JP2001267392A - Method and equipment for transferring substrate and aligner - Google Patents

Method and equipment for transferring substrate and aligner

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JP2001267392A
JP2001267392A JP2000077037A JP2000077037A JP2001267392A JP 2001267392 A JP2001267392 A JP 2001267392A JP 2000077037 A JP2000077037 A JP 2000077037A JP 2000077037 A JP2000077037 A JP 2000077037A JP 2001267392 A JP2001267392 A JP 2001267392A
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reticle
substrate
barcode
bar code
unit
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JP2000077037A
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Japanese (ja)
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Shinichi Hirakawa
伸一 平川
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Nikon Corp
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and equipment for identifying and transferring each substrate with certainty, based on the bar code information by reading the bar code information of each substrate stably, and also to provide an aligner. SOLUTION: Along the way of a transfer mechanism H for transferring a reticle R from a library 11 to a reticle stage 17, an identification section A is installed, which comprises a holding section 1 for holding the reticle R delivered from the transfer mechanism H and a bar code reader 3 for reading a bar code B of the reticle R held by the holding section 1. The reticle R is held, in such a state where the bar code B can be easily read by the identification section A, so that the bar code B is read stably and the reticle R is identified surely.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、バーコードを備え
た基板を収納部から基板処理部へ搬送する基板搬送方法
及び基板搬送装置、並びに露光装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for transporting a substrate provided with a bar code from a storage section to a substrate processing section, and an exposure apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造工程や液晶表示素子製造工程
の一部である露光工程において回路等のパターンをウェ
ーハ(またはガラス基板)上に転写する場合、レチクル
やマスク(以下、レチクルという)が使用される。通常
このパターンは各露光工程ごとにそれぞれ異なっている
ので各工程に応じた種々のレチクルが必要とされ、した
がって多種類のレチクルのなかから各露光工程ごとに必
要なものを迅速に識別して装置に供給することが要求さ
れる。このためレチクルの表面一部に、露光装置や露光
工程に関する様々な情報を記憶したバーコードを設け、
このバーコードをバーコードリーダーによって読み取る
とともに得られたバーコード情報をコンピュータによっ
て処理することにより個々のレチクルを識別する方法が
ある。
2. Description of the Related Art A reticle or mask (hereinafter, referred to as a reticle) is used to transfer a pattern of a circuit or the like onto a wafer (or a glass substrate) in an exposure process which is a part of a semiconductor manufacturing process or a liquid crystal display device manufacturing process. Is done. Normally, this pattern is different for each exposure step, so various reticles are required for each step.Therefore, among various types of reticles, the one required for each exposure step is quickly identified and Is required to be supplied. For this reason, a barcode that stores various information on the exposure device and the exposure process is provided on a part of the surface of the reticle,
There is a method in which each reticle is identified by reading the barcode by a barcode reader and processing the obtained barcode information by a computer.

【0003】このようなレチクルの識別方法として特開
平6−305554号に開示されるものがある。この方
法は、図9に示すような、バーコード90を備えたレチ
クル91を保持しつつ矢印92方向に搬送する搬送ハン
ド93と、固定位置に設けられバーコード90を読み取
るためのバーコードリーダー94とを備えた装置によっ
て実現されるものであって、バーコードリーダー94は
その読み取り領域を通過するバーコード90を読み取る
ことによって搬送されるレチクル91の識別を行うよう
になっている。このとき、レチクル91の基板部分はガ
ラスによって形成されており、バーコード90及びパタ
ーン部分はクロムによって形成されている。そしてバー
コードリーダー94は、バーコード90の形成領域に投
光光を出射しこの反射光を検出することによってバーコ
ード90の読み取りを行う。すなわちバーコードリーダ
ー94は、バーコード90をガラス基板の反射率とクロ
ム部分の反射率との違いを利用して読み取る。
A method for identifying such a reticle is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-305554. This method includes, as shown in FIG. 9, a transport hand 93 that transports a reticle 91 provided with a bar code 90 in the direction of arrow 92 while holding the reticle 91, and a bar code reader 94 provided at a fixed position for reading the bar code 90. The bar code reader 94 is adapted to identify the conveyed reticle 91 by reading a bar code 90 passing through the reading area. At this time, the substrate portion of the reticle 91 is formed of glass, and the barcode 90 and the pattern portion are formed of chrome. Then, the barcode reader 94 reads the barcode 90 by emitting light to the area where the barcode 90 is formed and detecting the reflected light. That is, the barcode reader 94 reads the barcode 90 using the difference between the reflectance of the glass substrate and the reflectance of the chrome portion.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら近年用い
られている、ハーフトーンレチクルは、バーコード部分
がガラス基板とほぼ同じ反射率を有する。従って、バー
コードリーダーはバーコードを安定して読み取ることが
困難である。このハーフトーンレチクルは、回路パター
ンと同じ工程でバーコードパターンを作成するため、ハ
ーフトーンレチクルの基板とバーコード部分との反射率
はほぼ同じになる。したがって従来のような反射光を利
用するバーコード読み取り方法では、このハーフトーン
レチクルに形成されたバーコードを安定して読み取るこ
とが困難である。一方、例えばCCDラインセンサと投
光部とによってレチクルのバーコード部分を挟み込む構
成とし、透過光によってバーコードを読み取る方法が考
えられるが、このとき搬送ハンドはバーコード部分を避
けつつレチクルを保持する必要がある。しかしながら、
レチクルは一般に異物の付着を防止するためのペリクル
をパターン形成面に備えているので、搬送ハンドはこの
ペリクル部分及びバーコード部分を避けつつレチクルを
保持する必要がある。この場合、搬送ハンドによるレチ
クルの保持は極めて困難となる。
However, a halftone reticle used in recent years has a bar code portion having substantially the same reflectance as a glass substrate. Therefore, it is difficult for the barcode reader to read the barcode stably. Since the halftone reticle forms a barcode pattern in the same process as the circuit pattern, the reflectance of the substrate and the barcode portion of the halftone reticle becomes substantially the same. Therefore, it is difficult to stably read a barcode formed on the halftone reticle by a conventional barcode reading method using reflected light. On the other hand, for example, a method in which the bar code portion of the reticle is sandwiched between the CCD line sensor and the light projecting unit and the bar code is read by the transmitted light can be considered. At this time, the transport hand holds the reticle while avoiding the bar code portion. There is a need. However,
Since the reticle generally has a pellicle for preventing foreign matter from adhering to the pattern forming surface, the transport hand needs to hold the reticle while avoiding the pellicle portion and the barcode portion. In this case, it is extremely difficult to hold the reticle by the transport hand.

【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、情報処理のためのバーコードを備える基板の
バーコード情報を安定して読み取るとともに、このバー
コード情報に基づいて個々の基板を確実に識別したのち
次工程に搬送することができる基板搬送方法及び基板搬
送装置、並びにこの搬送装置を備えた露光装置を提供す
ることを目的とする。
[0005] The present invention has been made in view of such circumstances, and stably reads barcode information of a board having a barcode for information processing, and based on the barcode information, individual board information. It is therefore an object of the present invention to provide a substrate transfer method and a substrate transfer device capable of transferring the substrate to the next step after reliably identifying the same, and an exposure apparatus provided with the transfer device.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明は、実施の形態に示す図1〜図8に対応付けし
た以下の構成を採用している。本発明の基板搬送方法
は、バーコード(B)を備えた基板(レチクルR)を収
納部(ライブラリ11)から基板処理部(投影露光部
E)へ搬送する基板搬送方法であって、前記基板(R)
の搬送途中に、前記基板(R)を保持した状態で前記バ
ーコード(B)を読み取るための識別部(A)を設置
し、前記収納部(11)から取り出した前記基板(R)
を前記識別部(A)に渡して前記バーコード(B)を読
み取った後に、この基板(R)を受け取って前記基板処
理部(E)へ搬送することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention employs the following structure corresponding to FIGS. 1 to 8 shown in the embodiment. The substrate transport method of the present invention is a substrate transport method for transporting a substrate (reticle R) provided with a barcode (B) from a storage unit (library 11) to a substrate processing unit (projection exposure unit E). (R)
In the middle of the transfer, the identification unit (A) for reading the barcode (B) while holding the substrate (R) is installed, and the substrate (R) taken out of the storage unit (11).
Is passed to the identification section (A) to read the barcode (B), and then the substrate (R) is received and transported to the substrate processing section (E).

【0007】本発明によれば、収納部(11)から取り
出された基板(R)は、基板処理部(E)への搬送途中
において識別部(A)に渡されバーコード(B)を読み
取られやすい状態に保持される。したがって、基板
(R)のバーコード(B)の読み取り動作は安定して行
われるので、基板(R)の識別は確実に行われる。
According to the present invention, the substrate (R) taken out of the storage section (11) is transferred to the identification section (A) during the transportation to the substrate processing section (E), and the bar code (B) is read. It is kept in a state that is easy to be operated. Therefore, the operation of reading the barcode (B) of the substrate (R) is performed stably, and the identification of the substrate (R) is performed reliably.

【0008】そして、基板(R)を識別部(A)に保持
した状態で、この基板(R)を所定位置に対して位置合
わせしてから基板処理部(E)へ搬送することにより、
基板処理部(E)における処理は安定して行われる。こ
の場合、バーコード(B)の読み取り動作のための位置
合わせを行うことも可能であり、したがって識別部
(A)におけるバーコード(B)の読み取り動作も安定
して行われる。
Then, while holding the substrate (R) in the identification portion (A), the substrate (R) is positioned to a predetermined position and then transferred to the substrate processing portion (E).
The processing in the substrate processing section (E) is performed stably. In this case, it is possible to perform alignment for the reading operation of the barcode (B), and therefore, the reading operation of the barcode (B) in the identification unit (A) is also performed stably.

【0009】本発明の基板搬送装置は、バーコード
(B)を備えた基板(R)を搬送機構(H)により収納
部(11)から基板処理部(E)へ搬送する基板搬送装
置であって、前記基板(R)の搬送途中に設置され、前
記搬送機構(H)により渡された前記基板(R)を保持
する保持部(1)と、この保持部(1)に保持された前
記基板(R)のバーコード(B)を読み取るバーコード
リーダー(3)とを有する識別部(A)を備えることを
特徴とする。
The substrate transfer device of the present invention is a substrate transfer device for transferring a substrate (R) provided with a bar code (B) from a storage section (11) to a substrate processing section (E) by a transfer mechanism (H). A holding unit (1) that is installed in the middle of the transfer of the substrate (R) and holds the substrate (R) passed by the transfer mechanism (H); and the holding unit (1) held by the holding unit (1). An identification unit (A) having a bar code reader (3) for reading a bar code (B) on the substrate (R) is provided.

【0010】本発明によれば、バーコード(B)を備え
た基板(R)は搬送機構(H)から一旦保持部(1)に
渡され、この保持部(1)によってバーコード(B)を
読み取られやすい状態に保持されてからバーコードリー
ダー(3)によってバーコード(B)を読み取られる。
したがって、バーコードリーダー(3)による基板
(R)のバーコード(B)の読み取り動作は安定して行
われるので、基板(R)の識別は確実に行われる。
According to the present invention, the substrate (R) provided with the barcode (B) is once passed from the transport mechanism (H) to the holding section (1), and the barcode (B) is transferred by the holding section (1). The bar code (B) is read by the bar code reader (3) after it is held in a state where it can be easily read.
Therefore, the operation of reading the barcode (B) of the substrate (R) by the barcode reader (3) is performed stably, and the identification of the substrate (R) is performed reliably.

【0011】識別部(A)は、バーコードリーダー
(3)から出射して基板(R)のバーコード(B)を含
んだ領域を透過した透過光を反射する拡散反射板(7)
を備え、バーコードリーダー(3)は拡散反射板(7)
からの反射光(9)を受ける構成となっている。この場
合、基板(R)部分とバーコード(B)部分とを通過す
る反射光(9)の光量差は基板(R)表面の直接反射光
による光量差より大きくなるので、例えば基板(R)部
分とバーコード(B)部分との反射率がほぼ等しいもの
に対してもバーコード(B)の読み取りは安定して行え
る。したがって基板(R)の識別は確実に行える。
The identification section (A) is a diffuse reflection plate (7) that reflects transmitted light emitted from the bar code reader (3) and transmitted through a region including the bar code (B) of the substrate (R).
The bar code reader (3) is a diffuse reflection plate (7)
It is configured to receive the reflected light (9). In this case, the difference in the amount of light of the reflected light (9) passing through the substrate (R) and the bar code (B) becomes larger than the difference in the amount of light due to the directly reflected light on the surface of the substrate (R). The bar code (B) can be read stably even when the reflectance of the bar code (B) is substantially equal to that of the bar code (B). Therefore, the substrate (R) can be reliably identified.

【0012】また、識別部(A)は、基板(R)のバー
コード(B)の形成部分に合わせてバーコードリーダー
(3)の読み取り部分を変更する読み取り部分変更装置
(30)を備えることが可能である。読み取り部分変更
装置(30)を設けることにより、搬送される基板
(R)上のバーコード(B)の位置が変化されている場
合においても、読み取り部分変更装置(30)によって
バーコードリーダー(3)をバーコード(B)の形成位
置に移動させることが可能となるので、バーコード
(B)の読み取りは安定して行われる。したがって、基
板(R)の識別は確実に行われる。
Further, the identification section (A) includes a reading portion changing device (30) for changing a reading portion of the bar code reader (3) in accordance with a portion of the substrate (R) where the bar code (B) is formed. Is possible. By providing the reading portion changing device (30), even when the position of the barcode (B) on the substrate (R) being transported is changed, the barcode reader (3) is read by the reading portion changing device (30). ) Can be moved to the position where the barcode (B) is formed, so that the barcode (B) can be read stably. Therefore, the substrate (R) is reliably identified.

