JP2008087811A - Mask case, mask cassette, pattern transfer method, and manufacturing method for display apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask case that facilitates placement of a mask from one mask case to another, and to provide a mask cassette, a pattern transfer method, and a manufacturing method for a display apparatus. <P>SOLUTION: The mask case 1 accommodates a photo-mask 10 and the mask cassette 100 so that they can be conveyed. The mask case 1 has a mask holding means 4 and a cassette holding means 5. The photo-mask 10 is taken out from the mask cassette 100 while kept set in the mask cassette 100. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、マスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法に関し、特に、液晶ディスプレイパネル（ＬＣＤＰ）やプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の製造工程で使用する、大型のフォトマスクを搬送し、かつ、フォトマスク使用に際して、露光装置への着脱が簡便であり、着脱時のパーティクル汚染や、破損などを抑止できるマスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a mask case, a mask cassette, a pattern transfer method, and a display device manufacturing method, and in particular, transports a large photomask used in a manufacturing process of a liquid crystal display panel (LCDP), a plasma display panel (PDP), and the like. In addition, the present invention relates to a mask case, a mask cassette, a pattern transfer method, and a display device manufacturing method that can be easily attached to and detached from an exposure apparatus when using a photomask and can prevent particle contamination and breakage during the attachment and detachment.

近年、ＬＣＤＰやＰＤＰ等の表示装置の製造工程において、パネル面付数の増加が製造コスト低減の手法として一般化され、パネル用マザー基板のサイズが大型化する傾向にある。これにともない、ＬＣＤＰやＰＤＰ等の表示装置の製造工程においては、パターン転写に用いられるフォトマスクも大型化する傾向にある。また、上記大型化されたフォトマスクは、マスクメーカからマスクユーザに輸送される際、輸送時の衝撃から保護するために、マスクケース内部に収容され固定された状態で輸送されている。   In recent years, in the manufacturing process of display devices such as LCDP and PDP, an increase in the number of panel surfaces has been generalized as a method for reducing the manufacturing cost, and the size of the mother board for panels tends to increase. Along with this, in the manufacturing process of display devices such as LCDP and PDP, the size of photomasks used for pattern transfer tends to increase. Further, the above-mentioned large-sized photomask is transported in a state of being housed and fixed inside the mask case in order to protect it from an impact during transportation when transported from a mask manufacturer to a mask user.

（従来例）
フォトマスクなどのマスクを搬送、保管するためのマスクケースとして、様々な構造のものが開発されている。
たとえば、特許文献１には、互いに当接される周縁フランジ部を有する本体部と蓋体部とからなり、内部に大型の精密シート状（半）製品を収容するための密封容器であって、本体部と蓋体部とはそれぞれ熱可塑性樹脂シートの補強用リブを設けた真空または圧空成型体からなることを特徴とする大型精密シート状（半）製品用密封容器の技術が開示されている。
この比較的軽量な大型精密シート状（半）製品用密封容器は、大型精密シート状（半）製品に不適当な応力を及ぼすことなく安全に、かつ、気密を保持した状態で、収容・支持し、搬送する。
また、フォトマスクなどのマスクを製造するマスクメーカは、製造したマスクなどを上記のようなマスクケースに収納した状態で、マスクユーザへ納品している。 (Conventional example)
Various structures have been developed as mask cases for transporting and storing a mask such as a photomask.
For example, Patent Document 1 is a sealed container for accommodating a large precision sheet-shaped (semi-) product inside, which includes a main body portion and a lid body portion having peripheral flange portions that are in contact with each other, A technology for a large precision sheet-like (semi) product sealed container is disclosed, wherein the main body and the lid are each formed of a vacuum or compressed air molded body provided with reinforcing ribs for thermoplastic resin sheets. .
This relatively lightweight sealed container for large precision sheet-shaped (semi-) products can be stored and supported safely and without being subjected to inappropriate stress on the large precision sheet-shaped (semi-) products. And transport.
In addition, a mask manufacturer that manufactures a mask such as a photomask delivers the manufactured mask and the like to a mask user in a state where the mask is stored in the mask case as described above.

一方、マスクユーザは、マスクメーカから納入されたフォトマスクを用いて所望のパターンを被転写体に転写し、表示装置などを製造している。この製造工程において、マスクユーザは、フォトマスクを専用のマスクカセットに収納した状態で、露光機（例えばマスクアライナー）に搬送したり、あるいは、使用したフォトマスクを露光機から他に搬送している。また、大型の露光装置は、フォトマスクを専用のマスクカセットにセットした状態で、装置内部を搬送している。
上記専用のマスクカセットは、露光装置などに対応して、様々な構造のものが使用されている。 On the other hand, a mask user uses a photomask supplied from a mask manufacturer to transfer a desired pattern onto a transfer target, and manufactures a display device or the like. In this manufacturing process, a mask user transports a photomask to an exposure machine (for example, a mask aligner) while being stored in a dedicated mask cassette, or transports a used photomask from the exposure machine to another. . In addition, a large exposure apparatus transports the inside of the apparatus with a photomask set in a dedicated mask cassette.
The dedicated mask cassette has various structures corresponding to the exposure apparatus.

たとえば、特許文献２には、液晶表示素子あるいは半導体素子の製造工程で使用される、露光装置や検査装置等へのマスクやレチクルあるいはガラス基板等（適宜、マスクと略称する。）を自動的に交換する基板交換装置の技術が開示されている。また、この文献には、露光装置等へのマスク交換の過程で使用される、読み取り可能な管理コードを取り付けた、防塵用のマスクカセットが記載されている。
このマスクカセットは、マスクカセット蓋と、マスクが位置決めされた状態で載置される、ほぼ矩形平板状のマスクカセット皿とで構成されている。
なお、上記基板交換装置は、マスク搬送機構を備えており、このマスク搬送機構は、マスクカセットから取り出したマスクを持ったまま露光装置へ移動し、露光装置のほぼ平板状の搭載台にマスクを搭載する。 For example, in Patent Document 2, a mask, a reticle, a glass substrate, or the like (appropriately referred to as a mask as appropriate) used in a manufacturing process of a liquid crystal display element or a semiconductor element is automatically used. A technique of a substrate exchange apparatus for exchanging is disclosed. Further, this document describes a dust-proof mask cassette to which a readable management code is attached, which is used in the process of exchanging a mask with an exposure apparatus or the like.
This mask cassette is composed of a mask cassette lid and a substantially rectangular flat plate-shaped mask cassette plate placed with the mask positioned.
The substrate exchange apparatus includes a mask transfer mechanism, which moves to the exposure apparatus while holding the mask taken out from the mask cassette, and places the mask on the substantially flat mounting base of the exposure apparatus. Mount.

ところで、上述したように、マスクメーカは、フォトマスクなどのマスクをマスクケースに収納した状態で、マスクユーザに納品していた。そのため、マスクユーザは、納入されたマスクを使用するには、まず、マスクをマスクケースから取り出し、専用のマスクカセットに入れ替えてから使用してきた。
特開２００５−１７３５５６号公報 特開２０００−１９７２０号公報 By the way, as described above, a mask manufacturer delivers a mask such as a photomask to a mask user in a state where the mask is stored in a mask case. Therefore, in order to use the delivered mask, the mask user first uses the mask after taking it out of the mask case and replacing it with a dedicated mask cassette.
JP 2005-173556 A JP 2000-19720 A

しかしながら、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、プラズマパネルディスプレイ（ＰＤＰ）、薄膜トランジスタ基板（ＴＦＴ）、カアラーフィルタ（ＣＦ）などの大型化にともない、これらの製造には、たとえば、約５００ｍｍ×７５０ｍｍ又はそれ以上といった、大型のフォトマスクが使用されるようになってきており、大型化の傾向は更に顕著になっている。そして、大型かつ重量の大きなフォトマスクのハンドリングを人手で行うと、作業者の大きな負荷になる。
特に、マスクユーザは、上述したように、所望のパターンを形成されたフォトマスクをマスクメーカから納入され、これを、輸送用のマスクケースから取り出し、露光装置用のマスクカセットに入れ替える作業を行なわなければならない。これは、上記のような大型のフォトマスクが非常に精緻な製品であって、接触や破損に対して極度の注意を払う必要があること、及び、大型になるほどハンドリングが難しくなることを考慮すると、作業者が受ける負担が大きすぎるといった問題があった。 However, with the increase in size of liquid crystal displays (LCD), flat panel displays (FPD), plasma panel displays (PDP), thin film transistor substrates (TFTs), Kahler filters (CFs), etc. Large-sized photomasks of 500 mm × 750 mm or more have been used, and the tendency to increase in size has become more prominent. When a large and heavy photomask is handled manually, a heavy load is imposed on the operator.
In particular, as described above, the mask user is supplied with a photomask on which a desired pattern is formed from a mask manufacturer, takes it out of a transport mask case, and replaces it with a mask cassette for an exposure apparatus. I must. This is due to the fact that the large photomask as described above is a very sophisticated product, and it is necessary to pay extreme attention to contact and breakage, and that handling becomes more difficult as the size increases. There is a problem that the burden on the worker is too great.

