JP6418421B2 - Mask case, storage device, transport device, exposure device, and device manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、マスクが収納されるマスクケース、マスクを保管する保管技術、マスクケースに収納されるマスクを搬送する搬送技術、保管技術又は搬送技術を用いる露光技術、及び露光技術を用いるデバイス製造方法に関する。   The present invention relates to a mask case for storing a mask, a storage technique for storing a mask, a transfer technique for transferring a mask stored in a mask case, an exposure technique using a storage technique or a transfer technique, and a device manufacturing method using the exposure technique. About.

例えば液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するために使用される露光装置は、複数のマスクをそれぞれマスクケースに収納された状態で保管可能なマスクライブラリと、マスク搬送装置とを備えている。マスク搬送装置は、使用済みのマスクが収納されたマスクケースをマスクライブラリから搬出し、次の露光工程で使用されるマスクが収納されたマスクケースをマスクライブラリに搬入する。そして、露光時には、次に使用するマスクが収納されたマスクケースをマスクライブラリからマスク搬送装置によって取り出し、このマスクケースからマスクローダ系（マスクキャリア）にマスクを受け渡し、マスクローダ系がそのマスクを露光装置のマスクステージにロードしていた（例えば、特許文献１参照）。   For example, an exposure apparatus used for manufacturing an electronic device (microdevice) such as a liquid crystal display element includes a mask library capable of storing a plurality of masks in a state where each mask is stored in a mask case, and a mask transport apparatus. ing. The mask transfer device carries out a mask case containing a used mask from the mask library, and carries a mask case containing a mask used in the next exposure process into the mask library. At the time of exposure, the mask case containing the mask to be used next is taken out from the mask library by the mask transport device, and the mask is transferred from the mask case to the mask loader system (mask carrier), and the mask loader system exposes the mask. It was loaded on the mask stage of the apparatus (see, for example, Patent Document 1).

特開２００５−２６２８６号公報JP 2005-26286 A

露光装置における上述のようなマスク搬送装置、マスクローダ系およびマスクライブラリを含むマスク搬送システムでは、マスクステージに対してマスクを確実に搬送するためにマスクの搬送不良を防止することが求められている。ここで、マスクの搬送不良とは、例えば、マスクの誤搬送、搬送システムの停滞・停止、マスク・マスクケース・マスク搬送システム等の破損などが含まれる。   In the mask transport system including the mask transport apparatus, the mask loader system, and the mask library as described above in the exposure apparatus, it is required to prevent a defective transport of the mask in order to transport the mask reliably to the mask stage. . Here, the defective conveyance of the mask includes, for example, erroneous conveyance of the mask, stagnation / stop of the conveyance system, breakage of the mask / mask case / mask conveyance system, and the like.

第１の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、その第２ケース部は、その第１ケース部から取り外されてその保管装置に保持されるときに用いられる保持部を有し、その保持部は、その第１ケース部に装着されたその第２ケース部がその保管装置に保管される第１位置にあるときに、光が通過する第１の光通過部と、その第１ケース部から取り外されたその第２ケース部のその保持部がその保管装置に保持される第２位置にあるときに、その光が通過する、その第１の光通過部とは異なる第２の光通過部と、を備えるマスクケースが提供される。   According to the first aspect, the first case portion having a bottom surface on which the support portion for supporting the mask is provided, and the first case portion having a top surface provided so as to be detachable from the first case portion and opposed to the bottom surface. A mask case that can be stored in a storage device, and the second case portion is a holding portion that is used when the second case portion is removed from the first case portion and held in the storage device. The holding part has a first light passage part through which light passes when the second case part attached to the first case part is in a first position stored in the storage device; When the holding part of the second case part removed from the first case part is in the second position held by the storage device, the light passes therethrough and is different from the first light passing part. A mask case comprising: a second light passage portion; That.

第２の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、その第２ケース部は、その第１ケース部から取り外されて保持されるときに用いられる保持部を備え、その保持部は、その第１ケース部から取り外されたその第２ケース部がその保管装置で支持されるときに、その保管装置に設けられたピン部に嵌合するための開口部を有するマスクケースが提供される。   According to the second aspect, the first case portion having a bottom surface on which the support portion for supporting the mask is provided, and the first case portion having a top surface provided so as to be detachable from the first case portion and opposed to the bottom surface. A mask case that can be stored in a storage device, and the second case portion includes a holding portion that is used when being removed and held from the first case portion. A mask case having an opening for fitting into a pin portion provided in the storage device when the second case portion removed from the first case portion is supported by the storage device; Provided.

第３の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、で構成されるマスクケースであって、その第１ケース部は、その底面においてその支持部に対向する位置に、外部からの光を通過させる光通過部を有し、その第２ケース部は、その第１ケース部のその光通過部に対向する位置に、その光通過部から入射する光をその光通過部に向けて反射する反射部を有するマスクケースが提供される。
別の態様によれば、マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、その底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、で構成されるマスクケースであって、その第１ケース部は、その底面においてその支持部に対向する位置に設けられ、外部からの光を通過させる光通過部と、その光通過部と重ならない位置に設けられ、外部からの光を反射する反射部材と、を有するマスクケースが提供される。
第４の態様によれば、パターンが形成されたマスクが収納されるマスクケースであって、そのマスクを支持する下ケース部と、その下ケース部に支持されたそのマスクを覆うように、その下ケース部に載置される上ケース部と、を備え、その上ケース部は、マスクケース用の支持部でその上ケース部を支持するための鍔部を有し、その鍔部に、その上ケース部の位置を検出するための光ビームが通過可能な開口が設けられたマスクケースが提供される。 According to the third aspect, the first case portion having a bottom surface on which the support portion for supporting the mask is provided, and the first case portion detachably provided on the first case portion and having an upper surface disposed opposite to the bottom surface. The first case part has a light passage part for allowing light from the outside to pass through at a position facing the support part on the bottom surface thereof, and the first case part has a first case part . The two case portions are provided with a mask case having a reflection portion that reflects light incident from the light passage portion toward the light passage portion at a position facing the light passage portion of the first case portion .
According to another aspect, the 1st case part which has a bottom face in which the support part which supports a mask is provided, and the 2nd which has the upper surface which is provided so that attachment or detachment to the 1st case part and is arranged opposite to the bottom face. A mask case configured by a case portion, the first case portion being provided at a position facing the support portion on the bottom surface thereof, a light passage portion for allowing light from the outside to pass through, and the light passage thereof There is provided a mask case having a reflecting member that is provided at a position that does not overlap the portion and reflects light from the outside.
According to the fourth aspect, there is provided a mask case for storing a mask on which a pattern is formed, the lower case part supporting the mask, and the mask supported by the lower case part so as to cover the mask. An upper case portion placed on the lower case portion, and the upper case portion has a collar portion for supporting the upper case portion with a support portion for a mask case, A mask case provided with an opening through which a light beam for detecting the position of the upper case portion can be provided.

第５の態様によれば、パターンが形成されたマスクが収納されるマスクケースであって、そのマスクを支持する下ケース部と、その下ケース部に支持されたそのマスクを覆うように、その下ケース部に載置される上ケース部と、を備え、その下ケース部の底面に、外部からの光を反射する第１反射部、及び外部からの光を通過させる窓部が設けられたマスクケースが提供される。
第６の態様によれば、パターンが形成されたマスクが収納されるマスクケースであって、そのマスクを支持する下ケース部と、その下ケース部に支持されたそのマスクを覆うように、その下ケース部に載置される上ケース部と、を備え、その下ケース部のそのマスクケースの搬送部に対向する底面に、回転対称な第１の凹部、Ｖ字型の溝状の第２の凹部、及び少なくとも１箇所の平坦部が設けられたマスクケースが提供される。According to the fifth aspect, there is provided a mask case for storing a mask on which a pattern is formed, the lower case part supporting the mask, and the mask supported by the lower case part so as to cover the mask. An upper case portion placed on the lower case portion, and a bottom surface of the lower case portion provided with a first reflecting portion for reflecting light from the outside and a window portion for allowing light from the outside to pass through A mask case is provided.
According to the sixth aspect, there is provided a mask case for storing a mask on which a pattern is formed, the lower case part supporting the mask, and the mask supported by the lower case part so as to cover the mask. An upper case portion placed on the lower case portion, and a bottom surface of the lower case portion facing the transfer portion of the mask case has a first rotationally symmetric recess and a V-shaped groove-like second portion. And a mask case provided with at least one flat portion.

第７の態様によれば、パターンが形成されたマスクを収納し、そのマスクを搬送するための搬送装置に収容されるマスクケースであって、そのマスクを支持する支持部を含む第１ケース部と、その第１ケース部上に載置され、そのマスクを収納するための空間をその第１ケース部と共に形成する第２ケース部と、を備え、その第２ケース部は、その支持部に支持されたそのマスクの上面に対向する天板部およびその天板部に対して外側に突き出した鍔部を含み、その鍔部は、その搬送装置の収容部に対するその第２ケース部の収容状態を検知するためにその鍔部を貫通した貫通部が設けられたマスクケースが提供される。   According to the seventh aspect, the mask case is stored in the transport device for storing the mask on which the pattern is formed and transports the mask, and includes the support portion that supports the mask. And a second case part that is placed on the first case part and forms a space for accommodating the mask together with the first case part, and the second case part is provided on the support part. A top plate portion that opposes the upper surface of the supported mask, and a collar portion protruding outward from the top plate portion, the collar portion being in the accommodation state of the second case portion with respect to the accommodation portion of the transport device In order to detect this, a mask case provided with a penetrating portion penetrating the collar portion is provided.

第８の態様によれば、マスクケースを保管する保管装置において、第１の態様のマスクケースのその保持部を介してそのマスクケースを支持可能な支持部と、その支持部に向けて光ビームを照射する照射部と、その支持部に向けて照射されたその光ビームを検出する検出部と、を備える保管装置が提供される。
第９の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送装置であって、第８の態様の保管装置にそのマスクケースを搬送する搬送アームを備え、その搬送アームは、そのマスクケースを保持してからそのマスクケースがその保管装置のその支持部に支持されるまでの間にその検出部で検出されたその光ビームの検出結果に基づいて、そのマスクケースがその支持部で支持される位置を制御する搬送装置が提供される。According to the eighth aspect, in the storage device for storing the mask case, the support part capable of supporting the mask case via the holding part of the mask case of the first aspect, and the light beam toward the support part A storage device is provided that includes an irradiation unit that irradiates and a detection unit that detects the light beam irradiated toward the support unit.
According to the ninth aspect, there is provided a transfer device for transferring the mask case, the transfer device including the transfer arm for transferring the mask case to the storage device of the eighth aspect, wherein the transfer arm holds the mask case. The position at which the mask case is supported by the support unit is determined based on the detection result of the light beam detected by the detection unit until the mask case is supported by the support unit of the storage device. A transport device for control is provided.

第１０の態様によれば、マスクケースを保管する保管装置であって、第２の態様のマスクケースの保持部を支持可能なケース支持部を備え、そのケース支持部に、その保持部に設けられたその開口部と係合可能なピン部を有する保管装置が提供される。
第１１の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送装置において、第３の態様のマスクケースを支持するケース支持部と、そのマスクケースに向けて光ビームを照射する照射部と、そのマスクケースに向けて照射されたその光ビームを検出する検出部と、を備える搬送装置が提供される。According to a tenth aspect, there is provided a storage device for storing a mask case, comprising: a case support part capable of supporting the mask case holding part of the second aspect; provided in the case support part at the holding part A storage device is provided having a pin portion engageable with the formed opening.
According to the eleventh aspect, in the transport apparatus that transports the mask case, the case support part that supports the mask case of the third aspect, the irradiation part that irradiates the mask case with the light beam, and the mask case And a detection unit that detects the light beam irradiated toward the surface.

第１２の態様によれば、マスクケースを保管する保管装置、又はマスクケースを搬送する搬送装置において、上述の態様のマスクケースを支持するケース支持部を備える保管装置、又は搬送装置が提供される。
第１３の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送装置であって、上述の態様のマスクケースから第２ケース部を取り出して、そのマスクが載置されたその第１ケース部を搬送する搬送アームを備える搬送装置が提供される。According to the twelfth aspect, in the storage apparatus that stores the mask case or the transfer apparatus that transfers the mask case, the storage apparatus or the transfer apparatus that includes the case support portion that supports the mask case of the above-described aspect is provided. .
According to the thirteenth aspect, there is a transport apparatus for transporting the mask case, wherein the second case part is taken out from the mask case of the above-described aspect, and transports the first case part on which the mask is placed. A transport device comprising an arm is provided.

第１４の態様によれば、基板を露光する露光装置において、上述の態様のマスクケースに収納されたマスクを用いて、その基板を露光する露光装置が提供される。
第１５の態様によれば、基板を露光する露光装置において、上述の態様の保管装置、又は上述の態様の搬送装置を備え、その保管装置に保管可能なマスクケース、又はその搬送装置によって搬送されたマスクケースの内部に収納されたマスクを用いて、その基板を露光する露光装置が提供される。According to the fourteenth aspect, there is provided an exposure apparatus that exposes a substrate using the mask accommodated in the mask case according to the aspect described above.
According to the fifteenth aspect, an exposure apparatus that exposes a substrate includes the storage apparatus according to the aspect described above or the transport apparatus according to the aspect described above, and is transported by the mask case that can be stored in the storage apparatus, or the transport apparatus. There is provided an exposure apparatus that exposes a substrate using a mask housed in the mask case.

第１６の態様によれば、上述の態様の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、その露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
第１７の態様によれば、マスクケースを保管する保管方法において、上述の態様のマスクケースのその保持部を介してそのマスクケースを支持することと、その支持部に向けて光ビームを照射することと、その支持部に向けて照射されたその光ビームを検出することと、を含む保管方法が提供される。According to a sixteenth aspect, there is provided a device manufacturing method including exposing a photosensitive substrate using the exposure apparatus of the above-described aspect and processing the exposed photosensitive substrate.
According to the seventeenth aspect, in the storage method for storing the mask case, the mask case is supported via the holding part of the mask case of the above-described aspect, and the light beam is irradiated toward the support part. And a method of storage including detecting the light beam directed toward the support.

第１８の態様によれば、マスクケースを搬送する搬送方法において、マスクが収納された上述の態様のマスクケースを支持することと、そのマスクケースの第１ケース部に光を照射し、その第１ケース部に照射されたその光を検出することと、その第１ケース部に設けられる光通過部を介してその第１ケース部に載置されたそのマスクにその光を照射し、そのマスクからの反射光をその光通過部を介して検出することと、を含む搬送方法が提供される。   According to the eighteenth aspect, in the transport method for transporting the mask case, the mask case of the above-described aspect in which the mask is stored is supported, the first case portion of the mask case is irradiated with light, and the first Detecting the light applied to one case part, irradiating the mask placed on the first case part via the light passing part provided in the first case part, and the mask Detecting the reflected light from the light through its light passage.

実施形態の一例に係る露光装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the exposure apparatus which concerns on an example of embodiment. （Ａ）は図１中のマスクケースを上面側から見た斜視図、（Ｂ）はそのマスクケースを底面側から見た斜視図である。(A) is the perspective view which looked at the mask case in FIG. 1 from the upper surface side, (B) is the perspective view which looked at the mask case from the bottom surface side. （Ａ）は図１中のマスクケースを示す平面図、（Ｂ）はそのマスクケースを示す底面図、（Ｃ）は図３（Ｂ）のＣＣ線に沿う部分断面図である。(A) is a plan view showing the mask case in FIG. 1, (B) is a bottom view showing the mask case, and (C) is a partial sectional view taken along the line CC of FIG. 3 (B). 図１中のマスクケースの下ケース部から上ケース部を外した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which removed the upper case part from the lower case part of the mask case in FIG. （Ａ）はマスクの搬送車を示す平面図、（Ｂ）は搬送車を示す側面図である。(A) is a top view which shows the conveyance vehicle of a mask, (B) is a side view which shows a conveyance vehicle. （Ａ）はマスクの搬送装置を示す一部を省略した平面図、（Ｂ）は搬送装置を示す側面図である。(A) is the top view which abbreviate | omitted the part which shows the conveying apparatus of a mask, (B) is a side view which shows a conveying apparatus. マスク及びマスクケースの検出装置を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the detection apparatus of a mask and a mask case. マスクライブラリを示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mask library. マスクライブラリを示す正面図である。It is a front view which shows a mask library. 複数のマスクケースが搬入されたマスクライブラリを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mask library in which the several mask case was carried in. （Ａ）はマスクの搬送方法を含む露光方法の一例を示すフローチャート、（Ｂ）は搬送方法の第１変形例を示すフローチャート、（（Ｃ）は搬送方法の第２変形例を示すフローチャートである。(A) is a flowchart showing an example of an exposure method including a mask carrying method, (B) is a flowchart showing a first modified example of the carrying method, and ((C) is a flowchart showing a second modified example of the carrying method. . マスクライブラリ及びマスクケースを示す一部を断面で表した側面図である。It is the side view which represented a mask library and a part showing mask case in the section. マスクライブラリ及び分離されたマスクケースを示す一部を断面で表した側面図である。It is the side view which represented in part the cross section which shows a mask library and the separated mask case. 変形例のマスクケースを示す平面図である。It is a top view which shows the mask case of a modification. （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）はそれぞれ変形例のマスクケースをマスクライブラリに搬入する際の動作説明図である。(A), (B), (C), (D), and (E) are operation | movement explanatory drawings at the time of carrying the mask case of a modification into a mask library, respectively. （Ａ）はマスクケースを搬入する際の検出信号の一例を示す図、（Ｂ）はマスクケースの上ケース部を取り外す際の検出信号の一例を示す図である。(A) is a figure which shows an example of the detection signal at the time of carrying in a mask case, (B) is a figure which shows an example of the detection signal at the time of removing the upper case part of a mask case. （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）はそれぞれ変形例のマスクケースの上ケース部を取り外す際の動作説明図である。(A), (B), (C), (D), (E) is operation | movement explanatory drawing at the time of removing the upper case part of the mask case of a modification, respectively. （Ａ）は別の変形例のマスクケースを示す平面図、（Ｂ）は図１８（Ａ）中の鍔部を示す拡大図、（Ｃ）は鍔部の他の例を示す拡大図である。(A) is a top view which shows the mask case of another modification, (B) is an enlarged view which shows the collar part in FIG. 18 (A), (C) is an enlarged view which shows the other example of a collar part. . 電子デバイスの製造方法の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of an electronic device.

本発明の実施形態の一例につき図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの概略構成を示す。一例として、露光装置ＥＸ（投影露光装置）は、走査露光型であり、液晶表示素子又は有機ＥＬ(Electro-Luminescence)方式の表示素子等を製造するためのレジスト（感光剤）が塗布された平板状のプレートＰ（感光基板）に、マスクＭのパターンの像を露光する。なお、以下の説明において、水平面内で、後述のマスクライブラリＬＢからマスクＭが収納された後述のマスクケース３０を搬入又は搬出する方向に沿ってＹ軸を取り、その水平面内でＹ軸に直交する方向に沿ってＸ軸を取り、Ｘ軸及びＹ軸に垂直な方向（すなわち鉛直方向）に沿ってＺ軸を取っている。   An exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic configuration of an exposure apparatus EX according to the present embodiment. As an example, the exposure apparatus EX (projection exposure apparatus) is a scanning exposure type, and is a flat plate coated with a resist (photosensitive agent) for manufacturing a liquid crystal display element or an organic EL (Electro-Luminescence) type display element. An image of the pattern of the mask M is exposed on a plate-shaped plate P (photosensitive substrate). In the following description, in the horizontal plane, the Y axis is taken along the direction in which a later-described mask case 30 in which a mask M is stored from a later-described mask library LB is carried in or out, and is orthogonal to the Y axis in the horizontal plane. The X-axis is taken along the direction to be taken, and the Z-axis is taken along the direction perpendicular to the X-axis and the Y-axis (that is, the vertical direction).

露光装置ＥＸは、矩形の平板状のマスクＭのパターンをプレートＰに露光する露光部Ｓを備えている。なお、一例として、マスクＭのパターン面（下面）には、矩形の枠状のフレーム（不図示）を介して防塵用の薄膜（いわゆるペリクル）が張設されていてもよい。露光部Ｓは、マスクＭを保持して移動するマスクステージＭＳＴと、露光光でマスクＭを照明する照明系ＩＬと、マスクＭのパターンの像をプレートＰの表面に投影する投影光学系ＰＬと、プレートＰを保持して移動するプレートステージＰＳＴとを有する。さらに、露光装置ＥＸは、それぞれマスクＭが収納された複数のマスクケース３０を保管可能な保管部としてのマスクライブラリＬＢと、マスクライブラリＬＢに対するマスクケース３０の搬入及び搬出等を行う搬送装置Ｈ１と、マスクケース３０から取り出したマスクＭを露光部ＳのマスクステージＭＳＴに搬送するマスクローダ系Ｈ２と、装置全体の動作を制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。なお、露光部Ｓ、マスクライブラリＬＢ、搬送装置Ｈ１、及びマスクローダ系Ｈ２は、所定環境に設定された露光チャンバＣＨ内部に収容されている。   The exposure apparatus EX includes an exposure unit S that exposes a pattern of a rectangular flat mask M onto the plate P. As an example, a dust-proof thin film (so-called pellicle) may be stretched on the pattern surface (lower surface) of the mask M via a rectangular frame-shaped frame (not shown). The exposure unit S includes a mask stage MST that holds and moves the mask M, an illumination system IL that illuminates the mask M with exposure light, and a projection optical system PL that projects an image of the pattern of the mask M onto the surface of the plate P. And a plate stage PST that holds and moves the plate P. Further, the exposure apparatus EX includes a mask library LB as a storage unit capable of storing a plurality of mask cases 30 each storing a mask M, and a transport apparatus H1 that carries the mask case 30 into and out of the mask library LB. And a mask loader system H2 for transporting the mask M taken out from the mask case 30 to the mask stage MST of the exposure unit S, and a control device CONT for controlling the operation of the entire apparatus. The exposure unit S, the mask library LB, the transfer device H1, and the mask loader system H2 are accommodated in the exposure chamber CH set in a predetermined environment.

マスクライブラリＬＢは、露光チャンバＣＨの＋Ｙ方向の側面に設けられたマスクケース３０の搬出入口（不図示）の近傍に設けられ、マスクケース３０を収容する複数の収容部６５及びマスクケース３０を一時的に収容する一時収容部６６を有する。複数の収容部６５はＺ方向に配列され、収容部６５に収容される各マスクケース３０にはそれぞれ１枚のマスクＭが個別に収納される。複数のマスクケース３０内のマスクＭには、通常は互いに異なるマスクパターンが形成されている。   The mask library LB is provided in the vicinity of the carry-in / out port (not shown) of the mask case 30 provided on the side surface in the + Y direction of the exposure chamber CH, and temporarily stores the plurality of storage portions 65 for storing the mask case 30 and the mask case 30. Temporary storage portion 66 is provided for the purpose of storage. The plurality of accommodating portions 65 are arranged in the Z direction, and one mask M is individually accommodated in each mask case 30 accommodated in the accommodating portion 65. Different mask patterns are usually formed on the masks M in the plurality of mask cases 30.

一例として、マスクライブラリＬＢ内にあるマスクＭとは別の多くのマスクＭが、それぞれマスクケース３０に収納された状態で、露光チャンバＣＨの外部のマスクストッカ（不図示）に保管されている。そして、露光装置ＥＸで必要になったマスクＭが収納されたマスクケース３０が、そのマスクストッカから搬送車Ｖによって露光チャンバＣＨの搬出入口（不図示）を通してマスクライブラリＬＢの一時収容部６６に搬入される。一時収容部６６に搬入されたマスクケース３０は、搬送装置Ｈ１によって収容部６５に移される。さらに、使用済みのマスクＭが収納されたマスクケース３０が、搬送装置Ｈ１によって収容部６５から一時収容部６６に移される。そのマスクケース３０は、搬送車Ｖによって一時収容部６６から露光チャンバＣＨの搬出入口（不図示）を通してマスクストッカ（不図示）に戻される。   As an example, many masks M different from the masks M in the mask library LB are stored in a mask stocker (not shown) outside the exposure chamber CH while being stored in the mask case 30, respectively. Then, the mask case 30 in which the mask M required by the exposure apparatus EX is accommodated is carried from the mask stocker by the transport vehicle V into the temporary accommodating portion 66 of the mask library LB through the entrance / exit (not shown) of the exposure chamber CH. Is done. The mask case 30 carried into the temporary storage unit 66 is moved to the storage unit 65 by the transfer device H1. Further, the mask case 30 in which the used mask M is stored is moved from the storage unit 65 to the temporary storage unit 66 by the transfer device H1. The mask case 30 is returned to the mask stocker (not shown) from the temporary storage portion 66 by the transport vehicle V through the carry-in / out port (not shown) of the exposure chamber CH.

図２（Ａ）は図１中のマスクケース３０を上面側から見た斜視図、図２（Ｂ）はマスクケースを底面側から見た斜視図、図３（Ａ）はマスクケース３０を示す平面図（上面図）、図３（Ｂ）はマスクケース３０を示す底面図である。なお、図２（Ａ）〜図３（Ｂ）における座標系（Ｘ，Ｙ，Ｚ）は、マスクケース３０が図１のマスクライブラリＬＢの収容部６５に収容されている状態での座標系を示している。   2A is a perspective view of the mask case 30 in FIG. 1 viewed from the top surface side, FIG. 2B is a perspective view of the mask case viewed from the bottom surface side, and FIG. 3A shows the mask case 30. A plan view (top view) and FIG. 3 (B) are bottom views showing the mask case 30. 2A to 3B is a coordinate system in a state where the mask case 30 is accommodated in the accommodating portion 65 of the mask library LB in FIG. Show.

マスクケース３０は、図２（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、マスクＭが載置される下ケース部（第１ケース部）３１Ａと、その下ケース部３１Ａに載置されたマスクＭを覆うように下ケース部３１Ａの上に載置（装着）される上ケース部（第２ケース部）３１Ｂとを備えている。すなわち、マスクケース３０は、下ケース部３１Ａと上ケース部３１Ｂとを互いに組み合わせてマスクＭを収納するための空間を形成している。下ケース部３１Ａと上ケース部３１Ｂとは、マスクＭを収納するための空間を覆う（囲む）ように組み合わされ、この空間に収納されたマスクＭを保護する。下ケース部３１Ａは、図２（Ｂ）及び図３（Ｂ）に示すように、マスクＭよりも大きい矩形の平板状のベース部材３２、及びベース部材３２の−Ｙ方向の上端部にボルト（不図示）を介して固定された平板状の側壁部材３３を有する。上ケース部３１Ｂは、図２（Ａ）及び図３（Ａ）に示すように、ベース部材３２とほぼ同じ大きさの矩形の平板部（天板部）３９ａの−Ｘ方向、＋Ｘ方向及び＋Ｙ方向の端部の下側にそれぞれ平板状の側壁部３９ｂ，３９ｃ，３９ｄを設けた形状のカバー部材３９、並びにカバー部材３９の−Ｘ方向及び＋Ｘ方向の側面の中央部に、それぞれ外側に突き出るように固定されたＹ方向に細長い鍔部４１Ａ，４１Ｂを有する。一例として、マスクケース３０（ケース部３１Ａ，３１Ｂ）の上面の外形は、Ｙ方向の長さがＸ方向の幅よりも長いほぼ長方形状である。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the mask case 30 includes a lower case portion (first case portion) 31A on which the mask M is placed, and a mask M placed on the lower case portion 31A. And an upper case part (second case part) 31B placed (mounted) on the lower case part 31A. That is, the mask case 30 forms a space for storing the mask M by combining the lower case portion 31A and the upper case portion 31B. The lower case portion 31A and the upper case portion 31B are combined so as to cover (enclose) a space for storing the mask M, and protect the mask M stored in this space. As shown in FIGS. 2B and 3B, the lower case portion 31 </ b> A has a rectangular flat base member 32 larger than the mask M, and a bolt ( It has a flat plate-like side wall member 33 fixed via a not-shown). As shown in FIGS. 2A and 3A, the upper case portion 31B has a rectangular flat plate portion (top plate portion) 39a having approximately the same size as the base member 32, and the −X direction, the + X direction, and the + Y direction. The cover member 39 has a shape in which flat side wall portions 39b, 39c, and 39d are provided on the lower side of the end portion in the direction, and the center portion of the side surface in the −X direction and the + X direction of the cover member 39 respectively protrudes outward. Thus, it has the elongate collar parts 41A and 41B in the Y direction fixed. As an example, the outer shape of the upper surface of the mask case 30 (case portions 31A and 31B) is substantially rectangular in which the length in the Y direction is longer than the width in the X direction.

