효과적으로 방지하도록 하는 것이다. 즉, 궁극적으로 강판 도금 품질을 향상시키는 동시에, 설비의 청정성 확보로 수명도 연장시키는 것이다.
이때, 도 8 및 도 9에서 도시한 바와 같이, 본 발명의 적어도 제1 비접촉 유도수단(50)의 회전체(54)의 외연에는 스나우트 측벽사이에 고정되어 소정 간격을 유지하는 커버체 특히, 아연입자가 부착되는 경우 제거를 용이하게 하고 항력 등의 원활한 형성을 위한 세라믹 커버체(90)를 배치하는 것이 바람직하다.
본 발명은 지금까지 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화 될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자는 용이하게 알 수 있음을 밝혀두고자 한다.
1.... 스나우트내 오염원 제거장치
2.... 오염원(반자성체 아연이나 아연산화물)
2a.... 아연재 2b.... 드로스
10.... 본 발명의 스나우트 12.... 제1 차단판
30.... 집진수단 32.... 집진관
34.... 집진라인 50.... 제1 비접촉 유도수단
52.... 영구자석 54.... 회전체
56.... 구동모터 58.... 회전축
60.... 영구자석 장착부 62.... 회전블록
70.... 제2 비접촉 유도수단 72.... 전자석
74.... 중공 지지체 78.... 펄스 폭 변조기(PWM 구동기)
80.... 오염원 유도용 가이드판 90.... 커버체(세라믹 커버체)
2.... 오염원(반자성체 아연이나 아연산화물)
2a.... 아연재 2b.... 드로스
10.... 본 발명의 스나우트 12.... 제1 차단판
30.... 집진수단 32.... 집진관
34.... 집진라인 50.... 제1 비접촉 유도수단
52.... 영구자석 54.... 회전체
56.... 구동모터 58.... 회전축
60.... 영구자석 장착부 62.... 회전블록
70.... 제2 비접촉 유도수단 72.... 전자석
74.... 중공 지지체 78.... 펄스 폭 변조기(PWM 구동기)
80.... 오염원 유도용 가이드판 90.... 커버체(세라믹 커버체)
Claims (12)
- 가열로와 도금조 사이의 스나우트에 연계되는 하나 이상의 집진수단; 및,
상기 스나우트의 내측으로 자기장 변화를 구현하여 강판이나 설비 오염원을 비접촉상태로 집진수단으로 강제 유도토록 제공된 비접촉 유도수단;
을 포함하여 구성된 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제1항에 있어서,
상기 강판 또는 설비 오염원은 전자석의 교류전류 인가 또는 영구자석의 회전시 발생되는 유도전류에 의한 항력과 부양력 중 적어도 어느 하나가 형성되는 반자성체의 아연 또는 아연산화물을 포함하고,
상기 집진수단은, 스나우트에 연결된 집진관과 상기 집진관과 연결된 집진라인으로 구성된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제1항에 있어서,
상기 비접촉 유도수단은, 스나우트에 연결되는 집진수단의 집진관 주변으로 진행 강판의 적어도 일측에 배치되면서, 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스 중 적어도 하나를 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제1항에 있어서,
상기 비접촉 유도수단은, 상기 스나우트에 연결되는 집진수단의 집진관 주변으로 진행 강판의 적어도 일측에 다단으로 제공되어 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스를 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제4항에 있어서,
상기 다단 비접촉 유도수단중 적어도 하단측 유도수단은 탕면 근처 또는 일부 침지되면서 배치되어 적어도 스나우트 내부의 오염원인 드로스를 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 비접촉 유도수단은, 서로 다른 극성을 갖는 영구자석이 회전체에 교대로 구비되어 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스 중 적어도 하나를 집진수단의 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공되는 제1 비접촉 유도수단;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제6항에 있어서,
상기 제1 비접촉 유도수단의 회전체는, 강판의 폭 방향으로 스나우트를 가로질러 구동모터로서 회전 가능하게 제공된 회전축; 및,
상기 회전축에 조립되고 상기 서로 다른 극성의 영구자석들이 교대로 장착되는 영구자석 장착부를 갖는 회전블록;
을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 비접촉 유도수단은, 단상 또는 3상의 교류전류가 인가되면서 발생되는 시변자계를 생성하는 전자석이 배열되어 스나우트 내부의 오염원인 아연재와 드로스 중 적어도 어느 하나를 집진수단의 집진관으로 비접촉 강제 유도토록 제공된 제2 비접촉 유도수단;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제8항에 있어서,
상기 제2 비접촉 유도수단은, 강판의 폭 방향으로 스나우트를 가로질러 배치되고 상기 전자석들이 배열 장착되는 중공 지지체; 및,
상기 중공 지지체를 통하여 케이블로 전자석과 연계되는 펄스 폭 변조기;
를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 스나우트의 내부로 상기 집진수단의 집진관 입구 주변으로 제공되는 유도용 가이드판; 및,
상기 비접촉 유도수단과 소정 간격을 유지하면서 포위되어 강판 또는 설비 오염원으로부터 비접촉 유도수단을 보호하는 절연 커버체;