本発明は、上記の事情にかんがみなされたものであり、マスクケースからマスクカセットへマスクを入れ替える作業を容易に行なうことのできるマスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法の提供を目的とする。   The present invention has been considered in view of the above circumstances, and provides a mask case, a mask cassette, a pattern transfer method, and a display device manufacturing method capable of easily performing an operation of replacing a mask from a mask case to a mask cassette. Objective.

上記目的を達成するため本発明のマスクケースは、マスクと、製造装置及び／又は検査装置において使用される、前記マスクが少なくとも載置されるマスクカセットとを搬送可能に収容するマスクケースであって、前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出される構成としてある。   In order to achieve the above object, a mask case of the present invention is a mask case that accommodates a mask and a mask cassette used in a manufacturing apparatus and / or an inspection apparatus, on which at least the mask is placed. When the mask is taken out from the mask case, the mask is taken out with at least the mask placed on the mask cassette.

このようにすると、マスクメーカからマスクケースに収納された状態で納品されたマスクを、マスクユーザの作業者が、たとえば、露光装置などのマスクカセットに入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。
また、入れ替え作業中に誤ってマスクを損傷させてしまうといった危険性を大幅に低減することができ、作業を安全に行なうことができる。
さらに、マスクが大型化すると、専用のハンドリング装置等を導入して、上記入れ替え作業を安全に行うことも想定されるが、このような、ハンドリング装置等を導入しなくても、安全に入れ替え作業を行うことができる。 In this way, the mask user delivered from the mask manufacturer in the mask case need not be replaced by a mask cassette such as an exposure apparatus, for example. The work load is greatly reduced and workability is improved.
In addition, the risk of accidentally damaging the mask during the replacement work can be greatly reduced, and the work can be performed safely.
Furthermore, when the mask becomes larger, it is assumed that the above replacement work can be performed safely by introducing a dedicated handling device, etc., but the replacement work can be performed safely without introducing such a handling device. It can be performed.

なお、本発明においてはマスクとして、フォトマスク、レチクル、フォトマスクブランク、ガラス基板等を含むものとする。
また、製造装置として、デバイス製造用の露光装置、マスク供給装置、基板交換装置、マスク搬送装置など含むものとする。
さらに、“少なくとも載置される”とは、単に載置されることの他に、位置決めされた状態で支持されたり、位置決めされた状態で収容されたり、保持されること、あるいは、保持された状態で収容されることなど含んでいる。したがって、様々な構造を有するマスクカセットにセットされることも、“少なくとも載置される”に含まれる。また、たとえば、マスクメーカにて、マスクをマスクカセットに保持した状態で収容し、このマスクカセットをマスクケースに保持した状態で収容し、このマスクケースをマスクユーザに納品してもよく、マスクユーザは、マスクカセットごとマスクケースからマスクを取り出し、そのまま、露光装置等に供給することができる。
また、マスクカセットとは、製造装置及び／又は検査装置において使用され、フォトマスクが少なくとも載置されるカセットをいい、たとえば、上記マスクカセットを載置した状態で装置に搭載する目的で用いられる、マスクカセット皿や、着脱可能なマスク搭載台などを挙げることができる。 In the present invention, the mask includes a photomask, a reticle, a photomask blank, a glass substrate, and the like.
The manufacturing apparatus includes an exposure apparatus for manufacturing a device, a mask supply apparatus, a substrate exchange apparatus, a mask transfer apparatus, and the like.
Further, “at least placed” means that, in addition to simply being placed, it is supported in a positioned state, accommodated in a positioned state, held, or held. Including being housed in a state. Therefore, setting at least a mask cassette having various structures is also included in “at least being placed”. Further, for example, a mask manufacturer may store a mask in a state of being held in a mask cassette, may be stored in a state of being held in a mask case, and the mask case may be delivered to a mask user. The mask can be taken out from the mask case together with the mask cassette and supplied to the exposure apparatus or the like as it is.
Further, the mask cassette is used in a manufacturing apparatus and / or inspection apparatus, and refers to a cassette on which at least a photomask is mounted. For example, the mask cassette is used for mounting on the apparatus in a state where the mask cassette is mounted. A mask cassette dish or a removable mask mounting table can be used.

また、好ましくは、前記マスクを保持するマスク保持手段と、前記マスクカセットを保持するカセット保持手段と、前記マスク保持手段及びカセット保持手段が設けられたケース本体と、このケース本体に着脱自在に取り付けられ、前記マスクを覆うケース蓋とを備えるとよい。
このようにすると、マスクに損傷やパーティクル汚染が生じないように、密閉された状態で、マスク及びマスクカセットを安定に固定して収容することができる。これにより、空路や陸路等で、マスクの輸送を行った場合であっても、マスクがマスクカセット内部で振動し、破損したり、あるいは、摩擦によるパーティクルが大量に発生したり、さらには、精緻に形成されたパターンに損傷を与えるなどの不具合を回避することができる。 Preferably, the mask holding means for holding the mask, the cassette holding means for holding the mask cassette, the case main body provided with the mask holding means and the cassette holding means, and the case main body are detachably attached. And a case lid that covers the mask.
If it does in this way, a mask and a mask cassette can be stably fixed and accommodated in the sealed state so that damage and particle contamination may not occur in the mask. As a result, even when the mask is transported by air or land, the mask vibrates inside the mask cassette and is damaged, or a large amount of particles are generated due to friction. It is possible to avoid problems such as damage to the pattern formed on the substrate.

また、好ましくは、前記マスクを前記マスクカセットから浮いた状態に支持し、かつ、前記マスクカセットを所定の方向にガイドする支持部材を備えており、前記マスクを取り出す際、前記マスクカセットを所定の方向に移動させると、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置されるとよい。
このようにすると、マスク保持手段が、マスクカセットから浮いた状態のマスクを保持することができるので、マスクカセットとマスクが擦れてパーティクルが発生するといった不具合をより確実に防止することができる。 Preferably, the apparatus further comprises a support member that supports the mask in a state of floating from the mask cassette and guides the mask cassette in a predetermined direction. When moved in the direction, at least the mask may be placed on the mask cassette.
In this way, the mask holding means can hold the mask in a state of being lifted from the mask cassette, so that it is possible to more reliably prevent a problem that particles are generated by rubbing between the mask cassette and the mask.

また、好ましくは、前記支持部材を、マスク支持ピンとするとよい。更には、該マスク支持ピンは、マスクカセットの一部を貫通し、マスクを支持するものであることが好ましい。
このようにすると、構造を単純化することができ、製造原価のコストダウンを図ることができるとともに、マスクカセットをマスクケースから取り出す際に、マスクカセットにマスクを容易に載置させた状態とすることができる。 Preferably, the support member is a mask support pin. Furthermore, it is preferable that the mask support pin penetrates a part of the mask cassette and supports the mask.
In this way, the structure can be simplified, the manufacturing cost can be reduced, and the mask is easily placed on the mask cassette when the mask cassette is taken out of the mask case. be able to.

また、好ましくは、前記マスク保持手段が、前記マスクカセットに少なくとも載置された状態の前記マスクを保持することもでできる。
このようにすると、マスク保持手段による保持状態を解除することによって、マスクがマスクカセットにセットされるので、作業を容易に行うことができる。 Preferably, the mask holding means can hold the mask at least placed on the mask cassette.
By doing so, the mask is set in the mask cassette by releasing the holding state by the mask holding means, so that the operation can be easily performed.