下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂを構成する部材は、一例としてそれぞれアルミニウム又はステンレス等の金属から形成することができるが、金属に限定されず、プラスチックや炭素繊維を用いた複合材料等で形成してもよい。また、下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂの一部に形成される開口（詳細後述）に合成樹脂又は石英ガラス等から形成される窓部を装着する（埋め込む）ようにしてもよい。   The members constituting the lower case portion 31A and the upper case portion 31B can be formed from a metal such as aluminum or stainless steel as an example, but are not limited to metals, and are formed from a composite material using plastic or carbon fiber, etc. May be. Further, a window formed of synthetic resin, quartz glass, or the like may be mounted (embedded) in an opening (detailed later) formed in a part of the lower case portion 31A and the upper case portion 31B.

ベース部材３２は、矩形の平板部３２ａのＸ方向の両側面に、それぞれ平板部３２ａよりもわずかに−Ｙ方向に突き出るとともに、底面にＹ方向に沿って溝部３２ｂ１が形成された２つの細長い平板部３２ｂを固定したものである。平板部３２ｂの溝部３２ｂ１の２箇所にそれぞれボルトＢ４を介して短いロッド状の脚部３５が固定され、平板部３２ａの底面の中央の２箇所にもそれぞれボルトＢ４を介して脚部３５が固定されている。なお、平板部３２ａに固定された脚部３５は省略することが可能である。平板部３２ａの−Ｙ方向の側面（側壁部材３３の底面）の２箇所に、断面形状がＬ字型の連結部３８Ａ，３８Ｂがボルト（不図示）によって固定され、連結部３８Ａ，３８Ｂの−Ｙ方向に突き出した部分にそれぞれ円形の開口３８Ａａ，３８Ｂａ（詳細後述）が形成されている。   The base member 32 protrudes in the −Y direction slightly from the flat plate portion 32a on both side surfaces in the X direction of the rectangular flat plate portion 32a, and two elongated flat plates having a groove portion 32b1 formed along the Y direction on the bottom surface. The part 32b is fixed. A short rod-like leg 35 is fixed to two locations of the groove 32b1 of the flat plate portion 32b via bolts B4, and the leg 35 is fixed to two locations at the center of the bottom surface of the flat plate portion 32a via bolts B4. Has been. The leg portion 35 fixed to the flat plate portion 32a can be omitted. The connecting portions 38A and 38B having an L-shaped cross section are fixed by bolts (not shown) at two locations on the side surface in the −Y direction of the flat plate portion 32a (the bottom surface of the side wall member 33). Circular openings 38 </ b> Aa and 38 </ b> Ba (details will be described later) are formed in portions protruding in the Y direction.

鍔部４１Ａ，４１Ｂはそれぞれ断面形状がＬ字型で、Ｙ方向の長さがカバー部材３９の長さの１／２程度であり、鍔部４１Ａ，４１Ｂのうち側壁部３９ｂ，３９ｃに対向する部分がそれぞれ複数箇所でボルトＢ５によってカバー部材３９の側壁部３９ｂ，３９ｃに固定されている。鍔部４１Ａ，４１Ｂの−Ｘ方向及び＋Ｘ方向に突き出た部分（以下、これらの部分を単に鍔部４１Ａ，４１Ｂという）の−Ｙ方向の端部に近い部分に、それぞれＹ方向に所定の幅の切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａが設けられ、鍔部４１Ａ，４１Ｂの＋Ｙ方向の端部に近い位置にそれぞれ所定の大きさの円形の開口（貫通孔）４１Ａｂ，４１Ｂｂが設けられている。さらに、一方（＋Ｘ方向側）の鍔部４１Ｂの切り欠き部４１Ｂａに近い位置に、Ｙ方向に沿って所定間隔で２つの互いに同じ大きさの円形の開口（貫通孔）４１Ｂｃ，４１Ｂｄが設けられている。具体的には、一例として、開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄは、Ｙ方向に互いに６０ｍｍ隔てた位置が開口（貫通）するように設けられている。また、一例として、４１Ｂｄの中心と、開口４１Ｂｂの中心とのＹ方向の間隔は５７０ｍｍである。なお、鍔部４１Ａ，４１Ｂは、上述した切り欠き部および各開口の配置をＹ方向に関して反転した構成にしてもよい。また、開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄは、互いに同じ大きさに限定されず異なる大きさであってもよく、円形状に限定されず他の形状であってもよい。例えば、開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄは、円形状に閉じた開口（孔）形状ではなく、鍔部４１Ｂの側面に繋がった切り欠き形状であってもよい。   Each of the flange portions 41A and 41B has an L-shaped cross section, and the length in the Y direction is about ½ of the length of the cover member 39. The flange portions 41A and 41B face the side wall portions 39b and 39c. The portions are fixed to the side wall portions 39b and 39c of the cover member 39 by bolts B5 at a plurality of locations. The portions protruding in the −X direction and the + X direction of the flange portions 41A and 41B (hereinafter, these portions are simply referred to as the flange portions 41A and 41B) are close to the ends in the −Y direction, and have predetermined widths in the Y direction. Notches 41Aa and 41Ba are provided, and circular openings (through holes) 41Ab and 41Bb having predetermined sizes are provided at positions close to the + Y-direction ends of the flanges 41A and 41B, respectively. Further, two circular openings (through holes) 41Bc and 41Bd having the same size are provided at predetermined intervals along the Y direction at a position close to the notch 41Ba of the collar portion 41B on one side (+ X direction side). ing. Specifically, as an example, the openings 41Bc and 41Bd are provided so that positions separated by 60 mm in the Y direction are opened (penetrated). As an example, the distance in the Y direction between the center of 41Bd and the center of the opening 41Bb is 570 mm. Note that the flange portions 41A and 41B may have a configuration in which the arrangement of the above-described notch portion and each opening is reversed with respect to the Y direction. Further, the openings 41Bc and 41Bd are not limited to the same size but may be different sizes, and are not limited to a circular shape, and may have other shapes. For example, the openings 41Bc and 41Bd may have a cutout shape connected to the side surface of the flange portion 41B instead of the circularly closed opening (hole) shape.

本実施形態のマスクケース３０において、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂを支持した状態で、下ケース部３１Ａを降下させることによって、上ケース部３１Ｂを下ケース部３１Ａから容易に分離することができる。逆に、その上ケース部３１Ｂが分離された状態から下ケース部３１Ａを上昇させることによって、下ケース部３１Ａ上に載置されたマスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを容易に装着することができる。   In the mask case 30 of the present embodiment, the upper case portion 31B is easily separated from the lower case portion 31A by lowering the lower case portion 31A while supporting the flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B. Can do. Conversely, by raising the lower case portion 31A from the state in which the upper case portion 31B is separated, the upper case portion 31B is placed on the lower case portion 31A so as to cover the mask M placed on the lower case portion 31A. Can be easily mounted.

図４は、下ケース部３１Ａから上ケース部３１Ｂを分離し、下ケース部３１ＡからマスクＭを持ち上げた状態のマスクケース３０を示す。図４において、下ケース部３１Ａの２つの細長い平板部３２ｂの上端部に、それぞれマスクＭを支持するための段差部３４Ｂａ，３４Ｃａが形成された支持部３４Ｂ，３４Ｃが固定され（一方の支持部３４Ｂは不図示）、支持部３４Ｂ，３４Ｃの間に段差部３４Ｂａ，３４Ｃａと同じ高さの小さい平板状の支持部３４Ａが固定されている。各１対の支持部３４Ｂ，３４Ｃの段差部３４Ｂａ，３４Ｃａ、及び１対の支持部３４Ａの上面にマスクＭのパターン面（下面）の周縁部を載置することによって、下ケース部３１ＡでマスクＭを支持することができる。マスクライブラリＬＢにマスクケース３０を収納した状態で、マスクＭのパターン面はほぼ水平面に平行である。   FIG. 4 shows the mask case 30 in a state where the upper case portion 31B is separated from the lower case portion 31A and the mask M is lifted from the lower case portion 31A. In FIG. 4, support portions 34B and 34C in which step portions 34Ba and 34Ca for supporting the mask M are respectively formed are fixed to the upper end portions of two elongated flat plate portions 32b of the lower case portion 31A (one support portion). 34B is not shown), and a flat plate-like support portion 34A having the same height as the step portions 34Ba and 34Ca is fixed between the support portions 34B and 34C. The lower case portion 31A masks the stepped portions 34Ba and 34Ca of the pair of support portions 34B and 34C and the peripheral portion of the pattern surface (lower surface) of the mask M on the upper surface of the pair of support portions 34A. M can be supported. With the mask case 30 stored in the mask library LB, the pattern surface of the mask M is substantially parallel to the horizontal plane.

また、カバー部材３９の平板部３９ａに設けられた４箇所の開口（例えばほぼ正方形の開口）に、それぞれ光（例えば可視光）を透過するマスク観察用の窓部３９ｅが装着され、平板部３９ａの＋Ｘ方向の端部に設けられた開口（例えば細長い矩形開口）に、光（例えば可視光）を透過するバーコード観察用の窓部３９ｆが装着されている。さらに、ベース部材３２の平板部３２ａの−Ｘ方向の端部かつ−Ｙ方向の端部に設けられた開口（例えばほぼ正方形の開口）に、光（例えば可視光）を透過する内部観察用の窓部３２ａ１が装着されている。下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを装着した状態で、オペレータは、窓部３９ｅを通して内部のマスクＭの状態（マスクＭの有無を含む）を観察できるとともに、オペレータ又は所定の検出装置は、窓部３９ｆを通して内部のマスクＭに形成されたバーコード（不図示）を読み取ることができる。なお、窓部３９ｅ，３９ｆ，３２ａ１には、光の透過性を有し発塵が少ない材料として合成樹脂、ガラス（例えば石英ガラス）等を用いることができる。   In addition, mask observation windows 39e that transmit light (for example, visible light) are respectively attached to four openings (for example, substantially square openings) provided in the flat plate portion 39a of the cover member 39, and the flat plate portion 39a. A window portion 39f for observing a barcode that transmits light (for example, visible light) is attached to an opening (for example, an elongated rectangular opening) provided at an end portion in the + X direction. Furthermore, for the internal observation which transmits light (for example, visible light) to the opening (for example, substantially square opening) provided in the edge part of the flat plate part 32a of the base member 32 in the -X direction and the edge part in the -Y direction. A window portion 32a1 is attached. With the upper case portion 31B mounted on the lower case portion 31A, the operator can observe the state of the internal mask M (including the presence or absence of the mask M) through the window portion 39e. A bar code (not shown) formed on the internal mask M can be read through the portion 39f. For the windows 39e, 39f, and 32a1, synthetic resin, glass (eg, quartz glass), or the like can be used as a material that transmits light and generates little dust.

また、カバー部材３９の側壁部３９ｂ，３９ｃは、それぞれベース部材３２の細長い平板部３２ｂにおいて支持部３４Ｂ，３４Ｃの外側の領域に載置されるとともに、側壁部３９ｄは、ベース部材３２の＋Ｙ方向の端部の領域に載置される。さらに、カバー部材３９の平板部３９ａの−Ｙ方向の端部３９ｇは、下ケース部３１Ａの側壁部材３３を覆うことが可能な程度に、側壁部３９ｂ，３９ｃよりも−Ｙ方向に突き出ている。そして、支持部３４Ｂ，３４Ｃの高さは側壁部材３３の高さより低く設定され、側壁部３９ｂ〜３９ｄの高さは側壁部材３３の高さに対してわずかに高く設定されている。また、カバー部材３９の平板部３９ａの底面において、下ケース部３１Ａの支持部３４Ｂ，３４Ｃと側壁部材３３との間の領域に対向する位置にそれぞれ側壁部３９ｂ，３９ｃよりも低いロッド状の位置決め部４０Ａ，４０Ｂが設けられている。この構成によって、カバー部材３９の側壁部３９ｂ〜３９ｄをベース部材３２上の支持部３４Ａ〜３４Ｃの外側の領域に載置したときに、端部３９ｇが側壁部材３３を覆うようになるため、内部の気密性が高く維持されて、マスクケース３０の防塵性能が高くなる。さらに、位置決め部４０Ａ，４０Ｂがそれぞれ下ケース部３１Ａの一部と当接することで、振動等によって、上ケース部３１Ｂの位置が下ケース部３１Ａに対してＸ方向およびＹ方向にずれることが防止される。なお、位置決め部４０Ａ，４０Ｂは、上述のように平板部３９ａの底面の−Ｙ側の端部に設けるだけでなく、平板部３９ａの底面の＋Ｙ側の端部にも同様に設けてもよく、あるいは−Ｙ側に代えて＋Ｙ側の端部に設けてもよい。   Further, the side wall portions 39b and 39c of the cover member 39 are respectively placed on regions outside the support portions 34B and 34C in the elongated flat plate portion 32b of the base member 32, and the side wall portion 39d is arranged in the + Y direction of the base member 32. It is mounted in the area | region of the edge part. Furthermore, an end portion 39g in the −Y direction of the flat plate portion 39a of the cover member 39 protrudes in the −Y direction from the side wall portions 39b and 39c to such an extent that the side wall member 33 of the lower case portion 31A can be covered. . The heights of the support portions 34 </ b> B and 34 </ b> C are set lower than the height of the side wall member 33, and the heights of the side wall portions 39 b to 39 d are set slightly higher than the height of the side wall member 33. In addition, on the bottom surface of the flat plate portion 39a of the cover member 39, rod-shaped positioning lower than the side wall portions 39b and 39c at positions facing the regions between the support portions 34B and 34C of the lower case portion 31A and the side wall member 33, respectively. Portions 40A and 40B are provided. With this configuration, when the side wall portions 39b to 39d of the cover member 39 are placed on the region outside the support portions 34A to 34C on the base member 32, the end portion 39g covers the side wall member 33. Is kept high, and the dustproof performance of the mask case 30 is enhanced. Further, the positioning portions 40A and 40B are in contact with a part of the lower case portion 31A, respectively, thereby preventing the position of the upper case portion 31B from shifting in the X direction and the Y direction with respect to the lower case portion 31A due to vibration or the like. Is done. The positioning portions 40A and 40B may be provided not only at the −Y side end of the bottom surface of the flat plate portion 39a as described above, but also at the + Y side end portion of the bottom surface of the flat plate portion 39a. Alternatively, it may be provided at the end of the + Y side instead of the -Y side.

また、図２（Ｂ）及び図３（Ｂ）に示すように、ベース部材３２の平板部３２ａの底面に、Ｘ方向（ここではマスクケース３０の幅方向又は短辺方向）に沿って所定間隔で、第１の位置決め部３６Ａ、及び第２の位置決め部３６Ｂが固定されている。第１の位置決め部３６Ａは、その中央部に回転対称な形状の凹部３６Ａａが形成され、第２の位置決め部３６Ｂは、その中央部にＶ字型の溝状の凹部３６Ｂａ（線対称な凹部）がＸ方向に沿って形成されている。また、平板部３２ａの底面の位置決め部３６Ａ，３６Ｂから＋Ｙ方向及び−Ｙ方向にそれぞれ所定間隔離れた位置ＰＳ２，ＰＳ１及びＰＳ４，ＰＳ３に、平坦な表面（以下、平坦面という）３６Ｃａを有する４個の位置決め部３６Ｃが固定されている。一例として、図３（Ｃ）に示すように、位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａは円錐面状である。ただし、凹部３６Ａａは球面状等でもよい。また、位置決め部３６Ａ（他の位置決め部３６Ｂ，３６Ｃも同様）は、例えばそれぞれ複数のボルトＢ４を用いて平板部３２ａの底面に固定されている。   Further, as shown in FIGS. 2B and 3B, a predetermined distance is provided on the bottom surface of the flat plate portion 32a of the base member 32 along the X direction (here, the width direction or the short side direction of the mask case 30). Thus, the first positioning portion 36A and the second positioning portion 36B are fixed. The first positioning portion 36A is formed with a rotationally symmetrical recess 36Aa at the center thereof, and the second positioning portion 36B is formed with a V-shaped groove-like recess 36Ba (axisymmetric recess) at the center thereof. Are formed along the X direction. Further, a flat surface (hereinafter referred to as a flat surface) 36Ca is provided at positions PS2, PS1, PS4, and PS3 that are spaced apart from each other by a predetermined distance in the + Y direction and the −Y direction from the positioning portions 36A and 36B on the bottom surface of the flat plate portion 32a. The positioning portions 36C are fixed. As an example, as shown in FIG. 3C, the recess 36Aa of the positioning portion 36A has a conical surface shape. However, the concave portion 36Aa may be spherical. Further, the positioning portion 36A (the same applies to the other positioning portions 36B and 36C) is fixed to the bottom surface of the flat plate portion 32a using, for example, a plurality of bolts B4.

また、図３（Ｂ）において、マスクＭを収容した状態のマスクケース３０の重心位置は、位置決め部３６Ａ，３６Ｂの中心を結ぶ直線と、＋Ｙ方向側の２つの位置決め部３６Ｃの中心を結ぶ直線との中間付近で、かつベース部材３２のＸ方向の中心付近を通り、Ｚ軸に平行な直線上に位置している。このため、後述のように、位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び位置ＰＳ１（又はＰＳ２）にある位置決め部３６Ｃの平坦面３６Ｃａをそれぞれ対応するボールトランスファ５４Ａ〜５４Ｃ（図５（Ａ）参照）等の球面で支持することによって、マスクケース３０を安定に支持できる。なお、これらの場合でも、振動等でマスクケース３０が傾斜する場合を考慮して、他の位置ＰＳ３，ＰＳ４の位置決め部３６Ｃにも対向するように所定間隔を隔ててボールトランスファの支持部材を配置してもよい。   3B, the center of gravity of the mask case 30 in the state where the mask M is accommodated is a straight line connecting the centers of the positioning portions 36A and 36B and a straight line connecting the centers of the two positioning portions 36C on the + Y direction side. Near the center of the base member 32 and near the center of the base member 32 in the X direction. Therefore, as will be described later, the ball transfers 54A to 54C corresponding to the recesses 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B and the flat surface 36Ca of the positioning portion 36C at the position PS1 (or PS2), respectively (see FIG. 5A). ) Etc., the mask case 30 can be stably supported. Even in these cases, in consideration of the case where the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the ball transfer support members are arranged at predetermined intervals so as to face the positioning portions 36C of the other positions PS3 and PS4. May be.

また、図２（Ｂ）に示すように、ベース部材３２の平板部３２ａの窓部３２ａ１の近くに、下ケース部３１Ａの有無を検出するための光ビームを反射する反射部３７Ａが設けられている。一例として反射部３７Ａは再帰性反射部材であり、反射部３７Ａに入射した光ビームは入射した方向に反射される。このため、下ケース部３１Ａが傾斜していても、検出部（不図示）によって下ケース部３１Ａの有無を正確に検出できる。   As shown in FIG. 2B, a reflection portion 37A that reflects a light beam for detecting the presence or absence of the lower case portion 31A is provided near the window portion 32a1 of the flat plate portion 32a of the base member 32. Yes. As an example, the reflection part 37A is a retroreflective member, and the light beam incident on the reflection part 37A is reflected in the incident direction. For this reason, even if the lower case portion 31A is inclined, the presence or absence of the lower case portion 31A can be accurately detected by the detection unit (not shown).

さらに、図２（Ｂ）のマスクケース３０の窓部３２ａ１を含む部分の断面図である図７に示すように、カバー部材３９の平板部３９ａの内面のうち窓部３２ａ１に対向する位置に、上ケース部３１Ｂの有無を検出するための光ビームＬＢ４を反射する反射部３７Ｂが設けられている。一例として反射部３７Ｂの表面には例えばマスクケース３０の幅方向を偏光方向とする偏光板（不図示）が固定されており、反射部３７Ｂは偏光特性を有する。このため、マスクケース３０の外部から窓部３２ａ１を通して反射部３７Ｂに入射し、反射部３７Ｂで反射された光ビームＬＢ４のうち、その偏光方向に沿った偏光成分の光のみがその偏光板を透過して窓部３２ａ１を通して外部に射出される。そして、外部の検出部６３ｃではその偏光方向の偏光成分のみを検出することによって、他の外乱光に影響されることなく、上ケース部３１Ｂの内面で反射された光ビームのみを検出できるため、上ケース部３１Ｂの有無を正確に検出できる。   Furthermore, as shown in FIG. 7 which is a cross-sectional view of a portion including the window portion 32a1 of the mask case 30 in FIG. 2 (B), at a position facing the window portion 32a1 on the inner surface of the flat plate portion 39a of the cover member 39, A reflection portion 37B that reflects the light beam LB4 for detecting the presence or absence of the upper case portion 31B is provided. As an example, a polarizing plate (not shown) whose polarization direction is the width direction of the mask case 30, for example, is fixed on the surface of the reflection part 37B, and the reflection part 37B has polarization characteristics. For this reason, only the light of the polarization component along the polarization direction out of the light beam LB4 incident on the reflection portion 37B from the outside of the mask case 30 through the window portion 32a1 and reflected by the reflection portion 37B is transmitted through the polarizing plate. Then, it is injected to the outside through the window portion 32a1. Then, by detecting only the polarization component in the polarization direction in the external detection unit 63c, it is possible to detect only the light beam reflected by the inner surface of the upper case portion 31B without being affected by other disturbance light, The presence or absence of the upper case portion 31B can be accurately detected.

なお、反射部３７Ｂを偏光特性のない再帰性反射部材としてもよく、反射部３７Ａに再帰性のない偏光特性を持たせるようにしてもよい。又は、反射部３７Ａ，３７Ｂにそれぞれ再帰性及び偏光特性の両方を持たせるようにしてもよい。また、窓部３２ａ１は、マスクケース３０の外部からマスクＭの有無（又は検出部からマスクＭのパターン面Ｍａまでの距離）を検出するために照射される光ビームＬＢ３を通すためにも使用される。   Note that the reflection part 37B may be a retroreflective member having no polarization characteristic, or the reflection part 37A may have a polarization characteristic without recursion. Alternatively, each of the reflection portions 37A and 37B may have both recursion and polarization characteristics. The window portion 32a1 is also used to pass the light beam LB3 irradiated from the outside of the mask case 30 to detect the presence or absence of the mask M (or the distance from the detection portion to the pattern surface Ma of the mask M). The

次に、搬送車Ｖの構成につき、図５（Ａ）（平面図）及び図５（Ｂ）（側面図）を参照して説明する。搬送車Ｖは、マスクライブラリＬＢの一時収容部６６に対するマスクケース３０の搬送、及び一時収容部６６からのマスクケース３０の搬出を行う。図５（Ａ）及び（Ｂ）は、図１のマスクライブラリＬＢに対するマスクケース３０の搬入又は搬出を行うためにＹ方向に移動している搬送車Ｖを示す。搬送車Ｖは、本体部５５と、駆動機構（不図示）によって駆動されて本体部５５を移動させる複数の車輪５６と、本体部５５の前面に駆動機構（不図示）によってＺ方向に移動可能に支持されたマスクケース搬送部５３とを備えている。その駆動機構は、マスクケース搬送部５３に支持されたマスクケース３０のＺ方向の位置（Ｚ位置）を計測するエンコーダ（不図示）を有する。また、マスクケース搬送部５３のほぼ水平面に平行で長方形状の上面を有する平板部５３ａに、点線で示すように平板部５３ａの長手方向とマスクケース３０の長手方向とが平行になるように、マスクケース３０が載置される。図５（Ａ）及び（Ｂ）の状態では、平板部５３ａの長手方向はＹ方向であり、平板部５３ａのＸ方向の幅はマスクケース３０のベース部材３２の平板部３２ａの幅よりも狭く設定されている。なお、複数の車輪５６によって本体部５５の移動方向を制御することも可能であり、本体部５５には、マスクケース搬送部５３のＸ方向の位置を調整する機構（不図示）も設けられている。   Next, the configuration of the transport vehicle V will be described with reference to FIG. 5 (A) (plan view) and FIG. 5 (B) (side view). The transport vehicle V transports the mask case 30 to the temporary storage unit 66 of the mask library LB and carries the mask case 30 out of the temporary storage unit 66. FIGS. 5A and 5B show the transport vehicle V moving in the Y direction in order to carry in or out the mask case 30 with respect to the mask library LB of FIG. The transport vehicle V can be moved in the Z direction by a main body 55, a plurality of wheels 56 that are driven by a driving mechanism (not shown) to move the main body 55, and a driving mechanism (not shown) on the front surface of the main body 55. And a mask case transport section 53 supported by the head. The drive mechanism has an encoder (not shown) that measures the position in the Z direction (Z position) of the mask case 30 supported by the mask case transport unit 53. In addition, as shown by the dotted line, the longitudinal direction of the flat plate portion 53a and the longitudinal direction of the mask case 30 are parallel to the flat plate portion 53a having a rectangular upper surface substantially parallel to the horizontal plane of the mask case transporting portion 53. Mask case 30 is placed. 5A and 5B, the longitudinal direction of the flat plate portion 53a is the Y direction, and the width of the flat plate portion 53a in the X direction is smaller than the width of the flat plate portion 32a of the base member 32 of the mask case 30. Is set. The moving direction of the main body 55 can be controlled by a plurality of wheels 56, and the main body 55 is also provided with a mechanism (not shown) for adjusting the position of the mask case transporter 53 in the X direction. Yes.

また、平板部５３ａの上面に、図３（Ｂ）に示すマスクケース３０のベース部材３２の底面に設けられた位置決め部３６Ａ，３６Ｂ、及び位置ＰＳ１，ＰＳ２の位置決め部３６Ｃと同じ配置で、それぞれ表面に球面部５４Ａａ，５４Ｂａ，５４Ｃａ，５４Ｄａが設けられた支持部材であるボールトランスファ５４Ａ，５４Ｂ，５４Ｃ，５４Ｄがボルト（不図示）によって固定されている。さらに、図２（Ｂ）の位置決め部３６Ａ，３６Ｂに対する連結部３８Ａ，３８Ｂの開口３８Ａａ，３８Ｂａと同じ位置関係で、平板部５３ａの上面のボールトランスファ５４Ａ，５４Ｂから−Ｙ方向に離れた位置に、開口３８Ａａ，３８Ｂａよりも小さい直径のピン５７Ａａ，５７Ｂａを有する支持部５７Ａ，５７Ｂが固定されている。   Further, on the upper surface of the flat plate portion 53a, the positioning portions 36A and 36B provided on the bottom surface of the base member 32 of the mask case 30 shown in FIG. 3B and the positioning portions 36C at the positions PS1 and PS2, respectively, Ball transfers 54A, 54B, 54C, and 54D, which are support members having spherical portions 54Aa, 54Ba, 54Ca, and 54Da provided on the surface, are fixed by bolts (not shown). Further, in the same positional relationship as the openings 38Aa and 38Ba of the connecting portions 38A and 38B with respect to the positioning portions 36A and 36B in FIG. 2B, the upper surface of the flat plate portion 53a is away from the ball transfer 54A and 54B in the −Y direction. The support portions 57A and 57B having pins 57Aa and 57Ba having a smaller diameter than the openings 38Aa and 38Ba are fixed.