중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
- 제4항에 있어서,
상기 스나우트 내부에 제공된 다단의 비접촉 유도수단들 사이로 스나우트에 연결되는 제1 차단판 및, 상기 제1 차단판의 단부에 강판 진행방향으로 제공되는 제2 차단판 중 적어도 제1 차단판;
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치. - 제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 집진수단에 구비된 집진라인에는, 집진된 오염원의 유량을 감지하고 장치 제어부와 연계되는 유량센서가 구비되고,
상기 유량센서와 연계된 장치 제어부에는 비접촉 유도수단을 구성하는 제1 비접촉 유도수단측 구동모터와 제2 비접촉 유도수단측 펄스 폭 변조기가 연계되어 오염원 집진량에 따라, 비접촉 유도수단의 가동을 제어토록 구성된 것을 특징으로 하는 스나우트내 오염원 제거장치.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100136123A KR101253894B1 (ko) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | 스나우트내 오염원 제거장치 |
US13/824,574 US9133540B2 (en) | 2010-12-27 | 2011-12-26 | Apparatus for removing pollutant source from snout of galvanizing line |
CN201180062698.4A CN103282535B (zh) | 2010-12-27 | 2011-12-26 | 从镀锌线的管嘴部去除污染物源的装置 |
JP2013547324A JP5816701B2 (ja) | 2010-12-27 | 2011-12-26 | スナウト内の汚染源除去装置 |
PCT/KR2011/010117 WO2012091391A2 (en) | 2010-12-27 | 2011-12-26 | Apparatus for removing pollutant source from snout of galvanizing line |
EP11854326.3A EP2659020A4 (en) | 2010-12-27 | 2011-12-26 | Apparatus for removing pollutant source from snout of galvanizing line |
MX2013006971A MX337735B (es) | 2010-12-27 | 2011-12-26 | Aparato para remover una fuente de contaminantes de la tobera de una linea de galvanizado. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100136123A KR101253894B1 (ko) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | 스나우트내 오염원 제거장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120074157A true KR20120074157A (ko) | 2012-07-05 |
KR101253894B1 KR101253894B1 (ko) | 2013-04-16 |
Family
ID=46383670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100136123A KR101253894B1 (ko) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | 스나우트내 오염원 제거장치 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9133540B2 (ko) |
EP (1) | EP2659020A4 (ko) |
JP (1) | JP5816701B2 (ko) |
KR (1) | KR101253894B1 (ko) |
CN (1) | CN103282535B (ko) |
MX (1) | MX337735B (ko) |
WO (1) | WO2012091391A2 (ko) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101372705B1 (ko) * | 2012-03-30 | 2014-03-10 | 주식회사 포스코 | 도금조 탕면 커버장치 |
KR101383808B1 (ko) * | 2012-08-21 | 2014-04-10 | 주식회사 포스코 | 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치 |
KR20160015026A (ko) * | 2014-07-30 | 2016-02-12 | 주식회사 포스코 | 스나우트 장치 및 이를 이용한 도금강판 제조 장치 |
WO2017099547A1 (ko) * | 2015-12-11 | 2017-06-15 | 주식회사 포스코 | 부유드로스 제거장치 |
KR20200009818A (ko) * | 2018-07-20 | 2020-01-30 | 주식회사 포스코 | 아연도금설비 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2852363C (fr) * | 2011-10-20 | 2016-11-08 | Arcelormittal Investigacion Y Desarrollo, S.L. | Procede de revetement au trempe d'une bande d'acier et installation pour sa mise en oeuvre |
KR101372765B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2014-03-11 | 주식회사 포스코 | 전자기 와이핑 장치와 이를 포함하는 도금강판 와이핑 장치 |