また、上記目的を達成するため本発明のマスクカセットは、製造装置及び／又は検査装置において使用される、マスクが少なくとも載置されるマスクカセットであって、前記マスクカセットを収容するマスクケースに保持される際に、マスク保持手段又はマスク支持部材が前記マスクを保持又は支持するための、貫通孔及び／又は開口部を有する構成としてある。
このように、本発明はマスクカセットとしても有効であり、マスクカセットがマスクケースに収容された状態であっても、マスクを確実に保持又は支持することができる。 In order to achieve the above object, the mask cassette of the present invention is a mask cassette used in a manufacturing apparatus and / or inspection apparatus, on which at least a mask is placed, and is held in a mask case that accommodates the mask cassette. In this case, the mask holding means or the mask support member has a through hole and / or an opening for holding or supporting the mask.
Thus, the present invention is also effective as a mask cassette, and the mask can be reliably held or supported even when the mask cassette is housed in the mask case.

また、上記目的を達成するため本発明のマスクカセットは、マスクを収容するマスクケースに、前記マスクから離れた状態で収容され、さらに、前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出されるマスクカセットであって、前記マスクを取り出す際、前記マスクカセットを所定の方向に移動させるためのガイド部材にガイドされる、被ガイド面を有する構成としてある。
このように、本発明はマスクカセットとしても有効であり、マスクをマスクカセットに入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。また、マスクカセットとマスクが擦れてパーティクルが発生するといった不具合をより確実に防止することができる。 In order to achieve the above object, the mask cassette of the present invention is accommodated in a mask case for accommodating a mask in a state of being separated from the mask, and when the mask is taken out from the mask case, the mask cassette is accommodated in the mask cassette. A mask cassette that is taken out in a state in which the mask is placed at least, and has a guided surface that is guided by a guide member for moving the mask cassette in a predetermined direction when the mask is taken out. is there.
Thus, the present invention is also effective as a mask cassette, and it is not necessary to perform an operation of replacing the mask with the mask cassette, so that the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved. Further, it is possible to more reliably prevent a problem that particles are generated due to rubbing between the mask cassette and the mask.

また、好ましくは、前記ガイド部材が、前記マスクを前記マスクカセットから浮いた状態に支持するマスク支持ピンであり、かつ、前記被ガイド面が、前記マスクカセットに形成され、前記マスク支持ピンが貫通する貫通孔の孔表面であるとよい。
このようにすると、構造を単純化することができ、製造原価のコストダウンを図ることができる。 Preferably, the guide member is a mask support pin that supports the mask in a state of floating from the mask cassette, the guided surface is formed in the mask cassette, and the mask support pin penetrates. It is good that it is the hole surface of the through-hole to do.
In this way, the structure can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

上記目的を達成するため本発明のパターン転写方法は、マスクを搬送するためのマスクケースから該マスクを取り出す工程と、露光装置に、前記マスクカセットに載置されて搭載された前記マスクを用いてパターン転写する露光工程とを有するパターン転写方法において、前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出される方法としてある。
このように、本発明はパターン転写方法としても有効であり、マスクをマスクカセットに入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。 In order to achieve the above object, a pattern transfer method of the present invention uses a step of taking out a mask from a mask case for transporting the mask, and the mask mounted on the mask cassette and mounted in an exposure apparatus. In the pattern transfer method including an exposure process for pattern transfer, when the mask is taken out from the mask case, the mask is taken out with at least the mask placed on the mask cassette.
As described above, the present invention is also effective as a pattern transfer method, and it is not necessary to perform an operation of replacing the mask with the mask cassette, so that the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved.

上記目的を達成するため本発明の表示装置の製造方法は、マスクを搬送するためのマスクケースから該マスクを取り出す工程と、露光装置に、前記マスクカセットに載置されて搭載された前記マスクを用いて、表示装置に使用される被転写体にパターン転写する露光工程を有する表示装置の製造方法において、前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出される方法としてある。
このように、本発明は表示装置の製造方法としても有効であり、マスクをマスクカセットに入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。
なお、表示装置として、液晶ディスプレイ、フラットパネルディスプレイ、プラズマパネルディスプレイなどを挙げることができる。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a display device according to the present invention includes a step of taking out a mask from a mask case for transporting the mask, and the exposure device mounted with the mask mounted on the mask cassette. In the manufacturing method of a display device having an exposure process of transferring a pattern to a transfer object used in the display device, at least the mask is placed on the mask cassette when the mask is taken out from the mask case. It is a method to be taken out in a state.
As described above, the present invention is also effective as a method for manufacturing a display device, and it is not necessary to perform an operation of replacing the mask with the mask cassette. Therefore, the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved. .
Examples of the display device include a liquid crystal display, a flat panel display, and a plasma panel display.

以上のように、本発明によれば、マスクユーザは、マスク製造者から納入されたマスクを、マスクケースからマスクカセットに入れ替えるという多大な負荷から開放される。特に、一辺が約３００ｍｍを越える大型マスクにおいては、本発明による負荷の軽減と、安全性が大きなメリットとなる。また、マスクカセットへの入替時のマスクのパーティクル付着や、不慮の破損が大幅に減少するという優れた効果を得られる。   As described above, according to the present invention, the mask user is freed from a great load of replacing the mask delivered from the mask manufacturer with the mask cassette from the mask case. In particular, in the case of a large mask having a side exceeding about 300 mm, the load reduction and the safety according to the present invention are significant advantages. Further, it is possible to obtain an excellent effect that the particle adhesion of the mask and the unexpected breakage are greatly reduced when the mask cassette is replaced.

[マスクケースの第一実施形態]
図１は、本発明の第一実施形態に係るマスクケースの、マスクの取付け状態を説明するための概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はＡ−Ａ断面図を示している。
また、図２は、本発明の第一実施形態に係るマスクケースの、マスク保持手段及びカセット保持手段を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は側面図を、（ｂ）は平面図を示している。
図１，２において、マスクケース１は、ケース本体２、ケース蓋３、マスク保持手段４及びカセット保持手段５とからなっており、フォトマスク１０とマスクカセット１００を搬送（輸送をも含む。）可能に収納する。
なお、本実施形態では、マスクとして大型のフォトマスク１０を用いているが、フォトマスク１０に限定されるものではない。 [First embodiment of mask case]
1A and 1B are schematic views for explaining a mask mounting state of the mask case according to the first embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a cross-sectional view, and FIG. 1B is a cross-sectional view along AA. ing.
FIG. 2 is a schematic enlarged view for explaining the mask holding means and the cassette holding means of the mask case according to the first embodiment of the present invention, wherein (a) is a side view and (b) is a plan view. The figure is shown.
1 and 2, the mask case 1 includes a case main body 2, a case lid 3, a mask holding means 4 and a cassette holding means 5, and conveys the photomask 10 and the mask cassette 100 (including transportation). Store as possible.
In the present embodiment, the large-sized photomask 10 is used as a mask, but the present invention is not limited to the photomask 10.

＜ケース本体＞
ケース本体２は、ほぼ矩形状の平板としてあり、周縁部に凸部２１が形成されている。凸部２１は、ケース蓋３と嵌合し、ケース蓋３の位置決めを行なう。
また、ケース本体２は、マスクカセット１００の周縁部が載置される取付け台２２が６箇所に設けられている。本実施形態では、矩形のフォトマスク１０の各辺の２箇所にそれぞれ取付け台２２を配設してあるが、この配置に限定されるものではなく、たとえば、フォトマスク１０の形状に応じて異なる配置としてもよい。 <Case body>
The case body 2 is a substantially rectangular flat plate, and a convex portion 21 is formed at the peripheral edge. The convex portion 21 is engaged with the case lid 3 to position the case lid 3.
The case body 2 is provided with six mounting bases 22 on which the peripheral edge of the mask cassette 100 is placed. In this embodiment, the mounting bases 22 are disposed at two positions on each side of the rectangular photomask 10, but the present invention is not limited to this arrangement, and for example, differs depending on the shape of the photomask 10. It is good also as arrangement.