マスクケース３０をマスクケース搬送部５３に載置する際には、マスクケース３０の位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ、及び位置ＰＳ１の位置決め部３６Ｃの平坦部３６Ｃａがそれぞれボールトランスファ５４Ａ，５４Ｂ，５４Ｃの球面部５４Ａａ，５４Ｂａ，５４Ｃａに接触する。この状態で、マスクケース３０の平板部３２ａの底面がほぼ水平面に平行になるように、マスクケース搬送部５３のボールトランスファ５４Ａ〜５４Ｃの高さが個別に調整されている。この際に、マスクケース３０とマスクケース搬送部５３との間に、位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの半径程度までの位置ずれがあっても、マスクケース搬送部５３のボールトランスファ５４Ａの球面部の中心と位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの中心とが合致し、ボールトランスファ５４Ｂの球面部の中心のＹ方向の位置と位置決め部３６Ｂの凹部３６Ｂａの中心のＹ方向の位置とが合致するように、マスクケース３０の自重によってマスクケース３０の位置及び回転角が自動的に調整される。このため、マスクケース３０をマスクケース搬送部５３に載置する際の位置制御精度をあまり高くする必要がない。   When the mask case 30 is placed on the mask case transporting portion 53, the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B of the mask case 30 and the flat portion 36Ca of the positioning portion 36C of the position PS1 are respectively ball transfer 54A and 54B. , 54C are in contact with the spherical surface portions 54Aa, 54Ba, 54Ca. In this state, the heights of the ball transfers 54A to 54C of the mask case transport unit 53 are individually adjusted so that the bottom surface of the flat plate portion 32a of the mask case 30 is substantially parallel to the horizontal plane. At this time, even if there is a displacement between the mask case 30 and the mask case transporting portion 53 up to the radius of the recess 36Aa of the positioning portion 36A, the center of the spherical surface portion of the ball transfer 54A of the mask case transporting portion 53 is obtained. And the center of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A coincide with each other, and the Y-direction position of the center of the spherical surface portion of the ball transfer 54B matches the Y-direction position of the center of the concave portion 36Ba of the positioning portion 36B. The position and rotation angle of the mask case 30 are automatically adjusted by the weight of 30. For this reason, it is not necessary to make the position control accuracy very high when placing the mask case 30 on the mask case transporting portion 53.

さらに、位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔ててボールトランスファ５４Ｄの球面部５４Ｄａが位置するように、ボールトランスファ５４Ｄの高さが調整されている。なお、同様に、位置ＰＳ３．ＰＳ４の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔てて別のボールトランスファ（不図示）を平板部５３ａの上面に設けてもよい。
凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａをそれぞれボールトランスファ５４Ａ〜５４Ｃで支持することによって、マスクケース搬送部５３（搬送車Ｖ）に対するマスクケース３０のＸ方向及びＹ方向の位置、及びＺ軸に平行な軸の回り（以下、θｚ方向という）の回転角がそれぞれ目標値に自動的に設定され、この状態で搬送車Ｖによってマスクケース３０が安定に搬送される。また、他の位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃに近接してボールトランスファ５４Ｄが配置されているため、振動等でマスクケース３０が傾斜しても、位置決め部３６Ｃがボールトランスファ５４Ｄに接触することによって、その傾斜角がそれ以上大きくなることはない。さらに、この状態でマスクケース３０の連結部３８Ａ，３８Ｂの開口３８Ａａ，３８Ｂａにマスクケース搬送部５３のピン５７Ａａ，５７Ｂａが差し込まれるため、搬送中の振動等によってマスクケース３０の位置がずれることが確実に防止できる。なお、搬送中の振動が少ない場合等には、連結部３８Ａ，３８Ｂ及び支持部５７Ａ，５７Ｂを省略することも可能である。Further, the height of the ball transfer 54D is adjusted such that the spherical surface portion 54Da of the ball transfer 54D is positioned at a slight distance from the positioning portion 36C at the position PS2. Similarly, the position PS3. Another ball transfer (not shown) may be provided on the upper surface of the flat plate portion 53a with a slight gap from the positioning portion 36C of PS4.
By supporting the concave portions 36Aa, 36Ba and the flat portion 36Ca with ball transfer 54A to 54C, respectively, the position of the mask case 30 in the X direction and the Y direction with respect to the mask case transport portion 53 (the transport vehicle V), and parallel to the Z axis. The rotation angle around the axis (hereinafter referred to as the θz direction) is automatically set to the target value, and the mask case 30 is stably conveyed by the conveyance vehicle V in this state. In addition, since the ball transfer 54D is arranged close to the positioning portion 36C at the other position PS2, even if the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the positioning portion 36C comes into contact with the ball transfer 54D, so that The inclination angle does not increase any more. Further, in this state, since the pins 57Aa and 57Ba of the mask case transport section 53 are inserted into the openings 38Aa and 38Ba of the connecting portions 38A and 38B of the mask case 30, the position of the mask case 30 may be shifted due to vibration during transport. It can be surely prevented. In addition, when there are few vibrations during conveyance etc., it is also possible to abbreviate | omit connection part 38A, 38B and support part 57A, 57B.

また、露光チャンバＣＨの外部には、一例としてＹ方向に離れた２箇所で搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３の側面までの間隔を検出する非接触方式の間隔センサ（不図示）が設置されている。そして、マスクケース搬送部５３に載置されているマスクケース３０のＸ方向の位置及びθｚ方向の回転角が、それぞれマスクライブラリＬＢ内に収容されているときの目標値になるときにその２箇所の間隔センサで検出される間隔が、調整目標値として例えば制御装置ＣＯＮＴの記憶部に記憶されている。このため、その２箇所の間隔センサで検出される間隔が対応する調整目標値になるように搬送車ＶのＸ方向の位置及びθｚ方向の回転角を調整することによって、搬送車Ｖで支持されているマスクケース３０のＸ方向の位置及びθｚ方向の回転角をそれぞれ目標値に設定できる。さらに、搬送車Ｖで計測されるマスクケース３０のＺ位置と、マスクライブラリＬＢの一時収容部６６に収容されている状態のマスクケース３０のＺ位置の値（以下、設定値という）との関係は既知である。また、搬送車Ｖは、マスクケース搬送部５３に支持されたマスクケース３０のＹ方向の位置を計測するエンコーダ（不図示）を有する。このエンコーダで計測されるマスクケース３０のＹ方向の位置と、マスクライブラリＬＢ内の一時収容部６６でのＹ方向の目標位置との関係は既知である。   Further, as an example, a non-contact type distance sensor (not shown) that detects the distance to the side surface of the mask case transport unit 53 of the transport vehicle V is installed outside the exposure chamber CH at two locations separated in the Y direction. ing. Then, when the position in the X direction and the rotation angle in the θz direction of the mask case 30 placed on the mask case transport unit 53 become the target values when they are housed in the mask library LB, the two positions The interval detected by the interval sensor is stored as an adjustment target value, for example, in the storage unit of the control device CONT. For this reason, it is supported by the transport vehicle V by adjusting the position of the transport vehicle V in the X direction and the rotation angle in the θz direction so that the intervals detected by the two distance sensors become the corresponding adjustment target values. The position of the mask case 30 in the X direction and the rotation angle in the θz direction can be set as target values, respectively. Furthermore, the relationship between the Z position of the mask case 30 measured by the transport vehicle V and the value of the Z position of the mask case 30 in the state stored in the temporary storage unit 66 of the mask library LB (hereinafter referred to as a set value). Is known. The transport vehicle V includes an encoder (not shown) that measures the position of the mask case 30 supported by the mask case transport unit 53 in the Y direction. The relationship between the position in the Y direction of the mask case 30 measured by this encoder and the target position in the Y direction in the temporary storage unit 66 in the mask library LB is known.

そして、搬送車Ｖで支持されているマスクケース３０のＺ位置をその設定値よりも所定間隔だけ高く設定した状態で、搬送車Ｖを−Ｙ方向に移動して、マスクケース搬送部５３で支持されるマスクケース３０をマスクライブラリＬＢの一時収容部６６の上方に移動した後、マスクケース搬送部５３を降下させることで、マスクケース３０を一時収容部６６に受け渡すことができる。逆に、一時収容部６６に保持されているマスクケース３０の底面側にマスクケース搬送部５３を移動した後、マスクケース搬送部５３のＺ位置を高くすることによって、一時収容部６６からマスクケース搬送部５３（搬送車Ｖ）にマスクケース３０を受け渡すことができる。   Then, with the Z position of the mask case 30 supported by the transport vehicle V set higher than the set value by a predetermined interval, the transport vehicle V is moved in the −Y direction and supported by the mask case transport section 53. The mask case 30 can be transferred to the temporary storage unit 66 by moving the mask case 30 above the temporary storage unit 66 of the mask library LB and then lowering the mask case transport unit 53. Conversely, after the mask case transport unit 53 is moved to the bottom surface side of the mask case 30 held in the temporary storage unit 66, the mask case is removed from the temporary storage unit 66 by increasing the Z position of the mask case transport unit 53. The mask case 30 can be delivered to the transport unit 53 (the transport vehicle V).

次に、搬送装置Ｈ１の構成につき、図６（Ａ）（平面図）及び図６（Ｂ）（側面図）を参照して説明する。搬送装置Ｈ１は、マスクケース３０が載置されるマスクケース搬送部６１と、マスクケース搬送部６１の−Ｙ方向の端部を保持する保持部６４と、保持部６４を介してマスクケース搬送部６１をＹ方向に移動する水平駆動部６７と、水平駆動部６７を介してマスクケース搬送部６１をＺ方向に移動する昇降駆動部６８とを備えている。昇降駆動部６８は、マスクケース搬送部６１に支持されたマスクケース３０のＺ位置を計測するエンコーダ（不図示）を有する。このエンコーダで計測されるマスクケース３０のＺ位置と、マスクライブラリＬＢ内の各収容部６５及び一時収容部６６でのマスクケース３０のＺ位置の値（設定値）との関係は既知である。水平駆動部６７はマスクケース搬送部６１に支持されたマスクケース３０のＹ方向の位置を計測するエンコーダ（不図示）を有する。このエンコーダで計測されるマスクケース３０のＹ方向の位置と、マスクライブラリＬＢ内の各収容部６５でのＹ方向の目標位置との関係は既知である。   Next, the configuration of the transport device H1 will be described with reference to FIG. 6A (plan view) and FIG. 6B (side view). The transport apparatus H1 includes a mask case transport unit 61 on which the mask case 30 is placed, a holding unit 64 that holds an end of the mask case transport unit 61 in the -Y direction, and a mask case transport unit via the holding unit 64. The horizontal drive part 67 which moves 61 to a Y direction, and the raising / lowering drive part 68 which moves the mask case conveyance part 61 to a Z direction via the horizontal drive part 67 are provided. The elevating drive unit 68 has an encoder (not shown) that measures the Z position of the mask case 30 supported by the mask case transport unit 61. The relationship between the Z position of the mask case 30 measured by this encoder and the value (setting value) of the Z position of the mask case 30 in each storage unit 65 and temporary storage unit 66 in the mask library LB is known. The horizontal drive unit 67 has an encoder (not shown) that measures the position of the mask case 30 supported by the mask case transport unit 61 in the Y direction. The relationship between the position in the Y direction of the mask case 30 measured by this encoder and the target position in the Y direction in each storage unit 65 in the mask library LB is known.

ほぼ水平面に平行でＹ方向を長手方向とする長方形状の上面を有するマスクケース搬送部６１に、マスクケース搬送部６１の長手方向とマスクケース３０の長手方向とが平行になるように、マスクケース３０が載置される。マスクケース搬送部６１のＸ方向の幅はマスクケース３０のベース部材３２の平板部３２ａの幅よりも狭く設定されている。
また、マスクケース搬送部６１の上面に、図３（Ｂ）に示すマスクケース３０のベース部材３２の底面に設けられた位置決め部３６Ａ，３６Ｂ、及び位置ＰＳ１，ＰＳ２の位置決め部３６Ｃと同じ配置で、それぞれ表面に球面部６２Ａａ，６２Ｂａ，６２Ｃａ，６２Ｄａが設けられた支持部材であるボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃ，６２Ｄがボルト（不図示）によって固定されている。さらに、図２（Ｂ）の位置決め部３６Ｂに対する反射部３７Ａ及び窓部３２ａ１と同じ位置関係で、マスクケース搬送部６１の上面のボールトランスファ６２から−Ｙ方向に離れた位置に、マスクケース３０の検出装置６３が設けられている。The mask case is arranged so that the longitudinal direction of the mask case transport section 61 and the longitudinal direction of the mask case 30 are parallel to the mask case transport section 61 having a rectangular upper surface substantially parallel to the horizontal plane and having the Y direction as the longitudinal direction. 30 is placed. The width in the X direction of the mask case transport unit 61 is set to be narrower than the width of the flat plate portion 32 a of the base member 32 of the mask case 30.
In addition, the same arrangement as the positioning portions 36A and 36B and the positioning portions 36C of the positions PS1 and PS2 provided on the bottom surface of the base member 32 of the mask case 30 shown in FIG. The ball transfer 62A, 62B, 62C, 62D, which is a support member provided with spherical portions 62Aa, 62Ba, 62Ca, 62Da on the surface, is fixed by bolts (not shown). Further, the mask case 30 is located at a position away from the ball transfer 62 on the upper surface of the mask case transporting portion 61 in the −Y direction with the same positional relationship as the reflecting portion 37A and the window portion 32a1 with respect to the positioning portion 36B of FIG. A detection device 63 is provided.

マスクケース３０をマスクケース搬送部６１に載置する際には、マスクケース３０の位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ、及び位置ＰＳ１の位置決め部３６Ｃの平坦部３６Ｃａがそれぞれボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃの球面部６２Ａａ，６２Ｂａ，６２Ｃａに接触する。この状態で、マスクケース３０の平板部３２ａの底面がほぼ水平面に平行になるように、マスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ〜６２Ｃの高さが個別に調整されている。この際に、マスクケース３０とマスクケース搬送部６１との間に、位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの半径程度までの位置ずれがあっても、マスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａの球面部の中心と位置決め部３６Ａの凹部３６Ａａの中心とが合致し、ボールトランスファ６２Ｂの球面部の中心のＹ方向の位置と位置決め部３６Ｂの凹部３６Ｂａの中心のＹ方向の位置とが合致するように、マスクケース３０の自重によってマスクケース３０の位置及び回転角が自動的に調整される。このため、マスクケース３０をマスクケース搬送部６１に載置する際の位置制御精度をあまり高くする必要がなく、マスクライブラリＬＢの収容部６５又は一時収容部６６に収容されるマスクケース３０の位置精度をあまり高くする必要もない。   When the mask case 30 is placed on the mask case transporting portion 61, the concave portions 36Aa, 36Ba of the positioning portions 36A, 36B of the mask case 30 and the flat portion 36Ca of the positioning portion 36C of the position PS1 are respectively ball transfer 62A, 62B. , 62C are in contact with the spherical surface portions 62Aa, 62Ba, 62Ca. In this state, the heights of the ball transfers 62A to 62C of the mask case transport unit 61 are individually adjusted so that the bottom surface of the flat plate portion 32a of the mask case 30 is substantially parallel to the horizontal plane. At this time, even if there is a displacement between the mask case 30 and the mask case transporting portion 61 up to the radius of the recess 36Aa of the positioning portion 36A, the center of the spherical surface portion of the ball transfer 62A of the mask case transporting portion 61 is obtained. And the center of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A coincide with each other, and the Y-direction position of the center of the spherical portion of the ball transfer 62B matches the Y-direction position of the center of the concave portion 36Ba of the positioning portion 36B. The position and rotation angle of the mask case 30 are automatically adjusted by the weight of 30. For this reason, it is not necessary to increase the position control accuracy when placing the mask case 30 on the mask case transport unit 61, and the position of the mask case 30 stored in the storage unit 65 or the temporary storage unit 66 of the mask library LB. There is no need to increase the accuracy too much.

さらに、位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔ててボールトランスファ６２Ｄの球面部６２Ｄａが位置するように、ボールトランスファ６２Ｄの高さが調整されている。なお、同様に、位置ＰＳ３．ＰＳ４の位置決め部３６Ｃから僅かな間隔を隔てて別のボールトランスファ（不図示）をマスクケース搬送部６１の上面に設けてもよい。
凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａをそれぞれボールトランスファ６２Ａ〜６２Ｃで支持することによって、マスクケース搬送部６１（搬送装置Ｈ１）に対するマスクケース３０のＸ方向及びＹ方向の位置、及びθｚ方向の回転角がそれぞれ目標値に自動的に設定され、この状態でマスクケース搬送部６１によってマスクケース３０が安定に搬送される。また、他の位置ＰＳ２の位置決め部３６Ｃに近接してボールトランスファ６２Ｄが配置されているため、振動等でマスクケース３０が傾斜しても、位置決め部３６Ｃがボールトランスファ６２Ｄに接触することによって、その傾斜角がそれ以上大きくなることはない。さらに、この状態でマスクケース３０の反射部３７Ａ及び窓部３２ａ１が検出装置６３に対向している。Further, the height of the ball transfer 62D is adjusted so that the spherical surface portion 62Da of the ball transfer 62D is positioned at a slight distance from the positioning portion 36C at the position PS2. Similarly, the position PS3. Another ball transfer (not shown) may be provided on the upper surface of the mask case transport section 61 with a slight gap from the positioning section 36C of PS4.
By supporting the concave portions 36Aa, 36Ba and the flat portion 36Ca with ball transfer 62A to 62C, respectively, the position of the mask case 30 in the X direction and the Y direction with respect to the mask case transport unit 61 (transport device H1), and the rotation angle in the θz direction. Are automatically set to target values, and in this state, the mask case 30 is stably transported by the mask case transport section 61. In addition, since the ball transfer 62D is arranged close to the positioning portion 36C at the other position PS2, even if the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the positioning portion 36C comes into contact with the ball transfer 62D, so that The inclination angle does not increase any more. Further, in this state, the reflection portion 37 </ b> A and the window portion 32 a 1 of the mask case 30 face the detection device 63.

図７に示すように、検出装置６３は、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの再帰性の反射部３７Ａに光ビームＬＢ２を照射し、反射部３７Ａからの反射光の強度を検出する第１検出部６３ａと、窓部３２ａ１を通してマスクＭのパターン面Ｍａに光ビームＬＢ３を斜めに照射し、パターン面Ｍａで反射されて窓部３２ａ１を通して戻される光の強度を検出する第２検出部６３ｂと、窓部３２ａ１を通して上ケース部３１Ｂの内面の偏光特性を有する反射部３７Ｂに光ビームＬＢ４を照射し、反射部３７Ｂで反射されて窓部３２ａ１を通して戻される光の強度を検出する第３検出部６３ｃとを有する。一例として、光ビームＬＢ２〜ＬＢ４は発光ダイオード（ＬＥＤ）等から射出される可視域の光をコリメータレンズ（不図示）によって平行光束にしたものであるが、光ビームＬＢ２〜ＬＢ４として近赤外域から赤外域等の光を使用してもよい。この場合、窓部３２ａ１は近赤外域から赤外域等の光を透過する材料から形成される。   As shown in FIG. 7, the detection device 63 irradiates the retroreflecting part 37 </ b> A of the lower case part 31 </ b> A of the mask case 30 with the light beam LB <b> 2 and detects the intensity of the reflected light from the reflecting part 37 </ b> A. A second detection unit 63b that irradiates the pattern surface Ma of the mask M obliquely with the light beam LB3 through the window part 32a1 and detects the intensity of the light reflected by the pattern surface Ma and returned through the window part 32a1; A third detector 63c that detects the intensity of light reflected by the reflector 37B and returned through the window 32a1 by irradiating the reflector 37B having the polarization characteristics of the inner surface of the upper case 31B through the window 32a1. And have. As an example, the light beams LB2 to LB4 are light beams in the visible range emitted from light emitting diodes (LEDs) or the like converted into parallel light beams by a collimator lens (not shown), but the light beams LB2 to LB4 are emitted from the near infrared region. Light in the infrared region or the like may be used. In this case, the window portion 32a1 is formed of a material that transmits light from the near infrared region to the infrared region.

検出部６３ａで検出される強度を信号処理部（不図示）で所定の第１の基準値と比較することで、下ケース部３１Ａの有無を検出できる。また、検出部６３ｂで検出される強度を信号処理部（不図示）で所定のテーブル（信号強度と被検物までの距離との対応関係を示すテーブル）に当てはめることで、検出部６３ｂからパターン面Ｍａまでの距離、及び／又はマスクＭの有無を検出できる。検出部６３ｃで検出される強度を信号処理部（不図示）で所定の第２の基準値と比較することで、上ケース部３１Ｂの有無を検出できる。検出装置６３を用いたマスクケース３０の有無等の検出結果は制御装置ＣＯＮＴに供給される。なお、検出部６３ａ〜６３ｃのうち、少なくとも一つを備えるだけでもよい。   By comparing the intensity detected by the detection unit 63a with a predetermined first reference value by a signal processing unit (not shown), the presence or absence of the lower case unit 31A can be detected. Further, by applying the intensity detected by the detection unit 63b to a predetermined table (a table showing the correspondence between the signal intensity and the distance to the test object) by the signal processing unit (not shown), the pattern from the detection unit 63b is obtained. The distance to the surface Ma and / or the presence or absence of the mask M can be detected. The presence or absence of the upper case portion 31B can be detected by comparing the intensity detected by the detection unit 63c with a predetermined second reference value by a signal processing unit (not shown). Detection results such as the presence or absence of the mask case 30 using the detection device 63 are supplied to the control device CONT. Note that at least one of the detection units 63a to 63c may be provided.

なお、マスクケース搬送部６１にも、搬送車Ｖのピン５７Ａａ，５７Ｂａを有する支持部５７Ａ，５７Ｂと同様の支持部を設け、この支持部のピン（不図示）をマスクケース３０の連結部３８Ａ，３８Ｂの開口３８Ａａ，３８Ｂａに差し込み可能として、振動等によるマスクケース３０の位置ずれを防止するようにしてもよい。
昇降駆動部６８によってマスクケース搬送部６１で支持されているマスクケース３０のＺ位置をマスクライブラリＬＢのある収容部６５（又は一時収容部６６）での設定値よりも高く設定した状態で、水平駆動部６７によってマスクケース搬送部６１を＋Ｙ方向に移動して、マスクケース搬送部６１で支持されるマスクケース３０をその収容部６５（又は一時収容部６６）の上方に移動した後、マスクケース搬送部６１を降下させることで、マスクケース３０をその収容部６５（又は一時収容部６６）に受け渡すことができる。逆に、ある収容部６５（又は一時収容部６６）に保持されているマスクケース３０の底面側にマスクケース搬送部６１を移動した後、マスクケース搬送部６１のＺ位置を高くすることによって、収容部６５（又は一時収容部６６）からマスクケース搬送部６１（搬送装置Ｈ１）にマスクケース３０を受け渡すことができる。The mask case transport unit 61 is also provided with support portions similar to the support portions 57A and 57B having the pins 57Aa and 57Ba of the transport vehicle V, and the pins (not shown) of the support portions are connected to the connecting portions 38A of the mask case 30. , 38B may be inserted into the openings 38Aa, 38Ba to prevent displacement of the mask case 30 due to vibration or the like.
In a state where the Z position of the mask case 30 supported by the mask case transport unit 61 by the elevating drive unit 68 is set higher than the set value in the storage unit 65 (or the temporary storage unit 66) where the mask library LB is located, After the mask case transport unit 61 is moved in the + Y direction by the drive unit 67 and the mask case 30 supported by the mask case transport unit 61 is moved above the storage unit 65 (or the temporary storage unit 66), the mask case By lowering the transport unit 61, the mask case 30 can be transferred to the storage unit 65 (or the temporary storage unit 66). Conversely, by moving the mask case transport unit 61 to the bottom side of the mask case 30 held in a certain storage unit 65 (or the temporary storage unit 66), the Z position of the mask case transport unit 61 is increased, The mask case 30 can be delivered from the storage unit 65 (or the temporary storage unit 66) to the mask case transport unit 61 (transport device H1).

次に、図８〜図１０を参照して、マスクライブラリＬＢの構成につき説明する。図８及び図１０は、それぞれマスクライブラリＬＢを示す斜視図、図９はマスクライブラリＬＢを＋Ｙ方向に見た図である。図８において、マスクライブラリＬＢは、それぞれＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向に平行な複数のロッド状の部材（説明の便宜上、一部の部材が２点鎖線で表されている）を連結して構成される箱状のフレーム機構４３と、フレーム機構４３の最下段にＹ方向に平行に固定されたＺ位置が同じ１対のレール４５Ａ，４５Ｂと、レール４５Ａ，４５Ｂの上方でフレーム機構４３に固定された水平面にほぼ平行な仕切り板４４と、仕切り板４４の上方の次第に高くなる位置Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５でフレーム機構４３に固定されたそれぞれＹ方向に平行な１対のレール４６Ａ，４６Ｂとを備えている。レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６Ｂはそれぞれ断面形状がＬ字型で、上面がほぼ水平面に平行になるように、かつ互いに対向するように、その上面に直交する側面を有する部分がボルト（不図示）によってフレーム機構４３の内面に固定されている。   Next, the configuration of the mask library LB will be described with reference to FIGS. 8 and 10 are perspective views showing the mask library LB, respectively. FIG. 9 is a view of the mask library LB in the + Y direction. In FIG. 8, the mask library LB connects a plurality of rod-shaped members parallel to the X direction, the Y direction, and the Z direction (for convenience of explanation, some members are represented by two-dot chain lines). A box-shaped frame mechanism 43 configured in parallel, a pair of rails 45A and 45B having the same Z position fixed to the lowermost stage of the frame mechanism 43 in the Y direction, and the frame mechanism 43 above the rails 45A and 45B. A pair of partition plates 44 substantially parallel to the horizontal plane fixed to the frame mechanism 43, and a pair of pairs parallel to the Y direction fixed to the frame mechanism 43 at progressively higher positions P1, P2, P3, P4 and P5 above the partition plates 44. Rails 46A and 46B. Each of the rails 45A, 45B and 46A, 46B has an L-shaped cross section, and a portion having a side surface orthogonal to the upper surface so that the upper surface is substantially parallel to the horizontal plane and is opposed to each other is a bolt (not shown). ) To the inner surface of the frame mechanism 43.

レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６ＢのＹ方向の長さは、マスクケース３０のＹ方向の長さよりもわずかに長く設定され、レール４５Ａ，４５Ｂの上面と仕切り板４４との間隔、及び位置Ｐ１〜Ｐ５のＺ方向に隣接したレール４６Ａ，４６Ｂの上面のＺ方向の間隔は、それぞれマスクケース３０の高さより広く設定されている。また、レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６ＢのＸ方向の外形の幅は、マスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂの外形のＸ方向の幅よりも広く設定され、レール４５Ａ，４５Ｂ及び４６Ａ，４６ＢのＸ方向の間隔は、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの平板部３２ａのＸ方向の幅（脚部３５が固定された２つの平板部３２ｂの間隔）とほぼ同じに設定されている。このため、１対のレール４５Ａ，４５Ｂの上面、及び位置Ｐ１〜Ｐ５の１対のレール４６Ａ，４６Ｂの上面に、それぞれマスクケース３０の下ケース部３１Ａの−Ｘ方向の２つの脚部３５及び＋Ｘ方向の２つの脚部３５を載置することができる。１対のレール４５Ａ，４５Ｂを含んで一時収容部６６が構成され、位置Ｐ１〜Ｐ５の１対のレール４６Ａ，４６Ｂを含んでそれぞれ収容部６５が構成されている。なお、図８等では、収容部６５は位置Ｐ１〜Ｐ５の５段に配置されているが、収容部６５の数は増加又は減少させることができる。また、平面視で、レール４６Ａ，４６Ｂとレール４５Ａ，４５Ｂとは互いに同じ形状で、かつＸ方向及びＹ方向の同じ位置に設置されている。   The lengths of the rails 45A, 45B and 46A, 46B in the Y direction are set slightly longer than the length of the mask case 30 in the Y direction, the distance between the upper surface of the rails 45A, 45B and the partition plate 44, and the positions P1 to P1. The distance in the Z direction between the upper surfaces of the rails 46A and 46B adjacent to each other in the Z direction of P5 is set wider than the height of the mask case 30. In addition, the width of the outer shape in the X direction of the rails 45A, 45B and 46A, 46B is set wider than the width in the X direction of the outer shape of the flange portions 41A, 41B of the mask case 30, and the rails 45A, 45B and 46A, 46B The interval in the X direction is set to be substantially the same as the width in the X direction of the flat plate portion 32a of the lower case portion 31A of the mask case 30 (the interval between the two flat plate portions 32b to which the leg portions 35 are fixed). For this reason, on the upper surface of the pair of rails 45A, 45B and the upper surface of the pair of rails 46A, 46B at the positions P1 to P5, Two legs 35 in the + X direction can be placed. A temporary accommodating portion 66 is configured including a pair of rails 45A and 45B, and an accommodating portion 65 is configured including a pair of rails 46A and 46B at positions P1 to P5. In addition, in FIG. 8 etc., the accommodating part 65 is arrange | positioned at five steps | paragraphs of the positions P1-P5, However, The number of the accommodating parts 65 can be increased or decreased. In plan view, the rails 46A and 46B and the rails 45A and 45B have the same shape and are installed at the same positions in the X direction and the Y direction.