【0013】識別部(A)に、基板(R)を保持部
(1)に保持した状態でこの基板(R)を所定位置に対
して位置合わせするための基板移動装置(20)を設け
ることにより、基板(R)はこの基板移動装置(20)
によって所定位置に対して位置合わせされたあと基板処
理部(E)に搬送されるようになる。したがって基板処
理部(E)での処理は安定して行われる。また、バーコ
ード(B)読み取り動作のための位置合わせもこの基板
移動装置(20)によって行うことができるため、バー
コード(B)の読み取り動作は安定して行われ、したが
って基板(R)の識別も確実に行うことができる。
The identification section (A) is provided with a substrate moving device (20) for aligning the substrate (R) to a predetermined position while holding the substrate (R) on the holding section (1). The substrate (R) is moved by the substrate moving device (20)
After being aligned with respect to a predetermined position, the substrate is transported to the substrate processing section (E). Therefore, the processing in the substrate processing section (E) is performed stably. Further, since the alignment for the barcode (B) reading operation can be performed by the substrate moving device (20), the barcode (B) reading operation is performed stably, and therefore, the substrate (R) is read. Identification can also be performed reliably.

【0014】本発明の露光装置は、収納部(11)に収
納されたマスク(レチクルR)を搬送機構(H)により
マスクステージ(レチクルステージ17)に搬送し、こ
のマスクステージ(17)に保持された前記マスク
(R)のパターン(6)の像をこのマスク(R)に対し
て配置された基板(ウェーハW)に転写する露光装置で
あって、前記マスク(R)の搬送途中に設置され、前記
搬送機構(H)により渡された前記マスク(R)を保持
する保持部(1)と、この保持部(1)に保持された前
記マスク(R)のバーコード(B)を読み取るバーコー
ドリーダー(3)とを有する識別部(A)を備えること
を特徴とする。
In the exposure apparatus of the present invention, the mask (reticle R) stored in the storage section (11) is transferred to the mask stage (reticle stage 17) by the transfer mechanism (H) and held on the mask stage (17). An exposure apparatus for transferring the image of the pattern (6) of the mask (R) onto a substrate (wafer W) disposed on the mask (R), the exposure apparatus being installed in the middle of the transport of the mask (R). Then, the holding unit (1) holding the mask (R) passed by the transport mechanism (H) and the bar code (B) of the mask (R) held by the holding unit (1) are read. An identification unit (A) having a barcode reader (3) is provided.

【0015】本発明によれば、バーコード(B)を備え
たマスク(R)は、マスクステージ(17)に搬送され
る途中に識別部(A)に渡され、この識別部(A)にお
いてバーコード(B)を読み取られやすい状態に保持さ
れてから、バーコードリーダー(3)によってバーコー
ド(B)を読み取られる。したがって、収納部(11)
に収納されている多種類のマスク(R)のうち、所望の
マスク(R)が識別部(A)において確実に識別されて
からマスクステージ(17)に搬送される。
According to the present invention, the mask (R) provided with the bar code (B) is transferred to the identification section (A) while being conveyed to the mask stage (17). After the barcode (B) is held in a state that is easy to read, the barcode (B) is read by the barcode reader (3). Therefore, the storage unit (11)
Among the various types of masks (R) stored in the storage unit, the desired mask (R) is reliably identified by the identification unit (A), and then is transferred to the mask stage (17).

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態による
基板搬送方法及び基板搬送装置、並びに露光装置を図面
を参照して説明する。図1は本発明の基板搬送装置を備
えた露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。ま
た、図2は識別部Aを説明するための平面図であって、
図3は図2の側面図である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing a substrate transfer method and a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention; FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus provided with a substrate transfer device of the present invention. FIG. 2 is a plan view for explaining the identification unit A,
FIG. 3 is a side view of FIG.

【0017】これらの図において、露光装置Sは、露光
時に使用されるレチクルRの複数枚を個別に収納するレ
チクルケース12と、このレチクルケース12に収納さ
れたレチクルRを複数個収納するためのライブラリ(収
納部)11と、このライブラリ11内のレチクルケース
12からレチクルRを取り出す搬送アーム13と、搬送
アーム13によって取り出されたレチクルRをこの搬送
アーム13から位置CA1において受け取るとともに位
置CA1と位置CA2との間を移動自在に設けられたキ
ャリア14と、位置CA2に移動したキャリア14から
レチクルRを受け取って投影露光部(基板処理部)Eに
設けられたレチクルステージ17まで搬送するロードア
ーム15と、露光工程を終えたレチクルRをレチクルス
テージ17から取り出すためのアンロードアーム16と
を備えている。
In these figures, an exposure apparatus S includes a reticle case 12 for individually storing a plurality of reticles R used at the time of exposure, and a reticle R for storing a plurality of reticles R stored in the reticle case 12. A library (storage unit) 11, a transfer arm 13 for taking out a reticle R from a reticle case 12 in the library 11, a reticle R taken out by the transfer arm 13 is received from the transfer arm 13 at a position CA1, and a position CA1 is set. A carrier 14 movably provided between the carrier 14 and a load arm 15 for receiving a reticle R from the carrier 14 moved to the position CA2 and transferring the reticle R to a reticle stage 17 provided in a projection exposure unit (substrate processing unit) E; And the reticle R after the exposure process is taken out of the reticle stage 17. And an unload arm 16 to put out.

【0018】そして、これら搬送アーム13とキャリア
14とロードアーム15及びアンロードアーム16とに
よって、レチクルRをライブラリ11から投影露光部E
のレチクルステージ17まで搬送するための搬送機構
(搬送路)Hを構成している。また、レチクルRの表面
一部には、個々のレチクルRに形成されたパターン6の
情報など露光工程に関する様々な情報を記憶したバーコ
ードBが形成されている。そして、搬送路Hの途中に
は、この搬送路Hとは独立して設けられバーコードBの
情報に基づいて個々のレチクルRを識別するための識別
部Aが設けられている。なおこの露光装置Sは、設定温
度に設定された空調チャンバー内部に収容されている。
Then, the reticle R is transferred from the library 11 to the projection exposure section E by the transport arm 13, the carrier 14, the load arm 15, and the unload arm 16.
A transport mechanism (transport path) H for transporting to the reticle stage 17 of FIG. Further, on a part of the surface of the reticle R, a bar code B storing various information on the exposure process such as information on the pattern 6 formed on each reticle R is formed. In the middle of the transport path H, there is provided an identification unit A provided independently of the transport path H for identifying each reticle R based on the information of the bar code B. The exposure apparatus S is housed inside an air-conditioning chamber set at a set temperature.

【0019】露光装置Sは、不図示の制御部によってそ
の動作を制御される。また、空調チャンバーの外部には
キーボードとモニターとを備えた操作表示部が設けられ
ており、この操作表示部によって制御部の操作、及び所
望のレチクルRの選択・登録が可能となっている。そし
てこの操作表示部を操作することによって、レチクルケ
ース12に個別に収納されライブラリ11に複数充填さ
れているレチクルRのうち、露光時において使用すべき
レチクルRが予め1つ指定される。
The operation of the exposure apparatus S is controlled by a control unit (not shown). An operation display unit having a keyboard and a monitor is provided outside the air-conditioning chamber, and the operation display unit enables operation of the control unit and selection and registration of a desired reticle R. By operating this operation display unit, one of the reticles R individually stored in the reticle case 12 and filled in the library 11 is designated one to be used at the time of exposure in advance.

【0020】ライブラリ11はレチクルケース12に個
別に収納されたレチクルRを複数個収納するものであ
る。このときレチクルRは、図1中X−Y平面と平行に
なるようにレチクルケース12内部に個別に収納されて
おり、レチクルRを個別に収納した複数のレチクルケー
ス12はライブラリ11内においてZ方向に複数段積み
重ねられるように配置されている。すなわち露光時にお
いて使用されるレチクルRは、レチクルケース12に収
納されつつライブラリ11に収納されている。このレチ
クルRが収納されたレチクルケース12は、空調チャン
バーの一部に設けられた前面扉Tを開けてライブラリ1
1の各スロットに装填されるようになっている。
The library 11 stores a plurality of reticles R individually stored in a reticle case 12. At this time, the reticles R are individually accommodated in the reticle case 12 so as to be parallel to the XY plane in FIG. 1, and the plurality of reticle cases 12 individually accommodating the reticle R are moved in the library 11 in the Z direction. Are arranged so as to be stacked in multiple stages. That is, the reticle R used at the time of exposure is stored in the library 11 while being stored in the reticle case 12. The reticle case 12 containing the reticle R is opened by opening a front door T provided in a part of the air conditioning chamber.
1 is loaded into each slot.

【0021】搬送機構Hの一部である搬送アーム13
は、ライブラリ11内に配置されている複数のレチクル
ケース12のうち予め指定されたレチクルケース12か
ら露光時に使用されるレチクルRを取り出すとともに、
露光工程で使用されレチクルケース12に戻されるべき
レチクルRをこのレチクルケース12に収納するための
ものであって、図1中、Y方向及びZ方向に移動可能に
設けられている。すなわち搬送アーム13は、レチクル
ケース12に対して接近・離間するようにY軸ガイド部
13aに移動可能に支持されているとともに、レチクル
ケース12の配列方向に沿うようにZ軸ガイド部13b
に移動可能に支持されており、予め指定されたレチクル
ケース12内に進入可能となっている。
The transfer arm 13 which is a part of the transfer mechanism H
Takes out a reticle R used at the time of exposure from a reticle case 12 specified in advance from among a plurality of reticle cases 12 arranged in a library 11,
The reticle case 12 is used to store a reticle R used in the exposure process and to be returned to the reticle case 12, and is provided so as to be movable in the Y and Z directions in FIG. That is, the transfer arm 13 is movably supported by the Y-axis guide portion 13a so as to approach and separate from the reticle case 12, and the Z-axis guide portion 13b is arranged along the direction in which the reticle cases 12 are arranged.
, And can enter a reticle case 12 designated in advance.

【0022】この搬送アーム13には真空吸着穴が設け
られており、連結された不図示の真空ポンプのON・O
FFによってレチクルRの保持・解除を行うようになっ
ている。したがって搬送アーム13は指定されたレチク
ルケース12に進入することによって所望のレチクルR
を取り出し可能であるとともに、レチクルケース12に
戻されるべきレチクルRを指定されたレチクルケース1
2に収納可能となっている。
The transfer arm 13 is provided with a vacuum suction hole, which is used to turn on / off a connected vacuum pump (not shown).
The FF holds and releases the reticle R. Therefore, the transfer arm 13 enters the designated reticle case 12 so that the desired reticle R
Reticle case 1 in which reticle R to be returned to reticle case 12 can be taken out.
2 can be stored.

【0023】露光時に使用されるレチクルRを投影露光
部Eまで搬送する場合において、搬送アーム13はレチ
クルケース12内のレチクルRを吸着してY方向に取り
出し、そのままZ方向の最上位置である位置CA1まで
搬送し、この位置CA1においてキャリア14に渡すよ
うになっている。このキャリア14は、位置CA1と位
置CA2との間をキャリアガイド部14aに支持されつ
つ移動可能に設けられいるとともに、キャリアガイド部
14aとともにZ方向に移動可能に設けられている。す
なわちキャリア14は図1中、X、Z方向に移動可能に
設けられている。このキャリア14は下面に真空吸着穴
を備えており、連結された不図示の真空ポンプのON・
OFFによってレチクルRを保持・解除するようになっ
ている。そしてキャリア14は、位置CA1において搬
送アーム13からレチクルRを受け取ったあと位置CA
2まで搬送するようになっている。
When the reticle R used for exposure is transported to the projection exposure section E, the transport arm 13 sucks the reticle R in the reticle case 12 and takes out the reticle R in the Y direction. The sheet is conveyed to CA1 and transferred to the carrier 14 at this position CA1. The carrier 14 is movably provided between the position CA1 and the position CA2 while being supported by the carrier guide portion 14a, and movably provided in the Z direction together with the carrier guide portion 14a. That is, the carrier 14 is provided so as to be movable in the X and Z directions in FIG. The carrier 14 has a vacuum suction hole on the lower surface, and is connected to a ON / OFF of a connected vacuum pump (not shown).
The reticle R is held and released by turning OFF. After receiving the reticle R from the transfer arm 13 at the position CA1, the carrier 14 moves to the position CA1.
2 is transported.

【0024】また、キャリア14には4辺を基準に2方
向から挟み込んでレチクルRをプリアライメントする機
構(不図示)が設けられており、キャリア14はプリア
ライメントされた状態のレチクルRを位置CA2まで搬
送するようになっている。なおキャリア14は、露光工
程において使用されレチクルケース12に戻されるべき
レチクルRをアンロードアーム16から受け取り、位置
CA1において搬送アーム13に渡すことが可能であ
る。
The carrier 14 is provided with a mechanism (not shown) for pre-aligning the reticle R by sandwiching the reticle R from two directions on the basis of the four sides. To be transported. Note that the carrier 14 can receive the reticle R used in the exposure process and to be returned to the reticle case 12 from the unload arm 16 and pass it to the transport arm 13 at the position CA1.