取付け台２２は、図２に示すように、マスク保持手段４のガイド部４５及びカセット保持手段５のガイド部５５がスライド自在に嵌入されるガイド溝２２１が形成され、さらに、ガイド溝２２１の下方に、ガイド溝２２１より溝幅の広いこま収納溝２２２が形成されている。
また、取付け台２２は、フォトマスク１０側の端部にマスク支持ピン２３が突設されている。 As shown in FIG. 2, the mounting base 22 is formed with a guide groove 221 in which the guide portion 45 of the mask holding means 4 and the guide portion 55 of the cassette holding means 5 are slidably fitted, and further below the guide groove 221. In addition, a top storage groove 222 having a groove width wider than that of the guide groove 221 is formed.
Further, the mounting base 22 has a mask support pin 23 protruding from the end of the photomask 10 side.

このマスク支持ピン２３は、先端部が細くなった形状のピンであり、マスクカセット１００の貫通孔１０２を貫通し、フォトマスク１０をマスクカセット１００から浮いた状態に支持する。また、マスク支持ピン２３は、貫通孔１０２に嵌入されており、マスクカセット１００を取り出し方向（図３参照）に持ち上げる際、方向がずれないようにマスクカセット１００をガイドする。支持部材として、マスク支持ピン２３を用いることにより、構造が単純化され、製造原価のコストダウンを図ることができる。
また、取付け台２２及びマスク支持ピン２３の材料は、通常、金属が用いられるが、たとえば、マスクカセット１００やフォトマスク１０と接触する部分に樹脂などの材料からなる干渉部材（図示せず）を取り付けてもよい。 The mask support pin 23 is a pin having a narrowed tip, and passes through the through hole 102 of the mask cassette 100 to support the photomask 10 in a state of floating from the mask cassette 100. The mask support pins 23 are fitted into the through holes 102, and guide the mask cassette 100 so that the direction does not shift when the mask cassette 100 is lifted in the take-out direction (see FIG. 3). By using the mask support pin 23 as the support member, the structure is simplified and the manufacturing cost can be reduced.
The mounting base 22 and the mask support pins 23 are usually made of metal. For example, an interference member (not shown) made of a material such as a resin is provided at a portion in contact with the mask cassette 100 or the photomask 10. It may be attached.

図示してないが、ケース本体２は、周縁部がアルミフレームによって補強された樹脂板からなり、下部両側に一対のキャスターが設けられ、さらに、両サイドの上部及び下部に取っ手が取り付けられている。また、ケース本体２は、ボルトやラチェット・バックル錠などの締結手段によって、ケース蓋３が取り付けられる。さらに、ケース本体２とケース蓋３は、Ｏリングなどのシール部材によって、密閉された状態で連結される。   Although not shown, the case body 2 is made of a resin plate whose peripheral portion is reinforced with an aluminum frame, a pair of casters are provided on both sides of the lower portion, and handles are attached to the upper and lower portions of both sides. . The case body 2 is attached with a case lid 3 by fastening means such as bolts, ratchet and buckle locks. Further, the case main body 2 and the case lid 3 are connected in a sealed state by a sealing member such as an O-ring.

＜ケース蓋＞
ケース蓋３は、ケース本体２に着脱自在に取り付けられる蓋である。このケース蓋３は、ケース本体２を覆う矩形箱状としてあり、矩形状の上板と、上板の周縁部に突設された側板とからなっている。
また、ケース蓋３は、図示してないが、周縁部がアルミフレームによって補強された樹脂板からなり、下部両側に一対のキャスターが設けられ、さらに、両サイドの上部及び下部に取っ手が取り付けられている。 <Case lid>
The case lid 3 is a lid that is detachably attached to the case body 2. The case lid 3 has a rectangular box shape that covers the case main body 2, and includes a rectangular upper plate and a side plate that protrudes from the peripheral edge of the upper plate.
Although not shown, the case lid 3 is made of a resin plate whose peripheral portion is reinforced by an aluminum frame, a pair of casters are provided on both sides of the lower portion, and handles are attached to the upper and lower portions of both sides. ing.

＜マスク保持手段＞
マスク保持手段４は、フォトマスク１０を保持する手段であり、ケース本体２に位置調整自在に固定される。このマスク保持手段４は、取付け台２２に載置される螺着部４４と、螺着部４４から鉤状に突設された先端部に形成された載置面４１及び位置決め突出部４２と、螺着部４４の下面に突設され、ガイド溝２２１と嵌合するガイド部４５を備えている。
載置面４１は、フォトマスク１０の端面と当接し、マスクケース１が立てられた際、フォトマスク１０の荷重を受ける。また、位置決め突出部４２は、フォトマスク１０の方向に向かって広がる斜面を有している。この斜面は、フォトマスク１０を挟むようにして形成されており、フォトマスク１０の位置決め（フォトマスク１０の表面と直角方向の位置決め）を行なう。 <Mask holding means>
The mask holding means 4 is means for holding the photomask 10 and is fixed to the case body 2 so that the position can be adjusted. The mask holding means 4 includes a screwing portion 44 to be mounted on the mounting base 22, a mounting surface 41 and a positioning protruding portion 42 formed at a tip portion protruding in a hook shape from the screwing portion 44, A guide portion 45 that protrudes from the lower surface of the screwing portion 44 and fits into the guide groove 221 is provided.
The placement surface 41 abuts on the end face of the photomask 10 and receives the load of the photomask 10 when the mask case 1 is erected. Further, the positioning protrusion 42 has a slope that widens in the direction of the photomask 10. The inclined surface is formed so as to sandwich the photomask 10 and performs positioning of the photomask 10 (positioning in a direction perpendicular to the surface of the photomask 10).

螺着部４４は、ボルト４３が貫通する孔が穿設されており、この孔に挿入されたボルト４３が、こま収納溝２２２に移動自在に収納されたこま４６に締め込まれる。これにより、マスク保持手段４は、取付け台２２に螺着されるとともに、ボルト４３を緩めることにより、スライド方向に移動できる。また、載置面４１及び位置決め突出部４２の高さ位置は、マスク支持ピン２３に支持されたフォトマスク１０の高さ位置に対応させてあるので、マスク保持手段４をフォトマスク１０の方向に移動させて、螺着することにより、フォトマスク１０を容易に保持することができる。   The screwing portion 44 has a hole through which the bolt 43 passes, and the bolt 43 inserted into the hole is fastened to a top 46 that is movably stored in the top storage groove 222. Thereby, the mask holding means 4 is screwed to the mounting base 22 and can move in the sliding direction by loosening the bolts 43. Further, since the height positions of the mounting surface 41 and the positioning protrusion 42 correspond to the height positions of the photomask 10 supported by the mask support pins 23, the mask holding means 4 is moved in the direction of the photomask 10. The photomask 10 can be easily held by moving and screwing.

＜カセット保持手段＞
カセット保持手段５は、マスクカセット１００を保持する手段であり、ケース本体２に位置調整自在に固定される。このカセット保持手段５は、取付け台２２に載置される螺着部５４と、螺着部５４から鉤状に突設された先端部に形成された保持面５１と、螺着部５４の下面に突設され、ガイド溝２２１と嵌合するガイド部５５を備えている。
保持面５１は、マスクカセット１００に向かって、斜め上方に傾斜した斜面である。この保持面５１は、取付け台２２に載置されたマスクカセット１００の上側角部と線接触し、マスクカセット１００を取付け台２２に押し付けるようにして、マスクカセット１００を保持する。 <Cassette holding means>
The cassette holding means 5 is means for holding the mask cassette 100 and is fixed to the case body 2 so that the position thereof can be adjusted. The cassette holding means 5 includes a screwing portion 54 that is placed on the mounting base 22, a holding surface 51 that is formed at a tip portion protruding in a hook shape from the screwing portion 54, and a lower surface of the screwing portion 54. And a guide portion 55 that fits into the guide groove 221.
The holding surface 51 is a slope inclined obliquely upward toward the mask cassette 100. The holding surface 51 is in line contact with the upper corner of the mask cassette 100 placed on the mounting base 22 and holds the mask cassette 100 so as to press the mask cassette 100 against the mounting base 22.

