KR20120069536A - Pellicle handling jig - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 디바이스, 프린트 기판 또는 액정 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지막이로서 사용되는 리소그래피용 펠리클에 관한 것으로서, 특히 펠리클의 이동, 반송에 적합한 펠리클 핸들링 지그(이하, 단지 「핸들링 지그」라고 칭한다.)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
LSI 등의 반도체 디바이스 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 액정용 글래스 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하지만, 이 때에 이용하는 포토마스크 또는 레티클(이하, 단지 「포토마스크」라고 칭함)에 먼지가 부착되어 있으면 이 먼지가 빛을 차단하거나 굴절시키기 때문에 전사한 패턴이 손상된다는 문제가 있었다.In the manufacture of semiconductor devices such as LSI or liquid crystal displays, a pattern is produced by irradiating light onto a semiconductor wafer or a glass plate for liquid crystal, but dust is formed on a photomask or reticle (hereinafter referred to simply as a "photomask") used at this time. There is a problem that the transferred pattern is damaged if this dust blocks or refracts the light.
이 때문에, 이들 작업은 통상 클린룸 내에서 행해지지만 그런데도 포토마스크를 항상 청정하게 유지하는 것은 어렵다. 그래서, 포토마스크 표면에 먼지막이로서 펠리클을 부착하는 방법이 채용되어 있다. 이 경우, 이물은 포토마스크의 표면 상에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에 리소그래피시에 초점을 포토마스크의 패턴 상에 맞추어 두면 펠리클 상의 이물은 전사에 관계가 없게 된다.For this reason, although these operations are normally performed in a clean room, it is still difficult to keep a photomask clean all the time. Thus, a method of adhering a pellicle as a dust film on the surface of the photomask is employed. In this case, since the foreign matter is not directly attached to the surface of the photomask but attached to the pellicle, the foreign material on the pellicle is irrelevant to transfer when the focus is placed on the pattern of the photomask during lithography.
이 펠리클에는 통상 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산 셀룰로오스 또는 불소계 수지 등으로 이루어지는 투명한 펠리클 막이 알루미늄, 스테인레스, 폴리에틸렌 등으로 이루어지는 펠리클 프레임의 상단면에 펠리클 막의 양용매(良溶媒)를 도포하여 풍건해서 접착하거나, 아크릴 수지나 에폭시 수지 등의 접착제로 접착되어 있다. 또한, 펠리클 프레임의 하단에는 포토마스크에 장착하기 위한 폴리부텐 수지, 폴리아세트산 비닐 수지, 아크릴 수지 등으로 이루어지는 점착층, 및 점착층의 보호를 목적으로 한 이형층(세퍼레이터)이 설치된다.In this pellicle, a transparent pellicle film made of nitrocellulose, cellulose acetate or fluorine resin, which transmits light well, is air-dried by coating a good solvent of the pellicle film on the upper surface of the pellicle frame made of aluminum, stainless steel, polyethylene, or the like. It adhere | attaches or adhere | attaches with adhesive agents, such as an acrylic resin and an epoxy resin. Moreover, the lower end of a pellicle frame is provided with the adhesion layer which consists of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, etc. for attaching to a photomask, and a release layer (separator) for the purpose of protecting an adhesion layer.
또한, 펠리클을 포토마스크에 부착한 상태에 있어서 펠리클 내부에 둘러싸여진 공간과 외부의 기압차를 없애는 것을 목적으로 하여 펠리클 프레임의 일부에 기압 조정용 작은 구멍이 형성되는 경우도 있다. 또한, 이 작은 구멍을 통해서 이동하는 공기로부터의 이물 침입을 방지하기 위해서 작은 구멍에는 필터가 설치된다.In addition, in the state where the pellicle is attached to the photomask, a small hole for air pressure adjustment may be formed in a part of the pellicle frame for the purpose of eliminating the pressure difference between the space enclosed inside the pellicle and the outside air pressure. In addition, a filter is provided in the small hole in order to prevent foreign matter from entering the air moving through the small hole.
펠리클의 제조 공정 중에 또는 사용 전에 이물 검사를 행할 필요가 있지만, 그 때, 펠리클의 취급에는 이물을 부착시키지 않도록 최신의 주의를 요한다. 직접 손으로 잡아서 인출하면 이물을 부착시키거나, 펠리클 막에 손상을 주거나, 또는 낙하시키거나 하는 위험이 있다.It is necessary to carry out foreign material inspection during the manufacturing process of the pellicle or before use. At this time, the latest attention is required to prevent foreign matter from adhering to the handling of the pellicle. If it is pulled out by hand, there is a risk of attaching foreign matter, damaging the pellicle membrane, or dropping it.
그 때문에, 일반적으로는 도 8 또는 도 9에 나타내는 바와 같은 핸들링 지그가 이용된다. Therefore, the handling jig as shown in FIG. 8 or FIG. 9 is generally used.