KR101650462B1 (ko) * | 2014-12-26 | 2016-08-23 | 주식회사 포스코 | 도금포트의 상부 드로스 제거장치 |
CN104561872A (zh) * | 2014-12-29 | 2015-04-29 | 浙江盛达铁塔有限公司 | 一种热浸镀锌设备 |
DE102015211489B3 (de) * | 2015-06-22 | 2016-06-30 | Thyssenkrupp Ag | Rolle zur Umlenkung oder Führung eines zu beschichtenden Metallbandes in einem metallischen Schmelzenbad |
CN108998750B (zh) * | 2017-06-06 | 2020-04-28 | 宝山钢铁股份有限公司 | 热镀锌锌锅内锌液的流动控制方法与装置 |
CN110295335B (zh) * | 2018-03-22 | 2021-02-19 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种降低锌锅底渣累积量的分离装置 |
EP4153793A1 (en) | 2020-05-22 | 2023-03-29 | Cleveland-Cliffs Steel Properties Inc. | A snout for use in a hot dip coating line |
US11898251B2 (en) | 2020-05-22 | 2024-02-13 | Cleveland-Cliffs Steel Properties Inc. | Snout for use in a hot dip coating line |
US11642690B1 (en) * | 2021-11-05 | 2023-05-09 | GM Global Technology Operations LLC | Systems and methods for paint application during paint submersion |
CN116692551A (zh) * | 2022-02-28 | 2023-09-05 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 料带转向机构、烘干装置和极片制造设备 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5433234A (en) * | 1977-08-18 | 1979-03-10 | Nisshin Steel Co Ltd | Method and apparatus for removing top dross in molten metal plating |
JPS59159978A (ja) | 1983-03-03 | 1984-09-10 | Shinko Electric Co Ltd | 連続溶融亜鉛メツキ槽の電磁撹拌装置 |
JPH07157853A (ja) * | 1993-12-06 | 1995-06-20 | Nippon Steel Corp | 溶融金属めっきのスナウト内亜鉛ヒューム除去方法及び装置 |
US5505857A (en) * | 1994-01-13 | 1996-04-09 | Buckman Laboratories International, Inc. | Process for the treatment of metal-containing water and recovery of metals therefrom |
JPH0892710A (ja) * | 1994-09-27 | 1996-04-09 | Kawasaki Steel Corp | 溶融亜鉛めっき浴中のドロス排出方法およびその装置 |
JP3411425B2 (ja) * | 1995-06-05 | 2003-06-03 | Jfeスチール株式会社 | 溶融金属めっき鋼板の製造方法 |
SE513652C2 (sv) * | 1997-10-29 | 2000-10-16 | Ectacor Ab | Sätt och anordning för avskiljning av flytande föroreningar |
JP2000026947A (ja) * | 1998-07-08 | 2000-01-25 | Nkk Corp | 亜鉛系溶融金属の連続めっきラインの金属蒸気分離回収方法及び装置 |
KR20000039458A (ko) * | 1998-12-14 | 2000-07-05 | 이구택 | 전자기장을 이용한 용융 도금조의 스나우트내 애쉬제거방법및 장치 |
JP2000212714A (ja) * | 1999-01-18 | 2000-08-02 | Hitachi Ltd | 連続溶融金属めっき装置及び連続溶融金属めっき方法 |
KR20010057267A (ko) * | 1999-12-21 | 2001-07-04 | 신현준 | 용융아연 도금조의 애쉬 배출장치 |
KR100847666B1 (ko) * | 2001-12-14 | 2008-07-21 | 주식회사 포스코 | 소둔로 스나우트의 아연재 흡입 및 가스 분사장치 |
KR100815819B1 (ko) * | 2001-12-18 | 2008-03-20 | 주식회사 포스코 | 회전형 스나우트 에쉬 자동 제거장치 |
JP2005068545A (ja) * | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Nippon Denro Kk | 溶融亜鉛めっき浴の酸化灰の除去方法 |
KR101568422B1 (ko) * | 2009-05-06 | 2015-11-12 | 주식회사 포스코 | 롤축을 지지하는 마그네틱 베어링 장치 |
-
2010
- 2010-12-27 KR KR1020100136123A patent/KR101253894B1/ko active IP Right Grant
-
2011
- 2011-12-26 MX MX2013006971A patent/MX337735B/es active IP Right Grant
- 2011-12-26 WO PCT/KR2011/010117 patent/WO2012091391A2/en active Application Filing
- 2011-12-26 EP EP11854326.3A patent/EP2659020A4/en not_active Withdrawn
