KR102242065B1 - Mask case, storage device and storage method, transfer device and transfer method, and exposure device - Google Patents

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Abstract

마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서, 제 2 케이스부는, 보관 장치에 유지될 때에 사용되는 유지부를 갖고, 유지부는, 제 1 케이스부에 장착된 제 2 케이스부가 보관 장치에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광이 통과하는 제 1 광 통과부와, 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 제 2 케이스부의 유지부가 보관 장치에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 광이 통과하는, 제 1 광 통과부와는 상이한 제 2 광 통과부를 구비한다. 마스크를 효율적으로 반송할 수 있다.A mask that includes a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is formed, and a second case portion having an upper surface that is formed to be detachable from the first case portion and disposed opposite to the bottom surface, and can be stored in a storage device As a case, the second case portion has a holding portion used when held in the storage device, and the holding portion passes light through when the second case portion mounted on the first case portion is in a first position stored in the storage device. A second light passage different from the first light passage portion through which light passes when the first light passage portion and the holding portion of the second case portion removed from the first case portion are in a second position held in the storage device We have wealth. The mask can be transported efficiently.

Description

마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치{MASK CASE, STORAGE DEVICE AND STORAGE METHOD, TRANSFER DEVICE AND TRANSFER METHOD, AND EXPOSURE DEVICE}A mask case, a storage device and a method, a conveyance device and a method, and an exposure device TECHNICAL FIELD [0001]

본 발명은, 마스크가 수납되는 마스크 케이스, 마스크를 보관하는 보관 기술, 마스크 케이스에 수납되는 마스크를 반송하는 반송 기술, 보관 기술 또는 반송 기술을 이용하는 노광 기술, 및 노광 기술을 이용하는 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a mask case in which a mask is accommodated, a storage technology for storing the mask, a transport technology for transporting a mask stored in the mask case, an exposure technology using a storage technology or a transport technology, and a device manufacturing method using an exposure technology. will be.

예를 들어 액정 표시 소자 등의 전자 디바이스 (마이크로 디바이스) 를 제조하기 위해서 사용되는 노광 장치는, 복수의 마스크를 각각 마스크 케이스에 수납된 상태로 보관 가능한 마스크 라이브러리와, 마스크 반송 장치를 구비하고 있다. 마스크 반송 장치는, 사용이 끝난 마스크가 수납된 마스크 케이스를 마스크 라이브러리로부터 반출하고, 다음 노광 공정에서 사용되는 마스크가 수납된 마스크 케이스를 마스크 라이브러리에 반입한다. 그리고, 노광시에는, 다음에 사용하는 마스크가 수납된 마스크 케이스를 마스크 라이브러리로부터 마스크 반송 장치에 의해 꺼내고, 이 마스크 케이스로부터 마스크 로더계 (마스크 캐리어) 로 마스크를 수수 (授受) 하고, 마스크 로더계가 그 마스크를 노광 장치의 마스크 스테이지에 로드하고 있었다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).For example, an exposure apparatus used to manufacture electronic devices (microdevices) such as a liquid crystal display device includes a mask library capable of storing a plurality of masks in a state of being accommodated in a mask case, and a mask transfer apparatus. The mask conveying apparatus carries out the mask case containing the used mask from the mask library, and carries the mask case containing the mask used in the next exposure process into the mask library. Then, at the time of exposure, the mask case in which the mask to be used next is stored is taken out from the mask library by the mask transfer device, the mask is transferred from the mask case to a mask loader system (mask carrier), and the mask loader system is The mask was loaded onto the mask stage of the exposure apparatus (see, for example, Patent Document 1).

일본 공개특허공보 2005-26286호Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2005-26286

노광 장치에 있어서의 상기 서술한 바와 같은 마스크 반송 장치, 마스크 로더계 및 마스크 라이브러리를 포함하는 마스크 반송 시스템에서는, 마스크 스테이지에 대하여 마스크를 확실하게 반송하기 위해서 마스크의 반송 불량을 방지하는 것이 요구되고 있다. 여기서, 마스크의 반송 불량이란, 예를 들어, 마스크의 오반송, 반송 시스템의 정체·정지, 마스크·마스크 케이스·마스크 반송 시스템 등의 파손 등이 포함된다.In the mask conveying system including the mask conveying apparatus, the mask loader system, and the mask library as described above in the exposure apparatus, it is required to prevent defective conveyance of the mask in order to reliably convey the mask to the mask stage. . Here, the defective conveyance of a mask includes, for example, an erroneous conveyance of a mask, a congestion/stop of a conveyance system, and damage|damage of a mask, mask case, a mask conveyance system, etc.

제 1 양태에 의하면, 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 그 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서, 그 제 2 케이스부는, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 그 보관 장치에 유지될 때에 사용되는 유지부를 갖고, 그 유지부는, 그 제 1 케이스부에 장착된 그 제 2 케이스부가 그 보관 장치에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광이 통과하는 제 1 광 통과부와, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 그 제 2 케이스부의 그 유지부가 그 보관 장치에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 그 광이 통과하는, 그 제 1 광 통과부와는 상이한 제 2 광 통과부를 구비하는 마스크 케이스가 제공된다.According to a first aspect, a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting a mask is formed, and a second case portion having an upper surface formed to be detachable from the first case portion and disposed opposite to the bottom surface thereof is provided, , A mask case that can be stored in a storage device, wherein the second case portion has a holding portion used when being removed from the first case portion and held in the storage device, and the holding portion is attached to the first case portion When the second case portion is in the first position stored in the storage device, the first light passage portion through which light passes, and the holding portion of the second case portion removed from the first case portion are attached to the storage device. A mask case is provided having a second light passage portion different from the first light passage portion through which the light passes when it is in the held second position.

제 2 양태에 의하면, 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 그 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서, 그 제 2 케이스부는, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 유지될 때에 사용되는 유지부를 구비하고, 그 유지부는, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 그 제 2 케이스부가 그 보관 장치로 지지될 때에, 그 보관 장치에 형성된 핀부에 끼워맞추기 위한 개구부를 갖는 마스크 케이스가 제공된다.According to a second aspect, a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting a mask is formed, and a second case portion having an upper surface formed to be detachable from the first case portion and disposed opposite to the bottom surface thereof is provided, , A mask case that can be stored in a storage device, wherein the second case portion includes a holding portion used when detached from the first case portion and is held, and the holding portion is the second case portion removed from the first case portion. 2 When the case portion is supported by the storage device, a mask case is provided having an opening for fitting into a pin portion formed in the storage device.

제 3 양태에 의하면, 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 그 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부로 구성되는 마스크 케이스로서, 그 제 1 케이스부는, 그 저면에 있어서 그 지지부에 대향하는 위치에, 외부로부터의 광을 통과시키는 광 통과부를 구비하는 마스크 케이스가 제공된다.According to a third aspect, a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is formed, and a second case portion having an upper surface disposed to be detachable from the first case portion, and disposed opposite to the bottom surface thereof. As a mask case, a mask case is provided in which the first case portion has a light passage portion through which light from the outside passes through at a position opposite to the support portion on the bottom surface thereof.

제 4 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크가 수납되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 하부 케이스부와, 그 하부 케이스부에 지지된 그 마스크를 덮도록, 그 하부 케이스부에 재치 (載置) 되는 상부 케이스부를 구비하고, 그 상부 케이스부는, 마스크 케이스용의 지지부로 그 상부 케이스부를 지지하기 위한 플랜지부를 갖고, 그 플랜지부에, 그 상부 케이스부의 위치를 검출하기 위한 광빔이 통과 가능한 개구가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a fourth aspect, a mask case in which a patterned mask is accommodated, and is mounted on the lower case portion so as to cover the lower case portion supporting the mask and the mask supported on the lower case portion. The upper case portion is provided, and the upper case portion has a flange portion for supporting the upper case portion as a support portion for a mask case, and an opening through which a light beam for detecting the position of the upper case portion can pass is formed in the flange portion. A mask case is provided.

제 5 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크가 수납되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 하부 케이스부와, 그 하부 케이스부에 지지된 그 마스크를 덮도록, 그 하부 케이스부에 재치되는 상부 케이스부를 구비하고, 그 하부 케이스부의 저면에, 외부로부터의 광을 반사하는 제 1 반사부, 및 외부로부터의 광을 통과시키는 창부 (窓部) 가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a fifth aspect, as a mask case in which a patterned mask is accommodated, a lower case portion supporting the mask, and an upper case portion mounted on the lower case portion to cover the mask supported by the lower case portion A mask case is provided in which a first reflecting portion for reflecting light from the outside and a window portion for passing light from outside are formed on a bottom surface of the lower case portion thereof.

제 6 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크가 수납되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 하부 케이스부와, 그 하부 케이스부에 지지된 그 마스크를 덮도록, 그 하부 케이스부에 재치되는 상부 케이스부를 구비하고, 그 하부 케이스부의 그 마스크 케이스의 반송부에 대향하는 저면에, 회전 대칭인 제 1 오목부, V 자형의 홈 형상의 제 2 오목부, 및 적어도 1 개 지점의 평탄부가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a sixth aspect, as a mask case in which a patterned mask is accommodated, a lower case portion supporting the mask and an upper case portion mounted on the lower case portion to cover the mask supported by the lower case portion And a mask case in which a rotationally symmetric first concave portion, a V-shaped groove-shaped second concave portion, and a flat portion of at least one point are formed on a bottom surface of the lower case portion opposite to the carrying portion of the mask case. Is provided.

제 7 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크를 수납하고, 그 마스크를 반송하기 위한 반송 장치에 수용되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 지지부를 포함하는 제 1 케이스부와, 그 제 1 케이스부 상에 재치되고, 그 마스크를 수납하기 위한 공간을 그 제 1 케이스부와 함께 형성하는 제 2 케이스부를 구비하고, 그 제 2 케이스부는, 그 지지부에 지지된 그 마스크의 상면에 대향하는 천판부 및 그 천판부에 대하여 외측으로 돌출된 플랜지부를 포함하고, 그 플랜지부는, 그 반송 장치의 수용부에 대한 그 제 2 케이스부의 수용 상태를 검지하기 위해서 그 플랜지부를 관통한 관통부가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a seventh aspect, as a mask case accommodated in a conveying device for storing a patterned mask and conveying the mask, a first case portion including a support portion for supporting the mask, and on the first case portion And a second case portion which is mounted on and forms a space for accommodating the mask together with the first case portion, and the second case portion includes a top plate portion facing the upper surface of the mask supported by the support portion, and the A mask case including a flange portion protruding outward with respect to the top plate portion, the flange portion being provided with a through portion penetrating the flange portion in order to detect the receiving state of the second case portion with respect to the receiving portion of the conveying device do.

제 8 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치에 있어서, 제 1 양태의 마스크 케이스의 그 유지부를 개재하여 그 마스크 케이스를 지지 가능한 지지부와, 그 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와, 그 지지부를 향하여 조사된 그 광빔을 검출하는 검출부를 구비하는 보관 장치가 제공된다.According to an eighth aspect, in a storage device for storing a mask case, a support portion capable of supporting the mask case through the holding portion of the mask case of the first aspect, an irradiation portion for irradiating a light beam toward the support portion, and the support portion There is provided a storage device including a detection unit for detecting the light beam irradiated toward the.

제 9 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서, 제 8 양태의 보관 장치에 그 마스크 케이스를 반송하는 반송 아암을 구비하고, 그 반송 아암은, 그 마스크 케이스를 유지하고 나서 그 마스크 케이스가 그 보관 장치의 그 지지부에 지지될 때까지의 동안에 그 검출부로 검출된 그 광빔의 검출 결과에 기초하여, 그 마스크 케이스가 그 지지부로 지지되는 위치를 제어하는 반송 장치가 제공된다.According to a ninth aspect, as a transport device for transporting a mask case, the storage device of the eighth aspect includes a transport arm for transporting the mask case, and the transport arm holds the mask case and then the mask case is There is provided a conveying device that controls a position in which the mask case is supported by the support portion based on the detection result of the light beam detected by the detection portion while it is supported by the support portion of the storage device.

제 10 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치로서, 제 2 양태의 마스크 케이스의 유지부를 지지 가능한 케이스 지지부를 구비하고, 그 케이스 지지부에, 그 유지부에 형성된 그 개구부와 걸어맞춤 가능한 핀부를 갖는 보관 장치가 제공된다.According to a tenth aspect, as a storage device for storing a mask case, a case support portion capable of supporting a holding portion of the mask case of the second aspect is provided, and the opening portion formed in the holding portion of the case support portion and a pin portion engageable with the holding portion thereof are provided. A storage device is provided.

제 11 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서, 제 3 양태의 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부와, 그 마스크 케이스를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와, 그 마스크 케이스를 향하여 조사된 그 광빔을 검출하는 검출부를 구비하는 반송 장치가 제공된다.According to an eleventh aspect, in a transport apparatus for transporting a mask case, a case support portion for supporting the mask case of the third aspect, an irradiation portion for irradiating a light beam toward the mask case, and the light beam irradiated toward the mask case There is provided a conveying apparatus including a detection unit that detects.

제 12 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치, 또는 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하는 보관 장치, 또는 반송 장치가 제공된다.According to a twelfth aspect, in a storage device for storing a mask case or a transport device for transporting the mask case, a storage device or a transport device including a case support portion for supporting the mask case of the above-described aspect is provided.

제 13 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스로부터 제 2 케이스부를 꺼내어, 그 마스크가 재치된 그 제 1 케이스부를 반송하는 반송 아암을 구비하는 반송 장치가 제공된다.According to a thirteenth aspect, as a transport apparatus for transporting a mask case, a transport apparatus including a transport arm that takes out a second case portion from the mask case of the above-described aspect and transports the first case portion on which the mask is placed is provided. do.

제 14 양태에 의하면, 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스에 수납된 마스크를 사용하여, 그 기판을 노광하는 노광 장치가 제공된다.According to a fourteenth aspect, in an exposure apparatus for exposing a substrate, there is provided an exposure apparatus for exposing the substrate using a mask housed in the mask case of the above-described aspect.

제 15 양태에 의하면, 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 상기 서술한 양태의 보관 장치, 또는 상기 서술한 양태의 반송 장치를 구비하고, 그 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스, 또는 그 반송 장치에 의해 반송된 마스크 케이스의 내부에 수납된 마스크를 사용하여, 그 기판을 노광하는 노광 장치가 제공된다.According to a fifteenth aspect, in an exposure apparatus for exposing a substrate, the storage apparatus of the above-described aspect, or the transport apparatus of the above-described aspect, and a mask case that can be stored in the storage apparatus, or the transportation apparatus An exposure apparatus for exposing the substrate is provided using a mask housed in the conveyed mask case.

제 16 양태에 의하면, 상기 서술한 양태의 노광 장치를 사용하여 감광성 기판을 노광하는 것과, 그 노광된 감광성 기판을 처리하는 것을 포함하는 디바이스 제조 방법이 제공된다.According to a sixteenth aspect, there is provided a device manufacturing method comprising exposing a photosensitive substrate using the exposure apparatus of the above-described aspect and treating the exposed photosensitive substrate.

제 17 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스의 그 유지부를 개재하여 그 마스크 케이스를 지지하는 것과, 그 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 것과, 그 지지부를 향하여 조사된 그 광빔을 검출하는 것을 포함하는 보관 방법이 제공된다.According to a seventeenth aspect, in a storage method for storing a mask case, supporting the mask case through the holding portion of the mask case of the above-described aspect, irradiating a light beam toward the support portion, and the support portion A storage method is provided comprising detecting the light beam irradiated toward it.

제 18 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 방법에 있어서, 마스크가 수납된 상기 서술한 양태의 마스크 케이스를 지지하는 것과, 그 마스크 케이스의 제 1 케이스부에 광을 조사하고, 그 제 1 케이스부에 조사된 그 광을 검출하는 것과, 그 제 1 케이스부에 형성되는 광 통과부를 통해서 그 제 1 케이스부에 재치된 그 마스크에 그 광을 조사하고, 그 마스크로부터의 반사광을 그 광 통과부를 통해서 검출하는 것을 포함하는 반송 방법이 제공된다.According to an eighteenth aspect, in a transport method for transporting a mask case, the mask case of the above-described aspect in which the mask is accommodated is supported, and the first case portion of the mask case is irradiated with light, and the first case The light irradiated to the part is detected, the light is irradiated to the mask placed on the first case part through the light passage part formed in the first case part, and the reflected light from the mask is transmitted to the light passage part. A conveying method comprising detecting through is provided.

도 1 은, 실시형태의 일례에 관련된 노광 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2(A) 는, 도 1 중의 마스크 케이스를 상면측에서 본 사시도, (B) 는, 그 마스크 케이스를 저면측에서 본 사시도이다.
도 3(A) 는, 도 1 중의 마스크 케이스를 나타내는 평면도, (B) 는, 그 마스크 케이스를 나타내는 저면도, (C) 는, 도 3(B) 의 CC 선을 따르는 부분 단면도이다.
도 4 는, 도 1 중의 마스크 케이스의 하부 케이스부에서 상부 케이스부를 떼어낸 상태를 나타내는 사시도이다.
도 5(A) 는, 마스크의 반송차를 나타내는 평면도, (B) 는, 반송차를 나타내는 측면도이다.
도 6(A) 는, 마스크의 반송 장치를 나타내는 일부를 생략한 평면도, (B) 는, 반송 장치를 나타내는 측면도이다.
도 7 은, 마스크 및 마스크 케이스의 검출 장치를 나타내는 확대 단면도이다.
도 8 은, 마스크 라이브러리를 나타내는 사시도이다.
도 9 는, 마스크 라이브러리를 나타내는 정면도이다.
도 10 은, 복수의 마스크 케이스가 반입된 마스크 라이브러리를 나타내는 사시도이다.
도 11(A) 는, 마스크의 반송 방법을 포함하는 노광 방법의 일례를 나타내는 플로우 차트, (B) 는, 반송 방법의 제 1 변형예를 나타내는 플로우 차트, (C) 는, 반송 방법의 제 2 변형예를 나타내는 플로우 차트이다.
도 12 는, 마스크 라이브러리 및 마스크 케이스를 나타내는 일부를 단면으로 나타낸 측면도이다.
도 13 은, 마스크 라이브러리 및 분리된 마스크 케이스를 나타내는 일부를 단면으로 나타낸 측면도이다.
도 14 는, 변형예의 마스크 케이스를 나타내는 평면도이다.
도 15(A), (B), (C), (D), (E) 는, 각각 변형예의 마스크 케이스를 마스크 라이브러리에 반입할 때의 동작 설명도이다.
도 16(A) 는, 마스크 케이스를 반입할 때의 검출 신호의 일례를 나타내는 도면, (B) 는, 마스크 케이스의 상부 케이스부를 떼어낼 때의 검출 신호의 일례를 나타내는 도면이다.
도 17(A), (B), (C), (D), (E) 는, 각각 변형예의 마스크 케이스의 상부 케이스부를 떼어낼 때의 동작 설명도이다.
도 18(A) 는, 다른 변형예의 마스크 케이스를 나타내는 평면도, (B) 는, 도 18(A) 중의 플랜지부를 나타내는 확대도, (C) 는, 플랜지부의 다른 예를 나타내는 확대도이다.
도 19 는, 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 나타내는 플로우 차트이다.1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to an example of an embodiment.
Fig. 2(A) is a perspective view of the mask case in Fig. 1 as viewed from the top side, and (B) is a perspective view of the mask case as viewed from the bottom side.
Fig. 3(A) is a plan view showing the mask case in Fig. 1, (B) is a bottom view showing the mask case, and (C) is a partial cross-sectional view taken along line CC in Fig. 3(B).
4 is a perspective view showing a state in which the upper case portion is removed from the lower case portion of the mask case in FIG. 1.
Fig. 5(A) is a plan view showing a transport vehicle of a mask, and (B) is a side view showing a transport vehicle.
Fig. 6(A) is a plan view in which a part of the mask conveying device is omitted, and (B) is a side view illustrating the conveying device.
7 is an enlarged cross-sectional view showing a mask and a mask case detection device.
8 is a perspective view showing a mask library.
9 is a front view showing a mask library.
10 is a perspective view showing a mask library into which a plurality of mask cases are carried.
Fig. 11(A) is a flow chart showing an example of an exposure method including a transport method of a mask, (B) is a flow chart showing a first modification of the transport method, and (C) is a second transport method. It is a flow chart showing a modified example.
12 is a side view showing a part of a mask library and a mask case in cross section.
13 is a side view showing a part of the mask library and the separated mask case in cross section.
14 is a plan view showing a mask case of a modified example.
15(A), (B), (C), (D), and (E) are diagrams illustrating operations when carrying the mask case of the modified example into the mask library, respectively.
Fig. 16(A) is a diagram showing an example of a detection signal when carrying in the mask case, and (B) is a diagram showing an example of a detection signal when the upper case portion of the mask case is removed.
17(A), (B), (C), (D), and (E) are diagrams illustrating operations when removing the upper case portion of the mask case of the modified example, respectively.
Fig. 18(A) is a plan view showing a mask case of another modified example, (B) is an enlarged view showing a flange portion in Fig. 18(A), and (C) is an enlarged view showing another example of the flange portion.
19 is a flowchart showing an example of a method of manufacturing an electronic device.

본 발명의 실시형태의 일례에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (EX) 의 개략 구성을 나타낸다. 일례로서, 노광 장치 (EX) (투영 노광 장치) 는, 주사 노광형이며, 액정 표시 소자 또는 유기 EL (Electro-Luminescence) 방식의 표시 소자 등을 제조하기 위한 레지스트 (감광제) 가 도포된 평판상의 플레이트 (P) (감광 기판) 에, 마스크 (M) 의 패턴 이미지를 노광한다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 수평면 내에서, 후술하는 마스크 라이브러리 (LB) 로부터 마스크 (M) 가 수납된 후술하는 마스크 케이스 (30) 를 반입 또는 반출하는 방향을 따라 Y 축을 취하고, 그 수평면 내에서 Y 축에 직교하는 방향을 따라 X 축을 취하고, X 축 및 Y 축에 수직인 방향 (즉, 연직 방향) 을 따라 Z 축을 취하고 있다.An example of an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 shows a schematic configuration of an exposure apparatus EX according to the present embodiment. As an example, the exposure apparatus EX (projection exposure apparatus) is a scanning exposure type, and a flat plate with a resist (photosensitive agent) for manufacturing a liquid crystal display element or an organic EL (Electro-Luminescence) type display element ( P) The pattern image of the mask M is exposed on the (photosensitive substrate). In addition, in the following description, in the horizontal plane, the Y-axis is taken along the direction in which the mask case 30, which will be described later, in which the mask M is housed from the mask library LB, which will be described later, is carried in or out, and within the horizontal plane The X axis is taken along a direction orthogonal to the Y axis, and the Z axis is taken along a direction perpendicular to the X axis and Y axis (ie, vertical direction).

노광 장치 (EX) 는, 사각형 평판상의 마스크 (M) 의 패턴을 플레이트 (P) 에 노광하는 노광부 (S) 를 구비하고 있다. 또한, 일례로서, 마스크 (M) 의 패턴면 (하면) 에는, 사각형 프레임 형상의 프레임 (도시하지 않음) 을 개재하여 방진용의 박막 (소위, 펠리클) 이 장설 (張設) 되어 있어도 된다. 노광부 (S) 는, 마스크 (M) 를 유지하여 이동하는 마스크 스테이지 (MST) 와, 노광 광으로 마스크 (M) 를 조명하는 조명계 (IL) 와, 마스크 (M) 의 패턴의 이미지를 플레이트 (P) 의 표면에 투영하는 투영 광학계 (PL) 와, 플레이트 (P) 를 유지하여 이동하는 플레이트 스테이지 (PST) 를 갖는다. 또한, 노광 장치 (EX) 는, 각각 마스크 (M) 가 수납된 복수의 마스크 케이스 (30) 를 보관 가능한 보관부로서의 마스크 라이브러리 (LB) 와, 마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반입 및 반출 등을 실시하는 반송 장치 (H1) 와, 마스크 케이스 (30) 로부터 꺼낸 마스크 (M) 를 노광부 (S) 의 마스크 스테이지 (MST) 에 반송하는 마스크 로더계 (H2) 와, 장치 전체의 동작을 제어하는 제어 장치 (CONT) 를 구비하고 있다. 또한, 노광부 (S), 마스크 라이브러리 (LB), 반송 장치 (H1), 및 마스크 로더계 (H2) 는, 소정 환경으로 설정된 노광 챔버 (CH) 내부에 수용되어 있다.The exposure apparatus EX is provided with the exposure part S which exposes the pattern of the mask M of the rectangular flat plate shape on the plate P. In addition, as an example, on the pattern surface (lower surface) of the mask M, a vibration-proof thin film (so-called pellicle) may be elongated via a rectangular frame-shaped frame (not shown). The exposure unit S includes a mask stage MST that moves while holding the mask M, an illumination system IL that illuminates the mask M with exposure light, and an image of the pattern of the mask M on a plate ( It has a projection optical system PL which projects on the surface of P), and the plate stage PST which holds and moves the plate P. In addition, the exposure apparatus EX includes a mask library LB serving as a storage unit capable of storing a plurality of mask cases 30 in which the mask M is stored, and the mask case 30 for the mask library LB. A transfer device H1 carrying in and carrying out, etc., a mask loader system H2 transferring the mask M taken out from the mask case 30 to the mask stage MST of the exposure unit S, and the entire apparatus It is equipped with a control device (CONT) that controls the operation of. Moreover, the exposure part S, the mask library LB, the conveyance apparatus H1, and the mask loader system H2 are accommodated inside the exposure chamber CH set in a predetermined environment.

마스크 라이브러리 (LB) 는, 노광 챔버 (CH) 의 ＋Y 방향의 측면에 형성된 마스크 케이스 (30) 의 반출입구 (도시하지 않음) 의 근방에 형성되고, 마스크 케이스 (30) 를 수용하는 복수의 수용부 (65) 및 마스크 케이스 (30) 를 일시적으로 수용하는 일시 수용부 (66) 를 갖는다. 복수의 수용부 (65) 는 Z 방향으로 배열되고, 수용부 (65) 에 수용되는 각 마스크 케이스 (30) 에는 각각 1 매의 마스크 (M) 가 개별적으로 수납된다. 복수의 마스크 케이스 (30) 내의 마스크 (M) 에는, 통상적으로는 서로 상이한 마스크 패턴이 형성되어 있다.The mask library LB is formed in the vicinity of the carrying-in/out port (not shown) of the mask case 30 formed on the side in the +Y direction of the exposure chamber CH, and a plurality of accommodating portions for accommodating the mask case 30 It has a temporary accommodation part 66 which temporarily accommodates 65 and the mask case 30. The plurality of accommodating portions 65 are arranged in the Z-direction, and each mask case 30 accommodated in the accommodating portion 65 individually accommodates one mask M. In the masks M in the plurality of mask cases 30, mask patterns different from each other are usually formed.

일례로서, 마스크 라이브러리 (LB) 내에 있는 마스크 (M) 와는 다른 많은 마스크 (M) 가, 각각 마스크 케이스 (30) 에 수납된 상태에서, 노광 챔버 (CH) 의 외부의 마스크 스토커 (도시하지 않음) 에 보관되어 있다. 그리고, 노광 장치 (EX) 에서 필요해진 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 가, 그 마스크 스토커로부터 반송차 (V) 에 의해 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 를 통해 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 에 반입된다. 일시 수용부 (66) 에 반입된 마스크 케이스 (30) 는, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 로 옮겨진다. 또한, 사용이 끝난 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 가, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 로부터 일시 수용부 (66) 로 옮겨진다. 그 마스크 케이스 (30) 는, 반송차 (V) 에 의해 일시 수용부 (66) 로부터 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 를 통해 마스크 스토커 (도시하지 않음) 로 되돌려진다.As an example, in a state in which many masks M different from the mask M in the mask library LB are accommodated in the mask case 30, respectively, a mask stocker outside the exposure chamber CH (not shown) It is kept on. Then, the mask case 30 in which the mask M required in the exposure apparatus EX is accommodated is transferred from the mask stocker through the carrying-in/outlet (not shown) of the exposure chamber CH by the transport vehicle V. It is carried into the temporary storage unit 66 of the mask library LB. The mask case 30 carried in the temporary accommodation part 66 is moved to the accommodation part 65 by the conveyance apparatus H1. In addition, the mask case 30 in which the used mask M is housed is transferred from the storage portion 65 to the temporary storage portion 66 by the conveying device H1. The mask case 30 is returned to the mask stocker (not shown) from the temporary accommodation unit 66 by the transport vehicle V through the carrying-in/out port (not shown) of the exposure chamber CH.

도 2(A) 는 도 1 중의 마스크 케이스 (30) 를 상면측에서 본 사시도, 도 2(B) 는 마스크 케이스를 저면측에서 본 사시도, 도 3(A) 는 마스크 케이스 (30) 를 나타내는 평면도 (상면도), 도 3(B) 는 마스크 케이스 (30) 를 나타내는 저면도이다. 또한, 도 2(A) ∼ 도 3(B) 에 있어서의 좌표계 (X, Y, Z) 는, 마스크 케이스 (30) 가 도 1 의 마스크 라이브러리 (LB) 의 수용부 (65) 에 수용되어 있는 상태에서의 좌표계를 나타내고 있다.Fig. 2(A) is a perspective view of the mask case 30 in Fig. 1 viewed from the top side, Fig. 2(B) is a perspective view of the mask case viewed from the bottom side, and Fig. 3(A) is a plan view showing the mask case 30 (Top view) and FIG. 3(B) are bottom views showing the mask case 30. In addition, in the coordinate system (X, Y, Z) in Figs. 2(A) to 3(B), the mask case 30 is accommodated in the accommodating portion 65 of the mask library LB in Fig. 1. It shows the coordinate system in the state.