도 8에 나타내는 핸들링 지그(88)는 핸들부(84)의 전방부 좌우에 암부(81)를 갖고, 작업자가 핸들부(84)를 파지해서 조작 노브(83)를 조작함으로써 좌우의 암부(81)가 개폐되는 기구로 되어 있다. 좌우의 암부(81)에는 각각 핀형상 파지부(82)가 설치되고, 펠리클 프레임(85)의 외측면에 설치된 4개소의 오목부(86)에 핀형상 파지부(82)를 삽입함으로써 펠리클이 파지된다. 또한, 부호 87은 펠리클 막이다.The
도 9에 나타내는 핸들링 지그(98)는 핸들부(94)의 전단 좌우에 암부(91)를 갖고, 암부(91)의 내측에는 박판 형상 파지부(92)가 설치되며, 작업자는 핸들부(94)를 양손으로 파지해서 펠리클 프레임(95)의 외측면에 형성된 홈(96)에 박판 형상 파지부(92)를 삽입해서 유지하는 예이다. 또한, 펠리클 프레임(95)은 하방으로부터 지지부(93)에 의해 지지되어 있다.The
종래의 핸들링 지그로서는, 예컨대 특허문헌 1에 있어서 위치 맞춤을 용이하게 행하고 피핸들링체로의 이물 낙하를 방지하기 위해서 포토마스크용 기판의 주표면에 대해서 그립의 중심축이 소정의 거리(H)만큼 떨어진 상태에서 평행하게 되도록 그립을 설치한 핸들링 지그가 개시되어 있다.As a conventional handling jig, the center axis of the grip is separated by a predetermined distance (H) with respect to the main surface of the substrate for photomask in order to easily perform alignment in
최근, 액정 디스플레이의 대형화에 따른 포토마스크의 대형화에 의해 펠리클도 현저하게 대형화되어 오고 있다. 당연히, 펠리클을 취급하기 위한 핸들링 지그도 대형으로 되지만, 그 경우, 이어서 서술하는 문제점이 있다.In recent years, the pellicle has also been remarkably enlarged by the enlargement of the photomask with the enlargement of the liquid crystal display. Naturally, the handling jig for handling the pellicle also becomes large, but in that case, there is a problem described later.
도 8에 나타내는 예의 경우에는 펠리클 프레임 외측면의 오목부(86)에 핀형상 파지부(82)를 정확하게 위치 맞춤해야만 하지만, 작업자측으로부터 먼 측의 오목부(86)는 작업자의 시계에 들어오지 않으므로 삽입하는 것이 매우 곤란하다. 그 때문에, 도 8과 같은 방식의 핸들링 지그는 비교적 사이즈가 작은 펠리클용으로 사용되는 경우가 많다.In the example shown in Fig. 8, the pin-
또한, 도 9에 나타내는 예의 경우에는 펠리클 프레임(95)의 외측면을 따라 연속한 홈(96)이 형성되어 있기 때문에, 박판 형상 파지부(92)의 선단만 홈(96)에 삽입할 수 있으면, 이후에는 홈(96) 내를 미끄러지면서 박판 형상 파지부(92)를 삽입해 갈 수 있다. 그 때문에, 도 9에 나타내는 방식은 대형의 것에 사용되는 경우가 많다.In addition, in the case of the example shown in FIG. 9, since the
그러나, 이 방식이여도, 예컨대 변 길이가 500㎜를 초과하는 대형의 펠리클에 사용할 경우 펠리클 프레임의 코너부에 있는 홈(96)의 시단은 좌우 동시에는 작업자의 시계에 들어오지 않으므로 박판 형상 파지부(92)를 좌우의 홈(96)에 동시에 삽입하는 것은 매우 어렵다.Even in this manner, however, when used for a large pellicle having a side length exceeding 500 mm, for example, the starting end of the
그 때문에, 펠리클 프레임(95)의 상면이나 펠리클 막(97) 등 홈(96) 이외의 부분에 박판 형상 파지부(92)의 선단이 잘못해서 접촉하여 손상을 주어버리는 경우가 있었다. 또한, 홈(96)에 박판 형상 파지부(92)의 선단이 삽입된 후는 홈(96)과 평행하게 어긋남이 없이 박판 형상 파지부(92)를 삽입해 가야만 하지만 핸들링 지그(98) 자체가 대형이 되면 이 조작을 정확하게 행하는 것은 어렵다. 그 때문에, 박판 형상 파지부(92)는 홈(96)에 마찰되면서 지그재그로 걸리면서 삽입되는 일이 많다. 그 결과, 박판 형상 파지부(92)와 홈(96) 사이에서 쓸데없는 마찰이 생겨 많은 발진(發塵)이 생기고 있었다.Therefore, the tip of the thin-
이들 이유로부터, 대형의 펠리클이여도 용이하게 파지할 수 있고, 또한 안전하게 취급할 수 있는 핸들링 지그가 요망되어 왔다.For these reasons, a handling jig that can be easily gripped and safely handled even by a large pellicle has been desired.
본 발명의 목적은 적어도 한개의 변 길이가 500㎜를 초과하는 직사각형의 펠리클을 안전하고 확실하며 또한 용이하게 핸들링할 수 있는 펠리클 핸들링 지그를 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a pellicle handling jig that can safely, reliably and easily handle rectangular pellicles whose at least one side length exceeds 500 mm.