【0025】ロードアーム15及びアンロードアーム1
6は、図1中Y方向及びZ方向に移動可能に設けられて
いる。ロードアーム15とアンロードアーム16とは、
位置CA2とレチクルステージ17との間をY方向に個
別に移動可能に設けられているとともに、Z方向につい
てはZ軸ガイド部15aに支持されつつ一体に移動可能
となっている。ロードアーム15は、位置CA2におい
て露光時に使用するレチクルRをキャリア14から受け
取るようになっており、一方、アンロードアーム16
は、露光工程において使用されレチクルケース12に戻
されるべきレチクルRをレチクルステージ17から受け
取り、位置CA2においてキャリア14に渡すようにな
っている。これらロードアーム15及びアンロードアー
ム16は、搬送アーム13同様にレチクルRを保持する
ための真空吸着穴を備えており、連結された真空ポンプ
のON・OFFによってレチクルRの吸着保持・解除を
自在に行うようになっている。
Load arm 15 and unload arm 1
Reference numeral 6 is provided so as to be movable in the Y direction and the Z direction in FIG. The load arm 15 and the unload arm 16
It is provided so as to be individually movable in the Y direction between the position CA2 and the reticle stage 17, and is movable integrally in the Z direction while being supported by the Z-axis guide portion 15a. The load arm 15 receives the reticle R used at the time of exposure at the position CA2 from the carrier 14, while the unload arm 16
Receives the reticle R to be used in the exposure step and to be returned to the reticle case 12 from the reticle stage 17 and passes it to the carrier 14 at the position CA2. Each of the load arm 15 and the unload arm 16 has a vacuum suction hole for holding the reticle R similarly to the transfer arm 13, and the suction and holding and release of the reticle R can be freely controlled by turning on / off a connected vacuum pump. To do it.

【0026】投影露光部(基板処理部)Eに設けられた
レチクルステージ17は露光時に使用されるレチクルR
を搭載するためのものであって、レチクルRに形成され
ているパターン6は、投影レンズ18を通してウェーハ
ステージ19に設置されるウェーハWに転写されるよう
になっている。
A reticle stage 17 provided in a projection exposure section (substrate processing section) E is a reticle R used for exposure.
The pattern 6 formed on the reticle R is transferred to the wafer W set on the wafer stage 19 through the projection lens 18.

【0027】露光時に使用するレチクルRを投影露光部
Eに設けられたレチクルステージ17に向かって搬送す
る搬送機構Hの途中には、このレチクルRを保持した状
態でレチクルRの表面の一部に設けられたバーコードB
を読み取ることにより個々のレチクルRを識別するため
の識別部Aが、搬送機構Hとは独立して設けられてい
る。この識別部Aは、露光時に使用するレチクルRを位
置CA2において受け取ったロードアーム15がレチク
ルステージ17に向かう途中の位置に設けられているも
のであって、ロードアーム15は位置CA2とレチクル
ステージ17との間の搬送路HにおいてレチクルRを識
別部Aに渡すとともに識別部AからレチクルRを受け取
るようになっている。
In the middle of a transport mechanism H for transporting a reticle R used for exposure toward a reticle stage 17 provided in a projection exposure section E, a portion of the surface of the reticle R is held while holding the reticle R. Barcode B provided
An identification unit A for identifying each reticle R by reading the reticle R is provided independently of the transport mechanism H. The identification section A is provided at a position on the way to the reticle stage 17 where the load arm 15 receives the reticle R used at the time of exposure at the position CA2, and the load arm 15 is positioned between the position CA2 and the reticle stage 17. The reticle R is passed to the identification section A in the transport path H between the first and second sections, and the reticle R is received from the identification section A.

【0028】識別部Aは、搬送機構Hのうちロードアー
ム15によって渡されたレチクルRを保持する保持部1
と、この保持部1に保持されたレチクルRのバーコード
Bを読み取るバーコードリーダー3とを備えている。
The discriminating unit A is a holding unit 1 for holding the reticle R passed by the load arm 15 in the transport mechanism H.
And a barcode reader 3 that reads a barcode B of the reticle R held by the holding unit 1.

【0029】保持部1は、板状に形成された土台部4
と、この土台部4の角に均等配置された支柱部5とを備
えている。土台部4は保持すべきレチクルRと対応する
ように同形状に設けられており、この場合平面4角形状
に形成されている。また、この土台部4の4角にそれぞ
れ設けられた4本の支柱部5は保持すべきレチクルRの
角部下面を均等に支持するようになっている。
The holding portion 1 has a base portion 4 formed in a plate shape.
And pillars 5 equally arranged at the corners of the base 4. The base portion 4 is provided in the same shape so as to correspond to the reticle R to be held, and in this case, is formed in a plane quadrangular shape. Further, the four pillar portions 5 provided at the four corners of the base portion 4 evenly support the lower surface of the corner of the reticle R to be held.

【0030】レチクルRは、平面4角形状のガラス基板
と、このガラス基板の中央部に形成されたパターン6
と、ガラス基板の表面一部の所定位置に形成されたバー
コードBとを備えたものである。パターン6はレチクル
Rの中央部において面積の大部分を占めるように形成さ
れており、バーコードBはパターン6の図2中、右側余
白部分に設けられている。バーコードBとパターン6と
は、例えばクロムなどの同じ材質によって形成されてい
る。また、ガラス基板はバーコードBとほぼ同じ反射率
を有するハーフトーン状のものである。
The reticle R is made up of a flat rectangular glass substrate and a pattern 6 formed in the center of the glass substrate.
And a bar code B formed at a predetermined position on a part of the surface of the glass substrate. The pattern 6 is formed so as to occupy most of the area at the center of the reticle R, and the bar code B is provided in the right margin of the pattern 6 in FIG. The bar code B and the pattern 6 are formed of the same material such as chrome. The glass substrate has a halftone shape having substantially the same reflectance as the bar code B.

【0031】バーコードBは、レチクルRの余白部分に
所定の方向に直列状に配置された第1セグメントb1と
第2セグメントb2とから構成されている。このときバ
ーコードBは1つのセグメントによって構成することが
可能であるが、2つのセグメントによって構成すること
により、より多くの情報量をインプットすることが可能
となる。なおこのバーコードBは例えば3.5mm程度
の幅を有するものである。また、レチクルRのうちパタ
ーン6を備えた面側にはパターン6部分への異物の付着
を防止するためのペリクルPが設けられている。このと
きペリクルPはバーコードB部分を覆わないように配さ
れており、したがってバーコードBは表面に露出してい
る。
The bar code B is composed of a first segment b1 and a second segment b2 which are arranged in a predetermined direction in a blank portion of the reticle R in series. At this time, the barcode B can be constituted by one segment, but by constituting the barcode B by two segments, it becomes possible to input a larger amount of information. The bar code B has a width of, for example, about 3.5 mm. A pellicle P for preventing foreign matter from adhering to the pattern 6 is provided on the surface of the reticle R on which the pattern 6 is provided. At this time, the pellicle P is arranged so as not to cover the bar code B portion, and therefore the bar code B is exposed on the surface.

【0032】支柱部5は、レチクルRの一面に設けられ
ているペリクルP及びバーコードBを避けるようにレチ
クルRの角部下面を直接支持する構成となっている。し
たがってレチクルR及びその下面に設けられたペリクル
Pは土台部4と離間するように支持されている。このと
き、土台部4とレチクルRとは支柱部5によって所定距
離(例えば15mm程度)だけ離間しつつ平行になるよ
うに支持されている。
The column 5 directly supports the lower surface of the corner of the reticle R so as to avoid the pellicle P and the bar code B provided on one surface of the reticle R. Therefore, the reticle R and the pellicle P provided on the lower surface thereof are supported so as to be separated from the base portion 4. At this time, the base 4 and the reticle R are supported by the support 5 so as to be parallel while being separated by a predetermined distance (for example, about 15 mm).

【0033】識別部Aはバーコードリーダー3から出射
してレチクルRのバーコードBを含んだ領域を透過した
透過光を反射する拡散反射板7を備えている。この拡散
反射板7は土台部4の所定位置に設けられたものであっ
て、配列されたバーコードBの形状にほぼ対応するよう
に平面長方形状に形成されている。一方、レチクルRは
バーコードBと拡散反射板7とを対向させるように所定
距離(例えば15mm程度)離間させて平行になるよう
に支柱部5に支持されているとともに、支柱部5はバー
コードB以外の部分を支持するようになっている。した
がってレチクルRのバーコードB部分の下方には空間が
形成されている。
The discriminating section A is provided with a diffuse reflection plate 7 for reflecting transmitted light emitted from the barcode reader 3 and transmitted through an area including the barcode B of the reticle R. The diffuse reflection plate 7 is provided at a predetermined position of the base 4 and is formed in a rectangular shape in a plane so as to substantially correspond to the shape of the arranged bar codes B. On the other hand, the reticle R is supported by the column 5 so that the bar code B and the diffuse reflection plate 7 are spaced apart from each other by a predetermined distance (for example, about 15 mm) so as to face each other. Parts other than B are supported. Therefore, a space is formed below the barcode B portion of the reticle R.

【0034】この拡散反射板7は白色の板状のものであ
って、その表面は平坦に形成されている。この拡散反射
板7としては、PET(ポリエチレンテレフラレート)
樹脂に、例えば酸化チタンなどの白色顔料を含浸させた
ものや白色紙など、白色板状のものなら種々選択して使
用することができる。
The diffuse reflection plate 7 has a white plate shape, and its surface is formed flat. The diffuse reflection plate 7 is made of PET (polyethylene terephthalate).
Various white plate-shaped resins such as a resin impregnated with a white pigment such as titanium oxide or white paper can be selected and used.

【0035】バーコードリーダー3は、保持部1に保持
されたレチクルRのバーコードBを読み取るためのもの
であって、投光部3aと受光部3bとを備えたレーザー
式バーコードリーダーである。このときレチクルRは保
持部1によってバーコードBと拡散反射板7とを平行に
して対向するように保持されており、投光部3aは、レ
チクルRのバーコードBを含んだ領域に向かって投光光
8を投光するようになっている。またバーコードリーダ
ー3は、バーコードBのほぼ上方位置において、投光部
3aからバーコードBへの投光光8の入射角が所定角度
(例えば15度)傾斜するように配置されている。
The bar code reader 3 is for reading the bar code B of the reticle R held by the holding unit 1, and is a laser bar code reader having a light projecting unit 3a and a light receiving unit 3b. . At this time, the reticle R is held by the holding unit 1 so that the barcode B and the diffuse reflection plate 7 face each other in parallel, and the light projecting unit 3a moves toward the region of the reticle R including the barcode B. The projection light 8 is projected. Further, the barcode reader 3 is disposed at a position substantially above the barcode B such that the incident angle of the light 8 from the light projecting portion 3a to the barcode B is inclined at a predetermined angle (for example, 15 degrees).

【0036】投光部3aから出射された投光光8はレチ
クルRのバーコードBを含んだ領域を透過し、バーコー
ドB下部に対向配置されている拡散反射板7に反射する
ようになっている。一方、受光部3bはこの拡散反射板
7に反射した反射光9を受光するようになっている。ま
た、バーコードリーダー3には、このバーコードリーダ
ー3の内容を解析する処理部21が連結されており、読
み取ったバーコード情報を解析するようになっている。
The light 8 emitted from the light projecting portion 3a passes through the area of the reticle R containing the bar code B, and is reflected by the diffuse reflection plate 7 disposed opposite to the lower part of the bar code B. ing. On the other hand, the light receiving section 3b receives the reflected light 9 reflected by the diffuse reflection plate 7. Further, a processing unit 21 for analyzing the contents of the barcode reader 3 is connected to the barcode reader 3 so as to analyze the read barcode information.

【0037】識別部AはマスクRを保持部1に保持した
状態でこのマスクRを所定位置に対して位置合わせする
ための基板移動装置(アライメントピン)10を備えて
いる。すなわちレチクルRは、アライメントピン10に
よってバーコードBと拡散反射板7とを対向させるよう
に位置合わせされる。このアライメントピン10は、平
面4角形に形成されたレチクルRの4辺を基準に2方向
から挟み込むことによってレチクルRの位置合わせを機
械的に行う。すなわち、ロードアーム15によって保持
部1に保持されたレチクルRはアライメントピン10に
よってバーコードBと拡散反射板7とを対向させるよう
に位置合わせを行われたあと、バーコードリーダー3に
よってバーコードBを読み取られる。さらに、バーコー
ドBを読み取られてレチクルステージ17に搬送される
べきと識別されたレチクルRは、ロードアーム15に再
び保持されてレチクルステージ17に搬送される際にお
いて、レチクルステージ17に対してのプリアライメン
ト、すなわち大まかな位置合わせを、このアライメント
ピン10によって行われるようになっている。
The identification unit A includes a substrate moving device (alignment pin) 10 for aligning the mask R with a predetermined position while holding the mask R on the holding unit 1. That is, the reticle R is aligned by the alignment pin 10 so that the bar code B and the diffuse reflection plate 7 face each other. The alignment pin 10 mechanically aligns the reticle R by sandwiching the reticle R formed in a planar quadrilateral from two directions with reference to four sides of the reticle R. That is, the reticle R held by the holding unit 1 by the load arm 15 is aligned by the alignment pins 10 so that the bar code B and the diffuse reflection plate 7 face each other, and then the bar code B is read by the bar code reader 3. Is read. Further, the reticle R, which has been read to read the bar code B and is identified as being to be transported to the reticle stage 17, is held by the load arm 15 again and transported to the reticle stage 17. Pre-alignment, that is, rough alignment, is performed by the alignment pins 10.