마스크 케이스 (30) 는, 도 2(A) 및 (B) 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (제 1 케이스부) (31A) 와, 그 하부 케이스부 (31A) 에 재치된 마스크 (M) 를 덮도록 하부 케이스부 (31A) 위에 재치 (장착) 되는 상부 케이스부 (제 2 케이스부) (31B) 를 구비하고 있다. 즉, 마스크 케이스 (30) 는, 하부 케이스부 (31A) 와 상부 케이스부 (31B) 를 서로 조합하여 마스크 (M) 를 수납하기 위한 공간을 형성하고 있다. 하부 케이스부 (31A) 와 상부 케이스부 (31B) 는, 마스크 (M) 를 수납하기 위한 공간을 덮도록 (둘러싸도록) 조합되고, 이 공간에 수납된 마스크 (M) 를 보호한다. 하부 케이스부 (31A) 는, 도 2(B) 및 도 3(B) 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 보다 큰 사각형 평판상의 베이스 부재 (32), 및 베이스 부재 (32) 의 ―Y 방향의 상단부에 볼트 (도시하지 않음) 를 통해서 고정된 평판상의 측벽 부재 (33) 를 갖는다. 상부 케이스부 (31B) 는, 도 2(A) 및 도 3(A) 에 나타내는 바와 같이, 베이스 부재 (32) 와 거의 동일 크기의 사각형 평판부 (천판부) (39a) 의 ―X 방향, ＋X 방향 및 ＋Y 방향의 단부 (端部) 의 하측에 각각 평판상의 측벽부 (39b, 39c, 39d) 를 형성한 형상의 커버 부재 (39), 그리고 커버 부재 (39) 의 ―X 방향 및 ＋X 방향의 측면의 중앙부에, 각각 외측으로 돌출하도록 고정된 Y 방향으로 가늘고 긴 플랜지부 (41A, 41B) 를 갖는다. 일례로서, 마스크 케이스 (30) (케이스부 (31A, 31B)) 의 상면의 외형은, Y 방향의 길이가 X 방향의 폭보다 긴 거의 장방형상이다.The mask case 30 is, as shown in Figs. 2A and 2B, in the lower case portion (first case portion) 31A on which the mask M is placed, and the lower case portion 31A. An upper case part (second case part) 31B mounted (mounted) on the lower case part 31A is provided so as to cover the mounted mask M. That is, the mask case 30 forms a space for accommodating the mask M by combining the lower case portion 31A and the upper case portion 31B with each other. The lower case part 31A and the upper case part 31B are combined so as to cover (enclose) a space for accommodating the mask M, and protect the mask M accommodated in this space. The lower case portion 31A is, as shown in FIGS. 2(B) and 3(B), the base member 32 in the shape of a square flat plate larger than the mask M, and the base member 32 in the -Y direction It has a flat side wall member 33 fixed to the upper end through bolts (not shown). The upper case portion 31B is in the -X direction, +X of the rectangular flat plate portion (top plate portion) 39a having substantially the same size as the base member 32, as shown in FIGS. 2(A) and 3(A). The cover member 39 of the shape in which the flat side wall portions 39b, 39c, and 39d are formed, respectively, on the lower side of the end in the direction and the +Y direction, and the -X direction and the +X direction of the cover member 39 In the central portion of the side surface, each of the flange portions 41A and 41B is elongated in the Y direction, which is fixed so as to project outward. As an example, the outer shape of the upper surface of the mask case 30 (case parts 31A, 31B) is substantially rectangular in shape whose length in the Y direction is longer than the width in the X direction.

하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B) 를 구성하는 부재는, 일례로서 각각 알루미늄 또는 스테인리스 등의 금속으로부터 형성할 수 있지만, 금속에 한정되지 않고, 플라스틱이나 탄소 섬유를 사용한 복합 재료 등으로 형성해도 된다. 또, 하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B) 의 일부에 형성되는 개구 (상세 후술) 에 합성 수지 또는 석영 유리 등으로부터 형성되는 창부를 장착하도록 (매립하도록) 해도 된다.The members constituting the lower case portion 31A and the upper case portion 31B may be formed from metals such as aluminum or stainless steel, respectively, as an example, but are not limited to metal, and may be made of a composite material using plastic or carbon fiber. You may form it. In addition, a window formed from synthetic resin or quartz glass or the like may be attached (embedded) to the opening (described later in detail) formed in a part of the lower case portion 31A and the upper case portion 31B.

베이스 부재 (32) 는, 사각형 평판부 (32a) 의 X 방향의 양 측면에, 각각 평판부 (32a) 보다 약간 ―Y 방향으로 돌출함과 함께, 저면에 Y 방향을 따라 홈부 (32b1) 가 형성된 2 개의 가늘고 긴 평판부 (32b) 를 고정시킨 것이다. 평판부 (32b) 의 홈부 (32b1) 의 2 개 지점에 각각 볼트 (B4) 를 통해서 짧은 로드 형상의 다리부 (35) 가 고정되고, 평판부 (32a) 의 저면의 중앙의 2 개 지점에도 각각 볼트 (B4) 를 통해서 다리부 (35) 가 고정되어 있다. 또한, 평판부 (32a) 에 고정된 다리부 (35) 는 생략하는 것이 가능하다. 평판부 (32a) 의 ―Y 방향의 측면 (측벽 부재 (33) 의 저면) 의 2 개 지점에, 단면 형상이 L 자형인 연결부 (38A, 38B) 가 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 고정되고, 연결부 (38A, 38B) 의 ―Y 방향으로 돌출된 부분에 각각 원형의 개구 (38Aa, 38Ba) (상세 후술) 가 형성되어 있다.The base member 32 protrudes slightly from the flat plate 32a in the -Y direction on both sides of the rectangular flat plate 32a in the X direction, and a groove 32b1 is formed on the bottom surface along the Y direction. Two elongated flat plate portions 32b were fixed. Short rod-shaped leg portions 35 are fixed to two points of the groove portion 32b1 of the flat plate portion 32b through bolts B4, respectively, and also at two points in the center of the bottom surface of the flat plate portion 32a. The leg portion 35 is fixed through the bolt B4. In addition, it is possible to omit the leg portion 35 fixed to the flat plate portion 32a. At two points of the side surface (the bottom surface of the side wall member 33) in the -Y direction of the flat plate portion 32a, the connecting portions 38A, 38B having an L-shaped cross-sectional shape are fixed by bolts (not shown), Circular openings 38Aa and 38Ba (described later in detail) are formed in portions of the connecting portions 38A and 38B protruding in the -Y direction.

플랜지부 (41A, 41B) 는 각각 단면 형상이 L 자형이고, Y 방향의 길이가 커버 부재 (39) 길이의 1/2 정도이며, 플랜지부 (41A, 41B) 중 측벽부 (39b, 39c) 에 대향하는 부분이 각각 복수 지점에서 볼트 (B5) 에 의해 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39b, 39c) 에 고정되어 있다. 플랜지부 (41A, 41B) 의 ―X 방향 및 ＋X 방향으로 돌출한 부분 (이하, 이들 부분을 간단히 플랜지부 (41A, 41B) 라고 한다) 의 ―Y 방향의 단부에 가까운 부분에, 각각 Y 방향으로 소정 폭의 절결부 (41Aa, 41Ba) 가 형성되고, 플랜지부 (41A, 41B) 의 ＋Y 방향의 단부에 가까운 위치에 각각 소정 크기의 원형 개구 (관통공) (41Ab, 41Bb) 가 형성되어 있다. 또한, 일방 (＋X 방향측) 의 플랜지부 (41B) 의 절결부 (41Ba) 에 가까운 위치에, Y 방향을 따라 소정 간격으로 2 개의 서로 동일한 크기의 원형 개구 (관통공) (41Bc, 41Bd) 가 형성되어 있다. 구체적으로는, 일례로서, 개구 (41Bc, 41Bd) 는, Y 방향으로 서로 60 ㎜ 떨어진 위치가 개구 (관통) 하도록 형성되어 있다. 또, 일례로서, 개구 (41Bd) 의 중심과 개구 (41Bb) 의 중심의 Y 방향의 간격은 570 ㎜ 이다. 또한, 플랜지부 (41A, 41B) 는, 상기 서술한 절결부 및 각 개구의 배치를 Y 방향에 관해서 반전시킨 구성으로 해도 된다. 또, 개구 (41Bc, 41Bd) 는, 서로 동일한 크기에 한정되지 않고 상이한 크기여도 되고, 원형상에 한정되지 않고 다른 형상이어도 된다. 예를 들어, 개구 (41Bc, 41Bd) 는, 원형상으로 닫힌 개구 (구멍) 형상이 아니라, 플랜지부 (41B) 의 측면으로 이어진 절결 형상이어도 된다.The flange portions 41A and 41B each have an L-shaped cross-sectional shape, and the length in the Y direction is about 1/2 of the length of the cover member 39, and the side wall portions 39b and 39c among the flange portions 41A and 41B are The opposing portions are each fixed to the side wall portions 39b and 39c of the cover member 39 by bolts B5 at a plurality of points. The portions protruding in the -X and +X directions of the flange portions 41A, 41B (hereinafter, these portions are simply referred to as flange portions 41A, 41B) near the ends in the -Y direction, respectively, in the Y direction. Cutouts 41Aa and 41Ba of a predetermined width are formed, and circular openings (through holes) 41Ab and 41Bb of predetermined sizes are formed at positions close to the ends in the +Y direction of the flange portions 41A and 41B, respectively. In addition, two circular openings (through holes) 41Bc and 41Bd having the same size at predetermined intervals along the Y direction are provided at a position close to the cutout 41Ba of the flange portion 41B of one (+X direction side). Is formed. Specifically, as an example, the openings 41Bc and 41Bd are formed so that positions 60 mm apart from each other in the Y direction are opened (through). In addition, as an example, the distance between the center of the opening 41Bd and the center of the opening 41Bb in the Y direction is 570 mm. Further, the flange portions 41A and 41B may have a configuration in which the arrangement of the above-described notch portions and the respective openings is inverted with respect to the Y direction. In addition, the openings 41Bc and 41Bd are not limited to the same size and may be of different sizes, and may have different shapes without being limited to a circular shape. For example, the openings 41Bc and 41Bd may not have an opening (hole) shape closed in a circular shape, but may have a cutout shape extending to the side surface of the flange portion 41B.

본 실시형태의 마스크 케이스 (30) 에 있어서, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 를 지지한 상태에서, 하부 케이스부 (31A) 를 강하시킴으로써, 상부 케이스부 (31B) 를 하부 케이스부 (31A) 로부터 용이하게 분리할 수 있다. 반대로, 그 상부 케이스부 (31B) 가 분리된 상태로부터 하부 케이스부 (31A) 를 상승시킴으로써, 하부 케이스부 (31A) 상에 재치된 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 용이하게 장착할 수 있다.In the mask case 30 of this embodiment, by lowering the lower case part 31A while supporting the flange parts 41A and 41B of the upper case part 31B, the upper case part 31B is lowered. It can be easily separated from the case portion 31A. Conversely, by raising the lower case part 31A from the state in which the upper case part 31B is separated, the upper case part 31A is formed so as to cover the mask M placed on the lower case part 31A. The case portion 31B can be easily attached.

도 4 는, 하부 케이스부 (31A) 로부터 상부 케이스부 (31B) 를 분리하고, 하부 케이스부 (31A) 로부터 마스크 (M) 를 들어 올린 상태의 마스크 케이스 (30) 를 나타낸다. 도 4 에 있어서, 하부 케이스부 (31A) 의 2 개의 가늘고 긴 평판부 (32b) 의 상단부에, 각각 마스크 (M) 를 지지하기 위한 단차부 (34Ba, 34Ca) 가 형성된 지지부 (34B, 34C) 가 고정되고 (일방의 지지부 (34B) 는 도시하지 않음), 지지부 (34B, 34C) 의 사이에 단차부 (34Ba, 34Ca) 와 동일한 높이의 작은 평판상의 지지부 (34A) 가 고정되어 있다. 각 1 쌍의 지지부 (34B, 34C) 의 단차부 (34Ba, 34Ca), 및 1 쌍의 지지부 (34A) 의 상면에 마스크 (M) 의 패턴면 (하면) 의 주연부를 재치함으로써, 하부 케이스부 (31A) 로 마스크 (M) 를 지지할 수 있다. 마스크 라이브러리 (LB) 에 마스크 케이스 (30) 를 수납한 상태에서, 마스크 (M) 의 패턴면은 거의 수평면에 평행하다.4 shows the mask case 30 in a state in which the upper case portion 31B is separated from the lower case portion 31A and the mask M is lifted from the lower case portion 31A. In Fig. 4, support portions 34B and 34C in which step portions 34Ba and 34Ca for supporting the mask M are respectively formed at upper ends of the two elongated flat plate portions 32b of the lower case portion 31A. It is fixed (one support part 34B is not shown), and the small plate-shaped support part 34A of the same height as the step part 34Ba, 34Ca is fixed between the support parts 34B, 34C. By placing the periphery of the pattern surface (lower surface) of the mask M on the upper surface of the stepped portions 34Ba and 34Ca of each pair of support portions 34B and 34C, and the pair of support portions 34A, the lower case portion ( The mask M can be supported with 31A). In the state where the mask case 30 is housed in the mask library LB, the pattern surface of the mask M is substantially parallel to the horizontal plane.

또, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 에 형성된 4 개 지점의 개구 (예를 들어, 거의 정방형의 개구) 에, 각각 광 (예를 들어, 가시광) 을 투과하는 마스크 관찰용의 창부 (39e) 가 장착되고, 평판부 (39a) 의 ＋X 방향의 단부에 형성된 개구 (예를 들어, 가늘고 긴 사각형 개구) 에, 광 (예를 들어, 가시광) 을 투과하는 바코드 관찰용의 창부 (39f) 가 장착되어 있다. 또한, 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 ―X 방향의 단부 또한 ―Y 방향의 단부에 형성된 개구 (예를 들어, 거의 정방형의 개구) 에, 광 (예를 들어, 가시광) 을 투과하는 내부 관찰용의 창부 (32a1) 가 장착되어 있다. 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 장착한 상태에서, 오퍼레이터는, 창부 (39e) 를 통해 내부의 마스크 (M) 의 상태 (마스크 (M) 의 유무를 포함한다) 를 관찰할 수 있음과 함께, 오퍼레이터 또는 소정의 검출 장치는, 창부 (39f) 를 통해 내부의 마스크 (M) 에 형성된 바코드 (도시하지 않음) 를 판독할 수 있다. 또한, 창부 (39e, 39f, 32a1) 에는, 광의 투과성을 갖고 발진이 적은 재료로서 합성 수지, 유리 (예를 들어, 석영 유리) 등을 사용할 수 있다.In addition, a window portion for observing a mask that transmits light (eg, visible light) to four openings (eg, substantially square openings) formed in the flat plate portion 39a of the cover member 39, respectively. 39e) A bar code observation window 39f that is attached and transmits light (eg, visible light) to an opening (eg, an elongated rectangular opening) formed at an end portion in the +X direction of the flat plate portion 39a Is equipped. In addition, light (e.g., visible light) is transmitted through an opening (e.g., an almost square opening) formed at an end of the flat plate portion 32a of the base member 32 in the -X direction and also in the -Y direction A window portion 32a1 for internal observation to be described is attached. In the state where the upper case part 31B is attached to the lower case part 31A, the operator can observe the state of the inner mask M (including the presence or absence of the mask M) through the window part 39e. While being able to, the operator or a predetermined detection device can read a barcode (not shown) formed on the inner mask M through the window part 39f. Further, for the window portions 39e, 39f, 32a1, a synthetic resin, glass (for example, quartz glass) or the like can be used as a material having light transmittance and little oscillation.

또, 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39b, 39c) 는, 각각 베이스 부재 (32) 의 가늘고 긴 평판부 (32b) 에 있어서 지지부 (34B, 34C) 의 외측의 영역에 재치됨과 함께, 측벽부 (39d) 는, 베이스 부재 (32) 의 ＋Y 방향의 단부의 영역에 재치된다. 또한, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 의 ―Y 방향의 단부 (39g) 는, 하부 케이스부 (31A) 의 측벽 부재 (33) 을 덮는 것이 가능할 정도로, 측벽부 (39b, 39c) 보다 ―Y 방향으로 돌출되어 있다. 그리고, 지지부 (34B, 34C) 의 높이는 측벽 부재 (33) 의 높이보다 낮게 설정되고, 측벽부 (39b ∼ 39d) 의 높이는 측벽 부재 (33) 의 높이에 대하여 약간 높게 설정되어 있다. 또, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 의 저면에 있어서, 하부 케이스부 (31A) 의 지지부 (34B, 34C) 와 측벽 부재 (33) 사이의 영역에 대향하는 위치에 각각 측벽부 (39b, 39c) 보다 낮은 로드 형상의 위치 결정부 (40A, 40B) 가 형성되어 있다. 이 구성에 의해, 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39b ∼ 39d) 를 베이스 부재 (32) 상의 지지부 (34A ∼ 34C) 의 외측의 영역에 재치했을 때에, 단부 (39g) 가 측벽 부재 (33) 를 덮도록 되기 때문에, 내부의 기밀성이 높게 유지되어, 마스크 케이스 (30) 의 방진 성능이 높아진다. 또한, 위치 결정부 (40A, 40B) 가 각각 하부 케이스부 (31A) 의 일부와 맞닿음으로써, 진동 등에 의해, 상부 케이스부 (31B) 의 위치가 하부 케이스부 (31A) 에 대하여 X 방향 및 Y 방향으로 어긋나는 것이 방지된다. 또한, 위치 결정부 (40A, 40B) 는, 상기 서술한 바와 같이 평판부 (39a) 의 저면의 ―Y 측의 단부에 형성할 뿐만 아니라, 평판부 (39a) 의 저면의 ＋Y 측의 단부에도 동일하게 형성해도 되고, 혹은 ―Y 측 대신에 ＋Y 측의 단부에 형성해도 된다.In addition, the side wall portions 39b and 39c of the cover member 39 are mounted on the outer regions of the support portions 34B and 34C in the elongated flat plate portions 32b of the base member 32, respectively, and the side wall portions (39d) is placed in the region of the +Y direction end of the base member 32. In addition, the end portion 39g in the -Y direction of the flat plate portion 39a of the cover member 39 is more than the side wall portions 39b and 39c so that it is possible to cover the side wall member 33 of the lower case portion 31A. -It protrudes in the Y direction. And the height of the support parts 34B, 34C is set lower than the height of the side wall member 33, and the height of the side wall parts 39b to 39d is set slightly higher with respect to the height of the side wall member 33. In addition, on the bottom surface of the flat plate portion 39a of the cover member 39, the side wall portions 39b are positioned at positions opposite to the regions between the support portions 34B and 34C of the lower case portion 31A and the side wall member 33, respectively. , 39c) and lower rod-shaped positioning portions 40A and 40B are formed. With this configuration, when the side wall portions 39b to 39d of the cover member 39 are mounted in the region outside the support portions 34A to 34C on the base member 32, the end portion 39g is the side wall member 33 Since it is made to cover, the internal airtightness is maintained high, and the dustproof performance of the mask case 30 is improved. Further, since the positioning portions 40A and 40B each abut a part of the lower case portion 31A, the position of the upper case portion 31B is changed in the X direction and Y with respect to the lower case portion 31A due to vibration or the like. It is prevented from misaligning in the direction. In addition, the positioning portions 40A and 40B are not only formed at the -Y side end of the bottom of the flat plate 39a as described above, but also the same at the +Y side end of the bottom of the flat plate 39a. May be formed so as to be formed, or may be formed at the end of the +Y side instead of the -Y side.

또, 도 2(B) 및 도 3(B) 에 나타내는 바와 같이, 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 저면에, X 방향 (여기서는 마스크 케이스 (30) 의 폭 방향 또는 단변 방향) 을 따라 소정 간격으로, 제 1 위치 결정부 (36A) 및 제 2 위치 결정부 (36B) 가 고정되어 있다. 제 1 위치 결정부 (36A) 는, 그 중앙부에 회전 대칭인 형상의 오목부 (36Aa) 가 형성되고, 제 2 위치 결정부 (36B) 는, 그 중앙부에 V 자형의 홈 형상의 오목부 (36Ba) (선대칭인 오목부) 가 X 방향을 따라 형성되어 있다. 또, 평판부 (32a) 의 저면의 위치 결정부 (36A, 36B) 로부터 ＋Y 방향 및 ―Y 방향으로 각각 소정 간격 떨어진 위치 (PS2, PS1 및 PS4, PS3) 에, 평탄한 표면 (이하, 평탄면이라고 한다) (36Ca) 을 갖는 4 개의 위치 결정부 (36C) 가 고정되어 있다. 일례로서, 도 3(C) 에 나타내는 바와 같이, 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 는 원추면상이다. 단, 오목부 (36Aa) 는 구면상 등이어도 된다. 또, 위치 결정부 (36A) (다른 위치 결정부 (36B, 36C) 도 동일) 는, 예를 들어 각각 복수의 볼트 (B4) 를 사용하여 평판부 (32a) 의 저면에 고정되어 있다.In addition, as shown in Figs. 2(B) and 3(B), on the bottom surface of the flat plate portion 32a of the base member 32, the X direction (here, the width direction or the short side direction of the mask case 30) Accordingly, the first positioning portion 36A and the second positioning portion 36B are fixed at predetermined intervals. The first positioning portion 36A has a rotationally symmetrical concave portion 36Aa formed in its central portion, and the second positioning portion 36B is a V-shaped groove-shaped concave portion 36Ba at its central portion. ) (Line symmetrical recesses) are formed along the X direction. In addition, a flat surface (hereinafter referred to as a flat surface) at positions (PS2, PS1 and PS4, PS3) separated by predetermined intervals from the positioning portions 36A and 36B of the bottom surface of the flat plate portion 32a in the +Y and -Y directions ) Four positioning portions 36C having 36Ca are fixed. As an example, as shown in FIG. 3(C), the concave part 36Aa of the positioning part 36A is a conical surface shape. However, the concave portion 36Aa may be spherical or the like. Moreover, the positioning part 36A (the other positioning parts 36B, 36C are also the same) is fixed to the bottom surface of the flat plate part 32a using a plurality of bolts B4, respectively, for example.

또, 도 3(B) 에 있어서, 마스크 (M) 를 수용한 상태의 마스크 케이스 (30) 의 무게 중심 위치는, 위치 결정부 (36A, 36B) 의 중심을 잇는 직선과, ＋Y 방향측의 2 개의 위치 결정부 (36C) 의 중심을 잇는 직선의 중간 부근에서, 또한 베이스 부재 (32) 의 X 방향의 중심 부근을 지나, Z 축에 평행한 직선 상에 위치하고 있다. 이 때문에, 후술하는 바와 같이, 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 위치 (PS1) (또는 PS2) 에 있는 위치 결정부 (36C) 의 평탄면 (36Ca) 을 각각 대응하는 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) (도 5(A) 참조) 등의 구면으로 지지함으로써, 마스크 케이스 (30) 를 안정적으로 지지할 수 있다. 또한, 이들 경우에도, 진동 등으로 마스크 케이스 (30) 가 경사지는 경우를 고려하여, 다른 위치 (PS3, PS4) 의 위치 결정부 (36C) 에도 대향하도록 소정 간격을 두고 볼 트랜스퍼의 지지 부재를 배치해도 된다.In addition, in Fig. 3(B), the center of gravity position of the mask case 30 in the state in which the mask M is accommodated is a straight line connecting the centers of the positioning portions 36A and 36B, and 2 on the +Y direction side. It is located on a straight line parallel to the Z axis, passing near the middle of the straight line connecting the centers of the positioning portions 36C of the dogs, and passing near the center of the base member 32 in the X direction. Therefore, as described later, the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B and the flat surface 36Ca of the positioning portion 36C at the position PS1 (or PS2) are respectively corresponded. The mask case 30 can be stably supported by supporting it with a spherical surface such as the ball transfers 54A to 54C (see Fig. 5A). In addition, even in these cases, in consideration of the case where the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the support members of the ball transfer are arranged at predetermined intervals so as to face the positioning portions 36C at other positions PS3 and PS4 You can do it.

또, 도 2(B) 에 나타내는 바와 같이, 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 창부 (32a1) 의 근처에, 하부 케이스부 (31A) 의 유무를 검출하기 위한 광빔을 반사하는 반사부 (37A) 가 형성되어 있다. 일례로서 반사부 (37A) 는 재귀성 반사 부재이며, 반사부 (37A) 에 입사한 광빔은 입사한 방향으로 반사된다. 이 때문에, 하부 케이스부 (31A) 가 경사져 있어도, 검출부 (도시하지 않음) 에 의해 하부 케이스부 (31A) 의 유무를 정확하게 검출할 수 있다.In addition, as shown in Fig. 2(B), in the vicinity of the window portion 32a1 of the flat plate portion 32a of the base member 32, a reflection portion that reflects a light beam for detecting the presence or absence of the lower case portion 31A (37A) is formed. As an example, the reflection portion 37A is a retroreflective member, and the light beam incident on the reflection portion 37A is reflected in the incident direction. For this reason, even if the lower case part 31A is inclined, the presence or absence of the lower case part 31A can be accurately detected by the detection part (not shown).

또한, 도 2(B) 의 마스크 케이스 (30) 의 창부 (32a1) 를 포함하는 부분의 단면도인 도 7 에 나타내는 바와 같이, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 의 내면 중 창부 (32a1) 에 대향하는 위치에, 상부 케이스부 (31B) 의 유무를 검출하기 위한 광빔 (LB4) 을 반사하는 반사부 (37B) 가 형성되어 있다. 일례로서 반사부 (37B) 의 표면에는 예를 들어 마스크 케이스 (30) 의 폭 방향을 편광 방향으로 하는 편광판 (도시하지 않음) 이 고정되어 있고, 반사부 (37B) 는 편광 특성을 갖는다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30) 의 외부로부터 창부 (32a1) 를 통해 반사부 (37B) 에 입사하고, 반사부 (37B) 로 반사된 광빔 (LB4) 중, 그 편광 방향을 따른 편광 성분의 광만이 그 편광판을 투과하여 창부 (32a1) 를 통해 외부로 사출된다. 그리고, 외부의 검출부 (63c) 로는 그 편광 방향의 편광 성분만을 검출함으로써, 다른 외란 광에 영향받는 일 없이, 상부 케이스부 (31B) 의 내면에서 반사된 광빔만을 검출할 수 있기 때문에, 상부 케이스부 (31B) 의 유무를 정확하게 검출할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 7 which is a cross-sectional view of a portion including the window portion 32a1 of the mask case 30 of FIG. 2(B), the window portion 32a1 of the inner surface of the flat plate portion 39a of the cover member 39 A reflecting portion 37B that reflects the light beam LB4 for detecting the presence or absence of the upper case portion 31B is formed at a position opposite to. As an example, a polarizing plate (not shown) with the width direction of the mask case 30 as a polarization direction is fixed to the surface of the reflecting portion 37B, and the reflecting portion 37B has polarization characteristics. For this reason, among the light beams LB4 that are incident on the reflection part 37B from the outside of the mask case 30 through the window part 32a1 and reflected by the reflection part 37B, only the light of the polarization component along the polarization direction is It passes through the polarizing plate and is ejected to the outside through the window portion 32a1. And, by detecting only the polarization component in the polarization direction with the external detection unit 63c, it is possible to detect only the light beam reflected from the inner surface of the upper case part 31B without being affected by other disturbing light. The presence or absence of (31B) can be accurately detected.

또한, 반사부 (37B) 를 편광 특성이 없는 재귀성 반사 부재로 해도 되고, 반사부 (37A) 에 재귀성이 없는 편광 특성을 갖게 하도록 해도 된다. 또는, 반사부 (37A, 37B) 에 각각 재귀성 및 편광 특성의 양방을 갖게 하도록 해도 된다. 또, 창부 (32a1) 는, 마스크 케이스 (30) 의 외부로부터 마스크 (M) 의 유무 (또는 검출부로부터 마스크 (M) 의 패턴면 (Ma) 까지의 거리) 를 검출하기 위해서 조사되는 광빔 (LB3) 을 통과시키기 위해서도 사용된다.Further, the reflective portion 37B may be a retroreflective member having no polarization characteristic, or may be made to have the reflective portion 37A have polarization characteristics without retroreflection. Alternatively, the reflective portions 37A and 37B may have both retroreflective properties and polarization characteristics, respectively. In addition, the window portion 32a1 is a light beam LB3 that is irradiated to detect the presence or absence of the mask M from the outside of the mask case 30 (or the distance from the detection unit to the pattern surface Ma of the mask M). It is also used to pass.