螺着部５４は、ボルト５３が貫通する孔が穿設されており、この孔に挿入されたボルト５３が、こま収納溝２２２に移動自在に収納されたこま５６に締め込まれる。これにより、カセット保持手段５は、取付け台２２に螺着されるとともに、ボルト５３を緩めることにより、スライド方向に移動できる。また、保持面５１の高さ位置は、取付け台２２に載置されたマスクカセット１００の高さ位置に対応させてあるので、カセット保持手段５をマスクカセット１００の方向に移動させて、螺着することにより、マスクカセット１００を容易に保持することができる。   The threaded portion 54 has a hole through which the bolt 53 passes, and the bolt 53 inserted into the hole is fastened to a top 56 that is movably stored in the top storage groove 222. Thereby, the cassette holding means 5 is screwed to the mounting base 22 and can be moved in the sliding direction by loosening the bolts 53. Further, since the height position of the holding surface 51 is made to correspond to the height position of the mask cassette 100 placed on the mounting base 22, the cassette holding means 5 is moved in the direction of the mask cassette 100 and screwed. By doing so, the mask cassette 100 can be easily held.

＜マスクカセット＞
マスクカセット１００は、製造装置及び／又は検査装置（図示せず）において使用される、矩形状の平板としてあり、マスク支持ピン２３に対応する位置に貫通孔１０２が穿設されている。また、マスクカセット１００は、各貫通孔１０２に対応して、位置決めピン１０１が突設してあり、マスクカセット１００の上面に載置されたフォトマスク１０の位置決めを行なう。
なお、本実施形態のマスクカセット１００は、フォトマスク１０が載置され、さらに、位置決めピン１０１によって位置決めされることにより、フォトマスク１０がセットされる構成としてあるが、セットの形態は、この構成に限定されるものではない。
また、マスクカセット１００、マスク保持手段４及びカセット保持手段５の材料は、通常、金属が用いられるが、たとえば、マスクカセット１００やフォトマスク１０と接触する部分に樹脂などの材料からなる干渉部材（図示せず）を取り付けてもよい。 <Mask cassette>
The mask cassette 100 is a rectangular flat plate used in a manufacturing apparatus and / or an inspection apparatus (not shown), and a through hole 102 is formed at a position corresponding to the mask support pin 23. Further, the mask cassette 100 is provided with positioning pins 101 corresponding to the respective through holes 102 to position the photomask 10 placed on the upper surface of the mask cassette 100.
The mask cassette 100 according to the present embodiment is configured such that the photomask 10 is set by placing the photomask 10 and then positioning by the positioning pins 101. It is not limited to.
The mask cassette 100, the mask holding means 4 and the cassette holding means 5 are usually made of metal, but for example, an interference member made of a material such as a resin at a portion in contact with the mask cassette 100 or the photomask 10 (for example, (Not shown) may be attached.

上記構成のマスクケース１の動作について説明する。
まず、マスクケース１は、図１（ａ）に示す状態で、フォトマスク１０及びマスクカセット１００が収納されている。また、マスクケース１は、輸送される際には、通常、立てられた状態で輸送される。
次に、マスクケース１からフォトマスク１０が取り出される動作について、図面を参照して説明する。 The operation of the mask case 1 having the above configuration will be described.
First, the mask case 1 stores the photomask 10 and the mask cassette 100 in the state shown in FIG. Further, when the mask case 1 is transported, it is usually transported in a standing state.
Next, an operation for taking out the photomask 10 from the mask case 1 will be described with reference to the drawings.

図３は、本発明の第一実施形態に係るマスクケースの、マスクの取外し状態を説明するための概略断面図を示している。
同図において、マスクユーザに納品されたマスクケース１は、まず、水平に寝かされ、図１（ａ）の状態から、ケース蓋３が取り外される。次に、各ボルト４３及びボルト５３が緩められ、マスク保持手段４及びカセット保持手段５が、上方に取り出されるマスクカセット１００と干渉しない位置まで、スライド方向に移動される。 FIG. 3: has shown schematic sectional drawing for demonstrating the removal state of the mask of the mask case which concerns on 1st embodiment of this invention.
In the figure, the mask case 1 delivered to the mask user is first laid down horizontally, and the case lid 3 is removed from the state of FIG. Next, each bolt 43 and bolt 53 are loosened, and the mask holding means 4 and the cassette holding means 5 are moved in the sliding direction to a position where they do not interfere with the mask cassette 100 taken out upward.

次に、マスクカセット１００が、作業者によって、取り出し方向（真上方向）に持ち上げられる。この際、マスク支持ピン２３が、マスクカセット１００がフォトマスク１０と当接し、位置決めピン１０１によって位置決めされるまで、マスクカセット１００をガイドするので、フォトマスク１０に異常な衝撃を与えることなく、マスクカセット１００をフォトマスク１０にスムースに当接させることができる。すなわち、作業者は、位置決めピン１０１のガイドに従って、徐々にマスクカセット１００を持ち上げるだけで、フォトマスク１０が位置決めピン１０１によって位置決めされた状態でマスクカセット１００に載置される。これにより、フォトマスク１０がマスクケース１から取り出される際、マスクカセット１００にフォトマスク１０がセットされた状態で、フォトマスク１０が取り出される。   Next, the mask cassette 100 is lifted in the take-out direction (directly upward) by the operator. At this time, the mask support pin 23 guides the mask cassette 100 until the mask cassette 100 comes into contact with the photomask 10 and is positioned by the positioning pin 101, so that the mask is not subjected to an abnormal impact on the photomask 10. The cassette 100 can be smoothly brought into contact with the photomask 10. That is, the operator simply lifts the mask cassette 100 according to the guide of the positioning pins 101, and the photomask 10 is placed on the mask cassette 100 while being positioned by the positioning pins 101. Thus, when the photomask 10 is taken out from the mask case 1, the photomask 10 is taken out with the photomask 10 set in the mask cassette 100.

また、マスクカセット１００にセットされたフォトマスク１０が、露光装置などで使用され、たとえば、次回の製造日まで保管される際には、上記手順をもどることにより、容易かつ安全にフォトマスク１０をマスクケース１に収納させることができる。すなわち、作業者は、フォトマスク１０がセットされたマスクカセット１００を、貫通孔１０２にマスク支持ピン２３が貫通するように降下させると、マスク支持ピン２３がマスクカセット１００を真下方向にガイドするので、フォトマスク１０に異常な衝撃を与えることなく、マスクカセット１００から浮かせることができ、マスクカセット１００を取付け台２２にスムースに載置させることができる。すなわち、作業者は、位置決めピン１０１のガイドに従って、徐々にマスクカセット１００を降下させるだけで、フォトマスク１０がマスク支持ピン２３によって支持され、かつ、マスクカセット１００を取付け台２２に載置させることができる。   Further, when the photomask 10 set in the mask cassette 100 is used in an exposure apparatus or the like, for example, when stored until the next manufacturing date, the photomask 10 can be easily and safely returned by returning to the above procedure. It can be stored in the mask case 1. That is, when the operator lowers the mask cassette 100 on which the photomask 10 is set so that the mask support pins 23 pass through the through holes 102, the mask support pins 23 guide the mask cassette 100 in a direction directly below. The photomask 10 can be lifted from the mask cassette 100 without causing an abnormal impact, and the mask cassette 100 can be smoothly placed on the mounting base 22. That is, the operator simply lowers the mask cassette 100 according to the guide of the positioning pins 101, and the photomask 10 is supported by the mask support pins 23 and the mask cassette 100 is placed on the mounting base 22. Can do.

上述したように、本実施形態のマスクケース１によれば、マスクメーカからマスクケース１に収納された状態で納品されたフォトマスク１０を、マスクユーザの作業者が、たとえば、露光装置などのフォトマスク１０に入れ替える作業を行なわなくてもすむので（極めて容易に、かつ、安全に入れ替え作業を行なうことができるので）、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。
また、入れ替え作業中に誤ってフォトマスク１０を損傷させてしまうといった危険性を大幅に低減することができ、作業を安全に行なうことができる。 As described above, according to the mask case 1 of the present embodiment, the mask user operator receives the photomask 10 delivered from the mask manufacturer in a state of being accommodated in the mask case 1 by, for example, a photomask such as an exposure apparatus. Since it is not necessary to perform the work of replacing the mask 10 (because it can be performed very easily and safely), the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved.
Further, the risk of accidentally damaging the photomask 10 during the replacement work can be greatly reduced, and the work can be performed safely.

