KR20170106463A - Mask case, storage device and storage method, transfer device and transfer method, and exposure device - Google Patents

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Abstract

마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서, 제 2 케이스부는, 보관 장치에 유지될 때에 사용되는 유지부를 갖고, 유지부는, 제 1 케이스부에 장착된 제 2 케이스부가 보관 장치에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광이 통과하는 제 1 광 통과부와, 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 제 2 케이스부의 유지부가 보관 장치에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 광이 통과하는, 제 1 광 통과부와는 상이한 제 2 광 통과부를 구비한다. 마스크를 효율적으로 반송할 수 있다.A first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting the mask is formed and a second case portion formed on the first case portion so as to be detachable from the first case portion and having an upper surface opposed to the bottom surface, In the case, the second case portion has a holding portion used when being held in the storage device, and the holding portion is configured such that when the second case portion mounted on the first case portion is in the first position to be stored in the storage device, The first light passing portion and the second light passing portion which is different from the first light passing portion through which the light passes when the holding portion of the second case portion detached from the first case portion is in the second position held by the storage device . The mask can be efficiently transported.

Description

마스크 케이스, 보관 장치 및 방법, 반송 장치 및 방법, 그리고 노광 장치{MASK CASE, STORAGE DEVICE AND STORAGE METHOD, TRANSFER DEVICE AND TRANSFER METHOD, AND EXPOSURE DEVICE}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a mask case, a storage device and method, a transfer device and method, and an exposure device.

본 발명은, 마스크가 수납되는 마스크 케이스, 마스크를 보관하는 보관 기술, 마스크 케이스에 수납되는 마스크를 반송하는 반송 기술, 보관 기술 또는 반송 기술을 이용하는 노광 기술, 및 노광 기술을 이용하는 디바이스 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a mask case in which a mask is housed, a storage technique for storing the mask, a transport technique for transporting the mask stored in the mask case, an exposure technique using a storage technique or a transport technique, and a device manufacturing method using the exposure technique will be.

예를 들어 액정 표시 소자 등의 전자 디바이스 (마이크로 디바이스) 를 제조하기 위해서 사용되는 노광 장치는, 복수의 마스크를 각각 마스크 케이스에 수납된 상태로 보관 가능한 마스크 라이브러리와, 마스크 반송 장치를 구비하고 있다. 마스크 반송 장치는, 사용이 끝난 마스크가 수납된 마스크 케이스를 마스크 라이브러리로부터 반출하고, 다음 노광 공정에서 사용되는 마스크가 수납된 마스크 케이스를 마스크 라이브러리에 반입한다. 그리고, 노광시에는, 다음에 사용하는 마스크가 수납된 마스크 케이스를 마스크 라이브러리로부터 마스크 반송 장치에 의해 꺼내고, 이 마스크 케이스로부터 마스크 로더계 (마스크 캐리어) 로 마스크를 수수 (授受) 하고, 마스크 로더계가 그 마스크를 노광 장치의 마스크 스테이지에 로드하고 있었다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).For example, an exposure apparatus used for manufacturing an electronic device (micro device) such as a liquid crystal display device includes a mask library capable of storing a plurality of masks in a state of being housed in a mask case, respectively, and a mask transfer device. The mask carrying device takes out the mask case containing the used mask from the mask library, and brings the mask case containing the mask used in the next exposure step into the mask library. At the time of exposure, the mask case containing the mask to be used next is taken out from the mask library by the mask carrying apparatus, and the mask is transferred from the mask case to the mask loader system (mask carrier) And the mask is loaded on the mask stage of the exposure apparatus (see, for example, Patent Document 1).

일본 공개특허공보 2005-26286호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-26286

노광 장치에 있어서의 상기 서술한 바와 같은 마스크 반송 장치, 마스크 로더계 및 마스크 라이브러리를 포함하는 마스크 반송 시스템에서는, 마스크 스테이지에 대하여 마스크를 확실하게 반송하기 위해서 마스크의 반송 불량을 방지하는 것이 요구되고 있다. 여기서, 마스크의 반송 불량이란, 예를 들어, 마스크의 오반송, 반송 시스템의 정체·정지, 마스크·마스크 케이스·마스크 반송 시스템 등의 파손 등이 포함된다.In the mask transport system including the mask transport apparatus, the mask loader system and the mask library as described above in the exposure apparatus, it is required to prevent defective transport of the mask in order to reliably transport the mask to the mask stage . Here, the conveyance failure of the mask includes, for example, erroneous conveyance of the mask, stagnation / stop of the conveyance system, breakage of the mask, mask case, mask conveyance system, and the like.

제 1 양태에 의하면, 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 그 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서, 그 제 2 케이스부는, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 그 보관 장치에 유지될 때에 사용되는 유지부를 갖고, 그 유지부는, 그 제 1 케이스부에 장착된 그 제 2 케이스부가 그 보관 장치에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광이 통과하는 제 1 광 통과부와, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 그 제 2 케이스부의 그 유지부가 그 보관 장치에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 그 광이 통과하는, 그 제 1 광 통과부와는 상이한 제 2 광 통과부를 구비하는 마스크 케이스가 제공된다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a mask including a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting a mask is formed, and a second case portion formed to be detachable from the first case portion and having an upper surface opposed to the bottom surface, The second case portion has a holding portion that is detached from the first case portion and used when the holding portion is held by the holding device. The holding portion is a mask case that is attached to the first case portion A first light passing portion through which light passes and a holding portion of the second case portion detached from the first case portion when the second case portion is in the first position where the second case portion is stored in the storage device, And a second light passing portion that is different from the first light passing portion through which the light passes when the first light passing portion is in the second position where the first light passing portion is held.

제 2 양태에 의하면, 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 그 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서, 그 제 2 케이스부는, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 유지될 때에 사용되는 유지부를 구비하고, 그 유지부는, 그 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 그 제 2 케이스부가 그 보관 장치로 지지될 때에, 그 보관 장치에 형성된 핀부에 끼워맞추기 위한 개구부를 갖는 마스크 케이스가 제공된다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a mask including a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting a mask is formed, and a second case portion formed to be detachable from the first case portion and having an upper surface, The second case portion has a holding portion that is used when the second case portion is detached from and held by the first case portion. The holding portion is a mask case that is detachable from the first case portion, When the two case portions are supported by the storage device, a mask case having an opening for fitting into the fin portion formed in the storage device is provided.

제 3 양태에 의하면, 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 그 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부로 구성되는 마스크 케이스로서, 그 제 1 케이스부는, 그 저면에 있어서 그 지지부에 대향하는 위치에, 외부로부터의 광을 통과시키는 광 통과부를 구비하는 마스크 케이스가 제공된다.According to a third aspect of the present invention, there is provided a mask including a first case portion having a bottom surface on which a support portion for supporting a mask is formed, and a second case portion formed to be detachable from the first case portion and having an upper surface opposed to the bottom surface thereof As a mask case, the first case portion is provided with a mask case having a light passing portion for passing light from the outside at a position opposed to the support portion in the bottom face thereof.

제 4 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크가 수납되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 하부 케이스부와, 그 하부 케이스부에 지지된 그 마스크를 덮도록, 그 하부 케이스부에 재치 (載置) 되는 상부 케이스부를 구비하고, 그 상부 케이스부는, 마스크 케이스용의 지지부로 그 상부 케이스부를 지지하기 위한 플랜지부를 갖고, 그 플랜지부에, 그 상부 케이스부의 위치를 검출하기 위한 광빔이 통과 가능한 개구가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a mask case for accommodating a mask having a pattern formed thereon, the mask case having a lower case portion for supporting the mask and a lower case portion for covering the mask, And the upper case portion has a flange portion for supporting the upper case portion as a support portion for the mask case and an opening through which a light beam for detecting the position of the upper case portion is formed is formed in the flange portion A mask case is provided.

제 5 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크가 수납되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 하부 케이스부와, 그 하부 케이스부에 지지된 그 마스크를 덮도록, 그 하부 케이스부에 재치되는 상부 케이스부를 구비하고, 그 하부 케이스부의 저면에, 외부로부터의 광을 반사하는 제 1 반사부, 및 외부로부터의 광을 통과시키는 창부 (窓部) 가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a mask case for accommodating a mask having a pattern formed thereon, the mask case comprising: a lower case portion for supporting the mask; an upper case portion mounted on the lower case portion so as to cover the mask supported by the lower case portion; A first reflector for reflecting light from the outside and a window portion for allowing light from the outside to pass therethrough are provided on the bottom surface of the lower case portion.

제 6 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크가 수납되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 하부 케이스부와, 그 하부 케이스부에 지지된 그 마스크를 덮도록, 그 하부 케이스부에 재치되는 상부 케이스부를 구비하고, 그 하부 케이스부의 그 마스크 케이스의 반송부에 대향하는 저면에, 회전 대칭인 제 1 오목부, V 자형의 홈 형상의 제 2 오목부, 및 적어도 1 개 지점의 평탄부가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a mask case for accommodating a mask having a pattern formed thereon, the mask case comprising: a lower case portion for supporting the mask; and an upper case portion mounted on the lower case portion so as to cover the mask supported by the lower case portion And a mask case having a rotationally symmetrical first concave portion, a V-shaped concave second concave portion and at least one flat portion formed on a bottom surface of the lower case portion opposite to the carrying portion of the mask case / RTI >

제 7 양태에 의하면, 패턴이 형성된 마스크를 수납하고, 그 마스크를 반송하기 위한 반송 장치에 수용되는 마스크 케이스로서, 그 마스크를 지지하는 지지부를 포함하는 제 1 케이스부와, 그 제 1 케이스부 상에 재치되고, 그 마스크를 수납하기 위한 공간을 그 제 1 케이스부와 함께 형성하는 제 2 케이스부를 구비하고, 그 제 2 케이스부는, 그 지지부에 지지된 그 마스크의 상면에 대향하는 천판부 및 그 천판부에 대하여 외측으로 돌출된 플랜지부를 포함하고, 그 플랜지부는, 그 반송 장치의 수용부에 대한 그 제 2 케이스부의 수용 상태를 검지하기 위해서 그 플랜지부를 관통한 관통부가 형성된 마스크 케이스가 제공된다.According to a seventh aspect, there is provided a mask case accommodated in a transfer device for accommodating a mask having a pattern formed thereon and for carrying the mask, the first case portion including a support portion for supporting the mask, And a second case portion for forming a space for accommodating the mask together with the first case portion. The second case portion has a top plate portion opposed to the upper surface of the mask supported by the supporting portion, And a flange portion protruding outward with respect to the top plate portion. The flange portion has a mask case provided with a penetrating portion penetrating the flange portion for detecting the accommodating state of the second case portion with respect to the accommodating portion of the carrying device do.

제 8 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치에 있어서, 제 1 양태의 마스크 케이스의 그 유지부를 개재하여 그 마스크 케이스를 지지 가능한 지지부와, 그 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와, 그 지지부를 향하여 조사된 그 광빔을 검출하는 검출부를 구비하는 보관 장치가 제공된다.According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a storage device for storing a mask case, comprising: a support part capable of supporting the mask case through the holding part of the mask case of the first aspect; an irradiation part for irradiating a light beam toward the support part; And a detector for detecting the light beam irradiated toward the recording medium.

제 9 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서, 제 8 양태의 보관 장치에 그 마스크 케이스를 반송하는 반송 아암을 구비하고, 그 반송 아암은, 그 마스크 케이스를 유지하고 나서 그 마스크 케이스가 그 보관 장치의 그 지지부에 지지될 때까지의 동안에 그 검출부로 검출된 그 광빔의 검출 결과에 기초하여, 그 마스크 케이스가 그 지지부로 지지되는 위치를 제어하는 반송 장치가 제공된다.According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a transfer device for transferring a mask case, the transfer device comprising a transfer arm for transferring the mask case to the storage device of the eighth aspect, There is provided a transfer apparatus for controlling a position at which a mask case is supported by a support portion thereof based on a detection result of the light beam detected by the detection portion while the support portion is supported by the support portion of the storage device.

제 10 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치로서, 제 2 양태의 마스크 케이스의 유지부를 지지 가능한 케이스 지지부를 구비하고, 그 케이스 지지부에, 그 유지부에 형성된 그 개구부와 걸어맞춤 가능한 핀부를 갖는 보관 장치가 제공된다.According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a storage device for storing a mask case, comprising: a case support portion capable of supporting a holding portion of the mask case of the second aspect; and a pin portion engageable with the opening portion formed in the holding portion Is provided.

제 11 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서, 제 3 양태의 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부와, 그 마스크 케이스를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와, 그 마스크 케이스를 향하여 조사된 그 광빔을 검출하는 검출부를 구비하는 반송 장치가 제공된다.According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a transport apparatus for transporting a mask case, comprising: a case support portion for supporting the mask case of the third aspect; an irradiation portion for irradiating a light beam toward the mask case; And a detection unit for detecting the detection signal.

제 12 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치, 또는 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하는 보관 장치, 또는 반송 장치가 제공된다.According to the twelfth aspect, there is provided a storage apparatus or a transfer apparatus provided with a case supporting section for supporting the mask case of the above-described aspect in a storage apparatus for storing a mask case or a transfer apparatus for transferring a mask case.

제 13 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스로부터 제 2 케이스부를 꺼내어, 그 마스크가 재치된 그 제 1 케이스부를 반송하는 반송 아암을 구비하는 반송 장치가 제공된다.According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a transfer apparatus for transferring a mask case, the transfer apparatus comprising a transfer arm for taking out the second case part from the mask case of the above-described mode and transferring the first case part on which the mask is placed do.

제 14 양태에 의하면, 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스에 수납된 마스크를 사용하여, 그 기판을 노광하는 노광 장치가 제공된다.According to the fourteenth aspect, in the exposure apparatus for exposing a substrate, an exposure apparatus for exposing the substrate using a mask accommodated in the mask case of the above-described mode is provided.

제 15 양태에 의하면, 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서, 상기 서술한 양태의 보관 장치, 또는 상기 서술한 양태의 반송 장치를 구비하고, 그 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스, 또는 그 반송 장치에 의해 반송된 마스크 케이스의 내부에 수납된 마스크를 사용하여, 그 기판을 노광하는 노광 장치가 제공된다.According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus for exposing a substrate, comprising: a mask case, which is provided with the above-described storage apparatus of the above-described mode or a transfer apparatus of the above- There is provided an exposure apparatus for exposing a substrate using a mask accommodated in a conveyed mask case.

제 16 양태에 의하면, 상기 서술한 양태의 노광 장치를 사용하여 감광성 기판을 노광하는 것과, 그 노광된 감광성 기판을 처리하는 것을 포함하는 디바이스 제조 방법이 제공된다.According to a sixteenth aspect, there is provided a device manufacturing method including exposing a photosensitive substrate using an exposure apparatus of the above-described mode, and processing the exposed photosensitive substrate.

제 17 양태에 의하면, 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서, 상기 서술한 양태의 마스크 케이스의 그 유지부를 개재하여 그 마스크 케이스를 지지하는 것과, 그 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 것과, 그 지지부를 향하여 조사된 그 광빔을 검출하는 것을 포함하는 보관 방법이 제공된다.According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided a method of storing a mask case, comprising the steps of: holding the mask case through the holding portion of the mask case of the above-described mode; irradiating a light beam toward the holding portion; And detecting the light beam irradiated to the object.

제 18 양태에 의하면, 마스크 케이스를 반송하는 반송 방법에 있어서, 마스크가 수납된 상기 서술한 양태의 마스크 케이스를 지지하는 것과, 그 마스크 케이스의 제 1 케이스부에 광을 조사하고, 그 제 1 케이스부에 조사된 그 광을 검출하는 것과, 그 제 1 케이스부에 형성되는 광 통과부를 통해서 그 제 1 케이스부에 재치된 그 마스크에 그 광을 조사하고, 그 마스크로부터의 반사광을 그 광 통과부를 통해서 검출하는 것을 포함하는 반송 방법이 제공된다.According to an eighteenth aspect of the present invention, there is provided a carrying method of carrying a mask case, comprising: supporting a mask case of the above-described mode in which a mask is accommodated; irradiating light to the first case portion of the mask case; Irradiating the mask with the light that has been irradiated to the first case portion through the light passing portion formed in the first case portion and irradiating the light reflected from the mask with the light passing portion And a detecting step of detecting a position of the wafer on the wafer.

도 1 은, 실시형태의 일례에 관련된 노광 장치의 개략 구성을 나타내는 도면이다.
도 2(A) 는, 도 1 중의 마스크 케이스를 상면측에서 본 사시도, (B) 는, 그 마스크 케이스를 저면측에서 본 사시도이다.
도 3(A) 는, 도 1 중의 마스크 케이스를 나타내는 평면도, (B) 는, 그 마스크 케이스를 나타내는 저면도, (C) 는, 도 3(B) 의 CC 선을 따르는 부분 단면도이다.
도 4 는, 도 1 중의 마스크 케이스의 하부 케이스부에서 상부 케이스부를 떼어낸 상태를 나타내는 사시도이다.
도 5(A) 는, 마스크의 반송차를 나타내는 평면도, (B) 는, 반송차를 나타내는 측면도이다.
도 6(A) 는, 마스크의 반송 장치를 나타내는 일부를 생략한 평면도, (B) 는, 반송 장치를 나타내는 측면도이다.
도 7 은, 마스크 및 마스크 케이스의 검출 장치를 나타내는 확대 단면도이다.
도 8 은, 마스크 라이브러리를 나타내는 사시도이다.
도 9 는, 마스크 라이브러리를 나타내는 정면도이다.
도 10 은, 복수의 마스크 케이스가 반입된 마스크 라이브러리를 나타내는 사시도이다.
도 11(A) 는, 마스크의 반송 방법을 포함하는 노광 방법의 일례를 나타내는 플로우 차트, (B) 는, 반송 방법의 제 1 변형예를 나타내는 플로우 차트, (C) 는, 반송 방법의 제 2 변형예를 나타내는 플로우 차트이다.
도 12 는, 마스크 라이브러리 및 마스크 케이스를 나타내는 일부를 단면으로 나타낸 측면도이다.
도 13 은, 마스크 라이브러리 및 분리된 마스크 케이스를 나타내는 일부를 단면으로 나타낸 측면도이다.
도 14 는, 변형예의 마스크 케이스를 나타내는 평면도이다.
도 15(A), (B), (C), (D), (E) 는, 각각 변형예의 마스크 케이스를 마스크 라이브러리에 반입할 때의 동작 설명도이다.
도 16(A) 는, 마스크 케이스를 반입할 때의 검출 신호의 일례를 나타내는 도면, (B) 는, 마스크 케이스의 상부 케이스부를 떼어낼 때의 검출 신호의 일례를 나타내는 도면이다.
도 17(A), (B), (C), (D), (E) 는, 각각 변형예의 마스크 케이스의 상부 케이스부를 떼어낼 때의 동작 설명도이다.
도 18(A) 는, 다른 변형예의 마스크 케이스를 나타내는 평면도, (B) 는, 도 18(A) 중의 플랜지부를 나타내는 확대도, (C) 는, 플랜지부의 다른 예를 나타내는 확대도이다.
도 19 는, 전자 디바이스의 제조 방법의 일례를 나타내는 플로우 차트이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of an exposure apparatus according to an example of the embodiment; FIG.
Fig. 2 (A) is a perspective view of the mask case in Fig. 1 as seen from the upper surface side, and Fig. 2 (B) is a perspective view of the mask case as viewed from the bottom surface side.
Fig. 3 (A) is a plan view showing the mask case in Fig. 1, Fig. 3 (B) is a bottom view showing the mask case, and Fig. 3 (C) is a partial sectional view along the line CC in Fig.
Fig. 4 is a perspective view showing a state in which the upper case part is removed from the lower case part of the mask case in Fig. 1; Fig.
FIG. 5A is a plan view showing a conveyance path of a mask, and FIG. 5B is a side view showing a conveyance path.
6 (A) is a plan view in which a part of the mask transfer device is omitted, and Fig. 6 (B) is a side view showing the transfer device.
7 is an enlarged sectional view showing a mask and a mask case detecting device.
8 is a perspective view showing a mask library.
9 is a front view showing a mask library.
10 is a perspective view showing a mask library in which a plurality of mask cases are carried.
Fig. 11A is a flowchart showing an example of an exposure method including a mask transfer method, Fig. 11B is a flowchart showing a first modification of the transfer method, Fig. 11C is a flowchart showing a second modification of the transfer method, And is a flowchart showing a modified example.
12 is a side view showing, in cross section, a part showing a mask library and a mask case.
13 is a side view showing, in cross section, a part showing the mask library and the separated mask case.
14 is a plan view showing a mask case of a modified example.
Figs. 15A, 15B, 15C, 15D and 15E are explanatory views of the operation of bringing the mask case of the modified example into the mask library.
FIG. 16A is a diagram showing an example of a detection signal when the mask case is carried in, and FIG. 16B is a diagram showing an example of a detection signal when the upper case portion of the mask case is removed.
Figs. 17A, 17B, 17C, 17D and 17E are explanatory views of the operation of removing the upper case portion of the mask case of the modification example, respectively.
FIG. 18A is a plan view showing a mask case of another modified example, FIG. 18B is an enlarged view showing a flange portion in FIG. 18A, and FIG. 18C is an enlarged view showing another example of the flange portion.
19 is a flowchart showing an example of a method of manufacturing an electronic device.

본 발명의 실시형태의 일례에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태에 관련된 노광 장치 (EX) 의 개략 구성을 나타낸다. 일례로서, 노광 장치 (EX) (투영 노광 장치) 는, 주사 노광형이며, 액정 표시 소자 또는 유기 EL (Electro-Luminescence) 방식의 표시 소자 등을 제조하기 위한 레지스트 (감광제) 가 도포된 평판상의 플레이트 (P) (감광 기판) 에, 마스크 (M) 의 패턴 이미지를 노광한다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 수평면 내에서, 후술하는 마스크 라이브러리 (LB) 로부터 마스크 (M) 가 수납된 후술하는 마스크 케이스 (30) 를 반입 또는 반출하는 방향을 따라 Y 축을 취하고, 그 수평면 내에서 Y 축에 직교하는 방향을 따라 X 축을 취하고, X 축 및 Y 축에 수직인 방향 (즉, 연직 방향) 을 따라 Z 축을 취하고 있다.An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 1 shows a schematic structure of an exposure apparatus EX according to the present embodiment. As an example, the exposure apparatus EX (projection exposure apparatus) is a scanning exposure type, and is a flat plate on which a resist (photosensitive agent) for manufacturing a liquid crystal display element or an organic EL (Electro-Luminescence) P) (photosensitive substrate), the pattern image of the mask M is exposed. In the following description, the Y-axis is taken along the direction in which the mask case 30 to be described later in which the mask M is housed from the mask library LB described later is carried in or out, The X axis is taken along the direction orthogonal to the Y axis, and the Z axis is taken along the direction perpendicular to the X axis and the Y axis (i.e., the vertical direction).

노광 장치 (EX) 는, 사각형 평판상의 마스크 (M) 의 패턴을 플레이트 (P) 에 노광하는 노광부 (S) 를 구비하고 있다. 또한, 일례로서, 마스크 (M) 의 패턴면 (하면) 에는, 사각형 프레임 형상의 프레임 (도시하지 않음) 을 개재하여 방진용의 박막 (소위, 펠리클) 이 장설 (張設) 되어 있어도 된다. 노광부 (S) 는, 마스크 (M) 를 유지하여 이동하는 마스크 스테이지 (MST) 와, 노광 광으로 마스크 (M) 를 조명하는 조명계 (IL) 와, 마스크 (M) 의 패턴의 이미지를 플레이트 (P) 의 표면에 투영하는 투영 광학계 (PL) 와, 플레이트 (P) 를 유지하여 이동하는 플레이트 스테이지 (PST) 를 갖는다. 또한, 노광 장치 (EX) 는, 각각 마스크 (M) 가 수납된 복수의 마스크 케이스 (30) 를 보관 가능한 보관부로서의 마스크 라이브러리 (LB) 와, 마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반입 및 반출 등을 실시하는 반송 장치 (H1) 와, 마스크 케이스 (30) 로부터 꺼낸 마스크 (M) 를 노광부 (S) 의 마스크 스테이지 (MST) 에 반송하는 마스크 로더계 (H2) 와, 장치 전체의 동작을 제어하는 제어 장치 (CONT) 를 구비하고 있다. 또한, 노광부 (S), 마스크 라이브러리 (LB), 반송 장치 (H1), 및 마스크 로더계 (H2) 는, 소정 환경으로 설정된 노광 챔버 (CH) 내부에 수용되어 있다.The exposure apparatus EX has an exposure section S for exposing a pattern of a mask M on a rectangular flat plate to a plate P. [ As an example, a dustproof thin film (so-called pellicle) may be stretched over a pattern surface (lower surface) of the mask M via a rectangular frame-shaped frame (not shown). The exposure section S includes a mask stage MST for holding and moving a mask M, an illumination system IL for illuminating the mask M with exposure light, P, and a plate stage PST that moves while holding the plate P. The projection optical system PL is a projection optical system PL that projects the projection optical system P onto the surface of the projection optical system PL. The exposure apparatus EX also includes a mask library LB as a storage unit capable of storing a plurality of mask cases 30 in which the masks M are housed, A mask loader system H2 for transferring the mask M taken out from the mask case 30 to the mask stage MST of the exposure unit S, And a control device CONT for controlling the operation of the control device CONT. The exposure section S, the mask library LB, the transport apparatus H1 and the mask loader system H2 are accommodated in an exposure chamber CH set in a predetermined environment.

마스크 라이브러리 (LB) 는, 노광 챔버 (CH) 의 ＋Y 방향의 측면에 형성된 마스크 케이스 (30) 의 반출입구 (도시하지 않음) 의 근방에 형성되고, 마스크 케이스 (30) 를 수용하는 복수의 수용부 (65) 및 마스크 케이스 (30) 를 일시적으로 수용하는 일시 수용부 (66) 를 갖는다. 복수의 수용부 (65) 는 Z 방향으로 배열되고, 수용부 (65) 에 수용되는 각 마스크 케이스 (30) 에는 각각 1 매의 마스크 (M) 가 개별적으로 수납된다. 복수의 마스크 케이스 (30) 내의 마스크 (M) 에는, 통상적으로는 서로 상이한 마스크 패턴이 형성되어 있다.The mask library LB is formed in the vicinity of a semi-entry / exit port (not shown) of the mask case 30 formed on the side in the + Y direction of the exposure chamber CH and includes a plurality of receiving portions And a temporary storage portion 66 for temporarily accommodating the mask case 30 and the mask case 30. The plurality of accommodating portions 65 are arranged in the Z direction, and one mask M is accommodated in each mask case 30 accommodated in the accommodating portion 65, respectively. In the masks M in the plurality of mask cases 30, mask patterns different from each other are usually formed.

일례로서, 마스크 라이브러리 (LB) 내에 있는 마스크 (M) 와는 다른 많은 마스크 (M) 가, 각각 마스크 케이스 (30) 에 수납된 상태에서, 노광 챔버 (CH) 의 외부의 마스크 스토커 (도시하지 않음) 에 보관되어 있다. 그리고, 노광 장치 (EX) 에서 필요해진 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 가, 그 마스크 스토커로부터 반송차 (V) 에 의해 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 를 통해 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 에 반입된다. 일시 수용부 (66) 에 반입된 마스크 케이스 (30) 는, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 로 옮겨진다. 또한, 사용이 끝난 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 가, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 로부터 일시 수용부 (66) 로 옮겨진다. 그 마스크 케이스 (30) 는, 반송차 (V) 에 의해 일시 수용부 (66) 로부터 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 를 통해 마스크 스토커 (도시하지 않음) 로 되돌려진다.As an example, a large number of masks M different from the mask M in the mask library LB are respectively accommodated in a mask holder 30 (not shown) outside the exposure chamber CH, Lt; / RTI > The mask case 30 in which the mask M required in the exposure apparatus EX is accommodated is transported from the mask stocker to the transfer chamber V through a transfer port (not shown) of the exposure chamber CH And is carried into the temporary storage portion 66 of the mask library LB. The mask case 30 carried in the temporary storage portion 66 is transferred to the storage portion 65 by the transfer device H1. The mask case 30 in which the used mask M is accommodated is transferred from the accommodating portion 65 to the temporary accommodating portion 66 by the transfer device H1. The mask case 30 is returned from the temporary storage portion 66 to the mask stocker (not shown) through the entrance / exit port (not shown) of the exposure chamber CH by the transporting carriage V.

도 2(A) 는 도 1 중의 마스크 케이스 (30) 를 상면측에서 본 사시도, 도 2(B) 는 마스크 케이스를 저면측에서 본 사시도, 도 3(A) 는 마스크 케이스 (30) 를 나타내는 평면도 (상면도), 도 3(B) 는 마스크 케이스 (30) 를 나타내는 저면도이다. 또한, 도 2(A) ∼ 도 3(B) 에 있어서의 좌표계 (X, Y, Z) 는, 마스크 케이스 (30) 가 도 1 의 마스크 라이브러리 (LB) 의 수용부 (65) 에 수용되어 있는 상태에서의 좌표계를 나타내고 있다.Fig. 2 (A) is a perspective view of the mask case 30 in Fig. 1 viewed from the upper surface side, Fig. 2 (B) is a perspective view from the bottom side of the mask case, (Top view), and Fig. 3 (B) is a bottom view showing the mask case 30. Fig. The coordinate system (X, Y, Z) in Figs. 2A to 3B is different from the coordinate systems X, Y and Z in that the mask case 30 is accommodated in the accommodating portion 65 of the mask library LB in Fig. 1 State coordinate system.