다음으로, 반송차 (V) 의 구성에 대해, 도 5(A) (평면도) 및 도 5(B) (측면도) 를 참조하여 설명한다. 반송차 (V) 는, 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반송, 및 일시 수용부 (66) 로부터의 마스크 케이스 (30) 의 반출을 실시한다. 도 5(A) 및 (B) 는, 도 1 의 마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반입 또는 반출을 실시하기 위해서 Y 방향으로 이동하고 있는 반송차 (V) 를 나타낸다. 반송차 (V) 는, 본체부 (55) 와, 구동 기구 (도시하지 않음) 에 의해 구동되어 본체부 (55) 를 이동시키는 복수의 차륜 (56) 과, 본체부 (55) 의 전면 (前面) 에 구동 기구 (도시하지 않음) 에 의해 Z 방향으로 이동 가능하도록 지지된 마스크 케이스 반송부 (53) 를 구비하고 있다. 그 구동 기구는, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Z 방향의 위치 (Z 위치) 를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 또, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 거의 수평면에 평행하고 장방형상의 상면을 갖는 평판부 (53a) 에, 점선으로 나타내는 바와 같이 평판부 (53a) 의 긴쪽 방향과 마스크 케이스 (30) 의 긴쪽 방향이 평행하게 되도록, 마스크 케이스 (30) 가 재치된다. 도 5(A) 및 (B) 의 상태에서는, 평판부 (53a) 의 긴쪽 방향은 Y 방향이며, 평판부 (53a) 의 X 방향의 폭은 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 폭보다 좁게 설정되어 있다. 또한, 복수의 차륜 (56) 에 의해 본체부 (55) 의 이동 방향을 제어하는 것도 가능하고, 본체부 (55) 에는, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 X 방향의 위치를 조정하는 기구 (도시하지 않음) 도 형성되어 있다.Next, the configuration of the transport vehicle V will be described with reference to Figs. 5(A) (top view) and Fig. 5(B) (side view). The conveyance vehicle V carries out the conveyance of the mask case 30 to the temporary accommodating part 66 of the mask library LB, and the carrying out of the mask case 30 from the temporary accommodating part 66. 5(A) and (B) show the transport vehicle V moving in the Y direction in order to carry in or carry out the mask case 30 to the mask library LB of FIG. 1. The conveyance vehicle V is driven by the main body 55 and a drive mechanism (not shown) to move the main body 55, and a plurality of wheels 56, and the front surface of the main body 55. ) Is provided with a mask case carrying portion 53 supported so as to be movable in the Z direction by a drive mechanism (not shown). The drive mechanism has an encoder (not shown) that measures the position (Z position) in the Z direction of the mask case 30 supported by the mask case conveyance unit 53. In addition, in the flat plate portion 53a which is substantially parallel to the horizontal plane of the mask case carrying portion 53 and has a rectangular upper surface, the long direction of the flat plate portion 53a and the long direction of the mask case 30 are as shown by the dotted line. The mask case 30 is mounted so as to be parallel. In the state of FIGS. 5A and 5B, the longitudinal direction of the flat plate portion 53a is the Y direction, and the width of the flat plate portion 53a in the X direction is the flat plate of the base member 32 of the mask case 30 It is set narrower than the width of the portion 32a. In addition, it is also possible to control the moving direction of the body part 55 by a plurality of wheels 56, and in the body part 55, a mechanism for adjusting the position of the mask case carrying part 53 in the X direction (shown Not) is also formed.

또, 평판부 (53a) 의 상면에, 도 3(B) 에 나타내는 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 저면에 형성된 위치 결정부 (36A, 36B), 및 위치 (PS1, PS2) 의 위치 결정부 (36C) 와 동일한 배치로, 각각 표면에 구면부 (54Aa, 54Ba, 54Ca, 54Da) 가 형성된 지지 부재인 볼 트랜스퍼 (54A, 54B, 54C, 54D) 가 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 고정되어 있다. 또한, 도 2(B) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 에 대한 연결부 (38A, 38B) 의 개구 (38Aa, 38Ba) 와 동일한 위치 관계로, 평판부 (53a) 의 상면의 볼 트랜스퍼 (54A, 54B) 로부터 ―Y 방향으로 떨어진 위치에, 개구 (38Aa, 38Ba) 보다 작은 직경의 핀 (57Aa, 57Ba) 을 갖는 지지부 (57A, 57B) 가 고정되어 있다.Further, on the upper surface of the flat plate portion 53a, the positioning portions 36A and 36B formed on the bottom surface of the base member 32 of the mask case 30 shown in Fig. 3(B), and the positions PS1 and PS2 Ball transfers 54A, 54B, 54C, 54D, which are support members having spherical portions 54Aa, 54Ba, 54Ca, and 54Da, respectively formed on their surfaces in the same arrangement as the positioning portion 36C, are bolted (not shown). It is fixed. In addition, in the same positional relationship as the openings 38Aa and 38Ba of the connection portions 38A and 38B with respect to the positioning portions 36A and 36B of Fig. 2B, the ball transfer 54A on the upper surface of the flat plate 53a, Support portions 57A and 57B having pins 57Aa and 57Ba having a diameter smaller than the openings 38Aa and 38Ba are fixed at a position away from 54B in the -Y direction.

마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (53) 에 재치할 때에는, 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba), 및 위치 (PS1) 의 위치 결정부 (36C) 의 평탄부 (36Ca) 가 각각 볼 트랜스퍼 (54A, 54B, 54C) 의 구면부 (54Aa, 54Ba, 54Ca) 에 접촉한다. 이 상태에서, 마스크 케이스 (30) 의 평판부 (32a) 의 저면이 거의 수평면에 평행하게 되도록, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) 의 높이가 개별적으로 조정되어 있다. 이 때에, 마스크 케이스 (30) 와 마스크 케이스 반송부 (53) 사이에, 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 반경 정도까지의 위치 어긋남이 있어도, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 볼 트랜스퍼 (54A) 의 구면부의 중심과 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 중심이 합치하고, 볼 트랜스퍼 (54B) 의 구면부의 중심의 Y 방향의 위치와 위치 결정부 (36B) 의 오목부 (36Ba) 의 중심의 Y 방향의 위치가 합치하도록, 마스크 케이스 (30) 의 자중에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치 및 회전각이 자동적으로 조정된다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (53) 에 재치할 때의 위치 제어 정밀도를 그다지 높게 할 필요가 없다.When mounting the mask case 30 on the mask case conveying part 53, the recessed parts 36Aa and 36Ba of the positioning parts 36A and 36B of the mask case 30, and the positioning part of the position PS1 The flat portions 36Ca of 36C contact the spherical portions 54Aa, 54Ba, 54Ca of the ball transfers 54A, 54B, 54C, respectively. In this state, the heights of the ball transfers 54A to 54C of the mask case carrying portion 53 are individually adjusted so that the bottom surface of the flat plate portion 32a of the mask case 30 is substantially parallel to the horizontal plane. At this time, even if there is a positional deviation between the mask case 30 and the mask case transport unit 53 to the radius of the concave portion 36Aa of the positioning unit 36A, the ball of the mask case transport unit 53 The center of the spherical portion of the transfer 54A and the center of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A coincide, and the position of the center of the spherical portion of the ball transfer 54B in the Y direction and the concave of the positioning portion 36B The position and rotation angle of the mask case 30 are automatically adjusted by the weight of the mask case 30 so that the position of the center of the portion 36Ba in the Y direction coincides. For this reason, it is not necessary to make the position control precision when mounting the mask case 30 on the mask case conveyance part 53 very high.

또한, 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 볼 트랜스퍼 (54D) 의 구면부 (54Da) 가 위치하도록, 볼 트랜스퍼 (54D) 의 높이가 조정되어 있다. 또한, 마찬가지로, 위치 (PS3, PS4) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 다른 볼 트랜스퍼 (도시하지 않음) 를 평판부 (53a) 의 상면에 형성해도 된다.Moreover, the height of the ball transfer 54D is adjusted so that the spherical part 54Da of the ball transfer 54D may be located slightly apart from the positioning part 36C of the position PS2. Further, similarly, another ball transfer (not shown) may be formed on the upper surface of the flat plate portion 53a with a slight distance from the positioning portion 36C at the positions PS3 and PS4.

오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 를 각각 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) 로 지지함으로써, 마스크 케이스 반송부 (53) (반송차 (V)) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 X 방향 및 Y 방향의 위치, 및 Z 축에 평행한 축의 회전 (이하, θz 방향이라고 한다) 의 회전각이 각각 목표치에 자동적으로 설정되고, 이 상태에서 반송차 (V) 에 의해 마스크 케이스 (30) 가 안정적으로 반송된다. 또, 다른 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 에 근접하여 볼 트랜스퍼 (54D) 가 배치되어 있기 때문에, 진동 등으로 마스크 케이스 (30) 가 경사져도, 위치 결정부 (36C) 가 볼 트랜스퍼 (54D) 에 접촉함으로써, 그 경사각이 그 이상 커지는 경우는 없다. 또한, 이 상태에서 마스크 케이스 (30) 의 연결부 (38A, 38B) 의 개구 (38Aa, 38Ba) 에 마스크 케이스 반송부 (53) 의 핀 (57Aa, 57Ba) 이 삽입되기 때문에, 반송 중의 진동 등에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치가 어긋나는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 반송 중의 진동이 적은 경우 등에는, 연결부 (38A, 38B) 및 지지부 (57A, 57B) 를 생략하는 것도 가능하다.By supporting the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat portions 36Ca with ball transfers 54A to 54C, respectively, the X direction of the mask case 30 with respect to the mask case carrying portion 53 (carrying vehicle V) And the position in the Y direction and the rotation angle of the rotation of the axis parallel to the Z axis (hereinafter referred to as θz direction) is automatically set to the target value, and in this state, the mask case 30 is moved by the transport vehicle V. It is conveyed stably. In addition, since the ball transfer 54D is disposed close to the positioning unit 36C at another position PS2, even if the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the positioning unit 36C is a ball transfer unit. By contacting 54D), the inclination angle does not become larger than that. Further, in this state, since the pins 57Aa and 57Ba of the mask case carrying portion 53 are inserted into the openings 38Aa, 38Ba of the connecting portions 38A, 38B of the mask case 30, the mask is It is possible to reliably prevent the position of the case 30 from shifting. In addition, it is also possible to omit the connecting portions 38A and 38B and the supporting portions 57A and 57B when there is little vibration during conveyance.

또, 노광 챔버 (CH) 의 외부에는, 일례로서 Y 방향으로 떨어진 2 개 지점에서 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 의 측면까지의 간격을 검출하는 비접촉 방식의 간격 센서 (도시하지 않음) 가 설치되어 있다. 그리고, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 재치되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 회전각이, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 내에 수용되어 있을 때의 목표치가 될 때에 그 2 개 지점의 간격 센서로 검출되는 간격이, 조정 목표치로서 예를 들어 제어 장치 (CONT) 의 기억부에 기억되어 있다. 이 때문에, 그 2 개 지점의 간격 센서로 검출되는 간격이 대응하는 조정 목표치가 되도록 반송차 (V) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 회전각을 조정함으로써, 반송차 (V) 로 지지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 회전각을 각각 목표치로 설정할 수 있다. 또한, 반송차 (V) 로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 에 수용되어 있는 상태의 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치의 값 (이하, 설정치라고 한다) 의 관계는 이미 알려져 있다 또, 반송차 (V) 는, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 이 인코더로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 내의 일시 수용부 (66) 에서의 Y 방향의 목표 위치의 관계는 이미 알려져 있다In addition, outside of the exposure chamber CH, as an example, a distance sensor of a non-contact method (not shown) that detects the distance from two points separated in the Y direction to the side surfaces of the mask case carrying part 53 of the carrying vehicle V. Not) is installed. And, when the position in the X direction and the rotation angle in the θz direction of the mask case 30 mounted on the mask case transfer unit 53 become target values when accommodated in the mask library LB, respectively, the two The interval detected by the point interval sensor is stored as an adjustment target value, for example, in a storage unit of the control device CONT. For this reason, by adjusting the position in the X direction of the transport vehicle V and the rotation angle in the θz direction so that the interval detected by the space sensor at the two points becomes the corresponding adjustment target value, The position of the mask case 30 in the X direction and the rotation angle in the θz direction can be set as target values, respectively. In addition, the value of the Z position of the mask case 30 measured by the transport vehicle V and the Z position of the mask case 30 in a state accommodated in the temporary storage unit 66 of the mask library LB (hereinafter , The relationship of the set value) is already known. In addition, the transport difference V is an encoder (not shown) that measures the position of the mask case 30 supported by the mask case transport unit 53 in the Y direction. Have. The relationship between the position in the Y direction of the mask case 30 measured by this encoder and the target position in the Y direction in the temporary accommodation unit 66 in the mask library LB is already known.

그리고, 반송차 (V) 로 지지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 그 설정치보다 소정 간격만큼 높게 설정한 상태에서, 반송차 (V) 를 ―Y 방향으로 이동하여, 마스크 케이스 반송부 (53) 로 지지되는 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 의 상방으로 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (53) 를 강하시킴으로써, 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 에 수수할 수 있다. 반대로, 일시 수용부 (66) 에 유지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 저면측에 마스크 케이스 반송부 (53) 를 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 Z 위치를 높게 함으로써, 일시 수용부 (66) 로부터 마스크 케이스 반송부 (53) (반송차 (V)) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수할 수 있다.And, in a state in which the Z position of the mask case 30 supported by the transport vehicle V is set higher by a predetermined interval than the set value, the transport vehicle V is moved in the -Y direction, and the mask case transport unit ( After moving the mask case 30 supported by 53) above the temporary storage part 66 of the mask library LB, the mask case 30 is temporarily accommodated by lowering the mask case carrying part 53 (66) I can do it. On the contrary, after moving the mask case conveyance part 53 to the bottom side of the mask case 30 held in the temporary accommodating part 66, the Z position of the mask case conveyance part 53 is made high, and the temporary accommodating part The mask case 30 can be transferred from 66 to the mask case transfer unit 53 (carrying vehicle V).

다음으로, 반송 장치 (H1) 의 구성에 대해, 도 6(A) (평면도) 및 도 6(B) (측면도) 를 참조하여 설명한다. 반송 장치 (H1) 는, 마스크 케이스 (30) 가 재치되는 마스크 케이스 반송부 (61) 와, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 ―Y 방향의 단부를 유지하는 유지부 (64) 와, 유지부 (64) 를 개재하여 마스크 케이스 반송부 (61) 를 Y 방향으로 이동하는 수평 구동부 (67) 와, 수평 구동부 (67) 를 개재하여 마스크 케이스 반송부 (61) 를 Z 방향으로 이동하는 승강 구동부 (68) 를 구비하고 있다. 승강 구동부 (68) 는, 마스크 케이스 반송부 (61) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 이 인코더로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 내의 각 수용부 (65) 및 일시 수용부 (66) 에서의 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치의 값 (설정치) 의 관계는 이미 알려져 있다 수평 구동부 (67) 는 마스크 케이스 반송부 (61) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 이 인코더로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 내의 각 수용부 (65) 에서의 Y 방향의 목표 위치의 관계는 이미 알려져 있다Next, the configuration of the conveying device H1 will be described with reference to Figs. 6(A) (top view) and Fig. 6(B) (side view). The conveying device H1 includes a mask case conveying unit 61 on which the mask case 30 is mounted, a holding unit 64 for holding an end portion of the mask case conveying unit 61 in the -Y direction, and a holding unit ( A horizontal drive unit 67 that moves the mask case transfer unit 61 in the Y direction via 64), and an elevation drive unit 68 that moves the mask case transfer unit 61 in the Z direction via the horizontal drive unit 67 ). The elevating drive unit 68 has an encoder (not shown) that measures the Z position of the mask case 30 supported by the mask case conveying unit 61. The Z position of the mask case 30 measured by this encoder and the value (set value) of the Z position of the mask case 30 in the respective accommodating portions 65 and temporary accommodating portions 66 in the mask library LB The relationship is already known. The horizontal drive unit 67 has an encoder (not shown) that measures the position in the Y direction of the mask case 30 supported by the mask case carrying unit 61. The relationship between the position in the Y direction of the mask case 30 measured by this encoder and the target position in the Y direction in each accommodating portion 65 in the mask library LB is already known.

거의 수평면에 평행하고 Y 방향을 긴쪽 방향으로 하는 장방형상의 상면을 갖는 마스크 케이스 반송부 (61) 에, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 긴쪽 방향과 마스크 케이스 (30) 의 긴쪽 방향이 평행하게 되도록, 마스크 케이스 (30) 가 재치된다. 마스크 케이스 반송부 (61) 의 X 방향의 폭은 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 폭보다 좁게 설정되어 있다.In the mask case conveying part 61 which has a rectangular upper surface which is substantially parallel to the horizontal plane and has the Y direction as the longitudinal direction, the longitudinal direction of the mask case conveying part 61 and the longitudinal direction of the mask case 30 become parallel, The mask case 30 is placed. The width of the mask case conveyance part 61 in the X direction is set to be narrower than the width of the flat plate part 32a of the base member 32 of the mask case 30.

또, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 상면에, 도 3(B) 에 나타내는 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 저면에 형성된 위치 결정부 (36A, 36B), 및 위치 (PS1, PS2) 의 위치 결정부 (36C) 와 동일한 배치로, 각각 표면에 구면부 (62Aa, 62Ba, 62Ca, 62Da) 가 형성된 지지 부재인 볼 트랜스퍼 (62A, 62B, 62C, 62D) 가 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 고정되어 있다. 또한, 도 2(B) 의 위치 결정부 (36B) 에 대한 반사부 (37A) 및 창부 (32a1) 와 동일한 위치 관계로, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 상면의 볼 트랜스퍼 (62) 로부터 ―Y 방향으로 떨어진 위치에, 마스크 케이스 (30) 의 검출 장치 (63) 가 형성되어 있다.Moreover, the positioning parts 36A and 36B formed on the bottom surface of the base member 32 of the mask case 30 shown in FIG. 3(B) on the upper surface of the mask case conveyance part 61, and the position PS1, PS2 ), ball transfers 62A, 62B, 62C, 62D, which are support members with spherical portions 62Aa, 62Ba, 62Ca, 62Da, formed on their surfaces, in the same arrangement as the positioning portion 36C of (not shown) bolts (not shown) Is fixed by In addition, in the same positional relationship as the reflection portion 37A and the window portion 32a1 with respect to the positioning portion 36B in FIG. 2(B), -Y from the ball transfer 62 on the upper surface of the mask case carrying portion 61 The detection device 63 of the mask case 30 is formed at a position away from the direction.

마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치할 때에는, 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba), 및 위치 (PS1) 의 위치 결정부 (36C) 의 평탄부 (36Ca) 가 각각 볼 트랜스퍼 (62A, 62B, 62C) 의 구면부 (62Aa, 62Ba, 62Ca) 에 접촉한다. 이 상태에서, 마스크 케이스 (30) 의 평판부 (32a) 의 저면이 거의 수평면에 평행하게 되도록, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 의 높이가 개별적으로 조정되어 있다. 이 때에, 마스크 케이스 (30) 와 마스크 케이스 반송부 (61) 사이에, 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 반경 정도까지의 위치 어긋남이 있어도, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A) 의 구면부의 중심과 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 중심이 합치하고, 볼 트랜스퍼 (62B) 의 구면부의 중심의 Y 방향의 위치와 위치 결정부 (36B) 의 오목부 (36Ba) 의 중심의 Y 방향의 위치가 합치하도록, 마스크 케이스 (30) 의 자중에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치 및 회전각이 자동적으로 조정된다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치할 때의 위치 제어 정밀도를 그다지 높게 할 필요가 없고, 마스크 라이브러리 (LB) 의 수용부 (65) 또는 일시 수용부 (66) 에 수용되는 마스크 케이스 (30) 의 위치 정밀도를 그다지 높게 할 필요도 없다.When placing the mask case 30 on the mask case conveying unit 61, the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning units 36A and 36B of the mask case 30, and the positioning unit of the position PS1 The flat portions 36Ca of 36C contact the spherical portions 62Aa, 62Ba, 62Ca of the ball transfers 62A, 62B, 62C, respectively. In this state, the heights of the ball transfers 62A to 62C of the mask case carrying portion 61 are individually adjusted so that the bottom surface of the flat plate portion 32a of the mask case 30 is substantially parallel to the horizontal plane. At this time, even if there is a positional shift up to the radius of the concave portion 36Aa of the positioning unit 36A between the mask case 30 and the mask case conveying unit 61, the ball of the mask case conveying unit 61 The center of the spherical portion of the transfer 62A and the center of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A coincide, and the position of the center of the spherical portion of the ball transfer 62B in the Y direction and the concave of the positioning portion 36B The position and rotation angle of the mask case 30 are automatically adjusted by the weight of the mask case 30 so that the position of the center of the portion 36Ba in the Y direction coincides. For this reason, it is not necessary to increase the positional control precision when mounting the mask case 30 on the mask case conveying unit 61, and the accommodating unit 65 or the temporary accommodating unit 66 of the mask library LB It is also not necessary to increase the positional accuracy of the mask case 30 accommodated in the mask case 30 very high.

또한, 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 볼 트랜스퍼 (62D) 의 구면부 (62Da) 가 위치하도록, 볼 트랜스퍼 (62D) 의 높이가 조정되어 있다. 또한, 마찬가지로, 위치 (PS3, PS4) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 다른 볼 트랜스퍼 (도시하지 않음) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 의 상면에 형성해도 된다.Moreover, the height of the ball transfer 62D is adjusted so that the spherical part 62Da of the ball transfer 62D may be located slightly apart from the positioning part 36C of the position PS2. In addition, similarly, another ball transfer (not shown) may be formed on the upper surface of the mask case conveying unit 61 with a slight distance from the positioning unit 36C at the positions PS3 and PS4.

오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 를 각각 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 로 지지함으로써, 마스크 케이스 반송부 (61) (반송 장치 (H1)) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 X 방향 및 Y 방향의 위치, 및 θz 방향의 회전각이 각각 목표치에 자동적으로 설정되고, 이 상태에서 마스크 케이스 반송부 (61) 에 의해 마스크 케이스 (30) 가 안정적으로 반송된다. 또, 다른 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 에 근접하여 볼 트랜스퍼 (62D) 가 배치되어 있기 때문에, 진동 등으로 마스크 케이스 (30) 가 경사져도, 위치 결정부 (36C) 가 볼 트랜스퍼 (62D) 에 접촉함으로써, 그 경사각이 그 이상 커지는 경우는 없다. 또한, 이 상태에서 마스크 케이스 (30) 의 반사부 (37A) 및 창부 (32a1) 가 검출 장치 (63) 에 대향하고 있다.By supporting the recessed portions 36Aa and 36Ba and the flat portions 36Ca by ball transfers 62A to 62C, respectively, the X direction of the mask case 30 with respect to the mask case carrying portion 61 (transfer device H1) And the position in the Y direction and the rotation angle in the θz direction are automatically set to target values, respectively, and the mask case 30 is stably conveyed by the mask case conveying unit 61 in this state. In addition, since the ball transfer 62D is disposed close to the positioning unit 36C at another position PS2, even if the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the positioning unit 36C is a ball transfer unit. By contacting 62D), the inclination angle does not become larger than that. Further, in this state, the reflective portion 37A and the window portion 32a1 of the mask case 30 face the detection device 63.

도 7 에 나타내는 바와 같이, 검출 장치 (63) 는, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 재귀성의 반사부 (37A) 에 광빔 (LB2) 을 조사하고, 반사부 (37A) 로부터의 반사광의 강도를 검출하는 제 1 검출부 (63a) 와, 창부 (32a1) 를 통해 마스크 (M) 의 패턴면 (Ma) 에 광빔 (LB3) 을 비스듬하게 조사하고, 패턴면 (Ma) 으로 반사되어 창부 (32a1) 를 통해 되돌려지는 광의 강도를 검출하는 제 2 검출부 (63b) 와, 창부 (32a1) 를 통해 상부 케이스부 (31B) 의 내면의 편광 특성을 갖는 반사부 (37B) 에 광빔 (LB4) 을 조사하고, 반사부 (37B) 로 반사되어 창부 (32a1) 를 통해 되돌려지는 광의 강도를 검출하는 제 3 검출부 (63c) 를 갖는다. 일례로서, 광빔 (LB2 ∼ LB4) 은 발광 다이오드 (LED) 등으로부터 사출되는 가시역의 광을 콜리메이터 렌즈 (도시하지 않음) 에 의해 평행 광속으로 한 것이지만, 광빔 (LB2 ∼ LB4) 으로서 근적외역으로부터 적외역 등의 광을 사용해도 된다. 이 경우, 창부 (32a1) 는 근적외역으로부터 적외역 등의 광을 투과하는 재료로부터 형성된다.As shown in FIG. 7, the detection device 63 irradiates a light beam LB2 to the retroreflective portion 37A of the lower case portion 31A of the mask case 30, and from the reflection portion 37A. The light beam LB3 is obliquely irradiated to the pattern surface Ma of the mask M through the first detection unit 63a that detects the intensity of the reflected light and the window unit 32a1, and is reflected by the pattern surface Ma. The light beam LB4 is applied to the second detection unit 63b for detecting the intensity of light returned through the 32a1 and the reflection unit 37B having the polarization characteristic of the inner surface of the upper case 31B through the window 32a1. It has a 3rd detection part 63c which detects the intensity of irradiation, and the light reflected by the reflection part 37B and returned through the window part 32a1. As an example, the light beams LB2 to LB4 are light in the visible region emitted from a light emitting diode (LED) or the like as a parallel light beam by a collimator lens (not shown), but the light beams LB2 to LB4 are red from the near-infrared region. You may use light, such as outside. In this case, the window portion 32a1 is formed from a material that transmits light such as from the near infrared region to the infrared region.

검출부 (63a) 로 검출되는 강도를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 제 1 기준치와 비교함으로써, 하부 케이스부 (31A) 의 유무를 검출할 수 있다. 또, 검출부 (63b) 로 검출되는 강도를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 테이블 (신호 강도와 피검물까지의 거리의 대응 관계를 나타내는 테이블) 에 적용시킴으로써, 검출부 (63b) 로부터 패턴면 (Ma) 까지의 거리, 및/또는 마스크 (M) 의 유무를 검출할 수 있다. 검출부 (63c) 로 검출되는 강도를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 제 2 기준치와 비교함으로써, 상부 케이스부 (31B) 의 유무를 검출할 수 있다. 검출 장치 (63) 를 사용한 마스크 케이스 (30) 의 유무 등의 검출 결과는 제어 장치 (CONT) 에 공급된다. 또한, 검출부 (63a ∼ 63c) 중, 적어도 하나를 구비하는 것만으로도 된다.The presence or absence of the lower case portion 31A can be detected by comparing the intensity detected by the detection unit 63a with a predetermined first reference value by a signal processing unit (not shown). In addition, by applying the intensity detected by the detection unit 63b to a predetermined table (a table indicating the correspondence between the signal intensity and the distance to the object to be examined) by a signal processing unit (not shown), the pattern surface ( The distance to Ma) and/or the presence or absence of the mask M can be detected. The presence or absence of the upper case portion 31B can be detected by comparing the intensity detected by the detection unit 63c with a predetermined second reference value by a signal processing unit (not shown). The detection results such as the presence or absence of the mask case 30 using the detection device 63 are supplied to the control device CONT. In addition, it is sufficient only to have at least one of the detection units 63a to 63c.

또한, 마스크 케이스 반송부 (61) 에도, 반송차 (V) 의 핀 (57Aa, 57Ba) 을 갖는 지지부 (57A, 57B) 와 동일한 지지부를 형성하고, 이 지지부의 핀 (도시하지 않음) 을 마스크 케이스 (30) 의 연결부 (38A, 38B) 의 개구 (38Aa, 38Ba) 에 삽입 가능하도록 하여, 진동 등에 의한 마스크 케이스 (30) 의 위치 어긋남을 방지하도록 해도 된다.In addition, in the mask case conveyance part 61, the same supporting portions as those of the supporting portions 57A and 57B having the pins 57Aa and 57Ba of the conveying vehicle V are formed, and the pins (not shown) of the supporting portions are formed in a mask case. It is also possible to prevent displacement of the mask case 30 due to vibration or the like by allowing it to be inserted into the openings 38Aa and 38Ba of the connecting portions 38A and 38B of 30.

승강 구동부 (68) 에 의해 마스크 케이스 반송부 (61) 로 지지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 마스크 라이브러리 (LB) 의 어느 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 에서의 설정치보다 높게 설정한 상태에서, 수평 구동부 (67) 에 의해 마스크 케이스 반송부 (61) 를 ＋Y 방향으로 이동하여, 마스크 케이스 반송부 (61) 로 지지되는 마스크 케이스 (30) 를 그 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 의 상방으로 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 강하시킴으로써, 마스크 케이스 (30) 를 그 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 에 수수할 수 있다. 반대로, 어느 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 에 유지되고 있는 마스크 케이스 (30) 의 저면측에 마스크 케이스 반송부 (61) 를 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 Z 위치를 높게 함으로써, 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 로부터 마스크 케이스 반송부 (61) (반송 장치 (H1)) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수할 수 있다.The Z position of the mask case 30 supported by the mask case transfer unit 61 by the lifting drive unit 68 is set to any of the receiving units 65 (or temporary receiving units 66) of the mask library LB. In a state set higher than the set value, the horizontal drive unit 67 moves the mask case conveying unit 61 in the +Y direction, and the mask case 30 supported by the mask case conveying unit 61 is placed in its accommodating unit 65 ) (Or, after moving upward of the temporary accommodation part 66), by lowering the mask case conveyance part 61, the mask case 30 is moved to the accommodation part 65 (or the temporary accommodation part 66). Can be modest. On the contrary, after moving the mask case conveying part 61 to the bottom side of the mask case 30 held in a certain accommodating part 65 (or temporary accommodating part 66), the mask case conveying part 61 By increasing the Z position, the mask case 30 can be transferred from the housing portion 65 (or the temporary housing portion 66) to the mask case transfer portion 61 (transport device H1).