- 2011-12-26 CN CN201180062698.4A patent/CN103282535B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-26 JP JP2013547324A patent/JP5816701B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-12-26 US US13/824,574 patent/US9133540B2/en active Active
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101372705B1 (ko) * | 2012-03-30 | 2014-03-10 | 주식회사 포스코 | 도금조 탕면 커버장치 |
KR101383808B1 (ko) * | 2012-08-21 | 2014-04-10 | 주식회사 포스코 | 스나우트 내부의 에쉬 증발량 측정장치 |
KR20160015026A (ko) * | 2014-07-30 | 2016-02-12 | 주식회사 포스코 | 스나우트 장치 및 이를 이용한 도금강판 제조 장치 |
WO2017099547A1 (ko) * | 2015-12-11 | 2017-06-15 | 주식회사 포스코 | 부유드로스 제거장치 |
KR20200009818A (ko) * | 2018-07-20 | 2020-01-30 | 주식회사 포스코 | 아연도금설비 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9133540B2 (en) | 2015-09-15 |
WO2012091391A3 (en) | 2012-09-13 |
CN103282535A (zh) | 2013-09-04 |
EP2659020A2 (en) | 2013-11-06 |
CN103282535B (zh) | 2015-07-15 |
EP2659020A4 (en) | 2017-01-11 |
KR101253894B1 (ko) | 2013-04-16 |
MX2013006971A (es) | 2013-07-15 |
JP5816701B2 (ja) | 2015-11-18 |
MX337735B (es) | 2016-03-16 |
WO2012091391A2 (en) | 2012-07-05 |
JP2014501336A (ja) | 2014-01-20 |
US20130180076A1 (en) | 2013-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101253894B1 (ko) | 스나우트내 오염원 제거장치 | |
KR102315688B1 (ko) | 컴팩트한 연속식 어닐링 용액 열처리 | |
US9689063B2 (en) | Electromagnetic wiping device, plated steel sheet wiping apparatus including same, and method for manufacturing plated steel sheet | |
CN1147616C (zh) | 带有电磁堵塞装置的热浸镀镀槽 | |
KR101461720B1 (ko) | 도금조 탕면의 이물 제거장치 | |
RU2566115C1 (ru) | Способ нанесения покрытия на стальную полосу методом погружения и установка для его осуществления | |
CA3051026C (en) | Method and device for controlling flow of liquid zinc in zinc pot for hot-dip galvanization | |
JP2017508864A (ja) | ガルバニーリングセクションを備える、非磁性金属ストリップを処理する連続処理ライン、及び該ガルバニーリングセクションにおいて該ストリップを誘導加熱する方法 | |
CN105127410A (zh) | 一种浸入式水口电磁搅拌装置及其安装方法 | |
EP2167697B1 (en) | Method and device for controlling the thickness of coating of a flat metal product | |
JP5076579B2 (ja) | 溶融金属めっき方法およびその装置 | |
JPH1053850A (ja) | 溶融めっき浴のトップドロス除去方法及び装置 | |
CN111118426B (zh) | 一种锌锅排渣结构及方法 | |
CN114231872B (zh) | 电磁驱渣装置 | |
CN216141599U (zh) | 热镀锌电磁聚渣装置 | |
CN1730682A (zh) | 热镀锌液电磁净化装置 | |
KR101439633B1 (ko) | 전자기 와이핑 장치 | |
CN100402692C (zh) | 涂覆设备 | |
KR101359253B1 (ko) | 부유증발물 부착방지장치 | |
CN115704078A (zh) | 热镀锌电磁聚渣装置及其使用方法 | |
JPH0293052A (ja) | 溶融亜鉛メッキ装置 | |
CN208279670U (zh) | 一种用于高纯铜熔炼的真空熔炼定向结晶设备 | |
JP2010189729A (ja) | 溶融金属浄化装置および溶融金属の浄化方法 | |
RU2007107063A (ru) | Способ обработки поверхности металлической полосы и устройство для его реализации | |
Sippola et al. | Use of high zinc bath entry strip temperature to solve coating problems |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160405 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180405 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190403 Year of fee payment: 7 |