【0038】このような構成を持つ露光装置Sにおい
て、識別部Aを備えた搬送装置によってバーコードBを
備えたレチクルRをライブラリ11から投影露光部Eの
レチクルステージ17へ搬送する方法について説明す
る。レチクルRを収納した複数のレチクルケース12は
空調チャンバーの一部に設けられた前面扉Tからライブ
ラリ11に手動操作によって複数充填される。なお、レ
チクルケース12のライブラリ11への充填作業を、自
動搬送車などを用いて自動的に行うことも可能である。
A method of transporting the reticle R having the bar code B from the library 11 to the reticle stage 17 of the projection exposure section E by the transport device having the identification section A in the exposure apparatus S having the above-described configuration will be described. . A plurality of reticle cases 12 containing the reticle R are manually filled into the library 11 from a front door T provided in a part of the air conditioning chamber. The operation of filling the library 11 with the reticle case 12 can be automatically performed using an automatic carrier or the like.

【0039】これと同時に、空調チャンバーの外部に設
けられた操作表示部によって、ライブラリ11に充填さ
れたレチクルRの登録が行われる。すなわち、複数充填
されたレチクルRのうち、どのレチクルRがどのパター
ン6を備えたものかなどの情報がバーコードBの情報と
対応させるように登録される。そして、レチクルRの登
録作業が終了したら、この操作表示部の操作によって、
レチクルケース12に個別に収納されライブラリ11に
複数充填されているレチクルRのうち、露光時において
使用すべきレチクルRが予め1つ指定されるとともに、
露光工程の開始が指令される。一方、操作表示部はレチ
クルRに関する情報、及び露光装置Sの状態を常に表示
するようになっている。
At the same time, the reticle R filled in the library 11 is registered by the operation display unit provided outside the air conditioning chamber. That is, information such as which reticle R has which pattern 6 among the plurality of filled reticles R is registered so as to correspond to the information of the barcode B. Then, when the registration work of the reticle R is completed, the operation of the operation display unit causes
Among the reticles R individually stored in the reticle case 12 and filled in the library 11, one reticle R to be used at the time of exposure is designated in advance, and
The start of the exposure process is instructed. On the other hand, the operation display unit always displays information on the reticle R and the state of the exposure apparatus S.

【0040】操作表示部の操作によって、制御部は搬送
アーム13に対して、指定したレチクルRをレチクルケ
ース12から搬出するように指令する。指定されたレチ
クルRは、レチクルケース12の前面側からこのレチク
ルケース12内部に進入してきた搬送アーム13の真空
吸着穴によって吸着保持され、この搬送アーム13によ
ってレチクルケース12から搬出される。そしてこのレ
チクルRは、搬送アーム13によって位置CA1まで搬
送されたあとキャリア14に渡され、このキャリア14
によって位置CA2まで搬送される。レチクルRはキャ
リア14による搬送途中において、不図示のアライメン
トピンによってプリアライメントされる。
By operating the operation display unit, the control unit instructs the transfer arm 13 to carry out the designated reticle R from the reticle case 12. The designated reticle R is sucked and held by the vacuum suction holes of the transfer arm 13 that has entered the inside of the reticle case 12 from the front side of the reticle case 12, and is carried out of the reticle case 12 by the transfer arm 13. The reticle R is transferred to the position CA1 by the transfer arm 13 and then transferred to the carrier 14, where
To the position CA2. The reticle R is pre-aligned by an alignment pin (not shown) while being transported by the carrier 14.

【0041】キャリア14によって位置CA2まで搬送
されたレチクルRは、この位置CA2においてロードア
ーム15に渡される。このロードアーム15に保持され
たレチクルRはレチクルステージ47に向かって搬送さ
れる。そして位置CA2からレチクルステージ17まで
の搬送路Hの途中において、レチクルRは識別部Aに渡
される。
The reticle R transported by the carrier 14 to the position CA2 is transferred to the load arm 15 at this position CA2. The reticle R held by the load arm 15 is transported toward the reticle stage 47. The reticle R is passed to the identification unit A in the middle of the transport path H from the position CA2 to the reticle stage 17.

【0042】識別部Aのうち保持部1はロードアーム1
5の搬送経路の下方(図1中、Z負方向)に設けられて
いるものであって、レチクルRはロードアーム15によ
って保持部1に渡される。すなわちレチクルRを保持し
たロードアーム15は、保持部1の上方に移動したらレ
チクルRのバーコードBと土台部4に設けられた拡散反
射板7とを対向させつつ下方に移動してレチクルRを保
持部1に載置し、一旦、この保持部1近傍から退避す
る。なおレチクルRは、識別部AにおいてバーコードB
と拡散反射板7とが対向するように、予めレチクルケー
ス12に収納されている。
The holding unit 1 of the identification unit A is a load arm 1
The reticle R is provided below the transfer path 5 (in the negative Z direction in FIG. 1), and is transferred to the holding unit 1 by the load arm 15. That is, when the load arm 15 holding the reticle R moves above the holding unit 1, the load arm 15 moves downward while the bar code B of the reticle R and the diffuse reflection plate 7 provided on the base unit 4 face each other to move the reticle R. It is placed on the holding unit 1 and once withdrawn from the vicinity of the holding unit 1. The reticle R is a bar code B
Are stored in the reticle case 12 in advance such that the diffuse reflector 7 faces the diffuse reflector 7.

【0043】すなわち、ロードアーム15によって保持
部1にレチクルRを保持させる場合は、図5に示すよう
に、ロードアーム15は、バーコードBと拡散反射板7
とを対向させつつレチクルRを下降させ、レチクルRの
角部をそれぞれの支柱部5に支持させてから図5中、横
方向に退避するように移動する。このとき、仮にレチク
ルRが支柱部5に安定して載置されなかったり、バーコ
ードBと拡散反射板7とがずれるように載置された場合
には、ロードアーム15はレチクルRと土台部4との間
の空間に進入してレチクルRを再び保持し、置き直し動
作を行うように動作制御しても良い。
That is, when the holding unit 1 holds the reticle R by the load arm 15, as shown in FIG.
Then, the reticle R is lowered while the reticle R is opposed to each other, and the reticle R is moved so as to retreat in the lateral direction in FIG. At this time, if the reticle R is not stably mounted on the column 5 or is mounted so that the bar code B and the diffuse reflection plate 7 are displaced, the load arm 15 is connected to the reticle R and the base. The operation may be controlled so as to enter the space between the reticle R and the reticle R again, and perform the repositioning operation.

【0044】保持部1に保持されたレチクルRは、アラ
イメントピン10によって位置決めを施される。すなわ
ち、平面4角形に形成されたレチクルRは、保持部1に
保持された状態でその4辺を基準に2方向からアライメ
ントピン10によって挟み込まれることにより、レチク
ルRのバーコードBと拡散反射板7とを対向させるよう
に位置合わせを施される。こうしてレチクルRは、バー
コードBの読み取りに適正な位置にセッティングされ
る。
The reticle R held by the holder 1 is positioned by the alignment pins 10. That is, the reticle R formed in a planar quadrilateral is sandwiched by the alignment pins 10 from two directions with respect to the four sides of the reticle R while being held by the holding unit 1, so that the bar code B of the reticle R and the diffuse reflection plate 7 is positioned so as to be opposed. Thus, the reticle R is set at a position appropriate for reading the barcode B.

【0045】そして、レチクルRがバーコードBと拡散
反射板7とを対向するように配置されたら、制御部は、
レチクルR側に設けられたバーコードリーダー3の投光
部3aに、レチクルRのバーコードBを形成されている
領域に向かって投光光8を出射するように指令する。こ
のときバーコードリーダー3は固定位置に設置されてい
るものであって、投光部3aが直列に配されたバーコー
ドBの長手方向に沿ってバーコードBをスキャニングす
る。
When the reticle R is disposed so that the bar code B and the diffuse reflection plate 7 face each other, the control unit
The light emitting unit 3a of the bar code reader 3 provided on the reticle R side is instructed to emit the light 8 toward the area where the bar code B of the reticle R is formed. At this time, the barcode reader 3 is installed at a fixed position, and the light projecting unit 3a scans the barcode B along the longitudinal direction of the barcode B arranged in series.

【0046】投光光8は、レチクルRのうちバーコード
Bを含んだ領域に照射される。このとき投光光8は、こ
のバーコードB部分を透過しレチクルRと土台部4との
間に形成された空間を通過して拡散反射板7に達し、反
射する。拡散反射板7に反射した光は反射光9として再
びレチクルRと土台部4との間に形成された空間を通過
してレチクルRを透過し、バーコードリーダー3の受光
部3bによって受光される。このとき投光光8は傾斜し
ながらレチクルRに入射するように設けられているた
め、反射光9は拡散反射板7によって拡散しつつ反射す
るようになっている。
The projected light 8 is applied to an area of the reticle R including the bar code B. At this time, the projection light 8 passes through the bar code B portion, passes through the space formed between the reticle R and the base portion 4, reaches the diffuse reflection plate 7, and is reflected. The light reflected on the diffuse reflector 7 passes through the space formed between the reticle R and the base portion 4 again as reflected light 9, passes through the reticle R, and is received by the light receiving section 3 b of the barcode reader 3. . At this time, since the projection light 8 is provided so as to be incident on the reticle R while being inclined, the reflection light 9 is reflected while being diffused by the diffusion reflection plate 7.

【0047】このとき、図4に示すように、ハーフトー
ンレチクルのようにバーコードBを形成するクロムとガ
ラス基板とがほぼ同じ反射率を有する場合、すなわちガ
ラス部22とクロム部23(バーコードB)とがともに
投光光8をほぼ同じ量だけ透過させる場合、レチクルR
を透過し拡散反射板7によって反射した光は、バーコー
ドリーダー3の受光部3bに受光される間に2回レチク
ルRを透過することになる。したがってバーコードリー
ダー3の受光部3bはレチクルRを2回透過した反射光
9を読み取る。
At this time, as shown in FIG. 4, when the chromium forming the bar code B and the glass substrate have substantially the same reflectance as a halftone reticle, that is, the glass portion 22 and the chrome portion 23 (bar code B) both transmit the projected light 8 by substantially the same amount, the reticle R
Is transmitted through the reticle R twice while being received by the light receiving section 3b of the bar code reader 3. Therefore, the light receiving section 3b of the bar code reader 3 reads the reflected light 9 transmitted twice through the reticle R.

【0048】バーコードリーダー3によって読み取られ
たバーコード情報は、処理部21に送られて瞬時に解析
される。そしてこの解析結果は瞬時に制御部に送られ、
制御部は、このレチクルRが予め指定されたものかどう
かを判断する。
The bar code information read by the bar code reader 3 is sent to the processing section 21 and instantly analyzed. And the analysis result is sent to the control unit instantly,
The control unit determines whether or not this reticle R is specified in advance.

【0049】このレチクルRが所望のものであると判断
された場合、制御部はロードアーム15に、識別部Aか
らレチクルRを受け取るように指令する。すなわちロー
ドアーム15は、保持部1に接近してレチクルRと土台
部4との間に形成された空間に進入し、真空吸着穴によ
ってこのレチクルRを吸着保持し、上方(Z方向)に持
ち上げる。レチクルRはこのロードアーム15によって
レチクルステージ17に搬送され、設置される。なおレ
チクルRは、バーコードリーダー3による読み取り時
に、アライメントピン10によって保持部1に保持され
た状態でレチクルステージ17に対してすでに位置合わ
せ(プリアライメント)されている。
When it is determined that the reticle R is a desired one, the control unit instructs the load arm 15 to receive the reticle R from the identification unit A. That is, the load arm 15 approaches the holding unit 1 and enters the space formed between the reticle R and the base unit 4, sucks and holds the reticle R by the vacuum suction hole, and lifts the reticle R upward (in the Z direction). . The reticle R is conveyed to the reticle stage 17 by the load arm 15 and installed. Note that the reticle R has already been aligned (pre-aligned) with the reticle stage 17 while being held by the holder 1 by the alignment pins 10 at the time of reading by the barcode reader 3.

【0050】そして、投影露光部Eのレチクルステージ
17に載置されたレチクルRはアライメントされたの
ち、このレチクルRに対して配置されたウェーハステー
ジ19のウェーハWにパターン6の像を転写する。
After the reticle R mounted on the reticle stage 17 of the projection exposure section E is aligned, the image of the pattern 6 is transferred onto the wafer W of the wafer stage 19 placed on the reticle R.

【0051】一方、レチクルRが所望のものでないと判
断された場合、制御部はこのレチクルRをライブラリ1
1のレチクルケース12に戻すために、アンロードアー
ム16に、識別部AからレチクルRを受け取るように指
令する。このアンロードアーム16によるレチクルRの
保持は、ロードアーム15の動作と同様、レチクルRと
土台部4との間の空間に進入したアンロードアーム16
の吸着保持によって行われる。
On the other hand, if it is determined that the reticle R is not the desired one, the control unit
In order to return to the reticle case 12, the unload arm 16 is instructed to receive the reticle R from the identification unit A. The holding of the reticle R by the unload arm 16 is performed in the same manner as the operation of the load arm 15 by the unload arm 16 entering the space between the reticle R and the base 4.
Is carried out by the adsorption holding.