マスクライブラリＬＢと搬送装置Ｈ１との位置関係は、図６（Ａ）の搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ，６２Ｃの球面部６２Ａａ，６２Ｂａ，６２Ｃａにマスクケース３０の位置決め部３６Ａ〜３６Ｃの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦面３６Ｃａを接触させた状態で、マスクケース３０の−Ｘ方向及び＋Ｘ方向の２つの脚部３５がそれぞれ対応する位置Ｐ１〜Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂ上のＸ方向の目標位置に位置するように設定されている。また、マスクケース搬送部６１のＸ方向の幅は、レール４６Ａ，４６ＢのＸ方向の間隔よりも余裕を持って小さく設定されている。このため、搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０の脚部３５の底面のＺ位置を位置Ｐ１〜Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂの上面よりも所定間隔だけ高く設定し、マスクケース３０のＹ方向（マスクライブラリＬＢに対する搬出入方向）の位置を所定の目標位置に設定した後、マスクケース３０を降下させることによって、容易にその位置Ｐ１〜Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂ上（収容部６５）に４箇所の脚部３５を介してマスクケース３０を載置（収容）できる。同様に、搬送装置Ｈ１によってレール４５Ａ，４５Ｂ上（一時収容部６６）にマスクケース３０を載置できる。さらに、搬送装置Ｈ１の逆の動作によって収容部６５又は一時収容部６６からマスクケース３０を搬出できる。なお、レール４５Ａ，４５Ｂを一時収容部６６に設ける代わりに、同様のレールを搬送車Ｖが備えるようにしてもよい。これにより、マスクケースを一時的に一時収容部６６に受け渡すことなく、搬送車Ｖと搬送装置Ｈ１との間で直接的にマスクケースの受け渡しを行うことができる。   The positional relationship between the mask library LB and the transfer device H1 is such that the mask case 30 is positioned on the spherical surface portions 62Aa, 62Ba, and 62Ca of the ball transfers 62A, 62B, and 62C of the mask case transfer unit 61 of the transfer device H1 of FIG. On the rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 corresponding to the two legs 35 in the −X direction and the + X direction of the mask case 30 in a state where the recesses 36Aa and 36Ba and the flat surface 36Ca of the portions 36A to 36C are in contact with each other. It is set to be located at the target position in the X direction. Further, the width in the X direction of the mask case transport unit 61 is set to be smaller with a margin than the interval in the X direction between the rails 46A and 46B. For this reason, the Z position of the bottom surface of the leg portion 35 of the mask case 30 is set higher than the upper surfaces of the rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 by the transfer device H1, and the Y direction of the mask case 30 (mask library LB) is set. After the position in the loading / unloading direction) is set to a predetermined target position, the mask case 30 is lowered to easily move the four leg portions on the rails 46A and 46B (accommodating portions 65) at the positions P1 to P5. The mask case 30 can be placed (accommodated) via 35. Similarly, the mask case 30 can be placed on the rails 45 </ b> A and 45 </ b> B (temporary storage portion 66) by the transfer device H <b> 1. Furthermore, the mask case 30 can be carried out from the storage unit 65 or the temporary storage unit 66 by the reverse operation of the transfer device H1. Instead of providing the rails 45A and 45B in the temporary storage portion 66, the transport vehicle V may be provided with similar rails. Accordingly, the mask case can be directly transferred between the transport vehicle V and the transport device H1 without temporarily transferring the mask case to the temporary storage unit 66.

また、−Ｘ方向側のレール４５Ａ，４６Ａの上面の＋Ｙ方向の端部に、それぞれマスクケース３０の側面までのＸ方向及びＹ方向の間隔を非接触で検出可能な近接センサ５０Ａが設置され、＋Ｘ方向側のレール４５Ｂ，４６Ｂの上面の＋Ｙ方向の端部に、それぞれマスクケース３０の側面までのＸ方向及びＹ方向の間隔を非接触で検出可能な近接センサ５０Ｂが設置され、レール４５Ｂ，４６Ｂの上面の−Ｙ方向の端部に、それぞれマスクケース３０の側面までのＸ方向の間隔を非接触で検出可能な近接センサ５１が設置されている。近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１は例えば光学式である。近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１で検出される一時収容部６６及び収容部６５におけるマスクケース３０の位置（Ｘ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角）の情報が制御装置ＣＯＮＴに供給される。そのようにして検出されるマスクケース３０の位置が所定の目標値から許容範囲を超えてずれている場合には、一例として搬送車Ｖ又は搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０の位置及び／又は回転角の調整が行われる。なお、近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１のうちの少なくとも一つのセンサを残して他のセンサを省略してもよい。また、近接センサ５０Ａ，５０Ｂの少なくとも一方を−Ｙ方向の端部に移動させてもよく、近接センサ５０Ａ，５０ＢをＹ方向に関して互いに反対側の端部に配置してもよい。   Further, proximity sensors 50A capable of detecting the X-direction and Y-direction distances to the side surfaces of the mask case 30 in a non-contact manner are installed at the + Y-direction ends of the upper surfaces of the rails 45A and 46A on the −X-direction side, Proximity sensors 50B capable of detecting the X-direction and Y-direction distances to the side surfaces of the mask case 30 in a non-contact manner are installed at the + Y-direction ends of the upper surfaces of the rails 45B and 46B on the + X-direction side, respectively. Proximity sensors 51 that can detect the distance in the X direction to the side surface of the mask case 30 in a non-contact manner are provided at the −Y direction end of the upper surface of 46B. The proximity sensors 50A, 50B, 51 are, for example, optical. Information about the position of the mask case 30 (the X direction, the position in the Y direction, and the rotation angle in the θz direction) in the temporary storage unit 66 and the storage unit 65 detected by the proximity sensors 50A, 50B, 51 is supplied to the control unit CONT. The When the position of the mask case 30 thus detected deviates from a predetermined target value beyond an allowable range, as an example, the position and / or rotation angle of the mask case 30 by the transport vehicle V or the transport device H1. Adjustments are made. Note that other sensors may be omitted while leaving at least one of the proximity sensors 50A, 50B, and 51. Further, at least one of the proximity sensors 50A and 50B may be moved to the end portion in the −Y direction, and the proximity sensors 50A and 50B may be arranged at the end portions on the opposite sides with respect to the Y direction.

また、位置Ｐ２〜Ｐ５のレール４６Ａ及び４６Ｂの２箇所にそれぞれ位置Ｐ１〜Ｐ４の収容部６５に収容されるマスクケース３０の鍔部４１Ａ及び４１Ｂを支持するための支持部４７Ａ１，４７Ａ２及び４７Ｂ１，４７Ｂ２が対向するように取り付けられ、フレーム機構４３の上端のＹ方向に平行な２つの部分の２箇所にそれぞれ最上段（位置Ｐ５）の収容部６５に収容されるマスクケース３０の鍔部４１Ａ及び４１Ｂを支持するための支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２及び４７Ｄ１，４７Ｄ２が対向するように取り付けられている。   Further, support portions 47A1, 47A2 and 47B1, which support the flange portions 41A and 41B of the mask case 30 accommodated in the accommodation portions 65 of the positions P1 to P4, respectively, at the two positions of the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5. 47B2 are attached so as to face each other, and the collar portion 41A of the mask case 30 accommodated in the accommodation portion 65 of the uppermost stage (position P5) is provided at two locations of two portions parallel to the Y direction at the upper end of the frame mechanism 43, and Support parts 47C1, 47C2 and 47D1, 47D2 for supporting 41B are attached so as to face each other.

マスクケース３０が位置Ｐ１〜Ｐ４のレール４６Ａ，４６Ｂ上の目標位置に載置されている状態では、例えば図３（Ａ）に点線で示すように平面視で（すなわちＸ軸及びＹ軸を含む平面に沿った方向に関して）、位置Ｐ２〜Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂに取り付けられた一方の支持部４７Ａ１，４７Ｂ１がマスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａ内に位置しているとともに、他方の支持部４７Ａ２，４７Ｂ２は鍔部４１Ａ，４１Ｂの−Ｙ方向の端部に近接している。なお、支持部４７Ａ１〜４７Ｂ２のＺ位置は対応する鍔部４１Ａ，４１Ｂの上面よりも高く設定されている。さらに、他方の支持部４７Ａ２，４７Ｂ２の上面には、それぞれ鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂに挿通可能なピン４８が固定されている。ピン４８の直径は開口４１Ａｂ，４１Ｂｂの直径に対して、搬送装置Ｈ１によるマスクケース３０の位置決め精度よりも大きいクリアランスをもって小さく設定されている。支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２，４７Ｄ１，４７Ｄ２のＸＹ平面内での位置は、支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２と同様であり、支持部４７Ｃ２，４７Ｄ２の上面にも、それぞれピン４８が固定されている。   In a state where the mask case 30 is placed at the target positions on the rails 46A and 46B at the positions P1 to P4, for example, as shown by a dotted line in FIG. 3A (in other words, including the X axis and the Y axis). One of the support portions 47A1 and 47B1 attached to the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5 is located in the notches 41Aa and 41Ba of the flange portions 41A and 41B of the mask case 30 with respect to the direction along the plane). In addition, the other support portions 47A2 and 47B2 are close to the ends in the −Y direction of the flange portions 41A and 41B. The Z positions of the support portions 47A1 to 47B2 are set higher than the upper surfaces of the corresponding flange portions 41A and 41B. Further, pins 48 that can be inserted into the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B are fixed to the upper surfaces of the other support portions 47A2 and 47B2, respectively. The diameter of the pin 48 is set smaller than the diameter of the openings 41Ab and 41Bb with a larger clearance than the positioning accuracy of the mask case 30 by the transfer device H1. The positions of the support portions 47C1, 47C2, 47D1, and 47D2 in the XY plane are the same as those of the support portions 47A1, 47A2, 47B1, and 47B2, and the pins 48 are also fixed to the upper surfaces of the support portions 47C2 and 47D2, respectively. .

この構成によって、搬送装置Ｈ１で位置Ｐ１〜Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂ上のマスクケース３０を、支持部４７Ａ１，４７Ｂ１がそれぞれ切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａを通過するように上昇させて、さらにマスクケース３０を、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８の上方に位置するように、例えば鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１ＢａのＹ方向の幅分だけ−Ｙ方向に移動させた後、マスクケース３０を降下させることによって、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂがそれぞれ位置Ｐ２〜Ｐ５のレール４６Ａ，４６Ｂに設けた支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２又は最上部の支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２，４７Ｄ１，４７Ｄ２で支持されるため、下ケース部３１Ａから上ケース部３１Ｂを容易に分離することができる。この際に、鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂ内にそれぞれ支持部４７Ａ２，４７Ｂ２又は４７Ｃ２，４７Ｄ２のピン４８が挿通されるため、振動等によって鍔部４１Ａ，４１Ｂの位置がずれることが防止できる。また、この逆の動作によって、下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを容易に正確に位置決めした状態で載置することができる。なお、振動等が少なく、鍔部４１Ａ，４１Ｂの位置ずれ量が少ない場合には、鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂ及び支持部４７Ａ２，４７Ｂ２，４７Ｃ２，４７Ｄ２のピン４８は省略することが可能である。また、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂは、ピン４８が挿通されるように貫通した開口した形状に限定されず、ピン４８と互いに嵌合する形状であればよく、例えば、鍔部４１Ａ，４１Ｂの上面側が閉じた（開口していない）孔、すなわち貫通していない（凹状の）孔とすることもできる。   With this configuration, the mask case 30 on the rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 is raised by the transport device H1 so that the support portions 47A1 and 47B1 pass through the notches 41Aa and 41Ba, respectively, and the mask case 30 is further raised. Is moved in the −Y direction by, for example, the width in the Y direction of the notches 41Aa and 41Ba of the flange portions 41A and 41B so that the openings 41Ab and 41Bb are positioned above the pins 48, and then the mask case 30 is moved. By lowering, the flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B are supported by the support portions 47A1, 47A2, 47B1, and 47B2 provided on the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5, respectively, or the uppermost support portions 47C1, 47C2, and 47D1, respectively. Since it is supported by 47D2, the upper case portion 31B can be easily separated from the lower case portion 31A. It can be. At this time, since the pins 48 of the support portions 47A2, 47B2 or 47C2, 47D2 are inserted into the openings 41Ab, 41Bb of the flange portions 41A, 41B, respectively, it is possible to prevent the positions of the flange portions 41A, 41B from being displaced due to vibrations or the like. it can. Further, by the reverse operation, the upper case portion 31B can be easily and accurately positioned on the lower case portion 31A. In addition, when there is little vibration etc. and the positional displacement amount of the collar part 41A, 41B is small, the opening 41Ab, 41Bb of the collar part 41A, 41B and the pin 48 of the support part 47A2, 47B2, 47C2, 47D2 may be omitted. Is possible. Further, the openings 41Ab and 41Bb are not limited to the shape of the opening through which the pin 48 is inserted, and may be any shape that fits with the pin 48. For example, the upper surface sides of the flange portions 41A and 41B are closed. It can also be a hole (not open), that is, a hole that does not penetrate (concave).

また、図８において、仕切り板４４の＋Ｘ方向の端部の上面にマスクケース３０の検出装置５２が固定され、検出装置５２からＺ方向に平行に上方に光ビームＬＢ１が照射され、フレーム機構４３の最上部の部材に、光ビームＬＢ１を−Ｚ方向に反射する反射部材４９が設けられている。本実施形態において、反射部材４９及び検出装置５２は、搬送装置Ｈ１の一部である。位置Ｐ１〜Ｐ５の＋Ｘ方向側のレール４６Ｂにはそれぞれ光ビームＬＢ１を通すための開口４６Ｂａが形成されている。図９に示すように、検出装置５２は、光ビームを射出する光源部５２ａと、光源部５２ａから射出された光ビームの一部（光ビームＬＢ１）を＋Ｚ方向に反射するビームスプリッター５２ｂと、反射部材４９で反射された光ビームＬＢ１のうちでビームスプリッター５２ｂを透過した光ビームを受光して光電変換するフォトダイオード等の光電センサ５２ｃとを有する。光電センサ５２ｃの検出信号を信号処理部（不図示）で所定の基準値と比較することによって、光ビームＬＢ１の光路上に物体があるかどうかを検出できる。検出結果は制御装置ＣＯＮＴに供給される。
なお、光源部５２ａと光電センサ５２ｃとの配置を入れ替えて、ビームスプリッター５２ｂが光源部５２ａからの光ビームを透過させ、光電センサ５２ｃがビームスプリッター５２ｂで反射された光ビームを検出してもよい。また、反射部材４９に、上述した反射部３７Ｂと同様に偏光特性をもたせてもよく、あるいは反射部材４９に向かう光ビームと反射部材４９で反射された光ビームとが互いに偏光方向が直交する直線偏光になるように光ビームの光路に１／４波長板や偏光子等の偏光素子を配置してもよい。この場合、ビームスプリッター５２ｂに偏光特性を持たせて偏光ビームスプリッターにしてもよい。In FIG. 8, the detection device 52 of the mask case 30 is fixed to the upper surface of the end portion in the + X direction of the partition plate 44, and the light beam LB <b> 1 is irradiated upward in parallel with the Z direction from the detection device 52. Is provided with a reflection member 49 that reflects the light beam LB1 in the -Z direction. In the present embodiment, the reflection member 49 and the detection device 52 are a part of the transport device H1. An opening 46Ba for passing the light beam LB1 is formed in each of the rails 46B on the + X direction side of the positions P1 to P5. As shown in FIG. 9, the detection device 52 includes a light source unit 52a that emits a light beam, a beam splitter 52b that reflects a part of the light beam (light beam LB1) emitted from the light source unit 52a in the + Z direction, A photoelectric sensor 52c such as a photodiode that receives and photoelectrically converts a light beam transmitted through the beam splitter 52b out of the light beam LB1 reflected by the reflecting member 49 is provided. By comparing the detection signal of the photoelectric sensor 52c with a predetermined reference value by a signal processing unit (not shown), it is possible to detect whether there is an object on the optical path of the light beam LB1. The detection result is supplied to the control device CONT.
Note that the arrangement of the light source unit 52a and the photoelectric sensor 52c may be switched so that the beam splitter 52b transmits the light beam from the light source unit 52a, and the photoelectric sensor 52c detects the light beam reflected by the beam splitter 52b. . Further, the reflection member 49 may have a polarization characteristic similar to the above-described reflection portion 37B, or a straight line in which the light beam directed toward the reflection member 49 and the light beam reflected by the reflection member 49 are orthogonal to each other. A polarizing element such as a quarter-wave plate or a polarizer may be disposed in the optical path of the light beam so as to be polarized. In this case, the beam splitter 52b may have a polarization characteristic to be a polarization beam splitter.

この場合、図１０に示すように、位置Ｐ１（又はＰ２〜Ｐ５）のレール４６Ａ，４６Ｂ上の目標位置にマスクケース３０を載置した状態で、鍔部４１Ｂの切り欠き部４１Ｂａから離れた位置にある開口４１Ｂｄ内を光ビームＬＢ１が通過するように、光ビームＬＢ１の光路が設定されている。さらに、上述のように、搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０の上ケース部３１Ｂを例えば位置Ｐ３（又は位置Ｐ２，Ｐ４，Ｐ５）の支持部４７Ａ１，４７Ａ２及び４７Ｂ１，４７Ｂ２又は支持部４７Ｃ１，４７Ｃ２及び４７Ｄ１，４７Ｄ２上に載置した状態で、鍔部４１Ｂの切り欠き部４１Ｂａに近い位置にある開口４１Ｂｃ（図２（Ａ）参照）内を光ビームＬＢ１が通過するように、上ケース部３１Ｂが位置決めされる。このように位置Ｐ１〜Ｐ５の全部のマスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂがそれぞれ収容部６５の所定位置（目標位置）に位置決めされた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃ又は４１Ｂｄ内を通過するため、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体がないことを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出することで、マスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂが収容部６５（目標位置）に対して所定の許容範囲内に位置決めされたことを検知することができる。換言すると、収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂの収容状態を検知することができる。   In this case, as shown in FIG. 10, in a state where the mask case 30 is placed at the target position on the rails 46A and 46B at the position P1 (or P2 to P5), the position away from the notch 41Ba of the flange 41B. The optical path of the light beam LB1 is set so that the light beam LB1 passes through the opening 41Bd. Further, as described above, the upper case portion 31B of the mask case 30 is moved by, for example, the support portions 47A1, 47A2 and 47B1, 47B2 or the support portions 47C1, 47C2, and 47D1 at the position P3 (or positions P2, P4, P5) by the transport device H1. , 47D2, the upper case portion 31B is positioned so that the light beam LB1 passes through the opening 41Bc (see FIG. 2A) located near the notch portion 41Ba of the flange portion 41B. Is done. As described above, in a state where all the mask cases 30 and / or the upper case portions 31B at the positions P1 to P5 are respectively positioned at the predetermined positions (target positions) of the accommodating portions 65, the light beam LB1 is transmitted through the openings 41Bc or Since it passes through 41Bd, the detection device 52 can detect the absence of an object in the optical path of the light beam LB1. That is, by detecting the light beam LB1 by the detection device 52, it is detected that the mask case 30 and / or the upper case portion 31B are positioned within a predetermined allowable range with respect to the housing portion 65 (target position). Can do. In other words, the accommodation state of the mask case 30 and / or the upper case part 31B with respect to the accommodation part 65 can be detected.

一方、位置Ｐ１〜Ｐ５のいずれかのマスクケース３０又は上ケース部３１Ｂが目標位置から許容範囲を超えてずれた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃ及び４１Ｂｄを通過できなくなり、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体（鍔部４１Ｂ）があることを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出できなくなることで、マスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂが目標位置に対して許容範囲を超えて位置決めされた（すなわち位置ずれしている）ことを検知することができる。換言すると、この場合も収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１Ｂの収容状態を検知することができる。このため、一例として、搬送装置Ｈ１によって収容部６５にマスクケース３０を搬送する際、又はマスクケース３０の上ケース部３１Ｂを対応する支持部４７Ａ１〜４７Ｂ２等に載置する際には、それぞれ検出装置５２で光ビームＬＢ１が検出できるようにマスクケース３０又は上ケース部３１Ｂの位置を調整することによって、マスクケース３０又は上ケース部３１Ｂをそれぞれ容易に目標位置に設置できる。   On the other hand, when the mask case 30 or the upper case portion 31B at any one of the positions P1 to P5 is shifted beyond the allowable range from the target position, the light beam LB1 cannot pass through the openings 41Bc and 41Bd of the flange portion 41B, and is detected. The device 52 can detect the presence of an object (the collar portion 41B) in the optical path of the light beam LB1. That is, when the light beam LB1 cannot be detected by the detection device 52, the mask case 30 and / or the upper case portion 31B is positioned beyond the allowable range with respect to the target position (that is, is displaced). Can be detected. In other words, also in this case, the accommodation state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31B with respect to the accommodation portion 65 can be detected. Therefore, as an example, when the mask case 30 is transported to the accommodating portion 65 by the transport device H1, or when the upper case portion 31B of the mask case 30 is placed on the corresponding support portions 47A1 to 47B2, etc., detection is performed, respectively. By adjusting the position of the mask case 30 or the upper case portion 31B so that the light beam LB1 can be detected by the device 52, the mask case 30 or the upper case portion 31B can be easily installed at the target position.

なお、本実施形態において、下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂを構成する複数の部材は、ボルトによる連結の他に、溶接又は接着による連結、又は一体成形等で連結してもよい。
次に、本実施形態の露光装置ＥＸにおけるマスクＭの搬送方法を含む露光方法の一例につき図１１（Ａ）及び（Ｂ）のフローチャートを参照して説明する。この動作は制御装置ＣＯＮＴによって制御される。In the present embodiment, the plurality of members constituting the lower case portion 31A and the upper case portion 31B may be connected by welding, bonding, integral molding or the like in addition to the connection by bolts.
Next, an example of an exposure method including a method for transporting the mask M in the exposure apparatus EX of the present embodiment will be described with reference to the flowcharts of FIGS. This operation is controlled by the control device CONT.

まず、マスクＭが収納されたマスクケース３０が搬送車Ｖによってマスクストッカ（不図示）から露光装置ＥＸのマスクライブラリＬＢまで搬送される(ステップ１０２)。即ち、搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３のボールトランスファ５４Ａ〜５４Ｃの球面部にマスクケース３０の位置決め部３６Ａ〜３６Ｃの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａが接触するように、マスクケース搬送部５３にマスクケース３０を載置する。そして、マスクケース３０のＸ方向の位置及びθｚ方向の角度がそれぞれ一時収容部６６での目標値になるように搬送車Ｖの位置決めを行い、マスクケース３０のＺ位置を設定値よりも高くした後、図示しない開閉機構によって露光チャンバＣＨの搬出人口（不図示）を開放し、搬送車Ｖがその搬出人口を通してマスクケース搬送部５３で支持されたマスクケース３０をマスクライブラリＬＢのレール４５Ａ，４５Ｂの上方に移動する。さらに、図９に示すように、搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３を降下させることによって、レール４５Ａ，４５Ｂにマスクケース３０の４箇所の脚部３５が載置される。これによって、搬送車Ｖから一時収容部６６にマスクケース３０が受け渡されたことになる。   First, the mask case 30 in which the mask M is stored is transported from the mask stocker (not shown) by the transport vehicle V to the mask library LB of the exposure apparatus EX (step 102). That is, the mask case transport section 53 so that the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat section 36Ca of the positioning sections 36A to 36C of the mask case 30 are in contact with the spherical surfaces of the ball transfers 54A to 54C of the mask case transport section 53 of the transport vehicle V. The mask case 30 is placed on the surface. Then, the transport vehicle V is positioned so that the position in the X direction and the angle in the θz direction of the mask case 30 are the target values in the temporary storage unit 66, respectively, and the Z position of the mask case 30 is set higher than the set value. Thereafter, the unloading population (not shown) of the exposure chamber CH is opened by an unillustrated opening / closing mechanism, and the mask case 30 supported by the mask case transporting unit 53 through the unloaded population of the transport vehicle V is moved to the rails 45A and 45B of the mask library LB. Move up. Further, as shown in FIG. 9, by lowering the mask case transport section 53 of the transport vehicle V, the four leg portions 35 of the mask case 30 are placed on the rails 45 </ b> A and 45 </ b> B. As a result, the mask case 30 is delivered from the transport vehicle V to the temporary storage portion 66.

この際に、レール４５Ａ，４５Ｂ上の近接センサ５０Ａ，５０Ｂ，５１によってマスクケース３０のＸ方向、Ｙ方向の位置、及びθｚ方向の回転角を検出し、制御装置ＣＯＮＴにおいてその検出結果を予め定めてある目標値と比較してもよい。そして、その検出結果の目標値からのずれ量が所定の許容範囲を超えている場合には、搬送車Ｖでマスクケース３０をレール４５Ａ，４５Ｂから上昇させて、マスクケース３０の位置及び／又は回転角を補正した後、マスクケース３０を一時収容部６６に受け渡してもよい。これは搬送装置Ｈ１によってレール４６Ａ，４６Ｂ上にマスクケース３０を載置する際も同様である。その後、搬送車Ｖが＋Ｙ方向に移動して露光チャンバＣＨの搬出人口（不図示）が閉じられる。   At this time, the proximity sensors 50A, 50B, 51 on the rails 45A, 45B detect the position of the mask case 30 in the X direction, the Y direction, and the rotation angle in the θz direction, and the control unit CONT determines the detection results in advance. It may be compared with a certain target value. And when the deviation | shift amount from the target value of the detection result exceeds the predetermined allowable range, the mask case 30 is raised from the rails 45A and 45B by the transport vehicle V, and the position of the mask case 30 and / or After correcting the rotation angle, the mask case 30 may be transferred to the temporary housing portion 66. This is the same when the mask case 30 is placed on the rails 46A and 46B by the transport device H1. Thereafter, the transport vehicle V moves in the + Y direction, and the carry-out population (not shown) of the exposure chamber CH is closed.

さらに、搬送装置Ｈ１によって、マスクライブラリＬＢの一時収容部６６からある収容部６５にマスクケース３０を移動するために、図９に示されているマスクケース搬送部５３の位置に、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１を移動する。そして、マスクケース搬送部６１を上昇させて、マスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ〜６２Ｃの球面部がマスクケース３０の位置決め部３６Ａ〜３６Ｃの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦部３６Ｃａに接触するように、マスクケース搬送部６１にマスクケース３０を受け渡す。   Further, in order to move the mask case 30 from the temporary storage unit 66 of the mask library LB to the storage unit 65 by the transfer device H1, the transfer device H1 is moved to the position of the mask case transfer unit 53 shown in FIG. The mask case transport unit 61 is moved. Then, the mask case transport unit 61 is raised so that the spherical surface portions of the ball transfers 62A to 62C of the mask case transport unit 61 come into contact with the recesses 36Aa and 36Ba and the flat portion 36Ca of the positioning units 36A to 36C of the mask case 30. Then, the mask case 30 is delivered to the mask case transport unit 61.

このようにマスクケース搬送部６１にマスクケース３０を受け渡したときに、一例として図１１（Ｂ）のステップ１２０で示すように、検出装置６３によってマスクケース３０の下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂの有無（又はマスクＭまでの距離）を検出してもよい。下ケース部３１Ａがない場合には、下ケース部３１Ａとして別のマスク用の下ケース部が使用されている場合等が考えられる。そして、下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂの少なくとも一つが無い（又はマスクＭまでの距離が許容範囲を超えている）と判定された場合、ステップ１２２に移行してマスクケース３０を返却する。即ち、制御装置ＣＯＮＴでは、一例として、搬送装置Ｈ１にそのマスクケース３０を一時収容部６６に戻すように制御情報を供給し、搬送車Ｖにそのマスクケース３０を露光チャンバＣＨの外部に搬出するように制御情報を供給する。これによって、マスクケース３０は露光チャンバＣＨの外部に搬出される。その後、動作はステップ１０２に戻る。この場合、その返却されたマスクケース３０と交換された別のマスクケース３０が搬送車Ｖによって一時収容部６６に搬入される。   Thus, when the mask case 30 is delivered to the mask case transport section 61, as shown in step 120 of FIG. 11B as an example, the lower case portion 31A of the mask case 30, the mask M, and The presence or absence of the upper case portion 31B (or the distance to the mask M) may be detected. When there is no lower case part 31A, a case where another lower case part for a mask is used as the lower case part 31A is conceivable. If it is determined that at least one of the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B is not present (or the distance to the mask M exceeds the allowable range), the process proceeds to step 122 and the mask case 30 is moved. To return. That is, in the control device CONT, as an example, control information is supplied to the transport device H1 so that the mask case 30 is returned to the temporary storage unit 66, and the mask case 30 is carried out of the exposure chamber CH to the transport vehicle V. Control information is supplied as follows. As a result, the mask case 30 is carried out of the exposure chamber CH. Thereafter, the operation returns to step 102. In this case, another mask case 30 exchanged with the returned mask case 30 is carried into the temporary accommodating portion 66 by the transport vehicle V.

これによって、別のマスクＭが収納されたマスクケース３０、又はマスクＭのないマスクケース３０が誤ってマスクライブラリＬＢの収容部６５に収納されることが防止できる。このため、例えば搬送装置Ｈ１がマスクローダ系Ｈ２にマスクＭを受け渡す段階でマスクＭがないことが判明するようなことが防止できる、マスクの搬送不良を防止できる。なお、例えば露光チャンバＣＨの外部で、下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂが存在すること（又はマスクＭまでの距離が許容範囲内にあること）がオペレータ等によって正確に確認されているような場合には、検出装置６３による確認（ステップ１２０）を省略してもよい。   Accordingly, it is possible to prevent the mask case 30 in which another mask M is stored or the mask case 30 without the mask M from being erroneously stored in the storage unit 65 of the mask library LB. For this reason, for example, it can be prevented that the mask M is not present at the stage where the transport device H1 delivers the mask M to the mask loader system H2, and the mask transport failure can be prevented. For example, the operator can accurately confirm that the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B exist outside the exposure chamber CH (or that the distance to the mask M is within an allowable range). In such a case, the confirmation (step 120) by the detection device 63 may be omitted.

ステップ１２０において、下ケース部３１Ａ、マスクＭ、及び上ケース部３１Ｂが全部存在する（又はマスクＭまでの距離が許容範囲内にある）と判定された場合、又は検出装置６３による確認を省略した場合には、ステップ１０４に移行して、搬送装置Ｈ１によって、マスクケース３０をマスクライブラリＬＢの例えば位置Ｐ１の収容部６５に移動する。即ち、マスクケース３０を支持するマスクケース搬送部６１を−Ｙ方向に移動し、マスクケース３０のＺ位置が例えば位置Ｐ１のレール４６Ａ，４６Ｂの上方になるようにマスクケース搬送部６１を上昇させて、マスクケース搬送部６１を＋Ｙ方向に移動することで、マスクケース３０は位置Ｐ１のレール４６Ａ，４６Ｂの上方に移動する。さらに、図９に２点鎖線で示すように、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１を降下させることによって、位置Ｐ１のレール４６Ａ，４６Ｂにマスクケース３０の４箇所の脚部３５が載置される。これによって、一時収容部６６から位置Ｐ１の収容部６５にマスクケース３０が移動されたことになる。   In step 120, when it is determined that the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B are all present (or the distance to the mask M is within an allowable range), or confirmation by the detection device 63 is omitted. In this case, the process proceeds to step 104, and the mask case 30 is moved to the accommodating portion 65 at, for example, the position P1 of the mask library LB by the transport device H1. That is, the mask case transport unit 61 that supports the mask case 30 is moved in the -Y direction, and the mask case transport unit 61 is raised so that the Z position of the mask case 30 is, for example, above the rails 46A and 46B at the position P1. Thus, by moving the mask case transport unit 61 in the + Y direction, the mask case 30 moves above the rails 46A and 46B at the position P1. Further, as indicated by a two-dot chain line in FIG. 9, the leg portions 35 of the mask case 30 are placed on the rails 46A and 46B at the position P1 by lowering the mask case transport portion 61 of the transport device H1. The As a result, the mask case 30 is moved from the temporary housing portion 66 to the housing portion 65 at the position P1.

ここでは、説明の便宜上、図１２に２点鎖線で示すように、位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上（収容部６５）にマスクケース３０が移動されたものとして、位置Ｐ２の収容部６５からマスクステージＭＳＴにマスクケース３０内のマスクＭを搬送するものとする。なお、図１２及び図１３においては、説明の便宜上、フレーム機構４３の一部及びマスクケース３０の鍔部４１Ｂを断面で表している。このとき、図１２において、検出装置５２から射出された光ビームＬＢ１が、マスクケース３０の鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｄ及び反射部材４９を介して検出装置５２で検出されるように、かつ鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａの上方に位置Ｐ３の支持部４７Ａ１，４７Ｂ１が位置するように（図３（Ａ）参照）、マスクケース３０の位置決めが行われている。これによって、次にマスクケース３０を搬送装置Ｈ１で支持するときに、マスクケース３０に対するマスクケース搬送部６１の位置決めを効率的に（短時間で）行うことができる。   Here, for convenience of explanation, as shown by a two-dot chain line in FIG. 12, it is assumed that the mask case 30 is moved on the rails 46A and 46B (accommodating portion 65) at the position P2, and the mask is moved from the accommodating portion 65 at the position P2. It is assumed that the mask M in the mask case 30 is transferred to the stage MST. In FIGS. 12 and 13, for convenience of explanation, a part of the frame mechanism 43 and the flange 41 </ b> B of the mask case 30 are shown in cross section. At this time, in FIG. 12, the light beam LB1 emitted from the detection device 52 is detected by the detection device 52 through the opening 41Bd of the flange portion 41B of the mask case 30 and the reflection member 49, and the flange portion 41A. The mask case 30 is positioned such that the support portions 47A1 and 47B1 at the position P3 are positioned above the cutout portions 41Aa and 41Ba of the terminal 41B (see FIG. 3A). Thus, the next time the mask case 30 is supported by the transfer device H1, the mask case transfer unit 61 can be efficiently positioned with respect to the mask case 30 (in a short time).

そして、位置Ｐ２の収容部６５のマスクケース３０の底面の下方に搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１を移動した後、マスクケース搬送部６１を上昇させて、使用対象のマスクケース３０の位置決め部３６Ａ，３６Ｂの凹部３６Ａａ，３６Ｂａにマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂの球面部６２Ａａ，６２Ｂａ（凸部）を接触（係合）させ、そのマスクケース３０の位置決め部３６Ｃの平坦部３６Ｃａにボールトランスファ６２Ｃの球面部６２Ｃａを接触（係合）させる（ステップ１０６）。この状態でマスクケース搬送部６１（マスクケース３０）をさらに上昇させて、鍔部４１Ａ，４１Ｂの切り欠き部４１Ａａ，４１Ｂａが支持部４７Ａ１，４７Ｂ１を通過した後、矢印Ａ１で示すように、切り欠き部４１Ａａ，４１ＢａのＹ方向の幅分だけマスクケース３０を−Ｙ方向にスライド移動させてから、矢印Ａ２で示すようにマスクケース３０を降下させる（ステップ１０８）。   And after moving the mask case conveyance part 61 of the conveying apparatus H1 to the downward direction of the bottom face of the mask case 30 of the accommodating part 65 of the position P2, the mask case conveyance part 61 is raised, and the positioning part of the mask case 30 to be used is used. The spherical surface portions 62Aa and 62Ba (convex portions) of the ball transfers 62A and 62B of the mask case transporting portion 61 are brought into contact (engaged) with the concave portions 36Aa and 36Ba of 36A and 36B, and the flat portion 36Ca of the positioning portion 36C of the mask case 30 is obtained. The spherical surface portion 62Ca of the ball transfer 62C is brought into contact (engaged) with (step 106). In this state, the mask case transport section 61 (mask case 30) is further raised so that the cutout portions 41Aa and 41Ba of the collar portions 41A and 41B pass through the support portions 47A1 and 47B1, and then, as indicated by the arrow A1, The mask case 30 is slid in the −Y direction by the width in the Y direction of the notches 41Aa and 41Ba, and then the mask case 30 is lowered as indicated by the arrow A2 (step 108).

これによって、図１３及び図９に２点鎖線で示すように、マスクケース３０の上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂが位置Ｐ３の支持部４７Ａ１，４７Ａ２及び４７Ｂ１，４７Ｂ２に載置され、下ケース部３１Ａだけがマスクケース搬送部６１に載置されて、下ケース部３１Ａから上ケース部３１Ｂが分離される。また、鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１ｂｂ内に支持部４７Ａ２，４７Ｂ２のピン４８が挿通されている。   Accordingly, as shown by a two-dot chain line in FIGS. 13 and 9, the flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B of the mask case 30 are placed on the support portions 47A1, 47A2 and 47B1, 47B2 at the position P3, Only the case part 31A is placed on the mask case transport part 61, and the upper case part 31B is separated from the lower case part 31A. Further, the pins 48 of the support portions 47A2 and 47B2 are inserted into the openings 41Ab and 41bb of the flange portions 41A and 41B.

さらに、一例として、ステップ１０８に続いて図１１（Ｃ）のステップ１３０において、制御装置ＣＯＮＴは、検出装置５２から射出された光ビームＬＢ１が、反射部材４９を介して検出装置５２で検出されるかどうかを確認してもよい。光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出される場合には、光ビームＬＢ１が、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過していること、即ち、上ケース部３１Ｂが正確に位置決めされていることを意味する。この場合には、マスクＭの使用後にマスクＭが載置された下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを載置する際に、上ケース部３１Ｂの下方の目標位置にマスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を移動して、下ケース部３１Ａを上昇させることによって、効率的に（短時間で）上ケース部３１Ｂに下ケース部３１Ａを正確に載置できる。   Further, as an example, in step 130 of FIG. 11C following step 108, the control device CONT detects the light beam LB1 emitted from the detection device 52 by the detection device 52 via the reflecting member 49. You may check if. When the light beam LB1 is detected by the detection device 52, the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B, that is, the upper case portion 31B is accurately positioned. Means that In this case, when the upper case portion 31B is placed on the lower case portion 31A on which the mask M is placed after the mask M is used, the mask case transporting portion 61 (lower portion) is placed at a target position below the upper case portion 31B. By moving the case portion 31A) and raising the lower case portion 31A, the lower case portion 31A can be efficiently and accurately placed on the upper case portion 31B (in a short time).

そこで、ステップ１３０において、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出される場合には動作はステップ１１０に移行する。一方、ステップ１３０において、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出されない場合には、ステップ１３２に移行して、再度マスクケース搬送部６１によって上ケース部３１Ｂを上昇させて上ケース部３１Ｂに上ケース部３１Ｂを載置した後、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出されるようにマスクケース搬送部６１のＹ方向の位置を調整した後、マスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を降下させる。そして、光ビームＬＢ１が検出装置５２で検出されるようになった状態で、ステップ１１０に移行する。なお、ステップ１３０及び１３２の動作は、ステップ１０８の途中（マスクケース３０の−Ｙ方向へのスライド移動の後）に行うようにしてもよい。   Therefore, in step 130, when the light beam LB1 is detected by the detection device 52, the operation proceeds to step 110. On the other hand, when the light beam LB1 is not detected by the detection device 52 in step 130, the process proceeds to step 132, where the upper case portion 31B is raised again by the mask case transport unit 61, and the upper case portion 31B is moved to the upper case portion 31B. After placing 31B, the position of the mask case transport section 61 in the Y direction is adjusted so that the light beam LB1 is detected by the detection device 52, and then the mask case transport section 61 (lower case section 31A) is lowered. Then, the process proceeds to step 110 in a state where the light beam LB1 is detected by the detection device 52. Note that the operations of Steps 130 and 132 may be performed during Step 108 (after the sliding movement of the mask case 30 in the -Y direction).

ステップ１１０において、矢印Ａ３で示すように、マスクケース搬送部６１を介して下ケース部３１Ａを−Ｙ方向にスライド移動させて、下ケース部３１ＡをマスクライブラリＬＢから引き抜いた後、マスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を搬送装置Ｈ１の最上部である位置ＣＡ１(図１参照)まで上昇させる。位置ＣＡ１において、マスクＭは、搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１からマスクローダ系Ｈ２のキャリア２１に受け渡される（ステップ１１２）。この際に、下ケース部３１Ａの位置決め部３６Ａ，３６Ｂがマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂに対して位置決めされており、キャリア２１とマスクケース搬送部６１（ボールトランスファ６２Ａ，６２Ｂ）とは互いに正確に位置決めされているため、キャリア２１は効率的にマスクケース搬送部６１からマスクＭを受け取ることができる。   In step 110, as indicated by an arrow A3, the lower case portion 31A is slid in the -Y direction via the mask case transport portion 61, and the lower case portion 31A is pulled out from the mask library LB, and then the mask case transport portion. 61 (lower case portion 31A) is raised to a position CA1 (see FIG. 1) which is the uppermost portion of the transport device H1. At the position CA1, the mask M is transferred from the mask case transport section 61 of the transport apparatus H1 to the carrier 21 of the mask loader system H2 (step 112). At this time, the positioning portions 36A and 36B of the lower case portion 31A are positioned with respect to the ball transfer 62A and 62B of the mask case transport portion 61, and the carrier 21 and the mask case transport portion 61 (ball transfer 62A and 62B) Are accurately positioned with respect to each other, the carrier 21 can efficiently receive the mask M from the mask case transport section 61.

キャリア２１は、例えば真空吸着機構によってマスクＭを受け取る。その真空吸着機構は、キャリア２１の底面に設けられた真空吸着孔と、その真空吸着孔に不図示の配管を介して連結された不図示の真空ポンプとを有し、この真空ポンプのオン／オフによってマスクＭの吸着保持及び保持解除を切り換え可能となっている。そして、マスクローダ系Ｈ２によってマスクＭはマスクステージＭＳＴの上方に搬送されて、マスクステージＭＳＴにロードされる（ステップ１１４）。   The carrier 21 receives the mask M by a vacuum suction mechanism, for example. The vacuum suction mechanism has a vacuum suction hole provided on the bottom surface of the carrier 21 and a vacuum pump (not shown) connected to the vacuum suction hole via a pipe (not shown). By switching off, the suction holding and holding release of the mask M can be switched. Then, the mask M is transported above the mask stage MST by the mask loader system H2 and loaded onto the mask stage MST (step 114).

即ち、キャリア２１は、マスクＭを保持した状態で、位置ＣＡ１と位置ＣＡ２との間をキャリアガイド部２１Ａに支持されつつ移動可能であると共に、キャリアガイド部２１Ａと共にＺ方向に移動可能である。つまり、キャリア２１は図１中、Ｘ方向及びＺ方向に移動可能に設けられている。キャリア２１は、位置ＣＡ１において搬送装置Ｈ１に支持されている下ケース部３１ＡからマスクＭを受け取った後、マスクＭを位置ＣＡ２まで搬送する。位置ＣＡ２に移動したキャリア２１は、位置ＣＡ２においてマスクＭをロードアーム２２に渡す。ここでロードアーム２２及びアンロードアーム２３は、図１中、Ｙ方向及びＺ方向に移動可能である。ロードアーム２２とアンロードアーム２３とは、位置ＣＡ２とマスクステージＭＳＴとの間をＹ方向に個別に移動可能であると共に、Ｚ方向についてはＺ軸ガイド部２２Ａに支持されつつ一体で移動可能となっている。これらロードアーム２２及びアンロードアーム２３は、マスクＭを保持する真空吸着孔を有しており、連結された真空ポンプのオン／オフによってマスクＭの吸着保持及び保持解除を行う。ロードアーム２２は、位置ＣＡ２において露光処理に使用するマスクＭをキャリア２１から受け取り、マスクステージＭＳＴの上方まで搬送した後、マスクＭをマスクステージＭＳＴにロードする。   That is, the carrier 21 can move between the position CA1 and the position CA2 while being supported by the carrier guide part 21A while holding the mask M, and can move in the Z direction together with the carrier guide part 21A. That is, the carrier 21 is provided to be movable in the X direction and the Z direction in FIG. The carrier 21 receives the mask M from the lower case portion 31A supported by the transfer device H1 at the position CA1, and then transfers the mask M to the position CA2. The carrier 21 that has moved to the position CA2 passes the mask M to the load arm 22 at the position CA2. Here, the load arm 22 and the unload arm 23 are movable in the Y direction and the Z direction in FIG. The load arm 22 and the unload arm 23 can be individually moved in the Y direction between the position CA2 and the mask stage MST, and can be moved integrally while being supported by the Z-axis guide portion 22A in the Z direction. It has become. The load arm 22 and the unload arm 23 have a vacuum suction hole for holding the mask M, and perform suction holding and holding release of the mask M by turning on / off a connected vacuum pump. The load arm 22 receives the mask M used for the exposure process from the carrier 21 at the position CA2 and transports the mask M to above the mask stage MST, and then loads the mask M onto the mask stage MST.

そして、露光装置ＥＸの露光部Ｓにおいて、マスクＭのパターンの像を所定ロット数のプレートＰに露光する（ステップ１１６）。露光部Ｓにおいて露光処理を終えたマスクＭはマスクローダ系Ｈ２及び搬送装置Ｈ１によってマスクライブラリＬＢに戻される（ステップ１１８）。即ち、マスクＭはアンロードアーム２３によりマスクステージＭＳＴからアンロードされ、位置ＣＡ２まで搬送される。位置ＣＡ２に搬送されたマスクＭは、この位置ＣＡ２に待機しているキャリア２１に渡され、このキャリア２１によって位置ＣＡ１に搬送される。そして、位置ＣＡ１に搬送されたマスクＭは、位置ＣＡ１に待機していた搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１に載置されている下ケース部３１Ａに載置される。その後、マスクケース搬送部６１（マスクＭが載置された下ケース部３１Ａ）を露光処理前に収容されていた収容部６５の高さまで移動し、マスクケース搬送部６１を図１３に示す上ケース部３１Ｂの下方の位置まで＋Ｙ方向にスライド移動する。   Then, in the exposure unit S of the exposure apparatus EX, the pattern image of the mask M is exposed on a predetermined number of plates P (step 116). The mask M that has been subjected to the exposure processing in the exposure unit S is returned to the mask library LB by the mask loader system H2 and the transport device H1 (step 118). That is, the mask M is unloaded from the mask stage MST by the unload arm 23 and conveyed to the position CA2. The mask M transferred to the position CA2 is transferred to the carrier 21 waiting at the position CA2, and is transferred to the position CA1 by the carrier 21. Then, the mask M transported to the position CA1 is placed on the lower case portion 31A placed on the mask case transporting portion 61 of the transport device H1 that has been waiting at the position CA1. Thereafter, the mask case transport section 61 (the lower case section 31A on which the mask M is placed) is moved to the height of the storage section 65 stored before the exposure process, and the mask case transport section 61 is moved to the upper case shown in FIG. Slide and move in the + Y direction to a position below the portion 31B.

さらに、マスクケース搬送部６１（下ケース部３１Ａ）を上昇させて、支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２で支持されている上ケース部３１Ｂを下ケース部３１Ａに載置した後、図１２の矢印Ａ１と逆方向にマスクケース搬送部６１によってマスクケース３０（下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１Ｂ）を移動することで、位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上（収容部６５）にマスクケース３０が戻される。その後、位置Ｐ２の収容部６５のマスクケース３０をマスクストッカ（不図示）に戻す場合には、搬送装置Ｈ１によってそのマスクケース３０を一時収容部６６に戻した後、搬送車Ｖによって一時収容部６６のマスクケース３０を露光チャンバＣＨの外部に搬出すればよい。   Further, after the mask case transport section 61 (lower case section 31A) is raised and the upper case section 31B supported by the support sections 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 is placed on the lower case section 31A, FIG. By moving the mask case 30 (the lower case portion 31A and the upper case portion 31B) by the mask case transporting portion 61 in the direction opposite to the arrow A1, the mask case 30 is placed on the rails 46A and 46B (accommodating portion 65) at the position P2. Returned. Then, when returning the mask case 30 of the accommodating part 65 of the position P2 to a mask stocker (not shown), after returning the mask case 30 to the temporary accommodating part 66 by the conveying apparatus H1, the temporary accommodating part is conveyed by the conveyance vehicle V. 66 mask cases 30 may be carried out of the exposure chamber CH.

この搬送方法によれば、マスクＭを収納するマスクケース３０の下ケース部３１Ａの位置決め部３６Ａ，３６Ｂを用いて、マスクケース３０と搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１との位置決めが自動的に高精度に行われており、搬送装置Ｈ１によるマスクライブラリＬＢに対するマスクケース３０の搬入及び搬出、さらに搬送装置Ｈ１とマスクローダ系Ｈ２（キャリア２１）との間のマスクＭの受け渡し、ひいては、例えば露光装置ＥＸで複数のマスクＭを用いて順次露光を行うような場合に、マスクライブラリＬＢとマスクステージＭＳＴとの間におけるマスクＭの搬送不良を低減することができる。   According to this transport method, the positioning of the mask case 30 and the mask case transport section 61 of the transport apparatus H1 is automatically performed using the positioning portions 36A and 36B of the lower case section 31A of the mask case 30 that stores the mask M. The mask case 30 is carried into and out of the mask library LB by the transfer device H1, and the mask M is transferred between the transfer device H1 and the mask loader system H2 (carrier 21). When the apparatus EX performs sequential exposure using a plurality of masks M, it is possible to reduce the transport failure of the mask M between the mask library LB and the mask stage MST.

上述のように本実施形態のマスクＭが収納されるマスクケース３０は、マスクＭを支持する支持部３４Ｂ，３４Ｃが設けられるベース部材３２（底面）を有する下ケース部３１Ａ（第１ケース部）と、下ケース部３１Ａに対して着脱可能に設けられ、ベース部材３２に対向配置される平板部３９ａ（上面）を有する上ケース部３１Ｂ（第２ケース部）とを備え、マスクライブラリＬＢ（保管装置）に保管可能なマスクケースである。そして、マスクケース３０において、上ケース部３１Ｂは、下ケース部３１Ａから取り外されてマスクライブラリＬＢに保持されるときに用いられる鍔部４１Ｂ（保持部）を有し、鍔部４１Ｂは、下ケース部３１Ａに装着された上ケース部３１ＢがマスクライブラリＬＢに保管される第１位置にあるときに、光ビームＬＢ１が通過する開口４１Ｂｄ（第１の光通過部）と、下ケース部３１Ａから取り外された上ケース部３１Ｂの鍔部４１ＢがマスクライブラリＬＢの支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２に保持される第２位置にあるときに、光ビームＬＢ１が通過する開口４１Ｂｃ（第２の光通過部）と、を備えている。
また、本実施形態のマスクケース３０は、マスクＭが載置される下ケース部３１Ａと、下ケース部３１Ａに載置されるマスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに載置される上ケース部３１Ｂと、を備え、上ケース部３１Ｂは、マスクライブラリＬＢ（マスクケース３０の保管部）で上ケース部３１Ｂを支持するための鍔部４１Ａ，４１Ｂを有し、鍔部４１Ｂに、上ケース部３１Ｂの位置を検出するための光ビームＬＢ１が通過可能な開口４１Ｂｃが設けられている。As described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated has the lower case portion 31A (first case portion) having the base member 32 (bottom surface) on which the support portions 34B and 34C for supporting the mask M are provided. And an upper case portion 31B (second case portion) having a flat plate portion 39a (upper surface) provided detachably with respect to the lower case portion 31A and arranged to face the base member 32, and a mask library LB (storage) It is a mask case that can be stored in the device. In the mask case 30, the upper case portion 31B has a collar portion 41B (holding portion) that is used when being removed from the lower case portion 31A and held in the mask library LB. When the upper case portion 31B attached to the portion 31A is in the first position where it is stored in the mask library LB, the opening 41Bd (first light passage portion) through which the light beam LB1 passes and the lower case portion 31A are removed. An opening 41Bc (second light passage portion) through which the light beam LB1 passes when the flange portion 41B of the upper case portion 31B is in the second position held by the support portions 47B1 and 47B2 of the mask library LB; It has.
The mask case 30 of the present embodiment is placed on the lower case portion 31A so as to cover the lower case portion 31A on which the mask M is placed and the mask M placed on the lower case portion 31A. The upper case portion 31B includes flange portions 41A and 41B for supporting the upper case portion 31B in the mask library LB (the storage portion of the mask case 30). An opening 41Bc through which the light beam LB1 for detecting the position of the case portion 31B can be passed is provided.

また、マスクＭを搬送する搬送装置Ｈ１は、マスクケース３０のマスクＭが載置された下ケース部３１Ａを支持するマスクケース搬送部６１（ケース支持部）と、下ケース部３１Ａから分離された上ケース部３１Ｂを、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂを介して支持する支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２（上ケース支持部）と、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃに光ビームＬＢ１を照射する光源部５２ａ（照射部）と、鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１を開口４１Ｂｃに向けて反射する反射部材４９と、反射部材４９で反射されて開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１を検出する光電センサ５２ｃ（検出部）と、を備えている。
また、マスクケース３０を保管するマスクライブラリＬＢ（保管装置）は、マスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂ（保持部）を介してマスクケース３０を支持可能な支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２と、支持部４７Ｂ１（支持部４７Ｂ１の近傍の鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃ，４１Ｂｄ）に向けて光ビームＬＢ１を照射する光源部５２ａ（照射部）と、支持部４７Ｂ１に向けて照射された光ビームＬＢ１を検出する光電センサ５２ｃ（検出部）と、を備えている。Further, the transfer device H1 for transferring the mask M is separated from the lower case portion 31A and the mask case transfer portion 61 (case support portion) that supports the lower case portion 31A on which the mask M of the mask case 30 is placed. Support portions 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 (upper case support portions) for supporting the upper case portion 31B via the flange portions 41A, 41B of the upper case portion 31B, and an opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B The light source unit 52a (irradiation unit) that irradiates the light beam LB1, the reflection member 49 that reflects the light beam LB1 that has passed through the opening 41Bc of the collar 41B toward the opening 41Bc, and the reflection member 49 that reflects the opening 41Bc. And a photoelectric sensor 52c (detection unit) that detects the light beam LB1 that has passed.
The mask library LB (storage device) that stores the mask case 30 includes support portions 47A1, 47A2, 47B1, and 47B2 that can support the mask case 30 through the flange portions 41A and 41B (holding portions) of the mask case 30. The light source part 52a (irradiation part) which irradiates the light beam LB1 toward the support part 47B1 (the openings 41Bc and 41Bd of the flange part 41B near the support part 47B1), and the light beam LB1 irradiated toward the support part 47B1 And a photoelectric sensor 52c (detection unit) for detecting.

また、マスクＭの搬送方法は、マスクケース３０のマスクＭが載置された下ケース部３１Ａを支持するステップ１０６と、上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃに光ビームＬＢ１を照射し、開口４１Ｂｃを通過した後、反射部材４９（光ビーム反射部）で反射されて開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１を検出するステップ１３０と、光ビームＬＢ１の検出結果に応じて上ケース部３１Ｂの位置を調整するステップ１３２とを有する。
また、マスクケース３０を保管する保管方法は、マスクケース３０の鍔部４１Ａ，４１Ｂを介してマスクケース３０の上ケース部３１Ｂを支持するステップ１０８と、鍔部４１Ｂに向けて光ビームＬＢ１を照射し、鍔部４１Ｂに向けて照射された光ビームＬＢ１を検出するステップ１３０とを含んでいる。In addition, the mask M is transported by irradiating the light beam LB1 to the step 41 supporting the lower case portion 31A on which the mask M of the mask case 30 is placed, and the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B. After passing through the opening 41Bc, step 130 for detecting the light beam LB1 reflected by the reflecting member 49 (light beam reflecting portion) and passed through the opening 41Bc, and the position of the upper case portion 31B according to the detection result of the light beam LB1 Adjusting step 132.
Further, the storage method for storing the mask case 30 includes the step 108 of supporting the upper case portion 31B of the mask case 30 via the flange portions 41A and 41B of the mask case 30, and the irradiation of the light beam LB1 toward the flange portion 41B. And step 130 of detecting the light beam LB1 irradiated toward the collar portion 41B.

本実施形態によれば、鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過した光ビームＬＢ１が検出されるように上ケース部３１Ｂの支持部４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２に対する位置決めを行うことで、次に下ケース部３１Ａに上ケース部３１Ｂを載置する際の位置合わせを効率的に行うことができる。このため、マスクＭを収納するマスクケース３０をマスクライブラリＬＢに戻す際の時間を短縮でき、マスクＭの搬送を効率的に（短時間に）行うことができる。   According to this embodiment, by positioning the upper case portion 31B with respect to the support portions 47A1, 47A2, 47B1, and 47B2 so that the light beam LB1 that has passed through the opening 41Bc of the collar portion 41B is detected, the lower case is then placed. Positioning when placing the upper case portion 31B on the portion 31A can be performed efficiently. For this reason, it is possible to shorten the time for returning the mask case 30 storing the mask M to the mask library LB, and to efficiently carry the mask M (in a short time).

なお、本実施形態において、マスクケース３０の上ケース部３１Ｂに鍔部４１Ａ，４１Ｂを設ける場合には、マスクケース３０の下ケース部３１Ａに位置決め部３６Ａ〜３６Ｃ、反射部３７Ａ、及び窓部３２ａ１を設ける必要は必ずしもない。そして、下ケース部３１Ａに位置決め部３６Ａ〜３６Ｃを設けない場合には、マスクケース３０の搬送時に、下ケース部３１Ａをエアー浮上機構、カムフォロア機構、又はローラコンペア機構等で搬送してもよい。   In this embodiment, when the collar portions 41A and 41B are provided on the upper case portion 31B of the mask case 30, the positioning portions 36A to 36C, the reflection portion 37A, and the window portion 32a1 are provided on the lower case portion 31A of the mask case 30. It is not always necessary to provide. When the positioning portions 36A to 36C are not provided in the lower case portion 31A, the lower case portion 31A may be transported by an air floating mechanism, a cam follower mechanism, a roller compare mechanism, or the like when the mask case 30 is transported.

また、上述のように本実施形態のマスクＭが収納されるマスクケース３０は、マスクＭが載置される下ケース部３１Ａと、マスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに載置される上ケース部３１Ｂと、を備え、下ケース部３１Ａの底面に、外部からの光を反射する反射部３７Ａ（第１反射部）、及び外部からの光を通過させる窓部３２ａ１が設けられている。   Further, as described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated is placed on the lower case portion 31A so as to cover the lower case portion 31A on which the mask M is placed and the mask M. An upper case portion 31B, and a bottom surface of the lower case portion 31A is provided with a reflection portion 37A (first reflection portion) that reflects light from the outside and a window portion 32a1 that allows light from the outside to pass through. .

また、マスクＭを搬送する搬送装置Ｈ１は、マスクＭが収納されたマスクケース３０を支持するマスクケース搬送部６１（ケース支持部）と、下ケース部３１Ａの反射部３７Ａに光ビームＬＢ２を照射し、反射部３７Ａからの反射光を検出して下ケース部３１Ａの有無（状態）を検出する検出部６３ａ（第１検出部）と、下ケース部３１Ａに載置されているマスクＭに下ケース部３１Ａの窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ３を照射し、マスクＭからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出してマスクＭの有無又はマスクＭまでの距離（マスクＭの状態）を検出する検出部６３ｂ（第２検出部）と、下ケース部３１Ａ上に載置されている上ケース部３１Ｂに窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ４を照射し、上ケース部３１Ｂに設けられた反射部３７Ｂからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出して上ケース部３１Ｂの有無又は上ケース部３１Ｂまでの距離（上ケース部３１Ｂの状態）を検出する検出部６３ｃ（第３検出部）と、を備えている。   The transport device H1 that transports the mask M irradiates the light beam LB2 to the mask case transport section 61 (case support section) that supports the mask case 30 in which the mask M is stored, and the reflection section 37A of the lower case section 31A. Then, a detection unit 63a (first detection unit) that detects the presence (state) of the lower case unit 31A by detecting reflected light from the reflection unit 37A, and a mask M placed on the lower case unit 31A The light beam LB3 is irradiated through the window portion 32a1 of the case portion 31A, and the reflected light from the mask M is detected through the window portion 32a1 to determine the presence or absence of the mask M or the distance to the mask M (the state of the mask M). The detection unit 63b (second detection unit) to detect and the upper case part 31B placed on the lower case part 31A are irradiated with the light beam LB4 via the window part 32a1, and are provided in the upper case part 31B. Reflector A detection unit 63c (third detection unit) that detects reflected light from 7B through the window 32a1 and detects the presence or absence of the upper case unit 31B or the distance to the upper case unit 31B (the state of the upper case unit 31B); It is equipped with.

また、マスクＭの搬送方法は、マスクＭが収納されマスクケース３０をマスクケース搬送部６１で支持するステップ１０２と、下ケース部３１Ａの反射部３７Ａに光ビームＬＢ２を照射し、反射部３７Ａからの反射光を検出して下ケース部３１Ａの有無（状態）を検出し、下ケース部３１Ａに載置されたマスクＭに下ケース部３１Ａの窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ３を照射し、マスクＭからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出してマスクＭの有無等の状態を検出し、下ケース部３１Ａ上に載置された上ケース部３１Ｂに窓部３２ａ１を介して光ビームＬＢ４を照射し、上ケース部３１Ｂに設けられた反射部３７Ｂからの反射光を窓部３２ａ１を介して検出して上ケース部３１Ｂの有無等の状態を検出するステップ１２０とを有する。   The mask M is transported by the step 102 in which the mask M is stored and the mask case 30 is supported by the mask case transport unit 61, and the light beam LB2 is applied to the reflective portion 37A of the lower case portion 31A. , The presence or absence (state) of the lower case portion 31A is detected, the mask M placed on the lower case portion 31A is irradiated with the light beam LB3 via the window portion 32a1 of the lower case portion 31A, and The reflected light from the mask M is detected through the window 32a1 to detect the presence / absence of the mask M, and the light beam is transmitted through the window 32a1 to the upper case 31B mounted on the lower case 31A. Irradiating LB4, and detecting the reflected light from the reflection part 37B provided in the upper case part 31B through the window part 32a1, and detecting the state of the upper case part 31B and the like.

本実施形態によれば、マスクＭが収納されていないマスクケース３０、又は必要とするマスクケースと異なる種類のマスクケース等を誤ってマスクライブラリＬＢに収容することを防止できるため、マスクＭの搬送中においてマスクケース３０を返却する事態等を防止でき、マスクＭの搬送不良を低減してマスクＭを確実に搬送できる。
なお、マスクケース３０の下ケース部３１Ａに反射部３７Ａ及び窓部３２ａ１を設けた場合には、下ケース部３１Ａの底面に位置決め部３６Ａ〜３６Ｃを設ける必要も必ずしもない。この場合、搬送装置Ｈ１（マスクケース搬送部６１）とマスクケース３０との連結は、クランプ機構、電磁石機構、又は真空吸着機構等を用いた連結機構によって行ってもよい。According to the present embodiment, the mask case 30 in which the mask M is not stored, or a mask case of a type different from the required mask case can be prevented from being erroneously stored in the mask library LB. It is possible to prevent a situation in which the mask case 30 is returned, and to reduce the defective transport of the mask M, thereby reliably transporting the mask M.
In addition, when the reflection part 37A and the window part 32a1 are provided in the lower case part 31A of the mask case 30, it is not always necessary to provide the positioning parts 36A to 36C on the bottom surface of the lower case part 31A. In this case, the transfer device H1 (mask case transfer unit 61) and the mask case 30 may be connected by a connection mechanism using a clamp mechanism, an electromagnet mechanism, a vacuum suction mechanism, or the like.

また、上述のように本実施形態のマスクＭが収納されるマスクケース３０は、マスクＭが載置される下ケース部３１Ａと、マスクＭを覆うように、下ケース部３１Ａに載置される上ケース部３１Ｂと、を備え、下ケース部３１Ａの搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１（マスクケースの搬送部）に対向する底面に、回転対称な凹部３６Ａａが形成された位置決め部３６Ａ、Ｖ字型の溝状の凹部３６Ｂａが形成された位置決め部３６Ｂ、及び平坦面３６Ｃａが形成された少なくとも一つの位置決め部３６Ｃが設けられている。   Further, as described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated is placed on the lower case portion 31A so as to cover the lower case portion 31A on which the mask M is placed and the mask M. Positioning part 36A, V provided with a rotationally symmetric recess 36Aa on the bottom surface of the lower case part 31A facing the mask case transport part 61 (mask case transport part) of the transport device H1. There are provided a positioning portion 36B in which a character-shaped groove-like recess 36Ba is formed and at least one positioning portion 36C in which a flat surface 36Ca is formed.

また、マスクＭを搬送する搬送装置Ｈ１は、マスクケース３０を支持するマスクケース搬送部６１（ケース支持部）と、下ケース部３１Ａの凹部３６Ａａに係合可能にマスクケース搬送部６１に設けられたボールトランスファ６２Ａ（第１の凸部）と、下ケース部３１Ａの凹部３６Ｂａに係合可能にマスクケース搬送部６１に設けられたボールトランスファ６２Ｂ（第２の凸部）と、下ケース部３１Ａの平坦面３６Ｃａに係合可能にマスクケース搬送部６１に設けられた位置決め部３６Ｃ（第３の凸部）と、を備えている。   The transport device H1 for transporting the mask M is provided in the mask case transport section 61 so as to be engageable with the mask case transport section 61 (case support section) that supports the mask case 30 and the recess 36Aa of the lower case section 31A. The ball transfer 62A (first convex portion), the ball transfer 62B (second convex portion) provided in the mask case transporting portion 61 so as to be engageable with the concave portion 36Ba of the lower case portion 31A, and the lower case portion 31A. Positioning part 36C (third convex part) provided in mask case transport part 61 so as to be engageable with flat surface 36Ca.

また、マスクＭを搬送する搬送方法は、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦面３６Ｃａをそれぞれマスクケース搬送部６１のボールトランスファ６２Ａ〜６２Ｃで支持するステップ１０６と、凹部３６Ａａ，３６Ｂａ及び平坦面３６Ｃａを介して支持した上ケース部３１Ｂを位置ＣＡ１（マスクＭのマスクローダ系Ｈ２に対する受け渡し位置）まで移動するステップ１１０とを有する。   Further, the transport method for transporting the mask M includes the step 106 of supporting the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat surface 36Ca of the lower case portion 31A of the mask case 30 with the ball transfers 62A to 62C of the mask case transport portion 61 and the concave portion 36Aa. , 36Ba and the upper case part 31B supported via the flat surface 36Ca are moved to a position CA1 (a delivery position of the mask M to the mask loader system H2) 110.

本実施形態によれば、マスクケース３０の下ケース部３１Ａの凹部３６Ａａ，３６Ｂａによって、搬送装置Ｈ１に対する下ケース部３１Ａ（及びマスクＭ）の位置決めが高精度に行われているため、搬送装置Ｈ１からマスクローダ系Ｈ２に下ケース部３１Ａ内のマスクＭを受け渡す際に、マスクローダ系Ｈ２によるマスクＭのサーチ等をほとんど行う必要がなく、搬送装置Ｈ１からマスクローダ系Ｈ２に対するマスクＭの受け渡しの確からしさを向上させることができ、マスクＭの搬送不良を低減させることができる。さらに、マスクローダ系Ｈ２に対するマスクＭの位置決めも高精度に行われているため、マスクローダ系Ｈ２からマスクステージＭＳＴにマスクＭをロードする際のマスクステージＭＳＴに対するマスクＭの受け渡しの確からしさも向上させることができ、マスクＭの搬送の搬送不良を低減させることができる。   According to this embodiment, the positioning of the lower case portion 31A (and the mask M) with respect to the transport device H1 is performed with high accuracy by the recesses 36Aa and 36Ba of the lower case portion 31A of the mask case 30, and therefore the transport device H1. When the mask M in the lower case portion 31A is transferred from the mask loader system H2 to the mask loader system H2, there is almost no need to search for the mask M by the mask loader system H2, and the mask M is transferred from the transfer device H1 to the mask loader system H2. The reliability of the mask M can be improved, and the conveyance failure of the mask M can be reduced. Further, since the positioning of the mask M with respect to the mask loader system H2 is performed with high accuracy, the accuracy of the delivery of the mask M to the mask stage MST when the mask M is loaded from the mask loader system H2 to the mask stage MST is also improved. It is possible to reduce the conveyance failure of the mask M.

また、マスクライブラリＬＢに設けられている光源部５２ａ及び光電センサ５２ｃを有する検出装置５２（検出部）は、マスクケース３０の上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ａ，４１Ｂの開口４１Ａｂ，４１Ｂｂが支持部４７Ａ２，４７Ｂ２のピン４８に係合すること、及び係合しないことの少なくとも一方を検出する検出部とみなすこともできる。すなわち、検出装置５２によって、光ビームＬＢ１が上ケース部３１Ｂの鍔部４１Ｂの開口４１Ｂｃを通過することが検出された場合には、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合するとみなすことができ、光ビームＬＢ１が開口４１Ｂｃを通過しないことが検出された場合には、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合しないとみなすことができる。開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合しないことが検出された場合には、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合するようにマスクケース３０（上ケース部３１Ｂ）の位置を調整することができる。さらに、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂがピン４８に係合しないことが検出された場合に、マスクＭ及び／又はマスクケース３０の搬送を中断して、マスクケース３０を例えば一時収容部６６に戻すようにしてもよい。
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、露光光でマスクＭを照明し、露光光でマスクＭ及び投影光学系ＰＬを介してプレートＰ（基板）を露光する露光装置であって、マスクＭを保持するマスクステージＭＳＴと、搬送装置Ｈ１と、を備え、搬送装置Ｈ１によって搬送されるマスクケース３０から取り出されるマスクＭがマスクステージＭＳＴに載置される。Further, in the detection device 52 (detection unit) having the light source unit 52a and the photoelectric sensor 52c provided in the mask library LB, the openings 41Ab and 41Bb of the collar portions 41A and 41B of the upper case portion 31B of the mask case 30 are supported. It can also be regarded as a detection unit that detects at least one of engagement and non-engagement with the pins 48 of 47A2 and 47B2. That is, when the detection device 52 detects that the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B, the openings 41Ab and 41Bb can be regarded as engaging the pin 48. When it is detected that the light beam LB1 does not pass through the opening 41Bc, it can be considered that the openings 41Ab and 41Bb do not engage with the pin 48. When it is detected that the openings 41Ab and 41Bb do not engage with the pin 48, the position of the mask case 30 (upper case portion 31B) can be adjusted so that the openings 41Ab and 41Bb engage with the pin 48. . Further, when it is detected that the openings 41Ab and 41Bb are not engaged with the pins 48, the transport of the mask M and / or the mask case 30 is interrupted, and the mask case 30 is returned to the temporary housing portion 66, for example. Also good.
The exposure apparatus EX of the present embodiment is an exposure apparatus that illuminates the mask M with exposure light and exposes the plate P (substrate) with the exposure light via the mask M and the projection optical system PL. A mask stage MST to be held and a transport apparatus H1 are provided, and a mask M taken out from the mask case 30 transported by the transport apparatus H1 is placed on the mask stage MST.

また、露光装置ＥＸを用いる露光方法は、マスクＭの搬送方法を含むものである。
本実施形態によれば、露光装置ＥＸの露光工程におけるマスクＭの搬送不良を低減させることができる。
なお、上述の実施形態においては以下のような変形が可能である。
まず、上述の実施形態においては、マスクケース３０の側面に１対の鍔部４１Ａ，４１Ｂが設けられているが、図１４の変形例のマスクケース３０Ａで示すように、マスクケースの対向する側面に複数（一例として２つ）の鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２を設けてもよい。なお、図１４において図３（Ａ）に対応する部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。また、図１５（Ａ）〜（Ｅ）、及び図１７（Ａ）〜（Ｅ）において、図１２、図１３に対応する部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。The exposure method using the exposure apparatus EX includes a method for transporting the mask M.
According to this embodiment, the conveyance failure of the mask M in the exposure process of the exposure apparatus EX can be reduced.
In the above-described embodiment, the following modifications are possible.
First, in the above-described embodiment, the pair of flange portions 41A and 41B are provided on the side surface of the mask case 30, but as shown in the mask case 30A of the modified example of FIG. A plurality of (two by way of example) collars 41C1, 41C2 and 41D1, 41D2 may be provided. In FIG. 14, parts corresponding to those in FIG. 3A are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. Further, in FIGS. 15A to 15E and FIGS. 17A to 17E, portions corresponding to those in FIGS. 12 and 13 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図１４において、マスクケース３０Ａは、マスクＭ（図４参照）が載置される下ケース部（第１ケース部）３１Ａと、その下ケース部３１Ａに載置されたマスクＭを覆うように下ケース部３１Ａの上に載置（装着）される上ケース部（第２ケース部）３１ＢＡとを備えている。また、上ケース部３１ＢＡのカバー部材３９の＋Ｘ方向の側面のＹ方向に離れた２箇所に外側に突き出るように鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２（保持部）が設けられ、カバー部材３９の−Ｘ方向の側面のほぼ鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２に対向する位置に外側に突き出るように２つの鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２（保持部）が設けられている。一例として、鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２（鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２）のＹ方向の間隔はカバー部材３９のＹ方向の長さの１／２程度である。   In FIG. 14, the mask case 30A is arranged so as to cover the lower case part (first case part) 31A on which the mask M (see FIG. 4) is placed and the mask M placed on the lower case part 31A. And an upper case part (second case part) 31BA placed (mounted) on the case part 31A. In addition, flange portions 41C1 and 41C2 (holding portions) are provided so as to protrude outwardly at two locations separated in the Y direction on the side surface in the + X direction of the cover member 39 of the upper case portion 31BA, and the −X direction of the cover member 39 is provided. Two flange portions 41D1 and 41D2 (holding portions) are provided so as to protrude outward at positions substantially opposite to the flange portions 41C1 and 41C2 on the side surfaces. As an example, the interval in the Y direction between the flange portions 41C1 and 41C2 (the flange portions 41D1 and 41D2) is about ½ of the length of the cover member 39 in the Y direction.

鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２は断面形状がＬ字型であり、鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２のうちカバー部材３９の側壁部３９ｃ，３９ｄ（図４参照）に対向する部分がそれぞれ複数箇所でボルト（不図示）によって側壁部３９ｃ，３９ｄに固定されている。以下、鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２の＋Ｘ方向及び−Ｘ方向に突き出た部分を単に鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２及び４１Ｄ１，４１Ｄ２という。
−Ｙ方向にある鍔部４１Ｃ１，４１Ｄ１には、それぞれマスクライブラリＬＢの支持部４７Ａ２，４７Ｂ２の上面のピン４８（図９参照）が挿通可能な大きさの開口（貫通孔）４１Ｃ１ａ，４１Ｄ１ａが設けられている。一例として、マスクケース３０Ａのより大きい位置決め誤差に対応できるように、一方の開口４１Ｄ１ａは他方の開口４１Ｃ１ａよりも大きく形成されている。また、＋Ｙ方向で＋Ｘ方向の鍔部４１Ｃ２には、Ｙ方向に沿って所定間隔で２つの互いに同じ大きさの円形の開口（貫通孔）４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂが設けられている。具体的には、一例として、開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、Ｙ方向に互いに６０ｍｍ隔てた位置が開口（貫通）するように設けられている。また、一例として、４１Ｃ２ａの中心と、開口４１Ｃ１ａの中心とのＹ方向の間隔は５７０ｍｍである。開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、図９の検出装置５２から照射される光ビームＬＢ１を通過させるために使用される。なお、開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、互いに同じ大きさに限定されず異なる大きさであってもよく、円形状に限定されず他の形状であってもよい。例えば、開口４１Ｃ２ａ，４１Ｃ２ｂは、円形状に閉じた開口（孔）形状ではなく、鍔部４１Ｃ２の側面に繋がった切り欠き形状であってもよい。また、開口４１Ａｂ，４１Ｂｂは、ピン４８が挿通されるように貫通した開口した形状に限定されず、ピン４８と互いに嵌合する形状であればよく、例えば、鍔部４１Ａ，４１Ｂの上面側が閉じた（開口していない）孔、すなわち貫通していない（凹状の）孔とすることもできる。この他の構成は図４のマスクケース３０と同様である。The flange portions 41C1, 41C2, and 41D1, 41D2 have an L-shaped cross section, and the portions of the flange portions 41C1, 41C2, 41D1, and 41D2 that face the side wall portions 39c and 39d (see FIG. 4) of the cover member 39 are respectively provided. It is being fixed to the side wall parts 39c and 39d by the volt | bolt (not shown) in several places. Hereinafter, portions protruding in the + X direction and the −X direction of the collar portions 41C1, 41C2, and 41D1, 41D2 are simply referred to as collar portions 41C1, 41C2, and 41D1, 41D2.
The flange portions 41C1 and 41D1 in the −Y direction are provided with openings (through holes) 41C1a and 41D1a that are large enough to allow insertion of the pins 48 (see FIG. 9) on the upper surfaces of the support portions 47A2 and 47B2 of the mask library LB, respectively. It has been. As an example, one opening 41D1a is formed larger than the other opening 41C1a so as to cope with a larger positioning error of the mask case 30A. Further, in the + Y direction and the + X direction flange portion 41C2, two circular openings (through holes) 41C2a and 41C2b having the same size are provided at predetermined intervals along the Y direction. Specifically, as an example, the openings 41C2a and 41C2b are provided so that positions separated by 60 mm in the Y direction are opened (penetrated). As an example, the distance in the Y direction between the center of 41C2a and the center of the opening 41C1a is 570 mm. The openings 41C2a and 41C2b are used to pass the light beam LB1 emitted from the detection device 52 of FIG. Note that the openings 41C2a and 41C2b are not limited to the same size but may be different sizes, and are not limited to a circular shape and may have other shapes. For example, the openings 41C2a and 41C2b may have a cutout shape connected to the side surface of the flange portion 41C2 instead of the circularly closed opening (hole) shape. Further, the openings 41Ab and 41Bb are not limited to the shape of the opening through which the pin 48 is inserted, and may be any shape that fits with the pin 48. For example, the upper surface sides of the flange portions 41A and 41B are closed. It can also be a hole (not open), that is, a hole that does not penetrate (concave). Other configurations are the same as those of the mask case 30 of FIG.

この変形例のマスクケース３０Ａを上述の実施形態のマスクライブラリＬＢに収容する場合、図１０に示すように、位置Ｐ１（又はＰ２〜Ｐ５）のレール４６Ａ，４６Ｂ上の目標位置にマスクケース３０Ａを載置した状態で、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａ内を光ビームＬＢ１が通過するように、光ビームＬＢ１の光路が設定されている。さらに、上述の搬送装置Ｈ１によってマスクケース３０Ａの上ケース部３１ＢＡの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２，４１Ｄ１，４１Ｄ２を例えば位置Ｐ２（又は位置Ｐ３〜Ｐ５等）の支持部４７Ｂ２，４７Ｂ１，４７Ａ２，４７Ａ１、又は４７Ｄ２，４７Ｄ１，４７Ｃ２，４７Ｃ１上に載置した状態で、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ内を光ビームＬＢ１が通過するように、上ケース部３１ＢＡが位置決めされる。   When accommodating the mask case 30A of this modification in the mask library LB of the above-described embodiment, as shown in FIG. 10, the mask case 30A is placed at the target position on the rails 46A and 46B at the position P1 (or P2 to P5). The optical path of the light beam LB1 is set so that the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the collar portion 41C2 in the mounted state. Further, the above-described transfer device H1 allows the flange portions 41C1, 41C2, 41D1, and 41D2 of the upper case portion 31BA of the mask case 30A to be supported at, for example, the support portions 47B2, 47B1, 47A2, and 47A1 at the position P2 (or the positions P3 to P5). The upper case portion 31BA is positioned so that the light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the collar portion 41C2 while being placed on the 47D2, 47D1, 47C2, and 47C1.

このように位置Ｐ１〜Ｐ５の全部のマスクケース３０Ａ及び／又は上ケース部３１ＢＡがそれぞれ収容部６５の所定位置（目標位置）に位置決めされた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｃの開口４１Ｃ２ｂ内を通過するため、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体がないことを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出することで、マスクケース３０Ａ及び／又は上ケース部３１ＢＡが収容部６５（目標位置）に対して所定の許容範囲内に位置決めされたことを検知することができる。換言すると、収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１ＢＡの収容状態を検知することができる。   As described above, in a state where all the mask cases 30A and / or the upper case portion 31BA at the positions P1 to P5 are respectively positioned at predetermined positions (target positions) of the accommodating portion 65, the light beam LB1 is within the opening 41C2b of the flange portion 41C. Therefore, the detection device 52 can detect that there is no object in the optical path of the light beam LB1. That is, by detecting the light beam LB1 by the detection device 52, it is detected that the mask case 30A and / or the upper case portion 31BA are positioned within a predetermined allowable range with respect to the housing portion 65 (target position). Can do. In other words, it is possible to detect the accommodation state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31BA with respect to the accommodation portion 65.

一方、位置Ｐ１〜Ｐ５のいずれかのマスクケース３０Ａ又は上ケース部３１ＢＡが目標位置から許容範囲を超えてずれた状態では、光ビームＬＢ１は鍔部４１Ｃの開口４１Ｃ２ｂを通過できなくなり、検出装置５２では光ビームＬＢ１の光路に物体（鍔部４１Ｃ２）があることを検出できる。すなわち、検出装置５２により光ビームＬＢ１を検出できなくなることで、マスクケース３０Ａ及び／又は上ケース部３１ＢＡが目標位置に対して許容範囲を超えて位置決めされた（すなわち位置ずれしている）ことを検知することができる。換言すると、この場合も収容部６５に対するマスクケース３０及び／又は上ケース部３１ＢＡの収容状態を検知することができる。このため、一例として、搬送装置Ｈ１によって収容部６５にマスクケース３０Ａを搬送する際、又はマスクケース３０Ａの上ケース部３１ＢＡを対応する支持部４７Ａ１〜４７Ｂ２等に載置する際には、それぞれ検出装置５２で光ビームＬＢ１が検出できるようにマスクケース３０Ａ又は上ケース部３１ＢＡの位置を調整することによって、マスクケース３０Ａ又は上ケース部３１ＢＡをそれぞれ容易に目標位置に設置できる。   On the other hand, when the mask case 30A or the upper case portion 31BA at any of the positions P1 to P5 deviates from the target position beyond the allowable range, the light beam LB1 cannot pass through the opening 41C2b of the flange portion 41C, and the detection device 52 Then, it can be detected that an object (the collar 41C2) is in the optical path of the light beam LB1. That is, when the light beam LB1 cannot be detected by the detection device 52, the mask case 30A and / or the upper case portion 31BA is positioned beyond the allowable range with respect to the target position (that is, is displaced). Can be detected. In other words, also in this case, it is possible to detect the accommodation state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31BA with respect to the accommodation portion 65. Therefore, as an example, when the mask case 30A is transported to the accommodating portion 65 by the transport device H1, or when the upper case portion 31BA of the mask case 30A is placed on the corresponding support portions 47A1 to 47B2, etc. By adjusting the position of the mask case 30A or the upper case portion 31BA so that the light beam LB1 can be detected by the device 52, the mask case 30A or the upper case portion 31BA can be easily installed at the target position.

具体的に、搬送装置Ｈ１の搬送アーム６１を用いてマスクケース３０ＡをマスクライブラリＬＢの例えば位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上に搬送する場合、図１５（Ａ）に示すように、搬送アーム６１に載置されたマスクケース３０Ａが位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ（レール４６Ａは不図示）の上方に搬送される。この際に図１２の検出装置５２から射出される光ビームＬＢ１は、マスクケース３０Ａの鍔部４１Ｃ２で遮光されていないため、図１２の反射部材４９で反射される光ビームＬＢ１を検出装置５２で受光して得られる検出信号Ｓ１は、図１６（Ａ）の時点ｔ１で示すように２値化するための所定の閾値Ｓｔｈを超えている。検出信号Ｓ１から制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２が光ビームＬＢ１まで達していないことを認識できる。   Specifically, when the mask case 30A is transported to, for example, the rails 46A and 46B at the position P2 of the mask library LB using the transport arm 61 of the transport device H1, as shown in FIG. The mounted mask case 30A is conveyed above the rails 46A and 46B (the rail 46A is not shown) at the position P2. At this time, since the light beam LB1 emitted from the detection device 52 in FIG. 12 is not shielded by the flange 41C2 of the mask case 30A, the light beam LB1 reflected by the reflection member 49 in FIG. The detection signal S1 obtained by receiving the light exceeds a predetermined threshold value Sth for binarization as shown at time t1 in FIG. From the detection signal S1, the control device CONT can recognize that the collar portion 41C2 does not reach the light beam LB1.

そして、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｂ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２で遮光されると、時点ｔ２で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも小さくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２が光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。なお、搬送アーム６１のＸ方向、Ｙ方向、及びＺ方向の位置は例えばリニアエンコーダ（不図示）によって計測されている。また、図１６（Ａ），（Ｂ）の横軸は時間ｔであり、検出信号Ｓ１は所定のサンプリングレートで不揮発性の記憶装置（例えばフラッシュメモリ）に記憶されている。さらに、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｃ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂを通過するようになると、時点ｔ３で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも大きくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂが光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。   Then, when the transport arm 61 is moved in the + Y direction and the light beam LB1 is shielded by the flange 41C2 as shown in FIG. 15B, the detection signal S1 becomes lower than the threshold value Sth as shown at time t2. The controller CONT can recognize that the collar 41C2 has reached the light beam LB1. Note that the positions of the transfer arm 61 in the X, Y, and Z directions are measured by, for example, a linear encoder (not shown). In FIGS. 16A and 16B, the horizontal axis represents time t, and the detection signal S1 is stored in a nonvolatile storage device (for example, a flash memory) at a predetermined sampling rate. Further, when the transport arm 61 is moved in the + Y direction and the light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the collar portion 41C2 as shown in FIG. 15C, the detection signal S1 becomes as shown at time t3. It becomes larger than the threshold value Sth, and the control device CONT can recognize that the opening 41C2b of the collar portion 41C2 has reached the light beam LB1.

そして、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｄ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２で遮光されると、時点ｔ４で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも小さくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａ間の領域が光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。さらに、搬送アーム６１を＋Ｙ方向に移動して、図１５（Ｅ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａを通過するようになると、時点ｔ５で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも大きくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａが光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。この時点ｔ５で、制御装置ＣＯＮＴは搬送アーム６１のＹ方向への移動を停止させ、搬送アーム６１を−Ｚ方向に降下させる。この動作によって、マスクケース３０Ａ（下ケース部３１Ａ）は位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上に載置される。   Then, when the transport arm 61 is moved in the + Y direction and the light beam LB1 is shielded by the collar 41C2 as shown in FIG. 15D, the detection signal S1 becomes lower than the threshold value Sth as shown at time t4. The controller CONT can recognize that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the collar 41C2 has reached the light beam LB1. Further, when the transport arm 61 is moved in the + Y direction and the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the flange portion 41C2 as shown in FIG. 15E, the detection signal S1 becomes as shown at time t5. The control device CONT can recognize that the opening 41C2a of the collar portion 41C2 has reached the light beam LB1. At this time t5, the control device CONT stops the movement of the transfer arm 61 in the Y direction and lowers the transfer arm 61 in the −Z direction. By this operation, mask case 30A (lower case portion 31A) is placed on rails 46A and 46B at position P2.

この動作の途中で、例えば時点ｔ３，ｔ４間の時点ｔｘで停電等によって搬送装置Ｈ１が停止した場合、その停電から復旧した後で、制御装置ＣＯＮＴは、記憶されている検出信号Ｓ１の履歴から、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａの間の領域が光ビームＬＢ１を遮光する位置にあることを認識できる。このため、マスクケース３０ＡをマスクライブラリＬＢに搬入する動作を円滑に再開できる。なお、停電から復旧した後で、搬送アーム６１を＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に移動させて、その際に観測される検出信号の検出結果に基づいて、マスクケース３０ＡがライブラリＬＢ内のどこにあるかを認識しても良い。
その後、位置Ｐ２のレール４６Ａ，４６Ｂ上にマスクケース３０Ａ内のマスクＭを露光に使用する場合には、図１７（Ａ）に示すように、搬送装置Ｈ１の搬送アーム６１をマスクケース３０Ａの下ケース部３１Ａの下方に移動する。光ビームＬＢ１は、マスクケース３０Ａの鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ａを通過しているため、光ビームＬＢ１の検出信号Ｓ１は、図１６（Ｂ）の時点ｔ１１で示すように閾値Ｓｔｈを超えている。In the middle of this operation, for example, when the transport device H1 stops due to a power failure or the like at a time tx between time points t3 and t4, after recovering from the power failure, the control device CONT uses the stored history of the detection signal S1. It can be recognized that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the collar portion 41C2 is at a position where the light beam LB1 is shielded. For this reason, the operation of carrying the mask case 30A into the mask library LB can be smoothly resumed. After recovering from the power failure, the transfer arm 61 is moved in the + Y direction or the −Y direction, and where in the library LB the mask case 30A is based on the detection result of the detection signal observed at that time. May be recognized.
Thereafter, when the mask M in the mask case 30A is used for exposure on the rails 46A and 46B at the position P2, as shown in FIG. 17A, the transfer arm 61 of the transfer device H1 is placed under the mask case 30A. It moves below the case portion 31A. Since the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the collar portion 41C2 of the mask case 30A, the detection signal S1 of the light beam LB1 exceeds the threshold value Sth as shown at time t11 in FIG.

そして、図１７（Ｂ）に示すように、搬送アーム６１を介してマスクケース３０Ａを＋Ｚ方向に上昇させても、検出信号Ｓ１は、時点ｔ１２で示すように閾値Ｓｔｈを超えている。さらに、搬送アーム６１を介して、マスクケース３０Ａの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２が支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２（ピン４８）より高くなるように、マスクケース３０Ａを上昇させた後、図１７（Ｃ）に示すように、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａ間の領域が光ビームＬＢ１を遮光するようにマスクケース３０Ａを−Ｙ方向に移動する。このとき検出信号Ｓ１は、時点ｔ１３で示すように閾値Ｓｔｈよりも小さくなるため、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２が光ビームＬＢ１を遮光する位置にあることを認識できる。   As shown in FIG. 17B, even if the mask case 30A is raised in the + Z direction via the transfer arm 61, the detection signal S1 exceeds the threshold value Sth as shown at time t12. Further, after raising the mask case 30A via the transfer arm 61 so that the collars 41C1 and 41C2 of the mask case 30A are higher than the support portions 47B1 and 47B2 (pins 48), FIG. In this manner, the mask case 30A is moved in the −Y direction so that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the collar portion 41C2 shields the light beam LB1. At this time, since the detection signal S1 becomes smaller than the threshold value Sth as shown at time t13, the control device CONT can recognize that the collar portion 41C2 is in a position where the light beam LB1 is shielded.

そして、搬送アーム６１を−Ｙ方向に移動して、図１７（Ｄ）に示すように、光ビームＬＢ１が鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂに入ると、時点ｔ１４で示すように検出信号Ｓ１が閾値Ｓｔｈよりも大きくなり、制御装置ＣＯＮＴは鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂが光ビームＬＢ１まで達したことを認識できる。この状態で、搬送アーム６１の−Ｙ方向への移動を停止させて、搬送アーム６１を−Ｚ方向に降下させることで、図１７（Ｅ）に示すように、上ケース部３１ＢＡの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ２が位置Ｐ３のレール４６Ｂの支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２に載置され、他方の鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２が位置Ｐ３のレール４６Ａ（図８参照）の支持部４７Ａ１，４７Ａ２に載置される。この時点ｔ１５においても、検出信号Ｓ１は閾値Ｓｔｈを超えている。その後、一例として、搬送アーム６１によってマスクＭを保持する下ケース部３１Ａは露光装置に搬送される。   Then, when the transport arm 61 is moved in the −Y direction and the light beam LB1 enters the opening 41C2b of the collar portion 41C2 as shown in FIG. 17D, the detection signal S1 becomes the threshold value Sth as shown at time t14. The control device CONT can recognize that the opening 41C2b of the collar portion 41C2 has reached the light beam LB1. In this state, by stopping the movement of the transfer arm 61 in the −Y direction and lowering the transfer arm 61 in the −Z direction, as shown in FIG. 17E, the flange 41C1 of the upper case portion 31BA. , 41C2 are placed on the support portions 47B1 and 47B2 of the rail 46B at the position P3, and the other flange portions 41D1 and 41D2 are placed on the support portions 47A1 and 47A2 of the rail 46A (see FIG. 8) at the position P3. Even at this time point t15, the detection signal S1 exceeds the threshold value Sth. Thereafter, as an example, the lower case portion 31 </ b> A that holds the mask M by the transport arm 61 is transported to the exposure apparatus.

この動作の途中で、例えば停電等によって搬送装置Ｈ１が停止した場合、その停電から復旧した後で、制御装置ＣＯＮＴは、記憶されている検出信号Ｓ１の履歴から、鍔部４１Ｃ２の開口４１Ｃ２ｂ，４１Ｃ２ａと光ビームＬＢ１との位置関係を認識できる。このため、下ケース部３１Ａを露光装置に搬送する動作を円滑に再開できる。
また、図１８（Ａ）の他の変形例のマスクケース３０Ｂで示すように、マスクケースの鍔部に設ける２つの開口の形状及び大きさを変えるようにしてもよい。なお、図１８（Ａ）において図１４に対応する部分には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。In the middle of this operation, for example, when the transfer device H1 stops due to a power failure or the like, after the recovery from the power failure, the control device CONT uses the history of the stored detection signal S1 to open the openings 41C2b and 41C2a of the collar portion 41C2. And the light beam LB1 can be recognized. For this reason, the operation | movement which conveys lower case part 31A to exposure apparatus can be restarted smoothly.
Further, as shown in a mask case 30B of another modification of FIG. 18A, the shape and size of the two openings provided in the collar portion of the mask case may be changed. Note that in FIG. 18A, portions corresponding to those in FIG. 14 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図１８（Ａ）において、マスクケース３０Ｂの上ケース部３１ＢＡのカバー部材３９の＋Ｘ方向の側面のＹ方向に離れた２箇所に鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ３が設けられ、カバー部材３９の−Ｘ方向の側面のほぼ鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ３に対向する位置に２つの鍔部４１Ｄ１，４１Ｄ２が設けられている。−Ｙ方向にある鍔部４１Ｃ１，４１Ｄ１には、それぞれマスクライブラリＬＢの支持部４７Ａ２，４７Ｂ２の上面のピン４８（図９参照）が挿通可能な大きさの開口（貫通孔）４１Ｃ１ａ，４１Ｄ１ａが設けられている。また、＋Ｙ方向で＋Ｘ方向の鍔部４１Ｃ３には、Ｙ方向に沿って所定間隔でほぼ正方形状の第１の開口４１Ｃ３ａ及び開口４１Ｃ３ａより小さい円形の第２の開口４１Ｃ３ｂが設けられている。開口４１Ｃ３ａは図１４の開口４１Ｃ２ａよりも大きく設定され、開口４１Ｃ３ｂは図１４の開口４１Ｃ２ｂとほぼ同じ大きさである。   In FIG. 18 (A), collar portions 41C1 and 41C3 are provided at two locations separated in the Y direction on the side surface in the + X direction of the cover member 39 of the upper case portion 31BA of the mask case 30B. Two flange portions 41D1 and 41D2 are provided at positions substantially opposite to the flange portions 41C1 and 41C3 on the side surface. The flange portions 41C1 and 41D1 in the −Y direction are provided with openings (through holes) 41C1a and 41D1a that are large enough to allow insertion of the pins 48 (see FIG. 9) on the upper surfaces of the support portions 47A2 and 47B2 of the mask library LB, respectively. It has been. The + X direction and the + X direction flange 41C3 are provided with a substantially square first opening 41C3a and a circular second opening 41C3b smaller than the opening 41C3a at predetermined intervals along the Y direction. The opening 41C3a is set larger than the opening 41C2a in FIG. 14, and the opening 41C3b is substantially the same size as the opening 41C2b in FIG.

なお、一例として、図１８（Ｂ）に示すように、鍔部４１Ｃ２の２つの角部は円周状に形成されているため、開口４１Ｃ３ａの４つの角部も同様に円周状に形成されている。一例として、開口４１Ｃ３ａの中心と、開口４１Ｃ３ｂの中心のＹ方向の間隔は６０ｍｍである。また、一例として、開口４１Ｃ３ａの中心と、開口４１Ｃ１ａの中心とのＹ方向の間隔は５７０ｍｍである。開口４１Ｃ３ａ，４１Ｃ３ｂは、図９の検出装置５２から照射される光ビームＬＢ１を通過させるために使用される。この他の構成は図１４のマスクケース３０Ａと同様である。   As an example, as shown in FIG. 18B, since the two corners of the flange 41C2 are formed in a circle, the four corners of the opening 41C3a are also formed in a circle. ing. As an example, the distance in the Y direction between the center of the opening 41C3a and the center of the opening 41C3b is 60 mm. As an example, the distance in the Y direction between the center of the opening 41C3a and the center of the opening 41C1a is 570 mm. The openings 41C3a and 41C3b are used to pass the light beam LB1 emitted from the detection device 52 of FIG. Other configurations are the same as those of the mask case 30A of FIG.

この変形例のマスクケース３０Ｂにおいて、鍔部４１Ｃ３の開口４１Ｃ３ａは、上ケース部３１ＢＡと下ケース部３１Ａとが重なった状態で、マスクライブラリＬＢ内でのマスクケース３０Ｂの位置を検出するために使用される。すなわち、開口４１Ｃ３ａを光ビームＬＢ１が通過している状態で、マスクケース３０Ｂは目標値にあることが分かる。この際に、開口４１Ｃ３ａが開口４１Ｃ３ｂよりも大きいため、例えば振動等によって下ケース部３１Ａ及び上ケース部３１ＢＡの重なりの状態が変化して、開口４１Ｃ３ａの位置がある程度ずれても、開口４１Ｃ３ａを光ビームＬＢ１が通過するため、マスクケース３０Ｂが目標位置にあることが検出できる。   In the mask case 30B of this modification, the opening 41C3a of the collar portion 41C3 is used to detect the position of the mask case 30B in the mask library LB in a state where the upper case portion 31BA and the lower case portion 31A overlap each other. Is done. That is, it can be seen that the mask case 30B is at the target value in a state where the light beam LB1 passes through the opening 41C3a. At this time, since the opening 41C3a is larger than the opening 41C3b, even if the overlapping state of the lower case portion 31A and the upper case portion 31BA changes due to vibration or the like, for example, even if the position of the opening 41C3a is shifted to some extent, the opening 41C3a Since the beam LB1 passes, it can be detected that the mask case 30B is at the target position.

これに対して、上ケース部３１ＢＡの鍔部４１Ｃ１，４１Ｃ３をマスクライブラリＬＢの支持部４７Ｂ１，４７Ｂ２に載置する際には、小さい開口４１Ｃ３ｂを光ビームＬＢ１が通過するように上ケース部３１ＢＡを位置決めすることによって、鍔部４１Ｃ１の開口４１Ｃ１ａを支持部４７Ｂ２のピン４８に係合させることができる。さらに、鍔部４１Ｃ１の開口４１Ｃ１ａがピン４８に係合している状態では、上ケース部３１ＢＡの位置ずれはほとんど生じないため、光ビームＬＢ１はその後も継続して開口４１Ｃ３ｂを通過している。   On the other hand, when placing the flange portions 41C1 and 41C3 of the upper case portion 31BA on the support portions 47B1 and 47B2 of the mask library LB, the upper case portion 31BA is moved so that the light beam LB1 passes through the small opening 41C3b. By positioning, the opening 41C1a of the collar portion 41C1 can be engaged with the pin 48 of the support portion 47B2. Further, in a state where the opening 41C1a of the collar portion 41C1 is engaged with the pin 48, the positional displacement of the upper case portion 31BA hardly occurs, so that the light beam LB1 continues to pass through the opening 41C3b.

このように、位置決め精度があまり高くない用途では、大きい開口４１Ｃ３ａを使用して、高い位置決め精度が要求される用途では、小さい開口４１Ｃ３ｂを使用することによって、マスクケース３０Ｂの搬送を円滑に行うことができる。
なお、鍔部４１Ｃ３の開口４１Ｃ３ａは、開口４１Ｃ３ｂよりも大きい円形でもよい。さらに、鍔部４１Ｃ３の代わりに、図１８（Ｃ）に示すように、ほぼ正方形の開口４１Ｃ４ａ及びこれよりも小さい円形の開口４１Ｃ４ｂが形成された鍔部４１Ｃ４を使用してもよい。As described above, in applications where the positioning accuracy is not so high, the large opening 41C3a is used, and in applications where high positioning accuracy is required, the small opening 41C3b is used to smoothly carry the mask case 30B. Can do.
Note that the opening 41C3a of the flange portion 41C3 may have a larger circle than the opening 41C3b. Furthermore, instead of the flange portion 41C3, as shown in FIG. 18C, a flange portion 41C4 in which a substantially square opening 41C4a and a smaller circular opening 41C4b are formed may be used.

この変形例のマスクケース３０Ｂを用いて、搬送アーム６１によりマスクケース３０ＢをマスクライブラリＬＢに搬送する場合、検出装置５２で受光して得られる検出信号は、光ビームＬＢ１が開口４１Ｃ３ａを通過する場合と、開口４１Ｃ３ｂを通過する場合とで異なる。例えば、開口４１Ｃ３ｂよりも開口４１Ｃ３ａが大きいマスクケース３０Ｂを用いる場合、開口４１Ｃ３ａ及び開口４１Ｃ３ｂをまたいで検出信号が検出されるように搬送アーム６１を等速で移動させると、開口４１Ｃ３ａをまたいで検出される検出信号の方が、開口４１Ｃ３ｂをまたいで検出される検出信号よりも長い時間観測される。言い換えると、開口４１Ｃ３ａで観測される検出信号の方が開口４１Ｃ３ｂで観測される検出信号よりも半値幅が長い。これによって、開口４１Ｃ３ａの検出信号と開口４１Ｃ３ｂの検出信号を区別することができるので、搬送アーム６１の位置を特定することができる。
次に、上述の実施形態においては、搬送装置Ｈ１とは別に搬送車Ｖが使用されているが、搬送車Ｖを本発明による搬送装置の一例とみなすことも可能である。この場合、搬送車Ｖに検出装置６３を設けるようにしてもよい。When the mask case 30B is transported to the mask library LB by the transport arm 61 using the mask case 30B of this modification, the detection signal obtained by receiving light by the detection device 52 is the case where the light beam LB1 passes through the opening 41C3a. And when passing through the opening 41C3b. For example, when using the mask case 30B having the opening 41C3a larger than the opening 41C3b, if the transport arm 61 is moved at a constant speed so that the detection signal is detected across the opening 41C3a and the opening 41C3b, the detection is performed across the opening 41C3a. The detected signal is observed for a longer time than the detected signal detected across the opening 41C3b. In other words, the half-value width of the detection signal observed at the opening 41C3a is longer than the detection signal observed at the opening 41C3b. Thereby, the detection signal of the opening 41C3a and the detection signal of the opening 41C3b can be distinguished, and the position of the transport arm 61 can be specified.
Next, in the above-described embodiment, the transport vehicle V is used separately from the transport device H1, but the transport vehicle V can also be regarded as an example of the transport device according to the present invention. In this case, the detection device 63 may be provided in the transport vehicle V.

また、上述の実施形態においては、マスクライブラリＬＢに収容部６５の他に一時収容部６６が設けられているが、一時収容部６６を設けることなく、複数の収容部６５のうちの任意の一つの収容部６５に搬送車Ｖからマスクケース３０を搬入し、任意の一つの収容部６５から搬送車Ｖによってマスクケース３０を搬出してもよい。
また、上述の実施形態においては、搬送車Ｖ及び搬送装置Ｈ１とマスクケース３０との連結はマスクケース３０（下ケース部３１Ａ）の底面部において行っているが、下ケース部３１Ａの側面部又は上ケース部３１Ｂの上面部等でその連結を行うようにしてもよい。In the above-described embodiment, the mask library LB is provided with the temporary storage unit 66 in addition to the storage unit 65. However, any one of the plurality of storage units 65 may be provided without providing the temporary storage unit 66. The mask case 30 may be carried into the one accommodating portion 65 from the transport vehicle V, and the mask case 30 may be carried out from the arbitrary one accommodating portion 65 by the transport vehicle V.
In the above-described embodiment, the transport vehicle V and the transport device H1 and the mask case 30 are connected to each other on the bottom surface portion of the mask case 30 (lower case portion 31A). You may make it perform the connection in the upper surface part etc. of the upper case part 31B.

また、上述の実施形態においては、搬送車Ｖ及び搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部５３，６１にはほぼ同一構造のボールトランスファ５４Ａ〜５４Ｄ及び６２Ａ〜６２Ｄが使用されているが、マスクケース搬送部５３，６１の端部等、マスクケース３０の受け渡しの際に大きな衝撃が加わる恐れがある部分には、耐衝撃性が高いボールトランスファ等のケース支持部材を用いることもできる。   In the above-described embodiment, the ball transfer 54A to 54D and 62A to 62D having substantially the same structure are used for the mask case transport units 53 and 61 of the transport vehicle V and the transport apparatus H1, but the mask case transport unit A case support member such as a ball transfer having high impact resistance can also be used for a portion where a large impact may be applied when the mask case 30 is delivered, such as the end portions of 53 and 61.

また、上述の実施形態においては、搬送装置Ｈ１は、自動で作動するものとして説明したが、作業員などが部分的にマニュアル方式で作動させてもよい。
また、上述の実施形態においては、搬送車Ｖのマスクケース搬送部５３及び搬送装置Ｈ１のマスクケース搬送部６１の少なくとも一方に、マスクケース３０のθｚ方向の回転角を調整する機構を設けてもよい。Further, in the above-described embodiment, the transport device H1 has been described as operating automatically. However, an operator or the like may be partially operated by a manual method.
In the above-described embodiment, a mechanism for adjusting the rotation angle of the mask case 30 in the θz direction may be provided on at least one of the mask case transport unit 53 of the transport vehicle V and the mask case transport unit 61 of the transport device H1. Good.

また、上述の実施形態の露光装置ＥＸとしては、マスクとプレート（基板）とを同期移動してステップ・アンド・スキャン方式でマスクのパターンをプレートに露光する走査型露光装置が使用されている。露光装置ＥＸとして、その他に、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)、又は投影光学系を用いることなく、マスクと基板とを近接させて露光を行うプロキシミティ露光装置等を使用する場合にも本発明が適用できる。   In addition, as the exposure apparatus EX of the above-described embodiment, a scanning type exposure apparatus is used in which a mask and a plate (substrate) are moved synchronously to expose a mask pattern onto a plate by a step-and-scan method. In addition, a step-and-repeat projection exposure apparatus (stepper) or a proximity exposure apparatus that performs exposure with the mask and the substrate in close proximity without using a projection optical system is used as the exposure apparatus EX. The present invention can also be applied to cases.

また、露光装置ＥＸの種類としては、液晶表示デバイス製造用の露光装置に限られず、半導体ウエハに半導体デバイス用のパターンを露光する半導体デバイス製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(ＣＣＤ)あるいはレチクルなどを製造するための露光装置などを使用する場合にも本発明が適用できる。
また、上記の各実施形態の露光装置ＥＸ又は露光方法を用いて、基板上に所定のパターン（ＴＦＴパターン等）を形成することによって、電子デバイス（マイクロデバイス）としての液晶ディスプレイ用のパネル（液晶表示パネル）を得ることもできる。以下、図１９のフローチャートを参照して、この製造方法の一例につき説明する。The type of exposure apparatus EX is not limited to an exposure apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, but an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor device that exposes a semiconductor device pattern on a semiconductor wafer, a thin film magnetic head, an image sensor (CCD). ) Or an exposure apparatus for manufacturing a reticle or the like is also applicable to the present invention.
In addition, by using the exposure apparatus EX or the exposure method of each of the above embodiments to form a predetermined pattern (TFT pattern or the like) on the substrate, a liquid crystal display panel (liquid crystal) as an electronic device (micro device) is formed. Display panel). Hereinafter, an example of this manufacturing method will be described with reference to the flowchart of FIG.

図１９のステップＳ４０１（パターン形成工程）では、先ず、露光対象の基板上にフォトレジストを塗布して感光基板（プレートＰ）を準備する塗布工程、上記の露光装置を用いてパネル用のマスク（例えばマスクＭを含む）のパターンをその感光基板上の複数のパターン形成領域に露光する露光工程、及びその感光基板を現像する現像工程が実行される。この塗布工程、露光工程、及び現像工程を含むリソグラフィ工程によって、その基板上に所定のレジストパターンが形成される。このリソグラフィ工程に続いて、そのレジストパターンをマスクとしたエッチング工程、及びレジスト剥離工程等を経て、その基板上に所定パターンが形成される。そのリソグラフィ工程等は、その基板上のレイヤ数に応じて複数回実行される。   In step S401 (pattern formation process) of FIG. 19, first, a coating process for preparing a photosensitive substrate (plate P) by applying a photoresist on a substrate to be exposed, and a panel mask (using the above exposure apparatus) For example, an exposure process for exposing a pattern (including a mask M) to a plurality of pattern formation regions on the photosensitive substrate and a developing process for developing the photosensitive substrate are performed. A predetermined resist pattern is formed on the substrate by a lithography process including the coating process, the exposure process, and the development process. Following this lithography process, a predetermined pattern is formed on the substrate through an etching process using the resist pattern as a mask, a resist stripping process, and the like. The lithography process or the like is executed a plurality of times according to the number of layers on the substrate.

その次のステップＳ４０２（カラーフィルタ形成工程）では、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂに対応した３つの微細なフィルタの組をマトリックス状に多数配列するか、又は赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの３本のストライプ状の複数のフィルタの組を水平走査線方向に配列することによってカラーフィルタを形成する。その次のステップＳ４０３（セル組立工程）では、例えばステップＳ４０１にて得られた所定パターンを有する基板とステップＳ４０２にて得られたカラーフィルタとの間に液晶を注入して、液晶セルを製造する。   In the next step S402 (color filter forming step), a large number of three fine filter sets corresponding to red R, green G, and blue B are arranged in a matrix, or red R, green G, and blue B are arranged. A color filter is formed by arranging a set of three stripe-shaped filters in the horizontal scanning line direction. In the next step S403 (cell assembly process), for example, a liquid crystal cell is manufactured by injecting liquid crystal between the substrate having the predetermined pattern obtained in step S401 and the color filter obtained in step S402. .

その後のステップＳ４０４（モジュール組立工程）では、そのようにして組み立てられた液晶セルに表示動作を行わせるための電気回路、及びバックライト等の部品を取り付けて、液晶表示パネルとして完成させる。
上述の電子デバイスの製造方法によれば、上記の実施形態の露光装置又は露光方法を用いてマスクのパターンを基板に転写する工程（ステップＳ４０１の一部）と、この工程によりそのパターンが転写された基板をそのパターンに基づいて加工（現像、エッチング等）する工程（ステップＳ４０１の他の部分）とを含んでいる。In subsequent step S404 (module assembling step), an electric circuit for causing the liquid crystal cell thus assembled to perform a display operation and components such as a backlight are attached to complete a liquid crystal display panel.
According to the above-described electronic device manufacturing method, the mask pattern is transferred to the substrate using the exposure apparatus or exposure method of the above-described embodiment (part of step S401), and the pattern is transferred by this step. And a step of processing (developing, etching, etc.) the substrate based on the pattern (the other part of step S401).

この製造方法によれば、露光工程のスループットを高めることができるため、液晶表示パネル等の電子デバイスを効率的に製造できる。
なお、上述の電子デバイスの製造方法は、有機ＥＬ(Electro-Luminescence)ディスプレイ、又はプラズマディスプレイ等の他のディスプレイ用のパネル等を製造する場合にも適用できる。According to this manufacturing method, since the throughput of the exposure process can be increased, an electronic device such as a liquid crystal display panel can be efficiently manufactured.
The above-described method for manufacturing an electronic device can also be applied to the case of manufacturing an organic EL (Electro-Luminescence) display, or another display panel such as a plasma display.

なお、本明細書には以下の発明も記載されている。
１３． マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、前記第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、
前記第２ケース部は、前記第１ケース部から取り外されて保持されるときに用いられる保持部を備え、
前記保持部は、前記第１ケース部から取り外された前記第２ケース部が前記保管装置で支持されるときに、前記保管装置に設けられたピン部に嵌合するための開口部を有するマスクケース。
１４． 前記保持部の開口部は、前記第２ケース部の前記上面における一方の側面及び他方の側面のそれぞれに設けられる１３に記載のマスクケース。
１５． マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、前記第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、で構成されるマスクケースであって、
前記第１ケース部は、前記底面において前記支持部に対向する位置に、外部からの光を通過させる光通過部を有し、
前記第２ケース部は、前記第１ケース部の前記光通過部に対向する位置に、前記光通過
部から入射する光を前記光通過部に向けて反射する反射部を有するマスクケース。
１６． 前記第１ケース部に設けられ、外部からの光を反射する反射部材をさらに備える１５に記載のマスクケース。
１７． マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、前記第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、で構成されるマスクケースであって、
前記第１ケース部は、前記底面において前記支持部に対向する位置に設けられ、外部からの光を通過させる光通過部と、前記光通過部と重ならない位置に設けられ、外部からの光を反射する反射部材と、を有するマスクケース。
１８． 前記支持部は、前記マスクケースが保管される保管装置に前記第１ケース部及び前記第２ケース部が搬送される第１方向における前記マスクの端部の位置を規定し、
前記光通過部は、前記支持部に対向する位置に設けられる１５〜１７のいずれか一項に記載のマスクケース。
１９． 前記光通過部は、前記第１ケース部の底面に対して傾斜して設けられる１５〜１８のいずれか一項に記載のマスクケース。
２０． 前記光通過部は、前記第２ケース部が前記第１ケース部に装着されて前記マスクが前記第１ケース部及び前記第２ケース部に収納された状態で、前記マスクと前記第２ケース部とが見える位置に設けられている１５〜１９のいずれか一項に記載のマスクケース。
２１． 前記光通過部が設けられる側から前記マスクケースを見たときに、前記反射部材、前記マスク、前記反射部の順に並んで設けられる１６に記載のマスクケース。
２２． 前記反射部材及び前記反射部のうち少なくとも一方は、偏光板である１６又は２１に記載のマスクケース。
２３． 前記第１ケース部の底面に設けられ、互いに異なる形状を有する少なくとも３つの溝部を有する１〜２２のいずれか一項に記載のマスクケース。
２４． 前記溝部の少なくとも３つの溝部は、円錐面状の溝部と平坦面を有する溝部とを含む２３に記載のマスクケース。
３１． マスクケースを保管する保管装置であって、
１３又は１４に記載のマスクケースの保持部を支持可能なケース支持部を備え、
前記ケース支持部に、前記保持部に設けられた前記開口部と係合可能なピン部を有する保管装置。
３２． 前記開口部が前記ピン部に係合しないことを検出する検出部をさらに備える３１に記載の保管装置。
３３． マスクが収納されたマスクケースを搬送する搬送装置であって、
３２に記載の保管装置に前記マスクケースを搬送する搬送アームを備え、
前記搬送アームは、前記検出部によって前記開口部が前記ピン部に係合しないことを検出した場合に、前記マスク又は前記マスクケースの搬送を行わない搬送装置。
３４． マスクケースを搬送する搬送装置において、
１５〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースを支持するケース支持部と、
前記マスクケースに向けて光ビームを照射する照射部と、
前記マスクケースに向けて照射された前記光ビームを検出する検出部と、を備える搬送装置。
３５． 前記照射部は、前記マスクケースの前記光通過部に前記光ビームを照射し、
前記検出部は、前記光通過部に向けて照射された前記光ビームを検出する３４に記載の搬送装置。
３６． 前記検出部で検出された検出結果に基づいて、所望のマスクではないマスクが搬送された場合、又は、マスクのないマスクケースが搬送された場合に、前記マスクケースの搬送を行わない３４又は３５に記載の搬送装置。
３７． 前記検出部で検出された検出結果に基づいて、所望のマスクではないマスクが搬送された場合、又は、マスクのないマスクケースが搬送された場合に、前記マスクケースが保管される保管装置の一時収容部に前記マスクケースを返却する３４〜３６のいずれか一項に記載の搬送装置。
３８． 前記検出部は、
前記マスクケースに光を照射し、前記マスクケースからの反射光を検出して前記マスクケースの状態を検出する第１検出部と、
前記マスクケースに設けられた前記光通過部を介して前記マスクケースに収納されている前記マスクに光を照射し、前記マスクからの反射光を前記光通過部を介して検出する第２検出部と、
を有する３４〜３７のいずれか一項に記載の搬送装置。
３９． 前記検出部は、
前記第１ケース部の前記光通過部を介して前記第２ケース部に設けられた反射部に光を照射し、前記反射部からの反射光を前記光通過部を介して検出して、前記第２ケース部の状態を検出する第３検出部を備える３８に記載の搬送装置。
４０． ２３又は２４に記載のマスクケースを支持するケース支持部を備え、
前記ケース支持部は、前記マスクケースの前記底面の少なくとも３つの溝部に係合可能な少なくとも３つの凸部を有する搬送装置。
４１． マスクケースを保管する保管装置において、
１〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースを支持するケース支持部と、
前記マスクケースに向けて前記光を照射する照射部と、
照射された前記光を検出する検出部と、を備える保管装置。
４２． マスクケースを搬送する搬送装置において、
１〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースを支持するケース支持部を備える搬送装置。
４３． マスクケースを搬送する搬送装置であって、
１〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースから前記第２ケース部を取り出して、前記マスクが載置された前記第１ケース部を搬送する搬送アームを備える搬送装置。
４４． マスクを搬送するマスク搬送装置であって、
４３に記載の搬送装置によって搬送され、かつ、前記マスクが載置された前記第１ケース部から前記マスクを受け取って、前記マスクを搬送するマスク搬送部を備えるマスク搬送装置。
４５． 基板を露光する露光装置において、 １〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースに収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
４６． 基板を露光する露光装置において、
２５〜３３、４１のいずれか一項に記載の保管装置を備え、
前記保管装置に保管可能なマスクケースに収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
４７． 基板を露光する露光装置において、
２９、３０、３４〜４０、４２、４３のいずれか一項に記載の搬送装置を備え、
前記搬送装置によって搬送されたマスクケースの内部に収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
４８． 基板を露光する露光装置において、
４４に記載のマスク搬送装置を備え、
前記マスク搬送装置によって搬送されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。
４９． ４５〜４８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。
５０． マスクケースを保管する保管方法において、
１〜１４のいずれか一項に記載のマスクケースの前記保持部を介して前記マスクケースを支持することと、
前記支持部に向けて光ビームを照射することと、
前記支持部に向けて照射された前記光ビームを検出することと、を含む保管方法。
５１． マスクケースを保管する保管方法において、
１〜１４のいずれか一項に記載のマスクケースの前記第１ケース部を支持することと、
前記第１ケース部から分離された前記第２ケース部を、前記第２ケース部の前記保持部を介して支持することと、
前記第２ケース部の前記保持部に光ビームを照射し、前記保持部に照射された前記光ビームを検出することと、
前記光ビームの検出結果に応じて前記第２ケース部の位置を調整することと、を含む保管方法。
５２． マスクケースを保管する保管方法において、
１〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースの保持部に設けられた開口部をピン部で係合させて、前記マスクケースを支持する保管方法。
５３． マスクケースを搬送する搬送方法において、
マスクが収納された１〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースを支持することと、
前記マスクケースの第１ケース部に光を照射し、前記第１ケース部に照射された前記光を検出することと、
前記第１ケース部に設けられる光通過部を介して前記第１ケース部に載置された前記マスクに前記光を照射し、前記マスクからの反射光を前記光通過部を介して検出することと、を含む搬送方法。
５４． マスクを搬送するマスク搬送方法であって、
１〜２４のいずれか一項に記載のマスクケースに収納されたマスクを搬送するマスク搬送方法。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。 In this specification, the following inventions are also described.
13. A first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is provided; and a second case portion having an upper surface provided detachably with respect to the first case portion and disposed to face the bottom surface. A mask case that can be stored in a storage device,
The second case part includes a holding part that is used when being detached and held from the first case part,
The holding portion has a mask having an opening for fitting into a pin portion provided in the storage device when the second case portion removed from the first case portion is supported by the storage device. Case.
14 14. The mask case according to 13, wherein the opening of the holding portion is provided on each of one side surface and the other side surface of the upper surface of the second case portion.
15. A first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is provided, and a second case portion having a top surface that is detachably provided on the first case portion and is disposed to face the bottom surface. A mask case,
The first case portion has a light passage portion that allows light from the outside to pass at a position facing the support portion on the bottom surface,
The second case portion is located at a position facing the light passage portion of the first case portion.
The mask case which has a reflection part which reflects the light which injects from a part toward the said light passage part.
16. 16. The mask case according to 15, further comprising a reflecting member that is provided in the first case portion and reflects light from the outside.
17. A first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is provided, and a second case portion having a top surface that is detachably provided on the first case portion and is disposed to face the bottom surface. A mask case,
The first case portion is provided at a position facing the support portion on the bottom surface, provided at a position that does not overlap the light passage portion, a light passage portion that allows light from the outside to pass through, and transmits light from the outside. A mask case having a reflecting member for reflecting.
18. The support portion defines a position of an end portion of the mask in a first direction in which the first case portion and the second case portion are transported to a storage device in which the mask case is stored;
The said light passage part is a mask case as described in any one of 15-17 provided in the position facing the said support part.
19. The said light passage part is a mask case as described in any one of 15-18 provided inclining with respect to the bottom face of the said 1st case part.
20. The light passage portion includes the mask and the second case portion in a state where the second case portion is attached to the first case portion and the mask is accommodated in the first case portion and the second case portion. The mask case as described in any one of 15-19 provided in the position where can be seen.
21. 17. The mask case according to 16, which is provided in the order of the reflecting member, the mask, and the reflecting portion when the mask case is viewed from the side where the light passage portion is provided.
22. The mask case according to 16 or 21, wherein at least one of the reflecting member and the reflecting portion is a polarizing plate.
23. The mask case according to any one of 1 to 22, which is provided on a bottom surface of the first case portion and has at least three groove portions having different shapes.
24. 24. The mask case according to 23, wherein at least three groove portions of the groove portion include a conical groove portion and a groove portion having a flat surface.
31. A storage device for storing a mask case,
A case support portion capable of supporting the mask case holding portion according to 13 or 14,
The storage apparatus which has a pin part which can be engaged with the said opening part provided in the said holding | maintenance part in the said case support part.
32. 32. The storage device according to 31, wherein the storage device further includes a detection unit that detects that the opening does not engage with the pin unit.
33. A transport device for transporting a mask case containing a mask,
A storage arm according to 32, comprising a transfer arm for transferring the mask case,
The transfer arm does not transfer the mask or the mask case when the detection unit detects that the opening is not engaged with the pin part.
34. In the transfer device that transfers the mask case,
A case support part for supporting the mask case according to any one of 15 to 24;
An irradiation unit for irradiating a light beam toward the mask case;
And a detection unit that detects the light beam emitted toward the mask case.
35. The irradiation unit irradiates the light beam to the light passage part of the mask case,
35. The transport apparatus according to 34, wherein the detection unit detects the light beam emitted toward the light passage unit.
36. Based on the detection result detected by the detection unit, when a mask that is not a desired mask is transported, or when a mask case without a mask is transported, the mask case is not transported 34 or 35 The conveying apparatus as described in.
37. Based on the detection result detected by the detection unit, when a mask that is not a desired mask is transported, or when a mask case without a mask is transported, a temporary storage device for storing the mask case is stored. The transfer device according to any one of 34 to 36, wherein the mask case is returned to the storage unit.
38. The detector is
A first detector for irradiating the mask case with light and detecting reflected light from the mask case to detect the state of the mask case;
A second detection unit configured to irradiate the mask accommodated in the mask case through the light passage unit provided in the mask case and detect reflected light from the mask through the light passage unit; When,
The conveying apparatus as described in any one of 34-37 which has these.
39. The detector is
Irradiating light to the reflection part provided in the second case part via the light passage part of the first case part, detecting reflected light from the reflection part via the light passage part, 39. The transport device according to 38, further comprising a third detection unit that detects a state of the second case unit.
40. A case support part for supporting the mask case according to 23 or 24,
The said case support part is a conveying apparatus which has at least 3 convex part which can be engaged with the at least 3 groove part of the said bottom face of the said mask case.
41. In the storage device that stores the mask case,
A case support portion for supporting the mask case according to any one of 1 to 24;
An irradiating unit for irradiating the light toward the mask case;
A storage device comprising: a detection unit that detects the irradiated light.
42. In the transfer device that transfers the mask case,
A conveying apparatus provided with a case support part which supports the mask case as described in any one of 1-24.
43. A transfer device for transferring a mask case,
A transport apparatus comprising a transport arm that takes out the second case part from the mask case according to any one of 1 to 24 and transports the first case part on which the mask is placed.
44. A mask transfer device for transferring a mask,
43. A mask transport apparatus comprising a mask transport section that is transported by the transport apparatus according to claim 43 and that receives the mask from the first case section on which the mask is placed and transports the mask.
45. The exposure apparatus which exposes a board | substrate, The exposure apparatus which exposes the said board | substrate using the mask accommodated in the mask case as described in any one of 1-24.
46. In an exposure apparatus that exposes a substrate,
The storage device according to any one of 25 to 33, 41 is provided,
An exposure apparatus that exposes the substrate using a mask stored in a mask case that can be stored in the storage apparatus.
47. In an exposure apparatus that exposes a substrate,
29, 30, 34-40, 42, comprising the transport device according to any one of 43,
An exposure apparatus that exposes the substrate using a mask housed in a mask case transported by the transport apparatus.
48. In an exposure apparatus that exposes a substrate,
44.
An exposure apparatus that exposes the substrate using a mask transported by the mask transport apparatus.
49. Exposing the photosensitive substrate using the exposure apparatus according to any one of 45 to 48;
Processing the exposed photosensitive substrate.
50. In the storage method for storing the mask case,
Supporting the mask case via the holding part of the mask case according to any one of 1 to 14,
Irradiating a light beam toward the support;
Detecting the light beam irradiated toward the support portion.
51. In the storage method for storing the mask case,
Supporting the first case portion of the mask case according to any one of 1 to 14,
Supporting the second case part separated from the first case part via the holding part of the second case part;
Irradiating the holding part of the second case part with a light beam, and detecting the light beam applied to the holding part;
Adjusting the position of the second case part in accordance with the detection result of the light beam.
52. In the storage method for storing the mask case,
The storage method which supports the said mask case by engaging the opening part provided in the holding | maintenance part of the mask case as described in any one of 1-24 by a pin part.
53. In the transport method for transporting the mask case,
Supporting the mask case according to any one of 1 to 24 in which a mask is stored;
Irradiating the first case part of the mask case with light and detecting the light emitted to the first case part;
Irradiating the light on the mask placed on the first case part via a light passage part provided on the first case part, and detecting reflected light from the mask via the light passage part And a conveying method including:
54. A mask carrying method for carrying a mask,
The mask conveyance method which conveys the mask accommodated in the mask case as described in any one of 1-24.
In addition, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, Of course, a various structure can be taken in the range which does not deviate from the summary of this invention.

ＥＸ…露光装置、Ｍ…マスク、Ｐ…プレート、ＭＳＴ…マスクステージ、ＣＨ…露光チャンバ、Ｖ…搬送車、Ｈ１…搬送装置、Ｈ２…マスクローダ系、ＬＢ…マスクライブラリ、３０…マスクケース、３１Ａ…下ケース部（第１ケース部）、３１Ｂ…上ケース部（第２ケース部）、３２…ベース部材、３２ａ１…窓部、３６Ａ〜３６Ｃ…位置決め部、３７Ａ，３７Ｂ…反射部、４１Ａ，４１Ｂ…鍔（つば）部、４３…フレーム機構、４６Ａ，４６Ｂ…レール、４７Ａ１，４７Ａ２，４７Ｂ１，４７Ｂ２…支持部、４９…反射部材、５２…検出装置、６５…収容部、６６…一時収容部   EX ... exposure apparatus, M ... mask, P ... plate, MST ... mask stage, CH ... exposure chamber, V ... carrier, H1 ... conveyor, H2: mask loader system, LB ... mask library, 30 ... mask case, 31A ... Lower case part (first case part), 31B ... Upper case part (second case part), 32 ... Base member, 32a1 ... Window part, 36A to 36C ... Positioning part, 37A, 37B ... Reflecting part, 41A, 41B ... collar part, 43 ... frame mechanism, 46A, 46B ... rail, 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 ... support part, 49 ... reflecting member, 52 ... detection device, 65 ... housing part, 66 ... temporary housing part

Claims (22)

マスクを支持する支持部が設けられる底面を有する第１ケース部と、前記第１ケース部に対して着脱可能に設けられ、前記底面に対向配置される上面を有する第２ケース部と、を備え、保管装置に保管可能なマスクケースであって、
前記第２ケース部は、前記第１ケース部から取り外されて前記保管装置に保持されるときに用いられる保持部を有し、
前記保持部は、
前記第１ケース部に装着された前記第２ケース部が前記保管装置に保管される第１位置にあるときに、光が通過する第１の光通過部と、
前記第１ケース部から取り外された前記第２ケース部の前記保持部が前記保管装置に保持される第２位置にあるときに、前記光が通過する、前記第１の光通過部とは異なる第２の光通過部と、
を備えるマスクケース。 A first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is provided; and a second case portion having an upper surface provided detachably with respect to the first case portion and disposed to face the bottom surface. A mask case that can be stored in a storage device,
The second case part has a holding part that is used when the second case part is removed from the first case part and held by the storage device,
The holding part is
A first light passage portion through which light passes when the second case portion attached to the first case portion is in a first position stored in the storage device;
Different from the first light passage portion, through which the light passes when the holding portion of the second case portion removed from the first case portion is in the second position held by the storage device. A second light passage part;
Mask case with 前記第１の光通過部と前記第２の光通過部とは、前記第２ケース部の前記保管装置に対する相対位置関係を検出するために用いられる請求項１に記載のマスクケース。   2. The mask case according to claim 1, wherein the first light passing portion and the second light passing portion are used for detecting a relative positional relationship of the second case portion with respect to the storage device. 前記第１の光通過部と前記第２の光通過部とは、前記マスクケースが前記保管装置に搬入される第１方向の互いに異なる位置に設けられる請求項１又は２に記載のマスクケース。   3. The mask case according to claim 1, wherein the first light passage unit and the second light passage unit are provided at different positions in the first direction in which the mask case is carried into the storage device. 前記第２の光通過部は、
前記第１ケース部に装着された前記第２ケース部が前記保管装置に保管されているときの位置から前記第１方向にずれた位置で、前記第１ケース部から取り外された前記第２ケース部の前記保持部を介して前記保管装置に保持されているときの、前記第２ケース部の前記保管装置に対する相対位置関係を検出するために用いられる請求項３に記載のマスクケース。 The second light passage section is
The second case removed from the first case part at a position shifted in the first direction from the position when the second case part attached to the first case part is stored in the storage device. The mask case according to claim 3, wherein the mask case is used for detecting a relative positional relationship of the second case part with respect to the storage device when being held by the storage device via the holding unit. 前記第１の光通過部は、前記第２の光通過部に対して、
前記第２ケース部を装着した前記第１ケース部が、前記保管装置に支持されているときの前記第２ケース部の位置と、前記第２ケース部が前記第１ケース部から取り外されて、前記保持部を介して前記保管装置に支持されているときの前記第２ケース部の位置と、の前記第１方向におけるずれ量だけ前記第１方向にずれて配置される請求項３又は４に記載のマスクケース。 The first light passing portion is in contrast to the second light passing portion.
The position of the second case portion when the first case portion mounted with the second case portion is supported by the storage device, and the second case portion is removed from the first case portion, The arrangement according to claim 3 or 4, wherein the second case portion is displaced by a shift amount in the first direction from the position of the second case portion when supported by the storage device via the holding portion. The mask case described. 前記保持部は、前記第２ケース部の上面において、前記第１方向と交差する第２方向の両側の側面から外部に突出して設けられる請求項３〜５のいずれか一項に記載のマスクケース。   The mask case according to any one of claims 3 to 5, wherein the holding portion is provided on the upper surface of the second case portion so as to protrude outward from the side surfaces on both sides in the second direction intersecting the first direction. . 前記保持部は、前記支持部で支持された前記マスクのパターン面に平行な方向に突出して設けられる請求項１〜６のいずれか一項に記載のマスクケース。   The mask case according to claim 1, wherein the holding portion is provided to protrude in a direction parallel to a pattern surface of the mask supported by the support portion. 前記第１の光通過部において光が通過する領域の面積は、前記第２の光通過部において前記光が通過する領域の面積よりも小さい請求項１〜７のいずれか一項に記載のマスクケース。   8. The mask according to claim 1, wherein an area of a region through which light passes in the first light passage portion is smaller than an area of a region through which the light passes in the second light passage portion. Case. 前記保持部は、前記第２ケース部の上面において、前記第１方向に沿って前記第１の光通過部及び前記第２の光通過部から離れた位置に、切り欠き部を有する請求項３〜８のいずれか一項に記載のマスクケース。   The said holding | maintenance part has a notch part in the position away from the said 1st light passage part and the said 2nd light passage part along the said 1st direction in the upper surface of the said 2nd case part. The mask case as described in any one of -8. 前記保持部は、前記第２ケース部の前記上面における一方の側面及び他方の側面から外部に突出した少なくとも２つの部分突出部で構成され、
前記部分突出部の１つに、前記第１の光通過部と前記第２の光通過部とが設けられる請求項１〜９のいずれか一項に記載のマスクケース。 The holding part is composed of at least two partial protrusions protruding outward from one side face and the other side face of the upper surface of the second case part,
The mask case according to any one of claims 1 to 9, wherein the first light passage portion and the second light passage portion are provided in one of the partial protrusions. 前記第１の光通過部及び第２の光通過部とは、互いに６０ｍｍ隔てた位置に設けられる請求項１〜１０のいずれか一項に記載のマスクケース。   The mask case according to any one of claims 1 to 10, wherein the first light passage portion and the second light passage portion are provided at positions separated from each other by 60 mm. 前記第１の光通過部から５７０ｍｍ隔てた位置に、前記第２のケース部を前記保管装置に嵌合するための開口部を備える請求項１〜１１のいずれか一項に記載のマスクケース。   The mask case as described in any one of Claims 1-11 provided with the opening part for fitting a said 2nd case part to the said storage apparatus in the position 570 mm apart from the said 1st light passage part. マスクケースを保管する保管装置において、
請求項１〜１２のいずれか一項に記載のマスクケースの前記保持部を介して前記マスクケースを支持可能な支持部と、
前記支持部に向けて光ビームを照射する照射部と、
前記支持部に向けて照射された前記光ビームを検出する検出部と、
を備える保管装置。 In the storage device that stores the mask case,
A support part capable of supporting the mask case via the holding part of the mask case according to any one of claims 1 to 12,
An irradiation unit for irradiating the support unit with a light beam;
A detection unit for detecting the light beam irradiated toward the support unit;
A storage device comprising: 前記照射部は、前記保持部に設けられた前記光通過部に向けて前記光ビームを照射し、
前記検出部は、前記光通過部に向けて照射された前記光ビームを検出する請求項１３に記載の保管装置。 The irradiation unit irradiates the light beam toward the light passing unit provided in the holding unit,
The storage device according to claim 13 , wherein the detection unit detects the light beam irradiated toward the light passage unit. 前記保持部の前記光通過部を通過した前記光ビームを前記光通過部に向けて反射する光ビーム反射部をさらに備え、
前記検出部は、前記光ビーム反射部で反射されて前記光通過部を通過した前記光ビームを検出する請求項１３又は１４に記載の保管装置。 A light beam reflecting part that reflects the light beam that has passed through the light passing part of the holding part toward the light passing part;
The storage device according to claim 13 or 14 , wherein the detection unit detects the light beam reflected by the light beam reflection unit and passed through the light passage unit. 前記保持部の少なくとも一部に係合する係合部をさらに備え、
前記保持部の少なくとも一部が前記係合部に係合された状態で、前記照射部が前記支持部によって支持された前記保持部の前記光通過部に光を照射して、前記光通過部を通過した光を前記検出部で検出する請求項１３〜１５のいずれか一項に記載の保管装置。 An engaging portion that engages with at least a part of the holding portion;
In a state where at least a part of the holding part is engaged with the engaging part, the irradiating part irradiates light to the light passing part of the holding part supported by the supporting part, and the light passing part The storage device according to any one of claims 13 to 15 , wherein the detection unit detects light that has passed through the detector. マスクケースを搬送する搬送装置であって、
請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の保管装置に前記マスクケースを搬送する搬送アームを備え、
前記搬送アームは、前記マスクケースを保持してから前記マスクケースが前記保管装置の前記支持部に支持されるまでの間に前記検出部で検出された前記光ビームの検出結果に基づいて、前記マスクケースが前記支持部で支持される位置を制御する搬送装置。 A transfer device for transferring a mask case,
A transport arm for transporting the mask case to the storage device according to any one of claims 13 to 16 ,
The transport arm is based on the detection result of the light beam detected by the detection unit between the time when the mask case is held and the time when the mask case is supported by the support unit of the storage device. A transfer device for controlling a position at which the mask case is supported by the support portion. 前記保管装置は、前記マスクケースの受け渡し行う一時収容部をさらに備え、
前記搬送アームは、前記検出部で検出された前記検出結果が所望の検出結果と異なる場合に、前記マスクケースを前記一時収容部に返却する請求項１７に記載の搬送装置。 The storage device further includes a temporary storage unit for delivering the mask case,
18. The transfer device according to claim 17 , wherein the transfer arm returns the mask case to the temporary storage unit when the detection result detected by the detection unit is different from a desired detection result. 基板を露光する露光装置において、
請求項１〜１２のいずれか一項に記載のマスクケースに収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。 In an exposure apparatus that exposes a substrate,
Using a mask stored in a mask case according to any one of claims 1 to 12 exposure apparatus that exposes the substrate. 基板を露光する露光装置において、
請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の保管装置を備え、
前記保管装置に保管可能なマスクケースに収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。 In an exposure apparatus that exposes a substrate,
The storage device according to any one of claims 13 to 16 , comprising:
An exposure apparatus that exposes the substrate using a mask stored in a mask case that can be stored in the storage apparatus. 基板を露光する露光装置において、
請求項１７又は１８に記載の搬送装置を備え、
前記搬送装置によって搬送されたマスクケースの内部に収納されたマスクを用いて、前記基板を露光する露光装置。 In an exposure apparatus that exposes a substrate,
A transport device according to claim 17 or 18 ,
An exposure apparatus that exposes the substrate using a mask housed in a mask case transported by the transport apparatus. 請求項１９〜２１のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光性基板を露光することと、
前記露光された感光性基板を処理することと、を含むデバイス製造方法。 Exposing the photosensitive substrate using the exposure apparatus according to any one of claims 19 to 21 ;
Processing the exposed photosensitive substrate.
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