본 발명은 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로서, 본 발명의 핸들링 지그는 펠리클 프레임의 1쌍의 변의 외측면을 따라 배치되는 2개의 암부를 갖고, 상기 2개의 각 암부는 그 일단에서 연결부에 접속되고, 상기 연결부에는 조작부가 설치되며, 상기 2개의 각 암부 상에는 적어도 2개의 펠리클 프레임 파지 수단(이하, 단지 「파지 수단」이라고 칭한다.)이 임의의 위치로 이동 및 고정 가능한 이동 수단에 탑재되어 있는 것을 특징으로 하고 있다.The present invention has been made in view of the above problems, and the handling jig of the present invention has two arms arranged along the outer surface of the pair of sides of the pellicle frame, and each of the two arms is connected to the connecting portion at one end thereof. An operation part is provided in the connection part, and on each of the two arm parts, at least two pellicle frame gripping means (hereinafter, simply referred to as "gripping means") are mounted on a moving means capable of moving and fixing to an arbitrary position. I am doing it.
상기 파지 수단의 선단을 핀 형상으로 하고, 상기 선단을 펠리클 프레임의 외측면에 형성된 오목부에 삽입하여 펠리클의 파지를 행하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 파지 수단의 선단을 클로 형상으로 해서 펠리클 프레임의 외측면에 형성된 홈부에 삽입함으로써 펠리클의 파지를 행하도록 해도 좋다.It is preferable that the tip of the gripping means has a pin shape, and the tip is inserted into a recess formed in the outer surface of the pellicle frame to grip the pellicle. The pellicle may be held by inserting the tip of the gripping means into a claw shape and inserting it into the groove portion formed on the outer surface of the pellicle frame.
또한, 상기 암부에 복수의 레그부를 설치해서 펠리클 수납 용기 상에 수평하고 또한 펠리클에 접촉하지 않는 상태로 핸들링 지그를 탑재할 수 있고, 상기 파지 수단의 선단이 펠리클 프레임 외측면에 형성된 오목부 또는 홈부와 동일한 높이가 되도록 레그부의 높이를 설정하는 것이 바람직하다.Further, a plurality of leg portions may be provided in the arm portion so that the handling jig can be mounted on the pellicle storage container horizontally and without contact with the pellicle, and the recessed portion or the groove portion having the tip of the gripping means formed on the outer surface of the pellicle frame. It is preferable to set the height of the leg portion to be the same height as.
<발명의 효과>EFFECTS OF THE INVENTION [
상기한 바와 같이, 본 발명의 핸들링 지그는 펠리클 프레임을 파지하는 파지 수단을 개별적으로 독립해서 조작 가능한 이동 수단 상에 배치한 것에 의해 작업자로부터 펠리클의 피파지부를 눈으로 확인할 수 없는 변 길이가 500㎜를 초과하는 대형의 펠리클이더라도 용이하게 파지할 수 있고, 또한 펠리클 프레임 외측면의 오목부나 홈부에 파지 수단의 선단부를 삽입하고 감합시켜서 파지함으로써 확실하게 펠리클을 파지할 수 있다. 또한, 펠리클을 파지하기 전에 핸들링 지그를 일단 펠리클 수납 용기 본체 상에 탑재하고나서 펠리클의 파지 작업을 행할 수 있으므로 핸들링 지그의 조작 실수에 의한 펠리클의 손상이 방지된다.As described above, the handling jig of the present invention has a side length of 500 mm that cannot be visually confirmed from the operator by arranging the gripping means for holding the pellicle frame on a movable means that can be operated independently and independently. Even a large sized pellicle larger than can be easily gripped, and the pellicle can be reliably gripped by inserting and fitting the tip end of the gripping means into the recess or groove of the outer surface of the pellicle frame. In addition, since the handling jig can be carried out once the handling jig is mounted on the pellicle storage container main body before the pellicle is gripped, damage to the pellicle due to an operation mistake of the handling jig is prevented.
도 1은 본 발명의 핸들링 지그를 펠리클에 부착한 상태를 나타내는 개략 평면도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 펠리클의 정면도이다.
도 3은 도 1에 나타낸 펠리클의 우측면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시형태인 파지 수단의 개략을 나타내는 부분 종단면도이다.
도 5는 본 발명의 일실시형태인 파지 수단의 개략을 나타내는 부분 종단면도이다.
도 6은 본 발명의 핸들링 지그를 이용해서 수납 용기 상에 탑재된 펠리클을 파지한 상태를 나타내는 개략 평면도이다.
도 7은 도 6의 CC선에 따른 단면도이다.
도 8은 종래기술에 의한 핸들링 지그의 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 9는 종래기술에 의한 핸들링 지그의 예를 나타내는 개략 평면도이다.1 is a schematic plan view showing a state in which a handling jig of the present invention is attached to a pellicle.
FIG. 2 is a front view of the pellicle shown in FIG. 1.
3 is a right side view of the pellicle shown in FIG. 1.