마스크 케이스 (30) 는, 도 2(A) 및 (B) 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (제 1 케이스부) (31A) 와, 그 하부 케이스부 (31A) 에 재치된 마스크 (M) 를 덮도록 하부 케이스부 (31A) 위에 재치 (장착) 되는 상부 케이스부 (제 2 케이스부) (31B) 를 구비하고 있다. 즉, 마스크 케이스 (30) 는, 하부 케이스부 (31A) 와 상부 케이스부 (31B) 를 서로 조합하여 마스크 (M) 를 수납하기 위한 공간을 형성하고 있다. 하부 케이스부 (31A) 와 상부 케이스부 (31B) 는, 마스크 (M) 를 수납하기 위한 공간을 덮도록 (둘러싸도록) 조합되고, 이 공간에 수납된 마스크 (M) 를 보호한다. 하부 케이스부 (31A) 는, 도 2(B) 및 도 3(B) 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 보다 큰 사각형 평판상의 베이스 부재 (32), 및 베이스 부재 (32) 의 ―Y 방향의 상단부에 볼트 (도시하지 않음) 를 통해서 고정된 평판상의 측벽 부재 (33) 를 갖는다. 상부 케이스부 (31B) 는, 도 2(A) 및 도 3(A) 에 나타내는 바와 같이, 베이스 부재 (32) 와 거의 동일 크기의 사각형 평판부 (천판부) (39a) 의 ―X 방향, ＋X 방향 및 ＋Y 방향의 단부 (端部) 의 하측에 각각 평판상의 측벽부 (39b, 39c, 39d) 를 형성한 형상의 커버 부재 (39), 그리고 커버 부재 (39) 의 ―X 방향 및 ＋X 방향의 측면의 중앙부에, 각각 외측으로 돌출하도록 고정된 Y 방향으로 가늘고 긴 플랜지부 (41A, 41B) 를 갖는다. 일례로서, 마스크 케이스 (30) (케이스부 (31A, 31B)) 의 상면의 외형은, Y 방향의 길이가 X 방향의 폭보다 긴 거의 장방형상이다.2A and 2B, the mask case 30 has a lower case portion (first case portion) 31A on which the mask M is placed and a lower case portion And an upper case part (second case part) 31B which is mounted (mounted) on the lower case part 31A so as to cover the mounted mask M. That is, the mask case 30 forms a space for accommodating the mask M by combining the lower case portion 31A and the upper case portion 31B with each other. The lower case portion 31A and the upper case portion 31B are combined so as to cover (enclose) a space for accommodating the mask M, and protect the mask M accommodated in this space. The lower case portion 31A includes a base member 32 on a rectangular flat plate which is larger than the mask M as shown in Figs.2B and 3B, And a flat sidewall member 33 fixed to the upper end thereof through bolts (not shown). The upper case portion 31B has a rectangular plate portion (top plate portion) 39a of substantially the same size as the base member 32, as shown in Figs. 2A and 3A, in the -X direction, 39c and 39d are formed on the lower side of the end portion of the cover member 39 in the + X direction and the + Y direction, respectively, and a cover member 39 having a shape in which the side wall portions 39b, And a flange portion 41A, 41B which is elongated in the Y direction and is fixed so as to protrude outwardly, respectively, in the central portion of the side surface. As an example, the outer shape of the upper surface of the mask case 30 (case portions 31A and 31B) is a substantially rectangular shape in which the length in the Y direction is longer than the width in the X direction.

하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B) 를 구성하는 부재는, 일례로서 각각 알루미늄 또는 스테인리스 등의 금속으로부터 형성할 수 있지만, 금속에 한정되지 않고, 플라스틱이나 탄소 섬유를 사용한 복합 재료 등으로 형성해도 된다. 또, 하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B) 의 일부에 형성되는 개구 (상세 후술) 에 합성 수지 또는 석영 유리 등으로부터 형성되는 창부를 장착하도록 (매립하도록) 해도 된다.The members constituting the lower case portion 31A and the upper case portion 31B may be formed of metal such as aluminum or stainless steel as an example, but may be formed of a composite material made of plastic or carbon fiber . A window formed from synthetic resin or quartz glass may be mounted (embedded) in an opening (to be described later) formed in a part of the lower case part 31A and the upper case part 31B.

베이스 부재 (32) 는, 사각형 평판부 (32a) 의 X 방향의 양 측면에, 각각 평판부 (32a) 보다 약간 ―Y 방향으로 돌출함과 함께, 저면에 Y 방향을 따라 홈부 (32b1) 가 형성된 2 개의 가늘고 긴 평판부 (32b) 를 고정시킨 것이다. 평판부 (32b) 의 홈부 (32b1) 의 2 개 지점에 각각 볼트 (B4) 를 통해서 짧은 로드 형상의 다리부 (35) 가 고정되고, 평판부 (32a) 의 저면의 중앙의 2 개 지점에도 각각 볼트 (B4) 를 통해서 다리부 (35) 가 고정되어 있다. 또한, 평판부 (32a) 에 고정된 다리부 (35) 는 생략하는 것이 가능하다. 평판부 (32a) 의 ―Y 방향의 측면 (측벽 부재 (33) 의 저면) 의 2 개 지점에, 단면 형상이 L 자형인 연결부 (38A, 38B) 가 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 고정되고, 연결부 (38A, 38B) 의 ―Y 방향으로 돌출된 부분에 각각 원형의 개구 (38Aa, 38Ba) (상세 후술) 가 형성되어 있다.The base member 32 protrudes slightly in the -Y direction from the flat plate portion 32a on both sides in the X direction of the rectangular flat plate portion 32a and a groove portion 32b1 is formed along the Y direction on the bottom face Two elongated flat plate portions 32b are fixed. A short rod-like leg portion 35 is fixed to each of the two points of the groove portion 32b1 of the flat plate portion 32b via the bolt B4 and two leg portions 35 are fixed to two points in the center of the bottom surface of the flat plate portion 32a And the leg portion 35 is fixed through the bolt B4. Further, the leg portion 35 fixed to the flat plate portion 32a can be omitted. Connecting portions 38A and 38B having L-shaped cross-sectional shapes are fixed by bolts (not shown) at two points in the -Y direction of the flat plate portion 32a (the bottom surface of the side wall member 33) Circular openings 38Aa and 38Ba (which will be described in detail later) are formed in the portions projecting in the -Y direction of the connecting portions 38A and 38B.

플랜지부 (41A, 41B) 는 각각 단면 형상이 L 자형이고, Y 방향의 길이가 커버 부재 (39) 길이의 1/2 정도이며, 플랜지부 (41A, 41B) 중 측벽부 (39b, 39c) 에 대향하는 부분이 각각 복수 지점에서 볼트 (B5) 에 의해 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39b, 39c) 에 고정되어 있다. 플랜지부 (41A, 41B) 의 ―X 방향 및 ＋X 방향으로 돌출한 부분 (이하, 이들 부분을 간단히 플랜지부 (41A, 41B) 라고 한다) 의 ―Y 방향의 단부에 가까운 부분에, 각각 Y 방향으로 소정 폭의 절결부 (41Aa, 41Ba) 가 형성되고, 플랜지부 (41A, 41B) 의 ＋Y 방향의 단부에 가까운 위치에 각각 소정 크기의 원형 개구 (관통공) (41Ab, 41Bb) 가 형성되어 있다. 또한, 일방 (＋X 방향측) 의 플랜지부 (41B) 의 절결부 (41Ba) 에 가까운 위치에, Y 방향을 따라 소정 간격으로 2 개의 서로 동일한 크기의 원형 개구 (관통공) (41Bc, 41Bd) 가 형성되어 있다. 구체적으로는, 일례로서, 개구 (41Bc, 41Bd) 는, Y 방향으로 서로 60 ㎜ 떨어진 위치가 개구 (관통) 하도록 형성되어 있다. 또, 일례로서, 개구 (41Bd) 의 중심과 개구 (41Bb) 의 중심의 Y 방향의 간격은 570 ㎜ 이다. 또한, 플랜지부 (41A, 41B) 는, 상기 서술한 절결부 및 각 개구의 배치를 Y 방향에 관해서 반전시킨 구성으로 해도 된다. 또, 개구 (41Bc, 41Bd) 는, 서로 동일한 크기에 한정되지 않고 상이한 크기여도 되고, 원형상에 한정되지 않고 다른 형상이어도 된다. 예를 들어, 개구 (41Bc, 41Bd) 는, 원형상으로 닫힌 개구 (구멍) 형상이 아니라, 플랜지부 (41B) 의 측면으로 이어진 절결 형상이어도 된다.Each of the flange portions 41A and 41B has an L-shaped cross section and a length in the Y direction of about 1/2 of the length of the cover member 39. The flange portions 41A and 41B are formed on the side wall portions 39b and 39c of the flange portions 41A and 41B, The opposed portions are respectively fixed to the side wall portions 39b and 39c of the cover member 39 by bolts B5 at a plurality of points. The flange portions 41A and 41B are formed in a portion near the end in the -Y direction of the flange portions 41A and 41B protruding in the -X direction and the + X direction (hereinafter, these flange portions are simply referred to as flange portions 41A and 41B) Cut portions 41Aa and 41Ba of a predetermined width are formed and circular openings (through holes) 41Ab and 41Bb of a predetermined size are formed at positions close to the end portions of the flange portions 41A and 41B in the + Y direction. In addition, two circular openings (through holes) 41Bc and 41Bd are formed at predetermined intervals along the Y direction at positions close to the notches 41Ba of the flange portion 41B on one side (the + X direction side) Respectively. Specifically, as an example, the openings 41Bc and 41Bd are formed so as to be opened (penetrated) at positions separated by 60 mm from each other in the Y direction. As an example, the distance between the center of the opening 41Bd and the center of the opening 41Bb in the Y direction is 570 mm. Further, the flange portions 41A and 41B may have a configuration in which the notch portion and the arrangement of the openings described above are reversed with respect to the Y direction. The openings 41Bc and 41Bd are not limited to the same size but may be of different sizes and may be of different shapes without being limited to the circular shape. For example, the openings 41Bc and 41Bd may be in a notch shape extending to the side surface of the flange portion 41B instead of a circular opening (hole) shape.

본 실시형태의 마스크 케이스 (30) 에 있어서, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 를 지지한 상태에서, 하부 케이스부 (31A) 를 강하시킴으로써, 상부 케이스부 (31B) 를 하부 케이스부 (31A) 로부터 용이하게 분리할 수 있다. 반대로, 그 상부 케이스부 (31B) 가 분리된 상태로부터 하부 케이스부 (31A) 를 상승시킴으로써, 하부 케이스부 (31A) 상에 재치된 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 용이하게 장착할 수 있다.In the mask case 30 of the present embodiment, the lower case portion 31A is lowered while the flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B are supported, It can be easily separated from the case portion 31A. Conversely, the lower case portion 31A is raised so as to cover the mask M placed on the lower case portion 31A by raising the lower case portion 31A from the separated state of the upper case portion 31B, The case 31B can be easily mounted.

도 4 는, 하부 케이스부 (31A) 로부터 상부 케이스부 (31B) 를 분리하고, 하부 케이스부 (31A) 로부터 마스크 (M) 를 들어 올린 상태의 마스크 케이스 (30) 를 나타낸다. 도 4 에 있어서, 하부 케이스부 (31A) 의 2 개의 가늘고 긴 평판부 (32b) 의 상단부에, 각각 마스크 (M) 를 지지하기 위한 단차부 (34Ba, 34Ca) 가 형성된 지지부 (34B, 34C) 가 고정되고 (일방의 지지부 (34B) 는 도시하지 않음), 지지부 (34B, 34C) 의 사이에 단차부 (34Ba, 34Ca) 와 동일한 높이의 작은 평판상의 지지부 (34A) 가 고정되어 있다. 각 1 쌍의 지지부 (34B, 34C) 의 단차부 (34Ba, 34Ca), 및 1 쌍의 지지부 (34A) 의 상면에 마스크 (M) 의 패턴면 (하면) 의 주연부를 재치함으로써, 하부 케이스부 (31A) 로 마스크 (M) 를 지지할 수 있다. 마스크 라이브러리 (LB) 에 마스크 케이스 (30) 를 수납한 상태에서, 마스크 (M) 의 패턴면은 거의 수평면에 평행하다.4 shows the mask case 30 in which the upper case portion 31B is separated from the lower case portion 31A and the mask M is lifted from the lower case portion 31A. 4, support portions 34B and 34C having stepped portions 34Ba and 34Ca for supporting the mask M are formed on the upper ends of the two elongated flat plate portions 32b of the lower case portion 31A And a small flat support portion 34A having the same height as the stepped portions 34Ba and 34Ca is fixed between the support portions 34B and 34C (not shown in the one support portion 34B). By placing the periphery of the pattern surface (lower surface) of the mask M on the stepped portions 34Ba and 34Ca of the pair of supporting portions 34B and 34C and the upper surface of the pair of supporting portions 34A, 31A to support the mask M. [ In a state in which the mask case 30 is housed in the mask library LB, the pattern surface of the mask M is substantially parallel to the horizontal plane.

또, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 에 형성된 4 개 지점의 개구 (예를 들어, 거의 정방형의 개구) 에, 각각 광 (예를 들어, 가시광) 을 투과하는 마스크 관찰용의 창부 (39e) 가 장착되고, 평판부 (39a) 의 ＋X 방향의 단부에 형성된 개구 (예를 들어, 가늘고 긴 사각형 개구) 에, 광 (예를 들어, 가시광) 을 투과하는 바코드 관찰용의 창부 (39f) 가 장착되어 있다. 또한, 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 ―X 방향의 단부 또한 ―Y 방향의 단부에 형성된 개구 (예를 들어, 거의 정방형의 개구) 에, 광 (예를 들어, 가시광) 을 투과하는 내부 관찰용의 창부 (32a1) 가 장착되어 있다. 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 장착한 상태에서, 오퍼레이터는, 창부 (39e) 를 통해 내부의 마스크 (M) 의 상태 (마스크 (M) 의 유무를 포함한다) 를 관찰할 수 있음과 함께, 오퍼레이터 또는 소정의 검출 장치는, 창부 (39f) 를 통해 내부의 마스크 (M) 에 형성된 바코드 (도시하지 않음) 를 판독할 수 있다. 또한, 창부 (39e, 39f, 32a1) 에는, 광의 투과성을 갖고 발진이 적은 재료로서 합성 수지, 유리 (예를 들어, 석영 유리) 등을 사용할 수 있다.A window for mask observation (for example, visible light), which transmits light (for example, visible light), is provided in four openings (for example, substantially square openings) formed in the flat plate portion 39a of the cover member 39 And a window section 39f for bar code observation through which light (for example, visible light) is transmitted through an opening (for example, a rectangular long opening) formed at an end portion of the flat plate portion 39a in the + X direction, Respectively. Light (for example, visible light) is transmitted through an opening (for example, an almost square opening) formed in an end portion in the -X direction and an end portion in the -Y direction of the flat plate portion 32a of the base member 32 And a window portion 32a1 for internal observation is provided. The operator observes the state of the internal mask M (including the presence or absence of the mask M) through the window portion 39e in a state where the upper case portion 31B is mounted on the lower case portion 31A The operator or a predetermined detection apparatus can read a bar code (not shown) formed on the mask M inside the window 39f. The window portions 39e, 39f, and 32a1 may be made of synthetic resin, glass (for example, quartz glass), or the like as a material having light transparency and little oscillation.

또, 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39b, 39c) 는, 각각 베이스 부재 (32) 의 가늘고 긴 평판부 (32b) 에 있어서 지지부 (34B, 34C) 의 외측의 영역에 재치됨과 함께, 측벽부 (39d) 는, 베이스 부재 (32) 의 ＋Y 방향의 단부의 영역에 재치된다. 또한, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 의 ―Y 방향의 단부 (39g) 는, 하부 케이스부 (31A) 의 측벽 부재 (33) 을 덮는 것이 가능할 정도로, 측벽부 (39b, 39c) 보다 ―Y 방향으로 돌출되어 있다. 그리고, 지지부 (34B, 34C) 의 높이는 측벽 부재 (33) 의 높이보다 낮게 설정되고, 측벽부 (39b ∼ 39d) 의 높이는 측벽 부재 (33) 의 높이에 대하여 약간 높게 설정되어 있다. 또, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 의 저면에 있어서, 하부 케이스부 (31A) 의 지지부 (34B, 34C) 와 측벽 부재 (33) 사이의 영역에 대향하는 위치에 각각 측벽부 (39b, 39c) 보다 낮은 로드 형상의 위치 결정부 (40A, 40B) 가 형성되어 있다. 이 구성에 의해, 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39b ∼ 39d) 를 베이스 부재 (32) 상의 지지부 (34A ∼ 34C) 의 외측의 영역에 재치했을 때에, 단부 (39g) 가 측벽 부재 (33) 를 덮도록 되기 때문에, 내부의 기밀성이 높게 유지되어, 마스크 케이스 (30) 의 방진 성능이 높아진다. 또한, 위치 결정부 (40A, 40B) 가 각각 하부 케이스부 (31A) 의 일부와 맞닿음으로써, 진동 등에 의해, 상부 케이스부 (31B) 의 위치가 하부 케이스부 (31A) 에 대하여 X 방향 및 Y 방향으로 어긋나는 것이 방지된다. 또한, 위치 결정부 (40A, 40B) 는, 상기 서술한 바와 같이 평판부 (39a) 의 저면의 ―Y 측의 단부에 형성할 뿐만 아니라, 평판부 (39a) 의 저면의 ＋Y 측의 단부에도 동일하게 형성해도 되고, 혹은 ―Y 측 대신에 ＋Y 측의 단부에 형성해도 된다.The side wall portions 39b and 39c of the cover member 39 are placed on the outer side of the support portions 34B and 34C on the elongated flat plate portion 32b of the base member 32 respectively, The base member 32d is placed in the region of the end of the base member 32 in the + Y direction. The end portion 39g in the -Y direction of the flat plate portion 39a of the cover member 39 is formed to extend from the side wall portions 39b and 39c to the extent that the side wall member 33 of the lower case portion 31A can be covered -Y direction. The height of the support portions 34B and 34C is set lower than the height of the side wall member 33 and the height of the side wall portions 39b to 39d is set slightly higher than the height of the side wall member 33. [ In the bottom surface of the flat plate portion 39a of the cover member 39, the side wall portions 39b and 34c are provided at positions opposed to the region between the support portions 34B and 34C of the lower case portion 31A and the side wall member 33, And 39c are formed in the positioning portions 40A and 40B having a rod shape lower than that of the positioning portions 40A and 40B. With this configuration, when the side wall portions 39b to 39d of the cover member 39 are mounted on the outside regions of the support portions 34A to 34C on the base member 32, The airtightness of the interior is maintained high, and the dustproof performance of the mask case 30 is enhanced. When the positioning portions 40A and 40B come in contact with a part of the lower case portion 31A, the position of the upper case portion 31B is shifted from the lower case portion 31A in the X direction and Y Direction. The positioning portions 40A and 40B are formed not only at the end on the -Y side of the bottom surface of the flat plate portion 39a but also on the end portions on the + Y side of the bottom surface of the flat plate portion 39a Or may be formed at the end on the + Y side instead of on the -Y side.

또, 도 2(B) 및 도 3(B) 에 나타내는 바와 같이, 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 저면에, X 방향 (여기서는 마스크 케이스 (30) 의 폭 방향 또는 단변 방향) 을 따라 소정 간격으로, 제 1 위치 결정부 (36A) 및 제 2 위치 결정부 (36B) 가 고정되어 있다. 제 1 위치 결정부 (36A) 는, 그 중앙부에 회전 대칭인 형상의 오목부 (36Aa) 가 형성되고, 제 2 위치 결정부 (36B) 는, 그 중앙부에 V 자형의 홈 형상의 오목부 (36Ba) (선대칭인 오목부) 가 X 방향을 따라 형성되어 있다. 또, 평판부 (32a) 의 저면의 위치 결정부 (36A, 36B) 로부터 ＋Y 방향 및 ―Y 방향으로 각각 소정 간격 떨어진 위치 (PS2, PS1 및 PS4, PS3) 에, 평탄한 표면 (이하, 평탄면이라고 한다) (36Ca) 을 갖는 4 개의 위치 결정부 (36C) 가 고정되어 있다. 일례로서, 도 3(C) 에 나타내는 바와 같이, 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 는 원추면상이다. 단, 오목부 (36Aa) 는 구면상 등이어도 된다. 또, 위치 결정부 (36A) (다른 위치 결정부 (36B, 36C) 도 동일) 는, 예를 들어 각각 복수의 볼트 (B4) 를 사용하여 평판부 (32a) 의 저면에 고정되어 있다.2 (B) and 3 (B), the X direction (the width direction or the short side direction of the mask case 30) is formed on the bottom surface of the flat plate portion 32a of the base member 32 The first positioning portion 36A and the second positioning portion 36B are fixed at predetermined intervals. The first positioning portion 36A is formed with a concave portion 36Aa of a rotationally symmetrical shape at its center portion and the second positioning portion 36B has a V-shaped groove-like concave portion 36Ba (Concave portions that are line symmetrical) are formed along the X direction. A flat surface (hereinafter also referred to as a flat surface) is formed on the positions PS2, PS1, PS4, and PS3 spaced apart from the positioning portions 36A and 36B on the bottom surface of the flat plate portion 32a by a predetermined distance in the + Four position determining portions 36C having a plurality of positioning portions 36Ca are fixed. As an example, as shown in Fig. 3 (C), the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A is on a conical surface. However, the concave portion 36Aa may be spherical or the like. The positioning portion 36A (the same for the other positioning portions 36B and 36C) is fixed to the bottom surface of the flat plate portion 32a by using a plurality of bolts B4, for example.

또, 도 3(B) 에 있어서, 마스크 (M) 를 수용한 상태의 마스크 케이스 (30) 의 무게 중심 위치는, 위치 결정부 (36A, 36B) 의 중심을 잇는 직선과, ＋Y 방향측의 2 개의 위치 결정부 (36C) 의 중심을 잇는 직선의 중간 부근에서, 또한 베이스 부재 (32) 의 X 방향의 중심 부근을 지나, Z 축에 평행한 직선 상에 위치하고 있다. 이 때문에, 후술하는 바와 같이, 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 위치 (PS1) (또는 PS2) 에 있는 위치 결정부 (36C) 의 평탄면 (36Ca) 을 각각 대응하는 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) (도 5(A) 참조) 등의 구면으로 지지함으로써, 마스크 케이스 (30) 를 안정적으로 지지할 수 있다. 또한, 이들 경우에도, 진동 등으로 마스크 케이스 (30) 가 경사지는 경우를 고려하여, 다른 위치 (PS3, PS4) 의 위치 결정부 (36C) 에도 대향하도록 소정 간격을 두고 볼 트랜스퍼의 지지 부재를 배치해도 된다.3B, the center-of-gravity position of the mask case 30 in the state in which the mask M is accommodated corresponds to a straight line connecting the centers of the positioning portions 36A and 36B and a straight line connecting the centers of the two And is positioned on a straight line parallel to the Z axis, passing the vicinity of the center of the straight line connecting the centers of the X positioning portions 36C and the vicinity of the center of the base member 32 in the X direction. Therefore, as will be described later, the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B correspond to the flat surfaces 36Ca of the positioning portion 36C at the position PS1 (or PS2), respectively The mask case 30 can be stably supported by supporting spherical surfaces such as ball transfers 54A to 54C (see Fig. 5A) or the like. Also in these cases, in consideration of the case where the mask case 30 is inclined due to vibration or the like, the support member of the ball transfer is arranged at a predetermined interval so as to face the positioning portion 36C of the other positions PS3 and PS4 You can.

또, 도 2(B) 에 나타내는 바와 같이, 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 창부 (32a1) 의 근처에, 하부 케이스부 (31A) 의 유무를 검출하기 위한 광빔을 반사하는 반사부 (37A) 가 형성되어 있다. 일례로서 반사부 (37A) 는 재귀성 반사 부재이며, 반사부 (37A) 에 입사한 광빔은 입사한 방향으로 반사된다. 이 때문에, 하부 케이스부 (31A) 가 경사져 있어도, 검출부 (도시하지 않음) 에 의해 하부 케이스부 (31A) 의 유무를 정확하게 검출할 수 있다.2 (B), a reflection portion for reflecting the light beam for detecting the presence or absence of the lower case portion 31A is provided in the vicinity of the window portion 32a1 of the flat plate portion 32a of the base member 32. [ (37A) is formed. For example, the reflecting portion 37A is a retroreflecting member, and the light beam incident on the reflecting portion 37A is reflected in the incident direction. Therefore, even if the lower case portion 31A is inclined, the presence or absence of the lower case portion 31A can be accurately detected by the detection portion (not shown).

또한, 도 2(B) 의 마스크 케이스 (30) 의 창부 (32a1) 를 포함하는 부분의 단면도인 도 7 에 나타내는 바와 같이, 커버 부재 (39) 의 평판부 (39a) 의 내면 중 창부 (32a1) 에 대향하는 위치에, 상부 케이스부 (31B) 의 유무를 검출하기 위한 광빔 (LB4) 을 반사하는 반사부 (37B) 가 형성되어 있다. 일례로서 반사부 (37B) 의 표면에는 예를 들어 마스크 케이스 (30) 의 폭 방향을 편광 방향으로 하는 편광판 (도시하지 않음) 이 고정되어 있고, 반사부 (37B) 는 편광 특성을 갖는다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30) 의 외부로부터 창부 (32a1) 를 통해 반사부 (37B) 에 입사하고, 반사부 (37B) 로 반사된 광빔 (LB4) 중, 그 편광 방향을 따른 편광 성분의 광만이 그 편광판을 투과하여 창부 (32a1) 를 통해 외부로 사출된다. 그리고, 외부의 검출부 (63c) 로는 그 편광 방향의 편광 성분만을 검출함으로써, 다른 외란 광에 영향받는 일 없이, 상부 케이스부 (31B) 의 내면에서 반사된 광빔만을 검출할 수 있기 때문에, 상부 케이스부 (31B) 의 유무를 정확하게 검출할 수 있다.7, which is a cross-sectional view of a portion of the mask case 30 including the window portion 32a1 of Fig. 2 (B), the window portion 32a1 of the inner surface of the flat plate portion 39a of the cover member 39, A reflecting portion 37B for reflecting the light beam LB4 for detecting the presence or absence of the upper case portion 31B is formed. As an example, a polarizing plate (not shown) having a polarizing direction in the width direction of the mask case 30 is fixed to the surface of the reflecting portion 37B, for example, and the reflecting portion 37B has polarization characteristics. Therefore, only the light component of the light component LB4 incident on the reflection portion 37B through the window portion 32a1 from the outside of the mask case 30 and reflected by the reflection portion 37B, along the polarization direction of the light beam LB4, Passes through the polarizing plate, and is emitted to the outside through the window portion 32a1. Since only the polarized light component in the polarization direction is detected by the external detection unit 63c, only the light beam reflected by the inner surface of the upper case unit 31B can be detected without being affected by other disturbance light, It is possible to accurately detect the presence or absence of the light emitting element 31B.

또한, 반사부 (37B) 를 편광 특성이 없는 재귀성 반사 부재로 해도 되고, 반사부 (37A) 에 재귀성이 없는 편광 특성을 갖게 하도록 해도 된다. 또는, 반사부 (37A, 37B) 에 각각 재귀성 및 편광 특성의 양방을 갖게 하도록 해도 된다. 또, 창부 (32a1) 는, 마스크 케이스 (30) 의 외부로부터 마스크 (M) 의 유무 (또는 검출부로부터 마스크 (M) 의 패턴면 (Ma) 까지의 거리) 를 검출하기 위해서 조사되는 광빔 (LB3) 을 통과시키기 위해서도 사용된다.Further, the reflective portion 37B may be a retroreflective member having no polarization characteristic, or the reflective portion 37A may have a polarization characteristic without retroreflection. Alternatively, the reflective portions 37A and 37B may have both retroreflectivity and polarization characteristics. The window portion 32a1 is provided with a light beam LB3 irradiated to detect the presence or absence of the mask M from the outside of the mask case 30 (or the distance from the detection portion to the pattern surface Ma of the mask M) Is also used to pass through.

다음으로, 반송차 (V) 의 구성에 대해, 도 5(A) (평면도) 및 도 5(B) (측면도) 를 참조하여 설명한다. 반송차 (V) 는, 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반송, 및 일시 수용부 (66) 로부터의 마스크 케이스 (30) 의 반출을 실시한다. 도 5(A) 및 (B) 는, 도 1 의 마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반입 또는 반출을 실시하기 위해서 Y 방향으로 이동하고 있는 반송차 (V) 를 나타낸다. 반송차 (V) 는, 본체부 (55) 와, 구동 기구 (도시하지 않음) 에 의해 구동되어 본체부 (55) 를 이동시키는 복수의 차륜 (56) 과, 본체부 (55) 의 전면 (前面) 에 구동 기구 (도시하지 않음) 에 의해 Z 방향으로 이동 가능하도록 지지된 마스크 케이스 반송부 (53) 를 구비하고 있다. 그 구동 기구는, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Z 방향의 위치 (Z 위치) 를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 또, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 거의 수평면에 평행하고 장방형상의 상면을 갖는 평판부 (53a) 에, 점선으로 나타내는 바와 같이 평판부 (53a) 의 긴쪽 방향과 마스크 케이스 (30) 의 긴쪽 방향이 평행하게 되도록, 마스크 케이스 (30) 가 재치된다. 도 5(A) 및 (B) 의 상태에서는, 평판부 (53a) 의 긴쪽 방향은 Y 방향이며, 평판부 (53a) 의 X 방향의 폭은 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 폭보다 좁게 설정되어 있다. 또한, 복수의 차륜 (56) 에 의해 본체부 (55) 의 이동 방향을 제어하는 것도 가능하고, 본체부 (55) 에는, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 X 방향의 위치를 조정하는 기구 (도시하지 않음) 도 형성되어 있다.Next, the configuration of the conveyance car V will be described with reference to Figs. 5A (plan view) and Fig. 5B (side view). The transport vehicle V transports the mask case 30 to the temporary storage portion 66 of the mask library LB and removes the mask case 30 from the temporary storage portion 66. [ Figs. 5A and 5B show a transporting vehicle V moving in the Y direction for carrying in or out the mask case 30 to the mask library LB of Fig. 1. Fig. The transporting vehicle V includes a main body 55 and a plurality of wheels 56 driven by a drive mechanism (not shown) to move the main body 55. The transport vehicle V includes a main body 55, (Not shown) so as to be movable in the Z direction. The drive mechanism has an encoder (not shown) for measuring the position (Z position) in the Z direction of the mask case 30 supported by the mask case return section 53. The longitudinal direction of the flat plate portion 53a and the longitudinal direction of the mask case 30 are aligned with the flat plate portion 53a having a rectangular upper face parallel to a substantially horizontal plane of the mask case carrying portion 53, The mask case 30 is placed so as to be parallel. 5A and 5B, the longitudinal direction of the flat plate portion 53a is the Y direction, and the width of the flat plate portion 53a in the X direction is equal to the width of the flat plate portion 53a of the base member 32 of the mask case 30 Is set to be narrower than the width of the portion (32a). It is also possible to control the moving direction of the body portion 55 by the plurality of wheels 56. The body portion 55 is provided with a mechanism for adjusting the position of the mask case returning portion 53 in the X direction (Not shown).