다음으로, 도 8 ∼ 도 10 을 참조하여, 마스크 라이브러리 (LB) 의 구성에 대해 설명한다. 도 8 및 도 10 은, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 를 나타내는 사시도, 도 9 는 마스크 라이브러리 (LB) 를 ＋Y 방향으로 본 도면이다. 도 8 에 있어서, 마스크 라이브러리 (LB) 는, 각각 X 방향, Y 방향, 및 Z 방향으로 평행한 복수의 로드 형상의 부재 (설명의 편의상, 일부의 부재가 2 점 쇄선으로 표시되어 있다) 를 연결하여 구성되는 박스 형상의 프레임 기구 (43) 와, 프레임 기구 (43) 의 최하단에 Y 방향으로 평행하게 고정된 Z 위치가 동일한 1 쌍의 레일 (45A, 45B) 과, 레일 (45A, 45B) 의 상방에서 프레임 기구 (43) 에 고정된 수평면에 거의 평행한 칸막이판 (44) 과, 칸막이판 (44) 의 상방의 점차 높아지는 위치 (P1, P2, P3, P4, P5) 에서 프레임 기구 (43) 에 고정된 각각 Y 방향으로 평행한 1 쌍의 레일 (46A, 46B) 을 구비하고 있다. 레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 은 각각 단면 형상이 L 자형이고, 상면이 거의 수평면에 평행하게 되도록, 또한 서로 대향하도록, 그 상면에 직교하는 측면을 갖는 부분이 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 프레임 기구 (43) 의 내면에 고정되어 있다.Next, the configuration of the mask library LB will be described with reference to FIGS. 8 to 10. 8 and 10 are perspective views showing the mask library LB, respectively, and FIG. 9 is a view of the mask library LB viewed in the +Y direction. In Fig. 8, the mask library LB connects a plurality of rod-shaped members parallel to each of the X-direction, Y-direction, and Z-direction (for convenience of explanation, some members are indicated by dashed-dotted lines). The box-shaped frame mechanism 43 configured as described above, and a pair of rails 45A and 45B having the same Z position fixed in parallel in the Y direction to the lowermost end of the frame mechanism 43, and the rails 45A, 45B. The partition plate 44 substantially parallel to the horizontal plane fixed to the frame mechanism 43 from above, and the frame mechanism 43 at a gradually increasing position (P1, P2, P3, P4, P5) above the partition plate 44 It is provided with a pair of rails 46A, 46B, which are fixed to each other and are parallel in the Y direction. Each of the rails 45A, 45B and 46A, 46B has an L-shaped cross-sectional shape, and a portion having a side surface orthogonal to the upper surface thereof is attached to a bolt (not shown) so that the upper surface is substantially parallel to the horizontal surface and face each other. Thus, it is fixed to the inner surface of the frame mechanism 43.

레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 의 Y 방향의 길이는, 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 길이보다 약간 길게 설정되고, 레일 (45A, 45B) 의 상면과 칸막이판 (44) 의 간격, 및 위치 (P1 ∼ P5) 의 Z 방향으로 인접한 레일 (46A, 46B) 의 상면의 Z 방향의 간격은, 각각 마스크 케이스 (30) 의 높이보다 넓게 설정되어 있다. 또, 레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 의 X 방향의 외형의 폭은, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) 의 외형의 X 방향의 폭보다 넓게 설정되고, 레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 의 X 방향의 간격은, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 평판부 (32a) 의 X 방향의 폭 (다리부 (35) 가 고정된 2 개의 평판부 (32b) 의 간격) 과 거의 동일하게 설정되어 있다. 이 때문에, 1 쌍의 레일 (45A, 45B) 의 상면, 및 위치 (P1 ∼ P5) 의 1 쌍의 레일 (46A, 46B) 의 상면에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 ―X 방향의 2 개의 다리부 (35) 및 ＋X 방향의 2 개의 다리부 (35) 를 재치할 수 있다. 1 쌍의 레일 (45A, 45B) 를 포함하여 일시 수용부 (66) 가 구성되고, 위치 (P1 ∼ P5) 의 1 쌍의 레일 (46A, 46B) 을 포함하여 각각 수용부 (65) 가 구성되어 있다. 또한, 도 8 등에서는, 수용부 (65) 는 위치 (P1 ∼ P5) 의 5 단으로 배치되어 있지만, 수용부 (65) 의 수는 증가 또는 감소시킬 수 있다. 또, 평면에서 보아, 레일 (46A, 46B) 과 레일 (45A, 45B) 은 서로 동일한 형상이고, 또한 X 방향 및 Y 방향의 동일한 위치에 설치되어 있다.The length in the Y direction of the rails 45A, 45B and 46A, 46B is set slightly longer than the length in the Y direction of the mask case 30, and the distance between the upper surfaces of the rails 45A, 45B and the partition plate 44, And the intervals in the Z direction of the upper surfaces of the rails 46A and 46B adjacent in the Z direction of the positions P1 to P5 are set to be wider than the height of the mask case 30, respectively. Further, the width of the outer shape in the X direction of the rails 45A, 45B and 46A, 46B is set to be wider than the width of the outer shape of the flange portions 41A, 41B of the mask case 30 in the X direction, and the rail 45A, The distance in the X direction of the 45B and 46A, 46B is the width in the X direction of the flat plate 32a of the lower case portion 31A of the mask case 30 (two flat plate portions to which the legs 35 are fixed ( 32b) is set almost the same as the interval). Therefore, on the upper surface of the pair of rails 45A and 45B and the upper surface of the pair of rails 46A and 46B at positions P1 to P5, the lower case portions 31A of the mask case 30 are respectively Two leg portions 35 in the -X direction and two leg portions 35 in the +X direction can be mounted. The temporary accommodation part 66 is comprised including a pair of rails 45A, 45B, and the accommodation part 65 is comprised, respectively, including a pair of rails 46A, 46B of positions P1-P5, have. In addition, in FIG. 8 etc., although the accommodation part 65 is arrange|positioned in 5 stages of the positions P1-P5, the number of the accommodation part 65 can be increased or decreased. Further, in plan view, the rails 46A and 46B and the rails 45A and 45B have the same shape and are provided at the same positions in the X and Y directions.

마스크 라이브러리 (LB) 와 반송 장치 (H1) 의 위치 관계는, 도 6(A) 의 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A, 62B, 62C) 의 구면부 (62Aa, 62Ba, 62Ca) 에 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄면 (36Ca) 을 접촉시킨 상태에서, 마스크 케이스 (30) 의 ―X 방향 및 ＋X 방향의 2 개의 다리부 (35) 가 각각 대응하는 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 X 방향의 목표 위치에 위치하도록 설정되어 있다. 또, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 X 방향의 폭은, 레일 (46A, 46B) 의 X 방향의 간격보다 여유를 갖고 작게 설정되어 있다. 이 때문에, 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 다리부 (35) 의 저면의 Z 위치를 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 의 상면보다 소정 간격만큼 높게 설정하고, 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향 (마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 반출입 방향) 의 위치를 소정의 목표 위치로 설정한 후, 마스크 케이스 (30) 를 강하시킴으로써, 용이하게 그 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상 (수용부 (65)) 에 4 개 지점의 다리부 (35) 를 개재하여 마스크 케이스 (30) 를 재치 (수용) 할 수 있다. 마찬가지로, 반송 장치 (H1) 에 의해 레일 (45A, 45B) 상 (일시 수용부 (66)) 에 마스크 케이스 (30) 를 재치할 수 있다. 또한, 반송 장치 (H1) 의 반대 동작에 의해 수용부 (65) 또는 일시 수용부 (66) 로부터 마스크 케이스 (30) 를 반출할 수 있다. 또한, 레일 (45A, 45B) 을 일시 수용부 (66) 에 형성하는 대신에, 동일한 레일을 반송차 (V) 가 구비하도록 해도 된다. 이에 따라, 마스크 케이스를 일시적으로 일시 수용부 (66) 에 수수하는 일 없이, 반송차 (V) 와 반송 장치 (H1) 의 사이에서 직접적으로 마스크 케이스의 수수를 실시할 수 있다.The positional relationship between the mask library LB and the conveying device H1 is the spherical portion 62Aa of the ball transfers 62A, 62B, 62C of the mask case conveying unit 61 of the conveying device H1 of FIG. 6A. , 62Ba, 62Ca) in a state in which the concave portions 36Aa, 36Ba and the flat surface 36Ca of the positioning portions 36A to 36C of the mask case 30 are brought into contact, the -X direction of the mask case 30 and The two leg portions 35 in the +X direction are set to be located at the target positions in the X direction on the rails 46A and 46B at the corresponding positions P1 to P5, respectively. Moreover, the width of the X direction of the mask case conveyance part 61 has a margin and is set smaller than the space|interval of the X direction of the rails 46A, 46B. For this reason, the Z position of the bottom surface of the leg portion 35 of the mask case 30 is set higher by a predetermined interval than the upper surfaces of the rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 by the conveying device H1, After setting the position of the mask case 30 in the Y direction (in/out direction with respect to the mask library LB) to a predetermined target position, by lowering the mask case 30, the positions P1 to P5 are easily adjusted. The mask case 30 can be mounted (accommodated) on the rails 46A, 46B (receiving portion 65) through the leg portions 35 at four points. Similarly, the mask case 30 can be mounted on the rails 45A, 45B (temporary accommodating part 66) by the conveyance device H1. Moreover, the mask case 30 can be carried out from the accommodation part 65 or the temporary accommodation part 66 by the opposite operation|movement of the conveyance apparatus H1. In addition, instead of forming the rails 45A and 45B in the temporary accommodation portion 66, the transport vehicle V may have the same rail. Thereby, the mask case can be transferred directly between the transfer vehicle V and the transfer device H1 without temporarily transferring the mask case to the temporary storage unit 66.

또, ―X 방향측의 레일 (45A, 46A) 의 상면의 ＋Y 방향의 단부에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 측면까지의 X 방향 및 Y 방향의 간격을 비접촉으로 검출 가능한 근접 센서 (50A) 가 설치되고, ＋X 방향측의 레일 (45B, 46B) 의 상면의 ＋Y 방향의 단부에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 측면까지의 X 방향 및 Y 방향의 간격을 비접촉으로 검출 가능한 근접 센서 (50B) 가 설치되고, 레일 (45B, 46B) 의 상면의 ―Y 방향의 단부에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 측면까지의 X 방향의 간격을 비접촉으로 검출 가능한 근접 센서 (51) 가 설치되어 있다. 근접 센서 (50A, 50B, 51) 는 예를 들어 광학식이다. 근접 센서 (50A, 50B, 51) 로 검출되는 일시 수용부 (66) 및 수용부 (65) 에 있어서의 마스크 케이스 (30) 의 위치 (X 방향, Y 방향의 위치, 및 θz 방향의 회전각) 의 정보가 제어 장치 (CONT) 에 공급된다. 그와 같이 하여 검출되는 마스크 케이스 (30) 의 위치가 소정의 목표치로부터 허용 범위를 초과하여 어긋나 있는 경우에는, 일례로서 반송차 (V) 또는 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치 및/또는 회전각의 조정이 실시된다. 또한, 근접 센서 (50A, 50B, 51) 중 적어도 하나의 센서를 남기고 다른 센서를 생략해도 된다. 또, 근접 센서 (50A, 50B) 의 적어도 일방을 ―Y 방향의 단부에 이동시켜도 되고, 근접 센서 (50A, 50B) 를 Y 방향에 관해서 서로 반대측의 단부에 배치해도 된다.In addition, at the end of the upper surface of the rails 45A and 46A on the -X direction in the +Y direction, a proximity sensor 50A capable of non-contact detection of the gaps in the X and Y directions to the side surfaces of the mask case 30, respectively, is provided. A proximity sensor 50B that is installed and is capable of non-contact detection of the gaps in the X and Y directions to the side surfaces of the mask case 30, respectively, at the ends in the +Y direction of the upper surfaces of the rails 45B and 46B on the +X direction. Proximity sensors 51 are provided at the ends of the upper surfaces of the rails 45B and 46B in the -Y direction, each of which is capable of non-contact detection of a gap in the X direction to the side surface of the mask case 30. The proximity sensors 50A, 50B, 51 are optical, for example. The position of the mask case 30 in the temporary accommodation part 66 and the accommodation part 65 detected by the proximity sensor 50A, 50B, 51 (the position in the X direction, the Y direction, and the rotation angle in the θz direction) Information is supplied to the control device CONT. When the position of the mask case 30 detected in this way is deviated from the predetermined target value by exceeding the allowable range, the position of the mask case 30 by the transport vehicle V or the transport device H1 as an example And/or the rotation angle is adjusted. In addition, at least one of the proximity sensors 50A, 50B, and 51 may be left and other sensors may be omitted. Further, at least one of the proximity sensors 50A and 50B may be moved to an end portion in the -Y direction, and the proximity sensors 50A and 50B may be disposed at an end portion opposite to each other in the Y direction.

또, 위치 (P2 ∼ P5) 의 레일 (46A 및 46B) 의 2 개 지점에 각각 위치 (P1 ∼ P4) 의 수용부 (65) 에 수용되는 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A 및 41B) 를 지지하기 위한 지지부 (47A1, 47A2 및 47B1, 47B2) 가 대향하도록 부착되고, 프레임 기구 (43) 의 상단의 Y 방향으로 평행한 2 개의 부분의 2 개 지점에 각각 최상단 (위치 (P5)) 의 수용부 (65) 에 수용되는 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A 및 41B) 를 지지하기 위한 지지부 (47C1, 47C2 및 47D1, 47D2) 가 대향하도록 부착되어 있다.Further, the flange portions 41A and 41B of the mask case 30 accommodated in the accommodating portions 65 of the positions P1 to P4, respectively, at two points of the rails 46A and 46B of the positions P2 to P5 are provided. The support portions 47A1, 47A2 and 47B1, 47B2 for supporting are attached so as to be opposed, and the uppermost end (position P5) is accommodated at two points of two portions parallel to the Y direction of the upper end of the frame mechanism 43 Support portions 47C1, 47C2 and 47D1, 47D2 for supporting the flange portions 41A and 41B of the mask case 30 accommodated in the portion 65 are attached so as to face each other.

마스크 케이스 (30) 가 위치 (P1 ∼ P4) 의 레일 (46A, 46B) 상의 목표 위치에 재치되어 있는 상태에서는, 예를 들어 도 3(A) 에 점선으로 나타내는 바와 같이 평면에서 보아 (즉, X 축 및 Y 축을 포함하는 평면을 따른 방향에 관해서), 위치 (P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 에 부착된 일방의 지지부 (47A1, 47B1) 가 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 내에 위치하고 있음과 함께, 타방의 지지부 (47A2, 47B2) 는 플랜지부 (41A, 41B) 의 ―Y 방향의 단부에 근접하고 있다. 또한, 지지부 (47A1 ∼ 47B2) 의 Z 위치는 대응하는 플랜지부 (41A, 41B) 의 상면보다 높게 설정되어 있다. 또한, 타방의 지지부 (47A2, 47B2) 의 상면에는, 각각 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 에 삽입 통과 가능한 핀 (48) 이 고정되어 있다. 핀 (48) 의 직경은 개구 (41Ab, 41Bb) 의 직경에 대하여, 반송 장치 (H1) 에 의한 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정 정밀도보다 큰 클리어런스를 갖고 작게 설정되어 있다. 지지부 (47C1, 47C2, 47D1, 47D2) 의 XY 평면 내에서의 위치는, 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 와 동일하고, 지지부 (47C2, 47D2) 의 상면에도, 각각 핀 (48) 이 고정되어 있다.In the state where the mask case 30 is mounted at the target position on the rails 46A and 46B of the positions P1 to P4, for example, as shown by the dotted line in Fig. With respect to the direction along the plane including the axis and the Y axis), one of the support portions 47A1 and 47B1 attached to the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5 is the flange portion 41A of the mask case 30, While being positioned within the cutouts 41Aa and 41Ba of 41B), the other support portions 47A2 and 47B2 are close to the end portions of the flange portions 41A and 41B in the -Y direction. Further, the Z positions of the support portions 47A1 to 47B2 are set higher than the upper surfaces of the corresponding flange portions 41A and 41B. In addition, pins 48 that can be inserted into the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B are fixed to the upper surfaces of the other support portions 47A2 and 47B2, respectively. The diameter of the pin 48 is set smaller with a clearance greater than the positioning accuracy of the mask case 30 by the conveying device H1 with respect to the diameter of the openings 41Ab and 41Bb. The positions of the support portions 47C1, 47C2, 47D1, 47D2 in the XY plane are the same as those of the support portions 47A1, 47A2, 47B1, 47B2, and the pins 48 are fixed to the upper surfaces of the support portions 47C2, 47D2, respectively. Has been.

이 구성에 의해, 반송 장치 (H1) 로 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 마스크 케이스 (30) 를, 지지부 (47A1, 47B1) 가 각각 절결부 (41Aa, 41Ba) 를 통과하도록 상승시키고, 또한 마스크 케이스 (30) 를, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 의 상방에 위치하도록, 예를 들어 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 의 Y 방향의 폭분만큼 ―Y 방향으로 이동시킨 후, 마스크 케이스 (30) 를 강하시킴으로써, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 가 각각 위치 (P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 에 형성한 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 또는 최상부의 지지부 (47C1, 47C2, 47D1, 47D2) 로 지지되기 때문에, 하부 케이스부 (31A) 로부터 상부 케이스부 (31B) 를 용이하게 분리할 수 있다. 이 때에, 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 내에 각각 지지부 (47A2, 47B2 또는 47C2, 47D2) 의 핀 (48) 이 삽입 통과되기 때문에, 진동 등에 의해 플랜지부 (41A, 41B) 의 위치가 어긋나는 것을 방지할 수 있다. 또, 이 반대 동작에 의해, 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 용이하게 정확하게 위치 결정한 상태에서 재치할 수 있다. 또한, 진동 등이 적고, 플랜지부 (41A, 41B) 의 위치 어긋남량이 적은 경우에는, 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 및 지지부 (47A2, 47B2, 47C2, 47D2) 의 핀 (48) 은 생략하는 것이 가능하다. 또, 개구 (41Ab, 41Bb) 는, 핀 (48) 이 삽입 통과되도록 관통한 개구한 형상에 한정되지 않고, 핀 (48) 과 서로 끼워맞추는 형상이면 되고, 예를 들어, 플랜지부 (41A, 41B) 의 상면측이 닫힌 (개구하고 있지 않는) 구멍, 즉 관통하고 있지 않는 (오목 형상의) 구멍으로 할 수도 있다.With this configuration, the mask case 30 on the rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 in the transport apparatus H1, and the support portions 47A1 and 47B1 pass through the cutout portions 41Aa and 41Ba, respectively. The mask case 30 is raised, and the openings 41Ab and 41Bb are positioned above the pins 48, for example, in the Y direction of the cutouts 41Aa and 41Ba of the flanges 41A and 41B. After moving in the -Y direction by the width, by lowering the mask case 30, the flange portions 41A, 41B of the upper case portion 31B are formed on the rails 46A, 46B at the positions P2 to P5, respectively. Since it is supported by one support part 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 or the uppermost support part 47C1, 47C2, 47D1, 47D2, the upper case part 31B can be easily separated from the lower case part 31A. At this time, since the pins 48 of the support portions 47A2, 47B2 or 47C2, 47D2 are respectively inserted into the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B, the flange portions 41A and 41B are subjected to vibration or the like. It can prevent the position of misalignment. Further, by this reverse operation, it is possible to mount the upper case part 31B on the lower case part 31A in a state where the upper case part 31B is easily and accurately positioned. In addition, when the vibration or the like is small and the amount of displacement of the flange portions 41A, 41B is small, the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A, 41B and the pins of the support portions 47A2, 47B2, 47C2, 47D2 ( 48) can be omitted. In addition, the openings 41Ab and 41Bb are not limited to the shape of the opening through which the pin 48 is inserted, and may be a shape that fits with the pin 48, for example, the flange portions 41A and 41B. The upper surface side of) may be a closed (not open) hole, that is, a (concave) hole that does not penetrate.

또, 도 8 에 있어서, 칸막이판 (44) 의 ＋X 방향의 단부의 상면에 마스크 케이스 (30) 의 검출 장치 (52) 가 고정되고, 검출 장치 (52) 로부터 Z 방향으로 평행하게 상방에 광빔 (LB1) 이 조사되고, 프레임 기구 (43) 의 최상부의 부재에, 광빔 (LB1) 을 ―Z 방향으로 반사하는 반사 부재 (49) 가 형성되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 반사 부재 (49) 및 검출 장치 (52) 는, 반송 장치 (H1) 의 일부이다. 위치 (P1 ∼ P5) 의 ＋X 방향측의 레일 (46B) 에는 각각 광빔 (LB1) 을 통과시키기 위한 개구 (46Ba) 가 형성되어 있다. 도 9 에 나타내는 바와 같이, 검출 장치 (52) 는, 광빔을 사출하는 광원부 (52a) 와, 광원부 (52a) 로부터 사출된 광빔의 일부 (광빔 (LB1)) 를 ＋Z 방향으로 반사하는 빔 스플리터 (52b) 와, 반사 부재 (49) 로 반사된 광빔 (LB1) 중에서 빔 스플리터 (52b) 를 투과한 광빔을 수광하여 광전 변환하는 포토 다이오드 등의 광전 센서 (52c) 를 갖는다. 광전 센서 (52c) 의 검출 신호를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 기준치와 비교함으로써, 광빔 (LB1) 의 광로 상에 물체가 있는지 여부를 검출할 수 있다. 검출 결과는 제어 장치 (CONT) 에 공급된다. In addition, in FIG. 8, the detection device 52 of the mask case 30 is fixed to the upper surface of the end portion of the partition plate 44 in the +X direction, and the light beam ( The LB1 is irradiated, and the reflective member 49 which reflects the light beam LB1 in the -Z direction is formed in the uppermost member of the frame mechanism 43. In this embodiment, the reflective member 49 and the detection device 52 are part of the conveyance device H1. The openings 46Ba for passing the light beam LB1 are formed in the rail 46B on the +X direction side of the positions P1 to P5, respectively. As shown in Fig. 9, the detection device 52 includes a light source unit 52a that emits a light beam, and a beam splitter 52b that reflects a part of the light beam emitted from the light source unit 52a (light beam LB1) in the +Z direction. ) And a photoelectric sensor 52c such as a photodiode for photoelectric conversion by receiving the light beam transmitted through the beam splitter 52b among the light beam LB1 reflected by the reflective member 49. By comparing the detection signal of the photoelectric sensor 52c with a predetermined reference value with a signal processing unit (not shown), it is possible to detect whether an object is present on the optical path of the light beam LB1. The detection result is supplied to the control device CONT.

또한, 광원부 (52a) 와 광전 센서 (52c) 의 배치를 교체하여, 빔 스플리터 (52b) 가 광원부 (52a) 로부터의 광빔을 투과시키고, 광전 센서 (52c) 가 빔 스플리터 (52b) 로 반사된 광빔을 검출해도 된다. 또, 반사 부재 (49) 에, 상기 서술한 반사부 (37B) 와 동일하게 편광 특성을 갖게 해도 되고, 혹은 반사 부재 (49) 를 향하는 광빔과 반사 부재 (49) 로 반사된 광빔이 서로 편광 방향이 직교하는 직선 편광이 되도록 광빔의 광로에 1/4 파장판이나 편광자 등의 편광 소자를 배치해도 된다. 이 경우, 빔 스플리터 (52b) 에 편광 특성을 갖게 하여 편광빔 스플리터로 해도 된다.In addition, the arrangement of the light source unit 52a and the photoelectric sensor 52c is replaced, so that the beam splitter 52b transmits the light beam from the light source unit 52a, and the photoelectric sensor 52c is the light beam reflected by the beam splitter 52b. May be detected. In addition, the reflective member 49 may have polarization characteristics similar to those of the reflective portion 37B described above, or the light beam directed to the reflective member 49 and the light beam reflected by the reflective member 49 are mutually polarized in the polarization direction. A polarizing element, such as a quarter wave plate or a polarizer, may be disposed in the optical path of the light beam so as to become orthogonal linearly polarized light. In this case, the beam splitter 52b may be provided with polarization characteristics to form a polarization beam splitter.

이 경우, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 위치 (P1) (또는 P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 목표 위치에 마스크 케이스 (30) 를 재치한 상태에서, 플랜지부 (41B) 의 절결부 (41Ba) 로부터 떨어진 위치에 있는 개구 (41Bd) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 광빔 (LB1) 의 광로가 설정되어 있다. 또한, 상기 서술한 바와 같이, 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 를 예를 들어 위치 (P3) (또는 위치 (P2, P4, P5)) 의 지지부 (47A1, 47A2 및 47B1, 47B2) 또는 지지부 (47C1, 47C2 및 47D1, 47D2) 상에 재치한 상태에서, 플랜지부 (41B) 의 절결부 (41Ba) 에 가까운 위치에 있는 개구 (41Bc) (도 2(A) 참조) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 상부 케이스부 (31B) 가 위치 결정된다. 이와 같이 위치 (P1 ∼ P5) 전부의 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 가 각각 수용부 (65) 의 소정 위치 (목표 위치) 에 위치 결정된 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc 또는 41Bd) 내를 통과하기 때문에, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체가 없는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출함으로써, 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 가 수용부 (65) (목표 위치) 에 대하여 소정의 허용 범위 내에 위치 결정된 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 의 수용 상태를 검지할 수 있다.In this case, as shown in Fig. 10, in the state where the mask case 30 is mounted at the target position on the rails 46A, 46B at the position P1 (or P2 to P5), the cutout portion of the flange portion 41B The optical path of the light beam LB1 is set so that the light beam LB1 may pass through the opening 41Bd located at a position away from the 41Ba. In addition, as described above, the upper case portion 31B of the mask case 30 is, for example, the support portion 47A1 at the position P3 (or the positions P2, P4, P5) by the transport device H1. , 47A2 and 47B1, 47B2) or in a state mounted on the support portions 47C1, 47C2 and 47D1, 47D2, the opening 41Bc at a position close to the cutout 41Ba of the flange portion 41B (FIG. 2(A) ))), the upper case portion 31B is positioned so that the light beam LB1 passes through it. In this way, in a state in which the mask case 30 and/or the upper case portion 31B of all the positions P1 to P5 are respectively positioned at a predetermined position (target position) of the accommodating portion 65, the light beam LB1 is Since it passes through the inside of the opening 41Bc or 41Bd of the branch part 41B, the detection device 52 can detect that there is no object in the optical path of the light beam LB1. That is, by detecting the light beam LB1 by the detection device 52, the mask case 30 and/or the upper case portion 31B is positioned within a predetermined allowable range with respect to the receiving portion 65 (target position). It can be detected. In other words, the state of accommodation of the mask case 30 and/or the upper case part 31B with respect to the accommodation part 65 can be detected.

한편, 위치 (P1 ∼ P5) 중 어느 것의 마스크 케이스 (30) 또는 상부 케이스부 (31B) 가 목표 위치로부터 허용 범위를 초과하여 어긋난 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc 및 41Bd) 를 통과할 수 없게 되고, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체 (플랜지부 (41B)) 가 있는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출할 수 없게 됨으로써, 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 가 목표 위치에 대하여 허용 범위를 초과하여 위치 결정된 (즉, 위치 어긋나 있는) 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 이 경우도 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 의 수용 상태를 검지할 수 있다. 이 때문에, 일례로서, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 에 마스크 케이스 (30) 를 반송할 때, 또는 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 를 대응하는 지지부 (47A1 ∼ 47B2) 등에 재치할 때에는, 각각 검출 장치 (52) 로 광빔 (LB1) 을 검출할 수 있도록 마스크 케이스 (30) 또는 상부 케이스부 (31B) 의 위치를 조정함으로써, 마스크 케이스 (30) 또는 상부 케이스부 (31B) 를 각각 용이하게 목표 위치에 설치할 수 있다.On the other hand, in the state where the mask case 30 or the upper case portion 31B in any of the positions P1 to P5 is shifted from the target position by exceeding the allowable range, the light beam LB1 is the opening 41Bc of the flange portion 41B. And 41Bd, and the detection device 52 can detect that an object (flange portion 41B) is present in the optical path of the light beam LB1. That is, since the light beam LB1 cannot be detected by the detection device 52, the mask case 30 and/or the upper case portion 31B is positioned beyond the allowable range with respect to the target position (i.e., the position Misaligned) can be detected. In other words, also in this case, the state of accommodation of the mask case 30 and/or the upper case part 31B with respect to the accommodation part 65 can be detected. For this reason, as an example, when conveying the mask case 30 to the accommodating part 65 by the conveying apparatus H1, or supporting parts 47A1-47B2 corresponding to the upper case part 31B of the mask case 30 ), etc., by adjusting the position of the mask case 30 or the upper case part 31B so that the light beam LB1 can be detected by the detection device 52, respectively, so that the mask case 30 or the upper case part ( Each 31B) can be easily installed at the target location.