【0052】アンロードアーム16に吸着保持されたレ
チクルRは、位置CA2においてキャリア14に渡さ
れ、さらに位置CA1に搬送されて搬送アーム13に渡
され、レチクルケース12に収納される。なおレチクル
Rが所望のものでないと判断された場合において、この
レチクルRをレチクルケース12に戻す場合の搬送経路
は、搬送機構Hによらずに(すなわちロード時に使用し
た搬送経路によらずに)例えば別系統に設けられた搬送
機構によって構成されてもよい。さらに、所望のものと
識別されなかったレチクルRはライブラリ11のレチク
ルケース12に戻されずに他の収納部に収納されること
ももちろん可能である。
The reticle R sucked and held by the unload arm 16 is transferred to the carrier 14 at the position CA2, further transferred to the position CA1, transferred to the transfer arm 13, and stored in the reticle case 12. When it is determined that the reticle R is not the desired one, the transport path for returning the reticle R to the reticle case 12 does not depend on the transport mechanism H (that is, regardless of the transport path used at the time of loading). For example, it may be constituted by a transport mechanism provided in another system. Further, the reticle R that has not been identified as a desired one can of course be stored in another storage unit without being returned to the reticle case 12 of the library 11.

【0053】投影露光部Eにおいて露光工程を終えたレ
チクルRは、レチクルステージ17においてアンロード
アーム16に吸着保持され、Y方向に移動されることに
よって位置CA2まで搬送される。位置CA2に搬送さ
れたレチクルRは、この位置CA2に待機しているキャ
リア14に渡され、このキャリア14によって位置CA
1に搬送される。そして、位置CA1に搬送されたレチ
クルRは、位置CA1に待機していた搬送アーム13に
渡され、この搬送アーム13によって指定されたレチク
ルケース12に収納される。
The reticle R that has completed the exposure process in the projection exposure section E is suction-held by the unload arm 16 on the reticle stage 17, and is moved to the position CA2 by moving in the Y direction. The reticle R transported to the position CA2 is transferred to the carrier 14 waiting at the position CA2, and the carrier 14
It is transported to 1. Then, reticle R transported to position CA1 is transferred to transport arm 13 waiting at position CA1, and stored in reticle case 12 designated by transport arm 13.

【0054】なお、露光工程を終えたレチクルRがライ
ブラリ11のレチクルケース12に戻される場合におい
ても、搬送機構Hによらずに別系統の搬送機構によって
搬送することが可能である。さらにこのレチクルRは、
レチクルケース12に戻されずに他の収納部に収納され
ることももちろん可能である。
Note that, even when the reticle R after the exposure step is returned to the reticle case 12 of the library 11, the reticle R can be transported by a transport system of another system without using the transport mechanism H. Furthermore, this reticle R
Of course, it is also possible to store it in another storage unit without returning to the reticle case 12.

【0055】ところで、レチクルステージ17に搬送さ
れたレチクルRのアライメントは露光光を用いて行うこ
とができる。この種のアライメント方式としては、レチ
クルR上に描画されたアライメントマークに露光光を照
射し、CCDカメラなどで撮像したアライメントマーク
の画像データを画像処置してマーク位置を計測するVR
A(Visual Reticle Alignmen
t)方式などがある。
Incidentally, alignment of the reticle R conveyed to the reticle stage 17 can be performed using exposure light. As this type of alignment method, a VR that irradiates an exposure light onto an alignment mark drawn on a reticle R, performs image processing on image data of the alignment mark captured by a CCD camera or the like, and measures the mark position
A (Visual Reticle Alignmen)
t) method.

【0056】レチクルアライメントセンサとしては、例
えばTTR(スルー・ザ・レチクル)方式のアライメン
トセンサを用いることができる。TTR方式のレチクル
・アライメントセンサのアライメント方式としては、H
e−Neレーザーなどを使用するLSA方式及びLIA
方式、または露光光を使用する露光光アライメント方式
が望ましい。
As the reticle alignment sensor, for example, a TTR (through the reticle) type alignment sensor can be used. The alignment method of the reticle alignment sensor of the TTR method is H
LSA method and LIA using e-Ne laser etc.
An exposure light alignment method using exposure light or an exposure light is desirable.

【0057】レチクルアライメントセンサは、レチクル
Rに形成されたアライメントマークと投影光学系とを介
して観察される基準マーク部材上の基準マークまたはウ
ェーハWとの位置関係(ずれ量)を計測する。露光光ア
ライメント方式では、撮像素子(CCD)を用いてモニ
タに表示することで、その位置関係を直接的に観察でき
る。基準マーク部材は、レチクルステージ17上に固定
され、ウェーハWの表面と同じ高さ位置に形成されたマ
ークを備えている。そして、このマークを計測すること
により、上記アライメントセンサの基準位置を決定する
ことができる。
The reticle alignment sensor measures the positional relationship (deviation) between the alignment mark formed on the reticle R and the reference mark on the reference mark member or the wafer W observed via the projection optical system. In the exposure light alignment method, the positional relationship can be directly observed by displaying the image on a monitor using an image sensor (CCD). The reference mark member is fixed on the reticle stage 17 and has a mark formed at the same height position as the surface of the wafer W. Then, by measuring this mark, the reference position of the alignment sensor can be determined.

【0058】ウェーハWのアライメントを行う場合に
は、レーザー光をウェーハ上のドット列状のアライメン
トマークに照射し、そのマークにより解説または散乱さ
れた光を用いてマーク位置を検出するLSA(Lase
r Step Alignment)方式や、ハロゲン
ランプ等を光源とする波長帯域幅の広い光で照射し、C
CDカメラなどで撮像したアライメントマークの画像デ
ータを画像処理してマーク位置を計測するFIA(Fi
eld Image Alignment)方式、ある
いはウェーハW上の回折格子状のアライメントマークに
ピッチ方向に対照的に傾斜した2つのコヒーレントビー
ムを照射し、発生した2つの回折光を干渉させ、その位
相からアライメントマークの位置を計測するLIA(L
aserInterferometric Align
ment)方式などを採用することができる。
In order to align the wafer W, a laser beam is applied to an alignment mark in the form of a row of dots on the wafer, and the position of the mark is detected using light explained or scattered by the mark.
Irradiation with light having a wide wavelength band using a halogen lamp or the like as a light source.
An FIA (FiA) that performs image processing on alignment mark image data captured by a CD camera or the like to measure the mark position
(eld image alignment) method, or by irradiating a diffraction grating alignment mark on the wafer W with two coherent beams inclined in contrast to the pitch direction, causing the two generated diffracted lights to interfere with each other, and determining the phase of the alignment mark from the phase thereof. LIA (L
aserInterferometric Align
ment) method can be adopted.

【0059】このように、ライブラリ11から取り出さ
れたバーコードBを有するレチクルRを投影露光部Eの
レチクルステージ47まで搬送する搬送路Hの途中にお
いて、このレチクルRを識別するための識別部Aを搬送
機構Hとは独立して設けたことにより、バーコードBの
読み取り動作は安定して行われる。すなわち、従来のよ
うに搬送ハンド(搬送アーム)などに載置させた状態の
ままでバーコードBを読み取ろうとする方法では、この
バーコードBの読み取り方法が制限されて安定したバー
コードBの読み取り動作を行うことが困難な場合があっ
た。しかしながら、バーコードBの読み取り専用部とし
て識別部Aを設け、この識別部AにレチクルRを渡して
バーコードBを読み取られやすいように保持させてから
読み取り動作を行うようにしたので、バーコードBの読
み取り動作は安定して行われる。したがって個々のレチ
クルRの識別は確実に行われる。いいかえれば、搬送機
構Hとは独立した識別部Aを設けたことによって、バー
コードBの読み取りのための種々の制限を容易に排除す
ることができ、安定したバーコードBの読み取り動作が
実現できる。
As described above, in the middle of the transport path H for transporting the reticle R having the barcode B extracted from the library 11 to the reticle stage 47 of the projection exposure unit E, the identification unit A for identifying the reticle R is used. Is provided independently of the transport mechanism H, the reading operation of the bar code B is performed stably. That is, in the conventional method of reading the barcode B while being mounted on the transfer hand (transfer arm) or the like, the method of reading the barcode B is limited, and the barcode B is read stably. There were cases where it was difficult to perform the operation. However, since the identification section A is provided as a read-only section of the bar code B, the reticle R is passed to the identification section A to hold the bar code B so that it can be easily read, and then the reading operation is performed. The reading operation of B is performed stably. Therefore, the identification of each reticle R is reliably performed. In other words, by providing the identification unit A independent of the transport mechanism H, various restrictions for reading the barcode B can be easily eliminated, and a stable barcode B reading operation can be realized. .

【0060】レチクルRを、バーコードBと拡散反射板
7とを所定距離離間させるように保持部1によって保持
させるとともに、このレチクルRのバーコードBを含む
領域に投光光8を投光し拡散反射板7からの反射光9を
読み取ることによってバーコードBの読み取りを行う構
成としたので、従来では読み取りが困難であった形態の
レチクルRのバーコードBの読み取り動作を安定して行
うことができる。すなわち、レチクルRの基板部分とバ
ーコードB部分との反射率がほぼ等しいいわゆるハーフ
トーンレチクルの場合などにおいては、従来のようなレ
チクルR表面の直接反射光を読み取る方法では基板部分
とバーコードB部分とのコントラスト(光量差)が小さ
く検出されるので、この方法によってバーコードBの読
み取りを行うことは困難であった。しかしながら、バー
コードリーダー3からの投光光8をレチクルRに一旦透
過させてこの透過光を拡散反射板7に反射させ、レチク
ルRを2回透過した光(すなわち反射光9)を読み取
り、この反射光9に基づいてバーコードBの読み取りを
行う構成としたことにより、この場合基板部分(ガラス
部22)の反射光9とバーコードB(クロム部23)の
反射光9との光量差(減衰率の差)は大きくなるので、
読み取り動作は安定して行われる。したがって種々の形
態のレチクルRが搬送される場合においてもこのレチク
ルRの識別は確実に行われる。したがって所望のレチク
ルRが投影露光部Eのレチクルステージ17に確実に搬
送される。
The reticle R is held by the holding section 1 so that the bar code B and the diffuse reflection plate 7 are separated from each other by a predetermined distance, and the projection light 8 is projected onto a region of the reticle R containing the bar code B. Since the bar code B is read by reading the reflected light 9 from the diffuse reflection plate 7, it is possible to stably read the bar code B of the reticle R in a form difficult to read conventionally. Can be. That is, in the case of a so-called halftone reticle in which the reflectance of the substrate portion of the reticle R is substantially equal to that of the bar code B portion, the conventional method of reading directly reflected light on the surface of the reticle R and the bar code B are not used. Since the contrast (light amount difference) with the portion is detected to be small, it is difficult to read the barcode B by this method. However, the projected light 8 from the barcode reader 3 is transmitted through the reticle R once, the transmitted light is reflected by the diffuse reflection plate 7, and the light transmitted through the reticle R twice (that is, the reflected light 9) is read. Since the bar code B is read based on the reflected light 9, in this case, the light amount difference between the reflected light 9 of the substrate portion (glass portion 22) and the reflected light 9 of the bar code B (chrome portion 23) ( The difference between the attenuation factors)
The reading operation is performed stably. Therefore, even when the reticle R of various forms is conveyed, the reticle R is reliably identified. Therefore, the desired reticle R is reliably conveyed to the reticle stage 17 of the projection exposure section E.

【0061】また、識別部Aに、レチクルRのバーコー
ドBと拡散反射板7とを対向させるように位置合わせを
行うためのアライメントピン10を備えたことにより、
レチクルRはバーコードBの読み取られ動作において所
定位置に対して位置合わせを行われてから、バーコード
Bを読み取られる。したがって、レチクルRはバーコー
ドBを読み取られるために適正な位置にセッティングさ
れてからバーコードリーダー3によって読み取られるた
め、複数あるレチクルRの識別は確実に行われる。さら
に、アライメントピン10によってレチクルステージ1
7に対して大まかな位置合わせ(プリアライメント)を
行ったあと、このレチクルRをレチクルステージ17に
搬送することが可能であるので、露光工程は安定して行
われる。すなわちレチクルRは、一般にプリアライメン
トを施されてからレチクルステージ17に搬送される
が、このプリアライメントを識別部Aにおいて行うこと
ができる。いいかえれば、従来のプリアライメント部に
おいてバーコードBの読み取りが可能となる。
Further, the identification portion A is provided with the alignment pin 10 for performing positioning so that the bar code B of the reticle R and the diffuse reflection plate 7 face each other.
The reticle R is read out of the bar code B after the reticle R is aligned with a predetermined position in the reading operation of the bar code B. Therefore, the reticle R is set at an appropriate position to read the barcode B, and then read by the barcode reader 3, so that the plurality of reticles R can be reliably identified. Furthermore, the reticle stage 1 is
After rough alignment (pre-alignment) with respect to 7, reticle R can be transported to reticle stage 17, so that the exposure process is performed stably. In other words, the reticle R is generally conveyed to the reticle stage 17 after being pre-aligned, and this pre-alignment can be performed in the identification unit A. In other words, the bar code B can be read by the conventional pre-alignment unit.