4 is a partial longitudinal cross-sectional view showing an outline of a gripping means that is an embodiment of the present invention.
It is a partial longitudinal cross-sectional view which shows the outline of the holding means which is one Embodiment of this invention.
Fig. 6 is a schematic plan view showing a state in which a pellicle mounted on a storage container is gripped by using the handling jig of the present invention.
7 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 6.
8 is a schematic plan view showing an example of a handling jig according to the prior art.
9 is a schematic plan view showing an example of a handling jig according to the prior art.
이하, 본 발명의 실시형태를 도면을 이용해서 상세하게 설명하지만 본 발명은 이들에 한정되지 않고 여러가지 형태가 가능하다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although embodiment of this invention is described in detail using drawing, this invention is not limited to these, A various form is possible.
도 1은 직사각형의 펠리클에 대해서 본 발명의 핸들링 지그를 부착한 상태를 나타내는 개략 평면도이며, 도 2는 그 정면도, 도 3은 우측면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic plan view showing a handling jig of the present invention attached to a rectangular pellicle, Fig. 2 is a front view thereof, and Fig. 3 is a right side view thereof.
펠리클(14)은 펠리클 프레임(11)의 상단면에 펠리클 막 접착제를 통해서 펠리클 막(12)이 접착되고, 하단면에는 마스크 점착제(13) 및 마스크 점착제(13)를 보호하는 세퍼레이터(도면에는 나타내지 않음)가 설치되어 있다.The
핸들링 지그(22)는 펠리클 프레임(11)의 단변측의 외측에 배치된 좌우의 암부(15)가 연결부(20)의 단부에 각각 결합되고, 연결부(20)에는 작업자가 파지ㆍ조작하기 위한 핸들부(16)와, 펠리클 프레임을 하방으로부터 지지하는 지지부(19)가 부착되어 있다. 좌우의 암부(15) 상에는 각 2대의 이동 수단(17)이 암부(15) 상을 직선 이동할 수 있게 부착되고, 또한, 이동 수단(17)에는 파지 수단(18)이 부착되어 있다. 또한, 암부(15)와 연결부(20)의 하면측에는 레그부(21)가 설치되어 있다.The handling
암부(15)나 조작부(16)는 경량이고 또한 높은 강성이 요구되기 때문에 금속제, 특히는 알루미늄 합금 또는 마그네슘 합금이라는 경합금제로 하는 것이 바람직하다. 또한, 경량화 대책으로서 내부를 중공 구조로 해도 좋다. 암부(15)는 대상으로 하는 펠리클 프레임에 맞추어 설계되지만, 이 때, 좌우의 암부의 평행도가 유지되도록 설계상 고려할 필요가 있다. 펠리클이 대형으로 될수록 암부(15)의 근원 부근에서의 약간의 경사에 의해서도 선단에서는 큰 위치 어긋남으로 이어지기 때문에 특히 배려가 필요하다.Since the
암부(15)의 길이는 대상으로 하는 펠리클의 크기에 따라 적절하게 설계하면 좋지만, 적어도 파지 대상의 프레임 변의 1/3의 길이가 필요하고, 변 길이가 1000㎜를 초과하는 특히 대형의 펠리클에 대해서는 프레임의 변형 방지, 탈락 방지의 관점으로부터 프레임 변의 1/2 이상의 길이로 하는 것이 바람직하다.The length of the
이동 수단(17)은 시판되고 있는 직동 스테이지 등으로부터 이동가능량, 내하중성 등을 고려해서 적절하게 선정하면 좋다. 또한, 가동(可動) 부재이므로 발진을 완전하게 방지하는 것은 불가능하지만, 가능한 한 발진량이 적은 것, 유지류의 사용량이 적은 것을 선택하면 좋다. 또한, 임의의 위치에서 스테이지를 고정할 수 있고, 또한, 고정하지 않더라도 조작부를 조작하지 않으면 스테이지가 이동하지 않는 구조로 하는 것도 중요하다.The moving means 17 may be appropriately selected in consideration of the movable amount, load resistance and the like from a commercially available linear motion stage or the like. In addition, since it is impossible to prevent oscillation completely because it is a movable member, what is necessary is just to select as little as possible the amount of oscillation and the use amount of fats and oils. In addition, it is also important that the stage can be fixed at an arbitrary position and that the stage does not move unless the operating unit is operated even if it is not fixed.