또한, 본 실시형태에 있어서, 하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B) 를 구성하는 복수의 부재는, 볼트에 의한 연결 외에, 용접 또는 접착에 의한 연결, 또는 일체 성형 등으로 연결해도 된다.In addition, in the present embodiment, the plurality of members constituting the lower case portion 31A and the upper case portion 31B may be connected by welding or bonding, or by integral molding, in addition to connection by bolts. .

다음으로, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 에 있어서의 마스크 (M) 의 반송 방법을 포함하는 노광 방법의 일례에 대해 도 11(A) 및 (B) 의 플로우 차트를 참조하여 설명한다. 이 동작은 제어 장치 (CONT) 에 의해 제어된다.Next, an example of the exposure method including the method of transporting the mask M in the exposure apparatus EX of the present embodiment will be described with reference to the flow charts of Figs. 11A and 11B. This operation is controlled by the control device CONT.

먼저, 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 가 반송차 (V) 에 의해 마스크 스토커 (도시하지 않음) 로부터 노광 장치 (EX) 의 마스크 라이브러리 (LB) 까지 반송된다 (스텝 102). 즉, 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 의 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) 의 구면부에 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 가 접촉하도록, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 마스크 케이스 (30) 를 재치한다. 그리고, 마스크 케이스 (30) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 각도가 각각 일시 수용부 (66) 에서의 목표치가 되도록 반송차 (V) 의 위치 결정을 실시하고, 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 설정치보다 높게 한 후, 도시하지 않는 개폐 기구에 의해 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 를 개방하고, 반송차 (V) 가 그 반출입구를 통해 마스크 케이스 반송부 (53) 로 지지된 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 레일 (45A, 45B) 의 상방으로 이동한다. 또한, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 를 강하시킴으로써, 레일 (45A, 45B) 에 마스크 케이스 (30) 의 4 개 지점의 다리부 (35) 가 재치된다. 이에 따라, 반송차 (V) 로부터 일시 수용부 (66) 에 마스크 케이스 (30) 가 수수된 것이 된다.First, the mask case 30 in which the mask M is housed is conveyed from the mask stocker (not shown) to the mask library LB of the exposure apparatus EX by the conveyance difference V (step 102). That is, the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A to 36C of the mask case 30 on the spherical portion of the ball transfers 54A to 54C of the mask case conveying unit 53 of the transport vehicle V, and The mask case 30 is mounted on the mask case conveyance part 53 so that the flat part 36Ca may contact. Then, the positioning of the transport vehicle V is performed so that the position in the X direction of the mask case 30 and the angle in the θz direction become the target values in the temporary accommodating portion 66, respectively, and the Z position of the mask case 30 Is higher than the set value, the carrying-in/out port (not shown) of the exposure chamber CH is opened by an opening/closing mechanism (not shown), and the conveyance vehicle V passes through the carrying-in port to the mask case transfer part 53 The supported mask case 30 is moved above the rails 45A and 45B of the mask library LB. In addition, as shown in FIG. 9, by lowering the mask case conveyance part 53 of the conveyance vehicle V, the leg|leg part 35 of four points of the mask case 30 is mounted on the rails 45A, 45B. do. In this way, the mask case 30 is transferred from the transport vehicle V to the temporary accommodation unit 66.

이 때에, 레일 (45A, 45B) 상의 근접 센서 (50A, 50B, 51) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 X 방향, Y 방향의 위치, 및 θz 방향의 회전각을 검출하고, 제어 장치 (CONT) 에 있어서 그 검출 결과를 미리 정해 있는 목표치와 비교해도 된다. 그리고, 그 검출 결과의 목표치로부터의 어긋남량이 소정의 허용 범위를 초과하고 있는 경우에는, 반송차 (V) 로 마스크 케이스 (30) 를 레일 (45A, 45B) 로부터 상승시켜, 마스크 케이스 (30) 의 위치 및/또는 회전각을 보정한 후, 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 에 수수해도 된다. 이것은 반송 장치 (H1) 에 의해 레일 (46A, 46B) 상에 마스크 케이스 (30) 를 재치할 때에도 동일하다. 그 후, 반송차 (V) 가 ＋Y 방향으로 이동하여 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 가 닫힌다.At this time, by the proximity sensors 50A, 50B, 51 on the rails 45A, 45B, the position of the mask case 30 in the X direction, the Y direction, and the rotation angle in the θz direction are detected, and the control device CONT In the above, the detection result may be compared with a predetermined target value. And, when the amount of deviation from the target value of the detection result exceeds a predetermined allowable range, the mask case 30 is raised from the rails 45A and 45B by the transport vehicle V, and the mask case 30 is After correcting the position and/or the rotation angle, the mask case 30 may be transferred to the temporary accommodation unit 66. This is the same also when mounting the mask case 30 on the rails 46A and 46B by the conveying device H1. After that, the transport vehicle V moves in the +Y direction, and the carrying-in/out port (not shown) of the exposure chamber CH is closed.

또한, 반송 장치 (H1) 에 의해, 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 로부터 어느 수용부 (65) 로 마스크 케이스 (30) 를 이동하기 위해서, 도 9 에 나타내고 있는 마스크 케이스 반송부 (53) 의 위치로, 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 를 이동한다. 그리고, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 상승시켜, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 의 구면부가 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 에 접촉하도록, 마스크 케이스 반송부 (61) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수한다.In addition, in order to move the mask case 30 from the temporary storage unit 66 of the mask library LB to a certain storage unit 65 by the transport device H1, the mask case transport unit shown in Fig. 9 ( The mask case conveyance part 61 of the conveyance apparatus H1 is moved to the position of 53). And the mask case conveyance part 61 is raised, and the spherical part of the ball transfer 62A-62C of the mask case conveyance part 61 is recessed part 36Aa of the positioning parts 36A-36C of the mask case 30 , 36Ba) and the flat portion 36Ca, the mask case 30 is transferred to and received from the mask case carrying portion 61.

이와 같이 마스크 케이스 반송부 (61) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수했을 때에, 일례로서 도 11(B) 의 스텝 120 에서 나타내는 바와 같이, 검출 장치 (63) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 의 유무 (또는 마스크 (M) 까지의 거리) 를 검출해도 된다. 하부 케이스부 (31A) 가 없는 경우에는, 하부 케이스부 (31A) 로서 다른 마스크용 하부 케이스부가 사용되고 있는 경우 등이 생각된다. 그리고, 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 중 적어도 하나가 없다 (또는 마스크 (M) 까지의 거리가 허용 범위를 초과하고 있다) 고 판정된 경우, 스텝 122 로 이행하여 마스크 케이스 (30) 를 반환한다. 즉, 제어 장치 (CONT) 에서는, 일례로서, 반송 장치 (H1) 에 그 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 로 되돌리도록 제어 정보를 공급하고, 반송차 (V) 에 그 마스크 케이스 (30) 를 노광 챔버 (CH) 의 외부에 반출하도록 제어 정보를 공급한다. 이에 따라, 마스크 케이스 (30) 는 노광 챔버 (CH) 의 외부에 반출된다. 그 후, 동작은 스텝 102 로 되돌아간다. 이 경우, 그 반환된 마스크 케이스 (30) 와 교환된 다른 마스크 케이스 (30) 가 반송차 (V) 에 의해 일시 수용부 (66) 에 반입된다.When the mask case 30 is transferred to the mask case conveying unit 61 in this way, as an example, as shown in step 120 of FIG. 11(B), the lower case of the mask case 30 by the detection device 63 The presence or absence of the portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B (or the distance to the mask M) may be detected. When there is no lower case part 31A, a case in which another mask lower case part is used as the lower case part 31A is considered. And, when it is determined that at least one of the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B is not present (or the distance to the mask M exceeds the allowable range), step 122 The process proceeds to and the mask case 30 is returned. That is, in the control device CONT, as an example, control information is supplied to the transfer device H1 to return the mask case 30 to the temporary storage unit 66, and the mask case ( 30) is supplied to the outside of the exposure chamber CH. Accordingly, the mask case 30 is carried out to the outside of the exposure chamber CH. After that, the operation returns to step 102. In this case, the returned mask case 30 and the other mask case 30 exchanged are carried into the temporary accommodation part 66 by the conveyance vehicle V.

이에 따라, 다른 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30), 또는 마스크 (M) 가 없는 마스크 케이스 (30) 가 잘못하여 마스크 라이브러리 (LB) 의 수용부 (65) 에 수납되는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 예를 들어 반송 장치 (H1) 가 마스크 로더계 (H2) 에 마스크 (M) 를 수수하는 단계에서 마스크 (M) 가 없는 것이 판명되는 것을 방지할 수 있고, 마스크의 반송 불량을 방지할 수 있다. 또한, 예를 들어 노광 챔버 (CH) 의 외부에서, 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 가 존재하는 것 (또는 마스크 (M) 까지의 거리가 허용 범위 내에 있는 것) 이 오퍼레이터 등에 의해 정확하게 확인되어 있는 경우에는, 검출 장치 (63) 에 의한 확인 (스텝 120) 을 생략해도 된다.Accordingly, it is possible to prevent the mask case 30 in which the other mask M is accommodated, or the mask case 30 without the mask M being accidentally stored in the receiving portion 65 of the mask library LB. have. For this reason, for example, it can be prevented that it becomes clear that there is no mask M in the step of transferring the mask M to the mask loader system H2 by the conveying device H1, and a defective conveyance of the mask can be prevented. I can. In addition, for example, outside of the exposure chamber CH, the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B exist (or the distance to the mask M is within the allowable range). What is present) When this is correctly confirmed by an operator or the like, the confirmation by the detection device 63 (step 120) may be omitted.

스텝 120 에 있어서, 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 가 전부 존재한다 (또는 마스크 (M) 까지의 거리가 허용 범위 내에 있다) 고 판정된 경우, 또는 검출 장치 (63) 에 의한 확인을 생략한 경우에는, 스텝 104 로 이행하여, 반송 장치 (H1) 에 의해, 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 예를 들어 위치 (P1) 의 수용부 (65) 로 이동한다. 즉, 마스크 케이스 (30) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) 를 ―Y 방향으로 이동하고, 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치가 예를 들어 위치 (P1) 의 레일 (46A, 46B) 의 상방이 되도록 마스크 케이스 반송부 (61) 를 상승시켜, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 ＋Y 방향으로 이동함으로써, 마스크 케이스 (30) 는 위치 (P1) 의 레일 (46A, 46B) 의 상방으로 이동한다. 또한, 도 9 에 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 를 강하시킴으로써, 위치 (P1) 의 레일 (46A, 46B) 에 마스크 케이스 (30) 의 4 개 지점의 다리부 (35) 가 재치된다. 이에 따라, 일시 수용부 (66) 로부터 위치 (P1) 의 수용부 (65) 에 마스크 케이스 (30) 가 이동된 것이 된다.In step 120, when it is determined that all of the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B exist (or the distance to the mask M is within the allowable range), or detection In the case where the confirmation by the device 63 is omitted, the process proceeds to step 104, and the mask case 30 is moved by the transfer device H1 to the receiving portion of the mask library LB, for example, the position P1. 65). That is, the mask case conveyance part 61 supporting the mask case 30 is moved in the -Y direction, and the Z position of the mask case 30 is above the rail 46A, 46B of the position P1, for example. The mask case conveyance part 61 is raised so that it may become, and by moving the mask case conveyance part 61 in the +Y direction, the mask case 30 moves upward of the rails 46A, 46B of the position P1. In addition, as shown by the dashed-dotted line in FIG. 9, by lowering the mask case conveyance part 61 of the conveyance device H1, four of the mask cases 30 are placed on the rails 46A and 46B of the position P1 The leg portion 35 of the point is placed. Thereby, the mask case 30 is moved from the temporary accommodation part 66 to the accommodation part 65 of the position P1.

여기서는, 설명의 편의상, 도 12 에 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상 (수용부 (65)) 에 마스크 케이스 (30) 가 이동된 것으로 하여, 위치 (P2) 의 수용부 (65) 로부터 마스크 스테이지 (MST) 에 마스크 케이스 (30) 내의 마스크 (M) 를 반송하는 것으로 한다. 또한, 도 12 및 도 13 에 있어서는, 설명의 편의상, 프레임 기구 (43) 의 일부 및 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41B) 를 단면으로 나타내고 있다. 이 때, 도 12 에 있어서, 검출 장치 (52) 로부터 사출된 광빔 (LB1) 이, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bd) 및 반사 부재 (49) 를 통해서 검출 장치 (52) 로 검출되도록, 또한 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 의 상방에 위치 (P3) 의 지지부 (47A1, 47B1) 가 위치하도록 (도 3(A) 참조), 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정이 실시되어 있다. 이에 따라, 다음으로 마스크 케이스 (30) 를 반송 장치 (H1) 로 지지할 때에, 마스크 케이스 (30) 에 대한 마스크 케이스 반송부 (61) 의 위치 결정을 효율적으로 (단시간에) 실시할 수 있다.Here, for convenience of explanation, as shown by the dashed-dotted line in FIG. 12, it is assumed that the mask case 30 has moved on the rails 46A and 46B at the position P2 (receiving portion 65), It is assumed that the mask M in the mask case 30 is conveyed from the accommodating portion 65 of P2) to the mask stage MST. In addition, in FIGS. 12 and 13, for convenience of explanation, a part of the frame mechanism 43 and the flange portion 41B of the mask case 30 are shown in cross section. At this time, in FIG. 12, the light beam LB1 emitted from the detection device 52 passes through the opening 41Bd of the flange portion 41B of the mask case 30 and the reflection member 49. ) So that the support portions 47A1 and 47B1 of the position P3 are positioned above the cutout portions 41Aa and 41Ba of the flange portions 41A and 41B (see Fig. 3(A)), the mask case ( 30) Positioning has been carried out. Thereby, next, when supporting the mask case 30 by the conveyance device H1, the positioning of the mask case conveyance part 61 with respect to the mask case 30 can be performed efficiently (in a short time).

그리고, 위치 (P2) 의 수용부 (65) 의 마스크 케이스 (30) 의 저면의 하방에 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 를 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 상승시켜, 사용 대상의 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 에 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A, 62B) 의 구면부 (62Aa, 62Ba) (볼록부) 를 접촉 (걸어맞춤) 시키고, 그 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36C) 의 평탄부 (36Ca) 에 볼 트랜스퍼 (62C) 의 구면부 (62Ca) 를 접촉 (걸어맞춤) 시킨다 (스텝 106). 이 상태에서 마스크 케이스 반송부 (61) (마스크 케이스 (30)) 를 더욱 상승시켜, 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 가 지지부 (47A1, 47B1) 를 통과한 후, 화살표 (A1) 로 나타내는 바와 같이, 절결부 (41Aa, 41Ba) 의 Y 방향의 폭분만큼 마스크 케이스 (30) 를 ―Y 방향으로 슬라이드 이동시키고 나서, 화살표 (A2) 로 나타내는 바와 같이 마스크 케이스 (30) 를 강하시킨다 (스텝 108).And, after moving the mask case conveyance part 61 of the conveyance apparatus H1 below the bottom surface of the mask case 30 of the accommodating part 65 of the position P2, the mask case conveyance part 61 is raised. The spherical portions 62Aa and 62Ba of the ball transfers 62A and 62B of the mask case conveying unit 61 to the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B of the mask case 30 to be used ) (Convex portion) is brought into contact (engaging), and the spherical portion 62Ca of the ball transfer 62C is brought into contact with the flat portion 36Ca of the positioning portion 36C of the mask case 30. (Step 106). In this state, the mask case conveyance part 61 (mask case 30) is further raised, and after the cutouts 41Aa and 41Ba of the flange parts 41A and 41B pass through the support parts 47A1 and 47B1, the arrow As indicated by (A1), the mask case 30 is slid in the -Y direction by the width of the cutouts 41Aa and 41Ba in the Y direction, and then the mask case 30 is opened as indicated by the arrow (A2). It descends (step 108).

이에 따라, 도 13 및 도 9 에 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 가 위치 (P3) 의 지지부 (47A1, 47A2 및 47B1, 47B2) 에 재치되고, 하부 케이스부 (31A) 만이 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치되어, 하부 케이스부 (31A) 로부터 상부 케이스부 (31B) 가 분리된다. 또, 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 내에 지지부 (47A2, 47B2) 의 핀 (48) 이 삽입 통과되어 있다.Accordingly, as shown by the dashed-dotted line in FIGS. 13 and 9, the flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B of the mask case 30 are supported by the support portions 47A1, 47A2 and 47B1 at the position P3. , 47B2, and only the lower case portion 31A is placed on the mask case carrying portion 61, and the upper case portion 31B is separated from the lower case portion 31A. Further, the pins 48 of the support portions 47A2 and 47B2 are inserted into the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B.

또한, 일례로서, 스텝 108 에 이어 도 11(C) 의 스텝 130 에 있어서, 제어 장치 (CONT) 는, 검출 장치 (52) 로부터 사출된 광빔 (LB1) 이, 반사 부재 (49) 를 통해서 검출 장치 (52) 로 검출되는지 여부를 확인해도 된다. 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되는 경우에는, 광빔 (LB1) 이, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과하고 있는 것, 즉, 상부 케이스부 (31B) 가 정확하게 위치 결정되어 있는 것을 의미한다. 이 경우에는, 마스크 (M) 의 사용 후에 마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 재치할 때에, 상부 케이스부 (31B) 의 하방의 목표 위치에 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 이동하여, 하부 케이스부 (31A) 를 상승시킴으로써, 효율적으로 (단시간에) 상부 케이스부 (31B) 에 하부 케이스부 (31A) 를 정확하게 재치할 수 있다.In addition, as an example, in step 130 of FIG. 11(C) following step 108, the light beam LB1 emitted from the detection device 52 in the control device CONT passes through the reflective member 49 to the detection device. (52) You may check whether or not it is detected. When the light beam LB1 is detected by the detection device 52, the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B, that is, the upper case portion. It means that (31B) is positioned correctly. In this case, when placing the upper case part 31B on the lower case part 31A on which the mask M is mounted after use of the mask M, the mask case is placed at the target position below the upper case part 31B. By moving the conveying part 61 (lower case part 31A) and raising the lower case part 31A, it is possible to efficiently (in a short time) accurately place the lower case part 31A on the upper case part 31B. I can.

그래서, 스텝 130 에 있어서, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되는 경우에는 동작은 스텝 110 으로 이행한다. 한편, 스텝 130 에 있어서, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되지 않는 경우에는, 스텝 132 로 이행하여, 재차 마스크 케이스 반송부 (61) 에 의해 상부 케이스부 (31B) 를 상승시켜 상부 케이스부 (31B) 에 상부 케이스부 (31B) 를 재치한 후, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되도록 마스크 케이스 반송부 (61) 의 Y 방향의 위치를 조정한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 강하시킨다. 그리고, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되도록 된 상태에서, 스텝 110 으로 이행한다. 또한, 스텝 130 및 132 의 동작은, 스텝 108 의 도중 (마스크 케이스 (30) 의 ―Y 방향으로의 슬라이드 이동 후) 에 실시하도록 해도 된다.Therefore, in step 130, when the light beam LB1 is detected by the detection device 52, the operation shifts to step 110. On the other hand, in step 130, when the light beam LB1 is not detected by the detection device 52, the process proceeds to step 132, and the upper case part 31B is raised again by the mask case conveying part 61 to After mounting the upper case part 31B on the case part 31B, after adjusting the position in the Y direction of the mask case carrying part 61 so that the light beam LB1 may be detected by the detection device 52, the mask case is conveyed. The portion 61 (lower case portion 31A) is lowered. Then, in a state in which the light beam LB1 is detected by the detection device 52, the flow proceeds to step 110. In addition, the operation of steps 130 and 132 may be performed in the middle of step 108 (after slide movement of the mask case 30 in the -Y direction).

스텝 110 에 있어서, 화살표 (A3) 로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 개재하여 하부 케이스부 (31A) 를 ―Y 방향으로 슬라이드 이동시켜, 하부 케이스부 (31A) 를 마스크 라이브러리 (LB) 로부터 인발한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 반송 장치 (H1) 의 최상부인 위치 (CA1) (도 1 참조) 까지 상승시킨다. 위치 (CA1) 에 있어서, 마스크 (M) 는, 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 로부터 마스크 로더계 (H2) 의 캐리어 (21) 에 수수된다 (스텝 112). 이 때에, 하부 케이스부 (31A) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 가 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A, 62B) 에 대하여 위치 결정되어 있고, 캐리어 (21) 와 마스크 케이스 반송부 (61) (볼 트랜스퍼 (62A, 62B)) 는 서로 정확하게 위치 결정되어 있기 때문에, 캐리어 (21) 는 효율적으로 마스크 케이스 반송부 (61) 로부터 마스크 (M) 를 수취할 수 있다.In step 110, as indicated by arrow A3, the lower case part 31A is slid in the -Y direction via the mask case conveyance part 61, and the lower case part 31A is moved to the mask library (LB). ), the mask case conveyance part 61 (lower case part 31A) is raised to the position CA1 (refer FIG. 1) which is the uppermost part of the conveyance apparatus H1. In the position CA1, the mask M is transferred from the mask case conveyance part 61 of the conveyance apparatus H1 to the carrier 21 of the mask loader system H2 (step 112). At this time, the positioning parts 36A and 36B of the lower case part 31A are positioned with respect to the ball transfers 62A and 62B of the mask case carrying part 61, and the carrier 21 and the mask case carrying part (61) Since the (ball transfers 62A, 62B) are accurately positioned with each other, the carrier 21 can efficiently receive the mask M from the mask case transfer unit 61.

캐리어 (21) 는, 예를 들어 진공 흡착 기구에 의해 마스크 (M) 를 수취한다. 그 진공 흡착 기구는, 캐리어 (21) 의 저면에 형성된 진공 흡착공과, 그 진공 흡착공에 도시하지 않는 배관을 통해서 연결된 도시하지 않는 진공 펌프를 갖고, 이 진공 펌프의 온/오프에 의해 마스크 (M) 의 흡착 유지 및 유지 해제를 전환 가능하도록 되어 있다. 그리고, 마스크 로더계 (H2) 에 의해 마스크 (M) 는 마스크 스테이지 (MST) 의 상방으로 반송되어, 마스크 스테이지 (MST) 로 로드된다 (스텝 114).The carrier 21 receives the mask M by, for example, a vacuum adsorption mechanism. The vacuum adsorption mechanism includes a vacuum adsorption hole formed on the bottom surface of the carrier 21 and a vacuum pump (not shown) connected to the vacuum adsorption hole through a pipe (not shown). ) To maintain and release the adsorption. And the mask M is conveyed above the mask stage MST by the mask loader system H2, and is loaded into the mask stage MST (step 114).

즉, 캐리어 (21) 는, 마스크 (M) 를 유지한 상태에서, 위치 (CA1) 와 위치 (CA2) 사이를 캐리어 가이드부 (21A) 에 지지되면서 이동 가능함과 함께, 캐리어 가이드부 (21A) 와 함께 Z 방향으로 이동 가능하다. 즉, 캐리어 (21) 는 도 1 중, X 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하도록 형성되어 있다. 캐리어 (21) 는, 위치 (CA1) 에 있어서 반송 장치 (H1) 에 지지되어 있는 하부 케이스부 (31A) 로부터 마스크 (M) 를 수취한 후, 마스크 (M) 를 위치 (CA2) 까지 반송한다. 위치 (CA2) 로 이동한 캐리어 (21) 는, 위치 (CA2) 에 있어서 마스크 (M) 를 로드 아암 (22) 에게 건네준다. 여기서 로드 아암 (22) 및 언로드 아암 (23) 은, 도 1 중, Y 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하다. 로드 아암 (22) 과 언로드 아암 (23) 은, 위치 (CA2) 와 마스크 스테이지 (MST) 사이를 Y 방향으로 개별적으로 이동 가능함과 함께, Z 방향에 대해서는 Z 축 가이드부 (22A) 에 지지되면서 일체로 이동 가능하도록 되어 있다. 이들 로드 아암 (22) 및 언로드 아암 (23) 은, 마스크 (M) 를 유지하는 진공 흡착공을 갖고 있으며, 연결된 진공 펌프의 온/오프에 의해 마스크 (M) 의 흡착 유지 및 유지 해제를 실시한다. 로드 아암 (22) 은, 위치 (CA2) 에 있어서 노광 처리에 사용하는 마스크 (M) 를 캐리어 (21) 로부터 수취하고, 마스크 스테이지 (MST) 의 상방까지 반송한 후, 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (MST) 에 로드한다.That is, the carrier 21 is movable while being supported by the carrier guide portion 21A between the position CA1 and the position CA2 while holding the mask M, and the carrier guide portion 21A and Together, they can move in the Z direction. That is, the carrier 21 is formed so as to be movable in the X and Z directions in FIG. 1. The carrier 21 conveys the mask M to the position CA2 after receiving the mask M from the lower case portion 31A supported by the transport device H1 at the position CA1. The carrier 21 moved to the position CA2 passes the mask M to the load arm 22 at the position CA2. Here, the load arm 22 and the unload arm 23 are movable in the Y direction and the Z direction in FIG. 1. The load arm 22 and the unload arm 23 can be moved individually in the Y direction between the position CA2 and the mask stage MST, and are integrally supported by the Z-axis guide 22A in the Z direction. It is supposed to be able to move to. These load arms 22 and unload arms 23 have vacuum adsorption holes for holding the mask M, and perform adsorption and maintenance and release of the mask M by turning on/off the connected vacuum pump. . The load arm 22 receives the mask M used for exposure processing at the position CA2 from the carrier 21, and conveys the mask M to the upper side of the mask stage MST, and then transfers the mask M to the mask stage. (MST).

그리고, 노광 장치 (EX) 의 노광부 (S) 에 있어서, 마스크 (M) 패턴의 이미지를 소정 로트 수의 플레이트 (P) 에 노광한다 (스텝 116). 노광부 (S) 에 있어서 노광 처리를 끝낸 마스크 (M) 는 마스크 로더계 (H2) 및 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 라이브러리 (LB) 로 되돌려진다 (스텝 118). 즉, 마스크 (M) 는 언로드 아암 (23) 에 의해 마스크 스테이지 (MST) 로부터 언로드되고, 위치 (CA2) 까지 반송된다. 위치 (CA2) 에 반송된 마스크 (M) 는, 이 위치 (CA2) 에 대기하고 있는 캐리어 (21) 에게 건네지고, 이 캐리어 (21) 에 의해 위치 (CA1) 에 반송된다. 그리고, 위치 (CA1) 에 반송된 마스크 (M) 는, 위치 (CA1) 에 대기하고 있던 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치되어 있는 하부 케이스부 (31A) 에 재치된다. 그 후, 마스크 케이스 반송부 (61) (마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A)) 를 노광 처리 전에 수용되어 있던 수용부 (65) 의 높이까지 이동하고, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 도 13 에 나타내는 상부 케이스부 (31B) 의 하방의 위치까지 ＋Y 방향으로 슬라이드 이동한다.And in the exposure part S of the exposure apparatus EX, the image of the mask M pattern is exposed on the plate P of a predetermined number of lots (step 116). The mask M which has finished the exposure treatment in the exposure part S is returned to the mask library LB by the mask loader system H2 and the conveyance device H1 (step 118). That is, the mask M is unloaded from the mask stage MST by the unloading arm 23, and is conveyed to the position CA2. The mask M conveyed to the position CA2 is handed over to the carrier 21 waiting at the position CA2, and is conveyed to the position CA1 by the carrier 21. And the mask M conveyed to the position CA1 is mounted on the lower case part 31A mounted on the mask case conveyance part 61 of the conveyance apparatus H1 which was waiting at the position CA1. After that, the mask case conveyance part 61 (the lower case part 31A on which the mask M is mounted) is moved to the height of the accommodating part 65 accommodated before the exposure process, and the mask case conveyance part 61 Is slid in the +Y direction to a position below the upper case portion 31B shown in FIG. 13.

또한, 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 상승시켜, 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 로 지지되어 있는 상부 케이스부 (31B) 를 하부 케이스부 (31A) 에 재치한 후, 도 12 의 화살표 (A1) 와 역방향으로 마스크 케이스 반송부 (61) 에 의해 마스크 케이스 (30) (하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B)) 를 이동함으로써, 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상 (수용부 (65)) 에 마스크 케이스 (30) 가 되돌려진다. 그 후, 위치 (P2) 의 수용부 (65) 의 마스크 케이스 (30) 를 마스크 스토커 (도시하지 않음) 로 되돌리는 경우에는, 반송 장치 (H1) 에 의해 그 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 로 되돌린 후, 반송차 (V) 에 의해 일시 수용부 (66) 의 마스크 케이스 (30) 를 노광 챔버 (CH) 의 외부에 반출하면 된다.Further, the mask case conveyance part 61 (lower case part 31A) is raised, and the upper case part 31B supported by the support parts 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 is placed on the lower case part 31A. After that, by moving the mask case 30 (lower case part 31A and upper case part 31B) by the mask case carrying part 61 in the opposite direction to the arrow A1 of FIG. 12, the position P2 The mask case 30 is returned on the rails 46A and 46B (receiving portion 65). After that, in the case of returning the mask case 30 of the accommodating portion 65 at the position P2 to a mask stocker (not shown), the mask case 30 is temporarily accommodated by the transfer device H1. After returning to 66, the mask case 30 of the temporary accommodation part 66 may be carried out to the outside of the exposure chamber CH by the conveyance vehicle V.