【0062】なお、識別部Aにおいて予め指定されたも
のであると識別されたレチクルRは、搬送機構Hである
ロードアーム15に渡されずに、他の独立した別系統の
搬送経路に渡され、この搬送経路によってレチクルステ
ージ17に搬送されることももちろん可能である。そし
てレチクルRは、この搬送経路途中に設けられるプリア
ライメント部によって、レチクルステージ17に対して
プリアライメントを行われてからこのレチクルステージ
17に搬送されることが可能である。
The reticle R identified as the one designated in advance by the identification unit A is not transferred to the load arm 15 as the transfer mechanism H, but is transferred to another independent transfer path of another system. Of course, it is also possible to be transferred to the reticle stage 17 by this transfer path. The reticle R can be conveyed to the reticle stage 17 after performing pre-alignment on the reticle stage 17 by a pre-alignment unit provided in the middle of the conveyance path.

【0063】またレチクルRの識別部Aへの受け渡し
は、搬送機構Hのロードアーム15によって直接行う形
態の他に、図6に示すように、搬送機構Hとは独立して
設けられた識別部用アーム61によって行うことが可能
である。すなわち、識別部Aの保持部1が搬送路Hから
離間した位置に設けられている場合において、搬送路H
と識別部Aとの間にこの搬送路Hとは独立した識別部用
アーム61を設け、この識別部用アーム61が搬送路H
から識別部AにレチクルRを渡すとともに識別部Aのレ
チクルRを搬送路Hに戻す構成とすることが可能であ
る。
The delivery of the reticle R to the identification section A is performed directly by the load arm 15 of the transport mechanism H, and the identification section provided independently of the transport mechanism H as shown in FIG. It can be performed by the arm 61 for use. That is, when the holding unit 1 of the identification unit A is provided at a position separated from the transport path H, the transport path H
An arm 61 for the identification unit independent of the transport path H is provided between the identification unit A and the arm A for the identification unit.
, The reticle R of the identification unit A can be returned to the transport path H while the reticle R is passed to the identification unit A.

【0064】この識別部用アーム61は、レチクルRを
吸着保持するための真空吸着穴を備えており、連結させ
た真空ポンプの駆動・停止によってレチクルRを吸着保
持・解除するように設けられている。また、識別部用ア
ーム61は基端部61aを基準として旋回自在に支持さ
れており、先端側の吸着保持部61bは識別部Aの保持
部1と搬送路Hとの間で移動自在となっている。
The identification section arm 61 is provided with a vacuum suction hole for sucking and holding the reticle R, and is provided so as to suck and hold and release the reticle R by driving and stopping the connected vacuum pump. I have. Further, the identification unit arm 61 is supported rotatably with reference to the base end 61a, and the suction holding unit 61b on the distal end side is movable between the holding unit 1 of the identification unit A and the transport path H. ing.

【0065】そして、ロードアーム15によって搬送さ
れるレチクルRを識別部Aに渡す場合、制御部は、レチ
クルRを保持しつつ位置CA2からレチクルステージ1
7に向かって移動するロードアーム15に対して、識別
部用アーム61がアクセス可能な位置に一旦停止するよ
うに指令する。識別部用アーム61は、ロードアーム1
5上のレチクルRを吸着保持部61bによって保持する
ために旋回される。そして、ロードアーム15上のレチ
クルRを保持した識別部用アーム61は、識別部Aの保
持部1にレチクルRを載置させるために旋回される。識
別部AにレチクルRを渡した識別部用アーム61は識別
部Aから一旦退避する。識別部Aに渡されたレチクルR
はプリアライメントされた後、バーコードリーダー3に
よってバーコードBを読み取られる。そして、処理部2
1及び制御部はこのバーコード情報に基づいて、レチク
ルRが予め指定されたものか否かを判断する。
When transferring the reticle R conveyed by the load arm 15 to the identification unit A, the control unit moves the reticle stage 1 from the position CA2 while holding the reticle R.
7 is instructed to temporarily stop at a position where the identification unit arm 61 can be accessed. The identification unit arm 61 includes the load arm 1
The reticle R is rotated to hold the reticle R on the holder 5 by the suction holder 61b. Then, the identification unit arm 61 holding the reticle R on the load arm 15 is turned to place the reticle R on the holding unit 1 of the identification unit A. The identification unit arm 61 that has passed the reticle R to the identification unit A temporarily retreats from the identification unit A. Reticle R passed to identification unit A
After pre-alignment, the barcode B is read by the barcode reader 3. And processing unit 2
The control unit 1 and the control unit determine whether or not the reticle R is specified in advance based on the barcode information.

【0066】レチクルRが所望のものと判断された場
合、識別部用アーム61は識別部AのレチクルRを保持
するためにレチクルRに接近される。保持部1上のレチ
クルRは識別部用アーム61によって吸着保持され、識
別部用アーム61はこのレチクルRをロードアーム15
に渡すように旋回される。そしてこのレチクルRを受け
取ったロードアーム15はレチクルステージ17に向か
って移動を開始され、レチクルRをレチクルステージ1
7に渡す。
When it is determined that the reticle R is desired, the identification unit arm 61 is moved closer to the reticle R to hold the reticle R of the identification unit A. The reticle R on the holding unit 1 is suction-held by the identification unit arm 61, and the identification unit arm 61 attaches the reticle R to the load arm 15.
Turned to pass to. Then, the load arm 15 receiving the reticle R starts moving toward the reticle stage 17, and moves the reticle R to the reticle stage 1.
Pass to 7.

【0067】一方、レチクルRが所望のものでない場
合、識別部用アーム61はこのレチクルRをライブラリ
11のレチクルケース12に戻すためにレチクルケース
12に向かう搬送機構に渡す。このレチクルRをレチク
ルケース12に戻す経路は、搬送機構Hとは別系統に設
けられた搬送機構によって構成されることが可能であ
る。すなわち識別部用アーム61はレチクルRを識別部
Aから搬送機構Hとは別系統の搬送機構に渡すことが可
能である。もちろん、レチクルRはレチクルケース12
に搬送機構Hによって戻されることも可能である。この
場合制御部は、識別部A近傍にアンロードアーム16を
移動させるとともに、識別部用アーム61に対してレチ
クルRをアンロードアーム16に渡すように指令する。
アンロードアーム16に保持されたレチクルRは、キャ
リア14、搬送アーム13を経てレチクルケース12に
収納される。なお、このレチクルRの収納先はレチクル
ケース12に限られるものでない。
On the other hand, if the reticle R is not the desired one, the identifying unit arm 61 transfers the reticle R to the transport mechanism toward the reticle case 12 in order to return the reticle R to the reticle case 12 of the library 11. The path for returning the reticle R to the reticle case 12 can be configured by a transport mechanism provided in a separate system from the transport mechanism H. That is, the identification unit arm 61 can transfer the reticle R from the identification unit A to a transport mechanism of a different system from the transport mechanism H. Of course, reticle R is reticle case 12
Can also be returned by the transport mechanism H. In this case, the control unit moves the unload arm 16 near the identification unit A and instructs the identification unit arm 61 to pass the reticle R to the unload arm 16.
The reticle R held by the unload arm 16 is stored in the reticle case 12 via the carrier 14 and the transfer arm 13. The storage destination of the reticle R is not limited to the reticle case 12.

【0068】基板移動装置として、図7に示すように、
レチクルRを保持した保持部1の土台部4を水平方向に
移動させるX−Yステージ71と、土台部4とX−Yス
テージ71との間に介装され土台部4を鉛直軸まわりに
回転させるθステージとによって構成することが可能で
ある。これら各ステージはステージ駆動部72によって
駆動されるようになっており、レチクルRのバーコード
Bはバーコードリーダー3に対して位置合わせされる。
As a substrate moving device, as shown in FIG.
An XY stage 71 for horizontally moving the base 4 of the holding unit 1 holding the reticle R, and the base 4 is interposed between the base 4 and the XY stage 71 to rotate the base 4 about a vertical axis. And a θ stage to be used. Each of these stages is driven by a stage driving unit 72, and the barcode B of the reticle R is aligned with the barcode reader 3.

【0069】次に、図8を用いて本発明の搬送装置のう
ち識別部に関する他の実施形態について説明する。図8
における識別部A2は、レチクルR2を保持する保持部
1と、バーコードリーダー3と、保持部1に保持される
レチクルR2の位置決めを行うためのアライメントピン
10とを備えている。なお保持部1は、図2、図3に示
したように、拡散反射板7を備えた土台部4と、レチク
ルR2の4角を支持するための4つの支柱部5とを備え
ている。同様にバーコードリーダー3は投光部3aと受
光部3bと処理部21とを備えており、投光光8を出射
し反射光9を受光するようになっている。また、バーコ
ードリーダー3は、レチクルR2のバーコードCの形成
部分に合わせてバーコードリーダー3の読み取り部分を
変更する読み取り部分変更装置30に支持されている。
レチクルR2に形成されているバーコードCは、2列に
設けられた内側、外側セグメントc1、c2から成って
いる。バーコードCの位置は製品によって多岐にわたる
ものであって、レチクルR2はその一形態である。
Next, another embodiment relating to the identification section of the transporting apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. FIG.
Has a holding unit 1 for holding the reticle R2, a barcode reader 3, and an alignment pin 10 for positioning the reticle R2 held by the holding unit 1. As shown in FIGS. 2 and 3, the holding section 1 includes a base section 4 having a diffuse reflection plate 7 and four support sections 5 for supporting the four corners of the reticle R2. Similarly, the barcode reader 3 includes a light projecting unit 3a, a light receiving unit 3b, and a processing unit 21. The bar code reader 3 emits the light 8 and receives the reflected light 9. Further, the barcode reader 3 is supported by a reading portion changing device 30 that changes the reading portion of the barcode reader 3 in accordance with the barcode C forming portion of the reticle R2.
The barcode C formed on the reticle R2 includes inner and outer segments c1 and c2 provided in two rows. The position of the barcode C varies depending on the product, and the reticle R2 is one form thereof.

【0070】バーコードリーダー3を支持している読み
取り部分変更装置30は、バーコードC及び拡散反射板
7の長手方向に支持部32を平行に移動させるためのリ
ニアモータ31と、保持部1とリニアモータ31との間
に配され拡散反射板7及びリニアモータ31に平行に設
けられた台形カム34と、支持部32とバーコードリー
ダ3とを連結し、常にバーコードリーダ3を台形カム3
4側に引き寄せる力を生じさせるバネ部33と、バーコ
ードリーダー3に設けられ、このバーコードリーダー3
を台形カム34に摺動可能に支持する車輪部35とを備
えている。
The reading portion changing device 30 supporting the bar code reader 3 includes a linear motor 31 for moving the support portion 32 in the longitudinal direction of the bar code C and the diffuse reflection plate 7 in parallel with the holding portion 1. The trapezoidal cam 34 disposed between the linear motor 31 and provided in parallel with the diffuse reflection plate 7 and the linear motor 31 is connected to the support 32 and the barcode reader 3, and the barcode reader 3 is always connected to the trapezoidal cam 3.
And a spring portion 33 for generating a force for pulling the bar code reader 4 to the side of the bar code reader 3.
And a wheel portion 35 that slidably supports the cam on a trapezoidal cam 34.

【0071】読み取り部分変更装置30は、レチクルR
2に形成されたバーコードCのうち内側セグメントc1
あるいは外側セグメントc2のいずれかを読み取り可能
な位置にバーコードリーダー3を移動させるためのもの
である。すなわち図8に示すように、レチクルRが複数
列からなるバーコードCを備えた形態の場合や、あるい
は、バーコードの形成位置を変更させたレチクルのバー
コードを安定して読み取るためにバーコードリーダー3
の読み取り位置を変更するためのものである。バーコー
ドリーダー3はバーコードを配列方向に1列づつ読み取
る構成となっており、図8においては内側セグメントc
1と外側セグメントc2とをそれぞれ独立して読み取
る。なおバーコードリーダー3は固定された位置で1つ
のバーコード(たとえば内側セグメントc1のみ)を読
み取ることができ、このとき必ずしも内側セグメントc
1の長手方向の中心位置で読み込む必要はない。
The reading portion changing device 30 includes a reticle R
2 of the barcode C formed in the inner segment c1
Alternatively, it is for moving the barcode reader 3 to a position where any of the outer segments c2 can be read. That is, as shown in FIG. 8, when the reticle R includes a plurality of rows of bar codes C, or when the reticle R has a changed bar code formation position, the bar code of the reticle is read stably. Leader 3
Is used to change the reading position of. The barcode reader 3 is configured to read barcodes one by one in the arrangement direction, and in FIG.
1 and the outer segment c2 are read independently. The barcode reader 3 can read one barcode (for example, only the inner segment c1) at a fixed position.
It is not necessary to read at the center position in the longitudinal direction.

【0072】バーコードリーダー3は、リニアモータ3
1によってバーコードCの長手方向に移動可能に設けら
れた支持部32とバネ部33によって連結されている。
一方、台形カム34はバーコードCの長手方向に沿って
形成されており、両端部がレチクルR2側に突出してい
る。したがってバーコードリーダー3は、バネ部33に
よって常に台形カム34側に引き寄せられつつリニアモ
ータ31によってバーコードCの長手方向に移動可能に
設けられており、台形カム34の端部に移動されたバー
コードリーダー3は、台形カム34の形状に沿うように
内側セグメントc1側に移動し、一方、台形カム34の
中心部に移動されたバーコードリーダー3は、台形カム
34側に引き寄せられることによって外側セグメントc
2側に移動される。すなわち台形カム34は、移動する
バーコードリーダー3をそれぞれのバーコードのセグメ
ントc1、c2を読み取り可能な位置に配させるように
形成されている。また拡散反射板7は、内側、外側セグ
メントc1、c2からなるバーコードCの全ての領域に
対向するようにその面積を大きく形成されている。
The bar code reader 3 is a linear motor 3
The bar code C is connected by a spring portion 33 to a support portion 32 movably provided in the longitudinal direction of the bar code C.
On the other hand, the trapezoidal cam 34 is formed along the longitudinal direction of the barcode C, and both ends protrude toward the reticle R2. Therefore, the bar code reader 3 is provided so as to be movable in the longitudinal direction of the bar code C by the linear motor 31 while being constantly drawn to the trapezoidal cam 34 side by the spring portion 33, and the bar moved to the end of the trapezoidal cam 34. The code reader 3 moves toward the inner segment c1 along the shape of the trapezoidal cam 34, while the barcode reader 3 moved to the center of the trapezoidal cam 34 is pulled outward toward the trapezoidal cam 34 to move outward. Segment c
Moved to two sides. That is, the trapezoidal cam 34 is formed so that the moving barcode reader 3 is arranged at a position where the bar code segments c1 and c2 can be read. The diffuse reflection plate 7 is formed to have a large area so as to face all the regions of the barcode C including the inner and outer segments c1 and c2.

【0073】このような構成を持つ識別部A2によって
バーコードCを読み取る動作について説明する。識別部
A2の保持部1に載置されたレチクルR2のバーコード
Cを読み取るために、読み取り部分変更装置30はバー
コードリーダー3を、バーコードCを読み取り可能な位
置に配置させる。このときバーコードリーダー3は、バ
ーコードCのうちいずれか1つのセグメントを読み取り
可能な構成となっているため、例えば内側セグメントc
1を読み取る場合には、読み取り部分変更装置30は、
バーコードリーダー3を内側セグメントc1の上方位置
に移動させる。すなわち、支持部32がリニアモータ3
1によって移動させることによって、バーコードリーダ
ー3は台形カム34の端部位置に移動される。台形カム
34の端部位置に移動されたバーコードリーダー3は、
台形カム34の形状に沿うように内側セグメントc1の
上方に移動される。
The operation of reading the barcode C by the identification unit A2 having such a configuration will be described. In order to read the barcode C of the reticle R2 placed on the holding section 1 of the identification section A2, the reading portion changing device 30 places the barcode reader 3 at a position where the barcode C can be read. At this time, since the barcode reader 3 is configured to be able to read any one segment of the barcode C, for example, the inner segment c
When reading 1, the reading portion changing device 30
The barcode reader 3 is moved to a position above the inner segment c1. That is, the support portion 32 is
The bar code reader 3 is moved to the end position of the trapezoidal cam 34 by moving the bar code reader 3 with the bar code reader 1. The barcode reader 3 moved to the end position of the trapezoidal cam 34
It is moved above the inner segment c1 so as to follow the shape of the trapezoidal cam 34.

【0074】そして、バーコードリーダー3の投光部3
aから投光光8を、レチクルR2のバーコードCのうち
内側セグメントc1を含む領域に向かって出射する。投
光光8は内側セグメントc1部分を透過した後、対向す
るように配置された拡散反射板7で反射する。この拡散
反射板7によって反射された反射光9は、再びレチクル
R2を通過して、受光部3bに受光される。受光部3b
にはバーコード情報を解読するための処理部21が連結
されており、この処理部21において内側セグメントc
1のバーコード情報を解析される。
The light emitting section 3 of the bar code reader 3
The light 8 is emitted from a toward a region including the inner segment c1 in the barcode C of the reticle R2. The light 8 is transmitted through the inner segment c1 and then reflected by the diffuse reflection plate 7 disposed to face the same. The reflected light 9 reflected by the diffuse reflection plate 7 passes through the reticle R2 again and is received by the light receiving section 3b. Light receiving section 3b
Is connected to a processing unit 21 for decoding bar code information.
1 is analyzed.

【0075】内側セグメントc1の読み取り動作を終え
たバーコードリーダー3は、リニアモータ31によって
台形カム34の長手方向中心側に移動されることによ
り、バネ部33によって台形カム34側に引き寄せられ
つつ台形カム34の形状に応じて外側セグメントc2の
上方位置に移動される。そしてバーコードリーダー3の
投光部3aは、レチクルRの外側セグメントc2を含む
領域に向かって投光光8を出射し、レチクルRを透過し
た投光光8は拡散反射板7に反射して反射光9となり、
この反射光9はレチクルRを透過した後受光部3bに受
光される。そして、受光部3bに連結された処理部21
において、外側セグメントc2のバーコード情報が解析
される。なお図8において、バーコードリーダー3によ
って外側セグメントc2を読み取る際、バーコードリー
ダー3は外側セグメントc2の長手方向中心位置に配置
されないが、バーコードC(外側セグメントc2)の読
み取り動作には影響無い。
The bar code reader 3 that has completed the reading operation of the inner segment c 1 is moved toward the center of the trapezoidal cam 34 in the longitudinal direction by the linear motor 31, and is thus drawn toward the trapezoidal cam 34 by the spring portion 33. It is moved to a position above the outer segment c2 according to the shape of the cam 34. The light projecting portion 3a of the bar code reader 3 emits the light 8 toward a region including the outer segment c2 of the reticle R, and the light 8 transmitted through the reticle R is reflected by the diffuse reflection plate 7. Reflected light 9
The reflected light 9 is received by the light receiving section 3b after passing through the reticle R. Then, the processing unit 21 connected to the light receiving unit 3b
In, the barcode information of the outer segment c2 is analyzed. In FIG. 8, when the outer segment c2 is read by the barcode reader 3, the barcode reader 3 is not arranged at the longitudinal center position of the outer segment c2, but does not affect the reading operation of the barcode C (outer segment c2). .

【0076】このように、レチクルR2に形成されるバ
ーコードCの位置は製品によって変わるため、それぞれ
異なった位置にバーコードCを備えたレチクルR2に対
してフレキシブルに対応する必要がある。この場合識別
部A2は、レチクルR2のバーコードCの形成部分に合
わせてバーコードリーダー3の読み取り部分を変更する
読み取り部分変更装置30を備えるので、搬送されるレ
チクルR2上に設けられているバーコードCの位置が変
化している場合や、内側、外側セグメントc1、c2の
ように複数列から構成されるバーコードCの場合におい
ても、読み取り部分変更装置30によってバーコードリ
ーダー3をバーコードCの形成位置に移動させることが
可能となるので、バーコードCの読み取りは安定して行
われる。したがって、レチクルR2の識別は安定して行
われる。
As described above, since the position of the barcode C formed on the reticle R2 varies depending on the product, it is necessary to flexibly correspond to the reticle R2 having the barcode C at different positions. In this case, since the identification unit A2 includes the reading portion changing device 30 that changes the reading portion of the barcode reader 3 in accordance with the formation portion of the barcode C of the reticle R2, the bar provided on the reticle R2 to be conveyed. Even when the position of the code C is changed, or in the case of a bar code C composed of a plurality of rows such as the inner and outer segments c1 and c2, the bar code reader 3 is used to The bar code C can be read stably since the bar code C can be moved to the position where the bar code C is formed. Therefore, identification of reticle R2 is performed stably.

【0077】また、バーコードリーダー3の、バーコー
ドCの長手方向に沿う方向への移動はリニアモータ31
によって能動的に行われるとともに、内側、外側セグメ
ントc1、c2の配列方向に沿う方向への移動は台形カ
ム34の形状とバネ部33の作用とによって受動的に行
われるようになっている。すなわちバーコードリーダー
3は、読み取り部分変更装置30による一軸方向のみの
能動的制御によって2軸方向へ移動される構成であっ
て、簡易な構成で各セグメントc1、c2を読み取り可
能な位置に移動される。なお、読み取り部分変更装置3
0は、バーコードリーダー3を、ボールねじを用いて移
動可能に支持する構成とすることももちろん可能であ
る。
The movement of the bar code reader 3 in the direction along the longitudinal direction of the bar code C is performed by the linear motor 31.
, And the movement of the inner and outer segments c1 and c2 in the direction along the arrangement direction is passively performed by the shape of the trapezoidal cam 34 and the action of the spring portion 33. That is, the barcode reader 3 is configured to be moved in the two-axis direction by active control of only the one-axis direction by the reading portion changing device 30, and is moved to a position where each segment c1, c2 can be read with a simple configuration. You. In addition, the reading portion changing device 3
In the case of 0, the barcode reader 3 can be movably supported by using a ball screw.

【0078】以上のように、バーコードB(C)を読み
取るための識別部A(A2)を搬送路Hとは独立して設
けたことにより、バーコードリーダー3の配置の自由度
が増すとともに、レチクルR(R2)はバーコードB
(C)を読み取られやすい状態に保持されることが可能
となる。したがって、様々な種類のバーコードB(C)
を備えたレチクルR(R2)は安定して識別される。
As described above, since the identification section A (A2) for reading the barcode B (C) is provided independently of the transport path H, the degree of freedom of arrangement of the barcode reader 3 is increased. , Reticle R (R2) is bar code B
(C) can be maintained in a state where it can be easily read. Therefore, various types of bar codes B (C)
Is stably identified.

【0079】なお、上述した識別部A(A2)は、ライ
ブラリ11からレチクルステージ17に向かう搬送路H
の途中位置であれば、位置CA2とレチクルステージ1
7との間に配置されることに限らず、どのような配置、
構成でもよい。
The above-described identification unit A (A2) is provided on the transport path H from the library 11 to the reticle stage 17.
Position CA2 and reticle stage 1
No matter what arrangement,
A configuration may be used.

【0080】なお本発明の搬送方法は、上述したレチク
ル(マスク)Rのほかに、半導体デバイス用の半導体ウ
ェーハや、液晶ディスプレイデバイス用のガラスプレー
ト、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェーハなどに対し
て適用することが可能である。
The transfer method of the present invention is applicable to a semiconductor wafer for a semiconductor device, a glass plate for a liquid crystal display device, a ceramic wafer for a thin film magnetic head, and the like, in addition to the reticle (mask) R described above. It is possible to

【0081】露光装置Sとしては、レチクルRとウェー
ハWとを静止した状態でレチクルRのパターンを露光
し、ウェーハWを順次ステップ移動させるステップ・ア
ンド・リピート方式の露光装置(ステッパー)でも、レ
チクルRとウェーハWとを同期移動してレチクルRのパ
ターンを露光するステップ・アンド・スキャン方式の走
査型投影露光装置(いわゆるスキャニングステッパー)
にも適用することができる。また、露光装置Sとして、
投影光学系を用いることなくレチクルRとウェーハWと
を密接させてレチクルRのパターンをウェーハWに露光
するプロキシミティ露光装置にも適用することができ
る。
The exposure apparatus S may be a step-and-repeat type exposure apparatus (stepper) that exposes the pattern of the reticle R while the reticle R and the wafer W are stationary and sequentially moves the wafer W step by step. Step-and-scan type scanning projection exposure apparatus (so-called scanning stepper) for exposing the pattern of reticle R by synchronously moving R and wafer W
Can also be applied. Further, as the exposure apparatus S,
The present invention can also be applied to a proximity exposure apparatus that exposes the pattern of the reticle R to the wafer W by bringing the reticle R and the wafer W into close contact without using a projection optical system.

【0082】露光装置Sの用途としては、半導体製造用
の露光装置に限定されることなく、例えば、各型のガラ
スプレートに液晶表示用素子パターンを露光する液晶用
の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あ
るいはマスクなどを製造するための露光装置などにも広
く適用できる。
The application of the exposure apparatus S is not limited to an exposure apparatus for manufacturing semiconductors. For example, an exposure apparatus for a liquid crystal for exposing a liquid crystal display element pattern on a glass plate of each type, a thin film magnetic head Also, the present invention can be widely applied to an exposure device for manufacturing an image pickup device (CCD) or a mask.

【0083】露光装置Sの光源としては、g線(436
nm)、i線(365nm)、KrFエキシマレーザー
(248nm)、ArFエキシマレーザー(193n
m)、F2レーザー(157nm)のみならず、X線や
電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放熱
型のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル
(Ta)を用いることができる。また、投影光学系の倍
率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよ
い。
The light source of the exposure apparatus S is g-line (436).
nm), i-line (365 nm), KrF excimer laser (248 nm), ArF excimer laser (193n)
m) and F2 laser (157 nm), as well as charged particle beams such as X-rays and electron beams. For example, when an electron beam is used, lanthanum hexaborite (LaB6) or tantalum (Ta) of thermionic heat radiation type can be used as the electron gun. Further, the magnification of the projection optical system may be not only a reduction system but also any one of an equal magnification and an enlargement system.

【0084】投影光学系としては、エキシマレーザーな
どの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石など
の遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザーやX線
を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし
(レチクルも反射型タイプのものを用いる)、また、電
子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏
向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線
が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもな
い。
As a projection optical system, when far ultraviolet rays such as an excimer laser are used, a material which transmits far ultraviolet rays such as quartz or fluorite is used as a glass material, and when an F2 laser or X-ray is used, a catadioptric system or a refraction system is used. The optical system may be a reflection type reticle. In the case where an electron beam is used, an electron optical system including an electron lens and a deflector may be used as the optical system. It goes without saying that the optical path through which the electron beam passes is in a vacuum state.