도 4, 도 5는 이동 수단(17)에 부착되는 파지 수단(18)의 개략을 나타내는 부분 종단면도이다.4 and 5 are partial longitudinal cross-sectional views schematically showing the gripping means 18 attached to the moving
도 4에 있어서 파지 수단(18)의 선단은 핀 형상을 갖고 있고, 펠리클 프레임(41)의 외측면에 형성된 오목부(42)에 핀부(43)를 삽입하고 감합해서 펠리클을 파지한다. 통상, 오목부(42)의 깊이 방향은 가공 정밀도를 만들기 어려우므로, 이 예에서는 파지 수단(18) 선단의 핀부(43)에 단차부(44)를 형성하여 펠리클 프레임(41)의 외면에서 핀부(43)의 삽입 깊이의 위치 결정을 행하고 있다. 또한, 오목부(42)나 핀부(43)는 삽입하기 쉽도록 서로 테이퍼 처리되거나 해도 좋다.In FIG. 4, the tip of the gripping
파지 수단(18)은 직접 펠리클에 접촉하는 것이므로 접촉시에 펠리클 프레임에 손상 등을 발생시키지 않고 발진도 적은 재질을 선택하는 것이 요망된다. 그러한 재질로서는 수지가 적합하고, 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리아세탈(POM), 폴리아미드(PA), 폴리이미드(PI), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등을 들 수 있지만 그 중에서도 폴리에테르에테르케톤(PEEK)이 특히 바람직하다. 또한, 대전 방지 성능을 부여한 것이면 또한 바람직하다.Since the gripping
도 5에 나타내는 파지 수단(18)은 펠리클 프레임(51)의 외측면에 형성된 홈(52)에 파지 수단(18)의 선단에 설치된 클로부(53)를 홈(52)에 감합시켜 파지하는 것이다. 이 클로부(53)는 홈(52)에 대해서 적절한 간극, 예컨대 0.1~0.4㎜ 정도의 클리어런스를 갖는 두께로 하고, 가능한 한 삽입시의 걸림이나 발진을 방지하는 관점으로부터 코너부는 모따기 또는 R 모따기를 행하는 것이 특히 바람직하다. 또한, 홈(52)쪽에도 삽입을 용이하게 하는 모따기 등의 고려가 되어 있으면 더욱 바람직하다.The holding means 18 shown in FIG. 5 fits the groove |
재질은 도 4의 파지 수단(18)과 마찬가지로 수지가 적합하고, 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리아세탈(POM), 폴리아미드(PA), 폴리이미드(PI), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 폴리에테르에테르케톤(PEEK)이 특히 바람직하다. 또한, 대전 방지 성능을 부여한 것이면 또한 바람직하다.As for the material, resin is suitable like the holding means 18 of FIG. 4, and polyether ether ketone (PEEK), polyacetal (POM), polyamide (PA), polyimide (PI), polytetrafluoroethylene (PTFE) And the like, but polyether ether ketone (PEEK) is particularly preferred. Moreover, it is also preferable if it provided antistatic performance.
또한, 파지 수단(18)의 형상으로서, 도 4, 도 5에 있어서, 선단에 핀부(43)나 클로부(53)를 갖는 것을 예로 들어 설명했지만, 파지 수단(18)의 형상은 대상으로 하는 펠리클의 어느 부분을 파지할지에 따라 적절하게 설계할 필요가 있다.In addition, although the pinned
이동 수단(17) 및 파지 수단(18)은 각 암부에 대해서 적어도 2개소에 설치하면 좋지만, 대상으로 하는 펠리클의 크기에 따라서는 적절하게 추가해서 3개소, 또는 4개소에 설치해도 된다.The moving means 17 and the gripping
본 발명에서는 종래의 핸들링 지그 본체에 고정되어 있었던 이들 파지 수단(18)을 개별적으로 설치한 이동 수단(17) 상에 탑재하고, 파지 수단(18)의 위치를 개별적으로 또한 암부(15) 상의 임의의 위치로 조정할 수 있도록 하고 있기 때문에, 복수의 파지 수단(18)의 위치 맞춤을 동시에 행하는 곤란함을 해소하고 있다. 핸들링 지그(22)는 파지 수단(18)을 펠리클에 접촉하지 않는 위치까지 퇴피시킨 상태에서 펠리클 수납 용기 상에 탑재한 후, 개별적으로 이동 수단(17)을 조작해서 펠리클 프레임(11)에 형성된 홈부 또는 오목부에 파지 수단(18)의 선단을 삽입하면 좋다.In this invention, these holding means 18 fixed to the conventional handling jig main body are mounted on the moving means 17 provided separately, and the position of the holding means 18 is arbitrarily selected also on the
또한, 지지부(19)는 펠리클 프레임(11)의 하방으로부터 펠리클을 지지하는 역할이 있으므로, 상기 파지 수단과 마찬가지로, 펠리클 프레임에 손상 등을 발생시키지 않고 발진도 적은 재질을 선택하면 좋다. 구체적으로는, 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리아세탈(POM), 폴리아미드(PA), 폴리이미드(PI), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등을 들 수 있지만, 그 중에서도 폴리에테르에테르케톤(PEEK)이 특히 바람직하다. 또한, 대전 방지 성능을 부여한 것이면 더욱 바람직하다. 또한, 형상에 대해서도 발진이 적고, 또한, 만약 깎아졌을 경우에도 펠리클 프레임에 부착물이 생기거나 하는 일이 없도록 접촉 면적을 적게 하고, 또한 코너부가 적은, 예컨대 R형상 등으로 해 두면 좋다.Moreover, since the
암부에 탑재되는 이들 장착 전체를 핸들링하기 위한 핸들부(조작부)(16)는 필요한 강성을 확보하면서 금속, 또는 수지로 제작하면 좋고, 특히는 대전 방지 성능을 갖게 하면 좋다. 형상은 환봉 등의 작업자가 조작하기 쉬운 형상으로 되어 있으면 좋다. 이 핸들부를 별도로 준비한 스탠드(도면에는 나타내지 않음)에 삽입해서 세우면 수직 상태로 핸들링 지그에 파지된 펠리클을 유지할 수 있어 펠리클의 검사 등을 용이하게 행할 수 있다.The handle portion (manipulation portion) 16 for handling all of these mounts mounted on the arm portion may be made of metal or resin while securing the necessary rigidity, and in particular, the antistatic performance may be provided. The shape should just be a shape which an operator, such as a round bar, is easy to operate. When the handle portion is inserted into a stand (not shown in the drawing) prepared separately, the pellicle held in the handling jig can be held in a vertical state, and the pellicle can be easily inspected.