また、マスク保持手段４及びカセット保持手段５を設けることにより、フォトマスク１０及びマスクカセット１００を確実に保持することができるので、空路や陸路等で、フォトマスク１０の輸送を行った場合であっても、フォトマスク１０が破損したり、あるいは、摩擦によるパーティクルが大量に発生したり、さらには、精緻に形成されたパターンに損傷を与えるなどの不具合を回避することができる。
さらに、マスクケース１は、マスク支持ピン２３を設けて、フォトマスク１０をマスクカセット１００から浮いた状態に支持し、かつ、マスクカセット１００を所定の方向にガイドするので、マスクカセット１００とフォトマスク１０が擦れてパーティクルが発生するといった不具合をより確実に防止することができる。 Further, since the photomask 10 and the mask cassette 100 can be securely held by providing the mask holding means 4 and the cassette holding means 5, this is the case when the photomask 10 is transported by air or land. However, it is possible to avoid problems such as damage to the photomask 10, generation of a large amount of particles due to friction, and damage to a precisely formed pattern.
Further, the mask case 1 is provided with mask support pins 23 to support the photomask 10 in a floating state from the mask cassette 100 and guide the mask cassette 100 in a predetermined direction. Problems such as generation of particles due to rubbing 10 can be more reliably prevented.

[マスクケースの第二実施形態]
図４は、本発明の第二実施形態に係るマスクケースの、マスクの取付け状態を説明するための概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
また、図５は、本発明の第二実施形態に係るマスクケースの、マスク保持手段及びカセット保持手段を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は側面図を、（ｂ）は平面図を示している。
図４，５において、第二実施形態のマスクケース１ａは、第一実施形態のマスクケース１と比べて、マスクカセット１００ａが、フォトマスク１０を位置決めした状態で収納する構造としてあり、これにともない、マスク保持手段４ａ、カセット保持手段５ａ及びの構造が相違する。他の構成要素は、ほぼ第一実施形態と同様としてある。
したがって、図４、５において、図１、２と同様の構成部分については同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。 [Second embodiment of mask case]
4A and 4B are schematic views for explaining a mask mounting state of the mask case according to the second embodiment of the present invention, wherein FIG. 4A is a cross-sectional view, and FIG. 4B is a cross-sectional view along BB. ing.
FIG. 5 is a schematic enlarged view for explaining the mask holding means and the cassette holding means of the mask case according to the second embodiment of the present invention, where (a) is a side view and (b) is a plan view. The figure is shown.
4 and 5, the mask case 1a of the second embodiment has a structure in which the mask cassette 100a stores the photomask 10 in a positioned state as compared with the mask case 1 of the first embodiment. The structures of the mask holding means 4a and the cassette holding means 5a are different. Other components are almost the same as those in the first embodiment.
Therefore, in FIGS. 4 and 5, the same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

＜マスクカセット＞
マスクカセット１００ａは、製造装置及び／又は検査装置（図示せず）において使用される、矩形状の平板としてあり、周縁部に、フォトマスク１０を位置決めするとともに収納する壁部１１３が突設してある。この壁部１１３は、ほぼ矩形環状の形状としてあり、下から順に、フォトマスク１０の周縁部が載置される載置面１１１と、フォトマスク１０の側面と当接して位置決めを行なう位置決め面１１２と、フォトマスク１０を容易に収納するために傾斜したガイド面１１４を備えている。
また、マスクカセット１００ａは、マスク保持手段４ａに対応する位置に、開口部１１５を形成してある。これにより、マスクカセット１００ａは、載置面１１１に載置されたフォトマスク１０を保持するために、マスク保持手段４ａが移動できる。 <Mask cassette>
The mask cassette 100a is a rectangular flat plate used in a manufacturing apparatus and / or inspection apparatus (not shown), and a wall 113 for positioning and storing the photomask 10 protrudes from the peripheral edge. is there. The wall 113 has a substantially rectangular annular shape, and in order from the bottom, a placement surface 111 on which the peripheral edge of the photomask 10 is placed, and a positioning surface 112 for positioning by contacting the side surface of the photomask 10. And an inclined guide surface 114 for easily storing the photomask 10.
The mask cassette 100a has an opening 115 at a position corresponding to the mask holding means 4a. Thereby, in the mask cassette 100a, the mask holding means 4a can move in order to hold the photomask 10 placed on the placement surface 111.

＜マスク保持手段＞
マスク保持手段４ａは、フォトマスク１０を保持する手段であり、ケース本体２に位置調整自在に固定される。このマスク保持手段４ａは、載置面４１及び位置決め突出部４２の高さ位置を、マスクカセット１００ａに収納されたフォトマスク１０の高さ位置に対応させてあるので、開口部１１５を利用して、マスク保持手段４ａをフォトマスク１０の方向に移動させて、螺着することにより、フォトマスク１０を容易に保持することができる。 <Mask holding means>
The mask holding means 4a is a means for holding the photomask 10, and is fixed to the case body 2 so that the position can be adjusted. The mask holding means 4a uses the opening 115 because the height positions of the mounting surface 41 and the positioning protrusion 42 correspond to the height position of the photomask 10 stored in the mask cassette 100a. The photomask 10 can be easily held by moving the mask holding means 4a in the direction of the photomask 10 and screwing it.

＜カセット保持手段＞
カセット保持手段５ａは、マスクカセット１００ａを保持する手段であり、ケース本体２に位置調整自在に固定される。このカセット保持手段５ａは、保持面５１の高さ位置を、マスクカセット１００ａの壁部１１３の高さ位置に対応させてあるので、カセット保持手段５ａをマスクカセット１００ａの方向に移動させて、螺着することにより、マスクカセット１００ａを容易に保持することができる。また、保持面５１は、マスクカセット１００ａの壁部１１３の上側角部と線接触し、マスクカセット１００ａを取付け台２２に押し付けるようにして、マスクカセット１００ａを保持する。 <Cassette holding means>
The cassette holding means 5a is means for holding the mask cassette 100a, and is fixed to the case body 2 so that the position can be adjusted. In this cassette holding means 5a, the height position of the holding surface 51 is made to correspond to the height position of the wall portion 113 of the mask cassette 100a. Therefore, the cassette holding means 5a is moved in the direction of the mask cassette 100a and screwed. By wearing, the mask cassette 100a can be easily held. The holding surface 51 is in line contact with the upper corner of the wall 113 of the mask cassette 100a, and holds the mask cassette 100a so as to press the mask cassette 100a against the mounting base 22.

上記構成のマスクケース１ａの動作について説明する。
まず、マスクケース１ａは、図４（ａ）に示す状態で、フォトマスク１０及びマスクカセット１００ａが収納されている。
次に、マスクケース１ａからフォトマスク１０が取り出される動作について、図面を参照して説明する。 The operation of the mask case 1a having the above configuration will be described.
First, the mask case 1a stores the photomask 10 and the mask cassette 100a in the state shown in FIG.
Next, an operation for taking out the photomask 10 from the mask case 1a will be described with reference to the drawings.

図６は、本発明の第二実施形態に係るマスクケースの、マスクの取外し状態を説明するための概略断面図を示している。
同図において、マスクユーザに納品されたマスクケース１ａは、まず、水平に寝かされ、図４（ａ）の状態から、ケース蓋３が取り外される。次に、各ボルト４３が緩められ、マスク保持手段４ａが、上方に取り出されるマスクカセット１００ａと干渉しない位置まで、スライド方向に移動される。この動作によって、マスク保持手段４ａの保持状態が解除されるので、フォトマスク１０が位置決め面１１２によって位置決めされた状態でマスクカセット１００ａに載置される。これにより、フォトマスク１０がマスクケース１ａから取り出される際、マスクカセット１００ａにフォトマスク１０がセットされた状態で、フォトマスク１０が取り出される。 FIG. 6: has shown schematic sectional drawing for demonstrating the removal state of the mask of the mask case which concerns on 2nd embodiment of this invention.
In the figure, the mask case 1a delivered to the mask user is first laid down horizontally, and the case lid 3 is removed from the state shown in FIG. Next, each bolt 43 is loosened, and the mask holding means 4a is moved in the sliding direction to a position where it does not interfere with the mask cassette 100a taken out upward. By this operation, the holding state of the mask holding means 4a is released, so that the photomask 10 is placed on the mask cassette 100a while being positioned by the positioning surface 112. Thereby, when the photomask 10 is taken out from the mask case 1a, the photomask 10 is taken out with the photomask 10 set in the mask cassette 100a.