【0085】レチクルステージ17にリニアモータを用
いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型および
ローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型
のどちらを用いてもよい。また、ステージは、ガイドに
沿って移動するタイプでもよいし、ガイドを設けないガ
イドレスタイプでもよい。
When a linear motor is used for reticle stage 17, either an air levitation type using an air bearing or a magnetic levitation type using Lorentz force or reactance force may be used. Further, the stage may be of a type that moves along a guide, or may be a guideless type in which a guide is not provided.

【0086】半導体デバイスは、デバイスの機能・性能
設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチ
クルを製作するステップ、シリコン材料からウェーハを
製作するステップ、前述した実施形態の露光装置により
レチクルのパターンをウェーハに露光するステップ、デ
バイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディン
グ工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ等を経
て製造される。
For a semiconductor device, a step of designing the function and performance of the device, a step of manufacturing a reticle based on this design step, a step of manufacturing a wafer from a silicon material, and a step of forming a reticle pattern by the exposure apparatus of the above-described embodiment. It is manufactured through a step of exposing a wafer, a device assembling step (including a dicing step, a bonding step, and a package step), an inspection step, and the like.

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明の基板搬送方法及び基板搬送装置
並びに露光装置は、以下のような効果を有するものであ
る。請求項1に記載の発明によれば、収納部から基板処
理部に搬送される基板は、搬送途中において識別部に渡
され、バーコードを読み取られやすい状態に保持されて
からバーコードを読み取られるので、基板のバーコード
読み取り動作は安定して行われる。したがって、基板の
識別は確実に行われる。
The substrate transfer method, the substrate transfer apparatus and the exposure apparatus according to the present invention have the following effects. According to the first aspect of the present invention, the substrate conveyed from the storage unit to the substrate processing unit is transferred to the identification unit during the conveyance, and the barcode is read after being held in a state in which the barcode is easily read. Therefore, the barcode reading operation of the substrate is performed stably. Therefore, identification of the substrate is performed reliably.

【0088】請求項2に記載の発明によれば、基板を識
別部に保持した状態で、この基板を所定位置に対して位
置合わせしてから基板処理部へ搬送することにより、基
板処理部における処理は安定して行われる。この場合、
バーコードの読み取り動作のための位置合わせを行うこ
とも可能であり、したがって識別部におけるバーコード
の読み取り動作も安定して行われる。
According to the second aspect of the present invention, in a state where the substrate is held by the identification unit, the substrate is aligned with respect to a predetermined position and then transported to the substrate processing unit. Processing is performed stably. in this case,
It is also possible to perform alignment for the barcode reading operation, and thus the barcode reading operation in the identification unit is also performed stably.

【0089】請求項3に記載の発明によれば、バーコー
ドを備えた基板は搬送機構から一旦保持部に渡され、こ
の保持部によってバーコードを読み取られやすい状態に
保持されてからバーコードリーダーによってバーコード
を読み取られる構成となっている。したがって、バーコ
ードリーダーによる基板のバーコードの読み取り動作は
安定して行われるので、基板の識別は確実に行われる。
According to the third aspect of the present invention, the substrate provided with the bar code is once passed from the transport mechanism to the holding unit, and the bar code reader is held in a state where the bar code is easily read by the holding unit. The bar code is read by the Accordingly, the operation of reading the barcode of the substrate by the barcode reader is performed stably, and the substrate is reliably identified.

【0090】請求項4に記載の発明によれば、識別部
は、バーコードリーダーから出射して基板のバーコード
を含んだ領域を透過した透過光を反射する拡散反射板を
備えており、バーコードリーダーは拡散反射板からの反
射光を受ける構成となっている。この場合、基板部分と
バーコード部分とを通過する反射光の光量差は基板表面
の直接反射光による光量差より大きくなるので、例えば
基板部分とバーコード部分との反射率がほぼ等しいもの
に対してもバーコードの読み取りは安定して行える。し
たがって基板の識別は確実に行える。
According to the fourth aspect of the present invention, the identification unit includes the diffuse reflection plate that reflects the transmitted light emitted from the bar code reader and transmitted through the area including the bar code on the substrate. The code reader is configured to receive light reflected from the diffuse reflection plate. In this case, the difference in the amount of reflected light passing through the substrate portion and the bar code portion is larger than the difference in light amount due to the directly reflected light on the substrate surface. However, the bar code can be read stably. Therefore, the board can be identified reliably.

【0091】請求項5に記載の発明によれば、読み取り
部分変更装置を設けたことにより、搬送される基板上の
バーコードの位置が変化されている場合においても、読
み取り部分変更装置によってバーコードリーダーをバー
コードの形成位置に移動させることが可能となるので、
バーコードの読み取りは安定して行われる。したがっ
て、基板の識別は確実に行われる。
According to the fifth aspect of the present invention, since the reading portion changing device is provided, even when the position of the bar code on the substrate to be conveyed is changed, the bar code is changed by the reading portion changing device. Since it is possible to move the reader to the position where the barcode is formed,
Barcode reading is performed stably. Therefore, identification of the substrate is performed reliably.

【0092】請求項6に記載の発明によれば、基板は基
板移動装置によって所定位置に対して位置合わせされた
あと基板処理部に搬送されるようになるので、基板処理
部での処理は安定して行われる。また、バーコード読み
取り動作のための位置合わせもこの基板移動装置によっ
て行うことができるため、バーコードの読み取り動作は
安定して行われ、したがって基板の識別も確実に行うこ
とができる。
According to the sixth aspect of the present invention, the substrate is transferred to the substrate processing section after being aligned with the predetermined position by the substrate moving device, so that the processing in the substrate processing section is stable. It is done. In addition, since the alignment for the barcode reading operation can be performed by the substrate moving device, the barcode reading operation is performed stably, and thus the substrate can be reliably identified.

【0093】請求項7に記載の発明によれば、バーコー
ドを備えたレチクル(マスク)は、レチクルステージに
搬送される途中に識別部に渡され、この識別部において
バーコードを読み取られやすい状態に保持されてから、
バーコードリーダーによってバーコードを読み取られる
ので、収納部に収納されている多種類のレチクルのう
ち、所望のレチクルが識別部において確実に識別されて
からレチクルステージに搬送されるようになる。
According to the seventh aspect of the present invention, the reticle (mask) provided with the bar code is transferred to the identification unit while being conveyed to the reticle stage, and the bar code can be easily read by the identification unit. After being held in
Since the barcode is read by the barcode reader, of the various types of reticles stored in the storage section, the desired reticle is reliably identified by the identification section and then transferred to the reticle stage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の基板搬送装置を備えた露光装置の一実
施形態を示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus provided with a substrate transfer device of the present invention.

【図2】本発明に係る識別部の実施形態を示す平面図で
ある。
FIG. 2 is a plan view showing an embodiment of an identification unit according to the present invention.

【図3】図2の側面図である。FIG. 3 is a side view of FIG. 2;

【図4】投光光及び反射光を説明するための概略図であ
る。
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining light projection and reflected light.

【図5】搬送機構が識別部に基板を供給する様子を説明
する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which a transport mechanism supplies a substrate to an identification unit.

【図6】搬送機構が識別部に基板を供給する他の実施形
態を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating another embodiment in which a transport mechanism supplies a substrate to an identification unit.

【図7】基板移動装置の他の実施形態を説明するための
図である。
FIG. 7 is a view for explaining another embodiment of the substrate moving device.

【図8】識別部の他の実施形態を説明するための図であ
って特に読み取り部分変更装置を説明するための図であ
る。
FIG. 8 is a diagram for explaining another embodiment of the identification unit, particularly for explaining a reading portion changing device.

【図9】従来の基板搬送装置を説明するための図であ
る。
FIG. 9 is a view for explaining a conventional substrate transfer device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 保持部 3 バーコードリーダー 3a 投光部 3b 受光部 6 パターン 7 拡散反射板 8 投光光 9 反射光 10 アライメントピン(基板移動装置) 11 ライブラリ(収納部) 12 レチクルケース(収納部) 13 搬送アーム 14 キャリア 15 ロードアーム 16 アンロードアーム 17 レチクルステージ 21 処理部 30 読み取り部分変更装置 61 識別部用アーム A、A2 識別部 B、C バーコード E 投影露光部(基板処理部) H 搬送機構(搬送路) P ペリクル R、R2 レチクル(マスク、基板) S 露光装置 W ウェーハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Holding part 3 Barcode reader 3a Light-emitting part 3b Light-receiving part 6 Pattern 7 Diffuse reflector 8 Light-emitting light 9 Reflected light 10 Alignment pin (substrate moving device) 11 Library (storage part) 12 Reticle case (storage part) 13 Transport Arm 14 Carrier 15 Load arm 16 Unload arm 17 Reticle stage 21 Processing unit 30 Reading part changing device 61 Identification unit arm A, A2 Identification unit B, C Barcode E Projection exposure unit (substrate processing unit) H Transport mechanism (Transport) Road) P pellicle R, R2 Reticle (mask, substrate) S Exposure device W Wafer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/30 514F ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/30 514F

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 バーコードを備えた基板を収納部から基
板処理部へ搬送する基板搬送方法であって、 前記基板の搬送途中に、前記基板を保持した状態で前記
バーコードを読み取るための識別部を設置し、 前記収納部から取り出した前記基板を前記識別部に渡し
て前記バーコードを読み取った後に、この基板を受け取
って前記基板処理部へ搬送することを特徴とする基板搬
送方法。
1. A substrate transport method for transporting a substrate provided with a barcode from a storage unit to a substrate processing unit, comprising: an identification for reading the barcode while holding the substrate while transporting the substrate. A substrate transfer method, comprising: transferring a substrate taken out of the storage unit to the identification unit, reading the barcode, receiving the substrate, and transporting the substrate to the substrate processing unit.
【請求項2】 請求項1に記載の基板搬送方法であっ
て、 前記基板を前記識別部に保持した状態で、この基板を所
定位置に対して位置合わせしてから前記基板処理部へ搬
送することを特徴とする基板搬送方法。
2. The substrate transfer method according to claim 1, wherein the substrate is aligned with a predetermined position and transferred to the substrate processing unit while the substrate is held by the identification unit. A substrate transfer method characterized by the above-mentioned.
【請求項3】 バーコードを備えた基板を搬送機構によ
り収納部から基板処理部へ搬送する基板搬送装置であっ
て、 前記基板の搬送途中に設置され、前記搬送機構により渡
された前記基板を保持する保持部と、 この保持部に保持された前記基板のバーコードを読み取
るバーコードリーダーとを有する識別部を備えることを
特徴とする基板搬送装置。
3. A substrate transport apparatus for transporting a substrate provided with a barcode from a storage section to a substrate processing section by a transport mechanism, wherein the substrate transport apparatus is installed in the middle of transporting the substrate and transfers the substrate passed by the transport mechanism. A substrate transport device, comprising: an identification unit having a holding unit for holding the same and a barcode reader for reading a barcode of the substrate held by the holding unit.
【請求項4】 請求項3に記載の基板搬送装置であっ
て、 前記識別部は、前記バーコードリーダーから出射して前
記基板のバーコードを含んだ領域を透過した透過光を反
射する拡散反射板を備え、 前記バーコードリーダーは前記拡散反射板からの反射光
を受けることを特徴とする基板搬送装置。
4. The substrate transfer device according to claim 3, wherein the identification unit reflects the transmitted light emitted from the barcode reader and transmitted through a region including the barcode of the substrate. A substrate transport device, comprising: a plate, wherein the barcode reader receives light reflected from the diffuse reflection plate.
【請求項5】 請求項3または4に記載の基板搬送装置
であって、 前記識別部は、前記基板のバーコードの形成部分に合わ
せて前記バーコードリーダーの読み取り部分を変更する
読み取り部分変更装置を備えることを特徴とする基板搬
送装置。
5. The reading device according to claim 3, wherein the identification unit changes a reading portion of the barcode reader in accordance with a barcode forming portion of the substrate. A substrate transfer device comprising:
【請求項6】 請求項3、4、5のいずれかに記載の基
板搬送装置であって、前記識別部は、前記基板を前記保
持部に保持した状態でこの基板を所定位置に対して位置
合わせするための基板移動装置を備えることを特徴とす
る基板搬送装置。
6. The substrate transfer device according to claim 3, wherein the identification unit positions the substrate with respect to a predetermined position while holding the substrate on the holding unit. A substrate transport device comprising a substrate moving device for alignment.
【請求項7】 収納部に収納されたマスクを搬送機構に
よりマスクステージに搬送し、このマスクステージに保
持された前記マスクのパターンの像をこのマスクに対し
て配置された基板に転写する露光装置であって、 前記マスクの搬送途中に設置され、前記搬送機構により
渡された前記マスクを保持する保持部と、 この保持部に保持された前記マスクのバーコードを読み
取るバーコードリーダーとを有する識別部を備えること
を特徴とする露光装置。
7. An exposure apparatus for transporting a mask stored in a storage section to a mask stage by a transport mechanism, and transferring an image of the pattern of the mask held on the mask stage to a substrate disposed on the mask. An identification comprising: a holding unit that is installed in the middle of the transfer of the mask and holds the mask passed by the transfer mechanism; and a barcode reader that reads a barcode of the mask held by the holding unit. An exposure apparatus comprising a unit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013074012A (en) * 2011-09-27 2013-04-22 Murata Mach Ltd Tabular body detector, case port, and storing device

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