이어서, 본 발명의 핸들링 지그를 이용해서 펠리클 수납 용기 상에 탑재된 펠리클을 인출하는 동작에 대해서 설명한다.Next, the operation of taking out the pellicle mounted on the pellicle storage container using the handling jig of the present invention will be described.
도 6은 본 발명의 핸들링 지그를 이용해서 수납 용기 상에 탑재된 펠리클을 파지한 상태를 나타내는 개략 평면도이며, 도 7은 도 6의 CC선에 따른 단면도이다. 이 예에서는 펠리클 프레임의 외측면에 형성된 홈에 삽입되는 파지 수단(18)의 선단을 클로 형상으로 하고 있다.FIG. 6 is a schematic plan view showing a state in which a pellicle mounted on a storage container is gripped by using the handling jig of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 6. In this example, the distal end of the gripping means 18 inserted into the groove formed on the outer surface of the pellicle frame has a claw shape.
처음에, 핸들링 지그(22)를 펠리클(62)에 접촉하지 않도록 주의해서 펠리클 수납 용기 본체(61) 상에 탑재한다. 이 때, 미리 이동 수단(17)을 조작해서 파지 수단(18)을 펠리클의 외측으로 충분히 퇴피시켜 둠으로써 용이하게 탑재할 수 있다. 지지부(19)는 연결부(20)에 직접 부착되어 있으므로 퇴피시킬 수는 없지만, 작업자로부터 충분히 눈으로 확인할 수 있는 위치에 있으므로 펠리클(62)에 접촉시키지 않고 용이하게 펠리클(62)의 하측에 삽입할 수 있다.Initially, the handling
또한, 도 7로부터 명확해지는 바와 같이, 연결부(20) 및 암부(15)의 하면측에 설치된 복수의 레그부(21)는 핸들링 지그(22)의 전체가 수평해지도록, 또한 탑재했을 때에 파지 수단(18)이 펠리클(62)의 홈부와 동일한 높이가 되도록 조정되어 있다.In addition, as will be apparent from FIG. 7, the plurality of
이어서, 펠리클 수납 용기(61) 상에 탑재된 핸들링 지그(22)의 전체를 수평으로 미끄러지게 해서 삽입하고, 지지부(19)를 펠리클(62)의 바로앞의 변에 접촉시킨다. 그리고, 이동 수단(17)을 조작해서 파지 수단(18)을 펠리클을 향해서 전진시키고, 파지 수단(18)의 클로부(53)(도 5 참조)를 펠리클(62)의 홈부(52)에 삽입한다. 이것을 좌우 양 변 4개소의 클로부(53) 모두에 대해서 행하면 펠리클의 파지가 완료된다. 그리고, 핸들링 지그(22)의 핸들부(16)를 손으로 잡아서 들어 올리면 펠리클 수납 용기로부터의 펠리클의 인출이 완료된다.Subsequently, the
본 발명에서는 펠리클의 인출 작업이 핸들링 지그를 펠리클 수납 용기 상에 탑재하는 공정과 펠리클을 파지하는 공정의 2단계로 나누어서 동작이 행해지므로 핸들링 지그가 펠리클에 접촉해서 손상을 줄 우려가 대폭적으로 저감된다. 또한, 핸들링 지그를 펠리클 수납 용기 상에 탑재한 상태에서 파지 수단(18)을 1개소씩 개별적으로 조작하면 좋으므로 작업이 현저하게 용이해지는데다가 펠리클 프레임의 피파지부에 시행착오 없이 거의 1회로 확실하게 삽입할 수 있기 때문에, 펠리클 프레임과의 반복 접촉에 의한 쓸데없는 발진을 방지할 수 있다.In the present invention, since the operation is carried out in two steps, the process of mounting the handling jig on the pellicle container and the process of gripping the pellicle, the handling jig is in contact with the pellicle. . In addition, since the holding
[실시예][Example]
이하, 실시예를 들어서 설명하지만 본 발명은 이들에 한정되지 않고 여러가지 형태가 가능하다.Hereinafter, although an Example is given and described, this invention is not limited to these, A various form is possible.