이 반송 방법에 따르면, 마스크 (M) 를 수납하는 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 를 사용하여, 마스크 케이스 (30) 와 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 의 위치 결정이 자동적으로 고정밀도로 실시되고 있으며, 반송 장치 (H1) 에 의한 마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반입 및 반출, 또한 반송 장치 (H1) 와 마스크 로더계 (H2) (캐리어 (21)) 사이의 마스크 (M) 의 수수, 나아가서는, 예를 들어 노광 장치 (EX) 로 복수의 마스크 (M) 를 사용하여 순차 노광을 실시하는 경우에, 마스크 라이브러리 (LB) 와 마스크 스테이지 (MST) 사이에 있어서의 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감할 수 있다.According to this conveyance method, the mask case 30 and the conveyance device H1 are formed by using the positioning portions 36A and 36B of the lower case portion 31A of the mask case 30 housing the mask M. Positioning of the mask case transfer unit 61 is automatically performed with high precision, and the mask case 30 is carried in and out of the mask library LB by the transfer device H1, and the transfer device H1 and Transfer of the mask M between the mask loader system H2 (carrier 21), and furthermore, in the case of sequential exposure using, for example, a plurality of masks M with the exposure apparatus EX, The defective conveyance of the mask M between the mask library LB and the mask stage MST can be reduced.

상기 서술한 바와 같이 본 실시형태의 마스크 (M) 가 수납되는 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 를 지지하는 지지부 (34B, 34C) 가 형성되는 베이스 부재 (32) (저면) 를 갖는 하부 케이스부 (31A) (제 1 케이스부) 와, 하부 케이스부 (31A) 에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 베이스 부재 (32) 에 대향 배치되는 평판부 (39a) (상면) 를 갖는 상부 케이스부 (31B) (제 2 케이스부) 를 구비하고, 마스크 라이브러리 (LB) (보관 장치) 에 보관 가능한 마스크 케이스이다. 그리고, 마스크 케이스 (30) 에 있어서, 상부 케이스부 (31B) 는, 하부 케이스부 (31A) 로부터 떼어내어져 마스크 라이브러리 (LB) 에 유지될 때에 사용되는 플랜지부 (41B) (유지부) 를 갖고, 플랜지부 (41B) 는, 하부 케이스부 (31A) 에 장착된 상부 케이스부 (31B) 가 마스크 라이브러리 (LB) 에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광빔 (LB1) 이 통과하는 개구 (41Bd) (제 1 광 통과부) 와, 하부 케이스부 (31A) 로부터 떼어내어진 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 가 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47B1, 47B2) 에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 광빔 (LB1) 이 통과하는 개구 (41Bc) (제 2 광 통과부) 를 구비하고 있다. As described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated is a lower portion having a base member 32 (bottom surface) on which the support portions 34B and 34C supporting the mask M are formed. An upper case portion having a case portion 31A (first case portion) and a flat plate portion 39a (upper surface) formed to be detachable from the lower case portion 31A and disposed opposite to the base member 32 ( 31B) It is a mask case which is provided with (2nd case part), and can be stored in the mask library LB (storage device). And, in the mask case 30, the upper case part 31B has a flange part 41B (holding part) used when it is removed from the lower case part 31A and is held in the mask library LB. , The flange portion 41B is an opening 41Bd through which the light beam LB1 passes when the upper case portion 31B mounted on the lower case portion 31A is in the first position stored in the mask library LB (First light passage portion) and a second position in which the flange portion 41B of the upper case portion 31B removed from the lower case portion 31A is held in the support portions 47B1, 47B2 of the mask library LB When it is in, it is provided with the opening 41Bc (a 2nd light passage part) through which the light beam LB1 passes.

또, 본 실시형태의 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (31A) 와, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 상부 케이스부 (31B) 를 구비하고, 상부 케이스부 (31B) 는, 마스크 라이브러리 (LB) (마스크 케이스 (30) 의 보관부) 로 상부 케이스부 (31B) 를 지지하기 위한 플랜지부 (41A, 41B) 를 갖고, 플랜지부 (41B) 에, 상부 케이스부 (31B) 의 위치를 검출하기 위한 광빔 (LB1) 이 통과 가능한 개구 (41Bc) 가 형성되어 있다.In addition, the mask case 30 of the present embodiment covers the lower case portion 31A on which the mask M is placed and the mask M placed on the lower case portion 31A. ), and the upper case portion 31B is a flange portion for supporting the upper case portion 31B with a mask library LB (a storage portion of the mask case 30) It has 41A, 41B, and the opening 41Bc through which the light beam LB1 for detecting the position of the upper case part 31B can pass is formed in the flange part 41B.

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 장치 (H1) 는, 마스크 케이스 (30) 의 마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) (케이스 지지부) 와, 하부 케이스부 (31A) 로부터 분리된 상부 케이스부 (31B) 를, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 를 개재하여 지지하는 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) (상부 케이스 지지부) 와, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 에 광빔 (LB1) 을 조사하는 광원부 (52a) (조사부) 와, 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 을 개구 (41Bc) 를 향하여 반사하는 반사 부재 (49) 와, 반사 부재 (49) 로 반사되어 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 을 검출하는 광전 센서 (52c) (검출부) 를 구비하고 있다.Moreover, the conveyance device H1 which conveys the mask M is a mask case conveyance part 61 (case support part) which supports the lower case part 31A on which the mask M of the mask case 30 was mounted, and , Support portions 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 for supporting the upper case portion 31B separated from the lower case portion 31A through the flange portions 41A, 41B of the upper case portion 31B) (upper case It passes through the support part), the light source part 52a (irradiation part) which irradiates the light beam LB1 to the opening 41Bc of the flange part 41B of the upper case part 31B (irradiation part), and the opening 41Bc of the flange part 41B. A reflective member 49 that reflects one light beam LB1 toward the opening 41Bc, and a photoelectric sensor 52c that detects the light beam LB1 reflected by the reflective member 49 and passed through the opening 41Bc (detection unit ).

또, 마스크 케이스 (30) 를 보관하는 마스크 라이브러리 (LB) (보관 장치) 는, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) (유지부) 를 개재하여 마스크 케이스 (30) 를 지지 가능한 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 와, 지지부 (47B1) (지지부 (47B1) 의 근방의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc, 41Bd)) 를 향하여 광빔 (LB1) 을 조사하는 광원부 (52a) (조사부) 와, 지지부 (47B1) 를 향하여 조사된 광빔 (LB1) 을 검출하는 광전 센서 (52c) (검출부) 를 구비하고 있다.In addition, the mask library LB (storage device) storing the mask case 30 is a support portion capable of supporting the mask case 30 through the flange portions 41A, 41B (holding portion) of the mask case 30 ( An irradiation part) and a photoelectric sensor 52c (detection part) which detects the light beam LB1 irradiated toward the support part 47B1 are provided.

또, 마스크 (M) 의 반송 방법은, 마스크 케이스 (30) 의 마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A) 를 지지하는 스텝 106 과, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 에 광빔 (LB1) 을 조사하고, 개구 (41Bc) 를 통과한 후, 반사 부재 (49) (광빔 반사부) 로 반사되어 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 을 검출하는 스텝 130 과, 광빔 (LB1) 의 검출 결과에 따라 상부 케이스부 (31B) 의 위치를 조정하는 스텝 132 를 갖는다.In addition, the transport method of the mask M includes step 106 of supporting the lower case portion 31A on which the mask M of the mask case 30 is mounted, and the flange portion 41B of the upper case portion 31B. A step of irradiating the opening 41Bc with a light beam LB1, passing through the opening 41Bc, and detecting the light beam LB1 reflected by the reflective member 49 (light beam reflector) and passing through the opening 41Bc It has 130 and step 132 of adjusting the position of the upper case part 31B according to the detection result of the light beam LB1.

또, 마스크 케이스 (30) 를 보관하는 보관 방법은, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) 를 개재하여 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 를 지지하는 스텝 108 과, 플랜지부 (41B) 를 향하여 광빔 (LB1) 을 조사하고, 플랜지부 (41B) 를 향하여 조사된 광빔 (LB1) 을 검출하는 스텝 130 을 포함하고 있다.In addition, the storage method for storing the mask case 30 includes step 108 of supporting the upper case portion 31B of the mask case 30 through the flange portions 41A, 41B of the mask case 30, and a plan And a step 130 of irradiating the light beam LB1 toward the branch portion 41B and detecting the light beam LB1 irradiated toward the flange portion 41B.

본 실시형태에 의하면, 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 이 검출되도록 상부 케이스부 (31B) 의 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 에 대한 위치 결정을 실시함으로써, 다음으로 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 재치할 때의 위치 맞춤을 효율적으로 실시할 수 있다. 이 때문에, 마스크 (M) 를 수납하는 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 로 되돌릴 때의 시간을 단축할 수 있어, 마스크 (M) 의 반송을 효율적으로 (단시간에) 실시할 수 있다.According to this embodiment, by positioning the support portions 47A1, 47A2, 47B1, 47B2 of the upper case portion 31B so that the light beam LB1 that has passed through the opening 41Bc of the flange portion 41B is detected. Then, position alignment when placing the upper case part 31B on the lower case part 31A can be performed efficiently. For this reason, the time when returning the mask case 30 accommodating the mask M to the mask library LB can be shortened, and the mask M can be conveyed efficiently (in a short time).

또한, 본 실시형태에 있어서, 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 에 플랜지부 (41A, 41B) 를 형성하는 경우에는, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 에 위치 결정부 (36A ∼ 36C), 반사부 (37A), 및 창부 (32a1) 를 형성할 필요는 반드시 있는 것은 아니다. 그리고, 하부 케이스부 (31A) 에 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 를 형성하지 않는 경우에는, 마스크 케이스 (30) 의 반송시에, 하부 케이스부 (31A) 를 에어 부상 기구, 캠 팔로워 기구, 또는 롤러 비교 기구 등으로 반송해도 된다.In addition, in the present embodiment, in the case of forming the flange portions 41A and 41B in the upper case portion 31B of the mask case 30, the positioning portion is formed in the lower case portion 31A of the mask case 30. It is not always necessary to form (36A-36C), the reflection part 37A, and the window part 32a1. And, in the case where the positioning portions 36A to 36C are not formed in the lower case portion 31A, when the mask case 30 is transported, the lower case portion 31A is transferred to an air floating mechanism, a cam follower mechanism, or It may be conveyed by a roller comparator or the like.

또, 상기 서술한 바와 같이 본 실시형태의 마스크 (M) 가 수납되는 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (31A) 와, 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 상부 케이스부 (31B) 를 구비하고, 하부 케이스부 (31A) 의 저면에, 외부로부터의 광을 반사하는 반사부 (37A) (제 1 반사부), 및 외부로부터의 광을 통과시키는 창부 (32a1) 가 형성되어 있다.In addition, as described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated is a lower case portion 31A on which the mask M is mounted, and the lower case covers the mask M. A reflection portion 37A (first reflection portion) that has an upper case portion 31B mounted on the portion 31A and reflects light from the outside on the bottom surface of the lower case portion 31A, and from the outside. A window portion 32a1 through which light passes is formed.

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 장치 (H1) 는, 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) (케이스 지지부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 반사부 (37A) 에 광빔 (LB2) 을 조사하고, 반사부 (37A) 로부터의 반사광을 검출하여 하부 케이스부 (31A) 의 유무 (상태) 를 검출하는 검출부 (63a) (제 1 검출부) 와, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되어 있는 마스크 (M) 에 하부 케이스부 (31A) 의 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB3) 을 조사하고, 마스크 (M) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 마스크 (M) 의 유무 또는 마스크 (M) 까지의 거리 (마스크 (M) 의 상태) 를 검출하는 검출부 (63b) (제 2 검출부) 와, 하부 케이스부 (31A) 상에 재치되어 있는 상부 케이스부 (31B) 에 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB4) 을 조사하고, 상부 케이스부 (31B) 에 형성된 반사부 (37B) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 상부 케이스부 (31B) 의 유무 또는 상부 케이스부 (31B) 까지의 거리 (상부 케이스부 (31B) 상태) 를 검출하는 검출부 (63c) (제 3 검출부) 를 구비하고 있다.Moreover, the conveyance device H1 which conveys the mask M includes the mask case conveyance part 61 (case support part) which supports the mask case 30 in which the mask M is housed, and the lower case part 31A A detection unit 63a (first detection unit) that irradiates the light beam LB2 to the reflection unit 37A of the unit, detects the reflected light from the reflection unit 37A, and detects the presence or absence (state) of the lower case unit 31A, and , The light beam LB3 is irradiated to the mask M mounted on the lower case part 31A through the window part 32a1 of the lower case part 31A, and the reflected light from the mask M is transmitted to the window part 32a1. The detection unit 63b (second detection unit) for detecting the presence or absence of the mask M or the distance to the mask M (the state of the mask M) by detecting through, and the lower case unit 31A The upper case part 31B is irradiated with a light beam LB4 through the window part 32a1, and the reflected light from the reflection part 37B formed in the upper case part 31B is detected through the window part 32a1, and the upper case part ( A detection unit 63c (third detection unit) for detecting the presence or absence of 31B or the distance to the upper case 31B (state of the upper case 31B) is provided.

또, 마스크 (M) 의 반송 방법은, 마스크 (M) 가 수납되고 마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 로 지지하는 스텝 102 와, 하부 케이스부 (31A) 의 반사부 (37A) 에 광빔 (LB2) 을 조사하고, 반사부 (37A) 로부터의 반사광을 검출하여 하부 케이스부 (31A) 의 유무 (상태) 를 검출하고, 하부 케이스부 (31A) 에 재치된 마스크 (M) 에 하부 케이스부 (31A) 의 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB3) 을 조사하고, 마스크 (M) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 마스크 (M) 의 유무 등의 상태를 검출하고, 하부 케이스부 (31A) 상에 재치된 상부 케이스부 (31B) 에 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB4) 을 조사하고, 상부 케이스부 (31B) 에 형성된 반사부 (37B) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 상부 케이스부 (31B) 의 유무 등의 상태를 검출하는 스텝 120 을 갖는다.In addition, the transport method of the mask M includes step 102 in which the mask M is accommodated and the mask case 30 is supported by the mask case transport portion 61, and the reflection portion 37A of the lower case portion 31A. The light beam LB2 is irradiated to the light beam LB2, the reflected light from the reflection part 37A is detected, the presence or absence (state) of the lower case part 31A is detected, and the lower part is applied to the mask M placed on the lower case part 31A. The light beam LB3 is irradiated through the window portion 32a1 of the case portion 31A, and the reflected light from the mask M is detected through the window portion 32a1 to detect the presence or absence of the mask M, and the like, The light beam LB4 is irradiated to the upper case part 31B mounted on the case part 31A through the window part 32a1, and the reflected light from the reflection part 37B formed in the upper case part 31B is transmitted to the window part 32a1 ) To detect the presence or absence of the upper case portion 31B.

본 실시형태에 의하면, 마스크 (M) 가 수납되어 있지 않은 마스크 케이스 (30), 또는 필요로 하는 마스크 케이스와 상이한 종류의 마스크 케이스 등을 잘못하여 마스크 라이브러리 (LB) 에 수용하는 것을 방지할 수 있기 때문에, 마스크 (M) 의 반송 중에 있어서 마스크 케이스 (30) 를 반환하는 사태 등을 방지할 수 있고, 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감하여 마스크 (M) 를 확실하게 반송할 수 있다.According to the present embodiment, it is possible to prevent the mask case 30 in which the mask M is not accommodated, or a mask case of a type different from the required mask case, etc., from being incorrectly stored in the mask library LB. Therefore, the situation of returning the mask case 30 during the transport of the mask M can be prevented, and the transport failure of the mask M can be reduced, so that the mask M can be reliably transported.

또한, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 에 반사부 (37A) 및 창부 (32a1) 를 형성한 경우에는, 하부 케이스부 (31A) 의 저면에 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 를 형성할 필요도 반드시 있는 것은 아니다. 이 경우, 반송 장치 (H1) (마스크 케이스 반송부 (61)) 와 마스크 케이스 (30) 의 연결은, 클램프 기구, 전자석 기구, 또는 진공 흡착 기구 등을 사용한 연결 기구에 의해 실시해도 된다.In addition, when the reflection part 37A and the window part 32a1 are formed in the lower case part 31A of the mask case 30, positioning parts 36A to 36C are formed on the bottom surface of the lower case part 31A. There is also no need to do it. In this case, the connection between the conveyance apparatus H1 (mask case conveyance part 61) and the mask case 30 may be performed by a connection mechanism using a clamp mechanism, an electromagnet mechanism, a vacuum adsorption mechanism, or the like.

또, 상기 서술한 바와 같이 본 실시형태의 마스크 (M) 가 수납되는 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (31A) 와, 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 상부 케이스부 (31B) 를 구비하고, 하부 케이스부 (31A) 의 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) (마스크 케이스의 반송부) 에 대향하는 저면에, 회전 대칭인 오목부 (36Aa) 가 형성된 위치 결정부 (36A), V 자형의 홈 형상의 오목부 (36Ba) 가 형성된 위치 결정부 (36B), 및 평탄면 (36Ca) 가 형성된 적어도 하나의 위치 결정부 (36C) 가 형성되어 있다.In addition, as described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated is a lower case so as to cover the lower case portion 31A on which the mask M is placed, and the mask M. On the bottom surface having the upper case part 31B mounted on the part 31A and facing the mask case carrying part 61 (the carrying part of the mask case) of the carrying device H1 of the lower case part 31A, Positioning at least one positioning portion 36A in which a rotationally symmetric concave portion 36Aa is formed, a positioning portion 36B in which a V-shaped groove-shaped concave portion 36Ba is formed, and a flat surface 36Ca are formed The part 36C is formed.

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 장치 (H1) 는, 마스크 케이스 (30) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) (케이스 지지부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Aa) 에 걸어맞춤 가능하도록 마스크 케이스 반송부 (61) 에 형성된 볼 트랜스퍼 (62A) (제 1 볼록부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Ba) 에 걸어맞춤 가능하도록 마스크 케이스 반송부 (61) 에 형성된 볼 트랜스퍼 (62B) (제 2 볼록부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 평탄면 (36Ca) 에 걸어맞춤 가능하도록 마스크 케이스 반송부 (61) 에 형성된 위치 결정부 (36C) (제 3 볼록부) 를 구비하고 있다.Moreover, the conveyance apparatus H1 which conveys the mask M is in the mask case conveyance part 61 (case support part) which supports the mask case 30, and the concave part 36Aa of the lower case part 31A. The ball transfer 62A (first convex part) formed in the mask case conveyance part 61 so as to be engageable, and the mask case conveyance part 61 engageable with the concave part 36Ba of the lower case part 31A. The ball transfer 62B (2nd convex part) formed in and the positioning part 36C formed in the mask case conveyance part 61 so that it may engage with the flat surface 36Ca of the lower case part 31A (third Convex portion).

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 방법은, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄면 (36Ca) 을 각각 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 로 지지하는 스텝 106 과, 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄면 (36Ca) 을 개재하여 지지한 상부 케이스부 (31B) 를 위치 (CA1) (마스크 (M) 의 마스크 로더계 (H2) 에 대한 수수 위치) 까지 이동하는 스텝 110 을 갖는다.In addition, in the conveyance method for conveying the mask M, the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat surface 36Ca of the lower casing portion 31A of the mask case 30 are respectively made of balls of the mask casing conveying portion 61. Step 106 supported by the transfers 62A to 62C, and the upper case portion 31B supported via the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat surface 36Ca at the position CA1 (mask loader of the mask M). It has a step 110 of moving to the receiving position with respect to the system (H2)).

본 실시형태에 의하면, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 에 의해, 반송 장치 (H1) 에 대한 하부 케이스부 (31A) (및 마스크 (M)) 의 위치 결정이 고정밀도로 실시되고 있기 때문에, 반송 장치 (H1) 로부터 마스크 로더계 (H2) 에 하부 케이스부 (31A) 내의 마스크 (M) 를 수수할 때에, 마스크 로더계 (H2) 에 의한 마스크 (M) 의 서치 등을 거의 실시할 필요가 없고, 반송 장치 (H1) 로부터 마스크 로더계 (H2) 에 대한 마스크 (M) 의 수수의 정확도를 향상시킬 수 있어, 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감시킬 수 있다. 또한, 마스크 로더계 (H2) 에 대한 마스크 (M) 의 위치 결정도 고정밀도로 실시되고 있기 때문에, 마스크 로더계 (H2) 로부터 마스크 스테이지 (MST) 로 마스크 (M) 를 로드할 때의 마스크 스테이지 (MST) 에 대한 마스크 (M) 의 수수의 정확도도 향상시킬 수 있어, 마스크 (M) 의 반송의 반송 불량을 저감시킬 수 있다.According to the present embodiment, by the recesses 36Aa and 36Ba of the lower case part 31A of the mask case 30, the lower case part 31A (and the mask M) with respect to the conveyance device H1 is Since positioning is performed with high precision, when the mask M in the lower case portion 31A is transferred from the conveying device H1 to the mask loader system H2, the mask M by the mask loader system H2 ), it is not necessary to perform a search or the like, and the accuracy of the transfer of the mask M from the transfer device H1 to the mask loader system H2 can be improved, thereby reducing the transfer failure of the mask M. I can. In addition, since the positioning of the mask M with respect to the mask loader system H2 is also performed with high precision, the mask stage when loading the mask M from the mask loader system H2 to the mask stage MST ( The accuracy of the transfer of the mask M to the MST) can also be improved, and conveyance defects in the conveyance of the mask M can be reduced.

또, 마스크 라이브러리 (LB) 에 형성되어 있는 광원부 (52a) 및 광전 센서 (52c) 를 갖는 검출 장치 (52) (검출부) 는, 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 가 지지부 (47A2, 47B2) 의 핀 (48) 에 걸어맞춰지는 것 및 걸어맞춰지지 않는 것 중 적어도 일방을 검출하는 검출부로 간주할 수도 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해, 광빔 (LB1) 이 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과하는 것이 검출된 경우에는, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지는 것으로 간주할 수 있고, 광빔 (LB1) 이 개구 (41Bc) 를 통과하지 않는 것이 검출된 경우에는, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지지 않는 것으로 간주할 수 있다. 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지지 않는 것이 검출된 경우에는, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지도록 마스크 케이스 (30) (상부 케이스부 (31B)) 의 위치를 조정할 수 있다. 또한, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지지 않는 것이 검출된 경우에, 마스크 (M) 및/또는 마스크 케이스 (30) 의 반송을 중단하여, 마스크 케이스 (30) 를 예를 들어 일시 수용부 (66) 로 되돌리도록 해도 된다.Further, the detection device 52 (detection portion) having the light source portion 52a and the photoelectric sensor 52c formed in the mask library LB is a flange portion 41A of the upper case portion 31B of the mask case 30 , 41B) may be regarded as a detection unit that detects at least one of those that are engaged with the pins 48 of the support portions 47A2 and 47B2 and those that are not engaged. That is, when the detection device 52 detects that the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B, the openings 41Ab, 41Bb are pinned ( 48), and when it is detected that the light beam LB1 does not pass through the opening 41Bc, it is considered that the openings 41Ab and 41Bb do not engage the pin 48. I can. When it is detected that the openings 41Ab and 41Bb do not engage with the pin 48, the mask case 30 (upper case portion 31B) so that the openings 41Ab and 41Bb engage with the pin 48 The position of the can be adjusted. In addition, when it is detected that the openings 41Ab and 41Bb do not engage with the pin 48, the conveyance of the mask M and/or the mask case 30 is stopped, and the mask case 30 is taken as an example. You may make it return to the temporary accommodation part 66 to lift.

또, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 는, 노광 광으로 마스크 (M) 를 조명하고, 노광 광으로 마스크 (M) 및 투영 광학계 (PL) 를 통해서 플레이트 (P) (기판) 를 노광하는 노광 장치로서, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (MST) 와, 반송 장치 (H1) 를 구비하고, 반송 장치 (H1) 에 의해 반송되는 마스크 케이스 (30) 로부터 꺼내어지는 마스크 (M) 가 마스크 스테이지 (MST) 에 재치된다.In addition, the exposure apparatus EX of the present embodiment illuminates the mask M with exposure light, and exposes the plate P (substrate) through the mask M and the projection optical system PL with exposure light. As an apparatus, a mask stage (MST) holding a mask (M) and a transfer device (H1) are provided, and the mask (M) taken out from the mask case (30) conveyed by the transfer device (H1) is a mask stage. (MST) is wit.

또, 노광 장치 (EX) 를 사용하는 노광 방법은, 마스크 (M) 의 반송 방법을 포함하는 것이다.Moreover, the exposure method using the exposure apparatus EX includes the conveyance method of the mask M.

본 실시형태에 의하면, 노광 장치 (EX) 의 노광 공정에 있어서의 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감시킬 수 있다.According to this embodiment, the conveyance defect of the mask M in the exposure process of the exposure apparatus EX can be reduced.

또한, 상기 서술한 실시형태에 있어서는 이하와 같은 변형이 가능하다.In addition, in the above-described embodiment, the following modifications are possible.

먼저, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 마스크 케이스 (30) 의 측면에 1 쌍의 플랜지부 (41A, 41B) 가 형성되어 있지만, 도 14 의 변형예의 마스크 케이스 (30A) 로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스의 대향하는 측면에 복수 (일례로서, 2 개) 의 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 를 형성해도 된다. 또한, 도 14 에 있어서 도 3(A) 에 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고 그 상세한 설명을 생략한다. 또, 도 15(A) ∼ (E), 및 도 17(A) ∼ (E) 에 있어서, 도 12, 도 13 에 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고 그 상세한 설명을 생략한다.First, in the above-described embodiment, a pair of flange portions 41A and 41B are formed on the side surface of the mask case 30, but as shown by the mask case 30A of the modified example in FIG. 14, the mask case A plurality of (for example, two) flange portions 41C1, 41C2, and 41D1, 41D2 may be formed on the opposite side surfaces of. In addition, in FIG. 14, the same reference numerals are attached to portions corresponding to FIG. 3(A), and detailed descriptions thereof are omitted. In addition, in FIGS. 15(A) to (E) and FIGS. 17(A) to (E), portions corresponding to FIGS. 12 and 13 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

도 14 에 있어서, 마스크 케이스 (30A) 는, 마스크 (M) (도 4 참조) 가 재치되는 하부 케이스부 (제 1 케이스부) (31A) 와, 그 하부 케이스부 (31A) 에 재치된 마스크 (M) 를 덮도록 하부 케이스부 (31A) 상에 재치 (장착) 되는 상부 케이스부 (제 2 케이스부) (31BA) 를 구비하고 있다. 또, 상부 케이스부 (31BA) 의 커버 부재 (39) 의 ＋X 방향의 측면의 Y 방향으로 떨어진 2 개 지점에 외측으로 돌출하도록 플랜지부 (41C1, 41C2) (유지부) 가 형성되고, 커버 부재 (39) 의 ―X 방향의 측면의 거의 플랜지부 (41C1, 41C2) 에 대향하는 위치에 외측으로 돌출하도록 2 개의 플랜지부 (41D1, 41D2) (유지부) 가 형성되어 있다. 일례로서, 플랜지부 (41C1, 41C2) (플랜지부 (41D1, 41D2)) 의 Y 방향의 간격은 커버 부재 (39) 의 Y 방향 길이의 1/2 정도이다.In Fig. 14, the mask case 30A includes a lower case part (first case part) 31A on which the mask M (refer to Fig. 4) is mounted, and a mask mounted on the lower case part 31A. It is provided with the upper case part (second case part) 31BA mounted (mounted) on the lower case part 31A so that M) may be covered. Further, flange portions 41C1 and 41C2 (holding portions) are formed so as to protrude outward at two points separated in the Y direction of the side surface of the cover member 39 in the +X direction of the upper case portion 31BA, and the cover member ( 39) Two flange portions 41D1, 41D2 (holding portions) are formed so as to protrude outward at a position substantially opposite to the flange portions 41C1 and 41C2 on the side surface in the -X direction of 39). As an example, the distance in the Y direction of the flange portions 41C1 and 41C2 (flange portions 41D1 and 41D2) is about 1/2 of the length of the cover member 39 in the Y direction.

플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 는 단면 형상이 L 자형이고, 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 중 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39c, 39d) (도 4 참조) 에 대향하는 부분이 각각 복수 지점에서 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 측벽부 (39c, 39d) 에 고정되어 있다. 이하, 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 의 ＋X 방향 및 ―X 방향으로 돌출한 부분을 간단히 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 라고 한다.The flange portions 41C1, 41C2 and 41D1, 41D2 have an L-shaped cross-sectional shape, and among the flange portions 41C1, 41C2 and 41D1, 41D2, the side wall portions 39c and 39d of the cover member 39 (see Fig. 4) The opposing portions are each fixed to the side wall portions 39c and 39d by bolts (not shown) at a plurality of points. Hereinafter, portions of the flange portions 41C1, 41C2 and 41D1, 41D2 protruding in the +X direction and the -X direction are simply referred to as flange portions 41C1, 41C2 and 41D1, 41D2.

―Y 방향에 있는 플랜지부 (41C1, 41D1) 에는, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47A2, 47B2) 의 상면의 핀 (48) (도 9 참조) 이 삽입 통과 가능한 크기의 개구 (관통공) (41C1a, 41D1a) 가 형성되어 있다. 일례로서, 마스크 케이스 (30A) 의 보다 큰 위치 결정 오차에 대응할 수 있도록, 일방의 개구 (41D1a) 는 타방의 개구 (41C1a) 보다 크게 형성되어 있다. 또, ＋Y 방향에서 ＋X 방향의 플랜지부 (41C2) 에는, Y 방향을 따라 소정 간격으로 2 개의 서로 동일한 크기의 원형 개구 (관통공) (41C2a, 41C2b) 가 형성되어 있다. 구체적으로는, 일례로서, 개구 (41C2a, 41C2b) 는, Y 방향으로 서로 60 ㎜ 떨어진 위치가 개구 (관통) 하도록 형성되어 있다. 또, 일례로서, 개구 (41C2a) 의 중심과 개구 (41C1a) 의 중심의 Y 방향의 간격은 570 ㎜ 이다. 개구 (41C2a, 41C2b) 는, 도 9 의 검출 장치 (52) 로부터 조사되는 광빔 (LB1) 을 통과시키기 위해서 사용된다. 또한, 개구 (41C2a, 41C2b) 는, 서로 동일한 크기에 한정되지 않고 상이한 크기여도 되고, 원 형상에 한정되지 않고 다른 형상이어도 된다. 예를 들어, 개구 (41C2a, 41C2b) 는, 원 형상으로 닫힌 개구 (구멍) 형상이 아니라, 플랜지부 (41C2) 의 측면으로 이어진 절결 형상이어도 된다. 또, 개구 (41Ab, 41Bb) 는, 핀 (48) 이 삽입 통과되도록 관통한 개구한 형상에 한정되지 않고, 핀 (48) 과 서로 끼워맞춰지는 형상이면 되고, 예를 들어, 플랜지부 (41A, 41B) 의 상면측이 닫힌 (개구하고 있지 않는) 구멍, 즉 관통하고 있지 않는 (오목 형상의) 구멍으로 할 수도 있다. 이 밖의 구성은 도 4 의 마스크 케이스 (30) 와 동일하다. In the flange portions 41C1 and 41D1 in the Y direction, an opening having a size through which the pin 48 (see Fig. 9) on the upper surface of the support portions 47A2 and 47B2 of the mask library LB can be inserted (through hole). (41C1a, 41D1a) is formed. As an example, one opening 41D1a is formed larger than the other opening 41C1a so as to cope with a larger positioning error of the mask case 30A. Further, in the flange portion 41C2 in the +X direction from the +Y direction, two circular openings (through holes) 41C2a and 41C2b having the same size are formed at predetermined intervals along the Y direction. Specifically, as an example, the openings 41C2a and 41C2b are formed so that positions 60 mm apart from each other in the Y direction are opened (through). In addition, as an example, the distance between the center of the opening 41C2a and the center of the opening 41C1a in the Y direction is 570 mm. The openings 41C2a and 41C2b are used to pass the light beam LB1 irradiated from the detection device 52 in FIG. 9. In addition, the openings 41C2a and 41C2b are not limited to the same size and may have different sizes, are not limited to a circular shape, and may have different shapes. For example, the openings 41C2a and 41C2b may not be in the shape of an opening (hole) closed in a circular shape, but may have a cutout shape extending to the side surface of the flange portion 41C2. In addition, the openings 41Ab and 41Bb are not limited to the shape of the opening through which the pin 48 is inserted, but may be a shape that fits each other with the pin 48, for example, the flange portion 41A, The upper surface side of 41B) may be a closed (not open) hole, that is, a hole not penetrating (concave). Other configurations are the same as those of the mask case 30 in FIG. 4.

이 변형예의 마스크 케이스 (30A) 를 상기 서술한 실시형태의 마스크 라이브러리 (LB) 에 수용하는 경우, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 위치 (P1) (또는 P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 목표 위치에 마스크 케이스 (30A) 를 재치한 상태에서, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 광빔 (LB1) 의 광로가 설정되어 있다. 또한, 상기 서술한 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30A) 의 상부 케이스부 (31BA) 의 플랜지부 (41C1, 41C2, 41D1, 41D2) 를 예를 들어 위치 (P2) (또는 위치 (P3 ∼ P5) 등) 의 지지부 (47B2, 47B1, 47A2, 47A1 또는 47D2, 47D1, 47C2, 47C1) 상에 재치한 상태에서, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 상부 케이스부 (31BA) 가 위치 결정된다.When the mask case 30A of this modified example is accommodated in the mask library LB of the above-described embodiment, as shown in FIG. 10, on the rails 46A and 46B of the position P1 (or P2 to P5) With the mask case 30A mounted at the target position, the optical path of the light beam LB1 is set so that the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the flange portion 41C2. In addition, the flange portions 41C1, 41C2, 41D1, 41D2 of the upper case portion 31BA of the mask case 30A by the above-described conveying device H1 are set to, for example, the position P2 (or the position P3 to P5), etc.) in the state of being mounted on the support portions 47B2, 47B1, 47A2, 47A1 or 47D2, 47D1, 47C2, 47C1) so that the light beam LB1 passes through the inside of the opening 41C2b of the flange portion 41C2, The upper case portion 31BA is positioned.

이와 같이 위치 (P1 ∼ P5) 전부의 마스크 케이스 (30A) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 가 각각 수용부 (65) 의 소정 위치 (목표 위치) 에 위치 결정된 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41C) 의 개구 (41C2b) 내를 통과하기 때문에, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체가 없는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출함으로써, 마스크 케이스 (30A) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 가 수용부 (65) (목표 위치) 에 대하여 소정의 허용 범위 내에 위치 결정된 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 의 수용 상태를 검지할 수 있다.As described above, in a state in which the mask case 30A and/or the upper case portion 31BA of all the positions P1 to P5 are respectively positioned at a predetermined position (target position) of the accommodating portion 65, the light beam LB1 is Since it passes through the inside of the opening 41C2b of the branch part 41C, the detection device 52 can detect that there is no object in the optical path of the light beam LB1. That is, by detecting the light beam LB1 by the detection device 52, the mask case 30A and/or the upper case portion 31BA is positioned within a predetermined allowable range with respect to the receiving portion 65 (target position). It can be detected. In other words, the state of accommodation of the mask case 30 and/or the upper case part 31BA to the accommodation part 65 can be detected.

한편, 위치 (P1 ∼ P5) 중 어느 것의 마스크 케이스 (30A) 또는 상부 케이스부 (31BA) 가 목표 위치로부터 허용 범위를 초과하여 어긋난 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41C) 의 개구 (41C2b) 를 통과할 수 없게 되고, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체 (플랜지부 (41C2)) 가 있는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출할 수 없게 됨으로써, 마스크 케이스 (30A) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 가 목표 위치에 대하여 허용 범위를 초과하여 위치 결정된 (즉, 위치 어긋나 있는) 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 이 경우도 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 의 수용 상태를 검지할 수 있다. 이 때문에, 일례로서, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 에 마스크 케이스 (30A) 를 반송할 때, 또는 마스크 케이스 (30A) 의 상부 케이스부 (31BA) 를 대응하는 지지부 (47A1 ∼ 47B2) 등에 재치할 때에는, 각각 검출 장치 (52) 로 광빔 (LB1) 을 검출할 수 있도록 마스크 케이스 (30A) 또는 상부 케이스부 (31BA) 의 위치를 조정함으로써, 마스크 케이스 (30A) 또는 상부 케이스부 (31BA) 를 각각 용이하게 목표 위치에 설치할 수 있다.On the other hand, in a state in which the mask case 30A or the upper case portion 31BA in any of the positions P1 to P5 is shifted from the target position by exceeding the allowable range, the light beam LB1 is the opening 41C2b of the flange portion 41C. ), and the detection device 52 can detect that an object (flange portion 41C2) is present in the optical path of the light beam LB1. That is, by making it impossible to detect the light beam LB1 by the detection device 52, the mask case 30A and/or the upper case portion 31BA is positioned beyond the allowable range with respect to the target position (i.e., the position Misaligned) can be detected. In other words, also in this case, the state of accommodation of the mask case 30 and/or the upper case part 31BA with respect to the accommodation part 65 can be detected. For this reason, as an example, when conveying the mask case 30A to the accommodating part 65 by the conveying apparatus H1, or supporting parts 47A1-47B2 corresponding to the upper case part 31BA of the mask case 30A ), etc., by adjusting the position of the mask case 30A or the upper case part 31BA so that the light beam LB1 can be detected by the detection device 52, respectively, so that the mask case 30A or the upper case part ( 31BA) can be easily installed at the target location.

구체적으로, 반송 장치 (H1) 의 반송 아암 (61) 을 사용하여 마스크 케이스 (30A) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 예를 들어 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상에 반송하는 경우, 도 15(A) 에 나타내는 바와 같이, 반송 아암 (61) 에 재치된 마스크 케이스 (30A) 가 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) (레일 (46A) 은 도시하지 않음) 의 상방으로 반송된다. 이 때에 도 12 의 검출 장치 (52) 로부터 사출되는 광빔 (LB1) 은, 마스크 케이스 (30A) 의 플랜지부 (41C2) 로 차광되어 있지 않기 때문에, 도 12 의 반사 부재 (49) 로 반사되는 광빔 (LB1) 을 검출 장치 (52) 로 수광하여 얻어지는 검출 신호 (S1) 는, 도 16(A) 의 시점 (t1) 으로 나타내는 바와 같이 2 치화하기 위한 소정의 임계값 (Sth) 을 초과하고 있다. 검출 신호 (S1) 로부터 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 가 광빔 (LB1) 까지 도달하고 있지 않은 것을 인식할 수 있다.Specifically, when conveying the mask case 30A on the rail 46A, 46B of the position P2 for example of the mask library LB using the conveyance arm 61 of the conveyance apparatus H1, FIG. As shown in 15(A), the mask case 30A mounted on the conveyance arm 61 is conveyed above the rail 46A, 46B (rail 46A is not shown) at the position P2. At this time, since the light beam LB1 emitted from the detection device 52 in FIG. 12 is not blocked by the flange portion 41C2 of the mask case 30A, the light beam reflected by the reflective member 49 in FIG. 12 ( The detection signal S1 obtained by receiving the LB1 light with the detection device 52 exceeds the predetermined threshold Sth for binarization as indicated by the time point t1 in Fig. 16A. From the detection signal S1, the control device CONT can recognize that the flange portion 41C2 has not reached the light beam LB1.

그리고, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(B) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 로 차광되면, 시점 (t2) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 작아지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 또한, 반송 아암 (61) 의 X 방향, Y 방향, 및 Z 방향의 위치는 예를 들어 리니어 인코더 (도시하지 않음) 에 의해 계측되고 있다. 또, 도 16(A), (B) 의 가로축은 시간 (t)이고, 검출 신호 (S1) 는 소정의 샘플링 레이트로 불휘발성의 기억 장치 (예를 들어, 플래쉬 메모리) 에 기억되어 있다. 또한, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(C) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 를 통과하게 되면, 시점 (t3) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 커지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다.And when the conveyance arm 61 is moved in the +Y direction, and the light beam LB1 is shielded by the flange part 41C2 as shown in FIG. 15(B), the detection signal S1 as shown by the time point t2 ) Becomes smaller than the threshold value Sth, and the control device CONT can recognize that the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. In addition, the positions of the conveyance arm 61 in the X direction, the Y direction, and the Z direction are measured by, for example, a linear encoder (not shown). In addition, the horizontal axis in Figs. 16A and 16B is time t, and the detection signal S1 is stored in a nonvolatile memory device (eg, flash memory) at a predetermined sampling rate. Further, when the conveyance arm 61 is moved in the +Y direction, and the light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the flange portion 41C2, as shown in Fig. 15C, the time point t3 is indicated. As described above, the detection signal S1 becomes larger than the threshold value Sth, and the control device CONT can recognize that the opening 41C2b of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1.

그리고, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(D) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 로 차광되면, 시점 (t4) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 작아지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 간의 영역이 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 또한, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(E) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 를 통과하게 되면, 시점 (t5) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 커지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 이 시점 (t5) 에서, 제어 장치 (CONT) 는 반송 아암 (61) 의 Y 방향으로의 이동을 정지시키고, 반송 아암 (61) 을 ―Z 방향으로 강하시킨다. 이 동작에 의해, 마스크 케이스 (30A) (하부 케이스부 (31A)) 는 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상에 재치된다.And when the conveyance arm 61 is moved in the +Y direction, and the light beam LB1 is shielded by the flange part 41C2 as shown in FIG. 15(D), the detection signal S1 as shown by the time point t4 ) Becomes smaller than the threshold value Sth, and the control device CONT can recognize that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. In addition, when the conveyance arm 61 is moved in the +Y direction, and the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the flange portion 41C2, as shown in Fig. 15(E), the time point t5 As described above, the detection signal S1 becomes larger than the threshold value Sth, and the control device CONT can recognize that the opening 41C2a of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. At this time point t5, the control device CONT stops the movement of the conveyance arm 61 in the Y direction, and makes the conveyance arm 61 descend in the -Z direction. By this operation, the mask case 30A (lower case portion 31A) is mounted on the rails 46A and 46B at the position P2.

이 동작 도중에, 예를 들어 시점 (t3, t4) 사이의 시점 (tx) 에서 정전 등에 의해 반송 장치 (H1) 가 정지된 경우, 그 정전으로부터 복구한 후에, 제어 장치 (CONT) 는, 기억되어 있는 검출 신호 (S1) 의 이력으로부터, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 사이의 영역이 광빔 (LB1) 을 차광하는 위치에 있는 것을 인식할 수 있다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30A) 를 마스크 라이브러리 (LB) 에 반입하는 동작을 원활하게 재개할 수 있다. 또한, 정전으로부터 복구한 후에, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향 또는 ―Y 방향으로 이동시켜, 그 때에 관측되는 검출 신호의 검출 결과에 기초하여, 마스크 케이스 (30A) 가 라이브러리 (LB) 내의 어디에 있는지를 인식해도 된다.During this operation, when the conveyance device H1 is stopped due to a power failure or the like at a time point tx between the time points t3 and t4, after recovering from the power failure, the control device CONT is stored From the history of the detection signal S1, it can be recognized that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the flange portion 41C2 is at a position where the light beam LB1 is shielded. For this reason, the operation of carrying in the mask case 30A into the mask library LB can be smoothly resumed. Further, after recovery from the power failure, the transfer arm 61 is moved in the +Y direction or the -Y direction, and based on the detection result of the detection signal observed at that time, where the mask case 30A is in the library LB. You may recognize.

그 후, 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상에 마스크 케이스 (30A) 내의 마스크 (M) 를 노광에 사용하는 경우에는, 도 17(A) 에 나타내는 바와 같이, 반송 장치 (H1) 의 반송 아암 (61) 을 마스크 케이스 (30A) 의 하부 케이스부 (31A) 의 하방으로 이동한다. 광빔 (LB1) 은, 마스크 케이스 (30A) 의 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 를 통과하고 있기 때문에, 광빔 (LB1) 의 검출 신호 (S1) 는, 도 16(B) 의 시점 (t11) 으로 나타내는 바와 같이 임계값 (Sth) 을 초과하고 있다.After that, when using the mask M in the mask case 30A for exposure on the rails 46A and 46B of the position P2, as shown in Fig. 17A, the transfer device H1 is The conveyance arm 61 is moved below the lower case part 31A of the mask case 30A. Since the light beam LB1 has passed through the opening 41C2a of the flange portion 41C2 of the mask case 30A, the detection signal S1 of the light beam LB1 is the time point t11 in Fig. 16B. As indicated by, the threshold value Sth is exceeded.

그리고, 도 17(B) 에 나타내는 바와 같이, 반송 아암 (61) 을 통해서 마스크 케이스 (30A) 를 ＋Z 방향으로 상승시켜도, 검출 신호 (S1) 는, 시점 (t12) 에서 나타내는 바와 같이 임계값 (Sth) 을 초과하고 있다. 또한, 반송 아암 (61) 을 통해서, 마스크 케이스 (30A) 의 플랜지부 (41C1, 41C2) 가 지지부 (47B1, 47B2) (핀 (48)) 보다 높아지도록, 마스크 케이스 (30A) 를 상승시킨 후, 도 17(C) 에 나타내는 바와 같이, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 사이의 영역이 광빔 (LB1) 을 차광하도록 마스크 케이스 (30A) 를 ―Y 방향으로 이동한다. 이 때 검출 신호 (S1) 는, 시점 (t13) 으로 나타내는 바와 같이 임계값 (Sth) 보다 작아지기 때문에, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 가 광빔 (LB1) 을 차광하는 위치에 있는 것을 인식할 수 있다.And as shown in FIG. 17(B), even if the mask case 30A is raised in the +Z direction through the conveyance arm 61, the detection signal S1 is the threshold value Sth as shown by the time point t12. ) Is exceeded. In addition, after raising the mask case 30A so that the flange portions 41C1 and 41C2 of the mask case 30A are higher than the support portions 47B1 and 47B2 (pin 48) through the conveyance arm 61, As shown in Fig. 17C, the mask case 30A is moved in the -Y direction so that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the flange portion 41C2 blocks the light beam LB1. At this time, since the detection signal S1 becomes smaller than the threshold value Sth as indicated by the time point t13, the control device CONT indicates that the flange portion 41C2 is at a position to shield the light beam LB1. I can recognize it.

그리고, 반송 아암 (61) 을 ―Y 방향으로 이동하여, 도 17(D) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 에 들어가면, 시점 (t14) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 커지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 이 상태에서, 반송 아암 (61) 의 ―Y 방향으로의 이동을 정지시켜, 반송 아암 (61) 을 ―Z 방향으로 강하시킴으로써, 도 17(E) 에 나타내는 바와 같이, 상부 케이스부 (31BA) 의 플랜지부 (41C1, 41C2) 가 위치 (P3) 의 레일 (46B) 의 지지부 (47B1, 47B2) 에 재치되고, 타방의 플랜지부 (41D1, 41D2) 가 위치 (P3) 의 레일 (46A) (도 8 참조) 의 지지부 (47A1, 47A2) 에 재치된다. 이 시점 (t15) 에 있어서도, 검출 신호 (S1) 는 임계값 (Sth) 을 초과하였다. 그 후, 일례로서, 반송 아암 (61) 에 의해 마스크 (M) 를 유지하는 하부 케이스부 (31A) 는 노광 장치에 반송된다.And when the conveyance arm 61 is moved in the -Y direction, and the light beam LB1 enters the opening 41C2b of the flange part 41C2, as shown in FIG. Similarly, the detection signal S1 becomes larger than the threshold value Sth, and the control device CONT can recognize that the opening 41C2b of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. In this state, by stopping the movement of the conveyance arm 61 in the -Y direction and lowering the conveyance arm 61 in the -Z direction, as shown in Fig. 17(E), the upper case portion 31BA is The flange portions 41C1 and 41C2 are mounted on the support portions 47B1 and 47B2 of the rail 46B at the position P3, and the other flange portions 41D1 and 41D2 are the rail 46A at the position P3 (Fig. 8). Reference) is mounted on the support portions 47A1 and 47A2. Also at this time point t15, the detection signal S1 exceeded the threshold value Sth. Then, as an example, the lower case part 31A which holds the mask M by the conveyance arm 61 is conveyed to the exposure apparatus.

이 동작 도중에, 예를 들어 정전 등에 의해 반송 장치 (H1) 가 정지된 경우, 그 정전으로부터 복구한 후에, 제어 장치 (CONT) 는, 기억되어 있는 검출 신호 (S1) 의 이력으로부터, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 와 광빔 (LB1) 의 위치 관계를 인식할 수 있다. 이 때문에, 하부 케이스부 (31A) 를 노광 장치에 반송하는 동작을 원활하게 재개할 수 있다.In the middle of this operation, when the conveyance device H1 is stopped due to, for example, a power outage, after recovering from the power outage, the control device CONT, from the history of the stored detection signal S1, the flange portion 41C2 ), the positional relationship between the openings 41C2b and 41C2a and the light beam LB1 can be recognized. For this reason, the operation of conveying the lower case part 31A to the exposure apparatus can be resumed smoothly.

또, 도 18(A) 의 다른 변형예의 마스크 케이스 (30B) 로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스의 플랜지부에 형성하는 2 개의 개구의 형상 및 크기를 바꾸도록 해도 된다. 또한, 도 18(A) 에 있어서 도 14 에 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고 그 상세한 설명을 생략한다.Further, as shown by the mask case 30B of another modified example of Fig. 18A, the shape and size of the two openings formed in the flange portion of the mask case may be changed. In addition, in Fig. 18A, the same reference numerals are assigned to portions corresponding to Fig. 14, and detailed description thereof is omitted.

도 18(A) 에 있어서, 마스크 케이스 (30B) 의 상부 케이스부 (31BA) 의 커버 부재 (39) 의 ＋X 방향의 측면의 Y 방향으로 떨어진 2 개 지점에 플랜지부 (41C1, 41C3) 가 형성되고, 커버 부재 (39) 의 ―X 방향의 측면의 거의 플랜지부 (41C1, 41C3) 에 대향하는 위치에 2 개의 플랜지부 (41D1, 41D2) 가 형성되어 있다. ―Y 방향에 있는 플랜지부 (41C1, 41D1) 에는, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47A2, 47B2) 의 상면의 핀 (48) (도 9 참조) 이 삽입 통과 가능한 크기의 개구 (관통공) (41C1a, 41D1a) 가 형성되어 있다. 또, ＋Y 방향에서 ＋X 방향의 플랜지부 (41C3) 에는, Y 방향을 따라 소정 간격으로 거의 정방형상의 제 1 개구 (41C3a) 및 개구 (41C3a) 보다 작은 원형의 제 2 개구 (41C3b) 가 형성되어 있다. 개구 (41C3a) 는 도 14 의 개구 (41C2a) 보다 크게 설정되고, 개구 (41C3b) 는 도 14 의 개구 (41C2b) 와 거의 동일한 크기이다.In Fig. 18(A), flange portions 41C1 and 41C3 are formed at two points separated in the Y direction on the side of the cover member 39 in the +X direction of the upper case portion 31BA of the mask case 30B. , Two flange portions 41D1 and 41D2 are formed at positions substantially opposite to the flange portions 41C1 and 41C3 on the side surface of the cover member 39 in the -X direction. In the flange portions 41C1 and 41D1 in the Y direction, an opening having a size through which the pin 48 (see Fig. 9) on the upper surface of the support portions 47A2 and 47B2 of the mask library LB can be inserted (through hole). (41C1a, 41D1a) is formed. Further, in the flange portion 41C3 in the +X direction from the +Y direction, a substantially square first opening 41C3a and a circular second opening 41C3b smaller than the opening 41C3a are formed at predetermined intervals along the Y direction. . The opening 41C3a is set larger than the opening 41C2a in FIG. 14, and the opening 41C3b is substantially the same size as the opening 41C2b in FIG.

또한, 일례로서, 도 18(B) 에 나타내는 바와 같이, 플랜지부 (41C2) 의 2 개의 모서리부는 원주상으로 형성되어 있기 때문에, 개구 (41C3a) 의 4 개의 모서리부도 동일하게 원주상으로 형성되어 있다. 일례로서, 개구 (41C3a) 의 중심과 개구 (41C3b) 의 중심의 Y 방향의 간격은 60 ㎜ 이다. 또, 일례로서, 개구 (41C3a) 의 중심과 개구 (41C1a) 의 중심의 Y 방향의 간격은 570 ㎜ 이다. 개구 (41C3a, 41C3b) 는, 도 9 의 검출 장치 (52) 로부터 조사되는 광빔 (LB1) 을 통과시키기 위해서 사용된다. 이외의 구성은 도 14 의 마스크 케이스 (30A) 와 동일하다.In addition, as an example, as shown in Fig. 18(B), since the two corner portions of the flange portion 41C2 are formed in a cylindrical shape, the four corner portions of the opening 41C3a are also formed in the same column shape. . As an example, the distance between the center of the opening 41C3a and the center of the opening 41C3b in the Y direction is 60 mm. In addition, as an example, the distance between the center of the opening 41C3a and the center of the opening 41C1a in the Y direction is 570 mm. The openings 41C3a and 41C3b are used to pass the light beam LB1 irradiated from the detection device 52 in FIG. 9. Other configurations are the same as those of the mask case 30A in FIG. 14.

이 변형예의 마스크 케이스 (30B) 에 있어서, 플랜지부 (41C3) 의 개구 (41C3a) 는, 상부 케이스부 (31BA) 와 하부 케이스부 (31A) 가 겹친 상태에서, 마스크 라이브러리 (LB) 내에서의 마스크 케이스 (30B) 의 위치를 검출하기 위해서 사용된다. 즉, 개구 (41C3a) 를 광빔 (LB1) 이 통과하고 있는 상태에서, 마스크 케이스 (30B) 는 목표치에 있는 것을 알 수 있다. 이 때에, 개구 (41C3a) 가 개구 (41C3b) 보다 크기 때문에, 예를 들어 진동 등에 의해 하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31BA) 의 겹침 상태가 변화하여, 개구 (41C3a) 의 위치가 어느 정도 어긋나도, 개구 (41C3a) 를 광빔 (LB1) 이 통과하기 때문에, 마스크 케이스 (30B) 가 목표 위치에 있는 것을 검출할 수 있다.In the mask case 30B of this modification, the opening 41C3a of the flange portion 41C3 is a mask in the mask library LB in a state where the upper case portion 31BA and the lower case portion 31A are overlapped. It is used to detect the position of the case 30B. In other words, it can be seen that the mask case 30B is at the target value while the light beam LB1 is passing through the opening 41C3a. At this time, since the opening 41C3a is larger than the opening 41C3b, the overlapping state of the lower case part 31A and the upper case part 31BA changes due to, for example, vibration, and the position of the opening 41C3a is Even if it is shifted by the degree, since the light beam LB1 passes through the opening 41C3a, it can be detected that the mask case 30B is at the target position.

이에 대하여, 상부 케이스부 (31BA) 의 플랜지부 (41C1, 41C3) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47B1, 47B2) 에 재치할 때에는, 작은 개구 (41C3b) 를 광빔 (LB1) 이 통과하도록 상부 케이스부 (31BA) 를 위치 결정함으로써, 플랜지부 (41C1) 의 개구 (41C1a) 를 지지부 (47B2) 의 핀 (48) 에 걸어맞춤시킬 수 있다. 또한, 플랜지부 (41C1) 의 개구 (41C1a) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰져 있는 상태에서는, 상부 케이스부 (31BA) 의 위치 어긋남은 거의 발생하지 않기 때문에, 광빔 (LB1) 은 그 후에도 계속하여 개구 (41C3b) 를 통과하고 있다.On the other hand, when mounting the flange portions 41C1 and 41C3 of the upper case portion 31BA on the support portions 47B1 and 47B2 of the mask library LB, the upper case is made so that the light beam LB1 passes through the small openings 41C3b. By positioning the portion 31BA, the opening 41C1a of the flange portion 41C1 can be engaged with the pin 48 of the support portion 47B2. Further, in a state in which the opening 41C1a of the flange portion 41C1 is engaged with the pin 48, the positional shift of the upper case portion 31BA hardly occurs, so that the light beam LB1 continues to open thereafter. It is passing through (41C3b).

이와 같이, 위치 결정 정밀도가 그다지 높지 않은 용도에서는, 큰 개구 (41C3a) 를 사용하고, 높은 위치 결정 정밀도가 요구되는 용도에서는, 작은 개구 (41C3b) 를 사용함으로써, 마스크 케이스 (30B) 의 반송을 원활하게 실시할 수 있다. As described above, in applications where the positioning accuracy is not very high, the large opening 41C3a is used, and in applications where high positioning accuracy is required, the small opening 41C3b is used to facilitate transport of the mask case 30B. Can be carried out.

또한, 플랜지부 (41C3) 의 개구 (41C3a) 는, 개구 (41C3b) 보다 큰 원형이어도 된다. 또한, 플랜지부 (41C3) 대신에, 도 18(C) 에 나타내는 바와 같이, 거의 정방형의 개구 (41C4a) 및 이것보다 작은 원형 개구 (41C4b) 가 형성된 플랜지부 (41C4) 를 사용해도 된다.Further, the opening 41C3a of the flange portion 41C3 may be a circular shape larger than the opening 41C3b. In addition, instead of the flange portion 41C3, a flange portion 41C4 in which a substantially square opening 41C4a and a smaller circular opening 41C4b may be used as shown in Fig. 18C.

이 변형예의 마스크 케이스 (30B) 를 사용하여, 반송 아암 (61) 에 의해 마스크 케이스 (30B) 를 마스크 라이브러리 (LB) 에 반송하는 경우, 검출 장치 (52) 로 수광하여 얻어지는 검출 신호는, 광빔 (LB1) 이 개구 (41C3a) 를 통과하는 경우와, 개구 (41C3b) 를 통과하는 경우에서 상이하다. 예를 들어, 개구 (41C3b) 보다 개구 (41C3a) 가 큰 마스크 케이스 (30B) 를 사용하는 경우, 개구 (41C3a) 및 개구 (41C3b) 를 걸쳐 신호가 검출되도록 반송 아암 (61) 을 등속으로 이동시키면, 개구 (41C3a) 를 걸쳐 검출되는 검출 신호 쪽이, 개구 (41C3b) 를 걸쳐 검출되는 검출 신호보다 긴 시간 관측된다. 바꿔 말하면, 개구 (41C3a) 에서 관측되는 검출 신호 쪽이 개구 (41C3b) 에서 관측되는 검출 신호보다 반치폭이 길다. 이에 따라, 개구 (41C3a) 의 검출 신호와 개구 (41C3b) 의 검출 신호를 구별할 수 있기 때문에, 반송 아암 (61) 의 위치를 특정할 수 있다. When the mask case 30B of this modification example is used and the mask case 30B is transported to the mask library LB by the transport arm 61, the detection signal obtained by receiving light by the detection device 52 is a light beam ( It differs between the case where LB1 passes through the opening 41C3a and the case where it passes through the opening 41C3b. For example, in the case of using the mask case 30B having the opening 41C3a larger than the opening 41C3b, moving the conveying arm 61 at a constant speed so that a signal is detected across the opening 41C3a and the opening 41C3b , The detection signal detected across the opening 41C3a is observed for a longer time than the detection signal detected across the opening 41C3b. In other words, the detection signal observed in the opening 41C3a has a longer half width than the detection signal observed in the opening 41C3b. Thereby, since the detection signal of the opening 41C3a and the detection signal of the opening 41C3b can be distinguished, the position of the conveyance arm 61 can be specified.

다음으로, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송 장치 (H1) 와는 별도로 반송차 (V) 가 사용되고 있지만, 반송차 (V) 를 본 발명에 의한 반송 장치의 일례로 간주하는 것도 가능하다. 이 경우, 반송차 (V) 에 검출 장치 (63) 를 형성하도록 해도 된다.Next, in the above-described embodiment, the transport vehicle V is used separately from the transport device H1, but it is also possible to regard the transport vehicle V as an example of the transport device according to the present invention. In this case, the detection device 63 may be formed in the transport vehicle V.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 마스크 라이브러리 (LB) 에 수용부 (65) 외에 일시 수용부 (66) 가 형성되어 있지만, 일시 수용부 (66) 를 형성하지 않고, 복수의 수용부 (65) 중 임의의 하나의 수용부 (65) 에 반송차 (V) 로부터 마스크 케이스 (30) 를 반입하고, 임의의 하나의 수용부 (65) 로부터 반송차 (V) 에 의해 마스크 케이스 (30) 를 반출해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, in the mask library LB, a temporary storage portion 66 is formed in addition to the storage portion 65, but the temporary storage portion 66 is not formed, and a plurality of storage portions 65 ), the mask case 30 is carried in from the transport vehicle V to any one of the storage portions 65, and the mask case 30 is removed from the arbitrary one storage portion 65 by the transport vehicle V. You may take it out.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송차 (V) 및 반송 장치 (H1) 와 마스크 케이스 (30) 의 연결은 마스크 케이스 (30) (하부 케이스부 (31A)) 의 저면부에 있어서 실시하고 있지만, 하부 케이스부 (31A) 의 측면부 또는 상부 케이스부 (31B) 의 상면부 등에서 그 연결을 실시하도록 해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, the connection between the transport vehicle V and the transport device H1 and the mask case 30 is performed at the bottom of the mask case 30 (lower case portion 31A). However, the connection may be performed at a side surface of the lower case portion 31A or an upper surface portion of the upper case portion 31B.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송차 (V) 및 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (53, 61) 에는 거의 동일 구조의 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54D 및 62A ∼ 62D) 가 사용되고 있지만, 마스크 케이스 반송부 (53, 61) 의 단부 등, 마스크 케이스 (30) 의 수수시에 큰 충격이 가해질 우려가 있는 부분에는, 내충격성이 높은 볼 트랜스퍼 등의 케이스 지지 부재를 사용할 수도 있다.In addition, in the above-described embodiment, ball transfers 54A to 54D and 62A to 62D having substantially the same structure are used for the transport vehicle V and the mask case transport portions 53 and 61 of the transport device H1. , For portions where a large impact is likely to be applied at the time of transfer of the mask case 30, such as the end portions of the mask case transfer portions 53 and 61, a case supporting member such as a ball transfer having high impact resistance may be used.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송 장치 (H1) 는, 자동으로 작동하는 것으로서 설명했지만, 작업원 등이 부분적으로 매뉴얼 방식으로 작동시켜도 된다.In addition, in the above-described embodiment, the conveying device H1 has been described as being operated automatically, but a worker or the like may partially operate it in a manual manner.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 및 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 의 적어도 일방에, 마스크 케이스 (30) 의 θz 방향의 회전각을 조정하는 기구를 형성해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, in at least one of the mask case conveyance part 53 of the conveyance vehicle V and the mask case conveyance part 61 of the conveyance device H1, the θz direction of the mask case 30 A mechanism for adjusting the rotation angle of may be provided.

또, 상기 서술한 실시형태의 노광 장치 (EX) 로는, 마스크와 플레이트 (기판) 를 동기 이동하여 스텝·앤드·스캔 방식으로 마스크의 패턴을 플레이트에 노광하는 주사형 노광 장치가 사용되고 있다. 노광 장치 (EX) 로서, 그 외에, 스텝·앤드·리피트 방식의 투영 노광 장치 (스테퍼), 또는 투영 광학계를 사용하지 않고, 마스크와 기판을 근접시켜 노광을 실시하는 프록시미티 노광 장치 등을 사용하는 경우에도 본 발명을 적용할 수 있다.In addition, as the exposure apparatus EX of the above-described embodiment, a scanning type exposure apparatus is used that synchronously moves a mask and a plate (substrate) to expose a pattern of the mask to the plate in a step-and-scan method. In addition to the exposure apparatus (EX), a step-and-repeat projection exposure apparatus (stepper), or a proximity exposure apparatus that exposes a mask and a substrate in close proximity without using a projection optical system is used. The present invention can also be applied in the case.

또, 노광 장치 (EX) 의 종류로는, 액정 표시 디바이스 제조용의 노광 장치에 한정되지 않고, 반도체 웨이퍼에 반도체 디바이스용의 패턴을 노광하는 반도체 디바이스 제조용의 노광 장치나, 박막 자기 헤드, 촬상 소자 (CCD) 혹은 레티클 등을 제조하기 위한 노광 장치 등을 사용하는 경우에도 본 발명을 적용할 수 있다.In addition, the type of the exposure apparatus EX is not limited to an exposure apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, and an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor device, a thin film magnetic head, and an imaging element ( CCD) or an exposure apparatus for manufacturing a reticle or the like is also applicable to the present invention.

또, 상기의 각 실시형태의 노광 장치 (EX) 또는 노광 방법을 이용하여, 기판 상에 소정의 패턴 (TFT 패턴 등) 을 형성함으로써, 전자 디바이스 (마이크로 디바이스) 로서의 액정 디스플레이용의 패널 (액정 표시 패널) 을 얻을 수도 있다. 이하, 도 19 의 플로우 차트를 참조하여, 이 제조 방법의 일례에 대해 설명한다.In addition, by forming a predetermined pattern (TFT pattern, etc.) on the substrate using the exposure apparatus (EX) or the exposure method of each of the above embodiments, a panel for a liquid crystal display (liquid crystal display) as an electronic device (micro device) Panel). Hereinafter, an example of this manufacturing method will be described with reference to the flowchart in FIG. 19.

도 19 의 스텝 S401 (패턴 형성 공정) 에서는, 먼저, 노광 대상의 기판 상에 포토레지스트를 도포하여 감광 기판 (플레이트 (P)) 을 준비하는 도포 공정, 상기의 노광 장치를 사용하여 패널용의 마스크 (예를 들어, 마스크 (M) 를 포함한다) 의 패턴을 그 감광 기판 상의 복수의 패턴 형성 영역에 노광하는 노광 공정, 및 그 감광 기판을 현상하는 현상 공정이 실행된다. 이 도포 공정, 노광 공정, 및 현상 공정을 포함하는 리소그래피 공정에 의해, 그 기판 상에 소정의 레지스트 패턴이 형성된다. 이 리소그래피 공정에 이어서, 그 레지스트 패턴을 마스크로 한 에칭 공정, 및 레지스트 박리 공정 등을 거쳐, 그 기판 상에 소정 패턴이 형성된다. 그 리소그래피 공정 등은, 그 기판 상의 레이어 수에 따라 복수 회 실행된다.In step S401 (pattern formation step) in Fig. 19, first, a coating step of preparing a photosensitive substrate (plate P) by coating a photoresist on a substrate to be exposed, and a mask for a panel using the above exposure apparatus An exposure step of exposing a pattern (including, for example, the mask M) to a plurality of pattern formation regions on the photosensitive substrate, and a developing step of developing the photosensitive substrate are performed. A predetermined resist pattern is formed on the substrate by a lithography process including this coating process, an exposure process, and a developing process. Following this lithography process, a predetermined pattern is formed on the substrate through an etching process using the resist pattern as a mask, a resist stripping process, and the like. The lithography process or the like is performed a plurality of times depending on the number of layers on the substrate.

그 다음의 스텝 S402 (컬러 필터 형성 공정) 에서는, 적 R, 녹 G, 청 B 에 대응한 3 개의 미세한 필터 세트를 매트릭스상으로 다수 배열하거나, 또는 적 R, 녹 G, 청 B 의 3 개의 스트라이프상의 복수의 필터의 세트를 수평 주사선 방향으로 배열함으로써 컬러 필터를 형성한다. 그 다음의 스텝 S403 (셀 조립 공정) 에서는, 예를 들어 스텝 S401 에서 얻어진 소정 패턴을 갖는 기판과 스텝 S402 에서 얻어진 컬러 필터의 사이에 액정을 주입하여, 액정 셀을 제조한다.In the next step S402 (color filter formation step), three fine filter sets corresponding to red R, green G, and blue B are arranged in a matrix form, or three stripes of red R, green G, and blue B are arranged. A color filter is formed by arranging a plurality of sets of filters on the image in the horizontal scanning line direction. In the next step S403 (cell assembly step), for example, a liquid crystal is injected between the substrate having the predetermined pattern obtained in step S401 and the color filter obtained in step S402 to produce a liquid crystal cell.

그 후의 스텝 S404 (모듈 조립 공정) 에서는, 그와 같이 하여 조립된 액정 셀에 표시 동작을 실시시키기 위한 전기 회로, 및 백라이트 등의 부품을 부착하여, 액정 표시 패널로서 완성시킨다. In a subsequent step S404 (module assembly step), an electric circuit for performing a display operation and components such as a backlight are attached to the thus assembled liquid crystal cell to complete it as a liquid crystal display panel.

상기 서술한 전자 디바이스의 제조 방법에 따르면, 상기 실시형태의 노광 장치 또는 노광 방법을 이용하여 마스크의 패턴을 기판에 전사하는 공정 (스텝 S401 의 일부) 과, 이 공정에 의해 그 패턴이 전사된 기판을 그 패턴에 기초하여 가공 (현상, 에칭 등) 하는 공정 (스텝 S401 외의 부분) 을 포함하고 있다.According to the method for manufacturing an electronic device described above, a process of transferring a pattern of a mask onto a substrate using the exposure apparatus or exposure method of the above embodiment (part of step S401), and a substrate to which the pattern is transferred by this process. And processing (development, etching, etc.) based on the pattern (parts other than step S401).

이 제조 방법에 따르면, 노광 공정의 스루풋을 높일 수 있기 때문에, 액정 표시 패널 등의 전자 디바이스를 효율적으로 제조할 수 있다According to this manufacturing method, since the throughput of the exposure process can be increased, electronic devices such as a liquid crystal display panel can be efficiently manufactured.

또한, 상기 서술한 전자 디바이스의 제조 방법은, 유기 EL (Electro-Luminescence) 디스플레이, 또는 플라즈마 디스플레이 등의 다른 디스플레이용의 패널 등을 제조하는 경우에도 적용할 수 있다.In addition, the above-described method of manufacturing an electronic device can also be applied to the case of manufacturing an organic EL (Electro-Luminescence) display or a panel for other displays such as a plasma display.

또한, 본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 구성을 취할 수 있는 것은 물론이다.In addition, it goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various configurations can be taken without departing from the gist of the present invention.

EX : 노광 장치
M : 마스크
P : 플레이트
MST : 마스크 스테이지
CH : 노광 챔버
V : 반송차
H1 : 반송 장치
H2 : 마스크 로더계
LB : 마스크 라이브러리
30 : 마스크 케이스
31A : 하부 케이스부 (제 1 케이스부)
31B : 상부 케이스부 (제 2 케이스부)
32 : 베이스 부재
32a1 : 창부
36A ∼ 36C : 위치 결정부
37A, 37B : 반사부
41A, 41B : 플랜지 (날밑) 부
43 : 프레임 기구
46A, 46B : 레일
47A1, 47A2, 47B1, 47B2 : 지지부
49 : 반사 부재
52 : 검출 장치
65 : 수용부
66 : 일시 수용부EX: exposure device
M: mask
P: plate
MST: Mask stage
CH: exposure chamber
V: transport vehicle
H1: conveying device
H2: Mask loader system
LB: Mask Library
30: mask case
31A: lower case part (first case part)
31B: upper case part (second case part)
32: base member
32a1: prostitute
36A ∼ 36C: Positioning unit
37A, 37B: reflector
41A, 41B: Flange (bottom of the blade)
43: frame mechanism
46A, 46B: Rail
47A1, 47A2, 47B1, 47B2: support
49: reflective member
52: detection device
65: receiving part
66: temporary accommodation

Claims (54)

마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 상기 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서,
상기 제 2 케이스부는, 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 상기 보관 장치에 유지될 때에 사용되는 유지부를 갖고,
상기 유지부는,
상기 제 1 케이스부에 장착된 상기 제 2 케이스부가 상기 보관 장치에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광이 통과하는 제 1 광 통과부와,
상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 상기 제 2 케이스부의 상기 유지부가 상기 보관 장치에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 상기 광이 통과하는, 상기 제 1 광 통과부와는 상이한 제 2 광 통과부
를 구비하는, 마스크 케이스.A first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is formed, and a second case portion having an upper surface that is formed to be detachable from the first case portion and disposed opposite to the bottom surface, and can be stored in a storage device As a mask case,
The second case portion has a holding portion used when being removed from the first case portion and held in the storage device,
The holding part,
A first light passing part through which light passes when the second case part mounted on the first case part is in a first position stored in the storage device,
A second light passage portion different from the first light passage portion through which the light passes when the holding portion of the second case portion detached from the first case portion is in a second position held in the storage device
With a mask case. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부와 상기 제 2 광 통과부는, 상기 제 2 케이스부의 상기 보관 장치에 대한 상대 위치 관계를 검출하기 위해서 사용되는, 마스크 케이스.The method of claim 1,
The first light-passing portion and the second light-passing portion are used to detect a relative positional relationship of the second case portion to the storage device. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부와 상기 제 2 광 통과부는, 상기 마스크 케이스가 상기 보관 장치에 반입되는 제 1 방향의 서로 상이한 위치에 형성되는, 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
The first light passing portion and the second light passing portion are formed at different positions in a first direction in which the mask case is carried into the storage device. 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 광 통과부는,
상기 제 1 케이스부에 장착된 상기 제 2 케이스부가 상기 보관 장치에 보관되어 있을 때의 위치로부터 상기 제 1 방향으로 어긋난 위치에서, 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 상기 제 2 케이스부의 상기 유지부를 개재하여 상기 보관 장치에 유지되고 있을 때의, 상기 제 2 케이스부의 상기 보관 장치에 대한 상대 위치 관계를 검출하기 위해서 사용되는, 마스크 케이스.The method of claim 3,
The second light passing part,
The holding portion of the second case portion removed from the first case portion at a position shifted in the first direction from a position when the second case portion mounted on the first case portion is stored in the storage device A mask case, which is used to detect a relative positional relationship of the second case portion to the storage device when held in the storage device through the interposition. 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부는, 상기 제 2 광 통과부에 대하여,
상기 제 2 케이스부를 장착한 상기 제 1 케이스부가, 상기 보관 장치에 지지되고 있을 때의 상기 제 2 케이스부의 위치와, 상기 제 2 케이스부가 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어져, 상기 유지부를 개재하여 상기 보관 장치에 지지되고 있을 때의 상기 제 2 케이스부의 위치의 상기 제 1 방향에 있어서의 어긋남량만큼 상기 제 1 방향으로 어긋나 배치되는, 마스크 케이스.The method of claim 3,
The first light passage portion, with respect to the second light passage portion,
The position of the second case portion when the first case portion to which the second case portion is mounted is supported by the storage device, and the second case portion is removed from the first case portion, and the holding portion is interposed therebetween. A mask case arranged to be shifted in the first direction by an amount of shift in the first direction of the position of the second case portion when supported by the storage device. 제 3 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 제 2 케이스부의 상면에 있어서, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향의 양측의 측면에서 외부로 돌출하여 형성되는, 마스크 케이스.The method of claim 3,
The holding portion is formed on the upper surface of the second case portion, protruding outward from side surfaces of both sides in a second direction crossing the first direction. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 지지부로 지지된 상기 마스크의 패턴면에 평행한 방향으로 돌출하여 형성되는, 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
The holding portion is formed to protrude in a direction parallel to the pattern surface of the mask supported by the support portion, the mask case. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부에 있어서 광이 통과하는 영역의 면적은, 상기 제 2 광 통과부에 있어서 상기 광이 통과하는 영역의 면적보다 작은, 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
An area of a region through which light passes in the first light passage part is smaller than an area of a region through which the light passes in the second light passage part. 제 3 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 제 2 케이스부의 상면에 있어서, 상기 제 1 방향을 따라 상기 제 1 광 통과부 및 상기 제 2 광 통과부로부터 떨어진 위치에, 절결부를 갖는, 마스크 케이스.The method of claim 3,
The holding portion has a cutout portion on an upper surface of the second case portion, at a position away from the first light passage portion and the second light passage portion along the first direction. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 제 2 케이스부의 상기 상면에 있어서의 일방의 측면 및 타방의 측면에서 외부로 돌출한 적어도 2 개의 부분 돌출부로 구성되고,
상기 부분 돌출부 중 하나에, 상기 제 1 광 통과부와 상기 제 2 광 통과부가 형성되는, 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
The holding part is composed of at least two partial protrusions protruding outward from one side surface of the upper surface of the second case part and the other side surface,
A mask case, wherein the first light passage portion and the second light passage portion are formed in one of the partial protrusions. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부 및 제 2 광 통과부는, 서로 60 ㎜ 떨어진 위치에 형성되는, 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
The first light passing portion and the second light passing portion are formed at positions 60 mm apart from each other. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부로부터 570 ㎜ 떨어진 위치에, 상기 제 2 케이스부를 상기 보관 장치에 끼워맞추기 위한 개구부를 구비하는, 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
A mask case comprising an opening for fitting the second case portion to the storage device at a position 570 mm away from the first light passage portion. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 케이스부의 저면에 형성되고, 서로 상이한 형상을 갖는 적어도 3 개의 홈부를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 케이스.The method according to claim 1 or 2,
A mask case formed on a bottom surface of the first case portion and having at least three grooves having different shapes from each other. 제 13 항에 있어서,
상기 홈부의 적어도 3 개의 홈부는, 원추면상의 홈부와 평탄면을 갖는 홈부를 포함하는, 마스크 케이스.The method of claim 13,
The at least three groove portions of the groove portion include a conical groove portion and a groove portion having a flat surface. 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스의 상기 유지부를 개재하여 상기 마스크 케이스를 지지 가능한 지지부와,
상기 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와,
상기 지지부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는 검출부
를 구비하는, 보관 장치.In the storage device for storing the mask case,
A support portion capable of supporting the mask case through the holding portion of the mask case according to claim 1 or 2;
An irradiation part for irradiating a light beam toward the support part,
A detection unit that detects the light beam irradiated toward the support unit
Having a, storage device. 제 15 항에 있어서,
상기 조사부는, 상기 유지부에 형성된 상기 광 통과부를 향하여 상기 광빔을 조사하고,
상기 검출부는, 상기 광 통과부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는, 보관 장치.The method of claim 15,
The irradiation part irradiates the light beam toward the light passage part formed in the holding part,
The storage device, wherein the detection unit detects the light beam irradiated toward the light passage unit. 제 15 항에 있어서,
상기 유지부의 상기 광 통과부를 통과한 상기 광빔을 상기 광 통과부를 향하여 반사하는 광빔 반사부를 추가로 구비하고,
상기 검출부는, 상기 광빔 반사부로 반사되어 상기 광 통과부를 통과한 상기 광빔을 검출하는 것을 특징으로 하는 보관 장치.The method of claim 15,
Further comprising a light beam reflector for reflecting the light beam passing through the light passage portion of the holding portion toward the light passage portion,
And the detection unit detects the light beam reflected by the light beam reflecting unit and passing through the light passing unit. 제 15 항에 있어서,
상기 유지부의 적어도 일부에 걸어맞추는 걸어맞춤부를 추가로 구비하고,
상기 유지부의 적어도 일부가 상기 걸어맞춤부에 걸어맞춰진 상태에서, 상기 조사부가 상기 지지부에 의해 지지된 상기 유지부의 상기 광 통과부에 광을 조사하여, 상기 광 통과부를 통과한 광을 상기 검출부로 검출하는, 보관 장치.The method of claim 15,
Further provided with an engaging portion that engages at least a portion of the holding portion,
In a state in which at least a part of the holding portion is engaged with the engaging portion, the irradiation portion irradiates light to the light passage portion of the holding portion supported by the support portion, and the light passing through the light passage portion is detected by the detection portion. That, the storage device. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서,
제 15 항에 기재된 보관 장치에 상기 마스크 케이스를 반송하는 반송 아암을 구비하고,
상기 반송 아암은, 상기 마스크 케이스를 유지하고 나서 상기 마스크 케이스가 상기 보관 장치의 상기 지지부에 지지될 때까지의 동안에 상기 검출부로 검출된 상기 광빔의 검출 결과에 기초하여, 상기 마스크 케이스가 상기 지지부로 지지되는 위치를 제어하는, 반송 장치.As a conveying device that conveys a mask case,
A transport arm for transporting the mask case is provided in the storage device according to claim 15,
The carrying arm is based on the detection result of the light beam detected by the detection unit during the period from holding the mask case until the mask case is supported by the support unit of the storage device, the mask case is transferred to the support unit. A conveying device that controls the supported position. 제 19 항에 있어서,
상기 보관 장치는, 상기 마스크 케이스의 수수를 실시하는 일시 수용부를 추가로 구비하고,
상기 반송 아암은, 상기 검출부로 검출된 상기 검출 결과가 원하는 검출 결과와 상이한 경우에, 상기 마스크 케이스를 상기 일시 수용부에 반환하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.The method of claim 19,
The storage device further includes a temporary storage unit for transferring and receiving the mask case,
And the transfer arm returns the mask case to the temporary storage unit when the detection result detected by the detection unit is different from a desired detection result. 제 13 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하고,
상기 케이스 지지부는, 상기 마스크 케이스의 상기 저면의 적어도 3 개의 홈부에 걸어맞춤 가능한 적어도 3 개의 볼록부를 갖는, 반송 장치.A case support portion for supporting the mask case according to claim 13 is provided,
The case support portion has at least three convex portions that can be engaged with at least three groove portions of the bottom surface of the mask case. 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부와,
상기 마스크 케이스를 향해 상기 광을 조사하는 조사부와,
조사된 상기 광을 검출하는 검출부를 구비하는, 보관 장치.In the storage device for storing the mask case,
A case support portion for supporting the mask case according to claim 1 or 2, and
An irradiation unit that irradiates the light toward the mask case,
A storage device comprising a detection unit that detects the irradiated light. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하는, 반송 장치.In the conveying device that conveys the mask case,
A conveyance device comprising a case support portion that supports the mask case according to claim 1 or 2. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스로부터 제 2 케이스부를 꺼내어, 상기 마스크가 재치 (載置) 된 상기 제 1 케이스부를 반송하는 반송 아암을 구비하는, 반송 장치.As a conveying device that conveys a mask case,
A conveying device comprising a conveying arm that takes out a second case portion from the mask case according to claim 1 or 2 and conveys the first case portion on which the mask is placed. 마스크를 반송하는 마스크 반송 장치로서,
제 24 항에 기재된 반송 장치에 의해 반송되고, 또한, 상기 마스크가 재치된 제 1 케이스부로부터 상기 마스크를 수취하여, 상기 마스크를 반송하는 마스크 반송부를 구비하는, 마스크 반송 장치.As a mask conveying device that conveys a mask,
A mask conveying device comprising a mask conveying unit that is conveyed by the conveying device according to claim 24 and receives the mask from a first case portion on which the mask is placed, and conveys the mask. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스에 수납된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.In an exposure apparatus for exposing a substrate,
An exposure apparatus for exposing the substrate using the mask housed in the mask case according to claim 1 or 2. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 15 항에 기재된 보관 장치를 구비하고,
상기 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스에 수납된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.In an exposure apparatus for exposing a substrate,
Comprising the storage device according to claim 15,
An exposure apparatus for exposing the substrate using a mask housed in a mask case that can be stored in the storage apparatus. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 19 항에 기재된 반송 장치를 구비하고,
상기 반송 장치에 의해 반송된 마스크 케이스의 내부에 수납된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.In an exposure apparatus for exposing a substrate,
It is equipped with the conveyance device of Claim 19,
An exposure apparatus for exposing the substrate using a mask housed in the mask case conveyed by the transfer apparatus. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 25 항에 기재된 마스크 반송 장치를 구비하고,
상기 마스크 반송 장치에 의해 반송된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.In an exposure apparatus for exposing a substrate,
Equipped with the mask conveying device according to claim 25,
An exposure apparatus for exposing the substrate using the mask transferred by the mask transfer apparatus. 제 26 항에 기재된 노광 장치를 사용하여 감광성 기판을 노광하는 것과,
상기 노광된 감광성 기판을 처리하는 것을 포함하는, 디바이스 제조 방법.Exposing the photosensitive substrate using the exposure apparatus according to claim 26,
And processing the exposed photosensitive substrate. 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스의 상기 유지부를 개재하여 상기 마스크 케이스를 지지하는 것과,
상기 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 것과,
상기 지지부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는 것을 포함하는, 보관 방법.In the storage method for storing the mask case,
Supporting the mask case through the holding portion of the mask case according to claim 1 or 2,
Irradiating a light beam toward the support,
A storage method comprising detecting the light beam irradiated toward the support. 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스의 상기 제 1 케이스부를 지지하는 것과,
상기 제 1 케이스부로부터 분리된 제 2 케이스부를, 상기 제 2 케이스부의 상기 유지부를 개재하여 지지하는 것과,
상기 제 2 케이스부의 상기 유지부에 광빔을 조사하고, 상기 유지부에 조사된 상기 광빔을 검출하는 것과,
상기 광빔의 검출 결과에 따라 상기 제 2 케이스부의 위치를 조정하는 것을 포함하는, 보관 방법.In the storage method for storing the mask case,
Supporting the first case portion of the mask case according to claim 1 or 2,
Supporting a second case part separated from the first case part through the holding part of the second case part,
Irradiating a light beam to the holding portion of the second case portion, and detecting the light beam irradiated to the holding portion;
And adjusting the position of the second case part according to the detection result of the light beam. 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스의 유지부에 형성된 개구부를 핀부로 걸어맞춤시켜, 상기 마스크 케이스를 지지하는, 보관 방법.In the storage method for storing the mask case,
A storage method in which the opening formed in the holding portion of the mask case according to claim 1 or 2 is engaged with a pin portion to support the mask case. 마스크 케이스를 반송하는 반송 방법에 있어서,
마스크가 수납된 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 것과,
상기 마스크 케이스의 제 1 케이스부에 광을 조사하고, 상기 제 1 케이스부에 조사된 상기 광을 검출하는 것과,
상기 제 1 케이스부에 형성되는 광 통과부를 통해서 상기 제 1 케이스부에 재치된 상기 마스크에 상기 광을 조사하고, 상기 마스크로부터의 반사광을 상기 광 통과부를 통해서 검출하는 것을 포함하는, 반송 방법.In the conveyance method of conveying the mask case,
Supporting the mask case according to claim 1 or 2 in which the mask is housed,
Irradiating light to the first case portion of the mask case and detecting the light irradiated to the first case portion;
And irradiating the light to the mask placed on the first case portion through a light passage portion formed in the first case portion, and detecting reflected light from the mask through the light passage portion. 마스크를 반송하는 마스크 반송 방법으로서,
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 마스크 케이스에 수납된 마스크를 반송하는, 마스크 반송 방법.As a mask conveying method for conveying a mask,
A mask conveying method for conveying the mask housed in the mask case according to claim 1 or 2. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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