次に、各ボルト５３が緩められ、カセット保持手段５ａが、上方に取り出されるマスクカセット１００ａと干渉しない位置まで、スライド方向に移動される。この動作によって、カセット保持手段５ａの保持状態が解除されるので、マスクカセット１００ａに位置決めされた状態で収納されたフォトマスク１０を容易に、かつ、安全にマスクケース１ａから取り出すことができる。   Next, each bolt 53 is loosened, and the cassette holding means 5a is moved in the sliding direction to a position where it does not interfere with the mask cassette 100a taken out upward. By this operation, the holding state of the cassette holding means 5a is released, so that the photomask 10 stored in the state positioned in the mask cassette 100a can be easily and safely taken out from the mask case 1a.

また、マスクカセット１００ａにセットされたフォトマスク１０が、露光装置などで使用され、たとえば、次回の製造日まで保管される際には、上記手順をもどることにより、容易かつ安全にフォトマスク１０をマスクケース１ａに収納させることができる。すなわち、作業者は、フォトマスク１０がセットされたマスクカセット１００ａを、取付け台２２に載置する(この載置位置を決めるために、位置決め手段(図示せず)を設けるとよい。)。次に、カセット保持手段５ａにて、マスクカセット１００ａを保持し、続いて、マスク保持手段４ａによりフォトマスク１０を保持することにより、安全かつ容易にフォトマスク１０をマスクケース１ａに収納することができる。   Further, when the photomask 10 set in the mask cassette 100a is used in an exposure apparatus or the like, for example, when stored until the next manufacturing date, the photomask 10 can be easily and safely returned by returning to the above procedure. It can be stored in the mask case 1a. That is, the operator places the mask cassette 100a on which the photomask 10 is set on the mounting base 22 (a positioning means (not shown) may be provided to determine the placement position). Next, by holding the mask cassette 100a by the cassette holding means 5a and then holding the photomask 10 by the mask holding means 4a, the photomask 10 can be safely and easily stored in the mask case 1a. it can.

上述したように、本実施形態のマスクケース１ａによれば、マスクケース１とほぼ同様の効果を得ることができ、さらに、マスク保持手段４ａによる保持状態を解除することによって、フォトマスク１０がマスクカセット１００ａにセットされるので、作業を容易に行なうことができる。   As described above, according to the mask case 1a of the present embodiment, substantially the same effect as that of the mask case 1 can be obtained. Further, by releasing the holding state by the mask holding means 4a, the photomask 10 is masked. Since it is set in the cassette 100a, the operation can be easily performed.

[マスクカセットの一実施形態]
また、本発明はマスクカセットとしても有効である。本発明のマスクカセットは、上記マスクカセット１００とほぼ同様な構造としてあり、フォトマスク１０を取り出す際、マスクカセット１００を所定の方向に移動させるためのマスク支持ピン２３にガイドされる、被ガイド面(図２（ａ）に示す貫通孔１０２の孔表面)を有する構成としてある。
このように、本発明はマスクカセット１００としても有効であり、フォトマスク１０をマスクカセット１００に入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。また、マスクカセット１００とフォトマスク１０が擦れてパーティクルが発生するといった不具合をより確実に防止することができる。 [One Embodiment of Mask Cassette]
The present invention is also effective as a mask cassette. The mask cassette of the present invention has substantially the same structure as the mask cassette 100 described above, and is guided by mask support pins 23 for moving the mask cassette 100 in a predetermined direction when the photomask 10 is taken out. (The surface of the through hole 102 shown in FIG. 2A) is provided.
As described above, the present invention is also effective as the mask cassette 100, and it is not necessary to perform the work of replacing the photomask 10 with the mask cassette 100. Therefore, the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved. To do. Further, it is possible to more reliably prevent a problem that particles are generated by rubbing the mask cassette 100 and the photomask 10.

[パターン転写方法の一実施形態]
また、本発明はパターン転写方法としても有効である。本発明のパターン転写方法は、フォトマスク１０を搬送するためのマスクケース１から、フォトマスク１０取り出す工程と、露光装置に、前記マスクカセット１００に載置されて搭載された前記マスク１０を用いてパターン転写する露光工程とを有するパターン転写方法において、フォトマスク１０がマスクケース１から取り出される際、マスクカセット１００にフォトマスク１０が、セットされた状態で取り出される方法としてある。
このように、本発明はパターン転写方法としても有効であり、フォトマスク１０をマスクカセット１００に入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。 [One Embodiment of Pattern Transfer Method]
The present invention is also effective as a pattern transfer method. The pattern transfer method of the present invention uses a step of taking out the photomask 10 from the mask case 1 for transporting the photomask 10 and the mask 10 mounted on the mask cassette 100 and mounted in an exposure apparatus. In the pattern transfer method including an exposure process for pattern transfer, when the photomask 10 is taken out from the mask case 1, the photomask 10 is taken out in a state of being set in the mask cassette 100.
As described above, the present invention is also effective as a pattern transfer method, and it is not necessary to perform an operation of replacing the photomask 10 with the mask cassette 100. Therefore, the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved. To do.

[表示装置の製造方法の一実施形態]
また、本発明は表示装置の製造方法としても有効である。本発明の表示装置の製造方法は、フォトマスク１０マスクを搬送するためのマスクケース１から、フォトマスク１０を取り出す工程と、露光装置に、前記マスクカセット１００に載置されて搭載された前記マスク１０を用いて、表示装置に使用される被転写体にパターン転写する露光工程を有する表示装置の製造方法において、フォトマスク１０がマスクケース１から取り出される際、マスクカセット１００にフォトマスク１０がセットされた状態で取り出される方法としてある。
このように、本発明は表示装置の製造方法としても有効であり、フォトマスク１０をマスクカセット１００に入れ替える作業を行なわなくてもすむので、作業者の負荷が大幅に軽減されるとともに、作業性が向上する。 [One Embodiment of Manufacturing Method of Display Device]
The present invention is also effective as a method for manufacturing a display device. The display device manufacturing method of the present invention includes a step of taking out the photomask 10 from the mask case 1 for transporting the photomask 10 mask, and the mask mounted on the mask cassette 100 and mounted on the exposure apparatus. In the method of manufacturing a display device having an exposure process of transferring a pattern onto a transfer object used in the display device, the photomask 10 is set in the mask cassette 100 when the photomask 10 is taken out from the mask case 1. As a method of taking out in the state where it was done.
As described above, the present invention is also effective as a method of manufacturing a display device, and it is not necessary to perform the work of replacing the photomask 10 with the mask cassette 100. Therefore, the burden on the operator is greatly reduced and the workability is improved. Will improve.

以上、本発明のマスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るマスクケース、マスクカセット、パターン転写方法及び表示装置の製造方法は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、マスク保持手段とカセット保持手段が一体的に連結した構造であってもよい。 The mask case, the mask cassette, the pattern transfer method, and the display device manufacturing method of the present invention have been described with reference to the preferred embodiments. However, the mask case, the mask cassette, the pattern transfer method, and the display device according to the present invention are manufactured. It goes without saying that the method is not limited to the embodiment described above, and various modifications can be made within the scope of the present invention.
For example, the mask holding means and the cassette holding means may be integrally connected.

本発明は、マスクを保管するためのマスクケースにも適用でき、特に、ＬＣＤＰやＰＤＰ等の製造工程で使用する大型のマスクに好適である。   The present invention can be applied to a mask case for storing a mask, and is particularly suitable for a large-sized mask used in a manufacturing process such as LCDP or PDP.

図１は、本発明の第一実施形態に係るマスクケースの、マスクの取付け状態を説明するための概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はＡ−Ａ断面図を示している。1A and 1B are schematic views for explaining a mask mounting state of the mask case according to the first embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a cross-sectional view, and FIG. 1B is a cross-sectional view along AA. ing. 図２は、本発明の第一実施形態に係るマスクケースの、マスク保持手段及びカセット保持手段を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は側面図を、（ｂ）は平面図を示している。FIG. 2 is a schematic enlarged view for explaining the mask holding means and the cassette holding means of the mask case according to the first embodiment of the present invention, wherein (a) is a side view and (b) is a plan view. Show. 図３は、本発明の第一実施形態に係るマスクケースの、マスクの取外し状態を説明するための概略断面図を示している。FIG. 3: has shown schematic sectional drawing for demonstrating the removal state of the mask of the mask case which concerns on 1st embodiment of this invention. 図４は、本発明の第二実施形態に係るマスクケースの、マスクの取付け状態を説明するための概略図であり、（ａ）は断面図を、（ｂ）はＢ−Ｂ断面図を示している。4A and 4B are schematic views for explaining a mask mounting state of the mask case according to the second embodiment of the present invention, wherein FIG. 4A is a cross-sectional view, and FIG. 4B is a cross-sectional view along BB. ing. 図５は、本発明の第二実施形態に係るマスクケースの、マスク保持手段及びカセット保持手段を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は側面図を、（ｂ）は平面図を示している。FIG. 5 is a schematic enlarged view for explaining the mask holding means and the cassette holding means of the mask case according to the second embodiment of the present invention, wherein (a) is a side view and (b) is a plan view. Show. 図６は、本発明の第二実施形態に係るマスクケースの、マスクの取外し状態を説明するための概略断面図を示している。FIG. 6: has shown schematic sectional drawing for demonstrating the removal state of the mask of the mask case which concerns on 2nd embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１，１ａ マスクケース
２ ケース本体
３ ケース蓋
４，４ａ マスク保持手段
５，５ａ カセット保持手段
１０ フォトマスク
２１ 凸部
２２ 取付け台
２３ マスク支持ピン
４１ 載置面
４２ 位置決め突出部
４３ ボルト
４４ 螺着部
４５ ガイド部
４６ こま
５１ 保持面
５３ ボルト
５４ 螺着部
５５ ガイド部
５６ こま
１００，１００ａ マスクカセット
１０１ 位置決めピン
１０２ 貫通孔
１１１ 載置面
１１２ 位置決め面
１１３ 壁部
１１４ ガイド面
１１５ 開口部
２２１ ガイド溝
２２２ こま収納溝 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1a Mask case 2 Case main body 3 Case cover 4, 4a Mask holding means 5, 5a Cassette holding means 10 Photomask 21 Convex part 22 Mounting base 23 Mask support pin 41 Placement surface 42 Positioning projection part 43 Bolt 44 Screwing part 45 Guide portion 46 Top 51 Holding surface 53 Bolt 54 Screwed portion 55 Guide portion 56 Top 100, 100a Mask cassette 101 Positioning pin 102 Through hole 111 Mounting surface 112 Positioning surface 113 Wall portion 114 Guide surface 115 Opening portion 221 Guide groove 222 Top storage groove

Claims (10)

マスクと、
製造装置及び／又は検査装置において使用される、前記マスクが少なくとも載置されるマスクカセットと
を搬送可能に収容するマスクケースであって、
前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出されることを特徴とするマスクケース。 A mask,
A mask case that is used in a manufacturing apparatus and / or an inspection apparatus, and that accommodates at least a mask cassette on which the mask is placed;
When the mask is taken out from the mask case, the mask case is taken out with at least the mask placed on the mask cassette. 前記マスクを保持するマスク保持手段と、
前記マスクカセットを保持するカセット保持手段と、
前記マスク保持手段及びカセット保持手段が設けられたケース本体と、
このケース本体に着脱自在に取り付けられ、前記マスクを覆うケース蓋とを備えたことを特徴とする請求項１に記載のマスクケース。 Mask holding means for holding the mask;
Cassette holding means for holding the mask cassette;
A case main body provided with the mask holding means and the cassette holding means;
The mask case according to claim 1, further comprising a case lid that is detachably attached to the case body and covers the mask. 前記マスクを前記マスクカセットから浮いた状態に支持し、かつ、前記マスクカセットを所定の方向にガイドする支持部材を備えており、前記マスクを取り出す際、前記マスクカセットを所定の方向に移動させると、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置されることを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクケース。   A support member for supporting the mask in a floating state from the mask cassette and guiding the mask cassette in a predetermined direction; and when the mask cassette is taken out, the mask cassette is moved in a predetermined direction. The mask case according to claim 1, wherein at least the mask is placed on the mask cassette. 前記支持部材を、マスク支持ピンとしたことを特徴とする請求項３に記載のマスクケース。   The mask case according to claim 3, wherein the support member is a mask support pin. 前記マスク保持手段が、前記マスクカセットに少なくとも載置された状態の前記マスクを保持することを特徴とする請求項２に記載のマスクケース。   The mask case according to claim 2, wherein the mask holding means holds the mask in a state of being placed at least on the mask cassette. 製造装置及び／又は検査装置において使用される、マスクが少なくとも載置されるマスクカセットであって、
前記マスクカセットを収容するマスクケースに保持される際に、マスク保持手段又はマスク支持部材が前記マスクを保持又は支持するための、貫通孔及び／又は開口部を有することを特徴とするマスクカセット。 A mask cassette used in a manufacturing apparatus and / or inspection apparatus, on which at least a mask is mounted,
A mask cassette comprising a through hole and / or an opening through which a mask holding means or a mask support member holds or supports the mask when held by a mask case that houses the mask cassette. マスクを収容するマスクケースに、前記マスクから離れた状態で収容され、さらに、前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出されるマスクカセットであって、
前記マスクを取り出す際、前記マスクカセットを所定の方向に移動させるためのガイド部材にガイドされる、被ガイド面を有することを特徴とするマスクカセット。 A mask cassette that is accommodated in a mask case that accommodates a mask in a state of being separated from the mask, and that is further removed when the mask is removed from the mask case. There,
A mask cassette having a guided surface guided by a guide member for moving the mask cassette in a predetermined direction when the mask is taken out. 前記ガイド部材が、前記マスクを前記マスクカセットから浮いた状態に支持するマスク支持ピンであり、かつ、前記被ガイド面が、前記マスクカセットに形成され、前記マスク支持ピンが貫通する貫通孔の孔表面であることを特徴とする請求項７に記載のマスクカセット。   The guide member is a mask support pin that supports the mask in a state of floating from the mask cassette, and the guided surface is formed in the mask cassette, and a hole of a through hole through which the mask support pin passes. The mask cassette according to claim 7, wherein the mask cassette is a surface. マスクを搬送するためのマスクケースから該マスクを取り出す工程と、
露光装置に、前記マスクカセットに載置されて搭載された前記マスクを用いてパターン転写する露光工程と
を有するパターン転写方法において、
前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出されることを特徴とするパターン転写方法。 Removing the mask from a mask case for transporting the mask;
In an exposure apparatus, an exposure step of transferring a pattern using the mask mounted and mounted on the mask cassette,
When the mask is taken out from the mask case, the pattern is transferred with the mask placed at least on the mask cassette. マスクを搬送するためのマスクケースから該マスクを取り出す工程と、
露光装置に、前記マスクカセットに載置されて搭載された前記マスクを用いて、表示装置に使用される被転写体にパターン転写する露光工程と
を有する表示装置の製造方法において、
前記マスクが前記マスクケースから取り出される際、前記マスクカセットに前記マスクが少なくとも載置された状態で取り出されることを特徴とする表示装置の製造方法。 Removing the mask from a mask case for transporting the mask;
In an exposure apparatus, an exposure process for transferring a pattern onto a transfer object used in the display apparatus using the mask mounted on and mounted on the mask cassette in an exposure apparatus,
When the mask is taken out from the mask case, the mask is taken out with at least the mask placed on the mask cassette.
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