도 1~3에 나타내는 핸들링 지그를 제작했다. 도면 중 피핸들링 대상인 펠리클(14)은 장변의 길이 1366㎜, 단변의 길이 1146㎜이고, 단변의 외측부에는 폭 2㎜, 깊이 2㎜의 홈을 형성했다.The handling jig shown to FIGS. 1-3 was produced. In the figure, the
핸들링 지그(22)의 암부(15)는 펠리클(14)의 단변과 평행하게 배치되고, 그 길이는 800㎜로 했다. 재질은 알루미늄 합금으로 이루어지고, 표면에는 흑색 알루마이트 처리가 실시되어 있다. 좌우의 암부(15) 상에는 각 2개소씩 합계 4개소의 이동 수단(17)(도브테일식 스테이지; 상품명, 스루가세이키 제작)을 부착했다. 또한 이동 수단(17)에 파지 수단(18)을 설치했지만, 그 선단은 대전 방지 PEEK를 기계 가공해서 클로 형상으로 했다.The
이 클로부의 상세 형상은 도 5에 나타낸 바와 같고, 선단의 클로 두께는 1.8㎜, C 0.5의 모따기를 실시했다. 핸들부(16)는 알루미늄 합금제의 직경 25㎜의 환봉을 600㎜의 간격으로 연결부(20)에 볼트 체결했다. 또한, 암부(15) 및 연결부(20)의 하면측에는 PEEK제의 레그부(21)를 합계 8개소에 부착했다.The detailed shape of this claw part was as showing in FIG. 5, and the claw thickness of the front end implemented the chamfer of 1.8 mm and C0.5. The
이와 같이 구성한 핸들링 지그를 이용해서, 도 6에 나타내는 바와 같이, 펠리클 수납 용기(61) 상으로부터 펠리클(62)을 인출하는 테스트를 행하였다.Using the handling jig comprised in this way, as shown in FIG. 6, the test which pulled out the
처음에, 4개의 파지 수단(18) 모두를 최대한 후퇴시켜 두고, 주의깊게 펠리클 수납 용기(61) 상에 핸들링 지그(22)를 탑재했다. 그리고, 지지부(19)가 펠리클(62)에 접촉하는 위치까지 핸들링 지그를 수평으로 움직였다. 이어서, 이동 수단(17)을 조작해서 파지 수단(18) 선단의 클로부(53)를 펠리클 프레임(51)의 홈부(52)로 삽입하고, 순차적으로 조작해서 4개소 모두의 파지 수단(18)을 홈부(52)에 삽입 고정했다.Initially, all four holding means 18 were retracted as much as possible, and the handling
그 후, 핸들부(16)를 양손으로 들어 올려 펠리클(62)을 세워서 기울이거나 흔들어 보았다. 펠리클(62)은 핸들링 지그(22) 상에서 안정되게 고정되어 있고, 덜컹거림도 없이 안정되게 유지되어 있었다. 또한, 암실 내에서 집광 램프(광량 40만Lx)를 조사하면서 이 펠리클의 외관을 검사했지만 홈 내의 상처, 이물은 보이지 않고 청정한 상태이었다.After that, the
[비교예][Comparative Example]
도 9에 나타내는 바와 같은 핸들링 지그(98)를 제작했다. 이 핸들링 지그(98)의 암부(91)에는 암부(91) 전체에 걸쳐 박판 형상 파지부(92)가 설치되고, 펠리클 프레임(95)의 외측면에 형성된 홈(96)에 감합되도록 되어 있다. 여기서, 좌우의 양 파지부(92) 사이의 내측 치수는 홈(96)으로의 용이한 삽입을 고려해서 좌우의 양 홈(96) 저부 사이의 외측 치수에 대해서 편측 0.3㎜의 간극(클리어런스)을 형성하고, 또한 박판 형상 파지부(92)의 두께도 홈 높이에 대해서 0.5㎜ 얇게 했다. 박판 형상 파지부(92)는 암부(91)와 일체적으로 가공되고, 스테인레스강을 이용해서 흑색 크롬 도금이 실시되어 있다.The handling
이 핸들링 지그를 이용해서 상기 실시예와 동일한 펠리클에 대해서 펠리클 수납 용기로부터의 인출 테스트를 행하였다.Using this handling jig, the withdrawal test from the pellicle storage container was performed with respect to the pellicle similar to the said Example.