또, 평판부 (53a) 의 상면에, 도 3(B) 에 나타내는 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 저면에 형성된 위치 결정부 (36A, 36B), 및 위치 (PS1, PS2) 의 위치 결정부 (36C) 와 동일한 배치로, 각각 표면에 구면부 (54Aa, 54Ba, 54Ca, 54Da) 가 형성된 지지 부재인 볼 트랜스퍼 (54A, 54B, 54C, 54D) 가 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 고정되어 있다. 또한, 도 2(B) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 에 대한 연결부 (38A, 38B) 의 개구 (38Aa, 38Ba) 와 동일한 위치 관계로, 평판부 (53a) 의 상면의 볼 트랜스퍼 (54A, 54B) 로부터 ―Y 방향으로 떨어진 위치에, 개구 (38Aa, 38Ba) 보다 작은 직경의 핀 (57Aa, 57Ba) 을 갖는 지지부 (57A, 57B) 가 고정되어 있다.Positioning portions 36A and 36B formed on the bottom surface of the base member 32 of the mask case 30 shown in Fig. 3 (B), and positioning portions 36A and 36B formed on the top surface of the flat plate portion 53a, The ball transfers 54A, 54B, 54C and 54D, which are support members having spherical portions 54Aa, 54Ba, 54Ca and 54Da formed on the surface thereof, respectively, in the same arrangement as that of the positioning portion 36C, Is fixed. The ball transfers 54A and 38B on the upper surface of the flat plate portion 53a are formed in the same positional relationship as the openings 38Aa and 38Ba of the connecting portions 38A and 38B with respect to the positioning portions 36A and 36B of Fig. Supporting portions 57A and 57B having pins 57Aa and 57Ba having diameters smaller than the openings 38Aa and 38Ba are fixed at positions away from the guide grooves 54A and 54B in the -Y direction.

마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (53) 에 재치할 때에는, 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba), 및 위치 (PS1) 의 위치 결정부 (36C) 의 평탄부 (36Ca) 가 각각 볼 트랜스퍼 (54A, 54B, 54C) 의 구면부 (54Aa, 54Ba, 54Ca) 에 접촉한다. 이 상태에서, 마스크 케이스 (30) 의 평판부 (32a) 의 저면이 거의 수평면에 평행하게 되도록, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) 의 높이가 개별적으로 조정되어 있다. 이 때에, 마스크 케이스 (30) 와 마스크 케이스 반송부 (53) 사이에, 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 반경 정도까지의 위치 어긋남이 있어도, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 볼 트랜스퍼 (54A) 의 구면부의 중심과 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 중심이 합치하고, 볼 트랜스퍼 (54B) 의 구면부의 중심의 Y 방향의 위치와 위치 결정부 (36B) 의 오목부 (36Ba) 의 중심의 Y 방향의 위치가 합치하도록, 마스크 케이스 (30) 의 자중에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치 및 회전각이 자동적으로 조정된다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (53) 에 재치할 때의 위치 제어 정밀도를 그다지 높게 할 필요가 없다.The concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B of the mask case 30 and the positioning portions PS1 and PS2 of the position PS1 of the mask case 30, The flat portion 36Ca of the ball 36C comes into contact with the spherical portions 54Aa, 54Ba, and 54Ca of the ball transfers 54A, 54B, and 54C, respectively. In this state, the heights of the ball transfers 54A to 54C of the mask case return section 53 are individually adjusted so that the bottom surface of the flat plate portion 32a of the mask case 30 is substantially parallel to the horizontal plane. At this time, even if there is a positional deviation between the mask case 30 and the mask case return section 53 up to a radius of the concave section 36Aa of the positioning section 36A, The center of the spherical surface portion of the transfer 54A and the center of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A match and the position of the center of the spherical portion of the ball transfer 54B in the Y direction and the concave portion 36Aa of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36B The position and rotational angle of the mask case 30 are automatically adjusted by the own weight of the mask case 30 so that the position of the center of the portion 36Ba in the Y direction is matched. Therefore, it is not necessary to set the position control accuracy when the mask case 30 is mounted on the mask case return section 53 to a very high degree.

또한, 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 볼 트랜스퍼 (54D) 의 구면부 (54Da) 가 위치하도록, 볼 트랜스퍼 (54D) 의 높이가 조정되어 있다. 또한, 마찬가지로, 위치 (PS3, PS4) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 다른 볼 트랜스퍼 (도시하지 않음) 를 평판부 (53a) 의 상면에 형성해도 된다.The height of the ball transfer 54D is adjusted so that the spherical portion 54Da of the ball transfer 54D is positioned at a slight distance from the positioning portion 36C of the position PS2. Similarly, another ball transfer (not shown) may be formed on the upper surface of the flat plate portion 53a with a slight distance from the positioning portion 36C of the positions PS3 and PS4.

오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 를 각각 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) 로 지지함으로써, 마스크 케이스 반송부 (53) (반송차 (V)) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 X 방향 및 Y 방향의 위치, 및 Z 축에 평행한 축의 회전 (이하, θz 방향이라고 한다) 의 회전각이 각각 목표치에 자동적으로 설정되고, 이 상태에서 반송차 (V) 에 의해 마스크 케이스 (30) 가 안정적으로 반송된다. 또, 다른 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 에 근접하여 볼 트랜스퍼 (54D) 가 배치되어 있기 때문에, 진동 등으로 마스크 케이스 (30) 가 경사져도, 위치 결정부 (36C) 가 볼 트랜스퍼 (54D) 에 접촉함으로써, 그 경사각이 그 이상 커지는 경우는 없다. 또한, 이 상태에서 마스크 케이스 (30) 의 연결부 (38A, 38B) 의 개구 (38Aa, 38Ba) 에 마스크 케이스 반송부 (53) 의 핀 (57Aa, 57Ba) 이 삽입되기 때문에, 반송 중의 진동 등에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치가 어긋나는 것을 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 반송 중의 진동이 적은 경우 등에는, 연결부 (38A, 38B) 및 지지부 (57A, 57B) 를 생략하는 것도 가능하다.The concave portions 36Aa and 36Ba and the flat portion 36Ca are supported by the ball transfers 54A to 54C so that the mask case 30 can be moved in the X direction with respect to the mask case carrying portion 53 And the rotation angle of the axis in the Y direction and the rotation of the axis parallel to the Z axis (hereinafter referred to as the? Z direction) are automatically set to the target values. In this state, the mask case 30 And is returned stably. Since the ball transfer 54D is disposed close to the positioning portion 36C of the other position PS2, even if the mask case 30 is tilted due to vibration or the like, the positioning portion 36C is moved to the ball transfer 54D, the inclination angle does not increase more than that. Since the pins 57Aa and 57Ba of the mask case return section 53 are inserted into the openings 38Aa and 38Ba of the connecting portions 38A and 38B of the mask case 30 in this state, The displacement of the case 30 can be reliably prevented. In addition, when the vibration during conveyance is small, the connecting portions 38A and 38B and the supporting portions 57A and 57B can be omitted.

또, 노광 챔버 (CH) 의 외부에는, 일례로서 Y 방향으로 떨어진 2 개 지점에서 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 의 측면까지의 간격을 검출하는 비접촉 방식의 간격 센서 (도시하지 않음) 가 설치되어 있다. 그리고, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 재치되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 회전각이, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 내에 수용되어 있을 때의 목표치가 될 때에 그 2 개 지점의 간격 센서로 검출되는 간격이, 조정 목표치로서 예를 들어 제어 장치 (CONT) 의 기억부에 기억되어 있다. 이 때문에, 그 2 개 지점의 간격 센서로 검출되는 간격이 대응하는 조정 목표치가 되도록 반송차 (V) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 회전각을 조정함으로써, 반송차 (V) 로 지지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 회전각을 각각 목표치로 설정할 수 있다. 또한, 반송차 (V) 로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 에 수용되어 있는 상태의 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치의 값 (이하, 설정치라고 한다) 의 관계는 이미 알려져 있다 또, 반송차 (V) 는, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 이 인코더로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 내의 일시 수용부 (66) 에서의 Y 방향의 목표 위치의 관계는 이미 알려져 있다In addition, outside of the exposure chamber CH, there is provided a non-contact type gap sensor (not shown) for detecting the distance from two points in the Y direction to the side of the mask case return section 53 of the conveyance car V Is installed. When the position in the X direction and the rotation angle in the? Z direction of the mask case 30 placed on the mask case transfer section 53 are the target values when they are accommodated in the mask library LB, respectively, The interval detected by the interval sensor of the point is stored as an adjustment target value, for example, in the storage unit of the control device CONT. Therefore, by adjusting the position in the X direction and the rotation angle in the? Z direction of the conveyance carriage V so that the interval detected by the gap sensors at the two points becomes the corresponding adjustment target value, The position of the mask case 30 in the X direction and the rotation angle in the? Z direction can be set as target values, respectively. The Z position of the mask case 30 measured by the conveyance car V and the value of the Z position of the mask case 30 accommodated in the temporary storage portion 66 of the mask library LB (Not shown) for measuring the position in the Y direction of the mask case 30 supported by the mask case return section 53 . The relationship between the position in the Y direction of the mask case 30 measured by this encoder and the target position in the Y direction in the temporary storage section 66 in the mask library LB is already known

그리고, 반송차 (V) 로 지지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 그 설정치보다 소정 간격만큼 높게 설정한 상태에서, 반송차 (V) 를 ―Y 방향으로 이동하여, 마스크 케이스 반송부 (53) 로 지지되는 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 의 상방으로 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (53) 를 강하시킴으로써, 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 에 수수할 수 있다. 반대로, 일시 수용부 (66) 에 유지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 저면측에 마스크 케이스 반송부 (53) 를 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (53) 의 Z 위치를 높게 함으로써, 일시 수용부 (66) 로부터 마스크 케이스 반송부 (53) (반송차 (V)) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수할 수 있다.The transporting carriage V is moved in the -Y direction while the Z position of the mask case 30 supported by the transporting carriage V is set higher than the set value by a predetermined distance, The mask case 30 is moved to the upper side of the temporary accommodating portion 66 of the mask library LB and then the mask case returning portion 53 is lowered, (66). Conversely, by moving the mask case return section 53 to the bottom face side of the mask case 30 held in the temporary housing section 66 and then increasing the Z position of the mask case return section 53, The mask case 30 can be received from the mask case transfer section 53 (transfer car V)

다음으로, 반송 장치 (H1) 의 구성에 대해, 도 6(A) (평면도) 및 도 6(B) (측면도) 를 참조하여 설명한다. 반송 장치 (H1) 는, 마스크 케이스 (30) 가 재치되는 마스크 케이스 반송부 (61) 와, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 ―Y 방향의 단부를 유지하는 유지부 (64) 와, 유지부 (64) 를 개재하여 마스크 케이스 반송부 (61) 를 Y 방향으로 이동하는 수평 구동부 (67) 와, 수평 구동부 (67) 를 개재하여 마스크 케이스 반송부 (61) 를 Z 방향으로 이동하는 승강 구동부 (68) 를 구비하고 있다. 승강 구동부 (68) 는, 마스크 케이스 반송부 (61) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 이 인코더로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 내의 각 수용부 (65) 및 일시 수용부 (66) 에서의 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치의 값 (설정치) 의 관계는 이미 알려져 있다 수평 구동부 (67) 는 마스크 케이스 반송부 (61) 에 지지된 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치를 계측하는 인코더 (도시하지 않음) 를 갖는다. 이 인코더로 계측되는 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 위치와, 마스크 라이브러리 (LB) 내의 각 수용부 (65) 에서의 Y 방향의 목표 위치의 관계는 이미 알려져 있다Next, the configuration of the transport apparatus H1 will be described with reference to Figs. 6 (A) (plan view) and Fig. 6 (b) (side view). The transfer apparatus H1 includes a mask case transfer section 61 in which the mask case 30 is placed, a holding section 64 for holding the end portion in the -Y direction of the mask case transfer section 61, A horizontal drive section 67 for moving the mask case transfer section 61 in the Y direction via the horizontal drive section 67 and a vertical drive section 68 for moving the mask case transfer section 61 in the Z direction via the horizontal drive section 67 . The elevation driving section 68 has an encoder (not shown) for measuring the Z position of the mask case 30 supported by the mask case transfer section 61. The Z position of the mask case 30 measured by this encoder and the Z position of the mask case 30 in the respective accommodating portions 65 and temporary accommodating portions 66 in the mask library LB The relationship is already known. The horizontal drive section 67 has an encoder (not shown) for measuring the position of the mask case 30 supported by the mask case transfer section 61 in the Y direction. The relationship between the position in the Y direction of the mask case 30 measured by this encoder and the target position in the Y direction in each accommodating portion 65 in the mask library LB is already known

거의 수평면에 평행하고 Y 방향을 긴쪽 방향으로 하는 장방형상의 상면을 갖는 마스크 케이스 반송부 (61) 에, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 긴쪽 방향과 마스크 케이스 (30) 의 긴쪽 방향이 평행하게 되도록, 마스크 케이스 (30) 가 재치된다. 마스크 케이스 반송부 (61) 의 X 방향의 폭은 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 평판부 (32a) 의 폭보다 좁게 설정되어 있다.The mask case carrying section 61 having a rectangular upper face substantially parallel to the horizontal plane and extending in the Y direction in the longitudinal direction is arranged so that the longitudinal direction of the mask case carrying section 61 and the longitudinal direction of the mask case 30 are parallel, The mask case 30 is placed. The width of the mask case carrying portion 61 in the X direction is set to be narrower than the width of the flat plate portion 32a of the base member 32 of the mask case 30. [

또, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 상면에, 도 3(B) 에 나타내는 마스크 케이스 (30) 의 베이스 부재 (32) 의 저면에 형성된 위치 결정부 (36A, 36B), 및 위치 (PS1, PS2) 의 위치 결정부 (36C) 와 동일한 배치로, 각각 표면에 구면부 (62Aa, 62Ba, 62Ca, 62Da) 가 형성된 지지 부재인 볼 트랜스퍼 (62A, 62B, 62C, 62D) 가 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 고정되어 있다. 또한, 도 2(B) 의 위치 결정부 (36B) 에 대한 반사부 (37A) 및 창부 (32a1) 와 동일한 위치 관계로, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 상면의 볼 트랜스퍼 (62) 로부터 ―Y 방향으로 떨어진 위치에, 마스크 케이스 (30) 의 검출 장치 (63) 가 형성되어 있다.Positioning portions 36A and 36B formed on the bottom surface of the base member 32 of the mask case 30 shown in Fig. 3B and positions PS1 and PS2 62B, 62C, and 62D, which are support members having spherical portions 62Aa, 62Ba, 62Ca, and 62Da formed on their surfaces, respectively, in the same arrangement as the positioning portion 36C of the positioning portion 36C, As shown in Fig. In addition, in the same positional relationship as the reflecting portion 37A and the window portion 32a1 with respect to the positioning portion 36B in Fig. 2 (B), from the ball transfer 62 on the upper surface of the mask case return portion 61, The detection device 63 of the mask case 30 is formed.

마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치할 때에는, 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba), 및 위치 (PS1) 의 위치 결정부 (36C) 의 평탄부 (36Ca) 가 각각 볼 트랜스퍼 (62A, 62B, 62C) 의 구면부 (62Aa, 62Ba, 62Ca) 에 접촉한다. 이 상태에서, 마스크 케이스 (30) 의 평판부 (32a) 의 저면이 거의 수평면에 평행하게 되도록, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 의 높이가 개별적으로 조정되어 있다. 이 때에, 마스크 케이스 (30) 와 마스크 케이스 반송부 (61) 사이에, 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 반경 정도까지의 위치 어긋남이 있어도, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A) 의 구면부의 중심과 위치 결정부 (36A) 의 오목부 (36Aa) 의 중심이 합치하고, 볼 트랜스퍼 (62B) 의 구면부의 중심의 Y 방향의 위치와 위치 결정부 (36B) 의 오목부 (36Ba) 의 중심의 Y 방향의 위치가 합치하도록, 마스크 케이스 (30) 의 자중에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치 및 회전각이 자동적으로 조정된다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치할 때의 위치 제어 정밀도를 그다지 높게 할 필요가 없고, 마스크 라이브러리 (LB) 의 수용부 (65) 또는 일시 수용부 (66) 에 수용되는 마스크 케이스 (30) 의 위치 정밀도를 그다지 높게 할 필요도 없다.The concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B of the mask case 30 and the positioning portions PS1 and PS2 of the position PS1 are disposed on the mask case transfer portion 61, The flat portion 36Ca of the ball 36C comes into contact with the spherical portions 62Aa, 62Ba and 62Ca of the ball transfers 62A, 62B and 62C, respectively. In this state, the heights of the ball transfers 62A to 62C of the mask case return section 61 are individually adjusted so that the bottom surface of the flat plate portion 32a of the mask case 30 is substantially parallel to the horizontal plane. At this time, even if there is a positional deviation between the mask case 30 and the mask case carrying section 61 to the extent of the radius of the concave section 36Aa of the positioning section 36A, The center of the spherical portion of the transfer 62A matches the center of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36A and the position of the center of the spherical portion of the ball transfer 62B in the Y direction and the concave portion 36Aa of the concave portion 36Aa of the positioning portion 36B The position and rotational angle of the mask case 30 are automatically adjusted by the own weight of the mask case 30 so that the position in the Y direction of the center of the portion 36Ba is matched. This makes it unnecessary to increase the accuracy of position control when the mask case 30 is placed on the mask case carrying section 61. The position of the accommodating section 65 or temporary accommodating section 66 of the mask library LB, The positional precision of the mask case 30 accommodated in the mask case 30 need not be made high.

또한, 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 볼 트랜스퍼 (62D) 의 구면부 (62Da) 가 위치하도록, 볼 트랜스퍼 (62D) 의 높이가 조정되어 있다. 또한, 마찬가지로, 위치 (PS3, PS4) 의 위치 결정부 (36C) 로부터 약간 간격을 두고 다른 볼 트랜스퍼 (도시하지 않음) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 의 상면에 형성해도 된다.The height of the ball transfer 62D is adjusted so that the spherical portion 62Da of the ball transfer 62D is positioned at a slight distance from the positioning portion 36C of the position PS2. Similarly, another ball transfer (not shown) may be formed on the upper surface of the mask case transfer section 61 with a slight distance from the positioning section 36C of the positions PS3 and PS4.

오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 를 각각 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 로 지지함으로써, 마스크 케이스 반송부 (61) (반송 장치 (H1)) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 X 방향 및 Y 방향의 위치, 및 θz 방향의 회전각이 각각 목표치에 자동적으로 설정되고, 이 상태에서 마스크 케이스 반송부 (61) 에 의해 마스크 케이스 (30) 가 안정적으로 반송된다. 또, 다른 위치 (PS2) 의 위치 결정부 (36C) 에 근접하여 볼 트랜스퍼 (62D) 가 배치되어 있기 때문에, 진동 등으로 마스크 케이스 (30) 가 경사져도, 위치 결정부 (36C) 가 볼 트랜스퍼 (62D) 에 접촉함으로써, 그 경사각이 그 이상 커지는 경우는 없다. 또한, 이 상태에서 마스크 케이스 (30) 의 반사부 (37A) 및 창부 (32a1) 가 검출 장치 (63) 에 대향하고 있다.The concave portions 36Aa and 36Ba and the flat portion 36Ca are supported by the ball transfers 62A to 62C respectively so that the mask case 30 can be moved in the X direction with respect to the mask case transfer portion 61 (transfer device H1) The position in the Y direction, and the rotation angle in the? Z direction are automatically set to the target values, respectively. In this state, the mask case 30 is stably transported by the mask case transport section 61. [ Since the ball transfer 62D is disposed close to the positioning portion 36C of the other position PS2, even if the mask case 30 is tilted due to vibration or the like, the positioning portion 36C is moved to the ball transfer 62D, the inclination angle does not increase more than that. In this state, the reflecting portion 37A and the window portion 32a1 of the mask case 30 are opposed to the detecting device 63. [

도 7 에 나타내는 바와 같이, 검출 장치 (63) 는, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 재귀성의 반사부 (37A) 에 광빔 (LB2) 을 조사하고, 반사부 (37A) 로부터의 반사광의 강도를 검출하는 제 1 검출부 (63a) 와, 창부 (32a1) 를 통해 마스크 (M) 의 패턴면 (Ma) 에 광빔 (LB3) 을 비스듬하게 조사하고, 패턴면 (Ma) 으로 반사되어 창부 (32a1) 를 통해 되돌려지는 광의 강도를 검출하는 제 2 검출부 (63b) 와, 창부 (32a1) 를 통해 상부 케이스부 (31B) 의 내면의 편광 특성을 갖는 반사부 (37B) 에 광빔 (LB4) 을 조사하고, 반사부 (37B) 로 반사되어 창부 (32a1) 를 통해 되돌려지는 광의 강도를 검출하는 제 3 검출부 (63c) 를 갖는다. 일례로서, 광빔 (LB2 ∼ LB4) 은 발광 다이오드 (LED) 등으로부터 사출되는 가시역의 광을 콜리메이터 렌즈 (도시하지 않음) 에 의해 평행 광속으로 한 것이지만, 광빔 (LB2 ∼ LB4) 으로서 근적외역으로부터 적외역 등의 광을 사용해도 된다. 이 경우, 창부 (32a1) 는 근적외역으로부터 적외역 등의 광을 투과하는 재료로부터 형성된다.7, the detecting device 63 irradiates a light beam LB2 onto the reflex reflection portion 37A of the lower case portion 31A of the mask case 30 and reflects the light beam LB2 from the reflection portion 37A A light beam LB3 is obliquely irradiated onto the pattern surface Ma of the mask M through the window portion 32a1 and is reflected by the pattern surface Ma, A second detecting portion 63b for detecting the intensity of light returned through the window portion 32a1 and a light beam LB4 to the reflecting portion 37B having the polarization characteristic of the inner surface of the upper case portion 31B through the window portion 32a1 And a third detecting portion 63c for detecting the intensity of light reflected by the reflecting portion 37B and returned through the window portion 32a1. As an example, the light beams LB2 to LB4 are light beams emitted from light emitting diodes (LEDs) or the like in the visible range by a collimator lens (not shown) A light such as an external light may be used. In this case, the window portion 32a1 is formed from a material that transmits light such as infrared light from the near-infrared region.

검출부 (63a) 로 검출되는 강도를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 제 1 기준치와 비교함으로써, 하부 케이스부 (31A) 의 유무를 검출할 수 있다. 또, 검출부 (63b) 로 검출되는 강도를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 테이블 (신호 강도와 피검물까지의 거리의 대응 관계를 나타내는 테이블) 에 적용시킴으로써, 검출부 (63b) 로부터 패턴면 (Ma) 까지의 거리, 및/또는 마스크 (M) 의 유무를 검출할 수 있다. 검출부 (63c) 로 검출되는 강도를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 제 2 기준치와 비교함으로써, 상부 케이스부 (31B) 의 유무를 검출할 수 있다. 검출 장치 (63) 를 사용한 마스크 케이스 (30) 의 유무 등의 검출 결과는 제어 장치 (CONT) 에 공급된다. 또한, 검출부 (63a ∼ 63c) 중, 적어도 하나를 구비하는 것만으로도 된다.The presence or absence of the lower case portion 31A can be detected by comparing the intensity detected by the detection portion 63a with a predetermined first reference value by a signal processing portion (not shown). The intensity detected by the detecting section 63b is applied from the detecting section 63b to the pattern surface (not shown) by applying a signal processing section (not shown) to a predetermined table (a table showing a correspondence relationship between the signal intensity and the distance to the subject) Ma, and / or the presence or absence of the mask M can be detected. The presence or absence of the upper case portion 31B can be detected by comparing the intensity detected by the detection portion 63c with a predetermined second reference value by a signal processing portion (not shown). The detection result such as the presence or absence of the mask case 30 using the detection device 63 is supplied to the control device CONT. Further, at least one of the detecting portions 63a to 63c may be provided.

또한, 마스크 케이스 반송부 (61) 에도, 반송차 (V) 의 핀 (57Aa, 57Ba) 을 갖는 지지부 (57A, 57B) 와 동일한 지지부를 형성하고, 이 지지부의 핀 (도시하지 않음) 을 마스크 케이스 (30) 의 연결부 (38A, 38B) 의 개구 (38Aa, 38Ba) 에 삽입 가능하도록 하여, 진동 등에 의한 마스크 케이스 (30) 의 위치 어긋남을 방지하도록 해도 된다.The mask case return section 61 is also provided with the same support portion as the support portions 57A and 57B having the pins 57Aa and 57Ba of the conveyance carriage V. The pins (not shown) The mask case 30 may be prevented from being displaced due to vibration or the like by being inserted into the openings 38Aa and 38Ba of the connecting portions 38A and 38B of the housing 30.

승강 구동부 (68) 에 의해 마스크 케이스 반송부 (61) 로 지지되어 있는 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 마스크 라이브러리 (LB) 의 어느 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 에서의 설정치보다 높게 설정한 상태에서, 수평 구동부 (67) 에 의해 마스크 케이스 반송부 (61) 를 ＋Y 방향으로 이동하여, 마스크 케이스 반송부 (61) 로 지지되는 마스크 케이스 (30) 를 그 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 의 상방으로 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 강하시킴으로써, 마스크 케이스 (30) 를 그 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 에 수수할 수 있다. 반대로, 어느 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 에 유지되고 있는 마스크 케이스 (30) 의 저면측에 마스크 케이스 반송부 (61) 를 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 Z 위치를 높게 함으로써, 수용부 (65) (또는 일시 수용부 (66)) 로부터 마스크 케이스 반송부 (61) (반송 장치 (H1)) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수할 수 있다.The Z position of the mask case 30 supported by the mask case carrying section 61 by the lifting and lowering driving section 68 is set so that the Z position of the mask library LB in the accommodating section 65 (or the temporary accommodating section 66) The mask case transfer section 61 is moved in the + Y direction by the horizontal drive section 67 and the mask case 30 supported by the mask case transfer section 61 is inserted into the containing section 65 The mask case 30 is moved to the accommodating portion 65 (or the temporary accommodating portion 66) by moving the mask case return portion 61 downward It can be exchanged. Conversely, after the mask case return section 61 is moved to the bottom face side of the mask case 30 held in any receiving section 65 (or temporary holding section 66), the mask case return section 61 The mask case 30 can be transferred from the accommodating portion 65 (or the temporary accommodating portion 66) to the mask case transfer portion 61 (transfer device H1).

다음으로, 도 8 ∼ 도 10 을 참조하여, 마스크 라이브러리 (LB) 의 구성에 대해 설명한다. 도 8 및 도 10 은, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 를 나타내는 사시도, 도 9 는 마스크 라이브러리 (LB) 를 ＋Y 방향으로 본 도면이다. 도 8 에 있어서, 마스크 라이브러리 (LB) 는, 각각 X 방향, Y 방향, 및 Z 방향으로 평행한 복수의 로드 형상의 부재 (설명의 편의상, 일부의 부재가 2 점 쇄선으로 표시되어 있다) 를 연결하여 구성되는 박스 형상의 프레임 기구 (43) 와, 프레임 기구 (43) 의 최하단에 Y 방향으로 평행하게 고정된 Z 위치가 동일한 1 쌍의 레일 (45A, 45B) 과, 레일 (45A, 45B) 의 상방에서 프레임 기구 (43) 에 고정된 수평면에 거의 평행한 칸막이판 (44) 과, 칸막이판 (44) 의 상방의 점차 높아지는 위치 (P1, P2, P3, P4, P5) 에서 프레임 기구 (43) 에 고정된 각각 Y 방향으로 평행한 1 쌍의 레일 (46A, 46B) 을 구비하고 있다. 레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 은 각각 단면 형상이 L 자형이고, 상면이 거의 수평면에 평행하게 되도록, 또한 서로 대향하도록, 그 상면에 직교하는 측면을 갖는 부분이 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 프레임 기구 (43) 의 내면에 고정되어 있다.Next, the configuration of the mask library LB will be described with reference to Figs. 8 to 10. Fig. Figs. 8 and 10 are perspective views showing the mask library LB, respectively. Fig. 9 is a view showing the mask library LB in the + Y direction. 8, the mask library LB has a plurality of rod-shaped members parallel to each other in the X direction, the Y direction, and the Z direction (for convenience of explanation, some members are indicated by two-dot chain lines) A pair of rails 45A and 45B having the same Z position fixed at the lowest end of the frame mechanism 43 in parallel in the Y direction and a pair of rails 45A and 45B of the rails 45A and 45B, A partition plate 44 substantially parallel to the horizontal plane fixed to the frame mechanism 43 at the upper portion and a frame mechanism 43 at positions P 1, P 2, P 3, P 4, and P 5 of the partition plate 44, And a pair of rails 46A, 46B fixed in the Y direction. Each of the rails 45A and 45B and 46A and 46B has an L-shaped cross section, and a portion having a side orthogonal to the upper surface of the rails 45A and 45B is formed in a bolt (not shown) so that the upper surface thereof is substantially parallel to the horizontal surface, And is fixed to the inner surface of the frame mechanism 43.

레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 의 Y 방향의 길이는, 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향의 길이보다 약간 길게 설정되고, 레일 (45A, 45B) 의 상면과 칸막이판 (44) 의 간격, 및 위치 (P1 ∼ P5) 의 Z 방향으로 인접한 레일 (46A, 46B) 의 상면의 Z 방향의 간격은, 각각 마스크 케이스 (30) 의 높이보다 넓게 설정되어 있다. 또, 레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 의 X 방향의 외형의 폭은, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) 의 외형의 X 방향의 폭보다 넓게 설정되고, 레일 (45A, 45B 및 46A, 46B) 의 X 방향의 간격은, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 평판부 (32a) 의 X 방향의 폭 (다리부 (35) 가 고정된 2 개의 평판부 (32b) 의 간격) 과 거의 동일하게 설정되어 있다. 이 때문에, 1 쌍의 레일 (45A, 45B) 의 상면, 및 위치 (P1 ∼ P5) 의 1 쌍의 레일 (46A, 46B) 의 상면에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 ―X 방향의 2 개의 다리부 (35) 및 ＋X 방향의 2 개의 다리부 (35) 를 재치할 수 있다. 1 쌍의 레일 (45A, 45B) 를 포함하여 일시 수용부 (66) 가 구성되고, 위치 (P1 ∼ P5) 의 1 쌍의 레일 (46A, 46B) 을 포함하여 각각 수용부 (65) 가 구성되어 있다. 또한, 도 8 등에서는, 수용부 (65) 는 위치 (P1 ∼ P5) 의 5 단으로 배치되어 있지만, 수용부 (65) 의 수는 증가 또는 감소시킬 수 있다. 또, 평면에서 보아, 레일 (46A, 46B) 과 레일 (45A, 45B) 은 서로 동일한 형상이고, 또한 X 방향 및 Y 방향의 동일한 위치에 설치되어 있다.The lengths of the rails 45A and 45B and 46A and 46B in the Y direction are set to be slightly longer than the length of the mask case 30 in the Y direction and the distance between the upper surface of the rails 45A and 45B and the partition plate 44, And the upper surface of the rails 46A and 46B adjacent to each other in the Z direction of the positions P1 to P5 are set wider than the height of the mask case 30, respectively. The width of the outer shape of the rails 45A and 45B and 46A and 46B in the X direction is set wider than the width of the outer shape of the flange portions 41A and 41B of the mask case 30 in the X direction, The width in the X direction of the flat plate portion 32a of the lower case portion 31A of the mask case 30 is smaller than the width of the flat plate portion 32a in the X direction 32b) in the first embodiment. The upper face of the pair of rails 45A and 45B and the upper face of the pair of rails 46A and 46B of the positions P1 to P5 are respectively fixed to the lower case portion 31A of the mask case 30 The two leg portions 35 in the -X direction and the two leg portions 35 in the + X direction can be mounted. The temporary storage portion 66 is formed to include the pair of rails 45A and 45B and the storage portion 65 including the pair of rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 is formed have. 8 and the like, the accommodating portions 65 are arranged at five positions of the positions P1 to P5, but the number of accommodating portions 65 can be increased or decreased. The rails 46A and 46B and the rails 45A and 45B have the same shape in plan view and are provided at the same positions in the X and Y directions.

마스크 라이브러리 (LB) 와 반송 장치 (H1) 의 위치 관계는, 도 6(A) 의 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A, 62B, 62C) 의 구면부 (62Aa, 62Ba, 62Ca) 에 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄면 (36Ca) 을 접촉시킨 상태에서, 마스크 케이스 (30) 의 ―X 방향 및 ＋X 방향의 2 개의 다리부 (35) 가 각각 대응하는 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 X 방향의 목표 위치에 위치하도록 설정되어 있다. 또, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 X 방향의 폭은, 레일 (46A, 46B) 의 X 방향의 간격보다 여유를 갖고 작게 설정되어 있다. 이 때문에, 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 다리부 (35) 의 저면의 Z 위치를 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 의 상면보다 소정 간격만큼 높게 설정하고, 마스크 케이스 (30) 의 Y 방향 (마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 반출입 방향) 의 위치를 소정의 목표 위치로 설정한 후, 마스크 케이스 (30) 를 강하시킴으로써, 용이하게 그 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상 (수용부 (65)) 에 4 개 지점의 다리부 (35) 를 개재하여 마스크 케이스 (30) 를 재치 (수용) 할 수 있다. 마찬가지로, 반송 장치 (H1) 에 의해 레일 (45A, 45B) 상 (일시 수용부 (66)) 에 마스크 케이스 (30) 를 재치할 수 있다. 또한, 반송 장치 (H1) 의 반대 동작에 의해 수용부 (65) 또는 일시 수용부 (66) 로부터 마스크 케이스 (30) 를 반출할 수 있다. 또한, 레일 (45A, 45B) 을 일시 수용부 (66) 에 형성하는 대신에, 동일한 레일을 반송차 (V) 가 구비하도록 해도 된다. 이에 따라, 마스크 케이스를 일시적으로 일시 수용부 (66) 에 수수하는 일 없이, 반송차 (V) 와 반송 장치 (H1) 의 사이에서 직접적으로 마스크 케이스의 수수를 실시할 수 있다.The positional relationship between the mask library LB and the transfer apparatus H1 is the same as the positional relationship between the mask library LB and the transfer apparatus H1 in the spherical portion 62Aa of the ball transfers 62A, 62B, 62C of the mask case transfer section 61 of the transfer apparatus H1 in Fig. X direction and the X direction of the mask case 30 in the state that the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat face 36Ca of the positioning portions 36A to 36C of the mask case 30 are in contact with the concave portions 36Aa and 36Ba of the mask case 30, The two leg portions 35 in the + X direction are located at the target positions in the X direction on the rails 46A and 46B at the corresponding positions P1 to P5, respectively. The width of the mask case carrying portion 61 in the X direction is smaller than the distance in the X direction of the rails 46A and 46B with a margin. The Z position of the bottom surface of the leg portion 35 of the mask case 30 is set higher by a predetermined distance than the upper surfaces of the rails 46A and 46B at the positions P1 to P5 by the transport apparatus H1, By setting the position of the mask case 30 in the Y direction (the carry-in / out direction with respect to the mask library LB) to a predetermined target position and lowering the mask case 30, The mask case 30 can be mounted (accommodated) on the rails 46A and 46B (the accommodating portion 65) via the leg portions 35 at four points. Similarly, the mask case 30 can be placed on the rails 45A, 45B (temporary accommodating portion 66) by the transport apparatus H1. The mask case 30 can be taken out from the accommodating portion 65 or the temporary storage portion 66 by the reverse operation of the transfer device H1. Instead of forming the rails 45A and 45B in the temporary accommodating portion 66, the same rail may be provided by the transporting carriage V. This makes it possible to directly carry out the mask case between the transporting carriage V and the transport apparatus H1 without temporarily transporting the mask case to the temporary storage unit 66. [

또, ―X 방향측의 레일 (45A, 46A) 의 상면의 ＋Y 방향의 단부에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 측면까지의 X 방향 및 Y 방향의 간격을 비접촉으로 검출 가능한 근접 센서 (50A) 가 설치되고, ＋X 방향측의 레일 (45B, 46B) 의 상면의 ＋Y 방향의 단부에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 측면까지의 X 방향 및 Y 방향의 간격을 비접촉으로 검출 가능한 근접 센서 (50B) 가 설치되고, 레일 (45B, 46B) 의 상면의 ―Y 방향의 단부에, 각각 마스크 케이스 (30) 의 측면까지의 X 방향의 간격을 비접촉으로 검출 가능한 근접 센서 (51) 가 설치되어 있다. 근접 센서 (50A, 50B, 51) 는 예를 들어 광학식이다. 근접 센서 (50A, 50B, 51) 로 검출되는 일시 수용부 (66) 및 수용부 (65) 에 있어서의 마스크 케이스 (30) 의 위치 (X 방향, Y 방향의 위치, 및 θz 방향의 회전각) 의 정보가 제어 장치 (CONT) 에 공급된다. 그와 같이 하여 검출되는 마스크 케이스 (30) 의 위치가 소정의 목표치로부터 허용 범위를 초과하여 어긋나 있는 경우에는, 일례로서 반송차 (V) 또는 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 위치 및/또는 회전각의 조정이 실시된다. 또한, 근접 센서 (50A, 50B, 51) 중 적어도 하나의 센서를 남기고 다른 센서를 생략해도 된다. 또, 근접 센서 (50A, 50B) 의 적어도 일방을 ―Y 방향의 단부에 이동시켜도 되고, 근접 센서 (50A, 50B) 를 Y 방향에 관해서 서로 반대측의 단부에 배치해도 된다.A proximity sensor 50A capable of detecting the distance in the X direction and the Y direction to the side surface of the mask case 30 in a noncontact manner is provided at the end in the + Y direction on the upper surface of the rail 45A, 46A on the -X direction side And a proximity sensor 50B capable of detecting the distance in the X direction and the Y direction to the side surface of the mask case 30 in a noncontact manner is provided at the end in the + Y direction of the upper surface of the rail 45B, 46B on the + X direction side And a proximity sensor 51 capable of detecting the distance in the X direction to the side surface of the mask case 30 in a noncontact manner is provided at an end of the upper surface of the rails 45B and 46B in the -Y direction. Proximity sensors 50A, 50B, 51 are, for example, optical. The position of the mask case 30 (the position in the X direction, the Y direction, and the rotation angle in the? Z direction) in the temporary storage portion 66 and the accommodating portion 65 detected by the proximity sensors 50A, 50B, Is supplied to the control device CONT. When the position of the mask case 30 detected as described above deviates from the predetermined target value by more than the allowable range, the position of the mask case 30 is detected by the transporting vehicle V or the transporting device H1 And / or the rotation angle is adjusted. Also, at least one of the proximity sensors 50A, 50B, and 51 may be left and other sensors may be omitted. At least one of the proximity sensors 50A and 50B may be moved to the end in the -Y direction, or the proximity sensors 50A and 50B may be disposed in the end opposite to each other in the Y direction.

또, 위치 (P2 ∼ P5) 의 레일 (46A 및 46B) 의 2 개 지점에 각각 위치 (P1 ∼ P4) 의 수용부 (65) 에 수용되는 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A 및 41B) 를 지지하기 위한 지지부 (47A1, 47A2 및 47B1, 47B2) 가 대향하도록 부착되고, 프레임 기구 (43) 의 상단의 Y 방향으로 평행한 2 개의 부분의 2 개 지점에 각각 최상단 (위치 (P5)) 의 수용부 (65) 에 수용되는 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A 및 41B) 를 지지하기 위한 지지부 (47C1, 47C2 및 47D1, 47D2) 가 대향하도록 부착되어 있다.The flange portions 41A and 41B of the mask case 30 accommodated in the accommodating portion 65 at the positions P1 to P4 at the two positions of the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5, (Position P5)) at two points of two portions parallel to the Y direction at the upper end of the frame mechanism 43. The support portions 47A1, 47A2 and 47B1, Support portions 47C1, 47C2 and 47D1, 47D2 for supporting the flange portions 41A, 41B of the mask case 30 received in the support portion 65 are attached so as to face each other.

마스크 케이스 (30) 가 위치 (P1 ∼ P4) 의 레일 (46A, 46B) 상의 목표 위치에 재치되어 있는 상태에서는, 예를 들어 도 3(A) 에 점선으로 나타내는 바와 같이 평면에서 보아 (즉, X 축 및 Y 축을 포함하는 평면을 따른 방향에 관해서), 위치 (P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 에 부착된 일방의 지지부 (47A1, 47B1) 가 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 내에 위치하고 있음과 함께, 타방의 지지부 (47A2, 47B2) 는 플랜지부 (41A, 41B) 의 ―Y 방향의 단부에 근접하고 있다. 또한, 지지부 (47A1 ∼ 47B2) 의 Z 위치는 대응하는 플랜지부 (41A, 41B) 의 상면보다 높게 설정되어 있다. 또한, 타방의 지지부 (47A2, 47B2) 의 상면에는, 각각 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 에 삽입 통과 가능한 핀 (48) 이 고정되어 있다. 핀 (48) 의 직경은 개구 (41Ab, 41Bb) 의 직경에 대하여, 반송 장치 (H1) 에 의한 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정 정밀도보다 큰 클리어런스를 갖고 작게 설정되어 있다. 지지부 (47C1, 47C2, 47D1, 47D2) 의 XY 평면 내에서의 위치는, 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 와 동일하고, 지지부 (47C2, 47D2) 의 상면에도, 각각 핀 (48) 이 고정되어 있다.In a state in which the mask case 30 is placed at the target position on the rails 46A and 46B at the positions P1 to P4, for example, as shown by the dotted line in Fig. 3 (A) The supporting portions 47A1 and 47B1 attached to the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5 are engaged with the flange portions 41A and 41B of the mask case 30, 41B of the flange portions 41A, 41B and the other support portions 47A2, 47B2 are located close to the end portions of the flange portions 41A, 41B in the -Y direction. The Z positions of the support portions 47A1 to 47B2 are set higher than the upper surfaces of the corresponding flange portions 41A and 41B. A pin 48 capable of being inserted into the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B is fixed to the upper surfaces of the other support portions 47A2 and 47B2. The diameter of the pin 48 is set smaller with respect to the diameter of the openings 41Ab and 41Bb with a clearance larger than the positioning accuracy of the mask case 30 by the transport apparatus H1. The positions of the support portions 47C1, 47C2, 47D1 and 47D2 in the XY plane are the same as those of the support portions 47A1, 47A2, 47B1 and 47B2 and also the pins 48 are fixed to the upper surfaces of the support portions 47C2 and 47D2, .

이 구성에 의해, 반송 장치 (H1) 로 위치 (P1 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 마스크 케이스 (30) 를, 지지부 (47A1, 47B1) 가 각각 절결부 (41Aa, 41Ba) 를 통과하도록 상승시키고, 또한 마스크 케이스 (30) 를, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 의 상방에 위치하도록, 예를 들어 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 의 Y 방향의 폭분만큼 ―Y 방향으로 이동시킨 후, 마스크 케이스 (30) 를 강하시킴으로써, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 가 각각 위치 (P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 에 형성한 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 또는 최상부의 지지부 (47C1, 47C2, 47D1, 47D2) 로 지지되기 때문에, 하부 케이스부 (31A) 로부터 상부 케이스부 (31B) 를 용이하게 분리할 수 있다. 이 때에, 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 내에 각각 지지부 (47A2, 47B2 또는 47C2, 47D2) 의 핀 (48) 이 삽입 통과되기 때문에, 진동 등에 의해 플랜지부 (41A, 41B) 의 위치가 어긋나는 것을 방지할 수 있다. 또, 이 반대 동작에 의해, 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 용이하게 정확하게 위치 결정한 상태에서 재치할 수 있다. 또한, 진동 등이 적고, 플랜지부 (41A, 41B) 의 위치 어긋남량이 적은 경우에는, 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 및 지지부 (47A2, 47B2, 47C2, 47D2) 의 핀 (48) 은 생략하는 것이 가능하다. 또, 개구 (41Ab, 41Bb) 는, 핀 (48) 이 삽입 통과되도록 관통한 개구한 형상에 한정되지 않고, 핀 (48) 과 서로 끼워맞추는 형상이면 되고, 예를 들어, 플랜지부 (41A, 41B) 의 상면측이 닫힌 (개구하고 있지 않는) 구멍, 즉 관통하고 있지 않는 (오목 형상의) 구멍으로 할 수도 있다.With this configuration, the mask case 30 on the rails 46A and 46B at positions P1 to P5 is moved by the carrier H1 so that the support parts 47A1 and 47B1 pass through the cutouts 41Aa and 41Ba, Of the cutouts 41Aa and 41Ba of the flange portions 41A and 41B so that the openings 41Ab and 41Bb are located above the pins 48 The flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B are formed on the rails 46A and 46B at the positions P2 to P5 respectively by moving the mask case 30 in the Y- The upper case portion 31B can be easily separated from the lower case portion 31A because it is supported by the support portions 47A1, 47A2, 47B1 and 47B2 or the uppermost support portions 47C1, 47C2, 47D1 and 47D2. At this time, since the pins 48 of the support portions 47A2, 47B2 or 47C2, 47D2 are inserted into the openings 41Ab, 41Bb of the flange portions 41A, 41B, the flange portions 41A, Can be prevented from being displaced. By the opposite operation, the upper case portion 31B can be placed on the lower case portion 31A in a state in which the upper case portion 31B can be easily and precisely positioned. When the amount of displacement of the flange portions 41A and 41B is small and the vibrations and the like are small and the positions of the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B and the pins 47A2 and 47B2 of the supporting portions 47A2 and 47B2, 48) can be omitted. The openings 41Ab and 41Bb are not limited to the open shapes that allow the fins 48 to be inserted therethrough. The openings 41Ab and 41Bb may be of any shape that fits with the fins 48. For example, the flanges 41A and 41B May be a closed (not open) hole, that is, a hole that does not penetrate (concave).

또, 도 8 에 있어서, 칸막이판 (44) 의 ＋X 방향의 단부의 상면에 마스크 케이스 (30) 의 검출 장치 (52) 가 고정되고, 검출 장치 (52) 로부터 Z 방향으로 평행하게 상방에 광빔 (LB1) 이 조사되고, 프레임 기구 (43) 의 최상부의 부재에, 광빔 (LB1) 을 ―Z 방향으로 반사하는 반사 부재 (49) 가 형성되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 반사 부재 (49) 및 검출 장치 (52) 는, 반송 장치 (H1) 의 일부이다. 위치 (P1 ∼ P5) 의 ＋X 방향측의 레일 (46B) 에는 각각 광빔 (LB1) 을 통과시키기 위한 개구 (46Ba) 가 형성되어 있다. 도 9 에 나타내는 바와 같이, 검출 장치 (52) 는, 광빔을 사출하는 광원부 (52a) 와, 광원부 (52a) 로부터 사출된 광빔의 일부 (광빔 (LB1)) 를 ＋Z 방향으로 반사하는 빔 스플리터 (52b) 와, 반사 부재 (49) 로 반사된 광빔 (LB1) 중에서 빔 스플리터 (52b) 를 투과한 광빔을 수광하여 광전 변환하는 포토 다이오드 등의 광전 센서 (52c) 를 갖는다. 광전 센서 (52c) 의 검출 신호를 신호 처리부 (도시하지 않음) 로 소정의 기준치와 비교함으로써, 광빔 (LB1) 의 광로 상에 물체가 있는지 여부를 검출할 수 있다. 검출 결과는 제어 장치 (CONT) 에 공급된다. 8, the detecting device 52 of the mask case 30 is fixed to the upper surface of the end portion in the + X direction of the partition plate 44 and the light beam (light beam) And a reflecting member 49 for reflecting the light beam LB1 in the -Z direction is formed on the uppermost member of the frame mechanism 43. As shown in Fig. In the present embodiment, the reflection member 49 and the detection device 52 are part of the transport apparatus H1. The rail 46B on the + X direction side of the positions P1 to P5 is provided with an opening 46Ba for allowing the light beam LB1 to pass therethrough, respectively. 9, the detecting device 52 includes a light source portion 52a for emitting a light beam and a beam splitter 52b for reflecting a part of the light beam (light beam LB1) emitted from the light source portion 52a in the + Z direction And a photoelectric sensor 52c such as a photodiode for photoelectrically converting the light beam transmitted through the beam splitter 52b out of the light beam LB1 reflected by the reflecting member 49. [ It is possible to detect whether or not an object exists on the optical path of the light beam LB1 by comparing the detection signal of the photoelectric sensor 52c with a predetermined reference value by a signal processing section (not shown). The detection result is supplied to the control device CONT.

또한, 광원부 (52a) 와 광전 센서 (52c) 의 배치를 교체하여, 빔 스플리터 (52b) 가 광원부 (52a) 로부터의 광빔을 투과시키고, 광전 센서 (52c) 가 빔 스플리터 (52b) 로 반사된 광빔을 검출해도 된다. 또, 반사 부재 (49) 에, 상기 서술한 반사부 (37B) 와 동일하게 편광 특성을 갖게 해도 되고, 혹은 반사 부재 (49) 를 향하는 광빔과 반사 부재 (49) 로 반사된 광빔이 서로 편광 방향이 직교하는 직선 편광이 되도록 광빔의 광로에 1/4 파장판이나 편광자 등의 편광 소자를 배치해도 된다. 이 경우, 빔 스플리터 (52b) 에 편광 특성을 갖게 하여 편광빔 스플리터로 해도 된다.The arrangement of the light source section 52a and the photoelectric sensor 52c is changed so that the beam splitter 52b transmits the light beam from the light source section 52a and the photoelectric sensor 52c transmits the light beam reflected by the beam splitter 52b, May be detected. The reflecting member 49 may have the same polarizing property as the above-described reflecting portion 37B or the light beam that is directed to the reflecting member 49 and the light beam that is reflected by the reflecting member 49, Polarizing element such as a quarter wave plate or a polarizer may be disposed in the optical path of the light beam so as to be orthogonal linearly polarized light. In this case, the beam splitter 52b may be made to have a polarization characteristic to be a polarization beam splitter.

이 경우, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 위치 (P1) (또는 P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 목표 위치에 마스크 케이스 (30) 를 재치한 상태에서, 플랜지부 (41B) 의 절결부 (41Ba) 로부터 떨어진 위치에 있는 개구 (41Bd) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 광빔 (LB1) 의 광로가 설정되어 있다. 또한, 상기 서술한 바와 같이, 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 를 예를 들어 위치 (P3) (또는 위치 (P2, P4, P5)) 의 지지부 (47A1, 47A2 및 47B1, 47B2) 또는 지지부 (47C1, 47C2 및 47D1, 47D2) 상에 재치한 상태에서, 플랜지부 (41B) 의 절결부 (41Ba) 에 가까운 위치에 있는 개구 (41Bc) (도 2(A) 참조) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 상부 케이스부 (31B) 가 위치 결정된다. 이와 같이 위치 (P1 ∼ P5) 전부의 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 가 각각 수용부 (65) 의 소정 위치 (목표 위치) 에 위치 결정된 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc 또는 41Bd) 내를 통과하기 때문에, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체가 없는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출함으로써, 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 가 수용부 (65) (목표 위치) 에 대하여 소정의 허용 범위 내에 위치 결정된 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 의 수용 상태를 검지할 수 있다.10, in a state in which the mask case 30 is placed at the target position on the rails 46A and 46B at the position P1 (or P2 to P5), the flange portion 41B, The optical path of the light beam LB1 is set so that the light beam LB1 passes through the opening 41Bd located at a position away from the light source 41Ba. As described above, the upper case portion 31B of the mask case 30 can be moved to the position P3 (or positions P2, P4 and P5) by the carrier H1, An opening 41Bc (see Fig. 2 (A)) located near the notch 41Ba of the flange portion 41B in a state of being mounted on the supporting portions 47A2, 47B2, 47B2, 47B2, 47B2, 47B2, )) Of the upper casing portion 31B so that the light beam LB1 passes through the upper case portion 31B. In the state in which the mask case 30 and / or the upper case portion 31B of each of the positions P1 to P5 are positioned at predetermined positions (target positions) of the accommodating portion 65, Passes through the opening 41Bc or 41Bd of the holding portion 41B and therefore the detecting device 52 can detect that there is no object in the optical path of the light beam LB1. That is, by detecting the light beam LB1 by the detecting device 52, the mask case 30 and / or the upper case portion 31B are positioned within the predetermined allowable range with respect to the accommodating portion 65 (target position) Can be detected. In other words, the accommodating state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31B with respect to the accommodating portion 65 can be detected.

한편, 위치 (P1 ∼ P5) 중 어느 것의 마스크 케이스 (30) 또는 상부 케이스부 (31B) 가 목표 위치로부터 허용 범위를 초과하여 어긋난 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc 및 41Bd) 를 통과할 수 없게 되고, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체 (플랜지부 (41B)) 가 있는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출할 수 없게 됨으로써, 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 가 목표 위치에 대하여 허용 범위를 초과하여 위치 결정된 (즉, 위치 어긋나 있는) 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 이 경우도 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31B) 의 수용 상태를 검지할 수 있다. 이 때문에, 일례로서, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 에 마스크 케이스 (30) 를 반송할 때, 또는 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 를 대응하는 지지부 (47A1 ∼ 47B2) 등에 재치할 때에는, 각각 검출 장치 (52) 로 광빔 (LB1) 을 검출할 수 있도록 마스크 케이스 (30) 또는 상부 케이스부 (31B) 의 위치를 조정함으로써, 마스크 케이스 (30) 또는 상부 케이스부 (31B) 를 각각 용이하게 목표 위치에 설치할 수 있다.On the other hand, in a state in which the mask case 30 or the upper case portion 31B of the positions P1 to P5 is deviated from the target position beyond the permissible range, the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B And the detection device 52 can detect that the object (flange portion 41B) is present in the optical path of the light beam LB1. That is, since the light beam LB1 can not be detected by the detecting device 52, the mask case 30 and / or the upper case portion 31B are positioned beyond the allowable range with respect to the target position (i.e., Is misaligned). In other words, also in this case, the accommodating state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31B with respect to the accommodating portion 65 can be detected. Therefore, for example, when carrying the mask case 30 to the accommodating portion 65 by the transfer device H1, or by moving the upper case portion 31B of the mask case 30 to the corresponding supporting portions 47A1 to 47B2 The positions of the mask case 30 or the upper case portion 31B are adjusted so that the light beam LB1 can be detected by the detection device 52. The mask case 30 or the upper case portion 31B can be easily installed at the target position.

또한, 본 실시형태에 있어서, 하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B) 를 구성하는 복수의 부재는, 볼트에 의한 연결 외에, 용접 또는 접착에 의한 연결, 또는 일체 성형 등으로 연결해도 된다.Further, in the present embodiment, a plurality of members constituting the lower case portion 31A and the upper case portion 31B may be connected by welding, bonding by bonding, or integral molding in addition to the connection by bolts .

다음으로, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 에 있어서의 마스크 (M) 의 반송 방법을 포함하는 노광 방법의 일례에 대해 도 11(A) 및 (B) 의 플로우 차트를 참조하여 설명한다. 이 동작은 제어 장치 (CONT) 에 의해 제어된다.Next, an example of the exposure method including the method of conveying the mask M in the exposure apparatus EX of the present embodiment will be described with reference to the flowcharts of Figs. 11A and 11B. This operation is controlled by the control device CONT.

먼저, 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 가 반송차 (V) 에 의해 마스크 스토커 (도시하지 않음) 로부터 노광 장치 (EX) 의 마스크 라이브러리 (LB) 까지 반송된다 (스텝 102). 즉, 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 의 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54C) 의 구면부에 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 가 접촉하도록, 마스크 케이스 반송부 (53) 에 마스크 케이스 (30) 를 재치한다. 그리고, 마스크 케이스 (30) 의 X 방향의 위치 및 θz 방향의 각도가 각각 일시 수용부 (66) 에서의 목표치가 되도록 반송차 (V) 의 위치 결정을 실시하고, 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치를 설정치보다 높게 한 후, 도시하지 않는 개폐 기구에 의해 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 를 개방하고, 반송차 (V) 가 그 반출입구를 통해 마스크 케이스 반송부 (53) 로 지지된 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 레일 (45A, 45B) 의 상방으로 이동한다. 또한, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 를 강하시킴으로써, 레일 (45A, 45B) 에 마스크 케이스 (30) 의 4 개 지점의 다리부 (35) 가 재치된다. 이에 따라, 반송차 (V) 로부터 일시 수용부 (66) 에 마스크 케이스 (30) 가 수수된 것이 된다.First, the mask case 30 containing the mask M is transported from the mask stocker (not shown) to the mask library LB of the exposure apparatus EX by the transporting carriage V (step 102). The concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A to 36C of the mask case 30 and the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A to 36C of the mask case 30 are formed on the spherical surface portions of the ball transfers 54A to 54C of the mask case return portion 53 of the conveyance car V The mask case 30 is placed on the mask case return section 53 so that the flat section 36Ca comes into contact. The carriage V is positioned so that the position of the mask case 30 in the X direction and the angle in the z direction become the target values in the temporary accommodating portion 66, (Not shown) of the exposure chamber CH is opened by an opening and closing mechanism (not shown), and the conveyance carriage V is conveyed to the mask case conveyance portion 53 The supported mask case 30 is moved above the rails 45A and 45B of the mask library LB. 9, the leg portions 35 at the four positions of the mask case 30 are mounted on the rails 45A and 45B by lowering the mask case carrying portion 53 of the carry- do. As a result, the mask case 30 is transferred from the transporting carriage V to the temporary storage portion 66.

이 때에, 레일 (45A, 45B) 상의 근접 센서 (50A, 50B, 51) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 X 방향, Y 방향의 위치, 및 θz 방향의 회전각을 검출하고, 제어 장치 (CONT) 에 있어서 그 검출 결과를 미리 정해 있는 목표치와 비교해도 된다. 그리고, 그 검출 결과의 목표치로부터의 어긋남량이 소정의 허용 범위를 초과하고 있는 경우에는, 반송차 (V) 로 마스크 케이스 (30) 를 레일 (45A, 45B) 로부터 상승시켜, 마스크 케이스 (30) 의 위치 및/또는 회전각을 보정한 후, 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 에 수수해도 된다. 이것은 반송 장치 (H1) 에 의해 레일 (46A, 46B) 상에 마스크 케이스 (30) 를 재치할 때에도 동일하다. 그 후, 반송차 (V) 가 ＋Y 방향으로 이동하여 노광 챔버 (CH) 의 반출입구 (도시하지 않음) 가 닫힌다.At this time, the proximity sensors 50A, 50B and 51 on the rails 45A and 45B detect the rotation angles of the mask case 30 in the X and Y directions and in the? Z direction, The detection result may be compared with a predetermined target value. When the displacement of the detection result from the target value exceeds the predetermined allowable range, the mask case 30 is raised from the rails 45A and 45B by the transporting carriage V, After correcting the position and / or the rotation angle, the mask case 30 may be housed in the temporary housing 66. This is also true when the mask case 30 is placed on the rails 46A, 46B by the transfer apparatus H1. Thereafter, the carriage V moves in the + Y direction, and the exit / entrance (not shown) of the exposure chamber CH is closed.

또한, 반송 장치 (H1) 에 의해, 마스크 라이브러리 (LB) 의 일시 수용부 (66) 로부터 어느 수용부 (65) 로 마스크 케이스 (30) 를 이동하기 위해서, 도 9 에 나타내고 있는 마스크 케이스 반송부 (53) 의 위치로, 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 를 이동한다. 그리고, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 상승시켜, 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 의 구면부가 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄부 (36Ca) 에 접촉하도록, 마스크 케이스 반송부 (61) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수한다.In order to move the mask case 30 from the temporary accommodating portion 66 of the mask library LB to the accommodating portion 65 by the transfer device H1, the mask case transfer portion 53 to move the mask case transfer section 61 of the transfer apparatus H1. The mask case transfer section 61 is then raised so that the spherical surfaces of the ball transporters 62A to 62C of the mask case transfer section 61 are brought into contact with the recesses 36Aa to 36C of the positioning sections 36A to 36C of the mask case 30 And 36Ba and the flat portion 36Ca of the mask case 30. The mask case 30 is transferred to the mask case return section 61. [

이와 같이 마스크 케이스 반송부 (61) 에 마스크 케이스 (30) 를 수수했을 때에, 일례로서 도 11(B) 의 스텝 120 에서 나타내는 바와 같이, 검출 장치 (63) 에 의해 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 의 유무 (또는 마스크 (M) 까지의 거리) 를 검출해도 된다. 하부 케이스부 (31A) 가 없는 경우에는, 하부 케이스부 (31A) 로서 다른 마스크용 하부 케이스부가 사용되고 있는 경우 등이 생각된다. 그리고, 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 중 적어도 하나가 없다 (또는 마스크 (M) 까지의 거리가 허용 범위를 초과하고 있다) 고 판정된 경우, 스텝 122 로 이행하여 마스크 케이스 (30) 를 반환한다. 즉, 제어 장치 (CONT) 에서는, 일례로서, 반송 장치 (H1) 에 그 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 로 되돌리도록 제어 정보를 공급하고, 반송차 (V) 에 그 마스크 케이스 (30) 를 노광 챔버 (CH) 의 외부에 반출하도록 제어 정보를 공급한다. 이에 따라, 마스크 케이스 (30) 는 노광 챔버 (CH) 의 외부에 반출된다. 그 후, 동작은 스텝 102 로 되돌아간다. 이 경우, 그 반환된 마스크 케이스 (30) 와 교환된 다른 마스크 케이스 (30) 가 반송차 (V) 에 의해 일시 수용부 (66) 에 반입된다.When the mask case 30 is received in the mask case return section 61 as described above, the detection device 63 detects the position of the mask case 30 in the lower case (not shown) of the mask case 30, The presence or absence of the portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B (or the distance to the mask M) may be detected. In the absence of the lower case portion 31A, it is conceivable that another mask lower case portion is used as the lower case portion 31A. If it is determined that there is not at least one of the lower case portion 31A, the mask M and the upper case portion 31B (or the distance to the mask M exceeds the allowable range), the step 122 And the mask case 30 is returned. The control device CONT supplies control information to the transport apparatus H1 so that the mask case 30 is returned to the temporary storage section 66, 30 to the outside of the exposure chamber CH. Thus, the mask case 30 is taken out to the outside of the exposure chamber CH. After that, the operation returns to step 102. [ In this case, the returned mask case 30 and another mask case 30 are carried into the temporary storage unit 66 by the transporting carriage V.

이에 따라, 다른 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30), 또는 마스크 (M) 가 없는 마스크 케이스 (30) 가 잘못하여 마스크 라이브러리 (LB) 의 수용부 (65) 에 수납되는 것을 방지할 수 있다. 이 때문에, 예를 들어 반송 장치 (H1) 가 마스크 로더계 (H2) 에 마스크 (M) 를 수수하는 단계에서 마스크 (M) 가 없는 것이 판명되는 것을 방지할 수 있고, 마스크의 반송 불량을 방지할 수 있다. 또한, 예를 들어 노광 챔버 (CH) 의 외부에서, 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 가 존재하는 것 (또는 마스크 (M) 까지의 거리가 허용 범위 내에 있는 것) 이 오퍼레이터 등에 의해 정확하게 확인되어 있는 경우에는, 검출 장치 (63) 에 의한 확인 (스텝 120) 을 생략해도 된다.This makes it possible to prevent the mask case 30 containing the other mask M or the mask case 30 without the mask M from being stored in the accommodating portion 65 of the mask library LB mistakenly have. Therefore, for example, it can be prevented that the transfer apparatus H1 does not have the mask M at the stage of transferring the mask M to the mask loader system H2, and it is possible to prevent the transfer failure of the mask . Further, for example, when the distance from the exposure chamber CH to the presence of the lower case portion 31A, the mask M, and the upper case portion 31B (or the mask M) (Step 120) by the detecting device 63 may be omitted.

스텝 120 에 있어서, 하부 케이스부 (31A), 마스크 (M), 및 상부 케이스부 (31B) 가 전부 존재한다 (또는 마스크 (M) 까지의 거리가 허용 범위 내에 있다) 고 판정된 경우, 또는 검출 장치 (63) 에 의한 확인을 생략한 경우에는, 스텝 104 로 이행하여, 반송 장치 (H1) 에 의해, 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 예를 들어 위치 (P1) 의 수용부 (65) 로 이동한다. 즉, 마스크 케이스 (30) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) 를 ―Y 방향으로 이동하고, 마스크 케이스 (30) 의 Z 위치가 예를 들어 위치 (P1) 의 레일 (46A, 46B) 의 상방이 되도록 마스크 케이스 반송부 (61) 를 상승시켜, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 ＋Y 방향으로 이동함으로써, 마스크 케이스 (30) 는 위치 (P1) 의 레일 (46A, 46B) 의 상방으로 이동한다. 또한, 도 9 에 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 를 강하시킴으로써, 위치 (P1) 의 레일 (46A, 46B) 에 마스크 케이스 (30) 의 4 개 지점의 다리부 (35) 가 재치된다. 이에 따라, 일시 수용부 (66) 로부터 위치 (P1) 의 수용부 (65) 에 마스크 케이스 (30) 가 이동된 것이 된다.If it is determined in step 120 that all of the lower case portion 31A, the mask M and the upper case portion 31B are present (or the distance to the mask M is within the permissible range) If the confirmation by the device 63 is omitted, the process proceeds to step 104 where the mask case 30 is held by the carrying device H1 in the accommodating part (for example, position P1) of the mask library LB 65). That is, the mask case carrying section 61 for supporting the mask case 30 is moved in the -Y direction so that the Z position of the mask case 30 is moved to the upper side of the rails 46A and 46B at the position P1, The mask case 30 is lifted above the rails 46A and 46B at the position P1 by raising the mask case carrying portion 61 to move the mask case carrying portion 61 in the + Y direction. As shown by the two-dot chain line in Fig. 9, the mask case transfer section 61 of the transfer apparatus H1 is lowered so that the four rails 46A, 46B of the mask case 30 The leg portion 35 of the point is placed. As a result, the mask case 30 is moved from the temporary storage portion 66 to the storage portion 65 at the position P1.

여기서는, 설명의 편의상, 도 12 에 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상 (수용부 (65)) 에 마스크 케이스 (30) 가 이동된 것으로 하여, 위치 (P2) 의 수용부 (65) 로부터 마스크 스테이지 (MST) 에 마스크 케이스 (30) 내의 마스크 (M) 를 반송하는 것으로 한다. 또한, 도 12 및 도 13 에 있어서는, 설명의 편의상, 프레임 기구 (43) 의 일부 및 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41B) 를 단면으로 나타내고 있다. 이 때, 도 12 에 있어서, 검출 장치 (52) 로부터 사출된 광빔 (LB1) 이, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bd) 및 반사 부재 (49) 를 통해서 검출 장치 (52) 로 검출되도록, 또한 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 의 상방에 위치 (P3) 의 지지부 (47A1, 47B1) 가 위치하도록 (도 3(A) 참조), 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정이 실시되어 있다. 이에 따라, 다음으로 마스크 케이스 (30) 를 반송 장치 (H1) 로 지지할 때에, 마스크 케이스 (30) 에 대한 마스크 케이스 반송부 (61) 의 위치 결정을 효율적으로 (단시간에) 실시할 수 있다.Here, for convenience of explanation, it is assumed that the mask case 30 is moved on the rails 46A, 46B (the accommodating portion 65) at the position P2 as indicated by the two-dot chain line in FIG. 12, The mask M in the mask case 30 is transferred from the accommodating portion 65 of the mask stage MST to the mask stage MST. 12 and 13, a part of the frame mechanism 43 and the flange portion 41B of the mask case 30 are shown in cross section for convenience of explanation. 12, the light beam LB1 emitted from the detecting device 52 is guided to the detecting device 52 (see FIG. 12) through the opening 41Bd of the flange portion 41B of the mask case 30 and the reflecting member 49 The support portions 47A1 and 47B1 of the position P3 are positioned above the notches 41Aa and 41Ba of the flange portions 41A and 41B 30 are positioned. Thus, when the mask case 30 is next supported by the transfer apparatus H1, positioning of the mask case transfer section 61 with respect to the mask case 30 can be performed efficiently (in a short time).

그리고, 위치 (P2) 의 수용부 (65) 의 마스크 케이스 (30) 의 저면의 하방에 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 를 이동한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 상승시켜, 사용 대상의 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 에 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A, 62B) 의 구면부 (62Aa, 62Ba) (볼록부) 를 접촉 (걸어맞춤) 시키고, 그 마스크 케이스 (30) 의 위치 결정부 (36C) 의 평탄부 (36Ca) 에 볼 트랜스퍼 (62C) 의 구면부 (62Ca) 를 접촉 (걸어맞춤) 시킨다 (스텝 106). 이 상태에서 마스크 케이스 반송부 (61) (마스크 케이스 (30)) 를 더욱 상승시켜, 플랜지부 (41A, 41B) 의 절결부 (41Aa, 41Ba) 가 지지부 (47A1, 47B1) 를 통과한 후, 화살표 (A1) 로 나타내는 바와 같이, 절결부 (41Aa, 41Ba) 의 Y 방향의 폭분만큼 마스크 케이스 (30) 를 ―Y 방향으로 슬라이드 이동시키고 나서, 화살표 (A2) 로 나타내는 바와 같이 마스크 케이스 (30) 를 강하시킨다 (스텝 108).After the mask case transfer section 61 of the transfer apparatus H1 is moved below the bottom surface of the mask case 30 in the accommodating section 65 at the position P2, the mask case transfer section 61 is moved up The spherical surfaces 62Aa and 62Ba of the ball transfers 62A and 62B of the mask case transfer portion 61 are inserted into the concave portions 36Aa and 36Ba of the positioning portions 36A and 36B of the mask case 30 to be used, And the spherical portion 62Ca of the ball transfer 62C is brought into contact with (engaged with) the flat portion 36Ca of the positioning portion 36C of the mask case 30, (Step 106). In this state, the mask case transfer section 61 (mask case 30) is further raised so that the notches 41Aa and 41Ba of the flange sections 41A and 41B pass through the support sections 47A1 and 47B1, The mask case 30 is slid in the -Y direction by the width of the cutout portions 41Aa and 41Ba in the Y direction and then the mask case 30 is moved in the Y- (Step 108).

이에 따라, 도 13 및 도 9 에 2 점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 가 위치 (P3) 의 지지부 (47A1, 47A2 및 47B1, 47B2) 에 재치되고, 하부 케이스부 (31A) 만이 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치되어, 하부 케이스부 (31A) 로부터 상부 케이스부 (31B) 가 분리된다. 또, 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 내에 지지부 (47A2, 47B2) 의 핀 (48) 이 삽입 통과되어 있다.The flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B of the mask case 30 are supported by the supporting portions 47A1, 47A2 and 47B1 at the position P3, as shown by the two- And 47B2 so that only the lower case portion 31A is placed on the mask case transfer portion 61 and the upper case portion 31B is separated from the lower case portion 31A. The pins 48 of the support portions 47A2 and 47B2 are inserted into the openings 41Ab and 41Bb of the flange portions 41A and 41B.

또한, 일례로서, 스텝 108 에 이어 도 11(C) 의 스텝 130 에 있어서, 제어 장치 (CONT) 는, 검출 장치 (52) 로부터 사출된 광빔 (LB1) 이, 반사 부재 (49) 를 통해서 검출 장치 (52) 로 검출되는지 여부를 확인해도 된다. 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되는 경우에는, 광빔 (LB1) 이, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과하고 있는 것, 즉, 상부 케이스부 (31B) 가 정확하게 위치 결정되어 있는 것을 의미한다. 이 경우에는, 마스크 (M) 의 사용 후에 마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 재치할 때에, 상부 케이스부 (31B) 의 하방의 목표 위치에 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 이동하여, 하부 케이스부 (31A) 를 상승시킴으로써, 효율적으로 (단시간에) 상부 케이스부 (31B) 에 하부 케이스부 (31A) 를 정확하게 재치할 수 있다.As an example, in step 130 of FIG. 11 (C) following the step 108, the control device CONT judges whether or not the light beam LB1 emitted from the detection device 52 passes through the reflection member 49, It is also possible to confirm whether or not it is detected by the sensor 52 as shown in FIG. When the light beam LB1 is detected by the detecting device 52, the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B, that is, (31B) is correctly positioned. In this case, when the upper case portion 31B is placed on the lower case portion 31A on which the mask M is placed after the use of the mask M, The lower case portion 31A can be accurately placed on the upper case portion 31B efficiently (in a short time) by moving the carry portion 61 (lower case portion 31A) .

그래서, 스텝 130 에 있어서, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되는 경우에는 동작은 스텝 110 으로 이행한다. 한편, 스텝 130 에 있어서, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되지 않는 경우에는, 스텝 132 로 이행하여, 재차 마스크 케이스 반송부 (61) 에 의해 상부 케이스부 (31B) 를 상승시켜 상부 케이스부 (31B) 에 상부 케이스부 (31B) 를 재치한 후, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되도록 마스크 케이스 반송부 (61) 의 Y 방향의 위치를 조정한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 강하시킨다. 그리고, 광빔 (LB1) 이 검출 장치 (52) 로 검출되도록 된 상태에서, 스텝 110 으로 이행한다. 또한, 스텝 130 및 132 의 동작은, 스텝 108 의 도중 (마스크 케이스 (30) 의 ―Y 방향으로의 슬라이드 이동 후) 에 실시하도록 해도 된다.Thus, when the light beam LB1 is detected by the detecting device 52 in step 130, the operation proceeds to step 110. [ On the other hand, if the light beam LB1 is not detected by the detecting device 52 in step 130, the process proceeds to step 132, and the mask case transfer section 61 again raises the upper case section 31B, The position of the mask case carrying section 61 in the Y direction is adjusted so that the light beam LB1 is detected by the detecting device 52 after the upper case section 31B is placed on the case section 31B, Thereby lowering the portion 61 (lower case portion 31A). Then, in a state in which the light beam LB1 is detected by the detecting device 52, the process proceeds to step 110. [ The operations in steps 130 and 132 may be performed in the middle of step 108 (after the slide movement in the -Y direction of the mask case 30).

스텝 110 에 있어서, 화살표 (A3) 로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 개재하여 하부 케이스부 (31A) 를 ―Y 방향으로 슬라이드 이동시켜, 하부 케이스부 (31A) 를 마스크 라이브러리 (LB) 로부터 인발한 후, 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 반송 장치 (H1) 의 최상부인 위치 (CA1) (도 1 참조) 까지 상승시킨다. 위치 (CA1) 에 있어서, 마스크 (M) 는, 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 로부터 마스크 로더계 (H2) 의 캐리어 (21) 에 수수된다 (스텝 112). 이 때에, 하부 케이스부 (31A) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 가 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A, 62B) 에 대하여 위치 결정되어 있고, 캐리어 (21) 와 마스크 케이스 반송부 (61) (볼 트랜스퍼 (62A, 62B)) 는 서로 정확하게 위치 결정되어 있기 때문에, 캐리어 (21) 는 효율적으로 마스크 케이스 반송부 (61) 로부터 마스크 (M) 를 수취할 수 있다.The lower case portion 31A is slid in the -Y direction through the mask case carrying portion 61 and the lower case portion 31A is moved to the mask library LB The mask case transfer section 61 (lower case section 31A) is raised to the position CA1 (see FIG. 1) which is the uppermost position of the transfer apparatus H1. At the position CA1, the mask M is transferred from the mask case transfer section 61 of the transfer apparatus H1 to the carrier 21 of the mask loader system H2 (step 112). At this time, the positioning portions 36A and 36B of the lower case portion 31A are positioned with respect to the ball transfers 62A and 62B of the mask case returning portion 61, and the carrier 21 and the mask case returning portion The carrier 21 can efficiently receive the mask M from the mask case transfer section 61 because the transfer arm 61 (ball transfers 62A and 62B) are accurately positioned with respect to each other.

캐리어 (21) 는, 예를 들어 진공 흡착 기구에 의해 마스크 (M) 를 수취한다. 그 진공 흡착 기구는, 캐리어 (21) 의 저면에 형성된 진공 흡착공과, 그 진공 흡착공에 도시하지 않는 배관을 통해서 연결된 도시하지 않는 진공 펌프를 갖고, 이 진공 펌프의 온/오프에 의해 마스크 (M) 의 흡착 유지 및 유지 해제를 전환 가능하도록 되어 있다. 그리고, 마스크 로더계 (H2) 에 의해 마스크 (M) 는 마스크 스테이지 (MST) 의 상방으로 반송되어, 마스크 스테이지 (MST) 로 로드된다 (스텝 114).The carrier 21 receives the mask M by, for example, a vacuum adsorption mechanism. The vacuum adsorption mechanism has a vacuum adsorption hole formed on the bottom surface of the carrier 21 and a vacuum pump (not shown) connected through a pipe not shown in the vacuum adsorption hole. The mask M Can be switched between the adsorption holding state and the adsorption holding state. Then, the mask M is carried by the mask loader system H2 to the upper side of the mask stage MST, and is loaded into the mask stage MST (step 114).

즉, 캐리어 (21) 는, 마스크 (M) 를 유지한 상태에서, 위치 (CA1) 와 위치 (CA2) 사이를 캐리어 가이드부 (21A) 에 지지되면서 이동 가능함과 함께, 캐리어 가이드부 (21A) 와 함께 Z 방향으로 이동 가능하다. 즉, 캐리어 (21) 는 도 1 중, X 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하도록 형성되어 있다. 캐리어 (21) 는, 위치 (CA1) 에 있어서 반송 장치 (H1) 에 지지되어 있는 하부 케이스부 (31A) 로부터 마스크 (M) 를 수취한 후, 마스크 (M) 를 위치 (CA2) 까지 반송한다. 위치 (CA2) 로 이동한 캐리어 (21) 는, 위치 (CA2) 에 있어서 마스크 (M) 를 로드 아암 (22) 에게 건네준다. 여기서 로드 아암 (22) 및 언로드 아암 (23) 은, 도 1 중, Y 방향 및 Z 방향으로 이동 가능하다. 로드 아암 (22) 과 언로드 아암 (23) 은, 위치 (CA2) 와 마스크 스테이지 (MST) 사이를 Y 방향으로 개별적으로 이동 가능함과 함께, Z 방향에 대해서는 Z 축 가이드부 (22A) 에 지지되면서 일체로 이동 가능하도록 되어 있다. 이들 로드 아암 (22) 및 언로드 아암 (23) 은, 마스크 (M) 를 유지하는 진공 흡착공을 갖고 있으며, 연결된 진공 펌프의 온/오프에 의해 마스크 (M) 의 흡착 유지 및 유지 해제를 실시한다. 로드 아암 (22) 은, 위치 (CA2) 에 있어서 노광 처리에 사용하는 마스크 (M) 를 캐리어 (21) 로부터 수취하고, 마스크 스테이지 (MST) 의 상방까지 반송한 후, 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (MST) 에 로드한다.That is, the carrier 21 is movable between the position CA1 and the position CA2 while being supported by the carrier guide portion 21A in a state in which the mask M is held, and is supported by the carrier guide portion 21A It is movable in the Z direction together. That is, the carrier 21 is formed to be movable in the X and Z directions in Fig. The carrier 21 receives the mask M from the lower case portion 31A supported by the transfer device H1 at the position CA1 and then transfers the mask M to the position CA2. The carrier 21 moved to the position CA2 hands the mask M to the load arm 22 at the position CA2. Here, the load arm 22 and the unload arm 23 are movable in the Y and Z directions in Fig. The load arm 22 and the unloading arm 23 can be moved independently in the Y direction between the position CA2 and the mask stage MST while being supported by the Z axis guide portion 22A in the Z direction, As shown in Fig. The load arm 22 and the unload arm 23 have a vacuum adsorption hole for holding the mask M and carry out adsorption holding and releasing of the mask M by turning on and off a connected vacuum pump . The load arm 22 receives the mask M used for exposure processing at the position CA2 from the carrier 21 and transports the mask M to the upper side of the mask stage MST, (MST).

그리고, 노광 장치 (EX) 의 노광부 (S) 에 있어서, 마스크 (M) 패턴의 이미지를 소정 로트 수의 플레이트 (P) 에 노광한다 (스텝 116). 노광부 (S) 에 있어서 노광 처리를 끝낸 마스크 (M) 는 마스크 로더계 (H2) 및 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 라이브러리 (LB) 로 되돌려진다 (스텝 118). 즉, 마스크 (M) 는 언로드 아암 (23) 에 의해 마스크 스테이지 (MST) 로부터 언로드되고, 위치 (CA2) 까지 반송된다. 위치 (CA2) 에 반송된 마스크 (M) 는, 이 위치 (CA2) 에 대기하고 있는 캐리어 (21) 에게 건네지고, 이 캐리어 (21) 에 의해 위치 (CA1) 에 반송된다. 그리고, 위치 (CA1) 에 반송된 마스크 (M) 는, 위치 (CA1) 에 대기하고 있던 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 에 재치되어 있는 하부 케이스부 (31A) 에 재치된다. 그 후, 마스크 케이스 반송부 (61) (마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A)) 를 노광 처리 전에 수용되어 있던 수용부 (65) 의 높이까지 이동하고, 마스크 케이스 반송부 (61) 를 도 13 에 나타내는 상부 케이스부 (31B) 의 하방의 위치까지 ＋Y 방향으로 슬라이드 이동한다.Then, in the exposure unit S of the exposure apparatus EX, the image of the mask M pattern is exposed on the plate P of a predetermined number of lots (step 116). The mask M having been subjected to the exposure processing in the exposure section S is returned to the mask library LB by the mask loader system H2 and the transfer apparatus H1 (step 118). That is, the mask M is unloaded from the mask stage MST by the unloading arm 23, and is transported to the position CA2. The mask M conveyed to the position CA2 is handed to the carrier 21 waiting at this position CA2 and conveyed to the position CA1 by this carrier 21. [ The mask M conveyed to the position CA1 is placed on the lower case portion 31A placed on the mask case carrying portion 61 of the transfer apparatus H1 waiting at the position CA1. Thereafter, the mask case transfer section 61 (the lower case section 31A on which the mask M is placed) is moved to the height of the accommodating section 65 accommodated before the exposure processing, and the mask case transfer section 61 To the position below the upper case portion 31B shown in Fig. 13 in the + Y direction.

또한, 마스크 케이스 반송부 (61) (하부 케이스부 (31A)) 를 상승시켜, 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 로 지지되어 있는 상부 케이스부 (31B) 를 하부 케이스부 (31A) 에 재치한 후, 도 12 의 화살표 (A1) 와 역방향으로 마스크 케이스 반송부 (61) 에 의해 마스크 케이스 (30) (하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31B)) 를 이동함으로써, 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상 (수용부 (65)) 에 마스크 케이스 (30) 가 되돌려진다. 그 후, 위치 (P2) 의 수용부 (65) 의 마스크 케이스 (30) 를 마스크 스토커 (도시하지 않음) 로 되돌리는 경우에는, 반송 장치 (H1) 에 의해 그 마스크 케이스 (30) 를 일시 수용부 (66) 로 되돌린 후, 반송차 (V) 에 의해 일시 수용부 (66) 의 마스크 케이스 (30) 를 노광 챔버 (CH) 의 외부에 반출하면 된다.The mask case transfer section 61 (lower case section 31A) is raised so that the upper case section 31B supported by the support sections 47A1, 47A2, 47B1 and 47B2 is placed on the lower case section 31A The mask case 30 (the lower case portion 31A and the upper case portion 31B) is moved by the mask case carrying portion 61 in the direction opposite to the arrow A1 in Fig. The mask case 30 is returned onto the rails 46A and 46B (the accommodating portion 65). Thereafter, when the mask case 30 of the accommodating portion 65 at the position P2 is returned to the mask stocker (not shown), the mask case 30 is temporarily held by the carrying device H1, The mask case 30 of the temporary storage section 66 may be taken out to the outside of the exposure chamber CH by the transporting carriage V.

이 반송 방법에 따르면, 마스크 (M) 를 수납하는 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 위치 결정부 (36A, 36B) 를 사용하여, 마스크 케이스 (30) 와 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 의 위치 결정이 자동적으로 고정밀도로 실시되고 있으며, 반송 장치 (H1) 에 의한 마스크 라이브러리 (LB) 에 대한 마스크 케이스 (30) 의 반입 및 반출, 또한 반송 장치 (H1) 와 마스크 로더계 (H2) (캐리어 (21)) 사이의 마스크 (M) 의 수수, 나아가서는, 예를 들어 노광 장치 (EX) 로 복수의 마스크 (M) 를 사용하여 순차 노광을 실시하는 경우에, 마스크 라이브러리 (LB) 와 마스크 스테이지 (MST) 사이에 있어서의 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감할 수 있다.According to this carrying method, by using the positioning portions 36A and 36B of the lower case portion 31A of the mask case 30 housing the mask M, the positional relationship between the mask case 30 and the transfer device H1 The mask case transfer section 61 is automatically and precisely positioned and the transfer of the mask case 30 to and from the mask library LB by the transfer device H1 and the transfer of the mask case 30 to the transfer device H1 In the case where the exposure of the mask M between the mask loader system H2 (carrier 21) and the sequential exposure is performed using a plurality of masks M with the exposure apparatus EX, for example, It is possible to reduce defective conveyance of the mask M between the mask library LB and the mask stage MST.

상기 서술한 바와 같이 본 실시형태의 마스크 (M) 가 수납되는 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 를 지지하는 지지부 (34B, 34C) 가 형성되는 베이스 부재 (32) (저면) 를 갖는 하부 케이스부 (31A) (제 1 케이스부) 와, 하부 케이스부 (31A) 에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 베이스 부재 (32) 에 대향 배치되는 평판부 (39a) (상면) 를 갖는 상부 케이스부 (31B) (제 2 케이스부) 를 구비하고, 마스크 라이브러리 (LB) (보관 장치) 에 보관 가능한 마스크 케이스이다. 그리고, 마스크 케이스 (30) 에 있어서, 상부 케이스부 (31B) 는, 하부 케이스부 (31A) 로부터 떼어내어져 마스크 라이브러리 (LB) 에 유지될 때에 사용되는 플랜지부 (41B) (유지부) 를 갖고, 플랜지부 (41B) 는, 하부 케이스부 (31A) 에 장착된 상부 케이스부 (31B) 가 마스크 라이브러리 (LB) 에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광빔 (LB1) 이 통과하는 개구 (41Bd) (제 1 광 통과부) 와, 하부 케이스부 (31A) 로부터 떼어내어진 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 가 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47B1, 47B2) 에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 광빔 (LB1) 이 통과하는 개구 (41Bc) (제 2 광 통과부) 를 구비하고 있다. As described above, the mask case 30 in which the mask M according to the present embodiment is accommodated is provided with the base member 32 (bottom face) on which the support portions 34B and 34C for supporting the mask M are formed, The upper case portion 31a (first case portion) having a flat plate portion 39a (upper surface), which is detachably attached to the lower case portion 31A and is disposed opposite to the base member 32 31B (second case portion), and can be stored in a mask library LB (storage device). In the mask case 30, the upper case portion 31B has a flange portion 41B (holding portion) that is detached from the lower case portion 31A and used when held in the mask library LB And the flange portion 41B are formed in the opening 41Bd through which the light beam LB1 passes when the upper case portion 31B mounted on the lower case portion 31A is in the first position where it is stored in the mask library LB, And the flange portion 41B of the upper case portion 31B detached from the lower case portion 31A are held at the support portions 47B1 and 47B2 of the mask library LB at the second position And an opening 41Bc (second light passage portion) through which the light beam LB1 passes.

또, 본 실시형태의 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (31A) 와, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 상부 케이스부 (31B) 를 구비하고, 상부 케이스부 (31B) 는, 마스크 라이브러리 (LB) (마스크 케이스 (30) 의 보관부) 로 상부 케이스부 (31B) 를 지지하기 위한 플랜지부 (41A, 41B) 를 갖고, 플랜지부 (41B) 에, 상부 케이스부 (31B) 의 위치를 검출하기 위한 광빔 (LB1) 이 통과 가능한 개구 (41Bc) 가 형성되어 있다.The mask case 30 according to the present embodiment includes a lower case portion 31A on which the mask M is placed and a lower case portion 31A so as to cover the mask M placed on the lower case portion 31A. The upper case portion 31B is provided with a flange portion 31B for supporting the upper case portion 31B with the mask library LB (storage portion of the mask case 30) And an opening 41Bc through which the light beam LB1 for detecting the position of the upper case portion 31B can pass is formed in the flange portion 41B.

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 장치 (H1) 는, 마스크 케이스 (30) 의 마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) (케이스 지지부) 와, 하부 케이스부 (31A) 로부터 분리된 상부 케이스부 (31B) 를, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 를 개재하여 지지하는 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) (상부 케이스 지지부) 와, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 에 광빔 (LB1) 을 조사하는 광원부 (52a) (조사부) 와, 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 을 개구 (41Bc) 를 향하여 반사하는 반사 부재 (49) 와, 반사 부재 (49) 로 반사되어 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 을 검출하는 광전 센서 (52c) (검출부) 를 구비하고 있다.The transfer apparatus H1 for transferring the mask M includes a mask case transfer section 61 (case support section) for supporting the lower case section 31A on which the mask M of the mask case 30 is placed Supporting portions 47A1, 47A2, 47B1 and 47B2 for supporting the upper case portion 31B separated from the lower case portion 31A via the flange portions 41A and 41B of the upper case portion 31B A light source portion 52a (irradiating portion) for irradiating the light beam LB1 to the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B and an opening 41Bc of the flange portion 41B A reflecting member 49 which reflects one light beam LB1 toward the opening 41Bc and a photoelectric sensor 52c which detects the light beam LB1 reflected by the reflecting member 49 and passed through the opening 41Bc .

또, 마스크 케이스 (30) 를 보관하는 마스크 라이브러리 (LB) (보관 장치) 는, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) (유지부) 를 개재하여 마스크 케이스 (30) 를 지지 가능한 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 와, 지지부 (47B1) (지지부 (47B1) 의 근방의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc, 41Bd)) 를 향하여 광빔 (LB1) 을 조사하는 광원부 (52a) (조사부) 와, 지지부 (47B1) 를 향하여 조사된 광빔 (LB1) 을 검출하는 광전 센서 (52c) (검출부) 를 구비하고 있다.The mask library LB (storage device) for storing the mask case 30 is provided with a support portion 41B capable of supporting the mask case 30 via the flange portions 41A, 41B (holding portion) A light source unit 52a (a light source unit) for irradiating the light beam LB1 toward the support portion 47B1 (the openings 41Bc and 41Bd of the flange portion 41B in the vicinity of the support portion 47B1) And a photoelectric sensor 52c (detection portion) for detecting the light beam LB1 irradiated toward the support portion 47B1.

또, 마스크 (M) 의 반송 방법은, 마스크 케이스 (30) 의 마스크 (M) 가 재치된 하부 케이스부 (31A) 를 지지하는 스텝 106 과, 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 에 광빔 (LB1) 을 조사하고, 개구 (41Bc) 를 통과한 후, 반사 부재 (49) (광빔 반사부) 로 반사되어 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 을 검출하는 스텝 130 과, 광빔 (LB1) 의 검출 결과에 따라 상부 케이스부 (31B) 의 위치를 조정하는 스텝 132 를 갖는다.The method of conveying the mask M is the same as the method of carrying the mask M except that the step 106 for supporting the lower case part 31A on which the mask M of the mask case 30 is placed and the step 106 for holding the mask M on the flange part 41B of the upper case part 31B A step of irradiating the light beam LB1 to the opening 41Bc and passing through the opening 41Bc and then detecting the light beam LB1 reflected by the reflecting member 49 (light beam reflecting portion) and passing through the opening 41Bc 130 and a step 132 for adjusting the position of the upper case portion 31B in accordance with the detection result of the light beam LB1.

또, 마스크 케이스 (30) 를 보관하는 보관 방법은, 마스크 케이스 (30) 의 플랜지부 (41A, 41B) 를 개재하여 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 를 지지하는 스텝 108 과, 플랜지부 (41B) 를 향하여 광빔 (LB1) 을 조사하고, 플랜지부 (41B) 를 향하여 조사된 광빔 (LB1) 을 검출하는 스텝 130 을 포함하고 있다.The method for storing the mask case 30 includes a step 108 for supporting the upper case portion 31B of the mask case 30 via the flange portions 41A and 41B of the mask case 30, And a step 130 of irradiating the light beam LB1 toward the flange portion 41B and detecting the light beam LB1 irradiated toward the flange portion 41B.

본 실시형태에 의하면, 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과한 광빔 (LB1) 이 검출되도록 상부 케이스부 (31B) 의 지지부 (47A1, 47A2, 47B1, 47B2) 에 대한 위치 결정을 실시함으로써, 다음으로 하부 케이스부 (31A) 에 상부 케이스부 (31B) 를 재치할 때의 위치 맞춤을 효율적으로 실시할 수 있다. 이 때문에, 마스크 (M) 를 수납하는 마스크 케이스 (30) 를 마스크 라이브러리 (LB) 로 되돌릴 때의 시간을 단축할 수 있어, 마스크 (M) 의 반송을 효율적으로 (단시간에) 실시할 수 있다.According to the present embodiment, the positioning of the support portions 47A1, 47A2, 47B1, and 47B2 of the upper case portion 31B is performed so that the light beam LB1 that has passed through the opening 41Bc of the flange portion 41B is detected , It is possible to efficiently perform positioning when the upper case part 31B is placed on the lower case part 31A. Therefore, the time required for returning the mask case 30 accommodating the mask M to the mask library LB can be shortened, and the transfer of the mask M can be performed efficiently (in a short time).

또한, 본 실시형태에 있어서, 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 에 플랜지부 (41A, 41B) 를 형성하는 경우에는, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 에 위치 결정부 (36A ∼ 36C), 반사부 (37A), 및 창부 (32a1) 를 형성할 필요는 반드시 있는 것은 아니다. 그리고, 하부 케이스부 (31A) 에 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 를 형성하지 않는 경우에는, 마스크 케이스 (30) 의 반송시에, 하부 케이스부 (31A) 를 에어 부상 기구, 캠 팔로워 기구, 또는 롤러 비교 기구 등으로 반송해도 된다.When the flange portions 41A and 41B are formed in the upper case portion 31B of the mask case 30 in the present embodiment, It is not always necessary to form the reflecting portions 37A to 36C, the reflecting portion 37A, and the window portion 32a1. When the positioning portions 36A to 36C are not formed in the lower case portion 31A, the lower case portion 31A may be an air lifting mechanism, a cam follower mechanism, Roller comparison mechanism or the like.

또, 상기 서술한 바와 같이 본 실시형태의 마스크 (M) 가 수납되는 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (31A) 와, 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 상부 케이스부 (31B) 를 구비하고, 하부 케이스부 (31A) 의 저면에, 외부로부터의 광을 반사하는 반사부 (37A) (제 1 반사부), 및 외부로부터의 광을 통과시키는 창부 (32a1) 가 형성되어 있다.As described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated has the lower case portion 31A on which the mask M is placed, And a reflecting portion 37A (first reflecting portion) that reflects light from the outside and a reflecting portion 37B that reflects light from the outside are provided on the bottom surface of the lower case portion 31A, And a window portion 32a1 for allowing light to pass therethrough is formed.

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 장치 (H1) 는, 마스크 (M) 가 수납된 마스크 케이스 (30) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) (케이스 지지부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 반사부 (37A) 에 광빔 (LB2) 을 조사하고, 반사부 (37A) 로부터의 반사광을 검출하여 하부 케이스부 (31A) 의 유무 (상태) 를 검출하는 검출부 (63a) (제 1 검출부) 와, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되어 있는 마스크 (M) 에 하부 케이스부 (31A) 의 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB3) 을 조사하고, 마스크 (M) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 마스크 (M) 의 유무 또는 마스크 (M) 까지의 거리 (마스크 (M) 의 상태) 를 검출하는 검출부 (63b) (제 2 검출부) 와, 하부 케이스부 (31A) 상에 재치되어 있는 상부 케이스부 (31B) 에 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB4) 을 조사하고, 상부 케이스부 (31B) 에 형성된 반사부 (37B) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 상부 케이스부 (31B) 의 유무 또는 상부 케이스부 (31B) 까지의 거리 (상부 케이스부 (31B) 상태) 를 검출하는 검출부 (63c) (제 3 검출부) 를 구비하고 있다.The transfer apparatus H1 for transferring the mask M includes a mask case transfer section 61 (a case support section) for supporting the mask case 30 in which the mask M is accommodated, a lower case section 31A, (First detecting portion) for detecting the presence or absence of the lower case portion 31A by irradiating the light beam LB2 to the reflecting portion 37A of the reflecting portion 37A and detecting the reflected light from the reflecting portion 37A, The light beam LB3 is irradiated to the mask M placed on the lower case portion 31A through the window portion 32a1 of the lower case portion 31A and the reflected light from the mask M is irradiated onto the window portion 32a1 (Second detecting section) for detecting the presence or absence of the mask M or the distance to the mask M (the state of the mask M) detected by the detecting section 63b The upper case portion 31B is irradiated with the light beam LB4 through the window portion 32a1, A detecting portion 63c for detecting the presence or absence of the upper case portion 31B or the distance to the upper case portion 31B (the state of the upper case portion 31B) by detecting the reflected light from the portion 37B through the window portion 32a1, (Third detecting section).

또, 마스크 (M) 의 반송 방법은, 마스크 (M) 가 수납되고 마스크 케이스 (30) 를 마스크 케이스 반송부 (61) 로 지지하는 스텝 102 와, 하부 케이스부 (31A) 의 반사부 (37A) 에 광빔 (LB2) 을 조사하고, 반사부 (37A) 로부터의 반사광을 검출하여 하부 케이스부 (31A) 의 유무 (상태) 를 검출하고, 하부 케이스부 (31A) 에 재치된 마스크 (M) 에 하부 케이스부 (31A) 의 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB3) 을 조사하고, 마스크 (M) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 마스크 (M) 의 유무 등의 상태를 검출하고, 하부 케이스부 (31A) 상에 재치된 상부 케이스부 (31B) 에 창부 (32a1) 를 통해서 광빔 (LB4) 을 조사하고, 상부 케이스부 (31B) 에 형성된 반사부 (37B) 로부터의 반사광을 창부 (32a1) 를 통해서 검출하여 상부 케이스부 (31B) 의 유무 등의 상태를 검출하는 스텝 120 을 갖는다.The method of conveying the mask M includes a step 102 in which the mask M is accommodated and the mask case 30 is supported by the mask case conveyance section 61, And detects the presence or absence of the lower case part 31A by detecting the reflected light from the reflecting part 37A and detects the presence or absence of the lower case part 31A by irradiating the mask M placed on the lower case part 31A with the light beam LB2, The light beam LB3 is irradiated through the window portion 32a1 of the case portion 31A and the reflected light from the mask M is detected through the window portion 32a1 to detect the presence or absence of the mask M, The light beam LB4 is irradiated to the upper case portion 31B placed on the case portion 31A through the window portion 32a1 and the reflected light from the reflecting portion 37B formed on the upper case portion 31B is irradiated onto the window portion 32a1 And a step 120 for detecting the presence or the like of the upper casing part 31B.

본 실시형태에 의하면, 마스크 (M) 가 수납되어 있지 않은 마스크 케이스 (30), 또는 필요로 하는 마스크 케이스와 상이한 종류의 마스크 케이스 등을 잘못하여 마스크 라이브러리 (LB) 에 수용하는 것을 방지할 수 있기 때문에, 마스크 (M) 의 반송 중에 있어서 마스크 케이스 (30) 를 반환하는 사태 등을 방지할 수 있고, 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감하여 마스크 (M) 를 확실하게 반송할 수 있다.According to the present embodiment, it is possible to prevent the mask library 30 in which the mask M is not housed, or the mask case of a kind different from the required mask case from being mistakenly stored in the mask library LB It is possible to prevent the mask case 30 from returning during the transportation of the mask M and to reliably convey the mask M by reducing the defective conveyance of the mask M. [

또한, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 에 반사부 (37A) 및 창부 (32a1) 를 형성한 경우에는, 하부 케이스부 (31A) 의 저면에 위치 결정부 (36A ∼ 36C) 를 형성할 필요도 반드시 있는 것은 아니다. 이 경우, 반송 장치 (H1) (마스크 케이스 반송부 (61)) 와 마스크 케이스 (30) 의 연결은, 클램프 기구, 전자석 기구, 또는 진공 흡착 기구 등을 사용한 연결 기구에 의해 실시해도 된다.When the reflective portion 37A and the window portion 32a1 are formed in the lower case portion 31A of the mask case 30, the positioning portions 36A to 36C are formed on the bottom surface of the lower case portion 31A There is no need to do that. In this case, the connection between the transfer apparatus H1 (mask case transfer section 61) and the mask case 30 may be performed by a connecting mechanism using a clamp mechanism, an electromagnet mechanism, a vacuum adsorption mechanism, or the like.

또, 상기 서술한 바와 같이 본 실시형태의 마스크 (M) 가 수납되는 마스크 케이스 (30) 는, 마스크 (M) 가 재치되는 하부 케이스부 (31A) 와, 마스크 (M) 를 덮도록, 하부 케이스부 (31A) 에 재치되는 상부 케이스부 (31B) 를 구비하고, 하부 케이스부 (31A) 의 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) (마스크 케이스의 반송부) 에 대향하는 저면에, 회전 대칭인 오목부 (36Aa) 가 형성된 위치 결정부 (36A), V 자형의 홈 형상의 오목부 (36Ba) 가 형성된 위치 결정부 (36B), 및 평탄면 (36Ca) 가 형성된 적어도 하나의 위치 결정부 (36C) 가 형성되어 있다.As described above, the mask case 30 in which the mask M of the present embodiment is accommodated has the lower case portion 31A on which the mask M is placed, And an upper case part 31B mounted on the lower case part 31A and provided on the bottom surface of the lower case part 31A opposite to the mask case carrying part 61 (carrying part of the mask case) A positioning portion 36A in which a concave portion 36Aa which is rotationally symmetrical is formed, a positioning portion 36B in which a V-shaped groove-like concave portion 36Ba is formed, and at least one positioning A portion 36C is formed.

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 장치 (H1) 는, 마스크 케이스 (30) 를 지지하는 마스크 케이스 반송부 (61) (케이스 지지부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Aa) 에 걸어맞춤 가능하도록 마스크 케이스 반송부 (61) 에 형성된 볼 트랜스퍼 (62A) (제 1 볼록부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Ba) 에 걸어맞춤 가능하도록 마스크 케이스 반송부 (61) 에 형성된 볼 트랜스퍼 (62B) (제 2 볼록부) 와, 하부 케이스부 (31A) 의 평탄면 (36Ca) 에 걸어맞춤 가능하도록 마스크 케이스 반송부 (61) 에 형성된 위치 결정부 (36C) (제 3 볼록부) 를 구비하고 있다.The transfer device H1 for transferring the mask M is provided with a mask case transfer portion 61 (a case supporting portion) for supporting the mask case 30 and a mask case transfer portion 61 for supporting the mask case 30 in the recessed portion 36Aa of the lower case portion 31A (First convex portion) formed in the mask case carrying portion 61 so as to be engageable with the concave portion 36Ba of the lower case portion 31A and the mask case carrying portion 61 so as to be engaged with the concave portion 36Ba of the lower case portion 31A. (Third convex portion) formed on the mask case carrying portion 61 so as to be engageable with the flat surface 36Ca of the lower case portion 31A, and a positioning portion 36C Convex portions).

또, 마스크 (M) 를 반송하는 반송 방법은, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄면 (36Ca) 을 각각 마스크 케이스 반송부 (61) 의 볼 트랜스퍼 (62A ∼ 62C) 로 지지하는 스텝 106 과, 오목부 (36Aa, 36Ba) 및 평탄면 (36Ca) 을 개재하여 지지한 상부 케이스부 (31B) 를 위치 (CA1) (마스크 (M) 의 마스크 로더계 (H2) 에 대한 수수 위치) 까지 이동하는 스텝 110 을 갖는다.The carrying method of carrying the mask M is a method in which the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat surface 36Ca of the lower case portion 31A of the mask case 30 are respectively inserted into the holes of the mask case carrying portion 61 A step 106 for supporting the wafer W by the transfers 62A to 62C and an upper case portion 31B supported by the concave portions 36Aa and 36Ba and the flat surface 36Ca at a position CA1 To the transfer position with respect to the system H2).

본 실시형태에 의하면, 마스크 케이스 (30) 의 하부 케이스부 (31A) 의 오목부 (36Aa, 36Ba) 에 의해, 반송 장치 (H1) 에 대한 하부 케이스부 (31A) (및 마스크 (M)) 의 위치 결정이 고정밀도로 실시되고 있기 때문에, 반송 장치 (H1) 로부터 마스크 로더계 (H2) 에 하부 케이스부 (31A) 내의 마스크 (M) 를 수수할 때에, 마스크 로더계 (H2) 에 의한 마스크 (M) 의 서치 등을 거의 실시할 필요가 없고, 반송 장치 (H1) 로부터 마스크 로더계 (H2) 에 대한 마스크 (M) 의 수수의 정확도를 향상시킬 수 있어, 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감시킬 수 있다. 또한, 마스크 로더계 (H2) 에 대한 마스크 (M) 의 위치 결정도 고정밀도로 실시되고 있기 때문에, 마스크 로더계 (H2) 로부터 마스크 스테이지 (MST) 로 마스크 (M) 를 로드할 때의 마스크 스테이지 (MST) 에 대한 마스크 (M) 의 수수의 정확도도 향상시킬 수 있어, 마스크 (M) 의 반송의 반송 불량을 저감시킬 수 있다.The concave portions 36Aa and 36Ba of the lower case portion 31A of the mask case 30 allow the lower case portion 31A (and the mask M) of the transfer device H1 When the mask M in the lower case portion 31A is transferred from the transfer apparatus H1 to the mask loader system H2, the mask M It is possible to improve the accuracy of transfer of the mask M from the transfer device H1 to the mask loader system H2 and to reduce the transfer failure of the mask M . Since the positioning of the mask M with respect to the mask loader system H2 is also performed with high accuracy, it is possible to accurately position the mask M on the mask stage H2 when the mask M is loaded from the mask loader system H2 to the mask stage MST The accuracy of transfer of the mask M with respect to the mask MST can be improved, and the defective conveyance of the conveyance of the mask M can be reduced.

또, 마스크 라이브러리 (LB) 에 형성되어 있는 광원부 (52a) 및 광전 센서 (52c) 를 갖는 검출 장치 (52) (검출부) 는, 마스크 케이스 (30) 의 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41A, 41B) 의 개구 (41Ab, 41Bb) 가 지지부 (47A2, 47B2) 의 핀 (48) 에 걸어맞춰지는 것 및 걸어맞춰지지 않는 것 중 적어도 일방을 검출하는 검출부로 간주할 수도 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해, 광빔 (LB1) 이 상부 케이스부 (31B) 의 플랜지부 (41B) 의 개구 (41Bc) 를 통과하는 것이 검출된 경우에는, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지는 것으로 간주할 수 있고, 광빔 (LB1) 이 개구 (41Bc) 를 통과하지 않는 것이 검출된 경우에는, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지지 않는 것으로 간주할 수 있다. 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지지 않는 것이 검출된 경우에는, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지도록 마스크 케이스 (30) (상부 케이스부 (31B)) 의 위치를 조정할 수 있다. 또한, 개구 (41Ab, 41Bb) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰지지 않는 것이 검출된 경우에, 마스크 (M) 및/또는 마스크 케이스 (30) 의 반송을 중단하여, 마스크 케이스 (30) 를 예를 들어 일시 수용부 (66) 로 되돌리도록 해도 된다.The detection unit 52 (detection unit) having the light source unit 52a and the photoelectric sensor 52c formed in the mask library LB is disposed on the flange portion 41A of the upper case portion 31B of the mask case 30 The openings 41Ab and 41Bb of the support portions 47A2 and 41B are not engaged with the pins 48 of the support portions 47A2 and 47B2. That is, when it is detected by the detecting device 52 that the light beam LB1 passes through the opening 41Bc of the flange portion 41B of the upper case portion 31B, the openings 41Ab, 48 and it is assumed that the openings 41Ab and 41Bb are not engaged with the pins 48 when it is detected that the light beam LB1 does not pass through the openings 41Bc . When it is detected that the openings 41Ab and 41Bb are not engaged with the pins 48, the mask case 30 (the upper case portion 31B) is closed so that the openings 41Ab and 41Bb are engaged with the pins 48, Can be adjusted. When it is detected that the openings 41Ab and 41Bb are not engaged with the pins 48, the transfer of the mask M and / or the mask case 30 is stopped and the mask case 30 is opened It may be returned to the temporary storage portion 66 again.

또, 본 실시형태의 노광 장치 (EX) 는, 노광 광으로 마스크 (M) 를 조명하고, 노광 광으로 마스크 (M) 및 투영 광학계 (PL) 를 통해서 플레이트 (P) (기판) 를 노광하는 노광 장치로서, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (MST) 와, 반송 장치 (H1) 를 구비하고, 반송 장치 (H1) 에 의해 반송되는 마스크 케이스 (30) 로부터 꺼내어지는 마스크 (M) 가 마스크 스테이지 (MST) 에 재치된다.The exposure apparatus EX of the present embodiment is an exposure apparatus that illuminates the mask M with exposure light and exposes the plate P (substrate) through the mask M and the projection optical system PL with exposure light A mask M that holds a mask M and a mask M which is provided with a transfer device H1 and which is taken out from a mask case 30 which is carried by a transfer device H1, (MST).

또, 노광 장치 (EX) 를 사용하는 노광 방법은, 마스크 (M) 의 반송 방법을 포함하는 것이다.The exposure method using the exposure apparatus EX includes a method of conveying the mask M.

본 실시형태에 의하면, 노광 장치 (EX) 의 노광 공정에 있어서의 마스크 (M) 의 반송 불량을 저감시킬 수 있다.According to this embodiment, defective conveyance of the mask M in the exposure process of the exposure apparatus EX can be reduced.

또한, 상기 서술한 실시형태에 있어서는 이하와 같은 변형이 가능하다.In the above-described embodiment, the following modifications are possible.

먼저, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 마스크 케이스 (30) 의 측면에 1 쌍의 플랜지부 (41A, 41B) 가 형성되어 있지만, 도 14 의 변형예의 마스크 케이스 (30A) 로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스의 대향하는 측면에 복수 (일례로서, 2 개) 의 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 를 형성해도 된다. 또한, 도 14 에 있어서 도 3(A) 에 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고 그 상세한 설명을 생략한다. 또, 도 15(A) ∼ (E), 및 도 17(A) ∼ (E) 에 있어서, 도 12, 도 13 에 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고 그 상세한 설명을 생략한다.First, in the above-described embodiment, the pair of flange portions 41A and 41B are formed on the side surface of the mask case 30. However, as shown by the mask case 30A of the modified example of Fig. 14, A plurality of (for example, two) flange portions 41C1, 41C2, 41D1, 41D2 may be formed on the opposite side surfaces of the flange portions 41C1, 41C2, 41D1, 41D2. In Fig. 14, parts corresponding to Fig. 3 (A) are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. In FIGS. 15A to 15E and 17A to 17E, parts corresponding to those in FIGS. 12 and 13 are denoted by the same reference numerals and their detailed description is omitted.

도 14 에 있어서, 마스크 케이스 (30A) 는, 마스크 (M) (도 4 참조) 가 재치되는 하부 케이스부 (제 1 케이스부) (31A) 와, 그 하부 케이스부 (31A) 에 재치된 마스크 (M) 를 덮도록 하부 케이스부 (31A) 상에 재치 (장착) 되는 상부 케이스부 (제 2 케이스부) (31BA) 를 구비하고 있다. 또, 상부 케이스부 (31BA) 의 커버 부재 (39) 의 ＋X 방향의 측면의 Y 방향으로 떨어진 2 개 지점에 외측으로 돌출하도록 플랜지부 (41C1, 41C2) (유지부) 가 형성되고, 커버 부재 (39) 의 ―X 방향의 측면의 거의 플랜지부 (41C1, 41C2) 에 대향하는 위치에 외측으로 돌출하도록 2 개의 플랜지부 (41D1, 41D2) (유지부) 가 형성되어 있다. 일례로서, 플랜지부 (41C1, 41C2) (플랜지부 (41D1, 41D2)) 의 Y 방향의 간격은 커버 부재 (39) 의 Y 방향 길이의 1/2 정도이다.14, the mask case 30A has a lower case portion (first case portion) 31A on which a mask M (see Fig. 4) is placed, and a mask And an upper case portion (second case portion) 31BA that is mounted (mounted) on the lower case portion 31A so as to cover the first and second case portions M. Flange portions 41C1 and 41C2 (holding portions) are formed so as to protrude outward at two points in the Y direction of the side surface in the + X direction of the cover member 39 of the upper case portion 31BA, Two flange portions 41D1 and 41D2 (holding portions) are formed so as to protrude outward at positions opposed to the flange portions 41C1 and 41C2 on the side surfaces in the -X direction of the flange portions 41D1 and 41D. As one example, the distance in the Y direction of the flange portions 41C1 and 41C2 (the flange portions 41D1 and 41D2) is about 1/2 of the length in the Y direction of the cover member 39. [

플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 는 단면 형상이 L 자형이고, 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 중 커버 부재 (39) 의 측벽부 (39c, 39d) (도 4 참조) 에 대향하는 부분이 각각 복수 지점에서 볼트 (도시하지 않음) 에 의해 측벽부 (39c, 39d) 에 고정되어 있다. 이하, 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 의 ＋X 방향 및 ―X 방향으로 돌출한 부분을 간단히 플랜지부 (41C1, 41C2 및 41D1, 41D2) 라고 한다.The flange portions 41C1, 41C2 and 41D1 and 41D2 have an L-shaped cross section and are provided on the side wall portions 39c and 39d (see Fig. 4) of the cover member 39 among the flange portions 41C1, 41C2 and 41D1 and 41D2 And the opposed portions are fixed to the side wall portions 39c and 39d by bolts (not shown) at a plurality of points, respectively. The portions projecting in the + X direction and the -X direction of the flange portions 41C1, 41C2 and 41D1 and 41D2 are simply referred to as flange portions 41C1 and 41C2 and 41D1 and 41D2, respectively.

―Y 방향에 있는 플랜지부 (41C1, 41D1) 에는, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47A2, 47B2) 의 상면의 핀 (48) (도 9 참조) 이 삽입 통과 가능한 크기의 개구 (관통공) (41C1a, 41D1a) 가 형성되어 있다. 일례로서, 마스크 케이스 (30A) 의 보다 큰 위치 결정 오차에 대응할 수 있도록, 일방의 개구 (41D1a) 는 타방의 개구 (41C1a) 보다 크게 형성되어 있다. 또, ＋Y 방향에서 ＋X 방향의 플랜지부 (41C2) 에는, Y 방향을 따라 소정 간격으로 2 개의 서로 동일한 크기의 원형 개구 (관통공) (41C2a, 41C2b) 가 형성되어 있다. 구체적으로는, 일례로서, 개구 (41C2a, 41C2b) 는, Y 방향으로 서로 60 ㎜ 떨어진 위치가 개구 (관통) 하도록 형성되어 있다. 또, 일례로서, 개구 (41C2a) 의 중심과 개구 (41C1a) 의 중심의 Y 방향의 간격은 570 ㎜ 이다. 개구 (41C2a, 41C2b) 는, 도 9 의 검출 장치 (52) 로부터 조사되는 광빔 (LB1) 을 통과시키기 위해서 사용된다. 또한, 개구 (41C2a, 41C2b) 는, 서로 동일한 크기에 한정되지 않고 상이한 크기여도 되고, 원 형상에 한정되지 않고 다른 형상이어도 된다. 예를 들어, 개구 (41C2a, 41C2b) 는, 원 형상으로 닫힌 개구 (구멍) 형상이 아니라, 플랜지부 (41C2) 의 측면으로 이어진 절결 형상이어도 된다. 또, 개구 (41Ab, 41Bb) 는, 핀 (48) 이 삽입 통과되도록 관통한 개구한 형상에 한정되지 않고, 핀 (48) 과 서로 끼워맞춰지는 형상이면 되고, 예를 들어, 플랜지부 (41A, 41B) 의 상면측이 닫힌 (개구하고 있지 않는) 구멍, 즉 관통하고 있지 않는 (오목 형상의) 구멍으로 할 수도 있다. 이 밖의 구성은 도 4 의 마스크 케이스 (30) 와 동일하다. The flange portions 41C1 and 41D1 in the -Y direction are provided with openings (through-holes) each having a size allowing insertion of the pins 48 (see Fig. 9) on the upper surface of the support portions 47A2 and 47B2 of the mask library LB, (41C1a, 41D1a) are formed. As one example, one opening 41D1a is formed to be larger than the other opening 41C1a so as to cope with a larger positioning error of the mask case 30A. In the flange portion 41C2 in the + Y direction and the + X direction, two circular openings (through holes) 41C2a and 41C2b are formed at predetermined intervals along the Y direction. Specifically, as one example, the openings 41C2a and 41C2b are formed such that a position spaced apart by 60 mm from each other in the Y direction is opened (penetrated). As an example, the distance between the center of the opening 41C2a and the center of the opening 41C1a in the Y direction is 570 mm. The openings 41C2a and 41C2b are used to pass the light beam LB1 emitted from the detecting device 52 in Fig. Further, the openings 41C2a and 41C2b are not limited to the same size but may be of different sizes, and may be of different shapes without being limited to the circular shape. For example, the openings 41C2a and 41C2b may be in a notch shape extending to the side surface of the flange portion 41C2, not in the shape of a circularly closed opening (hole). The openings 41Ab and 41Bb are not limited to the open shapes that allow the fins 48 to be inserted therethrough. The openings 41Ab and 41Bb may be of any shape that fits with the fins 48. For example, the flanges 41A, 41B may be a closed (not open) hole, that is, a hole that does not penetrate (concave). The other configuration is the same as that of the mask case 30 in Fig.

이 변형예의 마스크 케이스 (30A) 를 상기 서술한 실시형태의 마스크 라이브러리 (LB) 에 수용하는 경우, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 위치 (P1) (또는 P2 ∼ P5) 의 레일 (46A, 46B) 상의 목표 위치에 마스크 케이스 (30A) 를 재치한 상태에서, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 광빔 (LB1) 의 광로가 설정되어 있다. 또한, 상기 서술한 반송 장치 (H1) 에 의해 마스크 케이스 (30A) 의 상부 케이스부 (31BA) 의 플랜지부 (41C1, 41C2, 41D1, 41D2) 를 예를 들어 위치 (P2) (또는 위치 (P3 ∼ P5) 등) 의 지지부 (47B2, 47B1, 47A2, 47A1 또는 47D2, 47D1, 47C2, 47C1) 상에 재치한 상태에서, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 내를 광빔 (LB1) 이 통과하도록, 상부 케이스부 (31BA) 가 위치 결정된다.10, when the mask case 30A of this modified example is accommodated in the mask library LB of the embodiment described above, the upper surface of the rail 46A, 46B of the position P1 (or P2 to P5) The optical path of the light beam LB1 is set such that the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the flange portion 41C2 while the mask case 30A is placed at the target position. The flange portions 41C1, 41C2, 41D1 and 41D2 of the upper case portion 31BA of the mask case 30A are moved to the position P2 (or positions P3- The light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the flange portion 41C2 in a state in which the light beam LB1 is placed on the support portions 47B2, 47B1, 47A2, 47A1 or 47D2, 47D1, 47C2, The upper case portion 31BA is positioned.

이와 같이 위치 (P1 ∼ P5) 전부의 마스크 케이스 (30A) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 가 각각 수용부 (65) 의 소정 위치 (목표 위치) 에 위치 결정된 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41C) 의 개구 (41C2b) 내를 통과하기 때문에, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체가 없는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출함으로써, 마스크 케이스 (30A) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 가 수용부 (65) (목표 위치) 에 대하여 소정의 허용 범위 내에 위치 결정된 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 의 수용 상태를 검지할 수 있다.In the state in which the mask case 30A and / or the upper case portion 31BA of all the positions P1 to P5 are positioned at the predetermined position (target position) of the accommodating portion 65, the light beam LB1 is reflected by the plan The detection device 52 can detect that there is no object in the optical path of the light beam LB1 because the light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the holding portion 41C. That is, by detecting the light beam LB1 by the detecting device 52, the mask case 30A and / or the upper case portion 31BA are positioned within the predetermined allowable range with respect to the accommodating portion 65 (target position) Can be detected. In other words, the receiving state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31BA with respect to the accommodating portion 65 can be detected.

한편, 위치 (P1 ∼ P5) 중 어느 것의 마스크 케이스 (30A) 또는 상부 케이스부 (31BA) 가 목표 위치로부터 허용 범위를 초과하여 어긋난 상태에서는, 광빔 (LB1) 은 플랜지부 (41C) 의 개구 (41C2b) 를 통과할 수 없게 되고, 검출 장치 (52) 로는 광빔 (LB1) 의 광로에 물체 (플랜지부 (41C2)) 가 있는 것을 검출할 수 있다. 즉, 검출 장치 (52) 에 의해 광빔 (LB1) 을 검출할 수 없게 됨으로써, 마스크 케이스 (30A) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 가 목표 위치에 대하여 허용 범위를 초과하여 위치 결정된 (즉, 위치 어긋나 있는) 것을 검지할 수 있다. 바꿔 말하면, 이 경우도 수용부 (65) 에 대한 마스크 케이스 (30) 및/또는 상부 케이스부 (31BA) 의 수용 상태를 검지할 수 있다. 이 때문에, 일례로서, 반송 장치 (H1) 에 의해 수용부 (65) 에 마스크 케이스 (30A) 를 반송할 때, 또는 마스크 케이스 (30A) 의 상부 케이스부 (31BA) 를 대응하는 지지부 (47A1 ∼ 47B2) 등에 재치할 때에는, 각각 검출 장치 (52) 로 광빔 (LB1) 을 검출할 수 있도록 마스크 케이스 (30A) 또는 상부 케이스부 (31BA) 의 위치를 조정함으로써, 마스크 케이스 (30A) 또는 상부 케이스부 (31BA) 를 각각 용이하게 목표 위치에 설치할 수 있다.On the other hand, in a state in which the mask case 30A or the upper case portion 31BA of the positions P1 to P5 is displaced from the target position beyond the allowable range, the light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the flange portion 41C The detection device 52 can detect that the object (flange portion 41C2) is present in the optical path of the light beam LB1. That is, since the light beam LB1 can not be detected by the detecting device 52, the mask case 30A and / or the upper case portion 31BA are positioned with respect to the target position beyond the allowable range Is misaligned). In other words, also in this case, the accommodating state of the mask case 30 and / or the upper case portion 31BA with respect to the accommodating portion 65 can be detected. Therefore, for example, when the mask case 30A is transported to the accommodating portion 65 by the transport apparatus H1, or when the upper case portion 31BA of the mask case 30A is transported to the corresponding support portions 47A1 to 47B2 The position of the mask case 30A or the upper case part 31BA is adjusted so that the light beam LB1 can be detected by the detecting device 52. The mask case 30A or the upper case part 31BA can be easily installed at the target position.

구체적으로, 반송 장치 (H1) 의 반송 아암 (61) 을 사용하여 마스크 케이스 (30A) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 예를 들어 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상에 반송하는 경우, 도 15(A) 에 나타내는 바와 같이, 반송 아암 (61) 에 재치된 마스크 케이스 (30A) 가 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) (레일 (46A) 은 도시하지 않음) 의 상방으로 반송된다. 이 때에 도 12 의 검출 장치 (52) 로부터 사출되는 광빔 (LB1) 은, 마스크 케이스 (30A) 의 플랜지부 (41C2) 로 차광되어 있지 않기 때문에, 도 12 의 반사 부재 (49) 로 반사되는 광빔 (LB1) 을 검출 장치 (52) 로 수광하여 얻어지는 검출 신호 (S1) 는, 도 16(A) 의 시점 (t1) 으로 나타내는 바와 같이 2 치화하기 위한 소정의 임계값 (Sth) 을 초과하고 있다. 검출 신호 (S1) 로부터 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 가 광빔 (LB1) 까지 도달하고 있지 않은 것을 인식할 수 있다.More specifically, when the mask case 30A is transported onto the rails 46A and 46B at the position P2, for example, of the mask library LB by using the transfer arm 61 of the transport apparatus H1, The mask case 30A placed on the carrier arm 61 is transported upwardly of the rails 46A and 46B at the position P2 (the rail 46A is not shown) as shown in Fig. 15 (A) At this time, since the light beam LB1 emitted from the detecting device 52 in Fig. 12 is not shielded by the flange portion 41C2 of the mask case 30A, the light beam LB1 reflected by the reflecting member 49 The detection signal S1 obtained by receiving the detection signal LB1 from the detection device 52 exceeds the predetermined threshold value Sth for binarization as shown by the time point t1 in Fig. 16 (A). From the detection signal S1, the control device CONT can recognize that the flange portion 41C2 does not reach the light beam LB1.

그리고, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(B) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 로 차광되면, 시점 (t2) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 작아지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 또한, 반송 아암 (61) 의 X 방향, Y 방향, 및 Z 방향의 위치는 예를 들어 리니어 인코더 (도시하지 않음) 에 의해 계측되고 있다. 또, 도 16(A), (B) 의 가로축은 시간 (t)이고, 검출 신호 (S1) 는 소정의 샘플링 레이트로 불휘발성의 기억 장치 (예를 들어, 플래쉬 메모리) 에 기억되어 있다. 또한, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(C) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 를 통과하게 되면, 시점 (t3) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 커지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다.When the light beam LB1 is shielded by the flange portion 41C2 as shown in Fig. 15 (B) by moving the carrying arm 61 in the + Y direction, the detection signal S1 Becomes smaller than the threshold value Sth and the control device CONT can recognize that the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. The X, Y, and Z positions of the transfer arm 61 are measured by, for example, a linear encoder (not shown). 16 (A) and 16 (B) are time t, and the detection signal S1 is stored in a nonvolatile storage device (for example, a flash memory) at a predetermined sampling rate. When the light beam LB1 passes through the opening 41C2b of the flange portion 41C2 as shown in Fig. 15C by moving the carrying arm 61 in the + Y direction, The detection signal S1 becomes larger than the threshold value Sth and the control device CONT can recognize that the opening 41C2b of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1.

그리고, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(D) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 로 차광되면, 시점 (t4) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 작아지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 간의 영역이 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 또한, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향으로 이동하여, 도 15(E) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 를 통과하게 되면, 시점 (t5) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 커지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 이 시점 (t5) 에서, 제어 장치 (CONT) 는 반송 아암 (61) 의 Y 방향으로의 이동을 정지시키고, 반송 아암 (61) 을 ―Z 방향으로 강하시킨다. 이 동작에 의해, 마스크 케이스 (30A) (하부 케이스부 (31A)) 는 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상에 재치된다.When the light beam LB1 is shielded by the flange portion 41C2 as shown in Fig. 15 (D) by moving the carrying arm 61 in the + Y direction, the detection signal S1 Becomes smaller than the threshold value Sth and the control device CONT can recognize that the area between the openings 41C2b and 41C2a of the flange portion 41C2 reaches the light beam LB1. When the light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the flange portion 41C2 as shown in Fig. 15 (E) by moving the carrying arm 61 in the + Y direction, The detection signal S1 is larger than the threshold value Sth and the control device CONT can recognize that the opening 41C2a of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. At this time point t5, the control device CONT stops the movement of the transport arm 61 in the Y direction and drops the transport arm 61 in the -Z direction. With this operation, the mask case 30A (lower case portion 31A) is placed on the rails 46A and 46B at the position P2.

이 동작 도중에, 예를 들어 시점 (t3, t4) 사이의 시점 (tx) 에서 정전 등에 의해 반송 장치 (H1) 가 정지된 경우, 그 정전으로부터 복구한 후에, 제어 장치 (CONT) 는, 기억되어 있는 검출 신호 (S1) 의 이력으로부터, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 사이의 영역이 광빔 (LB1) 을 차광하는 위치에 있는 것을 인식할 수 있다. 이 때문에, 마스크 케이스 (30A) 를 마스크 라이브러리 (LB) 에 반입하는 동작을 원활하게 재개할 수 있다. 또한, 정전으로부터 복구한 후에, 반송 아암 (61) 을 ＋Y 방향 또는 ―Y 방향으로 이동시켜, 그 때에 관측되는 검출 신호의 검출 결과에 기초하여, 마스크 케이스 (30A) 가 라이브러리 (LB) 내의 어디에 있는지를 인식해도 된다.During this operation, if the transport apparatus H1 is stopped due to, for example, a power failure at the time point tx between time points t3 and t4, after recovering from the power failure, the control device CONT stores the stored It can be recognized from the history of the detection signal S1 that the area between the openings 41C2b and 41C2a of the flange portion 41C2 is at the position where it shields the light beam LB1. Therefore, the operation of bringing the mask case 30A into the mask library LB can be resumed smoothly. After the recovery from the blackout, the transfer arm 61 is moved in the + Y direction or the -Y direction, and based on the detection result of the detection signal observed at that time, the mask case 30A is located in the library LB .

그 후, 위치 (P2) 의 레일 (46A, 46B) 상에 마스크 케이스 (30A) 내의 마스크 (M) 를 노광에 사용하는 경우에는, 도 17(A) 에 나타내는 바와 같이, 반송 장치 (H1) 의 반송 아암 (61) 을 마스크 케이스 (30A) 의 하부 케이스부 (31A) 의 하방으로 이동한다. 광빔 (LB1) 은, 마스크 케이스 (30A) 의 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2a) 를 통과하고 있기 때문에, 광빔 (LB1) 의 검출 신호 (S1) 는, 도 16(B) 의 시점 (t11) 으로 나타내는 바와 같이 임계값 (Sth) 을 초과하고 있다.Thereafter, when the mask M in the mask case 30A is used for exposure on the rails 46A and 46B at the position P2, as shown in Fig. 17A, The transfer arm 61 is moved below the lower case portion 31A of the mask case 30A. The light beam LB1 passes through the opening 41C2a of the flange portion 41C2 of the mask case 30A so that the detection signal S1 of the light beam LB1 is reflected at the time t11 of Fig. (Sth) as shown in Fig.

그리고, 도 17(B) 에 나타내는 바와 같이, 반송 아암 (61) 을 통해서 마스크 케이스 (30A) 를 ＋Z 방향으로 상승시켜도, 검출 신호 (S1) 는, 시점 (t12) 에서 나타내는 바와 같이 임계값 (Sth) 을 초과하고 있다. 또한, 반송 아암 (61) 을 통해서, 마스크 케이스 (30A) 의 플랜지부 (41C1, 41C2) 가 지지부 (47B1, 47B2) (핀 (48)) 보다 높아지도록, 마스크 케이스 (30A) 를 상승시킨 후, 도 17(C) 에 나타내는 바와 같이, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 사이의 영역이 광빔 (LB1) 을 차광하도록 마스크 케이스 (30A) 를 ―Y 방향으로 이동한다. 이 때 검출 신호 (S1) 는, 시점 (t13) 으로 나타내는 바와 같이 임계값 (Sth) 보다 작아지기 때문에, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 가 광빔 (LB1) 을 차광하는 위치에 있는 것을 인식할 수 있다.17 (B), even if the mask case 30A is raised in the + Z direction through the carrier arm 61, the detection signal S1 is at the threshold value Sth ). The mask case 30A is raised through the transfer arm 61 such that the flange portions 41C1 and 41C2 of the mask case 30A are higher than the support portions 47B1 and 47B2 (pins 48) The mask case 30A is moved in the -Y direction so that the region between the openings 41C2b and 41C2a of the flange portion 41C2 shields the light beam LB1 as shown in Fig. 17C. At this time, since the detection signal S1 becomes smaller than the threshold value Sth as shown by the time point t13, the control device CONT judges that the flange portion 41C2 is at the position for shielding the light beam LB1 Can be recognized.

그리고, 반송 아암 (61) 을 ―Y 방향으로 이동하여, 도 17(D) 에 나타내는 바와 같이, 광빔 (LB1) 이 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 에 들어가면, 시점 (t14) 으로 나타내는 바와 같이 검출 신호 (S1) 가 임계값 (Sth) 보다 커지고, 제어 장치 (CONT) 는 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b) 가 광빔 (LB1) 까지 도달한 것을 인식할 수 있다. 이 상태에서, 반송 아암 (61) 의 ―Y 방향으로의 이동을 정지시켜, 반송 아암 (61) 을 ―Z 방향으로 강하시킴으로써, 도 17(E) 에 나타내는 바와 같이, 상부 케이스부 (31BA) 의 플랜지부 (41C1, 41C2) 가 위치 (P3) 의 레일 (46B) 의 지지부 (47B1, 47B2) 에 재치되고, 타방의 플랜지부 (41D1, 41D2) 가 위치 (P3) 의 레일 (46A) (도 8 참조) 의 지지부 (47A1, 47A2) 에 재치된다. 이 시점 (t15) 에 있어서도, 검출 신호 (S1) 는 임계값 (Sth) 을 초과하였다. 그 후, 일례로서, 반송 아암 (61) 에 의해 마스크 (M) 를 유지하는 하부 케이스부 (31A) 는 노광 장치에 반송된다.When the light beam LB1 enters the opening 41C2b of the flange portion 41C2 as shown in Fig. 17 (D) by moving the carrying arm 61 in the -Y direction, The detection signal S1 is larger than the threshold value Sth and the control device CONT can recognize that the opening 41C2b of the flange portion 41C2 has reached the light beam LB1. In this state, the movement of the carrier arm 61 in the -Y direction is stopped, and the carrier arm 61 is lowered in the -Z direction, whereby as shown in Fig. 17 (E) The flange portions 41C1 and 41C2 are mounted on the support portions 47B1 and 47B2 of the rail 46B at the position P3 and the other flange portions 41D1 and 41D2 are mounted at the rail 46A (See FIG. 4). Even at this time point t15, the detection signal S1 has exceeded the threshold value Sth. Thereafter, as an example, the lower case portion 31A holding the mask M by the transfer arm 61 is conveyed to the exposure apparatus.

이 동작 도중에, 예를 들어 정전 등에 의해 반송 장치 (H1) 가 정지된 경우, 그 정전으로부터 복구한 후에, 제어 장치 (CONT) 는, 기억되어 있는 검출 신호 (S1) 의 이력으로부터, 플랜지부 (41C2) 의 개구 (41C2b, 41C2a) 와 광빔 (LB1) 의 위치 관계를 인식할 수 있다. 이 때문에, 하부 케이스부 (31A) 를 노광 장치에 반송하는 동작을 원활하게 재개할 수 있다.If the conveying apparatus H1 is stopped during the operation, for example, by a power failure, the control unit CONT, after recovering from the power failure, calculates the flange portion 41C2 from the history of the stored detection signal S1 The positional relationship between the openings 41C2b and 41C2a and the light beam LB1 can be recognized. Therefore, the operation of conveying the lower case portion 31A to the exposure apparatus can be restarted smoothly.

또, 도 18(A) 의 다른 변형예의 마스크 케이스 (30B) 로 나타내는 바와 같이, 마스크 케이스의 플랜지부에 형성하는 2 개의 개구의 형상 및 크기를 바꾸도록 해도 된다. 또한, 도 18(A) 에 있어서 도 14 에 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙이고 그 상세한 설명을 생략한다.The shape and size of the two openings formed in the flange portion of the mask case may be changed as shown by the mask case 30B of another modification of Fig. 18 (A). In Fig. 18 (A), parts corresponding to those in Fig. 14 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

도 18(A) 에 있어서, 마스크 케이스 (30B) 의 상부 케이스부 (31BA) 의 커버 부재 (39) 의 ＋X 방향의 측면의 Y 방향으로 떨어진 2 개 지점에 플랜지부 (41C1, 41C3) 가 형성되고, 커버 부재 (39) 의 ―X 방향의 측면의 거의 플랜지부 (41C1, 41C3) 에 대향하는 위치에 2 개의 플랜지부 (41D1, 41D2) 가 형성되어 있다. ―Y 방향에 있는 플랜지부 (41C1, 41D1) 에는, 각각 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47A2, 47B2) 의 상면의 핀 (48) (도 9 참조) 이 삽입 통과 가능한 크기의 개구 (관통공) (41C1a, 41D1a) 가 형성되어 있다. 또, ＋Y 방향에서 ＋X 방향의 플랜지부 (41C3) 에는, Y 방향을 따라 소정 간격으로 거의 정방형상의 제 1 개구 (41C3a) 및 개구 (41C3a) 보다 작은 원형의 제 2 개구 (41C3b) 가 형성되어 있다. 개구 (41C3a) 는 도 14 의 개구 (41C2a) 보다 크게 설정되고, 개구 (41C3b) 는 도 14 의 개구 (41C2b) 와 거의 동일한 크기이다.Flange portions 41C1 and 41C3 are formed at two points apart in the Y direction on the side in the + X direction of the cover member 39 of the upper case portion 31BA of the mask case 30B in Fig. 18A Two flange portions 41D1 and 41D2 are formed at positions facing the flange portions 41C1 and 41C3 of the side surface of the cover member 39 in the -X direction. The flange portions 41C1 and 41D1 in the -Y direction are provided with openings (through-holes) each having a size allowing insertion of the pins 48 (see Fig. 9) on the upper surface of the support portions 47A2 and 47B2 of the mask library LB, (41C1a, 41D1a) are formed. In the flange portion 41C3 in the + Y direction and the + X direction, a circular second opening 41C3b smaller than the first opening 41C3a and the opening 41C3a is formed at regular intervals along the Y direction . The opening 41C3a is set larger than the opening 41C2a in Fig. 14, and the opening 41C3b is almost the same size as the opening 41C2b in Fig.

또한, 일례로서, 도 18(B) 에 나타내는 바와 같이, 플랜지부 (41C2) 의 2 개의 모서리부는 원주상으로 형성되어 있기 때문에, 개구 (41C3a) 의 4 개의 모서리부도 동일하게 원주상으로 형성되어 있다. 일례로서, 개구 (41C3a) 의 중심과 개구 (41C3b) 의 중심의 Y 방향의 간격은 60 ㎜ 이다. 또, 일례로서, 개구 (41C3a) 의 중심과 개구 (41C1a) 의 중심의 Y 방향의 간격은 570 ㎜ 이다. 개구 (41C3a, 41C3b) 는, 도 9 의 검출 장치 (52) 로부터 조사되는 광빔 (LB1) 을 통과시키기 위해서 사용된다. 이외의 구성은 도 14 의 마스크 케이스 (30A) 와 동일하다.18B, since the two corner portions of the flange portion 41C2 are formed in the shape of a cylinder, the four corner portions of the opening 41C3a are likewise formed into a cylindrical shape . As an example, the distance between the center of the opening 41C3a and the center of the opening 41C3b in the Y direction is 60 mm. As an example, the distance between the center of the opening 41C3a and the center of the opening 41C1a in the Y direction is 570 mm. The openings 41C3a and 41C3b are used to pass the light beam LB1 emitted from the detecting device 52 in Fig. The other configuration is the same as that of the mask case 30A in Fig.

이 변형예의 마스크 케이스 (30B) 에 있어서, 플랜지부 (41C3) 의 개구 (41C3a) 는, 상부 케이스부 (31BA) 와 하부 케이스부 (31A) 가 겹친 상태에서, 마스크 라이브러리 (LB) 내에서의 마스크 케이스 (30B) 의 위치를 검출하기 위해서 사용된다. 즉, 개구 (41C3a) 를 광빔 (LB1) 이 통과하고 있는 상태에서, 마스크 케이스 (30B) 는 목표치에 있는 것을 알 수 있다. 이 때에, 개구 (41C3a) 가 개구 (41C3b) 보다 크기 때문에, 예를 들어 진동 등에 의해 하부 케이스부 (31A) 및 상부 케이스부 (31BA) 의 겹침 상태가 변화하여, 개구 (41C3a) 의 위치가 어느 정도 어긋나도, 개구 (41C3a) 를 광빔 (LB1) 이 통과하기 때문에, 마스크 케이스 (30B) 가 목표 위치에 있는 것을 검출할 수 있다.The opening 41C3a of the flange portion 41C3 of the mask case 30B of this modified example is set such that the upper case portion 31BA and the lower case portion 31A overlap each other, And is used for detecting the position of the case 30B. That is, it can be seen that the mask case 30B is at the target value in a state in which the light beam LB1 passes through the opening 41C3a. At this time, since the opening 41C3a is larger than the opening 41C3b, the overlapping state of the lower case portion 31A and the upper case portion 31BA is changed by, for example, vibration or the like so that the position of the opening 41C3a is It is possible to detect that the mask case 30B is at the target position because the light beam LB1 passes through the opening 41C3a.

이에 대하여, 상부 케이스부 (31BA) 의 플랜지부 (41C1, 41C3) 를 마스크 라이브러리 (LB) 의 지지부 (47B1, 47B2) 에 재치할 때에는, 작은 개구 (41C3b) 를 광빔 (LB1) 이 통과하도록 상부 케이스부 (31BA) 를 위치 결정함으로써, 플랜지부 (41C1) 의 개구 (41C1a) 를 지지부 (47B2) 의 핀 (48) 에 걸어맞춤시킬 수 있다. 또한, 플랜지부 (41C1) 의 개구 (41C1a) 가 핀 (48) 에 걸어맞춰져 있는 상태에서는, 상부 케이스부 (31BA) 의 위치 어긋남은 거의 발생하지 않기 때문에, 광빔 (LB1) 은 그 후에도 계속하여 개구 (41C3b) 를 통과하고 있다.On the other hand, when the flange portions 41C1 and 41C3 of the upper case portion 31BA are mounted on the support portions 47B1 and 47B2 of the mask library LB, the small opening 41C3b is made to pass through the light beam LB1, The opening 41C1a of the flange portion 41C1 can be engaged with the pin 48 of the support portion 47B2 by positioning the portion 31BA. In the state in which the opening 41C1a of the flange portion 41C1 is engaged with the pin 48, since the positional deviation of the upper case portion 31BA hardly occurs, the light beam LB1 is continuously And passes through the second passage 41C3b.

이와 같이, 위치 결정 정밀도가 그다지 높지 않은 용도에서는, 큰 개구 (41C3a) 를 사용하고, 높은 위치 결정 정밀도가 요구되는 용도에서는, 작은 개구 (41C3b) 를 사용함으로써, 마스크 케이스 (30B) 의 반송을 원활하게 실시할 수 있다. As described above, in the use in which the positioning accuracy is not so high, the use of the large opening 41C3a and the use of the small opening 41C3b in applications where high positioning accuracy is required, the conveyance of the mask case 30B is smooth .

또한, 플랜지부 (41C3) 의 개구 (41C3a) 는, 개구 (41C3b) 보다 큰 원형이어도 된다. 또한, 플랜지부 (41C3) 대신에, 도 18(C) 에 나타내는 바와 같이, 거의 정방형의 개구 (41C4a) 및 이것보다 작은 원형 개구 (41C4b) 가 형성된 플랜지부 (41C4) 를 사용해도 된다.The opening 41C3a of the flange portion 41C3 may be circular, which is larger than the opening 41C3b. Instead of the flange portion 41C3, a flange portion 41C4 having an approximately square opening 41C4a and a smaller circular opening 41C4b may be used as shown in Fig. 18 (C).

이 변형예의 마스크 케이스 (30B) 를 사용하여, 반송 아암 (61) 에 의해 마스크 케이스 (30B) 를 마스크 라이브러리 (LB) 에 반송하는 경우, 검출 장치 (52) 로 수광하여 얻어지는 검출 신호는, 광빔 (LB1) 이 개구 (41C3a) 를 통과하는 경우와, 개구 (41C3b) 를 통과하는 경우에서 상이하다. 예를 들어, 개구 (41C3b) 보다 개구 (41C3a) 가 큰 마스크 케이스 (30B) 를 사용하는 경우, 개구 (41C3a) 및 개구 (41C3b) 를 걸쳐 신호가 검출되도록 반송 아암 (61) 을 등속으로 이동시키면, 개구 (41C3a) 를 걸쳐 검출되는 검출 신호 쪽이, 개구 (41C3b) 를 걸쳐 검출되는 검출 신호보다 긴 시간 관측된다. 바꿔 말하면, 개구 (41C3a) 에서 관측되는 검출 신호 쪽이 개구 (41C3b) 에서 관측되는 검출 신호보다 반치폭이 길다. 이에 따라, 개구 (41C3a) 의 검출 신호와 개구 (41C3b) 의 검출 신호를 구별할 수 있기 때문에, 반송 아암 (61) 의 위치를 특정할 수 있다. When the mask case 30B is transported to the mask library LB by the transport arm 61 using the mask case 30B of this modified example, the detection signal obtained by receiving the light beam by the detection device 52 is a light beam LB1 pass through the opening 41C3a and pass through the opening 41C3b. For example, when the mask case 30B having a larger opening 41C3a than the opening 41C3b is used, if the carrying arm 61 is moved at a constant speed such that a signal is detected across the opening 41C3a and the opening 41C3b , The detection signal detected over the aperture 41C3a is observed for a longer period of time than the detection signal detected over the aperture 41C3b. In other words, the detection signal observed at the opening 41C3a has a half-width longer than the detection signal observed at the opening 41C3b. Thus, since the detection signal of the opening 41C3a and the detection signal of the opening 41C3b can be distinguished, the position of the transfer arm 61 can be specified.

다음으로, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송 장치 (H1) 와는 별도로 반송차 (V) 가 사용되고 있지만, 반송차 (V) 를 본 발명에 의한 반송 장치의 일례로 간주하는 것도 가능하다. 이 경우, 반송차 (V) 에 검출 장치 (63) 를 형성하도록 해도 된다.Next, in the above-described embodiment, although the conveyance carriage V is used separately from the conveyance apparatus H1, it is also possible to regard the conveyance carriage V as an example of the conveyance apparatus according to the present invention. In this case, the detection device 63 may be formed on the conveyance carriage V.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 마스크 라이브러리 (LB) 에 수용부 (65) 외에 일시 수용부 (66) 가 형성되어 있지만, 일시 수용부 (66) 를 형성하지 않고, 복수의 수용부 (65) 중 임의의 하나의 수용부 (65) 에 반송차 (V) 로부터 마스크 케이스 (30) 를 반입하고, 임의의 하나의 수용부 (65) 로부터 반송차 (V) 에 의해 마스크 케이스 (30) 를 반출해도 된다.In the embodiment described above, the temporary library 66 is provided in the mask library LB in addition to the storage 65. However, the temporary library 66 may be omitted, The mask case 30 is carried from the conveying car V to any one of the receiving portions 65 of the mask case 30 by the conveying carriage V from any one receiving portion 65 It may be carried out.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송차 (V) 및 반송 장치 (H1) 와 마스크 케이스 (30) 의 연결은 마스크 케이스 (30) (하부 케이스부 (31A)) 의 저면부에 있어서 실시하고 있지만, 하부 케이스부 (31A) 의 측면부 또는 상부 케이스부 (31B) 의 상면부 등에서 그 연결을 실시하도록 해도 된다.In the above-described embodiment, the conveying car V and the conveying device H1 are connected to the mask case 30 at the bottom of the mask case 30 (lower case 31A) However, the connection may be made at the side portion of the lower case portion 31A or the upper face portion of the upper case portion 31B.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송차 (V) 및 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (53, 61) 에는 거의 동일 구조의 볼 트랜스퍼 (54A ∼ 54D 및 62A ∼ 62D) 가 사용되고 있지만, 마스크 케이스 반송부 (53, 61) 의 단부 등, 마스크 케이스 (30) 의 수수시에 큰 충격이 가해질 우려가 있는 부분에는, 내충격성이 높은 볼 트랜스퍼 등의 케이스 지지 부재를 사용할 수도 있다.In the embodiment described above, the ball transfers 54A to 54D and 62A to 62D having substantially the same structure are used in the mask case transfer sections 53 and 61 of the transfer vehicle V and the transfer apparatus H1 And a case supporting member such as a ball transfer having a high impact resistance may be used at a portion where the mask case 30 is likely to be subjected to a large impact at the time of handling the mask case 30, such as the ends of the mask case transfer portions 53 and 61.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송 장치 (H1) 는, 자동으로 작동하는 것으로서 설명했지만, 작업원 등이 부분적으로 매뉴얼 방식으로 작동시켜도 된다.In the above-described embodiment, the transport apparatus H1 is described as being operated automatically. However, a worker or the like may be operated partially in a manual manner.

또, 상기 서술한 실시형태에 있어서는, 반송차 (V) 의 마스크 케이스 반송부 (53) 및 반송 장치 (H1) 의 마스크 케이스 반송부 (61) 의 적어도 일방에, 마스크 케이스 (30) 의 θz 방향의 회전각을 조정하는 기구를 형성해도 된다.In the above-described embodiment, at least one of the mask case transfer section 53 of the transfer vehicle V and the mask case transfer section 61 of the transfer apparatus H1 is provided with the? Z direction of the mask case 30 A mechanism for adjusting the rotation angle of the rotor may be provided.

또, 상기 서술한 실시형태의 노광 장치 (EX) 로는, 마스크와 플레이트 (기판) 를 동기 이동하여 스텝·앤드·스캔 방식으로 마스크의 패턴을 플레이트에 노광하는 주사형 노광 장치가 사용되고 있다. 노광 장치 (EX) 로서, 그 외에, 스텝·앤드·리피트 방식의 투영 노광 장치 (스테퍼), 또는 투영 광학계를 사용하지 않고, 마스크와 기판을 근접시켜 노광을 실시하는 프록시미티 노광 장치 등을 사용하는 경우에도 본 발명을 적용할 수 있다.In the exposure apparatus EX of the above-described embodiment, a scanning exposure apparatus for exposing a mask pattern to a plate by a step-and-scan method while synchronously moving a mask and a plate (substrate) is used. As the exposure apparatus EX, a projection exposure apparatus (stepper) of a step-and-repeat system or a proximity exposure apparatus which performs exposure by bringing a mask and a substrate close to each other without using a projection optical system is used The present invention can be applied.

또, 노광 장치 (EX) 의 종류로는, 액정 표시 디바이스 제조용의 노광 장치에 한정되지 않고, 반도체 웨이퍼에 반도체 디바이스용의 패턴을 노광하는 반도체 디바이스 제조용의 노광 장치나, 박막 자기 헤드, 촬상 소자 (CCD) 혹은 레티클 등을 제조하기 위한 노광 장치 등을 사용하는 경우에도 본 발명을 적용할 수 있다.The type of the exposure apparatus EX is not limited to the exposure apparatus for manufacturing a liquid crystal display device but may be an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor device that exposes a pattern for a semiconductor device to a semiconductor wafer or a thin film magnetic head, CCD) or an exposure apparatus for manufacturing a reticle or the like may be used.

또, 상기의 각 실시형태의 노광 장치 (EX) 또는 노광 방법을 이용하여, 기판 상에 소정의 패턴 (TFT 패턴 등) 을 형성함으로써, 전자 디바이스 (마이크로 디바이스) 로서의 액정 디스플레이용의 패널 (액정 표시 패널) 을 얻을 수도 있다. 이하, 도 19 의 플로우 차트를 참조하여, 이 제조 방법의 일례에 대해 설명한다.A predetermined pattern (a TFT pattern or the like) is formed on a substrate by using the exposure apparatus EX or the exposure method of each of the above-described embodiments to form a liquid crystal display panel Panel). Hereinafter, an example of this manufacturing method will be described with reference to the flowchart of Fig.

도 19 의 스텝 S401 (패턴 형성 공정) 에서는, 먼저, 노광 대상의 기판 상에 포토레지스트를 도포하여 감광 기판 (플레이트 (P)) 을 준비하는 도포 공정, 상기의 노광 장치를 사용하여 패널용의 마스크 (예를 들어, 마스크 (M) 를 포함한다) 의 패턴을 그 감광 기판 상의 복수의 패턴 형성 영역에 노광하는 노광 공정, 및 그 감광 기판을 현상하는 현상 공정이 실행된다. 이 도포 공정, 노광 공정, 및 현상 공정을 포함하는 리소그래피 공정에 의해, 그 기판 상에 소정의 레지스트 패턴이 형성된다. 이 리소그래피 공정에 이어서, 그 레지스트 패턴을 마스크로 한 에칭 공정, 및 레지스트 박리 공정 등을 거쳐, 그 기판 상에 소정 패턴이 형성된다. 그 리소그래피 공정 등은, 그 기판 상의 레이어 수에 따라 복수 회 실행된다.In step S401 (pattern formation step) of Fig. 19, a coating step of first coating a photoresist on a substrate to be exposed to prepare a photosensitive substrate (plate P), using the exposure apparatus described above, (For example, a mask M) is exposed to a plurality of pattern forming regions on the photosensitive substrate, and a developing process for developing the photosensitive substrate is performed. A predetermined resist pattern is formed on the substrate by a lithography process including the coating process, the exposure process, and the developing process. Following this lithography step, a predetermined pattern is formed on the substrate through an etching step using the resist pattern as a mask, a resist stripping step and the like. The lithography process or the like is executed a plurality of times in accordance with the number of layers on the substrate.

그 다음의 스텝 S402 (컬러 필터 형성 공정) 에서는, 적 R, 녹 G, 청 B 에 대응한 3 개의 미세한 필터 세트를 매트릭스상으로 다수 배열하거나, 또는 적 R, 녹 G, 청 B 의 3 개의 스트라이프상의 복수의 필터의 세트를 수평 주사선 방향으로 배열함으로써 컬러 필터를 형성한다. 그 다음의 스텝 S403 (셀 조립 공정) 에서는, 예를 들어 스텝 S401 에서 얻어진 소정 패턴을 갖는 기판과 스텝 S402 에서 얻어진 컬러 필터의 사이에 액정을 주입하여, 액정 셀을 제조한다.In the next step S402 (color filter forming step), a large number of three fine filter sets corresponding to red R, green G and blue B are arranged in a matrix, or three stripes of red R, green G, A color filter is formed by arranging a plurality of sets of filters on a horizontal scanning line. In the next step S403 (cell assembly process), for example, liquid crystal is injected between the substrate having the predetermined pattern obtained in the step S401 and the color filter obtained in the step S402 to manufacture a liquid crystal cell.

그 후의 스텝 S404 (모듈 조립 공정) 에서는, 그와 같이 하여 조립된 액정 셀에 표시 동작을 실시시키기 위한 전기 회로, 및 백라이트 등의 부품을 부착하여, 액정 표시 패널로서 완성시킨다. In the subsequent step S404 (module assembly process), an electric circuit for performing a display operation on the assembled liquid crystal cell and a component such as a backlight are attached to complete the liquid crystal display panel.

상기 서술한 전자 디바이스의 제조 방법에 따르면, 상기 실시형태의 노광 장치 또는 노광 방법을 이용하여 마스크의 패턴을 기판에 전사하는 공정 (스텝 S401 의 일부) 과, 이 공정에 의해 그 패턴이 전사된 기판을 그 패턴에 기초하여 가공 (현상, 에칭 등) 하는 공정 (스텝 S401 외의 부분) 을 포함하고 있다.According to the electronic device manufacturing method described above, the step of transferring the pattern of the mask onto the substrate (part of step S401) by using the exposure apparatus or the exposure method of the embodiment, and the step of transferring the pattern (A portion other than the step S401) for processing (developing, etching, etc.) based on the pattern.

이 제조 방법에 따르면, 노광 공정의 스루풋을 높일 수 있기 때문에, 액정 표시 패널 등의 전자 디바이스를 효율적으로 제조할 수 있다According to this manufacturing method, since the throughput of the exposure process can be increased, an electronic device such as a liquid crystal display panel can be efficiently manufactured

또한, 상기 서술한 전자 디바이스의 제조 방법은, 유기 EL (Electro-Luminescence) 디스플레이, 또는 플라즈마 디스플레이 등의 다른 디스플레이용의 패널 등을 제조하는 경우에도 적용할 수 있다.In addition, the above-described method of manufacturing an electronic device can be applied to the manufacture of panels for other displays such as an organic EL (Electro-Luminescence) display or a plasma display.

또한, 본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 구성을 취할 수 있는 것은 물론이다.It is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and that various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

EX : 노광 장치
M : 마스크
P : 플레이트
MST : 마스크 스테이지
CH : 노광 챔버
V : 반송차
H1 : 반송 장치
H2 : 마스크 로더계
LB : 마스크 라이브러리
30 : 마스크 케이스
31A : 하부 케이스부 (제 1 케이스부)
31B : 상부 케이스부 (제 2 케이스부)
32 : 베이스 부재
32a1 : 창부
36A ∼ 36C : 위치 결정부
37A, 37B : 반사부
41A, 41B : 플랜지 (날밑) 부
43 : 프레임 기구
46A, 46B : 레일
47A1, 47A2, 47B1, 47B2 : 지지부
49 : 반사 부재
52 : 검출 장치
65 : 수용부
66 : 일시 수용부EX: Exposure device
M: Mask
P: Plate
MST: Mask stage
CH: Exposure chamber
V:
H1:
H2: Mask loader system
LB: mask library
30: mask case
31A: Lower case part (first case part)
31B: upper case portion (second case portion)
32: Base member
32a1: window
36A to 36C:
37A and 37B:
41A, 41B: flange
43: frame mechanism
46A, 46B: rail
47A1, 47A2, 47B1, 47B2:
49: reflective member
52: Detection device
65:
66: Temporary storage section

Claims (53)

마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 상기 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서,
상기 제 2 케이스부는, 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 상기 보관 장치에 유지될 때에 사용되는 유지부를 갖고,
상기 유지부는,
상기 제 1 케이스부에 장착된 상기 제 2 케이스부가 상기 보관 장치에 보관되는 제 1 위치에 있을 때에, 광이 통과하는 제 1 광 통과부와,
상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 상기 제 2 케이스부의 상기 유지부가 상기 보관 장치에 유지되는 제 2 위치에 있을 때에, 상기 광이 통과하는, 상기 제 1 광 통과부와는 상이한 제 2 광 통과부
를 구비하는, 마스크 케이스.A first case part having a bottom surface on which a support part for supporting the mask is formed and a second case part formed to be detachable from the first case part and having an upper surface opposed to the bottom surface, As a mask case,
The second case portion has a holding portion which is detached from the first case portion and used when the holding means is held in the storage device,
The holding unit includes:
A first light passing portion through which light passes when the second case portion mounted on the first case portion is in a first position where it is stored in the storage device,
And a second light passing part, which is different from the first light passing part, through which the light passes when the holding part of the second case part detached from the first case part is in a second position held by the storage device,
And the mask case. 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부와 상기 제 2 광 통과부는, 상기 제 2 케이스부의 상기 보관 장치에 대한 상대 위치 관계를 검출하기 위해서 사용되는, 마스크 케이스.The method according to claim 1,
Wherein the first light passing portion and the second light passing portion are used to detect a relative positional relationship of the second case portion with respect to the storage device. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부와 상기 제 2 광 통과부는, 상기 마스크 케이스가 상기 보관 장치에 반입되는 제 1 방향의 서로 상이한 위치에 형성되는, 마스크 케이스.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first light passing portion and the second light passing portion are formed at positions different from each other in a first direction in which the mask case is brought into the storage device. 제 3 항에 있어서,
상기 제 2 광 통과부는,
상기 제 1 케이스부에 장착된 상기 제 2 케이스부가 상기 보관 장치에 보관되어 있을 때의 위치로부터 상기 제 1 방향으로 어긋난 위치에서, 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 상기 제 2 케이스부의 상기 유지부를 개재하여 상기 보관 장치에 유지되고 있을 때의, 상기 제 2 케이스부의 상기 보관 장치에 대한 상대 위치 관계를 검출하기 위해서 사용되는, 마스크 케이스.The method of claim 3,
The second light-
The holding portion of the second case portion detached from the first case portion at a position shifted from the position where the second case portion mounted on the first case portion is stored in the storage device in the first direction And is used to detect a relative positional relationship of the second case part with respect to the storage device when the second case part is held in the storage device. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부는, 상기 제 2 광 통과부에 대하여,
상기 제 2 케이스부를 장착한 상기 제 1 케이스부가, 상기 보관 장치에 지지되고 있을 때의 상기 제 2 케이스부의 위치와, 상기 제 2 케이스부가 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어져, 상기 유지부를 개재하여 상기 보관 장치에 지지되고 있을 때의 상기 제 2 케이스부의 위치의 상기 제 1 방향에 있어서의 어긋남량만큼 상기 제 1 방향으로 어긋나 배치되는, 마스크 케이스.The method according to claim 3 or 4,
Wherein the first light-passing portion has, with respect to the second light-
The first case portion having the second case portion mounted thereon is positioned at a position of the second case portion when the first case portion is supported by the storage device and the second case portion is detached from the first case portion, The second case portion being displaced in the first direction by a displacement amount in the first direction of the position of the second case portion when the second case portion is supported by the storage device. 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 제 2 케이스부의 상면에 있어서, 상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향의 양측의 측면에서 외부로 돌출하여 형성되는, 마스크 케이스.6. The method according to any one of claims 3 to 5,
Wherein the holding portion is formed so as to protrude outward from both side surfaces in a second direction intersecting with the first direction on an upper surface of the second case portion. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 지지부로 지지된 상기 마스크의 패턴면에 평행한 방향으로 돌출하여 형성되는, 마스크 케이스.7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein the holding portion is formed so as to protrude in a direction parallel to a pattern surface of the mask supported by the support portion. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부에 있어서 광이 통과하는 영역의 면적은, 상기 제 2 광 통과부에 있어서 상기 광이 통과하는 영역의 면적보다 작은, 마스크 케이스.8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein an area of a region through which light passes in the first light passing portion is smaller than an area through which light passes through the second light passing portion. 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 제 2 케이스부의 상면에 있어서, 상기 제 1 방향을 따라 상기 제 1 광 통과부 및 상기 제 2 광 통과부로부터 떨어진 위치에, 절결부를 갖는, 마스크 케이스.9. The method according to any one of claims 3 to 8,
Wherein the holding portion has a cutout at a position away from the first light passing portion and the second light passing portion along the first direction on the upper surface of the second case portion. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유지부는, 상기 제 2 케이스부의 상기 상면에 있어서의 일방의 측면 및 타방의 측면에서 외부로 돌출한 적어도 2 개의 부분 돌출부로 구성되고,
상기 부분 돌출부 중 하나에, 상기 제 1 광 통과부와 상기 제 2 광 통과부가 형성되는, 마스크 케이스.10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the holding portion is constituted by at least two partial projecting portions projecting outward from one side surface and the other side surface of the upper surface of the second case portion,
And the first light passing portion and the second light passing portion are formed in one of the partial projecting portions. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부 및 제 2 광 통과부는, 서로 60 ㎜ 떨어진 위치에 형성되는, 마스크 케이스.11. The method according to any one of claims 1 to 10,
And the first light passing portion and the second light passing portion are formed at positions spaced apart by 60 mm from each other. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 광 통과부로부터 570 ㎜ 떨어진 위치에, 상기 제 2 케이스부를 상기 보관 장치에 끼워맞추기 위한 개구부를 구비하는, 마스크 케이스.12. The method according to any one of claims 1 to 11,
And an opening for fitting the second case part into the storage device at a position 570 mm away from the first light passage part. 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 상기 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부를 구비하고, 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스로서,
상기 제 2 케이스부는, 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어져 유지될 때에 사용되는 유지부를 구비하고,
상기 유지부는, 상기 제 1 케이스부로부터 떼어내어진 상기 제 2 케이스부가 상기 보관 장치로 지지될 때에, 상기 보관 장치에 형성된 핀부에 끼워맞추기 위한 개구부를 갖는, 마스크 케이스.A first case part having a bottom surface on which a support part for supporting the mask is formed and a second case part formed to be detachable from the first case part and having an upper surface opposed to the bottom surface, As a mask case,
The second case portion has a holding portion used when the first case portion is detached from the first case portion,
Wherein the holding portion has an opening for fitting to a fin portion formed in the storage device when the second case portion detached from the first case portion is supported by the storage device. 제 13 항에 있어서,
상기 유지부의 개구부는, 상기 제 2 케이스부의 상기 상면에 있어서의 일방의 측면 및 타방의 측면의 각각에 형성되는, 마스크 케이스.14. The method of claim 13,
And the opening of the holding portion is formed on each of one side surface and the other side surface of the upper surface of the second case portion. 마스크를 지지하는 지지부가 형성되는 저면을 갖는 제 1 케이스부와, 제 1 케이스부에 대하여 착탈 가능하도록 형성되고, 상기 저면에 대향 배치되는 상면을 갖는 제 2 케이스부로 구성되는 마스크 케이스로서,
상기 제 1 케이스부는, 상기 저면에 있어서 상기 지지부에 대향하는 위치에, 외부로부터의 광을 통과시키는 광 통과부를 구비하는, 마스크 케이스.A mask case comprising a first case part having a bottom surface on which a supporting part for supporting a mask is formed and a second case part detachably attached to the first case part and having an upper surface opposed to the bottom surface,
Wherein the first case portion has a light passing portion for passing light from outside at a position opposite to the support portion on the bottom surface. 제 15 항에 있어서,
상기 지지부는, 상기 마스크 케이스가 보관되는 보관 장치에 상기 제 1 케이스부 및 상기 제 2 케이스부가 반송되는 제 1 방향에 있어서의 상기 마스크의 단부 (端部) 의 위치를 규정하고,
상기 광 통과부는, 상기 지지부에 대향하는 위치에 형성되는, 마스크 케이스.16. The method of claim 15,
The support portion defines a position of an end portion of the mask in a first direction in which the first case portion and the second case portion are transported to the storage device in which the mask case is stored,
And the light passing portion is formed at a position facing the support portion. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
상기 광 통과부는, 상기 제 1 케이스부의 저면에 대하여 경사져 형성되는, 마스크 케이스.17. The method according to claim 15 or 16,
Wherein the light passing portion is formed obliquely with respect to a bottom surface of the first case portion. 제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광 통과부는, 상기 제 2 케이스부가 상기 제 1 케이스부에 장착되어 상기 마스크가 상기 제 1 케이스부 및 상기 제 2 케이스부에 수납된 상태에서, 상기 마스크와 상기 제 2 케이스부가 보이는 위치에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 케이스.18. The method according to any one of claims 15 to 17,
Wherein the light passing portion is formed in a position where the mask and the second case portion are visible when the second case portion is mounted to the first case portion and the mask is accommodated in the first case portion and the second case portion, Wherein the mask case is made of a metal. 제 15 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 케이스부에 형성되고, 외부로부터의 광을 반사하는 제 1 반사부와, 상기 제 2 케이스부의 내면에 형성되고, 상기 제 1 케이스부의 상기 광 통과부에 대향하는 위치에, 상기 광 통과부로부터 입사하는 광을 상기 광 통과부를 향하여 반사하는 제 2 반사부를 추가로 구비하는, 마스크 케이스.19. The method according to any one of claims 15 to 18,
A first reflecting portion formed in the first case portion and reflecting light from the outside, and a second reflecting portion formed on an inner surface of the second case portion, the first case portion being located at a position opposed to the light passing portion, And a second reflector that reflects light incident from the light-passing portion toward the light-passing portion. 제 19 항에 있어서,
상기 광 통과부가 형성되는 측에서 상기 마스크 케이스를 보았을 때에, 상기 제 1 반사부, 상기 마스크, 상기 제 2 반사부의 순서로 늘어서 형성되는, 마스크 케이스.20. The method of claim 19,
Wherein the mask case is formed in such a manner that the first reflecting portion, the mask, and the second reflecting portion are lined up in this order when the mask case is viewed from the side where the light passage portion is formed. 제 19 항 또는 제 20 항에 있어서,
상기 제 1 반사부 및 상기 제 2 반사부 중 적어도 일방은 편광판인, 마스크 케이스.21. The method according to claim 19 or 20,
Wherein at least one of the first reflecting portion and the second reflecting portion is a polarizing plate. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 케이스부의 저면에 형성되고, 서로 상이한 형상을 갖는 적어도 3 개의 홈부를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 케이스.22. The method according to any one of claims 1 to 21,
And at least three groove portions formed on a bottom surface of the first case portion and having different shapes from each other. 제 22 항에 있어서,
상기 홈부의 적어도 3 개의 홈부는, 원추면상의 홈부와 평탄면을 갖는 홈부를 포함하는, 마스크 케이스.23. The method of claim 22,
Wherein at least three groove portions of the groove portion include a groove portion having a conical surface and a groove portion having a flat surface. 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치에 있어서,
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스의 상기 유지부를 개재하여 상기 마스크 케이스를 지지 가능한 지지부와,
상기 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와,
상기 지지부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는 검출부
를 구비하는, 보관 장치.1. A storage device for storing a mask case,
13. A mask holder comprising: a support portion capable of supporting the mask case through the holding portion of the mask case according to any one of claims 1 to 12;
An irradiating part for irradiating a light beam toward the support part,
And a detector for detecting the light beam irradiated toward the support portion
. 제 24 항에 있어서,
상기 조사부는, 상기 유지부에 형성된 상기 광 통과부를 향하여 상기 광빔을 조사하고,
상기 검출부는, 상기 광 통과부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는, 보관 장치.25. The method of claim 24,
The irradiation section irradiates the light beam toward the light passage section formed in the holding section,
Wherein the detecting unit detects the light beam irradiated toward the light passing portion. 제 24 항 또는 제 25 항에 있어서,
상기 유지부의 상기 광 통과부를 통과한 상기 광빔을 상기 광 통과부를 향하여 반사하는 광빔 반사부를 추가로 구비하고,
상기 검출부는, 상기 광빔 반사부로 반사되어 상기 광 통과부를 통과한 상기 광빔을 검출하는 것을 특징으로 하는 보관 장치.26. The method according to claim 24 or 25,
Further comprising a light beam reflecting section for reflecting the light beam passing through the light passing section of the holding section toward the light passing section,
Wherein the detecting unit detects the light beam reflected by the light beam reflecting unit and passed through the light passing unit. 제 24 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유지부의 적어도 일부에 걸어맞추는 걸어맞춤부를 추가로 구비하고,
상기 유지부의 적어도 일부가 상기 걸어맞춤부에 걸어맞춰진 상태에서, 상기 조사부가 상기 지지부에 의해 지지된 상기 유지부의 상기 광 통과부에 광을 조사하여, 상기 광 통과부를 통과한 광을 상기 검출부로 검출하는, 보관 장치.27. The method according to any one of claims 24 to 26,
Further comprising an engaging portion engaging at least a part of the holding portion,
The irradiating part irradiates light to the light passing part of the holding part supported by the supporting part in a state in which at least a part of the holding part is engaged with the engaging part and light passing through the light passing part is detected by the detecting part , Storage device. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서,
제 24 항 내지 제 27 항 중 어느 한 항에 기재된 보관 장치에 상기 마스크 케이스를 반송하는 반송 아암을 구비하고,
상기 반송 아암은, 상기 마스크 케이스를 유지하고 나서 상기 마스크 케이스가 상기 보관 장치의 상기 지지부에 지지될 때까지의 동안에 상기 검출부로 검출된 상기 광빔의 검출 결과에 기초하여, 상기 마스크 케이스가 상기 지지부로 지지되는 위치를 제어하는, 반송 장치.A transfer device for transferring a mask case,
29. A storage device according to any one of claims 24 to 27, further comprising a transfer arm for transferring the mask case,
Wherein the transfer arm is configured to move the mask case to the support portion on the basis of the detection result of the light beam detected by the detection portion while the mask case is held by the support portion of the storage device after holding the mask case And controls the position to be supported. 제 28 항에 있어서,
상기 보관 장치는, 상기 마스크 케이스의 수수를 실시하는 일시 수용부를 추가로 구비하고,
상기 반송 아암은, 상기 검출부로 검출된 상기 검출 결과가 원하는 검출 결과와 상이한 경우에, 상기 마스크 케이스를 상기 일시 수용부에 반환하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.29. The method of claim 28,
The storage device may further include a temporary accommodating portion for carrying out the mask case,
Wherein said transfer arm returns said mask case to said temporary storage portion when said detection result detected by said detection portion is different from a desired detection result. 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치로서,
제 13 항 또는 제 14 항에 기재된 마스크 케이스의 유지부를 지지 가능한 케이스 지지부를 구비하고,
상기 케이스 지지부에, 상기 유지부에 형성된 상기 개구부와 걸어맞춤 가능한 핀부를 갖는, 보관 장치.1. A storage device for storing a mask case,
And a case supporting portion capable of supporting the holding portion of the mask case according to Claim 13 or Claim 14,
And a pin portion which is engageable with the opening formed in the holding portion on the case supporting portion. 제 30 항에 있어서,
상기 개구부가 상기 핀부에 걸어맞춰지지 않는 것을 검출하는 검출부를 추가로 구비하는, 보관 장치.31. The method of claim 30,
Further comprising: a detecting unit that detects that the opening is not engaged with the fin. 마스크가 수납된 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서,
제 31 항에 기재된 보관 장치에 상기 마스크 케이스를 반송하는 반송 아암을 구비하고,
상기 반송 아암은, 상기 검출부에 의해 상기 개구부가 상기 핀부에 걸어맞춰지지 않는 것을 검출한 경우에, 상기 마스크 또는 상기 마스크 케이스의 반송을 실시하지 않는, 반송 장치.A transfer device for transferring a mask case containing a mask,
31. A storage apparatus according to claim 31, further comprising a transfer arm for transferring the mask case,
Wherein the transfer arm does not carry the mask or the mask case when the detection unit detects that the opening is not engaged with the fin unit. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서,
제 15 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부와,
상기 마스크 케이스를 향하여 광빔을 조사하는 조사부와,
상기 마스크 케이스를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는 검출부를 구비하는, 반송 장치.A transfer device for transferring a mask case,
A case supporting portion for supporting the mask case according to any one of Claims 15 to 21,
An irradiation unit for irradiating a light beam toward the mask case,
And a detection unit for detecting the light beam irradiated toward the mask case. 제 33 항에 있어서,
상기 조사부는, 상기 마스크 케이스의 상기 광 통과부에 상기 광빔을 조사하고,
상기 검출부는, 상기 광 통과부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는, 반송 장치.34. The method of claim 33,
The irradiation unit irradiates the light beam to the light passage portion of the mask case,
And the detection unit detects the light beam irradiated toward the light passage portion. 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,
상기 검출부로 검출된 검출 결과에 기초하여, 원하는 마스크가 아닌 마스크가 반송된 경우, 또는, 마스크가 없는 마스크 케이스가 반송된 경우에, 상기 마스크 케이스의 반송을 실시하지 않는, 반송 장치.35. The method according to claim 33 or 34,
Wherein the transfer of the mask case is not carried out when a mask other than the desired mask is transported or a mask case without a mask is transported based on the detection result detected by the detection unit. 제 33 항 내지 제 35 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검출부로 검출된 검출 결과에 기초하여, 원하는 마스크가 아닌 마스크가 반송된 경우, 또는, 마스크가 없는 마스크 케이스가 반송된 경우에, 상기 마스크 케이스가 보관되는 보관 장치의 일시 수용부에 상기 마스크 케이스를 반환하는, 반송 장치.37. The method according to any one of claims 33 to 35,
Wherein when a mask other than the desired mask is transported or a mask case without a mask is transported on the basis of the detection result detected by the detection unit, To the transfer device. 제 33 항 내지 제 36 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 검출부는,
상기 마스크 케이스에 광을 조사하고, 상기 마스크 케이스로부터의 반사광을 검출하여 상기 마스크 케이스의 상태를 검출하는 제 1 검출부와,
상기 마스크 케이스에 형성된 상기 광 통과부를 통해서 상기 마스크 케이스에 수납되어 있는 상기 마스크에 광을 조사하고, 상기 마스크로부터의 반사광을 상기 광 통과부를 통해서 검출하는 제 2 검출부
를 갖는, 반송 장치.37. The method according to any one of claims 33 to 36,
Wherein:
A first detecting unit that irradiates light to the mask case, detects the reflected light from the mask case and detects the state of the mask case,
And a second detection part for detecting light reflected from the mask through the light passage part, through a light passage part formed in the mask case,
. 제 37 항에 있어서,
상기 검출부는,
상기 하부 케이스부의 상기 광 통과부를 통해서 상기 상부 케이스부에 형성된 제 2 반사부에 광을 조사하고, 상기 제 2 반사부로부터의 반사광을 상기 광 통과부를 통해서 검출하여, 상기 상부 케이스부의 상태를 검출하는 제 3 검출부를 구비하는, 반송 장치.39. The method of claim 37,
Wherein:
The light is irradiated to the second reflecting portion formed in the upper case portion through the light passing portion of the lower case portion and the reflected light from the second reflecting portion is detected through the light passing portion to detect the state of the upper case portion And a third detection unit. 제 22 항 또는 제 23 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하고,
상기 케이스 지지부는, 상기 마스크 케이스의 상기 저면의 적어도 3 개의 홈부에 걸어맞춤 가능한 적어도 3 개의 볼록부를 갖는, 반송 장치.And a case supporting portion for supporting the mask case according to claim 22 or 23,
Wherein the case supporting portion has at least three convex portions engageable with at least three groove portions of the bottom surface of the mask case. 마스크 케이스를 보관하는 보관 장치에 있어서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하는, 보관 장치.1. A storage device for storing a mask case,
A storage device comprising a case supporting part for supporting the mask case according to any one of claims 1 to 23. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치에 있어서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 케이스 지지부를 구비하는, 반송 장치.A transfer device for transferring a mask case,
A carrying device comprising a case supporting part for supporting the mask case according to any one of claims 1 to 23. 마스크 케이스를 반송하는 반송 장치로서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스로부터 제 2 케이스부를 꺼내어, 상기 마스크가 재치 (載置) 된 상기 제 1 케이스부를 반송하는 반송 아암을 구비하는, 반송 장치.A transfer device for transferring a mask case,
A transfer device comprising a transfer case for taking out a second case part from the mask case according to any one of claims 1 to 23 and carrying the first case part on which the mask is placed. 마스크를 반송하는 마스크 반송 장치로서,
제 42 항에 기재된 반송 장치에 의해 반송되고, 또한, 상기 마스크가 재치된 제 1 케이스부로부터 상기 마스크를 수취하여, 상기 마스크를 반송하는 마스크 반송부를 구비하는, 마스크 반송 장치.A mask transfer apparatus for transferring a mask,
And a mask conveying unit that is carried by the conveying device according to claim 42 and receives the mask from the first case portion in which the mask is placed and conveys the mask. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스에 수납된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.An exposure apparatus for exposing a substrate,
An exposure apparatus for exposing a substrate using a mask accommodated in the mask case according to any one of claims 1 to 23. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 22 항 내지 제 32 항 및 제 40 항 중 어느 한 항에 기재된 보관 장치를 구비하고,
상기 보관 장치에 보관 가능한 마스크 케이스에 수납된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.An exposure apparatus for exposing a substrate,
A storage device according to any one of claims 22 to 32 or 40,
And exposes the substrate using a mask accommodated in a mask case storable in the storage device. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 28 항, 제 29 항, 제 33 항 내지 제 39 항, 제 41 항 및 제 42 항 중 어느 한 항에 기재된 반송 장치를 구비하고,
상기 반송 장치에 의해 반송된 마스크 케이스의 내부에 수납된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.An exposure apparatus for exposing a substrate,
29. A conveyance apparatus according to any one of claims 28, 29, 33, 39, 41, and 42,
And exposes the substrate using a mask housed in a mask case carried by the transfer device. 기판을 노광하는 노광 장치에 있어서,
제 43 항에 기재된 마스크 반송 장치를 구비하고,
상기 마스크 반송 장치에 의해 반송된 마스크를 사용하여, 상기 기판을 노광하는, 노광 장치.An exposure apparatus for exposing a substrate,
43. A mask transfer apparatus according to claim 43,
And exposes the substrate using a mask carried by the mask carrying apparatus. 제 44 항 내지 제 47 항 중 어느 한 항에 기재된 노광 장치를 사용하여 감광성 기판을 노광하는 것과,
상기 노광된 감광성 기판을 처리하는 것을 포함하는, 디바이스 제조 방법.A method for exposing a photosensitive substrate using the exposure apparatus according to any one of claims 44 to 47,
And processing the exposed photosensitive substrate. 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스의 상기 유지부를 개재하여 상기 마스크 케이스를 지지하는 것과,
상기 지지부를 향하여 광빔을 조사하는 것과,
상기 지지부를 향하여 조사된 상기 광빔을 검출하는 것을 포함하는, 보관 방법.In a method of storing a mask case,
The mask case according to any one of claims 1 to 23, wherein the mask case is supported via the holding portion,
Irradiating a light beam toward the support,
And detecting the light beam irradiated toward the support. 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스의 상기 제 1 케이스부를 지지하는 것과,
상기 제 1 케이스부로부터 분리된 제 2 케이스부를, 상기 제 2 케이스부의 상기 유지부를 개재하여 지지하는 것과,
상기 제 2 케이스부의 상기 유지부에 광빔을 조사하고, 상기 유지부에 조사된 상기 광빔을 검출하는 것과,
상기 광빔의 검출 결과에 따라 상기 제 2 케이스부의 위치를 조정하는 것을 포함하는, 보관 방법.In a method of storing a mask case,
23. A mask case for supporting the first case part of the mask case according to any one of claims 1 to 23,
The second case portion separated from the first case portion is supported via the holding portion of the second case portion,
Irradiating the holding portion of the second case portion with a light beam to detect the light beam irradiated to the holding portion,
And adjusting the position of the second case part in accordance with the detection result of the light beam. 마스크 케이스를 보관하는 보관 방법에 있어서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스의 유지부에 형성된 개구부를 핀부로 걸어맞춤시켜, 상기 마스크 케이스를 지지하는, 보관 방법.In a method of storing a mask case,
A holding method for holding a mask case by engaging an opening formed in a holding portion of a mask case according to any one of claims 1 to 23 with a pin portion. 마스크 케이스를 반송하는 반송 방법에 있어서,
마스크가 수납된 제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스를 지지하는 것과,
상기 마스크 케이스의 제 1 케이스부에 광을 조사하고, 상기 제 1 케이스부에 조사된 상기 광을 검출하는 것과,
상기 제 1 케이스부에 형성되는 광 통과부를 통해서 상기 제 1 케이스부에 재치된 상기 마스크에 상기 광을 조사하고, 상기 마스크로부터의 반사광을 상기 광 통과부를 통해서 검출하는 것을 포함하는, 반송 방법.In the carrying method for carrying the mask case,
23. A method for manufacturing a mask, comprising: supporting the mask case according to any one of claims 1 to 23,
Irradiating light to the first case part of the mask case and detecting the light irradiated to the first case part,
Irradiating the mask onto the mask placed on the first case through the light passing portion formed in the first case portion, and detecting reflected light from the mask through the light passing portion. 마스크를 반송하는 마스크 반송 방법으로서,
제 1 항 내지 제 23 항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 케이스에 수납된 마스크를 반송하는, 마스크 반송 방법.A mask conveying method for conveying a mask,
A mask carrying method for carrying a mask housed in the mask case according to any one of claims 1 to 23.
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