그 결과, 펠리클 프레임의 홈(96)에 박판 형상 파지부(92)를 쉽사리 삽입할 수 없어 매우 고생했다. 또한, 인출한 후, 펠리클을 수직으로 세워서 기울이거나 흔들어 본 바, 펠리클 프레임의 홈과 파지부 사이에 클리어런스가 있으므로, 덜컹거림이 크고, 탈락은 되지 않지만 매우 위험한 상태이었다. 또한, 암실 내에서 집광 램프(광량 40만Lx)에 의한 펠리클의 외관을 확인한 바, 파지부(92)가 삽입된 펠리클 프레임의 홈 부근에는 50㎛ 초과의 이물이 수십개 보여지고, 또한, 홈으로의 삽입구 부근의 펠리클 프레임 외면에는 상처도 발생되어 있었다.As a result, the thin plate-
11,41,51,85,95 : 펠리클 프레임 12,87,97 : 펠리클 막
13 : 마스크 점착제층 14,62 : 펠리클
15,81,91 : 암부 16,84,94 : 핸들부(조작부)
17 : 이동 수단 18 : 파지 수단
19,93 : 지지부 20 : 연결부
21 : 레그부 22,88,98 : 핸들링 지그
42,86 : 오목부 43 : 핀부
44 : 단차부 52 : 홈부
53 : 클로부 61 : 펠리클 수납 용기
82 : 핀형상 파지부 83 : 조작 노브
92 : 박판 형상 파지부 96 : 홈11,41,51,85,95:
13
15,81,91:
17 means of movement 18: grip means
19,93: support 20: connection
21:
42,86: recess 43: pin
44: step portion 52: groove portion
53: claw portion 61: pellicle storage container
82: pin-shaped grip portion 83: operation knob
92: plate-shaped grip portion 96: groove
Claims (4)
상기 펠리클 프레임 파지 수단의 선단은 핀 형상을 갖고, 상기 선단을 펠리클 프레임의 외측면에 형성된 오목부에 삽입하여 펠리클의 파지를 행하는 것을 특징으로 하는 펠리클 핸들링 지그.The method of claim 1,
A pellicle handling jig, wherein the tip of the pellicle frame gripping means has a pin shape, and the tip is inserted into a recess formed in the outer surface of the pellicle frame to grip the pellicle.
상기 펠리클 프레임 파지 수단의 선단은 클로 형상을 갖고, 상기 선단을 펠리클 프레임의 외측면에 형성된 홈부에 삽입하여 펠리클의 파지를 행하는 것을 특징으로 하는 펠리클 핸들링 지그.The method of claim 1,
A pellicle handling jig, wherein the distal end of the pellicle frame holding means has a claw shape, and the distal end is inserted into a groove formed on an outer surface of the pellicle frame to hold the pellicle.
펠리클 수납 용기 상에 수평하게 또한 펠리클에 접촉하지 않는 상태로 핸들링 지그를 탑재할 수 있도록 상기 암부에 복수의 레그부를 설치하여 이루어지고, 상기 파지 수단의 선단이 펠리클 프레임 외측면에 형성된 오목부 또는 홈부와 동일한 높이가 되도록 상기 레그부의 높이가 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 핸들링 지그.The method according to any one of claims 1 to 3,
A plurality of leg portions are provided in the arm portion so that the handling jig can be mounted on the pellicle container horizontally and without contact with the pellicle, and the recessed portion or groove portion formed at the outer surface of the pellicle frame has a tip end of the gripping means. The height of the leg portion is set to be the same height as the pellicle handling jig.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2010-254436 | 2010-11-15 | ||
JP2010254436A JP2012103638A (en) | 2010-11-15 | 2010-11-15 | Pellicle handling tool |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120069536A true KR20120069536A (en) | 2012-06-28 |
Family
ID=46394055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110102265A KR20120069536A (en) | 2010-11-15 | 2011-10-07 | Pellicle handling jig |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012103638A (en) |
KR (1) | KR20120069536A (en) |
TW (1) | TWI458040B (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6559585B2 (en) * | 2016-01-25 | 2019-08-14 | 日本特殊陶業株式会社 | Pellicle frame and method for manufacturing pellicle frame |
JP2022101135A (en) * | 2020-12-24 | 2022-07-06 | 株式会社ブイ・テクノロジー | Pellicle frame gripping device |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06230561A (en) * | 1993-01-29 | 1994-08-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Production of pellicle for lithography |
JPH09204039A (en) * | 1996-01-25 | 1997-08-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle frame holder |
JPH09319071A (en) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle for lithography |
JPH11258779A (en) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device and method for laminating pellicle liner |
JP2000214579A (en) * | 1999-01-22 | 2000-08-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Storage device for pellicle and storage method using the same |
JP3718074B2 (en) * | 1999-03-05 | 2005-11-16 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle storage container |
JP2005326634A (en) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Mitsui Chemicals Inc | Method for housing pellicle |
JP4391435B2 (en) * | 2005-03-22 | 2009-12-24 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle storage container |
JP4649363B2 (en) * | 2006-04-19 | 2011-03-09 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle storage container |
JP5252984B2 (en) * | 2008-05-01 | 2013-07-31 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle for semiconductor lithography and method for manufacturing the same |
JP5134436B2 (en) * | 2008-05-27 | 2013-01-30 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle for lithography |
JP5202557B2 (en) * | 2010-03-05 | 2013-06-05 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle handling jig |
-
2010
- 2010-11-15 JP JP2010254436A patent/JP2012103638A/en active Pending
-
2011
- 2011-10-07 KR KR1020110102265A patent/KR20120069536A/en not_active Application Discontinuation
- 2011-11-14 TW TW100141423A patent/TWI458040B/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201234513A (en) | 2012-08-16 |
JP2012103638A (en) | 2012-05-31 |
TWI458040B (en) | 2014-10-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |